JP2535089B2 - Polishing method and polishing apparatus - Google Patents

Polishing method and polishing apparatus

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JP2535089B2
JP2535089B2 JP2114552A JP11455290A JP2535089B2 JP 2535089 B2 JP2535089 B2 JP 2535089B2 JP 2114552 A JP2114552 A JP 2114552A JP 11455290 A JP11455290 A JP 11455290A JP 2535089 B2 JP2535089 B2 JP 2535089B2
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polishing
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workpiece
workpieces
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涼 橋本
通孝 橋本
功 手塚
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【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、磁気ディスク用アルミニウム基板等のワ
ークを複数個一括して研磨加工する研磨方法及び研磨装
置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polishing method and a polishing apparatus for collectively polishing a plurality of works such as an aluminum substrate for a magnetic disk.

従来の技術 従来、例えば磁気ディスク用アルミニウム基板の研磨
を行う研磨加工機として、第2図に示されるような加工
機(51)が用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, a processing machine (51) shown in FIG. 2 has been used as a polishing processing machine for polishing an aluminum substrate for a magnetic disk.

同図の研磨加工機(51)は、回転駆動可能に保持され
かつ上面にドーナツ盤状の砥石(52)が取着された下部
定盤(53)と、該下部定盤(53)の上方位置に該定盤
(53)と対向同軸状に配置されると共に回転駆動及び昇
降作動可能に保持されかつ下面に同じくドーナツ盤状の
砥石(54)が取着された上部定盤(55)と、各砥石(5
2)(54)間において砥石の軸芯位置に配置された太陽
歯車(57)と、該太陽歯車(57)の径方向外方位置に同
心状に配置された内歯歯車(59)と、該内歯歯車(59)
及び前記太陽歯車(57)の両歯車に噛合され下定盤(5
3)の砥石(52)上に載置された状態で両歯車(57)(5
9)間に配置された外歯歯車状のワークキャリアー(5
6)とからなる。なお、このワークキャリアー(56)
は、磁気ディスク用基板(A)の外周形状に沿う円形の
保持孔(60)を偏心状態に有し、該保持孔(60)内に磁
気ディスク用基板(A)が配置された状態で該基板の上
下両面がキャリア(56)の保持孔(60)から外方に突出
した状態となるようにその板厚が基板(A)よりも薄く
形成されている。
The polishing machine (51) shown in the figure has a lower surface plate (53) which is rotatably held and has a donut disk-shaped grindstone (52) attached to its upper surface, and an upper surface of the lower surface plate (53). An upper surface plate (55), which is arranged coaxially with the surface plate (53) at a position opposite to the surface plate, is rotatably driven and is vertically movable, and has a donut disk-shaped grindstone (54) attached to the lower surface thereof. , Each whetstone (5
2) A sun gear (57) arranged at the axial center position of the grindstone between (54), and an internal gear (59) arranged concentrically at a radially outer position of the sun gear (57), The internal gear (59)
And the lower surface plate (5
Both gears (57) (5) while mounted on the grindstone (52) of 3)
9) External gear-shaped work carrier (5)
6). This work carrier (56)
Has a circular holding hole (60) eccentric along the outer peripheral shape of the magnetic disk substrate (A), and the magnetic disk substrate (A) is arranged in the holding hole (60). The board is formed thinner than the board (A) so that both upper and lower surfaces of the board project outward from the holding holes (60) of the carrier (56).

この研磨加工機(51)では、上部定盤(55)が上方待
機位置に位置された状態で磁気ディスク用基板(A)が
ワークキャリアー(56)の保持孔(60)内に配置され、
そして上部定盤(55)が下降作動されて磁気ディスク用
基板(A)の両面が上下の砥石(52)(54)で挾まれ
る。そして、加圧状態において、太陽歯車(57)が回転
されることによりワークキャリアー(56)が自転されな
がら太陽歯車(57)の回りで公転され、更に上下の定盤
(53)(55)も回転されて、同時に複数個の磁気ディス
ク用基板(A)の両面の研磨加工がなされる。
In this polishing machine (51), the magnetic disk substrate (A) is placed in the holding hole (60) of the work carrier (56) with the upper surface plate (55) being positioned at the upper standby position.
Then, the upper surface plate (55) is lowered and both surfaces of the magnetic disk substrate (A) are sandwiched by the upper and lower grindstones (52) (54). Then, in the pressurized state, the work carrier (56) is revolved around the sun gear (57) while the sun gear (57) is rotated, and the upper and lower surface plates (53, 55) are also rotated. While being rotated, both surfaces of the plurality of magnetic disk substrates (A) are simultaneously polished.

ところで、従来、この研磨加工機(51)を用いた研磨
作業は次のようにして行われていた。
By the way, conventionally, the polishing work using this polishing machine (51) has been performed as follows.

即ち、先行する磁気ディスク用基板(A)の研磨を完
了して、上部定盤(55)が上方待機位置に復帰した状態
において、作業者あるいはロボットが、研磨加工機(5
1)のキャリアー(56)に保持されている基板(A)を
1個づつ取り出していき、そして取出しが完了したら今
度は未加工基板を1つづつ上記のワークキャリアー(5
6)に配置していく。そして上部定盤(55)を下降し、
基板(A)の研磨を再開する。
That is, in the state where the polishing of the preceding magnetic disk substrate (A) is completed and the upper surface plate (55) is returned to the upper standby position, the operator or the robot operates the polishing machine (5
The substrates (A) held by the carrier (56) in 1) are taken out one by one, and when the taking out is completed, this time, one unprocessed substrate is taken and the above work carrier (5) is taken.
Place it in 6). Then descend the upper surface plate (55),
The polishing of the substrate (A) is restarted.

発明が解決しようとする課題 しかしながら、加工済基板(A)を上記のように研磨
加工機(51)から1個づつ取り出し、取り出し終えたら
また1個づつ未加工基板をキャリアー(56)に配置して
いくという作業では、一回の研磨加工を終えて次の研磨
加工を開始するまでの時間、即ち、研磨加工機(51)の
アイドルタイムがかなり長いものとなってしまい、ワー
クの研磨処理スピードが遅くなってしまう。
However, the processed substrates (A) are taken out from the polishing machine (51) one by one as described above, and after the completion of taking out, one unprocessed substrate is placed on the carrier (56). In the process of finishing, the time from the end of one polishing process to the start of the next polishing process, that is, the idle time of the polishing machine (51) becomes considerably long, and the polishing speed of the workpiece is increased. Will be late.

この発明は、かかる問題点を解決し、複数個のワーク
を一括研磨加工する研磨加工機本体へのワークのローデ
ング、アンローディングに要する時間、即ち研磨加工機
本体のアイドルタイムを短縮し、研磨処理スピードを高
めることができる研磨装置を提供することを主たる目的
とする。
The present invention solves such a problem and shortens the time required for loading and unloading of a work on the main body of a polishing machine for collectively polishing a plurality of works, that is, shortening the idle time of the main body of the polishing machine, The main object is to provide a polishing apparatus that can increase the speed.

課題を解決するための手段 上記目的において、第1の発明は、太陽歯車と、該太
陽歯車の同心外方部に配置された内歯歯車と、両歯車間
に両歯車に噛合状態に配置された外歯歯車状の複数のワ
ークキャリアーとが備えられ、該ワークキャリアーはそ
の中心から偏心した位置に複数のワーク保持部を有し、
太陽歯車と内歯歯車との作用でワークキャリアーを太陽
歯車の回りで自転させながら公転させ、前記複数のキャ
リアーに保持されたすべてのワークを一括して研磨加工
する研磨加工部が備えられ、 該研磨加工部は、研磨加工終了時に、すべてのキャリ
アーのすべてのワーク保持部が所定の定位置にて停止さ
れるように駆動制御され、 該研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停止
状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配置
関係において各未加工ワークを待機させる未加工ワーク
待機部が配置されると共に、 同じく研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動
停止状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する
配置関係において各加工済ワークを待機させる加工済ワ
ーク待機部が配置され、かつ、 前記未加工ワーク待機部に待機された各ワークを前記
研磨加工部に一括移送する未加工ワーク一括移送装置
と、前記研磨加工部で研磨加工された各ワークを一括し
て前記加工済ワーク待機部に移送する加工済ワーク一括
移送装置とがそれぞれ備えられた研磨装置を用い、 研磨加工部でワークの研磨加工を終了し、研磨加工部
の各ワーク保持部の加工済ワークを加工済ワーク一括移
送装置にて一括して取り出した後、未加工ワーク一括移
送装置にて未加工ワークを研磨加工部の各ワーク保持部
に一括して配置し、研磨加工部でのワークの研磨加工を
再開することを特徴とする研磨方法を要旨とする。
Means for Solving the Problems In the above object, the first invention is that a sun gear, an internal gear arranged on a concentric outer portion of the sun gear, and a gear arranged between both gears in a meshed state. And a plurality of external gear-shaped work carriers, the work carrier has a plurality of work holding portions at a position eccentric from the center,
The work carrier is revolved around the sun gear by the action of the sun gear and the internal gear while revolving around the sun gear, and a polishing unit for polishing all the workpieces held by the plurality of carriers is provided. The polishing processing unit is drive-controlled so that all the work holding units of all carriers are stopped at a predetermined fixed position at the end of polishing processing, and the polishing processing unit is driven adjacent to the polishing processing unit. The unprocessed work standby part for waiting each unprocessed work is arranged in the arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the respective work holding parts in the stopped state, and the driving stop of this polishing processing part is also adjacent to the polishing processing part. In the state, a processed work standby unit for waiting each processed work is arranged in an arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of each work holding unit, and the unprocessed work An unprocessed workpiece batch transfer device that collectively transfers the workpieces waiting in the standby unit to the polishing unit, and a process that collectively transfers the workpieces polished by the polishing unit to the processed workpiece standby unit. Using a polishing device equipped with a batch transfer device for finished workpieces, finish polishing the workpieces in the polishing part, and batch the processed workpieces in each work holding part of the polishing part with the batch transfer device for processed workpieces. After that, the unprocessed workpiece batch transfer device collectively arranges the unprocessed workpieces in the respective work holding portions of the polishing processing portion, and restarts the polishing processing of the workpieces in the polishing processing portion. The gist is the polishing method.

