JP2500436B2 - 信号処理装置 - Google Patents

信号処理装置

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JP2500436B2
JP2500436B2 JP5107802A JP10780293A JP2500436B2 JP 2500436 B2 JP2500436 B2 JP 2500436B2 JP 5107802 A JP5107802 A JP 5107802A JP 10780293 A JP10780293 A JP 10780293A JP 2500436 B2 JP2500436 B2 JP 2500436B2
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gate
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03MCODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
    • H03M1/00Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
    • H03M1/12Analogue/digital converters
    • H03M1/50Analogue/digital converters with intermediate conversion to time interval

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  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Analogue/Digital Conversion (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、信号処理装置に関し、
特に電荷転送型撮像素子、電荷転送型遅延素子等の電荷
転送素子から出力される信号電荷量をデジタル信号に変
換するための信号処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電荷転送素子型撮像素子や電荷転
送型遅延素子等から出力されるアナログ信号をデジタル
処理する場合、図11に示す様に、電荷転送素子から出
力されたアナログ信号をクランプ回路67、サンプルホ
ールド回路68、増幅器70等を通すことにより各種の
信号処理を行った後、A−D変換器71を用いて、デジ
タル信号を得ている。この方法を用いる場合、多くの回
路素子を必要とし、また、これらの回路の設計および信
号処理には、複雑なアナログ信号処理技術を用いる必要
がある。ここに述べた、複雑なアナログ信号処理技術
が、容易な回路設計を行うことの妨げとなっている。
【0003】これらを改善するために考案された、信号
処理装置として、電荷転送素子(以下CCDと証する)
を利用した発明が特開昭61−184978号公報によ
り知られている。
【0004】この発明では2ビットのA−D変換部を2
つ用いている。それぞれを上位、下位2ビットのA−D
変換器として動作させ、トータルで4ビット/サンプル
の分解能を持つように構成されている。
【0005】図9は従来例(前述の発明)のA−D変換
器のブロック図、図10はこの発明の動作機能を説明す
るための図である。図9において端子付き電荷転送型遅
延線31は、CCD撮像素子や遅延線の出力部と電荷レ
ベルで結合されている。ここで、転送方向32から転送
されてきた出力電荷は、端子付き電荷転送型遅延線31
中に転送されると同時に、この信号電荷の大きさを一転
送ごとに非破壊的に検出する出力手段によって、信号電
荷出力端子(以下単に端子と称する)33、34、35
よりの信号電圧は、アナログ比較群36を構成するアナ
ログ比較器37、38、39のそれぞれの信号端子に印
加される。一方、アナログ比較器37、38、39の比
較電圧端子には、基準電圧をVR とすると、比較電圧3
R /4、VR /2、VR /4が印加される。ここでア
ナログ比較器37の動作を説明すると、端子付き電荷転
送型遅延線31によって検出された信号電圧VS と比較
