JP2024031793A - 検出器及び検出システム - Google Patents

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文昭 水谷
Fumiaki Mizutani
高典 渡邉
Takanori Watanabe
一 池田
Hajime Ikeda
全平 和田
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Abstract

【課題】放射線による経年劣化への耐性を向上可能な検出器及び検出システムを提供する。【解決手段】検出器は、複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する。前記複数の単位セルは、入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅して出力する第一の単位セルと、制御電極を定電圧源に接続された第二の増幅トランジスタを有し、前記第二の増幅トランジスタにより前記定電圧源の電圧に応じた信号を出力する第二の単位セルと、を含み、前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置されている。【選択図】図１

Description

本発明は、電磁波又は粒子線を検出する検出器、及び検出器を備えた検出システムに関する。
可視光及び赤外線等の光や、Ｘ線等の放射線は、ＣＭＯＳイメージセンサの画素構造を備えた検出器によって検出することができる。特許文献１は、検出器の検出領域における半導体層の厚さを規定することで、電磁波又は粒子線の検出精度を向上させる技術を開示する。特許文献２、３は、可視光を検出する検出器において、画素アレイの中で光が入射する領域（開口領域）の周辺に、遮光部材によって遮光された遮光画素を配置し、遮光画素の画素信号を用いて開口領域内の画素の画素信号を補正する技術を開示する。
特開２０１９－８７６４０号公報 特開２０２０－５３８２７号公報 特開２０１６－３９６０３号公報
放射線検出器の画素は、放射線の照射により経年劣化し、放射線の検出精度が低下する場合がある。光検出器であっても、放射線に暴露される環境で使用されるものは、同様の経年劣化が生じ得る。
しかしながら、上記特許文献２、３の構成において、開口領域内の画素と遮光画素とでは放射線の入射量が異なるため、放射線による経年劣化の進行速度も異なったものとなる。そのため、これらの文献のように遮光画素の画素信号を用いる方法では、放射線による経年劣化による検出精度の低下等を効果的に低減することはできなかった。
そこで、本発明は、放射線による経年劣化への耐性を向上可能な検出器及び検出システムを提供することを目的とする。
本発明の一態様は、複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、前記複数の単位セルは、入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅して出力する第一の単位セルと、制御電極を定電圧源に接続された第二の増幅トランジスタを有し、前記第二の増幅トランジスタにより前記定電圧源の電圧に応じた信号を出力する第二の単位セルと、を含み、前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置されている、ことを特徴とする検出器である。
本発明の他の一態様は、複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、前記複数の単位セルは、入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、前記第一の増幅トランジスタの前記制御電極の電位をリセットする第一のリセットトランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅した信号を出力する第一の単位セルと、第二の増幅トランジスタと、前記第二の増幅トランジスタの制御電極に接続された第二のリセットトランジスタと、を有し、前記第二の増幅トランジスタの前記制御電極の電位に応じた信号を出力する第二の単位セルと、を含み、前記検出器は、前記単位セルアレイの行ごとに配線され、前記第一のリセットトランジスタの制御電極に接続された第一の制御線と、前記単位セルアレイの前記第二の単位セルを含む行に前記第一の制御線と並行して配線され、前記第二のリセットトランジスタの制御電極に接続され且つ前記第一のリセットトランジスタの制御電極に接続されていない第二の制御線と、を更に有し、前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置されている、ことを特徴とする検出器である。
本発明の他の一態様は、複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、前記複数の単位セルは、入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅した信号を出力する第一の単位セルと、第二の増幅トランジスタを有し、前記第二の増幅トランジスタの制御電極に印加される電圧に応じた信号を出力する第二の単位セルと、を含み、前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置され、且つ、第一状態において前記第二の増幅トランジスタの制御電極に定電圧を印加した時の前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態において前記第二の増幅トランジスタの制御電極に前記定電圧を印加した時の前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて前記第一の増幅トランジスタの閾値電圧の変動を検出するように構成されている、ことを特徴とする検出器である。
本発明によれば、放射線による経年劣化への耐性を向上可能な検出器及び検出システムを提供することができる。
第１乃至第３、第５実施形態に係る検出器の回路図。 第１乃至第３、第５実施形態に係る画素の配線構造を示す平面図。 実施形態に係る検出器のシステム構成例を示す図。 第１乃至第３、第５実施形態に係る制御の例を示すフローチャート。 第４実施形態に係る制御の例を示すフローチャート。 第６実施形態に係る制御の例を示すフローチャート。 第７実施形態に係る検出器の回路図（ａ）及び画素の配線構造を示す平面図（ｂ）。 第８実施形態に係る検出器の回路図（ａ）及び画素の配線構造を示す平面図（ｂ）。 第９実施形態における劣化検出画素の配置レイアウト例を示す図（ａ～ｆ）。 第１０実施形態に係る転送型の画素構造を備えた検出器の回路図（ａ～ｃ）。 第１１実施形態に係るシステムを示す図。 第１２実施形態に係るシステムを示す図（ａ、ｂ）。
以下、本開示に係る実施形態について、図面を参照しながら説明する。
本開示に係る「検出器」は、可視光及び赤外光等の光を検出する光検出器と、放射線を検出する放射線検出器と、を含む。放射線検出器が検出する放射線は、Ｘ線やガンマ線のような電離放射線でもよいし、アルファ線、ベータ線、中性子線、陽子線、電子線、重イオン線、中間子線などの粒子線であってもよい。本開示においては、検出器によって検出される電離放射線又は粒子線の放射線と光（電離放射線以外の電磁波）とをまとめて、「エネルギー線」と呼ぶ。
＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る検出器としての放射線検出器１について、図１及び図２を用いて説明する。図１は、放射線検出器１の回路図である。図２は、本実施形態における単位セル、例えば画素の構造を示す平面図である。放射線検出器１は、ＣＭＯＳイメージセンサの画素構造を備えた直接変換型の放射線検出器である。以下、画像を撮影する場合について説明するが、放射線検出器は検出信号の検出のみを行ってもよい。
ＣＭＯＳイメージセンサの画素構造として、検出ダイオードと増幅トランジスタとが直接接続された直結型と、検出ダイオードに蓄積された電荷を、転送トランジスタを介して増幅トランジスタのゲート電極に転送する転送型が知られる。本実施形態の放射線検出器の画素構造は直結型であるが、後述の実施形態で説明するように、本技術は転送型の画素構造を備えた検出器にも適用可能である。
放射線検出器１は、複数の単位画素構造（以下、単に画素という）をアレイ状に配置した画素アレイ１０３と、垂直走査回路２０７と、列回路部２０４と、水平走査回路２０５と、出力回路２０６と、制御回路２０８と、を有する。
放射線検出器１は、画素アレイ１０３の全域に放射線が入射するように構成されてもよいし、画素アレイ１０３の一部を放射線から遮蔽してもよい。以下、画素アレイ１０３のうち、放射線が入射する領域を照射領域（入射領域、開口領域とも呼ぶ）と言い、画素アレイ１０３のうち放射線が入射しないように構成された領域を非照射領域（遮蔽領域とも呼ぶ）と言う。
図１に示すように、画素アレイ１０３は、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の、２種類の画素で構成される。有効画素１０１の任意の１つは「第一の画素」の例であり、劣化検出画素１０２の任意の１つは「第二の画素」の例である。上述したように、画素を単位セルとして表現すると、単位セル１０１の任意の１つは「第一の単位セル」の例であり、劣化検出用の単位セル１０２の任意の１つは「第二の単位セル」の例であるともいえる。画素アレイ１０３（単位セルアレイ）は、第一の画素と同一の画素構造（単位セル構造）を備えた画素からなる第一の画素群（第一の単位セル群）と、第二の画素と同一の画素構造を備えた画素からなる第二の画素群（第二の単位セル群）と、を有する。なお、画素アレイ１０３は、有効画素１０１と及び劣化検出画素１０２以外の画素を備えていてもよい。
有効画素１０１及び劣化検出画素１０２は、いずれも画素アレイ１０３における放射線の照射領域内（入射領域内）の画素である。放射線の照射領域（入射領域）とは、例えば後述する遮蔽部材に覆われておらず、画素を構成する半導体素子に放射線が入射可能に構成された領域である。
有効画素１０１が出力する画素信号は、放射線検出器１が出力する画像データを構成する。一方、劣化検出画素１０２が出力する画素信号は、有効画素１０１を構成する素子の駆動電圧等を調整（補正）するために用いられる。本実施形態では、劣化検出画素１０２が出力する画素信号は放射線検出器１の出力画像データを構成しない。しかし、後述する実施形態のように劣化検出画素１０２の画素信号を放射線検出器１の出力画像データの一部として扱い、劣化検出画素１０２を一種の有効画素として使用してもよい。
以下で詳しく説明するように、有効画素１０１は第一の画素構造を有し、劣化検出画素１０２は第一の画素構造とは異なる第二の画素構造を備える。なお、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の配置は図示したものに限らない。
（有効画素の画素構造）
図１及び図２に示すように、有効画素１０１は、検出ダイオードＤ１１（第一の変換素子）と、リセットトランジスタＭ１１（第一のリセットトランジスタ）と、増幅トランジスタＭ１２（第一の増幅トランジスタ）と、選択トランジスタＭ１３と、を有する。
検出ダイオードＤ１１は、入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する変換素子である。本実施形態の検出ダイオードＤ１１は、放射線を信号電荷としての電子に変換して蓄積する。検出対象の放射線は、Ｘ線であってもその他の放射線であってもよい。リセットトランジスタＭ１１は、検出ダイオードＤ１１が蓄積した電荷をリセットする。増幅トランジスタＭ１２は、検出ダイオードＤ１１が蓄積した電荷を増幅して出力する。選択トランジスタＭ１３は、垂直走査回路２０７からの制御パルス（ＳＥＬ）に応じて、増幅トランジスタＭ１２からの信号を信号線２００に出力する。
なお、検出ダイオードＤ１１が蓄積する電荷は正孔であってもよい。検出ダイオードＤ１１に代えて光電変換膜を用いてもよい。また、各トランジスタ（Ｍ１１，Ｍ１２，Ｍ１３）は、例えばＮ型の電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）を用いることができるが、Ｐ型ＭＯＳＦＥＴ、ＪＦＥＴ、バイポーラトランジスタ等の他の種類のトランジスタであってもよい。
リセットトランジスタＭ１１のゲートは制御線２０１と接続され、ドレインは第一の電源電圧線３０１と接続され、ソースは検出ダイオードＤ１１と接続される。増幅トランジスタＭ１２のゲートは検出ダイオードＤ１１と接続され、ドレインは第二の電源電圧線３０２と接続され、ソースは選択トランジスタＭ１３のドレインと接続される。選択トランジスタＭ１３のゲートは制御線２０３と接続され、ソースは信号線２００と接続される。
有効画素１０１に対して放射線が入射すると、検出ダイオードＤ１１において電荷が発生し蓄積される。選択トランジスタＭ１３に垂直走査回路２０７からの制御パルス（ＳＥＬ）が入力されると、選択トランジスタＭ１３が導通状態となる。すると、電源電圧線３０２と増幅トランジスタＭ１２と信号線２００に接続された不図示の電流源とによって形成されるソースフォロワ回路が動作し、検出ダイオードＤ１１が蓄積した電荷に応じた信号が信号線２００に出力される。リセットトランジスタＭ１１に垂直走査回路２０７からの制御パルス（ＲＥＳ）が入力されると、検出ダイオードＤ１１の電位は電源電圧線３０１の電圧値にリセットされる。