また、第2の発明は、太陽歯車と、該太陽歯車の同心
外方部に配置された内歯歯車と、両歯車間に両歯車に噛
合状態に配置された外歯歯車状の複数のワークキャリア
ーとが備えられ、該ワークキャリアーはその中心から偏
心した位置に複数のワーク保持部を有し、太陽歯車の回
転駆動によりワークキャリアーを太陽歯車の回りで自転
させながら公転させ、前記複数のキャリアーに保持され
たすべてワークを一括して研磨加工する研磨加工部が備
えられ、 該研磨加工部は、太陽歯車、内歯歯車及びワークキャ
リアー相互間の歯数比が1:3:1に設定され、かつ、太陽
歯車が、その回転駆動開始後、4の整数倍数回回転され
た時点で、回転を停止し研磨加工を終了するように駆動
制御されるようになされることによって、研磨加工終了
時に、すべてのキャリアーのすべてのワーク保持部が所
定の定位置にて停止されるようになされ、 該研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停止
状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配置
関係において各未加工ワークを待機させる未加工ワーク
待機部が配置されると共に、 同じく研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動
停止状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する
配置関係において各加工済ワークを待機させる加工済ワ
ーク待機部が配置され、かつ、 前記研磨加工部で研磨加工された各ワークを一括して
前記加工済ワーク待機部に移送する一方、前記未加工ワ
ーク待機部に待機された各ワークを前記研磨加工部に一
括移送する1個ないし複数個のワーク一括移送装置が具
備されてなることを特徴とする研磨装置を要旨とする。
A second aspect of the present invention is a sun gear, an internal gear arranged concentrically outside the sun gear, and a plurality of external gear-shaped workpieces arranged in a meshed state between the two gears. A carrier is provided, the work carrier has a plurality of work holding portions at positions eccentric from the center thereof, and the work carrier is revolved around the sun gear while being rotated by the rotational drive of the sun gear. It is equipped with a polishing unit that polishes all the workpieces held in a batch, and the polishing unit has a tooth ratio between the sun gear, the internal gear and the work carrier set to 1: 3: 1. At the time when the sun gear is rotated by an integer multiple of 4 after the rotation drive is started, the sun gear is driven and controlled so as to stop the rotation and finish the polishing work. , All All the work holding parts of the carrier are arranged to be stopped at a predetermined fixed position, and adjacent to the polishing part, an arrangement corresponding to the arrangement relationship of the respective work holding parts in the drive stopped state of the polishing part. In the relationship, an unprocessed work standby part for waiting each unprocessed work is arranged, and also adjacent to the polishing process part, an arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of each work holding part in the drive stopped state of this polishing process part. In the processing machine, a processed work waiting section for waiting for each processed work is arranged, and the workpieces polished by the polishing processing section are collectively transferred to the processed work waiting section while the unprocessed work waiting is performed. The polishing apparatus is characterized by comprising one or a plurality of workpiece batch transfer devices for batch-transferring each of the workpieces, which are on standby in the section, to the polishing section. To.

また、第3の発明は、太陽歯車と、該太陽歯車の同心
外方部に配置された内歯歯車と、両歯車間に両歯車に噛
合状態に配置された外歯歯車状の複数のワークキャリア
ーとが備えられ、該ワークキャリアーはその中心から偏
心した位置に複数のワーク保持部を有し、太陽歯車の回
転駆動によりワークキャリアーを太陽歯車の回りで自転
させながら公転させ、前記複数のキャリアーに保持され
たすべてワークを一括して研磨加工する研磨加工部が備
えられ、 該研磨加工部は、太陽歯車、内歯歯車及びワークキャ
リアー相互間の歯数比が1:3:1に設定され、かつ、太陽
歯車が、その回転駆動開始後、4の整数倍数回回転され
た時点で、回転を停止し研磨加工を終了するように駆動
制御されるようになされることによって、研磨加工終了
時に、すべてのキャリアーのすべてのワーク保持部が所
定の定位置にて停止されるようになされ、 該研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停止
状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配置
関係において各未加工ワークを待機させる未加工ワーク
待機部が配置されると共に、 同じく研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動
停止状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する
配置関係において各加工済ワークを待機させる加工済ワ
ーク待機部が配置され、かつ、 前記未加工ワーク待機部に待機された各ワークを前記
研磨加工部に一括移送する未加工ワーク一括移送装置
と、前記研磨加工部で研磨加工された各ワークを一括し
て前記加工済ワーク待機部に移送する加工済ワーク一括
移送装置とがそれぞれ備えられ、 研磨加工部でワークの研磨加工を終了し、研磨加工部の
各ワーク保持部の加工済ワークを加工済ワーク一括移送
装置にて一括して取り出した後、未加工ワーク一括移送
装置にて未加工ワークを研磨加工部の各ワーク保持部に
一括して配置し、研磨加工部でのワークの研磨加工を再
開するように、動作制御されるものとなされていること
を特徴とする研磨装置を要旨とする。
A third aspect of the present invention is a sun gear, an internal gear arranged concentrically outside the sun gear, and a plurality of external gear-like workpieces arranged between the two gears in mesh with each other. A carrier is provided, the work carrier has a plurality of work holding portions at positions eccentric from the center thereof, and the work carrier is revolved around the sun gear while being rotated by the rotational drive of the sun gear. It is equipped with a polishing unit that polishes all the workpieces held in a batch, and the polishing unit has a tooth ratio between the sun gear, the internal gear and the work carrier set to 1: 3: 1. At the time when the sun gear is rotated by an integer multiple of 4 after the rotation drive is started, the sun gear is driven and controlled so as to stop the rotation and finish the polishing work. , All All the work holding parts of the carrier are arranged to be stopped at a predetermined fixed position, and adjacent to the polishing part, an arrangement corresponding to the arrangement relationship of the respective work holding parts in the drive stopped state of the polishing part. In the relationship, an unprocessed work standby part for waiting each unprocessed work is arranged, and also adjacent to the polishing process part, an arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of each work holding part in the drive stopped state of this polishing process part. In the machined workpiece standby unit for arranging the machined workpiece standby unit for waiting the machined workpieces, and for collectively transferring the workpieces that have been queued in the unmachined workpiece standby unit to the polishing unit, the polishing unit Each of the workpieces that have been polished by the processing unit is collectively provided with a processed workpiece batch transfer device that transfers the workpieces to the processed workpiece standby unit. After finishing the polishing process of the workpiece, the processed workpieces in each work holding part of the polishing unit are collectively taken out by the processed workpiece batch transfer device, and then the unprocessed workpieces are polished by the unprocessed workpiece batch transfer device. SUMMARY OF THE INVENTION A gist is a polishing apparatus characterized in that the operation is controlled so as to be collectively arranged in each work holding part of the part and to restart the polishing work of the work in the polishing part.

なお、上記発明では、未加工ワークをその収容部から
未加工ワーク待機部に順次移送する未加工ワーク個別移
送装置が備えられているのが好ましい。
In addition, in the above-mentioned invention, it is preferable to include an unprocessed work individual transfer device that sequentially transfers the unprocessed work from the accommodation portion to the unprocessed work standby portion.

