JP2024123693A - 露光装置及び物品の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】原版の変形を抑制して重ね合わせ精度の観点で有利な露光装置。【解決手段】原版のパターンを基板に転写する露光装置であって、前記原版を保持するステージと、前記ステージによって保持された前記原版の前記パターンが形成された第１面とは反対の側の第２面に沿って一方向に第１気体が流れるように、前記第１気体を前記原版の前記第２面の側の空間に送る送風機構と、前記一方向に交差する方向に沿って配列された複数の部材であって、それぞれが平面を含み、当該平面が前記ステージに保持された前記原版の前記第１面の少なくとも一部に対向するように設けられた複数の第１部材と、前記送風機構から前記空間に前記第１気体が送られている状態において前記原版に生じる温度むらが低減されるように、前記複数の第１部材のそれぞれの温度を個別に調整する温調機構と、を有する、ことを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】図２

Description

本発明は、露光装置及び物品の製造方法に関する。

半導体素子などの物品を製造する際に、原版（マスク又はレチクル）のパターンを、投影光学系を介して、感光剤（レジスト）が塗布された基板に投影して転写する露光装置が使用されている。露光装置の重要な性能の１つとして、基板に転写されるパターンの重ね合わせ精度がある。

露光装置に用いられる原版において、パターンを形成するクロム部分の面積が大きいと、露光熱（露光光のエネルギー）がパターン面に蓄積されて、原版の温度が上昇する。このような原版の温度の上昇に伴い、原版の変形（熱膨張）が発生することで、重ね合わせ精度が低下する。そこで、原版に気体（エア）を吹き付けることで原版の温度の上昇を抑制し、原版の変形を低減する技術が開示されている（特許文献１及び２参照）。

特開２０００－２４３６８４号公報 特開２０００－６８１９３号公報

近年、露光装置においては、原版ステージの加速度を向上させるために、原版の周辺部に配置される原版保持部品や原版搬送部品などが増加する傾向にある。このような部品は、原版の温度の上昇を抑制するために原版に吹き付けられる気体の流路（送風路）を妨げる要因となる。従って、従来技術では、原版に対して気体を均一に吹き付けることができずに、原版の変形（熱変形）を低減する効果を十分に得られない可能性がある。

また、露光装置の生産性を向上させるためには、露光光の照度を増大させ、且つ、露光間隔を短くする必要がある。これにより、原版に蓄積される熱量が増加し、原版の変形も大きくなるため、従来技術においては、原版の変形を十分に低減させられるように、原版の温度を調整する温調性能の向上が求められている。

また、露光装置では、プロセスに応じて、露光装置内で保管されている原版ではなく、露光装置外から搬入された原版を用いる場合がある。このような場合、露光装置内外で温度差があると、露光装置外から搬入された原版に変形が発生し、重ね合わせ精度を低下させる要因となる。なお、露光装置外から搬入された原版の温度を露光装置内で安定化させる（露光装置内の管理温度になじませる）ことも考えられるが、待機時間が必要となるため、露光装置の生産性の低下につながる。

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、原版の変形を抑制して重ね合わせ精度の観点で有利な露光装置を提供することを例示的目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、原版のパターンを基板に転写する露光装置であって、前記原版を保持するステージと、前記ステージによって保持された前記原版の前記パターンが形成された第１面とは反対の側の第２面に沿って一方向に第１気体が流れるように、前記第１気体を前記原版の前記第２面の側の空間に送る送風機構と、前記一方向に交差する方向に沿って配列された複数の部材であって、それぞれが平面を含み、当該平面が前記ステージに保持された前記原版の前記第１面の少なくとも一部に対向するように設けられた複数の第１部材と、前記送風機構から前記空間に前記第１気体が送られている状態において前記原版に生じる温度むらが低減されるように、前記複数の第１部材のそれぞれの温度を個別に調整する温調機構と、を有する、ことを特徴とする。

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、例えば、原版の変形を抑制して重ね合わせ精度の観点で有利な露光装置を提供することができる。

本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。 原版ステージによって保持された原版の近傍の構成を示す図である。 温調機構による平面部材の温調の一例を説明するための図である。 原版ステージによって保持された原版の近傍の構成を示す図である。 原版ステージによって保持された原版の近傍の構成を示す図である。 原版ステージによって保持された原版の近傍の構成を示す図である。 原版ステージによって保持された原版の近傍の構成を示す図である。 アライメントマークの位置を計測する計測器の構成を示す図である。 アライメントマークの位置を計測する計測器の構成を示す図である。 原版ステージによって保持された原版の近傍の構成を示す図である。

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。更に、添付図面においては、同一もしくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

図１は、本発明の一側面としての露光装置ＥＸＰの構成を示す概略図である。露光装置ＥＸＰは、物品としての半導体素子、液晶表示素子、磁気記憶媒体などのデバイスの製造工程であるリソグラフィ工程に用いられるリソグラフィ装置である。露光装置ＥＸＰは、原版を介して基板を露光し、原版に形成されたパターンを基板に転写（形成）する露光処理を行う。

露光装置ＥＸＰは、ステップ・アンド・リピート方式やステップ・アンド・スキャン方式を採用し、基板をステップ移動させながら、原版のパターンを基板の複数の領域（ショット領域）に順次転写する。原版のパターンの転写を一括で行う露光装置はステッパと呼ばれ、原版と基板とを走査（スキャン）しながら原版のパターンの転写を行う露光装置はスキャナと呼ばれる。なお、基板をステップ移動させながら原版のパターンを基板に転写する基本的な動作については、ステッパ及びスキャナの両装置で共通する。

また、露光装置ＥＸＰは、露光光（露光波長）として、例えば、波長３６５ｎｍのｉ線、波長２４８ｎｍのＫｅＦエキシマレーザ、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長数ｎｍ～数百ｎｍの極端紫外線（ＥＵＶ）などを用いることが可能である。

露光装置ＥＸＰは、図１に示すように、光源１からの光２で原版６を照明する照明光学系３と、原版６を保持する原版ステージ７とを有する。また、露光装置ＥＸＰは、原版６のパターンを基板９に投影する投影光学系８と、基板９を保持する基板ステージ１１と、制御部ＣＵと、送風機構１２と、を有する。

光源１から射出された所定の波長域の光２（露光光）は、照明光学系３に入射し、ミラー４を介してコンデンサレンズ５に導かれ、原版６のパターン（パターン面）を均一な照度で照明する。照明光学系３には、基板９に照射される光２の積算光量（露光量）を計測する計測器が設けられている。

