JP2517740B2 - 全波整流回路 - Google Patents

全波整流回路

Info

Publication number
JP2517740B2
JP2517740B2 JP62504839A JP50483987A JP2517740B2 JP 2517740 B2 JP2517740 B2 JP 2517740B2 JP 62504839 A JP62504839 A JP 62504839A JP 50483987 A JP50483987 A JP 50483987A JP 2517740 B2 JP2517740 B2 JP 2517740B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
node
field effect
effect transistor
voltage
transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP62504839A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01500559A (ja
Inventor
ロイド エルズワース,ダニエル
マイクル モール,モーリス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Hynix America Inc
Original Assignee
Hyundai Electronics America Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hyundai Electronics America Inc filed Critical Hyundai Electronics America Inc
Publication of JPH01500559A publication Critical patent/JPH01500559A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2517740B2 publication Critical patent/JP2517740B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • H01L27/092Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M7/00Conversion of ac power input into dc power output; Conversion of dc power input into ac power output
    • H02M7/02Conversion of ac power input into dc power output without possibility of reversal
    • H02M7/04Conversion of ac power input into dc power output without possibility of reversal by static converters
    • H02M7/12Conversion of ac power input into dc power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode
    • H02M7/21Conversion of ac power input into dc power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal
    • H02M7/217Conversion of ac power input into dc power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 この発明は全波整流回路に関する。
この発明は、特にAC電源から供給されたDC電圧で動作
するCMOS電界効果トランジスタが構成された共通チップ
上にすべての機能が集積されるような回路に適用するに
有益である.1つの典型的な応用は、電源から電磁又は容
量結合によって電力をチップに転送するようなものであ
る.その典型的な応用としてはペースメーカ及び”スマ
ート”クレジット・カード又は電子キーなどがある。
従来技術 低い電力を必要とする多くの新たな集積回路の設計で
は、現在挿入されている誘電体を介し、動作機能を拡張
するため、結合したエネルギを容量的又は再充電可能な
電気化学手段に貯蔵するようにした、いわゆる集積回路
チップに電力を供給するに十分なエネルギを電磁気的に
又は容量的に結合するようなことが可能である。1つの
特定例としては、毎日電磁気的結合で再充電するペース
メーカがあり、他の例としてはチップに対する電力及び
データの両方を電磁結合する機構を通して電力を供給す
る“スマート”クレジット・カード又は電子キーがあ
り、それによってほぼ電気接触に関する問題を除去する
ことができる。
米国法定発明登録第H64はCMOS集積回路チップ技術に
実施しうる全波整流器を開示している。この公知の整流
器はブリッジ回路に構成された2つのトランジスタ及び
2つのダイオードを含む。2つのトランジスタはチップ
基板の別々な井戸に設けられ、2つのダイオードは隣り
合う基板とは反対導電型の夫々表面が隣接したソース/
