JP2024517178A - Ｃ３炭化水素類及びｃ４炭化水素類を含む流れのアップグレード - Google Patents

Abstract

１，３‐ブタジエン、Ｃ４アセチレン類、及び、任意選択でＣ３炭化水素類を含有する第１流は、水素化Ｃ４アセチレン類を含有する、Ｃ４アセチレン水素化反応器からの液体再循環流の一部、及び、分子状水素含有流と混合され、得られた混合流は、その後、Ｃ４アセチレン水素化反応器に供給されて、相当量の１，３‐ブタジエンを転化することなく、粗ブタジエン流中のＣ４アセチレン類を選択的に水素化する。

Description

発明の詳細な説明

［技術分野］
本発明は、Ｃ_３炭化水素類及びＣ_４炭化水素類を含む流れのアップグレードと、そのようなアップグレードを実施するためのプロセスと、そのようなプロセスを実施するためのシステムと、アップグレードされた生成物と、に関する。アップグレードは、スチームクラッカユニットから得ることができる粗ブタジエン流の水素化処理を含み得る。水素化処理は、例えば粗ブタジエン流中の任意のビニルアセチレン及びエチルアセチレンの少なくとも一部の選択的水素化などの、Ｃ_４アセチレン類の選択的水素化を含み得る。
［背景］
従来のスチームクラッキングプロセスでは、特定の製品仕様を満たすために、例えばビニルアセチレンやエチルアセチレンなどのＣ_４アセチレン類は、脱ブタン塔の塔頂留出物として離脱する粗ブタジエン流から除去される必要があり、粗ブタジエン流は、ほぼ完全にＣ_４炭化水素類の混合物から構成される。

このような粗ブタジエン流からのＣ_４アセチレン類の低減または除去は、水素化反応機器に粗ブタジエン流を送り、そこで主要なＣ_４炭化水素を含有する粗ブタジエン流が選択触媒上で水素化されることで典型的に達成される。

しかしながら、スチームクラッキングプロセスの特定の構成では、脱ブタン塔塔頂留出物としても知られている粗ブタジエン流を形成する脱ブタン塔は、脱プロパン塔の上流に連続して配置されており、その結果、脱ブタン塔塔頂留出物は、Ｃ_４炭化水素類だけではなく、Ｃ_３炭化水素類及びＣ_４炭化水素類の混合物から構成されるようになる。

Ｃ_４範囲の炭化水素類と、Ｃ_３範囲の炭化水素類との両方を含有する流れから、水素化によってＣ_４アセチレン類を選択的に転化しようとする場合、水素化触媒の所望の選択性及び転化率が実現されなくなり、粗ブタジエン流中の不所望の１，３‐ブタジエン分子の水素化に対する選択性が高くなり、かつ／または、所望のＣ_４アセチレン類の水素化に対する選択性が低くなるというリスクがある。

米国特許第４，８３１，２００号は、炭化水素供給物を、好ましくは細流方式で、少なくとも部分的には液相で、パラジウムを基にした触媒上に水素の存在下で通し、続いて、好ましくは約３００ｐｐｍｗから４００ｐｐｍｗのアルキン類を含有する流出物を、少なくとも部分的には液相で、銅を基にした触媒上に水素の存在下で通すことにより、例えば１，３‐ブタジエンに富んだＣ_４留分などのような、アルケンに富んだ炭化水素供給物中のアルキン類を選択的に水素化し、それにより、アルキン濃度を著しく低減した炭化水素生成物を生成することを開示している。換言すると、‘２００号特許は、２つの連続した反応器を、それぞれ異なる触媒とともに使用することを必要とする。

さらに、米国特許第５，８７７，３６３号は、（１）ビニルアセチレン及び１，２‐ブタジエンの一部を選択的に水素化するための蒸留構造物として製造される白金、パラジウムまたはロジウムにより特徴づけられるタイプの水素化触媒を含む床を収容する蒸留塔反応器に、水素と、ブタン類、ブテン類、ブタジエン類及びビニルアセチレンを始めとするＣ_４炭化水素類を含む炭化水素流とを供給することと、（２）反応混合物を分別蒸留して重質なフラクションを除去すること、及び、Ｃ_４化合物の実質的に全てを含むフラクション塔頂留出物を除去することと、を同時的に行うこと含む、Ｃ_４脂肪族炭化水素流からビニルアセチレン、エチルアセチレン、及び１，２‐ブタジエンを除去するためのプロセスを開示している。

