JP2024055035A

JP2024055035A - 反射防止フィルムおよび反射防止フィルムの製造方法

Info

Publication number: JP2024055035A
Application number: JP2022161615A
Authority: JP
Inventors: 健片岡
Original assignee: Higashiyama Film Co Ltd
Current assignee: Higashiyama Film Co Ltd
Priority date: 2022-10-06
Filing date: 2022-10-06
Publication date: 2024-04-18
Also published as: WO2024075804A1

Abstract

【課題】高い反射防止性、優れた耐擦傷性を備える反射防止フィルム、およびそのような反射防止フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】基材フィルム１２と、基材フィルム１２の面上に形成されたハードコート層１４と、ハードコート層１４の面上に形成された高屈折率層１６と、高屈折率層１６の面上に形成された低屈折率層１８と、を有し、高屈折率層１６は、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子と、を含有する電離放射線硬化性組成物の硬化物より構成され、酸化チタン粒子の体積基準の累積粒度分布における平均粒子径Ｄ５０は２０ｎｍ以上であり、体積基準の累積粒度分布における９０％粒子径Ｄ９０は１２０ｎｍ以下である、反射防止フィルム１０とする。【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止フィルムおよび反射防止フィルムの製造方法に関し、さらに詳しくは、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、スマートホンなどのタッチパネル等のディスプレイ表面に好適に用いられる反射防止フィルム、およびそのような反射防止フィルムの製造方法に関するものである。

液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、スマートホンなどのタッチパネル等のディスプレイ表面には、画面への外光の映り込みを防止するなどのために、反射防止フィルムを配置することがある。例えば、特許文献１には、基材フィルム上に、中屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層を有する反射防止フィルムが開示されている。高屈折率層を構成する組成物としては、酸化チタンとウレタンアクリレートの混合物が挙げられている。

特開２０１５－５５６５９号公報

近年、スマートホンやカーナビゲーションシステムなど、屋外でのタッチ操作を想定したディスプレイの普及に伴い、高度な反射防止性を有しつつ、タッチ操作を繰り返しても傷のつきにくい、反射防止フィルムの需要が高まっている。しかしながら特許文献１の反射防止フィルムは、反射防止性に優れるものの、モバイル端末等のディスプレイ表面用途では耐擦傷性が十分と言えず、さらに高い耐擦傷性が求められる。

本発明が解決しようとする課題は、高い反射防止性、優れた耐擦傷性を備える反射防止フィルム、およびそのような反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明に係る反射防止フィルムは、基材フィルムと、前記基材フィルムの面上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層の面上に形成された高屈折率層と、前記高屈折率層の面上に形成された低屈折率層と、を有し、前記高屈折率層は、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、前記（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子と、を含有する電離放射線硬化性組成物の硬化物より構成され、前記酸化チタン粒子の体積基準の累積粒度分布における平均粒子径Ｄ５０は２０ｎｍ以上であり、体積基準の累積粒度分布における９０％粒子径Ｄ９０は１２０ｎｍ以下であることを特徴とする。

ここで、前記高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．８３以上、２．００以下であり、前記低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．３５以上、１．４９以下であるとよい。また、前記反射防止フィルムは、前記ハードコート層と、前記高屈折率層との間に、波長５５０ｎｍにおける屈折率が前記ハードコート層の屈折率より高く前記高屈折率層の屈折率より低い、中屈折率層を有するとよい。

本発明に係る反射防止フィルムの製造方法は、基材フィルムの面上にハードコート層を形成し、前記ハードコート層の面上に、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、前記（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子を溶剤に分散させた粒子分散体と、を含有する電離放射線硬化性組成物を塗布して高屈折率層を形成し、前記高屈折率層の面上に低屈折率層を形成する、反射防止フィルムの製造方法であって、前記粒子分散体において、固形分の合計１００質量％に対するチタン原子の含有量は、４０質量％以上、８０質量％以下である。

本発明に係る反射防止フィルムは、基材フィルムと、前記基材フィルムの面上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層の面上に形成された高屈折率層と、前記高屈折率層の面上に形成された低屈折率層と、を有し、前記高屈折率層が、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、前記（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子と、を含有する電離放射線硬化性組成物の硬化物より構成され、前記酸化チタン粒子の体積基準の累積粒度分布における平均粒子径Ｄ５０が２０ｎｍ以上であり、体積基準の累積粒度分布における９０％粒子径Ｄ９０が１２０ｎｍ以下であることから、高い反射防止性、優れた耐擦傷性を備える。高屈折率層に含有される酸化チタン粒子が（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理されていること、またＤ５０およびＤ９０が上記所定の範囲をとることが、反射防止性と耐擦傷性の両立に、高い効果をもたらす。

ここで、前記高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．８３以上、２．００以下であり、前記低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．３５以上、１．４９以下である場合には、反射防止フィルムにおいて、耐擦傷性の向上と低反射率化を高度に両立することができる。

また、前記反射防止フィルムが、前記ハードコート層と、前記高屈折率層との間に、波長５５０ｎｍにおける屈折率が前記ハードコート層の屈折率より高く前記高屈折率層の屈折率より低い、中屈折率層を有する場合には、反射防止フィルムの反射防止性をさらに高めることができる。

本発明に係る反射防止フィルムの製造方法は、基材フィルムの面上にハードコート層を形成し、前記ハードコート層の面上に、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、前記（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子を溶剤に分散させた粒子分散体と、を含有する電離放射線硬化性組成物を塗布して高屈折率層を形成し、前記高屈折率層の面上に低屈折率層を形成する、反射防止フィルムの製造方法であって、前記粒子分散体において、固形分の合計１００質量％に対するチタン原子の含有量が、４０質量％以上、８０質量％以下であることにより、高い反射防止性、優れた耐擦傷性を備えた反射防止フィルムを製造することができる。ここで、粒子分散体におけるチタン原子の含有量を上記範囲とすることで、屈折率が高く、高い耐擦傷性を有する良質な高屈折率層を好適に作製することができる。

本発明の第一実施形態に係る反射防止フィルムの断面図である。本発明の第二実施形態に係る反射防止フィルムの断面図である。本発明の第三実施形態に係る反射防止フィルムの断面図である。本発明の第四実施形態に係る反射防止フィルムの断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。本明細書において、各種物性は、特記しない限り、室温、大気中における値を指すものとする。

＜第一実施形態の反射防止フィルム＞
図１は、本発明の第一実施形態に係る反射防止フィルムの断面図である。図１に示すように、本発明の第一実施形態に係る反射防止フィルム１０は、基材フィルム１２と、基材フィルム１２の面上に形成されたハードコート層１４と、ハードコート層１４の面上に形成された高屈折率層１６と、高屈折率層１６の面状に形成された低屈折率層１８と、を有する。反射防止フィルム１０は、基材フィルム１２、ハードコート層１４、高屈折率層１６、低屈折率層１８をこの順に有する。好ましくは、基材フィルム１２とハードコート層１４が、他の層を介さず直接接触しているとよい。また、高屈折率層１６と低屈折率層１８が、他の層を介さずに直接接触しているとよい。本実施形態においては、ハードコート層１４と高屈折率層１６も、他の層を介さずに直接接触している。

（基材フィルム）
基材フィルム１２は、透明性を有していれば、特に限定されるものではない。基材フィルム１２としては、透明高分子フィルム、ガラスフィルムなどが挙げられる。透明性とは、可視光波長領域における全光線透過率が５０％以上であることをいい、全光線透過率は、より好ましくは８５％以上である。上記全光線透過率は、ＪＩＳＫ７３６１－１（１９９７）に準拠して測定することができる。基材フィルム１２の厚みは、特に限定されるものではないが、取り扱い性に優れるなどの観点から、２μｍ以上５００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは２μｍ以上２００μｍ以下の範囲内である。なお、「フィルム」とは、一般に厚さが０．２５ｍｍ未満のものをいうが、厚さが０．２５ｍｍ以上のものであってもロール状に巻くことが可能であれば、厚さが０．２５ｍｍ以上のものであっても「フィルム」に含まれるものとする。

基材フィルム１２の高分子材料としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂，ポリエチレンナフタレート樹脂などのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリプロピレン樹脂，ポリエチレン樹脂，ポリシクロオレフィン樹脂，シクロオレフィンコポリマー樹脂などのポリオレフィン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂，ジアセチルセルロース樹脂などのセルロース系樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などが挙げられる。基材フィルム１２の高分子材料は、これらのうちの１種のみで構成されていてもよいし、２種以上の組み合わせで構成されていてもよい。これらのうちでは、光学特性や耐久性などの観点から、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリレート樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、シクロオレフィンコポリマー樹脂、トリアセチルセルロース樹脂がより好ましい。

基材フィルム１２は、上記高分子材料の１種または２種以上を含む層からなる単層で構成されていてもよいし、上記高分子材料の１種または２種以上を含む層と、この層とは異なる高分子材料の１種または２種以上を含む層など、２層以上の層で構成されていてもよい。

（ハードコート層）
ハードコート層１４は、反射防止フィルム１０の耐擦傷性の向上に寄与する。ハードコート層１４は、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物を含む電離放射線硬化性組成物の硬化物より構成されている。電離放射線とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋しうるエネルギー量子を有するものを意味する。電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、Ｘ線、γ線等の電磁波、電子線（ＥＢ）、α線、イオン線等の荷電粒子線などが挙げられる。これらのうちでは、生産性の観点から、紫外線（ＵＶ）が特に好ましい。以下、電離放射線硬化性組成物を、単に、硬化性組成物と称する場合がある。また、本明細書において「（メタ）アクリレート」は「アクリレートおよびメタクリレートの少なくとも一方」をいう。「（メタ）アクリロイル」は「アクリロイルおよびメタクリロイルの少なくとも一方」をいう。「（メタ）アクリル」は「アクリルおよびメタクリルの少なくとも一方」をいう。「（メタ）アクリレート化合物」は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物であり、モノマー、オリゴマー、プレポリマーなどが挙げられる。以下、（メタ）アクリレート化合物を単に（メタ）アクリレートと称する場合がある。

（メタ）アクリレートは、単官能（メタ）アクリレートであっても、多官能（メタ）アクリレートであってもよい。あるいは、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートの組み合わせで構成されていてもよい。硬化性組成物は、（メタ）アクリレートとして、硬化性の向上等の観点から、多官能（メタ）アクリレートを含むことがより好ましい。

