JP2530585Y2 - Clamping device in substrate rotary dryer - Google Patents

Clamping device in substrate rotary dryer

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JP2530585Y2
JP2530585Y2 JP7695891U JP7695891U JP2530585Y2 JP 2530585 Y2 JP2530585 Y2 JP 2530585Y2 JP 7695891 U JP7695891 U JP 7695891U JP 7695891 U JP7695891 U JP 7695891U JP 2530585 Y2 JP2530585 Y2 JP 2530585Y2
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substrate
rotor
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swinging
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賢司 杉本
裕司 島津
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本考案は、半導体基板等の被処理
基板(以下単に「基板」と称する)が収納されたキャリ
アをロータに固定し、そのキャリアを回転させることに
よって基板に付着した液滴を液切り乾燥する基板回転乾
燥装置におけるクランプ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method of fixing a carrier containing a substrate to be processed such as a semiconductor substrate (hereinafter simply referred to as a "substrate") to a rotor and rotating the carrier to attach a liquid to the substrate. The present invention relates to a clamp device in a substrate rotary drying device for draining and drying a droplet.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は、従来のクランプ装置を備えた基
板回転乾燥装置を示す図である。この基板乾燥装置で
は、同図に示すように、チャンバー1の周壁2が略円形
に形成されており、回転駆動モーター7によって回転さ
れるロータ5が、その回転中心Gをチャンバー周壁2に
対し偏心するようにしてチャンバー1内に配置されてい
る。偏心側のチャンバー周壁2aには吸気口3が、また
それと反対側のチャンバー周壁2bに強制排気口4がそ
れぞれ設けられている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a view showing a substrate rotating and drying apparatus provided with a conventional clamping device. In this substrate drying apparatus, as shown in the figure, the peripheral wall 2 of the chamber 1 is formed in a substantially circular shape, and the rotor 5 rotated by the rotary drive motor 7 causes the rotation center G to be eccentric with respect to the chamber peripheral wall 2. And is arranged in the chamber 1. An intake port 3 is provided on the eccentric chamber peripheral wall 2a, and a forced exhaust port 4 is provided on the opposite chamber peripheral wall 2b.

【0003】クランプ装置10はロータ5に架設されて
おり、キャリア6及び基板Wをロータ5に固定するよう
に構成されている。すなわち、クランプ装置10は、ロ
ータ5に架設されたキャリア受け具11,12と、支軸
16回りに回動自在な左右一対の基板保持具15,15
と、基板保持具15,15を回動させる回動機構(図示
省略)とで構成されている。なお、基板保持具15は、
一方端が支軸16に枢支され図示する所定位置でキャリ
ア6の上縁部を押さえるキャリア押え部15aと、その
キャリア押え部15aの他方端から伸びた当接部15b
とからなる。したがって、キャリア6がキャリア受け具
11,12に保持された後、回動機構によって基板保持
具15,15をそれぞれ所定方向に回動させると、同図
に示すように、キャリア押え部15aがキャリア6の上
縁部を押さえてキャリア受け具11,12と協同してキ
ャリア6をロータ5に固定するとともに、当接部15b
が基板Wの外周部と当接されてキャリア6の開口からの
基板Wの飛び出しが防止される。
[0003] The clamp device 10 is mounted on the rotor 5 and is configured to fix the carrier 6 and the substrate W to the rotor 5. In other words, the clamp device 10 includes a pair of carrier holders 11, 12 mounted on the rotor 5 and a pair of left and right substrate holders 15, 15 rotatable around the support shaft 16.
And a rotation mechanism (not shown) for rotating the substrate holders 15, 15. The substrate holder 15 is
A carrier holding portion 15a having one end pivotally supported by the support shaft 16 and holding the upper edge of the carrier 6 at a predetermined position shown in the figure, and a contact portion 15b extending from the other end of the carrier holding portion 15a
Consists of Therefore, after the carrier 6 is held by the carrier receiving members 11 and 12, when the substrate holders 15 and 15 are respectively rotated in predetermined directions by the rotation mechanism, as shown in FIG. 6, the carrier 6 is fixed to the rotor 5 in cooperation with the carrier receiving members 11, 12, and the contact portion 15b
Is brought into contact with the outer peripheral portion of the substrate W to prevent the substrate W from jumping out of the opening of the carrier 6.