米国特許第４，８３１，２００号及び米国特許第５，８７７，３６３号はともに、Ｃ_４範囲全体の分子を含有する流れが選択触媒上で水素化されるプロセスについて言及している。Ｃ_３アセチレン類も含むＣ_３炭化水素類の存在下でＣ_４アセチレン類を水素化するためのプロセスにする必要があり、そして、選択性の向上を達成する。

したがって、１つの非限定的な実施形態では、Ｃ_４アセチレン類の水素化の選択性及び転化率が実質的に維持されるように、そのような混合炭化水素流中のＣ_４アセチレン類を水素化することが望ましい。

別の非限定的な変形例では、選択性及び／または転化率が高くなるように、そのような混合炭化水素流中のＣ_４アセチレン類を水素化することが、特に望ましい。

さらに異なる非限定的な実施形態では、例えば１，３‐ブタジエン及びプロピレンなどの有用な炭化水素類の水素化を低減しつつ、そのような混合炭化水素流中のＣ_４アセチレン類を水素化することが望ましい。

したがって、そのような炭化水素流中のＣ_４アセチレン類の水素化の改善、及び、それらの改善を実現するためのシステムが必要である。
［概要］
１つの形態において、（ｉ）少なくとも２０重量％のＣ_３炭化水素類と、（ｉｉ）Ｃ_４アセチレン類及び１，３‐ブタジエンを含むＣ_４炭化水素類と、を含む第１流を水素化するためのプロセスが提供される。このプロセスは、分子状水素と第１流とを水素化反応器内で接触させて、第１流のＣ_４アセチレン類の少なくとも一部を水素化し、水素化反応器から導出される第２流を形成することを含み、水素化は、（１）第１流のＣ_４アセチレン類の少なくとも２０重量％と、（２）第１流の１，３‐ブタジエンの８重量％以下、及び／または、第１流のＣ_３炭化水素（オレフィン類＋ジオレフィン類）の２０重量％以下と、を転化する。

他の非限定的な形態は、（ｉ）Ｃ_３炭化水素類と、（ｉｉ）Ｃ_４アセチレン類及び１，３‐ブタジエンを含むＣ_４炭化水素類と、を含む第１流を選択的に水素化するためのプロセスに関する。

別の非限定的な実施形態では、このプロセスは、分子状水素を第１流に導入して水素富化流を形成することと、水素富化流の少なくとも一部を水素化反応器へ導くこととを含む。分子状水素含有流は、少なくとも３５重量％の分子状水素、あるいは、少なくとも９９重量％の分子状水素を有してもよく、別の非限定的な変形例では、実質的に純粋な分子状水素であってもよい。

水素富化流中のＣ_４アセチレン類の少なくとも一部は、水素化反応器内で水素化されて、第２流を形成する。
反応器の入口の温度は、運転の開始から運転の終了までの間、独立して約５０°Ｆ（１０°Ｃ）から約１４０°Ｆ（約６０°Ｃ）の範囲内、あるいは、独立して約７８°Ｆ（２５°Ｃ）から約９５°Ｆ（３５°Ｃ）の範囲内にある。パラメータ範囲に関して本明細書で使用されるように、「独立して」という語句は、許容可能な代替範囲を与えるために、任意の範囲端点が任意の他の範囲端点とともに使用され得ることを意味する。運転温度をより低くすることは、気化を最小限に抑えて、それによって選択性の改善を補助するのに不可欠である。また、温度がより高いと、活性が押し上げられて、ブタジエンの損失が増加し得る。

Ｃ_３炭化水素類及びＣ_４炭化水素類は、液相に維持されるべきである。Ｃ_３及びＣ_４の気化は、反応器の温度を制御するのに使用されない。反応器の全圧力は、少なくとも、水素化中にＣ_３炭化水素類及びＣ_４炭化水素類を液相に維持するのに必要な圧力である。１つの非限定的な実施形態では、圧力は、独立して約３００ｐｓｉａ（約２．１ＭＰａ）から約６００ｐｓｉａ（約４．９ＭＰａ）、あるいは、独立して約３５０ｐｓｉａ（約２．５ＭＰａ）から約４００ｐｓｉａ（２．８ＭＰａ）の範囲である。圧力が高い方が、供給物中の水素溶解度は高くなる。