（メタ）アクリレートとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらのうちでは、ウレタン（メタ）アクリレート、特にウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ポリイソシアネート化合物と、水酸基含有（メタ）アクリレート化合物と、必要に応じてポリオール化合物とを反応させて得られるものが挙げられる。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物、およびこれらのヌレート変性体、アダクト変性体、ビウレット変性体などが挙げられる。水酸基含有（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびこれらのポリオキシアルキレン変性体、ポリラクトン変性体などが挙げられる。ポリオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロプレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ビフェノール、ビスフェノール等が挙げられる。ハードコート層１４を形成するための硬化性組成物が紫外線硬化性樹脂としてウレタン（メタ）アクリレートを含む場合には、ハードコート層１４が適度な柔軟性を有するため、反射防止フィルム１０の耐屈曲性が高くなり、フォルダブルディスプレイやローラブルディスプレイ等の繰り返し屈曲されるフレキシブルディスプレイに好適に用いることができる。また、例えば基材フィルム１２がポリシクロオレフィンやシクロオレフィンコポリマーなどから形成され、比較的割れやすいものでも、基材フィルム１２の割れを抑えやすい。

硬化性組成物を構成する（メタ）アクリレートとしてさらに、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物が含有されることが好ましい。ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。特に、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが硬化性組成物に含有されることが好ましい。

ハードコート層１４を形成する硬化性組成物には、紫外線硬化性樹脂に加え、非紫外線硬化性樹脂が含まれていてもよいし、含まれていなくてもよい。また、ハードコート層１４を形成する硬化性組成物には、光重合開始剤が含まれていてもよい。また、必要に応じ、硬化性組成物に一般に添加可能な添加剤などが含まれていてもよい。添加剤としては、分散剤、レベリング剤、消泡剤、搖変剤、防汚剤、抗菌剤、難燃剤、スリップ剤、帯電防止剤、無機粒子、樹脂粒子などが挙げられる。また、必要に応じ、溶剤が含まれていてもよい。

非紫外線硬化性樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などが挙げられる。熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂などが挙げられる。熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。

光重合開始剤としては、アルキルフェノン系、アシルホスフィンオキサイド系、オキシムエステル系などの光重合開始剤が挙げられる。アルキルフェノン系光重合開始剤としては、２，２’－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジルメチル－２－（ジメチルアミノ）－１－（４－モルホリノフェニル）－１－ブタノン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－（４－モルホリノフェニル）－１－ブタノン、２－（４－メチルベンジル）－２－（ジメチルアミノ）－１－（４－モルホリノフェニル）－１－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノアセトフェノンなどが挙げられる。アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。オキシムエステル系光重合開始剤としては、１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、エタノン－１－［９－エチルー６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾールー３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）などが挙げられる。光重合開始剤は、これらの１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わされて用いられてもよい。

光重合開始剤の含有量は、硬化性組成物の固形分全量基準で、０．１質量％以上１０質量％の範囲とすることが好ましい。より好ましくは１質量％以上であり、また５質量％以下である。

無機粒子および樹脂粒子は、例えばハードコート層１４のブロッキングを防止する、ハードコート層１４の屈折率を調整する、などの目的でハードコート層１４に添加される。添加する無機粒子や樹脂粒子により、ハードコート層１４に微細な表面凹凸を形成することで、高屈折率層１６を形成する前の、基材フィルム１２およびハードコート層１４からなるハードコートフィルムを、ロール状に巻き付けた際に、表面と裏面が接着するブロッキングを抑えやすい。

ハードコート層１４の屈折率を調整可能な無機粒子としては、チタン，ジルコニウム，スズ，亜鉛，ケイ素，ニオブ，アルミニウム，クロム，マグネシウム，ゲルマニウム，ガリウム，アンチモン，白金などの金属の酸化物からなる金属酸化物粒子が挙げられる。これらは、光学調整可能な無機粒子として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。これらのうちでは、高屈折率と透明性の両立に優れるなどの観点から、チタン酸化物，ジルコニウム酸化物が特に好ましい。また、樹脂粒子としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン－（メタ）アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエチレン樹脂、セルロースなどの樹脂からなる樹脂粒子が挙げられる。これらは、樹脂粒子として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。

ハードコート層１４の厚みは、特に限定されるものではないが、十分な硬度を有するなどの観点から、０．５μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは０．７５μｍ以上である。また、基材フィルム１２との熱収縮差に起因するカールが抑えられやすいなどの観点から、２０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１０μｍ以下である。ハードコート層１４の厚みは、厚み方向において無機粒子や樹脂粒子に起因する凹凸のない部分における比較的平滑な部分の厚みである。

ハードコート層１４の屈折率は、透明基材フィルム１２とハードコート層１４の屈折率差から生じる干渉ムラを抑制する観点から、１．４９以上１．５６以下の範囲内が好ましい。
ハードコート層１４の表面凹凸が形成されている表面の算術平均粗さＲａは、ブロッキング抑制などの観点から、０．３ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは０．５ｎｍ以上であり、また１０ｎｍ以下である。

ハードコート層１４を形成する硬化性組成物において用いられる溶剤としては、エタノール，イソプロピルアルコール（ＩＰＡ），ｎ－ブチルアルコール（ＮＢＡ），エチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＧＭ），エチレングリコールモノイソプロピルエーテル（ＩＰＧ），プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ），ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのアルコール系溶剤や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ），メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ），シクロヘキサノン，アセトンなどのケトン系溶剤、トルエン，キシレンなどの芳香族系溶剤、酢酸エチル（ＥｔＡｃ），酢酸プロピル，酢酸イソプロピル，酢酸ブチル（ＢｕＡｃ）などのエステル系溶剤、Ｎ－メチルピロリドン，アセトアミド，ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶剤などが挙げられる。これらは、溶剤として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。

硬化性組成物の固形分濃度（溶剤以外の成分の濃度）は、塗工性、膜厚などを考慮して適宜定めればよい。例えば、１質量％以上９０質量％以下、１．５質量％以上８０質量％以下、２質量％以上７０質量％以下などとすればよい。

（高屈折率層）
本実施形態に係る反射防止フィルム１０において、ハードコート層１４の面上には、高屈折率層１６が設けられている。高屈折率層１６をハードコート層１４と低屈折率層１８の間に設けることによって、反射防止フィルム１０に、より高い反射防止効果を発現させる。高屈折率層１６は、ハードコート層１４および低屈折率層１８よりも高い屈折率を有する層である。

高屈折率層１６は、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子と、を含有する電離放射線硬化性組成物の硬化物より構成される。上記でハードコート層について説明したとおり、電離放射線には、種々の電磁波および荷電粒子線が含まれるが、紫外線（ＵＶ）が特に好ましい。そして、（メタ）アクリレート化合物およびシランカップリング剤に含有される反応性基は、紫外線反応性であることが好ましい。

反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。なお、（メタ）アクリレート化合物は、反応性基として、（メタ）アクリロイル基のみを有するものであっても、（メタ）アクリロイル基に加えて、別の反応性基を有するものであってもよい。

（メタ）アクリレートは、単官能（メタ）アクリレートのみで構成されていてもよいし、多官能（メタ）アクリレートで構成されていてもよいし、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートの組み合わせで構成されていてもよい。（メタ）アクリレートとしては、多官能（メタ）アクリレートを含むことがより好ましい。

単官能（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－メチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－エチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１－ナフチルメチル（メタ）アクリレート、２－ナフチルメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ－２－メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４－フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３－（２－フェニルフェニル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートとしては、二官能（メタ）アクリレート、三官能（メタ）アクリレート、四官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。より具体的には、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
反応性基を有する（メタ）アクリレートは１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。

多官能（メタ）アクリレートは、二量体を含むことが好ましい。多官能（メタ）アクリレートの二量体は硬化速度に優れ、硬化性組成物の硬化率を容易に上げることができるため、より耐擦傷性を向上させることができる。なかでも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、および、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、および、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。

上記二量体の含有量は、耐擦傷性や透明性、溶剤への溶解性の観点から、（メタ）アクリレート化合物の固形分全量基準で、２５質量％以上５０質量％以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは３０質量％以上であり、また４０質量％以下である。

酸化チタン粒子は、高屈折率層１６の屈折率を高くするために用いられる。
酸化チタンの結晶構造としてはルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型などが知られているが、屈折率が高い、光触媒活性が低いなどの観点から、ルチル型が好ましい。光触媒活性が低い酸化チタン粒子を用いることで、光反応による高屈折率層１６の変性を抑制することができる。
酸化チタン粒子の形状は、特に限定されるものではなく、球状、針状、鱗片状、棒状、繊維状、不定形などであってもよい。酸化チタン粒子は、中実体であることが好ましい。

酸化チタン粒子は、（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理されている。シランカップリング剤で表面処理することで、酸化チタン粒子の光触媒活性をより効果的に抑えることができる。さらに、シランカップリング剤が、（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有することで、酸化チタン粒子が高屈折率層１６に含まれる（メタ）アクリレートと強固に結合し、反射防止フィルムの耐擦傷性が向上する。シランカップリング剤は、一般に、ケイ素原子に結合されて、分子中に加水分解性基とそれ以外の官能基を有する。ここで、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および／または縮合反応によってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基が挙げられる。加水分解性基が炭素原子を有する場合、その炭素数は６以下であることが好ましく、４以下であることがより好ましい。特に、炭素数４以下のアルコキシ基または炭素数４以下のアルケニルオキシ基が好ましい。加水分解性基が加水分解を受け、酸化チタン粒子の表面の酸素原子との間に結合を形成することで、酸化チタン粒子が表面処理される。

ここで用いられるシランカップリング剤は、上記加水分解性基以外に、（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を含むものである。反応性基としては、（メタ）アクリロイル基，ビニル基，スチリル基，アリル基などの炭素－炭素不飽和二重結合性基、エポキシ基，オキセタニル基等の開環重合性基等が挙げられる。これらの反応性基は、紫外線反応性を有する。反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と反応性基を有するシランカップリング剤によって表面処理された酸化チタン粒子とを含有する高屈折率層１６において、（メタ）アクリレート化合物の反応性基とシランカップリング剤の反応性基とが反応し、結合を形成する。

反応性基として炭素－炭素不飽和二重結合性基を有するシランカップリング剤としては、例えば、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、２―（アリルオキシメチル）アクリル酸（トリメトキシシリル）プロピル、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、８－メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、７－オクテニルトリメトキシシランなどが挙げられる。

反応性基として開環重合性基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、８－グリシドキシオクチルトリメトキシシランなどが挙げられる。

これらのうちでは、（メタ）アクリレート化合物との反応性の観点から、炭素－炭素不飽和二重結合性基が好ましく、中でも、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等、エチレン性炭素－炭素二重結合性基を有するシランカップリング剤が特に好ましい。