電圧3VR /4との間にVS >3VR /4なる関係が成
立する場合、その判別信号C1(アナログ比較器37の
出力信号)はハイレベル”1”となる。また、VS<3
R /4なる関係が成立する場合にはローレベル”0”
となる。他のアナログ比較器38、39の動作も、比較
器基準がVR /2、VR /4と異なるのみで、あとの動
作は全く同様である。よって、信号電圧VS の変化に対
するアナログ比較器37、38、39のそれぞれの判別
信号C1、C2、C3は、VS >3VR /4の場合、C
1、C2、C3のすべてがハイレベル”1”、3VR
4>VS >VR /2の場合、C2、C3がバイレベル”
1”、VR /2>VS >VR /4の場合C3のみがハイ
レベル”1”VR /4>VS の場合C1,C2,C3の
すべてがローレベル”0”となる。
【0006】アナログ比較器群36からの判別信号C
1,C2,C3はそれぞれ遅延時間の異なるデジタルシ
フトレジスタ41、42、53に印加される。これは端
子付き電荷転送型遅延線31の動作からも明らかなよう
に同一信号電荷に対する検出が端子33→34→35の
順に1クロック周期分づつ遅られる為である。デジタル
シフトレジスタ41、42、43を端子付き電荷転送型
遅延線31と同一クロック周期で動作させ、かつ遅延時
間をそれぞれ31、32、33クロック周期分に選ぶ事
により、上述した遅れは補償される。最後にデジタルシ
フトレジスタ41、42、43で同時化された判別信号
C1,C2,C3は符号器44に入力され、ここで図1
0に示すごとく2ビットの2進数D1,D2に変換され
る。以上の動作によって上位2ビットのA−D変換が実
現される。
【0007】次に、アナログ比較器群36からの判別信
号C1、C2、C3はバイアス電荷生成部45にも印加
されている。このバイアス電荷生成部45では判別信号
C1,C2,C3のそれぞれの状態に応じて、判別信号
がローレベル”0”のときのみ基準電圧VR の1/4の
電圧に相当するバイアス電荷が生成、加算されるように
なっている。すなわち、図10において、判別信号C
1,C2,C3のすべてがハイレベル”1”の時にはバ
イアス電荷は零であるが、C1のみがローレベル”0”
となるとVR /4に相当するバイアス電荷が生成、加算
され、ついでC1、C2の両方がローレベル”0”の場
合、VR /2に相当するバイアス電荷が、またC1、C
2、C3のすべてがローレベル”0”の場合3VR /4
に相当するバイアス電荷がそれぞれ生成、加算される。
【0008】最後に、電荷合成部46からの合成電荷は
端子付き電荷転送型遅延線47中を転送されると同時
に、1転送毎に非破壊的に検出され、端子48、49、
50より合成信号電圧として出力される。この端子4
8、49、50よりの合成信号電圧は、アナログ比較器
群51を構成するアナログ比較器52、53、54のそ
れぞれの信号端子に印加される。一方、アナログ比較器
52、53、54の比較端子には比較電圧発生回路55
からのそれぞれ異なる比較電圧15/VR /16,14
R /16,13VR /16が印加される。よって、合
成信号電圧をVR とすると、その変化に対するアナログ
比較器52、53、54のそれぞれの判別信号C4、C
5、C6の状態は、VC >15VR /16の場合C4,
C5,C6のすべてがハイレベル”1”、15VR /1
6>VC >14VR /16の場合C5,C6がハイレベ
ル”1”、14VR /16>VC >13VR /16の場
合C6のみがハイレベル”1”、13VR /16>VC
>12VR /16の場合C4,C5,C6のすべてがロ
ーレベル”0”となる。ここで合成信号電圧VCに含ま
れるバイアス電荷分は、上述したように0、VR /4,
R /2,3VR /4の4種類あることから、信号電圧
S に対する判別条件は、図10に示すごとく、16種
類存在する事になる。つぎに、アナログ比較器群51か
らの判別信号C1,C2,C3はそれぞれ遅延時間の異
なるディジタルフィルタ56、57、58に印加されて
同時化された後、符号器59に入力され、ここで図10
に示すごとく2ビットの2進数D3、D4に変換され
る。すなわち、端子付き電荷転送型遅延線47とアナロ
グ比較器群51、比較電圧発生回路55、デジタルシフ
トレジスタ56、57、58および符号器59によって
