JP2024511009A - 多層光学フィルム - Google Patents

Abstract

多層光学フィルムは、複数の光学繰り返し単位を含む。光学繰り返し単位の各々は、それぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有する第１及び第３の層を含む、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の層を含む。光学フィルムは、反射ピーク高さＲｐ１を有する一次反射帯域を有し、任意の二次反射帯域は、反射ピーク高さＲｐ２を有し、Ｒｐ１／Ｒｐ２≧５である。Ｒｐ１／Ｒｐ２は、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを０．２だけ連続的に変化させるとき、５以上を維持してもよい。第２及び第４の層の各々の厚さは、第１及び第３の層の各々の厚さよりも少なくとも２倍小さくてもよく、又は第１及び第３の層の同じ１つの厚さは、他の各層の厚さとは少なくとも２．５倍異なっていてもよい。

Description

多層光学フィルムは、光学繰り返し単位をなすように構成されたポリマー層の積層体を含むことができる。多層光学フィルムは、反射偏光子又はミラーであってもよい。

本明細書は、概して、約６００ｎｍ超又は約７００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有する多層光学フィルムに関する。光学フィルムは、複数の光学繰り返し単位を含むことができ、各光学繰り返し単位が少なくとも４つの個別の層を含む。光学繰り返し単位は、一次反射帯域の二次高調波が抑制されるように構成することができる。

本明細書のいくつかの態様では、複数の光学繰り返し単位を含む多層光学フィルムが提供される。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の数は、合計で約１０超である。光学繰り返し単位の各々は、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含むことができる。光学繰り返し単位の各々について、第１及び第３の個別の層は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有することができ、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光に対して、多層光学フィルムが、約６００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有する。一次反射帯域は、ピーク高さＲｐ１を有する第１の反射ピークを有し、多層光学フィルムの任意の二次反射帯域は、ピーク高さＲｐ２を有する反射ピークを有する。比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、少なくとも５であってもよく、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを０．２だけ連続的に変化させるとき、５以上を維持し得る。いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位の各々について、第２及び第４の個別の層の各々の平均厚さは、第１及び第３の個別の層の各々の平均厚さよりも少なくとも２倍小さい。いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位の各々について第１及び第３の個別の層の同じ１つの平均厚さは、第１～第４の個別の層の他の各層の平均厚さとは少なくとも２．５倍異なる。

本明細書のいくつかの態様では、複数の光学繰り返し単位を含む多層光学フィルムが提供される。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の数は、合計で約１０超である。光学繰り返し単位の各々は、少なくとも４つの個別の層を含む。光学繰り返し単位の各々の少なくとも４つの個別の層の第１及び第２の個別の層は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ２を有する。いくつかの実施形態では、０．５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ２≦０．３であり、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光に対して、多層光学フィルムが、約７００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有し、少なくとも二次反射帯域を有さないようになっている。光学繰り返し単位の各々の少なくとも４つの個別の層の少なくとも第３の層は、約７５ｎｍ未満の平均厚さを有することができる。

これら及び他の態様は、以下の詳細な説明から明らかになるであろう。しかしながら、いかなる場合も、この簡潔な概要は、特許請求の範囲の主題を限定するものと解釈されるべきではない。

いくつかの実施形態による、光学フィルムの概略断面図である。 いくつかの実施形態による、光学フィルムの一部分の概略断面図である。 いくつかの実施形態による、光学フィルムの光学繰り返し単位の概略断面図である。 いくつかの実施形態による、光学フィルムの光学繰り返し単位の概略断面図である。 いくつかの実施形態による、光学フィルムの光学繰り返し単位の概略断面図である。 いくつかの実施形態による、光学フィルムの光学繰り返し単位の概略断面図である。 光学フィルムの例示的な層の概略斜視図である。 いくつかの実施形態による、光学フィルムの光反射率対波長の概略プロットである。 いくつかの実施形態による、光学フィルムの光透過率対波長の概略プロットである。 いくつかの実施形態による、ｆ比の変化に対する一次反射ピークと二次反射ピークとの比の概略プロットである。 第１の例示的な多層光学フィルムの層厚さプロファイルである。 第１の例示的な多層光学フィルムの光透過率のプロットである。 第２の例示的な多層光学フィルムの層厚さプロファイルである。 第２の例示的な多層光学フィルムの光透過率のプロットである。 第１及び第２の例示的な多層光学フィルムに対応する光学フィルムについて、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。 第１及び第２の例示的な多層光学フィルムに対応する光学フィルムについて、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。 第３の例示的な多層光学フィルムの層厚さプロファイルである。 第３の例示的な多層光学フィルムの光透過率のプロットである。 第４の例示的な多層光学フィルムの層厚さプロファイルである。 第４の例示的な多層光学フィルムの光透過率のプロットである。 第３及び第４の例示的な多層光学フィルムに対応する光学フィルムについて、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。 第３及び第４の例示的な多層光学フィルムに対応する光学フィルムについて、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。 第５の例示的な多層光学フィルムの層厚さプロファイルである。 第５の例示的な多層光学フィルムの光透過率のプロットである。 第６の例示的な多層光学フィルムの層厚さプロファイルである。 第６の例示的な多層光学フィルムの光透過率のプロットである。 第５及び第６の例示的な多層光学フィルムに対応する光学フィルムについて、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。 第５及び第６の例示的な多層光学フィルムに対応する光学フィルムについて、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。 層間接着力について多層光学フィルムを試験する概略図である。

以下の説明では、本明細書の一部を構成し、様々な実施形態が実例として示される、添付図面が参照される。図面は、必ずしも正確な比率の縮尺ではない。本開示の範囲又は趣旨から逸脱することなく、他の実施形態が想到され、実施可能である点を理解されたい。したがって、以下の発明を実施するための形態は、限定的な意味では解釈されない。

交互のポリマー層を含む多層光学フィルムは、例えば、米国特許第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）、同第６，１７９，９４８号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）、同第６，７８３，３４９号（Ｎｅａｖｉｎら）、同第６，９６７，７７８号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）、及び同第９，１６２，４０６号（Ｎｅａｖｉｎら）に概して記載されているように、層厚さ及び屈折率差を適切に選択することによって、所望の波長範囲で所望の反射及び透過を提供するために使用することができる。交互のポリマー層は、典型的には、主に光学干渉によって光を透過及び反射する光学層として説明することができる交互の高屈折率層及び低屈折率層を含む。交互の高屈折率層及び低屈折率層を含む多層光学フィルムは複数の光学繰り返し単位を含むものとして説明することができ、各光学繰り返し単位が高屈折率層及び低屈折率層を含む。光学繰り返し単位は、一般的に、光学フィルムの厚さ方向に沿って繰り返す光学層の最小の別個の単位である。各光学繰り返し単位は、例えば、米国特許第５，１０３，３３７号（Ｓｃｈｒｅｎｋら）、同第５，５４０，９７８号（Ｓｃｈｒｅｎｋ）、及び同第６，２０７，２６０号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）に記載されているように、高屈折率層及び低屈折率層に加えて、１つ以上の層を含んでもよい。

場合によっては、光学フィルムが、例えば、約４２０ｎｍ～少なくとも約６００ｎｍの可視波長範囲内の波長に対して高い光透過率を提供しながら、約６００ｎｍ超又は約７００ｎｍ超、場合によっては最大約１３００ｎｍ又は最大約１２００ｎｍの波長に配置された反射帯域を有することが望ましい場合がある。このような光学フィルムは、例えば、赤外線加熱を低減するための窓用フィルムとして有用であり得る。しかしながら、主（一次）近赤外反射帯域が提供される場合、可視波長範囲に存在する反射帯域の二次以上の高調波が存在し得る。したがって、二次及び時にはより高次の反射帯域を抑制又は排除することが望ましい場合がある。二次高調波及びより高次の高調波の強度は、例えば、２層光学繰り返し単位に関して、米国特許第９，６７８，２５２号（Ｋｉｖｅｌら）に概して記載されているように、光学フィルムのｆ比（単数又は複数）の関数である。光学繰り返し単位の層のｆ比は、層の光学的厚さを光学繰り返し単位の光学的厚さで割ったものであり、光学繰り返し単位の各層の光学的厚さは、層の厚さに同じ面内方向に沿った層の屈折率を掛けたものであり、光学繰り返し単位の光学的厚さは、層の各々の光学的厚さの合計である。異なる指定がある場合を除いて、屈折率を決定する際に使用される波長は、約６３３ｎｍである。ｎ層の光学繰り返し単位を利用する光学フィルムについて、光学繰り返し単位の層のｆ比の合計が１であるので、指定することができるｎ－１個の独立したｆ比が存在する。近赤外反射帯域を有し、かつ複数の光学繰り返し単位を含み、各光学繰り返し単位が、順に、Ａ層、Ｂ層、Ｃ層、及び別のＢ層の４つの層を含む、光学フィルムは、Ｂ層の屈折率が、Ａ層及びＣ層の屈折率の幾何平均であり、かつ、Ａ層及びＣ層のｆ比がそれぞれ１／３であり、かつＢ層の各々のｆ比が１／６である場合、赤外反射帯域の抑制された二次及び三次高調波を有することができる。しかしながら、Ａ層及びＣ層の屈折率の幾何平均である屈折率を有するＢ層を使用することにより、様々な層に選択することができる材料を望ましくなく制限する場合がある。本明細書のいくつかの態様によれば、１／３とは実質的に異なるＡ層及びＣ層のｆ比を利用し、かつ／又はＡ層及びＣ層の幾何平均とは実質的に異なる屈折率を利用する、少なくとも二次高調波のロバストな抑制を提供する多層光学フィルムが記載される。

本明細書のいくつかの態様によれば、二次高調波を抑制しようとする従来の多層光学フィルムでは、抑制は、例えば、通常の製造変動に起因して光学フィルムの幅及び／又は長さにわたって生じ得るｆ比の変動に敏感であることが見出された。これは、二次及び／又はより高次の高調波の望ましくない低い抑制を有する光学フィルムのいくつかの領域をもたらす可能性がある。本明細書のいくつかの実施形態によれば、光学フィルムは、特定のｆ比を有し、特定のｆ比において、かつｆ比のうちの少なくとも１つが０．２以上連続的に変化する場合に、少なくとも二次高調波（例えば、二次高調波又は二次及び三次高調波の各々）の実質的な抑制（例えば、一次反射ピーク高さと任意の二次反射ピーク高さとの比が少なくとも５であり得る）をもたらす。これにより、例えば、製造変動に起因する二次及び／又はより高次の高調波の望ましくない低い抑制を有する光学フィルムの領域を実質的に低減又は排除することができる。いくつかの実施形態では、これは、例えば、Ａ層及びＣ層の一方に対して０．５～０．８の範囲又は本明細書の他の箇所に記載される別の範囲のｆ比を使用し、Ａ層及びＣ層の他方に対して０．０２～０．３の範囲又は本明細書の他の箇所に記載される別の範囲のｆ比を使用することによって達成される。更に、本明細書のいくつかの実施形態によれば、二次及び／又はより高次の高調波の所望のロバストな抑制をもたらし、かつ所望の層間接着力（例えば、９０度の剥離角度で測定した場合、少なくとも約１４グラム／インチ）をもたらすように、各光学繰り返し単位の層の材料を選択することができることが見出された。例えば、所望の層間接着力を有する光学フィルムをもたらすために、Ａ層及びＣ層の各々に対して良好な結合を有するようにＢ層が選択される場合、そうでなければ互いに対して不十分な結合を有するＡ層及びＣ層を光学フィルムに使用することができることが見出された。

