JP2024521624A - エミッタシステムアセンブリおよび形成方法 - Google Patents

エミッタシステムアセンブリおよび形成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2024521624A
JP2024521624A JP2023566556A JP2023566556A JP2024521624A JP 2024521624 A JP2024521624 A JP 2024521624A JP 2023566556 A JP2023566556 A JP 2023566556A JP 2023566556 A JP2023566556 A JP 2023566556A JP 2024521624 A JP2024521624 A JP 2024521624A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
emitter
cavity
light
aperture
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023566556A
Other languages
English (en)
Inventor
ホー,ガン
タシュレク,エメール
シチ,マイケル・ジョセフ
スワン・デ・フェリペ,タレク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Google LLC
Original Assignee
Google LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Google LLC filed Critical Google LLC
Publication of JP2024521624A publication Critical patent/JP2024521624A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/10Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a light reflecting structure, e.g. semiconductor Bragg reflector
    • H01L33/105Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a light reflecting structure, e.g. semiconductor Bragg reflector with a resonant cavity structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
    • H01L33/60Reflective elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0058Processes relating to semiconductor body packages relating to optical field-shaping elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • H01L33/0093Wafer bonding; Removal of the growth substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Led Devices (AREA)
  • Planar Illumination Modules (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)

Abstract

エミッタシステムアセンブリは、光放射をもたらすエミッタと、エミッタを少なくとも部分的に取り囲むキャビティと、エミッタからの光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される開口と、開口と光通信するレンズレットとを含む。キャビティは、該キャビティ内で開口に向けて光放射を反射するためのリフレクタを含む。さらに、キャビティ、開口、およびレンズレットは、プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する光出力をもたらすように協働するべく構成される。さらなる態様において、光学特性は、所定の出力方向および立体角のうちの少なくとも一方を含む。別の態様において、エミッタシステムは、エミッタの周囲に低屈折率材料、反射防止層、および/または光閉じ込め構造を含む。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2021年4月28日に出願された米国仮特許出願第63/180,840号および2021年10月12日に出願された米国仮特許出願第63/254,959号の利益を享受するとともにこれらの仮特許出願の優先権を主張する。これらの各出願の開示は、その全体が参照により本願に組み入れられる。
背景
本開示の態様は、一般に、発光ダイオード(LED)に関し、より具体的には、マイクロ発光ダイオード(マイクロLED)からの光抽出を強化するアセンブリに関する。
発光ダイオード(LED)技術の最近の進歩により、各マイクロLEDが数ミクロンから数分の1ミクロン程度のエミッタピッチを有するマイクロLEDのアレイを組み込んだ高密度表示デバイスの形成が可能になった。例えば、WO2019209945A1は、マイクロLEDベースのライトフィールドディスプレイのさまざまな構成を開示する。
従来のディスプレイとマイクロLEDベースのディスプレイとの間のコントラストを例示するべく、図1は、挿入図130においてよく分かるように、発光素子125のアレイ120を有する従来のディスプレイ110を示す。前述したような従来のLEDであってもよい発光素子125は、すべて同じ波長で光を放射してもよく、または2つ以上の波長で放射するLEDのパターンを成して配置されてもよい。例えば、アレイ120は、可視スペクトル内の赤、緑、青の波長で放射して規則的なパターンで配置されるLEDを含んでもよい。
図1に示される例において、発光素子125は、ディスプレイ110の領域にわたってQ×P配列で配置されてもよく、この場合、Qは、アレイ内の発光素子125の行の数であり、Pは、アレイ内の発光素子125の列の数である。図示しないが、従来のディスプレイ110は、発光素子125に加えて、発光素子125のうちの1つまたは複数に選択的に電力を供給するように構成されるさまざまな電気トレースおよび接点を含むバックプレーンを含んでもよい。
図2は、第1の挿入図230に示されるように、スーパーラクセル225のアレイ220を有するライトフィールドディスプレイ210を示す。さらに、第2の挿入図240に示されるように、各スーパーラクセル225はサブラクセル245を含む。サブラクセル245の各1つは、前述したように、マイクロLEDであってもよい。すなわち、各スーパーラクセル225は、数ミクロンまたは数分の1ミクロンのエミッタピッチを有するマイクロLEDから形成される複数のサブラクセル245を含みつつ、図1の発光素子125を伴うサイズが対応してもよい。図2に示される例において、各スーパーラクセル225は、各辺がスーパーラクセルピッチ227を有するほぼ正方形の形状を有するように示される。各スーパーラクセル225は、単一波長範囲(例えば、赤、緑、青色の波長範囲)でまたは色範囲にわたって(例えば、可視電磁波長範囲の少なくとも一部にわたって)光を放射するように構成されてもよい。
図2に示される例において、スーパーラクセル225はN×M配列で配置され、この場合、Nは、アレイ内のスーパーラクセル225の行の数であり、Mは、アレイ内のスーパーラクセル225の列の数である。図2に示されるように、スーパーラクセル225の各1つは複数のサブラクセル245を含む。サブラクセル245の各1つは、例えば、可視スペクトル内の赤、緑、または青の波長で放射するマイクロLEDを含んでもよく、規則正しいパターンで配置されてもよい。一例では、異なる色のサブラクセル245が共通の基板上にモノリシックに集積されてもよく、サブラクセル245内のマイクロLEDの各1つが1ミクロンの何分の1から約100ミクロンまでの範囲であってもよい。
図3は、スーパーラクセル225の光ステアリングの態様を示す。挿入図330に示されるように、スーパーラクセル225の各1つは、光ステアリング光学素子340を含んでもよい。図3に示される例において、各光ステアリング光学素子340は、スーパーラクセル225の1つのサイズ程度のレンズピッチ345を有するように示される。
マイクロLEDベースのディスプレイは新たな用途を可能にするが、各マイクロLEDおよびディスプレイ全体の性能を最大化するために、さまざまな改良が依然として可能である。特に、拡張現実/仮想現実(AR/VR)および他のニアアイディスプレイ用途用のコンパクトなマイクロLEDアレイには、高効率の光抽出を伴う高輝度光出力が必要である。
実施形態の概要
以下は、そのような態様の基本的な理解を与えるために、1つまたは複数の態様の簡略化した概要を提示する。この概要は、考えられるすべての態様の広範な概要ではなく、すべての態様の重要または重大な要素を特定することも、一部またはすべての態様の範囲を描写することも意図していない。その目的は、後で提示するより詳細な説明への前置きとして、1つまたは複数の態様のいくつかの概念を簡略化した形式で提示することである。
本開示の一態様では、プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリが開示される。エミッタシステムアセンブリは、光放射をもたらすエミッタと、エミッタを少なくとも部分的に取り囲むキャビティと、エミッタからの光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される開口と、開口と光通信するレンズレットとを含む。キャビティは、該キャビティ内で開口に向けて光放射を反射するためのリフレクタを含む。さらに、キャビティ、開口、およびレンズレットは、プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する光出力をもたらすように協働するべく構成される。
本開示のさらなる態様において、光学特性は、所定の出力方向および立体角のうちの少なくとも一方を含む。
