JP2024036077A - 走査光学装置 - Google Patents

Abstract

【課題】走査光学装置のモータ基板に信号を供給するハーネスの配線長を小さくすることを目的とする。【解決手段】走査光学装置１は、半導体レーザ１０と、カップリングレンズ２０と、ポリゴンミラー５１と、モータ基板５３と、ハーネスＨと、走査光学系を備える。半導体レーザ１０は、光を出射する。カップリングレンズ２０は、半導体レーザ１０からの光をビームに変換する。ポリゴンミラー５１は、カップリングレンズ２０からのビームを偏向する。モータ基板５３は、ポリゴンミラー５１を回転させるポリゴンモータを有する。ハーネスＨは、モータ基板５３に信号を供給する。走査光学系は、ポリゴンミラー５１からの光を像面に結像する。ハーネスＨは、ポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に沿った軸線方向から見て、カップリングレンズ２０からポリゴンミラー５１に向かうビームＢＫ，ＢＣと重なる。【選択図】図６

Description

本発明は、ポリゴンミラーを備える走査光学装置に関する。

従来、走査光学装置として、光源と、光源からの光を偏向するポリゴンミラーと、ポリゴンミラーを回転させるポリゴンモータを有するモータ基板と、モータ基板に信号を供給するハーネスとを備えたものが知られている（特許文献１参照）。この技術では、ハーネスが、モータ基板から、ポリゴンミラーに対して光源とは反対側に延びている。

特開２００５－０９１４０２号公報

しかしながら、従来技術では、例えばモータ基板にハーネスを介して信号を供給する基板が走査光学装置の光源側に配置される場合には、ハーネスの配線長が大きくなってしまうという問題が生じる。

そこで、本発明は、走査光学装置のモータ基板に信号を供給するハーネスの配線長を小さくすることを目的とする。

前記課題を解決するため、本発明に係る走査光学装置は、半導体レーザと、カップリングレンズと、ポリゴンミラーと、モータ基板と、ハーネスと、走査光学系と、を備える。
半導体レーザは、光を出射する。
カップリングレンズは、半導体レーザからの光をビームに変換する。
ポリゴンミラーは、カップリングレンズからのビームを偏向する。
モータ基板は、ポリゴンミラーを回転させるポリゴンモータを有する。
ハーネスは、モータ基板に信号を供給する。
走査光学系は、ポリゴンミラーからの光を像面に結像する。
ハーネスは、ポリゴンミラーの回転軸線に沿った軸線方向から見て、カップリングレンズからポリゴンミラーに向かうビームと重なる。

ハーネスが軸線方向から見てポリゴンミラーに向かうビームと重なる位置に配置されることにより、ハーネスをモータ基板から半導体レーザ側に向けて延ばすことができるので、例えばモータ基板にハーネスを介して信号を供給する基板が走査光学装置の半導体レーザ側に配置される構成において、配線長を小さくすることができる。

また、モータ基板は、軸線方向に直交した基板面と、ハーネスの端部に取り付けられたハーネス側コネクタが接続される基板側コネクタと、を有していてもよい。
基板側コネクタは、ハーネス側コネクタを基板面と平行な方向から装着可能であってもよい。

基板側コネクタが、ハーネス側コネクタを基板面と平行な方向から装着可能であることにより、ハーネスをモータ基板の基板面と平行な方向に延ばすことができるので、ハーネスをビームの光路から離すことができ、ビームがハーネスに当たるのを抑制することができる。

また、走査光学装置は、ポリゴンミラーとカップリングレンズとの間に壁を有するフレームを備えていてもよい。
壁は、ハーネスを通すための開口を有していてもよい。

また、基板面を延長した平面は、開口を通っていてもよい。

基板面を延長した平面が開口を通ることにより、基板面に直交する方向において基板面が開口の範囲内に位置するので、ハーネスを大きく曲げることなく、開口に通すことができる。

また、走査光学装置は、半導体レーザが取り付けられたレーザ基板を備えていてもよい。
ハーネスは、レーザ基板に接続されていてもよい。

ハーネスがレーザ基板に接続されていることにより、ハーネスの長さを短くすることができる。

また、ハーネスは、モータ基板からカップリングレンズに向けて延びていてもよい。

また、モータ基板は、回転軸線よりもカップリングレンズに近い第１端と、回転軸線よりもカップリングレンズから遠い第２端と、を有していてもよい。
第１端から回転軸線までの距離は、第２端から回転軸線までの距離より大きくてもよい。