【0004】こうして、キャリア6及び基板Wのロータ
5への固定が完了すると、モーター7が作動してキャリ
ア6,基板Wおよびロータ5が一体となって回転し、そ
の結果回転によって生じる遠心力により液滴が切られ基
板Wが乾燥される。
[0004] When the fixing of the carrier 6 and the substrate W to the rotor 5 is completed, the motor 7 operates to rotate the carrier 6, the substrate W and the rotor 5 integrally, and as a result, the centrifugal force generated by the rotation causes the motor 6 to rotate. The droplet is cut and the substrate W is dried.

【0005】[0005]

【考案が解決しようとする課題】ところで、現在半導体
製造産業では、高集積度化に伴い基板も6インチから8
インチに移行しつつあり、この移行期では生産効率の観
点から、半導体製造工程において6インチおよび8イン
チの基板をランダムに処理することが要求されている。
そこで、これに対応するために、6インチ用のキャリア
及び8インチ用のキャリアの外形寸法を統一している。
However, in the semiconductor manufacturing industry, the size of a substrate is reduced from 6 inches to 8
In the transition period, from the viewpoint of production efficiency, it is required to randomly process 6-inch and 8-inch substrates in a semiconductor manufacturing process.
To cope with this, the outer dimensions of the 6-inch carrier and the 8-inch carrier are unified.

【0006】そのため、上記基板乾燥装置によって6イ
ンチおよび8インチの基板の乾燥処理をランダムに行う
には、次の問題が生じる。すなわち、キャリア6を基板
乾燥装置のロータ5に固定する上では特に問題は生じな
いが、基板Wのサイズに応じて当接部15bを取り替え
る必要がある。そのため、基板乾燥装置に搬送されてく
る基板Wのサイズが替わるごとに、取り替え作業を要
し、生産効率の面で重大な問題となっている。また、6
インチ対応の基板乾燥装置と8インチ対応の基板乾燥装
置とをそれぞれ用意し、基板サイズの変更に伴い基板乾
燥装置を入れ替えるという手段も考えられるが、この場
合も上記入れ替え作業によって生産ラインを停止しなけ
ればならない。
[0006] Therefore, the following problems occur when the 6-inch and 8-inch substrates are dried at random by the substrate drying apparatus. That is, there is no particular problem in fixing the carrier 6 to the rotor 5 of the substrate drying apparatus, but it is necessary to replace the contact portion 15b according to the size of the substrate W. Therefore, every time the size of the substrate W conveyed to the substrate drying apparatus changes, a replacement operation is required, which is a serious problem in terms of production efficiency. Also, 6
It is conceivable to prepare a substrate drying apparatus for 8 inches and a substrate drying apparatus for 8 inches, and replace the substrate drying apparatus according to the change in the substrate size. In this case, however, the production line is stopped by the above replacement work. There must be.

