JP2537310B2 - Wafer detector - Google Patents

Wafer detector

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JP2537310B2
JP2537310B2 JP8359891A JP8359891A JP2537310B2 JP 2537310 B2 JP2537310 B2 JP 2537310B2 JP 8359891 A JP8359891 A JP 8359891A JP 8359891 A JP8359891 A JP 8359891A JP 2537310 B2 JP2537310 B2 JP 2537310B2
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wafer
storage box
light beam
storage
take
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鉄也 宇都宮
晴彦 吉岡
渉 望月
保人 山本
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Tokyo Electron Ltd
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Tokyo Electron Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、ウエハの収納箱等に
おけるウエハの検出に用いられるウエハ検出装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer detecting device used for detecting a wafer in a wafer storage box or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ウエハの測定においては、検査す
べきウエハを収納した収納箱の下側にベルト駆動装置を
設置してベルトによって下段からウエハを1枚ずつ順に
取り出すようにされていた。このような装置では、順に
ウエハを取り出すため、収納箱から任意のウエハを選択
的に取り出すことができない。例えば、測定したウエハ
を収納箱に一旦戻すと、そのウエハが最下端にある場合
は別として収納箱から必要に応じて任意のウエハを選択
的に取り出すことができないため、ウエハの再測定を困
難にしていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the measurement of wafers, a belt drive device is installed under a storage box in which wafers to be inspected are stored, and the wafers are taken out one by one from the lower stage by a belt. In such an apparatus, since the wafers are sequentially taken out, it is impossible to selectively take out any wafer from the storage box. For example, once the measured wafer is returned to the storage box, it is difficult to re-measure the wafer because it is not possible to selectively take out an arbitrary wafer from the storage box unless the wafer is at the bottom end. I was doing.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
収納箱に収納されているウエハを測定する場合におい
て、収納箱内の任意のウエハを選択的に取出し又はその
収納箱に測定したウエハの収納の自動化には、その前提
として収納箱内のウエハの有無の検出の自動化が不可欠
であり、しかも、その高精度化が要請される。
By the way, when measuring a wafer stored in such a storage box, an arbitrary wafer in the storage box is selectively taken out or the measured wafer is stored in the storage box. As a prerequisite for the automation of, the automation of detection of the presence / absence of wafers in the storage box is indispensable, and higher accuracy is required.

【0004】そこで、この発明は、収納箱内におけるウ
エハの検出を非接触で行い、その検出の高精度化を実現
したウエハ検出装置の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a wafer detection apparatus which detects a wafer in a storage box in a non-contact manner and realizes high accuracy of the detection.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】即ち、この発明のウエハ
検出装置は、第1図ないし第10図に例示するように、
前後方向に光を透過可能に開放されて一定の間隔で複数
のウエハを収納可能な収納箱と、この収納箱の内外に進
退させるアームを備え、このアームによって前記収納箱
に対する前記ウエハの取出し又は収納を行なうウエハ取
出・収納手段と、前記収納箱に任意に収納された前記ウ
エハに対して前記収納箱の前面側から光ビームを照射す
る光ビーム照射手段と、この光ビーム照射手段によって
照射された前記光ビームを前記収納箱の背面側で受け、
その反射光ビームを前記収納箱の背面側から前面側に反
射させる反射鏡と、前記収納箱内を通過した前記反射光
ビームを受光して前記ウエハの有無を表す検出信号を発
生する受光手段と、前記ウエハ取出・収納手段による前
記ウエハの取出し又は収納に応じて、前記受光手段及び
前記光ビーム照射手段と前記収納箱との少なくとも一方
を移動させることにより、これらの相対的な位置を変更
させ、前記光ビームを前記収納箱内の前記ウエハに順次
に照射することを可能にする昇降手段とを備えたことを
特徴とする。
That is, the wafer detecting apparatus of the present invention is, as illustrated in FIG. 1 to FIG.
A storage box that is opened to transmit light in the front-rear direction and that can store a plurality of wafers at a constant interval, and an arm that moves in and out of the storage box are provided, and by this arm, the wafer is taken out of the storage box or Wafer taking-out / storing means for storing, light beam irradiation means for irradiating the wafer arbitrarily stored in the storage box with a light beam from the front side of the storage box, and irradiation by the light beam irradiation means. Received the light beam on the back side of the storage box,
A reflecting mirror that reflects the reflected light beam from the back side to the front side of the storage box; and a light receiving unit that receives the reflected light beam that has passed through the storage box and generates a detection signal indicating the presence or absence of the wafer. At least one of the light receiving means and the light beam irradiating means and the storage box is moved according to the taking out or storing of the wafer by the wafer taking out / storing means. Elevating means for changing the position and sequentially irradiating the wafer in the storage box with the light beam.