本開示のさらなる態様において、プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリは、第1の光放射をもたらす第1のエミッタと、第2の光放射をもたらす第2のエミッタと、第1のエミッタを少なくとも部分的に取り囲む第1のキャビティと、第2のエミッタを少なくとも部分的に取り囲む第2のキャビティと、第1のエミッタからの第1の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される第1の開口と、第2のエミッタからの第2の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される第2の開口と、第1および第2の開口と光通信するレンズレットとを含む。第1のキャビティは、該第1のキャビティ内で第1の開口に向けて第1の光放射を反射するための第1のリフレクタを含む。第2のキャビティは、該第2のキャビティ内で第2の開口に向けて第2の光放射を反射するための第2のリフレクタを含む。第1のキャビティ、第1の開口、第2のキャビティ、第2の開口、およびレンズレットは、プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する光出力に寄与するために第1および第2の光放射をもたらすように協働するべく構成される。
本開示のさらに別の態様において、プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリは、第1の光放射をもたらす第1のエミッタと、第2の光放射をもたらす第2のエミッタと、第1および第2のエミッタを少なくとも部分的に取り囲むキャビティと、第1および第2のエミッタからの第1および第2の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される開口と、開口と光通信するレンズレットとを含む。キャビティは、該キャビティ内で開口に向けて第1および第2の光放射を反射するためのリフレクタを含む。さらに、キャビティ、開口、およびレンズレットは、プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する光出力をもたらすように協働するべく構成される。
本開示のさらなる別の態様において、エミッタシステムアセンブリを形成するための方法は、エミッタ基板上にエミッタアレイを形成するステップと、エミッタ基板をバックプレーンに取り付けるステップと、エミッタアレイと位置合わせされるキャビティおよび開口のアレイを形成するステップと、開口のアレイと位置合わせされるレンズレットアレイを取り付けるステップとを含む。
本開示のさらに別の態様では、キャビティを形成する材料よりも低い屈折率を有する低屈折率材料が、開口の少なくとも一部の周囲に組み込まれる。
本開示の別の態様では、1つまたは複数の反射防止層が、キャビティおよび開口のうちの少なくとも一方に組み込まれる。
本開示のさらなる態様において、エミッタ基板は、2つ以上のエミッタ間で共有されるカソードとして機能するように配置される導電性材料を組み込む。
本開示の別の態様において、エミッタシステムは、エミッタの周囲に光閉じ込め機能部を含む。一例において、光閉じ込め機能部は、エミッタを取り囲む1つまたは複数の反射層を含む。一態様において、光閉じ込め機能部は、金属層または反射性誘電体積層体を含む構造から形成される。
添付図面は、一部の実装のみを示し、したがって、範囲を限定するものとみなされるべきではない。
本開示の態様に係る複数のピクセルを有するディスプレイの一例を示す図である。 本開示の態様に係る複数の画素を有するライトフィールドディスプレイの例を示す図である。 本開示の態様に係る複数の画素を有するライトフィールドディスプレイの例を示す図である。 本開示の態様に係るLEDから光を抽出するための一般的な構成を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成の例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成の例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成の例を示す図である。 本開示の態様に係るマイクロLEDのアレイから光を抽出するための構成の例を示す図である。 本開示の態様に係るマイクロLEDのアレイから光を抽出するための構成の例を示す図である。 本開示の態様に係るマイクロLEDのアレイから光を抽出するための構成の例を示す図である。 本開示の態様に係るマイクロLEDの光抽出構成を形成するためのプロセスを示すフローチャートである。 本開示の態様に係る光抽出構成のさらなる例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成のさらなる例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出および共有カソード機能を伴うエミッタアレイの部分断面図である。 本開示の態様に係る光抽出および共有カソード機能を伴うエミッタアレイの部分上面図である。 本開示の態様に係るエミッタによって放射される光を閉じ込めるための光閉じ込め機能部の例を示す図である。 本開示の態様に係るエミッタによって放射される光を閉じ込めるための光閉じ込め機能部の例を示す図である。 本開示の態様に係るエミッタによって放射される光を閉じ込めるための光閉じ込め機能部の例を示す図である。 本開示の態様に係るエミッタによって放射される光を閉じ込めるための光閉じ込め機能部の例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出のための構造を有するエミッタを形成するための典型的なプロセスフローを示す図である。 本開示の態様に係る光抽出のための構造を有するエミッタを形成するための典型的なプロセスフローを示す図である。 本開示の態様に係る光抽出のための構造を有するエミッタを形成するための典型的なプロセスフローを示す図である。 本開示の態様に係る光抽出のための構造を有するエミッタを形成するための典型的なプロセスフローを示す図である。 本開示の態様に係る光抽出のための構造を有するエミッタを形成するための典型的なプロセスフローを示す図である。 本開示の態様に係る光抽出のための構造を有するエミッタを形成するための典型的なプロセスフローを示す図である。 本開示の態様に係る光抽出のための構造を有するエミッタを形成するための典型的なプロセスフローを示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。 本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイの想定し得る変形例を示す図である。
詳細な説明
添付図面に関連して以下に記載される詳細な説明は、さまざまな構成の説明を意図しており、本明細書に記載の概念が実施され得る唯一の構成を表すことを意図するものではない。詳細な説明には、さまざまな概念を完全に理解できるようにするための具体的な詳細が含まれる。しかしながら、当業者に明らかなように、これらの概念は、これらの特定の詳細がなくても実施できる。場合によっては、そのような概念が分かりにくくなるのを避けるために、よく知られている構成要素がブロック図の形式で示される。
マイクロLEDの小型サイズおよび高効率を効果的に利用するためには、各マイクロLEDによって生成される光をできるだけ多く抽出する必要がある。したがって、マイクロLEDによって生成される光の抽出を改善するには、新たな構成が望ましい。
図4は、マイクロLEDなどの光エミッタからの光抽出を改善するための典型的な構成を示す。図4に示すように、エミッタシステム400は、光放射をもたらすためのエミッタ410を含む。例えば、エミッタ410は、量子井戸(QW)技術に基づく従来のLEDまたはマイクロLED、あるいは別のタイプの小型光エミッタであってもよい。エミッタ410は、LEDキャビティを画定する表面422によって少なくとも部分的に囲まれる。表面422は、単一の連続した凹面であってもよい。実施形態では、表面422が基板420の表面である。
エタンデュゲート430が、エミッタ410からの光をモード整合光学系440に向けて放出されるための空間開口を備える。モード整合光学系440は、LEDキャビティからの光を、プロジェクタデバイスでの使用などの特定の用途の要件に適合する出力450へと整形するように構成される。なお、エミッタ410は、固体ブロックとして示されるが、nドープ半導体層、1つまたは複数の量子井戸構造、格子整合層、正孔阻止層、電子阻止層、コンタクト層、および半導体エミッタ製造の技術分野で知られている他の材料などの複数の層を含んでもよい。
より具体的には、表面422は、エミッタ410によって生成される光を閉じ込めるための高反射率の表面であってもよい。LEDキャビティの幾何学的形状は、エタンデュゲート430を介した光結合に最適な幾何学的形状を与えるために、特定の用途に合わせて調整されてもよい。なお、LEDキャビティは、「キャビティ」と呼ばれるが、固体半導体(窒化ガリウムなど)またはエミッタ410により放射される光を実質的に透過する別の材料(絶縁体など)など、空気以外の材料で満たされてもよい。
エタンデュゲート430は、LEDキャビティからの光をモード整合光学系440と効率的に結合するための固定または調整可能な空間開口であってもよい。エタンデュゲート430は、例えば、特定の特性を有する光、例えば、入射角、偏光状態、波長、共振空洞モード、および他の光学特性の特定の範囲内でエタンデュゲート430に入射する光を選択的に透過させるためのフィルタをさらに含んでもよい。例えば、エタンデュゲート430は、外部光の存在下で表示コントラストを高めるために、1つまたは複数の非反射層、低反射層、または反射防止層を含んでもよい。一例として、エミッタシステム400のアレイをディスプレイへと形成することができ、各エミッタシステムは、ディスプレイによって生成される画像に寄与する光を生成する。そのようなディスプレイでは、外部光がディスプレイに導入されると、各エタンデュゲート430が外部光を反射して、ディスプレイによって生成される画像を損なう可能性がある。そのような望ましくない影響は、エタンデュゲート430に到達する外部光をLEDキャビティ内に組み込むことができるように、エタンデュゲート430に1つまたは複数の非反射層、低反射層、または反射防止層を組み込むことによって低減され得る。
