JP2024145916A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JP2024145916A5
JP2024145916A5 JP2023058513A JP2023058513A JP2024145916A5 JP 2024145916 A5 JP2024145916 A5 JP 2024145916A5 JP 2023058513 A JP2023058513 A JP 2023058513A JP 2023058513 A JP2023058513 A JP 2023058513A JP 2024145916 A5 JP2024145916 A5 JP 2024145916A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electromagnet
charged particle
particle beam
bending
offset
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023058513A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2024145916A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2023058513A priority Critical patent/JP2024145916A/ja
Priority claimed from JP2023058513A external-priority patent/JP2024145916A/ja
Priority to TW113111373A priority patent/TW202441551A/zh
Priority to PCT/JP2024/012415 priority patent/WO2024204426A1/ja
Publication of JP2024145916A publication Critical patent/JP2024145916A/ja
Publication of JP2024145916A5 publication Critical patent/JP2024145916A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2023058513A 2023-03-31 2023-03-31 荷電粒子ビーム照射システム、オフセット装置、制御方法 Pending JP2024145916A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023058513A JP2024145916A (ja) 2023-03-31 2023-03-31 荷電粒子ビーム照射システム、オフセット装置、制御方法
TW113111373A TW202441551A (zh) 2023-03-31 2024-03-27 帶電粒子束照射系統、偏移裝置、控制方法
PCT/JP2024/012415 WO2024204426A1 (ja) 2023-03-31 2024-03-27 荷電粒子ビーム照射システム、オフセット装置、制御方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023058513A JP2024145916A (ja) 2023-03-31 2023-03-31 荷電粒子ビーム照射システム、オフセット装置、制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2024145916A JP2024145916A (ja) 2024-10-15
JP2024145916A5 true JP2024145916A5 (https=) 2026-02-27

Family

ID=92905723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023058513A Pending JP2024145916A (ja) 2023-03-31 2023-03-31 荷電粒子ビーム照射システム、オフセット装置、制御方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2024145916A (https=)
TW (1) TW202441551A (https=)
WO (1) WO2024204426A1 (https=)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8063381B2 (en) * 2009-03-13 2011-11-22 Brookhaven Science Associates, Llc Achromatic and uncoupled medical gantry
WO2013069090A1 (ja) * 2011-11-08 2013-05-16 三菱電機株式会社 粒子線治療システムおよびそのビーム位置補正方法
JP6253268B2 (ja) * 2013-06-13 2017-12-27 株式会社日立製作所 粒子線治療装置
JP6906361B2 (ja) * 2017-05-12 2021-07-21 株式会社日立製作所 粒子線治療システム
US10864384B2 (en) * 2019-03-29 2020-12-15 Varian Medical Systems Particle Therapy Gmbh Non-achromatic compact gantry

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6105671B2 (ja) 粒子線治療で使用するビーム分析器を備えるガントリ
JP5143606B2 (ja) 荷電粒子線照射装置
JP5074915B2 (ja) 荷電粒子ビーム照射システム
CN103200993B (zh) 粒子射线治疗装置
JP4591356B2 (ja) 粒子線照射装置及び粒子線治療装置
CN108290052B (zh) 具有能量降级器和消色差最终弯曲系统的粒子治疗机架
TWI421111B (zh) 粒子線照射裝置及粒子線治療裝置
US10300302B2 (en) Particle beam transport system, and segment thereof
JP2012532712A (ja) 粒子線による再スキャン方法のための照射または照射計画
CN101898011A (zh) 粒子射线治疗装置
JP4864787B2 (ja) 粒子線照射システムおよびその制御方法
JP4474549B2 (ja) 照射野形成装置
JP2017209372A (ja) 荷電粒子線治療装置
JP2012099354A (ja) 粒子加速器及びｂｎｃｔ装置
US9937361B2 (en) Particle beam irradiation apparatus
JP6253268B2 (ja) 粒子線治療装置
JP2024145916A5 (https=)
JP5130175B2 (ja) 粒子線照射システム及びこの制御方法
JP2005329252A (ja) 粒子線治療システム
US20190030373A1 (en) Charged particle beam treatment system
JP2018207014A5 (https=)
JP2019126462A (ja) 荷電粒子線治療装置
JP2011050660A (ja) 粒子線治療システム及び粒子線照射方法
JP4591590B2 (ja) 粒子線照射装置及び粒子線治療装置
WO2018181595A1 (ja) 荷電粒子線治療装置