図１Ａは、いくつかの実施形態による、多層光学フィルム３００の概略断面図である。光学フィルム３００は、波長及び／又は偏光状態に基づいて光を選択的に反射及び透過させるように適合させることができる。光学フィルム３００は、例えば、反射偏光子又は光学ミラーであってもよい。光学フィルム３００は、複数の光学繰り返し単位１０を含み、各光学繰り返し単位１０が少なくとも４つの個別の層を含む。図示の実施形態では、少なくとも４つの個別の層は、Ａ層、Ｂ１層、Ｃ層、及びＢ２層を含む。光学フィルム３００は、図１Ａで概略的に示されているものよりも多くの光学繰り返し単位１０を含むことができる。図１Ｂは、いくつかの実施形態による多層光学フィルム３００の一部分の概略断面図であり、多数の光学繰り返し単位１０を示している。Ｂ１層及びＢ２層の各々は、図１Ａ～図１Ｂに概略的に示されるように、Ａ層及びＣ層の各々よりも実質的に薄くてもよい。他の実施形態では、Ａ層及びＣ層の一方は、図１Ｃ～図１Ｄに概略的に示すように、光学繰り返し単位１０内の他の層の各々よりも実質的に薄くてもよく、又はＡ層及びＣ層の一方は、図１Ｅ～図１Ｆに概略的に示すように、光学繰り返し単位１０内の他の層の各々よりも実質的に厚くてもよく、又はＡ層及びＣ層の一方は、Ａ層及びＣ層の他方よりも実質的に薄く、かつＢ１層及びＢ２層よりも実質的に厚くてもよい（例えば、図１ＥのＣ層は、Ａ層よりも実質的に薄く、かつＢ１層及びＢ２層よりも実質的に厚くてもよい）。

いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、第１のスキン層２０と第２のスキン層２１との間に配置された複数の光学繰り返し単位１０を含み、各光学繰り返し単位は、少なくとも１つのポリマーＡ層、少なくとも２つのＢ層（例えば、少なくともＢ１層及びＢ２層）、及び少なくとも１つのポリマーＣ層を含む。隣接するＡ層及びＣ層の各対は、隣接するＡ層とＣ層との間に配置された、２つのＢ層のうちの少なくとも１つを有することができる。いくつかの実施形態では、Ｂ層の各々は、ポリマー層である。第１のスキン層２０と第２のスキン層２１との間に配置された複数の光学繰り返し単位中のＡ層及びＣ層の総数は、約４００未満であってもよい。例えば、Ａ層及びＣ層の総数は、約１０又は約２０～約４００又は約３５０の範囲内であってもよい。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の総数は、別個の光学繰り返し単位の総数を指す（フィルムのどの層も、２つ以上の別個の光学繰り返し単位中にない）。いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、複数の光学繰り返し単位を含み、複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の数は、例えば、合計で約２００未満、又は約１７５未満、又は約１５０未満、又は約１３０未満、又は約１２０未満、又は約１１５未満、又は約１１０未満、又は約１０５未満、又は約１００未満、又は約９５未満、又は約９０未満である。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の総数は、例えば、少なくとも約１０、又は少なくとも約１５、又は少なくとも約２０、又は少なくとも約２５、又は少なくとも約３０、又は少なくとも約４０、又は少なくとも約５０、又は少なくとも約６０、又は少なくとも約７０、又は少なくとも約７５であってもよい。複数の光学繰り返し単位は、例えば、約２２マイクロメートル未満、又は約２０マイクロメートル未満、又は約１９マイクロメートル未満、又は約１８マイクロメートル未満、又は約１７マイクロメートル未満、又は約１６マイクロメートル未満の合計平均厚さを有することができる。光学繰り返し単位の合計平均厚さは、例えば、約５マイクロメートル超、又は約１０マイクロメートル超であってもよい。

いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位１０は、４つの個別の層（例えば、Ａ、Ｂ１、Ｃ、Ｂ２）によって定義される。言い換えれば、いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位１０は、４つの個別の層のみを含む。他の実施形態では、各光学繰り返し単位１０は、４つより多い個別の層を含む。

いくつかの実施形態では、Ａ層、Ｂ１層、Ｂ２層、及びＣ層の各々は、少なくとも約０．５ｎｍ、又は少なくとも約１ｎｍ、又は少なくとも約２ｎｍ、又は少なくとも約３ｎｍ、又は少なくとも約５ｎｍ、又は少なくとも約１０ｎｍ、かつ約５００ｎｍ以下、又は約４００ｎｍ以下、又は約３００ｎｍ以下の平均厚さを有することができる。例えば、Ａ層、Ｂ層、及びＣ層の各々は、約１ｎｍ～約５００ｎｍ、又は約５ｎｍ～約４００ｎｍ、又は約１０ｎｍ～約３００ｎｍの平均厚さを有することができる。いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位の各々の少なくとも４つの個別の層の少なくとも１つの層（例えば、Ｂ１層又はＢ２層のうちの少なくとも１つ）は、約７５ｎｍ未満、又は約６０ｎｍ未満、又は約５０ｎｍ未満、又は約４０ｎｍ未満、又は約３０ｎｍ未満、又は約２０ｎｍ未満、又は約１５ｎｍ未満、又は約１０ｎｍ未満、又は約７．５ｎｍ未満の平均厚さを有する。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、少なくとも１つの層の各層は、少なくとも約０．５ｎｍ、又は少なくとも約１ｎｍ、又は少なくとも約２ｎｍ、又は少なくとも約３ｎｍの平均厚さを有する。

いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、複数の光学繰り返し単位１０を含み、複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の数は、合計で約１０超であってもよく、又は本明細書の他の箇所に記載される任意の範囲内であってもよく、光学繰り返し単位の各々は、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含む。第１～第４の個別の層は、例えば、図１Ｂのプラス又はマイナスｚ方向に順次ラベル付けされていてもよく、開始（第１）層は、例えば、Ａ層又はＣ層であってもよい。例えば、Ａ、Ｂ１、Ｃ、Ｂ２は、順次配置された第１～第４の個別の層を含む光学繰り返し単位として識別されてもよく、又はＡ、Ｂ２、Ｃ、Ｂ１は、順次配置された第１～第４の個別の層を含む光学繰り返し単位として識別されてもよく、又はＣ、Ｂ２、Ａ、Ｂ１は、順次配置された第１～第４の個別の層を含む光学繰り返し単位として識別されてもよく、又はＣ、Ｂ１、Ａ、Ｂ２は、順次配置された第１～第４の個別の層を含む光学繰り返し単位光学繰り返し単位として識別されてもよい。いくつかの実施形態では（例えば、図８を参照）、光学繰り返し単位１０の各々について、第２（例えば、Ｂ１）及び第４（例えば、Ｂ２）の個別の層の各々の平均厚さは、第１（例えば、Ａ層及びＣ層の一方）及び第３（例えば、Ａ層及びＣ層の他方）の個別の層の各々の平均厚さよりも、少なくとも２倍、又は少なくとも約２．２５倍、又は少なくとも約２．５倍、又は少なくとも約２．７５倍、又は少なくとも約３倍、又は少なくとも約３．２５倍、又は少なくとも約３．５倍小さい。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、光学繰り返し単位１０の各々について、第２（例えば、Ｂ１）及び第４（例えば、Ｂ２）の個別の層の各々の平均厚さは、例えば、第１（例えば、Ａ層及びＣ層の一方）及び第３（例えば、Ａ層及びＣ層の他方）の個別の層の各々の平均厚さよりも、最大約２０倍、又は最大約１５倍、又は最大約１０倍、又は最大約８倍、又は最大約６倍、又は最大約５倍小さい。いくつかの実施形態では（例えば、図６、図１１、図１３、図１６、及び図１８を参照）、光学繰り返し単位１０の各々について、第１及び第３の個別の層の同じ１つ（例えば、Ａ層及びＣ層の一方）の平均厚さは、第１～第４の個別の層の他の各層（例えば、Ａ層及びＣ層の他方、並びにＢ１層及びＢ２層の各々）の平均厚さとは少なくとも２倍、又は少なくとも約２．２５倍、又は少なくとも約２．５倍、又は少なくとも約２．７５倍、又は少なくとも約３倍、又は少なくとも約３．２５倍、又は少なくとも約３．５倍異なる。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、光学繰り返し単位１０の各々について、第１及び第３の個別の層の同じ１つ（例えば、Ａ層及びＣ層の一方）の平均厚さは、例えば、第１～第４の個別の層の他の各層（例えば、Ａ層及びＣ層の他方、並びにＢ１層及びＢ２層の各々）の平均厚さとは最大約２０倍、又は最大約１５倍、又は最大約１０倍、又は最大約８倍、又は最大約６倍、又は最大約５倍異なる。第１及び第３の個別の層の同じ１つは、第１～第４の個別の層の他の各層よりも大きい平均厚さを有してもよく、又は第１及び第３の個別の層の同じ１つは、第１～第４の個別の層の他の各層よりも小さい平均厚さを有してもよく、又は第１及び第３の個別の層の同じ１つは、第１～第４の個別の層の他の層（単数又は複数）の一部よりも小さく、かつ第１～第４の個別の層の残りの層（単数又は複数）よりも大きい平均厚さを有してもよい。

いくつかの実施形態では、第１のスキン層２０及び第２のスキン層２１の各々は、約５００ｎｍ超、又は約７５０ｎｍ超、又は約１０００ｎｍ超、又は約１２５０ｎｍ超、又は約１５００ｎｍ超の平均厚さを有する。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、第１のスキン層２０及び第２のスキン層２１の各々は、約８マイクロメートル未満、又は約５マイクロメートル未満、又は約４マイクロメートル未満の平均厚さを有する。光学フィルム３００は、当該技術分野において既知であるように、光学繰り返し単位のパケットを保護するために使用される保護境界層１２０、１２１など、又は保護境界層１２０、１２１の間に配置された追加の層１２９、１３１、若しくは光学繰り返し単位の間の追加の層（単数又は複数）１３２などの追加の層を含んでもよい。追加の層１２９、１３１、１３２は、含まれる場合、それぞれ約５００ｎｍ未満の平均厚さを有することができ、又は平均厚さは、Ａ層、Ｂ１層、Ｂ２層、又はＣ層のいずれかについて記載された任意の範囲内であることができる。保護境界層１２０、１２１は、含まれる場合、それぞれ、例えば、約５００ｎｍ又は約７５０ｎｍ～約２マイクロメートルの範囲の平均厚さを有することができる。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００は、例えば、約２８マイクロメートル未満、又は約２６マイクロメートル未満、又は約２４マイクロメートル未満、又は約２２マイクロメートル未満、又は約２０マイクロメートル未満、又は約１９マイクロメートル未満、又は約１８マイクロメートル未満、又は約１７マイクロメートル未満の平均厚さｔを有する。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、平均厚さｔは、例えば、約５マイクロメートル超、又は約１０マイクロメートル超、又は約１２マイクロメートル超である。平均厚さｔは、光学繰り返し単位の合計平均厚さ＋スキン層２０、２１の平均厚さ＋含まれ得る任意の追加の層（例えば、１２０、１２１、１２９、１３１、１３２）の平均厚さとして説明することができる。