モード整合光学系440は、結像構成または非結像構成を成して配置される1つまたは複数の屈折光学系、反射光学系、または回折光学系を含むことができる。モード整合光学系440は、特定の用途の受け入れ光照射野と適合する出力450をもたらすように調整され得る。例えば、エミッタシステム400が、拡張現実(AR)または仮想現実(VR)ヘッドセットなどのためのプロジェクタで使用する光放射をもたらすことを目的としている場合、モード整合光学系440は、エタンデュゲート430を透過する光を、プロジェクタの受け入れ基準に最適に適合する出力450に変換するように構成され得る。この場合も先と同様に、エミッタシステム400に導入される外部光の影響を低減するために、非反射層、低反射層、または反射防止層をモード整合光学系440に組み込むことができる。
図4に戻って参照すると、エミッタ410、LEDキャビティ424、エタンデュゲート430、およびモード整合光学系440について、さまざまな変形が想定し得ることに留意されたい。例えば、エミッタ410は、単一のエミッタ(例えば、単一の発光ダイオード)、同じ色の2つ以上のエミッタのグループ、または異なる色の2つ以上のエミッタのグループを含んでもよい。一例として、エミッタ410は、単一のLEDキャビティ424内に、赤色LED、緑色LED、および青色LEDの組み合わせを含んでもよい。あるいは、エミッタ410は、同じ色を放射する2つのLED、例えば、2つの赤色LEDの組み合わせを含んでもよい。LEDキャビティ424は、例えば、銀またはアルミニウムのリフレクタなどの高反射率コーティングを含む1つまたは複数の表面を含むことができる。高反射率コーティング材料は、ある範囲の入射角にわたる光がLEDキャビティ424内で効率的に反射されるように、反射特性の角度依存性を低くするために選択され得る。
さらに、エタンデュゲート430は、図4に示すように、単一の開口を含んでもよく、複数の開口を含んでもよい。さらに、エタンデュゲート430は、波長選択フィルタ、偏光子、回折格子構造、および/または屈折素子などの光学部品を組み込んでもよい。偏光子は、第1の偏光状態の光を透過させる一方で、第2の直交偏光状態の光を反射してLEDキャビティ424内に戻すことができる。このようにして、反射光の一部がLEDキャビティ424内で再循環され、それにより、反射されて再循環される光の一部が、第1の偏光に変換されて、偏光子を透過し、LEDキャビティ424から出ることができる。
実施形態において、偏光子、またはLEDキャビティ424内の反射面は、それを透過するまたは反射される光の偏光状態をランダム化するための機能部を含んでもよい。あるいは、複数のエタンデュゲート430は、LEDキャビティ424と結合されてもよい。実施形態において、第1のエタンデュゲートは、第1の偏光状態の光を透過するための偏光子を含み、一方、第2のエタンデュゲートは、直交する第2の偏光状態の光を透過するための偏光子を含み、それにより、第1のエタンデュゲートが光を第1の位置に向けて方向付け、第2のエタンデュゲートが光を異なる第2の位置に向けて方向付ける。
一方、図4は、エタンデュゲート430がエミッタ410と位置合わせされて示されるが、エタンデュゲート430を透過する光の量および方向性を調整してモード整合光学系440の要件を受け入れるために、エタンデュゲート430がエミッタ410の中心線(例えば、光軸)からオフセットされてもよい。さらに、エミッタ410およびモード整合光学系440に対するエタンデュゲート430の距離が所望の光出力にしたがって調整されてもよい。
さらに、モード整合光学系440は、以下のタイプの光学部品、すなわち、屈折、フィルタリング、偏光、回折、および反射の光学部品の少なくとも1つを含むことができる。モード整合光学系は、結像光学系または非結像光学系を形成することができる。例えば、モード整合光学系440は、球、円筒、および非対称光学部品のうちの1つまたは複数を含むことができる。モード整合光学系440は、1つまたは複数の回折格子、フィルタ、および/または偏光子をさらに含むことができる。モード整合光学系440は、光出力とプロジェクタおよび/または導波管などの下流側光学系との結合を最適化するために、ビーム形状、テレセントリック性、方向性などの特定のビームパラメータを有する光出力をもたらすように、特定の用途のニーズに合わせて調整され得る。
例えば、赤、緑、および青のLEDがエミッタ410として含まれる場合、エタンデュゲート430およびモード整合光学系440は、LEDによって生成される赤、緑、および青色の光が色にしたがって異なる方向に向けて方向付けられ得るように、LEDに対して位置決めされ、波長依存の屈折挙動を示すことができる。さらに、エミッタ410の周囲の任意の場所でエミッタ410から放射される光が閉じ込められてLEDキャビティ424内に反射され得るように、例えばキャビティ424を少なくとも部分的に画定する表面として、1つまたは複数の反射面がエミッタ410の周囲に組み込まれてもよい。このようにして、エミッタ410からの光分布は、例えば、入射角依存の光結合挙動を示し得る入力結合回折格子(ICG)への結合のために最適化され得る。
エタンデュゲート430および/またはモード整合光学系440の開口形状は、円形、円筒形、楕円形、長方形、または正方形であってもよい。さらに、エミッタ410、LEDキャビティ424、エタンデュゲート430、およびモード整合光学系440の表面のいずれかは、回折格子、テクスチャ、反射防止コーティング、低屈折率層、光吸収材料、絶縁材料、導電材料、半導体材料、合金などのさまざまな特徴のうちの1つまたは複数を含んでもよい。
一般に、エミッタ410、LEDキャビティ424、エタンデュゲート430、およびモード整合光学系440の位置および形状は、相互に切り離すことができ、したがって、位置および形状のさまざまな構成要素の設計に柔軟性を与えることができ、また、エミッタごと、またはピクセルごとに調整され得る。図4に示される各構成要素の形状および形態は、例えば、光リソグラフィ、ウェットまたはドライエッチング手順、ナノインプリンティング、および他の既知の処理技術によって形成され得る。このようにして、図4に示される各構成要素の形状および形態は、LEDエミッタシステム400のアレイの全体にわたって変更され得る。さらに、波長依存フィルタリング、色変換、減衰、色調整、位相修正、および/または波面整形のための1つまたは複数の色変換器または他の構成要素を、エミッタ410、LEDキャビティ424、エタンデュゲート430、およびモード整合光学系440のうちの1つまたは複数に組み込むことができる。
別の実施形態では、図5に示されるように、エミッタシステム500におけるエタンデュゲート430およびモード整合光学系440は、エミッタ410から放射される光を拡散するためのテクスチャ表面530に取って代えられ得る。この場合、LEDキャビティの表面422は、平行光出力を必要としない用途での使用に適した光出力を与えるために、エミッタ410からテクスチャ表面530に向けて放射される光を効率的に方向付けるように構成され得る。
特定の場合には、モード整合光学系440を適切に設計することにより、LEDキャビティを縮小または排除することができる。例えば、図6に示されるように、エミッタシステム600は、切頂複合放物曲線(CPC)を規定する表面622の頂点または焦点面に位置されるエミッタ410を含むことができ、表面622はモード整合光学系440として機能する。エミッタシステム600の場合、表面622は、特定の用途に対して十分なモード整合および整形光出力を与えることができる。表面622は、凹放物面であってもよく、または凹放物面を含んでもよい。表面622は、金属または誘電体コーティングから形成される反射面などの反射面であってもよい。表面622は、基板620の表面であってもよい。
あるいは、図7に示されるように、非球面レンズ740は、エミッタ410に隣接して形成されるモード整合光学系440として使用され得る。非球面レンズ740は、成形側壁742の適切な設計によってキャビティのない非球面レンズ740のみで特定の用途に適した形状の光出力をもたらすように形成される側壁742を含むことができ得る。実施形態では、側壁742が基板720の表面に隣接している。各基板620、720は基板420の一例である。
図8は、一実施形態に係る光抽出機能部を含むエミッタアレイシステム800の断面図を示す。エミッタアレイシステム800は、複数のエミッタ810を支持および/または少なくとも部分的に含むLED基板805を含む。エミッタ810は二次元配列を成して配置され得る。各エミッタ810は、エミッタ410の一例であり、LED基板805の凹面によって少なくとも部分的に取り囲まれる。
エミッタ810は、エミッタ810A、810B、および810Cのそれぞれのうちの少なくとも1つを含む。実施形態において、エミッタ810A、810B、および810Cは、3つの波長範囲のうちのそれぞれの異なる1つの波長範囲で光を放射するように構成される。実施形態において、範囲は、電磁スペクトルの赤、緑、青の領域に対応する。別の構成において、エミッタ810A、810B、および/または810Cは、同じ波長範囲の光を放射するように構成され得る。
一例において、エミッタ810A、810B、および810Cの各1つは、そのエミッタによって放射される光が図8において下向きに方向付けられるように、反射面815によって取り囲まれる。反射面815は、金属(例えば、アルミニウム、金、銀)、誘電体、誘電体材料の多層膜積層体、またはこれらの任意の組み合わせから形成されるコーティングであってもよい。反射面815がコーティングである場合、コーティングはLED基板805の凹面上にあってもよい。
エミッタアレイシステム800は、表面822によって画定されるキャビティを有する基板820をさらに含む。基板820は、基板805の一部であってもよい。表面822の例としては、表面422および表面622が挙げられる。基板820の例としては、基板420、620、720が挙げられる。
各それぞれのLEDキャビティ824A、824B、824Cはエミッタ810A、810B、810Cにそれぞれ隣接している。基板820は、所望の波長の光透過に適合する半導体(GaNなど)または他の材料(絶縁体または透明導電性酸化物など)から形成され得る。反射面822は、金属(例えば、アルミニウム、金、銀)、誘電体、誘電体材料の多層膜積層体、またはこれらの任意の組み合わせから形成され得るコーティングをその上に有し得る。
