JP2024517179A - 炭化水素流中のアセチレンの水素化 - Google Patents

Abstract

炭化水素流の処理をより経済的にするために、脱ブタン塔が脱プロパン塔の上流に配置されるスチームクラッカユニットにおいて生成される炭化水素流中に含まれるＣ３及びＣ４アセチレンを水素化して、軽質炭化水素を生成するためのシステムであって、このシステムは、残留水素を除去するために、水素化の下流にストリッパ塔を１つのみ必要とする。

Description

発明の詳細な説明

［技術分野］
本発明は、スチームクラッキングプロセスにおいて処理される炭化水素流中に含まれる、例えばビニル及びエチルアセチレンなどのＣ_４アセチレン、及び、例えばメチルアセチレン及びプロパジエンなどのＣ_３アセチレンの水素化のためのシステムに関し、より具体的には、それぞれのアセチレンに関する生成物の仕様を満たすために必要とされる、そのようなスチームクラッキングプロセスに関する。
［背景］
軽質炭化水素を生成するための従来のスチームクラッキングプロセスにおいて、Ｃ_３アセチレンリッチ炭化水素流をＣ_４アセチレンリッチ炭化水素流から分離する脱プロパン塔は、脱ブタン塔より上流に配置される。脱プロパン塔を出たＣ_４アセチレンリッチ炭化水素流は、Ｃ_４アセチレンリッチ炭化水素が、Ｃ_５－Ｃ_１０を含有する熱分解ガス流から分離される脱ブタン塔に送られる。脱ブタン塔のＣ_４アセチレンリッチ炭化水素塔頂部は、その後、それが選択的触媒上で水素化される水素化反応器に送られる。脱プロパン塔のＣ_３アセチレンリッチ炭化水素塔頂部は、Ｃ_３アセチレンリッチ炭化水素流を選択的に水素化するために、個別の水素化反応器に独立して送られる。

この典型的な設計において、２つの個別の安定化／ストリッパカラムが、１つはＣ_３水素化反応器生成物流から残留する未反応Ｈ_２（水素）を放出するため、１つはＣ_４水素化反応器生成物流から残留する未反応Ｈ_２（水素）を放出するために必要とされる。

１つの先行プロセスが、Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐａｔｅｎｔｓ Ｉｎｃ．に対する米国特許第５，０９０，９７７号に見られ、この米国特許は、プロパン、ブタン及びブテンを除外したプロピレンを優先的に製造する、重質原料のクラッキングされたガスを処理するためのプロセスシーケンスを開示している。そのプロセスは、資本及び運転コストの付随する節約を伴い、脱プロパン塔の必要性を排除する。従来のＣ３スプリッタの代わりに、プロセスは、プロピレンをプロパン、ブタン及びブテンから分離するように設計される脱プロピレン塔、つまり蒸留塔を特徴とする。汚染物質を除去するための水素化ユニットは、脱プロピレン塔の上流に配置することができ、または脱プロピレン塔は、２つの部分の間に位置する水素化ユニットで２つの部分に分割することができる。

石油化学製品の効率的な製造を最大化するためのガスオイル及び軽質オレフィンの触媒クラッキングゾーンと、熱分解クラッキングゾーンとの統合は、Ｋｅｌｌｏｇｇ，Ｂｒｏｗｎ ＆ Ｒｏｏｔ ＬＬＣに対する米国特許第７，１２８，８２７号に開示されている。ユニットの並列の統合は、様々な供給物流及びリサイクル流を適切なクラッキングゾーンへ、例えば、エタン／プロパンをスチーム熱分解ゾーンへ、またＣ_４Ｃ_６オレフィンを軽質オレフィンクラッキングゾーンへルーティングすることによって、最大のエチレン及び／またはプロピレンを含む総合的な生成物流の製造を可能にする。この統合は、統合されたユニットによってもたらされる物質収支の値を高める。