下位2ビットのA−D変換部が構成されたことになる。
よって、A−D変換部が構成されたことになる。前述し
た上位2ビットのA−D変換部と合わせて、トータルで
レベル分解能4ビット/サンプルのA−D変換器が実現
される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従来のアナログ信号を
デジタル信号に変換する信号処理装置では、各素子の電
荷量に応じて基準電圧、非破壊の電荷検出器を多数持た
なければならない。また、4ビットA−D変換器を構成
するには6個のアナログ比較器、デジタルシフトレジス
タ、電荷転送遅延線を必要とするが、特にデジタル出力
をデジタルシフトレジスタで同期化処理を行っているの
で、回路構成が複雑となるという問題点がある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明信号処理装置は、
半導体基板の表面にゲート絶縁膜を介して複数の転送電
極を列状に配置してなる電荷転送部、前記電荷転送部の
出力端に近接して設けられた最終転送ゲート、前記最終
転送ゲートに近接して設けられた出力ゲートおよび前記
出力ゲートに近接して設けられた電荷検出手段を有する
電荷転送素子と、基準信号発生回路、前記基準信号発生
回路の出力信号を受けて前記電荷転送部に印加する転送
クロックを発生する転送クロック発生回路、前記基準信
号発生回路の出力信号を分周するNビットのカウンタ、
前記カウンタの出力信号を受けてアナログ信号に変換し
て前記最終転送ゲートに印加するD−A変換器または前
記転送クロック発生回路の出力信号をトリガとして前記
基準信号発生回路の出力信号に同期する鋸波信号を前記
最終転送ゲートに印加する鋸波回路、前記出力ゲートに
印加する定電圧源、前記電荷検出手段の出力信号が所定
値に達するタイミングで前記カウンタの出力を取り込む
ラッチを有する前記電荷転送素子の駆動回路とからな
り、前記電荷転送部からの電荷量に応じたNビットのデ
ィジタル信号を前記ラッチの出力端に発生させるという
ものである。
【0011】また、本発明信号処理装置の別の能様は、
半導体基板の表面にゲート絶縁膜を介して複数の転送電
極を列状に配置してなる電荷転送部、前記電荷転送部の
出力端に近接して設けられた最終転送ゲート、前記最終
転送ゲートに近接して設けられた出力ゲートおよび前記
出力ゲートに近接して設けられた電荷検出手段を有する
電荷転送素子と、基準信号発生回路、前記基準信号発生
回路の出力信号を受けて前記電荷転送部および前記最終
転送ゲートに印加する転送クロックを発生する転送クロ
ック発生回路、前記基準信号発生回路の出力信号を分周
するNビットのカウンタ、前記カウンタの出力信号を受
けてアナログ信号に変換して前記出力ゲートに印加する
D−A変換器または前記転送クロック発生回路の出力信
号をトリガとして前記基準信号発生回路の出力信号に同
期する鋸波信号を前記出力ゲートに印加する鋸波回路、
前記電荷検出手段の出力信号が所定値に達するタイミン
グで前記カウンタの出力を取り込むラッチを有する前記
電荷転送素子の駆動回路とからなり、前記電荷転送部か
らの電荷量に応じたNビットのディジタル信号を前記ラ
ッチの出力端に発生させるというものである。
【0012】
【実施例】図1は本発明の第1の実施例を示す模式図、
図2は図1に示した第1の実施例の動作説明のための信
号波形図、図3は図2に示した駆動信号を各電極に印加
した際の、図2中に示したT1,T2,T3,T4,T
5の各タイミングに於ける半導体基板表面部の電位を示
している。
【0013】N型シリコン基板1の表面部にP型ウェル
2形成し、P型ウェルの表面部にN型ウェル3を形成す
る。このような半導体基板表面にゲート酸化膜5−1を
介して転送電極6,7(φH)、最終転送ゲート電極
8、出力ゲート電極9、リセットゲート電極10(φ
R)を形成する。21はリセットした電荷を排出するリ
セットドレインである。出力ゲート電極9とリセットゲ
ート電極10の間は、電気的に浮遊した浮遊拡散領域2
2が設けられているが、この領域はリセットゲート電極
10にリセット信号φRを加える(タイミングT5)こ
とで、リセットドレイン電源18と同電位にリセットさ
れる。以上はCCD基本構成と同一である。電荷転送部
(図にはその最終段の一対の転送電極6,7が示されて
