JP2024502947A - 電気塩素化方法のための電解槽および自己洗浄型電気塩素化システム - Google Patents

Abstract

本発明は、ブラインの循環に適した入口および出口を備えたハウジングと、前記ハウジング内で互いに対向して位置付けされた少なくとも１対の双極電極と、を含む塩素化電解槽に関する。電解槽は、前記少なくとも１対の各双極電極が、バルブ金属基材と、前記基材の上に被着されたルテニウムおよびチタンを含む触媒組成物の少なくとも１つの層を含む活性被覆と、前記活性被覆の上に被着されたタンタル、ニオブ、スズまたはそれらの組み合わせの酸化物を含む組成物の少なくとも１つの層を含む頂部被覆と、を含むことを特徴とする。本発明は、そのような電解槽を含む自己洗浄型電気塩素化システム、その製造方法、次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための、通常塩分プールおよび低塩分プールにおけるその使用、ならびに次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための方法にも関する。【選択図】なし

Description

本発明は、極性反転条件下で稼働する塩素化電解槽、その製造方法、および自己洗浄型電気塩素化システムに関する。

電気塩素化方法は、電解反応によって塩水において次亜塩素酸塩を生成することから構成される。得られる次亜塩素酸ナトリウムは、飲料水、スイミングプールの水処理または冷却塔の微生物制御など、水の消毒と酸化に関するさまざまな用途に利用できる。

次亜塩素酸ナトリウムはバクテリア、ウイルスおよび真菌に対して有効で、微生物がその効果に対する耐性を獲得できないという利点がある。

同様の結果を得るために水に添加され得る塩素ガスまたは錠剤とは対照的に、電気塩素化方法では活性化学物質がその場で生成されるため、輸送、環境、および／または貯蔵の問題が回避される。この方法は、少なくとも２つの電極と、ブライン、つまり用途に応じてさまざまな濃度の塩および水の混合物とを含む電解質と、を含む電解槽に適切な電流を印加することによって実施される。電気化学反応の結果、次亜塩素酸ナトリウムおよび水素ガスが生成する。

バルブ金属および貴金属、特に白金族からの希少遷移金属の混合物を含む活性被覆組成物を備えたチタン電極は、これらのタイプの槽においてアノードとして過去に成功裏に使用されてきた。しかしながら、時間の経過とともに、電極の活性表面にスケールが発生し、槽の次亜塩素酸塩生成効率に悪影響を及ぼす。

スケールの形成を防止／軽減するために、電極の自己洗浄を促進するように周期的な極性反転を電極に適用することができる。極性を反転させるとまた、電極間のイオンブリッジが減少し、電極の偏った磨耗を防止する可能性がある。

各電極が交互にカソードおよびアノードとして機能する極性反転条件下では、活性被覆組成物に時折使用される一部の元素が不安定になり、数回の反転サイクル後に電解質に溶解するため、電極の寿命が不十分になる。

一般に、極性反転は、電極の活性被覆にとって有害な操作であり、剥離による電極の不活性化を急速に引き起こす。

これらの問題を軽減するには、極性反転条件下で使用される双極電極に、各電極がアノードまたはカソードとしてのみ機能する場合よりもはるかに高い被覆充填量を備える必要がある。一般に、電極の耐久性は極性反転頻度と被覆充填量に依存する。

被覆充填量の増加は、材料の量と製造方法の長期化の両方の点で、電極のコストに悪影響を及ぼす。さらに、多くの活性被覆組成物は入手困難な希少遷移金属に依存しているため、充填量の増加もいくつかの関連する調達問題を悪化させる。

広範な考え得る用途および稼働条件下で、改善された寿命および効率を示し、場合によっては低減された製造コストを維持する、電気塩素化システム用の自己洗浄型電極を有することが望ましい。通常塩分プールおよび低塩分プール、すなわち、６ｇ／Ｌ以下の塩分レベル（一般的には、低塩分用途では、０．５～２．５ｇ／Ｌ ＮａＣｌ、通常塩分用途では、２．５～４ｇ／Ｌ ＮａＣｌ）で稼働するプールにおいて、そのような電気塩素化システムを使用することは、さらに望ましい。

国際特許出願ＷＯ２０１９／２１５９４４Ａ１には、中間層の局所的な貴金属サイトでの酸素発生のための酸素過電圧を高めるために、厚い誘電体表面層を有する電極を備えたオゾン発生用電解槽を記載している。これらの電極は、塩素の生成にも、極性反転条件下での稼働にも適していない。