第１端から回転軸線までの距離が、第２端から回転軸線までの距離より大きいことにより、モータ基板のうち回転軸線からの長さが大きい部分が入射光路側に配置されるので、回転軸線の入射光路側のスペースを有効活用することができ、走査光学装置を小型化することができる。

また、走査光学装置は、半導体レーザおよびカップリングレンズを複数備えていてもよい。
軸線方向から見て、一のカップリングレンズから出射されたビームと、他のカップリングレンズから出射されたビームは、互いに離れていてもよい。
モータ基板は、軸線方向に直交した基板面と、基板面から突出するコンデンサと、を備えていてもよい。
軸線方向から見て、コンデンサは、互いに離れた２つのビームの間に位置していてもよい。

軸線方向から見てコンデンサが互いに離れた２つのビームの間に位置することにより、コンデンサを２つのビームから離すことができるので、ビームがコンデンサに当たるのを抑制することができる。

また、コンデンサは、基板面とは反対に位置する先端を有していてもよい。
複数のビームのうち少なくとも１つのビームは、軸線方向においてコンデンサの先端と基板面の間を通ってもよい。

軸線方向から見てコンデンサが２つのビームの間に位置することにより、ビームがコンデンサに当たるのを抑制することができる。

本発明によれば、走査光学装置のモータ基板に信号を供給するハーネスの配線長を小さくすることができる。

一実施形態に係る走査光学装置を第１方向の他方側から見た斜視図である。 走査光学装置を第１方向の一方側から見た斜視図である。 図１のＩＩＩ－ＩＩＩ断面図である。 図１のＩＶ－ＩＶ断面図である。 走査光学装置を第１方向の他方側から見た平面図である。 走査光学装置を第１方向の一方側から見た平面図である。 モータ基板とハーネスを分解して示す斜視図である。 図３のモータ基板周りの構造を拡大して示す断面図である。 コンデンサの高さを大きくした変形例を示す断面図である。

図１および図２に示すように、走査光学装置１は、フレームＦと、入射光学系Ｌｉと、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏとを備える。本実施形態において、走査光学装置１は、電子写真式の画像形成装置に適用されている。画像形成装置は、４つの感光ドラム２００（図４参照）を備える。

以下の説明では、後述するポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に平行な方向を、「第１方向」と称する。また、第１方向に直交する方向であって、ポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０（図４参照）が並ぶ方向を、「第２方向」と称する。また、第１方向および第２方向に直交する方向を「第３方向」と称する。第３方向は、主走査方向に相当し、第１方向は、入射光学系Ｌｉの副走査方向に相当する。図面における各方向を示す矢印は、各方向における一方側を指すこととする。

入射光学系Ｌｉは、４つの光源Ｌｓと、絞り板３０と、集光レンズ４０とを備える。
各光源Ｌｓは、ビームを出射する装置であり、半導体レーザ１０と、カップリングレンズ２０とを有する。

半導体レーザ１０は、光を出射する装置である。半導体レーザ１０は、走査光学装置１が走査露光する４つの感光ドラム２００（図４参照）に対応して４つ設けられている。各感光ドラム２００には、それぞれ異なる色のトナー像が形成される。

なお、本実施形態では、第１色を「イエロー（Ｙ）」、第２色を「マゼンタ（Ｍ）」、第３色を「シアン（Ｃ）」、第４色を「ブラック（Ｋ）」とする。以下の説明では、第１色に対応した部品の名称の頭に「第１」を付し、第１色に対応した部品の符号の末尾に「Ｙ」を付して区別する場合がある。また、第２色、第３色、第４色に対応した部品ついても同様に、名称の頭に「第２」、「第３」、「第４」を付し、符号の末尾に「Ｍ」、「Ｃ」、「Ｋ」を付して区別する場合がある。

半導体レーザ１０は、イエローに対応した第１半導体レーザ１０Ｙと、マゼンタに対応した第２半導体レーザ１０Ｍと、シアンに対応した第３半導体レーザ１０Ｃと、ブラックに対応した第４半導体レーザ１０Ｋとを有する。第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向に間隔を空けて並んでいる。第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向の一方側に位置する。