いる)に加えられる転送クロックφH、リセット信号φ
Rは転送クロック発生回路12で発生される。また、出
力ゲート電極9には電荷の転送の支障とならない適当な
電圧を加えるため、電圧源20を接続してある。
【0014】基準信号発生回路11では転送信号クロッ
ク発生回路12およびガウンタ14に供給する基準信号
を発生させている。カウンタ14で分周された信号はデ
ータ信号線28−1,28−2をそれぞれ介してD−A
変換器13、データラッチ15に接続されている。デー
タ信号線28−1,28−2により伝達される信号は基
準信号と同期した2値信号であり、D−A変換器13お
よびデータラッチ15に共通に供給されている。
【0015】D−A変換器13の出力は最終転送ゲート
電極8に接続されている。データラッチ15のデータ保
持信号は基準電圧源19と浮遊拡散領域22の電位Vf
の比較から発生している。すなわち、基準電圧源の出力
電圧Vref より浮遊拡散領域の電位Vf が低い場合デー
タラッチ15はデータ信号線28−2の信号を保持し、
出力信号線群16より出力する。この比較には電圧比較
器17を用いている。基準電圧源19の出力電圧Vref
はリセットドレイン電源18の電圧より外来雑音による
動作不良を起こさないよう若干低めに設定する。
【0016】本発明におけるA−D変換の最高分解能
は、D−A変換器13のビット数である。
【0017】次に図2,図3を参照して動作について説
明をする。電荷転送部より転送された信号電荷Qは転送
電極6,7の電位を高くする事で転送電極7下に転送さ
れる。最終転送ゲート電極8の電位を高くした後、転送
電極7の電位を下げることで信号電荷Qは最終転送ゲー
ト電極8の下に転送される(図2のタイミング図中のT
1)。
【0018】次に、最終転送ゲート電極8の下に転送さ
れた信号電荷Qは最終転送ゲート電極8に印加される電
圧を徐々に低くする(図2には階段的に下げる場合を示
す。)ことにより信号電荷は出力ゲート電極9下を流れ
浮遊拡散領域22に流れ込む(T2〜T3)。
【0019】この時、最終転送ゲート電極8の下に存在
する電荷の量に比例して最終転送ゲート電極8の下の電
位は低くなるので、電荷の量が多い場合、ゲート電圧が
高くても信号電荷は出力ゲート(9)を通り、浮遊拡散
層領域22に流れ込む。
【0020】逆に、信号電荷が少ないときには、ゲート
電圧が低くなるまで信号電荷は浮遊拡散層22に流れ込
まないことになる。
【0021】浮遊拡散層領域22に流れ込んだ信号電荷
は、浮遊拡散層領域22の電位をリセット電位から変位
させる(T3)。
【0022】この変位を電圧比較器17で検出し、検出
信号の立ち上がりで、データラッチ15はデータ信号線
28−2のデータを保持する。データラッチの保持した
信号は、最終転送ゲート電極の電圧を発生するD−A変
換器13の信号と同一である。すなわち、最終転送ゲー
ト電極電圧に相当するデータである。
【0023】ゲート電圧と電荷蓄積量の関係はCCDで
は転送ゲート電極下の電位は、ゲート下に存在する信号
電荷量と転送ゲート電極に与える電圧によって決まるこ
とが知られている。これには正の相関があり、ラッチし
た最終転送ゲート電極電圧に相当するデータは信号電荷
量そのものであると言える。以上の手順によって、信号
電荷量はデジタル信号として信号出力線16から取り出
すことができる。
【0024】例えば2ビットのA−D変換機能を本実施
例で実現する場合、D−A変換器13、カウンタ14、
ラッチ15、データ信号線28−1,28−2出力信号
線16はそれぞれ2ビットで構成する。
【0025】最終転送ゲート(8)のゲート長Lを転送
ゲート(7)と同一とし、チャネル幅Wを転送ゲート
(7)の3/4から1の間の幅とする。また、N型シリ
コン基板1の濃度を1×1014/cm3 、P型ウェル2
の濃度を1×1016/cm3 、N型ウェル3の濃度を1
×1017/cm3 程度の濃度になるように作成する。浮
遊拡散層21の大きさは階調分解能に関係ないが、小さ
いほど検出誤差は小さくなる。
【0026】D−A変換器13の出力電圧はデータ信号
線のロービットがハイレベル”1”、ハイビットがハイ
レベル”1”の場合、φHがハイの場合の電圧(一般に
5V)と同一とする。同様に、D−A変換器13の出力