原版６は、原版搬送装置（不図示）によって露光装置内の所定の位置に搬送され、原版ステージ７に保持（吸着固定）される。露光装置ＥＸＰがスキャナである場合、原版ステージ７の位置は、レーザ干渉計や移動ミラーを含む計測装置で随時計測され、制御部ＣＵにより制御（位置決め）される。

原版６を通過した光２は、投影光学系８に入射する。投影光学系８は、原版６のパターン（の像）を、基板９の所定の領域（１つのショット領域）に重ね合わせて投影する。基板９は、チャック１０を介して基板ステージ１１に保持される。基板ステージ１１の位置は、レーザ干渉計や移動ミラーを含む計測装置で随時計測され、制御部ＣＵにより制御（位置決め）される。露光装置ＥＸＰがスキャナである場合、原版ステージ７と基板ステージ１１とは、制御部ＣＵによって、同期制御される。

制御部ＣＵは、例えば、ＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータ（情報処理装置）で構成される。制御部ＣＵは、記憶部などに記憶されたプログラムに従って露光装置ＥＸＰの各部を統括的に制御して露光装置ＥＸＰを動作させる。制御部ＣＵは、原版６のパターンを基板９に転写する露光処理や露光処理に関連する各種処理を制御する。

送風機構１２は、原版６の温度を調整（温調）して、光２の照射に起因する原版６の変形（熱変形）を抑制するために、原版６の近傍に設けられている。送風機構１２は、原版ステージ７に保持された原版６に対して、露光装置内の管理温度と同じ温度になるように設定された気体（第１気体）、例えば、クリーンドライエアを送風する。送風機構１２において、気体を送風するための送風口（開口）には、ダクト形状、或いは、ノズル形状を選択することが可能である。送風機構１２の送風口としてノズル形状を選択する場合、送風機構１２の送風口としてダクト形状を選択する場合よりも気体の風速を上げることができる。

送風機構１２は、原版ステージ７の周囲の空間、詳細には、原版ステージ７によって保持された原版６のパターンが形成されているパターン面ＰＳ（第１面）とは反対の側の非パターン面ＮＳ（第２面）の側（非パターン面上）の空間ＳＰ１に気体を送る。この際、送風機構１２は、原版ステージ７によって保持された原版６の非パターン面ＮＳ（第２面）に沿って一方向に気体が流れるように、空間ＳＰ１に気体を送る。

但し、送風機構１２から空間ＳＰ１に気体を送っていても、原版６に照射される光２の照度の増大、原版６の非パターン面ＮＳにおける送風機構１２から送られる気体の流速、流量及び温度のばらつきなどに起因して、原版６に温度むらが生じる場合がある。このような原版６に生じる温度むらは、原版６を変形させる要因となるため、送風機構１２だけでは、原版６の変形を十分に抑制することができない。

そこで、本実施形態では、送風機構１２から空間ＳＰ１に気体が送られている状態において原版６に生じる温度むらを低減するために、露光装置ＥＸＰは、送風機構１２とは別に、原版６の温度を調整（温調）するための部材や機構を有する。以下、送風機構１２から空間ＳＰ１に気体が送られている状態において原版６に生じる温度むらを低減するための部材や機構の具体的な構成について、各実施形態で説明する。

＜第１実施形態＞
図２（ａ）及び図２（ｂ）は、原版ステージ７によって保持された原版６の近傍の構成を示す図であって、図２（ａ）は、原版６を側面から示す図であり、図２（ｂ）は、原版６を上面から示す図である。

本実施形態において、原版６のパターン面ＰＳには、図２（ａ）に示すように、パターン面ＰＳを保護するペリクル部材１４が設けられている。原版６のパターン面ＰＳは、図２（ｂ）に示すように、パターンが形成されたパターン領域ＰＴＲと、パターン領域ＰＴＲを囲む周辺領域ＰＰＲと、を含む。また、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、本実施形態では、送風機構１２から空間ＳＰ１に気体が送られている状態において原版６に生じる温度むらを低減するために、複数の平面部材１３（第１部材）、及び、温調機構１５が設けられている。

複数の平面部材１３は、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の送風方向（原版６の非パターン面ＮＳに沿って気体が流れる方向（一方向））に交差する方向に沿って配列される。複数の平面部材１３は、それぞれ、平面ＦＳを含み、かかる平面ＦＳが原版ステージ７に保持された原版６のパターン面ＰＳの少なくとも一部に対向するように設けられている。本実施形態では、複数の平面部材１３は、原版６のパターン面ＰＳに設けられたペリクル部材１４を避けて、ペリクル部材１４を囲むように設けられた第１平面部材１３ａ（第１周辺部材）及び第２平面部材１３ｂ（第２周辺部材）を含む。第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂは、原版６の周辺領域ＰＰＲのうち、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の送風方向に延在し、かかる送風方向に交差する方向に互いに離間した２つの領域のそれぞれに平面ＦＳが対向するように設けられている。

温調機構１５は、送風機構１２から空間ＳＰ１に気体が送られている状態において原版６に生じる温度むらが低減されるように、複数の平面部材１３のそれぞれの温度を調整（温調）する機能を有する。温調機構１５は、本実施形態では、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれに対応して設けられた第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂを含み、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれを個別に温調する。

第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれは、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、原版ステージ７によって保持された原版６のパターン面ＰＳの側の空間ＳＰ２に気体（第２気体）を送る送風部（第１送風部）として構成される。この際、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれは、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれの平面ＦＳに沿って気体が流れるように、空間ＳＰ２に気体を送る。また、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれは、第１平面部材１３ａの平面ＦＳに沿って気体が流れる方向と、第２平面部材１３ｂの平面ＦＳに沿って気体が流れる方向とが逆の方向となるように、空間ＳＰ２に気体を送る。従って、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂは、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の影響を受けずに、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂの温度を調整することができる。

第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂを送風部で構成する場合、それぞれから送る気体の流速、流量及び温度のうちの少なくとも１つを調整することにより、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれの温度を個別に調整することが可能である。換言すれば、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれについて、空間ＳＰ２に送る気体の流速、流量及び温度のうちの少なくとも１つに対する目標値又は設定値を制御（設定）すればよい。

