JP2505204Y2 - 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 - Google Patents

高周波誘導結合プラズマ質量分析装置

Info

Publication number
JP2505204Y2
JP2505204Y2 JP1991109254U JP10925491U JP2505204Y2 JP 2505204 Y2 JP2505204 Y2 JP 2505204Y2 JP 1991109254 U JP1991109254 U JP 1991109254U JP 10925491 U JP10925491 U JP 10925491U JP 2505204 Y2 JP2505204 Y2 JP 2505204Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
high frequency
matching box
mass spectrometer
inductively coupled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1991109254U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0550649U (ja
Inventor
光恭 岩永
紀一郎 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP1991109254U priority Critical patent/JP2505204Y2/ja
Publication of JPH0550649U publication Critical patent/JPH0550649U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2505204Y2 publication Critical patent/JP2505204Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/30Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】 本考案は、高周波誘導結合プラ
ズマ(ICP)イオン源と質量分析装置を結合した高周
波誘導結合プラズマ質量分析装置(ICP−MS)に関
し、特に高周波誘導コイルの位置調整の構造に関する。
【0002】
【従来の技術】 図1は、従来における高周波誘導結合
プラズマ質量分析装置のイオン源の構成概略図、図2は
プラズマを発生する高周波誘導コイルの要部拡大図であ
る。
【0003】図1および図2において、11はICPイ
オン源で、高周波誘導コイル1を巻回した石英などの電
気絶縁体製プラズマトーチ13とから構成されている。
14は試料液17を噴霧するためのネブライザであり、
前記ICPイオン源11に接続されている。15は前記
コイル1に高周波を供給するための高周波発振器、16
は試料液17を収納すると共に前記ネブライザ14に導
入管18を介して接続された試料ボトルである。19は
前記コイル1からの高周波をシールドするためのケース
で、このケースは前記高周波発振器15のアース側に接
続されている。図2に示されるように前記コイル1は継
手5a、5bを介してマッチングボックス3内の配管4
a,4bに接続されており、配管4aからコイル内部を
通って配管4bへと冷却水を流通させるように構成され
ている。また、6はプラズマトーチ13の周囲を巻回す
るように設けられた前記コイル1と、それに接続された
マッチングボックス3およびネブライザ14の固定され
た支持台であり、図示されない駆動機構によって移動可
能に構成されている。
【0004】かかる構成において、プラズマトーチ13
内には図示外のガス供給源からアルゴンガスが供給され
ると共に、ネブライザ14から試料液17が霧状となっ
て導入される。この状態でコイル1に高周波電力を供給
して高周波磁界を形成することにより、図1に示される
ような高周波誘導結合プラズマPが発生する。このプラ
ズマPは導入口20から図示外の質量分析系へ導入され
質量分析される。この時、支持台6を図示外の駆動機構
によって移動させ、マッチングボックス3に接続された
コイル1とプラズマトーチ13およびネブライザ14を
移動させてプラズマPが導入口20に対して最適な位置
に発生するように調整される。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】 図2に示されたマッ
チングボックス3は高周波を使用していることからコイ
ル1の大きさに比べて実際にはかなり大きく、重量も重
い。そのため、支持台6を移動させる駆動機構は大き
く、強度も十分なものにしなくてはならない。そこで本
考案はかかる問題点に鑑がみてなされたものであり、コ
イルを移動させる駆動機構を小型にすることのできる装
置を提供することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】 上記目的を達成するた
めに、本考案は、プラズマトーチの周囲に巻回され、内
部に冷却媒体が流通するように構成された高周波誘導コ
イルと、該コイルに高周波を供給する発振器と、該発振
器とコイルの間に設けられたマッチングボックスとから
なり、該トーチを質量分析装置への導入口に対して移動
可能にした装置において、前記コイルとマッチングボッ
クスを分離し、その間にフレキシブルなパイプを接続
し、該パイプを介してコイルに冷却媒体を流通させるこ
とにより、該コイルをマッチングボックスに対して独立
に移動可能にすることを特徴とするものである。
【0007】
【作用】 高周波誘導コイルとマッチングボックスを分
離し、その間にフレキシブルなパイプを接続することに
より、コイルをマッチングボックスに対して独立して移
動可能にさせている。
【0008】
【実施例】 以下、本考案の実施例を図面に基づいて説
明する。
【0009】図3は考案の一実施例装置の要部拡大図で
あり、図1および図2と同一番号のものは同一構成要素
を示す。
【0010】図中7a,7bはフレキシブルパイプであ
り、一端を継手9a,9bによって高周波誘導コイル1
の端部に接続される。また、フレキシブルパイプの他端
は、継手5a,5bによってマッチングボックス3内に
配置された配管4a,4bに接続される。なお、前記コ
イル1や、フレキシブルパイプ7a,7b、および配管
4a,4bは、内部に冷却水を流通させるように構成さ
れている。また、10はプラズマトーチ13の周囲を巻
回するように設けられたコイル1およびネブライザ14
を固定するコイル支持台であり、図示されない駆動機構
によって移動可能に構成されている。
【0011】かかる構成において、先に述べた通り、プ
ラズマトーチ13内に高周波誘導結合プラズマPが発生
される。この時、コイル1とプラズマトーチ13および
ネブライザ14をコイル支持台10に設けられた図示外
の駆動機構によって移動させ、プラズマPがインターフ
ェース20に対して最適な位置に発生するように調整す
る。これにより、インターフェース20に導入されるプ
ラズマにおける最適な位置の質量分析が可能となる。こ
の時、支持台10には、コイル1に比べて大型で重量の
重いマッチングボックスは固定されないため、支持台を
移動させる駆動機構にかかる負荷は小さく、支持台の移
動機構を小型にすることができる。また、コイルから発
生される高周波をシールドする囲いも、コイル1とマッ
チングボックス3を分離しているため、マッチングボッ
クス3を除いてシールドすることが可能となり、小型に
することができる。
【0012】なお、フレキシブルパイプの材質は柔軟性
のあるもので導電性があれば良いが、非導電性のもの
や、導電性の悪い材質の場合には、コイルの端と配管4
a,4bを柔軟性のある配線で結ぶ必要がある。また、
コイル支持台10と継手9a,9bの間に絶縁物を挿入
すればコイル支持台10は絶縁物で構成しなくても良
い。さらに、移動機構はX軸,Y軸,Z軸の3軸方向に
移動させなくても良く、軸移動させなくても良い。
【0013】
【考案の効果】 以上詳説したように、本考案は高周波
誘導コイルをマッチングボックスと分離し、その間にフ
レキシブルパイプを設け、前記コイルをマッチングボッ
クスと独立してコイル支持台に固定することにより、コ
イルを大型で重量の重いマッチングボックスと独立して
移動可能にすることができる。その結果、コイル支持台
に設けられた移動機構にかかる負荷が小さく、小型の移
動機構にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は従来例を説明するための構成概略図で
ある。
【図2】 図2は従来例を説明するための要部拡大図で
ある。
【図3】 図3は本考案による一実施例装置の要部拡大
図である。
【符号の説明】
7a,7b:フレキシブルパイプ 8a,8b:配線 9a,9b:継手 10:コイル支持台

