JP2024042215A - X-ray analyzer and x-ray analysis method - Google Patents

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Abstract

To provide an X-ray analyzer and an X-ray analysis method that make it possible to carry out massive inspections more efficiently in a short time.SOLUTION: An X-ray analyzer comprises: a sample stage 5 on which a sample S placed; an X-ray source 2 that irradiates an irradiation point P on the sample stage with a primary X-ray X1; an X-ray detector 3 that detects a secondary X-ray X2 radiated from the sample having been irradiated with the primary X-ray and outputs a signal that includes secondary X-ray energy information; and a stage movement mechanism 6 that moves the sample stage, the X-ray source, and the X-ray detector. The sample stage includes an inspection object region A1 where a sample is placed and a non-inspection object region A2 where no sample is placed. The stage movement mechanism always moves the irradiation point at primary X-ray irradiation time, and controls a movement speed of the irradiation point so that the movement of the irradiation point when the irradiation point is moved in the non-inspection object region is faster than the movement of the irradiation point when the irradiation point is moved in the inspection object region.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、小型電子部品等の試料中に含まれる金属元素の検出等が可能なＸ線分析装置及びＸ線分析方法に関するものである。 The present invention relates to an X-ray analysis device and an X-ray analysis method capable of detecting metal elements contained in samples such as small electronic components.

Ｘ線分析は試料を非破壊で分析することが可能であるという特性から、小型電子部品などの試料に一次Ｘ線（入射Ｘ線）を照射して、試料から放射される二次Ｘ線（蛍光Ｘ線等）を分析して、試料について元素の定量分析や、多層構造の膜厚等を分析する製品検査用途等に用いられている。
特に、製品検査用途の場合、短時間で多数の検査を行うことが求められることが多い。 Because X-ray analysis is capable of non-destructively analyzing a sample, it irradiates a sample such as a small electronic component with primary X-rays (incident X-rays), and then analyzes the secondary X-rays ( Fluorescent
In particular, in the case of product inspection applications, it is often required to perform a large number of inspections in a short period of time.

例えば、特許文献１では、試料に一次Ｘ線を照射可能なＸ線源と、試料から発生した二次Ｘ線を検出するＸ線検出部と、試料を搬送する試料搬送部と、Ｘ線検出部から出力された信号をエネルギー毎に弁別しエネルギー毎に入射回数を計数してＸ線強度としてスペクトルを得る分析器と、分析器で得られたスペクトルの特定の元素のエネルギーの二次Ｘ線強度と設定したＸ線強度の閾値とから試料搬送部で移動している試料が一次Ｘ線の照射位置を通過しているか否かを判断するＸ線分析装置が記載されている。 For example, Patent Document 1 discloses an An analyzer that separates the signals output from the unit by energy and counts the number of incidences for each energy to obtain a spectrum as X-ray intensity, and a secondary X-ray of the energy of a specific element in the spectrum obtained by the analyzer. An X-ray analysis device is described that determines whether a sample moving in a sample transport section has passed through a primary X-ray irradiation position based on the intensity and a set threshold of X-ray intensity.

このＸ線分析装置では、分析器で得られたスペクトルの特定の元素のエネルギーの二次Ｘ線強度と設定したＸ線強度の閾値とから試料搬送部で移動している試料が一次Ｘ線の照射位置を通過しているか否かを判断するので、一次Ｘ線照射領域に試料を配置するための位置調整機構や位置調整プロセスを廃し、小片の試料を静止させずに連続的に多数測定することが簡単な構成で可能なものである。 In this X-ray analyzer, the sample moving in the sample transport section is determined based on the secondary X-ray intensity of the energy of a specific element in the spectrum obtained by the analyzer and the set X-ray intensity threshold. Since it is determined whether the sample has passed the irradiation position or not, the position adjustment mechanism and position adjustment process for placing the sample in the primary X-ray irradiation area are eliminated, and many small pieces of the sample are continuously measured without being held still. This is possible with a simple configuration.

特開２０２２―１３４９７号公報JP 2022-13497 Publication

上記従来の技術には、以下の課題が残されている。
特許文献１の技術では、試料を連続的に送りながら検査する場合、試料が載置されている検査対象領域が一次Ｘ線の照射ポイントを通過する時間が、検査が必要なＸ線量を取得するのに必要な時間と同じか、それよりも長くかかるように、試料の送り速度を設定する必要がある。そのため、検査対象領域が照射ポイントを通過している時間と、検査対象でない部分（非検査対象領域）が照射ポイントを通過している時間との比率を考えた場合、特に、検査対象領域が照射ポイントを通過している時間の比率が小さい場合は、検査対象でない部分（非検査対象領域）が照射ポイントを通過している時間が律速となり、検査の効率を上げることができないという不都合があった。特に、大量の試料を連続的に検査する場合では、検査の効率が悪くなってしまう。 The above conventional techniques still have the following problems.
In the technology of Patent Document 1, when inspecting a sample while continuously feeding it, the time it takes for the inspection target area on which the sample is placed to pass through the primary X-ray irradiation point determines the X-ray dose required for the inspection. The sample feed rate should be set so that it takes the same amount of time as, or longer than, the time required for Therefore, when considering the ratio of the time during which the inspection target area passes through the irradiation point and the time during which the non-inspection target area (non-inspection target area) passes through the irradiation point, especially when the inspection target area passes through the irradiation point, If the ratio of the time passing through the irradiation point is small, the time it takes for the part not to be inspected (non-inspection target area) to pass through the irradiation point becomes rate-determining, and there is an inconvenience that inspection efficiency cannot be increased. . In particular, when a large number of samples are tested continuously, the testing efficiency deteriorates.

本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、大量の検査をより効率良く短時間に実施することが可能になるＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an X-ray analysis device and an X-ray analysis method that make it possible to perform a large number of tests more efficiently and in a short time.