ここで、複数の平面部材１３のそれぞれと原版６との間の距離は、平面部材１３（の平面ＦＳ）と原版６（のパターン面ＰＳ）との間で熱が伝達（伝熱）される、所謂、輻射される距離に設定されている。具体的には、複数の平面部材１３のそれぞれと原版６との間の距離は、原版６の交換などを考慮して、３μｍ以上２００μｍ以下の範囲に設定されている。

本実施形態では、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれによって、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれの温度を調整する。これにより、原版６に蓄積されている熱が、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂに伝達される（第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂで奪われる）ため、原版６の温度を調整（温調）することが可能となる。従って、送風機構１２から空間ＳＰ１に気体が送られている状態において原版６に生じる温度むらが低減されるように、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれの温度を個別に調整することで、原版６の変形を抑制（低減）することができる。

第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれによる、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれの温度の個別の調整を具体的に説明する。例えば、図３に示すように、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の量（原版６に対する送風量）が均一でない場合を考える。図３では、送風機構１２からの原版６に対する送風量（風速及び風量）を丸印の大きさで模式的に示し、丸印の大きさが大きいほど、送風機構１２からの原版６に対する送風量が多いことを示している。送風機構１２からの原版６に対する送風量が均一でない場合、原版６における温度分布が不均一となる（温度むらが生じる）ため、送風量が少ない側において、原版６の変形が大きくなる。これは、原版６のパターンがシフト又は回転するような原版６の変形を引き起こす要因となる。

このような場合には、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれが第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれの温度を調整する力（温調力）に差分を設ければよい。具体的には、送風機構１２からの原版６に対する送風量が多い側の第２温調機構１５ｂの温調力を弱め、送風機構１２からの原版６に対する送風量が少ない側の第１温調機構１５ａの温調力を強める。これにより、原版６に生じる温度むら（即ち、送風機構１２からの原版６に対する送風量の不均一性）が低減され、原版６の変形を抑制することができる。また、原版６の変形を完全に抑制することができない場合であっても、原版６の変形を、例えば、投影光学系８や基板ステージ１１などで補正可能な倍率成分に誘導することが可能となる。

また、本実施形態では、原版ステージ７によって保持された原版６に生じる温度むらの要因として、送風機構１２からの原版６に対する送風量の不均一性を例に挙げて説明した。但し、露光装置ＥＸＰにおいて、原版６に生じる温度むらの要因としては、様々なものが考えられる。例えば、原版６に生じる温度むらの要因としては、原版６のパターンによる蓄熱量の不均一性、原版６の周辺に配置される構造物による放熱の不均一性、原版６に対する温調力の不均一性なども考えられる。このような様々な要因に対して、本実施形態における複数の平面部材１３及び温調機構１５は有用である。

複数の平面部材１３の材質については、温調機構１５による温調が可能な材質であれば、特に限定されるものではない。例えば、複数の平面部材１３は、ガラス、金属、セラミックなどで構成されている。

温調機構１５が複数の平面部材１３のそれぞれの温度を調整するための具体的な手法には、例えば、特許第４０９５２１１号公報に開示されているような送風装置又は液冷配管を適用することが可能である。また、特許第３９１９３８７号に開示されているような面内方向に高熱伝導率を有する薄板又はシートを用いた温調機構、或いは、ペルチェ素子（電気素子）を、温調機構１５に適用することも可能である。なお、温調機構を液冷配管で構成する場合、液冷配管に流す液体（冷媒）の温度及び流量のうちの少なくとも１つに対する目標値又は設定値を制御することで、複数の平面部材１３の温度を個別に調整することが可能である。温調機構を高熱伝導率を有する薄板又はシートを用いた温調機構で構成する場合、温調機構の構成に応じた温調力に対する目標値又は設定値を制御することで、複数の平面部材１３の温度を個別に調整することが可能である。温調機構をペルチェ素子で構成する場合、ペルチェ素子に与える電圧及び電流、ペルチェ素子の抵抗値及び温度のうちの少なくとも１つに対する目標値又は設定値を制御することで、複数の平面部材１３の温度を個別に調整することが可能である。

また、本実施形態では、原版ステージ７に保持された原版６のパターン面ＰＳの側に温調機構１５を設けているが、これに限定されるものではない。例えば、原版搬送装置などの装置レイアウトの観点から、原版ステージ７に保持された原版６の非パターン面ＮＳの側に温調機構１５を設けてもよい。但し、この場合には、原版ステージ７に保持された原版６の非パターン面ＮＳの側に設けられた温調機構１５から、原版６のパターン面ＰＳの側の空間ＳＰ２に気体を送るための送風路（流路）などが必要となる。

＜第２実施形態＞
図４（ａ）及び図４（ｂ）は、原版ステージ７によって保持された原版６の近傍の構成を示す図であって、図４（ａ）は、原版６を側面から示す図であり、図４（ｂ）は、原版６を上面から示す図である。

本実施形態では、原版６のパターン面ＰＳに設けられたアライメントマーク１７ａ及び１７ｂ（第１マーク）のそれぞれに対応して、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれに、アライメントマーク１６ａ及び１６ｂ（第２マーク）が設けられている。第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれには、１つアライメントマークが設けられていてもよいし、複数のアライメントマークが設けられていてもよい。

計測部１８は、原版６に設けられたアライメントマーク１７ａ及び１７ｂと、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれに設けられたアライメントマーク１６ａ及び１６ｂとを検出して、それらの相対位置（位置ずれ）を計測する。例えば、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれに１つアライメントマークが設けられている場合、それらの位置ずれから、原版６の変形としてシフト成分を求めることが可能である。また、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれに複数のアライメントマークが設けられている場合、それらの位置ずれから、原版６の変形としてシフト成分、回転成分、倍率成分を求めることが可能である。このように、計測部１８は、本実施形態において、原版６の変形量に関する情報として、アライメントマーク１７ａ及び１７ｂのそれぞれとアライメントマーク１６ａ及び１６ｂのそれぞれとの位置ずれを取得する取得部として機能する。

計測部１８は、例えば、アライメント光源２１と、検出系２０と、を含む。アライメント光源２１からの光は、アライメントマーク１６ａ及び１６ｂ、及び、それらに対応するアライメントマーク１７ａ及び１７ｂを透過して、検出系２０で検出される。アライメントマーク１６ａ及び１６ｂとアライメントマーク１７ａ及び１７ｂとは、３μｍ以上２０μｍ以下の間隔で配置され、計測部１８は、同一像面のマークとして検出することが可能である。

