JP2024514321A - 高精度、高帯域幅スイッチング・アッテネータ関連アプリケーション - Google Patents

Abstract

装置は、少なくとも２つの導電パスを有する少なくとも１つの基板と、第１平面に配置された少なくとも２つのコネクタと、少なくとも１つの基板の中の１つの基板と接続され、第１平面と垂直に１つの基板を移動させて、少なくとも２つのコネクタの中の２つコネクタ間に導電性パスを形成する可動ステージとを有する。

Description

本開示は、２０２１年４月８日に出願された米国仮特許出願第６３/１７２,３７５号「高精度、高帯域幅スイッチング・アッテネータ」及び２０２１年６月３日に出願された米国仮特許出願第６３/１９６,３８１号「高精度、高帯域幅スイッチング・アッテネータ」の利益を主張し、その全体が本願に組み込まれる。

本開示は、試験測定システム、特に、試験測定装置又はシステム用のスイッチング・アッテネータに関する。

オシロスコープなどの試験測定装置は、光イーサネット（登録商標）、ワイヤレス及びその他の高速規格に準拠した被試験デバイス（ＤＵＴ）の試験など、様々なアプリケーションで使用される。これらのアプリケーションでは、多くの場合、これらの高精度、広帯域幅の測定装置のダイナミック・レンジを切り替える必要がある。

米国特許公開第２０１１／０１４８４５６号明細書 米国特許公開第２０１０／０１４１３６３号明細書 米国特許公開第２０１１／０１４８５０１号明細書

従来の測定装置では、ユーザが、外部同軸ターミネータ（終端装置）やアッテネータ（減衰器）を手作業で取り付けて、試験手順の様々な工程間でダイナミック・レンジを変更する必要がある。しかし、このような手作業でのユーザの介入は、非効率的でエラーが発生しやすく、これらの試験手順の自動化が非常に複雑になる。

更に、このような外付けターミネータ又はアッテネータを使用すると、ＤＵＴから測定される信号にノイズやタイミング歪みなどのエラーを導入する可能性がある。場合によっては、このようなエラーを校正して修正できる場合もあるが、従来の試験システムでは、そのような修正を適用することも手作業のプロセスである。

開示された技術の実施形態は、従来の試験システムのこれら及び他の欠点に取り組むものである。

図１は、ルーティング・スイッチ装置を含むシステムの一実施形態を示す。 図２は、ルータ装置の一実施形態を示す。 図３は、接触プレートの一実施形態の２つの図を示す。 図４は、様々な位置にあるルータ装置の実施形態の側面図を示す。 図５は、様々な位置にあるルータ装置の実施形態の側面図を示す。 図６は、様々な位置にあるルータ装置の実施形態の側面図を示す。 図７は、同軸コネクタの一実施形態を示す。 図８は、可動ステージを有するルータの一実施形態を示す。 図９は、複数のパス（経路）を有するルーティング基板の一実施形態を示す。 図１０は、プリント回路基板を備えたルータの一実施形態を示す。 図１１は、コネクタ用接点の一実施形態を示す。 図１２は、インタフェース構造を有する固定基板と可動基板とを有するルータの一実施形態を示す。 図１３は、ルータの固定プレート構成要素の一実施形態を示す。 図１４は、固定基板と可動基板とを備えたルータの一実施形態を示す。 図１５は、ルーティング基板の一実施形態を示す。 図１６は、ルーティング基板上の導電パスの一実施形態を示す。 図１７は、ルーティング基板上の導電パスの一実施形態を示す。

本開示の一態様は、業界最高の絶縁、低挿入損失及び低反射を提供するアッテネータ用の小型構造スイッチング機構を含む。本開示の別の態様は、スイッチング機構の状態を監視し、スイッチング機構の特定の位置に基づいて補正を適用することによって、例えば、スイッチング機構の特定の位置によって引き起こされる寄生効果を補正するために、試験システムの応答を自動的に調整する方法及びシステムを含む。本開示技術の実施形態によれば、様々なシグナリング規格に従ったＤＵＴの試験を自動化できる。本開示技術の実施形態によれば、例えば、試験システムが、オン・ザ・フライ（on-the-fly）ダイナミック・レンジ・スイッチングを使用して、ＰＣＩｅ（Peripheral Component Interconnect Express）第７世代又は２５６ＧＢｄイーサネット（登録商標）規格に従って、ＤＵＴを試験し、手作業のアッテネータ調整のために中断することなく、長いサイクル・タイムの試験を実行できる。