第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向に間隔を空けて並んでいる。第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向の他方側に位置する。第４半導体レーザ１０Ｋは、第１方向において第３半導体レーザ１０Ｃと間隔を空けて並び、かつ、第２方向において第１半導体レーザ１０Ｙと間隔を空けて並んでいる。

カップリングレンズ２０は、半導体レーザ１０からの光をビームに変換するレンズである。各色に対応したカップリングレンズ２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋは、対応する半導体レーザ１０Ｙ，１０Ｍ，１０Ｃ，１０Ｋと対向する位置に配置されている。

絞り板３０は、カップリングレンズ２０からのビームが通過する開口絞り３１を有する。本実施形態では、絞り板３０は、フレームＦに一体に形成されている。絞り板３０は、カップリングレンズ２０と集光レンズ４０の間に位置している。開口絞り３１は、４つの半導体レーザ１０およびカップリングレンズ２０に対応して４つ設けられている。

集光レンズ４０は、カップリングレンズ２０からのビームを副走査方向においてポリゴンミラー５１のミラー面に集光するレンズである。集光レンズ４０は、絞り板３０に対してカップリングレンズ２０とは反対側に位置している。

図３に示すように、偏向器５０は、光源Ｌｓからのビームを主走査方向（第３方向）に偏向する装置であり、ポリゴンミラー５１と、ポリゴンモータ５２と、モータ基板５３とを有する。ポリゴンミラー５１は、回転することでビームを主走査方向に偏向する。ポリゴンミラー５１は、回転軸線Ｘ１から等距離に設けられた５つのミラー面を有している（図２も参照）。ポリゴンモータ５２は、ポリゴンミラー５１を回転させるモータである。モータ基板５３は、ポリゴンモータ５２を有し、フレームＦに固定されている。

図４に示すように、走査光学系Ｌｏは、偏向器５０によって偏向されたビームを、像面としての感光ドラム２００の表面に結像する光学系である。走査光学系Ｌｏを構成する各部品は、フレームＦに固定されている。走査光学系Ｌｏは、イエローに対応した第１走査光学系ＬｏＹと、マゼンタに対応した第２走査光学系ＬｏＭと、シアンに対応した第３走査光学系ＬｏＣと、ブラックに対応した第４走査光学系ＬｏＫとを有する。

第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の一方側に配置されている。第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の他方側に配置されている。各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫには、偏向器５０からのビームが入射する。

第１走査光学系ＬｏＹは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｙと、反射ミラー８１Ｙとを有する。

第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０で偏向されたビームＢＹ，ＢＭを主走査方向に屈折させて感光ドラム２００Ｙ，２００Ｍに結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０によって等角速度で走査されたビームＢＹ，ＢＭを、感光ドラム２００Ｙ，２００Ｍにおいて等速度となるようにするｆθ特性を有する。

反射ミラー８１Ｙは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームＢＹを感光ドラム２００Ｙに向けて反射するミラーである。

第２走査レンズ７０Ｙは、反射ミラー８１Ｙで反射されたビームＢＹを副走査方向に屈折させて感光ドラム２００Ｙに結像させるレンズである。なお、走査光学系Ｌｏにおいて、副走査方向は、主走査方向およびビームの進行方向に直交する方向に相当する。第２走査レンズ７０Ｙは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側の位置に配置されている。

第２走査光学系ＬｏＭは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｍと、反射ミラー８１Ｍと、ミラー８２Ｍとを有する。

第１走査レンズ６０ＹＭは、第１走査光学系ＬｏＹと共用されている。ミラー８２Ｍは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームＢＭを反射ミラー８１Ｍに反射するミラーである。第２走査レンズ７０Ｍおよび反射ミラー８１Ｍは、第１走査光学系ＬｏＹの第２走査レンズ７０Ｙおよび反射ミラー８１Ｙと同様の機能を有する。すなわち、反射ミラー８１Ｍは、ミラー８２Ｍで反射されたビームＢＭを感光ドラム２００Ｍに向けて反射し、第２走査レンズ７０Ｍは、反射ミラー８１Ｍで反射されたビームＢＭを副走査方向に屈折させて感光ドラム２００Ｍに結像させる。