本実施形態では、計測部１８は、アライメントマーク１６ａ及び１６ｂ、及び、アライメントマーク１７ａ及び１７ｂを透過した光（透過光）を検出するように構成されているが、これに限定されるものではない。例えば、計測部１８は、アライメントマーク１６ａ及び１６ｂ、及び、アライメントマーク１７ａ及び１７ｂで反射した光（反射光）を検出するように構成されていてもよい。

計測部１８は、露光処理を行う際には、原版６に照射される光２と干渉しない位置（退避位置）に退避させる（駆動する）必要がある。従って、計測部１８には、アライメントマーク１６ａ及び１６ｂ、及び、アライメントマーク１７ａ及び１７ｂを検出する検出位置と退避位置との間で計測部１８を駆動する駆動機構１９が設けられている。

本実施形態においても、複数の平面部材１３のそれぞれと原版６との間の距離は、平面部材１３と原版６との間で熱が伝達される距離に設定されている。従って、温調機構１５により複数の平面部材１３のそれぞれの温度を調整することで、原版６に蓄積されている熱が複数の平面部材１３に伝達され、原版６の温度を調整することが可能となっている。

また、本実施形態では、送風機構１２から空間ＳＰ１（原版６）に対して気体が常時送られ、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂから空間ＳＰ２（第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂ）に対して気体が常時送られている。従って、原版６に設けられたアライメントマーク１７ａ及び１７ｂの位置は、熱的安定性が補償されている。

そこで、本実施形態では、制御部ＣＵにおいて、計測部１８で計測される位置ずれ（原版６の変形量に関する情報）に基づいて、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂによる第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂの温度の個別の調整を制御する。例えば、計測部１８で計測される位置ずれが低減されるように（許容範囲に収まるように）、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれの温調力を調整することで、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂを介して原版６を温調する。具体的には、基準となるアライメントマーク１７ａ及び１７ｂに対してアライメントマーク１６ａ及び１６ｂを一致させるように、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂのそれぞれの温調力を調整する。このように、制御部ＣＵにおいて、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂをフィードバック制御することで、原版６に生じる温度むらを低減し、原版６の変形をより高精度に抑制（低減）することができる。

また、半導体素子などの物品の製造工程ごとに計測部１８で得られる計測結果を処理し、かかる製造工程に応じて、温調機構１５による複数の平面部材１３のそれぞれの温度の個別の調整を予め設定（制御）するようにしてもよい。更には、所定の条件において計測部１８で得られる計測結果を処理し、露光装置の環境や機差に応じて、温調機構１５による複数の平面部材１３のそれぞれの温度の個別の調整を予め設定（制御）するようにしてもよい。

また、計測部１８で得られる計測結果に加えて、露光装置ＥＸＰに設けられている露光量を計測する計測器で得られる計測結果や露光設定パラメータに関する情報に基づいて、温調機構１５による複数の平面部材１３のそれぞれの温度の個別の調整を制御してもよい。計測部１８で得られる計測結果からは、原版６の周辺領域ＰＰＲにおける変形量は高精度に求めることはできるが、原版６のパターン領域ＰＴＲにおける変形量は高精度に求めることができない。そこで、露光量を計測する計測器で得られる計測結果や露光設定パラメータに関する情報から、原版６のパターン領域ＰＴＲにおける変形量を求める。このようにして求められた原版６のパターン領域ＰＴＲ及び周辺領域ＰＰＲの変形量に基づいて、温調機構１５による複数の平面部材１３のそれぞれの温度の個別の調整を制御することで、原版６の変形をより高精度に抑制（低減）することが可能となる。

＜第３実施形態＞
図５（ａ）及び図５（ｂ）は、原版ステージ７によって保持された原版６の近傍の構成を示す図であって、図５（ａ）は、原版６を側面から示す図であり、図５（ｂ）は、原版６を上面から示す図である。

本実施形態では、複数の平面部材１３は、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂに加えて、原版６のパターン面ＰＳに設けられたペリクル部材１４をカバーするように設けられた第３平面部材１３ｃ（中央部材）を含む。第３平面部材１３ｃは、原版６のパターン領域ＰＴＲに平面ＦＳが対向するように設けられている。第３平面部材１３ｃは、原版６からの光２を透過させて投影光学系８に入射させるために、ガラスで構成されていることが好ましい。

温調機構１５は、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂに加えて、第３平面部材１３ｃに対応して設けられた第３温調機構１５ｃを含み、第１平面部材１３ａ、第２平面部材１３ｂ及び第３平面部材１３ｃのそれぞれを個別に温調する。第３温調機構１５ｃは、本実施形態では、第３平面部材１３ｃに設けられた配管２３１と、配管２３１に液体（冷媒）を供給する供給部２３２と、を含み、第３平面部材１３ｃの温度を調整（温調）する。なお、本実施形態では、露光装置内での構成容易性から、第３温調機構１５ｃを配管２３１及び供給部２３２で構成しているが、このような構成に限定されるものではなく、種々の温調構成を適用することが可能である。

本実施形態では、第３平面部材１３ｃ及び第３温調機構１５ｃを追加することで、第１実施形態及び第２実施形態と比べて、原版６を、より広範囲、且つ、短時間で温調することが可能となる。これは、露光装置外から搬入された原版６の温度を露光装置内で安定化させる（露光装置内の管理温度になじませる）場合に特に有用である。

本実施形態では、第３平面部材１３ｃは、図５（ｂ）に示すように、原版６のパターン面ＰＳに設けられたペリクル部材１４の下に設けられている。但し、ペリクル部材１４が不要である場合には、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂと同様に、第３平面部材１３ｃを原版６のパターン面ＰＳに近接させることが可能である。

また、第３平面部材１３ｃにもアライメントマークを設けてもよい。第３平面部材１３ｃに設けられたアライメントマークを計測部１８で検出することで、原版６のパターン領域ＰＴＲにおける変形量を求めることが可能となる。従って、原版６のパターン領域ＰＴＲを含む全面に対して、第１温調機構１５ａ、第２温調機構１５ｂ及び第３温調機構１５ｃのそれぞれの温調力の調整（最適化）が可能となるため、原版６の変形をより抑制（低減）することができる。なお、原版６の変形を完全に抑制することができない場合であっても、原版６の変形を、例えば、投影光学系８や基板ステージ１１などで補正可能な倍率成分により容易に誘導することが可能となる。