【0007】この考案は上記問題点に鑑み、被処理基板
のサイズ変更があっても要部部品の取り替え等を行うこ
となく、連続して乾燥処理を行うことができる基板回転
乾燥装置におけるクランプ装置を提供することを目的と
する。
In view of the above problems, the present invention provides a clamping device in a substrate rotary drying apparatus that can continuously perform a drying process without replacing a main part even if the size of a substrate to be processed is changed. The purpose is to provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この考案は、複数サイズ
の被処理基板を収納するキャリアと、該キャリアを固定
すると共に、前記基板に付着した液滴を液切り乾燥する
ために回転自在なロータとからなる基板回転乾燥装置に
おけるクランプ装置であって、上記目的を達成するため
に、(a) 前記キャリアと係合するようにロータに架設さ
れたキャリア受け具と、(b) 以下の構成要素、すなわち
(b-1) その一端がロータに対し回動自在に支持され、ク
ランプ状態でキャリア受け具に係合されたキャリアの上
縁部を押さえてロータに固定するキャリア押え部と、(b
-2) 該キャリア押え部の残りの一端に揺動自在に支持さ
れた揺動部と、(b-3) 該揺動部を所定状態に保つよう
に、付勢している付勢部材と、からなる基板保持具とを
備え、前記キャリアに複数サイズのうちいずれの基板が
収納されていても揺動部が上記付勢部材の付勢力により
ロータ回転時におけるキャリアからの基板の飛び出しを
防止しうる姿勢を保持する。
According to the present invention, there is provided a carrier accommodating a plurality of substrates to be processed, a rotatable rotor for fixing the carrier and draining and drying liquid droplets attached to the substrate. In order to achieve the above object, (a) a carrier receiver mounted on a rotor to engage with the carrier, and (b) the following components Ie
(b-1) a carrier holding portion that is rotatably supported at one end with respect to the rotor, holds the upper edge of the carrier engaged with the carrier receiving member in a clamped state, and fixes the carrier to the rotor;
-2) a swinging portion that is swingably supported at the other end of the carrier holding portion, and (b-3) a biasing member that biases the swinging portion to maintain the swinging portion in a predetermined state. And a substrate holder comprising a substrate holder, wherein the oscillating portion prevents the substrate from jumping out of the carrier during rotation of the rotor due to the urging force of the urging member, even if any of a plurality of substrates is accommodated in the carrier. Maintain a possible posture.

【0009】[0009]

【作用】この考案に係る基板回転乾燥装置におけるクラ
ンプ装置によれば、キャリアにいずれの基板が収納され
ていても揺動部が付勢部材の付勢力により所定状態に保
つように作用されることで、ロータ回転時におけるキャ
リアからの基板の飛び出しを防止しうる姿勢を保持す
る。
According to the clamping device in the substrate rotating and drying apparatus according to the present invention, the swinging portion is operated by the urging force of the urging member so as to be maintained in a predetermined state regardless of which substrate is stored in the carrier. Thus, a posture capable of preventing the substrate from jumping out of the carrier during rotation of the rotor is maintained.

【0010】[0010]

【実施例】図1は、この考案にかかるクランプ装置を備
えた基板回転乾燥装置を示す図である。図1と図5との
比較からわかるように、この実施例が従来例と相違する
点は、クランプ装置であり、その他の構成は同一であ
る。したがって、以下において、実施例にかかるクラン
プ装置の構成および動作について詳細に説明するが、そ
の他の構成については従来例と同一あるいは相当符号を
付してその説明を省略する。
FIG. 1 is a view showing a substrate rotary drying apparatus provided with a clamping device according to the present invention. As can be seen from a comparison between FIG. 1 and FIG. 5, this embodiment differs from the conventional example in the clamp device, and the other configuration is the same. Therefore, in the following, the configuration and operation of the clamp device according to the embodiment will be described in detail, but other configurations will be assigned the same or corresponding reference numerals as in the conventional example, and description thereof will be omitted.

