JP2024053320A - Developing device - Google Patents
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Abstract
【課題】ガラス基板を枚葉で搬送しながら、基板の表面への現像液のスプレー吐出による現像、及び洗浄液のスプレー吐出による洗浄を行うカラーフィルタの現像装置において、基板上での現像液および洗浄液の流れを制御することによって、基板が大型化しても基板上の現像液滞留がなく、レジストパターン品質が損なわれることのない、ガラス基板内の現像均一性が良好な現像装置を提供することを課題とする。【解決手段】搬送中のガラス基板の裏面にエアーを吹き付けて、そのエアー圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置。【選択図】図１[Problem] In a color filter developing device that develops a glass substrate by spraying a developer onto the substrate surface and cleans the substrate by spraying a cleaning solution while transporting the substrate one by one, the object is to provide a developing device that controls the flow of the developer and cleaning solution on the substrate, so that the developer does not remain on the substrate even when the substrate is large, and the resist pattern quality is not impaired, and that provides good development uniformity within the glass substrate. [Solution] A developing device having a means for blowing air onto the back surface of the glass substrate during transport, and using the air pressure to freely change the inclination angle of the glass substrate. [Selected Figure] Figure 1
Description
本発明は、液晶表示装置のカラーフィルタ基板の製造において、ブラックマトリクス（ＢＭ）等の凹凸パターンを形成する際に、基板上に形成したレジスト膜の露光後に現像液を処理液として供給し現像処理を行う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の現像装置に関する。 The present invention relates to a developing device for color filter substrates for liquid crystal display devices, which supplies a developing solution as a processing solution to perform development processing after exposing a resist film formed on a substrate to light when forming a concave-convex pattern such as a black matrix (BM) in the manufacture of color filter substrates for liquid crystal display devices.
液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造工程で用いる現像装置としては、基板を枚葉で搬送しながら、現像液を用いるウエット処理を行うものが広く用いられてきた。現像処理を行う現像槽では水平搬送する基板の上方に設置されたノズルより現像液を噴霧により基板面に供給することで、基板上にある未硬化部の感光性樹脂を溶解して除去する。そして、現像処理は現像液に浸漬している時間で制御され、規定の時間つまり現像時間が経過したところで、水洗工程で現像液を除去して現像処理を終える。ここで、現像時間は、基板を搬送しながら処理を行うため、基板の搬送速度を変えることで調整している。 The developing equipment used in the manufacturing process of color filter substrates for liquid crystal display devices is widely used in which wet processing using a developing solution is performed while the substrate is transported one by one. In the developing tank where the developing process is performed, the developing solution is sprayed onto the substrate surface from a nozzle installed above the substrate, which is transported horizontally, dissolving and removing the uncured photosensitive resin on the substrate. The developing process is controlled by the time the substrate is immersed in the developing solution, and when a specified time, that is, the development time, has elapsed, the developing solution is removed in a water washing process to complete the developing process. Here, the developing time is adjusted by changing the substrate transport speed, as the process is performed while the substrate is being transported.
しかしながら、基板のサイズが大型化により、基板がたわむなどして、基板上の現像液の量が増える傾向がある。この傾向により、現像時間経過後の水洗工程では現像液の排除に時間がかかるため、現像可能な現像液が基板上に留まる時間が長くなり、処理過剰となる。そして、搬送系の構造により、基板の特定の場所に、現像可能な現像液が留まり、現像処理が不均一になり、パターン形状が部分的に意図したものと違う形になってしまうという問題があった（特許文献１参照）。 However, as the size of the substrate increases, the amount of developer on the substrate tends to increase due to substrate bending, etc. This tendency causes the developer to take a long time to be removed in the water washing process after the development time has elapsed, so that the developable developer remains on the substrate for a long time, resulting in over-processing. Furthermore, due to the structure of the transport system, developable developer may remain in specific locations on the substrate, causing uneven development processing and resulting in a pattern shape that is partially different from the intended shape (see Patent Document 1).