（劣化検出画素の画素構造）
図１及び図２に示すように、劣化検出画素１０２は、検出ダイオードＤ２１（第二の変換素子）と、リセットトランジスタＭ２１（第二のリセットトランジスタ）と、増幅トランジスタＭ２２（第二の増幅トランジスタ）と、選択トランジスタＭ２３とを有する。つまり、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の基本的な構成要素は共通である。
劣化検出画素１０２の画素構造は、検出ダイオードＤ２１が増幅トランジスタＭ２２のゲートに接続されていない点で、有効画素１０１の画素構造と異なる。すなわち、劣化検出画素１０２の増幅トランジスタＭ２２のゲートは、検出ダイオードＤ２１から絶縁されている。増幅トランジスタＭ２２のゲートは、検出ダイオードＤ２１ではなく第三の電源電圧線４０３と接続される。電源電圧線４０３は、不図示の回路により生成される定電圧を増幅トランジスタＭ２２のゲートに供給する。
なお、本開示における「定電圧」とは、エネルギー線の入射量に依存しない電圧値であることを意味する。定電圧は放射線検出器１の寿命を通じて一定であるとは限らず、例えば後述する調整値ｄＶ１を用いて電源電圧線４０３に印加する定電圧の値を変更しても構わない。
このように、本実施形態の劣化検出画素１０２は、増幅トランジスタＭ２２の制御電極（ゲート電極）が、電源電圧線４０３を介して定電圧源に接続された画素構造を備える。電源電圧線４０３は、リセットトランジスタＭ２１の主電極に電圧を供給する第一の電源線（電源電圧線４０１）及び増幅トランジスタＭ２２の主電極に電圧を供給する第二の電源線（電源電圧線４０２）とは別の第三の電源線である。
つまり、有効画素１０１ではエネルギー線の入射量に応じた電圧が増幅トランジスタＭ１２のゲートに印加されるのに対し、劣化検出画素１０２ではエネルギー線の入射量に依存しない定電圧が増幅トランジスタＭ２２のゲートに印加される。これにより、劣化検出画素１０２は、定電圧源から増幅トランジスタＭ２２の主電極に印加される電圧（電源電圧線４０３の駆動電圧）に応じた信号を出力する。
劣化検出画素１０２の他の画素構造は、有効画素１０１と共通である。すなわち、リセットトランジスタＭ２１のゲートは制御線２０１′と接続され、ドレインは第一の電源電圧線４０１と接続され、ソースは検出ダイオードＤ２１と接続される。増幅トランジスタＭ２２のドレインは第二の電源電圧線４０２と接続され、ソースは選択トランジスタＭ２３のドレインと接続される。選択トランジスタＭ２３のゲートは制御線２０３′と接続され、ソースは信号線２００と接続される。
有効画素１０１と劣化検出画素１０２の間で、第一の電源電圧線３０１，４０１に電圧を印加する回路（定電圧源）は共通であってよい。また、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の間で、第二の電源電圧線３０２，４０２に電圧を印加する回路（定電圧源）は共通であってよい。また、第一の電源電圧線３０１，４０１と第二の電源電圧線３０２，４０２は、共通の回路から電圧を供給されてもよい。
さらに、劣化検出画素１０２の第三の電源電圧線４０３に電圧を印加する回路（定電圧源）は、第一の電源電圧線４０１又は第二の電源電圧線４０２と共通であってよい。つまり、劣化検出画素１０２の増幅トランジスタＭ２２のゲートに印加する電圧値は、これらの電源電圧線４０１，４０２の駆動電圧と同じであってよい。
劣化検出画素１０２に対して放射線が入射すると、検出ダイオードＤ２１において電荷が発生し蓄積される。ただし、検出ダイオードＤ２１の電荷が劣化検出画素１０２からの画素信号に反映されることはない。
選択トランジスタＭ２３に垂直走査回路２０７からの制御パルス（ＳＥＬ）が入力されると、選択トランジスタＭ２３が導通状態となる。すると、電源電圧線４０２と増幅トランジスタＭ２２と信号線２００に接続された不図示の電流源とによって形成されるソースフォロワ回路が動作する。このとき、検出ダイオードＤ１１が蓄積した電荷量に応じた信号が出力される有効画素１０１と異なり、第三の電源電圧線４０３の電圧値に応じた信号が信号線２００に出力される。リセットトランジスタＭ２１に垂直走査回路２０７からの制御パルス（ＲＥＳ）が入力されると、検出ダイオードＤ２１の電位は電源電圧線４０１の電圧値にリセットされる。
なお、劣化検出画素１０２に検出ダイオードＤ２１（第二の変換素子）を配置しない構成とすることもできる。ただし、有効画素１０１の検出ダイオードＤ１１と同じ材料で検出ダイオードＤ２１を配置することで画素アレイ１０３のレイアウトが均一化されるので、回路設計が容易になり、或いは検出ダイオードの有無による回路特性の不均一さを抑制できる利点がある。
図２に示すように、放射線検出器１を構成する半導体基板は、絶縁性の素子分離領域により略矩形状の複数の活性領域に区画される。各活性領域に不純物領域が形成されることで、不純物領域が半導体素子として機能する。例えば、Ｐウェルの表面にＮ型不純物をドーピングすることで検出ダイオードＤ１１，Ｄ２１が構成される。また、基板表面のゲート領域に酸化シリコン等のゲート絶縁膜を形成し、更にポリシリコン層を形成することで、各トランジスタのゲート電極が形成される。さらに、基板上の半導体素子を覆う絶縁膜が形成され、絶縁膜の上に電源電圧線３０１，３０２，４０１，４０２，４０３及び信号線２００，２００′等が形成される配線層が設けられる。配線層は、層間絶縁膜を挟んで積層することができる。配線層の配線パターンは、コンタクトプラグやビアプラグを介して各素子と接続される。
（画素アレイ全体の回路及び動作）
図１に示すように、画素アレイ１０３の周囲に、垂直走査回路２０７、列回路部２０４、水平走査回路２０５、出力回路２０６、制御回路２０８が配置される。画素アレイ１０３を構成する画素は、行ごとに垂直走査回路２０７と接続される。
垂直走査回路２０７は、画素の蓄積期間や駆動タイミングを制御する。図中のＲＥＳ、ＳＥＬは、垂直走査回路２０７から制御線２０１，２０１′，２０３，２０３′を介して画素に供給される制御パルス（制御信号）である。なお、制御パルスＲＥＳを供給する制御線２０１，２０１′のうち、有効画素１０１のみと接続された制御線を「制御線２０１」と表記し、少なくとも１つの劣化検出画素１０２と接続された制御線を「制御線２０１′」と表記する。制御パルスＳＥＬを供給する制御線２０３，２０３′のうち、有効画素１０１のみと接続された制御線を「制御線２０３」と表記し、少なくとも１つの劣化検出画素１０２と接続された制御線を「制御線２０３′」と表記する。また、制御パルスＲＥＳ、ＳＥＬの末尾に、信号が供給される画素行を付して表す。例えば、ＲＥＳ（ｍ）は、ｍ行目の画素に供給されるパルスであることを意味する。
制御線２０３、２０３′には、不図示の電流源が接続されている。例えばＳＥＬ（ｍ）のパルスがアクティブレベルとなることによって、ｍ行目の画素の選択トランジスタＭ１３、Ｍ２３がОＮ状態になる。これにより、ｍ行目の画素の増幅トランジスタＭ１２，Ｍ２２に、電流源から電流が供給される。
図１のｍ行目の有効画素１０１では、電源電圧線３０２と、増幅トランジスタＭ１２と、信号線２００に接続された不図示の電流源とによって、ソースフォロワ回路が形成される。このソースフォロワ回路が形成されることによって、増幅トランジスタＭ１２は選択トランジスタＭ１３を介して信号線２００、２００′に画素信号を出力する。
また、画素アレイ１０３を構成する画素は、列ごとに信号線２００，２００′を介して列回路部２０４と接続される。以下、有効画素１０１のみと接続された信号線を「信号線２００」と表記し、少なくとも１つの劣化検出画素１０２と接続された信号線を「信号線２００′」と表記する。列回路部２０４は、信号線２００，２００′ごとに設けられた複数の列回路を備える。また、列回路部２０４は、水平走査回路２０５と出力回路２０６とに接続される。
列回路の各々は、処理した信号を出力回路２０６に出力する。この処理とは、例えば信号の増幅やＡＤ変換がある。水平走査回路２０５は、列回路部２０４が備える複数の列回路を順次選択する。これより、複数の列回路の各々が保持した信号が、順次、出力回路２０６に出力される。出力回路２０６は、放射線検出器１の外部に信号を出力する。
制御回路２０８は、垂直走査回路２０７、列回路部２０４、水平走査回路２０５のそれぞれに対し、駆動信号を供給する駆動線を介して接続されている。
図３に、放射線検出器１のシステム構成例を示す。放射線検出器１は、上述した回路要素に加えて、演算部２１０及び／又は画像処理部２１１を有してもよい。演算部２１０は、例えば後述する劣化検出画素１０２の信号値の取得や有効画素１０１の出力レベルを調整するための調整値の演算をすることができる。画像処理部２１１は、後述する実施形態で説明するように、劣化検出画素１０２の周囲の有効画素１０１の画素信号を用いて劣化検出画素１０２の画素信号を補間し、補間後の画像データを放射線検出器１の外部に出力することができる。
（放射線による経年劣化）
ところで、放射線検出器１は、撮像時の放射線の照射により経年劣化が生じる。具体的に、有効画素１０１において検出ダイオードＤ１１で検出された放射線の信号は、増幅トランジスタＭ１２を介して信号線２００（又は信号線２００′）に出力される。ここで、放射線のトータルドーズ効果として知られるように、放射線の電離作用に生じた電荷がゲート電極の酸化膜（絶縁膜）中の正孔トラップに捕獲されることで、増幅トランジスタＭ１２の閾値電圧が変動する。その結果、有効画素１０１の出力レベルが最適な状態から外れてしまい、放射線の検出精度が低下する場合がある。
放射線に限らない一般的な経年劣化による検出精度の低下を補償する方法として、エネルギー線が照射されない非照射領域に配置した画素を用いることがある。しかしながら、放射線の照射領域内に位置する有効画素１０１と、非照射領域の画素とでは、放射線の入射量が異なるため、放射線による経年劣化の進行速度も異なったものとなる。そのため、非照射領域の画素又は遮蔽画素の画素信号を用いて有効画素１０１の画素信号を減算する等の方法では、放射線による経年劣化に起因する検出精度の低下に適切に対処することが難しい。
そこで、本実施形態では、画素アレイ１０３の放射線の照射領域内に、有効画素１０１とは別の画素構造を備えた劣化検出画素１０２を配置する。つまり、劣化検出画素１０２に入射する累積放射線量は、通常、有効画素１０１に入射する累積放射線量と同等になるように構成されている。
上述したように、劣化検出画素１０２は、第三の電源電圧線４０３を増幅トランジスタＭ２２のゲートに接続した画素構造を備える。そのため、劣化検出画素１０２が出力する画素信号は、有効画素１０１の増幅トランジスタＭ１２が受けるのと同等の累積放射線量による増幅トランジスタＭ２２の経年劣化の影響を受ける。
したがって、劣化検出画素１０２の出力信号の経時的変化を監視し、有効画素１０１の増幅トランジスタＭ１２の閾値変動等を検出することで、経年劣化の程度を適切に評価することが可能となる。以下、本実施形態において、放射線による経年劣化への耐性を向上させる構成を説明する。
増幅トランジスタＭ１２のようなトランジスタのゲートとソース間の電位差をＶＧＳ、閾値電圧をＶＴＨとする。典型的には、ＶＧＳ－ＶＴＨ＞０のときに、トランジスタは導通状態になる。累積照射量で数十ｋＧｙから数百ｋＧｙの放射線を照射してトランジスタを経年劣化させた場合、トランジスタのポテンシャルに影響が現れ、照射前と比べ閾値電圧ＶＴＨが０．１Ｖ以上変動する場合がある。ＶＴＨが高くなった場合、トランジスタのゲートに検出ダイオードの信号が入力してもトランジスタが導通しにくい状態、つまり有効画素１０１は感度が低下した状態となる。
ここで、劣化検出画素１０２は、検出ダイオードＤ２１の電位に依らず、電源電圧線４０３からの入力と増幅トランジスタＭ２２の閾値電圧ＶＴＨとに応じた信号を信号線２００′に出力する。そして、増幅トランジスタＭ２２の累積放射線量は、有効画素１０１の増幅トランジスタＭ１２の累積放射線量と同等である。故に、増幅トランジスタＭ２２の閾値電圧ＶＴＨは、有効画素１０１の増幅トランジスタＭ２２の閾値電圧ＶＴＨと同様に変動する。劣化検出画素１０２の画素信号は、有効画素１０１の画素信号と同様に、増幅トランジスタＭ１２，Ｍ２２の閾値電圧ＶＴＨの変動に依って変化する。
図４のフローチャートに、本実施形態における制御例を示す。フローチャートの各工程は、特に断らない限り、例えば制御回路２０８（図３）が放射線検出器１に設けられた不図示のメモリからプログラムを読み出して実行することにより実現される。該メモリは、コンピュータで読取可能な非一過性記憶媒体の例である。
まず、放射線検出器１が経年劣化をする前の初期状態（第一状態）で、初期画像を撮影する（Ｓ４１）。その際、第一状態における劣化検出画素１０２の信号Ｖ０（第二状態における画素信号）を列回路部２０４で取得する（Ｓ４２）。信号Ｖ０は、初期画像の撮像と同時に取得することができる。
その後、放射線検出器１を用いた撮影が繰り返し行われることで経年劣化が生じ、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の両方の画素信号が初期状態の信号値から乖離していく（Ｓ４３）。
放射線検出器１が経年劣化した後の状態（第二状態）において、劣化検出画素１０２の出力である信号Ｖ１を列回路部２０４で取得する（Ｓ４４）。信号Ｖ１は、第二状態における画像の撮像と同時に取得することができる。次に、第一状態及び第二状態における劣化検出画素１０２の信号の差分として、調整値ｄＶ１＝Ｖ０－Ｖ１を算出する（Ｓ４５）。