第３走査光学系ＬｏＣは、ポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に対して、おおむね第２走査光学系ＬｏＭと線対称の構造となっている。具体的に、第３走査光学系ＬｏＣは、第２走査光学系ＬｏＭの各部材と同様の機能を有する、第１走査レンズ６０ＣＫ、第２走査レンズ７０Ｃ、反射ミラー８１Ｃおよびミラー８２Ｃを有する。

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームＢＣ，ＢＫを主走査方向に屈折させて感光ドラム２００Ｃ，２００Ｋに結像させる。ミラー８２Ｃは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームＢＣを反射ミラー８１Ｃに反射し、反射ミラー８１Ｃは、ミラー８２Ｃで反射されたビームＢＣを感光ドラム２００Ｃに向けて反射し、第２走査レンズ７０Ｃは、反射ミラー８１Ｃで反射されたビームＢＣを副走査方向に屈折させて感光ドラム２００Ｃに結像させる。

第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に対して、おおむね第１走査光学系ＬｏＹと線対称の構造となっている。具体的に、第４走査光学系ＬｏＫは、第１走査光学系ＬｏＹの各部材と同様の機能を有する、第１走査レンズ６０ＣＫ、第２走査レンズ７０Ｋおよび反射ミラー８１Ｋを有する。

反射ミラー８１Ｋは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームＢＫを感光ドラム２００Ｋに向けて反射し、第２走査レンズ７０Ｋは、反射ミラー８１Ｋで反射されたビームＢＫを副走査方向に屈折させて感光ドラム２００Ｋに結像させる。

図３に示すように、各半導体レーザ１０Ｙ，１０Ｍ，１０Ｃ，１０Ｋから出射された光は、対応する各カップリングレンズ２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋを通ることでビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫに変換される。ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫは、絞り板３０の対応する開口絞り３１Ｙ，３１Ｍ，３１Ｃ，３１Ｋを通った後、集光レンズ４０を通って、ポリゴンミラー５１に入射される。集光レンズ４０は、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫが共通して通過するレンズであり、入射面が円筒面、出射面が平面で構成される。

図４に示すように、ポリゴンミラー５１は、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを、対応する走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫに向けて偏向する。第１走査光学系ＬｏＹに向かうビームＢＹは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、反射ミラー８１Ｙで反射され、第２走査レンズ７０Ｙを通って第１方向の一方側の感光ドラム２００Ｙに向けて出射される。ビームＢＹは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｙから出射される。ビームＢＹは、第１感光ドラム２００Ｙの表面に結像され、主走査方向に走査される。

第２走査光学系ＬｏＭに向かうビームＢＭは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、ミラー８２Ｍおよび反射ミラー８１Ｍで反射され、第２走査レンズ７０Ｍを通って第１方向の一方側の感光ドラム２００Ｍに向けて出射される。ビームＢＭは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｍから出射される。ビームＢＭは、第２感光ドラム２００Ｍの表面に結像され、主走査方向に走査される。ビームＢＣ，ＢＫも、同様に、対応する走査光学系ＬｏＣ，ＬｏＫによって、第１方向の一方側の感光ドラム２００Ｃ，２００Ｋに向けて出射されて、対応する感光ドラム２００Ｃ，２００Ｋの表面に結像され、主走査方向に走査される。

フレームＦは、樹脂製であり、成形によって一体に造られている。フレームＦは、図２に示す第１凹部ＣＰ１と、図１に示す第２凹部ＣＰ２とを有する。第１凹部ＣＰ１は、フレームＦの第１方向の一方側の端部から凹み、第１方向の一方側に開口する。第２凹部ＣＰ２は、フレームＦの第１方向の他方側の端部から凹み、第１方向の他方側に開口する。図４に示すように、第１凹部ＣＰ１内には、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏの一部とが配置されている。具体的には、走査光学系Ｌｏのうち各反射ミラー８１を除く部材が、第１凹部ＣＰ１内に配置されている。図１に示すように、第２凹部ＣＰ２内には、カップリングレンズ２０、絞り板３０および集光レンズ４０が配置されている。第２凹部ＣＰ２は、第１凹部ＣＰ１に対して第３方向の他方側に配置されている。