このため、大型基板でのカラーフィルタの製造に用いられる現像装置としては、基板を搬送方向と直角の幅方向に５～６度の角度で傾斜搬送して、傾斜状態を保ったままでウエット処理を行う現像装置が用いられるようになった。基板を傾斜処理すると、重力による液流が基板上に生じ、基本的には基板上の現像液の滞留がなくなり、洗浄効率が向上した（特許文献２参照）。 For this reason, developing devices used in the manufacture of color filters on large substrates have come to be used that transport the substrate at an angle of 5 to 6 degrees in the width direction, perpendicular to the transport direction, and perform wet processing while maintaining the tilted state. When the substrate is tilted, a liquid flow due to gravity occurs on the substrate, which basically eliminates the retention of developer on the substrate and improves cleaning efficiency (see Patent Document 2).
上記した傾斜搬送しながらの現像処理においては、図３に示すように、現像液は傾斜搬送される基板の高い側(上方)から低い側(下方)に向かって流れることになる。そのため、現像中のレジストパターンの上方に面した垂直面に流れ落ちてくる現像液が常に当たる状態になる。これに対して、下方側の垂直面はレジストパターンがあるため、流れ落ちてくる現像液が直接当らない。その結果、上方に面した垂直面は、下方側の垂直面に比べて、現像が過多になる。 In the development process while transporting at an incline as described above, as shown in Figure 3, the developer flows from the higher side (top) to the lower side (bottom) of the substrate being transported at an incline. Therefore, the developer flowing down always hits the vertical surface facing upward of the resist pattern being developed. In contrast, the developer flowing down does not directly hit the vertical surface facing downward because of the resist pattern. As a result, the vertical surface facing upward is overdeveloped compared to the vertical surface facing downward.
図６は、上記の傾斜処理による現像したカラーフィルタのブラックマトリクス（ＢＭ）の断面形状を示しており、傾斜の上方側のパターンの垂直面が削れた形状になっていることがわかる。この垂直面が削れた部分のブラックマトリクスは他の部分に比べてパターンの厚みが薄くなっているため、その部分だけ遮光性が他の部分に比べて低下する。このようなブラックマトリクスを有するカラーフィルタを用いた表示装置は、表示特性が低いものとなってしまう。 Figure 6 shows the cross-sectional shape of the black matrix (BM) of a color filter developed using the above-mentioned tilt process, and it can be seen that the vertical surface of the pattern above the tilt has been scraped off. The thickness of the black matrix in this portion where the vertical surface has been scraped off is thinner than in other portions, so the light-blocking properties of that portion are lower than in other portions. A display device using a color filter with such a black matrix will have poor display characteristics.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、基板の表面への現像液のスプレー吐出による現像、及び洗浄液のスプレー吐出による洗浄を行うカラーフィルタの現像装置において、基板上での現像液および洗浄液の流れを制御することによって、基板が大型化しても基板上の現像液滞留がなく、形成されたパターンに対して片側のみが削られるオーバーハング現象の発生などにより、レジストパターン品質が損なわれることのない、ガラス基板内の現像均一性が良好な現像装置を提供することを課題とする。
The present invention has been made to solve the above problems,
The present invention provides a developing device for color filters that develops a glass substrate by spraying a developer onto the substrate surface and cleans the substrate by spraying a cleaning solution while transporting the substrate one by one, and that controls the flow of the developer and cleaning solution on the substrate, thereby preventing the developer from stagnating on the substrate even when the substrate is large, and preventing the quality of the resist pattern from being impaired by the occurrence of an overhang phenomenon in which only one side of a formed pattern is scraped off, thereby achieving good development uniformity within the glass substrate.