本発明は、ブラインの循環に適した入口および出口を備えたハウジングと、前記ハウジング内で互いに対向して位置付けされた少なくとも１対の双極電極と、を含む塩素化電解槽に関する。各双極電極は、（ｉ）バルブ金属基材と、（ｉｉ）前記基材の上に被着されたルテニウムおよびチタンを含む触媒組成物の少なくとも１つの層を含む活性被覆と、（ｉｉｉ）前記活性被覆の上に配置されたタンタル、ニオブ、スズ、またはそれらの組み合わせの酸化物を含む組成物の少なくとも１つの層を含む頂部被覆と、を含む。

別の態様では、本発明は、（ｉ）上述の塩素化電解槽と、（ｉｉ）前記電解槽内を循環する１～３０ｇ／ＬのＮａＣｌブライン溶液を含む電解質と、（ｉｉｉ）双極電極に電気的に接続され、電解槽のハウジングの外側に配置された１対の双極電極の極性を周期的に反転させるための電子システムと、を含む自己洗浄型電気塩素化システムに関する。

別の態様では、本発明は、本発明による塩素化電解槽を製造する方法に関する。

別の態様では、本発明は、次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための、通常塩分プールおよび低塩分プールにおける上述の塩素化電解槽の使用に関する。

さらに別の態様では、本発明は、極性反転条件下で上述の塩素化電解槽を使用する次亜塩素酸塩を介した水の消毒の方法に関する。

一態様において、本発明は、ブラインの循環に適した入口および出口を備えたハウジングと、前記ハウジング内で互いに対向して位置付けされた少なくとも１対の双極電極と、を含む塩素化電解槽であって、前記１対の各双極電極は、（ｉ）バルブ金属基材と、（ｉｉ）前記基材の上に被着されたルテニウムおよびチタンを含む触媒組成物の少なくとも１つの層を含む活性被覆と、（ｉｉｉ）前記活性被覆の上に被着されたタンタル、ニオブ、スズ、またはそれらの組み合わせの酸化物を含む組成物の少なくとも１つの層を含む頂部被覆と、を含む塩素化電解槽に関する。

ルテニウムおよびチタンを含む触媒組成物の少なくとも１つの層は、その電気的特性の点で本質的に均一な層である。触媒組成物の少なくとも１つの層は、その形態学的特性の点でも均一であり、本質的にルテニウムおよびチタンを含む固溶体、好ましくは金属が主に酸化物、すなわち酸化ルテニウムおよび酸化チタンである均一な固溶体を構成する。

本発明による塩素化電解槽は、プール、廃水消毒（都市用水処理、雑排水処理、海水塩素化など．．．）などのさまざまな用途において次亜塩素酸塩を介した水の消毒に使用することができる。

それは、極性反転条件下で有利に稼働することができ、それによって電極の自己洗浄を確実にし、スケールの形成を回避することができる。

１対の各電極は、片面または両面を被覆することができる。慣例通り、２つの対向する電極は、被覆された面が互いに向き合うように配置される必要がある。

塩素化電解槽は、複数の双極電極対を備えることができ、その結果、互いに実質的に平行に配置された被覆電極の積層体が得られる。

ハウジングは、双極電極対を外部発電機に電気的に接続できるように設計されるものとする。発電機は、この分野で周知であるように、水の夾雑物や水の硬度などの用途や稼働条件に応じて、通常は３０分～１０時間の範囲の事前設定された頻度で電極の極性を反転させるシステムを、有利に装備することができる。

バルブ金属基材は、限定はされないが、スラブ、パンチングシート、メッシュ、ルーバーなど、この分野で一般に使用される任意の形状であってよい。耐久性、コスト、および表面処理の容易さから、基材はチタンで作られることが好ましい。

活性被覆を適用する前に、適切な接着を確実にするために、基材を洗浄し、サンドブラストし、エッチングすることが好ましい。

活性被覆は、ローラーコーター、刷毛塗り、およびスプレー技術を用いて、バルブ金属基材の上に直接被着させることができる。あるいは、特許請求の範囲に記載された本発明は、例えば、活性被覆の接着を改善するために、基材と活性被覆との間に中間被覆を挿入することを可能にする。この場合、後者は、たとえ間接的であっても、依然として基材の上に被着されているとみなされるものとする。