別の非限定的な変形例では、このプロセスは、水素化反応器から流出物または第２流を導出すること、第２流を冷却すること、及び、冷却された第２流から液体炭化水素を分離することも含む。

分離された液体炭化水素の少なくとも一部は、再循環比（第１流の重量に対する、分離された液体炭化水素の再循環された部分の重量）が、独立して約０から約３、あるいは、独立して約０．９から約１．５の範囲内で、第１流に再循環される。

本明細書の選択的水素化プロセスによって生成された、アップグレードされた水素化処理生成物が、追加的に提供され、アップグレードされた水素化処理生成物は、独立して約０．５重量％から約２重量％の水素化Ｃ_４アセチレン類、あるいは、独立して約０．９重量％から約１．６重量％の水素化Ｃ_４アセチレン類を含む。追加的に、アップグレードされた水素化処理生成物は、独立して約２０重量％から約６０重量％の水素化１，３‐ブタジエン、あるいは、独立して約４０重量％から約５０重量％の水素化１，３‐ブタジエンを有する。アップグレードされた水素化処理生成物は、独立して約２０重量％から約６０重量％の水素化Ｃ_３炭化水素類、あるいは、独立して約４０重量％から約５０重量％の水素化Ｃ_３炭化水素類も有してもよい。

さらに他の形態では、水素化処理生成物が提供され、同様に水素化処理生成物を作る方法も提供される。前述のプロセス及び方法のいずれかを実施するシステムは、本発明の範囲内にある。例えば、エチレンプラントが追加的に提供され、このエチレンプラントは、粗生成物流出物を有するガスクラッカと、粗生成物流出物と流体連通した脱ブタン塔であって、Ｃ_４類が不所望のＣ_４アセチレン類及び所望のブタジエンを含む混合Ｃ_３類及びＣ_４類を収容する脱ブタン塔塔頂還流ドラムを備える、脱ブタン塔と、脱ブタン塔塔頂還流ドラムから熱交換器を通って水素化反応器に至る第１流中の粗ブタジエンと流体連通したポンプと、第１流と流体連通した分子状水素含有流と、熱交換器を通って再循環ドラムへと流出物流を誘導する、水素化反応器からの流出物ラインと、第１流と連通した再循環ラインと、再循環ラインと流体連通した水素化生成物流と、を有する。

Ｃ_３炭化水素類も含有する粗ブタジエン流中のＣ_４アセチレン類を水素化するためのプロセスの、非限定的な実施形態の概略図である。 生成物回収システムにおけるＣ_４アセチレン類反応器の配置を示す、エタンクラッカの概略図である。

［詳細な説明］
１，３‐ブタジエン、プロピレン、及びＣ_４炭化水素類、並びに任意選択でＣ_３炭化水素類を含有する粗ブタジエン流を、Ｃ_４アセチレン水素化反応器に供給する前に、分子状水素含有流と混合することにより、その流れの中の１，３‐ブタジエン及びプロピレンの損失の増加を回避しつつ、その流れの中のＣ_４アセチレン類の水素化に対する選択性を保持できることが発見された。

１つの実施形態では、その流れの中のＣ_４炭化水素類及びＣ_３炭化水素類は、飽和炭化水素類、オレフィン類、ジオレフィン類及びアセチレン類の混合物であってもよい。Ｃ_４アセチレン類及び水素（Ｈ_２）供給物の供給条件例を、運転条件とともに、以下の表Ｙに示す。