上記の課題を解決するための手段として、本発明の第１の態様は、
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、ガラス基板の表面への現像液の吐出による現像、及び洗浄液の吐出による洗浄を行う現像装置において、
ガラス基板の裏面にエアーを吹き付けて、そのエアー圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置である。
As a means for solving the above problems, the first aspect of the present invention is to
A developing apparatus which develops a glass substrate by discharging a developing solution onto the surface of the glass substrate and cleans the glass substrate by discharging a cleaning solution while transporting the glass substrate one by one,
This developing device has a means for blowing air onto the rear surface of the glass substrate and freely changing the inclination angle of the glass substrate by the air pressure.
また、第２の態様は、
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、ガラス基板の表面への現像液の吐出による現像、及び洗浄液の吐出による洗浄を行う現像装置において、
ガラス基板の裏面にローラーを押し当てて、そのローラーの押し圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置である。
In addition, the second aspect is
A developing apparatus which develops a glass substrate by discharging a developing solution onto the surface of the glass substrate and cleans the glass substrate by discharging a cleaning solution while transporting the glass substrate one by one,
This developing device has a means for pressing a roller against the rear surface of the glass substrate and freely changing the inclination angle of the glass substrate by the pressure of the roller.
また、第３の態様は、
請求項１または２の現像装置において、ガラス基板の傾斜角度を変えて現像液、および洗浄液の流れがガラス基板上に形成されたレジストパターンに対して均一に当たるように制御する手段を有する現像装置である。
In addition, the third aspect is
3. The developing apparatus according to claim 1, further comprising a means for controlling the flow of the developing solution and the washing solution by changing the inclination angle of the glass substrate so that the flow of the developing solution and the washing solution uniformly impinges on the resist pattern formed on the glass substrate.
ガラス基板を枚葉で搬送しながら、基板の表面への現像液のスプレー吐出による現像、及び洗浄液のスプレー吐出による洗浄を行うカラーフィルタの現像装置において、基板上での現像液の流れを制御することによって、ガラス基板が大型化しても基板上の現像液滞留がなく、形成されたパターンに対して片側のみが削られるオーバーハング現象の発生などにより、レジストパターン品質が損なわれることのない、ガラス基板内の現像均一性が良好な現像装置を提供することが可能である。 In a color filter developing device that transports glass substrates one by one while spraying developer onto the substrate surface for development and cleaning by spraying cleaning solution, by controlling the flow of developer on the substrate, it is possible to provide a developing device that achieves good development uniformity within the glass substrate without developer stagnation on the substrate even when the glass substrate is large, and without compromising the quality of the resist pattern due to the occurrence of an overhang phenomenon in which only one side of the formed pattern is scraped off.
本発明は、現像するレジストパターンに対して現像液が偏りなくあたるようにして、基板内の現像性を均一化する為のものである。 The present invention aims to ensure that the developer is evenly applied to the resist pattern being developed, thereby achieving uniform developability within the substrate.
本課題解決のため、２通りの実施の形態を、図を参照して説明する。
＜実施形態１＞
In order to solve this problem, two embodiments will be described with reference to the drawings.
<Embodiment 1>
図１は、ガラス基板を枚葉で搬送しながら、ガラス基板の表面への現像液のスプレー吐出による現像、及び洗浄液のスプレー吐出による洗浄を行うカラーフィルタの現像装置の構成概略を示す側面図である。 Figure 1 is a side view showing the schematic configuration of a color filter developing device that develops the glass substrate by spraying a developer onto the surface of the substrate while transporting the substrate one by one, and cleans the substrate by spraying a cleaning solution.
現像装置１０は、ガラス基板を枚葉でコロコンローラ（以下、コロ）を用いる搬送機構を備えている。本実施例ではガラス基板の搬送する際の基板を支持する、または、移動性をよくするためコロを用いる構成を示したが、コロに変えてロールシャフトやフリーボールベアリングを使用することも可能である。 The developing device 10 is equipped with a transport mechanism that uses rollers (hereinafter referred to as rollers) to transport glass substrates one by one. In this embodiment, rollers are used to support the substrate when transporting it or to improve its mobility, but it is also possible to use roll shafts or free ball bearings instead of rollers.