フレームＦは、ポリゴンミラー５１とカップリングレンズ２０との間に壁Ｆ１を有する。壁Ｆ１は、第１凹部ＣＰ１と第２凹部ＣＰ２の間に位置する。壁Ｆ１は、第１凹部ＣＰ１の側面の一部を構成する。壁Ｆ１は、開口Ｆ１１を有する。

走査光学装置１は、レーザ基板９０と、ハーネスＨとをさらに備えている。レーザ基板９０は、フレームＦの第３方向の他方側の端部に位置する。レーザ基板９０は、第３方向において、カップリングレンズ２０に対してポリゴンミラー５１とは反対側に位置する。レーザ基板９０には、半導体レーザ１０Ｙ，１０Ｍ，１０Ｃ，１０Ｋが取り付けられている。

図示は省略するが、画像形成装置は、レーザ基板９０と電気的に接続されるメイン基板を有する。例えば、メイン基板は、画像形成装置の本体筐体内において、走査光学装置１に対して第３方向の他方側に位置する。

ハーネスＨは、レーザ基板９０からモータ基板５３に信号を供給するための配線である。ハーネスＨは、５本のケーブルからなる。ハーネスＨは、レーザ基板９０とモータ基板５３に接続されている。ハーネスＨは、モータ基板５３からカップリングレンズ２０に向けて第３方向に延びている。モータ基板５３から第３方向の他方側に延びるハーネスＨは、壁Ｆ１の開口Ｆ１１を通って第２凹部ＣＰ２内に入る。

開口Ｆ１１から第２凹部ＣＰ２内に入ったハーネスＨは、第２方向の他方側に曲げられて、第２凹部ＣＰ２の第３方向の一方側の面に沿って延びる。その後、ハーネスＨは、第３方向の他方側に曲げられて、第２凹部ＣＰ２の第２方向の他方側の面に沿って延びる。その後、ハーネスＨは、第２凹部ＣＰ２の第３方向の他方側の面を形成する壁を貫通し、略Ｕ字状に曲げられた後、レーザ基板９０に接続される。

図５および図６に示すように、第１方向から見て、一のカップリングレンズから出射されたビーム（例えばＢＹ）と、他のカップリングレンズから出射されたビーム（例えばＢＫ）は、互いに離れている。詳しくは、第１方向から見て、第２方向の一方側に位置するカップリングレンズ２０Ｙ，２０Ｍから出射されるビームＢＹ，ＢＭと、第２方向の他方側に位置するカップリングレンズ２０Ｋ，２０Ｃから出射されるビームＢＫ，ＢＣは、互いに第２方向に離れている。

ハーネスＨのうちモータ基板５３から第３方向に延びる部分は、第１方向、つまりポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に沿った軸線方向から見て、第２方向の他方側に位置するカップリングレンズ２０Ｃ，２０Ｋからポリゴンミラー５１に向かうビームＢＣ，ＢＫと重なる。本実施形態では、ハーネスＨを構成する５本のケーブルのうちの１本のケーブルが、ビームＢＣ，ＢＫと重なる。また、ハーネスＨのうちモータ基板５３から第３方向に延びる部分は、第１方向から見て、第２方向の一方側に位置するカップリングレンズ２０Ｙ，２０Ｍからポリゴンミラー５１に向かうビームＢＹ，ＢＭとは重ならない。

図７に示すように、モータ基板５３は、前述したポリゴンモータ５２の他、基板本体５４と、基板側コネクタ５５と、コンデンサ５６とをさらに有する。基板本体５４は、板状の部材であり、基板面５４Ａと、第１端５４Ｂと、第２端５４Ｃとを有する。

基板面５４Ａは、第１方向に直交した平面である。基板面５４Ａは、基板本体５４の第１方向の一方側の面である。図８に示すように、基板面５４Ａを延長した平面ＰＳは、開口Ｆ１１を通る。つまり、第１方向において、基板面５４Ａは、開口Ｆ１１の範囲内に位置する。

図６に示すように、第１端５４Ｂは、回転軸線Ｘ１よりもカップリングレンズ２０に近い。第２端５４Ｃは、回転軸線Ｘ１よりもカップリングレンズ２０から遠い。第３方向において、第１端５４Ｂから回転軸線Ｘ１までの距離Ｄ１は、第２端５４Ｃから回転軸線Ｘ１までの距離Ｄ２より大きい。