電圧はデータ信号線のハイビットがローレベル”0”、
ロービットがローレベル”0”の場合、φHがローの場
合の電圧(一般に0V)と同一とする。また、ハイビッ
トがハイレベル”1”、ロービットがローレベル”0”
の場合は5Vの2/3の電圧(3.33V)、ハイビッ
トがローレベル”0”、ロービットがハイレベル”1”
の場合は5Vの1/3の電圧(1.66V)とする。
【0027】出力ゲート電極9に加える電圧は0Vから
1.66Vの間とする。
【0028】最終転送ゲート(8)に蓄えられる電荷量
はそのチャネル幅Wに比例する。チャネル幅は最終転送
ゲート(8)の方が小さいので、そこに蓄えることので
きる電荷量は転送ゲート(7)に蓄えることのできる電
荷量よりも小さくなる。このため、転送ゲート(7)よ
り最終転送ゲート(8)に転送されてきた電荷の量が転
送ゲート(7)の最大転送電荷転送量から3/4の量で
ある場合、電荷は転送されると同時に浮遊拡散層21に
流れ込み、電圧比較器17を介してデータ信号線28−
2のデータをラッチする。このときのデータはハイビッ
トがハイレベル”1”、ロービットがハイレベル”1”
である(T7)。
【0029】次に、転送される電荷量が最大電荷転送量
の1/2から3/4の場合、最終転送ゲート(8)に転
送されてきた時、最終転送ゲート電極8の電圧は5Vな
ので、まだ電荷は浮遊拡散層21には流入しない。続い
てD−A変換器13の出力信号線のハイビットがハイレ
ベル”1”、ロービットがローレベル”0”になり、最
終転送ゲート電極の電圧が3.33Vになると、最終転
送ゲート(8)に蓄えられる電荷量は最終転送ゲート電
極の電圧が5Vの時の約2/3となり、貯めることので
きない電荷は浮遊拡散層21に流れ込み、電圧比較器1
7を介してデータ信号線28−2のデータをラッチする
(T3)。
【0030】同様に、転送される電荷量が最大電荷転送
量の1/4から1/2の場合、最終転送ゲートに転送さ
れてきた時、最終転送ゲート電極8は5Vなので、まだ
電荷は浮遊拡散層21には流入しない。続いて、D−A
変換器13の出力信号線のハイビットがハイレベル”
1”、ロービットがローレベル”0”になり、最終転送
ゲート電極の電圧が3.33Vになってもまだ浮遊拡散
層21には電荷は流入しない。しかし、さらにD−A変
換器13の出力信号線のハイビットがローレベル”
0”、ロービットがハイレベル”1”になると、最終転
送ゲート電極8の電圧が1.66Vになり、最終転送ゲ
ートに蓄えられる電荷量は最終転送ゲート電極の電圧が
5Vの時の約1/3となり、貯めることのできない電荷
は浮遊拡散層21に流れ込み、電圧比較器17を介して
データ信号線28−2のデータをラッチする(T6)。
【0031】最後に、転送される電荷量が最大電荷転送
量の1/4以下の場合、最終転送ゲートに転送されてき
た時、最終転送ゲート電極の電圧は5Vなので、まだ電
荷は浮遊拡散層21には流入しない。続いてD−A変換
器13の出力信号線のハイビットがハイレベル”1”、
ロービットがローレベル”0”になると、最終転送ゲー
ト電極電圧が3.3Vになってもまだ浮遊拡散層には電
荷は流入しない。また、続いてD−A変換器の出力信号
線のハイビットがハイレベル”0”、ロービットがハイ
レベル”1”になってもまだ浮遊拡散層には電荷は流入
しない。しかし、D−A変換器13の出力信号線のハイ
ビットがローレベル”0”、ロービットがローレベル”
0”になると、最終転送ゲートに蓄えられ電荷は全て浮
遊拡散層に流れ込み、電圧比較器を介してデータ信号線
28−2のデータをラッチする。また、電荷が無い場合
もこの状態でカウンタのカウントを停止することで同様
にデジタル変換することができる。
【0032】一般にアナログ回路はディジタル回路に比
較すると回路構成が複雑であるが、本実施例では電圧比
較器は1個で足りるので、図9に示した従来例に比較し
て回路構成が簡単になる。
【0033】図4は本発明の第2の実施例を示す模式
図、図5は動作説明のための信号波形図である。
【0034】第1の実施例では、D−A変換器13で階
段波を形成して最終転送ゲート電極8に印加したが、こ
の実施例では単安定マルチバイブレータ、積分器等を用
いた鋸波発生回路13Aの出力を最終転送ゲート電極8
に加えている。鋸波の発生は転送クロック発生回路12