枚葉搬送ユニットとして、コロ搬送コンベア２０による接触搬送が用いられる。コロ搬送には、ガラス基板１の幅サイズをカバーする長さのコロ２１が搬送方向（Ｘ方向）に一定間隔で敷設されている。そして、コロ２１の上部にガラス基板１を置き、上記コロ２１を処理槽外に配置されているモーター等の駆動手段（図示しない）で駆動することで搬送させることができる。 Contact transport using a roller transport conveyor 20 is used as the single wafer transport unit. For roller transport, rollers 21 with a length covering the width of the glass substrate 1 are laid out at regular intervals in the transport direction (X direction). The glass substrate 1 is placed on top of the rollers 21, and the rollers 21 are driven by a driving means (not shown) such as a motor that is arranged outside the processing tank, thereby allowing the glass substrate 1 to be transported.
そして、現像を行う現像槽１１と洗浄を行う洗浄槽１２で構成されている。ガラス基板１は、矢印で示すように、現像装置１０の左方から搬送され、現像槽１１にて現像、洗浄槽１２にて洗浄が行われ、次工程へと搬送される。 It is composed of a developing tank 11 where development takes place and a cleaning tank 12 where cleaning takes place. As shown by the arrow, the glass substrate 1 is transported from the left side of the developing device 10, where it is developed in the developing tank 11 and cleaned in the cleaning tank 12, and then transported to the next process.
図２は、現像装置の現像槽内部における、搬送中のガラス基板１と現像スプレー装置２３との関係を説明する平面図である。現像スプレー装置２３は、ガラス基板１の搬送路の上方に設けられている。現像スプレー装置２３の幅方向（Ｙ方向）には、複数個の現像シャワーノズル２４が一直線状に設けられ（図示しない）、この一直線状の列が搬送路の方向（Ｘ方向）に複数列設けられている。現像シャワーノズル２４は現像スプレー装置２３の下面に設けられている。現像スプレー装置２３は、搬送されてくるガラス基板１の表面に向け、現像シャワーノズル２４から現像液を吐出し、現像が行われる。 Figure 2 is a plan view illustrating the relationship between the glass substrate 1 being transported and the developer spray device 23 inside the developing tank of the developing device. The developer spray device 23 is provided above the transport path of the glass substrate 1. A plurality of developer shower nozzles 24 (not shown) are provided in a straight line in the width direction (Y direction) of the developer spray device 23, and a plurality of linear rows are provided in the direction of the transport path (X direction). The developer shower nozzle 24 is provided on the underside of the developer spray device 23. The developer spray device 23 sprays developer from the developer shower nozzle 24 toward the surface of the glass substrate 1 being transported, and development is performed.
本発明の実施形態１の現像装置を、図４を参照して説明する。コロ搬送路の下部に高圧のエアーノズル３１が配置されている。このエアーノズル３１は、高圧ガス供給部（図示せず）より送られてくる高圧エアーをジェット流で、またはスプレー状に噴射するようになっている。 The developing device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4. A high-pressure air nozzle 31 is disposed at the bottom of the roller transport path. This air nozzle 31 is designed to spray high-pressure air sent from a high-pressure gas supply unit (not shown) in the form of a jet stream or spray.
エアーノズル３１からの噴射圧や噴射量を調節する制御装置等（図示しない）を備えており、ガラス基板１の裏面に高圧エアーを噴射して、基板１を浮上させることができる。そして、各エアーノズル３１は、基板１裏面に直接噴射される高圧エアーの噴射圧や噴射量等が個別に調節できるように形成されている。各エアーノズル３１を個別に制御できることで、各エアーノズルからは、ガラス基板１を様々な角度に傾斜させるように制御されたエアーを噴射することができる。 Equipped with a control device (not shown) that adjusts the spray pressure and spray volume from the air nozzles 31, high-pressure air can be sprayed onto the back surface of the glass substrate 1 to lift the substrate 1. Each air nozzle 31 is formed so that the spray pressure and spray volume of the high-pressure air sprayed directly onto the back surface of the substrate 1 can be individually adjusted. By being able to individually control each air nozzle 31, it is possible to spray air from each air nozzle that is controlled to tilt the glass substrate 1 at various angles.