本願の実施形態は、少なくとも２つのコネクタ間を、少なくとも２つの異なる導電パスを有するスイッチング基板を移動させる。これらパスは、これらコネクタの中の２つを接続して、それらの間で信号を伝送する。これらパスの１つは、本願で「スルー・パス（through path）」と呼ばれるパスから構成され、これは、これらコネクタの中の１つに入ってくる信号を、別のコネクタに接続し、次いで、このコネクタは、信号を伝送する。典型的には、この接続は、被試験デバイス（ＤＵＴ）とオシロスコープなどの試験測定装置との間で行われる。図１は、これらの装置にスイッチング装置等を採用したシステムの一実施形態を示す。

図１の試験測定システムは、試験測定装置１２と、スイッチ２２とを備えている。試験測定装置１２は、別のコンピューティング・デバイスに接続しても良いし、自己完結型であっても良い。デバイス１２は、複数のコンポーネントを有しても良く、その中のいくつかのみを本願では説明する。装置には、ユーザが、試験パラメータを入力できるようにするディスプレイ（これは、タッチスクリーンでも良い）、様々な操作装置、ノブ、ライトなどから構成されるユーザ・インタフェース１８があり、また、スイッチ２２を操作する能力を有していても良い。試験測定装置１２は、被試験デバイスから受信したデータ、設定、試験プロファイルなどを格納するメモリ１６なども有していても良い。ハードウェア１４は、アナログ・デジタル・コンバータ、アナライザなどの多種多様なハードウェア・コンポーネントを有していても良い。試験測定システムは、また、外部コンピューティング・デバイス２６に接続しても良く、外部コンピューティング・デバイス２６は、受信したデータについての分析の一部又は全部を実行しても良い。

これらの実施形態では、ハードウェア１４は、以下でより詳細に説明するルーティング・パスを変更するためにスイッチのプラッタを移動させるモータ及びコントローラも有していても良い。これに代えて、モータ及びコントローラ機械装置（machinery）２０は、ハードウェア・モジュール１４の外部にあってもよく、試験測定装置１２の外部にあっても良い。ある機械装置は、基板を移動させるための可動ステージを含んでもよく、各ステージがモータを有しても良い。例えば、一実施形態では、それぞれが独自のモータを有する２つのステージが存在しても良い。

ルータ２２は、被試験デバイス（ＤＵＴ）２４と被試験測定装置との間に接続される。図１は、試験測定装置１２の外部にあるルーティング・スイッチ（本願ではルータと呼ぶ）２２を図示しているが、いくつかの実施形態では、ルータ２２が、試験測定装置１２と同じ筐体内にあっても良い。概して、ルータ装置２２によれば、より自動化された方法での高周波信号のルーティング（配信）が可能になり、機械装置においてＳパラメータ補正システムを採用しても良い。この補正システムは、モータ、コントローラ又はその他の位置決めメカニズムの位置を監視して、特定の構成について修正するために、応答を自動的に調整する。現在、ユーザは外部の同軸ターミネータ（終端装置）を手動でインストールする必要があるため、自動試験は非常に複雑である。更に、このアプローチには、いかなる種類の位置修正も含まれていなかった。

上述したように、１つの導電パス（経路）は、スルー・パスであっても良い。別のパスは、「減衰パス」から構成されても良い。典型的には、「アッテネータ（減衰器）」という用語は、信号の強度を低下させる、即ち、無線周波数（ＲＦ）又は他の信号などの信号を減衰させる抵抗の配置を含む。この説明の目的上、「減衰」パスには、ローパス又はバンドパス・フィルタ、連続時間線形等化（ＣＴＬＥ）フィルタ、ＲＦリミッタ、静電放電（ＥＳＤ）保護回路などの構造を形成するための抵抗及びその他の回路要素が含まれる場合がある。このスイッチング装置の別の態様は、後でより詳細に説明する、時間領域反射率測定（time domain reflectometry：ＴＤＲ）機能回路などの、そうでなければ信号パスに寄生成分を追加するであろう回路でスイッチングする能力を含む。