ドレイン領域を含む。故に、この公知の整流器は別々の
井戸を要求せず、必要なp−nジャンクションの整流を
達成するために多数の物理的に分散した拡散及びコンタ
クトを使用するという欠点を有する。
発明の開示 この発明の目的は、集積回路構造に実施しうる複雑性
が最低の全波整流回路を提供することである。
故に、この発明によると、第1の導電型の第1及び第
2の電界効果トランジスタを含む全波整流器であって、
前記トランジスタは第2の導電型の共通基板領域にあ
り、夫々第1及び第2のソース/ドレイン領域及びゲー
ト電極を有し、第1のノードによりDC負荷端子と前記第
1の電解効果トランジスタの第1のソース/ドレイン領
域と前記第2の電界効果トランジスタの第1のソース/
ドレイン領域との共通接続を規定し、第2のノードによ
り前記第1の電界効果トランジスタの前記第2のソース
/ドレイン領域及び前記ゲート電極とAC電源に対する1
接続この共通接続を規定し、第3のノードにより前記第
2の電界効果トランジスタの前記第2のソース/ドレイ
ン領域及び前記ゲート電極と前記AC電源に対する第2の
接続との共通接続を規定し、第4のノードにより他のDC
負荷端子と各在留する電界効果トランジスタの前記第2
の導電型基板領域との共通接続を規定するようにした全
波整流器を提供する。
この発明の全波整流器は複雑性を最低にするほか、普
通の動作状態では不当に電力を浪費せず、他の集積回路
要素に容易に接続して濾波し調整されたDC整流電圧を供
給することができるという利点を有する。その上、この
整流回路は寄生バイポーラ・トランジスタの形成を防止
してその結果生じるようなラッチアップ問題を除去する
ように構成することができる。
図面の簡単な説明 次は、下記添付図面を参照してその例によりこの発明
の実施例を説明する。
第1図は、この発明によるpチャンネルの実施例の回
路図である。
第2図は、全波整流を供給するように接続された典型
的なpチャンネルの実施例の断面図を示す略図である。
第3図は、この発明のnチャンネルの実施例の回路図
である。
発明を実施するための最良の形態 第1図はこの発明の好ましい実施例を示す.第2図は
この発明によるp井戸集積回路構造の断面図を示し、そ
れは電気接続、AC入力及び等価DC負荷を明確に表わすた
めのものである。
第1図において、AC電力はAC入力電源1からノード2,
3に供給され、それらノード2,3はpチャンネル電界効果
トランジスタ7のゲート電極4及びドレイン電極6に接
続され、pチャンネル電界効果トランジスタ11のゲート
電極8及びドレイン電極9に夫夫接続される。両電界効
果トランジスタはエンハンスメント形装置である。夫々
のトランジスタ7,11のソース電極5,10(第2図のドープ
ド領域)はノード12に共通に接続され、そのノードは接
地電位に接続され、又等価抵抗性負荷13に対する1接続
として使用される。等価抵抗性負荷13の他の側はノード
14、すなわち基板(第2図のドープド・コンタクト領域
19,21)に接続される。
ノード2,3間にAC電圧があると、接地ノード12に対し
ノード14に全波整流波形を有する+DC電圧を供給する。
ノード14のDC電圧の波形はAC入力の形、トランジスタ7,
11のバックバイアスを含むそのトランジスタのしきい値
電圧、及びダイオードの電圧降下によって影響を受け
る。又、分布容量濾波効果も存在する.例えば、ノード
14のDC電圧はわずかにチップされた全波整流サイン・パ
ターンから方形波AC入力のための近ACレベルになる。
第2図はp井戸CMOS集積回路の前後におけるこの発明
の好ましい実施例の断面図を例示する.しかし、この発
明はこの実施例に限定されるものではなく、個個のNMOS
又はPMOS製造工程と同様n井戸CMOS処理工程による装置
の製造にも十分実施しうるものである.同様に、この構
造は井戸の代りにエピタキシャル構造に変えることがで
きる.しかし、すべての場合、ラッチアップを受けやす
い構造を避けるように注意しなければならない。
第2図の実施例はn-基板16に形成され、p-不純物の選
択的井戸17を含む。図に示すように、この構造はp+ソー
ス/ドレイン領域6,9及び両トランジスタ7,11間に共通
する領域18間に存在する夫々の電極4,8に個々に応答す
るpチャンネル電界効果トランジスタ7,11を含む.共通
ソース/ドレイン領域18は接地ノード12及び等価負荷13
の一方の側に接続される.トランジスタ7のソース/ド
レイン領域6はAC入力1の一方の側に接続されているノ
ード2に対するゲート電極4と共通に接続される。同様
に、ソース/ドレイン領域9はAC入力1の他の側に接続
されているノード3に対するトランジスタ11のゲート電
極8と共通に接続される.ノード14に現われた+DC電圧
は等価負荷13の他方の側と、基板16のn+拡散19,21に接
続される。最少の単一基板表面コンタクトの要求と異な
り、フィールド酸化物領域27,28,29,31の下のn+チャン
ネル・ストップの創生と、複数のn+拡散の使用は基板16
に対して注入される電荷があるので公知のキャリヤ・ト
ラッピング技術を実行することができる。電荷はp−n
ジャンクション6〜16又は9〜16が前方向バイアスされ
たときに基板16に注入される。その上、レイアウトの密
度及び電荷注入の利益はフィールド酸化物領域28,29を
除き、拡散19,21の間に必要なダイオードを形成する夫
々のn+コンタクト拡散19,21にp+拡散6,9を直ちに接触さ
せることになる。