一実施形態では、本発明による塩素化電解槽の触媒組成物は、元素に対する重量百分率で表して２５％～４５％のルテニウムおよび５５％～７５％のチタンを含む。

別の実施形態では、触媒組成物は、スカンジウム、ストロンチウム、ハフニウム、ビスマス、ジルコニウム、アルミニウム、銅、ロジウム、イリジウム、白金、パラジウムおよびそれらの相互の組み合わせからなる群から選択される２％～５％のドーピング元素を任意に含んでもよい。これらのドーパントは、塩素化電解槽の寿命および遊離有効塩素の効率の向上に有利に寄与することができる。

上記の実施形態のいずれかによる活性被覆の上に、タンタル、ニオブ、または酸化スズ（組み合わせまたは個別に）の絶縁性頂部被覆を適用することにより、電極の所与の寿命目標に対して、効率に影響を与えることなくＲｕの充填量を最大３８％まで低減することができる。

Ｒｕの充填量の減少により、特に本発明の頂部被覆組成物に使用される金属酸化物と比較して、その希少性とその結果としての調達およびコストの問題のゆえに、重大な利点がもたらされる。

本発明者らは、ＳｎがＴａまたはＮｂよりも活性層へのＣｌ^－イオンの拡散を良好にする酸化物を形成すると思われるため、酸化スズの頂部被覆が本発明の実施において特に良好に機能することを発見した。また、Ｓｎ頂部被覆は、例えば、酸化タンタル表面で観察され得る典型的な亀裂の原因となる転位を形成する傾向が低いため、亀裂の少ない表面を形成する。表面の亀裂が少ないため、電解質による活性層の不安定な部分の溶解が防止される。

さらなる実施形態では、頂部被覆は、活性層の遊離有効塩素（ＦＡＣ）の効率の維持に寄与する可能性があるため、０．５～７ミクロンの間の十分に薄いことが好ましい。

上記のいずれの実施形態でも、活性被覆は、１～３０ｇ／ｍ^２のルテニウムの充填量を有してもよく、これは、例えば、海水塩素化装置の用途などの６ｇ／Ｌを超える（しかし、好ましくは３０ｇ／Ｌ未満）塩分濃度の用途、およびプールで見られる０．５～４ｇ／Ｌなどの６ｇ／Ｌ未満の塩分濃度の用途の両方に機能することができる。

プール用途では、頂部被覆は２～６ｇ／ｍ^２の総充填量を有することが好ましい。

本発明を特定の理論に限定するものではないが、本発明による頂部被覆は、バリアではなくネットを形成し、気泡の摩擦による活性被覆表面の機械的磨耗を低減し、極性の反転が起こると、材料を部分的に溶解した状態に保持し、それによって、被覆の剥離や、電解質中のルテニウムおよびその他の任意選択のドーパントの溶解が防止される。同時に、頂部被覆の多孔性と薄さにより、電解質が活性被覆の触媒の中心に到達することが可能になる。

別の態様では、本発明は、（ｉ）上述の塩素化装置電解槽と、（ｉｉ）前記電解槽内を循環する１～３０ｇ／ＬのＮａＣｌブライン溶液を含む電解質と、（ｉｉｉ）電解槽の双極電極の極性を周期的に反転させるための電子システムであって、電子システムが好ましくは電解槽のハウジングの外側に配置され、双極電極に電気的に接続される電子システムと、を含む自己洗浄型電気塩素化システムに関する。

双極電極の極性を周期的に反転させる電子システムには、３０分～１０時間の範囲で事前設定された時間間隔で双極電極の極性を反転させることが可能になる内部時計が装備されている。

プール用途において、本発明者らは、電子システムが１～４時間の事前設定された間隔で双極電極対の極性を反転させる場合に、本発明による自己洗浄型電気塩素化システムが特に良好に機能することを観測した。

並列に接続された５～１５個の双極電極対を含む積層体が、本発明の実施において有益であることが判明した。

本発明による電子システムは、およそ２００～６００Ａ／ｍ^２、好ましくは２００～４００Ａ／ｍ^２の電流密度で有利に稼働することができる。

別の態様では、本発明は、
ａ）ルテニウムおよびチタンの前駆体を含む活性被覆溶液をバルブ金属基材に適用し、これにより被覆された基材を得、
ｂ）被覆された基材を４５０～５５０℃の温度で２～１０分間焼成し、
ｃ）所望のルテニウム充填量に達するまで、工程ａ）およびｂ）を繰り返し、
ｄ）タンタル、ニオブ、スズ、またはそれらの組み合わせの前駆体を含む頂部被覆溶液を、被覆された基材に適用し、
ｅ）被覆された基材を４５０～５５０℃の温度で２～１０分間焼成し、
ｆ）タンタル、ニオブ、スズまたはそれらの組み合わせの所望の充填量が達成されるまで、工程ｄ）およびｅ）を繰り返し、
ｇ）４５０～５５０℃の範囲の温度で最終熱処理を行う
という連続経路に従って少なくとも１対の双極電極の各電極を製造する工程を含む、前述の塩素化電解槽の製造方法に関する。