現像処理の流れを説明すると、まず、現像槽１１内に枚葉でコロ搬送したガラス基板１を一旦停止させ、コロ搬送路の下部に配置した、高圧のエアーが噴射するエアーノズル３１から基板１の裏面に高圧エアーをあてて基板１を浮上させる。次に、基板１の表面に現像スプレー装置２３から現像液を浴びせた状態で、各エアーノズル３１の噴射圧や噴射量を調整して一定時間、基板１の傾斜を様々な角度に変更する。 To explain the flow of the development process, first, the glass substrate 1, which has been transported by rollers one by one in the development tank 11, is stopped temporarily, and high-pressure air is sprayed from air nozzles 31, which are located at the bottom of the roller transport path, onto the backside of the substrate 1 to lift it up. Next, while the surface of the substrate 1 is sprayed with developer from the development spray device 23, the spray pressure and amount of spray from each air nozzle 31 are adjusted to change the inclination of the substrate 1 to various angles for a certain period of time.
例えば、図４のように搬送方向に対し前後方向に傾斜する蛇行運動を加えたい場合は、幅方向（Ｙ方向）に配置されたエアーノズルの列から噴射されるエアーの圧力や噴射量の設定をガラス基板１の搬送方向（Ｘ方向）に対して、波打つ様に段階的に変化させる設定をしてエアーを噴射することで、ガラス基板１を搬送方向に対して前後に傾斜させること
ができる。
For example, when it is desired to add a serpentine motion inclined forward and backward with respect to the transport direction as shown in FIG. 4, the air pressure and amount sprayed from the row of air nozzles arranged in the width direction (Y direction) can be set to change stepwise in a wavy manner with respect to the transport direction (X direction) of the glass substrate 1, and the air can be sprayed to tilt the glass substrate 1 forward and backward with respect to the transport direction.
図４では、搬送方向に対し前後方向に傾斜する蛇行運動を加えているが、搬送方向に対し左右方向の傾斜や、搬送方向に対し４５度の角度の傾斜なども同様にして加えることが可能である。コンピュータからなる制御装置は、基板１の傾斜角度からエアーノズル３１の位置、各エアーノズルの噴射圧や噴射量を計算し、一定時間ランダムにガラス基板１の傾斜を変化させ続けるための制御を行い、現像液がレジストパターンに対して各方向から均等にあたるように調整することができる。 In Figure 4, a serpentine motion that tilts forward and backward relative to the transport direction is applied, but it is also possible to apply tilt to the left and right relative to the transport direction, or tilt at a 45 degree angle relative to the transport direction. The control device, which is a computer, calculates the position of the air nozzle 31 and the spray pressure and spray amount of each air nozzle from the tilt angle of the substrate 1, and performs control to continue to change the tilt of the glass substrate 1 randomly for a certain period of time, making it possible to adjust so that the developer hits the resist pattern evenly from all directions.