また、上記発明では、加工済ワーク待機部に載置され
た加工済ワークを洗浄・乾燥部等の後処理工程部に順次
移送する加工済ワーク個別移送装置が備えられているの
が好ましい。
Further, in the above-mentioned invention, it is preferable that a machined work individual transfer device for sequentially transferring the machined work placed on the machined work waiting section to the post-processing step section such as a cleaning / drying section is provided.

作用 上記第1ないし第3の発明にかかる研磨方法、研磨装
置では、複数個のワークを一括して研磨加工する研磨加
工部に隣接して、対応する複数の未加工ワークを待機さ
せる未加工ワーク待機部と、対応する複数の加工済ワー
クを待機させる加工済ワーク待機部とが配置され、ワー
ク一括移送装置にて、研磨加工部で研磨加工し終えた各
ワークを一括して加工済ワーク待機部に移送すると共
に、未加工ワーク待機部に待機させた各ワークを前記研
磨加工部に一括して移送するものである。従って、研磨
加工部にて研磨加工を終えた複数の加工済ワークを研磨
加工部から1個づつ取り出し、取り出し終えたらまた1
個づつ未加工ワークを研磨加工部にセットする従来の手
法に比べて、研磨加工部における研磨加工の終了から次
の開始までの時間、即ち、研磨加工部のアイドルタイム
が大幅に短縮される。
Action In the polishing method and the polishing apparatus according to the first to third aspects of the present invention, an unprocessed work that is adjacent to a polishing processing unit that collectively processes a plurality of works and waits a corresponding plurality of unprocessed works. A standby unit and a processed workpiece standby unit that holds a plurality of corresponding processed workpieces are placed, and the workpiece batch transfer device batches all the workpieces that have been polished by the polishing unit and waits for the processed workpieces. In addition to transferring the workpieces to the polishing section, the workpieces held in the unprocessed workpiece standby section are collectively transported to the polishing section. Therefore, a plurality of processed workpieces that have been polished in the polishing unit are taken out one by one from the polishing unit, and when the removal is completed, another work is performed again.
Compared with the conventional method of setting unprocessed workpieces individually in the polishing unit, the time from the end of the polishing process in the polishing unit to the next start, that is, the idle time of the polishing unit is significantly shortened.

特に、研磨加工部で先行する複数個のワークを研磨し
ている間の時間を利用し、その間に、未加工ワーク待機
部にワークを配置してそこに予め複数の未加工ワークを
待機させると共に、加工済ワーク待機部の加工済ワーク
を次の工程に移して加工済ワーク待機部を空いた状態に
しておくことができ、それによって、研磨加工終了後に
研磨加工部の加工済ワークを速やかに加工済ワーク待機
部に移送することができると共に、未加工ワーク待機部
に待機させた未加工ワークを速やかに研磨加工部に移送
することができ、これにより、研磨加工部における研磨
加工の終了から次の開始までのアイドルタイムがより一
層短縮される。
In particular, while utilizing the time during which a plurality of preceding workpieces are polished in the polishing section, a workpiece is placed in the unprocessed workpiece standby section and a plurality of unprocessed workpieces are placed in standby in advance during that time. , It is possible to move the machined workpiece in the machined workpiece standby section to the next process and leave the machined workpiece standby section in an empty state. Not only can it be transferred to the processed work standby part, but also the unprocessed work that has been made to stand by in the unprocessed work standby part can be quickly transferred to the polishing process part. The idle time until the next start is further shortened.

しかも、研磨加工部は、複数個のワークがそれぞれ所
定の定位置において停止されるように駆動制御されるも
のとなされており、このような定位置停止構成の研磨加
工部に対し、未加工ワーク待機部は、この研磨加工部の
駆動停止状態における各ワーク保持部の配置関係に対応
する配置関係において各未加工ワークを待機させる構成
とされると共に、加工済ワーク待機部も、この研磨加工
部の駆動停止状態における各ワーク保持部の配置関係に
対応する配置関係において各加工済ワークを待機させる
構成とされている。従って、一括移送装置による研磨加
工部から加工済ワーク待機部への加工済ワークの一括移
送において、更に、一括移送装置による未加工ワーク待
機部から研磨加工部への複数の未加工ワークの一括移送
において、それぞれ、ワーク相互間の相対位置関係の変
更調整を行うことなく、ワークをそのまま受取り、移送
し、セットすればよく、従って、ワーク相互間の相対位
置関係の調整に要する時間が削除され、研磨加工部のア
イドルタイムが更に一層短縮される。
Moreover, the polishing unit is driven and controlled so that a plurality of works are stopped at predetermined fixed positions. The standby part is configured to make each unprocessed work stand by in the arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the work holding parts in the drive stopped state of the polishing part, and the processed work standby part is also the polishing part. The processed workpieces are made to stand by in an arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the respective work holding portions in the drive stopped state. Therefore, in batch transfer of processed workpieces from the polishing unit to the processed workpiece standby unit by the batch transfer device, further, batch transfer of a plurality of unprocessed workpieces from the unprocessed workpiece standby unit to the polishing unit by the batch transfer device. In each case, it is sufficient to receive, transfer, and set the workpieces as they are without changing and adjusting the relative positional relationship between the workpieces. Therefore, the time required for adjusting the relative positional relationship between the workpieces is deleted, The idle time of the polishing section is further shortened.

加えて、研磨加工部は、太陽歯車と、該太陽歯車の同
心外方部に配置された内歯歯車と、両歯車間に両歯車に
噛合状態に配置された外歯歯車状の複数のワークキャリ
アーとが備えられ、該ワークキャリアーはその中心から
偏心した位置に複数のワーク保持部を有し、太陽歯車と
内歯歯車との作用でワークキャリアーを太陽歯車の回り
で自転させながら公転させ、前記複数のキャリアーに保
持されたすべてワークを一括して研磨加工する自転公転
タイプの研磨加工部であることを前提としている。そし
て、このような研磨加工部において、そのすべてのキャ
リアーのすべてのワーク保持部が所定の定位置にて停止
されるように駆動制御されるものとなされている。そし
て、このような定位置停止構成の自転公転タイプの研磨
加工部の対し、未加工ワーク待機部は、この研磨加工部
の駆動停止状態における各ワーク保持部の配置関係に対
応する配置関係において各未加工ワークを待機させる構
成とされると共に、加工済ワーク待機部も、この研磨加
工部の駆動停止状態における各ワーク保持部の配置関係
に対応する配置関係において各加工済ワークを待機させ
る構成とされ、一括移送装置にてワークを一括移送する
ものとなされている。従って、これまですべてのキャリ
アーのすべてのワーク保持部を所定の定位置にて停止さ
せる駆動制御構成をとるということの、考えも及ばなか
った複雑な動作をする上記のような自転公転タイプの研
磨加工部の採用において、該研磨加工部における研磨加
工の終了から次の開始までのアイドルタイムが大幅に短
縮される。
In addition, the polishing portion includes a sun gear, an internal gear arranged concentrically outside the sun gear, and a plurality of external gear-like workpieces arranged between the two gears in mesh with each other. A carrier is provided, and the work carrier has a plurality of work holding portions at positions eccentric from the center thereof, and revolves around the sun gear while rotating the work carrier by the action of the sun gear and the internal gear, It is premised that it is a rotation-revolution type polishing unit for polishing all the workpieces held by the plurality of carriers at once. In such a polishing section, drive control is performed so that all the work holding sections of all the carriers are stopped at a predetermined fixed position. Then, with respect to the rotation revolving type polishing processing section of such a fixed position stop configuration, the unprocessed workpiece standby section is arranged in the arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of each work holding section in the drive stopped state of the polishing processing section. In addition to the configuration in which the unmachined work is made to stand by, the machined work stand-by unit also makes each machined work stand by in an arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the respective work holders in the drive stopped state of the polishing section. The work is collectively transferred by the batch transfer device. Therefore, the rotation-revolution type polishing as described above, which has a complicated operation that was unthinkable with the drive control configuration that stops all the work holding parts of all carriers at a predetermined fixed position. When the processing section is adopted, the idle time from the end of the polishing processing in the polishing processing section to the next start is significantly shortened.