ルテニウムおよびチタンの前駆体、ならびにタンタル、ニオブまたはスズの前駆体は、金属のメトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、塩化物、硝酸塩、ヨウ化物、臭化物、硫酸塩または酢酸塩、およびそれらの混合物からなる群から選択される化合物である。

場合により、工程ａ）の後および／または工程ｄ）の後に、被覆された基材を２０～８０℃の温度で２～１０分間空気乾燥してもよい。

一般に、本発明による塩素化電解槽は、特に双極電極構造に関して、活性被覆の貴金属充填量を低減するために、または、同一の充填量が適用された場合にＦＡＣ効率を損なうことなく寿命を延長することを示すために、極性反転を受ける次亜塩素酸塩製造のあらゆる用途において成功裏に用いることができる。

本発明者らは、塩素化電解槽が、０．５～４ｇ／Ｌの塩分濃度で稼働するプール用途で特によく機能することを発見した。

さらなる態様では、本発明は、次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための、通常塩分プールおよび低塩分プールにおける本発明による塩素化電解槽の使用、すなわち、６ｇ／Ｌ以下の塩分レベル（一般的には、低塩分用途では、０．５～２．５ｇ／Ｌ ＮａＣｌ、通常塩分用途では、２．５～４ｇ／Ｌ ＮａＣｌ）で稼働するプールでの使用、を対象とする。

以下の実施例は、本発明を実践に移す特定の方法を示すために含まれており、その実用性は、特許請求の範囲の値において大部分が検証されている。

本発明は、次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための方法であって、
ａ）１～３０ｇ／ＬのＮａＣｌブライン溶液を含む電解質を、上で定義した少なくとも１つの塩素化電解槽内で循環させる工程であり、前記塩素化電解槽が１つまたは複数の双極電極対を含む、塩素化電解槽内で循環させる工程と、
ｂ）前記双極電極対に電流を印加して、前記ＮａＣｌブライン溶液中に次亜塩素酸塩を生成する工程と、
ｃ）前記電流の印加中に、少なくとも１対の双極電極の極性を周期的に反転させる工程と、を含む、次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための方法にも関する。

本発明の一実施形態によれば、前記少なくとも１対の双極電極の極性は、１分～２０時間の範囲、好ましくは３０分～１０時間の範囲、および特に好ましくは１時間～４時間の範囲から選択される時間間隔で反転される。

本発明の好ましい実施形態では、電流は、２００～６００Ａ／ｍ^２の範囲、好ましくは２００～４００Ａ／ｍ^２の範囲から選択される電流密度で、前記少なくとも１対の双極電極に印加される。

当業者であれば、以下に開示される装置、組成物および技術は、本発明の実施において良好に機能することが本発明者らによって見出された装置、組成物および技術を表していることを理解すべきであるが、当業者らは本開示に照らして、開示される特定の実施形態において多くの変更を行うことができ、それでも本発明の範囲から逸脱することなく同様のまたは類似の結果を得ることができることを理解すべきである。

実験の準備
以下の実施例、反例で使用したすべての電極試料において、１対の双極電極のバルブ金属基材を、１００ｍｍ×１００ｍｍ×１ｍｍの大きさのグレード１チタンプレートから出発して、超音波浴中で、アセトンで脱脂し、次いでブラスト処理および２２％濃度の完全沸騰ＨＣｌエッチングに付して、製造した。

電極試料Ｅ１、Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、および試料Ｃ１～Ｃ３の調製に使用した触媒溶液は、ルテニウムおよびチタンの塩化物塩を１０％のＨＣｌ水溶液に溶解することにより得られ、各触媒溶液中のルテニウムの最終濃度が４５ｇ／Ｌになるように、元素を基準とした重量パーセントでＲｕ：Ｔｉの比率が２８：７２に等しくなるようにした。