本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、第１の発明に係るＸ線分析装置は、試料を載置する試料ステージと、前記試料ステージ上の照射ポイントに一次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記一次Ｘ線が照射された前記試料から放射される二次Ｘ線を検出し、前記二次Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器と、前記信号を分析する分析器と、前記試料ステージと前記Ｘ線源及び前記Ｘ線検出器とを相対的に移動させて前記照射ポイントを移動可能なステージ移動機構とを備え、前記試料ステージが、前記試料が載置されている検査対象領域と、前記試料が載置されていない非検査対象領域とを有し、前記ステージ移動機構が、前記一次Ｘ線の照射時に前記照射ポイントを常に移動させ、前記非検査対象領域上を前記照射ポイントが移動する際の前記照射ポイントの移動を、前記検査対象領域上を前記照射ポイントが移動する際の前記照射ポイントの移動よりも速くする前記照射ポイントの移動速度の制御を行うことを特徴とする。 The present invention employs the following configuration to solve the above problems. That is, the X-ray analyzer according to the first invention includes a sample stage on which a sample is placed, an X-ray source that irradiates a primary X-ray to an irradiation point on the sample stage, and a point on which the primary X-ray is irradiated. an X-ray detector that detects secondary X-rays emitted from the sample and outputs a signal including energy information of the secondary X-rays; an analyzer that analyzes the signals; the sample stage; and the X-rays. a stage moving mechanism capable of moving the irradiation point by relatively moving the X-ray source and the X-ray detector; and a non-inspection target area that is not placed, and the stage moving mechanism always moves the irradiation point during irradiation of the primary The method is characterized in that the moving speed of the irradiation point is controlled so that the irradiation point moves faster than the movement of the irradiation point when the irradiation point moves on the inspection target area.

このＸ線分析装置では、ステージ移動機構が、非検査対象領域上を照射ポイントが移動する際の照射ポイントの移動を、検査対象領域上を照射ポイントが移動する際の照射ポイントの移動よりも速くする照射ポイントの移動速度の制御を行うので、検査（分析）の必要が無い部分（非検査対象領域）を一次Ｘ線が通過するのに要する時間を減らすことができるため、一定速度で移動する場合に比べて、短時間で効率よく検査を実施することが可能になる。特に、互いに間隔を空けて載置された大量の試料を、一次Ｘ線の照射ポイントに対して連続的に通過させて検査（分析）する場合、試料の無い非検査対象領域で照射ポイントの移動速度を速く変調することで、非検査対象領域が多い程、検査時間の短縮効果を得ることができる。 In this X-ray analyzer, the stage movement mechanism moves the irradiation point faster when the irradiation point moves over the non-inspection area than when the irradiation point moves over the inspection area. Since the movement speed of the irradiation point is controlled, the time required for the primary This makes it possible to carry out inspections more efficiently and in a shorter time than would otherwise be the case. In particular, when inspecting (analyzing) a large number of samples placed at intervals by continuously passing through the primary X-ray irradiation point, the irradiation point moves in the non-inspection area where there are no samples. By modulating the speed faster, the more non-inspection target areas there are, the more the inspection time can be shortened.

第２の発明に係るＸ線分析装置は、第１の発明において、前記ステージ移動機構が、予め記憶された前記検査対象領域と前記非検査対象領域との座標位置に基づいて前記移動速度の制御を行うことを特徴とする。
すなわち、このＸ線分析装置では、ステージ移動機構が、予め記憶された検査対象領域と非検査対象領域との座標位置に基づいて移動速度の制御を行うので、予め決まった座標位置に試料が載置され、明確に検査対象領域と非検査対象領域とを区別して移動速度を変更することができる。 In the X-ray analysis apparatus according to a second invention, in the first invention, the stage moving mechanism controls the moving speed based on pre-stored coordinate positions of the inspection target area and the non-examination target area. It is characterized by doing the following.
In other words, in this X-ray analyzer, the stage movement mechanism controls the movement speed based on the pre-stored coordinate positions of the inspection target area and non-inspection target area, so that the sample is placed at the predetermined coordinate position. The moving speed can be changed by clearly distinguishing between the inspection target area and the non-inspection target area.

第３の発明に係るＸ線分析装置は、第１の発明において、前記試料ステージ上を撮像するカメラ部を備え、前記ステージ移動機構が、前記カメラ部で撮像した前記試料ステージ上の画像データにより求めた前記検査対象領域と前記非検査対象領域との位置に基づいて前記移動速度の制御を行うことを特徴とする。
すなわち、このＸ線分析装置では、ステージ移動機構が、カメラ部で撮像した試料ステージ上の画像データにより求めた検査対象領域と非検査対象領域との位置に基づいて移動速度の制御を行うので、たとえ試料ステージ上の任意の位置に試料を載置しても、画像データにより明確に検査対象領域と非検査対象領域とを区別して移動速度を変更することができる。 The X-ray analysis apparatus according to a third aspect of the present invention is the X-ray analysis apparatus according to the first aspect, which includes a camera unit that takes an image of the sample stage, and the stage moving mechanism uses image data on the sample stage that is imaged by the camera unit. The moving speed is controlled based on the determined positions of the inspection target area and the non-inspection target area.
That is, in this X-ray analysis device, the stage moving mechanism controls the moving speed based on the positions of the inspection target area and non-inspection target area determined from image data on the sample stage captured by the camera unit. Even if the sample is placed at an arbitrary position on the sample stage, the moving speed can be changed by clearly distinguishing between the inspection target area and the non-inspection target area based on the image data.

第４の発明に係るＸ線分析装置は、第３の発明において、前記試料ステージが、前記試料よりも広く設定されていると共に前記検査対象領域を含んで前記試料を載置可能な載置可能領域を有し、前記ステージ移動機構が、前記画像データにより、前記載置可能領域内においても前記試料が載置された前記検査対象領域と前記試料が載置されていない前記非検査対象領域との位置に基づいて前記移動速度の制御を行うことを特徴とする。
すなわち、このＸ線分析装置では、ステージ移動機構が、画像データにより、載置可能領域内においても試料が載置された検査対象領域と試料が載置されていない非検査対象領域との位置に基づいて移動速度の制御を行うので、画像データにより、載置可能領域内においても明確に検査対象領域と非検査対象領域とを区別して移動速度を変更することができ、より効率化することができる。 In the X-ray analysis apparatus according to a fourth invention, in the third invention, the sample stage is set wider than the sample and is capable of placing the sample including the inspection target area. The stage movement mechanism has a region, and the stage movement mechanism determines, based on the image data, the inspection target area where the sample is placed and the non-inspection target area where the sample is not placed, even within the placement possible area. The moving speed is controlled based on the position of.
That is, in this X-ray analyzer, the stage moving mechanism moves the position of the inspection target area where the sample is placed and the non-examination target area where the sample is not placed even within the placement possible area based on the image data. Since the moving speed is controlled based on the image data, the moving speed can be changed by clearly distinguishing between the inspection target area and the non-inspection target area even within the placement area, making it more efficient. can.