反射面822は、エミッタ810A、810B、810Cからそれぞれ放射される光を閉じ込めるおよび/または整形する。実施形態において、各面822は、面822が基板820を貫通する開口を画定するように、基板820の上面と下面との間で延在する。例えば、LEDキャビティ824Aは、エミッタ810Aによって放射される光を開口830Aに結合するように最適化されているキャビティ幾何学的形状によって画定されてもよく、LEDキャビティ824Bは、エミッタ810Bによって放射される光を開口830Bに結合するように最適化されてもよく、LEDキャビティ824Cは、開口830Cに結合されるべきエミッタ810Cによって放射される光と最も適合するように形成されてもよい。別の例では、LEDキャビティ824A、824B、824Cのうちの2つ以上が互いに同一であってもよい。同様に、開口830Aは、開口830Bおよび/または830Cと異なっていてもよく、または開口830A、830B、830Cの寸法が同一であってもよい。
開口830A、830B、830Cは、ニアアイディスプレイ眼鏡用の導波路の入力ポートとして機能するものなどの入力結合回折格子(ICG)の平面と共役に形成され得る。他のタイプのスループット制限開口構成は、開口からのモード結合光学系または他の下流側光学系の要件にしたがって実装されてもよい。さらに、任意選択で、開口830A、830B、830Cのうちの少なくとも1つは、角度、波長、および/または偏光フィルタリング能力などのさらなる光学特性を含んでもよい。
LEDキャビティ824A、824B、824Cから開口830A、830B、830Cを通じてそれぞれ発する光は、図8に示される例ではレンズレット840を通じて方向付けられる。レンズレット840の各1つは、図4のモード整合光学系440の一例である。図8に示される例において、各レンズレット840は、複数のエミッタ810A、810B、810Cから光を方向付けるように構成される。レンズレット840の各1つは、例えばバックプレーン上に直接形成されてもよく、個別に形成されて開口および吸収体コーティングの形成後にバックプレーンに取り付けられるレンズレットアレイの一部であってもよい。
エミッタアレイシステム800は、隣接するレンズレット840を分離するバッフル吸収体845を含んでもよい。例えば、光バッフル吸収体845は、隣接するレンズレット840間のクロストークを低減するように構成されてもよい。さらに、開口830A、830B、830Cの間の領域は、レンズレット840を通過する迷光をさらに低減するために吸収層847によって覆われてもよい。
実施形態では、線870は境界を表し、その境界の上方に、エミッタ810A、810B、810Cの形成体、反射面815、LEDキャビティ824A、824B、824Cの一部、および反射面822が、マイクロLED製造の一部として形成され得る(矢印872によって示されるように)。線870の下方には(矢印872によって示されるように)、マイクロLED製造が完了した後に実行される処理中に、さまざまな構成要素を形成することができる。
図9は、一実施形態に係るエミッタアレイシステム900を示す。エミッタアレイシステム900は、図8のエミッタアレイシステム800と同じマイクロLED製造側構成要素を含む。しかしながら、開口830A、830B、830Cの各1つは、それ自体のレンズレット940A、940B、940Cとそれぞれ結合される。隣接するレンズレット940A、940B、940Cは、光バッフル吸収体945によって分離され、開口830A、830B、830Cの間の領域は、吸収体層947によって覆われてもよい。この構成では、レンズレット940A、940B、940Cの各1つは、エミッタ810A、810B、810Cのうちの対応する1つによって放射される光の特定の波長および他の光特性と結合するように構成され得る。
図10は、一実施形態に係るエミッタアレイシステム1000を示す。エミッタアレイシステム1000は、図8に示すように、反射面815を有するエミッタ810A、810B、810Cを支持するLED基板1005を含む。図8のエミッタアレイシステム800とは対照的に、エミッタアレイシステム1000は、エミッタ810A、810B、810Cのグループのための1つのLEDキャビティ1024を含む。エミッタアレイシステム1000は、キャビティ1024を画定する表面1022を有する基板1020をさらに含む。基板1020は基板1005の一部であってもよい。LEDキャビティ1024の幾何学的形状および基板1020の特性は、エミッタ810A、810B、810Cから放射されて開口1030に向かいレンズレット1040に入る光の最適な結合のために調整されてもよい。レンズレット1040は、図8のレンズレット840の一例である。隣接するレンズレット1040は、光バッフル吸収体1045によって分離することができ、開口1030間の領域は吸収体材料1047でコーティングすることができる。基板1005、1020はそれぞれ、基板805、820の例である。
図11は、一実施形態に係る先に開示されたエミッタアレイシステムを形成するための典型的なプロセス1100を示す。プロセス1100は、エミッタ基板上にエミッタアレイを形成するステップ1110を含む。図8を参照すると、基板805上または基板805内に支持されているエミッタ810A、810B、810Cを形成するステップ1110は、(i)エミッタ810A、810B、810Cを取り囲む反射面815を形成するステップ、(ii)LEDキャビティ824A、824B、824CのマイクロLED側を形成するステップ、および(iii)反射面822の一部を形成するステップのうちの少なくとも1つを含んでもよい。
プロセス1100は、エミッタアレイをバックプレーンに取り付けるためのステップ1120に進み、その後、LEDキャビティの残りおよび開口を形成するためのステップ1130に進む。例えば、エミッタアレイをバックプレーンに取り付けた後、エミッタアレイを支持するエミッタ基板を除去してもよい。最後に、プロセス1100は、レンズレットを取り付けて例えば図8~図10に示される構造を形成するステップ1140に進む。
光抽出構成の実施形態のさらなる例が図12~図37に示される。
図12は、オーミックコンタクト1212を有するエミッタ810を含むエミッタシステム1200を示す。エミッタ810から放射される光は、LEDキャビティ1224へと方向付けられる。エミッタシステムは、基板805の一例である基板1205を含む。基板1205は側壁1225を含む。キャビティ1224は、側壁1225、バッフル1247、上端リフレクタ1227のそれぞれの表面によって画定される。バッフル1247およびリフレクタ1227の一方または両方は、基板1205の一部であってもよい。側壁1225は、1つまたは複数の側壁を含んでもよく、基板1205上に堆積される層であってもよい。
LEDキャビティ1224からの光の一部は、エタンデュゲート1230を透過し、モード整合光学系1240(ここでは屈折素子として示される)を透過する。エタンデュゲート1230および光学系1240は、エタンデュゲート430および光学系440のそれぞれの例である。モード整合光学系1240の光学特性(例えば、形状、屈折率、ビーム整形/ステアリング)は、エミッタ810からの光とプロジェクタや導波路などの下流側の光学系との結合を最適化するように調整される。側壁1225は、LEDキャビティ1224内のエミッタ810から放射される光を閉じ込める。実施形態において、上端リフレクタ1227は、エミッタ810および反射側壁1225の周りの隙間を覆い、光が隙間を通って漏れるのを防ぐ。上端リフレクタ1227は電気接点として使用され得る。
引き続き図12を参照すると、吸収体1245はモード整合光学系1240を取り囲んで、モード整合光学系1240の外に向けられない任意の迷光を吸収する。さらに、エタンデュゲート1230の境界を画定する役割を果たすバッフル1247も、モード整合光学系1240からLEDキャビティ1224に再入する迷光を低減する光吸収特性を示し得る。
図12に示されるように、低屈折率(低-n)層1250が、エタンデュゲート1230およびバッフル1247を取り囲む。低-n層1250の屈折率は、LEDキャビティ1224を充填する材料よりも低い値であってもよい。一例として、LEDキャビティ1224が平均屈折率n=2.4を有するnドープ窒化ガリウム(n-GaN)で満たされる場合、低-n層1250は、平均屈折率が2.4よりも低い材料であってもよい。例としては、ポリマーなどの平均屈折率n=1.4の材料が挙げられる。同様に、モード整合光学系1240は、低-n層1250とモード整合光学系1240との間に屈折率の不連続性が存在するように、例えばn=1.7を示す高屈折率ポリマーから形成されてもよい。
したがって、図12の丸で囲んだ数字で示すように、エミッタ810から放射される光が遭遇する複数の界面が存在する。(1)-(2)の界面では、低-n層1250に遭遇するLEDキャビティ1224からの光は、界面での屈折率の不連続性に起因して、大部分が反射されてLEDキャビティ1224内に戻される。同様に、(3)-(4)の界面では、光が矢印1280で示すように屈折される。最後に、光がモード整合光学系1240を出るとき、光は、整形されて、外部光学系に向けて方向付けられる。したがって、低-n層1250を含めることは、光の閉じ込めと、エミッタ810によって放射される光の効率的な抽出とをさらに調整するのに役立つ。
図12には単一のエミッタシステム1200が示されるが、複数のエミッタシステム1200がアレイ状に配置されてもよい。アレイ内のエミッタシステムは同一であってもよく、異なる発光特性を有するエミッタシステムがアレイ内に含まれてもよい。
図13は、本開示の態様に係る光抽出構成の別の例を示す。図13に示されるように、エミッタシステム1300は、オーミックコンタクト1212を有する光エミッタ810を含む。エミッタ810から放射される光は、LEDキャビティ1324内へと方向付けられる。エミッタシステム1300は、基板805の一例である基板1305を含む。基板1305は側壁1325を含む。キャビティ1324は、側壁1325およびバッフル1347のそれぞれの表面によって少なくとも部分的に画定される。バッフル1347は、基板1305の一部であってもよい。側壁1325は、1つまたは複数の側壁を含んでもよく、基板1305上に堆積される層であってもよい。
LEDキャビティ1324からの光の一部は、エタンデュゲート1330を透過し、モード整合光学系1340を透過する。エタンデュゲート1330はエタンデュゲート430の一例である。この場合も先と同様に、モード整合光学系1340の光学特性は、エミッタ810からの光と、プロジェクタまたは導波路などの下流側の光学系との結合を最適化するように調整される。反射側壁1325が、LEDキャビティ1324内のエミッタ810から放射される光を閉じ込める。吸収体1345が、モード整合光学系1340を取り囲んで、モード整合光学系1340の外に向けられない任意の迷光を吸収する。さらに、エタンデュゲート1330の境界を画定するのに役立つバッフル1347は、モード整合光学系1340からLEDキャビティ1324に再入する迷光を低減する光吸収特性を示し得る。実施形態では、エタンデュゲートがバッフル1347を貫通する開口である。