その流れの中のＣ_４アセチレン類を水素化するのに有用な水素化触媒は、ビニルアセチレン転化率及び選択性を改善する独自の成分を有するパラジウム担持アルミナ触媒でもよいが、これに限定されない。主反応と、起こる可能性があるが副次的である反応とを以下に示す。重要なプロセスパラメータも以下に示す。
＜主反応＞
ビニルアセチレン（Ｃ_４Ｈ_４）＋Ｈ_２→ブタジエン（Ｃ_４Ｈ_６）
エチルアセチレン（Ｃ_４Ｈ_６）＋Ｈ_２→ブテン（Ｃ_４Ｈ_８）
ブタジエン（Ｃ_４Ｈ_６）＋Ｈ_２→ブテン（Ｃ_４Ｈ_８）
＜起こる可能性があるが副次的である反応＞
メチルアセチレン（Ｃ_３Ｈ_４）＋Ｈ_２→プロピレン（Ｃ_３Ｈ_６）
プロパジエン（Ｃ_３Ｈ_４）＋Ｈ_２→プロピレン（Ｃ_３Ｈ_６）
プロピレン（Ｃ_３Ｈ_６）＋Ｈ_２→プロパン（Ｃ_３Ｈ_８）

複数の炭化水素化合物の混合物を含む粗ブタジエン流に含有されるＣ_４アセチレン類の選択的水素化の特定の形態を図１に概略的に示す。本プロセス及びシステムは、これらの形態に限定されず、本説明は、本プロセス及び／またはシステムのより広い範囲内の他の形態を排除するものとして解釈されるべきではない。

図１を参照すると、１，３‐ブタジエン、プロピレン、及びＣ_３／Ｃ_４炭化水素混合物を含有する混合Ｃ_３／Ｃ_４生成物流１１が、脱ブタン塔塔頂還流ドラム１２からポンプ１４を介して圧送され、１つの非限定的な実施形態において約７５°Ｆから約１００°Ｆ（約１７°Ｃから約３８°Ｃ）の所望の温度まで、第１熱交換器１６内で加熱されることを含む、選択的脱水素化プロセス１０が、概略的に示されている。別の非限定的な実施形態では、本システム及びプロセスの圧力は、選択的水素化反応器２４を通して炭化水素類を液相で維持するのに十分大きくあるべきことが理解され、その圧力は、例えば約３２５ｐｓｉａから３７５ｐｓｉａ（約２．２４ＭＰａから２．５９ＭＰａ）の非限定的範囲内にある。冷たい反応器流出物流１９中の液体から任意の蒸気を分離するのに使用される再循環ドラム１８から離脱する液体再循環流２１の一部は、混合Ｃ_３／Ｃ_４生成物流１１と混ぜ合わせられる。ポンプ２０は、再循環ドラム１８から再循環流２１を引き出す。１つの非限定的な実施形態では、混合Ｃ_３／Ｃ_４生成物流１１に対する再循環流２１の再循環重量比は、約０．７５から約１．５の範囲内であり、反応器運転の開始から終了までに変化することになる。この比は、反応器及びポンプ、交換器のサイズ決定に最適化され得る。

混合Ｃ_３／Ｃ_４生成物流１１及び２１の混合物が加熱された後、分子状水素含有流１３が添加される。この混合反応器供給物流１５は、供給物中の任意のＣ_４アセチレン類を選択的に水素化するのに適した水素化触媒で満たされた選択的水素化反応器２４に供給される。混合反応器供給物流１５は、起動条件または運転終了条件のために、低圧（ＬＰ）流２５によって、第２熱交換器２２内で加熱されてもよい。選択的水素化生成物を含有する温かい反応器流出物流１７は、反応器出口から導出されて冷却された後に、蒸気／液体分離のための再循環ドラム１８へ送られる。ドラム液体の一部である再循環流２１は、混合Ｃ_３／Ｃ_４生成物流１１と混ぜ合わせられるように誘導され、アップグレードされた水素化処理混合Ｃ_３／Ｃ_４生成物を含有するアップグレードされた水素化処理混合Ｃ_３／Ｃ_４生成物２３は、貯蔵及び／またはさらなる処理を施すために、プロセスから導出される。

図２を参照すると、熱分解システム３１へのエタン供給物３０（または、エタン及びプロパンの混合物）を特徴とする、ガスクラッカが示されている。クラッキングされたガス３２は、クエンチ・凝縮物回収システム３３へ進んで、そこで冷却される。冷却されたクラックガス３４は、圧縮・酸性ガス除去・乾燥システム３５に供給される。圧縮された、クラッキングされたガス３６は、脱エタン塔・アセチレン反応器システム３７に供給され、そこでＣ_３成分及び重質な成分３９から、Ｃ_２成分及び軽質な成分３８が分離される。Ｃ_３成分及び重質な成分３９は、価値のある３つの生成物、すなわち、プロピレンに富んだ混合Ｃ_３類生成物４０、粗ブタジエン生成物４１、及び熱分解ガソリン生成物４２を構成する。