いくつかの実施形態では、第２及び第４の個別の層（例えば、Ｂ１層及びＢ２層）は、同じ組成を有する。他の実施形態では、第２及び第４の個別の層は、異なる組成を有する。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００中の各光学繰り返し単位について、又は光学フィルム３００の光学繰り返し単位の少なくとも大部分における各光学繰り返し単位について、光学繰り返し単位中の第２及び第４の個別の層（例えば、Ｂ１層及びＢ２層）は、実質的に同じ厚さを有する（例えば、光学繰り返し単位中のＢ１層及びＢ２層は、互いの１０％以内又は互いの５％以内の厚さを有することができる）。第１の光学繰り返し単位中の第２及び第４の個別の層の実質的に同じ平均厚さは、異なる第２の光学繰り返し単位中の第２及び第４の個別の層の実質的に同じ平均厚さとは実質的に異なっていてもよい。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００の光学繰り返し単位の少なくとも大部分における各光学繰り返し単位について、光学繰り返し単位中の第２及び第４の個別の層は、異なる厚さを有する。第１及び第３の個別の層（例えば、Ａ層及びＣ層）は、同じ組成又は異なる組成を有することができる。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００中の各光学繰り返し単位について、又は光学フィルム３００の光学繰り返し単位の少なくとも大部分における各光学繰り返し単位について、Ａ層及びＣ層は、同じ組成を有し、実質的に異なる厚さを有する（例えば、厚さが１０％超異なる）。いくつかの実施形態では、Ａ層及びＣ層は、異なる組成を有する。

いくつかの実施形態では、光学フィルム３００は、一体的に形成されている。本明細書で使用するとき、第２の要素と「一体的に形成された」第１の要素とは、第１及び第２の要素が別々に製造されてから接合されるのではなく、一緒に製造されることを意味する。一体的に形成することには、第１の要素を製造し、続いて第２の要素を第１の要素上に製造することが含まれる。複数の層を含む光学フィルムが、層が別々に製造された後に接合されるのではなく、層が共に製造される（例えば、溶融ストリームとして組み合わされ、次いでチルロール上にキャストされて各層を有するキャストフィルムを形成し、更にキャストフィルムを配向させる）場合には、一体的に形成される。

光学フィルム３００に入射する実質的に垂直な入射（例えば、３０、又は２０、又は１０、又は５度の垂直入射での）光１３０及び２３０が、図１Ａに概略的に示されている。光１３０は、（面内ｘ方向に沿って偏光された）偏光状態３１を有し、光２３０は、（面内ｙ方向に沿って偏光された）直交する偏光状態３２を有する。いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光１３０に対して、所定の波長範囲（例えば、本明細書の他の箇所に記載される赤外波長範囲のいずれか）内に反射帯域を有する。いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、ｙ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光２３０に対して所定の波長範囲内に反射帯域も有する光学ミラーである。いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、ｙ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光２３０に対して、少なくとも約７０％又は少なくとも約８０％の所定の波長範囲内の平均光透過率を有する反射偏光子である。

多層光学フィルム３００の様々な層に好適な材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ｃｏＰＥＮ（コポリエチレンナフタレートテレフタレートコポリマー）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリヘキシルエチレンナフタレートコポリマー（ＰＨＥＮ）、グリコール変性ＰＥＴ（ＰＥＴＧ）、グリコール変性ＰＥＮ（ＰＥＮＧ）、シンジオタクチックポリスチレン（ｓＰＳ）、ＴＨＶ（テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとフッ化ビニリデンとのターポリマー）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ｃｏＰＭＭＡ（メチルメタクリレートとエチルアクリレートとのコポリマー）、スチレンブロックコポリマー（スチレンブロックを含むブロックコポリマー）、例えば、スチレン及びエチレン／ブチレンに基づく直鎖状トリブロックコポリマー、アクリルブロックコポリマー（アクリレート又はメタクリレートブロックを含むブロックコポリマー）、例えば、メチルメタクリレート及びｎ－ブチルアクリレートに基づく直鎖状トリブロックコポリマー、無水物変性エチレンビニルアセテートポリマー、ケトンエチレンエステルターポリマー、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、又はこれらのブレンドが挙げられる。例えば、いくつかの実施形態では、各Ａ層は、ＰＥＮを含み、各Ｂ層は、ＰＥＴＧを含み、各Ｃ層は、ＰＭＭＡ又はｃｏＰＭＭＡを含む。別の例として、いくつかの実施形態では、各Ａ層は、ＰＥＴＧを含み、各Ｂ層は、ＰＥＮを含み、各Ｃ層は、ＰＭＭＡ又はｃｏＰＭＭＡを含む。更に別の例として、いくつかの実施形態では、各Ａ層は、ＰＭＭＡ又はｃｏＰＭＭＡを含み、各Ｂ層は、ＰＥＮを含み、各Ｃ層は、ＰＭＭＡ又はｃｏＰＭＭＡを含む。更に別の例として、いくつかの実施形態では、各Ａ層は、ＰＥＮを含み、各Ｂ層は、ｃｏＰＥＮを含み、各Ｃ層は、ＰＭＭＡ又はｃｏＰＭＭＡを含む。

アタクチックポリスチレン（ａＰＳ）は、任意選択的に、得られる層の屈折率を調整するために、及び／又は層のヘイズを低減するために（例えば、層の結晶化度を低減することによって）、ｓＰＳと（例えば、約５～約３０重量パーセントのａＰＳで）ブレンドすることができる。好適なＴＨＶポリマーは、例えば、米国特許出願公開第２０１９／０３６９３１４号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）に記載されており、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）からＤＹＮＥＯＮ ＴＨＶの商品名で入手可能なものが挙げられる。いくつかの実施形態では、ＴＨＶは、約３５～約７５モルパーセントのテトラフルオロエチレン、約５～約２０モルパーセントのヘキサフルオロプロピレン、及び約１５～約５５モルパーセントのフッ化ビニリデンを含有することができる。好適なスチレンブロックコポリマーとしては、ＫＲＡＴＯＮ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ（Ｈｏｕｓｔｏｎ，ＴＸ）から入手可能なＫＲＡＴＯＮ Ｇ１６４５及びＫＲＡＴＯＮ Ｇ１６５７が挙げられる。好適なアクリルブロックコポリマーとしては、Ｋｕｒａｒａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．（Ｔｏｋｙｏ，ＪＰ）からＫＵＲＡＲＩＴＹの商品名で入手可能なものが挙げられる。ＰＥＴＧは、ポリマーのグリコール単位の一部が異なるモノマー単位、典型的にはシクロヘキサンジメタノールから誘導されるモノマー単位で置換されたＰＥＴとして説明することができる。ＰＥＴＧは、例えば、ポリエステルを製造するエステル交換反応において使用されるエチレングリコールの一部分をシクロヘキサンジメタノールで置き換えることによって製造することができる。好適なＰＥＴＧコポリエステルとしては、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｋｉｎｇｓｐｏｒｔ，ＴＮ）から入手可能なＧＮ０７１が挙げられる。ＰＥＮ及びｃｏＰＥＮは、例えば、米国特許第１０，００１，５８７号（Ｌｉｕ）に記載されているように製造することができる。低融点ＰＥＮは、総カルボキシレート基に基づいて約９０モルパーセントのナフタレンジカルボキシレート基を含むｃｏＰＥＮであり、ｃｏＰＥＮ ９０／１０としても知られている。別の有用なｃｏＰＥＮは、総カルボキシレート基に基づいて約７０モルパーセントのナフタレンジカルボキシレート基及び約３０モルパーセントのテレフタレートジカルボキシレート基を含むｃｏＰＥＮ ７０／３０である。より一般的には、ｃｏＰＥＮ Ｚ／１００－Ｚが総カルボキシレート基に基づいてＺモルパーセントのナフタレンジカルボキシレート基（典型的には、５０モルパーセントを超え、かつ約９０モルパーセント以下）及び１００－Ｚモルパーセントのテレフタレートジカルボキシレート基を含む場合、ｃｏＰＥＮ Ｚ／１００－Ｚが使用されてもよい。グリコール変性ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮＧ）は、ポリマーのグリコール単位の一部が異なるモノマー単位で置換されたＰＥＮとして説明することができ、例えば、ポリエステルを製造するエステル交換反応で使用されるエチレングリコールの一部分をシクロヘキサンジメタノールで置き換えることによって製造することができる。ＰＨＥＮは、エステル交換反応において使用されるエチレングリコールの一部分（例えば、約４０モルパーセント）がヘキサンジオールで置き換えられることを除いて、例えば、米国特許第１０，００１，５８７号（Ｌｉｕ）にＰＥＮについて記載されているように製造することができる。好適なＰＥＴは、例えば、Ｎａｎ Ｙａ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ａｍｅｒｉｃａ（Ｌａｋｅ Ｃｉｔｙ，ＳＣ）から入手することができる。好適なｓＰＳは、例えば、Ｉｄｅｍｉｔｓｕ Ｋｏｓａｎ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．（Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎ）から入手することができる。好適なＰＭＭＡは、例えば、Ａｒｋｅｍａ Ｉｎｃ．（Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡ）から入手することができる。好適な無水物変性エチレンビニルアセテートポリマーとしては、例えば、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ）からＢＹＮＥＬの商品名で入手可能なものが挙げられる。好適なケトンエチレンエステルターポリマーとしては、例えば、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ）からＢＹＮＥＬの商品名で入手可能なものが挙げられる。好適なポリオレフィン系熱可塑性エラストマーとしては、Ｍｉｔｓｕｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎ）からＡＤＭＥＲの商品名で入手可能なものが挙げられる。

いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位１０は、少なくとも１つのフルオロポリマー層を含む。フルオロポリマー（例えば、ＴＨＶ）は、例えば、米国特許出願公開第２０１９／０３６９３１４号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）及び同第２０１９／０１１１６６６号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）に記載されているように、例えば、紫外線に対するそれらの安定性及び／又はそれらの低屈折率のために、近赤外線反射フィルムに使用されてもよい。いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位の少なくとも１つの層は、少なくとも１つの方向において、６３３ｎｍの波長で１．４以下の屈折率を有する。いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位の少なくとも１つの層は、３つの互いに直交する方向の各々において、６３３ｎｍの波長で１．４以下の屈折率を有する。他の実施形態では、光学繰り返し単位１０は、フルオロポリマー層を含まない。いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位の各層は、少なくとも１つの方向において、６３３ｎｍの波長で少なくとも１．４５の屈折率を有する。いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位の各層は、３つの互いに直交する方向の各々において、６３３ｎｍの波長で少なくとも１．４５の屈折率を有する。

いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位１０は、少なくとも１つの複屈折熱可塑性ポリマー層を含む。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、各光学繰り返し単位１０は、少なくとも１つの実質的に等方性の（例えば、任意の２つの互いに直交する方向における屈折率の最大差が約０．０３未満、又は約０．０２未満、又は約０．０１未満の）熱可塑性ポリマー層を含む。少なくとも１つの複屈折熱可塑性ポリマー層は、二軸配向又は一軸配向されていてもよい。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの複屈折熱可塑性ポリマー層は、少なくとも１つの正の複屈折（複屈折が延伸方向に沿って増加する）熱可塑性ポリマー層を含む。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、少なくとも１つの複屈折熱可塑性ポリマーは、少なくとも１つの負の複屈折（複屈折が延伸方向に沿って減少する）熱可塑性ポリマー層を含む。ＰＥＮ、ＰＥＴ、及びＰＨＥＮは、正の複屈折熱可塑性ポリマーの例であり、ｓＰＳは、負の複屈折熱可塑性ポリマーの例である。例えば、米国特許第９，０６９，１３６号（Ｗｅｂｅｒら）に記載されているように、ポリマーが正又は負の複屈折を示すかどうかは、ポリマーが配向されたときに形成される微結晶の幾何形状に依存し得る。好適な正の複屈折熱可塑性ポリマーとしては、延伸方向と実質的に整列した対称軸を有する微結晶を形成するものが挙げられ、一方、好適な負の複屈折熱可塑性ポリマーとしては、延伸方向と実質的に整列した最小単位セル寸法を有する円盤状単位セル構造を有する微結晶を形成するものが挙げられる。スチレンブロックコポリマー、ＰＭＭＡ、ｃｏＰＭＭＡ、ＴＨＶ、アクリルブロックコポリマー、ｃｏＰＥＮ、及びＰＥＴＧは、配向後に実質的に等方性であり得る熱可塑性ポリマーの例である。実質的に等方性のポリマーは、典型的には、配向されたときに微結晶を実質的に形成しない、又はポリマーを含有するフィルムがヒートセットされたときに溶融して除かれる微結晶を形成する、のいずれかである。正及び負の複屈折熱可塑性ポリマー並びに等方性熱可塑性ポリマーの更なる例は、例えば、米国特許第９，０６９，１３６号（Ｗｅｂｅｒら）に記載されている。多層光学フィルム３００内の様々な層に好適な他の材料としては、例えば、米国特許第５，１０３，３３７号（Ｓｃｈｒｅｎｋら）、同第５，５４０，９７８号（Ｓｃｈｒｅｎｋ）、同第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）、同第６，１７９，９４８号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）、同第６，２０７，２６０号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）、同第６，７８３，３４９号（Ｎｅａｖｉｎら）、同第６，９６７，７７８号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）、同第９，０６９，１３６号（Ｗｅｂｅｒら）、及び同第９，１６２，４０６号（Ｎｅａｖｉｎら）に記載されているものが挙げられる。

光学フィルム３００の様々な層は、第１の面内方向（例えば、ｘ方向）、直交する第２の面内方向（例えば、ｙ方向）、及び／又は面内方向に直交する厚さ方向（ｚ方向）に沿ったそれらの屈折率によって特徴付けることができる。複数の層の屈折率が指定される実施形態では、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向に沿った屈折率は、それぞれｎｘｉ、ｎｙｉ、ｎｚｉと表されてもよく、「ｉ」は、層番号（例えば、１、２など）であり、これは、層がどのように番号付けされるか（例えば、連続的に、又は他の方法で）に依存し得る。図２は、多層光学フィルムの層の概略斜視図である。ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向に沿った屈折率ｎｘｉ、ｎｙｉ、ｎｚｉは、例えば、図１Ａ～図１Ｆに示す層Ａ、層Ｂ１、層Ｃ、層Ｂ２のいずれかに対応することができる層「ｉ」について示されている。例えば、いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、複数の光学繰り返し単位１０を含み、光学繰り返し単位の各々は、少なくとも４つの個別の層（例えば、Ａ、Ｂ１、Ｃ、Ｂ２）を含み、光学繰り返し単位の各々の少なくとも４つの個別の層の少なくとも第１（例えば、Ａ及びＣのうちの一方）及び第２（例えば、Ａ及びＣのうちの他方）の個別の層は、同じ面内ｘ方向に沿ったそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ２、ｘ方向に直交する面内ｙ方向に沿ったそれぞれの屈折率ｎｙ１及びｎｙ２、並びにｘ方向及びｙ方向に直交するｚ方向に沿ったそれぞれの屈折率ｎｚ１及びｎｚ２を有する。様々な層の光学的厚さ及びｆ比は、本明細書の他の箇所で更に説明するように、屈折率から決定することができる。光学繰り返し単位中の様々な層のｆ比は、ｆｉと表すことができ、添え字「ｉ」は、層番号である。特定の層のｆ比は、例えば、それぞれのＡ層及びＣ層に対して、ｆ_Ａ又はｆ_Ｃと表すことができる。いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位１０の各々は、少なくとも４つの個別の層（例えば、Ａ、Ｂ１、Ｃ、Ｂ２）を含み、光学繰り返し単位の各々の少なくとも４つの個別の層の第１（例えば、Ａ及びＣの一方）及び第２（例えば、Ａ及びＣの他方）の個別の層は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ２を有する。いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位の各々は、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含む。いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位１０の各々について、第１（例えば、Ａ及びＣの一方）及び第３（例えば、Ａ及びＣの他方）の個別の層は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有する。

以下の表は、いくつかの実施形態による、光学フィルム３００の層に使用することができる様々な例示的な材料についての約６３３ｎｍの波長における屈折率を列挙する。複屈折材料は、典型的には、反射偏光子のために一軸配向され、光学ミラーのために二軸配向されている。スチレンブロックコポリマー、ＴＨＶ、ＰＭＭＡ、ｃｏＰＭＭＡ、アクリルブロックコポリマー、ｃｏＰＥＮ、及びＰＥＴＧなどの材料は、多層光学フィルム中の他の層が二軸配向されている又は一軸配向されているかに関わらず、典型的には等方性である。例えば、このような材料の層を含む多層光学フィルムは、これらの層に使用される材料のガラス転移温度を超える温度でヒートセットして、等方性層を得ることができる。いくつかの材料（例えば、ＰＨＥＮ）の層は、延伸条件及びヒートセット温度に応じて、一軸配向、二軸配向、又は等方性であってもよい。例えば、ＰＨＥＮ層は、二軸配向若しくは一軸配向されていてもよく、又はＰＨＥＮ層は、ＰＨＥＮのガラス転移温度を超える温度でヒートセットして、層が一軸延伸若しくは二軸延伸された後であっても等方性層を得ることができる。

いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位の各個別の層は、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向の各々において、約１．３～約１．９の範囲の屈折率を有する。いくつかの実施形態では、各光学繰り返し単位の各個別の層は、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向のうちのいずれか２つについて、約０．４未満、又は約０．３６未満の最大屈折率差を有する。いくつかの実施形態では、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向の各々に沿った光学繰り返し単位中の個別の層の最大屈折率差は、約０．５５未満、又は約０．５未満、又は約０．４５未満である。いくつかの実施形態では、同じ方向（例えば、ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向のうちの１つ）に沿った光学繰り返し単位中の個別の層の最大屈折率差は、約０．０５超、又は約０．０７超、又は約０．１超、又は約０．１５超、又は約０．２超、又は約０．２２超、又は約０．２５超である。

図３は、いくつかの実施形態による、少なくとも１つの偏光状態３１の実質的に垂直に入射する光１３０に対する多層光学フィルム３００の反射率の概略プロットである。反射率は、λａ～λｂの波長範囲に一次反射帯域２７８を有し、例えば、λａは、約６００ｎｍ～約１０００ｎｍの範囲であってもよく、λｂは、約１１００ｎｍ～約１３００ｎｍの範囲であってもよい。いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、互いに直交する偏光状態３１及び３２の実質的に垂直に入射する光１３０、２３０に対して実質的に同じ反射率を有する光学ミラーである。いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、例えば、４５０ｎｍ～６８０ｎｍの可視波長範囲全体にわたって、及び／又は８００ｎｍ～１２００ｎｍの赤外波長範囲にわたって、第２の偏光状態３２を有する実質的に垂直に入射する光２３０に対して約２０％未満の反射率を有する反射偏光子である。

図４は、いくつかの実施形態による、実質的に垂直に入射する光１３０、２３０に対する多層光学フィルム３００の透過率の概略プロットである。透過率３４２は、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光１３０に対するものである。光学ミラーの場合、透過率３４２はまた、ｙ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光２３０に対する透過率であってもよい。反射偏光子の場合、透過率３４４は、ｙ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光２３０に対する透過率であってもよい。λ１～λ２の波長範囲における平均光透過率Ｔ１は、透過率３４２に対して示されており、λ３～λ４の波長範囲における平均光透過率Ｔ２及びＴ３は、それぞれの透過率３４４及び３４２に対して示されている。いくつかの実施形態では、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光１３０に対して、多層光学フィルム３００は、約４５０ｎｍ～約６８０ｎｍの可視波長範囲において少なくとも約７０％の平均光透過率（例えば、Ｔ１）、及び約１０００ｎｍ～約１１５０ｎｍの赤外波長範囲において少なくとも約４０％の平均光反射率（例えば、Ｒａｖｇ；例えば、図３参照）を有する。例えば、図４では、λ１～λ４は、それぞれ約４５０ｎｍ、約６８０ｎｍ、約１０００ｎｍ、及び約１１５０ｎｍであってもよく、図３のλａ及びλｂは、それぞれ約１０００ｎｍ及び約１１５０ｎｍであってもよい。平均光反射率Ｒａｖｇは、約１００％から同じ波長範囲における平均光透過率（例えば、Ｔ３）を引いたものであってもよい（光吸収は無視するものであり、光吸収は典型的には２％未満又は１％未満である）。いくつかの実施形態では、平均光透過率Ｔ１は、少なくとも約７５％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約８５％である。いくつかの実施形態では、平均光反射率Ｒａｖｇは、少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％である。いくつかの実施形態では、ｘ方向に直交する面内ｙ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光２３０に対して、多層光学フィルム３００は、少なくとも約７０％の可視波長範囲における平均光透過率（例えば、Ｔ１）、及び少なくとも約４０％の赤外波長範囲における平均光反射率（例えば、Ｒａｖｇ）を有する。面内ｙ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光２３０に対する平均光透過率及び反射率は、面内ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光１３０に対するそれぞれ平均光透過率及び反射率について記載された範囲のいずれかであってもよい。いくつかの実施形態では、ｘ方向に直交する面内ｙ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光２３０に対して、多層光学フィルム３００は、少なくとも約７０％の可視波長範囲における平均光透過率（例えば、Ｔ１）、及び少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％の赤外波長範囲における平均光透過率（例えば、Ｔ２）を有する。

