JP2024081518A - 表示装置 - Google Patents

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JP2024081518A
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Abstract

【課題】表示領域の形状を維持しながら、対象物の形状を検出する機能を有する表示装置を提供する。【解決手段】表示装置10は、映像が表示される表示領域105を含むパネル第1面101と、パネル第1面の反対側に位置するパネル第2面102と、を含むディスプレイパネル100と、パネル第2面からパネル第1面の表示領域へ透過する複数の光線を生成するプロジェクタ20と、を備え、ディスプレイパネルは、パネル第1面に向かう基板第1面及びパネル第2面に向かう基板第2面を含む基板と、基板第1面に位置し、映像を生成する複数の表示素子と、を含む。【選択図】図1

Description

本開示の実施形態は、表示装置に関する。
スマートフォンなどの表示装置において、光を利用して対象物の形状を検出する技術が用いられている。例えば、表示装置から放出され、表示装置に対面している人の顔によって反射された複数の光線に基づいて、顔の形状を検出する技術が知られている。表示装置は、検出された顔の形状に基づいて、使用者の認証を行うことができる。顔の形状を検出する手段は、映像が表示される表示領域の一部が切り欠かれたノッチ領域に配置されている。
米国特許出願公開第2021/0318418号明細書
ノッチ領域などによって表示領域の一部が失われると、表示領域に表示される映像の一部が欠落する。
本開示の一実施形態による、表示装置は、映像が表示される表示領域を含むパネル第1面と、前記パネル第1面の反対側に位置するパネル第2面と、を含むディスプレイパネルと、前記パネル第2面から前記パネル第1面の前記表示領域へ透過する複数の光線を生成するプロジェクタと、を備えてもよい。前記ディスプレイパネルは、前記パネル第1面に向かう基板第1面及び前記パネル第2面に向かう基板第2面を含む基板と、前記基板第1面に位置し、前記映像を生成する複数の表示素子と、を含んでもよい。
本開示の一実施形態によれば、表示領域の形状を維持しながら、対象物の形状を検出する機能を表示装置に搭載できる。
表示装置の一例を示す断面図である。 ディスプレイパネルの一例を示す平面図である。 表示領域の一例を示す平面図である。 図3のA-A線に沿った断面図である。 プロジェクタの一例を示す断面図である。 面発光レーザの一例を示す平面図である。 面発光レーザの一例を示す断面図である。 対象物に照射される光線群のパターンの一例を示す図である。 プロジェクタから放出される光線の円偏光を説明するための図である。 面発光レーザの一例を示す断面図である。 面発光レーザの一例を示す断面図である。 面発光レーザの一例を示す断面図である。 プロジェクタの一例を示す断面図である。 プロジェクタの一例を示す断面図である。 プロジェクタの一例を示す断面図である。 端面発光レーザの一例を示す断面図である。 プロジェクタの一例を示す断面図である。 ディスプレイパネルの一例を示す平面図である。 表示領域の一例を示す平面図である。 表示領域の一例を示す平面図である。 図20のB-B線に沿った断面図である。 表示装置の一例を示す断面図である。 表示領域の一例を示す平面図である。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」、「シート」、「フィルム」などの、ある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待してもよい程度の範囲を含めて解釈する。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に」や「下に」、「上側に」や「下側に」、又は「上方に」や「下方に」とする場合、ある構成が他の構成に直接的に接している場合を含む。さらに、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合、つまり間接的に接している場合も含む。また、特別な説明が無い限りは、「上」や「上側」や「上方」、又は、「下」や「下側」や「下方」という語句は、上下方向が逆転してもよい。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、本明細書の一実施形態は、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態と組み合わせられ得る。また、その他の実施形態同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して2つ以上のステップ又はプロセスを開示する場合に、開示されているステップ又はプロセスの間に、開示されていないその他のステップ又はプロセスが実施されてもよい。また、開示されているステップ又はプロセスの順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「~」という記号によって表現される数値範囲は、「~」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「0.2~0.8」という表現によって画定される数値範囲は、「0.2以上且つ0.8以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。
本明細書の一実施形態においては、表示領域が、有機材料を含む発光層を備える有機EL表示装置である例について説明する。ただし、表示領域が後述するプロジェクタを備える限り、表示領域の種類は特には限定されない。例えば、表示領域は、液晶層を備える液晶表示装置であってもよい。
本開示の第1の態様は、表示装置であって、
映像が表示される表示領域を含むパネル第1面と、前記パネル第1面の反対側に位置するパネル第2面と、を含むディスプレイパネルと、
前記パネル第2面から前記パネル第1面の前記表示領域へ透過する複数の光線を生成するプロジェクタと、を備え、
前記ディスプレイパネルは、前記パネル第1面に向かう基板第1面及び前記パネル第2面に向かう基板第2面を含む基板と、前記基板第1面に位置し、前記映像を生成する複数の表示素子と、を含む、表示装置である。
本開示の第2の態様は、上述した第1の態様による表示装置において、表示装置は、前記パネル第1面に対向する円偏光板を備えてもよい。
本開示の第3の態様は、上述した第2の態様による表示装置において、前記円偏光板は、前記パネル第1面に対向する1/4波長板と、直線偏光板と、を含んでもよい。
本開示の第4の態様は、上述した第1の態様~第3の態様のいずれか1つによる表示装置において、前記複数の表示素子の各々は、第1電極及び第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に位置する発光層と、を含んでもよく、前記表示領域は、第1占有率を有する前記第2電極を含む第1表示領域と、前記第1占有率よりも小さい第2占有率を有する前記第2電極を含む第2表示領域と、を含んでもよく、前記複数の光線は、前記パネル第2面から前記パネル第1面の前記第2表示領域へ透過してもよい。
本開示の第5の態様は、上述した第4の態様による表示装置において、前記第1占有率に対する前記第2占有率の比は、0.2以上0.8以下であってもよい。
本開示の第6の態様は、上述した第1の態様~第5の態様のいずれか1つによる表示装置において、前記プロジェクタは、前記パネル第2面に向かう発光面であって、少なくとも1つの前記光線が出射される発光面を含む面発光レーザと、前記光線を分岐させる回折光学素子と、を備えてもよい。前記面発光レーザは、第1DBR及び第2DBRと、前記第1DBRと前記第2DBRとの間に位置する活性層と、を少なくとも含んでもよい。
本開示の第7の態様は、上述した第6の態様による表示装置において、前記回折光学素子は、凹凸構造が形成された回折第1面と、回折第1面の反対側に位置する回折第2面と、を含んでもよい。
本開示の第8の態様は、上述した第6の態様又は第7の態様による表示装置において、前記面発光レーザは、イントラキャビティパターン構造部を含んでもよい。
本開示の第9の態様は、上述した第6の態様~第8の態様のいずれか1つによる表示装置において、前記面発光レーザの前記第2DBRは、グレーティングが形成された面を含んでもよい。
本開示の第10の態様は、上述した第1の態様~第5の態様のいずれか1つによる表示装置において、前記プロジェクタは、前記パネル第2面に向かう発光面であって、少なくとも1つの前記光線が出射される発光面を含む面発光レーザと、前記光線を分岐させる回折光学素子と、を備えてもよい。前記面発光レーザは、第1DBR及び第2DBRと、前記第1DBRと前記第2DBRとの間に位置する活性層と、を少なくとも含んでもよい。