第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂに設けられたアライメントマークに加えて、第３平面部材１３ｃに設けられたアライメントマークを検出するためには、計測部１８として、深い深度を有するシステム（撮像システム）を採用する必要がある。このようなシステムとしては、３Ｄカメラモジュールなどが挙げられる。例えば、計測部１８を３Ｄカメラモジュールで構成することで、原版６に第３平面部材１３ｃを近づけることなく、原版６及び第３平面部材１３ｃのそれぞれに設けられたアライメントマークを検出し、それらの相対位置を計測することが可能となる。

＜第４実施形態＞
図６は、原版ステージ７によって保持された原版６の近傍の構成を示す図であって、原版６を上面から示す図である。

本実施形態では、複数の平面部材１３は、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂに加えて、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅ（第２部材）を含む。このように、本実施形態では、原版６の４方位の端面（周辺領域）に対して、第１平面部材１３ａ、第２平面部材１３ｂ、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅが設けられている。

第４平面部材１３ｄと第５平面部材１３ｅとは、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の送風方向（原版６の非パターン面ＮＳに沿って気体が流れる方向（一方向））に沿って配列される。第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅは、それぞれ、平面を含み、かかる平面が原版ステージ７に保持された原版６のパターン面ＰＳの少なくとも一部に対向するように設けられている。本実施形態では、第４平面部材１３ｄ（第３周辺部材）及び第５平面部材１３ｅ（第４周辺部材）は、原版６のパターン面ＰＳに設けられたペリクル部材１４を避けて、ペリクル部材１４を囲むように設けられている。第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅは、原版６の周辺領域ＰＰＲのうち、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の送風方向に交差する方向に延在し、かかる送風方向に互いに離間した２つの領域のそれぞれに平面が対向するように設けられている。

温調機構１５は、第１温調機構１５ａ及び第２温調機構１５ｂに加えて、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅのそれぞれに対応して設けられた第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅを含む。第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅは、送風機構１２から空間ＳＰ１に気体が送られている状態において原版６に生じる温度むらが低減されるように、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅのそれぞれの温度を調整（温調）する機能を有する。

第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅのそれぞれは、図６に示すように、原版ステージ７によって保持された原版６のパターン面ＰＳの側の空間ＳＰ２に気体（第２気体）を送る送風部（第２送風部）として構成される。この際、第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅのそれぞれは、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅのそれぞれの平面に沿って気体が流れるように、空間ＳＰ２に気体を送る。また、第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅのそれぞれは、第４平面部材１３ｄの平面に沿って気体が流れる方向と、第５平面部材１３ｅの平面に沿って気体が流れる方向とが逆の方向となるように、空間ＳＰ２に気体を送る。従って、第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅは、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の影響を受けずに、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅの温度を調整することができる。

本実施形態では、原版６のパターン面ＰＳに設けられたアライメントマーク１７ｄ及び１７ｅ（第１マーク）のそれぞれに対応して、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅのそれぞれに、アライメントマーク１６ｄ及び１６ｅ（第２マーク）が設けられている。

計測部１８は、原版側のアライメントマーク１７、１７ｂ、１７ｄ及び１７ｅと、平面部材側のアライメントマーク１６ａ、１６ｂ、１６ｄ及び１６ｅとを検出して、それらの相対位置（位置ずれ）を計測する。本実施形態では、第１平面部材１３ａ、第２平面部材１３ｂ、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅのそれぞれにアライメントマーク１６ａ、１６ｂ、１６ｄ及び１６ｅが設けられている。従って、基準座標のＸ方向及びＹ方向のそれぞれに対して、計測部１８で計測されるマーク間のスパンを長くすることができる。

本実施形態では、露光処理の間に計測部１８で得られる計測結果から、原版６のＸ方向における変形量と、原版６のＹ方向における変形量とを求めることができる。従って、露光処理の間に計測部１８で得られる計測結果に基づいて、原版６のＸ方向における変形成分と、原版６のＹ方向における変形成分とを個々に低減することが可能となる。具体的には、第１温調機構１５ａ、第２温調機構１５ｂ、第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅによって、第１平面部材１３ａ、第２平面部材１３ｂ、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅを個別に温調する。これにより、本実施形態では、第１実施形態、第２実施形態及び第３実施形態と比較して、原版６をより効果的に温調して、原版６の変形を抑制（低減）することができる。

例えば、原版６のＸ方向における変形量とＹ方向における変形量とを近づけるように原版６を温調することで、原版６の変形をＸ方向及びＹ方向に均一な変形（倍率成分）に誘導することが可能となる。このような原版６の変形は、投影光学系８の投影倍率を制御（調整）することで容易に補正することができる。

更に、露光装置ＥＸＰにおいて、原版ステージ７と基板ステージ１１とを同期制御する場合には、原版６の変形の影響をより効果的に抑制して、優れた露光結果を得ることが可能となる。具体的には、露光結果の曲率成分は、第１温調機構１５ａ、第２温調機構１５ｂ、第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅにより、第１平面部材１３ａ、第２平面部材１３ｂ、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅを個別に温調することで低減する。また、露光結果の倍率成分は、原版ステージ７と基板ステージ１１との同期制御を調整することで低減する。

また、本実施形態では、図６に示すように、第１平面部材１３ａ、第２平面部材１３ｂ、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅのそれぞれに設けられるアライメントマークがＸ軸上、Ｙ軸上、或いは、軸近傍に配置されている。このような場合、それらのアライメントマークの計測結果（位置ずれ）から軸外の他成分を求めることが不要となる。

また、送風機構１２は、原版６の非パターン面ＮＳに沿って＋Ｙ方向から－Ｙ方向（一方向）に気体が流れるように、原版６の非パターン面ＮＳの側の空間ＳＰ１に気体を送っている。従って、送風機構１２のみで原版６を温調する場合、上流（＋Ｙ方向側）と下流（－Ｙ方向側）とで、原版６の温度を調整する力（温調力）に差が発生すると考えられる。このような場合には、送風機構１２による原版６の温調力が強い側の第５温調機構１５ｅの温調力を弱め、送風機構１２による原版６の温調力が弱い側の第４温調機構１５ｄの温調力を強める。これにより、原版６に生じる温度むら（即ち、送風機構１２から一方向に気体を送ることに起因する原版６に対する温調力の不均一性）が低減され、原版６の変形を抑制することができる。また、原版６の変形を完全に抑制することができない場合であっても、原版６の変形を、例えば、投影光学系８や基板ステージ１１などで補正可能な倍率成分に誘導することが可能となる。