シランカップリング剤の含有量は、酸化チタン粒子１００質量部に対し、１質量部以上４０質量部以下の範囲とすることが好ましい。すると、シランカップリング剤による表面処理による効果を高められるとともに、高屈折率層１６の耐擦傷性および屈折率を高く維持することができる。より好ましくは５質量部以上であり、また３０質量部以下である。高屈折率層１６中には、酸化チタン粒子に結合されていないシランカップリング剤が残存してもよく、ここに記載した好ましい含有量範囲は、それら酸化チタン粒子に結合されていないシランカップリング剤も含めて、シランカップリング剤全体としての含有量を指す。

また酸化チタン粒子においては、光触媒活性をより効果的に抑えるために、その粒子表面をシランカップリング剤以外の無機化合物で被覆したうえでシランカップリング剤による表面処理を行ったり、酸化チタンの結晶内部に異種金属を固溶させてもよい。被覆する無機化合物としては、例えば、亜鉛、セリウム、鉄、ケイ素、ジルコニウム、アルミニウムの酸化物または水酸化物などが挙げられる。結晶内部に固溶させる異種金属としては、例えば、スズ、コバルト、バナジウム、クロム、マンガン、銅、アンチモン、タングステン、白金、水銀、鉛、ビスマスなどが挙げられる。これらのうちでは、酸化チタン粒子の表面にアルミニウムの酸化物または水酸化物を被覆するのが好ましい。

高屈折率層１６は、分散剤を含んでいてもよい。分散剤は、高屈折率層形成用組成物中で、酸化チタン粒子を分散した状態を維持（安定化）するのに寄与する。そして、高屈折率層１６形成後の表面を平滑にして、反射防止フィルムの耐擦傷性や透明性を良好なものとすることができる。

分散剤の種類は特に限定されず、例えば、シラン系、チタネート系、ジルコアルミネート系等のカップリング剤、および金属キレート化物、金属アルコキシド等の有機金属化合物、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリエステル酸塩等の界面活性剤、あるいは市販の樹脂型分散剤等を添加しても良い。

分散剤の含有量は、シランカップリング剤１００質量部に対し、１５質量部以上７５質量部以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは２０質量部以上であり、また７０質量部以下である。

シランカップリング剤と分散剤の合計量は、酸化チタン粒子１００質量部に対し、１０質量部以上４０質量部の範囲とすることが好ましい。シランカップリング剤と分散剤との合計含有量が１０質量部以上であると、上述のシランカップリング剤および分散剤の添加によってもたらされる効果を良好にすることができる。一方、その含有量を４０質量部以下に抑えておくことで、高屈折率層１６の耐擦傷性が低下したり、屈折率が低下して良好な反射防止効果を得にくくなる事態を抑制できる。この観点から、その含有量は、より好ましくは１５質量部以上３５質量部以下、さらに好ましくは１５質量部以上３０質量部以下の範囲である。

酸化チタン粒子の体積基準の平均粒子径（Ｄ５０）は、２０ｎｍ以上である。Ｄ５０が２０ｎｍ未満であると、高屈折率層１６における粒子の分散性が悪くなる。すると、酸化チタン粒子の分散性向上のために、例えば多量の分散剤を組成物に添加する必要が生じる。その結果、高屈折率層１６中の酸化チタン含有量を十分なものとすることができなくなり、高屈折率層１６の耐擦傷性が低下したり、屈折率が低下して良好な反射防止効果を得にくくなったりする。この現象を抑制する観点から、Ｄ５０は、２０ｎｍ以上とされ、好ましくは２５ｎｍ以上、より好ましくは３０ｎｍ以上、特に好ましくは３４ｎｍ以上である。なお、本明細書において、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０等、粒子径に関するパラメータは、体積基準の累積粒度分布における値を示すものとする。体積基準の累積粒度分布は、動的光散乱法により、取得することができる。また、粒径には、一次粒子径だけではなく、粒子の凝集体である二次粒子径も含む。

酸化チタン粒子の体積基準の平均粒子径（Ｄ５０）は、特に限定されないが、１００ｎｍ以下であることが好ましい。すると、後述する体積基準の累積９０％粒子径（Ｄ９０）を１２０ｎｍ以下としやすくなり、その結果、粒子径が高屈折率層１６の膜厚より過度に大きくなることで表面の平滑性が低下し、反射防止フィルムの耐擦傷性や透明性が低下する事態を、抑制しやすくなる。この観点からＤ５０は、より好ましくは８０ｎｍ以下、さらに好ましくは６０ｎｍ以下である。

酸化チタン粒子の体積基準の累積９０％粒子径（Ｄ９０）は、１２０ｎｍ以下である。Ｄ９０が１２０ｎｍを超えると、粒子径の大きな酸化チタン粒子が高屈折率層１６の表面に凹凸を形成することで平滑性が低下し、反射防止フィルムの耐擦傷性や透明性が低下するおそれがある。この現象を抑制する観点から、Ｄ９０は、１２０ｎｍ以下とされ、好ましくは１１０ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以下である。

一方、酸化チタン粒子の体積基準の累積９０％粒子径（Ｄ９０）は、特に限定されないが、５０ｎｍ以上であることが好ましい。Ｄ９０が５０ｎｍ以上であれば、Ｄ５０を２０ｎｍ以上に制御しやすくなり、高屈折率層１６の耐擦傷性や反射防止性を良好なものとしやすい。この観点からＤ９０は、より好ましくは５５ｎｍ以上、さらに好ましくは６０ｎｍ以上である。

酸化チタン粒子の体積基準の累積１０％粒子径（Ｄ１０）は、特に限定されないが、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。Ｄ１０がこの範囲であれば、極小さな粒子が比較的少ないことから、酸化チタン粒子の分散性が高くなる。すると、酸化チタン粒子を多量の分散剤を必要とせずに分散させやすくなり、高屈折率層１６中の酸化チタン含有量を十分なものとし、良好な耐擦傷性や反射防止性を得やすくなる。この観点からＤ１０は、より好ましくは１２ｎｍ以上、さらに好ましくは１５ｎｍ以上であり、またより好ましくは３５ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以下である。

酸化チタン粒子の粒子径分布幅を表すＰＤＩは、４．０以下であることが好ましい。ここで、ＰＤＩは（Ｄ９０－Ｄ１０）／Ｄ５０で表される多分散性指数であり、この値が小さいほど粒子径が揃っていることを表す。ＰＤＩが４．０以下であると、酸化チタンの粒子径が揃っていることから、高屈折率層１６の表面において平滑性が得やすくなる。この観点からＰＤＩは、好ましくは３．０以下、さらに好ましくは２．５以下である。ＰＤＩの下限は特に制限はないが、通常は１．５以上、あるいは２．０以上である。

高屈折率層１６は、酸化チタン粒子に加え、酸化チタン以外の無機酸化物粒子を含んでいてもよい。
酸化チタン以外の無機酸化物粒子としては、ジルコニウム、ケイ素、アルミニウム、カルシウム、鉄、銅、亜鉛、イットリウム、ニオブ、モリブデン、インジウム、スズ、タンタル、タングステン、鉛、ビスマス、セリウム、アンチモンなどの金属の酸化物からなる金属酸化物粒子が挙げられる。これらの中では高屈折率や着色防止の観点から、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化タングステン、酸化アンチモン粒子が好ましい。これらは、無機酸化物粒子として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。酸化チタン以外の無機酸化物粒子が、高屈折率化や耐擦傷性向上等、酸化チタン粒子が高屈折率層１６において発揮する特性を著しく損なうことがないよう、酸化チタン以外の無機酸化物粒子は、上に酸化チタン粒子について好ましいものとして挙げたのと同様の粒度分布（Ｄ５０、Ｄ９０、Ｄ１０、ＰＤＩ）を有し、かつ高屈折率層１６における含有量が酸化チタン粒子よりも少なく抑えられていることが好ましい。酸化チタン以外の無機酸化物粒子も、シランカップリング剤によって表面処理されていてもよい。

高屈折率層１６の形成用組成物にシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子を添加するに際し、それら表面処理された酸化チタン粒子を溶剤中に分散させた粒子分散体としてから、高屈折率層形成用組成物に配合することが好ましい。この場合、粒子分散体には、シランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子のほか、酸化チタン粒子に結合していないシランカップリング剤、無機化合物、分散剤、その他の無機酸化物粒子を含んでいてもよい。表面処理された酸化チタン粒子を、（メタ）アクリレート化合物と配合する前に予め粒子分散体としておくことで、高屈折率層形成用組成物において、より効率的に、表面処理された酸化チタン粒子を分散させることができる。

高屈折率層形成用組成物に配合する粒子分散体において、固形分の合計１００質量％に対するチタン原子の含有量は、３５質量％以上であることが好ましい。チタン原子の含有量が３５質量％以上であれば、高屈折率層１６に含まれる酸化チタンの量を多くすることができ、高屈折率層１６の屈折率を高くすることができる。この観点からチタン原子の含有量は、より好ましくは４０質量％以上、さらに好ましくは４５質量％以上である。一方で、固形分の合計１００質量％に対するチタン原子の含有量は、８０質量％以下であることが好ましい。チタン原子の含有量が８０質量％以下であれば、シランカップリング剤や分散剤の含有量を十分にすることができ、良好な粒子分散体を得ることができる。この観点からチタン原子の含有量は、より好ましくは７０質量％以下、さらに好ましくは６０質量％以下である。また、チタン原子の含有量がここに挙げた範囲にある粒子分散体を用いれば、高屈折率層１６全体における酸化チタン粒子の含有量を、下に述べる好適な範囲に収めやすい。粒子分散体において、固形分に占めるチタン原子の含有量は、エネルギー分散型Ｘ線分析装置を用いて元素含有量を測定することで、評価することができる。

粒子分散体において、酸化チタン粒子を分散させる分散媒として用いる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＧＭ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのアルコール系溶剤や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＥＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）などのグリコールエステル系溶剤、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、アセトンなどのケトン系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、Ｎ－メチルピロリドン、アセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶剤などが挙げられる。これらは、溶剤として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。