なお、信号Ｖ０、Ｖ１の取得は、列回路部２０４の不図示のメモリバッファで行ってよい。その場合、制御回路２０８で調整値ｄＶ１の計算を行う。また、信号Ｖ０、Ｖ１を列回路部２０４と出力回路２０６で増幅やＡＤ変換を行った後に、演算部２１０（図３）で変換前の信号に換算して調整値ｄＶ１の計算を行ってもよい。これらの例において調整値ｄＶ１を算出する制御回路２０８又は演算部２１０は、第一状態における第二の画素の出力信号（Ｖ０）と、第一状態よりも後の第二状態における第二の画素の出力信号（Ｖ２）と、の差（ｄＶ１）に基づいて、増幅トランジスタＭ１２（第一の増幅トランジスタ）の閾値電圧の変動を検出する検出手段の例である。
調整値ｄＶ１を用いて、制御回路２０８は有効画素１０１を構成する素子の駆動電圧を調整する（Ｓ４６）。つまり、制御回路２０８は、第一状態における第二の画素の出力信号と、第一状態よりも後の第二状態における第二の画素の出力信号と、の差（ｄＶ１）に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧を調整する第一の調整手段の例である。例えば、第一状態における増幅トランジスタＭ１２の電源電圧線３０２の駆動電圧をＶＤＤとし、調整後の駆動電圧をＶＤＤ′とすると、ＶＤＤ′＝ＶＤＤ＋ｄＶ１となるように調整を行う。
なお、トランジスタのドレインとソース間の電位差をＶＤＳとすると、典型的にはＶＤＳ＞ＶＧＳ－ＶＴＨの場合にトランジスタを飽和領域動作させることができる。上記のように増幅トランジスタＭ１２の駆動電圧ＶＤＤに調整値ｄＶ１を加えることで、増幅トランジスタＭ１２の出力電圧をｄＶ１だけシフトさせることで、有効画素１０１の出力レベルを初期状態に近づけることができる。
例えば、増幅トランジスタＭ１２，Ｍ２２としてＮ型ＭＯＳＦＥＴを使用した場合において、放射線のトータルドーズ効果により閾値電圧ＶＴＨが正方向にシフトしたとする。この場合、閾値電圧ＶＴＨが高くなったことで、増幅トランジスタＭ１２が構成するソースフォロワ回路の出力レベルは劣化前に比べて低下する。ここで、劣化検出画素１０２においても同様に閾値電圧ＶＴＨが高くなっているから、劣化後の信号Ｖ１は劣化前の信号Ｖ０より小さく（Ｖ１＜Ｖ０）、調整値ｄＶ１の符号は正になる。そのため、駆動電圧ＶＤＤの調整（Ｓ４６）では、増幅トランジスタＭ１２の駆動電圧ＶＤＤをｄＶ１だけ高くして、有効画素１０１の増幅トランジスタＭ１２が構成するソースフォロワ回路の出力レベルを引き上げることになる。つまり、増幅トランジスタＭ１２の閾値電圧ＶＴＨの正方向シフトの影響を、駆動電圧ＶＤＤの増大によって相殺することにより、有効画素１０１の画素信号のレベルを劣化前の状態に近づけることができる。なお、トランジスタの種類や放射線の影響（例えば、温度によるＶＴＨのシフト）に応じて、ｄＶ１の符号は変化し得る。
つまり、本実施形態によれば、放射線による経年劣化への耐性を向上可能な放射線検出器１を提供することができる。
また、電源電圧線３０２の駆動電圧の調整と同時に、電源電圧線４０２の駆動電圧もＶＤＤからＶＤＤ′に調整することが可能である。画素アレイ１０３の照射領域内の全ての画素を対象として増幅トランジスタＭ１２，Ｍ２２の駆動電圧を調整することで、有効画素１０１の出力レベルの再調整が容易になる。つまり、増幅トランジスタＭ１２，Ｍ２２の駆動電圧をＶＤＤからＶＤＤ′に調整した直後を新たな第一状態として、更に経年劣化が進んだ後の第二状態においてＳ４４～Ｓ４６の処理を行うことを繰り返してもよい。これにより、累積放射線量に応じた経年劣化の進行に応じて、有効画素１０１の出力レベルを適切なレベルに維持し、長期間に亘って放射線検出器１の検出精度を高く維持する（検出器の寿命を延ばす）ことができる。
また、放射線による経年劣化は、画素構造の増幅トランジスタＭ１２以外の部分でも発生する。例えば、検出ダイオードＤ１１の暗電流の増加が挙げられる。
本実施形態によれば、増幅トランジスタＭ１２の閾値変動による有効画素１０１の出力レベルの変動と、検出ダイオードＤ１１の暗電流の増加による有効画素１０１の出力レベルの変動と、を切り分けることが可能である。すなわち、検出ダイオードＤ１１の暗電流によって生じた信号電荷は、増幅トランジスタＭ１２を介して有効画素１０１の画素信号に反映される。そのため、経年劣化による有効画素１０１の出力レベルの変動は、増幅トランジスタＭ１２の閾値変動と検出ダイオードＤ１１の暗電流増加の両方の影響を受ける。
本実施形態によれば、劣化検出画素１０２の検出ダイオードＤ２１と増幅トランジスタＭ２２とが回路的に分離されているため、劣化検出画素１０２の画素信号の出力レベルの変化は、基本的に増幅トランジスタＭ１２の閾値変動を反映したものとなる。そのため、検出ダイオードＤ２１の暗電流増加等、画素構造の他の要素の経年劣化から、増幅トランジスタＭ２２の経年劣化の影響を分離して検出することができる。これにより、放射線による経年劣化により適切な対策をとることが可能となる。
なお、前述のフローチャートにおいて、経年劣化の基準となる時点（第一状態）と経年劣化の程度を判断する時点（第二状態）の間隔（調整間隔）は、任意に設定可能である。例えば、放射線検出器１を用いた撮像回数、放射線の累積照射時間、又は放射線検出器１の使用期間に基づいて調整間隔を決めることができる。例えば、撮像回数等が一定量増加する度に電源電圧線３０２，４０２の駆動電圧ＶＤＤの調整を行ってもよい。
また、電源電圧線３０２，４０２の駆動電圧ＶＤＤの調整は、制御回路２０８で行うものとするが、不図示の電圧調整部を設けてもよい。
また、第三の電源電圧線４０３の駆動電圧は、第一及び第二の電源電圧線３０１，３０２，４０１，４０２の駆動電圧とは異なる値であってもよい。
＜第２実施形態＞
第２実施形態として、リセットトランジスタＭ１１，Ｍ２１のリセット電位となる電源電圧線３０１，４０１の駆動電圧を調整する方法について説明する。以下、第１実施形態と共通の参照符号を付した要素は、特に断らない限り第１実施形態で説明したものと実質的に同じ構成及び作用を有するものとする。
本実施形態に係る放射線検出器１は、第１実施形態と同じ構造を備えており、図４のフローチャートに従って調整値ｄＶ１を算出する（Ｓ４１～Ｓ４５）。ただし、本実施形態では、調整値ｄＶ１を用いて、リセットトランジスタＭ１１，Ｍ２１を駆動する電源電圧線３０１，４０１の駆動電圧ＶＲＥＳを調整する。つまり、制御回路２０８は、第一状態における第二の画素の出力信号と、第一状態よりも後の第二状態における第二の画素の出力信号と、の差（ｄＶ１）に基づいて、第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整する第二の調整手段の例である。
具体的に、電源電圧線３０１の電圧をＶＲＥＳとし、調整後の電圧をＶＲＥＳ′とする。本実施形態では、図４のＳ４６において、ＶＲＥＳ′＝ＶＲＥＳ＋ｄＶ１とする。
経年劣化によって増幅トランジスタＭ１２の閾値電圧が変動した場合、信号電圧が設計上の動作範囲から外れ、動作不良につながる可能性がある。具体的には、閾値電圧ＶＴＨが高くなると、検出ダイオードＤ１１の信号電荷量が小さいときに増幅トランジスタＭ１２のゲート電圧ＶＧＳがＶＴＨを超えられずにソースフォロワ回路の出力が実質的にゼロとなり、結果として有効画素１０１の感度が低下する。
本実施形態によれは、調整値ｄＶ１に基づいてリセットトランジスタＭ１１の駆動電圧ＶＲＥＳを調整することにより、有効画素１０１の感度を維持することができる。
なお、第１実施形態と同様に、照射領域内の全ての有効画素１０１と劣化検出画素１０２を対象として電源電圧線３０１と電源電圧線４０１の駆動電圧ＶＲＥＳをＶＲＥＳ′に調整することが可能である。ＶＲＥＳからＶＲＥＳ′への調整は、リセットトランジスタＭ１１，Ｍ２１がОＮ状態となる制御パルスＲＥＳ（ｍ）、ＲＥＳ（ｍ＋１）が印加された時のみ実行するようにしても同様の効果が得られる。
＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下、第１実施形態と共通の参照符号を付した要素は、特に断らない限り第１実施形態で説明したものと実質的に同じ構成及び作用を有するものとする。
本実施形態は、第１実施形態と第２実施形態を組み合わせたものである。すなわち、図４のＳ４６において、第１実施形態で説明した増幅トランジスタＭ１２の駆動電圧ＶＤＤの調整と、第２実施形態で説明したリセットトランジスタＭ１１の駆動電圧ＶＲＥＳの調整とを同時に行う。つまり、制御回路２０８は、第一状態における第二の画素の出力信号と、第一状態よりも後の第二状態における第二の画素の出力信号と、の差（ｄＶ１）に基づいて、第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧と、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位と、の両方を調整する第三の調整手段の例である。これにより、第１及び第２実施形態と同様の効果を得ることができる。
また、各駆動電圧の調整可能範囲を考慮して、例えば調整値ｄＶ１に予め設定した係数を掛けてＶＤＤとＶＲＥＳの調整量を求めてもよい。一例として、ＶＤＤとＶＲＥＳのそれぞれを、ｄＶ１×０．５の調整量で調整してもよい。係数は０．５以外であってもよい。
駆動電圧ＶＤＤ，ＶＲＥＳの両方を調整することで、対応可能な経年劣化の範囲を広げることができる利点がある。
なお、駆動電圧ＶＤＤ，ＶＲＥＳの両方を調整することで、一方のみを調整する場合に比べて調整量（調整する電圧値）は小さくなる。一般的に、放射線の照射によりゲート電極の絶縁層に保持される電荷の量は絶縁層の電界に依存する。そのため、調整値が大きくトランジスタの電界が高くなると、その後の放射線検出器の劣化耐性が低下してしまう場合がある。調整値ｄＶ１を駆動電圧ＶＤＤ，ＶＲＥＳに分けて同時に調整することで、個々の駆動電圧の調整量を小さくすることができ、駆動電圧の大幅な調整による放射線検出器の劣化耐性が生じることを抑制できる。
＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下、第１実施形態と共通の参照符号を付した要素は、特に断らない限り第１実施形態で説明したものと実質的に同じ構成及び作用を有するものとする。
本実施形態に係る放射線検出器１は、図５のフローチャートに従って、経年劣化による検出ダイオードＤ１１の暗電流レベルの変動を検出する。
図５に示すように、放射線検出器１を用いた撮影が繰り返し行われることで経年劣化が生じ、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の両方の画素信号が初期状態の信号値から乖離していく（Ｓ５１）。
放射線検出器１が経年劣化した後の状態において、有効画素１０１の暗時出力である信号Ｖ２と、劣化検出画素１０２の暗時出力である信号Ｖ１と、を列回路部２０４で取得する（Ｓ５２）。そして、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の信号Ｖ１，Ｖ２を用いて調整値ｄＶ２＝Ｖ２－Ｖ１を算出する（Ｓ５３）。
なお、信号Ｖ１、Ｖ２の取得は、列回路部２０４の不図示のメモリバッファで行ってよい。その場合、制御回路２０８で調整値ｄＶ２の計算を行う。また、信号Ｖ１、Ｖ２を列回路部２０４と出力回路２０６で増幅やＡＤ変換を行った後に、演算部２１０（図３）で変換前の信号に換算して調整値ｄＶ２の計算を行ってもよい。
そして、制御回路２０８は、調整値ｄＶ２を用いて、有効画素１０１を構成する素子の駆動電圧を調整する（Ｓ５４）。つまり、制御回路２０８は、エネルギー線が照射されていない状態でそれぞれ取得した第一の画素の出力信号と第二の画素の出力信号との差（ｄＶ２）に基づいて、第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整する第四の調整手段の例である。
ここで、有効画素１０１の信号Ｖ２は暗電流増加の影響を受けるのに対し、劣化検出画素１０２の信号Ｖ１は検出ダイオードＤ２１の電位に依らない（電源電圧線４０３の駆動電圧ＶＤＤと増幅トランジスタＭ２２の閾値に依存する）。そのため、信号Ｖ１，Ｖ２の差である調整値ｄＶ２は、検出ダイオードＤ１１の暗電流レベルを反映したものとなる。
そこで、検出ダイオードＤ１１のリセットトランジスタＭ１１に与える電源電圧線３０１の駆動電圧ＶＲＥＳを、ＶＲＥＳ′＝ＶＲＥＳ＋ｄＶ２に調整する。これにより、検出ダイオードＤ１１の暗電流による信号の変動分を見越して高い電圧でリセットすることで、リセット不良の発生を低減することができる。
なお、初期状態から駆動電圧ＶＲＥＳを高くする場合と比べて、第３実施形態で詳しく説明したように、トランジスタの電界が高くなることで放射線検出器の劣化耐性が低下することを回避することができる。
＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下、第１実施形態と共通の参照符号を付した要素は、特に断らない限り第１実施形態で説明したものと実質的に同じ構成及び作用を有するものとする。
本実施形態は、第１乃至第４実施形態における駆動電圧の調整に並行して、有効画素１０１の画素信号の信号レンジを調整するものである。