【0011】この実施例にかかるクランプ装置20は、
キャリア受け具11,12と、左右一対の基板保持具2
2,22とで構成されている。キャリア受け具11,1
2は同図に示すようにキャリア6と係合可能な形状に仕
上げられ、ロータ5に架設されている。この実施例で
は、6インチ基板および8インチ基板を問わず、キャリ
ア6がキャリア受け具11,12に係合すると、キャリ
ア6に収納された基板Wの中心位置gがロータ5の回転
中心Gに対しキャリア6の下縁側に位置するように構成
されている。このように構成した理由は、キャリア6は
後述するように、ロータ5に固定されて高速回転される
が、その際にキャリア6に作用する遠心力をキャリア受
け具11で受け止めるようにするためである。なお、こ
の実施例では、2種類の基板Wのランダム処理を前提し
ているため、キャリア6の外形(実線)については同一
であるが、6インチ用及び8インチ用でその内部構造
(一点鎖線)はそれぞれ異なっている。
The clamp device 20 according to this embodiment is
Carrier receiving members 11 and 12 and a pair of left and right substrate holders 2
2 and 22. Carrier receiver 11, 1
2 is finished to a shape engageable with the carrier 6 as shown in FIG. In this embodiment, when the carrier 6 is engaged with the carrier receivers 11 and 12 irrespective of the 6-inch substrate and the 8-inch substrate, the center position g of the substrate W stored in the carrier 6 becomes the rotation center G of the rotor 5. On the other hand, it is configured to be located on the lower edge side of the carrier 6. The reason for this configuration is that the carrier 6 is fixed to the rotor 5 and is rotated at high speed, as described later, but the centrifugal force acting on the carrier 6 is received by the carrier receiver 11 at that time. is there. In this embodiment, since the random processing of the two types of substrates W is assumed, the outer shape (solid line) of the carrier 6 is the same, but the internal structure (dashed-dotted line) for 6 inches and 8 inches is used. ) Are different.

【0012】図2は基板保持具の構成を示す図である。
基板保持具22は、その一方端(同図では左手側)がキ
ャリア受け具11,12に係合されたキャリア6の上縁
部近傍でロータ5に対し回動自在に支持されたキャリア
押え部23を有しており、図示を省略するクランプ駆動
機構によってクランプ位置(図2の実線)と、アンクラ
ンプ位置(同図の破線)との間を回動するように構成さ
れている。そして、キャリア押え部23がクランプ位置
に位置する(以下この状態を「クランプ状態」と称す
る)と、キャリア押え部23の中間部に取り付けられた
キャリア押え板23aがキャリア6の上縁部を押え込
み、キャリア受け具11,12と協同してキャリア6を
ロータ5に固定する。なお、キャリア押え板23aをキ
ャリア押え部23に取り付ける代わりに、キャリア押え
部23の中間部によって直接的にキャリア6の上縁部を
押え込むように構成してもよいことは、言うまでもな
く、要はクランプ状態でキャリア押え部23によって直
接的あるいは間接的にキャリア6の上縁部を押え込むよ
うに構成すればよい。
FIG. 2 is a view showing the structure of the substrate holder.
The substrate holder 22 has a carrier holding portion rotatably supported by the rotor 5 in the vicinity of the upper edge of the carrier 6 in which one end (the left hand side in the figure) is engaged with the carrier receivers 11 and 12. 23, and is configured to rotate between a clamp position (solid line in FIG. 2) and an unclamping position (dashed line in FIG. 2) by a clamp driving mechanism (not shown). When the carrier pressing portion 23 is located at the clamp position (hereinafter, this state is referred to as a “clamp state”), the carrier pressing plate 23 a attached to the intermediate portion of the carrier pressing portion 23 presses the upper edge of the carrier 6. The carrier 6 is fixed to the rotor 5 in cooperation with the carrier receiving members 11 and 12. Needless to say, instead of attaching the carrier holding plate 23a to the carrier holding portion 23, the upper edge of the carrier 6 may be directly held by the intermediate portion of the carrier holding portion 23. May be configured so that the upper edge of the carrier 6 is directly or indirectly pressed by the carrier pressing portion 23 in the clamped state.

【0013】キャリア押え部23の他方端(同図では右
手側)には、揺動部24が支軸25回りに揺動自在に支
持されている。そして、その揺動部24の両端に第1及
び第2当接部26,27がそれぞれ取り付けられてい
る。また、揺動部24には付勢部材であるバネ部材(図
示省略)が取り付けられており、第1及び第2当接部2
6,27に外力が作用しない間は図2に示す本実施例に
おいて所定状態である中立状態に保たれている。
A swinging portion 24 is supported at the other end (right hand side in the figure) of the carrier holding portion 23 so as to be swingable around a support shaft 25. First and second contact portions 26 and 27 are attached to both ends of the swinging portion 24, respectively. A spring member (not shown), which is an urging member, is attached to the swinging portion 24, and the first and second contact portions 2 are provided.
While the external force is not acting on 6, 27, it is maintained in the neutral state, which is the predetermined state in the present embodiment shown in FIG.