粗ブタジエン生成物の生成は、通常、Ｃ_３成分及び重質な成分を脱プロパン塔に供給して、脱プロパン塔の塔底を次に脱ブタン塔に供給し、脱ブタン塔塔頂に混合Ｃ_４類生成物を生成させることになる。脱ブタン塔塔頂留出物は、次に、粗ブタジエン生成物をアップグレードするために備えられたＣ_４アセチレン反応器システム内で処理され得る。それは、アセチレン類を低減または除去することによって、生成物流の市場価値が向上し、または、Ｃ_４アセチレン反応器システムよりもコストが高いブタジエンユニットにおいて節約が可能となり得るからである。しかしながら、Ｃ_４アセチレン反応器システムは、追加のストリッパシステムによって除去される必要があると思われるライトエンド汚染物質を付加する。

図３は、最初にＣ_３成分及び重質な成分を脱ブタン塔４３に供給した後に、塔頂留出物の混合Ｃ_３類及びＣ_４類粗ブタジエン１１をＣ_４アセチレン反応器システム４４に供給するように並び替えた運転を示す。混合Ｃ_３／Ｃ_４生成物流１１は、次に分子状水素含有流１３と反応して、目的の反応を実現する。ライトエンド汚染物質を含有するアップグレードされた水素化処理混合Ｃ_３／Ｃ_４液体２３は、次に、粗ブタジエン４１を脱プロパン塔塔底として分離することになる脱プロパン塔４５に供給されてもよい。これにより、従来の構成で必要なストリッパシステムが不要となる。

再構成されたシステムのさらなる利点は、Ｃ_４アセチレン反応器システム４４がより穏やかな条件で運転されることであり、これによって、上述したように水素化反応の選択性が向上する。

Ｃ_４アセチレン類の転化率は、生成物粗ブタジエン流中のＣ_４アセチレン類の仕様を満たすことを目標とされ得ることが理解される。このことは、水素注入を制御して、Ｃ_４アセチレン類を選択的に水素化することによって、達成される。反応器サイズ、再循環比、圧力及び反応器入口の温度は、Ｃ_４アセチレン類の所望の転化率を達成するか、または超えるように設計されてもよく、かつ、粗ブタジエン流中に存在する１，３‐ブタジエン及びプロピレンの転化率を低減させるか、またはさらに最小化するように設計されてもよい。１つの例示的な実施形態では、所望の連続運転時間は、独立して約２ヶ月から約１２ヶ月、あるいは、独立して約６ヶ月から約９ヶ月の範囲内であってもよく、かつ、空間速度（ＬＨＳＶ）の範囲は、独立して４から約２０、あるいは、独立して約８から約１６の範囲内であってもよい。

例えばメチルアセチレン及びプロパジエンなどのＣ_３アセチレン類の任意の水素化は、本プロセスにおいて意図されていないものの、有益であることも理解されよう。

本明細書に記載のプロセス及びシステムは、Ｃ_４アセチレン類の水素化の選択性及び転化率を実質的に維持するように混合炭化水素流中のＣ_４アセチレン類を水素化することと、選択性及び／または転化率が高まるように混合炭化水素流中のＣ_４アセチレン類を水素化することと、例えば１，３‐ブタジエン及びプロピレンなどの有用な炭化水素類の水素化を低減しつつ混合炭化水素流中のＣ_４アセチレン類を水素化することと、を含むが、必ずしもこれらに限定されない、種々の目標を達成し得る。本明細書に記載のプロセス及びシステムは、これらの目標のうち、例えばＣ_４流を有する混合Ｃ_３／Ｃ_４流中のＣ_４アセチレン類の選択性及び転化率を実質的に達成することなどの、１つの目標だけが達成される場合でも、効果的であり、成功とみなされる。本プロセス及びシステムは、１つ以上の他の目標がさらに達成される場合に、さらにより効果的であるとみなされ得る。