エミッタシステム1300は、エミッタシステム1200の低屈折率層1250と同様の低-n層1350を含む。低-n層の一部はバッフル1347の上下、およびエタンデュゲート1330内にある。低-n層1350はまた、LEDキャビティ1324の光閉じ込め特性をさらに高めるために、反射側壁1325に沿って延在する。さらに、エミッタシステム1300は、LEDキャビティ1324を形成する高屈折率材料と低-n層1350との間の界面に反射防止層1390を含んでもよい。
実施形態において、エミッタシステム1300は、低-n層1350とモード整合光学系1340との間の界面に第2の反射防止層1392を含む。さらに、第3の反射防止層(図示せず)が、モード整合光学系1340と任意の下流側光学系(図示せず)との間の界面に含まれてもよい。反射防止層は、エミッタ810から放射されてLEDキャビティ1324から出てモード整合光学系1340へ入る光の結合を強化するように機能し得る。
図14および図15はそれぞれ、本開示の態様に係る光抽出機能および共有カソード機能を伴うエミッタシステム1400の部分断面図および部分上面図を示す。LEDキャビティの周囲およびエミッタシステム間に反射光閉じ込め層を拡張することにより、反射層自体を、光エミッタを電子的にアドレス指定するための共有カソードとして使用することができる。特に、エミッタシステム1400は複数のエミッタ810を含み、各エミッタは、オーミックコンタクト1212を介して個別にアドレス指定可能である。前述のエミッタシステムと同様に、各エミッタ810は、反射層1425によって囲まれたLEDキャビティ1420と結合される。反射層1425は、側壁1225、1325の例であり、例えば、反射性の金属材料から形成され得る。エミッタ810からの光は、LEDキャビティ1420を介してモード結合光学系1440に結合される。モード結合光学系1440は、モード整合光学系440の一例であり得る。エミッタシステム1400は、基板1205、1305などの基板を含むことができ、この場合、反射層1425は、基板上に堆積される層であってもよい。
実施形態において、低-n層1430は、LEDキャビティ1420内およびモード結合光学系1440からの光閉じ込め効率の向上を助けるために、LEDキャビティ1420、モード結合光学系1440、またはその間の任意の場所に組み込まれてもよい。低-n層1450は、エミッタ810間に延在して、エミッタ810を相互に電気的に絶縁するための絶縁層として機能することもできる。
図14および図15に示されるように、反射層1425は、エミッタシステム1400内のエミッタ810のための共有カソードとして使用できるように、エミッタ810間で延在してもよい。各エミッタ810の個別のアドレス指定は、関連するオーミックコンタクト1212を介したボンディングによって達成されてもよい。
銀が前述の反射層(例えば、反射面1225、1325、1425)に組み込まれる場合、既知の問題は、エミッタシステムの望ましくない領域への銀の移動であり、これにより、エミッタの電気的短絡の可能性がある。図13および図14の低-n層1350、1430の構成は、LEDキャビティへの銀の移動を軽減するのに役立つ可能性がある。さらに、前述の反射面1225、1325、1425をさらにコーティング内に封入して、電界誘起の銀のマイグレーションに関連する問題を軽減しながらリフレクタの反射特性を保持することもできる。
図16~図19は、本開示の態様に係るエミッタによって放射される光を閉じ込めるための光閉じ込め機能部の例を示す。なお、図16~図19は、エミッタシステムのエミッタ部分を取り囲む構造のみを示し、すなわち、図16~図19に示される実施形態は、前述の図4~図15に示されるような光抽出構造をさらに組み込んでもよい。
まず図16を参照すると、この図は、光閉じ込め機構を組み込んだエミッタアレイ1600の一部を示す。エミッタアレイ1600は複数のエミッタ810を含み、各エミッタ810の上部にはオーミックコンタクト1212が設けられる。大部分において、エミッタ810から放射される光は下方(すなわち、ページの下端に向かって)に向けられる。しかしながら、光放射のごく一部は、各エミッタ810の周囲から逃げる。オーミックコンタクト1212は、上向き(すなわち、ページの上端に向かう)への光放射の大部分を阻止するが、光放射は、エミッタ810の側面から逃げる可能性がある。
上方および横方向の光漏れに対処するために、各エミッタ810を反射材料で囲んで、光漏れを下方、例えば図4~図15に関して前述した光抽出構造に向けることができる。図16に示す例では、エミッタ810はパッシベーション層または絶縁層1614によって覆われる。ドライエッチング、ウェットエッチング、およびマスクリソグラフィなどの既知の技術を使用して、反射構造1618が各エミッタ810のオーミックコンタクトに向かって側方および上向きに堆積される。パッシベーション層1614は、反射構造1618を、エミッタ810およびオーミックコンタクト1612との接触から分離する。さらなるパッシベーション層または絶縁層を反射構造1618の上に堆積させてもよく、その後、オーミックコンタクト1612の周囲から逃げる光の閉じ込めをさらにもたらすために、さらなる「ウイング」構造1620を形成してもよい。図16の右側のエミッタ構造に示すように、オームコンタクト1212と直接に電気的接触が行われてもよく(電気接点1616として示される)、あるいは、左側のエミッタ構造に示すように、ウイング構造1620を介して電気的接触が行われてもよい。図8~図15に記載のエミッタシステムのいずれか1つの実施形態は、絶縁層1614、反射構造1618、電気接点1616、およびウイング構造1620のうちの少なくとも1つを含み得る。
オーミックコンタクト1212に対して直接的な接触が行われる場合でも、図17は、ウイング構造がオーミックコンタクトと直接電気的に接触して形成される別の実施形態を示す。例えば、パッシベーション層1614がエミッタ810およびオーミックコンタクト1212上にわたって堆積された後、反射構造1730がエミッタ810の側面に形成され得る。さらなるパッシベーション層1732が反射構造1730上にわたって堆積される。その後、図17に示されるようも、その上にさらなる反射構造1740が堆積される。
その後、パッシベーション層1614、さらなるパッシベーション層1732、およびさらなる反射構造1740を介してオーミックコンタクト1212にアクセスすることができ、これにより、隣接するエミッタ810間の電気的絶縁を維持しながら電気接点1616をオーミックコンタクト1212に接続することができる。図8~図16に記載のエミッタシステムのいずれか1つの実施形態は、反射構造1730、パッシベーション層1732、および反射構造1740のうちの少なくとも1つを含み得る。
図18は、オーミックコンタクト1212を電気的にアドレス指定するために薄い接点が使用される別の構成を示す。図18に示すように、パッシベーション層1614はエミッタ810およびオーミックコンタクト1212を覆い、その上に、より厚いボンディングワイヤ1816に取り付けられる細いボンディングワイヤ1815を使用してオーミックコンタクト1212に対する電気的アクセスを可能にするために大きな反射構造1840間のスペースを維持しながらオーミックコンタクト1212と大きな反射構造1840との間にオーバーラップ1842が存在するように大きな反射構造1840が堆積される。このようにして、エミッタ、大きな反射層、および細いボンディングワイヤ1815間に短絡を生じさせることなく、反射層堆積の1回のパスでエミッタ810の周囲の光閉じ込めを確立することができる。図8~図16に示されるエミッタシステムのいずれか1つの実施形態は、反射構造1830、オーバーラップ1842、細いボンディングワイヤ815、およびより厚いボンディングワイヤ1816のうちの少なくとも1つを含み得る。
光閉じ込めのためのさらに他の別の構造が、エミッタシステムのアレイの一部を例示する図19に示される。図19に示すように、エミッタシステム1900は少なくとも1つのエミッタ810を含む。電気的絶縁を行うためにパッシベーション層1922がエミッタ810上にわたって形成される。任意選択的に、図16~図18に示されるものと同様の反射構造(図示せず)がパッシベーション層1922上に形成され得る。エミッタシステム1900は、エミッタ810からの光漏れを閉じ込めるための反射面をもたらすために、エミッタ810上に誘電体ブラッグリフレクタ1930を含む。
誘電体ブラッグリフレクタ1930は、高い屈折率と低い屈折率とを交互に示す誘電体薄膜の複数の層を含む。実施形態では、図19に示されるように、誘電体ブラッグリフレクタ1930は、パッシベーション層1922の開口を通してエミッタ810と直接接触している。実施形態では、パッシベーション層1922の屈折率がブラッグリフレクタ1930の全体的な反射率に向けて寄与するように、パッシベーション層1922を誘電体ブラッグリフレクタ1930の設計に組み込むことができ、パッシベーション層1922の開口は必要とされない。最後に、エミッタ810を電子的にアドレス指定するために、オーミックコンタクト1212を誘電体ブラッグリフレクタ1930の上に配置することができる。
図8~図16に記載されているエミッタシステムのいずれか1つの実施形態は、その上にパッシベーション層1922、誘電体ブラッグリフレクタ1930、およびオーミックコンタクト1212のうちの少なくとも1つを含むことができる。
図20~図26は、本開示の態様に係る光抽出のための構造を有するエミッタを形成するための例示的なプロセスフローを示す。図20に示すように、エミッタアレイ構造2000は、半導体基板2014の平坦な表面上に形成されているエミッタ810を含む。オーミックコンタクト1212がエミッタ810上にある。半導体基板2014は基板805の一例である。図21において、半導体基板2014は、半導体基板の下面に形成される切り欠き2120を含む半導体基板2114をもたらすように変更されている。図22において、低-n層2230(一例として、n<2.4)が半導体基板2114の下面にコンフォーマルに堆積されている。
図23では、半導体基板2314をもたらすために、切り欠き2120および低-n層2230を貫通してビアが半導体基板2114内に形成される。さらに、前述のようにLEDキャビティの基礎を形成するために、反射材料2340がビア内に堆積される。