第５の発明に係るＸ線分析装置は、第１の発明において、前記試料ステージが、中心軸を中心に回転可能な円盤状であり、前記検査対象領域が、前記試料ステージの外周に沿って互いに間隔を開けて並んで複数設けられ、前記ステージ移動機構が、一回転する中で回転角に応じて前記試料ステージの回転速度を変えて前記移動速度の制御を行うことを特徴とする。
すなわち、このＸ線分析装置では、ステージ移動機構が、一回転する中で回転角に応じて試料ステージの回転速度を変えて移動速度の制御を行うので、円盤状の試料ステージでも容易に検査対象領域と非検査対象領域とを区別して移動速度を変更することができる。 In the X-ray analysis apparatus according to a fifth invention, in the first invention, the sample stage has a disc shape rotatable around a central axis, and the inspection target area is arranged along the outer periphery of the sample stage. A plurality of sample stages are provided side by side at intervals, and the stage moving mechanism controls the moving speed by changing the rotation speed of the sample stage according to the rotation angle during one rotation.
In other words, in this X-ray analyzer, the stage movement mechanism controls the movement speed by changing the rotation speed of the sample stage according to the rotation angle during one rotation, so even a disk-shaped sample stage can easily be inspected. The moving speed can be changed by distinguishing between the area and the non-inspection target area.

第６の発明に係るＸ線分析方法は、Ｘ線分析装置によるＸ線分析方法であって、前記Ｘ線分析装置が、試料を載置する試料ステージと、前記試料ステージ上の照射ポイントに一次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記一次Ｘ線が照射された前記試料から放射される二次Ｘ線を検出し、前記二次Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器と、前記信号を分析する分析器と、前記試料ステージと前記Ｘ線源及び前記Ｘ線検出器とを相対的に移動させて前記照射ポイントを移動可能なステージ移動機構とを備え、前記試料ステージが、前記試料が載置されている検査対象領域と、前記試料が載置されていない非検査対象領域とを有し、前記ステージ移動機構により、前記一次Ｘ線の照射時に前記照射ポイントを常に移動させ、前記非検査対象領域上を前記照射ポイントが移動する際の前記照射ポイントの移動を、前記検査対象領域上を前記照射ポイントが移動する際の前記照射ポイントの移動よりも速くする前記照射ポイントの移動速度の制御を行うことを特徴とする。 An X-ray analysis method according to a sixth invention is an X-ray analysis method using an X-ray analyzer, wherein the X-ray analyzer includes a sample stage on which a sample is placed and a primary irradiation point on the sample stage. an X-ray source that irradiates X-rays; and an X-ray detector that detects secondary X-rays emitted from the sample irradiated with the primary X-rays and outputs a signal containing energy information of the secondary X-rays. an analyzer that analyzes the signal; and a stage moving mechanism that can move the irradiation point by relatively moving the sample stage, the X-ray source, and the X-ray detector, and the sample stage has an inspection target area in which the sample is placed and a non-inspection target area in which the sample is not placed, and the stage movement mechanism constantly controls the irradiation point during irradiation with the primary X-rays. and moving the irradiation point faster when the irradiation point moves over the non-inspection target area than when the irradiation point moves over the inspection target area. It is characterized by controlling the moving speed of points.

本発明によれば、以下の効果を奏する。
すなわち、本発明に係るＸ線分析装置及びＸ線分析方法によれば、ステージ移動機構が、非検査対象領域上を照射ポイントが移動する際の照射ポイントの移動を、検査対象領域上を照射ポイントが移動する際の照射ポイントの移動よりも速くする照射ポイントの移動速度の制御を行うので、非検査対象領域を一次Ｘ線が通過するのに要する時間を減らすことができるため、一定速度で移動する場合に比べて、短時間で効率よく検査を実施することが可能になる。
したがって、本発明のＸ線分析装置及びＸ線分析方法では、大量の試料でも、より効率良く検査を短時間に実施することが可能になる。 According to the present invention, the following effects are achieved.
That is, according to the X-ray analysis apparatus and the X-ray analysis method according to the present invention, the stage moving mechanism changes the movement of the irradiation point when the irradiation point moves on the non-inspection area to the irradiation point on the inspection area. Since the movement speed of the irradiation point is controlled to be faster than the movement of the irradiation point when the This makes it possible to carry out inspections more efficiently and in a shorter time than would otherwise be possible.
Therefore, with the X-ray analysis apparatus and the X-ray analysis method of the present invention, even a large number of samples can be inspected more efficiently and in a short time.

本発明に係る第１実施形態のＸ線分析装置及びＸ線分析方法において、システム全体を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing the entire system in an X-ray analysis apparatus and an X-ray analysis method according to a first embodiment of the present invention. 第１実施形態において、試料ステージ上の検査対象領域及び非検査対象領域に対する移動速度及びＸ線強度を示すグラフである。It is a graph showing the moving speed and X-ray intensity for the inspection target area and non-inspection target area on the sample stage in the first embodiment. 本発明に係る第２実施形態のＸ線分析装置及びＸ線分析方法において、システム全体を示す構成図である。FIG. 11 is a configuration diagram showing an entire system in an X-ray analysis apparatus and an X-ray analysis method according to a second embodiment of the present invention. 第２実施形態において、試料ステージ上の検査対象領域，非検査対象領域及び載置可能領域を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an inspection target area, a non-inspection target area, and a placement possible area on a sample stage in a second embodiment. 本発明に係る第２実施形態のＸ線分析装置及びＸ線分析方法において、試料ステージ，Ｘ線源及びＸ線検出器を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a sample stage, an X-ray source, and an X-ray detector in an X-ray analysis apparatus and X-ray analysis method according to a second embodiment of the present invention.