いくつかの実施形態では、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光１３０に対して、多層光学フィルム３００は、約６００ｎｍ超又は約７００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域２７８を有する。例えば、図３に示す波長λａは、約６００ｎｍ超又は約７００ｎｍ超であり得る。一次反射帯域２７８は、例えば、約２０００ｎｍ未満、又は約１５００ｎｍ未満、又は約１４００ｎｍ未満、又は約１３００ｎｍ未満の波長に配置されていてもよい。例えば、図３に示す波長λｂは、約２０００ｎｍ未満、又は約１５００ｎｍ未満、又は約１４００ｎｍ未満、又は約１３００ｎｍ未満であってもよい。いくつかの実施形態では、一次反射帯域２７８は、例えば、６００ｎｍ又は７００ｎｍ～２０００ｎｍ又は１４００ｎｍの波長範囲内に配置されていてもよい。いくつかの実施形態では、一次反射帯域２７８は、ピーク高さＲｐ１を有する第１の反射ピークを有し、多層光学フィルム３００の任意の二次反射帯域２８２は、ピーク高さＲｐ２を有する反射ピークを有する。反射ピークのピーク高さは、反射帯域の両側の領域における反射率の平均であるとみなすことができるベースライン反射率に対する反射帯域における最大反射率を指す（例えば、図７参照）。一次反射帯域２７８は、ピーク高さＲｐ１を有する第１の反射ピークを有し、（例えば、反射率の振動に起因して；例えば、図７参照）追加のより小さい第２の反射ピーク（単数又は複数）を有してもよい。ベースライン反射率は、主に、光学フィルムの最外主表面（単数又は複数）からのフレネル反射率に起因し得る。いくつかの実施形態では、Ｒｐ１／Ｒｐ２≧５、又はＲｐ１／Ｒｐ２≧８、又はＲｐ１／Ｒｐ２≧１０、又はＲｐ１／Ｒｐ２≧１５、又はＲｐ１／Ｒｐ２≧２０、又はＲｐ１／Ｒｐ２≧３０、又はＲｐ１／Ｒｐ２≧４０、又はＲｐ１／Ｒｐ２≧５０である。いくつかの実施形態では、Ｒｐ１は、少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約８５％である。いくつかの実施形態では、Ｒｐ２は、約１０％未満、又は約５％未満、又は約３％未満、又は約２％未満である。

光学フィルム３００は、光学フィルムのｆ比がそれらの実際の値から変化した場合にＲｐ１／Ｒｐ２がどのように変化するかによって特徴付けることができる。いくつかの実施形態では、比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを０．２だけ連続的に変化させる（例えば、ｆ１を光学フィルムにおけるその値からその値プラス０．２又はその値マイナス０．２に連続的に変化させる）とき、５以上、又は８以上、又は１０以上、又は１５以上、又は２０以上を維持する。いくつかの実施形態では、比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを０．３、又は０．４、又は０．５、又は０．６だけ連続的に変化させるとき、５以上を維持する。いくつかの実施形態では、比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを０．３、又は０．４、又は０．５、又は０．６だけ連続的に変化させるとき、８以上、又は１０以上、又は１５以上、又は２０以上を維持する。いくつかの実施形態では、比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを少なくとも０．２、又は少なくとも０．３、又は少なくとも０．４、又は少なくとも０．５、又は少なくとも０．６だけ連続的に変化させるとき、５以上、又は８以上、又は１０以上、又は１５以上、又は２０以上を維持する。比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、例えば、最大約５００、又は最大約２００、又は最大約１００、又は最大約５０を維持し得る。いくつかのそのような実施形態では、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つは、例えば、最大０．９、又は最大０．８、又は最大０．７だけ連続的に変化させることができ、一方、Ｒｐ１／Ｒｐ２は、これらの範囲のうちのいずれかに留まる。別段の指示がある場合を除き、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを変化させることは、各光学繰り返し単位の光学的厚さを一定に保ちながら、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを変化させることを意味し、各光学繰り返し単位の光学的厚さは、光学繰り返し単位の個別の層の各々の光学的厚さの合計であり、個別の層の各々の光学的厚さは、個別の層の厚さ×同じ面内ｘ方向に沿った個別の層の屈折率である。第２及び第４の層（Ｂ１層及びＢ２層）のｆ比は、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを変化させるとき、互いに同じ比に維持することができる。例えば、いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位の各々は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１～ｎｘ４に対するそれぞれのｆ比ｆ１～ｆ４を有する少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含み、ｆ２／ｆ４は、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを連続的に変化させるとき、一定に保たれる。いくつかの実施形態では、ｆ２／ｆ４は、約１である。

ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを変化させるときのＲｐ１／Ｒｐ２の変化は、例えば、原子間力顕微鏡法（atomic force microscopy、ＡＦＭ）を使用して光学フィルムの様々な層の厚さを測定し、例えば、標準的な化学分析技術によって様々な層に使用される材料を決定することによって、決定することができる。層の屈折率は、層の材料から決定することができ、フィルムの配向（例えば、一軸又は二軸）は、フィルムの透過スペクトルから決定することができる。次いで、一連の新しいフィルムを、標準的な光学モデリング技術を使用して物理的に作製又は光学的にモデリングすることができ、各新しいフィルムは、ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを変更することによって元のフィルムとは異なる。これにより、Ｒｐ１／Ｒｐ２対ｆ比のうちの少なくとも１つの変化のプロット（例えば、一次元プロット又は等高線図）を生成することが可能になり、そこから、例えば、Ｒｐ１／Ｒｐ２の所与の最小所望比に対するｆ比の最大シフトを決定することができる。プロットは、層厚さプロファイル、層の材料特性、及び光学フィルムの透過スペクトルの測定から標準的な光学モデリング技術を使用して生成することができるので、光学フィルムのＲｐ１／Ｒｐ２の所与の最小所望比に対するｆ比の最大連続変化は、これらの測定に基づいて計算することができる。好適な光学モデリング技術としては、例えば、Ｂｅｒｒｅｍａｎ ａｎｄ Ｓｃｈｅｆｆｅｒ，Ｐｈｙｓ．Ｒｅｖ．Ｌｅｔｔ．２５，５７７（１９７０）の４×４のスタックコードを使用して、透過及び反射スペクトルを決定することを挙げることができる。本方法の説明は、Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ（Ｈｏｌｌａｎｄ）により公開されたＡｚｚａｍ及びＢａｓｈａｒａによって書かれた書籍「Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｒｙ ａｎｄ Ｐｏｌａｒｉｚｅｄ Ｌｉｇｈｔ」に記載されている。

図５は、いくつかの実施形態による、Ｒｐ１／Ｒｐ２対ｆ比の変化の概略プロットである。ｆ比の０の変化が示されており、光学フィルム３００のｆ比に対応する。Ｒｐ１／Ｒｐ２の最小所望比（Ｒｍｉｎ）が示されている。Ｒｍｉｎは、例えば、少なくとも５、少なくとも８、又は少なくとも１０、又は少なくとも１５、又は少なくとも２０であってもよい。ｆ比の第１の変化Δ１が示されている。Δ１は、例えば、製造変動に起因して予想されるｆ比の典型的な最大シフトであってもよい。比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、ｆ比の第１の変化Δ１よりも大きいｆ比の第２の変化Δ２以下のｆ比の連続的な変化に対して、少なくともＲｍｉｎである。いくつかの実施形態では、Δ２は、例えば、少なくとも０．２、又は少なくとも０．３、又は少なくとも０．４、又は少なくとも０．５、又は少なくとも０．６である。いくつかの実施形態では、ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを少なくともΔ２だけ連続的に変化させることは、ｆ比のうちの少なくとも１つを少なくともΔ２だけ単調増加又は単調減少させることを含む。場合によっては、比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、ｆ比の第３の変化Δ３＞Δ２よりも大きいｆ比の変化に対して、Ｒｍｉｎを上回って増加し得る。しかしながら、Δ３に到達するｆ比の任意の連続的な変化は、Δ２～Δ３のｆ比の範囲を通過するので、比Ｒｐ１／Ｒｐ２は、ｆ比を少なくともΔ３だけ連続的に変化させるとき、Ｒｍｉｎ以上を維持しない。Ｒｐ１／Ｒｐ２対少なくとも２つのｆ比の変化の等高線図、又は一次及び二次反射帯域強度対少なくとも２つのｆ比の変化の別個の等高線図により、例えば、二次反射帯域のロバストな抑制をもたらす少なくとも２つのｆ比の所望の範囲を識別することを可能にすることができる。

反射帯域は、少なくとも５％のベースラインに対する反射率を含むと理解することができる。したがって、Ｒｐ２が５％未満である場合、多層光学フィルムは、二次反射帯域を有さないと説明することができる。光学多層光学フィルムは、光学多層光学フィルムが二次反射帯域を有さず、かつ任意選択的に三次、四次などの反射帯域を有さない場合、少なくとも二次反射帯域を有さないものとして説明することができる。いくつかの実施形態では、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光１３０に対して、多層光学フィルム３００は、約７００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域２７８を有し、少なくとも二次反射帯域を有さない。

いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位１０の各々は、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含み、第１及び第３の個別の層（例えば、Ａ層及びＣ層）は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有する。いくつかの実施形態では、第２及び第４の個別の層（例えば、Ｂ１層及びＢ２層）は、同じ面内ｘ方向に沿ったそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ１＜ｎｘ２＜ｎｘ３、かつｎｘ１＜ｎｘ４＜ｎｘ３である。いくつかの実施形態では、ｎｘ２及びｎｘ４の各々は、ｎｘ１及びｎｘ３のうちの１つとｎｘ１及びｎｘ３の幾何平均との間にある。例えば、いくつかの実施形態では、ｎｘ１＜ｎｘ２＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２、かつｎｘ１＜ｎｘ４＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２である。いくつかの実施形態では、ｎｘ１＋０．０２＜ｎｘ２＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２－０．０３、かつｎｘ１＋０．０２＜ｎｘ４＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２－０．０３である。いくつかの実施形態では、ｎｘ１＋０．０３＜ｎｘ２＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２－０．０５、かつｎｘ１＋０．０３＜ｎｘ４＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２－０．０５である。いくつかの実施形態では、｜ｎｘ２－（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２｜及び｜ｎｘ４－（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２｜はそれぞれ、０．０３超、又は０．０４超、又は０．０５超である。これらの範囲のいずれかの屈折率を有する光学フィルムに好適なｆ比としては、ｆ１が少なくとも０．４４であるもの、及びｆ１が０．１以下であるものが挙げられる。いくつかの実施形態では、０．４４≦ｆ１≦０．５５、かつ０．０２≦ｆ３≦０．５５、又は０．４５≦ｆ１≦０．５５、かつ０．０２≦ｆ３≦０．４５、又は０．４６≦ｆ１≦０．５４、かつ０．０２≦ｆ３≦０．４である。いくつかの実施形態では、０．０２≦ｆ１≦０．１、かつ０．０２≦ｆ３≦０．６５、又は０．０２≦ｆ１≦０．１、かつ０．１≦ｆ３≦０．５、又は０．０２≦ｆ１≦０．１、かつ０．１≦ｆ３≦０．４５である。これらの範囲のいずれかの屈折率を有する層に好適な材料としては、本明細書の他の箇所に記載されるものが挙げられる。いくつかの実施形態では、第１の個別の層は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含み、第３の個別の層は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）又はメチルメタクリレートとエチルアクリレートとのコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）を含み、第２及び第４の個別の層の各々は、グリコール変性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴＧ）又はコポリエチレンナフタレートテレフタレートコポリマー（ｃｏＰＥＮ）を含む。ポリマー材料を含むと記載される任意の層は、そのポリマー材料の層であってもよい。例えば、ＰＥＮを含む層は、ＰＥＮ層であってもよい。

光学繰り返し単位の厚さは、光学繰り返し単位によって反射される波長を決定し、光学繰り返し単位中の層間の屈折率差は、反射の強度を決定する。したがって、図３～図４の光反射率及び透過率は、例えば、屈折率差を規定するための層材料の適切な選択、及び層厚さプロファイルの適切な選択によって達成することができる。図６は、光学繰り返し単位中の様々な層についての層厚さ対光学繰り返し単位番号の例示的なプロットである。多層光学フィルムの層の屈折率及び層厚さが与えられると、光学フィルムの光透過スペクトルは、従来の光学モデリング技術を使用して計算することができる。図７は、Ａ層が約１．７６６、１．７４、及び１．４９のｘ、ｙ、及びｚ方向の屈折率をそれぞれ有する二軸配向ＰＥＮ層であり、Ｂ１層及びＢ２層が各方向に約１．５６の屈折率を有するＰＥＴＧ層であり、Ｃ層が各方向に約１．４９の屈折率を有するｃｏＰＭＭＡ層である場合の、図６の層厚さプロファイルから決定された波長の関数としての複数の光学繰り返し単位の計算された光透過率のプロットである。同様の光透過率は、例えば、Ｃ層がＰＭＭＡ層、スチレンブロックコポリマー層、又はアクリルブロックコポリマー層である場合に得ることができる。図７の計算された透過率、並びに図９、図１２、図１４、図１７、及び図１９の計算された透過率は、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光１３０に対するものである。これらの場合、光学フィルムは二軸配向されているので、ｙ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光２３０に対する反射率は、これらの図に示されるものとほぼ同じである。Ａ層、Ｂ層、及びＣ層のｘ方向に沿った屈折率は、それぞれｎＡ、ｎＢ、及びｎＣと表すことができる。反射ピーク高さＲｐ１及びＲｐ２は、図７に概略的に示されており、光吸収は無視できるので、反射率は１００％から透過率を引いたものであると仮定している。この場合、Ａ層は、０．０８のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の一方）を有し、Ｂ１層及びＢ２層の各々は、０．３５５のｆ比を有し、Ｃ層は、０．２５のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の他方）を有する。

図８は、光学繰り返し単位中の様々な層についての層厚さ対光学繰り返し単位番号の別の例示的なプロットである。図９は、層材料が図６～図７について記載された通りである場合の、図８の層厚さプロファイルから決定された波長の関数としての複数の光学繰り返し単位の計算された光透過率のプロットである。この場合、Ａ層は、０．４５のｆ比（例えば、ｆ３及びｆ１の一方）を有し、Ｂ１層及びＢ２層の各々は、０．１のｆ比を有し、Ｃ層は、０．３５のｆ比（例えば、ｆ３及びｆ１の他方）を有する。

図１０Ａ～図１０Ｂは、図６～図９について説明した層材料について、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。光学繰り返し単位の光学的厚さは一定に保たれ、２つのＢ層のｆ比は互いに等しく保たれるが、Ａ層及びＣ層のｆ比は、変化する。図１０Ｂは、高い二次高調波抑制の２つの領域を示す。これらの領域の一方は、０＜ｆ_Ａ≦０．１及び０＜ｆ_Ｃ≦０．６５によって特徴付けられてもよく、これらの領域の他方は、０．４４≦ｆ_Ａ≦０．５５及び０＜ｆ_Ｃ≦０．５５によって特徴付けられてもよい。典型的には、光学繰り返し単位中の任意の層の最小ｆ比は、少なくとも０．００５、又は少なくとも０．０１、又は少なくとも０．０２、又は少なくとも０．０３であることが好ましい。いくつかの実施形態では、０．０２≦ｆ_Ａ≦０．１かつ０．０２≦ｆ_Ｃ≦０．６５、又は０．４４≦ｆ_Ａ≦０．５５かつ０．０２≦ｆ_Ｃ≦０．５５である。

いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位１０の各々は、少なくとも４つの個別の層を含み、光学繰り返し単位１０の各々の少なくとも４つの個別の層の第１（例えば、Ａ層及びＣ層の一方）及び第２（例えば、Ａ層及びＣ層の他方）の個別の層は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ２を有する。いくつかの実施形態では、０．５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ２≦０．３であり、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光１３０に対して、多層光学フィルム３００が、約７００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域２７８を有し、少なくとも二次反射帯域を有さないようになっている。いくつかの実施形態では、０．０２≦ｆ２≦０．２５である。いくつかの実施形態では、０．５５≦ｆ１≦０．８、又は０．５５≦ｆ１≦０．７５、又は０５５≦ｆ１≦０．７である。いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位の各々の少なくとも４つの個別の層の少なくとも第３の層（例えば、Ｂ１及び／又はＢ２）は、約７５ｎｍ未満の平均厚さを有する、又は平均厚さは、本明細書の他の箇所に記載される任意の範囲内であってもよい。いくつかの実施形態では、少なくとも第３の層は、第１及び第２の個別の層のｘ方向に沿った屈折率の各々よりも大きい、ｘ方向に沿った屈折率を有する。本明細書の他の箇所に更に記載されるように、第１及び第２の個別の層は、同じ組成を有することができ、又は異なる組成を有することができる。いくつかの実施形態では、例えば、第１及び第２の個別の層の各々は、メチルメタクリレートとエチルアクリレートとのコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）を含み、少なくとも第３の層は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含む。

いくつかの実施形態では、光学繰り返し単位１０の各々は、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含み、第１及び第３の個別の層（例えば、Ａ層及びＣ層）は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有する。いくつかの実施形態では、第２及び第４の個別の層は、同じ面内ｘ方向に沿ったそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ２及びｎｘ４の各々は、ｎｘ１及びｎｘ３のそれぞれよりも大きい。いくつかの実施形態では、ｎｘ２及びｎｘ４の各々は、ｎｘ１及びｎｘ３の各々よりも、少なくとも０．０５、又は少なくとも０．１、又は少なくとも０．１５大きい。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、０．４５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ３≦０．４、又は０．５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ３≦０．４、又は０．５≦ｆ１≦０．７５かつ０．０２≦ｆ３≦０．３、又は０．５≦ｆ１≦０．７５かつ０．０２≦ｆ３≦０．２５、又は０．５５≦ｆ１≦０．７かつ０．０２≦ｆ３≦０．２である。順次配置された第１～第４の個別の層は、順に、Ａ、Ｂ１、Ｃ、Ｂ２（例えば、図１ＢでのＡ層から下への番号付け）又はＣ、Ｂ１、Ａ、Ｂ２（例えば、Ｃ、Ｂ１、Ａ、Ｂ２の光学繰り返し単位を定義するために、図１ＢでのＣ層から上への番号付け）であるとみなすことができるので、ｆ１及びｆ３の値は、同じフィルムについて交換することができる。例えば、０．４５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ３≦０．４である実施形態は、代替的に０．０２≦ｆ１≦０．４かつ０．４５≦ｆ３≦０．８によって説明することができる。

いくつかの実施形態では、第１の個別の層（例えば、Ａ層）は、グリコール変性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴＧ）、コポリエチレンナフタレートテレフタレートコポリマー（ｃｏＰＥＮ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、メチルメタクリレートとエチルアクリレートとのコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）、スチレンブロックコポリマー、又はアクリルブロックコポリマーを含み、第３の個別の層（例えば、Ｃ層）は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、メチルメタクリレートとエチルアクリレートとのコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）、スチレンブロックコポリマー、又はアクリルブロックコポリマーを含み、第２及び第４の個別の層（例えば、Ｂ１層及びＢ２層）の各々は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含む。いくつかのそのような実施形態では、第１の個別の層（例えば、Ａ層）は、グリコール変性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴＧ）又はコポリエチレンナフタレートテレフタレートコポリマー（ｃｏＰＥＮ）を含む。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、０．０２≦ｆ１≦０．４かつ０．４５≦ｆ３≦０．６５、又は０．０２≦ｆ１≦０．３かつ０．５≦ｆ３≦０．６５、又は０．４５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ３≦０．２５、又は０．５≦ｆ１≦０．８かつ０．１≦ｆ３≦０．２５である。

いくつかの実施形態では、第１及び第３の個別の層（例えば、Ａ層及びＣ層）の各々は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、メチルメタクリレートとエチルアクリレートとのコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）、スチレンブロックコポリマー、又はアクリルブロックコポリマーを含み、第２及び第４の個別の層の各々は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含む。これらの層材料を利用するいくつかの実施形態では、又は他の実施形態では、０．０２≦ｆ１≦０．４、又は０．０２≦ｆ１≦０．３、又は０．０２≦ｆ１≦０．２５、又は０．０２≦ｆ１≦０．２である。いくつかのそのような実施形態では。又は他の実施形態では、０．４５≦ｆ３≦０．８、又は０．５≦ｆ３≦０．８、又は０．５≦ｆ３≦０．７５、又は０．５５≦ｆ３≦０．７である。これらの層材料を利用するいくつかの実施形態では、又は他の実施形態では、０．０２≦ｆ３≦０．４、又は０．０２≦ｆ３≦０．３、又は０．０２≦ｆ３≦０．２５、又は０．０２≦ｆ３≦０．２である。いくつかのそのような実施形態では．又は他の実施形態では、０．４５≦ｆ１≦０．８、又は０．５≦ｆ１≦０．８、又は０．５≦ｆ１≦０．７５、又は０．５５≦ｆ１≦０．７である。図１１は、光学繰り返し単位中の様々な層についての層厚さ対光学繰り返し単位番号の例示的なプロットである。図１２は、Ａ層が各方向に約１．５６の屈折率を有するＰＥＴＧ層であり、Ｂ１層及びＢ２層がそれぞれｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向にそれぞれ約１．７６６、１．７４、及び１．４９の屈折率を各々有する二軸配向ＰＥＮ層であり、Ｃ層が各方向に約１．４９の屈折率を有するｃｏＰＭＭＡ層である場合の、図１１の層厚さプロファイルから決定された波長の関数としての複数の光学繰り返し単位の計算された光透過率のプロットである。この場合、Ａ層は、０．０８のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の一方）を有し、Ｂ１層及びＢ２層の各々は、０．１８のｆ比を有し、Ｃ層は、０．５６のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の他方）を有する。同様の光透過率は、例えば、Ｃ層がＰＭＭＡ層、スチレンブロックコポリマー層、又はアクリルブロックコポリマー層である場合に得ることができる。