そして、第2及び第3発明の研磨装置における自転公
転タイプの研磨加工部では、太陽歯車、内歯歯車及びワ
ークキャリアー相互間の歯数比が1:3:1に設定され、か
つ、太陽歯車が、その回転駆動開始後、4の整数倍数回
回転された時点で、回転を停止し研磨加工を終了するよ
うに駆動制御されるようになされることによって、研磨
加工終了時に、すべてのキャリアーのすべてのワーク保
持部が所定の定位置にて停止されるようになされてい
る。従って、各キャリアー及び各ワーク保持部は、太陽
歯車をわずか4回、回転させるだけで、もとの位置関係
に復帰されるものであるから、各キャリアー及び各ワー
ク保持部をもとの位置関係に戻す動作制御を、太陽歯車
に無駄な多くの回転をさせることなく、短時間で無駄な
く効率良く行うことができ、そのため、研磨加工の1サ
イクルに要する処理時間がより一層短縮され、ワークが
より一層処理スピード高く研磨加工されていくことにな
る。
Further, in the rotation-revolution type polishing processing section in the polishing apparatus of the second and third inventions, the tooth ratio between the sun gear, the internal gear and the work carrier is set to 1: 3: 1, and the sun gear is However, after the start of the rotation drive, the rotation of the carrier is controlled so that the rotation is stopped and the polishing process is ended at the time when the carrier is rotated an integer multiple of 4, so that at the end of the polishing process, All the work holding parts are stopped at predetermined fixed positions. Therefore, since each carrier and each work holding part can be returned to the original positional relationship by rotating the sun gear only four times, each carrier and each work holding part are returned to their original positional relationship. It is possible to efficiently control the operation of returning to the high speed without wasteful rotation of the sun gear in a short time, and therefore, the processing time required for one cycle of polishing is further shortened and the work is Polishing will be performed at a higher processing speed.

更に、第1及び第2発明にかかる研磨方法、研磨装置
では、未加工ワーク待機部に待機された各ワークを研磨
加工部に一括移送する未加工ワーク一括移送装置と、研
磨加工された各ワークを一括して加工済ワーク待機部に
移送する加工済ワーク一括移送装置とがそれぞれ備えら
れ、研磨加工部でワークの研磨加工を終了し、研磨加工
部の各ワーク保持部の加工済ワークを加工済ワーク一括
移送装置にて一括して取り出した後、未加工ワーク一括
移送装置にて未加工ワークを研磨加工部の各ワーク保持
部に一括して配置し、研磨加工部でのワークの研磨加工
を再開するものであり、またそのように動作制御される
ものである。従って、研磨加工終了後に研磨加工部から
加工済ワークを取り出したのち、該研磨加工部に次の未
加工ワークを配置するまでの時間が短縮され、研磨加工
部における研磨加工の終了から次の開始までのアイドル
タイムが更に一層短縮される。
Further, in the polishing method and the polishing apparatus according to the first and second inventions, an unprocessed workpiece batch transfer device for collectively transferring each of the workpieces waiting in the unprocessed workpiece standby portion to the polishing processing portion, and each polished workpiece Each is equipped with a processed workpiece batch transfer device that collectively transfers the processed workpieces to the processed workpiece standby section, finishes the polishing processing of the workpieces in the polishing processing section, and processes the processed workpieces in each workpiece holding section of the polishing processing section. After batch-picking up with the finished work batch transfer device, unprocessed work batch transfer device places the unprocessed work in batch in each work holding part of the polishing part, and polishes the work in the polishing part Is restarted, and the operation is controlled as such. Therefore, the time until the next unprocessed workpiece is placed in the polishing unit after the processed workpiece is taken out from the polishing unit after the polishing process is completed is shortened, and the next start from the end of the polishing process in the polishing unit is started. The idle time up to is further shortened.

実施例 以下、この発明を円盤状の磁気ディスク用アルミニウ
ム基板の研磨加工に適用する場合の実施例につき、図面
に基づいて説明する。
EXAMPLE An example of applying the present invention to polishing an aluminum substrate for a disk-shaped magnetic disk will be described below with reference to the drawings.

第1図に示される研磨装置において、(1)は研磨加
工部、(2)は未加工ワーク待機部、(3)は加工済ワ
ーク待機部、(4)は未加工ワーク一括移送装置、
(5)は加工済ワーク一括移送装置である。また、
(6)は未加工ワーク収容ラック、(7)は洗浄・乾燥
部、(8)は未加工ワーク個別移送装置、(9)は加工
済ワーク個別移送装置である。
In the polishing apparatus shown in FIG. 1, (1) is a polishing processing section, (2) is an unprocessed workpiece standby section, (3) is a processed workpiece standby section, and (4) is an unprocessed workpiece batch transfer apparatus.
(5) is a machined work batch transfer device. Also,
(6) is an unprocessed work storage rack, (7) is a cleaning / drying unit, (8) is an unprocessed work individual transfer device, and (9) is a processed work individual transfer device.

研磨加工部(1)は、上下の定盤(11)(12)と、太
陽歯車(13)、内歯歯車(14)、ワークキャリアー(1
5)で構成された研磨加工機によるもので、太陽歯車(1
3)の回転によりキャリアー(15)が自転公転され、更
に上下な定盤(11)(12)も回転駆動されて、基板
(A)の研磨を行う。
The polishing part (1) includes upper and lower surface plates (11) and (12), a sun gear (13), an internal gear (14), and a work carrier (1).
5) With a grinding machine composed of a sun gear (1
The carrier (15) is rotated and revolved by the rotation of 3), and the upper and lower surface plates (11, 12) are also rotationally driven to polish the substrate (A).

この研磨加工部(1)において、下部定盤(11)は、
その上部に所定厚さのドーナツ盤状の砥石(17)が取着
されたもので、図示しない駆動装置により自転回りでの
回転及び上下方向への移動を行いうるものとなされてい
る。
In this polishing part (1), the lower surface plate (11) is
A doughnut-shaped grindstone (17) having a predetermined thickness is attached to the upper portion of the grindstone, and can be rotated about its own axis and moved in the vertical direction by a driving device (not shown).

上部定盤(12)は、下部定盤(11)の上方位置に同軸
状に対向配置され、その下部に同じくドーナツ盤状の砥
石(18)が前記砥石(17)に対向するように取着された
ものである。そして、この上部定盤(12)も、図示しな
い駆動装置により、自軸回りでの回転及び上下方向の移
動を行いうるものとなされている。
The upper surface plate (12) is coaxially disposed above the lower surface plate (11), and a donut disk-shaped grindstone (18) is attached to the lower part of the upper surface plate (12) so as to face the grindstone (17). It was done. The upper surface plate (12) can also rotate about its own axis and move in the vertical direction by a driving device (not shown).

太陽歯車(13)は、上下両定盤(11)(12)間におい
て砥石(17)(18)の軸芯位置に配置されており、図示
しない駆動装置により自軸回りで回転されるものとなさ
れている。
The sun gear (13) is arranged at the axial center position of the grindstones (17) and (18) between the upper and lower surface plates (11) and (12), and is rotated around its own axis by a drive device (not shown). Has been done.

内歯歯車(14)は、太陽歯車(13)の径方向外方位置
に太陽歯車(13)との間にドーナツ状のスペースをおい
て同心状に配置されている。
The internal gear (14) is concentrically arranged at a radially outward position of the sun gear (13) with a donut-shaped space between the sun gear (13) and the sun gear (13).

ワークキャリアー(15)は、薄板状外歯歯車によるも
ので、上記太陽歯車(13)と内歯歯車(14)との間のド
ーナツ状のスペース内に複数個配置され、太陽、内歯の
両歯車(13)(14)に噛合されている。また、このワー
クキャリアー(15)には、その中心位置から偏心した位
置に、磁気ディスク用基板(A)の外周形状に沿う円形
の保持孔(19)が複数個設けられている。なお、このワ
ークキャリアー(15)の厚さは、磁気ディスク用基板
(A)の厚さよりも薄く形成され、前記保持孔(19)内
に磁気ディスク用基板(A)を配置した状態でその上下
の面が保持孔(19)の外方に突出しうるものとなされて
いる。
The work carriers (15) are thin plate-shaped external gears, and a plurality of work carriers (15) are arranged in a doughnut-shaped space between the sun gear (13) and the internal gear (14). It is meshed with the gears (13) (14). Further, the work carrier (15) is provided with a plurality of circular holding holes (19) along the outer peripheral shape of the magnetic disk substrate (A) at a position eccentric from the center position thereof. The work carrier (15) has a thickness smaller than that of the magnetic disk substrate (A), and the upper and lower sides of the work carrier (15) with the magnetic disk substrate (A) arranged in the holding hole (19). The surface of is capable of protruding to the outside of the holding hole (19).