図24では、別の第2の低-n材料層2450が半導体基板2314の下面に堆積される。図25では、前述したようにモード整合光学系の基礎を形成するために、ポリマー材料2560が堆積される。図26では、前述したようにモード整合光学系を形成するために、ビアがポリマー材料2560内に形成され、吸収構造がその中に形成される。
図27~図37は、本開示の態様に係る光抽出構成を有するエミッタおよびエミッタアレイにおける想定し得る変形例を示す。
図27は、図4のエミッタシステム400の変形例を示す。図27に示すように、エミッタシステム2700は、3つの異なるエミッタ2710A、2710B、2710Cを含み、各エミッタは、異なる波長で光を放射し(例えば、エミッタ2710Aが赤色の波長範囲で放射し、エミッタ2710Bが緑色の波長範囲で放射し、エミッタ2710Cが青色の波長範囲で放射する)、単一のLEDキャビティ2720内に配置される。単一のエタンデュゲート2730が、LEDキャビティ2720を、射出瞳2750を有するモード整合光学系2740と接続する。この実施形態は、例えば、1つのRGBピクセルが1つの光抽出構造に組み込まれることに対応する。
別の例として、図28は、各光抽出構造内に位置されているエミッタの対を示す。図28に示すように、エミッタシステム2800は、第1のLEDキャビティ2820A内に収容されて、第1のエタンデュゲート2830A、モード整合光学系2840A、および射出瞳2850Aと接続される第1のエミッタ2810Aおよび第2のエミッタ2810Bを含む。エミッタシステム2800は、第2のLEDキャビティ2820B内に収容されて、第2のエタンデュゲート2830B、第2のモード整合光学系2840B、および第2の射出瞳2850Bと接続される、別の第2のエミッタ2810Bおよび第3のエミッタ2810Cをさらに含む。一例として、第1のエタンデュゲート2830A、モード整合光学系2840A、および射出瞳2850Aの形態は、第1のエミッタ2810Aおよび第2のエミッタ2810Bによって放射される波長の特定の組み合わせに最適な光の閉じ込めおよび抽出を行うように選択され得るが、第2のエタンデュゲート2830B、第2のモード整合光学系2840B、および第2の射出瞳2850Bは、第2のエミッタ2810Bと第3のエミッタ2810Cとの組み合わせによってもたらされる波長に関して最適化される。
同様に、図29は、第1のLEDキャビティ2920Aにより収容され、第1のエタンデュゲート2930A、モード整合光学系2940A、および射出瞳2950Aと接続される一対の第1のエミッタ2910Aを含むエミッタシステム2900を示す。エミッタシステム2900は、第2のLEDキャビティ2920B内に収容され、第2のエタンデュゲート2930B、第2のモード整合光学系2940B、および第2の射出瞳2950Bと接続される第2のエミッタ2910Bおよび第3のエミッタ2910Cをさらに含む。そのような構成は、例えば、3つの異なるエミッタの組み合わせから所望の光色域をもたらすのに第1のエミッタ2910Aの対における光抽出効率の最適化が必要であるように第1のエミッタ2910Aの光放射効率がエミッタ2910B、2910Cの光放射効率よりも著しく低い状況で有用となり得る。
あるいは、図30は、図27のエミッタシステム2700の変形例を示し、今回は、3つの異なるエタンデュゲートを含む。図30に示すように、エミッタシステム3000は、3つの異なるエミッタ3010A、3010B、3010Cを含み、各エミッタは、異なる波長で光を放射し(例えば、エミッタ3010Aが赤色の波長範囲で放射し、エミッタ3010Bが緑色の波長範囲で放射し、エミッタ3010Cが青色の波長範囲で放射する)、単一のLEDキャビティ3020内に配置される。3つの別個のエタンデュゲート3030A、3030B、3030Cは、LEDキャビティ3020を、射出瞳3050を有するモード整合光学系3040と接続する。この形態は、例えば、3つのエタンデュゲートを通過できる光放射を空間的にフィルタリングすることによって射出瞳3050においてエミッタ3010A、3010B、3010Cのそれぞれからの光放射の方向性を分離することが望ましい場合に効果的であり得る。一例として、エタンデュゲート3030Aは、エミッタ3010Aによって放射される波長の光を許容するように最適化することができ、エタンデュゲート3030Bは、エミッタ3010Bによって放射される波長の光を許容するように最適化することができ、エタンデュゲート3030Cは、エミッタ3010Cによって放射される波長の光を許容するように最適化することができ、それにより、3つのエタンデュゲートを透過する光線の方向が特定の波長であって一般に既知の方向(例えば、図の真下)に向けられるようにする。
図31は、3つの異なるエミッタ、単一のLEDキャビティ、単一のエタンデュゲート、および3つの異なる出力瞳を含む別の変形例を示す。図31に示すように、エミッタシステム3100は3つの異なるエミッタ3110A、3110B、3110Cを含み、各エミッタは、異なる波長で光を放射し(例えば、エミッタ3110Aが赤色の波長範囲で放射し、エミッタ3110Bが緑色の波長範囲で放射し、エミッタ3110Cが青色の波長範囲で放射する)、単一のLEDキャビティ3120内に配置される。エミッタ3110によって放射される光は、単一のエタンデュゲート3130を透過してモード整合光学系の単一のセットに入り、その後、3つの異なる出力瞳3150A、3150B、3150Cに向けられる。
対照的に、図32は、本質的に、それぞれが特定の光放射波長に関して最適化される3つのエミッタシステム400の組み合わせを示す。図32に示されるように、エミッタシステム3200は、第1のLEDキャビティ3220A内に収容され、第1のエタンデュゲート3230A、第1のモード整合光学系3240A、および第1の射出瞳3250Aと接続される第1のエミッタ3210Aを含む。第1のLEDキャビティ3220A、第1のエタンデュゲート3230A、第1のモード整合光学系3240A、および第1の射出瞳3250Aのそれぞれは、赤色波長範囲における光の閉じ込めおよび抽出に関して最適化される。同様に、エミッタシステム3200は、第2のLEDキャビティ3220B内に収容され、第2のエタンデュゲート3230B、第2のモード整合光学系3240B、および第2の射出瞳3250Bと接続される第2のエミッタ3210Bをさらに含む。さらに、エミッタシステム3200は、第3のLEDキャビティ3220C内に収容され、第3のエタンデュゲート3230C、第3のモード整合光学系3240C、および第3の射出瞳3250Cと接続される第3のエミッタ3210Cを含む。第2のLEDキャビティ3220B、第2のエタンデュゲート3230B、第2のモード整合光学系3240B、および第2の射出瞳3250Bは、緑色波長で作用するように最適化されており、一方、第3のLEDキャビティ3220C、第3のエタンデュゲート3230C、第3のモード整合光学系3240C、および第3の射出瞳3250Cは、青色の波長を閉じ込めて方向付けるように最適化される。
さらに別の変形例が図33に示される。図33は、LEDキャビティ3320内に収容されるエミッタ3310を含むエミッタシステム3300を示す。各エミッタ2710、2810、2910、3010、3110、3210、3310はエミッタ810の一例である。
第1のエタンデュゲート3330Aおよび第2のエタンデュゲート3330Bは、第1および第2のエタンデュゲートを透過する光が異なる特性を示すように、エミッタ3310によって放射される光の異なる部分を透過するように構成され得る(例えば、直交偏光状態、またはローパスフィルタリングおよびハイパスフィルタリング)。透過した光は、その後、モード整合光学系3340および射出瞳3350を通じて方向付けられる。
図8~図10、図12、図13、および図27~図37に示されるさまざまなエタンデュゲートおよび射出瞳は、これらの構成要素によって提示される開口におけるさまざまな想定し得る形状のいくつかを示す。例えば、図34に示されるように、各エタンデュゲートまたは射出瞳は円形であってもよい。あるいは、図35に示されるように、各エタンデュゲートまたは射出瞳は楕円形であってもよい。同様に、図36または図37に示されるように、各エタンデュゲートまたは射出瞳は、長方形または六角形であってもよい。複数のエタンデュゲートおよび/または射出瞳が単一のエミッタシステム内で組み合わされる上記のような場合など、エタンデュゲートおよび射出瞳における他の形状が単独または組み合わせて可能である。
以下の記述は、本明細書に記載される一般的および特定の特徴をカバーすることを意図している。特に、以下の実施形態、およびそのような実施形態の任意の組み合わせが考えられる。
1.本明細書に開示される各キャビティは、その中に1つまたは複数のエミッタを含むことができる。そのような場合、隣接するキャビティは互いに完全に光学的に分離されてもよく、完全に分離されなくてもよい。例えば、所定の用途の要件にしたがって、アンチエイリアシングまたは輝度/効率のために、隣接キャビティ間のある程度の光相互作用が望ましい場合がある。
2.本明細書に開示される各キャビティが1つまたは複数の出口開口を含んでもよい。
3.本明細書に開示される各レンズレットが1つまたは複数のキャビティからの光を方向付けるように構成されてもよい。
4.本明細書に開示される任意のエタンデュゲートの前方を向いた外表面(すなわち、モード整合光学系に面した表面)は、エミッタに外光が当たるときにディスプレイのコントラストを向上させるべく、吸収性、低反射性、非反射性、または他の反射防止コーティングのうちの少なくとも1つを含んでもよい。エタンデュゲートからの反射を制御するそのような機構は、後続のモード整合光学系またはレンズレットの有無にかかわらず、エミッタシステムに含めることができる。
5.本明細書に開示される任意のエタンデュゲートは、エミッタシステムが偏光出力をもたらすように偏光子を含むことができる。一例において、偏光子は、第1の偏光状態の光を透過させる一方で、第2の偏光を元のキャビティ内に反射しするように構成され、これにより、吸収性の偏光子よりも高い効率で偏光出力をもたらすことができる。
特徴の組み合わせ
前述した特徴および以下に特許請求の範囲に記載される特徴は、本発明の範囲から逸脱することなく、さまざまな方法で組み合わせることができる。以下の列挙例は、想定し得るいくつかの非限定的な組み合わせを例示する。