本開示の第11の態様は、上述した第10の態様による表示装置において、前記回折光学素子は、前記面発光レーザから出射された前記光線を分岐させる第1回折光学素子と、第2回折光学素子と、を含んでもよく、前記プロジェクタは、前記第1回折光学素子と前記第2回折光学素子との間に位置し、少なくともコリメータを含む光学系を含んでもよく、前記第2回折光学素子は、前記光学系から出射された光線を分岐させてもよい。
本開示の第12の態様は、上述した第10の態様による表示装置において、前記プロジェクタは、前記面発光レーザと前記回折光学素子との間に位置し、少なくともコリメータを含む光学系を含んでもよく、前記回折光学素子は、前記光学系から出射された光線を分岐させてもよい。
本開示の第13の態様は、上述した第1の態様~第5の態様のいずれか1つによる表示装置において、前記プロジェクタは、前記パネル第2面に交差する方向に広がる発光面であって、少なくとも1つの前記光線が出射される発光面を含む端面発光レーザと、前記面発光レーザから出射された前記光線が前記パネル第2面に向かうように前記光線を屈折させる光学系と、前記光線を分岐させる回折光学素子と、を備えてもよい。
本開示の第14の態様は、上述した第13の態様による表示装置において、前記回折光学素子は、前記端面発光レーザから出射された前記光線を分岐させる第1回折光学素子と、第2回折光学素子と、を含んでもよく、前記第1回折光学素子によって分岐された前記光線は、前記光学系に入射してもよく、前記第2回折光学素子は、前記光学系から出射された光線を分岐させてもよい。
本開示の第15の態様は、上述した第13の態様による表示装置において、前記光学系は、前記端面発光レーザと前記回折光学素子との間に位置してもよく、前記回折光学素子は、前記光学系から出射された光線を分岐させてもよい。
本開示の第16の態様は、上述した第13の態様~第15の態様のいずれか1つによる表示装置において、前記光学系は、前記光線を屈折させるプリズムを含んでもよい。
本開示の第17の態様は、上述した第16の態様による表示装置において、前記光学系は、前記端面発光レーザと前記プリズムとの間に並ぶ複数のレンズを含んでもよい。
本開示の第18の態様は、上述した第1の態様~第17の態様のいずれか1つによる表示装置において、前記複数の光線は、複数の赤外線であってもよい。
本開示の第19の態様は、上述した第1の態様~第18の態様のいずれか1つによる表示装置において、表示装置は、対象物によって反射された前記複数の光線を検出するレシーバを備えてもよい。
本開示の第20の態様は、上述した第19の態様による表示装置において、前記レシーバは、前記対象物によって反射され、前記パネル第1面の前記表示領域から前記パネル第2面へ透過した前記複数の光線を検出してもよい。
本開示の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。
まず、表示装置10について説明する。図1に示すように、表示装置10は、ディスプレイパネル100、プロジェクタ20及びレシーバ90を備えてもよい。表示装置10は、円偏光板80を備えてもよい。図示はしないが、表示装置10は、円偏光板80を覆うカバーを備えてもよい。カバーは、例えばガラスを含む。
ディスプレイパネル100は、パネル第1面101と、パネル第1面101の反対側に位置するパネル第2面102と、を含む。パネル第1面101は、表示装置10の使用者に向かう面である。パネル第1面101は、映像が表示される表示領域105を含む。
プロジェクタ20は、図1に示すように、複数の光線Lを生成し、パネル第2面102に向けて複数の光線Lを放出する。複数の光線Lは、パネル第2面102からパネル第1面101の表示領域105へ透過する。ディスプレイパネル100を透過した複数の光線Lは、円偏光板80を透過した後、表示装置10に対面している対象物200に照射される。対象物200は、例えば、表示装置10の使用者の顔である。以下の説明において、表示装置10から放出される複数の光線Lのことを、最終光線群とも称し、符号L2で表す。
符号Rは、対象物200によって反射された光線を表す。複数の光線Rは、円偏光板80を透過した後、パネル第1面101からパネル第2面102へ透過する。その後、複数の光線Rは、レシーバ90によって検出される。レシーバ90は、複数のフォトダイオードを含んでもよい。
図示はしないが、表示装置10は、プロジェクタ20及びレシーバ90を制御するコントローラを備えてもよい。コントローラは、レシーバ90からの情報に基づいて、複数の光線の飛行期間を算出してもよい。飛行期間とは、各光線の放出時間から検出時間までの期間である。放出時間とは、各光線がプロジェクタ20から放出された時間である。検出時間とは、対象物200によって反射された光線がレシーバ90によって検出された時間である。コントローラは、複数の光線の飛行期間に基づいて、対象物200の形状を算出してもよい。コントローラは、算出された対象物200の形状と、予め登録されている使用者の顔の形状とを比較することにより、使用者を認証してもよい。
円偏光板80は、1/4波長板81及び直線偏光板82を含んでもよい。1/4波長板81は、ディスプレイパネル100のパネル第1面101に対面している。直線偏光板82は、1/4波長板81の下流に位置し、1/4波長板81に積層されている。言い換えると、1/4波長板81は、直線偏光板82とディスプレイパネル100との間に位置している。「下流」及び後述する「上流」は、プロジェクタ20から対象物200に向かう光線の進行方向に沿って、表示装置10の構成要素の相対的な位置を表す用語である。
1/4波長板81は、1/4波長板81を透過する光線の偏光面にπ/2の位相差を与える。π/2は、λ/4に相当する。λは、光線の波長である。円偏光の状態の光線で1/4波長板81に入射する光線は、直線偏光の状態で1/4波長板81から出射する。直線偏光の状態の光線で1/4波長板81に入射する光線は、円偏光の状態で1/4波長板81から出射する。
直線偏光板82は、偏光軸及び吸収軸を含む。吸収軸は、偏光軸に直交する。偏光軸に平行な直線偏光を有する光線は、直線偏光板82を透過できる。吸収軸に平行な直線偏光を有する光線は、直線偏光板82を透過できない。
1/4波長板81は、直線偏光板82の偏光軸に対してπ/4傾斜した複屈折の主軸を含む。
円偏光板80は、以下に説明するように、表示装置10に入射した外光が反射されることを抑制できる。
円偏光板80に入射する外光は、直線偏光板82によって偏光軸の方向に偏光される。その後、外光は、1/4波長板81を透過することによって、例えば左回り円偏光の状態になる。その後、外光は、ディスプレイパネル100の構成要素によって反射されることによって、例えば右回り円偏光の状態になる。右回り円偏光の状態の光が1/4波長板81を透過すると、直線偏光板82の吸収軸の方向の直線偏光の状態になる。このため、ディスプレイパネル100の構成要素によって反射された外光は、直線偏光板82を透過できない。
プロジェクタ20から放出される光線は、右回り円偏光の状態又は左回り円偏光の状態にある。右回り円偏光と左回り円偏光の分布がランダムである場合、プロジェクタ20から放出される光線の約半分は、円偏光板80を透過できる。
次に、ディスプレイパネル100について説明する。図2は、ディスプレイパネル100の基板の法線方向に沿って見た場合のディスプレイパネル100の一例を示す平面図である。以下の説明において、基板などの基礎となる物質の面の法線方向に沿って見ることを、平面視とも称する。
ディスプレイパネル100は、基板と、基板の面内方向に沿って並ぶ複数の表示素子115と、を含む。ディスプレイパネル100は、映像が表示される表示領域105を含む。表示領域105の輪郭は、第1辺105A、第2辺105B、第3辺105C及び第4辺105Dを含んでもよい。第1辺105A及び第2辺105Bは、第1方向G1において対向していてもよい。第3辺105C及び第4辺105Dは、第2方向G2において対向していてもよい。第2方向G2は、第1方向G1に交差する方向である。第2方向G2は、第1方向G1に直交していてもよい。
図3は、表示領域105の一例を示す平面図である。複数の表示素子115は、異なる2方向に沿って並んでいてもよい。例えば、複数の表示素子115は、第1方向G1及び第2方向G2に沿って並んでいてもよい。複数の表示素子115は、第1方向G1及び第2方向G2に交差する2つの方向に沿って並んでいてもよい。
図4は、図3のA-A線に沿った断面図である。ディスプレイパネル100は、基板110、複数の第1電極120、複数の有機層130、及び第2電極140を備えてもよい。基板110は、基板第1面111及び基板第2面112を含む。基板第2面112は、基板第1面111の反対側に位置する。基板第1面111は、ディスプレイパネル100のパネル第1面101に向かっている。基板第2面112は、ディスプレイパネル100のパネル第2面102に向かっている。