＜第５実施形態＞
図７は、原版ステージ７によって保持された原版６の近傍の構成を示す図であって、原版６を上面から示す図である。

本実施形態では、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれは、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の送風方向に互いに離間するように分割された複数の分割部分１３１ａ及び１３１ｂを含む。同様に、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅのそれぞれは、送風機構１２から空間ＳＰ１に送られる気体の送風方向に交差する方向に互いに離間するように分割された複数の分割部分１３１ｄ及び１３１ｅを含む。なお、第１平面部材１３ａ、第２平面部材１３ｂ、第４平面部材１３ｄ及び第５平面部材１３ｅのそれぞれは、本実施形態では、１６個の分割部分に分割されているが、各平面部材を分割する数は限定されるものではない。

第１温調機構１５ａは、第１平面部材１３ａの複数の分割部分１３１ａのそれぞれに対応して設けられ、第２温調機構１５ｂは、第２平面部材１３ｂの複数の分割部分１３１ｂのそれぞれに対して設けられている。同様に、第４温調機構１５ｄは、第４平面部材１３ｄの複数の分割部分１３１ｄのそれぞれに対応して設けられ、第５温調機構１５ｅは、第５平面部材１３ｅの複数の分割部分１３１ｅのそれぞれに対応して設けられている。本実施形態では、第１温調機構１５ａ、第２温調機構１５ｂ、第４温調機構１５ｄ及び第５温調機構１５ｅのそれぞれが多数配列されるため、配管及び供給部を含む液冷配管（図５（ｂ））やペルチェ素子で構成することが好ましい。

また、原版６のパターン面ＰＳに設けられたアライメントマーク１７ａに対応して、第１平面部材１３ａの複数の分割部分１３１ａのそれぞれにアライメントマーク１６ａが設けられている。同様に、原版６のパターン面ＰＳに設けられたアライメントマーク１７ｂに対応して、第２平面部材１３ｂの複数の分割部分１３１ｂのそれぞれにアライメントマーク１６ｂが設けられている。同様に、原版６のパターン面ＰＳに設けられたアライメントマーク１７ｄに対応して、第４平面部材１３ｄの複数の分割部分１３１ｄのそれぞれにアライメントマーク１６ｄが設けられている。同様に、原版６のパターン面ＰＳに設けられたアライメントマーク１７ｅに対応して、第５平面部材１３ｅの複数の分割部分１３１ｅのそれぞれにアライメントマーク１６ｅが設けられている。

本実施形態では、各平面部材を複数の分割部分に分割し、各分割部分にアライメントマークを設けている。従って、原版に設けられたアライメントマークと各分割部分に設けられたアライメントマークとの相対位置（位置ずれ）に基づいて、各温調機構により各分割部分を温調することで、原版６の変形を高次に抑制（低減）することができる。また、原版６の変形を高次の変形に誘導することも可能となる。

なお、本実施形態では、多数のアライメントマークを検出して、それらのマークの位置を計測する必要があるため、計測部１８に加えて、或いは、計測部１８に代えて、図８及び図９に示すような小型の計測器ＭＤを設けることが好ましい。計測器ＭＤは、計測部１８と同様に、原版６の変形量に関する情報を取得する取得部として機能する。計測器ＭＤは、原版６が光２を反射する反射型原版である場合には、原版６の光２が反射される面（パターン面）とは反対の側の面（非パターン面）の側の空間に配置されることが好ましい。

図８は、計測器ＭＤの具体的な構成の一例を示している。計測器ＭＤは、ライトガイド又はファイバなどのケーブル２８を介して、制御部ＣＵに接続されている。計測器ＭＤは、光源やアンプなどの発熱部を、本体部（計測系）から離して構成されていることが好ましい。これにより、計測器ＭＤの発熱が原版６に与える影響を抑制することが可能となる。図８に示す計測器ＭＤは、原版６の変形量に関する情報として、原版６に設けられたアライメントマークと、各平面部材の各分割部分に設けられたアライメントマークとを検出して、これらのアライメントマークの位置ずれを計測する。

図９は、計測器ＭＤの具体的な構成の別の例を示している。計測器ＭＤは、各平面部材の各分割部分から分離して構成され、原版６に設けられたアライメントマーク（例えば、アライメントマーク１７ｂ）を検出可能に配置されている。この場合、原版６に設けられたアライメントマークは格子マークで構成されている。計測器ＭＤは、ライトガイド又はファイバなどのケーブル２８を介して、制御部ＣＵに接続されている。計測器ＭＤは、その内部（本体部）に回折格子が構成されている。また、計測器ＭＤは、計測器ＭＤの発熱が原版６に与える影響を抑制するために、光源やアンプなどの発熱部を、本体部から離して構成されている。光源からの光は、原版６に設けられたアライメントマーク（回折格子）で反射（回折）され、計測器ＭＤの内部の検出素子で検出される。図９に示す計測器ＭＤは、原版６の変形量に関する情報として、原版６に設けられたアライメントマークを検出して、内部に設けられた回折格子に対する位置ずれを計測する。

＜第６実施形態＞
図１０は、原版ステージ７によって保持された原版６の近傍の構成を示す図であって、原版６を側面から示す図である。

本実施形態では、原版６からの光２との干渉を回避しながら、原版６に対する温調力を強くするために、図１０に示すように、第１平面部材１３ａ及び第２平面部材１３ｂのそれぞれに傾斜面２９ａ及び２９ｂ（切り欠き）を設けている。具体的には、第１平面部材１３ａと第２平面部材１３ｂとの互いに対向する側面は、かかる側面の間の距離が原版６から離れるにつれて長くなるように、平面ＦＳに対して傾斜した傾斜面２９ａ及び２９ｂで構成されている。これにより、温調機構１５からの温調力を受ける面積を、各平面部材の厚さ方向（Ｚ方向）に拡大することができるため、原版６に対する温調力を強くすることができる。なお、アライメント光源２１の構成の容易性の観点から、傾斜面２９ａ及び２９ｂのそれぞれは、アライメント光源２１からの光を反射してアライメントマークに導くための反射面として機能させるとよい。

以上、各実施形態で説明したように、露光装置ＥＸＰによれば、原版ステージ７によって保持された原版６に生じる温度むらを低減し、原版６の変形を十分に抑制することができる。従って、基板９に転写されるパターンの重ね合わせ精度に優れた露光装置ＥＸＰを実現することができる。

