JP2531316B2 - 直線運動軸支持機構 - Google Patents
直線運動軸支持機構Info
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- JP2531316B2 JP2531316B2 JP3175952A JP17595291A JP2531316B2 JP 2531316 B2 JP2531316 B2 JP 2531316B2 JP 3175952 A JP3175952 A JP 3175952A JP 17595291 A JP17595291 A JP 17595291A JP 2531316 B2 JP2531316 B2 JP 2531316B2
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- JP
- Japan
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- linear motion
- rolling element
- shaft
- flexible rolling
- support mechanism
- Prior art date
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/002—Elastic or yielding linear bearings or bearing supports
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Support Of The Bearing (AREA)
- Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は超高真空中しかも高温
下で直線往復運動をする軸を支持することのできる機構
に関する。たとえば分子線結晶成長装置（ＭＢＥ）や各
種の真空を必要とする測定分析装置、ＭＯＣＶＤ装置な
どの直線導入機その他の直線運動する軸の支持のために
用いることができる。
下で直線往復運動をする軸を支持することのできる機構
に関する。たとえば分子線結晶成長装置（ＭＢＥ）や各
種の真空を必要とする測定分析装置、ＭＯＣＶＤ装置な
どの直線導入機その他の直線運動する軸の支持のために
用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】直線運動する軸を支持するため、従来は
スライドベアリング、ボ−ルベアリングなどを用いてい
た。前者は軸と軸受部材のすべりによって軸を支承す
る。後者は摩擦を減ずるためにボ−ルを介在させてい
る。常温常圧であればこのような軸受は十分に支持機構
としての機能を発揮しうる。しかし超高真空中になると
このような軸受けはその欠陥を露呈する。超高真空中で
は一般に部品相互の摩擦係数が増大する。そのため金属
同士が接触し互いに摺動するようになったスライドベア
リングのようなものは抵抗が大きくなりすぎて使えな
い。金属ボ−ルを介在させたボ−ルベアリングであって
もころがり摩擦抵抗が増えるので進退させるのに強い力
が必要になる。
スライドベアリング、ボ−ルベアリングなどを用いてい
た。前者は軸と軸受部材のすべりによって軸を支承す
る。後者は摩擦を減ずるためにボ−ルを介在させてい
る。常温常圧であればこのような軸受は十分に支持機構
としての機能を発揮しうる。しかし超高真空中になると
このような軸受けはその欠陥を露呈する。超高真空中で
は一般に部品相互の摩擦係数が増大する。そのため金属
同士が接触し互いに摺動するようになったスライドベア
リングのようなものは抵抗が大きくなりすぎて使えな
い。金属ボ−ルを介在させたボ−ルベアリングであって
もころがり摩擦抵抗が増えるので進退させるのに強い力
が必要になる。
【０００３】そこでボ−ルの表面に金や銀などの貴金属
の薄膜を被覆したボ−ルベアリングが超高真空部材に対
して用いられる。これら柔らかい貴金属は固体潤滑剤と
して機能し摩擦抵抗を下げる作用がある。液体潤滑剤
（オイル、グリス）は真空容器の内部に拡散し試料や基
板を汚染する惧れがあるので使えない。さらに超高真空
に加えて高温という条件も加わることがある。すると、