ここに、上記太陽歯車(13)、内歯歯車(14)及びワ
ークキャリアー(15)相互間の歯数比は、1:3:1に設定
されており、太陽歯車(13)が4の整数倍数回回転され
ると、ワークキャリアー(15)が公転開始時に位置して
いた位置に復帰し、かつキャリアー(15)のワーク保持
孔(19)も自転開始時に位置していた位置に復帰するよ
うにされている。
The ratio of the number of teeth among the sun gear (13), the internal gear (14) and the work carrier (15) is set to 1: 3: 1, and the sun gear (13) is an integer of 4. When rotated multiple times, the work carrier (15) returns to the position it was in when the revolution started, and the work holding hole (19) of the carrier (15) also returns to the position it had when starting rotation. Has been

一方、未加工ワーク待機部(2)及び加工済ワーク待
機部(3)は、研磨加工部(1)の両サイドに配置され
ている。これらの待機部(2)(3)は、テーブル(2
1)(22)によるもので、それらの各上面には、研磨加
工部(1)の太陽歯車(13)が停止した状態におけるキ
ャリアー(15)の保持孔(19)の位置に対応してワーク
受け部(23)(24)が設けられている。
On the other hand, the unprocessed work standby part (2) and the processed work standby part (3) are arranged on both sides of the polishing process part (1). These standby units (2) and (3) are installed on the table (2
1) (22), and on each upper surface thereof, the work corresponding to the position of the holding hole (19) of the carrier (15) when the sun gear (13) of the polishing part (1) is stopped. Receiving parts (23) (24) are provided.

また、未加工ワーク一括移送装置(4)は、研磨加工
部(1)、ワーク待機部(2)(3)の背後にこれらと
平行状に配設されたガイドレール(25)に案内されて未
加工ワーク待機用テーブル(21)の上方位置と研磨加工
部(1)の上下の定盤(11)(12)間の位置との間で往
復作動されるものとなされている。また、加工済ワーク
一括移送装置(5)は同じく背後のガイドレール(25)
に案内されて研磨加工部(1)の上下の定盤(11)(1
2)間の位置と加工済ワーク待機用テーブル(22)の上
方位置との間で往復作動されるものとなされている。そ
して、両移送装置(4)(5)のそれぞれには、待機用
テーブル(21)(22)のワーク受け部(23)(24)の位
置に対応して基板(A)をその軸孔において拡径してチ
ャックする基板チャッカー(26)(27)が備えられてい
る。
Further, the unprocessed workpiece batch transfer device (4) is guided by a guide rail (25) arranged in parallel with the polishing portion (1) and the workpiece standby portions (2) and (3) behind them. It is configured to be reciprocated between an upper position of the unprocessed work standby table (21) and a position between the upper and lower surface plates (11) and (12) of the polishing part (1). In addition, the machined work batch transfer device (5) is also equipped with a guide rail (25) behind it.
Guided by the upper and lower surface plates (11) (1) of the polishing part (1)
It is supposed to be reciprocally operated between the position between 2) and the position above the processed work standby table (22). Then, in each of the transfer devices (4) and (5), the substrate (A) is provided in its shaft hole corresponding to the positions of the work receiving portions (23) and (24) of the standby tables (21) and (22). Substrate chuckers (26) (27) for expanding and chucking the diameter are provided.

また、未加工ワーク収容ラック(6)は、基板(A)
を立積み状態で収容するもので、未加工ワーク待機部
(2)にコンベア等により隣接配置されるものとなされ
ている。
In addition, the raw work storage rack (6) is a substrate (A).
Are housed in a stacked state, and are arranged adjacent to the unprocessed work waiting section (2) by a conveyor or the like.

そして、未加工ワーク個別移送装置(8)はラック
(6)と未加工ワーク待機部(2)との間に配置され、
ラック(6)から基板(A)を1個づつチャックして取
り出しこれを未加工ワーク待機用テーブル(21)のワー
ク受け部(23)に配置していくパターン化された動作を
繰り返し行うものとなされている。
Then, the unprocessed workpiece individual transfer device (8) is arranged between the rack (6) and the unprocessed workpiece standby unit (2),
The substrates (A) are chucked one by one from the rack (6) and placed on the workpiece receiving portion (23) of the unprocessed workpiece standby table (21). The patterned operation is repeated. Has been done.

洗浄・乾燥装置(7)は加工済ワーク待機部(3)に
隣接配置されている。そして、加工済ワーク個別移送装
置(9)は洗浄・乾燥装置(7)と加工済ワーク待機部
(3)との間に配置され、加工済ワーク待機用テーブル
(22)のワーク受け部(24)に待機されている基板
(A)を1個づつチャックして取り出しこれを洗浄・乾
燥装置(7)に渡していくパターン化された動作を繰り
返し行うものとなされている。
The cleaning / drying device (7) is arranged adjacent to the processed workpiece standby part (3). The machined work individual transfer device (9) is arranged between the cleaning / drying device (7) and the machined work standby unit (3), and the machine work receiving unit (24) of the machined work standby table (22). Substrate (A) waiting for each of the substrates is picked up one by one, taken out, and passed to the cleaning / drying device (7) to repeat the patterned operation.

上記研磨装置では、未加工ワーク個別移送装置(8)
により、ラック(6)内の基板(A)が未加工ワーク待
機用テーブル(21)のワーク受け部(23)内に順次配置
されていく。
In the above-mentioned polishing device, the unworked work individual transfer device (8)
Thus, the substrates (A) in the rack (6) are sequentially arranged in the work receiving portion (23) of the unprocessed work standby table (21).

配置完了後、未加工ワーク一括移送装置(4)が、該
テーブル(21)の上方位置に位置した状態で下降し、チ
ャッカー(26)で基板(A)を一括してチャックし、上
昇する。
After the arrangement is completed, the unprocessed workpiece batch transfer device (4) descends while being positioned above the table (21), and the chucker (26) collectively chucks the substrates (A) and ascends.

なお、その直後に未加工ワーク個別移送装置(8)が
再び作動し、ラック(6)内の基板(A)をテーブル
(21)に1個づつ渡す動作が開始される。
Immediately after that, the unprocessed workpiece individual transfer device (8) is activated again, and the operation of transferring the substrates (A) in the rack (6) to the table (21) one by one is started.

前記未加工ワーク一括移送装置(4)は、上昇後、研
磨加工部(1)側に平行移動し、下部定盤(11)上に位
置する。そして、下降し、基板(A)をキャリアー(1
5)の保持孔(19)内に一括配置後チャッカー(26)を
解除して、上昇し、再び未加工ワーク待機用テーブル
(21)上に移行していく。
After moving up, the unprocessed workpiece batch transfer device (4) moves in parallel to the polishing processing part (1) side and is positioned on the lower surface plate (11). Then, it descends, and the substrate (A) is moved to the carrier (1
After the batch placement in the holding hole (19) of 5), the chucker (26) is released, the chuck rises, and the workpiece moves to the unprocessed work standby table (21) again.

そして、研磨加工部(1)では、上部定盤(12)が下
降作動し、基板(A)の上下面が上下の砥石(17)(1
8)で加圧状態に挾持され、その状態で太陽歯車(13)
が回転作動され、更に上下の定盤(11)(12)も回転作
動されて基板(A)の研磨処理がなされる。そして、太
陽歯車(13)の所定回数(4の整数倍数回)の回転完了
後、上部定盤(12)が上昇作動される。そのときワーク
(A)は太陽歯車(13)の回転開始時の位置関係と同じ
位置関係においてキャリアー(15)に保持されている。
Then, in the polishing section (1), the upper surface plate (12) is moved downward, and the upper and lower surfaces of the substrate (A) are the upper and lower grindstones (17) (1
It is held under pressure in 8) and the sun gear (13) is held in that state.
Is rotated, and the upper and lower surface plates (11, 12) are also rotated to polish the substrate (A). Then, after the sun gear (13) has been rotated a predetermined number of times (an integer multiple of 4), the upper surface plate (12) is moved up. At that time, the work (A) is held by the carrier (15) in the same positional relationship as that of the sun gear (13) at the start of rotation.

しかるのち、加工済ワーク一括移送装置(5)が下部
定盤(11)上に移行し、下降、基板の一括チャック、上
昇を行って、加工済ワーク待機用テーブル(22)側に移
行し、該テーブル(22)上で下降、基板チャックの解
除、上昇を行って基板(A)を該テーブル(22)の基板
受け部(24)内に一括配置する。
After that, the machined work batch transfer device (5) moves to the lower surface plate (11), descends, collectively chucks the substrate, and ascends, and moves to the machined work standby table (22) side. The substrate (A) is collectively placed in the substrate receiving portion (24) of the table (22) by descending on the table (22), releasing the substrate chuck, and ascending.

そして、その間に未加工ワーク一括移送装置(4)が
作動して未加工ワーク待機用テーブル(21)上の基板
(A)が前述した態様で一括して研磨加工部(1)のキ
ャリアー(15)に配置され、続いて上部定盤(12)が下
降作動されてその未加工基板の研磨が再開される。
In the meantime, the unprocessed workpiece batch transfer device (4) is actuated so that the substrates (A) on the unprocessed workpiece standby table (21) are collectively transported by the carrier (15) of the polishing section (1) in the above-described manner. ), The upper platen (12) is subsequently lowered, and polishing of the unprocessed substrate is restarted.