一定時間、上記の現像方法を繰り返した後、搬送ユニットはガラス基板１を洗浄槽１２へと搬送する。洗浄槽でも同様に、ガラス基板１を一旦停止した状態で、ガラス基板の裏面から高圧のエアーをあてて基板を浮上させ、洗浄液を浴びせた状態で、エアーノズルの噴射圧や噴射量を調整してガラス基板１の傾斜を様々な角度に変更して、洗浄液がレジストパターンに対して各方向から均等にあたるように調整する。このような、洗浄処理を行うことによって、ガラス基板上に現像液が滞留せず均一に洗浄液で置換できることによって、現像反応を停止させるようにすることができる。 After repeating the above-mentioned developing method for a certain period of time, the transport unit transports the glass substrate 1 to the cleaning tank 12. Similarly, in the cleaning tank, the glass substrate 1 is stopped temporarily, and high-pressure air is applied to the back side of the glass substrate to lift the substrate, and while the cleaning liquid is sprayed on it, the spray pressure and spray amount of the air nozzle are adjusted to change the inclination of the glass substrate 1 to various angles so that the cleaning liquid hits the resist pattern evenly from all directions. By performing such a cleaning process, the developing liquid does not remain on the glass substrate and can be evenly replaced with the cleaning liquid, thereby stopping the development reaction.
次に実施形態２の現像装置について、図５を参照して説明する。
＜実施形態２＞
コロ搬送路の下部にローラー３２が配置されている。このローラー３２は、ガラス基板１の幅サイズをカバーする長尺型であり、ローラー３２ごとにローラーホルダ３３を備え、ローラー３２を軸支するシャフト３２Ｓを上下、即ちＺ軸方向に上下動作させる（図示しない）駆動部とを有し、ローラー３２をＺ軸方向に沿って上下動可能としている。
Next, a developing device according to a second embodiment will be described with reference to FIG.
<Embodiment 2>
Rollers 32 are disposed at the bottom of the roller transport path. These rollers 32 are long and long enough to cover the width of the glass substrate 1. Each roller 32 is provided with a roller holder 33 and a drive unit (not shown) that moves a shaft 32S that supports the roller 32 up and down, i.e., up and down in the Z-axis direction, so that the rollers 32 can be moved up and down along the Z-axis direction.
複数のローラー３２は、搬送方向に並列に軸支されていて、ローラー駆動部はローラーホルダ３３毎に上下動を可能にし、制御装置を備えており上下動距離を制御することができる。したがって、ローラーホルダ３３は、シャフト３２Ｓを傾斜できるように軸支されている。複数のローラー３２は、基板１を傾斜姿勢で下方から支持して、基板１を水平面に対して様々な角度に傾斜した状態に保持することができる。 The rollers 32 are supported in parallel in the transport direction, and the roller drive unit allows each roller holder 33 to move up and down, and is equipped with a control device that can control the distance of up and down movement. Therefore, the roller holder 33 is supported so that the shaft 32S can be tilted. The rollers 32 support the substrate 1 from below in an inclined position, and can hold the substrate 1 in a state inclined at various angles relative to the horizontal plane.
実施形態１と同様に、例えば、図５のように搬送方向に対し前後方向に傾斜する蛇行運動を加えたい場合は、搬送方向（Ｘ方向）に並列に配置された複数のローラー３２の一つずつを、それぞれ高さを変えられるような昇降機構に取り付けることで、ラインの片側を高くすることや、搬送方向にしたがって階段状に高さを変えることで、ガラス基板１を搬送方向に対し、前後に傾斜させることができる。 As in the first embodiment, for example, if it is desired to add a serpentine motion that tilts forward and backward with respect to the transport direction as shown in FIG. 5, each of the rollers 32 arranged in parallel in the transport direction (X direction) can be attached to a lifting mechanism that can change the height, thereby raising one side of the line or changing the height in a stepped manner according to the transport direction, thereby tilting the glass substrate 1 forward and backward with respect to the transport direction.