複数の第1電極120は、基板第1面111上に位置してもよい。複数の有機層130は、第1電極120上に位置してもよい。第2電極140は、有機層130上に位置してもよい。第2電極140は、平面視において複数の第1電極120に重なるように広がっていてもよい。表示素子115は、第1電極120、有機層130及び第2電極140を含む積層構造体によって構成されている。表示素子115は、第1電極120と第2電極140との間に電圧が印加されることにより、又は、第1電極120と第2電極140との間に電流が流れることにより、映像を構成する光を放出できる。
図3及び図4に示すように、複数の有機層130は、複数の第1有機層130Aと、複数の第2有機層130Bと、複数の第3有機層130Cと、を含んでもよい。第1有機層130A、第2有機層130B及び第3有機層130Cは、例えば、赤色発光層、青色発光層及び緑色発光層である。第1有機層130A、第2有機層130B及び第3有機層130Cに共通する構成を説明する場合には、「有機層130」という用語及び符号を用いる。
1つの表示素子115は、少なくとも1つの第1サブ素子115Aと、少なくとも1つの第2サブ素子115Bと、少なくとも1つの第3サブ素子115Cと、を含んでもよい。第1サブ素子115Aは、第1電極120、第1有機層130A及び第2電極140を含む。第2サブ素子115Bは、第1電極120、第2有機層130B及び第2電極140を含む。第3サブ素子115Cは、第1電極120、第3有機層130C及び第2電極140を含む。図3に示す例において、1つの表示素子115は、1つの第1サブ素子115Aと、1つの第2サブ素子115Bと、1つの第3サブ素子115Cと、を含む。
基板110は、絶縁性を有する部材であってもよい。基板110は、好ましくは、光を透過させる透明性を有する。基板110は、ガラス板、樹脂フィルムなどを含んでもよい。
基板110の透明性は、有機層130から放出された光を透過させて表示を行うことができる程度の透明性であることが好ましい。例えば、可視光領域における基板110の透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。基板110の透過率は、JIS K7361-1に規定されている「プラスチック-透明材料の全光透過率の試験方法 第1部:シングルビーム法」に基づいて測定される。
第1電極120は、導電性を有する材料を含む。例えば、第1電極120は、金属、導電性を有する金属酸化物や、その他の導電性を有する無機材料などを含む。第1電極120は、インジウム・スズ酸化物などの、透明性及び導電性を有する金属酸化物を含んでいてもよい。
有機層130は、有機材料を含む。有機層130に通電されると、有機層130は、何らかの機能を発揮することができる。通電とは、有機層130に電圧が印加されること、又は有機層130に電流が流れることを意味する。
第2電極140は、金属などの、導電性を有する材料を含む。第2電極140は、後述するマスクを用いる蒸着法によって有機層130の上に形成される。第2電極140を構成する材料としては、白金、金、銀、銅、鉄、錫、クロム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、炭素等を用いることができる。これらの材料は、単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種類以上を用いる場合には、各材料からなる層を積層してもよい。また、2種類以上の材料を含む合金を用いてもよい。例えば、MgAg等のマグネシウム合金、AlLi、AlCa、AlMg等のアルミニウム合金、アルカリ金属類およびアルカリ土類金属類の合金等を用いることができる。
第2電極140の厚みは、例えば、5nm以上でもよく、10nm以上でもよく、50nm以上でもよく、100nm以上でもよい。第2電極140の厚みは、例えば、200nm以下でもよく、500nm以下でもよく、1μm以下でもよく、100μm以下でもよい。第2電極140の厚みの範囲は、5nm、10nm、50nm及び100nmからなる第1グループ、及び/又は、200nm、500nm、1μm及び100μmからなる第2グループによって定められてもよい。第2電極140の厚みの範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の1つと、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の1つとの組み合わせによって定められてもよい。第2電極140の厚みの範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。第2電極140の厚みの範囲は、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。第2電極140の厚みは、例えば、5nm以上100μm以下でもよく、5nm以上1μm以下でもよく、5nm以上500nm以下でもよく、5nm以上200nm以下でもよく、5nm以上100nm以下でもよく、5nm以上50nm以下でもよく、5nm以上10nm以下でもよく、10nm以上100μm以下でもよく、10nm以上1μm以下でもよく、10nm以上500nm以下でもよく、10nm以上200nm以下でもよく、10nm以上100nm以下でもよく、10nm以上50nm以下でもよく、50nm以上100μm以下でもよく、50nm以上1μm以下でもよく、50nm以上500nm以下でもよく、50nm以上200nm以下でもよく、50nm以上100nm以下でもよく、100nm以上100μm以下でもよく、100nm以上1μm以下でもよく、100nm以上500nm以下でもよく、100nm以上200nm以下でもよく、200nm以上100μm以下でもよく、200nm以上1μm以下でもよく、200nm以上500nm以下でもよく、500nm以上100μm以下でもよく、500nm以上1μm以下でもよく、1μm以上100μm以下でもよい。
第2電極140の厚みが小さいほど、第2電極140の透過率が高くなる。
ディスプレイパネル100は、平面視において隣り合う2つの第1電極120の間に位置する絶縁層160を備えてもよい。絶縁層160は、例えばポリイミドを含んでいる。絶縁層160は、平面視において第1電極120の端に重なっていてもよい。
次に、プロジェクタ20について説明する。図5は、プロジェクタ20の一例を示す断面図である。プロジェクタ20は、面発光レーザ30及び回折光学素子50を含んでもよい。プロジェクタ20は、面発光レーザ30と回折光学素子50との間に位置する光学系60を含んでもよい。
面発光レーザ30は、少なくとも1つの光線Lが出射される発光面301を含む。図5に示す例においては、複数の光線Lが発光面301から出射される。発光面301は、ディスプレイパネル100のパネル第2面102に向かっていてもよい。面発光レーザ30は、垂直共振器型面発光レーザ、いわゆるVCSELであってもよい。
発光面301から出射された複数の光線Lは、光学系60を通過した後に回折光学素子50に入射する。回折光学素子50は、光線Lを回折させる。例えば、回折光学素子50は、複数の光線Lをそれぞれ分岐させてもよい。この結果、回折光学素子50から出射される光線Lの数が、回折光学素子50に入射する光線Lの数よりも多くてもよい。以下の説明において、回折光学素子50に入射する複数の光線Lのことを、基本光線群とも称し、符号L1で表す。面発光レーザ30は、基本光線群L1を生成して放出してもよい。
図6は、面発光レーザ30の発光面301の一例を示す平面図である。面発光レーザ30は、複数の開口31を含んでもよい。1つの開口31から1つの光線Lが出射されてもよい。複数の開口31は、発光面301における2つの面内方向に沿って並んでいてもよい。
図5に示すように、回折光学素子50は、回折第1面501及び回折第1面501の反対側に位置する回折第2面502を含む。回折第1面501は、光線を回折させる凹凸構造を含んでもよい。例えば、回折光学素子50は、回折第1面501及び回折第2面502を含む基板51と、基板51の回折第1面501に形成された複数の溝52と、を含んでもよい。回折第2面502は、光線Lが入射する入射面であってもよい。回折第1面501は、回折光学素子50によって回折された光線Lが出射する出射面であってもよい。
光学系60は、面発光レーザ30の発光面301から出射された光線Lを回折光学素子50の回折第2面502に導く。光学系60は、上流から下流に並ぶ凹レンズ63、第1コリメータ61、第2コリメータ62及び凸レンズ64を含んでもよい。
凹レンズ63は、面発光レーザ30の発光面301に面していてもよい。凹レンズ63は、複数の光線Lの間の間隔を広げるよう機能してもよい。凹レンズ63を通過した光線Lは、第1コリメータ61に入射する。
凹レンズ63及び第1コリメータ61は、互いに対向する平行な面を含んでもよい。図5に示すように、凹レンズ63と第1コリメータ61とは、結合されていてもよい。図示はしないが、第1コリメータ61は、凹レンズ63から分離されていてもよい。