さらに、Ｋｅｌｌｏｇｇ，Ｂｒｏｗｎ ＆ Ｒｏｏｔ ＬＬＣに対する米国特許第７，２９４，７４９号は、低圧オレフィン回収プロセス及びプラントを記載している。供給ガス３００は、一次蒸留圧力で圧縮され３０２，３０４、蒸留される３１０。塔頂流３１２は、部分的に塔頂部を凝縮するために、３０ｋｇ／ｃｍ^２（４３０ｐｓｉａ）より低い圧力で冷却される３１８。一次蒸留塔３１０は、凝縮物３２０の少なくとも一部で還流される。塔頂蒸気はさらに冷却されて３１８、部分的に凝縮され、凝縮物３２２は、脱メタン塔３２４に供給される。残りの蒸気３２６は、低温セクション３２８で冷却され、結果として得られる液体は、相分離され３３０、そして膨張されて３３１，３３４、低温セクションを冷却する。低温セクションからの膨張蒸気３３２は、プロセスガス圧縮機へ再循環される。一次蒸留ゾーン及び脱メタン塔からの塔底流３３８，３４２は、本質的に、エチレン３５６、エタン３５８、プロピレン３６４、プロパン３６６、Ｃ_４’ｓ３４６、及びＣ_５＋３４８からなるそれぞれの流に分画される。

しかしながら、アセチレンを水素化するためのシステムが、この２つの安定化／ストリッパカラムの設計を有するスチームクラッキングユニットの構築には莫大な資本コスト及び維持費がかかり、このことは、オイル及びガス精製のためのシステムの構築に経済的な障壁を生じ得る。

それゆえに、軽質炭化水素の製造、具体的には、炭化水素流中のアセチレンの水素化に関連する資本コストを低減する必要がある。
［概要］
１つの非限定的な実施形態では、炭化水素流中のアセチレンを水素化するためのシステムが提供され、このシステムは、脱プロパン塔と、脱ブタン塔と、Ｃ_４アセチレン水素化反応器と、Ｃ_３アセチレン水素化反応器と、ストリッパカラムと、を備え、脱プロパン塔は、脱ブタン塔の下流に位置する。異なる非限定的な態様では、ストリッパカラムに加えて、粗ブタジエン流から残留する未反応Ｈ_２を放出するためのストリッピングカラムが存在しない。

別の非限定的な実施形態では、Ｃ_３－Ｃ_１０炭化水素流を脱ブタン塔に誘導することと、Ｃ_４アセチレン水素化反応器において、凝縮されたＣ_３－Ｃ_４塔頂流中のＣ_４アセチレンを選択的に水素化して、反応器出口流をもたらすことと、反応器出口流を、脱ブタン塔より下流の脱プロパン塔へ誘導することと、メチルアセチレン及びプロパジエンを含むＣ_３混合物を収容する脱プロパン塔から塔頂流を取り出すことと、粗Ｃ_４混合物を収容する脱プロパン塔から塔底流を取り出すことと、Ｃ_３混合物を、メチルアセチレン及びプロパジエン（ＭＡＰＤ）反応器へ誘導してメチルアセチレン及びプロパジエンを選択的に水素化し、粗プロピレン流をもたらすことと、粗プロピレン流をストリッパカラムへ誘導することと、を含むアセチレンの選択的水素化のためのプロセスが提供される。異なる非限定的な態様では、ストリッパカラムは、唯一のストリッパカラムであり、Ｃ_４アセチレン水素化反応器の下流にストリッパカラムは存在しない。

異なる非限定的な実施形態では、炭化水素流中のアセチレンを水素化するためのシステムを備えるエチレンプラントが提供され、このシステムは、脱プロパン塔と、脱ブタン塔と、Ｃ４アセチレン水素化反応器と、Ｃ３アセチレン水素化反応器と、ストリッパカラムと、を備え、脱プロパン塔は、脱ブタン塔の下流に位置する。エチレンプラントの異なる非限定的な態様では、ストリッパカラムに加えて、粗ブタジエン流から残留する未反応Ｈ_２を放出するためのストリッピングカラムが存在しない。