図７に示すように、基板側コネクタ５５は、ハーネスＨの端部に取り付けられたハーネス側コネクタＨ１が接続されるコネクタである。基板側コネクタ５５は、基板本体５４の第１端５４Ｂに位置する。基板側コネクタ５５は、基板面５４Ａから突出する。基板側コネクタ５５は、ハーネス側コネクタＨ１を基板面５４Ａと平行な方向から装着可能となっている。図８に示すように、ハーネス側コネクタＨ１と基板側コネクタ５５とが接続される位置は、開口Ｆ１１の第１方向の一方側の端部よりも第１方向の一方側である。

コンデンサ５６は、ポリゴンモータ５２の駆動回路の一部を構成する円筒状の電子部品であり、基板面５４Ａから突出する。コンデンサ５６は、基板面５４Ａのうちポリゴンミラー５１よりも第３方向の他方側の部分に配置される複数の電子部品の中で、最も背の高い電子部品である。言い換えると、コンデンサ５６の基板面５４Ａからの突出量は、前述した複数の電子部品の基板面５４Ａからのそれぞれの突出量よりも大きい。例えば、コンデンサ５６の基板面５４Ａからの突出量は、基板側コネクタ５５の基板面５４Ａからの突出量よりも大きい。なお、図７等においては、複数の電子部品のうち基板側コネクタ５５とコンデンサ５６のみを図示し、他の電子部品については図示は省略している。

図６に示すように、コンデンサ５６は、第１方向から見て、第２方向において互いに離れた２つのビーム（例えば、ＢＹ，ＢＫ）の間に位置している。図８に示すように、第２方向から見て、複数のビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫは、コンデンサ５６とは重ならない。

言い換えると、コンデンサ５６は、基板面５４Ａとは反対に位置する先端５６Ａを有する。複数のビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫは、コンデンサ５６の先端５６Ａよりも第１方向の一方側を通る。

以上、本実施形態によれば以下のような効果を得ることができる。
図６に示すように、ハーネスＨが、第１方向から見て、カップリングレンズ２０からポリゴンミラー５１に向かうビームＢＫ，ＢＣと重なる位置に配置されるので、ハーネスＨをモータ基板５３から半導体レーザ１０側に向けて延ばすことができる。これにより、モータ基板５３にハーネスＨを介して信号を供給するレーザ基板９０が走査光学装置１の半導体レーザ１０側に配置される構成において、配線長を小さくすることができる。

図８に示すように、基板側コネクタ５５に対してハーネス側コネクタＨ１が基板面５４Ａと平行な方向から装着可能な構成であるため、ハーネスＨをモータ基板５３の基板面５４Ａと平行な方向に延ばすことができる。これにより、ハーネスＨをビームの光路から離すことができ、ビームがハーネスＨに当たるのを抑制することができる。

第１方向において基板面５４Ａが開口Ｆ１１の範囲内に位置するので、ハーネスＨを大きく曲げることなく、開口Ｆ１１に通すことができる。

図１に示すように、ハーネスＨがレーザ基板９０に接続されるので、ハーネスＨの配線長を小さくすることができる。画像形成装置の本体筐体内のメイン基板とモータ基板５３を電気的に接続させる構成においては、モータ基板５３からメイン基板までの電気の経路の一部をレーザ基板９０で構成することができる。

図６に示すように、モータ基板５３の第１端５４Ｂから回転軸線Ｘ１までの距離Ｄ１が、第２端５４Ｃから回転軸線Ｘ１までの距離Ｄ２より大きいので、モータ基板５３のうち回転軸線Ｘ１からの長さが大きい部分が入射光路側に配置されるので、回転軸線Ｘ１の入射光路側のスペースを有効活用することができ、走査光学装置１を小型化することができる。

第１方向から見て、コンデンサ５６が、互いに離れた２つのビームの間に位置することで、コンデンサ５６を２つのビームから離すことができるので、ビームがコンデンサ５６に当たるのを抑制することができる。

なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、以下に例示するように様々な形態で利用できる。以下の説明においては、前記実施形態と略同様の構造となる部材には同一の符号を付し、その説明は省略する。

前記実施形態では、コンデンサ５６を、第２方向から見て、各ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫとは重ならない高さとなるように構成したが、本発明はこれに限定されない。例えば、図９に示すように、コンデンサ５６は、第２方向から見て、ビームＢＭ，ＢＣと重なる高さとなるように構成してもよい。言い換えると、図９の形態では、複数のビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫのうち２つのビームＢＭ，ＢＣが、第１方向においてコンデンサ５６の先端５６Ａと基板面５４Ａの間を通る。