高屈折率層１６全体における酸化チタン粒子の含有量は、高屈折率層１６の固形分１００質量％に対し４５質量％以上８０質量％以下であることが好ましい。高屈折率層１６における酸化チタン粒子の含有量が、高屈折率層１６の固形分１００質量％に対し４５質量％以上であると、高屈折率層１６の屈折率を高めて反射防止性を良好なものとすることができる。また、この観点から、高屈折率層１６における酸化チタン粒子の含有量は、高屈折率層１６の固形分１００質量％に対し、より好ましくは５５質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。そして、高屈折率層１６における酸化チタン粒子の含有量が、高屈折率層１６の固形分１００質量％に対し８０質量％以下であると、耐擦傷性の低下が抑えられる。また、この観点から、高屈折率層１６における酸化チタン粒子の含有量は高屈折率層１６の固形分１００質量％に対し、より好ましくは７５質量％以下、さらに好ましくは７２質量％以下である。なお、ここでいう高屈折率層１６の固形分とは、高屈折率層１６において固定化されていない、常温において液状の成分を除く成分である。高屈折率層１６の固形分としては、酸化チタン粒子、（メタ）アクリレート化合物、シランカップリング剤、分散剤、酸化チタン以外の無機酸化物粒子などが含まれる。溶剤などは含まれない。

高屈折率層１６の屈折率は、ハードコート層１４および低屈折率層１８よりも高い限りにおいて、特に限定されないが、好ましくは波長５５０ｎｍにおいて、１．８３以上、２．００以下である。屈折率が１．８３以上であると、後述する低屈折率層１８の屈折率を極端に下げることなく反射防止フィルム１０を低反射にすることができる。すると、低屈折率層１８の組成を、屈折率が極端に低くはないが高い耐擦傷性を示すものとすることにより、反射防止フィルム１０を良好な耐擦傷性を有するものとできる。高屈折率層１６の屈折率は、より好ましくは１．８５以上であり、さらに好ましくは１．８７以上である。一方、高屈折率層１６の屈折率が２．００以下であると、酸化チタン粒子を高屈折率層１６に多量に含有させる必要がなくなることで、酸化チタン粒子の高屈折率層１６からの脱落を抑制し、良好な耐擦傷性を得ることができる。上記観点から高屈折率層１６の屈折率は、より好ましくは１．９８以下であり、さらに好ましくは１．９５以下である。本明細書において、特記しない限り、物質や物質層の屈折率は、波長５５０ｎｍにおける値とする。

高屈折率層１６の厚みは、好ましくは４０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の範囲内である。この範囲内であると、他の層との界面で生じる光干渉効果から良好な低い視感度反射率を得ることができ、光の反射を軽減することができる。この観点から、高屈折率層１６の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以上であり、さらに好ましくは６０ｎｍ以上である。また、好ましくは１００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは８０ｎｍ以下である。

高屈折率層１６の表面における算術平均粗さＳａは、耐擦傷性の観点から、好ましくは０．３ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。より好ましくは、Ｓａは０．４ｎｍ以上であり、さらに好ましくは０．５ｎｍ以上である。また、より好ましくは、Ｓａは７ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３ｎｍ以下である。

高屈折率層１６は、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物、反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子を含む組成物を用いて形成することができる。上記のとおり、表面処理された酸化チタン粒子は粒子分散体の形で組成物に添加することが好ましい。高屈折率層１６において、電離放射線照射を経て、（メタ）アクリレート化合物どうし、表面処理された酸化チタン粒子どうし、また（メタ）アクリレート化合物と表面処理された酸化チタン粒子との間に、反応性基を介して結合が形成されることで、高屈折率層１６が、高い耐擦傷性を有するものとなる。上記のとおり、（メタ）アクリレート化合物およびシランカップリング剤に含まれる反応性基は、紫外線反応性であることが好ましい。（メタ）アクリレート化合物および酸化チタン粒子が紫外線反応性の反応性基を有すると、（メタ）アクリレート化合物および表面処理された酸化チタン粒子を含む組成物より形成した高屈折率層１６に対して紫外線照射を行うことで、高屈折率層１６の耐擦傷性が向上し、反射防止フィルム１０の耐擦傷性が向上する。

高屈折率層１６には、必要に応じて、添加剤などが含まれていてもよい。このような添加剤としては、防汚剤、レベリング剤、消泡剤、搖変剤、抗菌剤、難燃剤、スリップ剤、屈折率調整剤などが挙げられる。

また、高屈折率層１６の形成用組成物は、（メタ）アクリレート化合物が紫外線反応性の反応性基を有するものを含む場合（紫外線硬化性樹脂である場合）、光重合開始剤を含むことが好ましい。さらに高屈折率層１６の形成用組成物は、必要に応じ、溶剤（酸化チタン粒子の粒子分散体において分散媒として用いられる溶剤とは別に添加される溶剤）を含んでいてもよい。高屈折率層１６の（メタ）アクリレート化合物は、紫外線硬化性樹脂で構成されていてもよいし、非紫外線硬化性樹脂で構成されていてもよいし、紫外線硬化性樹脂と非紫外線硬化性樹脂の組み合わせで構成されていてもよい。

光重合開始剤の含有量は、高屈折率層１６の形成用組成物の固形分全量基準で、０．１質量％以上１０質量％以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは１質量％以上である、また５質量％以下である。

高屈折率層１６の形成用組成物において用いられる溶剤としては、上に挙げた酸化チタン粒子の粒子分散体において分散媒として用いられる溶剤と同様のものを使用することができ、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＧＭ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのアルコール系溶剤や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、アセトンなどのケトン系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、Ｎ－メチルピロリドン、アセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶剤などが挙げられる。これらは、溶剤として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。

（低屈折率層）
本実施形態に係る反射防止フィルム１０において、ハードコート層１４の面上には、反射防止層として、低屈折率層１８が設けられている。低屈折率層１８は、ハードコート層１４および高屈折率層１６よりも低い屈折率を有するものであって、ハードコート層１４および高屈折率層１６との有意な屈折率差により反射防止効果を発現させる。

低屈折率層１８は、その組成を特に限定されるものではないが、無機酸化物粒子、中空シリカ粒子、含フッ素化合物、バインダー樹脂を含有するものとすることが好ましい。低屈折率層１８としては、例えば国際公開第２０２１／０２０５０４号に記載されているものを好適に適用することができる。

バインダー樹脂としては、低屈折率層１８の耐擦傷性向上などの観点から、熱硬化性化合物の硬化物や紫外線硬化性化合物の硬化物などが好ましい。また、生産性などの観点から、紫外線硬化性化合物の硬化物がより好ましい。

紫外線硬化性樹脂としては、紫外線反応性の反応性基を有するモノマー，オリゴマー，プレポリマーなどが挙げられる。紫外線反応性の反応性基としては、アクリロイル基，メタクリロイル基，アリル基，ビニル基等のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合型の反応性基やオキセタニル基などのカチオン重合型の反応性基などが挙げられる。これらのうちでは、アクリロイル基，メタクリロイル基，オキセタニル基がより好ましく、アクリロイル基，メタクリロイル基が特に好ましい。すなわち、（メタ）アクリレートを用いることが特に好ましい。

（メタ）アクリレートとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。（メタ）アクリレートは、単官能（メタ）アクリレートのみで構成されていてもよいし、多官能（メタ）アクリレートで構成されていてもよいし、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートの組み合わせで構成されていてもよい。（メタ）アクリレートとしては、多官能（メタ）アクリレートを含むことがより好ましい。

多官能（メタ）アクリレートとしては、二官能（メタ）アクリレート、三官能（メタ）アクリレート、四官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。より具体的には、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

紫外線硬化性樹脂は、上記する（メタ）アクリレートの１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。紫外線硬化性樹脂は、耐擦傷性の向上の観点から、５官能以上の多官能（メタ）アクリレートを含むことが好ましく、また、５官能以上の多官能（メタ）アクリレートの含有率を大きくすることが好ましい。

また、多官能（メタ）アクリレートは、二量体を含むことが好ましい。多官能（メタ）アクリレートの二量体は硬化速度に優れ、硬化性組成物の硬化率を容易に上げることができるため、より耐擦傷性を向上させることができる。なかでも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、および、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、および、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。

上記二量体の含有量は、耐擦傷性や透明性、溶剤への溶解性の観点から、多官能（メタ）アクリレートの固形分全量基準で、２５質量％以上５０質量％以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは３０質量％以上であり、また４０質量％以下である。

無機酸化物粒子は、低屈折率層１８に含まれることで、低屈折率層１８の表面に凸部を形成するものである。無機酸化物粒子によって低屈折率層１８の表面に凸部が形成されることで、低屈折率層１８は良好な耐擦傷性を有することができる。

無機酸化物粒子は、中実粒子であってもよいし、中空粒子であってもよい。無機酸化物粒子は、中実粒子であることが好ましい。中実粒子とは、粒子の内部に実質的に空洞を有していない粒子であり、空洞の割合が中実粒子の体積の５％未満である粒子をいう。中空粒子は、粒子の内部に空洞を有している粒子であり、空洞の割合が中空粒子の体積の５％以上である粒子をいう。無機酸化物粒子が中実粒子であると、低屈折率層１８の耐擦傷性が向上し、反射防止フィルム１０の耐擦傷性が向上する。無機酸化物粒子が中空粒子であると、低屈折率層１８の屈折率を低くして、光の反射を低減することができる。中空粒子において、空洞の割合は、中空粒子の体積の１０％以上８０％以下であることが好ましい。空洞の割合が１０％以上であると、屈折率を低くして光の反射を低減することができる。より好ましくは２０％以上、さらに好ましくは３０％以上である。一方、空洞の割合が８０％以下であると、無機酸化物粒子の分散性の低下を抑えることができる。より好ましくは６０％以下である。

無機酸化物粒子としては、ジルコニウム、ケイ素、アルミニウム、カルシウムなどの金属の酸化物からなる金属酸化物粒子が挙げられる。これらは、無機酸化物粒子として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。これらのうちでは、屈折率が低く透明性に優れる、硬度が高いなどの観点から、シリカ粒子、アルミナ粒子が好ましく、アルミナ粒子が特に好ましい。

無機酸化物粒子の形状は、特に限定されるものではなく、球状、針状、鱗片状、棒状、繊維状、不定形などであってもよい。これらのうちでは、球状であることが好ましい。

無機酸化物粒子は、低屈折率層１８の表面に凸部を形成し、良好な耐擦傷性を得るために、無機酸化物粒子の平均粒子径ｒと低屈折率層１８の平均厚みｄの差（ｒ－ｄ）が、１０ｎｍ以上であるとよい。差（ｒ－ｄ）は、より好ましくは１５ｎｍ以上、さらに好ましくは１８ｎｍ以上である。一方、形成される凸部の高さを抑えて透明性を維持するなどの観点から、差（ｒ－ｄ）は、３００ｎｍ以下である。より好ましくは２００ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下である。