独立して約０．５から約２重量％の水素化されたＣ_４アセチレン、あるいは、独立して約０．９から約１．６重量％の水素化されたＣ_４アセチレンを含む、本明細書の選択的水素化プロセスによって製造されるアップグレードされた水素化処理生成物がさらに提供される。さらに、アップグレードされた水素化処理生成物は、独立して約２０重量％から約６０重量％の水素化された１，３－ブタジエン、あるいは、独立して約４０から約５０重量％の水素化された１，３－ブタジエンを有する。アップグレードされた水素化処理生成物はまた、独立して約２０重量％から約６０重量％の水素化されたＣ_３炭化水素、あるいは、独立して約４０重量％から約５０重量％の水素化されたＣ_３炭化水素を有してもよい。

［詳細な説明］
脱ブタン塔が脱プロパン塔よりも上流に位置するスチームクラッカにおいてアセチレンを水素化するためのシステムを備えることが、粗ブタジエン及び粗プロピレン生成物流に存在する残留する未反応Ｈ_２（水素）を放出するための２つの個別の安定化／ストリッピングカラムの必要性を排除し得ることが見出された。換言すれば、本システム及びプロセスは、脱プロパン塔と脱ブタン塔との順番を交換し、脱ブタン塔が最初に来て、脱プロパン塔が脱ブタン塔の下流に配置される。これは、Ｃ_４アセチレン（ビニルアセチレン、エチルアセチレン）とＣ_３アセチレン（メチルアセチレン、プロパジエン）との両方が、それぞれのアセチレンに関して粗ブタジエン及び粗プロピレン生成物の仕様を満たすように水素化される必要があるために行われる。上述のように、このことは、従来の順番においては、水素化反応器内の残留する未反応の水素を放出するために、１つは粗ブタジエンのためであり、１つは粗プロピレンのためである、２つの個別の安定化カラムを必要とする。これらの２つの個別のカラムは、プロジェクトの資本コストを増大させる。それゆえに、このシステム及びプロセスは、１つの塔を省くことになり、それが著しいコスト削減となる。

ガスクラッカは通常、熱分解システムへのエタン供給物（またはエタン及びプロパンの混合物）を含む。クラッキングされたガスは、当該クラッキングされたガスが冷却されるクエンチ・凝縮物回収システムへ移動する。冷却されたクラックガスは、圧縮・酸性ガス除去・乾燥システムに送り込まれる。圧縮された、クラッキングされたガスは、Ｃ_２及び軽質成分がＣ_３及び重質成分から分離される脱エタン塔・アセチレン反応器システムに送り込まれる。Ｃ_３及び重質成分は、価値のある３つの生成物、つまりプロピレンリッチ混合Ｃ_３生成物、粗ブタジエン生成物、及び熱分解ガソリン生成物を作り出す。

粗ブタジエン生成物を製造することは、通常、Ｃ_３及び重質成分を脱プロパン塔に送り込み、その後その塔底部を脱ブタン塔に送り込み、脱ブタン塔の塔頂に混合Ｃ_４生成物を製造することになるであろう。脱ブタン塔の塔頂部は、その後、粗ブタジエン生成物をアップグレードするために設けられるＣ_４アセチレン反応器システムにおいて、アセチレンの削減または排除が、生成物流の市場価値を向上させ得るように、または、それが、Ｃ_４アセチレン反応器システムのコストを上回るブタジエンユニットにおける節約をもたらし得るように処理され得る。しかしながら、Ｃ_４アセチレン反応器システムは、さらなるストリッパシステムによって除去される必要があろうライトエンド汚染物質をもたらす。