前述の明細書では、本発明は、その特定の実施形態を参照して説明されてきた。しかしながら、本明細書は、限定的な意味ではなく例示的な意味としてみなされるべきである。例えば、特許請求されたか、または、開示されたパラメータの範囲内にあるが、具体的に特定されていないか、または、特定の例において試行されていない、炭化水素類、触媒、水素化反応条件及び水素化反応装置、並びに、種々の流れの成分及び条件は、本発明の範囲内である。

本発明は、開示されていない特徴が存在していない状態で実施されてもよい。さらに、本発明は、開示された要素を適切に備えてもよいし、これらからなっていてもよいし、これらから本質的になっていてもよい。例えば、本プロセスは、１，３‐ブタジエン、プロピレン、及び、他のＣ_４炭化水素類及びＣ_３炭化水素類を含む粗ブタジエン流を、水素化Ｃ_４アセチレン類を含有する液体再循環流の一部、及び、分子状水素含有流と接触させて、混合供給物流を形成することと、混合供給物流を水素化反応器へ送って、混合供給物流中のＣ_４アセチレンを水素化し、水素化Ｃ_４アセチレン類を含有する流出物流を形成することと、流出物流を蒸気‐液体分離のためのドラムに送って、水素化Ｃ_４アセチレン類を含有する液体流から任意の蒸気を分離することと、を備えてもよいし、これらからなっていてもよいし、これらから本質的になっていてもよい。

特許請求の範囲全体を通して使用される「備えている」及び「備える」という語句はそれぞれ、「含んでいるが、それに限定されない」及び「を含むが、それに限定されない」を意味すると解釈される。

本明細書で使用される範囲では、「実質的に」という語句は、「指定されたものの大部分であるが、全てではない」ことを意味するものとする。

本明細書で使用されるような、「１つの」及び「その」といった単数形は、文脈に明示されていない限り、複数形も含むことが意図されている。

本明細書で使用される範囲において、所与のパラメータに関連する「約」という語は、記載された値を含むとともに、文脈により定められる意味を有する（例えば、所与のパラメータの測定に関連する誤差の程度を含む）。

本明細書で使用される範囲において、「及び／または」という語は、１つ以上の関連する列挙された項目のいずれか及び全ての組合せを含む。

Claims (19)