図２は、自動ルーティング機能を有するルータの一実施形態を示す。このルータには、コネクタ３０及び３２がある。コネクタには、ユーザが標準の同軸ケーブルを接続できるようにする同軸端部がある。コネクタの他端には、コネクタ３０について図示した接点（contacts：コンタクト）３２があり、これは、コネクタの同軸端部の中心導体に接続されたばね接点（spring contacts）であっても良い。コネクタ３１には、この図では見えない中心導体がある。これらの接点により、基板３６及び３８は、コネクタに接触する位置に移動可能となる。図２において、第１基板３６には、その接触（コンタクト）プレート５３などと、基板３６の他端部にある他方の接触プレート（この図では見えない）との間に、第１導電パス（この図では見えない）がある。第２基板３８には、接触プレート５０及び５１の間に、別の導電パスがある。導電パスは、図２に示すグラウンド－信号－グラウンド・パス、グラウンド４０、信号４２及びグラウンド４４から構成されても良い。導電パスのこの実施形態は、アッテネータ４６を含み、アッテネータ信号パスを形成する。

接点５０及び５１などにより、これらコネクタ、これらそれぞれのばね接点、基板上の信号導電パス及び接触プレート間に、導電パスを形成できる。図３は、接触プレート５０の一実施形態の２つの図を示す。上側の図は、突出したばね接点５２、５４、５６を示す接触プレートの側面図又は端面図である。下側の図は、接触プレートの上面図であり、２つのグラウンド接点５２及び５４と、中心接点５６と、これを囲む誘電体５８とを示す。

図４～図６は、これらの構造又はこれらに類似する構造を所定の位置に配置した状態で、スイッチ内でこれら基板が異なる位置の間を移動するときの図を示す。この実施形態では、プラッタ（platter：円盤、大皿）３６及び３８の両方が移動する能力を有する。２つの基板３６及び３８が、一体となって上下に移動するように結合されてもよく、可動ステージや他の可動部が、これらが移動する能力を提供しても良い。

図４は、基板３８及び３６の夫々の端部に隣接して配置されたコネクタ３０及び３１の側面図を示す。これらコネクタは、コネクタの中心導体３２及び３３とグラウンド接点とが、図４に示す基板３８の接触プレート５０及び５１、基板３６の接触プレート５３及び５４の対応する構造と整合するように配置される。これら接触プレートは、両方の基板上にある。図４の位置は、コネクタ３０及び３１間に接続が存在しないオープンの位置である。

図５は、上側パス配置におけるスイッチを示す。基板３６は、独立して、又は、基板３８とユニットとして（一体化して）移動して、コネクタ３０及び３１に接触する。コネクタ上の接点３２及び３３と接触プレート５３及び５４との間に接続が生じると、２つのコネクタ間に導電パスが形成される。図６では、下側の基板３８が移動して、接触プレート５０及び５１を用いてコネクタ間に導電パスを形成し、そして、基板３８上に導電パスを形成している。コネクタは、その独自の構造により、これらの接続を可能にする。２つの基板は、１つがアッテネータを有しつつ、１つがスルー・パスであったり、又は、それぞれが異なるアッテネータを有する、など、異なる特性を有する導電パスを与えても良い。

図７は、図４～図６のコネクタ３０などとは異なる構成のコネクタ４８の一実施形態を示している。コネクタ４８には、誘電体５６とグラウンド５７とで囲まれた中心導体５５を有する面部（face portion）がある。この第２の部分４９は、中心導体４７、誘電体５９及び５８などのグラウンド接点のアレイを有するインタフェース・アセンブリである。このインタフェース部４９には、この図では見えない反対側に、同様の構造がある。

図８は、１つの可動基板のみを有するスイッチ装置の一実施形態を示している。ここでは透明で示されているハウジング６０は、様々な導電パスを有する基板６２と、線形又は平行移動ステージ６４とを収容している。このステージは、ｘ-ｙ平面として軸上に示される第１平面内の様々な位置間にプラッタを移動させる。ステージは、通常、この平面の２方向の中のいずれか（この場合は、ｘ-ｙ平面のｘ方向）にのみ移動させる。また、ステージは、プラッタをｘ-ｙ平面に垂直なｚ方向（上下）に移動させる。接触（コンタクト）プレートは、ルーティング基板を良く見ることができるように、図８には示していない。

コネクタ間の接続を形成するために、ステージは、この図面に比較してｚ軸を上方向へと基板６２を移動させて、コネクタの端部を、最も近い基板に接触させる。また、ステージは、プラッタを、ｚ軸を下方向へ移動させ、ｘ軸に沿って（横へと）移動させ、それから、ｚ軸を再度上方向へ移動させて、コネクタ間に様々なパスを形成する。一実施形態では、コネクタ６８及び７０が、試験測定装置の入力コンポーネントに対応しても良い。コネクタ６６は、典型的には、ＤＵＴフィクスチャからのオシロスコープの入力コネクタに対応しても良い。