セラミックのスライドベアリングの使用が考えられる。
しかし、実際には摩擦が大きいのでこれもあまりよい軸
受けではない。
の薄膜を被覆したボ−ルベアリングが超高真空部材に対
して用いられる。これら柔らかい貴金属は固体潤滑剤と
して機能し摩擦抵抗を下げる作用がある。液体潤滑剤
（オイル、グリス）は真空容器の内部に拡散し試料や基
板を汚染する惧れがあるので使えない。さらに超高真空
に加えて高温という条件も加わることがある。すると、
セラミックのスライドベアリングの使用が考えられる。
しかし、実際には摩擦が大きいのでこれもあまりよい軸
受けではない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】固体潤滑剤として金や
銀をコ−テイングしたものは、超高真空中であってもか
なり低い摩擦係数を持つから十分に使える。しかしなが
らこのようなベアリングはかなり高価なものになる。特
殊なものであるから入手するのに時間がかかるという難
点があった。また被覆した金や銀がやがて剥離するの
で、摩擦が増えやがて使用できなくなってしまう。つま
り寿命が短い。
銀をコ−テイングしたものは、超高真空中であってもか
なり低い摩擦係数を持つから十分に使える。しかしなが
らこのようなベアリングはかなり高価なものになる。特
殊なものであるから入手するのに時間がかかるという難
点があった。また被覆した金や銀がやがて剥離するの
で、摩擦が増えやがて使用できなくなってしまう。つま
り寿命が短い。
【０００５】もうひとつの難点はボ−ル同士、ボ−ルと
インナレ−ス、アウタレ−スの間の摩擦によってパ−テ
イクルが発生する。汚れを嫌うクリ−ンな超高真空容器
を汚染する惧れがあり望ましくない。超高真空中高温下
であっても低摩擦で作動しうる直線運動軸支持機構を提
供することが本発明の目的である。
インナレ−ス、アウタレ−スの間の摩擦によってパ−テ
イクルが発生する。汚れを嫌うクリ−ンな超高真空容器
を汚染する惧れがあり望ましくない。超高真空中高温下
であっても低摩擦で作動しうる直線運動軸支持機構を提
供することが本発明の目的である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の直線運動軸支持
機構は、高真空高温下にある直線運動をする軸を支持す
る機構であって、直線運動軸を囲む複数の長い支持平板
と、帯状の薄板を丸めて作られた筒状体を変形させ直線
運動軸の外側面と前記支持平板との間に設けられた撓み
転動体とよりなり、撓み転動体の一部が支持平板に固定
され、撓み転動体の反対側の一部が直線運動軸に固定さ
れており、一定範囲内で直線運動軸が撓み転動体によっ
て弾性的に支持されて進退できるように構成した事を特
徴とする。
機構は、高真空高温下にある直線運動をする軸を支持す
る機構であって、直線運動軸を囲む複数の長い支持平板
と、帯状の薄板を丸めて作られた筒状体を変形させ直線
運動軸の外側面と前記支持平板との間に設けられた撓み
転動体とよりなり、撓み転動体の一部が支持平板に固定
され、撓み転動体の反対側の一部が直線運動軸に固定さ
れており、一定範囲内で直線運動軸が撓み転動体によっ
て弾性的に支持されて進退できるように構成した事を特
徴とする。
【０００７】
【作用】高温に耐える金属の薄板を丸めて筒にしこれを
支持平板と直線運動軸の間に介在させている。この撓み
転動体は薄板の弾性によって軸を支持する事ができる。
薄板の面と支持平板、軸の面とが接触しているが、軸方
向には運動の障害となるものが存在しないので軸を押し
たり引いたりすればこれが動く。支持平板から軸がある
一定高さに支持されるのでこれは軸受と等価な作用をす
るのである。重要なことは撓み転動体と軸の間、撓み転
動体と支持平板との間にはすべりが全くないから真空中
であっても抵抗が大きくならないという事である。
支持平板と直線運動軸の間に介在させている。この撓み
転動体は薄板の弾性によって軸を支持する事ができる。
薄板の面と支持平板、軸の面とが接触しているが、軸方
向には運動の障害となるものが存在しないので軸を押し
たり引いたりすればこれが動く。支持平板から軸がある
一定高さに支持されるのでこれは軸受と等価な作用をす