第１乃至第４実施形態では、放射線による経年劣化に対応するために駆動電圧ＶＤＤ，ＶＲＥＳを調整する結果、初期状態又は設計時の想定と比べて有効画素１０１の画素信号の信号レンジが変化する。そこで、列回路部２０４又は出力回路２０６の内部に増幅回路、ゲイン切り替え機構又はＡ／Ｄ変換機等の調整手段（第五の調整手段を設け、これらの調整手段を用いて列回路の読み出し範囲を調整する。駆動電圧ＶＤＤ，ＶＲＥＳの調整値ｄＶ１，ｄＶ２と調整手段のパラメータとの関係は、例えば予め実験的に求めて放射線検出器１のメモリに格納しておくものとする。
つまり、列回路部２０４又は出力回路２０６は、画素アレイ１０３の画素の出力信号を増幅する増幅手段の例である。この増幅手段は、第二の画素の出力信号を用いて第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧と第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位との少なくとも一方を調整する場合に、第一の画素の出力信号を増幅するときのゲインを調整するように構成される。
例えば、信号線２００，２００′を介して列回路部２０４に伝送される信号の値が列回路の読み出し範囲を超えた場合、ゲインや列回路の読み出し範囲を広げるように調整する。これにより、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の調整後の信号を列回路の読み出し範囲内で出力することができる。
＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。以下、第１実施形態と共通の参照符号を付した要素は、特に断らない限り第１実施形態で説明したものと実質的に同じ構成及び作用を有するものとする。
本実施形態に係る放射線検出器１は、図６のフローチャートに従って、経年劣化による検出ダイオードＤ１１の暗電流レベルの変動を検出する。本実施形態は、図５のフローチャートを用いる第４実施形態と異なり、暗電流レベルを検出するための撮像を行うときのフレームレートを通常の撮像時と異なる値にする。
以下、通常撮影用のフレームレート（第一のフレームレート）をｆ１［ｆｐｓ］、調整係数検出用のフレームレート（第二のフレームレート）をｆ２［ｆｐｓ］とする。
図６に示すように、放射線検出器１を用いた撮影が繰り返し行われることで経年劣化が生じ、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の両方の画素信号が初期状態の信号値から乖離していく（Ｓ６１）。
放射線検出器１が経年劣化した後、調整を行うべき時に、フレームレートをｆ１からｆ２に変更し（Ｓ６２）、有効画素１０１の暗時出力である信号Ｖ２″と、劣化検出画素１０２の暗時出力である信号Ｖ１″と、を列回路部２０４で取得する（Ｓ６３）。取得後は、通常撮影用のフレームレートｆ１に戻してよい（Ｓ６４）。
そして、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の信号Ｖ１″，Ｖ２″を用いて調整値ｄＶ３＝（ｆ２／ｆ１）×（Ｖ２″－Ｖ１″）を算出する（Ｓ６５）。算出した調整値ｄＶ３を用いて、有効画素１０１を構成する素子の駆動電圧（例えば、リセット用の駆動電圧ＶＲＥＳ）を調整する（Ｓ６６）。
ｄＶ３の算出式における（ｆ２／ｆ１）は、２種類のフレームレートの比である。つまり、本実施形態では、通常撮影とは異なるフレームレートで有効画素１０１及び劣化検出画素１０２から取得した信号の差を、通常のフレームレートでの値に換算して調整値ｄＶ３を算出する。
言い換えると、本実施形態の検出器は、第二の画素の出力信号を用いて検出器の調整を行う場合には、エネルギー線が照射されていない状態において、第一のフレームレートとは異なる第二のフレームレートで第一の画素及び第二の画素の出力信号を取得する。且つ、検出器は、取得した第一の画素の出力信号と第二の画素の出力信号との差と、第一のフレームレートと第二のフレームレートとの比と、に基づいて、第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整するように構成される。
暗電流が小さい場合、通常撮影よりも低フレームレートにして信号の蓄積時間を長くすることで（ｆ２＜ｆ１）、調整値ｄＶ３の精度を上げることができる。逆に、経年劣化により暗電流が大きくなった場合は、調整時のフレームレートｆ２を低くすることで、信号Ｖ１″の飽和を回避して適切なレンジ内で調整値ｄＶ３を算出することができる。この場合において、ｆ２＞ｆ１としてもよい。
また、本実施形態は、第１乃至第３実施形態又は第５実施形態と同時に実施することができる。
＜第７実施形態＞
第７実施形態について説明する。以下、第１実施形態と共通の参照符号を付した要素は、特に断らない限り第１実施形態で説明したものと実質的に同じ構成及び作用を有するものとする。
図７（ａ）は、本実施形態に係る放射線検出器１の回路図である。図７（ｂ）は、本実施形態における画素の構造を示す平面図である。図７（ａ）、（ｂ）に示すように、放射線検出器１は、画素アレイ１０３の照射領域内に有効画素１０１と劣化検出画素１０２とを有する。有効画素１０１の画素構造は第１実施形態と同様である。
本実施形態の劣化検出画素１０２は、第１実施形態とは異なる画素構造を有する。すなわち、劣化検出画素１０２は、リセットトランジスタＭ２１のソースとドレインをショートさせた短絡部１０６を有する。これにより、劣化検出画素１０２の検出ダイオードＤ２１は常にリセット状態となり、検出ダイオードＤ２１に放射線が照射されても信号電荷が蓄積されず、増幅トランジスタＭ２２のゲート電圧は変動しない。
このように、本実施形態の劣化検出画素１０２は、増幅トランジスタＭ２２の制御電極（ゲート電極）が、リセットトランジスタＭ２１の短絡部１０６を介して定電圧源に接続された画素構造を備える。言い換えると、本実施形態の第二の画素において、リセットトランジスタＭ２１は、定電圧源に接続された第一の主電極（ドレイン）と、増幅トランジスタＭ２２の制御電極（ゲート）と接続された第二の主電極（ソース）と、を有する。且つ、リセットトランジスタＭ２１の前記第一の主電極と前記第二の主電極とが短絡されている。
つまり、有効画素１０１ではエネルギー線の入射量に応じた電圧が増幅トランジスタＭ１２のゲートに印加されるのに対し、劣化検出画素１０２ではエネルギー線の入射量に依存しない定電圧が増幅トランジスタＭ２２のゲートに印加される。これにより、劣化検出画素１０２は、定電圧源から増幅トランジスタＭ２２の主電極に印加される電圧（電源電圧線４０３の駆動電圧）に応じた信号を出力する。
したがって、図１及び図２を用いて説明した構成と同様に、劣化検出画素１０２の信号に基づいて増幅トランジスタＭ１２の閾値変動を検出することができる。また、有効画素１０１の信号と劣化検出画素１０２の信号とに基づいて、検出ダイオードＤ１１の暗電流レベルの変動を検出することができる。故に、本実施形態の劣化検出画素１０２の画素構造を用いる場合も、放射線による経年劣化への耐性を向上させることができる。具体的な経年劣化への対策は、第１乃至第６実施形態で説明した方法を適用することができる。
また、リセットトランジスタＭ２１に短絡部１０６を設けることの利点として、第１実施形態のように電源電圧線４０１とは別個の電源電圧線４０３を設ける必要がないことが挙げられる。これにより、有効画素１０１と劣化検出画素１０２との間で、半導体プロセスのパターニングにおけるレイアウトを近づけることができる。レイアウト差が小さければ、回路特性の均一性を向上させることができる。
＜第８実施形態＞
第８実施形態について説明する。以下、第１実施形態と共通の参照符号を付した要素は、特に断らない限り第１実施形態で説明したものと実質的に同じ構成及び作用を有するものとする。
図８（ａ）は、本実施形態に係る放射線検出器１の回路図である。図８（ｂ）は、本実施形態における画素の構造を示す平面図である。図８（ａ）、（ｂ）に示すように、放射線検出器１は、画素アレイ１０３の照射領域内に有効画素１０１と劣化検出画素１０２とを有する。有効画素１０１の画素構造は第１実施形態と同様である。
本実施形態の劣化検出画素１０２は、第１実施形態及び第２実施形態とは異なる画素構造を有する。すなわち、劣化検出画素１０２のリセットトランジスタＭ２１に対して、垂直走査回路２０７からリセットトランジスタの制御線２０１と並行する第二の制御線２０２が接続される。
第二の制御線２０２は、画素アレイ１０３において有効画素１０１と接続される第一の制御線２０１が配線される行と同じ行に配線される。第二の制御線２０２は、劣化検出画素１０２のリセットトランジスタＭ２１に接続され、且つ、有効画素１０１のリセットトランジスタＭ１１には接続されない。この構成により、劣化検出画素１０２を同一行の有効画素１０１とは独立に駆動することが可能となる。
リセットトランジスタの制御線２０１は、垂直走査回路２０７からの信号を有効画素１０１のリセットトランジスタＭ１１に伝送することで、有効画素１０１における信号蓄積期間や駆動タイミングを制御する。一方、リセットトランジスタの第二の制御線２０２は、劣化検出画素１０２のリセットトランジスタＭ２１に接続される。調整値ｄＶ１，ｄＶ２を算出する場合、リセットトランジスタの第二の制御線２０２を介して、リセットトランジスタＭ２１を導通状態（リセット状態）とする信号値（ハイレベル）がリセットトランジスタＭ２１のゲートに継続的に入力される。
つまり、本実施形態は、劣化検出画素１０２の増幅トランジスタＭ２２のゲートに対し、放射線の入射量に依存しない電圧を入力するように駆動可能な画素構造の一例である。
したがって、図１及び図２を用いて説明した増幅トランジスタＭ２２に電源電圧線４０３を介して所定の駆動電圧ＶＤＤを入力する構成と同様に、劣化検出画素１０２の信号に基づいて増幅トランジスタの閾値変動を検出することができる。また、有効画素１０１の信号と劣化検出画素１０２の信号とに基づいて、検出ダイオードＤ１１の暗電流レベルの変動を検出することができる。故に、本実施形態の劣化検出画素１０２の画素構造を用いる場合も、放射線による経年劣化への耐性を向上させることができる。具体的な経年劣化への対策は、第１乃至第６実施形態で説明した方法を適用することができる。
本実施形態のメリットとして、調整値ｄＶ１，ｄＶ２の取得を行わない場合には、制御線２０２に対して、同じ行の制御線２０１と同様の制御パルス（ＲＥＳ）を流すことができる。これにより、劣化検出画素１０２からの出力信号は、検出ダイオードＤ２１への放射線入射量を反映したものとなり、劣化検出画素１０２の画素信号を放射線検出器１の出力画像データに含めることができる。
言い換えると、本実施形態の第二の画素は、第一の制御線を介して第一のリセットトランジスタに入力される制御信号と同じ制御信号が、第二の制御線を介して第二のリセットトランジスタに入力されることにより、第二の変換素子により蓄積された信号電荷を第二の増幅トランジスタにより増幅した信号を出力するように構成されている。このように、本実施形態によれば、劣化検出画素１０２を一種の有効画素（放射線を検出する画素）として機能させることができる。
（第８実施形態の変形例）
変形例として、劣化検出画素１０２の画素構造を有効画素１０１と同一にして（つまり、制御線２０２を省略して）、制御的に劣化検出画素１０２として機能させてもよい。つまり、通常の撮影時にはリセットタイミングで制御線２０１の制御パルスＲＥＳが送信されるところ、撮影時とは別の調整モードにおいて、制御線２０１の信号値を常時ハイレベルにして劣化検出画素１０２の出力信号を取得する。このとき、リセットトランジスタＭ２１が導通した状態であるから、出力信号は放射線の入射量とは無関係で、リセット電位（ＶＲＥＳ）と増幅トランジスタＭ２２の閾値電圧とに依存する。したがって、初期状態で取得した劣化検出画素１０２の出力信号と、経年劣化が進んだ後に取得した劣化検出画素１０２の出力信号とを比較することで、増幅トランジスタＭ２２の閾値電圧の変動を検出することができる。
つまり、本変形例は、他の実施形態と同様に、第一状態において第二の増幅トランジスタの制御電極に定電圧を印加した時の第二の画素の出力信号と、第一状態よりも後の第二状態において第二の増幅トランジスタの制御電極に前記定電圧を印加した時の第二の画素の出力信号と、の差に基づいて第一の増幅トランジスタの閾値電圧の変動を検出する構成の一例である。
なお、本変形例では、劣化検出画素１０２の画素構造を有効画素１０１と同一にするので、画素アレイ１０３の同一の行に属する劣化検出画素１０２を有効画素１０１から独立して駆動することはできない。これに対し、他の実施形態のように劣化検出画素１０２の画素構造を有効画素１０１の画素構造とは異なるものにしておけば、通像の撮影と同時に劣化検出画素１０２を駆動して、取得した出力信号に基づいて前述の調整値を算出することができる利点がある。
（第１乃至第８実施形態に共通の変形例）
以上説明した第１乃至第８実施形態に共通して、経年劣化を調整するための調整値は、放射線検出器１の撮影期間中にリアルタイムで行っても良いし、調整モードとして一部の撮影期間中とは別の期間に行ってもよい。放射線検出器１の撮影期間とは、画像データを外部に出力するために画素アレイ１０３を駆動し、取得した画素信号を周辺回路で処理して外部出力するまでの期間を指す。つまり、検出器は、画素アレイを用いて画像データを取得して外部に出力する動作の実行中に取得した第二の画素の出力信号を用いて、検出器の調整を行うための調整値を算出するように構成されてよい。調整値は、増幅トランジスタＭ１２の駆動電圧ＶＤＤの調整に用いる調整値ｄＶ１（第一の調整値）、リセットトランジスタＭ１１の駆動電圧ＶＲＥＳ（リセット電位）の調整に用いる調整値ｄＶ２又はｄＶ３（第二の調整値）、又はそれ以外であってもよい。