スチームクラッカユニット流において処理されている炭化水素流に含まれるＣ_３及びＣ_４アセチレンの水素化は、１つの非限定的な実施形態において、図１に示されるシステムによって、また、本明細書に記載されるプロセスによって達成されてもよい。

図１及び炭化水素流中のアセチレンを水素化するための全体のシステム１０を参照すると、脱ブタン塔１２は、Ｃ_３－Ｃ_１０の範囲の炭化水素１４の混合物を含む供給物を受け入れる。１つの実施形態において、流中のＣ_４及びＣ_３炭化水素は、飽和、オレフィン、ジオレフィン、及びアセチレンの混合物であってもよい。Ｃ_４アセチレン及び水素（Ｈ_２）供給物の供給条件例が、運転条件と共に以下の表Ｙに与えられている。

脱ブタン塔塔頂流１６は、Ｃ_３及びＣ_４炭化水素の混合物であり、一方、脱ブタン塔塔底流１８は、Ｃ_５－Ｃ_１０炭化水素を含む熱分解ガソリン生成物流である。脱ブタン塔１２の圧力及び温度は、脱ブタン塔塔頂流１６中の炭化水素が、利用可能な安価な冷媒を用いて凝縮され得る方法で設定されるべきであると理解されよう。１つの非限定的な実施形態では、炭化水素は、約５０ｐｓｉｇ（０．３ＭＰａ）の圧力で凝縮される。この圧力で凝縮される場合、脱ブタン塔塔頂流１６は、Ｃ_３及びＣ_４炭化水素の混合物を含むので、冷媒１９が脱ブタン塔凝縮器２１において用いられてもよく、また脱ブタン塔塔頂流１６の温度は、従来の温度１００°Ｆ（約３８°Ｃ）に対して約４０から５０°Ｆ（約４から１０°Ｃ）の範囲であってもよいことが理解されよう。冷媒１９は、スチームクラッカからのプロピレン流（図示せず）であってもよい。

図１を引き続き参照すると、飽和、オレフィン、及び／またはジオレフィンの形態のＣ_３及びＣ_４炭化水素の混合物である脱ブタン塔塔頂流１６は、脱ブタン塔還流ドラム２０を通って誘導された後、Ｃ_４アセチレンが選択的に水素化されるＣ_４アセチレン選択的水素化反応器２２に圧送される。１つの非限定的な実施形態では、脱ブタン塔塔頂流１６中のＣ_３炭化水素の割合は、少なくとも２０重量％のＣ_３炭化水素であり、Ｃ_４炭化水素は、Ｃ_４アセチレン及び１，３－ブタジエンを含む。Ｃ_４アセチレン選択的水素化反応器２２の前に導入される分子状水素含有流（図示せず）は、少なくとも３５重量％の分子状水素、あるいは、少なくとも９９重量％の分子状水素を有してもよく、別の非限定的な変形例では、実質的に純粋な分子状水素であってもよい。

Ｃ_４アセチレン選択的水素化反応器２２の入口の温度は、運転開始から運転終了まで、独立して約５０°Ｆ（１０°Ｃ）から約１４０°Ｆ（約６０°Ｃ）の範囲内にあり、あるいは、独立して約７８°Ｆ（２５°Ｃ）から約９５°Ｆ（３５°Ｃ）の範囲内にある。パラメータの範囲に関して本明細書にて用いられるように、「独立して」という語句は、許容可能な代替範囲を与えるために、あらゆる範囲端点が、あらゆる他の範囲端点と共に用いられてもよいことを意味する。

