JP2024025169A - Sheet for protective membrane formation and manufacturing method of workpiece with protective membrane - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、保護膜形成用シート、及び保護膜付きワーク加工物の製造方法に関する。 The present invention relates to a protective film forming sheet and a method for manufacturing a workpiece with a protective film.
半導体ウエハや絶縁体ウエハ等のウエハには、その一方の面(回路面)に回路が形成されており、さらにその面(回路面)上にバンプ等の突状電極を有するものがある。このようなウエハは、分割によりチップとされ、その突状電極が回路基板上の接続パッドに接続されることにより、前記回路基板に搭載される。このようなウエハやチップにおいては、クラックの発生等の破損を抑制するために、回路面とは反対側の面(裏面)を、保護膜で保護することがある。
また、半導体装置の製造過程では、ワークとして後述する半導体装置パネルが用いられ、このパネルにおいて反りやクラックの発生を抑制するために、パネルのいずれかの部位を保護膜で保護することがある。
Some wafers, such as semiconductor wafers and insulator wafers, have circuits formed on one surface (circuit surface) and further have protruding electrodes such as bumps on that surface (circuit surface). Such a wafer is divided into chips and mounted on the circuit board by connecting the protruding electrodes to connection pads on the circuit board. In such wafers and chips, the surface opposite to the circuit surface (back surface) is sometimes protected with a protective film in order to suppress damage such as cracking.
Further, in the process of manufacturing a semiconductor device, a semiconductor device panel, which will be described later, is used as a workpiece, and in order to suppress the occurrence of warpage or cracks in this panel, some portion of the panel may be protected with a protective film.
このような場合、例えば、ウエハの裏面など、ワークの目的とする箇所に、保護膜を形成するための保護膜形成フィルムを貼付し、以降、ワークを加工して、チップなどのワーク加工物を作製し、必要に応じて保護膜形成フィルムを硬化させ、保護膜形成フィルム又は保護膜を切断して、ワーク加工物と、そのいずれかの箇所に設けられた保護膜と、を備えた保護膜付きワーク加工物を製造する。保護膜付きワーク加工物の一例としては、半導体チップと、その裏面に設けられた保護膜と、を備えた保護膜付き半導体チップが挙げられる。 In such cases, for example, a protective film forming film for forming a protective film is pasted on the desired part of the workpiece, such as the back side of the wafer, and the workpiece is then processed to produce workpieces such as chips. A protective film is prepared, and if necessary, the protective film-forming film is cured, and the protective film-forming film or the protective film is cut, thereby comprising a workpiece and a protective film provided on any part of the workpiece. Manufacture workpieces with attached parts. An example of a workpiece with a protective film is a semiconductor chip with a protective film, which includes a semiconductor chip and a protective film provided on the back surface of the semiconductor chip.
保護膜付きワーク加工物の製造時には、ワークとして、その平面形状が円形であるものが汎用されるため、貼付直前の保護膜形成フィルムの平面形状も円形とされることが多い。このような用途で使用される保護膜形成フィルムは、例えば、その両面に剥離フィルムを備えた状態とされることがある。そして、保護膜形成フィルムのワークへの貼付を連続的に行うために、長尺の2枚の剥離フィルムの間に、円形に抜き加工された複数枚の保護膜形成フィルムが、これら剥離フィルムの長手方向に沿って配置され、構成された保護膜形成用シートが汎用される。 When producing a workpiece with a protective film, the workpiece is generally circular in planar shape, so the planar shape of the protective film forming film immediately before being pasted is also often circular. A protective film-forming film used in such applications may be provided with release films on both sides, for example. In order to continuously attach the protective film-forming film to the workpiece, a plurality of circularly punched protective film-forming films are placed between two long release films. A protective film forming sheet arranged along the longitudinal direction is widely used.
図1(a)は、このような従来の保護膜形成用シートの一例を模式的に示す平面図であり、図1(b)は、図1(a)に示す保護膜形成用シートのI-I線における断面を模式的に示す図である。 FIG. 1(a) is a plan view schematically showing an example of such a conventional protective film forming sheet, and FIG. 1(b) is an I of the protective film forming sheet shown in FIG. 1(a). FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section taken along the -I line.
保護膜形成用シート9は、第1剥離フィルム92と、第2剥離フィルム93と、第1剥離フィルム92と第2剥離フィルム93との間に設けられた保護膜形成フィルム91と、を備えている。第1剥離フィルム92と第2剥離フィルム93はいずれも長尺である。図1(a)は、保護膜形成用シート9を、その第1剥離フィルム92側の上方から見下ろして平面視したときの平面図である。
さらに、保護膜形成用シート9には、その厚さ方向において、第1剥離フィルム92の一方の面92aから第2剥離フィルム93の一方の面93aを通過し、第2剥離フィルム93の内部にまで到達する、円形の切れ込み99が2以上設けられている。すなわち、切れ込み99は、第1剥離フィルム92と保護膜形成フィルム91を、その厚さ方向において貫通している。これにより、例えば、保護膜形成フィルム91は、その平面形状が円形である2以上の第1領域911と、それ以外の第2領域912と、に分割されている。第1剥離フィルム92も同様に分割されている。保護膜形成フィルムの第2領域912は余剰部位であり、保護膜形成用シート9の使用前に、これに貼付されている第1剥離フィルム92とともに、第2剥離フィルム93から取り除かれる。一方、保護膜形成フィルムの第1領域911は、ワークへの貼付部位である。保護膜形成用シート9の使用時には、保護膜形成フィルムの第1領域911に貼付されている第1剥離フィルム92が取り除かれ、これにより保護膜形成フィルムの第1領域911の一方の面911aが露出面となり、この面911a(露出面)において、前記第1領域911がワークに貼付される。なお、保護膜形成フィルムの第2領域912のような余剰部位を取り除く操作を、当該分野においては「カス上げ」と称することがある。
The protective
Furthermore, in the thickness direction of the protective
保護膜形成用シート9は、例えば、第1剥離フィルム92と、第2剥離フィルム93と、の間に、保護膜形成フィルム91が設けられた積層シートを作製し、次いで、前記積層シートに対して、その中の第1剥離フィルム92側からブレードをあてて、円形の切れ込み99を2以上形成することにより、製造できる。
The protective
このように、円形に抜き加工された複数枚の保護膜形成フィルムが設けられている、長尺の保護膜形成用シートとしては、例えば、上述のカス上げ工程において、保護膜形成フィルムのワークへの貼付部位が、保護膜形成フィルムの余剰部位とともに取り除かれてしまう、所謂カス上げ不良の抑制効果が高いものが開示されている(特許文献1参照)。 In this way, as a long protective film forming sheet provided with a plurality of circularly punched protective film forming films, for example, in the above-mentioned scrap lifting process, the protective film forming film is attached to the workpiece. A film has been disclosed that is highly effective in suppressing so-called scum-raising defects, in which the pasted portion of the protective film is removed together with the surplus portion of the protective film-forming film (see Patent Document 1).
平面形状があらかじめ円形又は後述する略円形とされている保護膜形成フィルムを、ワークの円形の面に貼付するときに、保護膜形成フィルムの大きさ(面積)が大き過ぎると、ワークの外周から保護膜形成フィルムがはみ出し、保護膜形成フィルムのこのはみ出し部位が、ワークの外周(側面)に付着してワークを汚染してしまう。その場合には、保護膜付きワーク加工物を正常に製造できず、さらに、保護膜形成フィルムの貼付装置の内部を汚染してしまうことがある。これに対して、保護膜形成フィルムの大きさ(面積)が小さ過ぎる場合には、ワークの使用領域が必要以上に小さくなってしまい、保護膜付きワーク加工物の製造効率が低下してしまう。 When attaching a protective film-forming film whose planar shape is circular or approximately circular (described later) to the circular surface of a workpiece, if the size (area) of the protective film-forming film is too large, it may cause damage from the outer periphery of the workpiece. The protective film forming film protrudes, and this protruding portion of the protective film forming film adheres to the outer periphery (side surface) of the workpiece, contaminating the workpiece. In that case, the protective film-coated workpiece cannot be normally manufactured, and furthermore, the inside of the protective film forming film application device may be contaminated. On the other hand, if the size (area) of the protective film forming film is too small, the usable area of the workpiece becomes smaller than necessary, and the manufacturing efficiency of the workpiece with the protective film decreases.
一方、剥離フィルムのように、保護膜形成フィルムの使用時に不要である部材は、資源の有効利用と環境保護の観点から、回収して再利用することが望まれている。しかし、第1剥離フィルム92のように、切れ込みが形成された剥離フィルムは、保護膜形成フィルムから取り除いた後は、再利用できない。さらに、保護膜形成用シート9のような、切れ込みが形成された保護膜形成用シートの汎用性を向上させるために、保護膜形成用シートを製品として出荷するときには、これに切れ込みを形成せず、購入者が保護膜形成用シートを使用するときに、これに切れ込みを形成することがある。その場合には、剥離フィルムの抜き加工に伴って、購入者側の装置内で、剥離フィルムの切断屑が生じることがあり、購入者側の装置内を汚染してしまうことがある。
On the other hand, from the viewpoint of effective resource utilization and environmental protection, it is desirable to collect and reuse components such as release films that are unnecessary when using the protective film-forming film. However, a release film in which cuts are formed, such as the
これらの事情を考慮すると、円形又は略円形の2枚以上の保護膜形成フィルムの両面に、剥離フィルムが設けられて構成されている保護膜形成用シートとして、保護膜形成フィルムのワークへの貼付時に、保護膜付きワーク加工物の製造効率を低下させずに、保護膜形成フィルムによるワークの汚染を抑制でき、保護膜形成用シートの使用時に、剥離フィルムの抜き加工が不要であり、使用後の剥離フィルムが再利用可能であるような保護膜形成用シートは、その有用性が極めて高い。
これに対して、特許文献1で開示されているものを始めとする従来の保護膜形成用シートは、これらの要求をすべて満たすとはいえない。
Considering these circumstances, as a protective film forming sheet consisting of two or more circular or nearly circular protective film forming films with release films provided on both sides, it is possible to attach the protective film forming film to the workpiece. In some cases, contamination of the workpiece by the protective film-forming film can be suppressed without reducing the production efficiency of the workpiece with the protective film, and when using the protective film-forming sheet, there is no need to cut out the release film, and after use, A protective film-forming sheet whose release film can be reused is extremely useful.
On the other hand, conventional protective film forming sheets such as the one disclosed in
本発明は、保護膜形成フィルムと、その両面に設けられた剥離フィルムと、を備え、保護膜形成フィルムが保護膜付きワーク加工物中の保護膜を形成可能な保護膜形成用シートであって、前記ワーク加工物はワークの加工により得られ、前記保護膜形成フィルムの前記ワークへの貼付時に、保護膜付きワーク加工物の製造効率を低下させずに、保護膜形成フィルムによるワークの汚染を抑制でき、保護膜形成用シートの使用時に、剥離フィルムの抜き加工が不要であり、使用後の剥離フィルムが再利用可能である保護膜形成用シートを提供することを目的とする。さらに本発明は、前記保護膜形成用シートを用いた保護膜付きワーク加工物の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention is a protective film-forming sheet comprising a protective film-forming film and a release film provided on both surfaces of the protective film-forming film, wherein the protective film-forming film is capable of forming a protective film in a workpiece with a protective film. , the workpiece is obtained by processing the workpiece, and when the protective film-forming film is attached to the workpiece, the workpiece is prevented from being contaminated by the protective film-forming film without reducing the manufacturing efficiency of the workpiece with the protective film. It is an object of the present invention to provide a protective film-forming sheet that can be used without the need for punching of a release film when using the protective film-forming sheet, and that allows the used release film to be reused. A further object of the present invention is to provide a method for manufacturing a workpiece with a protective film using the above-mentioned sheet for forming a protective film.
上記課題を解決するため、本発明は、以下の構成を採用する。
[1] 保護膜形成用シートであって、前記保護膜形成用シートは、第1剥離フィルムと、前記第1剥離フィルムよりも剥離力が大きい第2剥離フィルムと、前記第1剥離フィルムと前記第2剥離フィルムとの間に設けられた保護膜形成フィルムと、を備え、2枚以上の前記保護膜形成フィルムが、1枚の前記第1剥離フィルムと1枚の前記第2剥離フィルムの長手方向に沿って配置されており、前記保護膜形成フィルムの平面形状が、円形又は略円形であり、前記保護膜形成フィルムの直径が、135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満であり、前記第1剥離フィルムと前記第2剥離フィルムとのいずれか一方又は両方が、その前記保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを実質的に有しない、保護膜形成用シート。
[2] 前記第2剥離フィルムの前記保護膜形成フィルムに対する剥離力と、前記第1剥離フィルムの前記保護膜形成フィルムに対する剥離力と、の差が、30mN/100mm以上200mN/100mm未満であり、前記第1剥離フィルムの前記保護膜形成フィルムに対する剥離力が20mN/100mm以上であり、前記第2剥離フィルムの前記保護膜形成フィルムに対する剥離力が500mN/100mm以下である、[1]に記載の保護膜形成用シート。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configuration.