から作られるトリガパルスにより始まり、基準信号発生
回路11の基準信号φ1に同期して作られている。動作
原理は第1の実施例と同様である。データラッチに保持
される信号データは鋸波発生回路に加えられるトリガパ
ルスが入力され、鋸波が発生(T1)してから信号が検
出され同時にそのときのデータ信号線28の信号ラッチ
する(T3A)までの時間(T3A−T1)を鋸波のパ
ルス幅(T4−T1)から引いた値で示される。
【0035】図6は本発明の第3の実施例を示す模式図
である。
【0036】第2の実施例との相違点は、出力ゲート電
極9に鋸波発生回路13B(13Aとは逆に徐々に立上
る鋸波を発生する)からの発生電圧を加えている点であ
る。
【0037】最終転送ゲート電極8にはφHの反転信号
またはφHと位相が180度ずれた信号が印加される。
転送ゲート(7)から転送された電荷が最終転送ゲート
電極8下にある状態で、出力ゲート電極9の電圧を徐々
に高くした場合、信号電荷量が多ければ低い電圧で浮遊
拡散層に電荷があふれる。逆に信号電荷量が少なければ
浮遊拡散層に電荷をあふれさせるには高い電圧を出力ゲ
ートに加える必要がある。あふれでた瞬間を第1の実施
例と同時にして検出すれば信号電荷量がわかる。
【0038】図7は本発明の第4の実施例を示す模式図
である。
【0039】第2の実施例との相違点は信号電荷の検出
に電流検出を用いている点である。
【0040】電流検出に用いる抵抗23は1MΩ程度の
抵抗を用いる。出力ゲート電極9下をあふれた電荷がド
レイン21に達すると21の電位は浮遊拡散層の場合と
同様に変化する。この信号をトリガとしてデータを保持
する。すなわち電圧増幅器24の出力がラッチ15のし
きい値に達したときのデータ信号線28の信号を取り込
み保持する。
【0041】なお第1の実施例でも電流検出を用いるこ
とができることは改めて説明するまでもない。
【0042】図8は本発明の第5の実施例を示す模式図
で、本実施例は第3の実施例における電圧検出を電流検
出にした場合である。動作は第3の実施例に準じる。
【0043】以上説明したように、第1の実施例では、
D−A変換器を用いて最終転送ゲート電極に印加する信
号を発生させているが、第2〜第5の実施例に示したよ
うに、変換開始に同期した、等価の信号を得る事ができ
ればよく、信号発生手段として、D−A変換器を用いる
ことに限定されるわけではない。
【0044】また、実施例では、電圧検出、電流検出方
式を例示しているが、本発明の本質は、電荷の検出手段
ではない。従って、フローティングゲート型電荷検出器
のような電荷検出方法を用いても本発明を実施すること
が可能であり、本発明の実施例に限定されるものではな
い。
【0045】本実施例のD−A変換器、電圧比較器等は
電荷転送素子と同一プロセスで作ることが可能であり、
従って同一チップに集積化することができる。
【0046】
【発明の効果】以上に示したように、本発明によれば、
アナログ回路の数を少なくできるので、従来より簡単な
回路構成で、信号電荷量に応じた、デジタル信号を得る
ことが可能となる。
【0047】また、CCDイメージセンサに本発明を応
用する事で、従来はアナログ出力であった信号をデジタ
ル信号として扱うことができる。これにより、周辺回路
の設計が容易に出来るという効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す模式図である。
【図2】第1の実施例の動作説明のための信号波形図で
ある。
【図3】第1の実施例の電荷転送について説明するため
の電位図である。
【図4】本発明の第2の実施例を示す模式図である。
【図5】第2の実施例の動作説明のための信号波形図で
ある。
【図6】本発明の第3の実施例を示す模式図である。
【図7】本発明の第4の実施例を示す模式図である。
【図8】本発明の第5の実施例を示す模式図である。
【図9】従来の信号処理装置を示すブロック図である。
【図10】図9の信号処理装置の動作説明に使用する図
である。
【図11】電荷転送素子型撮像装置を示すブロック図で
ある。
【符号の説明】