Ｃ_３及びＣ_４炭化水素は、約９９パーセントが液相であるべきである。Ｃ_３及びＣ_４の蒸発は、反応器の温度を制御するために用いられない。反応器２２の全圧は、水素化の間、Ｃ_３及びＣ_４炭化水素を液相に維持するのに少なくとも必要とされる圧力である。１つの非限定的な実施形態では、圧力は、独立して約３００ｐｓｉａ（約２．１ＭＰａ）から約６００ｐｓｉａ（約４．９ＭＰａ）、あるいは、独立して約３５０ｐｓｉａ（約２．５ＭＰａ）から約４００ｐｓｉａ（２．８ＭＰａ）に及ぶ。より高い圧力は、供給物中の水素の溶解度にとってより好ましく、Ｃ_４アセチレン選択的水素化反応器２２を通して炭化水素を液相に維持するのに十分に高くされるべきである。

１つの実施形態では、Ｃ_４アセチレンコンバータの出口成分は、以下のとおりである。

選択的水素化は、触媒固定床上でＣ_４アセチレンを選択的に水素化するためにＨ_２の制御された注入によって実行される。反応器の廃液からの未反応Ｈ_２は、分離用ドラムにおける冷却及び分離後、クラッキングされたガス圧縮機吸入へ送られる。

Ｃ_４アセチレン選択的水素化反応器２２のアップグレードされたＣ_３及びＣ_４出口流２４は、脱プロパン塔２６に送られ、脱プロパン塔２６は、塔底粗ブタジエン生成物流２８を、最終的な脱プロパン塔塔頂流３０から分離する。脱プロパン塔塔底流は、塔底粗ブタジエン生成物流２８であり、一方、最終的な脱プロパン塔塔頂流３０は、Ｃ_３炭化水素の混合物であり、最終的な脱プロパン塔塔頂流３０は、脱プロパン塔凝縮器４２を通される。最終的な脱プロパン塔塔頂流３０は、その後、脱プロパン塔還流ドラム４４から、限定されるものではないが、例えばメチルアセチレン及びプロパジエンなどのＣ_３アセチレンを選択的に水素化するために、ＭＡＰＤ（メチルアセチレン及びプロパジエン）反応器３２へ圧送される。ＭＡＰＤ反応器３２におけるＣ_３アセチレンの選択的水素化の後、ＭＡＰＤ反応器３２から出たアップグレードされた混合Ｃ_３炭化水素流３４は、未反応Ｈ_２及び軽質３８（典型的には、メタン及び微量のＣ_２を含む）が放出されるＣ_３ストリッパカラム３６へ進み、プロピレン生成物４０が、Ｃ_３ストリッパカラム３６から側留として、１つの形態で取り出される。この非限定的な実施形態では、脱プロパン塔２６が、軽質炭化水素を流中のＣ_４炭化水素から分離するように機能するので、脱プロパン塔２６の塔底から出た粗ブタジエン生成物流２８が、残留する未反応Ｈ_２を放出するために個別のストリッピングカラムに送られる必要は無いと理解される。

１つの非限定的な実施形態では、流中の炭化水素、Ｃ_３－Ｃ_１０の範囲の炭化水素１４の混合物を含む供給物は、飽和、オレフィン及びアセチレンの混合物であってもよい。
流中のＣ_４アセチレンを選択的に水素化するのに有用な水素化触媒は、例えばアルミナ担持パラジウムなどのパラジウム系触媒、銅系触媒、ロジウム系触媒、及びその他のそのような金属系の触媒を含んでもよいが、必ずしもこれらに限定されない。流中のＣ_３アセチレンを選択的に水素化するのに有用な水素化触媒は、例えばアルミナ担持パラジウムなどのパラジウム系触媒、銅系触媒、ロジウム系触媒、及びその他のそのような金属系触媒を含んでもよいが、必ずしもこれらに限定されない。