るのである。重要なことは撓み転動体と軸の間、撓み転
動体と支持平板との間にはすべりが全くないから真空中
であっても抵抗が大きくならないという事である。
【０００８】
【実施例】図１は本発明の実施例に係る直線運動軸支持
機構の縦断面図、図２は図１の中のII−II拡大断面図で
ある。直線運動する軸１は直線状の棒状体である。これ
を上下で囲むように２枚の平行平板２、２が設けられ
る。平行平板２、２と直線運動軸１の間に薄板を丸めて
筒状にした撓み転動体３、３を設ける。これをＴａ、Ｗ
など高融点金属の薄板とすると、高温下でも十分に機能
するものが得られる。４００℃程度であればステンレス
の薄板を使う事ができる。撓み転動体３は同じ厚さの薄
板であるので、これを一定半径の半円形状ＲＮＭに曲げ
た時の弾性力は同じである。したがって直線運動軸１は
両方の撓み転動体３、３から常に一定の弾性力を受ける
事になる。
機構の縦断面図、図２は図１の中のII−II拡大断面図で
ある。直線運動する軸１は直線状の棒状体である。これ
を上下で囲むように２枚の平行平板２、２が設けられ
る。平行平板２、２と直線運動軸１の間に薄板を丸めて
筒状にした撓み転動体３、３を設ける。これをＴａ、Ｗ
など高融点金属の薄板とすると、高温下でも十分に機能
するものが得られる。４００℃程度であればステンレス
の薄板を使う事ができる。撓み転動体３は同じ厚さの薄
板であるので、これを一定半径の半円形状ＲＮＭに曲げ
た時の弾性力は同じである。したがって直線運動軸１は
両方の撓み転動体３、３から常に一定の弾性力を受ける
事になる。
【０００９】撓み転動体３はある一箇所に於いて固定金
具４により平行平板２に固定される。これは撓み転動体
３が平行平板２に対して滑らないようにするためであ
る。撓み転動体３の反対側の一箇所が固定金具５によっ
て直線運動軸１に固定されている。これも軸１に対して
撓み転動体３がすべらないようにするためである。軸１
には上下に平坦面６、６があって撓み転動体３と正しく
接触するようにしてある。この例では２枚の上下平行平
板の間に直線運動軸１が挟まれる。上下の撓み転動体
３、３は前後に半円形に彎曲した弾性変形部分を持って
いる。これは加えられた力の増減によって撓みが変化す
る。押圧力が増すと、半円形の変形部分の半径が減少す
る。従って直線運動軸の重さと、上方の撓み転動体の弾
性力とを加えたものが、下方の撓み転動体の弾性力と等
しくなるように変形して相互につりあうようになるわけ
である。
具４により平行平板２に固定される。これは撓み転動体
３が平行平板２に対して滑らないようにするためであ
る。撓み転動体３の反対側の一箇所が固定金具５によっ
て直線運動軸１に固定されている。これも軸１に対して
撓み転動体３がすべらないようにするためである。軸１
には上下に平坦面６、６があって撓み転動体３と正しく
接触するようにしてある。この例では２枚の上下平行平
板の間に直線運動軸１が挟まれる。上下の撓み転動体
３、３は前後に半円形に彎曲した弾性変形部分を持って
いる。これは加えられた力の増減によって撓みが変化す
る。押圧力が増すと、半円形の変形部分の半径が減少す
る。従って直線運動軸の重さと、上方の撓み転動体の弾
性力とを加えたものが、下方の撓み転動体の弾性力と等
しくなるように変形して相互につりあうようになるわけ
である。
【００１０】より詳しく説明する。薄板の彎曲部ＭＮＲ
について考えよう。平板との接触点の端がＭ、Ｒであ
り、Ｎは自由部分である。Ｍ、Ｒに加わる力をＦとす
る。薄板の自重を無視すると、Ｍ、Ｒに加わる力は等し
いので、ここではどちらもＦとしている。円弧ＲＮＭで
のモ−メントはいずれに於いても同一である。これをＭ
とする。半円弧ＲＮＭの曲率半径をａとする。モ−メン
トＭが一定であるのでＲＮＭは円弧となりＲ、Ｍで接線
が平行であるので、ＲＮＭは半円弧となる。薄板のヤン
グ率をＥ、断面二次モ−メントをＩとすると、薄板の厚
みをｂ、幅をｄとして、 Ｉ ＝ ｄｂ3 ／１２ （１） である。半円弧ＲＮＭが有する弾性エネルギ−Ｕは Ｕ ＝ （∫Ｍ2 ｄｓ）／（２ＩＥ） （２） である。Ｍ＝Ｆａである。これは一定である。積分ｄｓ
は円弧ＭＮＲに沿うものである。Ｍは一定であるので、