1. 選択的水素化プロセスであって、
   （ａ）水素化Ｃ_４アセチレン類を含有する液体流の再循環部を有する炭化水素化合物を含む第１流と、（ｂ）分子状水素含有流と、を接触させて、
   （ｉ）１つ以上のＣ_３炭化水素化合物と、
   （ｉｉ）Ｃ_４アセチレン類及び１，３‐ブタジエンを含む、Ｃ_４炭化水素化合物と、
   を含む、混合供給物流を形成することと、
   前記混合供給物流を水素化反応器へ送って、前記Ｃ_４アセチレン類の少なくとも一部を水素化し、水素化Ｃ_４アセチレン類を含有する流出物流を形成することと、
   前記流出物流から前記液体流を分離することと、
   前記液体流から前記再循環部を除去することと、
   を備える、選択的水素化プロセス。
2. 請求項１に記載の選択的水素化プロセスであって、
   前記第１流は、少なくとも１つのＣ_３炭化水素化合物を追加的に含む、選択的水素化プロセス。
3. 請求項１に記載の選択的水素化プロセスであって、
   前記混合供給物流は、プロピレンを追加的に含む、選択的水素化プロセス。
4. 請求項１に記載の選択的水素化プロセスであって、
   前記Ｃ_４アセチレン類の少なくとも一部の前記水素化は、前記炭化水素類を液相で維持するのに十分大きい圧力で行われる、選択的水素化プロセス。
5. 請求項４に記載の選択的水素化プロセスであって、
   前記圧力は、約３２０ｐｓｉａ（約２．２ＭＰａ）から約５６５ｐｓｉａ（約３．９ＭＰａ）の範囲である、選択的水素化プロセス。
6. 請求項１に記載の選択的水素化プロセスであって、
   前記水素化反応器は、入口を有し、
   前記入口の前記温度は、約８０°Ｆ（２７°Ｃ）から約１２２°Ｆ（約５０°Ｃ）の範囲である、選択的水素化プロセス。
7. 請求項１に記載の選択的水素化プロセスであって、
   前記水素化は、
   （１）前記第１流のＣ_４アセチレン類の少なくとも４５重量％と、
   （２）前記第１流の１，３‐ブタジエンの少なくとも１０重量％と、前記第１流のＣ_３炭化水素の１０重量％以下と、それらの組み合わせとからなる群から選択される追加的な転化と、
   を転化する、選択的水素化プロセス。
8. 請求項１に記載の選択的水素化プロセスであって、
   前記第１流の重量に対する、前記分離された液体炭化水素の前記再循環された部分の重量の再循環比は、約０．７５から約１．５の範囲である、選択的水素化プロセス。
9. 請求項１に記載の選択的水素化プロセスによって生成される、アップグレードされた水素化処理生成物であって、
   約０．５重量％から約１．０重量％の水素化Ｃ_４アセチレン類と、
   約８重量％から約３７重量％の水素化１，３‐ブタジエンと、
   を含む、アップグレードされた水素化処理生成物。
10. 選択的水素化システムであって、
    粗ブタジエンを収容する脱ブタン塔塔頂還流ドラムと、
    前記脱ブタン塔塔頂還流ドラムから熱交換器を通って水素化反応器に至る第１流中の粗ブタジエンと流体連通したポンプと、
    前記第１流と流体連通した分子状水素含有流と、
    前記熱交換器を通って再循環ドラムに至らせるように流出物流を誘導する、前記水素化反応器からの流出物ラインと、
    前記第１流と連通した再循環ラインと、
    前記再循環ラインと流体連通した水素化生成物流と、
    を備える、選択的水素化システム。
11. 請求項１０に記載の選択的水素化システムであって、
    前記第１流は、少なくとも１つのＣ_３炭化水素化合物を追加的に含む、選択的水素化システム。
12. 請求項１０に記載の選択的水素化システムであって、
    前記熱交換器は、第１熱交換器であり、
    前記選択的水素化システムは、さらに、前記第１熱交換器と前記水素化反応器との間の前記第１流中に第２熱交換器を備える、選択的水素化システム。
13. 請求項１２に記載の選択的水素化システムであって、
    前記第２熱交換器は、低圧流を受容して、前記第１流を加熱するように構成される、選択的水素化システム。
14. 請求項１０に記載の選択的水素化システムであって、
    前記脱ブタン塔は、脱プロパン塔の上流である、選択的水素化システム。
15. エチレンプラントであって、
    粗生成物流出物を含むガスクラッカと
    前記粗生成物流出物と流体連通した脱ブタン塔であって、Ｃ_４類が不所望のＣ_４アセチレン類及び所望のブタジエンを含む混合Ｃ_３類及びＣ_４類を収容する脱ブタン塔塔頂還流ドラムを備える、脱ブタン塔と、
    前記脱ブタン塔塔頂還流ドラムから熱交換器を通って水素化反応器に至る第１流中の粗ブタジエンと流体連通したポンプと、
    前記第１流と流体連通した分子状水素含有流と、
    前記熱交換器を通って再循環ドラムに至らせるように流出物流を誘導する、前記水素化反応器からの流出物ラインと、
    前記第１流と連通した再循環ラインと、
    前記再循環ラインと流体連通した水素化生成物流と、
    を備える、エチレンプラント。
16. 請求項１５に記載のエチレンプラントであって、
    前記第１流は、少なくとも１つのＣ_３炭化水素化合物を追加的に含む、エチレンプラント。
17. 請求項１５に記載のエチレンプラントであって、
    前記熱交換器は、第１熱交換器であり、
    前記選択的水素化システムは、さらに、前記第１熱交換器と前記水素化反応器との間の前記第１流中に第２熱交換器を備える、エチレンプラント。
18. 請求項１７に記載のエチレンプラントであって、
    前記第２熱交換器は、低圧流を受容して、前記第１流を加熱するように構成される、エチレンプラント。
19. 請求項１５に記載のエチレンプラントであって、
    前記脱ブタン塔は、脱プロパン塔の上流である、エチレンプラント。

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