Ｃ_４アセチレンの変換は、粗ブタジエン生成物流中のＣ_４アセチレンの仕様を満たすことを目標とされ得ると理解される。これは、Ｃ_４アセチレンを選択的に水素化するためのＨ_２の制御された注入によって達成される。反応器のサイズ、再循環率、圧力、及び反応器の入口温度は、Ｃ_４アセチレンの所望の変換を達成するか、または超えるように、そして、粗ブタジエン流中に存在する１，３－ブタジエン及びプロピレンの変換を減少させるか、または、最小化さえするように設計されてもよい。１つの例示的な実施形態では、所望の運転時間は、独立して約２か月から約１２か月、あるいは、独立して約６から約９か月の範囲内であってもよく、空間速度（ＬＨＳＶ）の範囲は、独立して４から約２０、あるいは、独立して約８から約１６の範囲内であってもよい。

例えばメチルアセチレン及びプロパジエンなどのＣ_３アセチレンのあらゆる水素化は、このプロセスにおいて、意図されていないけれども有益であると、また理解されよう。
本明細書に記載されたプロセス及びシステムは、
・Ｃ_４アセチレンの水素化のための選択性及び変換を実質的に維持するように混合炭化水素流中のＣ_４アセチレンを水素化することと、
・向上した選択性及び／または変換をもたらすように混合炭化水素流中のＣ_４アセチレンを水素化することと、
・例えば１，３－ブタジエン及びプロピレンなどの価値のある炭化水素の水素化の減少を伴い、混合炭化水素流中のＣ_４アセチレンを水素化することと、
を含むが、これらに限定されない様々な目標を達成してもよい。

本明細書中に記載されたプロセス及びシステムは、例えばＣ_４流と混合されたＣ_３／Ｃ_４流中のＣ_４アセチレンの選択性及び変換を実質的に実現するなどのこれらの目標のうちの１つのみが達成される場合でも、効果的であり、成功であるとみなされる。そのプロセス及びシステムは、１つ以上の他の目標もまた実現される場合に、よりいっそう効果的であるとみなされ得る。

前述の明細書において、本発明は、その特定の実施形態を参照して説明されてきた。しかしながら、本明細書は、限定的というよりはむしろ例示的なものとみなされるべきである。例えば、特定の実施例において具体的に特定されていないか、または試されていないけれども、特許請求されたか、または開示されたパラメータの範囲内にある、水素化反応条件及び装置、脱ブタン塔及び脱プロパン塔条件、触媒、及び、炭化水素及びアセチレン流、水素流の組成及び条件は、本発明の範囲内であると見込まれる。

本発明は、開示されていない要素が存在しない状態で実施されてもよい。加えて、本発明は、開示された要素を適切に備えるか、開示された要素からなるか、または、開示された要素から本質的になっていてもよい。例えば、本システムは、脱プロパン塔と、脱ブタン塔と、Ｃ_４アセチレンリッチ水素化反応器と、メチルアセチレン及びプロパジエン（ＭＡＰＤ）反応器と、ストリッパカラムと、を備えるか、これらからなるか、または、これらから本質的になっていてもよく、脱プロパン塔は、脱ブタン塔の下流に位置する。

別の非限定的な実施形態では、Ｃ_３－Ｃ_１０炭化水素流を脱ブタン塔へ誘導することと、脱ブタン塔Ｃ_３－Ｃ_４塔頂流を凝縮することと、Ｃ_４アセチレン水素化反応器において、凝縮されたＣ_３－Ｃ_４塔頂流中のＣ_４アセチレンを選択的に水素化して、反応器出口流をもたらすことと、脱ブタン塔よりも下流にある脱プロパン塔へ反応器出口流を誘導することと、メチルアセチレン及びプロパジエンを含むＣ_３混合物を収容する脱プロパン塔から塔頂流を取り出すことと、粗Ｃ_４混合物を収容する脱プロパン塔から塔底流を取り出すことと、Ｃ_３混合物をメチルアセチレン及びプロパジエン（ＭＡＰＤ）反応器へ誘導することと、メチルアセチレン及びプロパジエンを選択的に水素化して、粗プロピレン流をもたらすことと、粗プロピレン流をストリッパカラムへ誘導することと、を備えるか、本質的にこれらからなるか、または、これらからなる、アセチレンの選択的水素化のためのプロセスが提供されてもよい。