また、この研磨加工中、上記の加工済ワーク待機用テ
ーブル(22)に待機された基板(A)は、加工済ワーク
個別移送装置(9)によって1個づつ取り出され、洗浄
・乾燥装置(7)に順次渡されていく。
Further, during the polishing process, the substrates (A) held by the processed work standby table (22) are taken out one by one by the processed work individual transfer device (9), and then washed and dried (7). ) Will be sequentially passed.

以降は、上記動作が繰り返され、次々に基板(A)の
研磨がなされていく。
After that, the above operation is repeated, and the substrate (A) is polished one after another.

なお、本発明における研磨加工部は、砥石を使用した
研磨機によるものの他、砥石に替えて研磨布を使用し
た、いわゆるバフ研磨方式による研磨機等によるもので
あってもよい。
The polishing section in the present invention may be a polishing machine using a grindstone, or may be a polishing machine using a so-called buffing system in which a polishing cloth is used instead of the grinding stone.

発明の効果 上述の次第で、第1ないし第3の発明にかかる研磨方
法、研磨装置は、複数個のワークを一括して研磨加工す
る研磨加工部に隣接して、対応する複数の未加工ワーク
を待機させる未加工ワーク待機部と、対応する複数の加
工済ワークを待機させる加工済ワーク待機部とが配置さ
れ、ワーク一括移送装置にて、研磨加工部で研磨加工し
終えた各ワークを一括して加工済ワーク待機部に移送す
ると共に、未加工ワーク待機部に待機させた各ワークを
前記研磨加工部に一括して移送するものであるから、研
磨加工部にて研磨加工を終えた複数の加工済ワークを研
磨加工部から1個づつ取り出し、取り出し終えたらまた
1個づつ未加工ワークを研磨加工部にセットする従来の
手法に比べて、研磨加工部における研磨加工の終了から
次の開始までの時間、即ち、研磨加工部のアイドルタイ
ムを大幅に短縮することができ、ワークを処理スピード
高く研磨加工していくことができる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, the polishing method and the polishing apparatus according to the first to third inventions are provided with a plurality of corresponding unworked workpieces adjacent to the polishing processing unit for collectively polishing a plurality of workpieces. There is a non-machined work standby part that waits for each of the workpieces and a machined work standby part that waits for a plurality of corresponding processed workpieces.The workpiece batch transfer device batches all the workpieces that have been polished by the polishing part. Then, the workpieces that have been made to stand by in the unprocessed workpiece standby section are collectively transported to the polishing section, and therefore, a plurality of workpieces that have been polished in the polishing section are completed. Compared to the conventional method in which processed workpieces are taken out one by one from the polishing section, and when they have been taken out and unprocessed workpieces are set again in the polishing section, the next start from the end of polishing in the polishing section It is possible to drastically reduce the time until, that is, the idle time of the polishing portion, and to polish the work at a high processing speed.

特に、研磨加工部で先行する複数個のワークを研磨し
ている間の時間を利用し、その間に、未加工ワーク待機
部にワークを配置してそこに予め複数の未加工ワークを
待機させると共に、加工済ワーク待機部の加工済ワーク
を次の工程に移して加工済ワーク待機部を空いた状態に
しておくことができ、それによって、研磨加工終了後に
研磨加工部の加工済ワークを速やかに加工済ワーク待機
部に移送することができると共に、未加工ワーク待機部
に待機させた未加工ワークを速やかに研磨加工部に移送
することができ、これにより、研磨加工部における研磨
加工の終了から次の開始までのアイドルタイムをより一
層短縮することができ、ワークを処理スピード高く研磨
加工していくことができる。
In particular, while utilizing the time during which a plurality of preceding workpieces are polished in the polishing section, a workpiece is placed in the unprocessed workpiece standby section and a plurality of unprocessed workpieces are placed in standby in advance during that time. , It is possible to move the machined workpiece in the machined workpiece standby section to the next process and leave the machined workpiece standby section in an empty state. Not only can it be transferred to the processed work standby part, but also the unprocessed work that has been made to stand by in the unprocessed work standby part can be quickly transferred to the polishing process part. The idle time until the next start can be further shortened, and the work can be polished at a high processing speed.

しかも、研磨加工部は、複数個のワークがそれぞれ所
定の定位置において停止されるように駆動制御されるも
のとなされており、このような定位置停止構成の研磨加
工部に対し、未加工ワーク待機部は、この研磨加工部の
駆動停止状態における各ワーク保持部の配置関係に対応
する配置関係において各未加工ワークを待機させる構成
とされると共に、加工済ワーク待機部も、この研磨加工
部の駆動停止状態における各ワーク保持部の配置関係に
対応する配置関係において各加工済ワークを待機させる
構成とされているから、一括移送装置による研磨加工部
から加工済ワーク待機部への加工済ワークの一括移送に
おいて、及び、一括移送装置による未加工ワーク待機部
から研磨加工部への複数への未加工ワークの一括移送に
おいて、それぞれ、ワーク相互間の相対位置関係の変更
調査を行うことなく、ワークをそのまま受取り、移送
し、セットすればよく、従って、ワーク相互間の相対位
置関係の調整に要する時間を削除し得て、研磨加工部の
アイドルタイムを更に一層短縮することができ、ワーク
を処理スピード高く研磨加工していくことができる。
Moreover, the polishing unit is driven and controlled so that a plurality of works are stopped at predetermined fixed positions. The standby part is configured to make each unprocessed work stand by in the arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the work holding parts in the drive stopped state of the polishing part, and the processed work standby part is also the polishing part. Since the processed workpieces are made to stand by in the arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the workpiece holding portions in the drive stopped state of the workpieces, the processed workpieces from the polishing processing unit to the processed workpiece standby unit by the batch transfer device are processed. In the batch transfer of, and in the batch transfer of the unprocessed workpieces from the unprocessed workpiece standby section to the polishing section by the batch transfer device, It is sufficient to receive, transfer, and set the workpieces as they are without changing the relative positional relationship between the workpieces.Therefore, the time required to adjust the relative positional relationship between the workpieces can be eliminated, and polishing can be performed. The idle time of the processing section can be further shortened, and the work can be polished at a high processing speed.

のみならず、一括移送装置に、ワーク相互間の相対位
置関係調整の機能をもたせる必要がないから、一括移送
装置を機構的に簡素なものにすることができ、ひいては
研磨装置の全体構成を簡素にすることができる。
Moreover, since it is not necessary for the batch transfer device to have a function of adjusting the relative positional relationship between the workpieces, the batch transfer device can be mechanically simple, which in turn simplifies the overall structure of the polishing device. Can be

加えて、研磨加工部は、太陽歯車と、該太陽歯車の同
心外方部に配置された内歯歯車と、両歯車間に両歯車に
噛合状態に配置された外歯歯車状の複数のワークキャリ
アーとが備えられ、該ワークキャリアーはその中心から
偏心した位置に複数のワーク保持部を有し、太陽歯車と
内歯歯車との作用でワークキャリアーを太陽歯車の回り
で自転させながら公転させ、前記複数のキャリアーに保
持されたすべてワークを一括して研磨加工する自転公転
タイプの研磨加工部であることを前提とし、このような
研磨加工部において、そのすべてのキャリアーのすべて
のワーク保持部が所定の定位置にて停止されるように駆
動制御されるものとなされ、このような定位置停止構成
の自転公転タイプの研磨加工部に対し、未加工ワーク待
機部は、この研磨加工部の駆動停止状態における各ワー
ク保持部の配置関係に対応する配置関係において各未加
工ワークを待機させる構成とされると共に、加工済ワー
ク待機部も、この研磨加工部の駆動停止状態における各
ワーク保持部の配置関係に対応する配置関係において各
加工済ワークを待機させる構成とされ、一括移送装置に
てワークを一括移送するものとなされているから、これ
まですべてのキャリアーのすべてのワーク保持部(この
場合、キャリアーの各ワーク保持部はキャリアーの中心
から偏心した位置に備えられたものである点に特に注目
しなければならない)を所定の定位置にて停止させる駆
動制御構成をとるということの、考えも及ばなかった複
雑な動作をする自転公転タイプの研磨加工部の採用にお
いて、該研磨加工部における研磨加工の終了から次の開
始までのアイドルタイムを大幅に短縮することができ、
ワークを処理スピード高く研磨加工していくことができ
る。しかも、このような自転公転タイプの研磨加工部の
採用において、一括移送装置にワーク相互間の相対位置
関係調整の機能をもたせる必要がなく一括移送装置を機
構的に簡素にものにすることができ、ひいては研磨装置
の全体構成を簡素化することができる。
In addition, the polishing portion includes a sun gear, an internal gear arranged concentrically outside the sun gear, and a plurality of external gear-like workpieces arranged between the two gears in mesh with each other. A carrier is provided, and the work carrier has a plurality of work holding portions at positions eccentric from the center thereof, and revolves around the sun gear while rotating the work carrier by the action of the sun gear and the internal gear, Assuming that it is a revolving type polishing unit that polishes all the works held by the plurality of carriers at once, in such a polishing unit, all the work holding units of all the carriers are processed. Drive control is performed so that it is stopped at a predetermined fixed position, and the unprocessed workpiece standby unit is used for this polishing process, in contrast to the revolving-revolution type polishing process unit with such a fixed position stop configuration. In addition to the configuration in which the unprocessed workpieces are made to stand by in the arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the respective work holding portions in the drive stopped state of the polishing section, the processed workpiece standby section also makes each workpiece in the drive stopped state of the polishing processing section. All the work holders of all carriers have been configured so that the processed workpieces are put on standby in the arrangement relationship corresponding to the arrangement of the holders, and the workpieces are collectively transferred by the batch transfer device. (In this case, it should be especially noted that each work holding part of the carrier is provided at a position eccentric from the center of the carrier.) A drive control configuration for stopping at a predetermined fixed position is adopted. In the adoption of a spinning revolving type polishing processing section that performs a complicated operation that could not be considered, polishing processing in the polishing processing section The idle time from the end until the next start can be greatly reduced,
The work can be polished at high processing speed. Moreover, in adopting such a rotation / revolution type polishing processing section, it is not necessary to provide the batch transfer device with the function of adjusting the relative positional relationship between the works, and the batch transfer device can be mechanically simplified. As a result, the entire structure of the polishing apparatus can be simplified.