(A1)プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリは、光放射をもたらすエミッタと、エミッタを少なくとも部分的に取り囲むキャビティと、エミッタからの光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される開口と、開口と光通信するレンズレットとを含み、キャビティは、該キャビティ内で開口に向けて光放射を反射するためのリフレクタを含み、キャビティ、開口、およびレンズレットは、プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する光出力をもたらすように協働するべく構成される。
(A2)(A1)の実施形態において、キャビティ、開口、およびレンズレットは、所定の出力方向および立体角のうちの少なくとも一方を有する光出力をもたらすように構成される。
(A3)実施形態(A1)または(A2)のいずれか1つは、第2の光放射をもたらすための第2のエミッタをさらに含む。
(A4)実施形態(A1)-(A3)のいずれか1つにおいて、エミッタが第1の波長範囲で光放射をもたらし、第2のエミッタが第2の波長範囲で第2の光放射をもたらし、第2の波長範囲が第1の波長範囲とは異なる。
(A5)実施形態(A1)-(A4)のいずれか1つにおいて、キャビティは、エミッタおよび第2のエミッタの両方を少なくとも部分的に取り囲む。
(A6)実施形態(A1)-(A5)のいずれか1つにおいて、開口は、光放射および第2の光放射の両方の少なくとも一部を透過させるように構成される。
(A7)実施形態(A1)-(A6)のいずれか1つは、第2のエミッタを少なくとも部分的に取り囲む第2のキャビティと、エミッタからの光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される第2の開口と、第2の開口と光通信する第2のレンズレットとをさらに含む。
(A8)実施形態(A1)-(A7)のいずれか1つは、光出力と第2の光出力との間のクロストークを少なくとも部分的に防止するための光バッフル吸収体をさらに含む。
(A9)実施形態(A1)-(A8)のいずれか1つは、第3の波長範囲で第3の光放射をもたらすための第3のエミッタをさらに含み、第3の波長範囲が第1および第2の波長範囲とは異なる。
(A10)実施形態(A1)-(A9)のいずれか1つにおいて、レンズレットが低屈折率材料から形成される。
(A11)実施形態(A1)-(A10)のいずれか1つは、レンズレット上に反射防止層をさらに含む。
(A12)実施形態(A1)-(A11)のいずれか1つは、エミッタの周りに光閉じ込め構造をさらに含む。
(A13)実施形態(A1)-(A12)のいずれか1つにおいて、光閉じ込め構造は、反射層および誘電体ブラッグリフレクタのうちの少なくとも一方を含む。
(B1)プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリは、第1の光放射をもたらす第1のエミッタと、第2の光放射をもたらす第2のエミッタと、第1のエミッタを少なくとも部分的に取り囲む第1のキャビティと、第2のエミッタを少なくとも部分的に取り囲む第2のキャビティと、第1のエミッタからの第1の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される第1の開口と、第2のエミッタからの第2の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される第2の開口と、第1および第2の開口と光通信するレンズレットとを含み、第1のキャビティは、該第1のキャビティ内で第1の開口に向けて第1の光放射を反射するための第1のリフレクタを含み、第2のキャビティは、該第2のキャビティ内で第2の開口に向けて第2の光放射を反射するための第2のリフレクタを含み、第1のキャビティ、第1の開口、第2のキャビティ、第2の開口、およびレンズレットは、プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する光出力に寄与するために第1および第2の光放射をもたらすように協働するべく構成される。
(B2)実施形態(B1)において、第1のキャビティ、第1の開口、第2のキャビティ、第2の開口、およびレンズレットは、所定の出力方向および立体角のうちの少なくとも一方を有する光出力をもたらすように構成される。
(B3)実施形態(B1)または(B2)のいずれか1つは、第1のキャビティと第2のキャビティとの間のクロストークを防止するための光バッフル吸収体をさらに含む。
(C1)プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリは、第1の光放射をもたらす第1のエミッタと、第2の光放射をもたらす第2のエミッタと、第1および第2のエミッタを少なくとも部分的に取り囲むキャビティと、第1および第2のエミッタからの第1および第2の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される開口と、開口と光通信するレンズレットとを含み、キャビティは、該キャビティ内で開口に向けて第1および第2の光放射を反射するためのリフレクタを含み、キャビティ、開口、およびレンズレットは、プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する光出力をもたらすように協働するべく構成される。
(C2)(C1)の実施形態において、キャビティ、開口、およびレンズレットは、所定の出力方向および立体角のうちの少なくとも一方を有する光出力をもたらすように構成される。
(D1)エミッタシステムアセンブリを形成するための方法は、エミッタ基板上にエミッタアレイを形成するステップと、エミッタ基板をバックプレーンに取り付けるステップと、エミッタアレイと位置合わせされるキャビティのアレイおよび開口のアレイを形成するステップと、開口のアレイと位置合わせされるレンズレットアレイを取り付けるステップとを含む。
(D2)方法(D1)は、エミッタアレイがバックプレーンに取り付けられたままの状態でエミッタ基板を除去するステップをさらに含む。
したがって、本開示を示される実施にしたがって提供してきたが、当業者であれば容易に分かるように、実施形態には変形があり得るものであり、それらの変形は本開示の範囲内にある。したがって、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、当業者であれば多くの修正を行うことができる。

Claims (20)

  1. プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリであって、
    光放射をもたらすエミッタと、
    前記エミッタを少なくとも部分的に取り囲むキャビティと、
    前記エミッタからの前記光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される開口と、
    前記開口と光通信するレンズレットと、
    を備え、
    前記キャビティは、該キャビティ内で前記開口に向けて前記光放射を反射するためのリフレクタを含み、
    前記キャビティ、前記開口、および前記レンズレットは、前記プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する前記光出力をもたらすように協働するべく構成される、
    エミッタシステムアセンブリ。
  2. 前記キャビティ、前記開口、および前記レンズレットは、所定の出力方向および立体角のうちの少なくとも一方を有する前記光出力をもたらすように構成される、請求項1に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  3. 第2の光放射をもたらすための第2のエミッタをさらに備える、請求項1に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  4. 前記エミッタが第1の波長範囲で前記光放射をもたらし、
    前記第2のエミッタが第2の波長範囲で前記第2の光放射をもたらし、前記第2の波長範囲が前記第1の波長範囲とは異なる、
    請求項3に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  5. 前記キャビティは、前記エミッタおよび前記第2のエミッタの両方を少なくとも部分的に取り囲む、請求項3に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  6. 前記開口は、前記光放射および前記第2の光放射の両方の少なくとも一部を透過させるように構成される、請求項3に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  7. 前記第2のエミッタを少なくとも部分的に取り囲む第2のキャビティと、
    前記エミッタからの前記光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される第2の開口と、
    前記第2の開口と光通信する第2のレンズレットと、
    をさらに備え、
    前記第2のエミッタ、前記第2のキャビティ、前記第2の開口、および前記第2のレンズレットは、前記プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する第2の光出力をもたらすように構成される、
    請求項3に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  8. 前記光出力と前記第2の光出力との間のクロストークを少なくとも部分的に防止するための光バッフル吸収体をさらに備える、請求項7に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  9. 第3の波長範囲で第3の光放射をもたらすための第3のエミッタをさらに備え、前記第3の波長範囲が前記第1および第2の波長範囲とは異なり、
    前記開口は、前記光放射、前記第2の光放射、および前記第3の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される、