図９は、図８に示された３つのあり得るパスと、これらに関連する接触プレートに、より近づいて見た図を示す。パス７４は、コネクタ６６とコネクタ６８との間の接続を形成する。この説明では、このパスのようなパスを、減衰の有無に関係なく、互いに１直線上にないコネクタ間の接続を形成することを示すために、「横方向オフセット」パスと呼ぶ。各パスは、コネクタへの接触を提供するために、精密ばね板７２などを有していても良い。図４を再度参照すると、ここにある接触プレートは、コネクタが接触できるように、基板の端部に存在する。可動基板を１つだけ有する実施形態では、コネクタがｘ軸（又はｙ軸）方向に平行移動し、ｚ軸方向に接触プレートへ移動できるため、接点が、端部から離れて存在しても良い。

横方向オフセット・パス７４により、特定の電圧範囲などの特定の目的のために設計されたＴＤＲ（time domain reflectometer：時間領域反射率測定装置）又は特定のＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）へ接続できるようにしても良い。パス７６は、コネクタ６６と７０との間のスルー・パスを提供し、パス７８は、コネクタ６６と７０との間のアッテネータ８０を含む減衰するパスを提供する。アッテネータ・パスには、上述したように、いくつかの機能があっても良く、これには、大きな入力信号を試験測定装置の入力ハードウェアのダイナミック・レンジにより良く整合させるために、信号電圧を下げることが含まれる。基板は、多数の異なるタイプの減衰を含む多種多様なパスを有しても良いが、移動によって、少なくとも２つの導電パスのうちの１つの選択できるようになろう。

図１０は、線形ステージを示し、そのルーティング・プラッタは、その上に構築された精密ばねプレートを有し、オシロスコープへ信号を送信するセラミック基板と係合する。この図では、ハウジング６０は不透明であり、コネクタ６８などは、ルーティング装置の「下」に存在する。

１つの基板のみが移動するいくつかの実施形態では、接触構造は、前の実施形態と異なっていても良い。本実施形態では、可動基板をルーティング（配信）基板と呼ぶこともできる。図１１は、ルーティング基板上に存在しても良い異なるタイプの接点構造の実施形態を示す。図１１は、ルータ内の固定基板上に配置しても良いコネクタ８２の上面図を示す。ばねチップ８４は、コネクタの中心導体と、セラミック基板上のばねプレートとの接続を形成する。グラウンド接点８６などのアレイも、コネクタに存在して、同軸部分のグラウンド編組/グラウンド部（body）/グラウンド接点に接続する。

図１２は、図７と同様に、異なる接触構造を有する可動基板の一実施形態を示す。図１２では、可動基板８８は、第１軸に沿って平行移動し、また、このページに対して相対的に上下に移動する。可動基板８８の下側には、回路部品やその他の構造物が含まれていても良い。インタフェース構造９２は、図７の両面インタフェース部４９に類似していても良く、ケーブル９３と可動基板８８とを接続する。ケーブル９３には、中心導体９５、誘電体９６及びグラウンド９７を有する面９４がある。複数のケーブル９３などがあっても良く、それぞれが可動基板から離れた場所で異なる接続を行う。加えて又はこれに代えて、プラッタは、様々な伝送パスで固定基板９０に接続できるように、その下側に複数のインタフェースを有しても良い。

インタフェース構造９２は、ケーブル上又は可動基板８８上に存在しても良い。同様に、簡単のために図示していないが、追加のインタフェース構造が、可動基板８８上又は固定基板９０上に存在しても良い。この実施形態によれば、ケーブル９３と、固定基板９０上の伝送パス９１との接続が可能になる。この伝送パスは、基板の５０Ωインピーダンスの伝送パスであっても良い。

図１３は、ルータの固定基板１００の一実施形態を示す。固定基板１００は、接触（コンタクト）構造１０２、１０４及び１０６を有する。コンタクタ１０２は、試験測定装置のハードウェアへの入力コネクタであってもよく、集積回路１１２に接続されても良い。コンタクタ１０４は、入力ケーブル１１０に接続される。コンタクタ１０６は、入力ケーブル１０８に接続される。これらは、あり得る接続部の単なる例に過ぎず、特許請求の範囲を限定することを意図したものではない。