本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体素子、液晶表示素子、フラットパネルディスプレイ、ＭＥＭＳなどの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、上述した露光装置ＥＸＰを用いて感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された感光剤を現像する工程とを含む。また、現像された感光剤のパターンをマスクとして基板に対してエッチング工程やイオン注入工程などを行い、基板上に回路パターンが形成される。これらの露光、現像、エッチングなどの工程を繰り返して、基板上に複数の層からなる回路パターンを形成する。後工程で、回路パターンが形成された基板に対してダイシング（加工）を行い、チップのマウンティング、ボンディング、検査工程を行う。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離など）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

本明細書の開示は、以下の露光装置及び物品の製造方法を含む。

（項目１）
原版のパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記原版を保持するステージと、
前記ステージによって保持された前記原版の前記パターンが形成された第１面とは反対の側の第２面に沿って一方向に第１気体が流れるように、前記第１気体を前記原版の前記第２面の側の空間に送る送風機構と、
前記一方向に交差する方向に沿って配列された複数の部材であって、それぞれが平面を含み、当該平面が前記ステージに保持された前記原版の前記第１面の少なくとも一部に対向するように設けられた複数の第１部材と、
前記送風機構から前記空間に前記第１気体が送られている状態において前記原版に生じる温度むらが低減されるように、前記複数の第１部材のそれぞれの温度を個別に調整する温調機構と、
を有する、ことを特徴とする露光装置。

（項目２）
前記温調機構は、前記複数の第１部材のそれぞれに対応して設けられ、前記平面に沿って前記一方向に交差する方向に第２気体が流れるように、前記第２気体を前記原版の前記第１面の側の空間に送る複数の第１送風部を含む、ことを特徴とする項目１に記載の露光装置。

（項目３）
前記温調機構は、前記複数の第１送風部のそれぞれについて、前記第２気体の流速、流量及び温度のうちの少なくとも１つを調整することにより、前記複数の第１部材のそれぞれの温度を個別に調整する、ことを特徴とする項目２に記載の露光装置。

（項目４）
前記原版の前記第１面は、前記パターンを含むパターン領域と、前記パターン領域を囲む周辺領域と、を含み、
前記複数の第１部材は、前記周辺領域のうち、前記一方向に延在し、前記一方向に交差する方向に互いに離間した２つの領域のそれぞれに前記平面が対向するように設けられた第１周辺部材、及び、第２周辺部材を含み、
前記複数の第１送風部は、前記第１周辺部材の前記平面に沿って前記第２気体が流れる方向と、前記第２周辺部材の前記平面に沿って前記第２気体が流れる方向とが逆の方向となるように、前記第２気体を前記原版の前記第１面の側の空間に送る、
ことを特徴とする項目２又は３に記載の露光装置。

（項目５）
前記一方向に沿って配列された複数の部材であって、それぞれが平面を含み、当該平面が前記ステージに保持された前記原版の前記第１面の少なくとも一部に対向するように設けられた複数の第２部材を更に有し、
前記温調機構は、
前記送風機構から前記空間に前記第１気体が送られている状態において前記原版に生じる温度むらが低減されるように、前記複数の第２部材のそれぞれの温度を個別に調整し、
前記複数の第２部材のそれぞれに対応して設けられ、前記平面に沿って前記一方向に沿った方向に前記第２気体が流れるように、前記第２気体を前記原版の前記第１面の側の空間に送る複数の第２送風部を含む、
ことを特徴とする項目４に記載の露光装置。

（項目６）
前記複数の第２部材は、前記周辺領域のうち、前記一方向に交差する方向に延在し、前記一方向に互いに離間した２つの領域のそれぞれに前記平面が対向するように設けられた第３周辺部材、及び、第４周辺部材を含み、
前記複数の第２送風部は、前記第３周辺部材の前記平面に沿って前記第２気体が流れる方向と、前記第４周辺部材の前記平面に沿って前記第２気体が流れる方向とが逆の方向となるように、前記第２気体を前記原版の前記第１面の側の空間に送る、
ことを特徴とする項目５に記載の露光装置。

（項目７）
前記第１周辺部材、及び、前記第２周辺部材のそれぞれは、前記一方向に互いに離間するように分割された複数の分割部分を含み、
前記第３周辺部材、及び、前記第４周辺部材のそれぞれは、前記一方向に交差する方向に互いに離間するように分割された複数の分割部分を含み、
前記複数の第１送風部は、前記第１周辺部材の前記複数の分割部分のそれぞれ、及び、前記第２周辺部材の前記複数の分割部分のそれぞれに対応して設けられ、
前記複数の第２送風部は、前記第３周辺部材の前記複数の分割部分のそれぞれ、及び、前記第４周辺部材の前記複数の分割部分のそれぞれに対応して設けられている、
ことを特徴とする項目６に記載の露光装置。

（項目８）
前記複数の第１部材は、前記パターン領域に前記平面が対向するように設けられた中央部材を含む、ことを特徴とする項目４乃至７のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

（項目９）
前記温調機構は、前記中央部材に設けられた配管と、前記配管に冷媒を供給する供給部と、を含むことを特徴とする項目８に記載の露光装置。

（項目１０）
前記原版の変形量に関する情報を取得する取得部と、
前記取得部で取得された前記原版の変形量に関する情報に基づいて、前記温調機構による前記複数の第１部材のそれぞれの温度の個別の調整を制御する制御部と、
を更に有することを特徴とする項目１乃至９のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

（項目１１）
前記取得部は、前記原版の変形量に関する情報として、前記原版の前記第１面に設けられた第１マークと、前記第１マークに対応して前記複数の第１部材に設けられた第２マークとを検出して、前記第１マークと前記第２マークとの位置ずれを計測する計測部を含み、
前記制御部は、前記計測部で計測される前記位置ずれが許容範囲に収まるように、前記温調機構による前記複数の第１部材のそれぞれの温度の個別の調整を制御する、
ことを特徴とする項目１０に記載の露光装置。

（項目１２）
前記取得部は、前記原版の変形量に関する情報として、前記原版の前記第１面に設けられたマークを検出して、前記原版の変形量を計測する計測部を含み、
前記制御部は、前記計測部で計測される前記原版の変形量が許容範囲に収まるように、前記温調機構による前記複数の第１部材のそれぞれの温度の個別の調整を制御する、
ことを特徴とする項目１０に記載の露光装置。