以下、本発明に係るＸ線分析装置及びＸ線分析方法の第１実施形態を、図１及び図２を参照しながら説明する。 Hereinafter, a first embodiment of an X-ray analysis apparatus and an X-ray analysis method according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

第１実施形態のＸ線分析装置１は、図１に示すように、試料Ｓを載置する試料ステージ５と、試料ステージ５上の照射ポイントＰに一次Ｘ線Ｘ１（入射Ｘ線）を照射するＸ線源２と、一次Ｘ線Ｘ１が照射された試料Ｓから放射される二次Ｘ線Ｘ２（蛍光Ｘ線や散乱Ｘ線等）を検出し、二次Ｘ線Ｘ２のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器３と、信号を分析する分析器４と、試料ステージ５とＸ線源２及びＸ線検出器３とを相対的に移動させて照射ポイントＰを移動可能なステージ移動機構６とを備えている。 As shown in FIG. 1, the X-ray analyzer 1 of the first embodiment irradiates a sample stage 5 on which a sample S is placed and an irradiation point P on the sample stage 5 with primary X-rays X1 (incident X-rays). Detects the secondary X-rays X2 (fluorescent X-rays, scattered X-rays, etc.) emitted from the X-ray source 2 and the sample S irradiated with the primary X-rays X1, and includes energy information of the secondary X-rays X2. An X-ray detector 3 that outputs a signal, an analyzer 4 that analyzes the signal, and a stage that can move the irradiation point P by relatively moving the sample stage 5, the X-ray source 2, and the X-ray detector 3. A moving mechanism 6 is provided.

上記試料ステージ５は、図１及び図２に示すように、試料Ｓが載置されている検査対象領域Ａ１と、試料Ｓが載置されていない非検査対象領域Ａ２とを有している。
上記ステージ移動機構６は、一次Ｘ線Ｘ１の照射時に照射ポイントＰを常に移動させ、非検査対象領域Ａ２上を照射ポイントＰが移動する際の照射ポイントＰの移動を、検査対象領域Ａ１上を照射ポイントＰが移動する際の照射ポイントＰの移動よりも速くする照射ポイントＰの移動速度の制御を行う。 As shown in FIGS. 1 and 2, the sample stage 5 has an inspection target area A1 where the sample S is placed and a non-inspection area A2 where the sample S is not placed.
The stage moving mechanism 6 constantly moves the irradiation point P during irradiation of the primary X-ray The moving speed of the irradiation point P is controlled to be faster than the movement of the irradiation point P when the irradiation point P moves.

このステージ移動機構６は、予め記憶された検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２との座標位置に基づいて前記移動速度の制御を行う。
また、本実施形態のＸ線分析装置１は、試料Ｓに照射する一次Ｘ線Ｘ１の照射径を成形する一次Ｘ線調整部７と、Ｘ線分析器４に接続されたデータ処理部８とを備えている。 The stage moving mechanism 6 controls the moving speed based on pre-stored coordinate positions of the inspection target area A1 and the non-inspection target area A2.
Furthermore, the X-ray analysis apparatus 1 of this embodiment includes a primary X-ray adjustment section 7 that shapes the irradiation diameter of the primary X-ray X1 irradiated to the sample S, and a data processing section 8 connected to the X-ray analyzer 4. It is equipped with

上記Ｘ線源２は、試料ステージ５より上方に位置し、試料ステージ５上の任意の照射ポイントＰ１に一次Ｘ線Ｘ１を照射するＸ線管球である。Ｘ線源２は、例えば管球内のフィラメント（陰極）から発生した熱電子がフィラメント（陰極）とターゲット（陽極）との間に印加された電圧により加速され、ターゲット（Ｗ（タングステン）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｒｈ（ロジウム）など）に衝突して発生したＸ線を一次Ｘ線Ｘ１としてベリリウム箔などの窓から出射するものである。 The X-ray source 2 is an X-ray tube located above the sample stage 5 and irradiates an arbitrary irradiation point P1 on the sample stage 5 with primary X-rays X1. In the X-ray source 2, for example, thermoelectrons generated from a filament (cathode) in a tube are accelerated by a voltage applied between the filament (cathode) and a target (anode), and the target (W (tungsten), Mo (molybdenum), Rh (rhodium), etc.) are emitted from a window made of beryllium foil or the like as primary X-rays X1.

上記Ｘ線検出器３は、試料ステージ５より上方に位置しつつＸ線源２と離間している。このＸ線検出器３は、試料Ｓから放射される二次Ｘ線Ｘ２を検出し、この二次Ｘ線Ｘ２のエネルギー情報を含む信号を出力する。Ｘ線検出器３は、例えば半導体検出器又は比例計数管などのエネルギー分散型Ｘ線検出器である。なお、Ｘ線検出器３として、波長分散型Ｘ線検出器を用いてもよい。
上記分析器４は、Ｘ線検出器３に接続されて出力された信号を分析する。分析器４は例えば、上記信号から電圧パルスの波高を得てエネルギースペクトルを生成する波高分析器（マルチチャンネルアナライザー）である。 The X-ray detector 3 is located above the sample stage 5 and separated from the X-ray source 2. This X-ray detector 3 detects secondary X-rays X2 emitted from the sample S, and outputs a signal containing energy information of the secondary X-rays X2. The X-ray detector 3 is, for example, an energy dispersive X-ray detector such as a semiconductor detector or a proportional counter. Note that a wavelength dispersive X-ray detector may be used as the X-ray detector 3.
The analyzer 4 is connected to the X-ray detector 3 and analyzes the output signal. The analyzer 4 is, for example, a pulse height analyzer (multichannel analyzer) that obtains the voltage pulse height from the signal and generates an energy spectrum.

上記試料ステージ５は、数値制御可能な１軸又はそれ以上の多軸のリニアステージに載置されたパレットであって、ステージ移動機構６により、一定の搬送方向に連続的に移動可能となっている。
なお、試料ステージ５の表面材料は、試料Ｓから発生する二次Ｘ線Ｘ２のエネルギーに対して、試料ステージ５の表面から発生する二次Ｘ線Ｘ２のエネルギーと干渉しないものが選ばれる。例えば、試料Ｓが銅（Ｃｕ）やニッケル（Ｎｉ）で構成されている場合、試料ステージ５の表面の材料は、アルミニウム（Ａｌ）を用いる。なお、試料ステージ５に載置した試料Ｓの移動の軌跡は、一次Ｘ線Ｘ１が照射される照射ポイントＰを通過するように配置される。 The sample stage 5 is a pallet placed on a numerically controllable linear stage with one or more axes, and can be continuously moved in a fixed transport direction by a stage movement mechanism 6. There is.
Note that the surface material of the sample stage 5 is selected so that the energy of the secondary X-rays X2 generated from the sample S does not interfere with the energy of the secondary X-rays X2 generated from the surface of the sample stage 5. For example, when the sample S is made of copper (Cu) or nickel (Ni), the surface material of the sample stage 5 is aluminum (Al). Note that the trajectory of movement of the sample S placed on the sample stage 5 is arranged so as to pass through an irradiation point P where the primary X-rays X1 are irradiated.