第1コリメータ61は、下流へ凸となる凸レンズであってもよい。第2コリメータ62は、上流へ凸となる凸レンズであってもよい。複数の光線Lは、第1コリメータ61から第2コリメータ62まで互いに平行に進行してもよい。第2コリメータ62を通過した光線Lは、第1コリメータ61に入射する。
凸レンズ64は、回折光学素子50の回折第2面502に面していてもよい。凸レンズ64は、下流へ凸となる凸レンズを部分的に含んでもよい。凸レンズ64は、複数の光線Lの収差を調整するよう機能してもよい。
次に、面発光レーザ30の構成について詳細に説明する。図7は、面発光レーザ30の一部の一例を示す断面図である。図7に示す面発光レーザ30の一部は、複数の光線Lのうちの1つの光線Lを放出する。
面発光レーザ30は、上流から下流に並ぶ第1DBR32、活性層34及び第2DBR33を含んでもよい。第1DBR32、活性層34及び第2DBR33は、図示しない半導体基板の面上に積層されていてもよい。面発光レーザ30は、第1電極35及び第2電極36を含んでもよい。第2電極36は、発光面301に位置してもよい。
第1DBR32及び第2DBR33はそれぞれ、多層膜反射鏡を含んでもよい。例えば、第1DBR32及び第2DBR33はそれぞれ、交互に積層された複数の高屈折率層及び複数の低屈折率層を含んでもよい。高屈折率層は、低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率を有する。光は、活性層34において、第1DBR32と第2DBR33との間で、半導体基板の面の法線方向に沿って発振する。発振している光の一部が、光線Lとして発光面301から放出される。
光線Lは、赤外線であってもよい。光線Lの波長λは、例えば、0.7μm以上でもよく、0.8μm以上でもよく、0.9μm以上でもよい。波長λは、例えば、1.1μm以下でもよく、1.3μm以下でもよく、1.5μm以下でもよい。波長λの範囲は、0.7μm、0.8μm及び0.9μmからなる第1グループ、及び/又は、1.1μm、1.3μm及び1.5μmからなる第2グループによって定められてもよい。波長λの範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の1つと、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の1つとの組み合わせによって定められてもよい。波長λの範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。波長λの範囲は、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。波長λは、例えば、0.7μm以上1.5μm以下でもよく、0.7μm以上1.3μm以下でもよく、0.7μm以上1.1μm以下でもよく、0.7μm以上0.9μm以下でもよく、0.7μm以上0.8μm以下でもよく、0.8μm以上1.5μm以下でもよく、0.8μm以上1.3μm以下でもよく、0.8μm以上1.1μm以下でもよく、0.8μm以上0.9μm以下でもよく、0.9μm以上1.5μm以下でもよく、0.9μm以上1.3μm以下でもよく、0.9μm以上1.1μm以下でもよく、1.1μm以上1.5μm以下でもよく、1.1μm以上1.3μm以下でもよく、1.3μm以上1.5μm以下でもよい。
次に、表示装置10の動作の一例を説明する。
図5に示すように、基本光線群L1を構成する複数の光線Lが面発光レーザ30から放出される。複数の光線Lは、光学系60によって導かれて回折光学素子50に入射する。複数の光線Lは、回折光学素子50によって回折される。これにより、最終光線群L2を構成する複数の光線Lが回折光学素子50から放出される。最終光線群L2を構成する複数の光線Lは、ディスプレイパネル100及び円偏光板80を透過した後、表示装置10から放出される。
図8は、対象物200に照射される最終光線群L2のパターンの一例を示す図である。最終光線群L2は、互いに重ならないように並べられた複数の基本光線群L1を含んでもよい。すなわち、回折光学素子50は、複数の基本光線群L1をタイリングするよう機能してもよい。図8に示す例において、最終光線群L2は、3行及び3列に並べられた9つの基本光線群L1を含む。
対象物200によって反射された複数の光線Rは、円偏光板80及びディスプレイパネル100を透過した後、レシーバ90によって検出される。コントローラは、レシーバ90からの情報に基づいて、複数の光線の飛行期間を算出してもよい。コントローラは、複数の光線の飛行期間に基づいて、対象物200の形状を算出してもよい。コントローラは、算出された対象物200の形状と、予め登録されている使用者の顔の形状とを比較することにより、使用者を認証してもよい。
本実施の形態においては、ディスプレイパネル100の表示領域105を透過する複数の光線Lを利用して、対象物200の形状が算出される。このため、ノッチ領域などによって表示領域105の一部が失われることを抑制できる。すなわち、表示領域105の形状を維持しながら、対象物200の形状を検出する機能を表示装置10に搭載できる。
上述した一実施形態を様々に変更できる。以下、必要に応じて図面を参照しながら、その他の実施形態について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した一実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の一実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いる。重複する説明は省略する。また、上述した一実施形態において得られる作用効果がその他の実施形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略する場合もある。
上述の実施形態において生じ得る課題の一例を説明する。図9は、プロジェクタ20から放出される光線Lの円偏光を説明するための図である。
面発光レーザ30が垂直共振器型面発光レーザである場合、プロジェクタ20から放出される光線は、右回り円偏光の状態又は左回り円偏光の状態にある。図9において、符号Laは、左回り円偏光の光を表し、符号Lbは、右回り円偏光の光を表す。
左回り円偏光の光La又は右回り円偏光の光Lbのいずれか一方は、円偏光板80を透過できる。例えば、左回り円偏光の光Laが、円偏光板80を透過できると仮定する。具体的には、左回り円偏光の光Laが1/4波長板81を透過すると、光Laは、直線偏光板82の偏光軸の方向の直線偏光の状態になる。このため、光Laは直線偏光板82を透過できる。右回り円偏光の光Lbが1/4波長板81を透過すると、光Lbは、直線偏光板82の吸収軸の方向の直線偏光の状態になる。このため、光Lbは直線偏光板82を透過できない。
対象物200によって反射された光Laである光Raは、直線偏光板82の偏光軸の方向の直線偏光の状態にあるので、直線偏光板82を透過できる。光Raが1/4波長板81を透過すると、左回り円偏光の状態になる。その後、光Raは、ディスプレイパネル100を透過した後、レシーバ90によって検出される。
面発光レーザ30から放出される光線における右回り円偏光と左回り円偏光の分布が一定である場合、円偏光板80における光線の透過率も一定である。面発光レーザ30から放出される光線における右回り円偏光と左回り円偏光の分布が、時間の経過又は個体差に応じて変化する場合、円偏光板80における光線の透過率も変化する。この場合、ディスプレイパネル100から放出される光線の強度が変化する。従って、レシーバ90によって検出される光線の強度も変化する。
垂直共振器型面発光レーザにおいては、時間の経過又は個体差に応じて、光線の右回り円偏光と左回り円偏光の分布が変化することがある。例えば、垂直共振器型面発光レーザに入力される電流の値に応じて、分布が変化することがある。例えば、時間の経過に応じて、分布が変化することがある。例えば、垂直共振器型面発光レーザの個体差に応じて、分布が変化することがある。
このような課題を考慮し、右回り円偏光と左回り円偏光の分布の安定性が改善された面発光レーザ30を用いることを提案する。
図10は、面発光レーザ30の一例を示す断面図である。面発光レーザ30は、キャビティ層37を含む。キャビティ層37は、第2DBR33と活性層34の間に位置してもよい。第2電極36は、キャビティ層37と活性層34の間に位置してもよい。
キャビティ層37は、下流の面に位置する溝371を含んでもよい。例えば、キャビティ層37は、2つの溝371を含んでもよい。2つの溝371は、平面視におけるキャビティ層37の中心を挟んで対向していてもよい。溝371は、イントラキャビティパターンとも称される。面発光レーザ30の構成要素に関して「下流」及び「上流」という用語を用いる場合、「下流」は、光の出射面に相対的に近いことを意味し、「上流」は、光の出射面に相対的に遠いことを意味する。例えば、上述の「下流の面」は、キャビティ層37の複数の面のうち、光の出射面に相対的に近い面を意味する。
