JP2536438B2 - 半導体レ―ザ装置 - Google Patents
半導体レ―ザ装置Info
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- JP2536438B2 JP2536438B2 JP5296512A JP29651293A JP2536438B2 JP 2536438 B2 JP2536438 B2 JP 2536438B2 JP 5296512 A JP5296512 A JP 5296512A JP 29651293 A JP29651293 A JP 29651293A JP 2536438 B2 JP2536438 B2 JP 2536438B2
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- Japan
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- semiconductor laser
- package
- peltier
- optical system
- peltier device
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ装置に関
し、特に冷却する機構を有する半導体レーザ装置に関す
る。
し、特に冷却する機構を有する半導体レーザ装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザは、その光出力及び発振波
長を安定に保つことなどを目的として、周囲温度が変化
した場合にも半導体レーザの温度を一定に保って使用す
ることが多い。このような半導体レーザの温度を一定に
保つ方法として、一般に図2に示すような方法がとられ
る。すなわち、半導体レーザ6及び光学系を保守する台
(光学系固定基板3)は、ペルチェ素子2に装着され
る。そしてこのペルチェ素子2は、高温面となる光学系
固定基板の装着面と反対側の面はパッケージ1に装着さ
れる。光学系固定基板3には、半導体レーザ6がレンズ
4によってファイバー5に光学的に結合された状態で固
定されている。また、光学系固定基板3上には、半導体
レーザ6の温度をモニタするためサーミスタ7が装着さ
れている。パッケージ1からのファイバー5の取り出し
部分は、半導体レーザ装置の気密のためにハンダ等のシ
ール材8によりシールされる。
長を安定に保つことなどを目的として、周囲温度が変化
した場合にも半導体レーザの温度を一定に保って使用す
ることが多い。このような半導体レーザの温度を一定に
保つ方法として、一般に図2に示すような方法がとられ
る。すなわち、半導体レーザ6及び光学系を保守する台
(光学系固定基板3)は、ペルチェ素子2に装着され
る。そしてこのペルチェ素子2は、高温面となる光学系
固定基板の装着面と反対側の面はパッケージ1に装着さ
れる。光学系固定基板3には、半導体レーザ6がレンズ
4によってファイバー5に光学的に結合された状態で固
定されている。また、光学系固定基板3上には、半導体
レーザ6の温度をモニタするためサーミスタ7が装着さ
れている。パッケージ1からのファイバー5の取り出し
部分は、半導体レーザ装置の気密のためにハンダ等のシ
ール材8によりシールされる。
【0003】上述の半導体レーザ装置の構造において、
周囲温度が上昇したり、または半導体レーザ6自身が発
熱することにより、半導体レーザ6の温度が上昇した場
合、半導体レーザが固着されている光学系固定基板3の
熱は、ペルチェ素子2の低温面により吸収され、ペルチ
ェ素子の反対側の高温面及びパッケージ1を通じて半導
体レーザ装置外に排除される。このようにして半導体レ
ーザの温度は一定に保たれる。
周囲温度が上昇したり、または半導体レーザ6自身が発
熱することにより、半導体レーザ6の温度が上昇した場
合、半導体レーザが固着されている光学系固定基板3の
熱は、ペルチェ素子2の低温面により吸収され、ペルチ
ェ素子の反対側の高温面及びパッケージ1を通じて半導
体レーザ装置外に排除される。このようにして半導体レ
ーザの温度は一定に保たれる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体レー
ザ装置では、ペルチェ素子の高温面よりケースを通じて
半導体レーザ装置の外へ排除されるべき熱がケースシー
ル材,ファイバー,光学系固定基板を通じてペルチェ素
子の低温面に伝わるため、ペルチェ素子の冷却能力が低
下するという問題点があった。
ザ装置では、ペルチェ素子の高温面よりケースを通じて
半導体レーザ装置の外へ排除されるべき熱がケースシー
ル材,ファイバー,光学系固定基板を通じてペルチェ素
子の低温面に伝わるため、ペルチェ素子の冷却能力が低
下するという問題点があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、ペルチェ素子
により温調される光学系固定基板上に保持された半導体
レーザを有し、全体がパッケージ内に装着された半導体
レーザ装置において、ペルチェ素子の高温面に接するパ
ッケージの領域とペルチェ素子の低温面と熱的につなが
るパッケージの領域の間に断熱層を備えている。
により温調される光学系固定基板上に保持された半導体
レーザを有し、全体がパッケージ内に装着された半導体
レーザ装置において、ペルチェ素子の高温面に接するパ
ッケージの領域とペルチェ素子の低温面と熱的につなが
るパッケージの領域の間に断熱層を備えている。
【0006】
【実施例】次に本発明について図面を参照して詳細に説
明する。図1は本発明の一実施例の半導体レーザ装置の
断面図である。図に示すように半導体レーザ6は、レン
ズ4によってファイ5に光学的に結合された状態で光学
系固定基板3に固定されている。また、この光学系固定
基板3上には、半導体レーザ6の温度をモニタするため
サーミスタ7が装置されている。この光学系固定基板3
は、ペルチェ素子2の低温面に装置されペルチェ素子2
の反対側である高温面はパッケージ1に装置されてい
る。また、パッケージ1からのファイバー5の取り出し
部分は、半導体レーザ装置の気密のためにInハンダの
シール材8によりシールされている。
明する。図1は本発明の一実施例の半導体レーザ装置の
断面図である。図に示すように半導体レーザ6は、レン
ズ4によってファイ5に光学的に結合された状態で光学
系固定基板3に固定されている。また、この光学系固定
基板3上には、半導体レーザ6の温度をモニタするため
サーミスタ7が装置されている。この光学系固定基板3
は、ペルチェ素子2の低温面に装置されペルチェ素子2
の反対側である高温面はパッケージ1に装置されてい
る。また、パッケージ1からのファイバー5の取り出し
部分は、半導体レーザ装置の気密のためにInハンダの
シール材8によりシールされている。
【0007】本実施例のパッケージ1においては、ペル
チェ素子2の高温面と接するパッケージ領域を厚さ約1
mmの断熱材9によって、ペルチェ素子2の低温面と熱
的につながっているパッケージ領域とを熱的に遮断して