回路の動作を理解するため、第2図の構造はAC入力1
がピーク値±7ボルトのサイン波電源であり、電界効果
トランジスタ7,11が公称−0.9Vのしきい値電圧を有する
ものと仮定する。AC入力1がノード2に対するノード3
に+7Vの電圧を発生する時間中、p+領域9と複合基板16
/n+コンタクト領域21との間のジャンクションは正にバ
イアスされて、等価負荷13のノード14に対するp−nジ
ャンクション・ダイオード・ドロップより少い+7Vを供
給する。等価負荷13の他方の側は電界効果トランジスタ
7を通してAC入力1に接続され、トランジスタ7は瞬間
AC入力電圧がp−nドロップと約1.6Vのトランジスタ7
のしきい値電圧との組合わせより大きいときはいつでも
導通するようバオアスされる。最終効果として負荷13は
5.4Vピークの整流電圧を経験した。AC入力電圧が逆にな
ると、今までの電流の導通はノード2からp+領域6を通
してn+領域19(及び21)に、負荷13を通してノード12
に、前方向バイアス電界効果トランジスタ11を通してノ
ード3に導通される。
濾波しない全波整流DC電圧はほとんどの場合、集積回
路の動作にとって認容できるものではない.しかし、電
力の要求が最少であり、多くのCMOS集積回路に対して共
通であるような場合、オンチップ容量的濾波が利用可能
である。限定された電力要求の場合、屡屡p井戸のpチ
ャンネル装置拡散の寄生容量効果から十分な濾波を得る
ことができる。そのような分布容量が有効な濾波のため
に不適当であることが証明された場合、容量性構造を加
えることも容易である。例えば、第2図における場合、
ノード14のDC電圧を濾波するため、ライン33によって接
続することができるp井戸17とn+領域32との間にジャン
クション・キャパシタを形成することができることを示
すものである。等価負荷13は同一基板16に機能的電子装
置を表わしうることに疑いないが、それを希望する場
合、基板16で表わす集積回路チップ外の要素を含めるこ
ともできる。
第2図に示す回路及び構造を考慮すると、それは多く
の独特な特徴を開示していることがわかる。第1に、こ
の構造はCMOS集積回路について使用されるに好ましいも
のであるが、その基本となる概念はNM0SおよびPMOS処理
装置に同様に適用可能である。第2に、第2図の回路は
局部ラッチアップ感受性を持たず。寄生バイポーラ・ト
ランジスタ構造が創生されない。ラッチアップ感受性が
ないと、それはn形基板に形成されるpキャンネル装置
のために、及びnチャンネル・トランジスタがp形基板
に形成されたとき、相補n井戸の製造処理において有効
である。p形基板のn井戸内にpチャンネル・トランジ
スタを置くこと、及びn形基板のp井戸にnチャンネル
・トランジスタを置くことの試みはラッチアップに感受
しやすい寄生縦形バイポーラ・トランジスタを創生する
ことになるからである。
第1図の回路及び第2図の断面図に相補の回路を第3
図に示す。ノード2,3におけるAC入力1はnチャンネル
・トランジスタ34,36をドライブして、負荷13の両端に
は、基板に対して発生した前の電圧とは極性が反対の負
荷電圧、すなわち全波整流DC電圧を供給する。ここでも
電界効果トランジスタ34,36はエンハンスメント・モー
ド形であり、約+0.7Vのしきい値電圧を有する構造とす
るのが好ましい。第2図の断面図は第3図の回路にも適
用することができ、数領域の不純物形を交換し、負荷13
に対する接地とDC電圧の接続を逆にすればよい。
第2図のpチャンネル・トランジスタ7,11のしきい値
電圧の設定は拡散6,9から基板16に電荷を注入すること
についてバック・バイアス効果を考慮しなければならな
い。第3図のnチャンネル・トランジスタの設定の場
合、基板は接地であり、バック.バイアス効果は生じな
いことに注目しよう。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1導電形の第1の電解効果トランジスタ
    (7)と第2の電界効果トランジスタ(11)を第2導電
    形の半導体基板(16)上に形成したMOS集積回路であっ
    て、 第1のノード(1)により、前記第1の電解効果トラン
    ジスタ(7)のソース(5)と前記第2の電解効果トラ
    ンジスタのソース(10)との接続をなし、 第2のノード(2)により、前記第1の電解効果トラン
    ジスタ(7)のドレイン(6)とゲート電極(4)との
    接続をなし、 第3のノード(3)により、前記第2の電解効果トラン
    ジスタ(11)のドレイン(9)とゲート電極(8)との
    接続をなし、 第4のノード(14)が前記半導体基板(16)に接続さ
    れ、 前記第2のノード(2)と前記第3のノード(3)間に
    交流電源を接続することにより、前記第1のノード
    (1)と前記第4のノード(14)間に直流電源を取り出
    す、全波整流回路。
JP62504839A 1986-08-11 1987-08-06 全波整流回路 Expired - Fee Related JP2517740B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US895,408 1978-04-11
US06/895,408 US4875151A (en) 1986-08-11 1986-08-11 Two transistor full wave rectifier