【0006】[0006]

【作用】このような構成によれば、ウエハを収納する収
納箱は前後方向に光を透過可能に開放されて一定の間隔
で複数のウエハが収納可能であって、この収納箱に対す
るウエハの取出し又は収納は、ウエハ取出・収納手段に
よって行われる。このウエハ取出・収納手段は、収納箱
の内外に進退させるアームを備えており、このアームを
進退させて収納箱からのウエハの取出し、又は、収納箱
へのウエハの収納を行なうことができる。 そして、光ビ
ーム照射手段によって光ビーム収納箱内のウエハに照
され、収納箱を通過した光ビームは収納箱の背面側の
反射鏡で受け、この反射鏡から得られる反射光ビームは
収納箱を通して受光手段に受光させる。受光手段に収納
箱内のウエハの有無を表す反射光ビームが受光される
と、受光手段にはウエハの有無を表す検出信号が得られ
る。そして、昇降手段によって受光手段及び光ビーム照
射手段と収納箱との相対的な位置を変更させ、収納箱内
のウエハに光ビームを順次に照射することにより、位置
の変更に応じて受光手段にはウエハの有無を表す検出信
号が得られ、高い精度を以てウエハの検出ができる。
According to such a structure, the storage for storing the wafer is performed.
The storage box is open to allow light to pass through in the front-rear direction and at regular intervals.
Multiple wafers can be stored in this storage box.
Wafers can be taken out or stored in the wafer take-out / storage means.
Therefore, it is done. This wafer unloading / storing means is a storage box
It is equipped with an arm that moves in and out of the
Wafers are removed from the storage box by moving forward or backward, or the storage box
The wafer can be stored in the wafer. Then, the light beam is irradiated to the wafer in the storage box by the light beam irradiation means, the light beam passing through the storage box of the rear side of the storage box
The reflected light beam received by the reflector and obtained from this reflector is
Light is received by the light receiving means through the storage box . When the light receiving means receives the reflected light beam representing the presence or absence of the wafer in the storage box, the light receiving means obtains a detection signal indicating the presence or absence of the wafer. Then, the relative positions of the light receiving means and the light beam irradiating means and the storage box are changed by the elevating means, and the light beam is sequentially applied to the wafers in the storage box, so that the light receiving means is changed in accordance with the change in the position. A detection signal indicating the presence or absence of a wafer is obtained, and the wafer can be detected with high accuracy.

【0007】[0007]

【実施例】図1は、この発明のウエハ検出装置の実施例
を示す。装置本体1には昇降手段としてエレベータ2が
取り付けられ、装置本体1の上面には検出すべきウエハ
4を収納した収納箱5が設置されている。収納箱5は、
前後に開放され、その両側内壁部にウエハ4を一定の間
隔で保持するための複数の溝部が形成されている。ま
た、装置本体1の背面側には反射鏡3が固定されてい
る。エレベータ2のステージには、ハーフミラー6が設
置され、このハーフミラー6を介して光ビームLを収納
箱5側に照射する光ビーム照射手段として発光素子7が
設置されているとともに、収納箱5を通過した光ビーム
Lを受光する手段として反射鏡3が設置され、この反射
鏡3から得られる反射光ビームとしての光ビームLを受
光する受光手段として受光素子8が設置されている。即
ち、エレベータ2は、図2に示すように、発光素子7及
び受光素子8を上下方向(Y:up及び−Y:dow
n)に移送することにより、発光素子7及び受光素子8
と収納箱5との相対的な位置を変更させ、光ビームLを
収納箱5内のウエハ4に順次に照射することを可能にし
た位置変更手段を構成している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of the wafer detecting apparatus of the present invention. An elevator 2 is attached to the apparatus body 1 as an elevating means, and a storage box 5 in which a wafer 4 to be detected is stored is installed on the upper surface of the apparatus body 1. The storage box 5 is
A plurality of groove portions for holding the wafer 4 at regular intervals are formed on the inner wall portions on both sides thereof, which are opened in the front-rear direction. A reflecting mirror 3 is fixed to the back side of the device body 1. A half mirror 6 is installed on the stage of the elevator 2, and a light emitting element 7 is installed as a light beam irradiating means for irradiating the light beam L to the storage box 5 side through the half mirror 6, and the storage box 5 is also installed. A reflecting mirror 3 is installed as a means for receiving the light beam L that has passed through, and a light receiving element 8 is installed as a light receiving means for receiving the light beam L as a reflected light beam obtained from this reflecting mirror 3. That is, as shown in FIG. 2, the elevator 2 sets the light emitting element 7 and the light receiving element 8 in the vertical direction (Y: up and -Y: dow).
n), the light emitting element 7 and the light receiving element 8 are transferred.
And a storage box 5 relative to each other so that the light beam L can be sequentially applied to the wafers 4 in the storage box 5 to form a position changing means.

【0008】このような構成によれば、発光素子7から
発射された光ビームLはハーフミラー6を通過し、反射
鏡3で反射した光ビームLがもとの光軸を通って、ハー
フミラー6に戻り受光素子8に入射される。そこで、装
置本体1に対して下から上にエレベータ2をスキャンす
ると、図1に示すように、ウエハ4が無い場合には光ビ
ームLがウエハ4の無い部分を通過して反射鏡3で反射
された後、受光素子8に入り、また、図2に示すよう
に、ウエハ4に当たって反射した光ビームLはハーフミ
ラー6を通して上方に反射される結果、収納箱5内のウ
エハ4の有無によって光ビームLに強弱が生じ、受光素
子8には、ウエハ4の有無を表す光ビームLが受光さ
れ、ウエハ4の検出信号として微電流の変化が得られ
る。
According to such a structure, the light beam L emitted from the light emitting element 7 passes through the half mirror 6, and the light beam L reflected by the reflecting mirror 3 passes through the original optical axis to pass through the half mirror. It returns to 6 and is incident on the light receiving element 8. Therefore, when the elevator 2 is scanned from the bottom to the top with respect to the apparatus main body 1, as shown in FIG. 1, when the wafer 4 is not present, the light beam L passes through a portion where the wafer 4 is absent and is reflected by the reflecting mirror 3. Then, the light beam L that has entered the light receiving element 8 and is reflected by hitting the wafer 4 is reflected upward through the half mirror 6 as shown in FIG. The intensity of the beam L changes, and the light beam L representing the presence or absence of the wafer 4 is received by the light receiving element 8, and a slight current change is obtained as a detection signal of the wafer 4.