また、試料ステージ５は、試料Ｓよりも広く設定されていると共に検査対象領域Ａ１を含んで試料Ｓを載置可能な載置可能領域Ａ３を有している。
上記載置可能領域Ａ３は、試料ステージ５（パレット）の表面に形成した試料用穴である。この試料用穴である載置可能領域Ａ３内に、試料Ｓが載置される。
なお、本実施形態では、ステージ移動機構６が、検査対象領域Ａ１として載置可能領域Ａ３の座標位置が予め記憶されており、前記移動速度の制御を行うように設定されている。 Further, the sample stage 5 has a placement area A3 that is set wider than the sample S and includes the inspection target area A1 and is capable of placing the sample S thereon.
The placement possible area A3 is a sample hole formed on the surface of the sample stage 5 (pallet). The sample S is placed in the placement possible area A3, which is this sample hole.
In this embodiment, the stage moving mechanism 6 is set to have the coordinate position of the placement area A3 stored as the inspection target area A1 in advance, and to control the moving speed.

本実施形態のＸ線分析方法では、上述したように、ステージ移動機構６により、図２に示すように、非検査対象領域Ａ２上を照射ポイントＰが移動する際の照射ポイントＰの移動を、検査対象領域Ａ１上を照射ポイントＰが移動する際の照射ポイントＰの移動よりも速くする照射ポイントＰの移動速度の制御を行う。 In the X-ray analysis method of this embodiment, as described above, the stage movement mechanism 6 controls the movement of the irradiation point P when it moves on the non-inspection area A2, as shown in FIG. The moving speed of the irradiation point P is controlled to be faster than the movement of the irradiation point P when the irradiation point P moves on the inspection target area A1.

すなわち、例えば小片状の試料Ｓを試料ステージ５（パレット）の載置可能領域Ａ３（試料用穴）に置き、一次Ｘ線Ｘ１の照射ポイントＰを通過するように、ステージ移動機構６により試料ステージ５（パレット）を一定の搬送方向に移動させる。
このとき、Ｘ線源２は、試料ステージ５に対して垂直に一次Ｘ線Ｘ１を照射し、その一次Ｘ線Ｘ１の照射径は、載置可能領域Ａ３（試料用穴）と同程度か、小さい再度とし、隣り合った載置可能領域Ａ３に同時に照射されることが無いように設定される。 That is, for example, a small piece of sample S is placed in the mounting area A3 (sample hole) of the sample stage 5 (pallet), and the sample is moved by the stage moving mechanism 6 so that it passes through the irradiation point P of the primary X-rays X1. The stage 5 (pallet) is moved in a fixed transport direction.
At this time, the X-ray source 2 irradiates the primary X-rays X1 perpendicularly to the sample stage 5, and the irradiation diameter of the primary X-rays X1 is approximately the same as the mounting area A3 (sample hole). The light is set to be small so that adjacent placement areas A3 are not irradiated at the same time.

上記載置可能領域Ａ３（試料用穴）の座標値は、検査対象領域Ａ１の座標値として事前にステージ移動機構６に記憶されており、試料ステージ５の移動範囲を、載置可能領域Ａ３（検査対象領域Ａ１）と、それ以外（非検査対象領域Ａ２）とに分割し、それぞれの区間で異なる移動速度に設定される。
載置可能領域Ａ３（検査対象領域Ａ１）の移動速度は、試料Ｓの搬送方向（移動方向）の長さＬと、Ｘ線分析に必要な照射時間Ｔとから、Ｌ／Ｔを越えないように設定される。また、非検査対象領域Ａ２の移動速度は、試料ステージ５の制御の精度を保てる範囲で最高のスピードが選択される。 The coordinate values of the above placement possible area A3 (sample hole) are stored in advance in the stage moving mechanism 6 as the coordinate values of the inspection target area A1, and the movement range of the sample stage 5 is defined as the placement possible area A3 ( The area is divided into an inspection target area A1) and the other area (non-inspection target area A2), and different moving speeds are set for each section.
The moving speed of the placement area A3 (inspection target area A1) should not exceed L/T based on the length L of the sample S in the transport direction (moving direction) and the irradiation time T required for X-ray analysis. is set to Further, the moving speed of the non-inspection target area A2 is selected to be the highest speed within a range where the accuracy of control of the sample stage 5 can be maintained.

このように本実施形態のＸ線分析装置１では、ステージ移動機構６が、非検査対象領域Ａ２上を照射ポイントＰが移動する際の照射ポイントＰの移動を、検査対象領域Ａ１上を照射ポイントＰが移動する際の照射ポイントＰの移動よりも速くする照射ポイントＰの移動速度の制御を行うので、検査（分析）の必要が無い部分（非検査対象領域Ａ２）を一次Ｘ線Ｘ１が通過するのに要する時間を減らすことができるため、一定速度で移動する場合に比べて、短時間で効率よく検査を実施することが可能になる。 In this way, in the X-ray analysis apparatus 1 of this embodiment, the stage moving mechanism 6 controls the movement of the irradiation point P when the irradiation point P moves on the non-inspection area A2, and the movement of the irradiation point P on the non-inspection area A1. Since the movement speed of the irradiation point P is controlled to be faster than the movement of the irradiation point P when P moves, the primary X-ray X1 passes through a part (non-inspection target area A2) that does not require inspection (analysis). Since the time required for the inspection can be reduced, the inspection can be carried out more efficiently in a shorter time than when moving at a constant speed.