[1] A sheet for forming a protective film, wherein the sheet for forming a protective film includes a first release film, a second release film having a greater peeling force than the first release film, and a combination of the first release film and the a protective film-forming film provided between a second release film, and two or more of the protective film-forming films include one of the first release film and one of the second release film. is arranged along the direction, the planar shape of the protective film forming film is circular or approximately circular, and the diameter of the protective film forming film is 135 mm or more and less than 150 mm, 185 mm or more and less than 200 mm, 285 mm or more and less than 300 mm, or 435 mm or more and less than 450 mm, and one or both of the first release film and the second release film does not substantially have a cut at a position that coincides with the outer periphery of the protective film forming film. , a sheet for forming a protective film.
[2] The difference between the peeling force of the second release film with respect to the protective film forming film and the peeling force of the first release film with respect to the protective film forming film is 30 mN/100 mm or more and less than 200 mN/100 mm, The peeling force of the first release film against the protective film forming film is 20 mN/100 mm or more, and the peeling force of the second release film against the protective film forming film is 500 mN/100 mm or less, according to [1]. Sheet for forming a protective film.
[3] 前記第1剥離フィルムが前記切れ込みを実質的に有しない、[1]又は[2]に記載の保護膜形成用シート。
[4] 保護膜付きワーク加工物の製造方法であって、前記保護膜付きワーク加工物は、ワーク加工物と、前記ワーク加工物の一方の面に設けられた保護膜と、を備えており、前記ワーク加工物は、ワークを加工することにより得られ、前記ワークの平面形状が円形であり、前記ワークの直径が、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、前記保護膜は、[1]~[3]のいずれか一項に記載の保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから形成されたものであり、前記ワークの直径が6インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が135mm以上150mm未満であり、前記ワークの直径が8インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が185mm以上200mm未満であり、前記ワークの直径が12インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が285mm以上300mm未満であり、前記ワークの直径が18インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が435mm以上450mm未満であり、前記保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、前記保護膜形成フィルムの硬化物が前記保護膜であり、前記保護膜形成フィルムが非硬化性である場合には、前記ワークのいずれかの箇所に貼付された後の前記保護膜形成フィルムが前記保護膜であり、前記製造方法は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから前記第1剥離フィルムを剥離する第1剥離工程と、前記第1剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムの外周部を前記ワークの外周部からはみ出させることなく、前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルムが設けられていた側の面を、前記ワークの一方の面に貼付することにより、前記ワークに前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜が設けられた第1積層体を作製する第1貼付工程と、前記第1貼付工程の後に、前記第1積層体中の前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜から前記第2剥離フィルムを剥離する第2剥離工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜の前記第2剥離フィルムが設けられていた側の面に、前記ワークを加工するための加工シートを貼付することにより、前記加工シートと、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜と、前記ワークと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体を作製する第2貼付工程と、前記第2貼付工程の後に、前記ワークを加工することにより、前記ワーク加工物を作製する加工工程と、前記第2貼付工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜を切断する切断工程と、を有し、前記保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、さらに、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムを硬化させることにより、前記保護膜を形成する硬化工程と、を有する、保護膜付きワーク加工物の製造方法。
[3] The protective film forming sheet according to [1] or [2], wherein the first release film does not substantially have the cuts.
[4] A method for manufacturing a workpiece with a protective film, wherein the workpiece with a protective film includes a workpiece and a protective film provided on one surface of the workpiece. , the workpiece is obtained by processing a workpiece, the planar shape of the workpiece is circular, the diameter of the workpiece is 6 inches, 8 inches, 12 inches, or 18 inches, and the protective film is is formed from the protective film forming film in the protective film forming sheet according to any one of [1] to [3], and when the workpiece has a diameter of 6 inches, When the diameter of the protective film forming film is 135 mm or more and less than 150 mm, and the diameter of the workpiece is 8 inches, the diameter of the protective film forming film is 185 mm or more and less than 200 mm, and the diameter of the workpiece is 12 inches. In this case, the diameter of the protective film forming film is 285 mm or more and less than 300 mm, and when the diameter of the workpiece is 18 inches, the diameter of the protective film forming film is 435 mm or more and less than 450 mm, and the When the protective film-forming film is curable, the cured product of the protective film-forming film is the protective film, and when the protective film-forming film is non-curable, any part of the workpiece The protective film forming film after being affixed to the protective film forming sheet is the protective film, and the manufacturing method includes a first peeling step of peeling the first release film from the protective film forming film in the protective film forming sheet. After the first peeling step, the surface of the protective film forming film on the side where the first peeling film was provided is removed without causing the outer peripheral part of the protective film forming film to protrude from the outer peripheral part of the workpiece. a first attaching step of producing a first laminate in which the protective film forming film or the protective film is provided on the workpiece by attaching it to one side of the work; and after the first attaching step, the a second peeling step of peeling the second release film from the protective film-forming film or the protective film in the first laminate; and after the second peeling step, the second release film of the protective film-forming film or the protective film is removed. 2. By pasting a processing sheet for processing the workpiece on the side where the release film was provided, the processing sheet, the protective film forming film or the protective film, and the workpiece can be separated from each other. A second pasting step of manufacturing a second laminate configured by laminating these in the thickness direction, and after the second pasting step, the workpiece is manufactured by processing the workpiece. and a cutting step of cutting the protective film-forming film or the protective film after the second pasting step, and when the protective film-forming film is curable, the method further comprises: 2. After the peeling step, a curing step of forming the protective film by curing the protective film forming film.
本発明によれば、保護膜形成フィルムと、その両面に設けられた剥離フィルムと、を備え、保護膜形成フィルムが保護膜付きワーク加工物中の保護膜を形成可能な保護膜形成用シートであって、前記ワーク加工物はワークの加工により得られ、前記保護膜形成フィルムの前記ワークへの貼付時に、保護膜付きワーク加工物の製造効率を低下させずに、保護膜形成フィルムによるワークの汚染を抑制でき、保護膜形成用シートの使用時に、剥離フィルムの抜き加工が不要であり、使用後の剥離フィルムが再利用可能である保護膜形成用シートが提供される。さらに、本発明によれば、前記保護膜形成用シートを用いた保護膜付きワーク加工物の製造方法が提供される。 According to the present invention, the protective film forming sheet is provided with a protective film forming film and a release film provided on both sides thereof, and the protective film forming film is capable of forming a protective film in a workpiece with a protective film. The workpiece is obtained by processing the workpiece, and when the protective film-forming film is attached to the workpiece, the workpiece can be processed by the protective film-forming film without reducing the production efficiency of the workpiece with the protective film. Provided is a protective film-forming sheet that can suppress contamination, does not require punching of the release film when the protective film-forming sheet is used, and allows the used release film to be reused. Furthermore, according to the present invention, there is provided a method for manufacturing a workpiece with a protective film using the above-mentioned sheet for forming a protective film.
◇保護膜形成用シート
本発明の一実施形態に係る保護膜形成用シートは、第1剥離フィルムと、前記第1剥離フィルムよりも剥離力が大きい第2剥離フィルムと、前記第1剥離フィルムと前記第2剥離フィルムとの間に設けられた保護膜形成フィルムと、を備え、2枚以上の前記保護膜形成フィルムが、1枚の前記第1剥離フィルムと1枚の前記第2剥離フィルムの長手方向に沿って配置されており、前記保護膜形成フィルムの平面形状が、円形又は略円形であり、前記保護膜形成フィルムの直径が、135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満であり、前記第1剥離フィルムと前記第2剥離フィルムとのいずれか一方又は両方が、その前記保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを実質的に有しない。
本実施形態の保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムは、平面形状が円形であるワークの一方の面に、保護膜を形成可能である。
◇Sheet for forming a protective film The sheet for forming a protective film according to an embodiment of the present invention includes a first release film, a second release film having a greater peeling force than the first release film, and the first release film. a protective film-forming film provided between the second release film and the two or more protective film-forming films, one of the first release film and one of the second release film. arranged along the longitudinal direction, the planar shape of the protective film-forming film is circular or approximately circular, and the diameter of the protective film-forming film is 135 mm or more and less than 150 mm, 185 mm or more and less than 200 mm, or 285 mm or more and less than 300 mm. , or 435 mm or more and less than 450 mm, and one or both of the first release film and the second release film substantially has a cut at a position that coincides with the outer periphery of the protective film forming film. do not.
The protective film forming film in the protective film forming sheet of this embodiment can form a protective film on one surface of a workpiece having a circular planar shape.
本実施形態の保護膜形成用シート中の保護膜形成フィルムの直径が、135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満であることにより、保護膜形成フィルムのワークへの貼付時に、保護膜付きワーク加工物の製造効率を低下させずに、保護膜形成フィルムによるワークの汚染を抑制できる。そして、保護膜形成用シートの使用時に、剥離フィルムの抜き加工が不要である。 The diameter of the protective film forming film in the protective film forming sheet of this embodiment is 135 mm or more and less than 150 mm, 185 mm or more and less than 200 mm, 285 mm or more and less than 300 mm, or 435 mm or more and less than 450 mm, so that the workpiece of the protective film forming film is When the film is attached to a workpiece, contamination of the workpiece by the protective film-forming film can be suppressed without reducing the production efficiency of the workpiece with the protective film. Further, when using the protective film forming sheet, punching of the release film is not necessary.
本実施形態の保護膜形成用シート中の保護膜形成フィルムは、ワーク加工物のいずれかの箇所に保護膜を設けて、ワーク加工物を保護するために用いるフィルムである。
前記保護膜形成フィルムは、軟質であり、前記加工物へと加工する前のワークに対して貼付できる。
The protective film forming film in the protective film forming sheet of this embodiment is a film used for providing a protective film on any part of the workpiece to protect the workpiece.
The protective film forming film is soft and can be attached to the workpiece before being processed into the workpiece.
本実施形態において、ワークとしては、例えば、ウエハ、半導体装置パネル等が挙げられる。半導体装置パネルとは、半導体装置の製造過程で取り扱うものであり、その具体例としては、1個又は2個以上の電子部品が封止樹脂によって封止された状態の半導体装置を用い、複数個のこれら半導体装置が、円形の領域内に、平面的に配置されて構成されたものが挙げられる。
本明細書においては、ワークを加工したものを「ワーク加工物」と称する。例えば、ワークが半導体ウエハである場合、ワーク加工物としては半導体チップが挙げられる。
In this embodiment, examples of the work include a wafer, a semiconductor device panel, and the like. A semiconductor device panel is something that is handled in the manufacturing process of semiconductor devices, and a specific example is a semiconductor device in which one or more electronic components are sealed with a sealing resin. An example of this is a structure in which these semiconductor devices are arranged planarly within a circular area.
In this specification, a processed workpiece is referred to as a "workpiece processed product." For example, when the workpiece is a semiconductor wafer, the workpiece may be a semiconductor chip.
本明細書において、「ウエハ」としては、シリコン、ゲルマニウム、セレン等の元素半導体や、GaAs、GaP、InP、CdTe、ZnSe、SiC等の化合物半導体、で構成される半導体ウエハ;サファイア、ガラス等の絶縁体で構成される絶縁体ウエハが挙げられる。
これらウエハを代表とするワークの一方の面上には、回路が形成されており、本明細書においては、このように回路が形成されている側のワークの面を「回路面」と称する。そして、ワークの回路面とは反対側の面を「裏面」と称する。
ウエハは、ダイシング等の手段により分割され、チップとなる。本明細書においては、ウエハの場合と同様に、回路が形成されている側のチップの面を「回路面」と称し、チップの回路面とは反対側の面を「裏面」と称する。
ワークの回路面には、いずれもバンプ、ピラー等の突状電極が設けられていることが好ましい。突状電極は、はんだで構成されていることが好ましい。
In this specification, "wafer" refers to a semiconductor wafer composed of elemental semiconductors such as silicon, germanium, and selenium, and compound semiconductors such as GaAs, GaP, InP, CdTe, ZnSe, and SiC; An example is an insulator wafer made of an insulator.
A circuit is formed on one side of a workpiece, typically a wafer, and in this specification, the side of the workpiece on which the circuit is formed is referred to as a "circuit side." The surface of the workpiece opposite to the circuit surface is referred to as the "back surface."
The wafer is divided into chips by means such as dicing. In this specification, as in the case of a wafer, the surface of the chip on which a circuit is formed is referred to as the "circuit surface", and the surface of the chip opposite to the circuit surface is referred to as the "back surface".
It is preferable that protruding electrodes such as bumps and pillars are provided on the circuit surface of the workpiece. Preferably, the protruding electrode is made of solder.
本実施形態の保護膜形成用シート中の保護膜形成フィルムを用いることにより、チップと、前記チップの裏面に設けられた保護膜と、を備えた保護膜付きチップを製造できる。
そして、前記保護膜付きチップの製造に先立ち、前記保護膜形成フィルムを用いることにより、ウエハと、前記ウエハの裏面に設けられた保護膜形成フィルムと、を備えた保護膜形成フィルム付きウエハを製造できる。
By using the protective film forming film in the protective film forming sheet of this embodiment, a chip with a protective film including a chip and a protective film provided on the back surface of the chip can be manufactured.
Prior to manufacturing the chip with a protective film, by using the protective film forming film, a wafer with a protective film forming film including a wafer and a protective film forming film provided on the back surface of the wafer is manufactured. can.