図１３は、光学繰り返し単位中の様々な層についての層厚さ対光学繰り返し単位番号の例示的なプロットである。図１４は、層材料が図１１～図１２について記載された通りである場合の、図１３の層厚さプロファイルから決定された波長の関数としての複数の光学繰り返し単位の計算された光透過率のプロットである。この場合、Ａ層は、０．７のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の一方）を有し、Ｂ１層及びＢ２層の各々は、０．０９のｆ比を有し、Ｃ層は、０．１２のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の他方）を有する。

図１５Ａ～図１５Ｂは、図１１～図１４について説明した層材料について、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。光学繰り返し単位の光学的厚さは一定に保たれ、２つのＢ層のｆ比は互いに等しく保たれるが、Ａ層及びＣ層のｆ比は、変化する。図１５Ｂは、高い二次高調波抑制の２つの領域を示す。これらの領域の一方は、０＜ｆ_Ａ≦０．４及び０．４５≦ｆ_Ｃ≦０．６５によって特徴付けられてもよく、これらの領域の他方は、０．４５≦ｆ_Ａ≦０．８及び０＜ｆ_Ｃ≦０．２５によって特徴付けられてもよい。

図１６は、光学繰り返し単位中の様々な層についての層厚さ対光学繰り返し単位番号の例示的なプロットである。図１７は、Ｂ１層及びＢ２層がそれぞれｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向にそれぞれ約１．７６６、１．７４、及び１．４９の屈折率を各々有する二軸配向ＰＥＮ層であり、Ａ層及びＣ層のそれぞれが各方向に約１．４９の屈折率を有するｃｏＰＭＭＡ層である場合の、図１６の層厚さプロファイルから決定された波長の関数としての複数の光学繰り返し単位の計算された光透過率のプロットである。この場合、Ａ層は、０．０８のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の一方）を有し、Ｂ１層及びＢ２層の各々は、０．１７のｆ比を有し、Ｃ層は、０．５８のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の他方）を有する。同様の光透過率は、例えば、Ａ層及びＣ層の各々がＰＭＭＡ層、スチレンブロックコポリマー層、又はアクリルブロックコポリマー層である場合に得ることができる。

図１８は、光学繰り返し単位中の様々な層についての層厚さ対光学繰り返し単位番号の例示的なプロットである。この場合、光学繰り返し単位の各々について、Ａ層の平均厚さは、第１～第４の個別の層の他の各層の平均厚さよりも少なくとも２．５倍大きく、Ｃ層の平均厚さは、第１～第４の個別の層の他の各層の平均厚さとは少なくとも２．５倍異なり、これは、Ｃ層がＢ１及びＢ２の各々よりも少なくとも２．５倍厚く、Ｃ層がＡ層よりも少なくとも２．５倍薄いためである。図１９は、層材料が図１６～図１７について記載された通りである場合の、図１８の層厚さプロファイルから決定された波長の関数としての複数の光学繰り返し単位の計算された光透過率のプロットである。この場合、Ａ層は、０．６８のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の一方）を有し、Ｂ１層及びＢ２層の各々は、０．０７５のｆ比を有し、Ｃ層は、０．１７のｆ比（例えば、ｆ１及びｆ３の他方）を有する。

図２０Ａ～図２０Ｂは、図１６～図１９について説明した層材料について、一次及び二次反射帯域それぞれの相対反射強度を示す等高線図である。光学繰り返し単位の光学的厚さは一定に保たれ、２つのＢ層のｆ比は互いに等しく保たれるが、Ａ層及びＣ層のｆ比は、変化する。図２０Ｂは、高い二次高調波抑制の２つの領域を示す。これらの領域の一方は、０＜ｆ_Ａ≦０．４及び０．４５≦ｆ_Ｃ≦０．８によって特徴付けられてもよく、これらの領域の他方は、０．４５≦ｆ_Ａ≦０．８及び０＜ｆ_Ｃ≦０．４によって特徴付けられてもよい。

例えば、図７、図９、及び図１０Ａ～図１０Ｂから、又は図１２、図１４、及び図１５Ａ～図１５Ｂから、又は図１７、図１９、及び図２０Ａ～図２０Ｂから、任意の二次帯域を強く抑制して保ちながら、一次帯域の強度を調整することができることが分かる。これにより、可視波長範囲において高い透過率を維持しながら、近赤外波長範囲において所望の反射率を達成することができる。

いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、複数の光学繰り返し単位１０を含み、複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の数は、合計で約１０超である。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の各々は、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含む。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の各々について、第２及び第４の個別の層の各々の平均厚さは、第１及び第３の個別の層の各々の平均厚さよりも少なくとも２倍小さい、又は第１及び第３の個別の層の同じ１つの平均厚さは、第１～第４の個別の層の他の各層の平均厚さとは少なくとも２．５倍異なり、第１及び第３の個別の層は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有し、０．４４≦ｆ１≦０．５５かつ０．０２≦ｆ３≦０．５５であり、第２及び第４の個別の層は、同じ面内ｘ方向に沿ってそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ１＜ｎｘ２＜ｎｘ３かつｎｘ１＜ｎｘ４＜ｎｘ３であり、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光に対して、多層光学フィルムは、約６００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有し、一次反射帯域は、ピーク高さＲｐ１を有する第１の反射ピークを有し、多層光学フィルム３００の任意の二次反射帯域は、ピーク高さＲｐ２を有する反射ピークを有し、Ｒｐ１／Ｒｐ２≧５であるようになっている。いくつかの実施形態では、｜ｎｘ２－（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２｜及び｜ｎｘ４－（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２｜は、各々０．０３より大きい。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、ｎｘ１＜ｎｘ２＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２かつｎｘ１＜ｎｘ４＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２である。

いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、複数の光学繰り返し単位１０を含み、複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の数は、合計で約１０超である。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の各々は、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含む。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の各々について、第２及び第４の個別の層の各々の平均厚さは、第１及び第３の個別の層の各々の平均厚さよりも少なくとも２倍小さい、又は第１及び第３の個別の層の同じ１つの平均厚さは、第１～第４の個別の層の他の各層の平均厚さとは少なくとも２．５倍異なり、第１及び第３の個別の層は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有し、０．４５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ３≦０．４であり、第２及び第４の個別の層は、同じ面内ｘ方向に沿ってそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ２及びｎｘ４の各々は、ｎｘ１及びｎｘ３の各々よりも大きく、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光に対して、多層光学フィルム３００は、約６００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有し、一次反射帯域は、ピーク高さＲｐ１を有する第１の反射ピークを有し、多層光学フィルムの任意の二次反射帯域は、ピーク高さＲｐ２を有する反射ピークを有し、Ｒｐ１／Ｒｐ２≧５であるようになっている。いくつかの実施形態では、ｎｘ２及びｎｘ４の各々は、ｎｘ１及びｎｘ３の各々よりも少なくとも０．０５大きい。

いくつかの実施形態では、多層光学フィルム３００は、複数の光学繰り返し単位１０を含み、複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の数は、合計で約１０超である。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の各々は、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含む。複数の光学繰り返し単位中の光学繰り返し単位の各々について、第１及び第３の個別の層の同じ１つの平均厚さは、第１～第４の個別の層の他の各層の平均厚さとは少なくとも２．５倍異なり、第１及び第３の個別の層は、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有し、０．０２≦ｆ１≦０．１かつ０．０２≦ｆ３≦０．６５であり、第２及び第４の個別の層は、同じ面内ｘ方向に沿ってそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ１＜ｎｘ２＜ｎｘ３かつｎｘ１＜ｎｘ４＜ｎｘ３であり、ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光に対して、多層光学フィルムは、約６００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有し、一次反射帯域は、ピーク高さＲｐ１を有する第１の反射ピークを有し、多層光学フィルムの任意の二次反射帯域は、ピーク高さＲｐ２を有する反射ピークを有し、Ｒｐ１／Ｒｐ２≧５であるようになっている。いくつかの実施形態では、｜ｎｘ２－（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２｜及び｜ｎｘ４－（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２｜は、各々０．０３より大きい。いくつかのそのような実施形態では、又は他の実施形態では、ｎｘ１＜ｎｘ２＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２かつｎｘ１＜ｎｘ４＜（ｎｘ３×ｎｘ１）^１／２である。

本明細書に記載される多層光学フィルムのいずれも、９０度の剥離角度で測定した場合に、少なくとも約１４グラム／インチの、複数の光学繰り返し単位中の個別の層の層間接着力を有することができる。いくつかの実施形態では、複数の光学繰り返し単位中の個別の層の層間接着力は、９０度の剥離角度で測定した場合に、約１６、１８、２０、２２、２５、２７、３０、３２、３５、３７、４０、４５、５０、又は５５グラム／インチより大きい。いくつかの実施形態では、層間接着力は、例えば、最大約５００グラム／インチ、又は最大約３００グラム／インチ、又は最大約２００グラム／インチ、又は最大約１５０グラム／インチ、又は最大約１２０グラム／インチであってもよい。いくつかの実施形態では、層間接着力は、例えば、約１４グラム／インチ～約５００グラム、又は約３０グラム／インチ～約３００グラム／インチの範囲である。剥離力は、Ａ層、Ｂ１層、Ｃ層、及びＢ２層の材料を適切に選択することによって、増加させることができる。例えば、Ｂ１層、Ｂ２層は、Ａ層及びＣ層が互いに不十分な直接結合を有する場合であっても、Ａ層及びＣ層に対して適切な結合を有するように選択することができる。いくつかの実施形態では、Ｂ１層、Ｂ２層は、Ａ層及びＣ層に使用されるポリマーのコポリマーであってもよい。いくつかの実施形態によれば、低いガラス転移温度を有するポリマー、又は低いガラス転移温度を有する（例えば、軟質）ポリマーブロックを含有するブロックコポリマー、又はそれらのブレンドから形成された層は、本明細書に記載される他の層との改善された結合を提供することが見出されている。好適な材料としては、例えば、スチレンブロックコポリマー、アクリルブロックコポリマー、ＰＭＭＡ、ｃｏＰＭＭＡ、又は後者３つのうちのいずれかのブレンドが挙げられる。（Ｂ層又はＢ層の軟質ブロックの）ガラス転移温度は、例えば、１０５℃未満、又は１００℃未満、又は９０℃未満、又は８０℃未満、又は７０℃未満、又は６０℃未満、又は５０℃未満、又は４０℃未満、又は３０℃未満、又は２０℃未満、又は１０℃未満、又は０℃未満、又は－１０℃未満、又は－２０℃未満、又は－３０℃未満、又は－４０℃未満、又は－５０℃未満であってもよい。コポリマーのポリマーブロックのガラス転移温度は、ポリマーブロックのモノマー単位のホモポリマーのガラス転移温度として決定することができる。ブロックコポリマーはまた、例えば、機械的特性のために（例えば、材料取り扱い及び／又は低クリープのために）他の（例えば、硬質）ブロックを含んでもよい。機械的特性のための（例えば、硬質）ブロックは、例えば、５０℃超、又は６０℃超、又は７０℃超、又は８０℃超、又は９０℃超、又は１００℃超、又は１０５℃超のガラス転移温度を有することができる。いくつかの実施形態では、各Ｂ層は、化学的に不活性な、又は実質的に化学的に不活性なポリマー層である。すなわち、いくつかの実施形態では、Ｂ層のポリマーは、Ａ層の材料又はＣ層の材料と共有結合を形成しない、又は隣接する層のいずれかとの結合に無視できる程度の影響しか与えないような共有結合しか形成しない。