そして、第2及び第3発明の研磨装置における自転公
転タイプの研磨加工部は、太陽歯車、内歯歯車及びワー
クキャリアー相互間の歯数比が1:3:1に設定され、か
つ、太陽歯車が、その回転駆動開始後、4の整数倍数回
回転された時点で、回転を停止し研磨加工を終了するよ
うに駆動制御されるようになされることによって、研磨
加工終了時に、すべてのキャリアーのすべてのワーク保
持部が所定の定位置にて停止されるようになされている
から、この複雑な動作をする自転公転タイプの研磨加工
部において、これを簡素な制御構成においてすべてのキ
ャリアーのすべてのワーク保持部を所定の定位置にて停
止させることができ、研磨加工部の制御構成上の簡素
化、ひいては、一括移送装置の機構的簡素化と併せて研
磨装置の全体構成を簡素なものにすることができる。
Further, in the rotation-revolution type polishing processing section in the polishing apparatus of the second and third inventions, the tooth number ratio among the sun gear, the internal gear and the work carrier is set to 1: 3: 1, and the sun gear However, after the start of the rotation drive, the rotation of the carrier is controlled so that the rotation is stopped and the polishing process is ended at the time when the carrier is rotated an integer multiple of 4, so that at the end of the polishing process, Since all the work holding parts are stopped at a predetermined fixed position, this rotation-revolution type polishing processing part that performs complicated operation can be used for all carriers of a simple control structure. The work holding part can be stopped at a predetermined fixed position, which simplifies the control structure of the polishing processing part, and thus simplifies the mechanical structure of the batch transfer device and simplifies the overall structure of the polishing device. It is possible to to.

のみならず、各キャリアー及び各ワーク保持部は、太
陽歯車をわずか4回回転させるだけでもとの位置関係に
復帰されるものであるから、各キャリアー及び各ワーク
保持部をもとの位置関係に戻す動作制御を、太陽歯車に
無駄な多くの回転をさせることなく、短時間で無駄なく
効率良く行うことができ、そのため、研磨加工の1サイ
クルに要する処理時間を短縮でき、ワークを処理スピー
ド高く研磨加工していくことができる。
Not only that, each carrier and each work holding part can be returned to the original positional relationship by rotating the sun gear only four times, so that each carrier and each work holding part can be returned to the original positional relationship. The returning operation control can be efficiently performed in a short time without wasteful rotation of the sun gear. Therefore, the processing time required for one cycle of polishing can be shortened and the processing speed of the workpiece can be increased. It can be polished.

更に、第1及び第2発明にかかる研磨方法、研磨装置
は、未加工ワーク待機部に待機された各ワークを研磨加
工部に一括移送する未加工ワーク一括移送装置と、研磨
加工部で研磨加工された各ワークを一括して加工済ワー
ク待機部に移送する加工済ワーク一括移送装置とがそれ
ぞれ備えられ、研磨加工部でワークの研磨加工を終了
し、研磨加工部の各ワーク保持部の加工済ワークを加工
済ワーク一括移送装置にて一括して取り出した後、未加
工ワーク一括移送装置にて未加工ワークを研磨加工部を
各ワーク保持部に一括して配置し、研磨加工部でのワー
クの研磨加工を再開するものであり、またそのように動
作制御されるものであるから、研磨加工終了後に研磨加
工部から加工済ワークを取り出したのち、該研磨加工部
に次の未加工ワークを配置するまでの時間を短縮するこ
とができ、研磨加工部における研磨加工の終了から次の
開始までのアイドルタイムを更に一層短縮することがで
きる。
Further, the polishing method and the polishing apparatus according to the first and second aspects of the present invention include an unprocessed workpiece batch transfer device that collectively transfers the respective workpieces waiting in the unprocessed workpiece standby section to the polishing processing section, and polishing processing in the polishing processing section. Each of the processed workpieces is collectively transferred to the processed workpiece standby unit and the processed workpiece batch transfer device is provided. The polishing processing unit finishes the polishing of the workpieces and the processing of each workpiece holding unit of the polishing processing unit. After the finished workpieces are collectively taken out by the processed workpieces batch transfer device, the unprocessed workpieces batch transfer device places the unprocessed workpieces in the workpiece holders at the same time. Since the polishing work of the work is restarted and the operation is controlled in such a manner, after the polishing work is completed, the processed work is taken out from the polishing work part, and then the next unworked work is put in the polishing work part. To It is possible to shorten the time until the location, the idle time between the end of the polishing process in the polishing part and the commencement of the next addition can be further reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の研磨装置の一実施例を示す斜視図、
第2図は従来から用いられている研磨加工機の構成を示
す斜視図である。 (1)……研磨加工部、(2)……未加工ワーク待機
部、(3)……加工済ワーク待機部、(4)……未加工
ワーク一括移送装置、(5)……加工済ワーク一括移送
装置、(A)……磁気ディスク用アルミニウム基板。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the polishing apparatus of the present invention,
FIG. 2 is a perspective view showing the structure of a polishing machine that has been conventionally used. (1) ... polishing part, (2) ... unprocessed work standby part, (3) ... processed work standby part, (4) ... unprocessed work batch transfer device, (5) ... processed Work batch transfer device (A) ... Aluminum substrate for magnetic disk.