特に、互いに間隔を空けて載置された大量の試料Ｓを、一次Ｘ線Ｘ１の照射ポイントＰに対して連続的に通過させて検査（分析）する場合、試料Ｓの無い非検査対象領域Ａ２で照射ポイントＰの移動速度を速く変調することで、非検査対象領域Ａ２が多い程、検査時間の短縮効果を得ることができる。
また、ステージ移動機構６が、予め記憶された検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２との座標位置に基づいて移動速度の制御を行うので、予め決まった座標位置に試料Ｓが載置され、明確に検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２とを区別して移動速度を変更することができる。 In particular, when a large number of samples S placed at intervals are inspected (analyzed) by continuously passing through the irradiation point P of the primary X-ray X1, the non-inspection target area A2 where there is no sample S By rapidly modulating the moving speed of the irradiation point P, the more non-inspection target areas A2, the more the inspection time can be shortened.
In addition, since the stage moving mechanism 6 controls the moving speed based on the pre-stored coordinate positions of the inspection target area A1 and the non-inspection target area A2, the sample S is placed at the predetermined coordinate position. The moving speed can be changed by clearly distinguishing between the inspection target area A1 and the non-inspection target area A2.

次に、本発明に係るＸ線分析装置及びＸ線分析方法の第２及び第３実施形態について、図３から図５を参照して以下に説明する。なお、以下の各実施形態の説明において、上記実施形態において説明した同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明は省略する。 Next, second and third embodiments of the X-ray analysis apparatus and X-ray analysis method according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 3 to 5. In addition, in the following description of each embodiment, the same reference numerals are attached to the same components described in the above embodiment, and the description thereof will be omitted.

第２実施形態と第１実施形態との異なる点は、第１実施形態では、ステージ移動機構６が、予め記憶された検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２との座標位置に基づいて前記移動速度の制御を行っているのに対し、第２実施形態のＸ線分析装置２１及びＸ線分析方法では、図３及び図４に示すように、ステージ移動機構６が、カメラ部２９で撮像した試料ステージ５上の画像データにより求めた検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２との位置に基づいて前記移動速度の制御を行う点である。 The difference between the second embodiment and the first embodiment is that in the first embodiment, the stage moving mechanism 6 moves the While the speed is controlled, in the X-ray analysis device 21 and X-ray analysis method of the second embodiment, as shown in FIGS. 3 and 4, the stage moving mechanism 6 The point is that the moving speed is controlled based on the positions of the inspection target area A1 and the non-inspection target area A2 determined from image data on the sample stage 5.

すなわち、第２実施形態のＸ線分析装置２１は、試料ステージ５上を撮像するカメラ部２９を備えている。
上記カメラ部２９は、光学顕微鏡やＣＣＤカメラ等を有しており、試料ステージ１より上方に位置つつＸ線源２と離間している。
カメラ部２９は、撮像した画像データをステージ移動機構６に送信し、ステージ移動機構６は、画像データに基づいて画像認識により試料Ｓの位置を認識する。 That is, the X-ray analysis apparatus 21 of the second embodiment includes a camera unit 29 that images the top of the sample stage 5.
The camera section 29 includes an optical microscope, a CCD camera, etc., and is located above the sample stage 1 and separated from the X-ray source 2.
The camera unit 29 transmits the captured image data to the stage moving mechanism 6, and the stage moving mechanism 6 recognizes the position of the sample S by image recognition based on the image data.

また、第２実施形態では、ステージ移動機構６が、図４に示すように、画像データにより、載置可能領域Ａ３内においても試料Ｓが載置された検査対象領域Ａ１と試料Ｓが載置されていない非検査対象領域Ａ２との位置に基づいて前記移動速度の制御を行う点でも第１実施形態と異なっている。 In the second embodiment, as shown in FIG. This embodiment is also different from the first embodiment in that the moving speed is controlled based on the position of the non-inspection target area A2, which is not inspected.

すなわち、第１実施形態では、載置可能領域Ａ３（試料用穴）が検査対象領域Ａ１と同じと仮定して移動速度の制御を行っているが、実際には、載置可能領域Ａ３（試料用穴）よりも試料Ｓが小さいため、検査対象領域Ａ１は載置可能領域Ａ３よりも小さい領域となる。このため、第２実施形態では、載置可能領域Ａ３（試料用穴）内においても、より詳細に試料Ｓが載置された検査対象領域Ａ１と試料Ｓが載置されていない非検査対象領域Ａ２とを画像データから区別して移動速度の制御を行っている。 That is, in the first embodiment, the movement speed is controlled assuming that the placement area A3 (sample hole) is the same as the inspection target area A1, but in reality, the placement area A3 (sample hole) is Since the sample S is smaller than the test hole), the inspection target area A1 is smaller than the placement area A3. Therefore, in the second embodiment, even within the placement possible area A3 (sample hole), the inspection target area A1 where the sample S is placed and the non-inspection target area where the sample S is not placed are shown in more detail. The moving speed is controlled by distinguishing A2 from the image data.

このように第２実施形態のＸ線分析装置２１では、ステージ移動機構６が、カメラ部２９で撮像した試料ステージ５上の画像データにより求めた検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２との位置に基づいて移動速度の制御を行うので、たとえ試料ステージ５上の任意の位置に試料Ｓを載置しても、画像データにより明確に検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２とを区別して移動速度を変更することができる。 In this way, in the X-ray analysis device 21 of the second embodiment, the stage moving mechanism 6 moves the positions of the inspection target area A1 and the non-inspection target area A2 determined from the image data on the sample stage 5 captured by the camera unit 29. Since the movement speed is controlled based on Speed can be changed.

また、ステージ移動機構６が、画像データにより、載置可能領域Ａ３内においても試料Ｓが載置された検査対象領域Ａ１と試料Ｓが載置されていない非検査対象領域Ａ２との位置に基づいて移動速度の制御を行うので、画像データにより、載置可能領域Ａ３内においても明確に検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２とを区別して移動速度を変更することができ、より効率化することができる。 The stage moving mechanism 6 also uses the image data to determine the position of the inspection target area A1 where the sample S is placed and the non-inspection target area A2 where the sample S is not placed within the placement possible area A3. Since the moving speed is controlled by the image data, the moving speed can be changed by clearly distinguishing between the inspection target area A1 and the non-inspection target area A2 even within the placement possible area A3, making it more efficient. be able to.