放射線の照射量については、調整値を算出するために画素アレイ１０３を駆動する期間中は非照射状態（暗時出力）としてもよいし、予め設定した基準量の放射線を照射しながら画素アレイ１０３を駆動してもよい。ただし、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の経年劣化を同等にするため、撮影期間中か調整モードかに関わらず、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の同じタイミングで駆動するようにすることが好ましい。言い換えると、同一行に属する有効画素１０１と劣化検出画素１０２の間では、制御線２０１（２０１′），２０３を介して入力される制御パルスＳＥＬ，ＲＥＳの履歴が、構造上やむを得ない遅延等を除いて一致することが好ましい。
＜第９実施形態＞
第９実施形態について説明する。以下、第１実施形態と共通の参照符号を付した要素は、特に断らない限り第１実施形態で説明したものと実質的に同じ構成及び作用を有するものとする。
本実施形態は、画素アレイ１０３における有効画素１０１と劣化検出画素１０２の配置に関するものである。有効画素１０１及び劣化検出画素１０２の画素構造や、調整値ｄＶ１，ｄＶ２，ｄＶ３の算出方法等は、第１乃至第８実施形態で説明したものを用いることができる。
図９（ａ）～（ｆ）は、有効画素１０１と劣化検出画素１０２の配置例を示す平面図である。図９（ａ）～（ｆ）において、小さな矩形は各画素を表し、ハッチング領域は非照射領域１０５を表す、ハッチングがない領域は照射領域１０４を表す。また、有効画素１０１を白の矩形で表し、劣化検出画素１０２を黒の矩形で表す。
放射線の照射領域は、画素アレイ１０３の全域に設定してもよいが、図示した各例では、画素アレイ１０３の最外周の幅１画素分の画素群は、放射線が照射されない非照射領域（非入射領域、遮蔽領域）に設定される。画素アレイ１０３の最外周の内側の領域は、遮蔽部材に遮蔽されていない領域、つまり放射線が入射するように構成された照射領域（入射領域、非遮蔽領域）である。画素アレイ１０３の最外周を非照射領域とすることで、画素アレイ１０３の外側に放射線がすり抜ける可能性を低減することができる。
非照射領域１０５を設定するには、開口を有する金属板など、放射線が透過しない材料又は放射線を低減する材料からなる遮蔽部材を、非照射領域１０５とする領域に重ねて設置するとよい。遮蔽部材は、検出器の検出対象であるエネルギー線の種類に応じて適切な材料を用いる。上述した通り、本実施形態では、劣化検出画素１０２を有効画素１０１と共に照射領域１０４に配置する。なお、非照射領域１０５に配置する画素は、劣化検出画素１０２又は有効画素１０１の画素構造であっても、それ以外の画素構造であってもよい。
第８実施形態で劣化検出画素１０２を有効画素としても使用する場合を除き、上述した第１乃至第８実施形態では、劣化検出画素１０２の出力信号は劣化検出画素１０２に入射する放射線量を反映しない。そのため、劣化検出画素１０２の周囲の有効画素１０１の出力信号に基づいて、劣化検出画素１０２の画素値（第二の単位セルの単位セル値）を補間することが考えられる。画素値の補間は、例えば画像処理部２１１（図３）が行う。これにより、例えば放射線検出器１は照射領域１０４の全域の画像データを出力することができる。
上記の補間を行う場合、補間の精度を高めるためには、劣化検出画素１０２の周囲に有効画素１０１が多く配置されるレイアウトが好ましい。補間の方法としては、例えば劣化検出画素１０２に隣接する有効画素１０１の画素値を採用してもよいし、劣化検出画素１０２の周囲の所定数の画素の画素値にメディアンフィルタ又は平均値フィルタを適用した値を採用してもよい。
図９（ａ）では、劣化検出画素１０２を、照射領域１０４内で離散的に配置（分散配置）し、周囲に一定数以上の有効画素１０１を配置する。例えば、劣化検出画素１０２の周囲８つの画素が全て照射領域１０４内の有効画素１０１であると好ましい。つまり、画素アレイ１０３において第二の画素群の画素同士が互いに隣接しないように、第二の画素群が配置されると好ましい。このように照射領域１０４に均一に劣化検出画素１０２を分散させることで、調整の精度を確保し、均一性の画像データを出力することができる。
図９（ｂ）は照射領域１０４の外周部に劣化検出画素１０２を配置するレイアウト例である。外周部とは、例えば照射領域１０４の最外周から内側に所定幅までの領域である。所定幅は、画素アレイ１０３の行数又は列数の少ない方の例えば５～１０％程度の幅とする。このような配置とすれば、照射領域１０４の中央部は全て有効画素１０１となるため、撮影対象が位置することの多い中央付近において画素値の補間を行わない高精度な画像を取得できる利点がある。
図９（ｃ）は、照射領域１０４内の一部の領域に劣化検出画素１０２を集中させたレイアウト例である。このような配置にすることで、高精度な画像を取得したい視野領域は有効画素１０１とし、それ以外の領域に劣化検出画素１０２を配置することができる。
図９（ｄ）のように、ランダムに劣化検出画素１０２を配置することも可能である。ランダム配置の場合、劣化検出画素１０２を周期的に配置した場合に比べて、劣化検出画素１０２の周期に起因する不要な信号やノイズを抑制することができる。
画素アレイ１０３から列回路部２０４に画素信号を伝達する信号線の各々に対して少なくとも１つの劣化検出画素１０２が配置されるレイアウトの例を図９（ｅ）、（ｆ）に示す。図９（ｅ）、（ｆ）はどちらも、有効画素１０１の画素信号の読み出しチャンネルごとに少なくとも１つの劣化検出画素１０２が存在するので、チャンネルごとの回路特性（列ごとの回路特性）に起因するノイズを低減することができる。
図９（ｅ）は、劣化検出画素１０２を１行に並べて有効画素１０１の領域を広くとれる利点がある。劣化検出画素１０２を配置した行は、他の行の有効画素１０１の出力信号を用いて画素値を補間してもよく、放射線検出器１の出力画像データには含めない（照射領域１０４内だが有効画素領域外）ことにしてもよい。図９（ｆ）は、照射領域１０４の最上行と最下行に交互に劣化検出画素１０２を配置するレイアウト例である。図９（ｆ）の配置は、例えば画素アレイ１０３の上側と下側に列回路部２０４を分けて配置し、下側の信号線と上側の信号線とを１列ごとに交互に配置する構成において、回路構造に起因するノイズを低減することができる。
＜第１０実施形態＞
第１０実施形態として、放射線検出器１を転送型のＣＭＯＳイメージセンサで構成した図１０（ａ）～（ｃ）の回路図を用いて説明する。
図１０（ａ）に示すように、有効画素１０１は、転送トランジスタＭ１４（第一の転送トランジスタ）と、電荷変換部Ｃ１１（第一の浮遊拡散容量部）と、を有する。劣化検出画素１０２は、転送トランジスタＭ２４（第二の転送トランジスタ）と、電荷変換部Ｃ２１（第二の浮遊拡散容量部）と、を有する。また、有効画素１０１及び劣化検出画素１０２は、第１実施形態と同様に、検出ダイオードＤ１１，Ｄ２１と、リセットトランジスタＭ１１，Ｍ２１と、増幅トランジスタＭ１２，Ｍ２２と、選択トランジスタＭ１３，Ｍ２３と、を有する。
有効画素１０１の転送トランジスタＭ１４は、電荷変換部Ｃ１１、リセットトランジスタＭ１１及び増幅トランジスタＭ１２が接続されたノードと、検出ダイオードＤ１１との間の電気的経路に設けられている。同様に、劣化検出画素１０２の転送トランジスタＭ２４は、電荷変換部Ｃ２１、リセットトランジスタＭ２１及び増幅トランジスタＭ２２が接続されたノードと、検出ダイオードＤ２１との間の電気的経路に設けられている。
リセットトランジスタＭ１１、Ｍ２１のドレインには、第一の電源電圧線３０１，４０１を介して駆動電圧ＶＲＥＳが供給される。増幅トランジスタＭ１２、Ｍ２２のドレインには、第二の電源電圧線３０２，４０２を介して駆動電圧ＶＤＤが供給される。選択トランジスタＭ１３、Ｍ２３は、増幅トランジスタＭ１２、Ｍ２２と信号線２００、２００′との間の電気的経路に設けられている。電荷変換部Ｃ１１、Ｃ１２は、半導体基板内に設けられた浮遊拡散容量と、転送トランジスタＭ１４、Ｍ２４から当該浮遊拡散部を介して増幅トランジスタＭ１２、Ｍ２２に至る電気的経路の寄生容量を含む。
有効画素１０１では、転送トランジスタＭ１４と電荷変換部Ｃ１１とを介して、検出ダイオードＤ１１と増幅トランジスタＭ１２のゲートが接続される。一方、劣化検出画素１０２においては、増幅トランジスタＭ２２（第二の増幅トランジスタ）のゲートは電荷変換部Ｃ２１と接続されておらず、検出ダイオードＤ２１（第二の変換素子）から絶縁されている。増幅トランジスタＭ２２のゲートは、第３の電源電圧線４０３に接続される。
このように、本実施形態の劣化検出画素１０２は、増幅トランジスタＭ２２の制御電極（ゲート電極）が、電源電圧線４０３を介して定電圧源に接続された画素構造を備える。電源電圧線４０３は、リセットトランジスタＭ２１の主電極に電圧を供給する第一の電源線（電源電圧線４０１）及び増幅トランジスタＭ２２の主電極に電圧を供給する第二の電源線（電源電圧線４０２）とは別の第三の電源線である。
つまり、有効画素１０１ではエネルギー線の入射量に応じた電圧が増幅トランジスタＭ１２のゲートに印加されるのに対し、劣化検出画素１０２ではエネルギー線の入射量に依存しない定電圧が増幅トランジスタＭ２２のゲートに印加される。これにより、劣化検出画素１０２は、定電圧源から増幅トランジスタＭ２２の主電極に印加される電圧（電源電圧線４０３の駆動電圧）に応じた信号を出力するように構成されている。
また、転送型のＣＭＯＳイメージセンサの画素構造を備えた劣化検出画素１０２の他の構成として、第７実施形態や第８実施形態と類似した構成も可能である。
図１０（ｂ）に示すように、第７実施形態と同様に、劣化検出画素１０２のリセットトランジスタＭ２１のドレインとソースを短絡させてもよい。つまり、第二の画素としての劣化検出画素１０２において、リセットトランジスタＭ２１は、定電圧源に接続された第一の主電極と、第二の浮遊拡散容量部（電荷変換部Ｃ２１）と接続された第二の主電極と、を有する。且つ、劣化検出画素１０２において、前記第一の主電極と前記第二の主電極とが短絡される。これにより、劣化検出画素１０２は、定電圧源から増幅トランジスタＭ２２の主電極に印加される電圧（リセットトランジスタＭ２１の駆動電圧）に応じた信号を出力するように構成されている。
また、図１０（ｃ）に示すように、第８実施形態と同様に、有効画素１０１のリセットトランジスタＭ１１の制御線２０１とは別の制御線２０２を、劣化検出画素１０２のリセットトランジスタＭ２１に接続してもよい。また、転送トランジスタＭ１４を常にОＦＦ状態とするように構成してもよい。
これらの構成によって、電荷転送動作によってノイズ発生を抑制可能な転送型の画素構造においても、劣化検出画素１０２を用いてトランジスタの閾値変動等を検出し、放射線による経年劣化への耐性を向上させることができる。
＜第１１実施形態＞
以上の第１乃至第１０実施形態では、検出器の構成例について説明した。本実施形態では、検出器を備えた検出システムの例としての放射線撮像システムを説明する。
図１１に示す放射線撮像システム１１００は、放射線検出器としての撮像部１１０１と、曝射制御部１１０２と、エネルギー線の照射部としての線源１１０３と、コンピュータ１１０４と、を含む検出システムである。撮像部１１０１は、画素アレイを備えた撮像パネル１００Ｐを有する。撮像部１１０１の構成としては、第１乃至第１０実施形態で説明したものを用いることができる。
線源１１０３は、曝射制御部１１０２からの曝射指令に従って放射線の照射を開始する。線源１１０３から放射された放射線は、撮像対象（被検体）を透過して撮像部１１０１の撮像パネル１００Ｐに入射する。線源１１０３は、曝射制御部１１０２からの停止指令に従って放射線の放射を停止する。
撮像部１１０１は、例えば、医療画像診断や非破壊検査などで放射線撮影に用いるフラットパネルディテクターである。撮像部１１０１の撮像パネル１００Ｐは、撮像対象のサイズに合わせた大きさの板状とすることができる。例えば、撮像パネル１００Ｐは、５５０ｍｍ×４４５ｍｍの基板に対して、３３００×２８００の画素が配される。
撮像部１１０１は、撮像パネル１００Ｐの画素アレイに設けた検出ダイオードによって放射線を信号電荷に変換する直接変換型の構成であってよい。また、撮像部１１０１は、撮像パネル１００Ｐの画素アレイの上層に設けたシンチレータ層によって放射線を蛍光に変換し、該蛍光を画素アレイの検出ダイオードによって信号電荷に変換する間接変換型の構成であってもよい。
撮像部１１０１は、上述の撮像パネル１００Ｐと、撮像パネル１００Ｐを制御するための制御部１１０５と、撮像パネル１００Ｐから出力される信号を処理するための信号処理部１１０６と、を含む。信号処理部１１０６は、例えば、撮像パネル１００Ｐから出力される信号をＡ／Ｄ変換し、コンピュータ１１０４にデジタル画像データとして出力してもよい。また、信号処理部１１０６は、例えば、撮像パネル１００Ｐから出力される信号に基づいて、線源１１０３からの放射線の照射を停止させるための停止信号を生成してもよい。停止信号は、コンピュータ１１０４を介して曝射制御部１１０２に供給され、曝射制御部１１０２は、停止信号に応答して線源１１０３に対して停止指令を送る。