このように調製した溶液を、３０分間撹拌した。

すべての電極試料Ｅ１、Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｃ１～Ｃ３において、チタン基材を、０．８ｇ／ｍ^２のルテニウムの増加率で刷毛による適用を用いて、上述の触媒溶液で被覆した。

各被覆を適用した後、試料を５００～５５０℃の温度で１０分間焼成した。

以下の表１に従ったルテニウムの総充填量が達成されるまで、上記のコーティング手順を各試料Ｅ１、Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｃ１～Ｃ３について繰り返した。

実施例１
「実験の準備」から得られた試料Ｅ１を、最終濃度４０ｇ／Ｌに達するまで、酢酸で希釈した酢酸Ｓｎ溶液から得た頂部被覆溶液でさらに被覆した。頂部被覆溶液をブラシで４層に適用し、総Ｓｎ充填量を４．５ｇ／ｍ^２とした。各層の後、続けて試料を、５００～５５０℃の温度で１０分間焼成した。

最後の層の後、試料を、５００～５５０℃の温度で３時間ポスト焼成処理した。

試料電極Ｅ１を、以下の加速試験手順に従って試験した。１対の同一の電極試料を、入口および出口を備え、電極間ギャップが３ｍｍで、４ｇ／ＬのＮａＣｌおよび７０ｇ／ＬのＮａ_２ＳＯ_４の水溶液１Ｌを含むハウジング内に２５℃で設置した。

電極対を、１０００Ａ／ｍ^２の電流密度で稼働させ、試験期間中、１分毎に極性反転に付した。電極対を、電池電圧が８．５ボルト（触媒組成物中のルテニウムのｇ／ｍ^２毎の時間で測定した「加速寿命」）を超えるまで、試験条件を維持した。

結果を表２に記録する。

表２に記載するように、１４５時間オンライン（ＨＯＬ）に相当する時間単位のＥ１寿命性能が、双極電極の目標性能として選択された。

試料のＦＡＣを、３ｇ／ＬのＮａＣｌ水溶液中、３００Ａ／ｍ^２で、温度２５℃で測定した。

実施例２
試料Ｅ２、つまり「実験の準備」から得られたＥ２ａおよびＥ２ｂを両方とも、８０ｇのＴａＣｌ_５を１Ｌの濃度２０％のＨＣｌに溶解し、その溶液を室温で３０分間撹拌することによって得られた頂部被覆溶液でさらに被覆した。各Ｅ２試料について、頂部被覆溶液をブラシで１層に適用し、総Ｔａ充填量を１ｇ／ｍ^２とした。試料を、最初に３００～３５０℃の温度で１０分間焼成し、次いで５００～５５０℃で１０分間焼成した。

試料Ｅ２を、実施例１に記載したのと同じ試験手順に従って試験した。

試料Ｅ２の結果を分析し、Ｅ１の目標性能を満たした唯一の試料はＥ２ｂであった。その性能を表２に示す。

反例１
試料Ｃ、つまり「実験の準備」から得られたＣ１～Ｃ３を、５００～５５０℃の温度で３時間後焼成処理し、実施例１に記載した試験手順によって試験した。

試料Ｃの結果を分析し、Ｅ１の目標性能を満たした唯一の試料はＣ３であった。その性能を表２に示す。

前述の記載は本発明を限定することを意図するものではなく、それは本発明の範囲から逸脱することなく異なる実施形態に従って使用することができ、その範囲は添付の特許請求の範囲によってのみ定義される。

本出願の明細書および特許請求の範囲の全体にわたって、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」という用語、ならびに「含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」および「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」のようなその変形は、他の要素、成分、またはさらなる加工工程の存在を排除することは意図しない。

文献、行為、材料、装置、物品などの考察は、本発明の背景を提供する目的のみのために本明細書に含まれている。これらの事項のいずれかまたはすべては、本出願の各請求項の優先日前に、先行技術の基礎の一部を形成したこと、または本発明に関連する分野における共通の一般知識であったことを示唆または意味するものではない。

Claims (14)