図１４は、ルーティング（配信）基板１１４の概要を示している。図示の構成において、導電パスは、接触構造１０６及び１０４を介して、図１３のケーブル１１０から１０８を接続する。図１４に見られるように、可動基板は複数のパスを有する。

図１５は、４つのパスを有するルーティング基板１１４の一実施形態を示す。この実施形態では、パス１１６は、図１３に示す入力接触構造１０２の無いバイパス・ルートを形成する。パス１１８及び１２０は、接触構造１０２及び１０４と、これらに対応するケーブルとの間のストレート接続を形成する。２つのパス１１８及び１２０は、ＣＴＬＥ（continuous time linear equalization：連続時間線形等化処理）パスである。ＣＴＬＥパスは、通常、下向きに傾斜した損失の多い信号パスとマッチングさせた上向きに傾斜した応答を有するフィルタから構成される。パス１２２は、コネクタ間のスルー・パスを形成する。他のタイプの減衰パスとしては、ローパス、バンドパス、フィルタ、ＡＣカップリング、ＲＦリミッタ、ＥＳＤ保護、ＴＤＲ素子などがある。

図１６は、ＴＤＲパスを含むルーティング基板上のルーティング・パスの一実施形態を示す。ポジション１では、試験測定装置は、標準機能で動作し、信号は寄生成分なしでＤＵＴから測定装置に伝達される。ポジション２では、ＴＤＲ信号源を信号パスに切り替える。工場での校正により、抵抗性スプリッタによる入射パスと反射パスの損失を補正できる。抵抗性スプリッタは、他の形式をとっても良いことに注意されたい。ＴＤＲは、従来のタイプの信号で構成されているが、チャープ（chirp）、インパルス、ＡＣ結合ステップなど、あらゆる広帯域信号を使用できる。試験測定装置は、これら信号形状のどれでもＴＤＲ形式の表示に戻すことができる。グラウンド（接地）されたコプレーナ（co-planar）導波路構造では、最適な性能を得るために、結合回路を部分的にボードの背面に配置する必要がある場合がある。これらの非理想的な点のどれもが、校正されても良い。

図１７は、可動基板１３２を有するスイッチング・ルータの別の実施形態を示す。ＤＵＴからの入力信号は、コネクタ１３０を介して接続される。コネクタ１３０からのパスは、次に、試験測定装置の入力ＩＣ１４４に選択的に接続される。この実施形態では、これらパスとしては、減衰パス１３４、スルー・パス１３６、ＴＤＲに使用される信号用のＴＤＲ信号源１４０に接続されたＴＤＲカプラ１３８及び校正信号源１４２を有していても良い。各パスは、可動基板１３２の移動に基づいて形成される

本開示技術の態様は、特別に作成されたハードウェア、ファームウェア、デジタル・シグナル・プロセッサ又はプログラムされた命令に従って動作するプロセッサを含む特別にプログラムされた汎用コンピュータ上で動作できる。本願における「コントローラ」又は「プロセッサ」という用語は、マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ、ＡＳＩＣ及び専用ハードウェア・コントローラ等を意図する。本開示技術の態様は、１つ又は複数のコンピュータ（モニタリング・モジュールを含む）その他のデバイスによって実行される、１つ又は複数のプログラム・モジュールなどのコンピュータ利用可能なデータ及びコンピュータ実行可能な命令で実現できる。概して、プログラム・モジュールとしては、ルーチン、プログラム、オブジェクト、コンポーネント、データ構造などを含み、これらは、コンピュータその他のデバイス内のプロセッサによって実行されると、特定のタスクを実行するか、又は、特定の抽象データ形式を実現する。コンピュータ実行可能命令は、ハードディスク、光ディスク、リムーバブル記憶媒体、ソリッド・ステート・メモリ、ＲＡＭなどのコンピュータ可読記憶媒体に記憶しても良い。当業者には理解されるように、プログラム・モジュールの機能は、様々な実施例において必要に応じて組み合わせられるか又は分散されても良い。更に、こうした機能は、集積回路、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ（ＦＰＧＡ）などのようなファームウェア又はハードウェア同等物において全体又は一部を具体化できる。特定のデータ構造を使用して、本開示技術の１つ以上の態様をより効果的に実施することができ、そのようなデータ構造は、本願に記載されたコンピュータ実行可能命令及びコンピュータ使用可能データの範囲内と考えられる。