1 N型シリコン基板 2 P型ウェル 3 N型ウェル 4 P型拡散層 5−1 酸化膜 5−2 酸化シリコン膜 6,7 転送電極 8 最終転送ゲート電極 9 出力ゲート電極 10 リセットゲート電極 11 基準信号発生器 12 転送クロック発生回路 13 D−A変換器 13A,13B 鋸波発生回路 14 カウンタ 15 データラッチ 16 出力信号線 17 電圧比較器 18,18A リセットドレイン電圧源 19 基準電圧電源 20 出力ゲート電圧源 21 リセットドレイン 22 浮遊拡散層 23 電流検出抵抗 24 電圧増幅器 28,28−1,28−2 データ信号線 31 端子付き電荷転送型遅延線 32 転送電荷 33〜35,48〜50 信号電荷出力端子 36,51 アナログ比較器群 37〜39,52〜54 アナログ比較器 40,55 比較電圧発生回路 41〜43,56〜58 デジタルシフトレジスタ 44,59 符号器 45 バイアス電荷生成部 46 電荷合成部 61 電荷転送型撮像素子 62 フォトダイオード 63 垂直転送CCD 66 電荷検出増幅器 67 クラップ回路 68 サンプルホールド回路 69 ローパスフィルタ 70 増幅器 71 A−D変換器

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板の表面にゲート絶縁膜を介し
    て複数の転送電極を列状に配置してなる電荷転送部、前
    記電荷転送部の出力端に近接して設けられた最終転送ゲ
    ート、前記最終転送ゲートに近接して設けられた出力ゲ
    ートおよび前記出力ゲートに近接して設けられた電荷検
    出手段を有する電荷転送素子と、基準信号発生回路、前
    記基準信号発生回路の出力信号を受けて前記電荷転送部
    に印加する転送クロックを発生する転送クロック発生回
    路、前記基準信号発生回路の出力信号を分周するNビッ
    トのカウンタ、前記カウンタの出力信号を受けてアナロ
    グ信号に変換して前記最終転送ゲートに印加するD−A
    変換器または前記転送クロック発生回路の出力信号をト
    リガとして前記基準信号発生回路の出力信号に同期する
    鋸波信号を前記最終転送ゲートに印加する鋸波回路、前
    記出力ゲートに印加する定電圧源、前記電荷検出手段の
    出力信号が所定値に達するタイミングで前記カウンタの
    出力を取り込むラッチを有する前記電荷転送素子の駆動
    回路とからなり、前記電荷転送部からの電荷量に応じた
    Nビットのディジタル信号を前記ラッチの出力端に発生
    させることを特徴とする信号処理装置。
  2. 【請求項2】 半導体基板の表面にゲート絶縁膜を介し
    て複数の転送電極を列状に配置してなる電荷転送部、前
    記電荷転送部の出力端に近接して設けられた最終転送ゲ
    ート、前記最終転送ゲートに近接して設けられた出力ゲ
    ートおよび前記出力ゲートに近接して設けられた電荷検
    出手段を有する電荷転送素子と、基準信号発生回路、前
    記基準信号発生回路の出力信号を受けて前記電荷転送部
    および前記最終転送ゲートに印加する転送クロックを発
    生する転送クロック発生回路、前記基準信号発生回路の
    出力信号を分周するNビットのカウンタ、前記カウンタ
    の出力信号を受けてアナログ信号に変換して前記出力ゲ
    ートに印加するD−A変換器または前記転送クロック発
    生回路の出力信号をトリガとして前記基準信号発生回路
    の出力信号に同期する鋸波信号を前記出力ゲートに印加
    する鋸波回路、前記電荷検出手段の出力信号が所定値に
    達するタイミングで前記カウンタの出力を取り込むラッ
    チを有する前記電荷転送素子の駆動回路とからなり、前
    記電荷転送部からの電荷量に応じたNビットのディジタ
    ル信号を前記ラッチの出力端に発生させることを特徴と
    する信号処理装置。
  3. 【請求項3】 電荷検出手段が電圧検出方式であり、前
    記電荷検出手段の出力信号を負入力端に受けて所定の基
    準電圧と比較して電荷検出信号を発生して前記ラッチに
    供給する電圧比較器を有している請求項1または2記載
    の信号処理装置。
  4. 【請求項4】 電荷検出手段が電流検出方式である請求
    項1または2記載の信号処理装置。
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