さらに、前記保護膜付きワーク加工物を用いることにより、基板装置を製造できる。
本明細書において、「基板装置」とは、保護膜付きワーク加工物が、回路基板に接続されて、構成されたものを意味する。前記基板装置の一例としては、保護膜付きワーク加工物が、その回路面上の突状電極において、回路基板上の接続パッドにフリップチップ接続されて、構成されたものが挙げられる。例えば、ワークとして半導体ウエハを用いた場合であれば、基板装置としては、保護膜付き半導体チップが搭載された半導体装置が挙げられる。前記保護膜付き半導体チップは、半導体チップと、その裏面に設けられた保護膜と、を備える。
Furthermore, by using the work piece with the protective film, a substrate device can be manufactured.
In this specification, the term "substrate device" refers to a structure in which a workpiece with a protective film is connected to a circuit board. An example of the substrate device is one in which a workpiece with a protective film is flip-chip connected to a connection pad on a circuit board at a protruding electrode on a circuit surface thereof. For example, if a semiconductor wafer is used as the workpiece, the substrate device may be a semiconductor device on which a semiconductor chip with a protective film is mounted. The semiconductor chip with a protective film includes a semiconductor chip and a protective film provided on the back surface of the semiconductor chip.
本実施形態の保護膜形成用シートにおいて、2枚以上の保護膜形成フィルムが、1枚の第1剥離フィルムと1枚の第2剥離フィルムの長手方向に沿って配置されていることで、保護膜形成フィルムのワークへの貼付を連続的に行うことができる。 In the protective film-forming sheet of the present embodiment, two or more protective film-forming films are arranged along the longitudinal direction of one first release film and one second release film, so that protection is achieved. The membrane-forming film can be continuously attached to the workpiece.
本実施形態の保護膜形成用シートにおいて、第1剥離フィルムと第2剥離フィルムとのいずれか一方又は両方が、その前記保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを実質的に有しないことで、使用後のこれら剥離フィルムは再利用可能である。 In the protective film-forming sheet of the present embodiment, one or both of the first release film and the second release film substantially has a cut at a position that coincides with the outer periphery of the protective film-forming film. By not doing so, these release films can be reused after use.
本実施形態の保護膜形成用シートは、長尺であることが好ましく、このような保護膜形成用シートは、ロール状に巻き取って(保護膜形成用シートのロールとして)保管するのに好適である。 The protective film forming sheet of this embodiment is preferably long, and such a protective film forming sheet is suitable for being wound up into a roll and stored (as a roll of the protective film forming sheet). It is.
<<第1剥離フィルム>>
前記第1剥離フィルムは、公知のものであってもよい。
第1剥離フィルムとして、より具体的には、例えば、剥離フィルム用基材の一方の面又は両面が、剥離処理面であるものが挙げられる。
前記剥離処理面は、剥離フィルム用基材の表面を、剥離処理剤によって剥離処理することで形成できる。
<<First release film>>
The first release film may be a known film.
More specifically, the first release film includes, for example, one in which one or both surfaces of the base material for a release film is a release-treated surface.
The release-treated surface can be formed by subjecting the surface of the release film base material to a release treatment using a release agent.
前記剥離フィルム用基材の構成材料としては、例えば、各種樹脂が挙げられる。
剥離フィルム用基材の構成材料である前記樹脂で好ましいものとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリウレタン;ポリイミド等が挙げられる。
Examples of the constituent material of the release film base material include various resins.
Preferred resins as constituent materials for the release film base include, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; polyurethane; and polyimide.
剥離フィルム用基材を構成する樹脂は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The number of resins constituting the release film base material may be one, or two or more, and when there are two or more, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected.
前記剥離処理剤は、公知のものであってよい。
好ましい剥離処理剤としては、例えば、アルキッド系、シリコーン系、フッ素系、不飽和ポリエステル系、ポリオレフィン系又はワックス系等の剥離処理剤が挙げられる。
剥離処理剤は、耐熱性を有する点では、アルキッド系、シリコーン系又はフッ素系の剥離処理剤であることが好ましい。
The release agent may be a known release agent.
Preferred release agents include, for example, alkyd-based, silicone-based, fluorine-based, unsaturated polyester-based, polyolefin-based, or wax-based release agents.
The release agent is preferably an alkyd-based, silicone-based, or fluorine-based release agent in terms of heat resistance.
第1剥離フィルムは、1層(単層)からなるものであってもよいし、2層以上の複数層からなるものであってもよい。第1剥離フィルムが複数層からなる場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよく、これら複数層の組み合わせは特に限定されない。 The first release film may be composed of one layer (single layer) or may be composed of two or more layers. When the first release film consists of multiple layers, these multiple layers may be the same or different from each other, and the combination of these multiple layers is not particularly limited.
本明細書においては、第1剥離フィルムの場合に限らず、「複数層が互いに同一でも異なっていてもよい」とは、「すべての層が同一であってもよいし、すべての層が異なっていてもよいし、一部の層のみが同一であってもよい」ことを意味し、さらに「複数層が互いに異なる」とは、「各層の構成材料及び厚さの少なくとも一方が互いに異なる」ことを意味する。 In this specification, not only in the case of the first release film, "the plurality of layers may be the same or different from each other" means "all the layers may be the same or all the layers may be different". ``The layers may be the same, or only some of the layers may be the same.'' Furthermore, ``the layers are different from each other'' means ``at least one of the constituent materials and thickness of each layer is different from each other.'' It means that.
第1剥離フィルムは、後述する第2剥離フィルムよりも剥離力が小さい。本明細書において、第1剥離フィルムの場合に限らず、剥離フィルムの剥離力とは、剥離フィルムと、この剥離フィルムに貼付されているもの(本明細書においては「貼付物」と称することがある)と、の積層物において、剥離フィルムを貼付物から剥離したときに要する力を意味する。すなわち、第1剥離フィルムをその貼付物から剥離するときの力と、第2剥離フィルムをその貼付物から剥離するときの力と、を比較すると、第1剥離フィルムの貼付物と、第2剥離フィルムの貼付物と、が同じであり、第1剥離フィルムとその貼付物との貼付の態様と、第2剥離フィルムとその貼付物との貼付の態様と、が同じである場合には、第1剥離フィルムをその貼付物から剥離するときの力の方が、第2剥離フィルムをその貼付物から剥離するときの力よりも小さい。
前記保護膜形成用シートにおいては、第1剥離フィルムの前記保護膜形成フィルムに対する剥離力は、第2剥離フィルムの前記保護膜形成フィルムに対する剥離力よりも小さい。
The first release film has a smaller release force than the second release film described below. In this specification, the peeling force of a release film is not limited to the case of the first release film, and refers to the release force of the release film and the material attached to the release film (herein referred to as "applied material"). In the case of a laminate of (1) and (2), it means the force required when the release film is peeled off from the adhesive. That is, when comparing the force when peeling the first release film from the object to which it is applied and the force when peeling the second release film from the object to which it is applied, it is found that If the attachment of the film is the same, and the manner of attachment of the first release film and the attachment is the same as the manner of attachment of the second release film and the attachment, then the The force required to peel off the first release film from its applied material is smaller than the force required to peel the second release film from its applied material.
In the protective film forming sheet, the peeling force of the first release film to the protective film forming film is smaller than the peeling force of the second release film to the protective film forming film.
第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力は、20mN/100mm以上であることが好ましく、例えば、40mN/100mm以上、60mN/100mm以上、及び80mN/100mm以上のいずれかであってもよい。第1剥離フィルムの前記剥離力が前記下限値以上であることで、保護膜形成用シートにおいて、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムからの目的外の剥離を抑制する効果が、より高くなる。 The peel force of the first release film against the protective film forming film is preferably 20 mN/100 mm or more, and may be, for example, any of 40 mN/100 mm or more, 60 mN/100 mm or more, and 80 mN/100 mm or more. When the peeling force of the first release film is equal to or greater than the lower limit, the effect of suppressing unintended peeling of the first release film from the protective film-forming film in the protective film-forming sheet becomes higher.
第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力は、例えば、140mN/100mm以下であってもよいが、120mN/100mm以下であることが好ましく、100mN/100mm以下であることがより好ましく、80mN/100mm以下であることがさらに好ましい。第1剥離フィルムの前記剥離力が小さいほど、保護膜形成用シートの使用時に、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムからの剥離が、より容易となる。 The peeling force of the first release film against the protective film forming film may be, for example, 140 mN/100 mm or less, preferably 120 mN/100 mm or less, more preferably 100 mN/100 mm or less, and 80 mN/100 mm or less. More preferably, it is 100 mm or less. The smaller the peeling force of the first release film is, the easier the first release film can be peeled off from the protective film-forming film when the protective film-forming sheet is used.
第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力は、上述のいずれかの下限値と、上述のいずれかの上限値と、を任意に組み合わせて設定される範囲内に、適宜調節できる。
一実施形態において、第1剥離フィルムの前記剥離力は、例えば、20~140mN/100mm、40~140mN/100mm、60~140mN/100mm、及び80~140mN/100mmのいずれかであってもよいし、20~120mN/100mm、40~120mN/100mm、60~120mN/100mm、及び80~120mN/100mmのいずれかであってもよいし、20~100mN/100mm、40~100mN/100mm、60~100mN/100mm、及び80~100mN/100mmのいずれかであってもよいし、20~80mN/100mm、40~80mN/100mm、及び60~80mN/100mmのいずれかであってもよい。ただし、これらは第1剥離フィルムの剥離力の一例である。
The peeling force of the first release film with respect to the protective film forming film can be adjusted as appropriate within a range set by any combination of any of the above lower limits and any of the above upper limits.
In one embodiment, the peeling force of the first release film may be, for example, any one of 20 to 140 mN/100 mm, 40 to 140 mN/100 mm, 60 to 140 mN/100 mm, and 80 to 140 mN/100 mm. , 20-120mN/100mm, 40-120mN/100mm, 60-120mN/100mm, and 80-120mN/100mm, or 20-100mN/100mm, 40-100mN/100mm, 60-100mN /100 mm, and 80 to 100 mN/100 mm, or may be any of 20 to 80 mN/100 mm, 40 to 80 mN/100 mm, and 60 to 80 mN/100 mm. However, these are examples of the peeling force of the first peeling film.
第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力は、後述する実施例に記載の方法により、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、剥離速度を1000mm/minとし、第1剥離フィルムと保護膜形成フィルムの互いに接触していた面同士が180°の角度を為すように、第1剥離フィルムを保護膜形成フィルムから剥離した(180°剥離を行った)ときの剥離力であることが好ましい。 The peeling force of the first release film with respect to the protective film forming film was determined by the method described in the examples below, at a peeling speed of 1000 mm/min in an environment of a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%. The peeling force is when the first release film is peeled from the protective film forming film (180° peeling is performed) so that the surfaces of the protective film forming films that were in contact with each other form an angle of 180°. preferable.
<第1剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力>
第1剥離フィルムの保護膜形成フィルム側の面(例えば、剥離処理面)と、ステンレス鋼(SUS)板の表面と、を貼付したとき、第1剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力は、0mN/25mm以上50mN/25mm未満であることが好ましく、0mN/25mm以上20mN/25mm未満であることがより好ましく、0mN/25mm以上10mN/25mm未満であることがさらに好ましく、0mN/25mm以上5mN/25mm未満であることが特に好ましい。このような第1剥離フィルムを備えた保護膜形成用シートを用いて、保護膜形成フィルムから第1剥離フィルムを剥離し(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第1剥離工程)、この剥離した第1剥離フィルムをロール状に巻き取るときに、第1剥離フィルムの巻きずれが抑制される。また、このような第1剥離フィルムを備えた保護膜形成用シートは、より安価に製造できる。
保護膜形成用シートにおいては、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルム側の面のうち、少なくとも保護膜形成フィルムが積層されていない領域が、上述の付着力(0mN/25mm以上50mN/25mm未満)を有していることが好ましく、前記面の全領域(全面)が、上述の付着力(0mN/25mm以上50mN/25mm未満)を有していてもよい。
第1剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力は、実施例で後述する90°剥離法により測定できる。
<Adhesion force between the first release film and the stainless steel plate>
When the surface of the first release film on the protective film forming film side (for example, the release-treated surface) and the surface of the stainless steel (SUS) plate are attached, the adhesive force between the first release film and the stainless steel plate is , preferably 0 mN/25 mm or more and less than 50 mN/25 mm, more preferably 0 mN/25 mm or more and less than 20 mN/25 mm, even more preferably 0 mN/25 mm or more and less than 10 mN/25 mm, and 0 mN/25 mm or more and less than 5 mN It is particularly preferable that it is less than /25 mm. The first peeling film is peeled off from the protective film forming film using a protective film forming sheet provided with such a first peeling film (for example, in the first peeling step in the method for manufacturing a workpiece with a protective film described below). ), when this peeled first release film is wound up into a roll, the winding misalignment of the first release film is suppressed. Moreover, a protective film forming sheet provided with such a first release film can be manufactured at a lower cost.
In the protective film forming sheet, at least the area where the protective film forming film is not laminated on the surface of the first release film on the protective film forming film side has the above-mentioned adhesive force (0 mN/25 mm or more and less than 50 mN/25 mm). The entire area (entire surface) of the surface may have the above-mentioned adhesive force (0 mN/25 mm or more and less than 50 mN/25 mm).
The adhesive force between the first release film and the stainless steel plate can be measured by the 90° peeling method described later in Examples.
第1剥離フィルムの剥離力と、第1剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力は、例えば、剥離フィルム用基材の表面の剥離処理に用いる剥離処理剤の種類及び量、並びに剥離処理法等を調節することで、調節できる。 The peeling force of the first release film and the adhesion force between the first release film and the stainless steel plate are determined by, for example, the type and amount of the release agent used for peeling the surface of the base material for the release film, and the release treatment method. It can be adjusted by adjusting etc.