この構成によれば、第２方向から見てコンデンサ５６がビームＢＭ，ＢＣと重なる場合であっても、図６に示すように、コンデンサ５６が第２方向に離れた２つのビームの間に位置するので、ビームがコンデンサ５６に当たるのを抑制することができる。

半導体レーザ１０は、複数の発光点を有する構成としてもよい。これにより半導体レーザ１０からの複数の光が、１つのカップリングレンズ２０によって複数のビームに変換され、複数のビームが対応する走査光学系Ｌｏによって感光ドラム２００の表面に結像されるよう構成してもよい。このように構成した場合、前記実施形態のビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫがそれぞれ複数のビームを含む構成となる。

ハーネスＨは、独立した複数のケーブルからなる構成としたが、複数のケーブルが束ねられたケーブルを用いてもよい。また、可撓性の絶縁体に複数の配線が設けられたフレキシブルフラットケーブルを用いてもよい。

前記実施形態では、カラーの画像形成装置に適用される走査光学装置を例示したが、走査光学装置は、１つのビームのみを走査するモノクロの画像形成装置に適用されるものであってもよい。

前記した実施形態および変形例で説明した各要素を、任意に組み合わせて実施してもよい。

１ 走査光学装置
１０ 半導体レーザ
２０ カップリングレンズ
５１ ポリゴンミラー
５２ ポリゴンモータ
５３ モータ基板
ＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫ ビーム
Ｈ ハーネス
Ｌｏ 走査光学系
Ｘ１ 回転軸線

Claims (9)

1. 光を出射する半導体レーザと、
   前記半導体レーザからの光をビームに変換するカップリングレンズと、
   前記カップリングレンズからのビームを偏向するポリゴンミラーと、
   前記ポリゴンミラーを回転させるポリゴンモータを有するモータ基板と、
   前記モータ基板に信号を供給するハーネスと、
   前記ポリゴンミラーからの光を像面に結像する走査光学系と、を備え、
   前記ハーネスは、前記ポリゴンミラーの回転軸線に沿った軸線方向から見て、前記カップリングレンズから前記ポリゴンミラーに向かうビームと重なることを特徴とする走査光学装置。
2. 前記モータ基板は、
   前記軸線方向に直交した基板面と、
   前記ハーネスの端部に取り付けられたハーネス側コネクタが接続される基板側コネクタと、を有し、
   前記基板側コネクタは、前記ハーネス側コネクタを前記基板面と平行な方向から装着可能であることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
3. 前記ポリゴンミラーと前記カップリングレンズとの間に壁を有するフレームを備え、
   前記壁は、前記ハーネスを通すための開口を有することを特徴とする請求項２に記載の走査光学装置。
4. 前記基板面を延長した平面は、前記開口を通ることを特徴とする請求項３に記載の走査光学装置。
5. 前記半導体レーザが取り付けられたレーザ基板を備え、
   前記ハーネスは、前記レーザ基板に接続されることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
6. 前記ハーネスは、前記モータ基板から前記カップリングレンズに向けて延びることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
7. 前記モータ基板は、
   前記回転軸線よりも前記カップリングレンズに近い第１端と、
   前記回転軸線よりも前記カップリングレンズから遠い第２端と、を有し、
   前記第１端から前記回転軸線までの距離は、前記第２端から前記回転軸線までの距離より大きいことを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
8. 前記半導体レーザおよび前記カップリングレンズを複数備え、
   前記軸線方向から見て、一の前記カップリングレンズから出射されたビームと、他の前記カップリングレンズから出射されたビームは、互いに離れており、
   前記モータ基板は、
   前記軸線方向に直交した基板面と、
   前記基板面から突出するコンデンサと、を備え、
   前記軸線方向から見て、前記コンデンサは、互いに離れた２つの前記ビームの間に位置することを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
9. 前記コンデンサは、前記基板面とは反対に位置する先端を有し、
   複数のビームのうち少なくとも１つのビームは、前記軸線方向において前記コンデンサの前記先端と前記基板面の間を通ることを特徴とする請求項８に記載の走査光学装置。

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