図10に示すように、面発光レーザ30は、活性層34の内部に位置する埋め込みトンネル接合部341を含んでもよい。埋め込みトンネル接合部341は、平面視において2つの溝371の間に位置してもよい。
図10に示す面発光レーザ30によれば、右回り円偏光と左回り円偏光の分布の安定性を高めることができる。ディスプレイパネル100から放出される光線の強度の安定性が高くなるので、レシーバ90によって検出される光線の強度の安定性も高くなる。このため、対象物200の認証の安定性を高めることができる。
図11は、面発光レーザ30の一例を示す断面図である。面発光レーザ30の第2DBR33の下流の面にはグレーティング331が形成されていてもよい。グレーティング331は、例えば、第2DBR33の下流の面に形成されている複数の溝を含む。グレーティング331は、平面視において第2電極36の開口31に重なっていてもよい。
図11に示すように、面発光レーザ30は、発光面301から第1DBR32に至る孔30hを含んでもよい。孔30hは、グレーティング331の外側に位置してもよい。「外側」とは、平面視における第2DBR33の中心から遠ざかる側を意味する。
図11に示す面発光レーザ30によれば、右回り円偏光と左回り円偏光の分布の安定性を高めることができる。ディスプレイパネル100から放出される光線の強度の安定性が高くなるので、レシーバ90によって検出される光線の強度の安定性も高くなる。このため、対象物200の認証の安定性を高めることができる。
図12は、面発光レーザ30の一例を示す断面図である。面発光レーザ30は、2つのクラッド層と、2つのクラッド層の間に位置する活性層34及びフォトニック結晶39と、を含んでもよい。フォトニック結晶39を含む面発光レーザ30は、フォトニック結晶面発光レーザ、いわゆるPCSELであってもよい。
2つのクラッド層は、例えば、第1クラッド層381及び第2クラッド層382からなる。面発光レーザ30は、第1電極35及び第2電極36を含んでもよい。第1電極35とフォトニック結晶39の間に第1クラッド層381が位置してもよい。フォトニック結晶39と第2クラッド層382の間に活性層34が位置してもよい。活性層34と第2電極36の間に第2クラッド層382が位置してもよい。第2電極36は、発光面301に位置してもよい。
フォトニック結晶39は、屈折率が周期的に変化する構造を含む。例えば、フォトニック結晶39は、図12に示すように、面発光レーザ30の面方向に並ぶ複数の点欠陥391を含んでもよい。点欠陥391は、フォトニック結晶39の面に形成された溝、フォトニック結晶39を貫通する孔などである。符号P1は、面方向に並ぶ複数の点欠陥391の周期を表す。
屈折率の変化の周期は、光の波長に近い。このため、フォトニック結晶39と光との間の相互作用が高められている。相互作用を制御することにより、右回り円偏光と左回り円偏光の分布の安定性を高めることができる。
周期Pは、光の波長λに応じて定められる。波長λに対する周期Pの比であるP/λは、例えば、0.2以上でもよく、0.5以上でもよく、0.8以上でもよい。P/λは、例えば、1.2以下でもよく、2.0以下でもよく、5.0以下でもよい。P/λの範囲は、0.2、0.5及び0.8からなる第1グループ、及び/又は、1.2、2.0及び5.0からなる第2グループによって定められてもよい。P/λの範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の1つと、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の1つとの組み合わせによって定められてもよい。P/λの範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。P/λの範囲は、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。P/λは、例えば、0.2以上5.0以下でもよく、0.2以上2.0以下でもよく、0.2以上1.2以下でもよく、0.2以上0.8以下でもよく、0.2以上0.5以下でもよく、0.5以上5.0以下でもよく、0.5以上2.0以下でもよく、0.5以上1.2以下でもよく、0.5以上0.8以下でもよく、0.8以上5.0以下でもよく、0.8以上2.0以下でもよく、0.8以上1.2以下でもよく、1.2以上5.0以下でもよく、1.2以上2.0以下でもよく、2.0以上5.0以下でもよい。
図12に示す面発光レーザ30によれば、右回り円偏光と左回り円偏光の分布の安定性を高めることができる。ディスプレイパネル100から放出される光線の強度の安定性が高くなるので、レシーバ90によって検出される光線の強度の安定性も高くなる。このため、対象物200の認証の安定性を高めることができる。
面発光レーザ30は、1つの光線Lのみを放出してもよい。例えば、フォトニック結晶39を含む面発光レーザ30は、1つの光線Lのみを放出してもよい。
図13は、プロジェクタ20の一例を示す断面図である。図13のプロジェクタ20の面発光レーザ30は、1つの光線Lのみを放出する。この場合、プロジェクタ20は、2つの回折光学素子50を含んでもよい。図13において、第1の回折光学素子が符号50Aで表され、第2の回折光学素子が符号50Bで表されている。第2の回折光学素子50Bは、図5に示す上述の回折光学素子50と同様に、基本光線群L1を構成する複数の光線Lを回折する。
第1の回折光学素子50Aは、面発光レーザ30と光学系60との間に位置する。面発光レーザ30から放出された1つの光線Lは、第1の回折光学素子50Aに入射する。光線Lは、第1の回折光学素子50Aによって回折される。これにより、基本光線群L1を構成する複数の光線Lが第1の回折光学素子50Aから放出される。基本光線群L1を構成する複数の光線Lは、図5に示す上述の実施の形態の場合と同様に、光学系60によって導かれて第2の回折光学素子50Bに入射する。
図14は、プロジェクタ20の一例を示す断面図である。図14のプロジェクタ20の面発光レーザ30も、図13の例の場合と同様に、1つの光線Lのみを放出する。プロジェクタ20は、面発光レーザ30と、面発光レーザ30とディスプレイパネル100との間に位置する回折光学素子50と、を含む。
面発光レーザ30から放出された1つの光線Lは、回折光学素子50に入射する。光線Lは、回折光学素子50によって回折される。これにより、最終光線群L2を構成する複数の光線Lが回折光学素子50から放出される。
図13及び図14に示すプロジェクタ20のいずれによっても、最終光線群L2を構成する複数の光線Lが得られる。図13に示す例においては、第1の回折光学素子50Aが基本光線群L1を生成し、第2の回折光学素子50Bが最終光線群L2を生成する。このため、1つの回折光学素子50によって最終光線群L2を生成する場合に比べて、回折光学素子50の設計の難易度を低減できる。図14に示す例においては、構成要素の数を低減できるので、プロジェクタ20の厚みを低減できる。
図15は、プロジェクタ20の一例を示す断面図である。プロジェクタ20は、端面発光レーザ40を含んでもよい。端面発光レーザ40は、パネル第2面102に交差する方向に広がる発光面401を含む。発光面401は、パネル第2面102に直交する方向に広がってもよい。
図16は、端面発光レーザ40の一例を示す断面図である。端面発光レーザ40は、n型クラッド層41と、p型クラッド層42と、n型クラッド層41とp型クラッド層42との間に位置する活性層43と、を含んでもよい。n型クラッド層41、p型クラッド層42及び活性層43は、図示しない半導体基板の面上に積層されていてもよい。端面発光レーザ40は、第1電極45及び第2電極46を含んでもよい。
光は、活性層34において、半導体基板の面方向に沿って発振する。発振している光の一部が、光線Lとして発光面401から放出される。光線Lは、パネル第2面102の面方向に平行な方向において発光面401から放出されてもよい。
プロジェクタ20は、面発光レーザから出射された光線Lがパネル第2面102に向かうように光線Lを屈折させる光学系60を含んでもよい。例えば、光学系60は、プリズム65を含んでもよい。プリズム65は、パネル第2面102の面方向に平行な方向に進行する光Lが、パネル第2面102に向かって進行するよう、光Lを屈折させる。プリズム65は、1つの反射面651を含む直角プリズムであってもよい。
光学系60は、端面発光レーザ40とプリズム65との間に並ぶ複数のレンズを含んでもよい。複数のレンズは、光線Lをプリズム65へ導く。複数のレンズは、図5に示す上述の実施の形態の場合と同様に、上流から下流に並ぶ凹レンズ63、第1コリメータ61、第2コリメータ62及び凸レンズ64を含んでもよい。
プロジェクタ20は、2つの回折光学素子50を含んでもよい。図15において、第1の回折光学素子が符号50Aで表され、第2の回折光学素子が符号50Bで表されている。第1の回折光学素子が符号50Aは、端面発光レーザ40と光学系60との間に位置する。