無機酸化物粒子の平均粒子径ｒは、低屈折率層１８の平均厚みｄにもよるが、６０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは７０ｎｍ以上、さらに好ましくは９０ｎｍ以上である。また、より好ましくは３００ｎｍ以下、さらに好ましくは２００ｎｍ以下である。無機酸化物粒子の平均粒子径ｒは、ＪＩＳＺ８８２５に従うレーザー回折・散乱法により得られる体積基準の平均算術値であって、一次粒子径だけではなく、粒子の凝集体である二次粒子径も含む。

低屈折率層１８における無機酸化物粒子の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し０．１質量％以上４．０質量％以下であるとよい。低屈折率層１８における無機酸化物粒子の含有量が低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し０．１質量％以上であると、優れた耐擦傷性を得ることができる。また、この観点から、低屈折率層１８における無機酸化物粒子の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し、より好ましくは０．５質量％以上、さらに好ましくは１．０質量％以上である。そして、低屈折率層１８における無機酸化物粒子の含有量が低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し４．０質量％以下であると、高い透明性を得ることができる。また、この観点から、低屈折率層１８における無機酸化物粒子の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し、より好ましくは３．５質量％以下、さらに好ましくは３．２質量％以下である。なお、ここでいう低屈折率層１８の固形分とは、低屈折率層１８においてバインダー樹脂に固定化されていない、常温において液状の成分を除く成分である。低屈折率層１８の固形分としては、無機酸化物粒子、中空シリカ粒子、バインダー樹脂、バインダー樹脂に固定化された含フッ素化合物などが含まれる。添加剤としてのオイル成分やバインダー樹脂に固定化されていない界面活性剤などは含まれない。

中空シリカ粒子は、低屈折率層１８の平均厚さよりも平均粒子径の小さい粒子である。中空シリカ粒子は、低屈折率層１８の表面に凸部を形成する無機酸化物粒子よりも平均粒子径の小さい粒子であるとよい。中空シリカ粒子は、低屈折率層１８の表面凹凸の形成に実質的に寄与しない粒子である。中空シリカ粒子は、粒子の内部に空洞を有している粒子であり、空洞の割合が体積の５％以上である粒子をいう。中空とは、外殻とその内部の空洞からなるシェル構造のものや、多数の空洞を有する多孔質構造のものなどをいう。中空シリカ粒子は、中空構造であることで、低屈折率層１８の屈折率を低くして、光の反射を低減させることができる。中空シリカ粒子の形状は、特に限定されるものではないが、球状、紡錘状、卵状、平板状、立方体状、不定形などが好ましい。これらのうちでは、球状、平板状、立方体状などが特に好ましい。

中空シリカ粒子において、空洞の割合は、体積の１０％以上８０％以下であることが好ましい。空洞の割合が体積の１０％以上であると、屈折率を低くして光の反射を低減することができる。より好ましくは体積の２０％以上、さらに好ましくは体積の３０％以上である。一方、空洞の割合が体積の８０％以下であると、中空シリカ粒子の分散性の低下を抑えることができる。より好ましくは体積の６０％以下である。

中空シリカ粒子の平均粒子径は、低屈折率層１８の平均厚みにもよるが、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは２０ｎｍ以上、さらに好ましくは４０ｎｍ以上である。また、より好ましくは８０ｎｍ以下、さらに好ましくは７０ｎｍ以下である。中空シリカ粒子の平均粒子径がこれら好ましい範囲内であると、低屈折率層１８の優れた反射防止効果と透明性を得ることができる。平均粒子径は、ＪＩＳＺ８８２５に従うレーザー回折・散乱法により得られる体積基準の平均算術値である。一次粒子径だけではなく、粒子の凝集体である二次粒子径も含む。

中空シリカ粒子の屈折率は、１．０１以上１．４５以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは１．１５以上１．３８以下の範囲内、さらに好ましくは１．１５以上１．３５以下の範囲内である。中空シリカ粒子の屈折率がこの範囲内であると、優れた反射防止効果が得られる。

低屈折率層１８における中空シリカ粒子の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し６．０質量％以上４９．９質量％以下であるとよい。低屈折率層１８における中空シリカ粒子の含有量が低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し６．０質量％であると、優れた反射防止性を得ることができる。また、この観点から、低屈折率層１８における中空シリカ粒子の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し、より好ましくは１０質量％以上、さらに好ましくは２０質量％以上、特に好ましくは３０質量％以上である。そして、低屈折率層１８における中空シリカ粒子の含有量が低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し４９．９質量％以下であると、耐擦傷性の低下が抑えられる。また、この観点から、低屈折率層１８における中空シリカ粒子の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。

そして、低屈折率層１８における無機酸化物粒子と中空シリカ粒子の合計量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し１０質量％以上５０質量％以下であるとよい。低屈折率層１８における無機酸化物粒子と中空シリカ粒子の合計量が低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し１０質量％以上であると、優れた耐擦傷性を得ることができる。また、この観点から、低屈折率層１８における無機酸化物粒子と中空シリカ粒子の合計量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し、より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは３０質量％以上である。一方、低屈折率層１８における無機酸化物粒子と中空シリカ粒子の合計量が低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し５０質量％以下であると、低屈折率層１８に無機酸化物粒子と中空シリカ粒子を十分に保持することができるため、優れた耐擦傷性を得ることができる。また、この観点から、低屈折率層１８における無機酸化物粒子と中空シリカ粒子の合計量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し、より好ましくは４８質量％以下、さらに好ましくは４６質量％以下、特に好ましくは４３質量％以下である。

含フッ素化合物は、防汚剤として機能することができる。また、低屈折率層１８の表面の滑り性が向上するため、耐擦傷性の向上に寄与することができる。含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基を含有する（メタ）アクリレートなどが挙げられる。このような化合物としては、信越化学工業製「ＫＹ－１２０３」、ＤＩＣ製「メガファックＲＳ－７５」、ダイキン工業製「オプツールＤＡＣ－ＨＰ」、ネオス製「フタージェント６０１ＡＤ」などが挙げられる。このような含フッ素化合物により、汚れや指紋の付着を抑え、汚れや指紋の除去を容易にすることができる。

低屈折率層１８における含フッ素化合物の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し１．０質量％以上１５．０質量％以下であることが好ましい。低屈折率層１８における含フッ素化合物の含有量が低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し１．０質量％以上であると、低屈折率層１８の表面の滑り性が向上し、耐擦傷性が向上する。また、防汚性が向上する。そして、この観点から、低屈折率層１８における含フッ素化合物の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し、より好ましくは２．０質量％以上、さらに好ましくは３．０質量％以上である。そして、低屈折率層１８における含フッ素化合物の含有量が低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し１５．０質量％以下であると、耐擦傷性の低下が抑えられる。また、この観点から、低屈折率層１８における含フッ素化合物の含有量は、低屈折率層１８の固形分１００質量％に対し、より好ましくは１３．０質量％以下、さらに好ましくは１０．０質量％以下、特に好ましくは５．０質量％以下である。

低屈折率層１８の屈折率は、ハードコート層１４および高屈折率層１６より低い限りにおいて特に限定されないが、好ましくは１．３５以上、１．４９以下である。屈折率が１．３５以上であると、低屈折率層１８の強度を十分なものとすることができ、良好な耐擦傷性を得ることができる。一方、屈折率が１．４９以下であると、反射防止フィルムをより低反射率化することができる。上記観点から低屈折率層１８の屈折率は、より好ましくは１．３８以上、１．４６以下であり、さらに好ましくは１．４０以上、１．４４以下である。

低屈折率層１８の厚みは、好ましくは８０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下の範囲内である。より好ましくは８５ｎｍ以上、さらに好ましくは９０ｎｍ以上である。また、より好ましくは１０５ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下である。この範囲内であると、良好な低い視感度反射率を得ることができ、光の反射を軽減することができる。

低屈折率層１８は、無機酸化物粒子、中空シリカ粒子、含フッ素化合物、バインダー樹脂を含む組成物を用いて形成することができる。含フッ素化合物およびバインダー樹脂は、紫外線反応性の反応性基を有することが好ましい。紫外線反応性の反応性基としては、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。含フッ素化合物およびバインダー樹脂が紫外線反応性の反応性基を有すると、低屈折率層１８の耐擦傷性が向上し、反射防止フィルム１０の耐擦傷性が向上する。低屈折率層１８の形成用組成物は、バインダー樹脂が紫外線反応性の反応性基を有するもの（紫外線硬化性樹脂）を含む場合、光重合開始剤を含むことが好ましい。低屈折率層１８の形成用組成物には、必要に応じ、溶剤が含まれていてもよい。低屈折率層１８のバインダー樹脂は、紫外線硬化性樹脂で構成されていてもよいし、非紫外線硬化性樹脂で構成されていてもよいし、紫外線硬化性樹脂と非紫外線硬化性樹脂の組み合わせで構成されていてもよい。

光重合開始剤の含有量は、低屈折率層１８の形成用組成物の固形分全量基準で、０．１質量％以上１０質量％以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは１質量％以上であり、また５質量％以下である。

低屈折率層１８の形成用組成物において用いられる溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＧＭ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのアルコール系溶剤や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、アセトンなどのケトン系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、Ｎ－メチルピロリドン、アセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶剤などが挙げられる。これらは、溶剤として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。

他に、低屈折率層１８には、必要に応じて、添加剤などが含まれていてもよい。このような添加剤としては、防汚剤、分散剤、レベリング剤、消泡剤、搖変剤、抗菌剤、難燃剤、スリップ剤、屈折率調整剤などが挙げられる。

（反射防止フィルムの製造方法）
反射防止フィルム１０を製造するには、まず、基材フィルム１２の面上にハードコート層１４を形成する組成物を塗工し、必要に応じて乾燥後、紫外線等の電離放射線照射により硬化させて、基材フィルム１２の面上にハードコート層１４を形成する。その後、ハードコート層１４の面上に高屈折率層１６を形成する組成物を塗工し、必要に応じて乾燥後、紫外線等の電離放射線線照射により硬化させて、ハードコート層１４の面上に高屈折率層１６を形成する。さらに高屈折率層１６の面上に低屈折率層１８を形成する組成物を塗工し、必要に応じて乾燥後、紫外線等の電離放射線照射により硬化させて、高屈折率層１６の面上に低屈折率層１８を形成する。これらの工程を経ることにより、反射防止フィルム１０を製造することができる。

基材フィルム１２の面上にハードコート層１４を形成する際、基材フィルム１２とハードコート層１４の密着性を向上させるために、基材フィルム１２の表面には、塗工前に表面処理が施されてもよい。表面処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線処理などが挙げられる。