開示された態様は、場合によっては、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア又はこれらの任意の組み合わせで実現されても良い。開示された態様は、１つ以上のプロセッサによって読み取られ、実行され得る１つ又は複数のコンピュータ可読媒体によって運搬されるか又は記憶される命令として実現されても良い。そのような命令は、コンピュータ・プログラム・プロダクトと呼ぶことができる。本願で説明するコンピュータ可読媒体は、コンピューティング装置によってアクセス可能な任意の媒体を意味する。限定するものではないが、一例としては、コンピュータ可読媒体は、コンピュータ記憶媒体及び通信媒体を含んでいても良い。

コンピュータ記憶媒体とは、コンピュータ読み取り可能な情報を記憶するために使用することができる任意の媒体を意味する。限定するものではないが、例としては、コンピュータ記憶媒体としては、ランダム・アクセス・メモリ（ＲＡＭ）、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）、電気消去可能プログラマブル読み出し専用メモリ（ＥＥＰＲＯＭ）、フラッシュメモリやその他のメモリ技術、コンパクト・ディスク読み出し専用メモリ（ＣＤ-ＲＯＭ）、ＤＶＤ（Digital Video Disc）やその他の光ディスク記憶装置、磁気カセット、磁気テープ、磁気ディスク記憶装置やその他の磁気記憶装置、及び任意の技術で実装された任意の他の揮発性又は不揮発性の取り外し可能又は取り外し不能の媒体を含んでいても良い。コンピュータ記憶媒体としては、信号そのもの及び信号伝送の一時的な形態は除外される。

通信媒体とは、コンピュータ可読情報の通信に利用できる任意の媒体を意味する。限定するものではないが、例としては、通信媒体には、電気、光、無線周波数（ＲＦ）、赤外線、音又はその他の形式の信号の通信に適した同軸ケーブル、光ファイバ・ケーブル、空気又は任意の他の媒体を含んでも良い。

加えて、本願の説明は、特定の特徴に言及している。本明細書における開示には、これらの特定の特徴の全ての可能な組み合わせが含まれると理解すべきである。ある特定の特徴が特定の態様又は実施例に関連して開示される場合、その特徴は、可能である限り、他の態様及び実施例との関連においても利用できる。

また、本願において、２つ以上の定義されたステップ又は工程を有する方法に言及する場合、これら定義されたステップ又は工程は、状況的にそれらの可能性を排除しない限り、任意の順序で又は同時に実行しても良い。

実施例

以下では、本願で開示される技術の理解に有益な実施例が提示される。この技術の実施形態は、以下で記述する実施例の１つ以上及び任意の組み合わせを含んでいても良い。

実施例１は、装置であって、第１及び第２端部に第１及び第２接点を有する第１基板と、第１及び第２端部に接点を有する第２基板と、同一平面内に配置される少なくとも２つのコネクタであって、少なくとも１つのコネクタは上記第１及び第２基板の上記第１端部に隣接して配置され、少なくとも１つのコネクタは上記第１及び第２基板の上記第２端部に隣接して配置される上記少なくとも２つのコネクタと、上記第１基板に接続され、上記第１基板を移動させ、上記少なくとも２つのコネクタに接触させて第１導電性パスを形成するように動作可能な第１ステージと、上記第２基板に接続され、上記第２基板を移動させ、上記少なくとも２つのコネクタに接触させて第２導電性パスを形成するように動作可能な第２ステージとを具える。

実施例２は、請求項１の装置であって、上記第１及び第２コンタクタ・プレートが、少なくとも２つのばね接点を有し、上記少なくとも２つのばね接点のうちの少なくとも１つが絶縁スリーブを有する。

実施例３は、実施例１及び２のいずれかの装置であって、上記少なくとも２つのコネクタが、絶縁誘電体で囲まれた中心導体ばねと、上記絶縁誘電体内のグラウンド接点アレイと、上記中心導体の周りの同軸コネクタとを有する。

実施例４は、実施例１から３のいずれかの装置であって、上記第１及び第２導電性パスの１つが、スルー・パスから構成される。

実施例５は、実施例４の装置であって、上記スルー・パスが、横方向オフセットを有する。

実施例６は、実施例１から５のいずれかの装置であって、上記第１及び第２導電性パスの少なくとも１つが、アッテネータを含む。

実施例７は、実施例６の装置であって、上記アッテネータが、バンドパス、ローパス及び連続時間線形等化処理（ＣＴＬＥ）のうちの１つから構成されるフィルタを有する。

実施例８は、実施例１から７のいずれかの装置であって、上記第１ステージに接続され、該第１ステージを移動させるように構成された第１モータと、上記第２ステージに接続され、該第２ステージを移動させるように構成された第２モータとを更に有する。