第1の回折光学素子が符号50Aは、図13に示す上述の第1の回折光学素子50Aと同様に、端面発光レーザ40から放出された1つの光線Lを回折する。基本光線群L1を構成する複数の光線Lが第1の回折光学素子50Aから放出される。
第2の回折光学素子50Bは、図5に示す上述の回折光学素子50と同様に、基本光線群L1を構成する複数の光線Lを回折する。
図15に示すように、プロジェクタ20は、端面発光レーザ40と第1の回折光学素子50Aとの間に位置する補正レンズ71を含んでもよい。補正レンズ71は、光線Lの形状を補正する。例えば、端面発光レーザ40から放出された光線Lの断面が楕円形である場合、補正レンズ71は、光線Lの断面が円形に近づくよう光線Lの形状を補正してもよい。
図15に示すように、プロジェクタ20は、補正レンズ71と第1の回折光学素子50Aとの間に位置するコリメータ72を含んでもよい。コリメータ72は、下流へ凸となる凸レンズであってもよい。
補正レンズ71及びコリメータ72は、互いに対向する平行な面を含んでもよい。図15に示すように、補正レンズ71とコリメータ72とは、結合されていてもよい。図示はしないが、補正レンズ71は、コリメータ72から分離されていてもよい。
図15に示すように、プロジェクタ20は、1/4波長板73を含んでもよい。1/4波長板73は、図15に示すように、補正レンズ71又はコリメータ72と第1の回折光学素子50Aとの間に位置してもよい。1/4波長板73は、その他の位置に配置されてもよい。例えば、1/4波長板73は、第1の回折光学素子50Aと光学系60との間に位置してもよい。例えば、1/4波長板73は、凸レンズ64とプリズム65との間に位置してもよい。例えば、1/4波長板73は、プリズム65と第2の回折光学素子50Bとの間に位置してもよい。
図示はしないが、プロジェクタ20は、第1の回折光学素子50Aと第2の回折光学素子50Bとの間に位置するプリズムを含んでもよい。プリズムは、例えば、光線Lの光路長を増加させることができる。
図16は、端面発光レーザ40を含むプロジェクタ20の一例を示す断面図である。プロジェクタ20は、面発光レーザ30と、回折光学素子50と、回折光学素子50と端面発光レーザ40との間に位置するプリズム65と、を含む。
端面発光レーザ40から放出された1つの光線Lは、プリズム65によって屈折された後、回折光学素子50に入射する。光線Lは、回折光学素子50によって回折される。これにより、最終光線群L2を構成する複数の光線Lが回折光学素子50から放出される。
図16に示すように、プロジェクタ20は、端面発光レーザ40とプリズム65との間に位置する補正レンズ71、コリメータ72、1/4波長板73などを含んでもよい。
図15~図17に示す例によれば、端面発光レーザ40を用いることにより、円偏光板80に入射される光線Lの右回り円偏光と左回り円偏光の分布の安定性を高めることができる。ディスプレイパネル100から放出される光線の強度の安定性が高くなるので、レシーバ90によって検出される光線の強度の安定性も高くなる。このため、対象物200の認証の安定性を高めることができる。
図15及び図17に示すプロジェクタ20のいずれによっても、最終光線群L2を構成する複数の光線Lが得られる。図15に示す例においては、第1の回折光学素子50Aが基本光線群L1を生成し、第2の回折光学素子50Bが最終光線群L2を生成する。このため、1つの回折光学素子50によって最終光線群L2を生成する場合に比べて、回折光学素子50の設計の難易度を低減できる。図17に示す例においては、構成要素の数を低減できるので、プロジェクタ20の寸法を低減できる。
光線Lを回折光学素子50に適切に導くことができる限り、上述の光学系60に含まれるレンズの形状は特には限られない。補正レンズ71、コリメータ72などのレンズの形状も、特には限られない。例えば、第1コリメータ61、第2コリメータ62、凹レンズ63、凸レンズ64、補正レンズ71、コリメータ72などのレンズの形状は、自由曲面であってもよい。例えば、第1コリメータ61、第2コリメータ62、凹レンズ63、凸レンズ64、補正レンズ71、コリメータ72などのレンズは、フレネルレンズなどの屈折光学平面レンズであってもよい。、第1コリメータ61、第2コリメータ62、凹レンズ63、凸レンズ64、補正レンズ71、コリメータ72などのレンズは、回折光学素子50のような、回折を利用する回折光学レンズであってもよい。
最終光線群L2を生成できる限り、回折光学素子50の構成は得には限られない。例えば、プロジェクタ20は、3つ以上の回折光学素子50を含んでもよい。例えば、プロジェクタ20は、基本光線群L1を生成する第1の回折光学素子50、基本光線群L1を第1方向においてタイリングする第2の回折光学素子50、基本光線群L1を第2方向においてタイリングする第3の回折光学素子50などを含んでもよい。
次に、ディスプレイパネル100とプロジェクタ20及びレシーバ90の組合せの一例を説明する。図18は、ディスプレイパネル100の一例を示す平面図である。
表示領域105は、平面視において第1表示領域106及び第2表示領域107を含んでいてもよい。図18に示すように、第1表示領域106は、第1辺105A、第2辺105B及び第3辺105Cに沿って広がっていてもよい。例えば、第1表示領域106は、第1辺105Aの全域、第2辺105Bの全域及び第3辺105Cの全域に接していてもよい。第1表示領域106は、第4辺105Dに部分的に接していてもよい。第2表示領域107は、第1表示領域106よりも小さい面積を有していてもよい。第2表示領域107は、第4辺105Dに接していてもよい。
図19は、第1表示領域106及び第2表示領域107の一例を示す平面図である。第1表示領域106及び第2表示領域107はいずれも、複数の表示素子115を含む。第1表示領域106に位置する表示素子115の第2電極140を、第2電極140Xとも表す。第2表示領域107に位置する表示素子115の第2電極140を、第2電極140Yとも表す。
図19に示すように、第2電極140Yは、第1方向G1に並ぶ2つ以上の電極ライン140Lを含んでもよい。電極ライン140Lは、第2方向G2に延びていてもよい。例えば、電極ライン140Lは、平面視において第1表示領域106の第2電極140Xに接続されている第1端140L1を含んでもよい。電極ライン140Lは、第2方向G2において第1端140L1とは反対の側に位置する第2端140L2を含んでもよい。第2端140L2は、第4辺105Dに位置してもよい。
第2表示領域107は、透過領域108を含んでもよい。透過領域108は、平面視において第2電極140Yと重なっていない。このため、透過領域108は、平面視において第2電極140Yと重なる領域に比べて、高い透過率を有する。透過領域108は、第1方向G1において隣接する2つの電極ライン140Lの間に位置してもよい。
第1表示領域106は、第2電極140Xと重ならない透過領域を含んでいなくてもよい。
第2電極140Xは第1占有率を有する。第1占有率は、第1表示領域106に位置する第2電極140の面積の合計を、第1表示領域106の面積で割ることによって算出される。第1占有率は、例えば0.95以上であり、0.98以上であってもよく、0.99以上であってもよく、1.00であってもよい。
第2電極140Yは第2占有率を有する。第2占有率は、第2表示領域107に位置する第2電極140の面積の合計を、第2表示領域107の面積で割ることによって算出される。第2表示領域107が透過領域108を含むので、第2占有率は第1占有率よりも小さい。
第1占有率に対する第2占有率の比は、例えば、0.2以上でもよく、0.3以上でもよく、0.4以上でもよい。第1占有率に対する第2占有率の比は、例えば、0.6以下でもよく、0.7以下でもよく、0.8以下でもよい。第1占有率に対する第2占有率の比の範囲は、0.2、0.3及び0.4からなる第1グループ、及び/又は、0.6、0.7及び0.8からなる第2グループによって定められてもよい。第1占有率に対する第2占有率の比の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の1つと、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の1つとの組み合わせによって定められてもよい。第1占有率に対する第2占有率の比の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。第1占有率に対する第2占有率の比の範囲は、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、0.2以上0.8以下でもよく、0.2以上0.7以下でもよく、0.2以上0.6以下でもよく、0.2以上0.4以下でもよく、0.2以上0.3以下でもよく、0.3以上0.8以下でもよく、0.3以上0.7以下でもよく、0.3以上0.6以下でもよく、0.3以上0.4以下でもよく、0.4以上0.8以下でもよく、0.4以上0.7以下でもよく、0.4以上0.6以下でもよく、0.6以上0.8以下でもよく、0.6以上0.7以下でもよく、0.7以上0.8以下でもよい。