【0009】次に、図3は、図1に示したウエハ検出装
置にウエハ取出・収納装置を並設したウエハ検出・取出
・収納装置の実施例を示し、図1に示したウエハ検出装
置eと同一部分には同一符号を付してある。即ち、発光
素子7、受光素子8及びハーフミラー6が設置されたエ
レベータ2は、パルスモータ11によって駆動されるボ
ールスクリュー12に取り付けられるとともに2本のガ
イドシャフト16によって摺動可能に支持されている。
Next, FIG. 3 shows an embodiment of a wafer detecting / removing / accommodating device in which a wafer extracting / accommodating device is arranged in parallel with the wafer detecting device shown in FIG. 1, and the wafer detecting device e shown in FIG. The same reference numerals are given to the same portions as. That is, the elevator 2 provided with the light emitting element 7, the light receiving element 8 and the half mirror 6 is attached to the ball screw 12 driven by the pulse motor 11 and is slidably supported by the two guide shafts 16. .

【0010】ウエハ取出・収納装置hは、収納箱5から
ウエハ4を取出し又はウエハ4を収納箱5に収納するウ
エハ移送手段であって上下方向の位置変更手段としての
エレベータ2を兼用している。このウエハ取出・収納装
置hには、収納箱5の内部に挿入してウエハ4を載せて
取り出すための平板状を成すウエハ載置部を備えた取出
しアーム9が設けられている。この取出しアーム9は、
ガイドシャフト10を以て水平方向に摺動可能に支持さ
れており、その一端には、エレベータ2の昇降と相俟っ
て取出しアーム9にウエハ4の授受を行わせるベルト1
5が固定されている。そして、ベルト15は、取出しア
ーム9の移動に対応した間隔を以て設置された一対のプ
ーリ14間に懸け回されている。即ち、ベルト15は、
回転によって取出しアーム9を収納箱5に向かって前後
方向、図中X方向に移動させる手段であって、パルスモ
ータ13からベルト15を介して加えられる回転力を受
けて回転する。
The wafer unloading / housing device h is a wafer transfer means for taking out the wafer 4 from the housing box 5 or housing the wafer 4 in the housing box 5, and also serves as an elevator 2 as a vertical position changing means. . The wafer unloading / accommodating device h is provided with a unloading arm 9 having a flat plate-shaped wafer placing portion for inserting the wafer 4 into the accommodation box 5 and taking out the wafer 4. This take-out arm 9
A belt 1 is supported by a guide shaft 10 so as to be slidable in the horizontal direction. One end of the belt 1 allows the take-out arm 9 to transfer the wafer 4 together with the elevation of the elevator 2.
5 is fixed. The belt 15 is wound around a pair of pulleys 14 arranged at intervals corresponding to the movement of the takeout arm 9. That is, the belt 15 is
It is a means for moving the take-out arm 9 toward the storage box 5 in the front-rear direction and in the X direction in the figure by rotation, and receives the rotational force applied from the pulse motor 13 via the belt 15 and rotates.

【0011】そして、取出しアーム9のウエハ4の載置
部、即ち、ウエハ3の吸着面には、ウエハ4を吸着する
ためのバキュームをウエハ4に作用させるバキューム穴
が設けられている。
A vacuum hole is provided on the wafer 4 mounting portion of the take-out arm 9, that is, on the suction surface of the wafer 3, so that a vacuum for sucking the wafer 4 acts on the wafer 4.

【0012】このような構成によれば、ウエハの有無を
検出した後、図4に示すように、パルスモータ13によ
ってベルト15を駆動して取り出した取出しアーム9を
前方に移動させて取り出すべきウエハ4の下面側に挿入
する。パルスモータ13を停止させ、次に、エレベータ
2を僅かに上昇させた後、バキュームを作動して取出し
アーム9のウエハ載置面にウエハ4を吸着させる。この
状態でパルスモータ13を逆転させると、ベルト15と
ともに取出しアーム9が後方に移動し、ウエハ4が取出
しアーム9によって収納箱5から取り出されることにな
る。
According to this structure, after the presence / absence of the wafer is detected, as shown in FIG. 4, the take-out arm 9 taken out by driving the belt 15 by the pulse motor 13 is moved forward and taken out. Insert on the bottom side of 4. The pulse motor 13 is stopped, and then the elevator 2 is slightly raised, and then the vacuum is operated to adsorb the wafer 4 to the wafer mounting surface of the takeout arm 9. When the pulse motor 13 is reversed in this state, the take-out arm 9 moves backward together with the belt 15 and the wafer 4 is taken out from the storage box 5 by the take-out arm 9.