これは常にπａになる。これを代入するとＵは Ｕ ＝ （πａＭ2 ）／（２ＩＥ） （３） となる。弾性エネルギ−を力で微分するとこの力に共役
な変位が求められる。Ｍ点を基準としてＲ点の角度撓み
はπであるので ∂Ｕ／∂Ｍ ＝ π （４） という撓みの関係が成り立つ。これを計算して Ｍａ ＝ ＩＥ （５） という式が得られるがこれを力Ｆに直すと Ｆ ＝ ＩＥ／ａ2 （６） となる。つまりＭＮＲの彎曲部の曲率半径の２乗に反比
例して力Ｆが増大する。先述のようにこの関係があるの
で、撓み転動体によって直線運動軸を支持する事ができ
るのである。（６）式は一方の彎曲部における力である
が、両端に２つの彎曲部があるのであるから、撓み転動
体の力は（６）の２倍になる。
について考えよう。平板との接触点の端がＭ、Ｒであ
り、Ｎは自由部分である。Ｍ、Ｒに加わる力をＦとす
る。薄板の自重を無視すると、Ｍ、Ｒに加わる力は等し
いので、ここではどちらもＦとしている。円弧ＲＮＭで
のモ−メントはいずれに於いても同一である。これをＭ
とする。半円弧ＲＮＭの曲率半径をａとする。モ−メン
トＭが一定であるのでＲＮＭは円弧となりＲ、Ｍで接線
が平行であるので、ＲＮＭは半円弧となる。薄板のヤン
グ率をＥ、断面二次モ−メントをＩとすると、薄板の厚
みをｂ、幅をｄとして、 Ｉ ＝ ｄｂ3 ／１２ （１） である。半円弧ＲＮＭが有する弾性エネルギ−Ｕは Ｕ ＝ （∫Ｍ2 ｄｓ）／（２ＩＥ） （２） である。Ｍ＝Ｆａである。これは一定である。積分ｄｓ
は円弧ＭＮＲに沿うものである。Ｍは一定であるので、
これは常にπａになる。これを代入するとＵは Ｕ ＝ （πａＭ2 ）／（２ＩＥ） （３） となる。弾性エネルギ−を力で微分するとこの力に共役
な変位が求められる。Ｍ点を基準としてＲ点の角度撓み
はπであるので ∂Ｕ／∂Ｍ ＝ π （４） という撓みの関係が成り立つ。これを計算して Ｍａ ＝ ＩＥ （５） という式が得られるがこれを力Ｆに直すと Ｆ ＝ ＩＥ／ａ2 （６） となる。つまりＭＮＲの彎曲部の曲率半径の２乗に反比
例して力Ｆが増大する。先述のようにこの関係があるの
で、撓み転動体によって直線運動軸を支持する事ができ
るのである。（６）式は一方の彎曲部における力である
が、両端に２つの彎曲部があるのであるから、撓み転動
体の力は（６）の２倍になる。
【００１１】直線運動軸１の重さをＷ、上側の撓み転動
体のヤング率、断面二次モ−メント、彎曲部半径をそれ
ぞれＥ1 、Ｉ1 、ａ1 とする。下側の撓み転動体のヤン
グ率、断面二次モ−メント、彎曲部半径をＥ2 、Ｉ2 、
ａ2 とする。力のつりあいは ２Ｉ1 Ｅ1 ／ａ1 2 ＋ Ｗ ＝ ２Ｉ2 Ｅ2 ／ａ2 2 （７） という事になる。ａ1 ＝ａ2 である必要はないが、ａ1
＝ａ2 にしようとすればできる。ＩやＥを少し違えれば
よいのである。同じ材料であればＥは同じになるがそれ
でもｂ、ｄを変えることによりＩを変えることができ
る。
体のヤング率、断面二次モ−メント、彎曲部半径をそれ
ぞれＥ1 、Ｉ1 、ａ1 とする。下側の撓み転動体のヤン
グ率、断面二次モ−メント、彎曲部半径をＥ2 、Ｉ2 、
ａ2 とする。力のつりあいは ２Ｉ1 Ｅ1 ／ａ1 2 ＋ Ｗ ＝ ２Ｉ2 Ｅ2 ／ａ2 2 （７） という事になる。ａ1 ＝ａ2 である必要はないが、ａ1
＝ａ2 にしようとすればできる。ＩやＥを少し違えれば
よいのである。同じ材料であればＥは同じになるがそれ
でもｂ、ｄを変えることによりＩを変えることができ
る。
【００１２】注意すべきことは撓みと力が２乗に反比例
するということで関係づけられていることである。これ
は軸１がある一定高さから外れ難いということを意味し
ている。薄板による弾性支持であるから高さについて狂
いがでそうにも思われるがそうでない。
するということで関係づけられていることである。これ
は軸１がある一定高さから外れ難いということを意味し
ている。薄板による弾性支持であるから高さについて狂
いがでそうにも思われるがそうでない。
【００１３】図３は３本の平行な支持平板を用いるもの
である。これは中心角１２０°をなす位置に平板が３つ
設けられている。直線運動軸１も上と、斜め下方にあわ
せて３つの平坦面６を備えている。直線運動軸１、平坦
面６と支持平板２の間に３つの撓み転動体を設けてい