制御部１１０５は、例えば、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙの略。）などのＰＬＤ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅの略。）、または、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔの略。）、または、プログラムが組み込まれた汎用コンピュータ、または、これらの全部または１部の組み合わせによって構成されうる。
本実施形態において、信号処理部１１０６は、制御部１１０５の中に配される、または制御部１１０５の一部の機能であるように示されているが、これに限られるものではない。制御部１１０５と信号処理部１１０６とは、それぞれ別の構成であってもよい。さらに、信号処理部１１０６は、撮像部１１０１とは別に配されていてもよい。例えば、コンピュータ１１０４が、信号処理部１１０６の機能を有していてもよい。このため、信号処理部１１０６は、撮像部１１０１から出力される信号を処理する信号処理装置として、放射線撮像システム１１００に含まれうる。
コンピュータ１１０４は、撮像部１１０１および曝射制御部１１０２の制御や、撮像部１１０１から放射線画像データを受信し、放射線画像として表示するための処理を行いうる。また、コンピュータ１１０４は、ユーザが放射線画像の撮像を行う条件を入力するための入力部として機能しうる。
一例として、曝射制御部１１０２は、曝射スイッチを有し、ユーザによって曝射スイッチがオンされると、曝射指令を線源１１０３に送るほか、放射線の放射の開始を示す開始通知をコンピュータ１１０４に送る。開始通知を受けたコンピュータ１１０４は、開始通知に応答して、放射線の照射の開始を撮像部１１０１の制御部１１０５に通知する。これに応じて、制御部１１０５は、撮像パネル１００Ｐにおいて、入射する放射線に応じた信号を生成させる。
＜第１２実施形態＞
本実施形態では、検出器を備えた検出システムの他の例を説明する。図１２（ａ）は、放射線検出器１を備えた検出システムとしての機器ＥＱＰを示している。
放射線検出器１は、画素がマトリックス配列された画素アレイ１０３とその周辺の周辺領域ＰＲを有する。周辺領域ＰＲには周辺回路（例えば、垂直走査回路や列回路部）を設けることができる。
機器ＥＱＰは、光学系ＯＰＴ、制御装置ＣＴＲＬ、処理装置ＰＲＣＳ、表示装置ＤＳＰＬ、記憶装置ＭＭＲＹ、機械装置ＭＣＨＮの少なくともいずれかをさらに備え得る。光学系ＯＰＴは放射線を放射線検出器１に結像するものであり、例えばレンズやシャッター、ミラーである。光学系ＯＰＴは、扱う放射線の種類に応じて、例えば電子線や陽子線等の粒子線を放射線検出器１に結像するものであってもよい。制御装置ＣＴＲＬは放射線検出器１を制御するものであり、例えばＡＳＩＣである。処理装置ＰＲＣＳは放射線検出器１から出力された信号を処理するものであり、ＡＦＥ（アナログフロントエンド）あるいはＤＦＥ（デジタルフロントエンド）を構成するための、ＣＰＵやＡＳＩＣなどの装置である。表示装置ＤＳＰＬは放射線検出器１で得られた情報を可視画像等の形式で表示する、ＥＬ表示装置や液晶表示装置である。記憶装置ＭＭＲＹは、放射線検出器１で得られた情報を記憶する、磁気デバイスや半導体デバイスである。記憶装置ＭＭＲＹは、ＳＲＡＭやＤＲＡＭなどの揮発性メモリ、あるいは、フラッシュメモリやハードディスクドライブなどの不揮発性メモリである。機械装置ＭＣＨＮはモーターやエンジン等の可動部あるいは推進部を有する。
機器ＥＱＰは、放射線検出器１から出力された信号を表示装置ＤＳＰＬに表示したり、機器ＥＱＰが備える通信装置（不図示）によって外部に送信したりする。そのために、機器ＥＱＰは、放射線検出器１が有する記憶回路や演算回路とは別に、記憶装置ＭＭＲＹや処理装置ＰＲＣＳを更に備えることが好ましい。機械装置ＭＣＨＮは、放射線検出器１から出力され信号に基づいて制御されてもよい。
図１２（ａ）に示した機器ＥＱＰは、内視鏡や放射線診断機器などの医療機器や、測距センサなどの計測機器、電子顕微鏡のような分析機器であってもよい。
図１２（ｂ）は、機器ＥＱＰの例として、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の構成を示す概略図である。電子顕微鏡としての機器ＥＱＰは、エネルギー線（電子線）の照射部としての電子線源１２０２（電子銃）と、照射レンズ１２０４と、真空チャンバー１２０１（鏡筒）と、対物レンズ１２０６と、拡大レンズ系１２０７と、を有する。また、機器ＥＱＰは、撮像部としてのカメラ１２０９と、を有する。カメラ１２０９は、直接検出型の放射線検出器１としての直接放射線検出器１２００を備える。
電子線源１２０２より放出されたエネルギー線である電子線１２０３は、照射レンズ１２０４によって集束され、試料ホルダーに保持されている、分析対象としての試料Ｓに照射される。電子線１２０３が通過する空間は、真空チャンバー１２０１（鏡筒）によって形成され、この空間は真空に保持される。放射線検出器１は電子線１２０３が通過する真空の空間に面するように配置される。試料Ｓを透過した電子線１２０３は、対物レンズ１２０６と拡大レンズ系１２０７により拡大され、放射線検出器１に投影される。試料Ｓに電子線を照射するための電子光学系を照射光学系といい、試料Ｓを透過した電子線を放射線検出器１に結像させるための電子光学系を結像光学系という。
電子線源１２０２は、電子線源制御装置１２１１によって制御される。照射レンズ１２０４は、照射レンズ制御装置１２１２によって制御される。対物レンズ１２０６は、対物レンズ制御装置１２１３によって制御される。拡大レンズ系１２０７は、拡大レンズ系制御装置１２１４によって制御される。試料ホルダーの制御機構１２０５は、試料ホルダーの駆動機構を制御するホルダー制御装置１２１５によって制御される。
試料Ｓを透過した電子線１２０３は、カメラ１２０９の直接放射線検出器１２００で検出される。直接放射線検出器１２００からの出力信号は、処理装置ＰＲＣＳとしての信号処理装置１２１６と画像処理装置１２１８によって処理され、画像信号が生成される。生成された画像信号（透過電子像）が表示装置ＤＳＰＬに相当する画像表示用モニタ１２２０と解析用モニタ１２２１に表示される。
カメラ１２０９は機器ＥＱＰの下部に設けられる。カメラ１２０９は、直接放射線検出器１２００（Ｄｉｒｅｃｔ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）を有する。直接放射線検出器１２００が撮像素子１００に相当する。カメラ１２０９の少なくとも一部は真空チャンバー１２０１によって形成された真空空間に露出するように、カメラ１２０９の中に設けられる。
電子線源制御装置１２１１と、照射レンズ制御装置１２１２と、対物レンズ制御装置１２１３と、拡大レンズ系制御装置１２１４と、ホルダー制御装置１２１５のそれぞれは、画像処理装置１２１８と接続されている。これにより、電子顕微鏡の撮影条件を設定するために、相互にデータのやりとりが行えるようになっている。例えば、０．５ｅｌｅｃｔｒｏｎ／ｐｉｘ／ｆｒｍ以下となるように電子線の照射レートを設定することができる。この場合、電子線源制御装置１２１１及び画像処理装置１２１８は、放射線の照射レートを制御する制御手段として機能する。画像処理装置１２１８からの信号によって、試料ホルダーの駆動制御や各レンズの観察条件の設定ができる。
オペレータは撮影対象となる試料Ｓを準備し、画像処理装置１２１８に接続されている入力装置１２１９を用いて撮影条件を設定する。電子線源制御装置１２１１と、照射レンズ制御装置１２１２と、対物レンズ制御装置１２１３と、拡大レンズ系制御装置１２１４に、それぞれ所定のデータを入力し、所望の加速電圧、倍率、観察モードが得られるようにする。また、オペレータは、連続視野像枚数、撮影開始位置、試料ホルダーの移動速度などの条件を、マウスやキーボード、タッチパネルなどの入力装置１２１９を用いて画像処理装置１２１８に入力する。オペレータの入力によらずに画像処理装置１２１８が自動的に条件を設定する仕様としてもよい。
以上の第１１、第１２実施形態で説明した検出システムは例示に過ぎず、第１乃至第１０実施形態で説明した検出器を他の検出システムに適用してもよい。
＜その他の実施形態＞
上述した第１乃至第１０実施形態では、放射線検出器１として、入射する放射線を検出ダイオード等の変換素子によって電気信号に直接変換する直接変換型の構成を説明した。これに限らず、放射線検出器は、入射する放射線をシンチレータによって蛍光に変換し、この蛍光を光電変換素子によって電気信号に変換する間接変換型の構成であってもよい。
また、第１乃至第１０実施形態では、エネルギー線として放射線を想定した放射線検出器について説明したが、本開示の技術は、エネルギー線として光（可視光又は赤外光等の、電離放射線以外の電磁波）を用いる光検出器にも適用可能である。
光検出器の場合、撮像時の光の照射が直接、放射線による経年劣化を引き起こことはないが、環境中の放射線により経年劣化は避けられない。具体例として、原子力発電所等で使用する監視カメラ、作業ロボット、ドローンや、人工衛星に搭載するカメラ等、比較的高線量の放射線に曝される環境で使用される装置に搭載する光検出器について、本開示の技術を好適に適用することができる。
本発明は、上述の実施形態の１以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。
＜本開示のまとめ＞
本開示は、少なくとも以下の構成を備える。
（構成１）
複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、
前記複数の単位セルは、
入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅して出力する第一の単位セルと、
制御電極を定電圧源に接続された第二の増幅トランジスタを有し、前記第二の増幅トランジスタにより前記定電圧源の電圧に応じた信号を出力する第二の単位セルと、
を含み、
前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置されている、
ことを特徴とする検出器。
（構成２）
前記第二の単位セルは、入射した前記エネルギー線を電荷に変換して蓄積する第二の変換素子を更に有する、
ことを特徴とする構成１に記載の検出器。
（構成３）
前記第二の変換素子は、前記第二の増幅トランジスタから絶縁されている、
ことを特徴とする構成２に記載の検出器。
（構成４）
前記第二の単位セルは、前記第二の変換素子に蓄積された電荷をリセットするリセットトランジスタを更に有し、
前記検出器は、
前記リセットトランジスタの主電極に電圧を供給する第一の電源線と、
前記第二の増幅トランジスタの主電極に電圧を供給する第二の電源線と、
前記第二の増幅トランジスタの前記制御電極に前記定電圧源からの電圧を供給する第三の電源線と、
を更に備える、
ことを特徴とする構成２又は３に記載の検出器。
（構成５）
前記第二の単位セルは、前記第二の変換素子に蓄積された電荷をリセットするリセットトランジスタを更に有し、
前記リセットトランジスタは、前記定電圧源に接続された第一の主電極と、前記増幅トランジスタの前記制御電極と接続された第二の主電極と、を有し、且つ、前記第一の主電極と前記第二の主電極とが短絡されている、
ことを特徴とする構成２に記載の検出器。
（構成６）
前記第一の単位セルは、電荷を保持する第一の浮遊拡散容量部と、前記第一の変換素子に蓄積された電荷を前記第一の浮遊拡散容量部に転送する第一の転送トランジスタと、を更に有し、
前記第二の単位セルは、電荷を保持する第二の浮遊拡散容量部と、前記第二の変換素子に蓄積された電荷を前記第二の浮遊拡散容量部に転送する第二の転送トランジスタと、を更に有する、
ことを特徴とする構成２に記載の検出器。
（構成７）
前記第二の浮遊拡散容量部は、前記第二の増幅トランジスタから絶縁されている、
ことを特徴とする構成６に記載の検出器。
（構成８）
前記第二の単位セルは、前記第二の浮遊拡散容量部の電位をリセットするリセットトランジスタを更に有し、
前記検出器は、
前記リセットトランジスタの主電極に電圧を供給する第一の電源線と、
前記第二の増幅トランジスタの主電極に電圧を供給する第二の電源線と、
前記第二の増幅トランジスタの前記制御電極に前記定電圧源からの電圧を供給する第三の電源線と、
を更に備える、
ことを特徴とする構成６又は７に記載の検出器。
（構成９）
前記第二の単位セルは、前記第二の浮遊拡散容量部の電位をリセットするリセットトランジスタを更に有し、
前記リセットトランジスタは、前記定電圧源に接続された第一の主電極と、前記第二の浮遊拡散容量部と接続された第二の主電極と、を有し、且つ、前記第一の主電極と前記第二の主電極とが短絡されている、
ことを特徴とする構成６に記載の検出器。
（構成１０）
複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、
前記複数の単位セルは、
入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、前記第一の増幅トランジスタの前記制御電極の電位をリセットする第一のリセットトランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅した信号を出力する第一の単位セルと、