【0014】次に、以上のように構成されたクランプ装
置20の機能について8インチ基板の場合及び6インチ
基板の場合に分けてそれぞれ説明する。まず、クランプ
装置が図2の破線に示すアンクランプ状態のままで、8
インチ基板W8 を収納したキャリア6が基板乾燥装置に
セットされる、つまり図1に示すようにキャリア6がキ
ャリア受け具11,12に係合され、キャリア6に収納
された基板W8 の中心位置gがロータ5の回転中心Gに
対しキャリア6の下縁側に位置するように位置決めされ
る。その後、クランプ駆動機構によってキャリア押え部
23が回動されてクランプ装置20がクランプ状態にな
ると、上記したようにしてキャリア6がロータ5に固定
される。一方、図3に示すように、クランプ状態では、
基板W8の上縁部がバネ部材の付勢力に逆らいながら矢
印方向に第1当接部26を押し上げ、揺動部24が中立
状態(同図の1点鎖線)から一定角度だけ揺動する。こ
のように、クランプ状態では基板W8 の上縁部は常時第
1当接部26に当接されている。すなわち、ここで揺動
部24が基板W8 のクランプ完了後、基板乾燥のために
ロータ5を回転させたとしても、基板W8 のキャリア6
からの飛び出しを防止しうる姿勢を保持している。
Next, the function of the clamp device 20 configured as described above will be described separately for an 8-inch substrate and a 6-inch substrate. First, while the clamp device is in the unclamped state shown by the broken line in FIG.
The carrier 6 accommodating the inch substrate W8 is set in the substrate drying apparatus. That is, the carrier 6 is engaged with the carrier receiving members 11 and 12 as shown in FIG. 1, and the center position g of the substrate W8 accommodated in the carrier 6 is set. Is positioned on the lower edge side of the carrier 6 with respect to the rotation center G of the rotor 5. Thereafter, when the carrier holding section 23 is rotated by the clamp driving mechanism and the clamp device 20 is in the clamped state, the carrier 6 is fixed to the rotor 5 as described above. On the other hand, as shown in FIG.
The upper edge portion of the substrate W8 pushes up the first contact portion 26 in the direction of the arrow while opposing the urging force of the spring member, and the swinging portion 24 swings by a certain angle from the neutral state (the dashed line in the figure). Thus, in the clamped state, the upper edge of the substrate W8 is always in contact with the first contact portion 26. That is, even if the swinging unit 24 rotates the rotor 5 for drying the substrate after the clamping of the substrate W8 is completed, the carrier 6 of the substrate W8 may be rotated.
It keeps a posture that can prevent it from jumping out.