1. － ブラインの循環に適した入口および出口を備えたハウジングと、
   － 前記ハウジング内で互いに対向して位置付けされた少なくとも１対の双極電極と、を含む塩素化電解槽であって、
   前記少なくとも１対の各双極電極が、
   － バルブ金属基材と、
   － 前記基材の上に配置されたルテニウムおよびチタンを含む触媒組成物の少なくとも１つの層を含む活性被覆と、
   － 前記活性被覆の上に配置されたタンタル、ニオブ、スズの酸化物、またはそれらの組み合わせを含む組成物の少なくとも１つの層を含む頂部被覆と、
   を含むことを特徴とする、塩素化電解槽。
2. 前記触媒組成物が、元素に対する重量百分率で表して２５％～４５％のルテニウムおよび５５％～７５％のチタンを含む、請求項１に記載の塩素化電解槽。
3. 前記触媒組成物が、スカンジウム、ストロンチウム、ハフニウム、ビスマス、ジルコニウム、アルミニウム、銅、ロジウム、イリジウム、白金、パラジウムおよびそれらの相互の組み合わせからなる群から選択される２％～５％のドーピング元素をさらに含む、請求項２に記載の塩素化電解槽。
4. 前記活性被覆が１～３０ｇ／ｍ^２のルテニウムの充填量を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の塩素化電解槽。
5. 前記頂部被覆が酸化スズからなる、請求項１から４のいずれか一項に記載の塩素化電解槽。
6. 前記頂部被覆が０．５～７ミクロンの厚さを有する、請求項１から５のいずれか一項に記載の塩素化電解槽。
7. 前記頂部被覆が２～６ｇ／ｍ^２の総充填量を有する、請求項１から６のいずれか一項に記載の塩素化電解槽。
8. 前記バルブ金属基材がチタンである、請求項１から７のいずれか一項に記載の塩素化電解槽。
9. － 請求項１から８のいずれか一項に記載の塩素化電解槽と、
   － 前記塩素化電解槽内を循環する１～３０ｇ／ＬのＮａＣｌブライン溶液を含む電解質と、
   － 少なくとも１対の双極電極の極性を周期的に反転させ、双極電極に電気的に接続されるための電子システムと、
   を含む自己洗浄型電気塩素化システム。
10. 請求項１から８のいずれか一項に記載の塩素化電界層の製造のための方法であって、
    ａ）ルテニウムおよびチタンの前駆体を含む活性被覆溶液をバルブ金属基材に適用し、これにより被覆された基材を得、
    ｂ）被覆された基材を４５０～５５０℃の温度で２～１０分間焼成し、
    ｃ）所望のルテニウム充填量に達するまで、工程ａ）およびｂ）を繰り返し、
    ｄ）タンタル、ニオブ、スズ、またはそれらの組み合わせの前駆体を含む頂部被覆溶液を、被覆された基材に適用し、
    ｅ）被覆された基材を４５０～５５０℃の温度で２～１０分間焼成し、
    ｆ）タンタル、ニオブ、スズまたはそれらの組み合わせの所望の充填量が達成されるまで、工程ｄ）およびｅ）を繰り返し、
    ｇ）４５０～５５０℃の範囲の温度で最終熱処理を行う、
    という連続的経路に従って少なくとも１対の双極電極の各電極を製造する工程を含み、
    ルテニウムおよびチタンの前記前駆体、ならびにタンタル、ニオブまたはスズの前記前駆体が、金属のメトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、塩化物、硝酸塩、ヨウ化物、臭化物、硫酸塩または酢酸塩、およびそれらの混合物からなる群から選択される化合物である、
    塩素化電解槽の製造方法。
11. 次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための、通常塩分プールおよび低塩分プールにおける、請求項１から８のいずれか一項に記載の塩素化電解槽の使用。
12. 次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための方法であって、
    ａ）１～３０ｇ／ＬのＮａＣｌブライン溶液を含む電解質を、請求項１から８のいずれか一項に記載の少なくとも１つの塩素化電解槽内で循環させる工程であって、前記塩素化電解槽が１つまたは複数の双極電極対を含む、塩素化電解槽内で循環させる工程と、
    ｂ）前記双極電極対に電流を印加して、前記ブライン溶液中に次亜塩素酸塩を生成する工程と、
    ｃ）前記電流の印加中に、少なくとも１対の双極電極の極性を周期的に反転させる工程と
    を含む、次亜塩素酸塩を介した水の消毒のための方法。
13. 前記少なくとも１対の双極電極の極性が、１分～２０時間の範囲から選択される時間間隔で反転される、請求項１２に記載の方法。
14. 電流が、２００～６００Ａ／ｍ^２の範囲から選択される電流密度で、前記少なくとも１対の双極電極に印加される、請求項１２または１３に記載の方法。