さらに、独立して約０．５から約２重量％の水素化されたＣ_４アセチレン、あるいは、独立して約０．９から約１．６重量％の水素化されたＣ_４アセチレンを含む、本明細書の選択的水素化プロセスによって製造されるアップグレードされた水素化処理生成物が提供されてもよい。さらに、アップグレードされた水素化処理生成物は、独立して約２０重量％から約６０重量％の水素化された１，３－ブタジエン、あるいは、独立して約４０から約５０重量％の水素化された１，３－ブタジエンを有する。

さらに、別の非限定的な実施形態では、炭化水素流中のアセチレンを水素化するためのシステムを備えるか、本質的にこのシステムからなるか、または、このシステムからなる、エチレンプラントであって、このシステムが、脱プロパン塔と、脱ブタン塔と、Ｃ_４アセチレン水素化反応器と、メチルアセチレン及びプロパジエン（ＭＡＰＤ）反応器と、ストリッパカラムと、を備えるか、本質的にこれらからなるか、または、これらからなり、脱プロパン塔が、脱ブタン塔の下流に位置する、エチレンプラントが提供されてもよい。

特許請求の範囲を通して用いられるような「備えている」及び「備える」という語句はそれぞれ、「含んでいるが、それに限定されない」及び「含むが、それに限定されない」を意味すると解釈される。

本明細書にて用いられる範囲で、「実質的に」という語句は「指定されたものの大部分であるが、全てではない」ことを意味するものとする。
本明細書にて用いられるように、「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」といった単数形は、文脈上明確にそうでないことが示されていない限り、複数形も含むことが意図される。

本明細書にて用いられる範囲で、与えられたパラメータに関連する「約」という語は、明示された値を含み、文脈によって決められる意味を有する（例えば、与えられたパラメータの測定に関連する誤差の程度を含む）。

本明細書にて用いられる範囲で、「及び／または」という語は、１つ以上の列挙された関連する項目のあらゆる及び全ての組合せを含む。

Claims (18)