ハードコート層１４を形成する組成物、高屈折率層１６を形成する組成物、低屈折率層１８を形成する組成物の塗工には、例えば、リバースグラビアコート法，ダイレクトグラビアコート法，ダイコート法，バーコート法，ワイヤーバーコート法，ロールコート法，スピンコート法，ディップコート法，スプレーコート法，ナイフコート法，キスコート法などの各種コーティング法や、インクジェット法、オフセット印刷，スクリーン印刷，フレキソ印刷などの各種印刷法を用いて行うことができる。

各層に対する乾燥工程は、塗工液に用いた溶剤等を除去できれば特に限定されるものではないが、５０～１５０℃の温度で１０秒～１８０秒程度行うことが好ましい。

各層に対する紫外線照射には、高圧水銀ランプ、無電極（マイクロ波方式）ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、その他任意の紫外線照射装置を用いることができる。紫外線照射は、必要に応じて、窒素などの不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。紫外線照射量は、特に限定されるものではないが、５０～８００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１００～３００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。

（反射防止フィルムの特性）
反射防止フィルム１０の表面、つまり低屈折率層１８の表面における算術平均粗さＳａは、良好な指滑り性と耐擦傷性の観点から、好ましくは１．０ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。より好ましくは３．０ｎｍ以上、さらに好ましくは５．０ｎｍ以上である。また、より好ましくは１５ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍである。

反射防止フィルム１０におけるヘイズは、良好な透明性などの観点から、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下、さらに好ましくは１．２以下である。

反射防止フィルム１０における視感度反射率は、低いほど好ましいが、好ましくは０．５％以下、より好ましくは０．４％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。

以上の構成の反射防止フィルム１０は、基材フィルム１２と、前記基材フィルム１２の面上に形成されたハードコート層１４と、前記ハードコート層１４の面上に形成された高屈折率層１６と、前記高屈折率層１６の面上に形成された低屈折率層１８と、を有し、前記高屈折率層１６は、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子と、を含有する電離放射線硬化性組成物の硬化物より構成され、前記酸化チタン粒子の体積基準の平均粒子径（Ｄ５０）は２０ｎｍ以上であり、体積基準の累積９０％粒子径（Ｄ９０）は１２０ｎｍ以下であることから、高い反射防止性、優れた耐擦傷性を備える。高屈折率層１６に含有される酸化チタン粒子が、上記のとおり表面修飾されているとともに、所定の粒度分布を有することが、反射防止フィルム１０における反射防止性および耐擦傷性の向上に寄与する。なお、特許文献１でも、高屈折率層１６に酸化チタン微粒子が含有されているが、その酸化チタン微粒子における表面修飾の有無や粒度分布は明らかではない。

＜他の形態の反射防止フィルム＞
本発明に係る反射防止フィルムは、上記のとおり、基材フィルム１０の面上に、ハードコート層１４と、所定の組成を有する高屈折率層１６と、低屈折率層１８がこの順に積層されたものであれば、上記第一実施形態に係る反射防止フィルム１０の構成に限定されるものではない。以下に、本発明に係る反射防止フィルムの他の実施形態について例示する。

（第二実施形態）
図２には、第二実施形態に係る反射防止フィルム２０を示している。第二実施形態に係る反射防止フィルム２０は、基材フィルム１２と、基材フィルム１２の面上に形成されたハードコート層１４と、ハードコート層１４の面上に形成された中屈折率層１５と、中屈折率層１５の面上に形成された高屈折率層１６と、高屈折率層１６の面上に形成された低屈折率層１８と、を有する。反射防止フィルム２０は、基材フィルム１２側から順に、基材フィルム１２、ハードコート層１４、中屈折率層１５、高屈折率層１６、低屈折率層１８を有している。

第二実施形態に係る反射防止フィルム２０は、第一実施形態に係る反射防止フィルム１０と比較して、ハードコート層１４と高屈折率層１６の間に中屈折率層１５を有している点が相違し、これ以外については第一実施形態に係る反射防止フィルム１０と同様であり、同様の構成についてはその説明を省略する。

中屈折率層１５は、高屈折率層１６との有意な屈折率差、および低屈折率層との有意な屈折率差により、より高い反射防止効果を発現させるための層である。中屈折率層１５の屈折率は、ハードコート層１４よりも高く、かつ、高屈折率層１６よりも低い。さらに、低屈折率層１８よりも高いことが好ましい。

中屈折率層１５の屈折率は、波長５５０ｎｍにおいて、好ましくは１．５６以上１．８５以下の範囲内である。より好ましくは１．６０以上、さらに好ましくは１．６５以上である。また、より好ましくは１．８０以下、さらに好ましくは１．７５以下である。中屈折率層１５の屈折率が上記範囲内であると、中屈折率層１５と他の層との屈折率差から生じる干渉のバランスを適したものとすることができ、より高い反射防止効果を得ることができる。

中屈折率層１５の厚みは、好ましくは３０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の範囲内である。より好ましくは５０ｎｍ以上、さらに好ましくは７０ｎｍ以上である。また、より好ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは９０ｎｍ以下である。中屈折率層１５の厚みを上記範囲とすることで、反射防止機能をさらに高めることができる。

中屈折率層１５の構成材料は特に制限されず、所定の屈折率が得られるように、従来より反射防止フィルム等に用いられる公知のものを用いればよい。例えば、ハードコート層１４において使用可能な材料として上記で説明した材料から適宜選択すればよい。また、高屈折率層１６において使用可能な材料として上記で説明した材料から適宜選択してもよい。中屈折率層１５の屈折率は、バインダー樹脂、無機酸化物粒子、樹脂粒子の選択、配合量などにより調整することができる。例えば、酸化チタン粒子等の無機酸化物粒子の含有量を高屈折率層１６よりも少なくすることで、高屈折率層１６よりも屈折率の低い中屈折率層１５を形成することができる。

（第三実施形態）
図３には、第三実施形態に係る反射防止フィルム３０を示している。第三実施形態に係る反射防止フィルム３０は、基材フィルム１２と、基材フィルム１２の一方の面上に形成されたハードコート層１４と、ハードコート層１４の面上に形成された高屈折率層１６と、高屈折率層１６の面上に形成された低屈折率層１８と、を有する。また、基材フィルム１２の他方の面上に透明粘着層２２を有する。透明粘着層２２の面上には、必要に応じて離型フィルム２４が配置される。離型フィルム２４は、反射防止フィルム３０の使用前に透明粘着層２２の保護層として機能し、反射防止フィルム３０の使用時には、透明粘着層２２から剥がされる。

第三実施形態に係る反射防止フィルム３０は、第一実施形態に係る反射防止フィルム１０と比較して、基材フィルム１２の他方の面上に透明粘着層２２を有する点が相違し、これ以外については第一実施形態に係る反射防止フィルム１０と同様であり、同様の構成についてはその説明を省略する。

透明粘着層２２は、反射防止フィルム３０をディスプレイ等の表面に密着性良く貼り付けるためのものである。また、反射防止フィルム３０は、透明粘着層２２を有することで、ディスプレイ等のガラスの飛散を防止する効果を有する。すなわち、反射防止フィルム３０は、飛散防止フィルムとしての機能も有する。

透明粘着層２２を形成する粘着剤組成物は、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤などの公知の粘着性樹脂を含有することができる。中でも、光学的な透明性や耐熱性の観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。粘着剤組成物は、透明粘着層２２の凝集力を高めるために、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、キレート系架橋剤などが挙げられる。

粘着剤組成物は、必要に応じて、添加剤を含んでもよい。添加剤としては、可塑剤、シランカップリング剤、界面活性剤、酸化防止剤、充填剤、硬化促進剤、硬化遅延剤などの公知の添加剤が挙げられる。また、生産性などの観点から、有機溶剤を使用して希釈してもよい。

透明粘着層２２の厚みは、特に限定されるものではないが、５μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは１０μｍ以上であり、また５０μｍ以下である。

透明粘着層２２は、基材フィルム１２の他方の面上に粘着剤組成物を直接塗布して形成する方法、離型フィルム２４の面上に粘着剤組成物を塗布して形成した後、基材フィルム１２の他方の面上に転写する方法、第一の離型フィルムの面上に粘着剤組成物を塗布して形成した後、第二の離型フィルムを貼り合わせ、いずれか一方の離型フィルムを剥離して基材フィルム１２の他方の面上に転写する方法などにより形成することができる。

透明粘着層２２は、ガラスの飛散防止効果の観点から、ガラスに対する粘着力が、４Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましい。より好ましくは６Ｎ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは１０Ｎ／２５ｍｍ以上である。

（第四実施形態）
図４には、第四実施形態に係る反射防止フィルム４０を示している。第四実施形態に係る反射防止フィルム４０は、基材フィルム１２と、基材フィルム１２の一方の面上に形成されたハードコート層１４とハードコート層１４の面上に形成された高屈折率層１６と、高屈折率層１６の面上に形成された低屈折率層１８と、低屈折率層１８の面上に粘着剤層２６を介して配置された保護フィルム２８と、を有する。

第四実施形態に係る反射防止フィルム４０は、第一実施形態に係る反射防止フィルム１０と比較して、低屈折率層１８の面上に粘着剤層２６を介して保護フィルム２８を有する点が相違し、これ以外については第一実施形態に係る反射防止フィルム１０と同様であり、同様の構成についてはその説明を省略する。

保護フィルム２８は、例えばロールプロセスなどで連続加工したりディスプレイ等に貼り合わせられたりするなどの取扱い時において、低屈折率層１８の表面に傷が付くのを抑えることができるものである。保護フィルム２８は、粘着剤層２６を介して低屈折率層１８の面に貼り付けられている。保護フィルム２８は、加工後などにおいては、粘着剤層２６とともに低屈折率層１８の面から剥がされる。このため、粘着剤層２６は、低屈折率層１８と粘着剤層２６の間の接着力よりも保護フィルム２８と粘着剤層２６の間の接着力のほうが強く、低屈折率層１８と粘着剤層２６の間で界面剥離可能な接着力に調整される。

保護フィルム２８を構成する材料は、基材フィルム１２を構成する材料として例示したものなどを適宜選択することができる。保護フィルム２８の厚みは、特に限定されるものではないが、２μｍ以上５００μｍ以下の範囲内、２μｍ以上２００μｍ以下の範囲内とすることができる。

粘着剤層２６を形成する粘着剤は、特に限定されるものではなく、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤などを好適に用いることができる。特に、アクリル系粘着剤は、透明性や耐熱性に優れるため、好適である。アクリル系粘着剤は、（メタ）アクリル重合体および架橋剤を含む粘着剤組成物から形成されることが好ましい。