次に、第３実施形態と第１実施形態との異なる点は、第１実施形態では、試料ステージ５が、ステージ移動機構６により、直線方向に連続的に移動可能となっているのに対し、第３実施形態のＸ線分析装置３１及びＸ線分析方法では、図５に示すように、試料ステージ３５が、中心軸を中心に回転可能な円盤状であり、検査対象領域Ａ１が、試料ステージ３５の外周に沿って互いに間隔を開けて並んで複数設けられ、ステージ移動機構３６が、一回転する中で回転角に応じて試料ステージ３５の回転速度を変えて前記移動速度の制御を行う点である。 Next, the difference between the third embodiment and the first embodiment is that in the first embodiment, the sample stage 5 is movable continuously in the linear direction by the stage moving mechanism 6. In the X-ray analysis apparatus 31 and the X-ray analysis method of the third embodiment, as shown in FIG. A plurality of stage moving mechanisms 36 are arranged along the outer periphery of the stage 35 at intervals from each other, and control the moving speed by changing the rotational speed of the sample stage 35 according to the rotation angle during one rotation. It is a point.

第３実施形態の試料ステージ３５は、ベース板３５ａの中央に回転可能に載置された円盤状のターンテーブルである。
この試料ステージ３５では、外周に沿って試料用穴である載置可能領域Ａ３が互いに間隔を空けて複数形成されている。
また、ステージ移動機構３６は、載置可能領域Ａ３の位置（一回転する中で載置可能領域Ａ３の位置に応じた回転角）に対応して円盤状の試料ステージ３５を、回転速度を変えて回転駆動する。 The sample stage 35 of the third embodiment is a disc-shaped turntable rotatably placed at the center of a base plate 35a.
In this sample stage 35, a plurality of mounting areas A3, which are sample holes, are formed at intervals along the outer periphery.
In addition, the stage moving mechanism 36 changes the rotation speed of the disk-shaped sample stage 35 in accordance with the position of the mountable area A3 (rotation angle according to the position of the mountable area A3 during one rotation). Rotate and drive.

第３実施形態では、以下のようにＸ線分析が行われる。
まず、試料Ｓは、ベース板３５ａの一方側に設けられた導入路３５ｂから試料ステージ３５に搬送され、円盤状の試料ステージ３５の載置可能領域Ａ３内に導入される。
次に、ステージ移動機構３６により試料ステージ３５が回転されて試料Ｓが次々と載置可能領域Ａ３内に導入される。
そして、照射ポイントＰまで試料Ｓが移動し通過する際に、Ｘ線源２から一次Ｘ線Ｘ１が試料Ｓに照射されることで、Ｘ線分析が行われる。 In the third embodiment, X-ray analysis is performed as follows.
First, the sample S is transported to the sample stage 35 from the introduction path 35b provided on one side of the base plate 35a, and introduced into the mounting area A3 of the disk-shaped sample stage 35.
Next, the sample stage 35 is rotated by the stage moving mechanism 36, and the samples S are successively introduced into the placement area A3.
Then, when the sample S moves to and passes the irradiation point P, the sample S is irradiated with the primary X-rays X1 from the X-ray source 2, thereby performing an X-ray analysis.

Ｘ線分析後、さらにステージ移動機構３６により試料ステージ３５が回転されて試料Ｓがベース板３５ａの他方側に設けられた排出路３５ｃにまで移動したとき、排出路３５ｃから外部へと搬送される。
上記ステージ移動機構３６は、試料ステージ５を回転させる際に、載置可能領域Ａ３が回転運動の特定の位相に存在することになり（本実施形態では、特定の回転角度毎に存在）、回転運動の位相により速度を制御している。
なお、回転運動の位相による回転速度の変調は、ステージ移動機構３６にロータリーエンコーダ等を設けて電子的に行ってもよいし、カム機構等を設けて機械的に行ってもよい。 After the X-ray analysis, when the sample stage 35 is further rotated by the stage moving mechanism 36 and the sample S is moved to the discharge path 35c provided on the other side of the base plate 35a, it is transported to the outside from the discharge path 35c. .
When rotating the sample stage 5, the stage moving mechanism 36 allows the placement area A3 to exist at a specific phase of the rotational movement (in this embodiment, it exists for each specific rotational angle). Speed is controlled by the phase of motion.
The rotational speed may be modulated by the phase of the rotational motion electronically by providing a rotary encoder or the like in the stage moving mechanism 36, or may be performed mechanically by providing a cam mechanism or the like.

このように第３実施形態のＸ線分析装置では、ステージ移動機構３６が、一回転する中で回転角に応じて試料ステージ３５の回転速度を変えて移動速度の制御を行うので、円盤状の試料ステージ３５でも容易に検査対象領域Ａ１と非検査対象領域Ａ２とを区別して移動速度を変更することができる。 In this manner, in the X-ray analysis apparatus of the third embodiment, the stage moving mechanism 36 controls the moving speed by changing the rotational speed of the sample stage 35 according to the rotational angle during one rotation. The sample stage 35 can also easily distinguish between the inspection target area A1 and the non-inspection target area A2 and change the moving speed.

なお、本発明の技術範囲は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記各実施形態は、例えばエネルギー分散型の蛍光Ｘ線分析装置であるが、本発明を、他の分析方式、例えば波長分散型の蛍光Ｘ線分析装置や、全反射蛍光Ｘ線分析装置に用いることもできる。 Note that the technical scope of the present invention is not limited to the above embodiments, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, each of the above embodiments is an energy-dispersive X-ray fluorescence analyzer, but the present invention may be applied to other analysis methods, such as a wavelength-dispersive X-ray fluorescence analyzer or a total internal reflection X-ray fluorescence analyzer. It can also be used for.