フロントページの続き (72)発明者 手塚 功 大阪府堺市海山町6丁224番地 昭和ア ルミニウム株式会社内 (72)発明者 木村 義信 大阪府堺市海山町6丁224番地 昭和ア ルミニウム株式会社内 (56)参考文献 実開 昭63−4250(JP,U) 特公 昭61−50749(JP,B2)Front page continued (72) Inventor Isao Tezuka, 6-224, Kaiyama-cho, Sakai-shi, Osaka, Showa Aluminum Co., Ltd. (72) Yoshinobu Kimura, 6-224, Haiyama-cho, Sakai-shi, Osaka Prefecture, Showa Aluminum Co., Ltd. (56) Bibliography Sho 63-4250 (JP, U) JP 61-50749 (JP, B2)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】太陽歯車と、該太陽歯車の同心外方部に配
置された内歯歯車と、両歯車間に両歯車に噛合状態に配
置された外歯歯車状の複数のワークキャリアーとが備え
られ、該ワークキャリアーはその中心から偏心した位置
に複数のワーク保持部を有し、太陽歯車と内歯歯車との
作用でワークキャリアーを太陽歯車の回りで自転させな
がら公転させ、前記複数のキャリアーに保持されたすべ
てワークを一括して研磨加工する研磨加工部が備えら
れ、 該研磨加工部は、研磨加工終了時に、すべてのキャリア
ーのすべてのワーク保持部が所定の定位置にて停止され
るように駆動制御され、 該研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停止状
態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配置関
係において各未加工ワークを待機させる未加工ワーク待
機部が配置されると共に、 同じく研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停
止状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配
置関係において各加工済ワークを待機させる加工済ワー
ク待機部が配置され、かつ、 前記未加工ワーク待機部に待機された各ワークを前記研
磨加工部に一括移送する未加工ワーク一括移送装置と、
前記研磨加工部で研磨加工された各ワークを一括して前
記加工済ワーク待機部に移送する加工済ワーク一括移送
装置とがそれぞれ備えられた研磨装置を用い、 研磨加工部でワークの研磨加工を終了し、研磨加工部の
各ワーク保持部の加工済ワークを加工済ワーク一括移送
装置にて一括して取り出した後、未加工ワーク一括移送
装置にて未加工ワークを研磨加工部の各ワーク保持部に
一括して配置し、研磨加工部でのワークの研磨加工を再
開することを特徴とする研磨方法。
1. A sun gear, an internal gear arranged concentrically outside the sun gear, and a plurality of external gear-shaped work carriers arranged in mesh with both gears. It is provided, the work carrier has a plurality of work holding portions in a position eccentric from the center thereof, and the work carrier is revolved around the sun gear while rotating around the sun gear by the action of the sun gear and the internal gear, A polishing section for polishing all the workpieces held by the carrier in a lump is provided, and at the end of polishing processing, all the workpiece holding sections of all carriers are stopped at a predetermined fixed position. Drive control is performed so that the unprocessed workpieces are placed in a standby position adjacent to the polishing processing section in a layout relationship corresponding to the layout relationship of the workpiece holding sections in the drive stopped state of the polishing processing section. A processed workpiece that has a workpiece standby section and is also adjacent to the polishing section, and that makes each processed workpiece stand by in an arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of each workpiece holding section when the polishing section is in the stopped state. An unprocessed work batch transfer device in which a standby part is arranged, and collectively transfers each work waited in the unprocessed work standby part to the polishing process part,
Using a polishing device equipped with a processed workpiece batch transfer device that collectively transfers the workpieces that have been polished by the polishing processing part to the processed workpiece standby part, After finishing, the processed workpieces of each work holding part of the polishing processing part are collectively taken out by the processed work batch transfer device, and then the unprocessed workpieces are held by the unprocessed work batch transfer device in each polishing work part. A polishing method, wherein the polishing processing is performed by collectively arranging the workpieces in a portion and restarting the polishing processing of the work in the polishing processing section.
【請求項2】太陽歯車と、該太陽歯車の同心外方部に配
置された内歯歯車と、両歯車間に両歯車に噛合状態に配
置された外歯歯車状の複数のワークキャリアーとが備え
られ、該ワークキャリアーはその中心から偏心した位置
に複数のワーク保持部を有し、太陽歯車の回転駆動によ
りワークキャリアーを太陽歯車の回りで自転させながら
公転させ、前記複数のキャリアーに保持されたすべてワ
ークを一括して研磨加工する研磨加工部が備えられ、 該研磨加工部は、太陽歯車、内歯歯車及びワークキャリ
アー相互間の歯数比が1:3:1に設定され、かつ、太陽歯
車が、その回転駆動開始後、4の整数倍数回回転された
時点で、回転を停止し研磨加工を終了するように駆動制
御されるようになされることによって、研磨加工終了時
に、すべてのキャリアーのすべてのワーク保持部が所定
の定位置にて停止されるようになされ、 該研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停止状
態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配置関
係において各未加工ワークを待機させる未加工ワーク待
機部が配置されると共に、 同じく研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停
止状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配
置関係において各加工済ワークを待機させる加工済ワー
ク待機部が配置され、かつ、 前記研磨加工部で研磨加工された各ワークを一括して前
記加工済ワーク待機部に移送する一方、前記未加工ワー
ク待機部に待機された各ワークを前記研磨加工部に一括
移送する1個ないし複数個のワーク一括移送装置が具備
されてなることを特徴とする研磨装置。
2. A sun gear, an internal gear arranged concentrically outside of the sun gear, and a plurality of external gear-like work carriers arranged in mesh with both gears. The work carrier has a plurality of work holding portions at positions eccentric from the center of the work carrier, revolves around the sun gear while rotating around the sun gear by the rotation drive of the sun gear, and is held by the plurality of carriers. Further, a polishing processing unit for polishing all the workpieces at a time is provided, and the polishing processing unit has a tooth number ratio between the sun gear, the internal gear and the work carrier set to 1: 3: 1, and After the sun gear is started to be driven to rotate, when the sun gear is rotated an integer multiple of four, the sun gear is driven and controlled so as to stop the rotation and end the polishing process, so that all the Career All the work holding parts are stopped at a predetermined fixed position. Adjacent to the polishing processing part, the arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the respective work holding parts in the drive stopped state of the polishing processing part. In the layout relationship corresponding to the layout relationship of the workpiece holding sections in the drive stopped state of the polishing processing section as well as the unworking workpiece standby section for waiting for each unprocessed workpiece A processed work standby part is provided for waiting each processed work, and the workpieces polished by the polishing part are collectively transferred to the processed work standby part, while the unprocessed work standby part is transferred. A polishing apparatus comprising: one or a plurality of workpiece batch transfer devices for batch-transferring each of the workpieces that have been on standby to the polishing section.
【請求項3】太陽歯車と、該太陽歯車の同心外方部に配
置された内歯歯車と、両歯車間に両歯車に噛合状態に配
置された外歯歯車状の複数のワークキャリアーとが備え
られ、該ワークキャリアーはその中心から偏心した位置
に複数のワーク保持部を有し、太陽歯車の回転駆動によ
りワークキャリアーを太陽歯車の回りで自転させながら
公転させ、前記複数のキャリアーに保持されたすべてワ
ークを一括して研磨加工する研磨加工部が備えられ、 該研磨加工部は、太陽歯車、内歯歯車及びワークキャリ
アー相互間の歯数比が1:3:1に設定され、かつ、太陽歯
車が、その回転駆動開始後、4の整数倍数回回転された
時点で、回転を停止し研磨加工を終了するように駆動制
御されるようになされることによって、研磨加工終了時
に、すべてのキャリアーのすべてのワーク保持部が所定
の定位置にて停止されるようになされ、 該研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停止状
態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配置関
係において各未加工ワークを待機させる未加工ワーク待
機部が配置されると共に、 同じく研磨加工部に隣接して、この研磨加工部の駆動停
止状態における各ワーク保持部の配置関係に対応する配
置関係において各加工済ワークを待機させる加工済ワー
ク待機部が配置され、かつ、 前記未加工ワーク待機部に待機された各ワークを前記研
磨加工部に一括移送する未加工ワーク一括移送装置と、
前記研磨加工部で研磨加工された各ワークを一括して前
記加工済ワーク待機部に移送する加工済ワーク一括移送
装置とがそれぞれ備えられ、 研磨加工部でワークの研磨加工を終了し、研磨加工部の
各ワーク保持部の加工済ワークを加工済ワーク一括移送
装置にて一括して取り出した後、未加工ワーク一括移送
装置にて未加工ワークを研磨加工部の各ワーク保持部に
一括して配置し、研磨加工部でのワークの研磨加工を再
開するように、動作制御されるものとなされていること
を特徴とする研磨装置。
3. A sun gear, an internal gear arranged concentrically outside of the sun gear, and a plurality of external gear-like work carriers arranged in mesh with both gears. The work carrier has a plurality of work holding portions at positions eccentric from the center of the work carrier, revolves around the sun gear while rotating around the sun gear by the rotation drive of the sun gear, and is held by the plurality of carriers. Further, a polishing processing unit for polishing all the workpieces at a time is provided, and the polishing processing unit has a tooth number ratio between the sun gear, the internal gear and the work carrier set to 1: 3: 1, and After the sun gear is started to be driven to rotate, when the sun gear is rotated an integer multiple of four, the sun gear is driven and controlled so as to stop the rotation and end the polishing process, so that all the Career All the work holding parts are stopped at a predetermined fixed position. Adjacent to the polishing processing part, the arrangement relationship corresponding to the arrangement relationship of the respective work holding parts in the drive stopped state of the polishing processing part. In the layout relationship corresponding to the layout relationship of the workpiece holding sections in the drive stopped state of the polishing processing section as well as the unworking workpiece standby section for waiting for each unprocessed workpiece A processed workpiece standby unit for arranging each processed workpiece is arranged, and an unprocessed workpiece batch transfer device for collectively transferring each workpiece waited in the unprocessed workpiece standby unit to the polishing processing unit,
Each of the workpieces that have been polished by the polishing unit is collectively transported to the processed workpiece standby unit, and the polishing unit completes the polishing of the workpieces. After the processed workpieces in each work holding part of the machine are collectively taken out by the processed work batch transfer device, the unprocessed workpieces are collectively transferred to each work holding part of the polishing part by the unprocessed work batch transfer device. A polishing apparatus which is arranged and operation-controlled so as to restart polishing of a work in a polishing unit.
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