第1剥離フィルムは、帯状であるなど、長尺であることが好ましい。第1剥離フィルムが長尺である場合には、同様に第2剥離フィルムが長尺であることによって、保護膜形成用シート中の保護膜形成フィルムの枚数をより多くすることが可能である。
第1剥離フィルムで好ましいものとしては、例えば、幅が150~500cmで、長さが20~200mであるものが挙げられる。
The first release film is preferably elongated, such as in the form of a strip. When the first release film is long, and the second release film is similarly long, it is possible to increase the number of protective film-forming films in the protective film-forming sheet.
Preferred examples of the first release film include those having a width of 150 to 500 cm and a length of 20 to 200 m.
第1剥離フィルムは、その位置(領域)によらず、切れ込みを有していてもよいし、切れ込みを実質的に有していなくてもよく、例えば、その保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを有していてもよいし、切れ込みを実質的に有していなくてもよい。ただし、第1剥離フィルムは、その保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを実質的に有しないことが好ましく、その位置(領域)によらず、切れ込みを実質的に有しないことがより好ましい。このような第1剥離フィルムは、保護膜形成用シートの使用時に保護膜形成フィルムから剥離し、回収して、再利用するときの再利用に適している。さらに、このような第1剥離フィルムにおいては、保護膜形成フィルムから剥離した後に、切れ込みの部位に保護膜形成フィルムの一部が残像する不具合が抑制される。 The first release film may have a cut or substantially no cut, regardless of its position (area), and for example, coincides with the outer periphery of the protective film-forming film. There may be a notch at the position where the cut is made, or there may be substantially no notch. However, it is preferable that the first release film has substantially no notches at a position that coincides with the outer periphery of the protective film-forming film, and it is preferable that the first release film has substantially no notches regardless of the position (area). is more preferable. Such a first release film is suitable for reuse when the sheet for forming a protective film is peeled off from the film for forming a protective film during use, collected, and reused. Furthermore, in such a first release film, the problem that a portion of the protective film-forming film remains as an afterimage at the notch site after being peeled off from the protective film-forming film is suppressed.
本明細書において、第1剥離フィルムが切れ込みを実質的に有しないとは、第1剥離フィルムでの位置によらず、第1剥離フィルムが切れ込みを全く有しないか、又は、有していても、切れ込みの深さが1μm未満であることを意味する。 In this specification, the first release film does not substantially have any cuts, regardless of the position on the first release film, or even if the first release film has no cuts. , means that the depth of the cut is less than 1 μm.
保護膜形成用シートにおける、第1剥離フィルムの、保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置とは、例えば、第1剥離フィルムと保護膜形成フィルムとの積層物を、その保護膜形成フィルム側の上方から見下ろして平面視したときに、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルム側の面のうち、保護膜形成フィルムの外周部(平面視したときには円周部)と重なる位置を意味する。
第1剥離フィルムの、保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に切れ込みを有する保護膜形成用シートは、保護膜形成フィルムをあらかじめ目的とする形状に抜き加工(ここでは円形又は略円形に抜き加工)しておく場合に、作製され易い。これに対して、本実施形態の保護膜形成フィルムは、後述する方法で製造することにより、第1剥離フィルムにおいて、このような切れ込みを実質的に有しない。
In the protective film forming sheet, the position of the first release film that coincides with the outer periphery of the protective film forming film means, for example, the position of the laminate of the first release film and the protective film forming film on the protective film forming film side. When viewed from above and viewed in plan, it refers to the position of the surface of the first release film on the protective film forming film side that overlaps with the outer peripheral portion (circumferential portion when viewed in plan) of the protective film forming film.
The protective film-forming sheet, which has a cut in the first release film at a position that coincides with the outer periphery of the protective film-forming film, is prepared by punching the protective film-forming film in advance into the desired shape (here, it is punched into a circular or approximately circular shape). (processing), it is easy to make. On the other hand, the protective film-forming film of the present embodiment is produced by the method described below, so that the first release film does not substantially have such cuts.
第1剥離フィルムの厚さは、20~100μmであることが好ましく、25~80μmであることがより好ましい。第1剥離フィルムの厚さが前記下限値以上であることで、第1剥離フィルムの機械的強度がより高くなる。第1剥離フィルムの厚さが前記上限値以下であることで、保護膜形成用シート又は第1剥離フィルムをロール状に巻き取ることが、より容易となる。
ここで、「第1剥離フィルムの厚さ」とは、第1剥離フィルム全体の厚さを意味し、例えば、複数層からなる第1剥離フィルムの厚さとは、第1剥離フィルムを構成するすべての層の合計の厚さを意味する。
The thickness of the first release film is preferably 20 to 100 μm, more preferably 25 to 80 μm. When the thickness of the first release film is equal to or greater than the lower limit, the mechanical strength of the first release film becomes higher. When the thickness of the first release film is less than or equal to the upper limit value, it becomes easier to wind up the protective film forming sheet or the first release film into a roll.
Here, the "thickness of the first release film" means the thickness of the entire first release film. For example, the thickness of the first release film consisting of multiple layers refers to all means the total thickness of the layers.
本明細書においては、第1剥離フィルムの場合に限らず、「厚さ」とは、特に断りのない限り、対象物において無作為に選出された5箇所で測定した厚さの平均で表される値であり、JIS K7130に準じて、定圧厚さ測定器を用いて取得できる。 In this specification, "thickness" is not limited to the case of the first release film, and unless otherwise specified, "thickness" is expressed as the average thickness measured at five randomly selected locations on the object. This value can be obtained using a constant pressure thickness measuring device according to JIS K7130.
<<第2剥離フィルム>>
前記第2剥離フィルムは、公知のものであってもよい。
第2剥離フィルムは、第1剥離フィルムよりも、保護膜形成フィルムに対する剥離力が大きい点を除けば、第1剥離フィルムと同様のものである。
<<Second release film>>
The second release film may be a known film.
The second release film is similar to the first release film, except that it has a greater release force against the protective film forming film than the first release film.
第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力は、500mN/100mm以下であることが好ましく、例えば、400mN/100mm以下、300mN/100mm以下、及び200mN/100mm以下のいずれかであってもよい。第2剥離フィルムの前記剥離力が前記上限値以下であることで、保護膜形成用シート中の第1剥離フィルムを保護膜形成フィルムから剥離し(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第1剥離工程)、第2剥離フィルムを備えた保護膜形成フィルムをワークに貼付し(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第1貼付工程)、次いで、保護膜形成フィルム又は保護膜から第2剥離フィルムを剥離する(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第2剥離工程)ときに、保護膜形成フィルム又は保護膜のワークからの剥離を抑制する効果が、より高くなる。 The peeling force of the second release film against the protective film forming film is preferably 500 mN/100 mm or less, and may be, for example, any of 400 mN/100 mm or less, 300 mN/100 mm or less, and 200 mN/100 mm or less. The peeling force of the second release film is equal to or less than the upper limit, so that the first release film in the protective film-forming sheet can be peeled from the protective film-forming film (for example, in the production of a workpiece with a protective film, which will be described later). (first peeling step in the method), attaching a protective film forming film provided with a second release film to the workpiece (e.g., first attaching step in the method for manufacturing a workpiece with a protective film described below), and then forming a protective film. When peeling the second release film from the film or protective film (for example, the second peeling step in the method for producing a workpiece with a protective film described below), suppressing the peeling of the protective film forming film or the protective film from the workpiece. The effect will be higher.
第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力は、80mN/100mm以上であることが好ましく、例えば、110mN/100mm以上、及び130mN/100mm以上のいずれかであってもよい。第2剥離フィルムの前記剥離力が大きいほど、第2剥離フィルムの保護膜形成フィルム又は保護膜からの目的外の剥離を抑制する効果が、より高くなる。 The peeling force of the second release film against the protective film forming film is preferably 80 mN/100 mm or more, and may be either 110 mN/100 mm or more, or 130 mN/100 mm or more, for example. The greater the peeling force of the second release film, the higher the effect of suppressing unintended peeling of the second release film from the protective film forming film or the protective film.
第2剥離フィルムの剥離力は、上述のいずれかの下限値と、上述のいずれかの上限値と、を任意に組み合わせて設定される範囲内に、適宜調節できる。
一実施形態において、第2剥離フィルムの剥離力は、例えば、80~500mN/100mm、80~400mN/100mm、80~300mN/100mm、及び80~200mN/100mmのいずれかであってもよいし、110~500mN/100mm、110~400mN/100mm、110~300mN/100mm、及び110~200mN/100mmのいずれかであってもよいし、130~500mN/100mm、130~400mN/100mm、130~300mN/100mm、及び130~200mN/100mmのいずれかであってもよい。ただし、これらは第2剥離フィルムの剥離力の一例である。
The peeling force of the second release film can be adjusted as appropriate within a range set by any combination of any of the above lower limits and any of the above upper limits.
In one embodiment, the peeling force of the second release film may be, for example, any of 80 to 500 mN/100 mm, 80 to 400 mN/100 mm, 80 to 300 mN/100 mm, and 80 to 200 mN/100 mm; It may be any of 110-500mN/100mm, 110-400mN/100mm, 110-300mN/100mm, and 110-200mN/100mm, or 130-500mN/100mm, 130-400mN/100mm, 130-300mN/ It may be either 100 mm or 130 to 200 mN/100 mm. However, these are examples of the peeling force of the second release film.
第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力は、後述する実施例に記載の方法により、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、剥離速度を1000mm/minとし、第2剥離フィルムと保護膜形成フィルムの互いに接触していた面同士が180°の角度を為すように、保護膜形成フィルムを第2剥離フィルムから剥離した(180°剥離を行った)ときの剥離力であることが好ましい。このとき、保護膜形成フィルムは、その第2剥離フィルム側とは反対側の面に、補強用の接着性フィルムを貼付した積層物の状態で、第2剥離フィルムから剥離することが好ましい。 The peeling force of the second release film with respect to the protective film forming film was determined by the method described in the Examples below, at a peeling speed of 1000 mm/min in an environment of a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%. The peeling force is when the protective film-forming film is peeled off from the second release film (180° peeling is performed) so that the surfaces of the protective film-forming films that were in contact with each other form an angle of 180°. preferable. At this time, the protective film-forming film is preferably peeled off from the second release film in the form of a laminate with a reinforcing adhesive film attached to the surface opposite to the second release film.
<第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差>
第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力と、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力と、の差(本明細書においては、「第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差」と称することがある)は、例えば、15mN/100mm以上であってもよいが、30mN/100mm以上であることが好ましく、50mN/100mm以上であることがより好ましく、70mN/100mm以上であることがさらに好ましい。第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差が前記下限値以上であることで、保護膜形成用シートの使用時に、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムからの剥離が、より容易となる。
<Difference in peeling force between the second release film and the first release film>
The difference between the peeling force of the second release film with respect to the protective film forming film and the peeling force of the first release film with respect to the protective film forming film (herein referred to as "the peeling force of the second release film and the first release film"). For example, the difference may be 15 mN/100 mm or more, preferably 30 mN/100 mm or more, more preferably 50 mN/100 mm or more, and 70 mN/100 mm or more. It is even more preferable. Since the difference in peeling force between the second release film and the first release film is greater than or equal to the lower limit value, the first release film can be more easily peeled off from the protective film-forming film when the protective film-forming sheet is used. .
第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差は、200mN/100mm未満であることが好ましく、例えば、150mN/100mm以下、及び100mN/100mm以下のいずれかであってもよい。第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差がこのような範囲であることで、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力、及び第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力を、上述の各々の数値範囲内に調節することが、より容易となる。 The difference in peel force between the second release film and the first release film is preferably less than 200 mN/100 mm, and may be, for example, either 150 mN/100 mm or less, or 100 mN/100 mm or less. By setting the difference in peeling force between the second release film and the first release film within such a range, the peeling force of the first release film against the protective film forming film and the peeling force of the second release film against the protective film forming film can be reduced. , it becomes easier to adjust the values within each of the above-mentioned numerical ranges.
第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差は、上述のいずれかの下限値と、上述のいずれかの上限値と、を任意に組み合わせて設定される範囲内に、適宜調節できる。
例えば、前記剥離力差は、15mN/100mm以上200mN/100mm未満であってもよいが、30mN/100mm以上200mN/100mm未満であることが好ましく、50mN/100mm以上200mN/100mm未満、及び70mN/100mm以上200mN/100mm未満のいずれかであってもよいし、30~150mN/100mm、50~150mN/100mm、及び70~150mN/100mmのいずれかであってもよいし、30~100mN/100mm、50~100mN/100mm、及び70~100mN/100mmのいずれかであってもよい。ただし、これらは前記剥離力差の一例である。
The difference in peeling force between the second release film and the first release film can be adjusted as appropriate within a range set by any combination of any of the above lower limits and any of the above upper limits.
For example, the peel force difference may be 15 mN/100 mm or more and less than 200 mN/100 mm, but preferably 30 mN/100 mm or more and less than 200 mN/100 mm, 50 mN/100 mm or more and less than 200 mN/100 mm, and 70 mN/100 mm. It may be more than 200 mN/100 mm, or it may be 30 to 150 mN/100 mm, 50 to 150 mN/100 mm, and 70 to 150 mN/100 mm, or it may be 30 to 100 mN/100 mm, or 50 to 100 mN/100 mm. ~100mN/100mm, and 70~100mN/100mm. However, these are examples of the difference in peeling force.