【0015】次に、6インチ基板の場合について説明す
る。6インチ基板W6 を収納したキャリア6を基板乾燥
装置にセットし、キャリア6をロータ5に固定する動作
については、先の8インチ基板の場合と同様であるの
で、ここではその説明は省略する。一方、6インチ基板
W6 は以下のようにして固定される。すなわち、図4に
示すように、クランプ状態では、第2当接部27がキャ
リア6の一部、この実施例ではキャリア6のテーパ部6
aで係止されて、バネ部材の付勢力に逆らいながら揺動
部24が中立状態(同図の1点鎖線)から先の8インチ
基板の場合とは逆の方向に一定角度だけ揺動する。その
結果、第1当接部26が6インチ基板W6の上縁部に当
接するように位置決めされる。すなわち、ここで揺動部
24がロータ5を回転させても、キャリア6からの基板
W6 の飛び出しを防止しうる姿勢を保持する。なお、こ
の実施例では、キャリア6のテーパ部6aに第2当接部
27を当接させて第1当接部26が基板W6 の上縁部に
当接するようにしているが、必ずしも第1当接部26を
基板W6 に当接させなければならないと言うわけではな
く、クランプ状態で基板W6 の上縁部近傍に位置するよ
うに第1当接部26を位置決めした場合にも、上記と同
一の効果が得られる。というのも、キャリア6に収納さ
れた基板W6 の中心位置gはロータ5の回転中心Gに対
しキャリア6の下縁側に位置しているために、ロータ5
の高速回転時にはキャリア6の下縁側に遠心力が作用
し、キャリア6からの基板W6 の飛び出しは生じない。
また、ロータ5の回転の初期段階において基板W6 がキ
ャリア6の上縁側に移動したとしても、その移動量が少
なければ、高速回転段階に移ったときには上記遠心力が
基板W6 に作用して基板W6 がキャリア6の下縁側に戻
る。したがって、回転初期段階における基板W6 の移動
を一定以下に制限することができさえすれば、基板W6
の飛び出しを防止することができる。
Next, a case of a 6-inch substrate will be described. The operation of setting the carrier 6 accommodating the 6-inch substrate W6 in the substrate drying apparatus and fixing the carrier 6 to the rotor 5 is the same as the case of the 8-inch substrate described above, and the description is omitted here. On the other hand, the 6-inch substrate W6 is fixed as follows. That is, as shown in FIG. 4, in the clamped state, the second contact portion 27 is a part of the carrier 6, in this embodiment, the tapered portion 6 of the carrier 6.
a, the swinging portion 24 swings from the neutral state (indicated by the dashed line in FIG. 4) by a predetermined angle in the direction opposite to that of the preceding 8-inch substrate while opposing the urging force of the spring member. . As a result, the first contact portion 26 is positioned so as to contact the upper edge of the 6-inch substrate W6. That is, even if the swing unit 24 rotates the rotor 5, the posture is maintained such that the substrate W 6 can be prevented from jumping out of the carrier 6. In this embodiment, the second contact portion 27 is brought into contact with the tapered portion 6a of the carrier 6 so that the first contact portion 26 comes into contact with the upper edge of the substrate W6. This does not necessarily mean that the contact portion 26 must be brought into contact with the substrate W6. Even when the first contact portion 26 is positioned so as to be located near the upper edge of the substrate W6 in the clamped state, The same effect is obtained. This is because the center position g of the substrate W6 stored in the carrier 6 is located on the lower edge side of the carrier 6 with respect to the rotation center G of the rotor 5,
At the time of high-speed rotation, centrifugal force acts on the lower edge side of the carrier 6 and the substrate W6 does not jump out of the carrier 6.
Even if the substrate W6 moves to the upper edge side of the carrier 6 in the initial stage of the rotation of the rotor 5, if the amount of movement is small, the centrifugal force acts on the substrate W6 when moving to the high-speed rotation stage. Returns to the lower edge of the carrier 6. Therefore, as long as the movement of the substrate W6 in the initial stage of rotation can be limited to a certain level or less, the substrate W6
Can be prevented from jumping out.

【0016】以上のように、この実施例によれば、基板
Wのサイズが異なっても、基板サイズに応じて第1当接
部26が基板の上縁部に当接あるいはその上縁部近傍に
位置するように構成しているので、基板のランダム処理
が可能となり、処理基板のサイズ変更があっても要部部
品の取り替え等を行うことなく、連続して乾燥処理を行
うことができる。
As described above, according to this embodiment, even if the size of the substrate W is different, the first contact portion 26 abuts on the upper edge of the substrate or in the vicinity of the upper edge in accordance with the substrate size. , The substrate can be randomly processed, and even if the size of the processed substrate is changed, the drying process can be performed continuously without replacing the main components.