図５では、搬送方向に対し前後方向に傾斜する蛇行運動を加えているが、搬送方向に対し左右方向の傾斜なども同様にして加えることが可能である。コンピュータからなる制御装置は、基板１の傾斜角度からローラー間の高さを計算し、一定時間ランダムにガラス基板１の傾斜を変化させ続けるための制御を行い、現像液がレジストパターンに対して各方向から均等にあたるように調整することができる。 In Figure 5, a serpentine motion that tilts forward and backward relative to the transport direction is applied, but it is also possible to apply tilt to the left and right relative to the transport direction in the same way. The control device, which is a computer, calculates the height between the rollers from the tilt angle of the substrate 1, and performs control to continue to change the tilt of the glass substrate 1 randomly for a certain period of time, making it possible to adjust so that the developer hits the resist pattern evenly from each direction.
現像処理の流れは、実施形態１と同様で、現像槽１１内で基板１を状態で、基板１の下からローラー等をあてて基板を持ち上げる。基板１の上から現像液を浴びせた状態で、ローラー３２位置毎に基板１を持ち上げる高さを調整して、基板１の傾斜を様々な角度に変更して、一定時間現像液がレジストパターンに対して各方向から均等にあたるように調整する。 The flow of the development process is the same as in the first embodiment, and with the substrate 1 in the development tank 11, a roller or the like is applied from below the substrate 1 to lift it up. With the developer being sprayed from above the substrate 1, the height to which the substrate 1 is lifted is adjusted for each position of the roller 32, and the inclination of the substrate 1 is changed to various angles, so that the developer hits the resist pattern evenly from all directions for a certain period of time.
一定時間、上記の現像方法を繰り返した後、搬送ユニットはガラス基板１を洗浄槽１２へと搬送する。洗浄処理の流れは、実施形態１と同様である。 After repeating the above-mentioned developing method for a certain period of time, the transport unit transports the glass substrate 1 to the cleaning tank 12. The flow of the cleaning process is the same as in embodiment 1.
本発明によれば、基板内に形成されたカラーフィルタのレジストパターンに対して、各方向から満遍なく現像液があたるようにして、基板内の現像性を均一化することが可能になった。 According to the present invention, it is possible to achieve uniform developability within the substrate by allowing the developer to be applied evenly from all directions to the color filter resist pattern formed within the substrate.
１・・・ガラス基板
１０・・・現像装置
１１・・・現像槽
１２・・・洗浄槽
２１・・・コロ
２３・・・現像スプレー装置
２４・・・現像シャワーノズル
３１・・・エアーノズル
３２・・・ローラー
３２Ｓ・・・シャフト
３３・・・ローラーホルダ
1... Glass substrate 10... Developing device 11... Developing tank 12... Cleaning tank 21... Roller 23... Developing spray device 24... Developing shower nozzle 31... Air nozzle 32... Roller 32S... Shaft 33... Roller holder
Claims (3)
ガラス基板の裏面にエアーを吹き付けて、そのエアー圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置。 A developing apparatus which develops a glass substrate by discharging a developing solution onto the surface of the glass substrate and cleans the glass substrate by discharging a cleaning solution while transporting the glass substrate one by one,
A developing device having a means for blowing air onto the rear surface of a glass substrate and freely changing the inclination angle of the glass substrate by the air pressure.
ガラス基板の裏面にローラーを押し当てて、そのローラーの押し圧でガラス基板の傾斜角度を自在に変化させる手段を有する現像装置。 A developing apparatus which develops a glass substrate by discharging a developing solution onto the surface of the glass substrate and cleans the glass substrate by discharging a cleaning solution while transporting the glass substrate one by one,
A developing device having a means for pressing a roller against the rear surface of a glass substrate and freely changing the inclination angle of the glass substrate by the pressure of the roller.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022159503A JP2024053320A (en) | 2022-10-03 | 2022-10-03 | Developing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022159503A JP2024053320A (en) | 2022-10-03 | 2022-10-03 | Developing device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024053320A true JP2024053320A (en) | 2024-04-15 |
Family
ID=90667586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022159503A Pending JP2024053320A (en) | 2022-10-03 | 2022-10-03 | Developing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2024053320A (en) |
-
2022
- 2022-10-03 JP JP2022159503A patent/JP2024053320A/en active Pending
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