1. 炭化水素流中のアセチレンを水素化するためのシステムであって、
   脱プロパン塔と、
   脱ブタン塔と、
   Ｃ_４アセチレン水素化反応器と、
   メチルアセチレン及びプロパジエン（ＭＡＰＤ）反応器と、
   ストリッパカラムと、
   を備え、
   前記脱プロパン塔は、前記脱ブタン塔の下流に位置している、システム。
2. 請求項１に記載のシステムであって、
   前記ストリッパカラムは、前記ＭＡＰＤ反応器の下流に位置して、そこからの粗プロピレン流を受け入れ、
   前記ＭＡＰＤ反応器は、前記脱プロパン塔の下流に位置し、
   前記脱プロパン塔は、前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器の下流に位置し、
   前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器は、前記脱ブタン塔の下流に位置する、システム。
3. 請求項１に記載のシステムであって、
   粗ブタジエン生成物流が前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器から流出する、システム。
4. 請求項３に記載のシステムであって、
   前記ストリッパカラムに加えて、前記粗ブタジエン流から残留する未反応Ｈ_２を放出するためのストリッピングカラムが存在しない、システム。
5. 請求項１に記載のシステムであって、さらに、
   前記脱ブタン塔からの脱ブタン塔Ｃ_３－Ｃ_４塔頂流を凝縮するために、前記脱ブタン塔と前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器との間に凝縮器を備える、システム。
6. 請求項５に記載のシステムであって、
   冷媒が前記凝縮器において用いられる、システム。
7. アセチレンの選択的水素化のためのプロセスであって、
   Ｃ_３－Ｃ_１０炭化水素流を脱ブタン塔へ誘導することと、
   脱ブタン塔Ｃ_３－Ｃ_４塔頂流を凝縮することと、
   Ｃ_４アセチレン水素化反応器において、凝縮された前記Ｃ_３－Ｃ_４塔頂流中のＣ_４アセチレンを選択的に水素化し、反応器出口流をもたらすことと、
   前記反応器出口流を前記脱ブタン塔よりも下流の脱プロパン塔へ誘導することと、
   メチルアセチレン及びプロパジエンを含むＣ_３混合物を収容する前記脱プロパン塔から塔頂流を取り出すことと、
   粗Ｃ_４混合物を収容する前記脱プロパン塔から塔底流を取り出すことと、
   前記Ｃ_３混合物をメチルアセチレン及びプロパジエン（ＭＡＰＤ）反応器へ誘導して前記メチルアセチレン及びプロパジエンを選択的に水素化し、粗プロピレン流をもたらすことと、
   前記粗プロピレン流をストリッパカラムへ誘導することと、
   を備える、プロセス。
8. 請求項７に記載のプロセスであって、
   前記ストリッパカラムは、１つだけのストリッパカラムであり、前記粗Ｃ_４混合物の下流にストリッパカラムが存在しない、プロセス。
9. 請求項７に記載のプロセスであって、
   脱ブタン塔Ｃ_３－Ｃ_４塔頂流を凝縮することは、冷媒に対して実施される、プロセス。
10. 請求項７に記載のプロセスであって、
    前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器は、約５０°Ｆ（１０°Ｃ）から約１４０°Ｆ（約６０°Ｃ）の温度、及び、約３００ｐｓｉａ（約２．１ＭＰａ）から約６００ｐｓｉａ（約４．９ＭＰａ）の圧力で運転される、プロセス。
11. 請求項７に記載の選択的水素化プロセスによって生成された、アップグレードされた水素化処理生成物であって、
    約０．５から約２重量％の水素化されたＣ_４アセチレンと、
    約２０から約６０重量％の水素化された１，３－ブタジエンと、
    を含む、アップグレードされた水素化処理生成物。
12. 請求項１１に記載のアップグレードされた水素化処理生成物であって、さらに、
    約２０から約６０重量％の水素化されたＣ_３炭化水素を含む、アップグレードされた水素化処理生成物。
13. エチレンプラントであって、
    炭化水素流中のアセチレンを水素化するためのシステムであって、
    脱プロパン塔と、
    脱ブタン塔と、
    Ｃ_４アセチレン水素化反応器と、
    メチルアセチレン及びプロパジエン（ＭＡＰＤ）反応器と、
    ストリッパカラムと、
    を備えるシステムを備え、
    前記脱プロパン塔は、前記脱ブタン塔の下流に位置している、エチレンプラント。
14. 請求項１３に記載のエチレンプラントであって、
    前記ストリッパカラムは、前記ＭＡＰＤ反応器の下流に位置して、そこからの粗プロピレン流を受け、
    前記ＭＡＰＤ反応器は、前記脱プロパン塔の下流に位置し、
    前記脱プロパン塔は、前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器の下流に位置し、
    前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器は、前記脱ブタン塔の下流に位置する、エチレンプラント。
15. 請求項１３に記載のエチレンプラントであって、
    粗ブタジエン生成物流が前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器から流出する、エチレンプラント。
16. 請求項１５に記載のエチレンプラントであって、
    前記ストリッパカラムに加えて、前記粗ブタジエン流から残留する未反応Ｈ_２を放出するためのストリッピングカラムが存在しない、エチレンプラント。
17. 請求項１３に記載のエチレンプラントであって、さらに、
    前記脱ブタン塔からの脱ブタン塔Ｃ_３－Ｃ_４塔頂流を凝縮するために、前記脱ブタン塔と、前記Ｃ_４アセチレン水素化反応器との間に凝縮器を備える、エチレンプラント。
18. 請求項１７に記載のエチレンプラントであって、
    冷媒が前記凝縮器において用いられる、エチレンプラント。

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