いる構造としている。
チェ素子2の高温面と接するパッケージ領域を厚さ約1
mmの断熱材9によって、ペルチェ素子2の低温面と熱
的につながっているパッケージ領域とを熱的に遮断して
いる構造としている。
【0008】このような構造の半導体レーザ装置におい
て周囲温度が上昇した場合、または半導体レーザ6自身
が発熱した場合、これらの半導体レーザの温度変動はサ
ーミスタ7によりモニタされ、サーミスタ7の抵抗値が
一定となるように光学系固定基板3をペルチェ素子2に
より冷却することにより、半導体レーザ6の温度を一定
に保っている。この時ペルチェ素子2により吸収された
熱は、ペルチェ素子2の高温面と接するパッケージ1を
通じて半導体レーザ装置の外に排除される。この実施例
では、このペルチェ素子2の高温面側のパッケージ1を
断熱層9により熱的に遮断しているため、ペルチェ素子
2により吸収された熱は従来の半導体レーザ装置のよう
にペルチェ素子の低温面に伝わることがなくなった。こ
のため、半導体レーザに100mAの電流を流した時
に、半導体レーザ温度を25℃に保つ場合の半導体レー
ザ装置の動作温度を70℃から80℃に改善することが
できた。
て周囲温度が上昇した場合、または半導体レーザ6自身
が発熱した場合、これらの半導体レーザの温度変動はサ
ーミスタ7によりモニタされ、サーミスタ7の抵抗値が
一定となるように光学系固定基板3をペルチェ素子2に
より冷却することにより、半導体レーザ6の温度を一定
に保っている。この時ペルチェ素子2により吸収された
熱は、ペルチェ素子2の高温面と接するパッケージ1を
通じて半導体レーザ装置の外に排除される。この実施例
では、このペルチェ素子2の高温面側のパッケージ1を
断熱層9により熱的に遮断しているため、ペルチェ素子
2により吸収された熱は従来の半導体レーザ装置のよう
にペルチェ素子の低温面に伝わることがなくなった。こ
のため、半導体レーザに100mAの電流を流した時
に、半導体レーザ温度を25℃に保つ場合の半導体レー
ザ装置の動作温度を70℃から80℃に改善することが
できた。
【0009】この実施例では、ペルチェ素子2の高温面
から低温面への熱の伝導経路をパッケージ1,シール材
8,ファイバー5,光学系固定基板3を通るものとして
説明したが、半導体レーザ素子等のボンディングワイヤ
ーが熱の伝導経路となっている場合にも、ボンディング
ワイヤーが接続されているリード領域とペルチェ素子の
高温面と接するパッケージ領域を断熱材により熱的に遮
断することによって同様の効果を得ることができる。
から低温面への熱の伝導経路をパッケージ1,シール材
8,ファイバー5,光学系固定基板3を通るものとして
説明したが、半導体レーザ素子等のボンディングワイヤ
ーが熱の伝導経路となっている場合にも、ボンディング
ワイヤーが接続されているリード領域とペルチェ素子の
高温面と接するパッケージ領域を断熱材により熱的に遮
断することによって同様の効果を得ることができる。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ペルチェ
素子の高温面に接するパッケージ領域とペルチェ素子の
低温面と熱的につながるパッケージ領域の間に断熱層を
備えたことにより、ペルチェ素子の高温面の熱が低温面
に伝わることがなくなり、ペルチェ素子の冷却能力を向
上するという効果を有する。
素子の高温面に接するパッケージ領域とペルチェ素子の
低温面と熱的につながるパッケージ領域の間に断熱層を
備えたことにより、ペルチェ素子の高温面の熱が低温面
に伝わることがなくなり、ペルチェ素子の冷却能力を向
上するという効果を有する。
【図1】本発明の一実施例の半導体レーザ装置の断面図
である。
である。
【図2】従来の半導体レーザ装置の断面図である。
1 パッケージ 2 ペルチェ素子 3 光学系固定基板 4 レンズ 5 ファイバー 6 半導体レーザ 7 サーミスタ 8 シール材 9 断熱層
Claims (1)
- 【請求項1】 ペルチェ素子により温調される光学系固
定基板上に保持された半導体レーザを有し、全体がパッ
ケージ内に装着されている半導体レーザ装置において、
ペルチェ素子の高温面に接するパッケージの領域とペル
チェ素子の低温面と熱的につながるパッケージの領域の
間に断熱層を備えることを特徴とする半導体レーザ装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5296512A JP2536438B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 半導体レ―ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5296512A JP2536438B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 半導体レ―ザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07147462A JPH07147462A (ja) | 1995-06-06 |
JP2536438B2 true JP2536438B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=17834506
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5296512A Expired - Fee Related JP2536438B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 半導体レ―ザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2536438B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001156382A (ja) * | 1999-11-29 | 2001-06-08 | Nec Corp | 半導体レーザモジュール |
KR100856182B1 (ko) * | 2002-03-09 | 2008-09-03 | 엘지전자 주식회사 | 레이저 다이오드의 냉각장치 |
JP2012204762A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Miyachi Technos Corp | レーザ加工用のレーザダイオードユニット |
-
1993
- 1993-11-26 JP JP5296512A patent/JP2536438B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07147462A (ja) | 1995-06-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960514 |
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