る。これも直線運動軸１を定位置に支持でき、力のつり
あいは（７）式と同じになる。ただし図３の下２本の撓
み転動体に対するパラメ−タがＥ2 、Ｉ2 、ａ2 に当た
る。Ｗが無視できれば３つの撓み転動体は等価のものを
用いることができる。図１、図２のものは左右方向への
ズレをなんらかの手段で規制しなければならなかった。
図３のものは左右方向のズレが起こらないのでより優れ
ている。
である。これは中心角１２０°をなす位置に平板が３つ
設けられている。直線運動軸１も上と、斜め下方にあわ
せて３つの平坦面６を備えている。直線運動軸１、平坦
面６と支持平板２の間に３つの撓み転動体を設けてい
る。これも直線運動軸１を定位置に支持でき、力のつり
あいは（７）式と同じになる。ただし図３の下２本の撓
み転動体に対するパラメ−タがＥ2 、Ｉ2 、ａ2 に当た
る。Ｗが無視できれば３つの撓み転動体は等価のものを
用いることができる。図１、図２のものは左右方向への
ズレをなんらかの手段で規制しなければならなかった。
図３のものは左右方向のズレが起こらないのでより優れ
ている。
【００１４】図４に示すのは第３の実施例である。これ
は４本の支持平板を中心角９０°をなる位置に設けてい
る。撓み転動体は４つあり、この内２つは横になるが、
固定金具４、５があるので撓み転動体が下方に落下する
ということはない。
は４本の支持平板を中心角９０°をなる位置に設けてい
る。撓み転動体は４つあり、この内２つは横になるが、
固定金具４、５があるので撓み転動体が下方に落下する
ということはない。
【００１５】
【発明の効果】本発明の支持機構は摺動部を持たない。
超高真空中ですべり摩擦抵抗が大きくなっても、摺動部
がないので、抵抗は増えない。軸を進退させると、撓み
転動体はキャタピラのような運動をして接触面が変わっ
てゆくが相互にすべりはない。固定金具で一部を固定す
るので軸の往復運動の範囲が限定される。これは撓み転
動体の長さによる限定である。しかし、多くの場合真空
中での直線運動軸はある一定範囲で動ければよいのであ
るから、この限定はあまり重大な欠点とはならない。
超高真空中ですべり摩擦抵抗が大きくなっても、摺動部
がないので、抵抗は増えない。軸を進退させると、撓み
転動体はキャタピラのような運動をして接触面が変わっ
てゆくが相互にすべりはない。固定金具で一部を固定す
るので軸の往復運動の範囲が限定される。これは撓み転
動体の長さによる限定である。しかし、多くの場合真空
中での直線運動軸はある一定範囲で動ければよいのであ
るから、この限定はあまり重大な欠点とはならない。
【００１６】ボ−ルを用いる軸受に比べて構造が簡単で
ある。固定潤滑剤が剥離するというようなこともなく長
寿命である。摺動部がないので操作が軽いということの
他に、摺動部での摩擦がないので微小な物質が剥離して
パ−テイクルとなって飛散し、容器内部を汚すというこ
とがない。汚れを嫌う超高真空装置に最適である。
ある。固定潤滑剤が剥離するというようなこともなく長
寿命である。摺動部がないので操作が軽いということの
他に、摺動部での摩擦がないので微小な物質が剥離して
パ−テイクルとなって飛散し、容器内部を汚すというこ
とがない。汚れを嫌う超高真空装置に最適である。
【００１７】この構造の欠点は軸の位置が厳密に定まら
ないという事であろうが、実際には直線運動軸の一端は
直線導入機に連結されこれは常温であって他の軸受など
によって支持される事が多い。つまり必要であれば他の
手段によって厳密な位置決めがなされ得る。
ないという事であろうが、実際には直線運動軸の一端は
直線導入機に連結されこれは常温であって他の軸受など
によって支持される事が多い。つまり必要であれば他の
手段によって厳密な位置決めがなされ得る。
【図１】本発明の実施例に係る直線運動軸支持機構の縦
断面図。
断面図。
【図２】図１のII−II拡大断面図。
【図３】本発明の他の実施例であって３つの支持平板と
３つの撓み転動体を有する直線運動軸支持機構の断面
図。
３つの撓み転動体を有する直線運動軸支持機構の断面
図。
【図４】本発明の第３の実施例であって４つの支持平板
と４つの撓み転動体を有する直線運動軸支持機構の断面
図。
と４つの撓み転動体を有する直線運動軸支持機構の断面