【0017】[0017]

【考案の効果】この考案によれば、キャリアにいずれの
サイズの基板が収納されていても、揺動部が付勢部材の
付勢力により、所定状態に保つように作用されることで
ロータ回転時におけるキャリアからの基板の飛び出しを
防止しうる姿勢を保持する構成としたので、基板のサイ
ズにかかわらずキャリアからの基板の飛び出しを防止で
き、基板のサイズの変更があっても要部部品の取り替え
等も行うことなく、連続して処理を行うことができる。
According to the present invention, regardless of the size of the substrate stored in the carrier, the swinging portion is acted on by the urging force of the urging member so as to maintain a predetermined state. In this configuration, it is possible to prevent the board from jumping out of the carrier, regardless of the size of the board. Processing can be performed continuously without performing replacement or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この考案にかかるクランプ装置を備えた基板回
転乾燥装置を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a substrate rotary drying device provided with a clamp device according to the present invention.

【図2】基板保持具の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of a substrate holder.

【図3】図2の基板保持具の動作を示す図である。FIG. 3 is a view showing the operation of the substrate holder of FIG. 2;

【図4】図2の基板保持具の動作を示す図である。FIG. 4 is a view showing the operation of the substrate holder of FIG. 2;

【図5】従来のクランプ装置を備えた基板回転乾燥装置
を示す図である。
FIG. 5 is a view showing a substrate rotating and drying device provided with a conventional clamping device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 ロータ 6 キャリア 11,12 キャリア受け具 20 クランプ装置 22 キャリア保持具 23 キャリア押え部 24 揺動部 26 第1当接部 27 第2当接部 W 基板 W6 6インチ基板 W8 8インチ基板 Reference Signs List 5 rotor 6 carrier 11, 12 carrier receiving device 20 clamping device 22 carrier holding device 23 carrier holding portion 24 swing portion 26 first contact portion 27 second contact portion W substrate W6 6 inch substrate W8 8 inch substrate

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】 複数サイズの被処理基板を収納するキャ
リアと、該キャリアを固定すると共に、前記基板に付着
した液滴を液切り乾燥するために回転自在なロータとか
らなる基板回転乾燥装置におけるクランプ装置であっ
て、 (a) 前記キャリアと係合するようにロータに架設された
キャリア受け具と、 (b) 以下の構成要素、すなわち(b-1) その一端がロータ
に対し回動自在に支持され、クランプ状態でキャリア受
け具に係合されたキャリアの上縁部を押さえてロータに
固定するキャリア押え部と、 (b-2) 該キャリア押え部の残りの一端に揺動自在に支持
された揺動部と、 (b-3) 該揺動部を所定状態に保つように、付勢している
付勢部材と、 からなる基板保持具とを備え、 前記キャリアに複数サイズのうちいずれの基板が収納さ
れていても揺動部が上記付勢部材の付勢力によりロータ
回転時におけるキャリアからの基板の飛び出しを防止し
うる姿勢を保持することを特徴とする基板回転乾燥装置
におけるクランプ装置。
1. A substrate rotary drying apparatus comprising: a carrier accommodating a plurality of sizes of substrates to be processed; and a rotatable rotor for fixing the carrier and rotatably drying liquid droplets attached to the substrate. A clamp device, comprising: (a) a carrier receiver mounted on a rotor so as to engage with the carrier; and (b) the following components, that is, (b-1) one end thereof is rotatable with respect to the rotor. (B-2) a carrier holding portion for holding the upper edge portion of the carrier engaged with the carrier receiving member in a clamped state and fixing the carrier to the rotor, and (b-2) the other end of the carrier holding portion swingably. A supported swinging portion, and (b-3) a biasing member for biasing the swinging portion to maintain the swinging portion in a predetermined state, and a substrate holder comprising: No matter which of the boards is stored, the swinging part is The clamping device in the substrate rotating drying device, characterized in that for holding the posture capable of preventing popping out of the substrate from the carrier at the time the rotor rotates by the biasing force of the biasing member.
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