（項目１３）
前記原版の前記第１面には、前記第１面を保護するペリクル部材が設けられ、
前記複数の第１部材は、前記ペリクル部材を囲むように設けられていることを特徴とする項目１乃至１２のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

（項目１４）
前記第１周辺部材と前記第２周辺部材との互いに対向する側面は、当該側面の間の距離が前記原版から離れるにつれて長くなるように、前記平面に対して傾斜した傾斜面で構成されている、ことを特徴とする項目４乃至１３のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

（項目１５）
項目１乃至１４のうちいずれか１項目に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
現像された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

ＥＸＰ：露光装置 ６：原版 ７：原版ステージ ９：基板 １２：送風機構 １３：平面部材 １５：温調機構

Claims (15)

1. 原版のパターンを基板に転写する露光装置であって、
   前記原版を保持するステージと、
   前記ステージによって保持された前記原版の前記パターンが形成された第１面とは反対の側の第２面に沿って一方向に第１気体が流れるように、前記第１気体を前記原版の前記第２面の側の空間に送る送風機構と、
   前記一方向に交差する方向に沿って配列された複数の部材であって、それぞれが平面を含み、当該平面が前記ステージに保持された前記原版の前記第１面の少なくとも一部に対向するように設けられた複数の第１部材と、
   前記送風機構から前記空間に前記第１気体が送られている状態において前記原版に生じる温度むらが低減されるように、前記複数の第１部材のそれぞれの温度を個別に調整する温調機構と、
   を有する、ことを特徴とする露光装置。
2. 前記温調機構は、前記複数の第１部材のそれぞれに対応して設けられ、前記平面に沿って前記一方向に交差する方向に第２気体が流れるように、前記第２気体を前記原版の前記第１面の側の空間に送る複数の第１送風部を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記温調機構は、前記複数の第１送風部のそれぞれについて、前記第２気体の流速、流量及び温度のうちの少なくとも１つを調整することにより、前記複数の第１部材のそれぞれの温度を個別に調整する、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 前記原版の前記第１面は、前記パターンを含むパターン領域と、前記パターン領域を囲む周辺領域と、を含み、
   前記複数の第１部材は、前記周辺領域のうち、前記一方向に延在し、前記一方向に交差する方向に互いに離間した２つの領域のそれぞれに前記平面が対向するように設けられた第１周辺部材、及び、第２周辺部材を含み、
   前記複数の第１送風部は、前記第１周辺部材の前記平面に沿って前記第２気体が流れる方向と、前記第２周辺部材の前記平面に沿って前記第２気体が流れる方向とが逆の方向となるように、前記第２気体を前記原版の前記第１面の側の空間に送る、
   ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
5. 前記一方向に沿って配列された複数の部材であって、それぞれが平面を含み、当該平面が前記ステージに保持された前記原版の前記第１面の少なくとも一部に対向するように設けられた複数の第２部材を更に有し、
   前記温調機構は、
   前記送風機構から前記空間に前記第１気体が送られている状態において前記原版に生じる温度むらが低減されるように、前記複数の第２部材のそれぞれの温度を個別に調整し、
   前記複数の第２部材のそれぞれに対応して設けられ、前記平面に沿って前記一方向に沿った方向に前記第２気体が流れるように、前記第２気体を前記原版の前記第１面の側の空間に送る複数の第２送風部を含む、
   ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
6. 前記複数の第２部材は、前記周辺領域のうち、前記一方向に交差する方向に延在し、前記一方向に互いに離間した２つの領域のそれぞれに前記平面が対向するように設けられた第３周辺部材、及び、第４周辺部材を含み、
   前記複数の第２送風部は、前記第３周辺部材の前記平面に沿って前記第２気体が流れる方向と、前記第４周辺部材の前記平面に沿って前記第２気体が流れる方向とが逆の方向となるように、前記第２気体を前記原版の前記第１面の側の空間に送る、
   ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 前記第１周辺部材、及び、前記第２周辺部材のそれぞれは、前記一方向に互いに離間するように分割された複数の分割部分を含み、
   前記第３周辺部材、及び、前記第４周辺部材のそれぞれは、前記一方向に交差する方向に互いに離間するように分割された複数の分割部分を含み、
   前記複数の第１送風部は、前記第１周辺部材の前記複数の分割部分のそれぞれ、及び、前記第２周辺部材の前記複数の分割部分のそれぞれに対応して設けられ、
   前記複数の第２送風部は、前記第３周辺部材の前記複数の分割部分のそれぞれ、及び、前記第４周辺部材の前記複数の分割部分のそれぞれに対応して設けられている、
   ことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記複数の第１部材は、前記パターン領域に前記平面が対向するように設けられた中央部材を含む、ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
9. 前記温調機構は、前記中央部材に設けられた配管と、前記配管に冷媒を供給する供給部と、を含むことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
10. 前記原版の変形量に関する情報を取得する取得部と、
    前記取得部で取得された前記原版の変形量に関する情報に基づいて、前記温調機構による前記複数の第１部材のそれぞれの温度の個別の調整を制御する制御部と、
    を更に有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
11. 前記取得部は、前記原版の変形量に関する情報として、前記原版の前記第１面に設けられた第１マークと、前記第１マークに対応して前記複数の第１部材に設けられた第２マークとを検出して、前記第１マークと前記第２マークとの位置ずれを計測する計測部を含み、
    前記制御部は、前記計測部で計測される前記位置ずれが許容範囲に収まるように、前記温調機構による前記複数の第１部材のそれぞれの温度の個別の調整を制御する、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
12. 前記取得部は、前記原版の変形量に関する情報として、前記原版の前記第１面に設けられたマークを検出して、前記原版の変形量を計測する計測部を含み、
    前記制御部は、前記計測部で計測される前記原版の変形量が許容範囲に収まるように、前記温調機構による前記複数の第１部材のそれぞれの温度の個別の調整を制御する、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
13. 前記原版の前記第１面には、前記第１面を保護するペリクル部材が設けられ、
    前記複数の第１部材は、前記ペリクル部材を囲むように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
14. 前記第１周辺部材と前記第２周辺部材との互いに対向する側面は、当該側面の間の距離が前記原版から離れるにつれて長くなるように、前記平面に対して傾斜した傾斜面で構成されている、ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
15. 請求項１に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    露光された前記基板を現像する工程と、
    現像された前記基板から物品を製造する工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。

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