第2表示領域107は、素子第1方向G1において寸法N13を有し、素子第2方向G2において寸法N14を有する。第1方向G1における第2表示領域107の外縁は、透過領域108によって定められてもよい。第2方向G2における第2表示領域107の外縁は、電極ライン140Lの第1端140L1及び第2端140L2によって定められてもよい。
寸法N13は、例えば、1.0mm以上でもよく、3.0mm以上でもよく、5.0mm以上でもよい。寸法N13は、例えば、10.0mm以下でもよく、20.0mm以下でもよく、30.0mm以下でもよい。寸法N13の範囲は、1.0mm、3.0mm及び5.0mmからなる第1グループ、及び/又は、10.0mm、20.0mm及び30.0mmからなる第2グループによって定められてもよい。寸法N13の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の1つと、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の1つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法N13の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。寸法N13の範囲は、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。寸法N13は、例えば、1.0mm以上30.0mm以下でもよく、1.0mm以上20.0mm以下でもよく、1.0mm以上10.0mm以下でもよく、1.0mm以上5.0mm以下でもよく、1.0mm以上3.0mm以下でもよく、3.0mm以上30.0mm以下でもよく、3.0mm以上20.0mm以下でもよく、3.0mm以上10.0mm以下でもよく、3.0mm以上5.0mm以下でもよく、5.0mm以上30.0mm以下でもよく、5.0mm以上20.0mm以下でもよく、5.0mm以上10.0mm以下でもよく、10.0mm以上30.0mm以下でもよく、10.0mm以上20.0mm以下でもよく、20.0mm以上30.0mm以下でもよい。
寸法N14は、寸法N13と略同一であってもよい。寸法N14は、寸法N13以下であってもよい。寸法N13に対する寸法N14の比であるN14/N13は、例えば、0.10以上でもよく、0.20以上でもよく、0.30以上でもよく、0.40以上でもよい。N14/N13は、例えば、0.50以下でもよく、0.80以下でもよく、0.99以下でもよく、1.10以下でもよい。N14/N13の範囲は、0.10、0.20、0.30及び0.40からなる第1グループ、及び/又は、0.50、0.80、0.99及び1.10からなる第2グループによって定められてもよい。N14/N13の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の1つと、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の1つとの組み合わせによって定められてもよい。N14/N13の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。N14/N13の範囲は、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。N14/N13は、例えば、0.10以上1.10以下でもよく、0.10以上0.99以下でもよく、0.10以上0.80以下でもよく、0.10以上0.50以下でもよく、0.10以上0.40以下でもよく、0.10以上0.30以下でもよく、0.10以上0.20以下でもよく、0.20以上1.10以下でもよく、0.20以上0.99以下でもよく、0.20以上0.80以下でもよく、0.20以上0.50以下でもよく、0.20以上0.40以下でもよく、0.20以上0.30以下でもよく、0.30以上1.10以下でもよく、0.30以上0.99以下でもよく、0.30以上0.80以下でもよく、0.30以上0.50以下でもよく、0.30以上0.40以下でもよく、0.40以上1.10以下でもよく、0.40以上0.99以下でもよく、0.40以上0.80以下でもよく、0.40以上0.50以下でもよく、0.50以上1.10以下でもよく、0.50以上0.99以下でもよく、0.50以上0.80以下でもよく、0.80以上1.10以下でもよく、0.80以上0.99以下でもよく、0.99以上1.10以下でもよい。
図18に示すように、表示領域105は、素子第1方向G1において寸法N11を有する。素子第1方向G1における表示領域105の外縁は、第2電極140によって定められてもよい。
寸法N11に対する寸法N13の比であるN13/N11は、例えば、0.05以上でもよく、0.10以上でもよく、0.20以上でもよく、0.30以上でもよい。N13/N11は、例えば、0.40以下でもよく、0.50以下でもよく、0.60以下でもよく、0.80以下でもよい。N13/N11の範囲は、0.05、0.10、0.20及び0.30からなる第1グループ、及び/又は、0.40、0.50、0.60及び0.80からなる第2グループによって定められてもよい。N13/N11の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の1つと、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の1つとの組み合わせによって定められてもよい。N13/N11の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。N13/N11の範囲は、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。N13/N11は、例えば、0.05以上0.80以下でもよく、0.05以上0.60以下でもよく、0.05以上0.50以下でもよく、0.05以上0.40以下でもよく、0.05以上0.30以下でもよく、0.05以上0.20以下でもよく、0.05以上0.10以下でもよく、0.10以上0.80以下でもよく、0.10以上0.60以下でもよく、0.10以上0.50以下でもよく、0.10以上0.40以下でもよく、0.10以上0.30以下でもよく、0.10以上0.20以下でもよく、0.20以上0.80以下でもよく、0.20以上0.60以下でもよく、0.20以上0.50以下でもよく、0.20以上0.40以下でもよく、0.20以上0.30以下でもよく、0.30以上0.80以下でもよく、0.30以上0.60以下でもよく、0.30以上0.50以下でもよく、0.30以上0.40以下でもよく、0.40以上0.80以下でもよく、0.40以上0.60以下でもよく、0.40以上0.50以下でもよく、0.50以上0.80以下でもよく、0.50以上0.60以下でもよく、0.60以上0.80以下でもよい。
図20は、図19の第1表示領域106及び第2表示領域107の一部を拡大して示す平面図である。第2電極140X及び第2電極140Yはいずれも、平面視において有機層130に重なっていてもよい。
図20に示すように、電極ライン140Lは、画素セクション141及び接続セクション142を含んでいてもよい。画素セクション141は、平面視において有機層130に重なっていてもよい。接続セクション142は、画素セクション141に接続されていてもよい。接続セクション142は、平面視において有機層130に重なっていなくてもよい。画素セクション141及び接続セクション142は、第2方向G2に交互に並んでもよい。画素セクション141は、第1幅を有する。接続セクション142は、第1幅よりも小さい第2幅を有してもよい。
第1表示領域106において、有機層130は、異なる2方向に沿って並んでいてもよい。例えば、有機層130は、第1方向G1に沿って第11周期P11で並んでいてもよい。第2表示領域107において、有機層130は、第1方向G1に沿って第12周期P12で並んでいてもよい。第12周期P12は、第11周期P11よりも大きくてもよい。