【0013】次に、図5は、図3に示したウエハ検出・
取出・収納装置のシステム構成を示す。スタートスイッ
チaは、ウエハ4の検出、取出し又は収納の開始を指令
する手段である。記憶手段gには、アドレスとともに位
置決め情報が記憶されている。スタートスイッチaが操
作されると、選択手段bを介してアドレス指定手段fに
指定開始命令が与えられ、ウエハ検出装置eからの位置
情報をもとに収納箱5内にあるウエハ4の位置が決定さ
れる。
Next, FIG. 5 shows the wafer detection / detection shown in FIG.
The system configuration of the take-out / storing device is shown. The start switch a is means for instructing the start of detection, taking-out or storage of the wafer 4. Positioning information is stored in the storage means g together with the address. When the start switch a is operated, a designation start command is given to the address designating means f through the selecting means b, and the position of the wafer 4 in the storage box 5 is determined based on the position information from the wafer detecting device e. It is determined.

【0014】取出し制御手段cは、収納箱5からウエハ
4の取出しを制御し、収納制御手段dは取出しアーム9
を通してウエハ4の収納箱5への収納を制御する手段で
ある。これらの制御手段c、dからの制御出力はエレベ
ータ2を駆動するエレベータ駆動装置iに加えられてウ
エハ取出・収納装置hに加えられる。即ち、ウエハ取出
・収納装置hのパルスモータ13及びエレベータ駆動装
置iは取出し制御装置手段c、又は収納制御手段dから
の情報に基づいて位置決め制御が行われ、収納箱5から
のウエハ4の取出し又は収納箱5へウエハ4の収納が行
われる。
The take-out control means c controls the take-out of the wafer 4 from the storage box 5, and the take-out control means d controls the take-out arm 9.
It is a means for controlling the storage of the wafer 4 in the storage box 5 through. The control output from these control means c and d is added to the elevator drive device i that drives the elevator 2, and is added to the wafer unloading / accommodating device h. That is, the pulse motor 13 and the elevator drive device i of the wafer unloading / housing device h are subjected to positioning control based on information from the unloading control device means c or the housing control device d, and the wafer 4 is taken out from the housing box 5. Alternatively, the wafer 4 is stored in the storage box 5.

【0015】検出手段jは、検査の度にウエハ4が何処
に置かれているかの情報を検出する手段であって、その
検出出力は選択手段bに供給され、それによりウエハ4
の取出し、又はウエハ4の収納が選択される。
The detection means j is a means for detecting information on where the wafer 4 is placed at each inspection, and the detection output is supplied to the selection means b, whereby the wafer 4 is detected.
Is selected or the wafer 4 is stored.

【0016】次に、図6は、ウエハ検出・取出・収納装
置の制御系統を示す。即ち、このウエハ検出・取出・収
納装置には、1ボードのマイクロコンピュータからなる
制御部20が設置され、この制御部20には、ウエハ4
の検出・取出・収納制御プログラムを実行するCPU2
1、検出・取出・収納制御プログラムを記憶した記憶手
段としてのROM22、CPU21の演算途上のデータ
や検出信号を格納する記憶手段としてのRAM23とと
もに入力ポート24が設置されている。入力ポート24
にはウエハ検出装置e、バキューム検出器31及びリミ
ット検出器32からの検出信号が加えられている。CP
U21から得られる制御出力はエレベータ駆動回路3
3、ウエハ取出・収納駆動回路34及び固定ピン回路3
5に加えられている。エレベータ駆動回路33の駆動出
力はパルスモータ11、ウエハ取出・収納駆動回路34
の駆動出力はパルスモータ13に加えられている。
Next, FIG. 6 shows a control system of the wafer detection / unloading / storing device. That is, a control unit 20 including a one-board microcomputer is installed in the wafer detection / removal / accommodation device, and the wafer 4 is installed in the control unit 20.
CPU2 which executes the detection / removal / storage control program
1. An input port 24 is installed together with a ROM 22 as a storage means for storing a detection / removal / storage control program, a RAM 23 as a storage means for storing data in the middle of calculation of the CPU 21 and a detection signal. Input port 24
A detection signal from the wafer detection device e, the vacuum detector 31, and the limit detector 32 is added to. CP
The control output obtained from U21 is the elevator drive circuit 3
3, wafer unloading / storing drive circuit 34 and fixed pin circuit 3
Added to 5. The drive output of the elevator drive circuit 33 is the pulse motor 11, the wafer unloading / storing drive circuit 34.
Is output to the pulse motor 13.

【0017】そして、RAM23に記憶されるアドレス
及びウエハ位置は、表1の通りである。
The addresses and wafer positions stored in the RAM 23 are as shown in Table 1.