<第2剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力>
第2剥離フィルムも、第1剥離フィルムの場合と同様の理由で、第1剥離フィルムの場合と同様の、ステンレス鋼板との間の付着力を有することが好ましい。
すなわち、第2剥離フィルムの保護膜形成フィルム側の面(例えば、剥離処理面)と、ステンレス鋼(SUS)板の表面と、を貼付したとき、第2剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力は、0mN/25mm以上50mN/25mm未満であることが好ましく、0mN/25mm以上20mN/25mm未満であることがより好ましく、0mN/25mm以上10mN/25mm未満であることがさらに好ましく、0mN/25mm以上5mN/25mm未満であることが特に好ましい。このような第2剥離フィルムを備えた保護膜形成用シートを用いて、保護膜形成フィルム又は保護膜から第2剥離フィルムを剥離し(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第2剥離工程)、この剥離した第2剥離フィルムをロール状に巻き取るときに、第2剥離フィルムの巻きずれが抑制される。また、このような第2剥離フィルムを備えた保護膜形成用シートは、より安価に製造できる。
保護膜形成用シートにおいては、第2剥離フィルムの保護膜形成フィルム側又は保護膜側の面のうち、少なくとも保護膜形成フィルム又は保護膜が積層されていない領域が、上述の付着力(0mN/25mm以上50mN/25mm未満)を有していることが好ましく、前記面の全領域(全面)が、上述の付着力(0mN/25mm以上50mN/25mm未満)を有していてもよい。
第2剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力は、第1剥離フィルムの場合と同じ方法で測定できる。
<Adhesion force between the second release film and the stainless steel plate>
The second release film also preferably has the same adhesive force with the stainless steel plate as the first release film, for the same reason as the first release film.
In other words, when the surface of the second release film on the protective film forming film side (for example, the release treated surface) and the surface of the stainless steel (SUS) plate are attached, the adhesion between the second release film and the stainless steel plate is The bonding force is preferably 0 mN/25 mm or more and less than 50 mN/25 mm, more preferably 0 mN/25 mm or more and less than 20 mN/25 mm, even more preferably 0 mN/25 mm or more and less than 10 mN/25 mm, and 0 mN/25 mm. It is particularly preferable that it is at least 5 mN/25 mm. Using a protective film-forming sheet provided with such a second release film, the second release film is peeled off from the protective film-forming film or the protective film (for example, in the method for manufacturing a workpiece with a protective film described below). (2) Peeling step) When the peeled second release film is wound up into a roll, the winding shift of the second release film is suppressed. Moreover, a protective film forming sheet provided with such a second release film can be manufactured at a lower cost.
In the protective film-forming sheet, at least the area on which the protective film-forming film or the protective film is not laminated on the protective film-forming film side or the surface on the protective film side of the second release film has the above-mentioned adhesive force (0 mN/ 25 mm or more and less than 50 mN/25 mm), and the entire area (entire surface) of the surface may have the above-mentioned adhesive force (0 mN/25 mm or more and less than 50 mN/25 mm).
The adhesion between the second release film and the stainless steel plate can be measured in the same way as for the first release film.
第2剥離フィルムの剥離力と、第2剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力は、第1剥離フィルムの場合と同じ方法で、調節できる。 The release force of the second release film and the adhesion between the second release film and the stainless steel plate can be adjusted in the same way as for the first release film.
第2剥離フィルムは、その位置(領域)によらず、切れ込みを有していてもよいし、切れ込みを実質的に有していなくてもよく、例えば、その保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを有していてもよいし、切れ込みを実質的に有していなくてもよい。切れ込みを実質的に有しない第2剥離フィルムは、保護膜形成用シートの使用時に保護膜形成フィルム又は保護膜から剥離し、回収して、再利用するときの再利用に適している。さらに、このような第2剥離フィルムにおいては、保護膜形成フィルム又は保護膜から剥離した後に、切れ込みの部位に保護膜形成フィルム又は保護膜の一部が残像する不具合が抑制される。 The second release film may have a cut or substantially no cut, regardless of its position (area); for example, it may coincide with the outer periphery of the protective film forming film. There may be a notch at the position where the cut is made, or there may be substantially no notch. The second release film having substantially no cuts is suitable for reuse when the sheet for forming a protective film is peeled off from the protective film forming film or the protective film when the sheet is used, collected, and reused. Furthermore, in such a second release film, after being peeled off from the protective film-forming film or the protective film, the problem that a part of the protective film-forming film or the protective film remains as an afterimage at the cut site is suppressed.
本明細書において、第2剥離フィルムが切れ込みを実質的に有しないとは、第2剥離フィルムでの位置によらず、第2剥離フィルムが切れ込みを全く有しないか、又は、有していても、切れ込みの深さが1μm未満であることを意味する。
保護膜形成用シートにおける、第2剥離フィルムの、保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置とは、先に説明した第1剥離フィルムの場合と同じことを意味する。
In this specification, "the second release film does not substantially have cuts" means that the second release film has no cuts at all, or even if it has cuts, regardless of the position on the second release film. , means that the depth of the cut is less than 1 μm.
The position of the second release film in the protective film-forming sheet that coincides with the outer peripheral portion of the protective film-forming film means the same as in the case of the first release film described above.
ただし、本実施形態の保護膜形成用シートにおいては、第1剥離フィルムと第2剥離フィルムとのいずれか一方又は両方が、その保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを実質的に有しない。そして、本実施形態の保護膜形成用シートにおいては、第1剥離フィルムが前記切れ込みを実質的に有しないことが好ましい。このような保護膜形成用シートは、その取り扱い性がより高い。 However, in the protective film-forming sheet of this embodiment, one or both of the first release film and the second release film substantially has a cut at a position that coincides with the outer periphery of the protective film-forming film. I don't have it. In the protective film forming sheet of the present embodiment, it is preferable that the first release film does not substantially have the above-mentioned cuts. Such a protective film forming sheet has higher handling properties.
第2剥離フィルムの厚さは、20~100μmであることが好ましく、25~90μmであることがより好ましい。第2剥離フィルムの厚さが前記下限値以上であることで、第2剥離フィルムの機械的強度がより高くなる。第2剥離フィルムの厚さが前記上限値以下であることで、保護膜形成用シート又は第2剥離フィルムをロール状に巻き取ることが、より容易となる。
ここで、「第2剥離フィルムの厚さ」とは、第2剥離フィルム全体の厚さを意味し、例えば、複数層からなる第2剥離フィルムの厚さとは、第2剥離フィルムを構成するすべての層の合計の厚さを意味する。
The thickness of the second release film is preferably 20 to 100 μm, more preferably 25 to 90 μm. When the thickness of the second release film is equal to or greater than the lower limit, the mechanical strength of the second release film becomes higher. When the thickness of the second release film is less than or equal to the upper limit value, it becomes easier to wind up the protective film forming sheet or the second release film into a roll.
Here, the "thickness of the second release film" means the thickness of the entire second release film. For example, the thickness of the second release film consisting of multiple layers refers to the total thickness of the second release film. means the total thickness of the layers.
第2剥離フィルムのうち、保護膜形成フィルムが積層されている部位(積層部位)の厚さと、保護膜形成フィルムが積層されていない部位(非積層部位)の厚さと、の差([保護膜形成フィルムが積層されている部位(積層部位)の厚さ]-[保護膜形成フィルムが積層されていない部位(非積層部位)の厚さ])は、10μm未満であることが好ましく、5μm未満であることがより好ましい。保護膜形成用シートをロール状に巻き取ったときには、ロールの径方向において、保護膜形成フィルムの配置位置が一致しないことがある。さらに、保護膜形成用シートのロールには、ロールの径方向において圧力が加わる。そのため、このような場合には、保護膜形成フィルムに巻き痕が生じ易い。これに対して、第2剥離フィルムにおいて、このように厚さの差が無いか又は微小であることで、保護膜形成フィルムの巻き痕の発生が抑制される。 The difference ([protective film The thickness of the area where the forming film is laminated (laminated area) - [thickness of the area where the protective film forming film is not laminated (non-laminated area)] is preferably less than 10 μm, and preferably less than 5 μm. It is more preferable that When the protective film-forming sheet is wound up into a roll, the protective film-forming film may not be placed in the same position in the radial direction of the roll. Further, pressure is applied to the roll of the protective film forming sheet in the radial direction of the roll. Therefore, in such a case, curling marks are likely to occur on the protective film forming film. On the other hand, in the second release film, since there is no or very small difference in thickness, the occurrence of curling marks on the protective film forming film is suppressed.
第2剥離フィルムのうち、保護膜形成フィルムが積層されている部位(積層部位)の厚さと、保護膜形成フィルムが積層されていない部位(非積層部位)の厚さと、の差([保護膜形成フィルムが積層されている部位(積層部位)の厚さ]-[保護膜形成フィルムが積層されていない部位(非積層部位)の厚さ])は、-10μm以上であることが好ましく、-5μm以上であることがより好ましく、0μm以上であることがさらに好ましい。前記差が前記下限値以上であることで、第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムからの剥離が、より容易となる。 The difference ([protective film The thickness of the area where the forming film is laminated (laminated area) - [thickness of the area where the protective film forming film is not laminated (non-laminated area)] is preferably -10 μm or more, and - It is more preferably 5 μm or more, and even more preferably 0 μm or more. When the difference is greater than or equal to the lower limit, the second release film can be more easily peeled off from the protective film forming film.
第2剥離フィルムは、上述の点以外は、第1剥離フィルムと同様のものである。そこで、第2剥離フィルムについては、これ以上の詳細な説明を省略する。 The second release film is similar to the first release film except for the above-mentioned points. Therefore, any further detailed description of the second release film will be omitted.
<<保護膜形成フィルム>>
前記保護膜形成フィルムは、その平面形状が円形又は略円形であり、かつその直径が特定範囲に特定されている点を除けば、公知の保護膜形成フィルムと同じであってよい。
<<Protective film forming film>>
The protective film-forming film may be the same as known protective film-forming films, except that its planar shape is circular or approximately circular, and its diameter is specified within a specific range.
保護膜形成フィルムの平面形状、すなわち、保護膜形成フィルムの主面をその上方から見下ろして平面視したときの前記主面の形状は、円形又は略円形である。
本明細書において、「略円形」とは、円形ではないものの、円形とみなしても問題ない程度に円形に近い形状であることを意味する。
例えば、非円形である形状(すなわち、真円ではない形状)において、外周上の2点を線分で結び、かつ重心(中心である場合もある)を通過する線分のうち、最短の線分の長さが、最長の線分の長さに対して、0.993倍以上である形状は、略円形である。例えば、楕円形の場合、短軸の長さが長軸の長さに対して0.993倍以上であれば、この楕円は略円形である。
なお、本明細書においては、前記外周上の2点を線分で結び、かつ重心(中心である場合もある)を通過する線分のうち、最長の線分の長さを、略円形の形状における直径とみなす。例えば、楕円形の場合、長軸の長さを直径とみなす。
The planar shape of the protective film-forming film, that is, the shape of the main surface of the protective film-forming film when viewed from above is circular or approximately circular.
In this specification, "substantially circular" means a shape that is not circular but is close enough to a circle that there is no problem in considering it as circular.
For example, in a non-circular shape (that is, a shape that is not a perfect circle), the shortest line segment that connects two points on the outer circumference and passes through the center of gravity (or the center in some cases) A shape in which the length of the line segment is 0.993 times or more the length of the longest line segment is approximately circular. For example, in the case of an ellipse, if the length of the minor axis is 0.993 times or more the length of the major axis, the ellipse is approximately circular.
In addition, in this specification, the length of the longest line segment among the line segments connecting two points on the outer periphery and passing through the center of gravity (or the center in some cases) is defined as the length of the approximately circular line segment. Regarded as the diameter of the shape. For example, in the case of an ellipse, the length of the major axis is considered the diameter.
保護膜形成フィルムの平面形状である略円形は、楕円形であることが好ましい。このような平面形状の保護膜形成フィルムを用いることで、保護膜形成フィルムによるワークの汚染をより容易に抑制できる。 The planar shape of the protective film-forming film is preferably an ellipse. By using such a planar protective film-forming film, contamination of the workpiece by the protective film-forming film can be more easily suppressed.