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラズマトーチの周囲に巻回され、内部
    に冷却媒体が流通するように構成された高周波誘導コイ
    ルと、該コイルに高周波を供給する発振器と、該発振器
    とコイルの間に設けられたマッチングボックスとからな
    り、該トーチを質量分析装置への導入口に対して移動可
    能にした装置において、前記コイルとマッチングボック
    スを分離し、その間にフレキシブルなパイプを接続し、
    該パイプを介してコイルに冷却媒体を流通させることに
    より、該コイルをマッチングボックスに対して独立に移
    動可能にすることを特徴とする高周波誘導結合プラズマ
    質量分析装置。
JP1991109254U 1991-12-09 1991-12-09 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 Expired - Lifetime JP2505204Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1991109254U JP2505204Y2 (ja) 1991-12-09 1991-12-09 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1991109254U JP2505204Y2 (ja) 1991-12-09 1991-12-09 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0550649U JPH0550649U (ja) 1993-07-02
JP2505204Y2 true JP2505204Y2 (ja) 1996-07-24

Family

ID=14505521

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1991109254U Expired - Lifetime JP2505204Y2 (ja) 1991-12-09 1991-12-09 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2505204Y2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6476020B2 (ja) 2015-03-10 2019-02-27 株式会社日立ハイテクサイエンス 誘導結合プラズマ発生装置及び誘導結合プラズマ分析装置
EP3890449A1 (en) * 2020-04-02 2021-10-06 Tofwerk AG Microwave driven plasma ion source

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0550649U (ja) 1993-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2929275B2 (ja) 透磁コアを有する誘導結合型−平面状プラズマの発生装置
CA2206679C (en) Plasma processor for large workpieces
TW463201B (en) Plasma processor with coil having variable RF coupling
JP4646272B2 (ja) プラズマ加工装置
US6876155B2 (en) Plasma processor apparatus and method, and antenna
JP3140934B2 (ja) プラズマ装置
US5795429A (en) Plasma processing apparatus
KR0142041B1 (ko) 플라스마발생장치 및 방법
JP2007503724A5 (ja)
JP2002540582A5 (ja)
JP2001118700A (ja) 整合器およびプラズマ処理装置
JP2003510780A (ja) 大きい領域を有するプラズマ源における均一ガス分布
KR100753868B1 (ko) 복합형 플라즈마 반응기
KR20010096474A (ko) 플라즈마 에칭 장치
CN105391306B (zh) 高频电源装置
JP2505204Y2 (ja) 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
JP4080793B2 (ja) プラズマ処理装置
CN107564792B (zh) 一种用于等离子体处理设备的rf讯号传递装置
KR100852412B1 (ko) 플라즈마 보강 반도체 웨이퍼 처리 체임버내에서플라즈마내의 고조파를 접지로 라우팅하는 방법 및 장치
JP3197739B2 (ja) プラズマ処理装置
KR100476902B1 (ko) 균일 분포 플라즈마를 형성하는 대면적 플라즈마안테나(lapa)및 이를 포함하는 플라즈마 발생장치
JPH03272549A (ja) 高周波イオン源
CN1437218A (zh) 设有夹头及匹配箱的装置
JPH02237117A (ja) 半導体処理装置
JP2568132Y2 (ja) 高周波誘導結合プラズマ質量分析計における排気装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19960326