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01500559A JPH01500559A (ja) 1989-02-23
JP2517740B2 true JP2517740B2 (ja) 1996-07-24

Family

ID=25404465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62504839A Expired - Fee Related JP2517740B2 (ja) 1986-08-11 1987-08-06 全波整流回路

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4875151A (ja)
EP (1) EP0277193B1 (ja)
JP (1) JP2517740B2 (ja)
WO (1) WO1988001448A1 (ja)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5173849A (en) * 1987-09-19 1992-12-22 Magellan Corporation (Australia) Pty. Ltd. Integratable synchronous rectifier
US5107227A (en) * 1988-02-08 1992-04-21 Magellan Corporation (Australia) Pty. Ltd. Integratable phase-locked loop
US5153453A (en) * 1991-08-16 1992-10-06 International Business Machines Corp. High voltage majority carrier rectifier
EP0791706B1 (en) * 1996-01-31 2004-07-14 Texas Instruments Deutschland Gmbh Improvements in or relating to full-wave rectifiers
FR2756679B1 (fr) * 1996-11-29 1999-02-12 France Telecom Dispositif de redressement de tension a composants integres
US5825079A (en) * 1997-01-23 1998-10-20 Luminous Intent, Inc. Semiconductor diodes having low forward conduction voltage drop and low reverse current leakage
US5959335A (en) * 1998-09-23 1999-09-28 International Business Machines Corporation Device design for enhanced avalanche SOI CMOS
DE69930168T2 (de) * 1998-12-02 2006-08-03 Seiko Epson Corp. Stromversorgungsvorrichtung, stromversorgungsverfahren, tragbares elektronisches gerät und elektronisches uhrwerk
US6420757B1 (en) 1999-09-14 2002-07-16 Vram Technologies, Llc Semiconductor diodes having low forward conduction voltage drop, low reverse current leakage, and high avalanche energy capability
US6433370B1 (en) 2000-02-10 2002-08-13 Vram Technologies, Llc Method and apparatus for cylindrical semiconductor diodes
US6580150B1 (en) 2000-11-13 2003-06-17 Vram Technologies, Llc Vertical junction field effect semiconductor diodes
US6537921B2 (en) 2001-05-23 2003-03-25 Vram Technologies, Llc Vertical metal oxide silicon field effect semiconductor diodes
US6958275B2 (en) * 2003-03-11 2005-10-25 Integrated Discrete Devices, Llc MOSFET power transistors and methods
US8891264B1 (en) * 2006-11-15 2014-11-18 Thin Film Electronics Asa Series circuits and devices
US7729147B1 (en) * 2007-09-13 2010-06-01 Henry Wong Integrated circuit device using substrate-on-insulator for driving a load and method for fabricating the same
US8207455B2 (en) * 2009-07-31 2012-06-26 Power Integrations, Inc. Power semiconductor package with bottom surface protrusions
US7893754B1 (en) 2009-10-02 2011-02-22 Power Integrations, Inc. Temperature independent reference circuit
US8634218B2 (en) * 2009-10-06 2014-01-21 Power Integrations, Inc. Monolithic AC/DC converter for generating DC supply voltage
US8310845B2 (en) * 2010-02-10 2012-11-13 Power Integrations, Inc. Power supply circuit with a control terminal for different functional modes of operation
US9455621B2 (en) 2013-08-28 2016-09-27 Power Integrations, Inc. Controller IC with zero-crossing detector and capacitor discharge switching element
US9667154B2 (en) 2015-09-18 2017-05-30 Power Integrations, Inc. Demand-controlled, low standby power linear shunt regulator
US9602009B1 (en) 2015-12-08 2017-03-21 Power Integrations, Inc. Low voltage, closed loop controlled energy storage circuit
US9629218B1 (en) 2015-12-28 2017-04-18 Power Integrations, Inc. Thermal protection for LED bleeder in fault condition