保護膜形成用シートを用いて、ワークの一方の面に保護膜形成フィルムを貼付する場合、通常は、保護膜形成用シートに対して、その長手方向(換言すると、第2剥離フィルムの長手方向)に張力をかけた状態で、保護膜形成フィルムから第1剥離フィルムを剥離した後、第2剥離フィルム上の保護膜形成フィルムをワークの一方の面に貼付する。すなわち、保護膜形成フィルムのワークへの貼付時には、保護膜形成フィルム及び第2剥離フィルムは、第2剥離フィルムの長手方向において引っ張られるため、この方向において、保護膜形成フィルムの長さが伸び得る。この方向において、保護膜形成フィルムの長さが伸びた場合には、このように伸びた状態の保護膜形成フィルムの平面形状が円形であることが好ましい。このようにすることで、保護膜形成フィルムによるワークの汚染を抑制しつつ、平面形状が円形のワークの使用効率をより高くできるように保護膜形成フィルムを貼付できる。そのためには、保護膜形成用シートにおいて、平面形状が楕円形である保護膜形成フィルムの楕円の短軸方向が、第1剥離フィルム及び第2剥離フィルムの長手方向(長さ方向)と一致している(換言すると、楕円の長軸方向が第1剥離フィルム及び第2剥離フィルムの長手方向に対して直交する方向(すなわち短手方向又は幅方向)と一致している)必要がある。 When attaching a protective film-forming film to one side of a workpiece using a protective film-forming sheet, it is usually applied in the longitudinal direction of the protective film-forming sheet (in other words, in the longitudinal direction of the second release film). ), the first release film is peeled off from the protective film-forming film, and then the protective film-forming film on the second release film is attached to one side of the workpiece. That is, when the protective film-forming film is attached to the workpiece, the protective film-forming film and the second release film are pulled in the longitudinal direction of the second release film, so the length of the protective film-forming film can be extended in this direction. . In this direction, when the length of the protective film-forming film is extended, it is preferable that the planar shape of the protective film-forming film in such an extended state is circular. By doing so, the protective film-forming film can be attached so that the workpiece having a circular planar shape can be used more efficiently while suppressing contamination of the workpiece by the protective film-forming film. For this purpose, in the protective film forming sheet, the short axis direction of the ellipse of the protective film forming film, which has an elliptical planar shape, must match the longitudinal direction (length direction) of the first release film and the second release film. (In other words, the long axis direction of the ellipse must match the direction perpendicular to the longitudinal direction of the first release film and the second release film (that is, the width direction or the width direction)).
本実施形態の保護膜形成用シートにおいては、保護膜形成フィルムの直径の下限値は、保護膜形成フィルムの貼付対象であるワークの直径よりも15mmだけ小さい値である。一方、保護膜形成フィルムの直径の上限値は、保護膜形成フィルムの貼付対象であるワークの直径よりも小さい値である。より具体的には、以下のとおりである。 In the protective film forming sheet of this embodiment, the lower limit of the diameter of the protective film forming film is 15 mm smaller than the diameter of the workpiece to which the protective film forming film is attached. On the other hand, the upper limit value of the diameter of the protective film-forming film is a value smaller than the diameter of the workpiece to which the protective film-forming film is attached. More specifically, it is as follows.
直径が285mm以上300mm未満である保護膜形成フィルムは、直径が12インチ(300mm)であるワークへの貼付用である。
このような保護膜形成フィルムの直径は、例えば、288mm以上300mm未満、291mm以上300mm未満、及び294mm以上300mm未満のいずれかであってもよいし、285~296mm、285~293mm、及び285~290mmのいずれかであってもよいし、288~296mmであってもよい。ただしこれらは、直径が12インチ(300mm)であるワークへの貼付用の保護膜形成フィルムの直径の一例である。
The protective film forming film having a diameter of 285 mm or more and less than 300 mm is intended for attachment to a workpiece having a diameter of 12 inches (300 mm).
The diameter of such a protective film forming film may be, for example, 288 mm or more and less than 300 mm, 291 mm or more and less than 300 mm, and 294 mm or more and less than 300 mm, or 285 to 296 mm, 285 to 293 mm, and 285 to 290 mm. The length may be either 288 to 296 mm. However, these are examples of the diameter of a protective film forming film for attachment to a workpiece having a diameter of 12 inches (300 mm).
直径が135mm以上150mm未満である保護膜形成フィルムは、直径が6インチ(150mm)であるワークへの貼付用である。
このような保護膜形成フィルムの直径は、例えば、138mm以上150mm未満、141mm以上150mm未満、及び144mm以上150mm未満のいずれかであってもよいし、135~146mm、135~143mm、及び135~140mmのいずれかであってもよいし、138~146mmであってもよい。ただしこれらは、直径が6インチ(150mm)であるワークへの貼付用の保護膜形成フィルムの直径の一例である。
The protective film forming film having a diameter of 135 mm or more and less than 150 mm is intended for attachment to a workpiece having a diameter of 6 inches (150 mm).
The diameter of such a protective film forming film may be, for example, 138 mm or more and less than 150 mm, 141 mm or more and less than 150 mm, and 144 mm or more and less than 150 mm, or 135 to 146 mm, 135 to 143 mm, and 135 to 140 mm. The length may be either 138 to 146 mm. However, these are examples of the diameter of a protective film forming film for attachment to a workpiece having a diameter of 6 inches (150 mm).
直径が185mm以上200mm未満である保護膜形成フィルムは、直径が8インチ(200mm)であるワークへの貼付用である。
このような保護膜形成フィルムの直径は、例えば、188mm以上200mm未満、191mm以上200mm未満、及び194mm以上200mm未満のいずれかであってもよいし、185~196mm、185~193mm、及び185~190mmのいずれかであってもよいし、188~196mmであってもよい。ただしこれらは、直径が8インチ(200mm)であるワークへの貼付用の保護膜形成フィルムの直径の一例である。
The protective film forming film having a diameter of 185 mm or more and less than 200 mm is intended for attachment to a workpiece having a diameter of 8 inches (200 mm).
The diameter of such a protective film forming film may be, for example, 188 mm or more and less than 200 mm, 191 mm or more and less than 200 mm, and 194 mm or more and less than 200 mm, or 185 to 196 mm, 185 to 193 mm, and 185 to 190 mm. The length may be either 188 to 196 mm. However, these are examples of the diameter of a protective film forming film for attachment to a workpiece having a diameter of 8 inches (200 mm).
直径が435mm以上450mm未満である保護膜形成フィルムは、直径が18インチ(450mm)であるワークへの貼付用である。
このような保護膜形成フィルムの直径は、例えば、438mm以上450mm未満、441mm以上450mm未満、及び444mm以上450mm未満のいずれかであってもよいし、435~446mm、435~443mm、及び435~440mmのいずれかであってもよいし、438~446mmであってもよい。ただしこれらは、直径が18インチ(450mm)であるワークへの貼付用の保護膜形成フィルムの直径の一例である。
The protective film forming film having a diameter of 435 mm or more and less than 450 mm is intended for attachment to a workpiece having a diameter of 18 inches (450 mm).
The diameter of such a protective film forming film may be, for example, 438 mm or more and less than 450 mm, 441 mm or more and less than 450 mm, and 444 mm or more and less than 450 mm, or 435 to 446 mm, 435 to 443 mm, and 435 to 440 mm. It may be either 438 to 446 mm. However, these are examples of the diameter of a protective film forming film for attachment to a workpiece having a diameter of 18 inches (450 mm).
保護膜形成フィルムは、第1剥離フィルムと第2剥離フィルムとの間に設けられている。すなわち、保護膜形成用シートは、第2剥離フィルムと、保護膜形成フィルムと、第1剥離フィルムと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成されている。
1枚の保護膜形成用シートは、2枚以上の保護膜形成フィルムを備えており、これら2枚以上の保護膜形成フィルムが、1枚の第1剥離フィルムと1枚の第2剥離フィルムの長手方向に沿って配置されている。
The protective film forming film is provided between the first release film and the second release film. That is, the protective film-forming sheet is constructed by laminating a second release film, a protective film-forming film, and a first release film in this order in their thickness direction.
One protective film-forming sheet includes two or more protective film-forming films, and these two or more protective film-forming films are combined with one first release film and one second release film. arranged along the longitudinal direction.
1枚の保護膜形成用シートが備えている2枚以上の保護膜形成フィルムは、すべて同一であってもよいし、すべて異なっていてもよいし、一部のみ同一であってもよいが、汎用性が高い点では、すべて同一であることが好ましい。
本明細書においては、2枚の保護膜形成フィルムを比較して、これら保護膜形成フィルムの直径、組成及び厚さのいずれか1又は2以上が互いに異なる場合に、これら保護膜形成フィルムは互いに異なるものとする。
The two or more protective film-forming films included in one protective film-forming sheet may all be the same, all different, or only some of them may be the same, In terms of high versatility, it is preferable that they all be the same.
In this specification, two protective film-forming films are compared, and when any one or more of the diameter, composition, and thickness of these protective film-forming films differ from each other, these protective film-forming films are compared with each other. be different.
保護膜形成用シートにおいては、2枚以上の保護膜形成フィルムが、1枚の第1剥離フィルムと1枚の第2剥離フィルムの長手方向に沿って、一列に配置されていることが好ましい。 In the protective film forming sheet, it is preferable that two or more protective film forming films are arranged in a line along the longitudinal direction of one first release film and one second release film.
保護膜形成フィルムは、硬化性であってもよいし、非硬化性であってもよい。すなわち、保護膜形成フィルムは、その硬化によって保護膜として機能するものであってもよいし、硬化していない状態で保護膜として機能するものであってもよい。
硬化性の保護膜形成フィルムは、熱硬化性及びエネルギー線硬化性のいずれであってもよく、熱硬化性及びエネルギー線硬化性の両方の特性を有していてもよい。
The protective film forming film may be curable or non-curable. That is, the protective film-forming film may function as a protective film when cured, or may function as a protective film in an uncured state.
The curable protective film-forming film may be either thermosetting or energy ray curable, or may have both thermosetting and energy ray curable properties.
本明細書において、「エネルギー線」とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものを意味する。エネルギー線の例としては、紫外線、放射線、電子線等が挙げられる。紫外線は、例えば、紫外線源として高圧水銀ランプ、ヒュージョンランプ、キセノンランプ、ブラックライト又はLEDランプ等を用いることで照射できる。電子線は、電子線加速器等によって発生させたものを照射できる。
本明細書において、「エネルギー線硬化性」とは、エネルギー線を照射することにより硬化する性質を意味し、「非エネルギー線硬化性」とは、エネルギー線を照射しても硬化しない性質を意味する。
本明細書において、「非硬化性」とは、加熱やエネルギー線の照射等、如何なる手段によっても、硬化しない性質を意味する。非硬化性の保護膜形成フィルムは、目的とする対象物に設けられた(形成された)段階以降、保護膜であるとみなすことができる。
As used herein, the term "energy ray" refers to electromagnetic waves or charged particle beams that have energy quanta. Examples of energy rays include ultraviolet rays, radiation, electron beams, and the like. The ultraviolet rays can be irradiated using, for example, a high-pressure mercury lamp, fusion lamp, xenon lamp, black light, or LED lamp as an ultraviolet source. The electron beam can be generated by an electron beam accelerator or the like.
In this specification, "energy ray curable" means a property that hardens when irradiated with energy rays, and "non-energy ray curable" means a property that does not harden even when irradiated with energy rays. do.
As used herein, "non-curable" means a property that does not harden by any means such as heating or irradiation with energy rays. The non-curable protective film-forming film can be considered to be a protective film after it is provided (formed) on the intended object.
保護膜形成フィルムを熱硬化させて、保護膜を形成する場合には、エネルギー線の照射によって硬化させる場合とは異なり、保護膜形成フィルムは、その厚さが厚くなっても、加熱によって十分に硬化するため、保護能が高い保護膜を形成できる。また、加熱オーブン等の通常の加熱手段を用いることによって、多数の保護膜形成フィルムを一括して加熱し、熱硬化させることができる。
保護膜形成フィルムを、エネルギー線の照射によって硬化させて、保護膜を形成する場合には、熱硬化させる場合とは異なり、硬化時に保護膜形成フィルムに積層されているフィルム又はシートが、耐熱性を有する必要がない。また、エネルギー線の照射によって、保護膜形成フィルムを短時間で硬化させることができる。
保護膜形成フィルムを硬化させずに保護膜として用いる場合には、硬化工程を省略できるため、簡略化された工程で保護膜付きワーク加工物を製造できる。
When forming a protective film by thermally curing the protective film-forming film, unlike curing by irradiation with energy rays, the protective film-forming film can be cured sufficiently by heating even if it is thick. Because it hardens, it can form a protective film with high protection ability. Moreover, by using a normal heating means such as a heating oven, a large number of protective film-forming films can be heated and thermally cured at once.
When the protective film-forming film is cured by irradiation with energy rays to form a protective film, unlike when it is thermally cured, the film or sheet laminated to the protective film-forming film during curing is heat resistant. There is no need to have Moreover, the protective film-forming film can be cured in a short time by irradiation with energy rays.
When the protective film-forming film is used as a protective film without being cured, the curing step can be omitted, so a workpiece with a protective film can be manufactured through a simplified process.
保護膜形成フィルムは、1層(単層)からなるものであってもよいし、2層以上の複数層からなるものであってもよい。保護膜形成フィルムが複数層からなる場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよく、これら複数層の組み合わせは特に限定されない。 The protective film forming film may be composed of one layer (single layer) or may be composed of two or more layers. When the protective film forming film consists of multiple layers, these multiple layers may be the same or different from each other, and the combination of these multiple layers is not particularly limited.
保護膜形成フィルムが2層以上の複数層からなる場合には、各層間の密着性が劣っていたり、各層の伸縮のし易さの相違に基づいて、保護膜に反りが生じ、保護膜がワーク加工物から剥離する、などの不具合が生じる可能性があり、このような不具合が抑制される点では、保護膜形成フィルムは、1層からなるものが好ましい。
1層からなる保護膜形成フィルムは、高い厚さの均一性で容易に製造できる点と、設計の自由度が高い点でも、好ましい。
When the protective film-forming film is composed of two or more layers, the protective film may warp due to poor adhesion between each layer or differences in the ease of expansion and contraction of each layer. Problems such as peeling from the workpiece may occur, and from the viewpoint of suppressing such problems, it is preferable that the protective film-forming film consists of one layer.