実施例９は、実施例８の装置であって、少なくとも２つのステージのうちの少なくとも１つの位置を監視し、必要に応じて上記位置を調整するＳパラメータ補正システムを更に具える。

実施例１０は、装置であって、少なくとも２つの導電性パスを有する基板と、該基板を収容するハウジングと、グラウンド及びばね接点に接続する接触構造を夫々有し、上記基板の位置に応じて上記導電性パスのうちの少なくとも１つに接続するように配置された上記ハウジング内の複数の同軸コネクタと、上記基板を移動させて上記少なくとも２つの導電性パスのうちの１つの位置を調整し、２つのコネクタ間の接続を形成するように動作可能な電動ステージとを具える。

実施例１１は、実施例１０の装置であって、ステージが移動するように作動させるコントローラを更に具える。

実施例１２は、実施例１０及び１１のいずれかの装置であって、上記少なくとも２つの導電性パスは、３つの導電性パスを含み、これら導電性パスの少なくとも１つの導電性パスは、スルー・パス、減衰パス及び横方向オフセットを有するパスのうちの１つから構成される。

実施例１３は、実施例１０から１２のいずれかの装置であって、上記少なくとも２つの導電性パスは、４つの導電性パスを含み、これら導電性パスの上記導電性パスの少なくとも１つは、スルー・パス、横方向オフセットを有するパス及び減衰パスのうちの１つから構成される。

実施例１４は、実施例１０から１３のいずれかの装置であって、上記少なくとも２つの導電性パスのうちの少なくとも１つは、連続時間線形等化処理（ＣＴＬＥ）パスを含む。

実施例１５は、実施例１０から１４のいずれかの装置であって、上記２つの導電性パスのうちの少なくとも１つは、バンドパス・フィルタ又はローパス・フィルタのうちの１つから構成される。

実施例１６は、実施例１０から１５のいずれかの装置であって、上記２つの導電性パスのうちの少なくとも１つは、時間領域反射率測定装置（time domain reflectometer）を含む。

実施例１７は、実施例１０から１６のいずれかの装置であって、上記接触構造が、誘電体に含まれるグラウンド・ピンのアレイと、ばね接点とを含む。

実施例１８は、実施例１０から１７のいずれかの装置であって、上記電動ステージは、第１平面中の少なくとも１つの軸に沿って、平行移動するように動作可能である。

実施例１９は、実施例１８の装置であって、上記電動ステージは、上記第１平面に対して垂直に移動するように動作可能である。

実施例２０は、実施例１０から１９のいずれかの装置であって、上記基板の位置を監視し、必要に応じて上記位置を調整するＳパラメータ補正システムを更に具える。

実施例２１は、実施例１０から２０のいずれかの装置であって、上記同軸コネクタの少なくとも１つは、中心導体接点、誘電体接点及びグラウンド接点を夫々有する両面構造を含むインタフェース構造を有する。

実施例２２は、装置であって、少なくとも２つの導電パスを有する少なくとも１つの基板と、第１平面に配置された少なくとも２つのコネクタと、上記少なくとも１つの基板の中の１つの基板と接続され、上記第１平面と垂直に上記１つの基板を移動させて、上記少なくとも２つのコネクタの中の２つコネクタ間に導電性パスを形成する可動ステージとを具える。

明細書、特許請求の範囲、要約書及び図面に開示される全ての機能、並びに開示される任意の方法又はプロセスにおける全てのステップは、そのような機能やステップの少なくとも一部が相互に排他的な組み合わせである場合を除いて、任意の組み合わせで組み合わせることができる。明細書、要約書、特許請求の範囲及び図面に開示される機能の夫々は、特に明記されない限り、同じ、等価、又は類似の目的を果たす代替の機能によって置き換えることができる。

説明の都合上、本発明の具体的な実施例を図示し、説明してきたが、本発明の要旨と範囲から離れることなく、種々の変更が可能なことが理解できよう。従って、本発明は、添付の請求項以外では、限定されるべきではない。

Claims (22)