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3458798A (en) * 1966-09-15 1969-07-29 Ibm Solid state rectifying circuit arrangements
US3955210A (en) * 1974-12-30 1976-05-04 International Business Machines Corporation Elimination of SCR structure
US4039869A (en) * 1975-11-28 1977-08-02 Rca Corporation Protection circuit
US4139880A (en) * 1977-10-03 1979-02-13 Motorola, Inc. CMOS polarity reversal circuit
US4276592A (en) * 1978-07-06 1981-06-30 Rca Corporation A-C Rectifier circuit for powering monolithic integrated circuits
US4476476A (en) * 1979-04-05 1984-10-09 National Semiconductor Corporation CMOS Input and output protection circuit
US4303958A (en) * 1979-06-18 1981-12-01 Motorola Inc. Reverse battery protection
DE3044444A1 (de) * 1980-11-26 1982-06-16 Deutsche Itt Industries Gmbh, 7800 Freiburg "monolithisch integrierte gleichrichter-brueckenschaltung"
US4559548A (en) * 1981-04-07 1985-12-17 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha CMOS Charge pump free of parasitic injection
EP0112119B1 (en) * 1982-12-08 1988-08-24 Siliconix Limited Bridge rectifier circuit
US4777580A (en) * 1985-01-30 1988-10-11 Maxim Integrated Products Integrated full-wave rectifier circuit

Also Published As

Publication number Publication date
WO1988001448A1 (en) 1988-02-25
US4875151A (en) 1989-10-17
EP0277193A1 (en) 1988-08-10
JPH01500559A (ja) 1989-02-23
EP0277193B1 (en) 1991-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2517740B2 (ja) 全波整流回路
US6429723B1 (en) Integrated circuit with charge pump and method
EP0305937B1 (en) Mos i/o protection using switched body circuit design
US6664608B1 (en) Back-biased MOS device
US6424203B1 (en) Power supply circuit and method
EP0143157B1 (en) Charge pumping circuit for a substrate voltage generator
KR960012249B1 (ko) 래치업 방지회로를 가진 cmos 집적회로장치
EP0171597B1 (en) Charge pumping structure
US6542001B1 (en) Power supply module in integrated circuits
JP2528794B2 (ja) ラツチアツプ保護回路付き集積回路
EP0305935A2 (en) VDD load dump protection circuit
CA1275456C (en) Latch-up protection circuit fo integrated circuits using complementarymos circuit technology
US6570435B1 (en) Integrated circuit with current limited charge pump and method
JPH10189761A (ja) 半導体装置
EP0556832B1 (en) Semiconductor for integrated device including a power supply voltage conversion circuit and protection means
US20020070408A1 (en) Electrostatic discharge protection for mosfets
US6373105B1 (en) Latch-up protection circuit for integrated circuits biased with multiple power supplies
JP2661318B2 (ja) 半導体装置
JP3501541B2 (ja) 全波整流回路
JPS61283158A (ja) 相補型mosトランジスタ回路
JP2741712B2 (ja) 半導体集積回路装置
KR100230117B1 (ko) 마스터 슬라이스 반도체 집적 회로
JPS59121971A (ja) 基準化cmosデバイス用入力保護回路およびバイアス方法
JPH03129744A (ja) 電荷転送装置
KR100265356B1 (ko) 상보형모스트랜지스터

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

S631 Written request for registration of reclamation of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631

S633 Written request for registration of reclamation of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313633

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370