【0018】[0018]

【表1】 [Table 1]

【0019】以上の構成において、ウエハ4の検出、取
出し及び収納の制御動作を図7ないし図9に示すフロー
チャートを参照して説明する。図7に示すように、ステ
ップS1では初期設定によりRAM23の記憶内容を消
去し、ステップS2に移行する。ステップS2ではスタ
ートスイッチaがオンかオフかが判断され、スタートス
イッチaがオンの場合、ステップS3に移行する。ステ
ップS3では初期入力か否かが判定され、初期入力の場
合、ステップS4に移行して初期入力処理(図8)の呼
び出し及びその処理が実行される。ステップS3で初期
入力でないと判断された場合にはステップS5に移行
し、ウエハの取出しか収納かが判断され、収納の場合に
はステップS6に移行し、取出しの場合にはステップS
9に移行する。ステップS6では自動か手動かの判断が
行われる。自動の場合にはステップS7に移行してウエ
ハ収納場所の読み込み処理を行い、手動の場合にはステ
ップS8に移行してウエハ収納段数の読み込み処理を行
った後、ステップS12に移行する。
The control operation of detecting, taking out and storing the wafer 4 in the above-mentioned structure will be described with reference to the flow charts shown in FIGS. As shown in FIG. 7, in step S1, the contents stored in the RAM 23 are erased by initialization, and the process proceeds to step S2. In step S2, it is determined whether the start switch a is on or off. If the start switch a is on, the process proceeds to step S3. In step S3, it is determined whether or not the input is the initial input. If the input is the initial input, the process proceeds to step S4, and the initial input process (FIG. 8) is called and the process is executed. If it is determined in step S3 that it is not the initial input, the process proceeds to step S5, it is determined whether the wafer is to be taken out or stored, if it is stored, the process proceeds to step S6, and if it is taken out, step S6 is performed.
Move to 9. In step S6, it is determined whether automatic or manual. If it is automatic, the process proceeds to step S7 to read the wafer storage location, and if it is manual, the process proceeds to step S8 to read the number of wafer storage stages and then to step S12.

【0020】また、ステップS5で取出しと判断された
場合には、ステップS9に移行して自動か手動かの判断
が行われ、自動の場合にはステップS10に移行して取
出しウエハの読み込み処理、手動の場合にはステップS
11に移行して取出しウエハの段数読み込み処理が行わ
れた後、ステップS12に移行する。
If it is determined in step S5 that the wafer is to be taken out, the process proceeds to step S9 to determine whether it is automatic or manual. If it is automatic, the process proceeds to step S10 to read the wafer to be taken out. Step S if manual
After shifting to 11 and reading the number of wafers to be taken out, the process proceeds to step S12.

【0021】ステップS12ではエレベータ2の移動量
の算出が行われた後、ステップS13に移行する。ステ
ップS13ではエレベータ2の位置に補正量を加算する
処理が行われた後、ステップS14に移行する。ステッ
プS14ではウエハの取出しか収納かの判断が行われ、
収納の場合にはステップS15に移行し、取出しの場合
にはステップS16に移行する。ステップS15では収
納処理の呼び出し及びその処理(図9)が行われた後、
ステップS17に移行する。また、ステップS16では
ウエハの取出し処理の呼び出し及びその処理(図10)
が行われた後、ステップS17に移行する。ステップS
17では処理すべきウエハが終了したか否かが判断さ
れ、処理すべきウエハがある場合にはステップS3に戻
り、前述したステップS3〜S17の処理が再び行わ
れ、また、処理すべきウエハが終了した場合には総ての
処理を完了する。
After the moving amount of the elevator 2 is calculated in step S12, the process proceeds to step S13. In step S13, the process of adding the correction amount to the position of the elevator 2 is performed, and then the process proceeds to step S14. In step S14, it is determined whether the wafer is taken out or stored,
If it is stored, the process proceeds to step S15, and if it is taken out, the process proceeds to step S16. In step S15, after the storage process is called and the process (FIG. 9) is performed,
Control goes to step S17. Further, in step S16, a wafer unloading process is called and its process (FIG. 10).
After that, the process proceeds to step S17. Step S
In step 17, it is judged whether or not the wafer to be processed is completed. If there is a wafer to be processed, the process returns to step S3, the above-described steps S3 to S17 are performed again, and the wafer to be processed is When the processing is completed, all processing is completed.

【0022】次に、図8は、初期入力処理を示す。即
ち、ステップS18では取出しアーム9をエレベータ2
のステージの原点位置に設定し、ステップS19に移行
する。ステップS19ではその取出しアーム9をエレベ
ータ2の初期設定値に設定し、ステップS20に移行す
る。ステップS20では固定ピンが下がり、ステップS
21に移行する。ステップS21で自動と判断された場
合にはステップS22に移行してウエハの出し入れ設定
を行った後、ステップS23に移行し、手動と判断され
た場合には、ステップS22を省略してステップS23
に移行する。
Next, FIG. 8 shows an initial input process. That is, in step S18, the takeout arm 9 is moved to the elevator 2
The origin position of the stage is set, and the process proceeds to step S19. In step S19, the take-out arm 9 is set to the initial setting value of the elevator 2, and the process proceeds to step S20. In step S20, the fixing pin is lowered,
Move to 21. If it is determined to be automatic in step S21, the process proceeds to step S22 to set the wafer loading / unloading, and then proceeds to step S23. If it is determined to be manual, step S22 is omitted and step S23 is performed.
Move to