A protective film forming film consisting of one layer is preferable because it can be easily manufactured with high thickness uniformity and has a high degree of freedom in design.
保護膜形成フィルムの厚さは、1~100μmであることが好ましく、3~80μmであることがより好ましく、5~60μmであることが特に好ましい。保護膜形成フィルムの厚さが前記下限値以上であることで、保護能がより高い保護膜を形成できる。保護膜形成フィルムの厚さが前記上限値以下であることで、保護膜の厚さが過剰となることが避けられる。
ここで、「保護膜形成フィルムの厚さ」とは、保護膜形成フィルム全体の厚さを意味し、例えば、複数層からなる保護膜形成フィルムの厚さとは、保護膜形成フィルムを構成するすべての層の合計の厚さを意味する。
The thickness of the protective film-forming film is preferably 1 to 100 μm, more preferably 3 to 80 μm, and particularly preferably 5 to 60 μm. When the thickness of the protective film-forming film is equal to or greater than the lower limit, a protective film with higher protective ability can be formed. By setting the thickness of the protective film-forming film to be less than or equal to the upper limit value, the thickness of the protective film can be prevented from becoming excessive.
Here, the "thickness of the protective film-forming film" means the thickness of the entire protective film-forming film. For example, the thickness of a protective film-forming film consisting of multiple layers refers to all means the total thickness of the layers.
<<保護膜形成用組成物>>
保護膜形成フィルムは、その構成材料を含有する保護膜形成用組成物を用いて形成できる。例えば、保護膜形成フィルムは、その形成対象面に保護膜形成用組成物を塗工し、必要に応じて乾燥させることで、形成できる。保護膜形成用組成物における、常温で気化しない成分同士の含有量の比率は、通常、保護膜形成フィルムにおける前記成分同士の含有量の比率と同じとなる。本明細書において、「常温」とは、特に冷やしたり、熱したりしない温度、すなわち平常の温度を意味し、例えば、18~28℃の温度等が挙げられる。
<<Composition for forming a protective film>>
The protective film-forming film can be formed using a protective film-forming composition containing the constituent materials. For example, a protective film-forming film can be formed by applying a protective film-forming composition to the surface to be formed, and drying as necessary. The content ratio of components that do not vaporize at room temperature in the protective film-forming composition is usually the same as the content ratio of the components in the protective film-forming film. As used herein, "normal temperature" means a temperature that is not particularly cooled or heated, that is, a normal temperature, and includes, for example, a temperature of 18 to 28°C.
熱硬化性保護膜形成フィルムは、熱硬化性保護膜形成用組成物を用いて形成でき、エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムは、エネルギー線硬化性保護膜形成用組成物を用いて形成でき、非硬化性保護膜形成フィルムは、非硬化性保護膜形成用組成物を用いて形成できる。本明細書においては、保護膜形成フィルムが、熱硬化性及びエネルギー線硬化性の両方の特性を有する場合、保護膜の形成に対して、保護膜形成フィルムの熱硬化の寄与が、エネルギー線硬化の寄与よりも大きい場合には、保護膜形成フィルムを熱硬化性のものとして取り扱う。反対に、保護膜の形成に対して、保護膜形成フィルムのエネルギー線硬化の寄与が、熱硬化の寄与よりも大きい場合には、保護膜形成フィルムをエネルギー線硬化のものとして取り扱う。 A thermosetting protective film forming film can be formed using a thermosetting protective film forming composition, an energy beam curable protective film forming film can be formed using an energy beam curable protective film forming composition, The non-curable protective film-forming film can be formed using a non-curable protective film-forming composition. In this specification, when the protective film-forming film has both thermosetting and energy ray curable properties, the contribution of the heat curing of the protective film forming film to the energy ray curing is If the contribution is greater than the contribution of , the protective film-forming film is treated as a thermosetting film. On the other hand, if the contribution of energy ray curing of the protective film forming film to the formation of the protective film is greater than the contribution of heat curing, the protective film forming film is treated as energy ray curing.
保護膜形成フィルムにおいて、保護膜形成フィルムの総質量に対する、保護膜形成フィルムの1種又は2種以上の後述する含有成分の合計含有量の割合は、100質量%を超えない。
同様に、保護膜形成用組成物において、保護膜形成用組成物の総質量に対する、保護膜形成用組成物の1種又は2種以上の後述する含有成分の合計含有量の割合は、100質量%を超えない。
In the protective film-forming film, the ratio of the total content of one or more of the below-mentioned components of the protective film-forming film to the total mass of the protective film-forming film does not exceed 100% by mass.
Similarly, in the composition for forming a protective film, the ratio of the total content of one or more components described below in the composition for forming a protective film to the total mass of the composition for forming a protective film is 100 mass. Do not exceed %.
保護膜形成用組成物の塗工は、公知の方法で行えばよく、例えば、エアーナイフコーター、ブレードコーター、バーコーター、グラビアコーター、ロールコーター、ロールナイフコーター、カーテンコーター、ダイコーター、ナイフコーター、スクリーンコーター、マイヤーバーコーター、キスコーター等の各種コーターを用いる方法が挙げられる。 Coating of the composition for forming a protective film may be performed by a known method, such as an air knife coater, a blade coater, a bar coater, a gravure coater, a roll coater, a roll knife coater, a curtain coater, a die coater, a knife coater, Examples include methods using various coaters such as a screen coater, Meyer bar coater, and kiss coater.
保護膜形成用組成物の乾燥条件は、特に限定されない。ただし、保護膜形成用組成物は、後述する溶媒を含有している場合、加熱乾燥させることが好ましい。そして、溶媒を含有する保護膜形成用組成物は、例えば、70~130℃で10秒~5分の条件で、加熱乾燥させることが好ましい。ただし、熱硬化性保護膜形成用組成物は、この組成物自体と、この組成物から形成された熱硬化性保護膜形成フィルムと、が熱硬化しないように、加熱乾燥させることが好ましい。 Drying conditions for the composition for forming a protective film are not particularly limited. However, when the composition for forming a protective film contains a solvent described below, it is preferable to dry it by heating. The composition for forming a protective film containing a solvent is preferably dried by heating at, for example, 70 to 130°C for 10 seconds to 5 minutes. However, it is preferable to heat-dry the thermosetting protective film-forming composition so that the composition itself and the thermosetting protective film-forming film formed from the composition are not thermally cured.
以下、熱硬化性保護膜形成フィルム、エネルギー線硬化性保護膜形成フィルム及び非硬化性保護膜形成フィルムについて、順次説明する。 Hereinafter, a thermosetting protective film-forming film, an energy ray-curable protective film-forming film, and a non-curing protective film-forming film will be sequentially explained.
◎熱硬化性保護膜形成フィルム
熱硬化性保護膜形成フィルムを熱硬化させて、保護膜を形成するときの硬化条件は、保護膜が十分にその機能を発揮する程度の硬化度となる限り、特に限定されず、熱硬化性保護膜形成フィルムの種類に応じて、適宜選択すればよい。
例えば、熱硬化性保護膜形成フィルムの熱硬化時の加熱温度は、100~200℃であることが好ましい。そして、前記熱硬化時の加熱時間は、0.5~5時間であることが好ましい。
◎Thermosetting protective film forming film The curing conditions for forming a protective film by thermosetting the thermosetting protective film forming film are as long as the degree of curing is such that the protective film can sufficiently exhibit its function. It is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the type of thermosetting protective film forming film.
For example, the heating temperature during thermosetting of the thermosetting protective film-forming film is preferably 100 to 200°C. The heating time during the thermosetting is preferably 0.5 to 5 hours.
常温の保護膜形成フィルムを、常温を超える温度になるまで加熱し、次いで常温になるまで冷却することにより、加熱・冷却後の保護膜形成フィルムとし、加熱・冷却後の保護膜形成フィルムの硬さと、加熱前の保護膜形成フィルムの硬さと、を同じ温度で比較したとき、加熱・冷却後の保護膜形成フィルムの方が硬い場合には、この保護膜形成フィルムは、熱硬化性である。 A protective film-forming film at room temperature is heated to a temperature exceeding room temperature, and then cooled to room temperature to form a protective film-forming film after heating and cooling. When comparing the hardness of the protective film-forming film before heating and the hardness of the protective film-forming film before heating at the same temperature, if the protective film-forming film after heating and cooling is harder, this protective film-forming film is thermosetting. .
好ましい熱硬化性保護膜形成フィルムとしては、例えば、重合体成分(A)、熱硬化性成分(B)、充填材(D)及び着色剤(I)を含有するものが挙げられる。
重合体成分(A)は、重合性化合物が重合反応して形成されたとみなせる成分である。
熱硬化性成分(B)は、熱を反応のトリガーとして、硬化(重合)反応し得る成分である。なお、本明細書において重合反応には、重縮合反応も含まれる。
Preferred thermosetting protective film-forming films include, for example, those containing a polymer component (A), a thermosetting component (B), a filler (D), and a colorant (I).
The polymer component (A) is a component that can be considered to be formed by a polymerization reaction of a polymerizable compound.
The thermosetting component (B) is a component that can undergo a curing (polymerization) reaction using heat as a reaction trigger. Note that in this specification, the polymerization reaction also includes a polycondensation reaction.
<熱硬化性保護膜形成用組成物(III)>
好ましい熱硬化性保護膜形成用組成物としては、例えば、前記重合体成分(A)、熱硬化性成分(B)、充填材(D)及び着色剤(I)を含有する熱硬化性保護膜形成用組成物(III)(本明細書においては、単に「組成物(III)」と略記することがある)等が挙げられる。
<Thermosetting protective film forming composition (III)>
A preferred composition for forming a thermosetting protective film includes, for example, a thermosetting protective film containing the polymer component (A), the thermosetting component (B), the filler (D), and the colorant (I). Forming composition (III) (in this specification, it may be simply abbreviated as "composition (III)"), and the like.
[重合体成分(A)]
重合体成分(A)は、熱硬化性保護膜形成フィルムに造膜性や可撓性等を付与するための重合体化合物である。なお、本明細書において重合体化合物には、重縮合反応の生成物も含まれる。
[Polymer component (A)]
The polymer component (A) is a polymer compound for imparting film-forming properties, flexibility, etc. to the thermosetting protective film-forming film. Note that in this specification, the polymer compound also includes a product of a polycondensation reaction.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する重合体成分(A)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one type of polymer component (A), or may contain two or more types, and in the case of two or more types, Their combination and ratio can be selected arbitrarily.
重合体成分(A)としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、アクリル樹脂が好ましい。 Examples of the polymer component (A) include acrylic resins, urethane resins, phenoxy resins, silicone resins, and saturated polyester resins, with acrylic resins being preferred.
アクリル樹脂としては、例えば、1種又は2種以上の(メタ)アクリル酸エステルの重合体;(メタ)アクリル酸、イタコン酸、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン及びN-メチロールアクリルアミド等から選択される2種以上のモノマーの共重合体等が挙げられる。 Examples of the acrylic resin include polymers of one or more (meth)acrylic acid esters; (meth)acrylic acid, itaconic acid, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, N-methylolacrylamide, etc. Examples include copolymers of more than one type of monomer.
本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸」及び「メタクリル酸」の両方を包含する概念である。(メタ)アクリル酸と類似の用語についても同様であり、例えば、「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」及び「メタクリロイル基」の両方を包含する概念であり、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」の両方を包含する概念である。 In this specification, "(meth)acrylic acid" is a concept that includes both "acrylic acid" and "methacrylic acid." The same applies to terms similar to (meth)acrylic acid. For example, "(meth)acryloyl group" is a concept that includes both "acryloyl group" and "methacryloyl group," and "(meth)acrylate " is a concept that includes both "acrylate" and "methacrylate."
アクリル樹脂は、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、水酸基、カルボキシ基、イソシアネート基等の他の化合物と結合可能な官能基を有していてもよい。アクリル樹脂の前記官能基は、後述する架橋剤(F)を介して他の化合物と結合してもよいし、架橋剤(F)を介さずに他の化合物と直接結合していてもよい。 The acrylic resin may have a functional group capable of bonding with other compounds, such as a vinyl group, (meth)acryloyl group, amino group, hydroxyl group, carboxy group, or isocyanate group. The functional group of the acrylic resin may be bonded to another compound via a crosslinking agent (F), which will be described later, or may be bonded directly to another compound without using a crosslinking agent (F).
本実施形態においては、重合体成分(A)として、アクリル樹脂以外の熱可塑性樹脂(以下、単に「熱可塑性樹脂」と略記することがある)を、アクリル樹脂を用いずに単独で用いてもよいし、アクリル樹脂と併用してもよい。前記熱可塑性樹脂を用いることで、被着体の凹凸面(例えば、ウエハの粗い裏面)へ熱硬化性保護膜形成フィルムが追従し易くなることがある。 In this embodiment, a thermoplastic resin other than acrylic resin (hereinafter sometimes simply abbreviated as "thermoplastic resin") may be used alone as the polymer component (A) without using the acrylic resin. It may be used together with an acrylic resin. By using the thermoplastic resin, it may become easier for the thermosetting protective film-forming film to follow the uneven surface of the adherend (for example, the rough back surface of a wafer).
前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリウレタン、フェノキシ樹脂、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリスチレン等が挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin include polyester, polyurethane, phenoxy resin, polybutene, polybutadiene, polystyrene, and the like.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する前記熱可塑性樹脂は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one type of thermoplastic resin, or may contain two or more types, and when they are two or more types, Combinations and ratios can be selected arbitrarily.