（メタ）アクリル重合体は、（メタ）アクリルモノマーの単独重合体もしくは共重合体である。（メタ）アクリルモノマーとしては、アルキル基含有（メタ）アクリルモノマー、カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマー、水酸基含有（メタ）アクリルモノマーなどが挙げられる。

アルキル基含有（メタ）アクリルモノマーとしては、炭素数２～３０のアルキル基を有する（メタ）アクリルモノマーが挙げられる。炭素数２～３０のアルキル基は、直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよいし、環状であってもよい。アルキル基含有（メタ）アクリルモノマーとしては、より具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチルなどが挙げられる。

カルボキシル基含有（メタ）アクリルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸カルボキシエチル、（メタ）アクリル酸カルボキシペンチルなどが挙げられる。カルボキシル基は、アルキル鎖の末端に位置していてもよいし、アルキル鎖の中間に位置していてもよい。

水酸基含有（メタ）アクリルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸ヒドロキシラウリル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチルなどが挙げられる。水酸基は、アルキル鎖の末端に位置していてもよいし、アルキル鎖の中間に位置していてもよい。

（メタ）アクリル重合体を形成する（メタ）アクリルモノマーは、上記のいずれか１種であってもよいし、２種以上の組み合わせであってもよい。

架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤などが挙げられる。架橋剤は、これらの１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

粘着剤組成物には、（メタ）アクリル重合体、架橋剤以外に、その他添加剤を含んでもよい。その他の添加剤としては、架橋促進剤、架橋遅延剤、粘着性付与樹脂（タッキファイヤー）、帯電防止剤、シランカップリング剤、可塑剤、剥離助剤、顔料、染料、湿潤剤、増粘剤、紫外線吸収剤、防腐剤、酸化防止剤、金属不活性剤、アルキル化剤、難燃剤などが挙げられる。これらは粘着剤の用途や使用目的に応じて、適宜選択して使用される。

粘着剤層２６の厚みは、特に限定されるものではないが、１μｍ以上１０μｍ以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは２μｍ以上であり、また７μｍ以下である。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。

例えば上記実施形態では、基材フィルム１２の表面に表面処理を施してもよい記載をしているが、表面処理に代えて、基材フィルム１２の表面に、易接着層を設ける構成であってもよい。

他に、上記各実施形態において、低屈折率層１８の表面には、防汚性をさらに高めるために、防汚層を形成してもよい。
反射防止フィルム２０の表面に防汚層を設ける場合は、界面での反射を低減する観点から、低屈折率層１８と防汚層との屈折率差が小さいことが好ましい。防汚層の屈折率は、１．６以下が好ましく、１．５５以下がより好ましい。防汚層の材料としては、フッ素基含有のシラン系化合物や、フッ素基含有の有機化合物等が好ましい。防汚層は、リバースコート法、ダイコート法、グラビアコート法等のウエット法や、真空蒸着法、ＣＶＤ法等のドライプロセスにより形成できる。防汚層の厚みは、通常、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であり、好ましくは２ｎｍ以上３０ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。また、防汚層を形成する前に、表面処理を施してもよい。表面処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線処理などが挙げられる。

そして、上記第三実施形態における透明粘着層２２および離型フィルム２４は、図３に示すように、図１に示す第一実施形態の反射防止フィルム１０に追加する形で示しているが、図２に示す第二実施形態の反射防止フィルム２０に追加する形であってもよい。また、上記第四実施形態における粘着剤層２６および保護フィルム２８は、図４に示すように、図１に示す第一実施形態の反射防止フィルム１０に追加する形で示しているが、図２に示す第二実施形態の反射防止フィルム２０や、図３に示す第三実施形態の反射防止フィルム３０に追加する形であってもよい。

そして、基材フィルム１２の表面には、各層を形成する前に、ガスバリア性向上層、帯電防止層、オリゴマーブロック層などの各種機能層を予め設けてもよい。
帯電防止層は、剥離帯電や摩擦帯電による周囲のゴミ等の付着を軽減する等の目的で設けられる。帯電防止層は、帯電防止剤を含有する帯電防止層形成用組成物からなる層であることが好ましい。

帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩，ピリジウム塩等のカチオン性帯電防止剤、スルホン酸，リン酸，カルボン酸等のアルカリ金属塩等のアニオン性帯電防止剤、アミノ酸系，アミノ酸硫酸エステル系等の両性帯電防止剤、アミノアルコール系，グリセリン系，ポリエチレングリコール系等のノニオン性帯電防止剤、イオン性化合物、ポリアセチレン系，ポリチオフェン系等の導電性ポリマー、金属酸化物粒子やカーボンナノチューブ等の導電性粒子、導電性繊維等が挙げられる。これらの中でも、湿度依存性が少ない、帯電防止層からのブリードアウトを防止する等の観点から、ポリアセチレン、ポリチオフェン等の導電性ポリマーにドーパントを組み合わせた帯電防止剤、金属粒子、金属酸化物粒子が好ましい。

帯電防止剤を構成する上記導電性ポリマーとしては、具体的には、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６－ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５－チエニレン）、又は、これらの誘導体等の導電性高分子が挙げられ、好ましくは、ポリチオフェン系の導電性有機ポリマー（例えば、３，４－エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等）が挙げられる。これらは帯電防止剤として１種単独で用いられてもよいし、２種以上組み合わせて用いられてもよい。

帯電防止剤の含有量は、帯電防止層形成用組成物の固形分全量基準で、１質量％以上５０質量％以下の範囲とすることが好ましい。含有量が１質量％以上であれば、良好なな帯電防止性を付与することができる。より好ましくは５質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上である。一方、その含有量が５０質量％以下であれば、全光線透過率が良好な高透明の膜を得ることができる。より好ましくは４０質量％以下、さらに好ましくは２０質量％以下である。

帯電防止層は、バインダー樹脂を含んでいてもよい。バインダー樹脂としては、帯電防止剤と相溶又は混合分散可能であれば、特に限定されず、硬化性樹脂でも、熱可塑性樹脂であってもよい。

熱可塑性樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、又は、ポリイミド、ポリアミドイミド等のポリイミド樹脂、又は、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド１２、ポリアミド１１等のポリアミド樹脂、又は、ポリフッ化ビニリデン、又は、アクリル樹脂、又は、ポリビニルアルコール等のビニル樹脂、又は、ウレタン樹脂などを挙げることができる。
硬化性樹脂としては、ハードコート層１４を形成する際にに用いる材料と同様の材料を用いることができる。

帯電防止層の厚みは、帯電を防止する観点から、好ましくは１ｎｍ以上５μｍ以下である。より好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは３０ｎｍ以上である。また、より好ましくは１μｍ以下、さらに好ましくは３００ｎｍ以下である。

以下、実施例および比較例を用いて本発明を詳細に説明する。以下、特記しない限り、試料の作製および評価は、室温、大気中において行っている。

＜ハードコート層形成用組成物の調製＞
紫外線硬化性組成物「ルクシディアＥＳＳ－６２０」（ＤＩＣ製、ウレタンアクリレート樹脂、溶剤：酢酸エチル、固形分濃度：７９質量％）に、光重合開始剤「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」（ＩＧＭＲｅｓｉｎｓＢ．Ｖ．製、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン）を、ハードコート層形成用組成物全量に対し３質量％となるように加え、さらに、固形分濃度が４５質量％となるように酢酸エチルを加えて、ハードコート層形成用組成物を調製した。

＜中屈折率層形成用組成物の調製＞
全固形分中の濃度で、紫外線硬化性樹脂４６質量％、酸化チタン粒子分散体５５質量％、光重合開始剤４質量％となるように、各成分を配合し、溶剤（ＰＧＭ）を用いて固形分濃度３．９質量％に調整することにより、中屈折率層形成用組成物を調製した。

中屈折率層形成用組成物の構成成分として用いた材料は以下の通りである。
・紫外線硬化性樹脂－東亞合成製「アロニックスＭＴ－３０４１」、多官能アクリレート、固形分濃度：１００質量％
・酸化チタン粒子分散体１－石原産業製「ＬＤＢ－１０２－４５」、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子および分散剤を含有、溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、固形分濃度：４５質量％
・光重合開始剤－上記「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」

＜高屈折率層形成用組成物の調製＞
表２に記載の配合組成（単位：全固形分中の質量％）となるように各成分を配合し、さらに、表２に記載の固形分濃度となるようにＰＧＭを加えて、高屈折率層形成用組成物を調製した。

高屈折率層形成用組成物の構成成分として用いた材料は以下の通りである。
酸化チタン粒子はいずれもルチル型である。
・紫外線硬化性樹脂－上記「アロニックスＭＴ－３０４１」
・酸化チタン粒子分散体１－上記「ＬＤＢ－１０２－４５」
・酸化チタン粒子分散体２－石原産業製「ＬＤＢ－１０２Ｈ－３５」、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子および分散剤を含有、溶剤：ＰＧＭ、固形分濃度：３５質量％
・酸化チタン粒子分散体３－石原産業製「ＬＤＢ－０１４」、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子および分散剤を含有、溶剤：ＰＧＭ、固形分濃度：２０質量％
・酸化チタン粒子分散体４－ＣＩＫナノテック製「ＲＴＴＰＧＭ２０ＷＴ％－Ｈ３０」、酸化チタン粒子および添加剤を含有、溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、固形分濃度：２０質量％
・酸化チタン粒子分散体５－日揮触媒化成製「ＥＬＣＯＭＴＧＸ－２１Ａ」、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子、酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム粒子を含有、溶剤：ＰＧＭ、固形分濃度：２０質量％
・酸化チタン粒子分散体６－テイカ製「ＮＳ４４６」、酸化チタン粒子、酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム粒子、アミンを含有、溶剤：ＰＧＭＥＡ、固形分濃度：３６質量％
・酸化チタン粒子分散体７－下記酸化チタン粒子分散体８と、上記酸化チタン粒子分散体１とを、質量比１：７４で混合したもの、固形分濃度：４５質量％。
酸化チタン粒子分散体８は、酸化チタン粒子「ＳＡ－１００」（テイカ製）と、２種の分散剤を含有する。分散剤としては、「ＳＮディスパーサント９２２８」（サンノプコ製、多価アルコール型非イオン性界面活性剤）、および「ＳＮスパース７０」（サンノプコ製、非イオン性界面活性剤、脂肪族アミド系界面活性剤、ジエタノールアミン）を、ＳＡ－１００の１００質量部に対しそれぞれ１質量部添加し、さらに、溶剤（ＰＧＭ）を用いて固形分濃度３７質量％に調整して、ホモジナイザーを用いて分散処理（１０００ｒｐｍ、１０分）した。
・光重合開始剤－上記「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」