【0023】ステップS23ではエレベータ2のステー
ジが駆動され、ステップS24に移行してウエハの有無
が判定される。即ち、ステップS24でウエハ検出装置
の検出出力に基づいてウエハが存在していると判断され
た場合には、ステップS25に移行し、ウエハが存在し
ていない場合にはステップS27に移行する。ステップ
S25ではウエハ位置の計算が行われた後、ステップS
26に移行する。ステップS26ではウエハナンバーと
ウエハ位置よりアドレステーブルが作成され、ステップ
S27に移行する。ステップS27では上限であるか否
かが判定され、上限でない場合には再びステップS23
に戻り、また、上限である場合には、図7のステップS
3に戻り、初期入力処理を完了する。
In step S23, the stage of the elevator 2 is driven, and the process proceeds to step S24 to determine the presence / absence of a wafer. That is, if it is determined in step S24 that a wafer is present based on the detection output of the wafer detection device, the process proceeds to step S25, and if no wafer is present, the process proceeds to step S27. After the wafer position is calculated in step S25, step S25 is performed.
Move to 26. In step S26, an address table is created from the wafer number and wafer position, and the process proceeds to step S27. In step S27, it is determined whether or not it is the upper limit, and if it is not the upper limit, step S23 is performed again.
, And if it is the upper limit, step S in FIG.
Returning to step 3, the initial input process is completed.

【0024】次に、図9はウエハ4の収納処理を示す。
この収納処理では、ステップS30でエレベータ2のス
テージが収納箱5のウエハ収納位置まで駆動し、ステッ
プS31に移行する。ステップS31では固定ピンバキ
ュームをオフ状態とし、ウエハ取出しバキュームをオン
状態とする。次に、ステップS32では固定ピンが下が
り、ステップS33では取出しアーム9をウエハ収納位
置まで駆動する。次に、ステップS34では取出しアー
ム9のバキュームを解除し、取出しアーム9上のウエハ
4は収納箱5の収納位置に収納される。次に、ステップ
S35ではエレベータ2のステージが下がり、ステップ
S36では取出しアーム9は原点位置に復帰し、収納処
理を完了し、図7に示すステップS17に移行する。
Next, FIG. 9 shows a process of storing the wafer 4.
In this storage process, the stage of the elevator 2 is driven to the wafer storage position of the storage box 5 in step S30, and the process proceeds to step S31. In step S31, the fixed pin vacuum is turned off and the wafer take-out vacuum is turned on. Next, in step S32, the fixing pin is lowered, and in step S33, the takeout arm 9 is driven to the wafer storage position. Next, in step S34, the vacuum of the take-out arm 9 is released, and the wafer 4 on the take-out arm 9 is stored in the storage position of the storage box 5. Next, in step S35, the stage of the elevator 2 is lowered, and in step S36, the take-out arm 9 is returned to the origin position, the storage process is completed, and the process proceeds to step S17 shown in FIG.

【0025】次に、図10はウエハ4の取出し処理を示
す。この取出し処理では、ステップS37でエレベータ
2のステージが収納箱5のウエハ収納位置まで駆動し、
ステップS38に移行する。ステップS38では収納箱
5に収納されているウエハ4の中心位置まで取出しアー
ム9を駆動し、ステップS39に移行する。ステップS
39では取出しアーム9のバキュームをオン状態とし、
取出しアーム9に取り出すべきウエハ4を吸着させる。
ステップS40ではエレベータ2のステージを上昇させ
た後、ステップS41に移行する。ステップS41では
取出しアーム9をエレベータ2のステージの原点位置に
復帰させた後、ステップS42に移行し、取出しアーム
9に対するバキュームを解除するとともに固定ピンのバ
キュームを動作させ、ステップS43に移行する。ステ
ップS43では固定ピンが上がり、ウエハ4の取出し処
理を完了し、図7に示すステップS17に移行する。
Next, FIG. 10 shows a process for taking out the wafer 4. In this take-out process, the stage of the elevator 2 is driven to the wafer storage position of the storage box 5 in step S37,
Control goes to step S38. In step S38, the take-out arm 9 is driven to the center position of the wafer 4 stored in the storage box 5, and the process proceeds to step S39. Step S
At 39, the vacuum of the take-out arm 9 is turned on,
The wafer 4 to be taken out is adsorbed to the taking-out arm 9.
In step S40, after raising the stage of the elevator 2, the process proceeds to step S41. In step S41, the take-out arm 9 is returned to the origin position of the stage of the elevator 2, and then the process proceeds to step S42, the vacuum for the take-out arm 9 is released, the vacuum of the fixing pin is operated, and the process proceeds to step S43. In step S43, the fixing pin is raised, the process of taking out the wafer 4 is completed, and the process proceeds to step S17 shown in FIG.

【0026】このようなプログラム処理において、収納
箱5から指定されたウエハ4を取り出す場合、収納箱5
内のウエハ位置状態をウエハ検出装置eにて検出した検
出データをRAM23から読み出し、CPU21からの
出力がエレベータ駆動回路33で駆動出力に変換され
る。この結果、パルスモータ11が駆動されてボールス
クリュー12が回転し、エレベータ2をウエハを取出し
可能な位置まで上昇させる。
In such a program process, when taking out the designated wafer 4 from the storage box 5, the storage box 5
The detection data obtained by detecting the wafer position state in the inside by the wafer detection device e is read from the RAM 23, and the output from the CPU 21 is converted into a drive output by the elevator drive circuit 33. As a result, the pulse motor 11 is driven and the ball screw 12 is rotated to raise the elevator 2 to a position where the wafer can be taken out.