第二の増幅トランジスタと、前記第二の増幅トランジスタの制御電極に接続された第二のリセットトランジスタと、を有し、前記第二の増幅トランジスタの前記制御電極の電位に応じた信号を出力する第二の単位セルと、
を含み、
前記検出器は、
前記単位セルアレイの行ごとに配線され、前記第一のリセットトランジスタの制御電極に接続された第一の制御線と、
前記単位セルアレイの前記第二の単位セルを含む行に前記第一の制御線と並行して配線され、前記第二のリセットトランジスタの制御電極に接続され且つ前記第一のリセットトランジスタの制御電極に接続されていない第二の制御線と、
を更に有し、
前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置されている、
ことを特徴とする検出器。
（構成１１）
前記第二の単位セルの出力信号を用いて前記検出器の調整を行う場合に、前記第二のリセットトランジスタを常に導通状態とする制御信号を前記第二の制御線に出力する垂直走査回路を更に備える、
ことを特徴とする構成１０に記載の検出器。
（構成１２）
前記第二の単位セルは、
入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第二の変換素子を更に有し、且つ、
前記第一の制御線を介して前記第一のリセットトランジスタに入力される制御信号と同じ制御信号が、前記第二の制御線を介して前記第二のリセットトランジスタに入力されることにより、前記第二の変換素子により蓄積された信号電荷を前記第二の増幅トランジスタにより増幅した信号を出力するように構成されている、
ことを特徴とする構成１０又は１１に記載の検出器。
（構成１３）
前記第一の単位セルは、電荷を保持する第一の浮遊拡散容量部と、前記第一の変換素子に蓄積された電荷を前記第一の浮遊拡散容量部に転送する第一の転送トランジスタと、を更に有し、
前記第二の単位セルは、電荷を保持する第二の浮遊拡散容量部と、入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第二の変換素子と、前記第二の変換素子に蓄積された電荷を前記第二の浮遊拡散容量部に転送する第二の転送トランジスタと、を更に有する、
ことを特徴とする構成１０乃至１２のいずれかに記載の検出器。
（構成１４）
複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、
前記複数の単位セルは、
入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅した信号を出力する第一の単位セルと、
第二の増幅トランジスタを有し、前記第二の増幅トランジスタの制御電極に印加される電圧に応じた信号を出力する第二の単位セルと、
を含み、
前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置され、且つ、
第一状態において前記第二の増幅トランジスタの制御電極に定電圧を印加した時の前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態において前記第二の増幅トランジスタの制御電極に前記定電圧を印加した時の前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて前記第一の増幅トランジスタの閾値電圧の変動を検出するように構成されている、
ことを特徴とする検出器。
（構成１５）
第一状態における前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態における前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの閾値電圧の変動を検出する検出手段を更に備える、
ことを特徴とする構成１乃至１３のいずれかに記載の検出器。
（構成１６）
第一状態における前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態における前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧を調整する第一の調整手段を更に備える、
ことを特徴とする構成１乃至１５のいずれかに記載の検出器。
（構成１７）
第一状態における前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態における前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整する第二の調整手段を更に備える、
ことを特徴とする構成１乃至１６のいずれかに記載の検出器。
（構成１８）
第一状態における前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態における前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧と、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位と、の両方を調整する第三の調整手段を更に備える、
ことを特徴とする構成１乃至１７のいずれかに記載の検出器。
（構成１９）
前記エネルギー線が照射されていない状態でそれぞれ取得した前記第一の単位セルの出力信号と前記第二の単位セルの出力信号との差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整する第四の調整手段を更に備える、
ことを特徴とする構成１乃至１８のいずれかに記載の検出器。
（構成２０）
前記単位セルアレイの単位セルの出力信号を増幅する増幅手段を更に備え、
前記増幅手段は、前記第二の単位セルの出力信号を用いて前記第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧と前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位との少なくとも一方を調整した場合に、前記第一の単位セルの出力信号を増幅するときのゲインを調整する、
ことを特徴とする構成１乃至１９のいずれかに記載の検出器。
（構成２１）
前記検出器は、
前記第一の単位セルの出力信号に基づく画像データを外部に出力する場合には、第一のフレームレートで前記第一の単位セルの出力信号を取得し、
前記第二の単位セルの出力信号を用いて前記検出器の調整を行う場合には、前記エネルギー線が照射されていない状態において、前記第一のフレームレートとは異なる第二のフレームレートで前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルの出力信号を取得し、且つ、取得した前記第一の単位セルの出力信号と前記第二の単位セルの出力信号との差と、前記第一のフレームレートと前記第二のフレームレートとの比と、に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整するように構成されている、
ことを特徴とする構成１乃至２０のいずれかに記載の検出器。
（構成２２）
前記単位セルアレイの単位セルを行ごとに駆動する垂直走査回路を更に備え、
前記垂直走査回路は、同一の行に属する前記第一の単位セルと前記第二の単位セルとを同じタイミングで駆動する、
ことを特徴とする構成１乃至２１のいずれかに記載の検出器。
（構成２３）
前記検出器は、前記単位セルアレイを用いて画像データを取得して外部に出力する動作の実行中に取得した前記第二の単位セルの出力信号を用いて、前記検出器の調整を行うための調整値を算出するように構成されている、
ことを特徴とする構成１乃至２２のいずれかに記載の検出器。
（構成２４）
前記単位セルアレイは、前記入射領域内に第一の単位セル群及び第二の単位セル群を有し、
前記第一の単位セル群は、前記第一の単位セルと同じ単位セル構造を備えた複数の単位セルからなり、
前記第二の単位セル群は、前記第二の単位セルと同じ単位セル構造を備えた複数の単位セルからなる、
ことを特徴とする構成１乃至２３のいずれかに記載の検出器。
（構成２５）
前記第二の単位セル群の各単位セルに隣接する前記第一の単位セル群の単位セルの出力信号を用いて、前記第二の単位セル群の各単位セルの単位セル値を補間した画像データを外部に出力するように構成されている、
ことを特徴とする構成２４に記載の検出器。
（構成２６）
前記単位セルアレイにおいて前記第二の単位セル群の単位セル同士が互いに隣接しないように、前記第二の単位セル群が配置される、
ことを特徴とする構成２５に記載の検出器。
（構成２７）
前記単位セルアレイの列ごとに設けられた信号線と、
前記信号線を介して前記単位セルアレイの列ごとの単位セルの出力信号を受け取る列回路部と、
を更に備え、
前記単位セルアレイの各列に前記第二の単位セル群の単位セルが少なくとも１つ配置される、
ことを特徴とする構成２４乃至２６のいずれかに記載の検出器。
（構成２８）
前記第二の単位セル群は、前記単位セルアレイの前記入射領域の外周部に配置される、
ことを特徴とする構成２４乃至２７のいずれかに記載の検出器。
（構成２９）
前記エネルギー線を遮蔽する遮蔽部材を更に備え、
前記入射領域は、前記遮蔽部材に遮蔽されていない領域である、
ことを特徴とする構成１乃至２８のいずれかに記載の検出器。
（構成３０）
前記第一の増幅トランジスタ及び前記第二の増幅トランジスタは、ゲート領域に絶縁膜を有する電界効果トランジスタである、
ことを特徴とする構成１乃至２９のいずれかに記載の検出器。
（構成３１）
前記エネルギー線は、放射線であり、
前記第一の変換素子は、放射線を信号電荷に直接変換する素子である、
ことを特徴とする構成１乃至３０のいずれかに記載の検出器。
（構成３２）
前記エネルギー線は、放射線であり、
放射線が入射すると蛍光を発するシンチレータを更に備え、
前記第一の変換素子は、前記蛍光を信号電荷に変換する素子である、
ことを特徴とする構成１乃至３０のいずれかに記載の検出器。
（構成３３）
前記エネルギー線は、光であり、
前記第一の変換素子は、光を信号電荷に変換する素子である、
ことを特徴とする構成１乃至３０のいずれかに記載の検出器。
（構成３４）
エネルギー線を対象に照射する照射部と、
前記エネルギー線の照射により生じたエネルギー線の像を検出する構成１乃至３３のいずれかに記載の検出器と、
を備えることを特徴とする検出システム。
１０１：有効画素（第一の単位セル）／１０２：劣化検出画素（第二の単位セル）／１０３：画素アレイ（単位セルアレイ）／１０４：照射領域（入射領域）／１０６：短絡部／２００：信号線／２０１：第一の制御線／２０２：第二の制御線／４０１：電源電圧線（第一の電源線）／４０２：電源電圧線（第二の電源線）／４０３：電源電圧線（第三の電源線）／Ｃ１１：電荷変換部（第一の浮遊電荷容量部）／Ｃ２１：電荷変換部（第二の浮遊電荷容量部）／Ｄ１１：検出ダイオード（第一の変換素子）／Ｄ２１：検出ダイオード（第二の変換素子）／Ｍ１２：増幅トランジスタ（第一の増幅トランジスタ）／Ｍ２２：増幅トランジスタ（第二の増幅トランジスタ）

Claims (34)

  1. 複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、
    前記複数の単位セルは、
    入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅して出力する第一の単位セルと、
    制御電極を定電圧源に接続された第二の増幅トランジスタを有し、前記第二の増幅トランジスタにより前記定電圧源の電圧に応じた信号を出力する第二の単位セルと、
    を含み、
    前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置されている、
    ことを特徴とする検出器。
  2. 前記第二の単位セルは、入射した前記エネルギー線を電荷に変換して蓄積する第二の変換素子を更に有する、
    ことを特徴とする請求項１に記載の検出器。
  3. 前記第二の変換素子は、前記第二の増幅トランジスタから絶縁されている、
    ことを特徴とする請求項２に記載の検出器。
  4. 前記第二の単位セルは、前記第二の変換素子に蓄積された電荷をリセットするリセットトランジスタを更に有し、
    前記検出器は、
    前記リセットトランジスタの主電極に電圧を供給する第一の電源線と、
    前記第二の増幅トランジスタの主電極に電圧を供給する第二の電源線と、
    前記第二の増幅トランジスタの前記制御電極に前記定電圧源からの電圧を供給する第三の電源線と、
    を更に備える、
    ことを特徴とする請求項２に記載の検出器。
  5. 前記第二の単位セルは、前記第二の変換素子に蓄積された電荷をリセットするリセットトランジスタを更に有し、
    前記リセットトランジスタは、前記定電圧源に接続された第一の主電極と、前記増幅トランジスタの前記制御電極と接続された第二の主電極と、を有し、且つ、前記第一の主電極と前記第二の主電極とが短絡されている、
    ことを特徴とする請求項２に記載の検出器。
  6. 前記第一の単位セルは、電荷を保持する第一の浮遊拡散容量部と、前記第一の変換素子に蓄積された電荷を前記第一の浮遊拡散容量部に転送する第一の転送トランジスタと、を更に有し、
    前記第二の単位セルは、電荷を保持する第二の浮遊拡散容量部と、前記第二の変換素子に蓄積された電荷を前記第二の浮遊拡散容量部に転送する第二の転送トランジスタと、を更に有する、
    ことを特徴とする請求項２に記載の検出器。