Ａ層、Ｂ１層、Ｃ層、及びＢ２層に好適な他の材料は、本明細書の他の箇所に更に記載されている。特定の実施例として、直接隣接するｓＰＳ層及び低融点ＰＥＮ（ｃｏＰＥＮ９０／１０）層で作製された光学ミラーは、９０度の剥離角度で測定した場合、約１１グラム／インチの複数の光学繰り返し単位中の個別の層の層間接着力を有したが、同様に作製されたものの各ｓＰＳ層と低融点ＰＥＮ層との間にスチレンブロックコポリマー層を含んだ光学ミラーは、９０度の剥離角度で測定した場合、約３３グラム／インチの複数の光学繰り返し単位中の個別の層の層間接着力を有した。

図２１は、層間接着力について多層光学フィルム３００を試験する概略図である。多層光学フィルム３００は、両面テープ１５１を介して基材３６０（例えば、剛性ガラス基材）に結合されている。次に、例えばカミソリの刃を使用して、光学フィルム３００に切れ目１７０を形成する。次に、別のテープ片１５２を使用して、切れ目１７０に隣接する光学フィルム３００の一部分３３１の端部３３３を、光学フィルム３００の残りの部分３３２から剥がす。次に、９０度の剥離角度φを画定する基材３６０から離れる方向（ｚ方向）にテープ１５２を引っ張ることによって、剥離力を測定することができる。光学フィルム３００の単位幅（ｘ方向の寸法）当たりの剥離力が層間接着力である。いくつかの実施形態では、剥離力は、１２インチ／分の引張速度（クロスヘッド速度とも呼ばれる）を使用し、少なくとも約５秒の時間にわたって測定された力を平均することによって決定される。いくつかの実施形態では、単位幅当たりの剥離力は、１２インチ／分のクロスヘッド速度が使用されることを除いて、ＡＳＴＭ Ｄ６８６２－１１（２０１６年再承認）試験規格に従って決定される平均剥離抵抗強度である。いくつかの実施形態では、複数の光学繰り返し単位中の個別の層の層間接着力は、少なくとも約１４グラム／インチである、又は層間接着力は、本明細書の他の箇所に記載される任意の範囲であってもよく、層間接着力は、下部３３２が基材３６０に結合されている間に、多層光学フィルム３００の上部３３１を多層光学フィルム３００の下部３３２から９０度の剥離角度で引っ張るために１２インチ／分のクロスヘッド速度が使用されることを除いて、ＡＳＴＭ Ｄ６８６２－１１（２０１６年再承認）試験規格に従って測定される平均剥離抵抗強度として決定される。

「約（about）」などの用語は、これらが本明細書に使用及び記載されている文脈において、当業者によって理解されよう。特徴部のサイズ、量、及び物理的特性を表す量に適用される「約」の使用が、本明細書に使用及び記載されている文脈において、当業者にとって別途明らかではない場合、「約」とは、特定の値の１０パーセント以内を意味すると理解されよう。約特定の値として与えられる量は、正確に特定の値であり得る。例えば、それが本明細書で使用及び記載されている文脈において当業者にとって別途明らかではない場合には、約１の値を有する量とは、その量が０．９～１．１の値を有すること、及び、その値が１である場合もあることを意味する。

上記において参照された参照文献、特許、又は特許出願の全ては、それらの全体が参照により本明細書に一貫して組み込まれている。組み込まれた参照文献の一部と本出願との間に不一致又は矛盾がある場合、前述の記載における情報が優先するものとする。

図面中の要素の説明は、別段の指示がない限り、他の図面中の対応する要素に等しく適用されるものと理解されたい。特定の実施形態が本明細書において図示及び説明されているが、図示及び記載されている特定の実施形態は、本開示の範囲を逸脱することなく、様々な代替的実施態様及び／又は等価の実施態様によって置き換えられ得ることが、当業者には理解されよう。本出願は、本明細書で論じられた特定の実施形態のあらゆる適応例、又は変形例、又は組み合わせを包含することが意図されている。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその均等物によってのみ限定されることが意図されている。

Claims (15)

1. 複数の光学繰り返し単位を備える多層光学フィルムであって、前記複数の光学繰り返し単位中の前記光学繰り返し単位の数が、合計で約１０超であり、前記光学繰り返し単位の各々が、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含み、前記光学繰り返し単位の各々について、
   前記第２及び第４の個別の層の各々の平均厚さが、前記第１及び第３の個別の層の各々の平均厚さよりも少なくとも２倍小さく、
   前記第１及び第３の個別の層が、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有し、
   前記ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光に対して、前記多層光学フィルムが、約６００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有し、前記一次反射帯域が、ピーク高さＲｐ１を有する第１の反射ピークを有し、前記多層光学フィルムの任意の二次反射帯域が、ピーク高さＲｐ２を有する反射ピークを有し、Ｒｐ１／Ｒｐ２≧５であり、前記ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを０．２だけ連続的に変化させるとき、前記比Ｒｐ１／Ｒｐ２が５以上を維持するようになっている、
   多層光学フィルム。
2. 前記第２及び第４の個別の層が、前記同じ面内ｘ方向に沿ってそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ１＜ｎｘ２＜ｎｘ３かつｎｘ１＜ｎｘ４＜ｎｘ３である、請求項１に記載の多層光学フィルム。
3. ０．４４≦ｆ１≦０．５５かつ０．０２≦ｆ３≦０．５５である、請求項２に記載の多層光学フィルム。
4. 前記第２及び第４の個別の層が、前記同じ面内ｘ方向に沿ってそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ２及びｎｘ４の各々が、ｎｘ１及びｎｘ３の各々よりも大きい、請求項１に記載の多層光学フィルム。
5. ０．４５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ３≦０．４である、請求項４に記載の多層光学フィルム。
6. 複数の光学繰り返し単位を備える多層光学フィルムであって、前記複数の光学繰り返し単位中の前記光学繰り返し単位の数が、合計で約１０超であり、前記光学繰り返し単位の各々が、少なくとも４つの順次配置された第１～第４の個別の層を含み、前記光学繰り返し単位の各々について、
   前記第１及び第３の個別の層の同じ１つの平均厚さが、前記第１～第４の個別の層の他の各層の平均厚さとは少なくとも２．５倍異なり、
   前記第１及び第３の個別の層が、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率ｎｘ１及びｎｘ３に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ３を有し、
   前記ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光に対して、前記多層光学フィルムが、約６００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有し、前記一次反射帯域が、ピーク高さＲｐ１を有する第１の反射ピークを有し、前記多層光学フィルムの任意の二次反射帯域が、ピーク高さＲｐ２を有する反射ピークを有し、Ｒｐ１／Ｒｐ２≧５であり、前記ｆ比ｆ１及びｆ３のうちの少なくとも１つを０．２だけ連続的に変化させるとき、前記比Ｒｐ１／Ｒｐ２が５以上を維持するようになっている、
   多層光学フィルム。
7. 前記第２及び第４の個別の層が、前記同じ面内ｘ方向に沿ってそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ１＜ｎｘ２＜ｎｘ３かつｎｘ１＜ｎｘ４＜ｎｘ３である、請求項６に記載の多層光学フィルム。
8. ０．０２≦ｆ１≦０．１かつ０．０２≦ｆ３≦０．６５である、請求項７に記載の多層光学フィルム。
9. ０．４４≦ｆ１≦０．５５かつ０．０２≦ｆ３≦０．５５である、請求項７に記載の多層光学フィルム。
10. 前記第２及び第４の個別の層が、前記同じ面内ｘ方向に沿ってそれぞれの屈折率ｎｘ２及びｎｘ４を有し、ｎｘ２及びｎｘ４の各々が、ｎｘ１及びｎｘ３の各々よりも大きい、請求項６に記載の多層光学フィルム。
11. ０．４５≦ｆ１≦０．８かつ０．０２≦ｆ３≦０．４である、請求項１０に記載の多層光学フィルム。
12. 複数の光学繰り返し単位を備える多層光学フィルムであって、前記複数の光学繰り返し単位中の前記光学繰り返し単位の数が、合計で約１０超であり、前記光学繰り返し単位の各々が、少なくとも４つの個別の層を含み、前記光学繰り返し単位の各々の前記少なくとも４つの個別の層の第１及び第２の個別の層が、同じ面内ｘ方向のそれぞれの屈折率に対してそれぞれのｆ比ｆ１及びｆ２を有し、０．５≦ｆ１≦０．８、０．０２≦ｆ２≦０．３であり、
    前記ｘ方向に沿って偏光された実質的に垂直に入射する光に対して、前記多層光学フィルムが、約７００ｎｍ超の波長に配置された一次反射帯域を有し、少なくとも二次反射帯域を有さず、
    前記光学繰り返し単位の各々の前記少なくとも４つの個別の層の少なくとも第３の層が、約７５ｎｍ未満の平均厚さを有するようになっている、
    多層光学フィルム。
13. 前記少なくとも前記第３の層が、前記第１及び第２の個別の層の前記ｘ方向に沿った前記屈折率の各々よりも大きい、前記ｘ方向に沿った屈折率を有する、請求項１２に記載の多層光学フィルム。
14. ０．０２≦ｆ２≦０．２５である、請求項１２又は１３に記載の多層光学フィルム。
15. ０．５５≦ｆ１≦０．８である、請求項１２～１４のいずれか一項に記載の多層光学フィルム。

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