【0027】収納箱5のウエハ4と取出しアーム9の上
面の関係は、取り出すべきウエハ4より僅かに低い位置
に取出しアーム9の吸着面を位置させている。取出しア
ーム9は、収納箱5におけるウエハ4の収納間隔により
薄く形成されているとともに、その移動位置はウエハ4
の間隔内に設定されるので、収納箱5に取出しアーム9
を挿入しても、取り出すべきウエハ4に衝突することは
ない。
Regarding the relationship between the wafer 4 in the storage box 5 and the upper surface of the taking-out arm 9, the suction surface of the taking-out arm 9 is located at a position slightly lower than the wafer 4 to be taken out. The take-out arm 9 is formed thinly according to the storage interval of the wafers 4 in the storage box 5, and its moving position is set to the wafer 4
Since it is set within the interval of,
Even if the wafer is inserted, it does not collide with the wafer 4 to be taken out.

【0028】そして、取出しアーム9は、吸着面の中心
をウエハ4の中心まで挿入する。この状態で取出しアー
ム99の吸着面にウエハ4が載せられ、CPU21から
の指令によってバキュームを作用させると、取出しアー
ム9の吸着面にウエハ4が吸着される。このとき、ウエ
ハ4で取出しアーム9の吸着面の穴が塞がれてバキュー
ム穴の圧力が低くなり、ウエハ4の吸着がバキューム検
出器31が検出され、その検出出力によってバキューム
スイッチが働き、CPU21にウエハ4の吸着情報が伝
達される。この吸着情報に基づいて、CPU21から取
出しアーム9の移動命令が出力され、この結果、ウエハ
取出・収納駆動回路34から駆動出力が発せられてパル
スモータ13が回転し、取出しアーム9をB点位置まで
移動させる。取出しアーム9を基準の高さの位置までエ
レベーター2を移動させた後、取出しアーム9に対する
バキュームを解除する。B点に位置している固定ピンが
バキュームで上昇して、ウエハ4は固定ピンで持ち上げ
られ基準の位置にセットされる。このとき、固定ピンの
上面にバキュームが働いており、ウエハ4が吸着され
る。
Then, the take-out arm 9 inserts the center of the suction surface to the center of the wafer 4. In this state, the wafer 4 is placed on the suction surface of the take-out arm 99, and when a vacuum is applied by a command from the CPU 21, the wafer 4 is sucked on the suction surface of the take-out arm 9. At this time, the hole of the suction surface of the take-out arm 9 is closed by the wafer 4, the pressure of the vacuum hole is lowered, the suction of the wafer 4 is detected by the vacuum detector 31, and the vacuum switch is activated by the detection output, and the CPU 21 The suction information of the wafer 4 is transmitted to. Based on this suction information, the CPU 21 outputs a command to move the take-out arm 9, and as a result, a drive output is issued from the wafer take-out / accommodation drive circuit 34 to rotate the pulse motor 13 to move the take-out arm 9 to the B point position. Move to. After the elevator 2 is moved to the reference height position, the vacuum for the takeout arm 9 is released. The fixed pin located at the point B rises by vacuum, and the wafer 4 is lifted by the fixed pin and set at the reference position. At this time, the vacuum is acting on the upper surface of the fixed pin, and the wafer 4 is adsorbed.

【0029】また、収納箱5の指定された位置にウエハ
4を収納する場合には、固定ピンを取出しアーム9より
下降させることにより、取出しアーム9にバキュームが
働きウエハ4を吸着するため、バキュームスイッチが働
きCPU21に伝達され、CPU21から制御出力が得
られ、ウエハ取出し・収納駆動回路34から駆動出力が
パルスモータ13に加えられ、その回転によって指定さ
れた位置まで、取出しアーム9は収納箱5内のウエハ4
に衝突しない高さで移動する。即ち、収納箱5のポケッ
トの中間部におけるウエハ4が挿入できる高さまで取出
しアーム9を移動させ、その位置にウエハ4を収納し、
バキュームを解除した後、前述したウエハ4の取出しの
場合と同様に取出しアーム9を後退させて原位置に復帰
させる。
Further, when the wafer 4 is stored in the designated position of the storage box 5, the fixing pin is lowered from the pick-up arm 9 so that the pick-up arm 9 is vacuumed so that the wafer 4 is sucked. The switch operates and is transmitted to the CPU 21, a control output is obtained from the CPU 21, a drive output is applied from the wafer take-out / accommodation drive circuit 34 to the pulse motor 13, and the take-out arm 9 moves the take-out arm 9 to the designated position by its rotation. Wafer 4 inside
Move at a height that does not collide with. That is, the take-out arm 9 is moved to a height at which the wafer 4 can be inserted in the middle portion of the pocket of the storage box 5, and the wafer 4 is stored at that position.
After releasing the vacuum, the take-out arm 9 is retracted and returned to the original position as in the case of taking out the wafer 4 described above.