図。
１ 直線運動軸 ２ 支持平板 ３ 撓み転動体 ４ 固定金具 ５ 固定金具 ６ 平坦面
Claims (1)
- 【請求項１】 高真空高温下にある直線運動をする軸を
支持する機構であって、直線運動軸を囲む複数の長い支
持平板と、帯状の薄板を丸めて作られた筒状体を変形さ
せ直線運動軸の外側面と前記支持平板との間に設けられ
た撓み転動体とよりなり、撓み転動体の一部が支持平板
に固定され、撓み転動体の反対側の一部が直線運動軸に
固定されており、一定範囲内で直線運動軸が撓み転動体
によって弾性的に支持されて進退できるように構成した
事を特徴とする直線運動軸支持機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3175952A JP2531316B2 (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 直線運動軸支持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3175952A JP2531316B2 (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 直線運動軸支持機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04370413A JPH04370413A (ja) | 1992-12-22 |
| JP2531316B2 true JP2531316B2 (ja) | 1996-09-04 |
Family
ID=16005124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3175952A Expired - Fee Related JP2531316B2 (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 直線運動軸支持機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2531316B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6842118B2 (en) | 2001-07-23 | 2005-01-11 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Overload detector of vehicle for high lift work |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001518170A (ja) * | 1997-02-11 | 2001-10-09 | １．．．アイピーアール リミテッド | モータ、及びモータのための軸受 |
| CN1076799C (zh) * | 1999-07-16 | 2001-12-26 | 中国科学院低温技术实验中心 | 轮式无润滑直线运动轴承 |
| JP5676437B2 (ja) | 2008-06-24 | 2015-02-25 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 折返し板バネを使用するリニア軸受 |
-
1991
- 1991-06-19 JP JP3175952A patent/JP2531316B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6842118B2 (en) | 2001-07-23 | 2005-01-11 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Overload detector of vehicle for high lift work |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04370413A (ja) | 1992-12-22 |
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