酸化チタン粒子分散体１～７の、反応性基含有シランカップリング剤（ＳＣＡ）による表面修飾の有無、粒子径、および各成分の含有量（単位：質量％）については、評価を行っている。それらの評価方法および評価結果について、後にまとめて示す。

＜低屈折率層形成用組成物の調製＞
全固形分中の質量％で、紫外線硬化性樹脂４７．１質量％、アルミナゾル３．５質量％、含フッ素化合物８．２質量％、中空シリカ粒子３５．８質量％、光重合開始剤５．３質量％となるように、各成分を配合し、さらに、溶剤（ＭＥＫ／ＰＧＭ＝１／３）を用いて固形分濃度３質量％に調整することにより、低屈折率層形成用組成物を調製した。

低屈折率層形成用組成物の構成成分として用いた材料は以下の通りである。
・紫外線硬化性樹脂－上記「アロニックスＭＴ－３０４１」
・アルミナゾル－トーヨーケム製「リオデュラスＫＴ－１１０ＡＬ」、アルミナ粒子（平均粒子径：１１０ｎｍ）２５質量％、感光性モノマーおよび樹脂１５質量％、溶剤（ＭＥＫ、シクロヘキサノン、脂肪族系溶剤）
・含フッ素化合物－信越化学工業製「ＫＹ－１２０３」、パーフルオロアルキル基含有（メタ）アクリレート、溶剤：ＭＩＢＫ、固形分濃度：２０質量％
・中空シリカ粒子－日揮触媒化成工業製「スルーリア４３２０」、平均粒子径：６０ｎｍ、溶剤：ＭＩＢＫ、固形分濃度：２０質量％
・光重合開始剤－上記「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」

＜ハードコート層の作製＞
実施例１～３および比較例１～５のそれぞれについて、基材フィルム（東レ製「ルミラー＃５０－Ｕ４０３」、ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み５０μｍ）に、＃４のワイヤーバーを用いて、ハードコート層形成用組成物を塗布した。８０℃×３分で乾燥後、無電極（マイクロ波式）ランプを用いて光量８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射してハードコート層を形成した。

＜中屈折率層の作製＞
実施例１～３および比較例１～５のそれぞれについて、ハードコート層の面上に、中屈折率層形成用組成物を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃×６０秒で乾燥後、無電極（マイクロ波式）ランプを用いて光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して中屈折率層を形成した。

＜高屈折率層の作製＞
実施例１～３および比較例１～５のそれぞれについて、中屈折率層の面上に、高屈折率層形成用組成物を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃×６０秒で乾燥後、無電極（マイクロ波式）ランプを用いて光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して高屈折率層を形成した。

＜低屈折率層の作製＞
実施例１～３および比較例１～５のそれぞれについて、高屈折率層の面上に、低屈折率層形成用組成物を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃×６０秒で乾燥後、無電極（マイクロ波式）ランプを用いて光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して低屈折率層を形成した。
以上により、反射防止フィルムを作製した。

＜評価方法＞
（酸化チタン粒子の粒子径）
酸化チタン粒子分散体１～７を、それぞれ固形分濃度が１０質量％となるようにＰＧＭを加えて濃度調整し、ナノ粒子径測定システム（大塚電子製「ｎａｎｏＳＡＱＬＡ」）を使用して、動的光散乱法によって、体積基準の平均粒子径（Ｄ５０）、体積基準の累積９０％粒子径（Ｄ９０）、および体積基準の累積１０％粒子径（Ｄ１０）を測定した。また、下記式（１）に従って、酸化チタン粒子の多分散性指数（ＰＤＩ）を算出した。
ＰＤＩ＝（Ｄ９０－Ｄ１０）／Ｄ５０（１）

（酸化チタン粒子分散体の組成）
酸化チタン粒子分散体１～７を、それぞれアルミシャーレ上に１ｇ採取し、１００℃の恒温槽に１時間投入して揮発成分を揮発させた。得られた酸化チタン粒子膜の表面に対して、走査電子顕微鏡（日本電子製「ＪＣＭ－７０００」）を用いて、エネルギー分散型Ｘ線分光法で、含まれる元素の重量比を測定した。

（各層の厚みおよび屈折率）
ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の各厚みおよび屈折率を評価した。この際、各層を形成するごとに、顕微分光膜厚計（大塚電子製「ＯＰＴＭ－Ｆ１」）を用いて得られた波長領域３８０～７８０ｎｍの反射分光スペクトルと、フレネルの式に基づいて導出される理論スペクトルとを、最小二乗法によりカーブフィッティングすることにより、各層の厚みおよび波長５５０ｎｍにおける屈折率を算出した。

（耐擦傷性）
平面摩耗試験機（大栄科学精機製作所製「ＤＡＳ－４００」）を使用し、２０ｍｍ×２０ｍｍの平面摩擦子に固定したスチールウール＃００００（日本スチールウール株式会社製）を、反射防止フィルムの低屈折率層表面に載せて往復させた。試験台のストローク長は５０ｍｍ、試験台往復速度は６０往復／分とし、荷重１．０ｋｇで１５００回往復動させた。試験後の反射防止フィルムを目視観察し、以下の基準に従って評価した。
Ａ：傷が全く見られず、耐擦傷性は非常に高い
Ｂ：長さ１０ｍｍ未満の傷はあるが長さ１０ｍｍ以上の傷はなく、実用上問題ない耐擦傷性を有する
Ｃ：長さ１０ｍｍ以上の傷が１～９本あり、耐擦傷性は低い
Ｄ：長さ１０ｍｍ以上の傷が１０本以上あり、耐擦傷性は非常に低い

（ヘイズ（Ｈｚ））
日本電色工業製「ＨａｚｅＭｅｔｅｒＮＤＨ７０００」を用い、ＪＩＳ－Ｋ７１３６の方法で、反射防止フィルム全体のヘイズ（Ｈｚ）を測定した。ヘイズが２．０以下であれば、透明性が高いと評価することができる。

（視感度反射率）
作製した反射防止フィルムの裏面（低屈折率層とは反対側の面）を＃４００のサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶし、紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製「ＵＶ－３６００」）を用いて、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍにおける低屈折率層の表面の５°正反射率を測定し、この測定値に比視感度値を乗じて視感度反射率を算出した。視感度反射率が０．５％以下であれば、反射防止性が十分であるとみなすことができる。

＜評価結果＞
表１に、高屈折率層の形成に用いた酸化チタン粒子分散体１～７の構成を評価した結果を示す。また、表２に、実施例１～３および比較例１～５について、高屈折率層の成分組成および各層の厚みとともに、各評価結果を示す。表２において、「酸化チタン含有率（対固形分）」は、表１の酸化チタン粒子分散体の組成におけるＴｉの含有量と、各分散体の固形分濃度、表２の高屈折率層の組成に基づいて計算した量である。

高屈折率層を構成する硬化性組成物において、酸化チタン粒子が反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理されていない比較例１，２では、耐擦傷性が悪くなっている。

比較例３，４は、高屈折率層の酸化チタン粒子のＤ５０が２０ｎｍに満たない。これらの試料においては、視感度反射率が０．５％を超えている。高屈折率層において、酸化チタン粒子のＤ５０が小さすぎることで、酸化チタン粒子分散体において酸化チタンを高含有量で分散させることができず（表１の組成のＴｉ含有量参照）、高屈折率層中に含まれる酸化チタン粒子を十分な濃度とすることができなかったため（表２の酸化チタン含有率参照）、高屈折率層の屈折率が不足しているものと解釈される。さらに、比較例４は、高屈折率層を構成する硬化性組成物において、酸化チタン粒子が反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理されていないため、耐擦傷性も悪くなっている。

比較例５は、高屈折率層の酸化チタン粒子のＤ９０が１２０ｎｍを超えることと対応して、透明性の低さを表すヘイズの値が大きくなっている。

これら各比較例とは異なり、実施例１～３では、高屈折率層を構成する硬化性組成物に含まれる酸化チタン粒子が、反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理され、かつ２０ｎｍ以上のＤ５０と１２０ｎｍ以下のＤ９０を有している。そのことと対応して、実施例１～３ではいずれも、Ａと評価される高い耐擦傷性が得られている。また、０．５％以下の視感度反射率に示される高い反射防止性と、２．０以下のヘイズに示される高い透明性も得られている。

以上に示されるとおり、基材フィルムと、前記基材フィルムの面上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層の面上に形成された高屈折率層と、前記高屈折率層の面上に形成された低屈折率層と、を有し、前記高屈折率層は、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、前記（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子と、を含有する電離放射線硬化性組成物の硬化物より構成され、前記酸化チタン粒子の体積基準の平均粒子径（Ｄ５０）は２０ｎｍ以上であり、体積基準の累積９０％粒子径（Ｄ９０）は１２０ｎｍ以下であることから、高屈折率層の寄与により、高い反射防止性、優れた耐擦傷性を備える反射防止フィルムとなる。

以上、本発明の実施例について説明したが、本発明は上記実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。

１０，２０，３０，４０反射防止フィルム
１２基材フィルム
１４ハードコート層
１５中屈折率層
１６高屈折率層
１８低屈折率層
２２透明粘着層
２４離型フィルム
２６粘着剤層
２８保護フィルム

Claims

基材フィルムと、前記基材フィルムの面上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層の面上に形成された高屈折率層と、前記高屈折率層の面上に形成された低屈折率層と、を有し、
前記高屈折率層は、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、前記（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子と、を含有する電離放射線硬化性組成物の硬化物より構成され、
前記酸化チタン粒子の体積基準の累積粒度分布における平均粒子径Ｄ５０は２０ｎｍ以上であり、体積基準の累積粒度分布における９０％粒子径Ｄ９０は１２０ｎｍ以下である、反射防止フィルム。
前記高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．８３以上、２．００以下であり、
前記低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．３５以上、１．４９以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
前記ハードコート層と、前記高屈折率層との間に、波長５５０ｎｍにおける屈折率が前記ハードコート層の屈折率より高く前記高屈折率層の屈折率より低い、中屈折率層を有する、請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルム。
基材フィルムの面上にハードコート層を形成し、
前記ハードコート層の面上に、反応性基を有する（メタ）アクリレート化合物と、前記（メタ）アクリレート化合物と結合形成可能な反応性基を有するシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子を溶剤に分散させた粒子分散体と、を含有する電離放射線硬化性組成物を塗布して高屈折率層を形成し、
前記高屈折率層の面上に低屈折率層を形成する、反射防止フィルムの製造方法であって、
前記粒子分散体において、固形分の合計１００質量％に対するチタン原子の含有量は、４０質量％以上、８０質量％以下である、反射防止フィルムの製造方法。