【0030】なお、実施例では、反射鏡3を設置して発
光素子7側に光ビームLを戻して受光素子8に受光する
ようにしたが、反射鏡3に代えて受光素子を設置するこ
とにより、収納箱5を通過して光ビームLを直接受光し
て収納箱5内のウエハ4の有無を検出するようにしても
よい。
In the embodiment, the reflecting mirror 3 is installed and the light beam L is returned to the light emitting element 7 side to be received by the light receiving element 8. However, instead of the reflecting mirror 3, a light receiving element is installed. Thus, the presence or absence of the wafer 4 in the storage box 5 may be detected by directly receiving the light beam L after passing through the storage box 5.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、収納箱に光ビームを照射し、収納箱を透過した光ビ
ームを反射鏡で反射させ、その反射光ビームを光ビーム
を発した側で受光するので、照射及び受光の位置調整の
単純化及び容易化を図ることができるとともに、収納箱
内のウエハの位置及びその有無を高精度に非接触で検出
することができ、ウエハの移送、即ち、収納箱から任意
のウエハの取出しや収納箱の任意の位置へのウエハの収
納を行う場合、ウエハの移送の高能率化及び自動化に寄
与することができる。
As described above, according to the present invention, the storage box is irradiated with the light beam, the light beam transmitted through the storage box is reflected by the reflecting mirror, and the reflected light beam is converted into the light beam.
Since the side that emits light receives light,
A storage box that can be simplified and facilitated
The position and presence of wafers in the wafer can be detected with high precision in a non-contact manner, and when wafers are transferred, that is, when an arbitrary wafer is taken out of the storage box or stored at an arbitrary position in the storage box. It is possible to contribute to higher efficiency and automation of wafer transfer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明のウエハ検出装置の実施例である。FIG. 1 is an embodiment of a wafer detection device of the present invention.

【図2】図1に示すウエハ検出装置におけるウエハの検
出を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing detection of a wafer by the wafer detection apparatus shown in FIG.

【図3】図1に示したウエハ検出装置の実施例であるウ
エハ検出・収納・取出装置を示す斜視図である。
3 is a perspective view showing a wafer detecting / accommodating / removing device which is an embodiment of the wafer detecting device shown in FIG. 1. FIG.

【図4】図3に示すウエハ検出・収納・取出装置による
ウエハの取出し状態を示す図である。
FIG. 4 is a view showing a wafer taking-out state by the wafer detecting / accommodating / taking-out device shown in FIG. 3;

【図5】図3に示したウエハ検出・収納・取出装置の制
御システムを示すブロック図である。
5 is a block diagram showing a control system of the wafer detection / storage / unloading device shown in FIG.

【図6】図5に示した制御システムに用いられる制御装
置を示すブロック図である。
6 is a block diagram showing a control device used in the control system shown in FIG.

【図7】ウエハ検出・収納・取出装置の制御プログラム
を示すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing a control program of the wafer detection / storage / unloading device.

【図8】ウエハ検出・収納・取出装置の制御プログラム
を示すフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart showing a control program of the wafer detection / storage / unloading device.

【図9】ウエハ検出・収納・取出装置の制御プログラム
を示すフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing a control program of the wafer detection / storage / unloading device.

【図10】ウエハ検出・収納・取出装置の制御プログラ
ムを示すフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart showing a control program of the wafer detection / storage / unloading device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

e ウエハ検出装置 2 エレベータ(昇降手段) 3 反射鏡 4 ウエハ 5 収納箱 7 発光素子(光ビーム照射手段) 8 受光素子(受光手段)9 取出しアーム e Wafer detection device 2 Elevator (elevating means) 3 Reflector 4 Wafer 5 Storage box 7 Light emitting element (light beam irradiating means) 8 Light receiving element (light receiving means) 9 Extracting arm

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 前後方向に光を透過可能に開放されて一
定の間隔で複数のウエハを収納可能な収納箱と、 この収納箱の内外に進退させるアームを備え、このアー
ムによって前記収納箱に対する前記ウエハの取出し又は
収納を行なうウエハ取出・収納手段と、 前記収納箱に任意に収納された前記ウエハに対して前記
収納箱の前面側から光ビームを照射する光ビーム照射手
段と、 この光ビーム照射手段によって照射された前記光ビーム
を前記収納箱の背面側で受け、その反射光ビームを前記
収納箱の背面側から前面側に反射させる反射鏡と、 前記収納箱内を通過した前記反射光ビームを受光して前
記ウエハの有無を表す検出信号を発生する受光手段と、 前記ウエハ取出・収納手段による前記ウエハの取出し又
は収納に応じて、前記受光手段及び前記光ビーム照射手
と前記収納箱との少なくとも一方を移動させることに
より、これらの相対的な位置を変更させ、前記光ビーム
を前記収納箱内の前記ウエハに順次に照射することを可
能にする昇降手段と、 を備えたことを特徴とするウエハ検出装置。
1. A storage box which is opened so that light can be transmitted in the front-rear direction and which can store a plurality of wafers at regular intervals, and an arm which moves in and out of the storage box. Wafer unloading / accommodating means for unloading or accommodating the wafer; light beam irradiating means for irradiating the wafer arbitrarily accommodated in the accommodating box with a light beam from the front side of the accommodating box; A reflecting mirror that receives the light beam emitted by the irradiation means on the back side of the storage box and reflects the reflected light beam from the back side to the front side of the storage box; and the reflected light that has passed through the storage box. light receiving means for generating a detection signal indicative of the presence or absence of the wafer by receiving the beam, depending on the extraction or storage of the wafer by the wafer unloading-storing means, said receiving means and By moving at least one of the climate beam irradiation means and said receiving box, to change their relative positions, to the light beam allows sequentially irradiating the wafer in said storage box A wafer detection device comprising: a lifting unit.
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