１，２１…Ｘ線分析装置、２…Ｘ線源、３…Ｘ線検出器、４…分析器、５，３５…試料ステージ、６，３６…ステージ移動機構、２９…カメラ部、Ａ１…検査対象領域、Ａ２…非検査対象領域、Ａ３…載置可能領域、Ｓ…試料、Ｐ…照射ポイント、Ｘ１…一次Ｘ線、Ｘ２…二次Ｘ線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 21... X-ray analyzer, 2... X-ray source, 3... X-ray detector, 4... Analyzer, 5, 35... Sample stage, 6, 36... Stage movement mechanism, 29... Camera section, A1... Inspection Target area, A2...non-inspection target area, A3...placeable area, S...sample, P...irradiation point, X1...primary X-ray, X2...secondary X-ray

Claims (6)

試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージ上の照射ポイントに一次Ｘ線を照射するＸ線源と、
前記一次Ｘ線が照射された前記試料から放射される二次Ｘ線を検出し、前記二次Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器と、
前記信号を分析する分析器と、
前記試料ステージと前記Ｘ線源及び前記Ｘ線検出器とを相対的に移動させて前記照射ポイントを移動可能なステージ移動機構とを備え、
前記試料ステージが、前記試料が載置されている検査対象領域と、前記試料が載置されていない非検査対象領域とを有し、
前記ステージ移動機構が、前記一次Ｘ線の照射時に前記照射ポイントを常に移動させ、前記非検査対象領域上を前記照射ポイントが移動する際の前記照射ポイントの移動を、前記検査対象領域上を前記照射ポイントが移動する際の前記照射ポイントの移動よりも速くする前記照射ポイントの移動速度の制御を行うことを特徴とするＸ線分析装置。 a sample stage on which the sample is placed;
an X-ray source that irradiates primary X-rays to an irradiation point on the sample stage;
an X-ray detector that detects secondary X-rays emitted from the sample irradiated with the primary X-rays and outputs a signal containing energy information of the secondary X-rays;
an analyzer for analyzing the signal;
a stage moving mechanism capable of moving the irradiation point by relatively moving the sample stage, the X-ray source, and the X-ray detector;
The sample stage has an inspection target area where the sample is placed and a non-inspection area where the sample is not placed,
The stage moving mechanism constantly moves the irradiation point during irradiation with the primary X-rays, and changes the movement of the irradiation point when the irradiation point moves on the non-inspection area to the An X-ray analysis apparatus characterized in that the movement speed of the irradiation point is controlled to be faster than the movement of the irradiation point when the irradiation point moves. 請求項１に記載のＸ線分析装置において、
前記ステージ移動機構が、予め記憶された前記検査対象領域と前記非検査対象領域との座標位置に基づいて前記移動速度の制御を行うことを特徴とするＸ線分析装置。 2. The X-ray analysis apparatus according to claim 1,
2. An X-ray analysis apparatus comprising: a stage moving mechanism for controlling a moving speed based on coordinate positions of the inspection target region and the non-inspection target region that are stored in advance; 請求項１に記載のＸ線分析装置において、
前記試料ステージ上を撮像するカメラ部を備え、
前記ステージ移動機構が、前記カメラ部で撮像した前記試料ステージ上の画像データにより求めた前記検査対象領域と前記非検査対象領域との位置に基づいて前記移動速度の制御を行うことを特徴とするＸ線分析装置。 The X-ray analyzer according to claim 1,
comprising a camera unit that captures an image on the sample stage;
The stage moving mechanism controls the moving speed based on the positions of the inspection target area and the non-inspection target area obtained from image data on the sample stage captured by the camera unit. X-ray analyzer. 請求項３に記載のＸ線分析装置において、
前記試料ステージが、前記試料よりも広く設定されていると共に前記検査対象領域を含んで前記試料を載置可能な載置可能領域を有し、
前記ステージ移動機構が、前記画像データにより、前記載置可能領域内においても前記試料が載置された前記検査対象領域と前記試料が載置されていない前記非検査対象領域との位置に基づいて前記移動速度の制御を行うことを特徴とするＸ線分析装置。 The X-ray analysis device according to claim 3,
The sample stage is set wider than the sample and has a mountable area on which the sample can be placed, including the inspection target area,
Based on the image data, the stage moving mechanism determines the position of the inspection target area where the sample is placed and the non-inspection target area where the sample is not placed even within the placement possible area. An X-ray analysis device characterized in that the movement speed is controlled. 請求項１に記載のＸ線分析装置において、
前記試料ステージが、中心軸を中心に回転可能な円盤状であり、
前記検査対象領域が、前記試料ステージの外周に沿って互いに間隔を開けて並んで複数設けられ、
前記ステージ移動機構が、一回転する中で回転角に応じて前記試料ステージの回転速度を変えて前記移動速度の制御を行うことを特徴とするＸ線分析装置。 The X-ray analyzer according to claim 1,
The sample stage has a disc shape that can rotate around a central axis,
A plurality of the inspection target regions are provided along the outer periphery of the sample stage and arranged at intervals,
An X-ray analysis apparatus characterized in that the stage movement mechanism controls the movement speed by changing the rotation speed of the sample stage according to the rotation angle during one rotation. Ｘ線分析装置によるＸ線分析方法であって、
前記Ｘ線分析装置が、試料を載置する試料ステージと、前記試料ステージ上の照射ポイントに一次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記一次Ｘ線が照射された前記試料から放射される二次Ｘ線を検出し、前記二次Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器と、前記信号を分析する分析器と、前記試料ステージと前記Ｘ線源及び前記Ｘ線検出器とを相対的に移動させて前記照射ポイントを移動可能なステージ移動機構とを備え、
前記試料ステージが、前記試料が載置されている検査対象領域と、前記試料が載置されていない非検査対象領域とを有し、
前記ステージ移動機構により、前記一次Ｘ線の照射時に前記照射ポイントを常に移動させ、前記非検査対象領域上を前記照射ポイントが移動する際の前記照射ポイントの移動を、前記検査対象領域上を前記照射ポイントが移動する際の前記照射ポイントの移動よりも速くする前記照射ポイントの移動速度の制御を行うことを特徴とするＸ線分析方法。 An X-ray analysis method using an X-ray analyzer,
The X-ray analyzer includes a sample stage on which a sample is placed, an X-ray source that irradiates a primary X-ray to an irradiation point on the sample stage, and a secondary X-ray that is emitted from the sample irradiated with the primary X-ray. an X-ray detector that detects secondary X-rays and outputs a signal containing energy information of the secondary X-rays, an analyzer that analyzes the signals, the sample stage, the X-ray source, and the X-ray detector. and a stage moving mechanism capable of moving the irradiation point by relatively moving the
The sample stage has an inspection target area where the sample is placed and a non-inspection area where the sample is not placed,
The stage moving mechanism constantly moves the irradiation point during irradiation with the primary X-rays, and changes the movement of the irradiation point when the irradiation point moves over the non-inspection area to the An X-ray analysis method characterized by controlling the movement speed of the irradiation point to be faster than the movement of the irradiation point when the irradiation point moves.
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