1. 第１及び第２端部に第１及び第２接点を有する第１基板と、
   第１及び第２端部に接点を有する第２基板と、
   同一平面内に配置される少なくとも２つのコネクタであって、少なくとも１つのコネクタは上記第１及び第２基板の上記第１端部に隣接して配置され、少なくとも１つのコネクタは上記第１及び第２基板の上記第２端部に隣接して配置される上記少なくとも２つのコネクタと、
   上記第１基板に接続され、上記第１基板を移動させ、上記少なくとも２つのコネクタに接触させて第１導電性パスを形成するように動作可能な第１ステージと、
   上記第２基板に接続され、上記第２基板を移動させ、上記少なくとも２つのコネクタに接触させて第２導電性パスを形成するように動作可能な第２ステージと
   を具える装置。
2. 上記第１及び第２コンタクタ・プレートが、
   少なくとも２つのばね接点を有し、
   上記少なくとも２つのばね接点のうちの少なくとも１つのばね接点が絶縁スリーブを有する請求項１の装置。
3. 上記少なくとも２つのコネクタが、
   絶縁誘電体で囲まれた中心導体ばねと、
   上記絶縁誘電体内のグラウンド接点アレイと、
   上記中心導体の周りの同軸コネクタと
   を有する請求項１の装置。
4. 上記第１及び第２導電性パスの１つが、スルー・パスから構成される請求項１の装置。
5. 上記スルー・パスが、横方向オフセットを有する請求項４の装置。
6. 上記第１及び第２導電性パスの少なくとも１つが、アッテネータを含む請求項１の装置。
7. 上記アッテネータが、バンドパス、ローパス及び連続時間線形等化処理（ＣＴＬＥ）のうちの１つから構成されるフィルタを有する請求項６の装置。
8. 上記第１ステージに接続され、該第１ステージを移動させるように構成された第１モータと、上記第２ステージに接続され、該第２ステージを移動させるように構成された第２モータとを更に有する請求項１の装置。
9. 少なくとも２つのステージのうちの少なくとも１つの位置を監視し、必要に応じて上記位置を調整するＳパラメータ補正システムを更に具える請求項８の装置。
10. 少なくとも２つの導電性パスを有する基板と、
    該基板を収容するハウジングと、
    グラウンド及びばね接点に接続する接触構造を夫々有し、上記基板の位置に応じて上記導電性パスのうちの少なくとも１つに接続するように配置された、上記ハウジング内の複数の同軸コネクタと、
    上記基板を移動させて上記少なくとも２つの導電性パスのうちの１つの位置を調整し、２つのコネクタ間の接続を形成するように動作可能な電動ステージと
    を具える装置。
11. ステージが移動するように作動させるコントローラを更に具える請求項１０の装置。
12. 上記少なくとも２つの導電性パスは、３つの導電性パスを含み、これら導電性パスの少なくとも１つの導電性パスは、スルー・パス、減衰パス及び横方向オフセットを有するパスのうちの１つから構成される請求項１０の装置。
13. 上記少なくとも２つの導電性パスは、４つの導電性パスを含み、これら導電性パスの上記導電性パスの少なくとも１つは、スルー・パス、横方向オフセットを有するパス及び減衰パスのうちの１つから構成される請求項１０の装置。
14. 上記少なくとも２つの導電性パスのうちの少なくとも１つは、連続時間線形等化処理（ＣＴＬＥ）パスを含む請求項１０の装置。
15. 上記２つの導電性パスのうちの少なくとも１つは、バンドパス・フィルタ又はローパス・フィルタのうちの１つから構成される請求項１０の装置。
16. 実施例１０から１５のいずれかの装置であって、上記２つの導電性パスのうちの少なくとも１つは、時間領域反射率測定装置を含む請求項１０の装置。
17. 上記接触構造が、誘電体に含まれるグラウンド・ピンのアレイと、ばね接点とを含む請求項１０の装置。
18. 上記電動ステージは、第１平面中の少なくとも１つの軸に沿って、平行移動するように動作可能である請求項１０の装置。
19. 上記電動ステージは、上記第１平面に対して垂直に移動するように動作可能である請求項１８の装置。
20. 上記基板の位置を監視し、必要に応じて上記位置を調整するＳパラメータ補正システムを更に具える請求項１０の装置。
21. 上記同軸コネクタの少なくとも１つは、中心導体接点、誘電体接点及びグラウンド接点を夫々有する両面構造を含むインタフェース構造を有する請求項１０の装置。
22. 少なくとも２つの導電パスを有する少なくとも１つの基板と、
    第１平面に配置された少なくとも２つのコネクタと、
    上記少なくとも１つの基板の中の１つの基板と接続され、上記第１平面と垂直に上記１つの基板を移動させて、上記少なくとも２つのコネクタの中の２つコネクタ間に導電性パスを形成する可動ステージと
    を具える装置。

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