    請求項4に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  10. 前記レンズレットが低屈折率材料から形成される、請求項1に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  11. 前記レンズレット上に反射防止層をさらに備える、請求項1に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  12. 前記エミッタの周りに光閉じ込め構造をさらに備える、請求項1に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  13. 前記光閉じ込め構造は、反射層および誘電体ブラッグリフレクタのうちの少なくとも一方を含む、請求項12に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  14. プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリであって、
    第1の光放射をもたらす第1のエミッタと、
    第2の光放射をもたらす第2のエミッタと、
    前記第1のエミッタを少なくとも部分的に取り囲む第1のキャビティと、
    前記第2のエミッタを少なくとも部分的に取り囲む第2のキャビティと、
    前記第1のエミッタからの前記第1の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される第1の開口と、
    前記第2のエミッタからの前記第2の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される第2の開口と、
    前記第1および第2の開口と光通信するレンズレットと、
    を備え、
    前記第1のキャビティは、該第1のキャビティ内で前記第1の開口に向けて前記第1の光放射を反射するための第1のリフレクタを含み、
    前記第2のキャビティは、該第2のキャビティ内で前記第2の開口に向けて前記第2の光放射を反射するための第2のリフレクタを含み、
    前記第1のキャビティ、前記第1の開口、前記第2のキャビティ、前記第2の開口、および前記レンズレットは、前記プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する前記光出力に寄与するために前記第1および第2の光放射をもたらすように協働するべく構成される、
    エミッタシステムアセンブリ。
  15. 前記第1のキャビティ、前記第1の開口、前記第2のキャビティ、前記第2の開口、および前記レンズレットは、所定の出力方向および立体角のうちの少なくとも一方を有する前記光出力をもたらすように構成される、請求項14に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  16. 前記第1のキャビティと前記第2のキャビティとの間のクロストークを防止するための光バッフル吸収体をさらに備える、請求項14に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  17. プロジェクタに光出力を与えるためのエミッタシステムアセンブリであって、
    第1の光放射をもたらす第1のエミッタと、
    第2の光放射をもたらす第2のエミッタと、
    前記第1および第2のエミッタを少なくとも部分的に取り囲むキャビティと、
    前記第1および第2のエミッタからの前記第1および第2の光放射の少なくとも一部を透過させるように構成される開口と、
    前記開口と光通信するレンズレットと、
    を備え、
    前記キャビティは、該キャビティ内で前記開口に向けて前記第1および第2の光放射を反射するためのリフレクタを含み、
    前記キャビティ、前記開口、および前記レンズレットは、前記プロジェクタへの結合に適した光学特性を有する前記光出力をもたらすように協働するべく構成される、
    エミッタシステムアセンブリ。
  18. 前記キャビティ、前記開口、および前記レンズレットは、所定の出力方向および立体角のうちの少なくとも一方を有する前記光出力をもたらすように構成される、請求項17に記載のエミッタシステムアセンブリ。
  19. エミッタシステムアセンブリを形成するための方法であって、
    エミッタ基板上にエミッタアレイを形成するステップと、
    前記エミッタ基板をバックプレーンに取り付けるステップと、
    前記エミッタアレイと位置合わせされるキャビティのアレイおよび開口のアレイを形成するステップと、
    前記開口のアレイと位置合わせされるレンズレットアレイを取り付けるステップと、
    を含む方法。
  20. 前記エミッタ基板を前記バックプレーンに取り付けた後、前記エミッタアレイが前記バックプレーンに取り付けられたままの状態で前記エミッタ基板を除去するステップをさらに含む、請求項19に記載の方法。
JP2023566556A 2021-04-28 2022-04-28 エミッタシステムアセンブリおよび形成方法 Pending JP2024521624A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US202163180840P 2021-04-28 2021-04-28
US63/180,840 2021-04-28
US202163254959P 2021-10-12 2021-10-12
US63/254,959 2021-10-12
PCT/US2022/026800 WO2022232440A1 (en) 2021-04-28 2022-04-28 Emitter system assembly and method of forming

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2024521624A true JP2024521624A (ja) 2024-06-04

Family

ID=83808612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023566556A Pending JP2024521624A (ja) 2021-04-28 2022-04-28 エミッタシステムアセンブリおよび形成方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20220352417A1 (ja)
EP (1) EP4331015A1 (ja)
JP (1) JP2024521624A (ja)
KR (1) KR20230170074A (ja)
TW (1) TW202305493A (ja)
WO (1) WO2022232440A1 (ja)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6697042B1 (en) * 2000-11-27 2004-02-24 Rainbow Displays, Inc. Backlight assembly for collimated illumination
US7471706B2 (en) * 2006-06-07 2008-12-30 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. High resolution, full color, high brightness fully integrated light emitting devices and displays
WO2012017431A1 (en) * 2010-08-05 2012-02-09 Orbotech Ltd. Lighting system
US20150109675A1 (en) * 2013-10-18 2015-04-23 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Embedded surface diffuser
JP7145073B2 (ja) * 2015-10-21 2022-09-30 プリンストン・オプトロニクス・インコーポレイテッド コード化パターンプロジェクタ
US10276764B2 (en) * 2016-12-21 2019-04-30 Glo Ab Micro-lensed light emitting device
US10989995B2 (en) * 2018-12-24 2021-04-27 Hisense Laser Display Co., Ltd. Laser assembly, laser source and laser projection apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230170074A (ko) 2023-12-18
US20220352417A1 (en) 2022-11-03
EP4331015A1 (en) 2024-03-06
TW202305493A (zh) 2023-02-01
WO2022232440A1 (en) 2022-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7419590B2 (ja) 発光モジュール及び表示装置
JP4173556B2 (ja) 紫外/青色光を可視光に効率良く変換する紫外/青色led―蛍光体装置
JP7249787B2 (ja) 表示素子及び表示装置
CN112991967B (zh) 显示装置
JP2008047906A5 (ja)
JP2008047906A (ja) 放射放出素子
JP7546196B2 (ja) 波長変換素子、蛍光体ホイール、光源装置、及び投写型映像表示装置
TWI779644B (zh) 微型發光二極體裝置的增強色彩轉換及校準
US11005016B2 (en) Apex angle reduction in a LED device with a LED array
WO2019098131A1 (ja) 半導体発光素子および電子機器
US10998387B2 (en) Light emitting device
JP2024521624A (ja) エミッタシステムアセンブリおよび形成方法
JP7049094B2 (ja) ライン光源及びこれを備えた光ラインセンサユニット
CN118176585A (zh) 发射元系统组件及其形成方法
JP7432015B2 (ja) 電子ディスプレイ用の画素構造およびこのようなディスプレイを備える電子デバイス
US20220404618A1 (en) Display systems using light extraction configurations for micro light emitting diodes
TWI762234B (zh) 發光元件及顯示面板
CN113036008B (zh) 发光元件及显示面板
CN117546074A (zh) 使用用于微发光二极管的光提取配置的显示系统