  7. 前記第二の浮遊拡散容量部は、前記第二の増幅トランジスタから絶縁されている、
    ことを特徴とする請求項６に記載の検出器。
  8. 前記第二の単位セルは、前記第二の浮遊拡散容量部の電位をリセットするリセットトランジスタを更に有し、
    前記検出器は、
    前記リセットトランジスタの主電極に電圧を供給する第一の電源線と、
    前記第二の増幅トランジスタの主電極に電圧を供給する第二の電源線と、
    前記第二の増幅トランジスタの前記制御電極に前記定電圧源からの電圧を供給する第三の電源線と、
    を更に備える、
    ことを特徴とする請求項６に記載の検出器。
  9. 前記第二の単位セルは、前記第二の浮遊拡散容量部の電位をリセットするリセットトランジスタを更に有し、
    前記リセットトランジスタは、前記定電圧源に接続された第一の主電極と、前記第二の浮遊拡散容量部と接続された第二の主電極と、を有し、且つ、前記第一の主電極と前記第二の主電極とが短絡されている、
    ことを特徴とする請求項６に記載の検出器。
  10. 複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、
    前記複数の単位セルは、
    入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、前記第一の増幅トランジスタの前記制御電極の電位をリセットする第一のリセットトランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅した信号を出力する第一の単位セルと、
    第二の増幅トランジスタと、前記第二の増幅トランジスタの制御電極に接続された第二のリセットトランジスタと、を有し、前記第二の増幅トランジスタの前記制御電極の電位に応じた信号を出力する第二の単位セルと、
    を含み、
    前記検出器は、
    前記単位セルアレイの行ごとに配線され、前記第一のリセットトランジスタの制御電極に接続された第一の制御線と、
    前記単位セルアレイの前記第二の単位セルを含む行に前記第一の制御線と並行して配線され、前記第二のリセットトランジスタの制御電極に接続され且つ前記第一のリセットトランジスタの制御電極に接続されていない第二の制御線と、
    を更に有し、
    前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置されている、
    ことを特徴とする検出器。
  11. 前記第二の単位セルの出力信号を用いて前記検出器の調整を行う場合に、前記第二のリセットトランジスタを常に導通状態とする制御信号を前記第二の制御線に出力する垂直走査回路を更に備える、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の検出器。
  12. 前記第二の単位セルは、
    入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第二の変換素子を更に有し、且つ、
    前記第一の制御線を介して前記第一のリセットトランジスタに入力される制御信号と同じ制御信号が、前記第二の制御線を介して前記第二のリセットトランジスタに入力されることにより、前記第二の変換素子により蓄積された信号電荷を前記第二の増幅トランジスタにより増幅した信号を出力するように構成されている、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の検出器。
  13. 前記第一の単位セルは、電荷を保持する第一の浮遊拡散容量部と、前記第一の変換素子に蓄積された電荷を前記第一の浮遊拡散容量部に転送する第一の転送トランジスタと、を更に有し、
    前記第二の単位セルは、電荷を保持する第二の浮遊拡散容量部と、入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第二の変換素子と、前記第二の変換素子に蓄積された電荷を前記第二の浮遊拡散容量部に転送する第二の転送トランジスタと、を更に有する、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の検出器。
  14. 複数の単位セルが配列された単位セルアレイを有する検出器であって、
    前記複数の単位セルは、
    入射したエネルギー線を信号電荷に変換して蓄積する第一の変換素子と、制御電極を前記第一の変換素子に接続された第一の増幅トランジスタと、を有し、前記第一の増幅トランジスタにより前記信号電荷を増幅した信号を出力する第一の単位セルと、
    第二の増幅トランジスタを有し、前記第二の増幅トランジスタの制御電極に印加される電圧に応じた信号を出力する第二の単位セルと、
    を含み、
    前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルは、前記単位セルアレイのうち前記エネルギー線が入射するように構成された入射領域内に配置され、且つ、
    第一状態において前記第二の増幅トランジスタの制御電極に定電圧を印加した時の前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態において前記第二の増幅トランジスタの制御電極に前記定電圧を印加した時の前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて前記第一の増幅トランジスタの閾値電圧の変動を検出するように構成されている、
    ことを特徴とする検出器。
  15. 第一状態における前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態における前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの閾値電圧の変動を検出する検出手段を更に備える、
    ことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の検出器。
  16. 第一状態における前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態における前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧を調整する第一の調整手段を更に備える、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  17. 第一状態における前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態における前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整する第二の調整手段を更に備える、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  18. 第一状態における前記第二の単位セルの出力信号と、前記第一状態よりも後の第二状態における前記第二の単位セルの出力信号と、の差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧と、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位と、の両方を調整する第三の調整手段を更に備える、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  19. 前記エネルギー線が照射されていない状態でそれぞれ取得した前記第一の単位セルの出力信号と前記第二の単位セルの出力信号との差に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整する第四の調整手段を更に備える、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  20. 前記単位セルアレイの単位セルの出力信号を増幅する増幅手段を更に備え、
    前記増幅手段は、前記第二の単位セルの出力信号を用いて前記第一の増幅トランジスタの主電極に印加する電圧と前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位との少なくとも一方を調整した場合に、前記第一の単位セルの出力信号を増幅するときのゲインを調整する、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  21. 前記検出器は、
    前記第一の単位セルの出力信号に基づく画像データを外部に出力する場合には、第一のフレームレートで前記第一の単位セルの出力信号を取得し、
    前記第二の単位セルの出力信号を用いて前記検出器の調整を行う場合には、前記エネルギー線が照射されていない状態において、前記第一のフレームレートとは異なる第二のフレームレートで前記第一の単位セル及び前記第二の単位セルの出力信号を取得し、且つ、取得した前記第一の単位セルの出力信号と前記第二の単位セルの出力信号との差と、前記第一のフレームレートと前記第二のフレームレートとの比と、に基づいて、前記第一の増幅トランジスタの制御電極の電位をリセットする場合のリセット電位を調整するように構成されている、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  22. 前記単位セルアレイの単位セルを行ごとに駆動する垂直走査回路を更に備え、
    前記垂直走査回路は、同一の行に属する前記第一の単位セルと前記第二の単位セルとを同じタイミングで駆動する、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  23. 前記検出器は、前記単位セルアレイを用いて画像データを取得して外部に出力する動作の実行中に取得した前記第二の単位セルの出力信号を用いて、前記検出器の調整を行うための調整値を算出するように構成されている、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  24. 前記単位セルアレイは、前記入射領域内に第一の単位セル群及び第二の単位セル群を有し、
    前記第一の単位セル群は、前記第一の単位セルと同じ単位セル構造を備えた複数の単位セルからなり、
    前記第二の単位セル群は、前記第二の単位セルと同じ単位セル構造を備えた複数の単位セルからなる、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  25. 前記第二の単位セル群の各単位セルに隣接する前記第一の単位セル群の単位セルの出力信号を用いて、前記第二の単位セル群の各単位セルの単位セル値を補間した画像データを外部に出力するように構成されている、
    ことを特徴とする請求項２４に記載の検出器。
  26. 前記単位セルアレイにおいて前記第二の単位セル群の単位セル同士が互いに隣接しないように、前記第二の単位セル群が配置される、
    ことを特徴とする請求項２５に記載の検出器。
  27. 前記単位セルアレイの列ごとに設けられた信号線と、
    前記信号線を介して前記単位セルアレイの列ごとの単位セルの出力信号を受け取る列回路部と、
    を更に備え、
    前記単位セルアレイの各列に前記第二の単位セル群の単位セルが少なくとも１つ配置される、
    ことを特徴とする請求項２４に記載の検出器。
  28. 前記第二の単位セル群は、前記単位セルアレイの前記入射領域の外周部に配置される、
    ことを特徴とする請求項２４に記載の検出器。
  29. 前記エネルギー線を遮蔽する遮蔽部材を更に備え、
    前記入射領域は、前記遮蔽部材に遮蔽されていない領域である、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  30. 前記第一の増幅トランジスタ及び前記第二の増幅トランジスタは、ゲート領域に絶縁膜を有する電界効果トランジスタである、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  31. 前記エネルギー線は、放射線であり、
    前記第一の変換素子は、放射線を信号電荷に直接変換する素子である、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  32. 前記エネルギー線は、放射線であり、
    放射線が入射すると蛍光を発するシンチレータを更に備え、
    前記第一の変換素子は、前記蛍光を信号電荷に変換する素子である、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  33. 前記エネルギー線は、光であり、
    前記第一の変換素子は、光を信号電荷に変換する素子である、
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器。
  34. エネルギー線を対象に照射する照射部と、
    前記エネルギー線の照射により生じたエネルギー線の像を検出する請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出器と、
    を備えることを特徴とする検出システム。
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