第11周期P11に対する第12周期P12の比は、例えば、1.1以上でもよく、1.3以上でもよく、1.5以上でもよい。第11周期P11に対する第12周期P12の比であるP12/P11は、例えば、2.0以下でもよく、3.0以下でもよく、4.0以下でもよい。P12/P11の範囲は、1.1、1.3及び1.5からなる第1グループ、及び/又は、2.0、3.0及び4.0からなる第2グループによって定められてもよい。P12/P11の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の1つと、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の1つとの組み合わせによって定められてもよい。P12/P11の範囲は、上述の第1グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。P12/P11の範囲は、上述の第2グループに含まれる値のうちの任意の2つの組み合わせによって定められてもよい。P12/P11は、例えば、1.1以上4.0以下でもよく、1.1以上3.0以下でもよく、1.1以上2.0以下でもよく、1.1以上1.5以下でもよく、1.1以上1.3以下でもよく、1.3以上4.0以下でもよく、1.3以上3.0以下でもよく、1.3以上2.0以下でもよく、1.3以上1.5以下でもよく、1.5以上4.0以下でもよく、1.5以上3.0以下でもよく、1.5以上2.0以下でもよく、2.0以上4.0以下でもよく、2.0以上3.0以下でもよく、3.0以上4.0以下でもよい。P12/P11が小さい場合、第1密度PD1と第2密度PD2の差が小さくなる。これにより、第1表示領域106と第2表示領域107の間に視覚的な差が生じることを抑制できる。
第1表示領域106において、有機層130は、第2方向G2に沿って第21周期P21で並んでいてもよい。第2表示領域107において、有機層130は、第2方向G2に沿って第22周期P22で並んでいてもよい。第22周期P22は、第21周期P21よりも大きくてもよい。第21周期P21に対する第22周期P22の比であるP22/P21の範囲は、上述の「P12/P11の範囲」と同一であってもよい。
図21は、図20の第2表示領域107のB-B線に沿った断面図である。透過領域108は、平面視において第2電極140Yと重なっていない。透過領域108は、有機層130に重なっていなくてもよい。
図22は、表示装置10の一例を示す断面図である。プロジェクタ20から放出された複数の光線Lは、パネル第2面102からパネル第1面101の第2表示領域107へ透過してもよい。上述のとおり、第2表示領域107に位置する第2電極140Yの第2占有率は、第1表示領域106に位置する第2電極140Xの第1占有率よりも低い。このため、第2表示領域107における光の透過率は、第1表示領域106における光の透過率よりも高い。光線Lが第2表示領域107を透過するようにプロジェクタ20を配置することにより、ディスプレイパネル100から放出される複数の光線Lの強度を高めることができる。
図22に示すように、対象物200によって反射された複数の光線Rは、円偏光板80及びディスプレイパネル100の第2表示領域107を透過した後、レシーバ90によって検出される。第2表示領域107を透過した光線Rを受けるようにレシーバ90を配置することにより、レシーバ90に到達する光線Rの強度を高めることができる。これにより、対象物200の認証の安定性を高めることができる。
図23は、第1表示領域106及び第2表示領域107の一例を示す平面図である。第1方向G1における第2表示領域107の有機層130の第12周期P12は、第1方向G1における第1表示領域106の有機層130の第11周期P11と同一であってもよい。第2方向G2における第2表示領域107の有機層130の第22周期P22は、第1方向G1における第1表示領域106の有機層130の第21周期P21と同一であってもよい。これにより、第1表示領域106と第2表示領域107の間に視覚的な差が生じることを抑制できる。
図23に示すように、第2表示領域107の有機層130の寸法は、第1表示領域106の有機層130の寸法よりも小さくてもよい。

Claims (20)

  1. 表示装置であって、
    映像が表示される表示領域を含むパネル第1面と、前記パネル第1面の反対側に位置するパネル第2面と、を含むディスプレイパネルと、
    前記パネル第2面から前記パネル第1面の前記表示領域へ透過する複数の光線を生成するプロジェクタと、を備え、
    前記ディスプレイパネルは、前記パネル第1面に向かう基板第1面及び前記パネル第2面に向かう基板第2面を含む基板と、前記基板第1面に位置し、前記映像を生成する複数の表示素子と、を含む、表示装置。
  2. 前記パネル第1面に対向する円偏光板を備える、請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記円偏光板は、前記パネル第1面に対向する1/4波長板と、直線偏光板と、を含む、請求項2に記載の表示装置。
  4. 前記複数の表示素子の各々は、第1電極及び第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に位置する発光層と、を含み、
    前記表示領域は、第1占有率を有する前記第2電極を含む第1表示領域と、前記第1占有率よりも小さい第2占有率を有する前記第2電極を含む第2表示領域と、を含み、
    前記複数の光線は、前記パネル第2面から前記パネル第1面の前記第2表示領域へ透過する、請求項1に記載の表示装置。
  5. 前記第1占有率に対する前記第2占有率の比は、0.2以上0.8以下である、請求項4に記載の表示装置。
  6. 前記プロジェクタは、
    前記パネル第2面に向かう発光面であって、少なくとも1つの前記光線が出射される発光面を含む面発光レーザと、
    前記光線を分岐させる回折光学素子と、を備え、
    前記面発光レーザは、第1DBR及び第2DBRと、前記第1DBRと前記第2DBRとの間に位置する活性層と、を少なくとも含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の表示装置。
  7. 前記回折光学素子は、凹凸構造が形成された回折第1面と、回折第1面の反対側に位置する回折第2面と、を含む、請求項6に記載の表示装置。
  8. 前記面発光レーザは、イントラキャビティパターンを含む、請求項6に記載の表示装置。
  9. 前記面発光レーザの前記第2DBRは、グレーティングが形成された面を含む、請求項6に記載の表示装置。
  10. 前記プロジェクタは、
    前記パネル第2面に向かう発光面であって、少なくとも1つの前記光線が出射される発光面を含む面発光レーザと、
    前記光線を分岐させる回折光学素子と、を備え、
    前記面発光レーザは、2つのクラッド層と、前記2つのクラッド層の間に位置する活性層及びフォトニック結晶と、を少なくとも含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の表示装置。
  11. 前記回折光学素子は、前記面発光レーザから出射された前記光線を分岐させる第1回折光学素子と、第2回折光学素子と、を含み、
    前記プロジェクタは、前記第1回折光学素子と前記第2回折光学素子との間に位置し、少なくともコリメータを含む光学系を含み、
    前記第2回折光学素子は、前記光学系から出射された光線を分岐させる、請求項10に記載の表示装置。
  12. 前記プロジェクタは、前記面発光レーザと前記回折光学素子との間に位置し、少なくともコリメータを含む光学系を含み、
    前記回折光学素子は、前記光学系から出射された光線を分岐させる、請求項10に記載の表示装置。
  13. 前記プロジェクタは、
    前記パネル第2面に交差する方向に広がる発光面であって、少なくとも1つの前記光線が出射される発光面を含む端面発光レーザと、
    前記端面発光レーザから出射された前記光線が前記パネル第2面に向かうように前記光線を屈折させる光学系と、
    前記光線を分岐させる回折光学素子と、を備える、請求項1~5のいずれか一項に記載の表示装置。
  14. 前記回折光学素子は、前記端面発光レーザから出射された前記光線を分岐させる第1回折光学素子と、第2回折光学素子と、を含み、
    前記第1回折光学素子によって分岐された前記光線は、前記光学系に入射し、
    前記第2回折光学素子は、前記光学系から出射された光線を分岐させる、請求項13に記載の表示装置。
  15. 前記光学系は、前記端面発光レーザと前記回折光学素子との間に位置し、
    前記回折光学素子は、前記光学系から出射された光線を分岐させる、請求項13に記載の表示装置。
  16. 前記光学系は、前記光線を屈折させるプリズムを含む、請求項13に記載の表示装置。
  17. 前記光学系は、前記端面発光レーザと前記プリズムとの間に並ぶ複数のレンズを含む、請求項16に記載の表示装置。
  18. 前記複数の光線は、複数の赤外線である、請求項1~5のいずれか一項に記載の表示装置。
  19. 対象物によって反射された前記複数の光線を検出するレシーバを備える、請求項1~5のいずれか一項に記載の表示装置。
  20. 前記レシーバは、前記対象物によって反射され、前記パネル第1面の前記表示領域から前記パネル第2面へ透過した前記複数の光線を検出する、請求項19に記載の表示装置。
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