組成物(III)において、溶媒以外の全ての成分の総含有量に対する重合体成分(A)の含有量の割合は、重合体成分(A)の種類によらず、5~65質量%であることが好ましく、5~45質量%であることがより好ましい。
この内容は、熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、熱硬化性保護膜形成フィルムの総質量に対する、重合体成分(A)の含有量の割合が、重合体成分(A)の種類によらず、5~65質量%であることが好ましく、5~45質量%であることがより好ましい、ことと同義である。
これは、溶媒を含有する樹脂組成物から溶媒を除去して、樹脂膜を形成する過程では、溶媒以外の成分の量は、通常、変化しないことに基づいており、樹脂組成物と樹脂膜とでは、溶媒以外の成分同士の含有量の比率は同じである。そこで、本明細書においては、以降、熱硬化性保護膜形成フィルムの場合に限らず、溶媒以外の成分の含有量については、樹脂組成物から溶媒を除去した樹脂膜での含有量のみ記載する。
In composition (III), the ratio of the content of polymer component (A) to the total content of all components other than the solvent is 5 to 65% by mass, regardless of the type of polymer component (A). The amount is preferably 5 to 45% by mass, and more preferably 5 to 45% by mass.
This content means that the content ratio of the polymer component (A) to the total mass of the thermosetting protective film-forming film is independent of the type of the polymer component (A); This is synonymous with preferably 5 to 65% by mass, more preferably 5 to 45% by mass.
This is based on the fact that in the process of removing the solvent from a resin composition containing a solvent to form a resin film, the amounts of components other than the solvent usually do not change. In this case, the content ratios of the components other than the solvent are the same. Therefore, in this specification, the content of components other than the solvent will be described only in the resin film obtained by removing the solvent from the resin composition, not only in the case of the thermosetting protective film forming film. .
重合体成分(A)は、熱硬化性成分(B)にも該当する場合がある。本発明においては、組成物(III)が、このような重合体成分(A)及び熱硬化性成分(B)の両方に該当する成分を含有する場合、組成物(III)は、重合体成分(A)及び熱硬化性成分(B)を含有するとみなす。 The polymer component (A) may also correspond to the thermosetting component (B). In the present invention, when the composition (III) contains components corresponding to both the polymer component (A) and the thermosetting component (B), the composition (III) contains the polymer component (A) and the thermosetting component (B). (A) and a thermosetting component (B).
[熱硬化性成分(B)]
熱硬化性成分(B)は、熱硬化性保護膜形成フィルムを熱硬化させるための成分である。
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する熱硬化性成分(B)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。
[Thermosetting component (B)]
The thermosetting component (B) is a component for thermosetting the thermosetting protective film forming film.
The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one type of thermosetting component (B), or may contain two or more types, and in the case of two or more types. , their combination and ratio can be selected arbitrarily.
熱硬化性成分(B)としては、例えば、エポキシ系熱硬化性樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、エポキシ系熱硬化性樹脂が好ましい。
本明細書において、熱硬化性ポリイミド樹脂とは、熱硬化することによってポリイミド樹脂を形成する、ポリイミド前駆体と、熱硬化性ポリイミドと、の総称である。
Examples of the thermosetting component (B) include epoxy thermosetting resins, thermosetting polyimide resins, unsaturated polyester resins, and the like, with epoxy thermosetting resins being preferred.
In this specification, the thermosetting polyimide resin is a general term for a polyimide precursor and a thermosetting polyimide, which form a polyimide resin by thermosetting.
(エポキシ系熱硬化性樹脂)
エポキシ系熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂(B1)及び熱硬化剤(B2)からなる。
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有するエポキシ系熱硬化性樹脂は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。
(Epoxy thermosetting resin)
The epoxy thermosetting resin consists of an epoxy resin (B1) and a thermosetting agent (B2).
The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one type of epoxy thermosetting resin, or may contain two or more types, and in the case of two or more types, Their combination and ratio can be selected arbitrarily.
・エポキシ樹脂(B1)
エポキシ樹脂(B1)としては、公知のものが挙げられ、例えば、多官能系エポキシ樹脂、ビフェニル化合物、ビスフェノールAジグリシジルエーテル及びその水添物、オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェニレン骨格型エポキシ樹脂等、2官能以上のエポキシ化合物が挙げられる。
・Epoxy resin (B1)
Examples of the epoxy resin (B1) include known ones, such as polyfunctional epoxy resins, biphenyl compounds, bisphenol A diglycidyl ether and hydrogenated products thereof, orthocresol novolac epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, Examples include epoxy compounds having two or more functionalities, such as biphenyl type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and phenylene skeleton type epoxy resin.
エポキシ樹脂(B1)としては、不飽和炭化水素基を有するエポキシ樹脂を用いてもよい。 As the epoxy resin (B1), an epoxy resin having an unsaturated hydrocarbon group may be used.
エポキシ樹脂(B1)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The epoxy resin (B1) may be used alone or in combination of two or more types, and when two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof can be selected arbitrarily.
・熱硬化剤(B2)
熱硬化剤(B2)は、エポキシ樹脂(B1)に対する硬化剤として機能する。
熱硬化剤(B2)としては、例えば、1分子中にエポキシ基と反応し得る官能基を2個以上有する化合物が挙げられる。前記官能基としては、例えば、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシ基、酸基が無水物化された基等が挙げられ、フェノール性水酸基、アミノ基、又は酸基が無水物化された基であることが好ましく、フェノール性水酸基又はアミノ基であることがより好ましい。
・Thermosetting agent (B2)
The thermosetting agent (B2) functions as a curing agent for the epoxy resin (B1).
Examples of the thermosetting agent (B2) include compounds having two or more functional groups capable of reacting with epoxy groups in one molecule. Examples of the functional group include a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, a carboxy group, a group in which an acid group is anhydrified, and the like. It is preferably a group, and more preferably a phenolic hydroxyl group or an amino group.
熱硬化剤(B2)のうち、フェノール性水酸基を有するフェノール系硬化剤としては、例えば、多官能フェノール樹脂、ビフェノール、ノボラック型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂等が挙げられる。
熱硬化剤(B2)のうち、アミノ基を有するアミン系硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド等が挙げられる。
Among the thermosetting agents (B2), examples of phenolic curing agents having a phenolic hydroxyl group include polyfunctional phenol resins, biphenols, novolac type phenolic resins, dicyclopentadiene type phenolic resins, aralkyl type phenolic resins, etc. .
Among the thermosetting agents (B2), examples of amine-based curing agents having an amino group include dicyandiamide.
熱硬化剤(B2)は、不飽和炭化水素基を有していてもよい。 The thermosetting agent (B2) may have an unsaturated hydrocarbon group.
熱硬化剤(B2)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The thermosetting agent (B2) may be used alone or in combination of two or more types. When two or more types are used in combination, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected.
熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、熱硬化剤(B2)の含有量は、エポキシ樹脂(B1)の含有量100質量部に対して、0.1~25質量部であることが好ましく、0.5~10質量部であることがより好ましい。熱硬化剤(B2)の前記含有量が前記下限値以上であることで、熱硬化性保護膜形成フィルムの硬化がより進行し易くなる。熱硬化剤(B2)の前記含有量が前記上限値以下であることで、熱硬化性保護膜形成フィルムの吸湿率が低減されて、保護膜形成フィルムを用いて得られたパッケージの信頼性がより向上する。 The content of the thermosetting agent (B2) in the thermosetting protective film forming film is preferably 0.1 to 25 parts by mass, and 0.1 to 25 parts by mass, based on 100 parts by mass of the epoxy resin (B1). More preferably, it is 5 to 10 parts by mass. When the content of the thermosetting agent (B2) is at least the lower limit, curing of the thermosetting protective film forming film progresses more easily. When the content of the thermosetting agent (B2) is below the upper limit, the moisture absorption rate of the thermosetting protective film-forming film is reduced, and the reliability of the package obtained using the protective film-forming film is improved. Improve more.
熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、熱硬化性成分(B)の含有量(例えば、エポキシ樹脂(B1)及び熱硬化剤(B2)の総含有量)は、重合体成分(A)及び熱硬化性成分(B)の総含有量100質量部に対して、40~75質量部であることが好ましく、50~70質量部であることがより好ましい。熱硬化性成分(B)の前記含有量がこのような範囲であることで、熱硬化性成分(B)を用いたことによる効果及び重合体成分(A)を用いたことによる効果を、共に奏し易い。 The content of the thermosetting component (B) (for example, the total content of the epoxy resin (B1) and the thermosetting agent (B2)) in the thermosetting protective film forming film is the same as that of the polymer component (A) and the thermosetting component. It is preferably 40 to 75 parts by weight, more preferably 50 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total content of the sexual component (B). By having the content of the thermosetting component (B) in such a range, both the effect of using the thermosetting component (B) and the effect of using the polymer component (A) can be achieved. Easy to play.
[充填材(D)]
熱硬化性保護膜形成フィルムが充填材(D)を含有することにより、熱硬化性保護膜形成フィルムと保護膜は、熱膨張係数の調整が容易となり、この熱膨張係数を保護膜の形成対象物に対して最適化することで、保護膜形成フィルムを用いて得られた保護膜付きワーク加工物の信頼性がより向上する。また、熱硬化性保護膜形成フィルムが充填材(D)を含有することにより、保護膜の吸湿率を低減したり、放熱性を向上させたりすることもできる。
[Filler (D)]
By containing the filler (D) in the thermosetting protective film forming film, the thermal expansion coefficient of the thermosetting protective film forming film and the protective film can be easily adjusted, and this thermal expansion coefficient is used as the target for forming the protective film. By optimizing the process for the object, the reliability of the protective film-coated workpiece obtained using the protective film-forming film is further improved. Moreover, when the thermosetting protective film-forming film contains the filler (D), the moisture absorption rate of the protective film can be reduced and the heat dissipation properties can be improved.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する充填材(D)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one kind of filler (D), or may contain two or more kinds, and when they are two or more kinds, they The combination and ratio can be arbitrarily selected.
充填材(D)は、有機充填材及び無機充填材のいずれであってもよいが、無機充填材であることが好ましい。
好ましい無機充填材としては、例えば、酸化チタン(チタンホワイト)、酸化アルミニウム(アルミナ)、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、ベンガラ、炭化ケイ素、窒化ホウ素等の粉末;これら無機充填材を球形化したビーズ;これら無機充填材の表面改質品;これら無機充填材の単結晶繊維;ガラス繊維等が挙げられる。
The filler (D) may be either an organic filler or an inorganic filler, but is preferably an inorganic filler.
Preferred inorganic fillers include, for example, powders of titanium oxide (titanium white), aluminum oxide (alumina), silica, talc, calcium carbonate, red iron, silicon carbide, boron nitride, etc.; beads made of spherical inorganic fillers; Examples include surface-modified products of these inorganic fillers; single crystal fibers of these inorganic fillers; glass fibers, and the like.
熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、熱硬化性保護膜形成フィルムの総質量に対する、充填材(D)の含有量の割合は、45~80質量%であることが好ましく、65~80質量%であることがより好ましい。前記割合がこのような範囲であることで、上記の、熱硬化性保護膜形成フィルムと保護膜の熱膨張係数の調整がより容易となり、保護膜形成フィルムを用いて得られた保護膜付きワーク加工物の信頼性がより向上する。 The content ratio of the filler (D) in the thermosetting protective film-forming film to the total mass of the thermosetting protective film-forming film is preferably 45 to 80% by mass, and preferably 65 to 80% by mass. It is more preferable that there be. When the ratio is within this range, it becomes easier to adjust the thermal expansion coefficients of the thermosetting protective film-forming film and the protective film, and the protective film-coated workpiece obtained using the protective film-forming film can be easily adjusted. The reliability of the workpiece is further improved.
[着色剤(I)]
熱硬化性保護膜形成フィルム及び保護膜は、着色剤(I)を含有することにより、その光透過性を容易に調節できる。
[Colorant (I)]
The light transmittance of the thermosetting protective film-forming film and the protective film can be easily adjusted by containing the colorant (I).
着色剤(I)としては、例えば、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料等、公知のものが挙げられる。 Examples of the colorant (I) include known ones such as inorganic pigments, organic pigments, and organic dyes.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する着色剤(I)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one type of colorant (I), or may contain two or more types, and when they are two or more types, they The combination and ratio can be arbitrarily selected.
着色剤(I)を用いる場合、熱硬化性保護膜形成フィルムの着色剤(I)の含有量は、目的に応じて適宜調節すればよい。例えば、熱硬化性保護膜形成フィルムの着色剤(I)の含有量を調節し、熱硬化性保護膜形成フィルムの光透過性を調節することにより、熱硬化性保護膜形成フィルム又は保護膜に対してレーザー印字を行った場合の印字視認性を調節できる。また、熱硬化性保護膜形成フィルムの着色剤(I)の含有量を調節することで、保護膜の意匠性を向上させたり、ウエハの裏面の研削痕を見え難くすることもできる。これらの点を考慮すると、熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、熱硬化性保護膜形成フィルムの総質量に対する、着色剤(I)の含有量の割合は、0.1~7.5質量%であることが好ましく、0.1~5質量%であることがより好ましい。前記割合が前記下限値以上であることで、着色剤(I)を用いたことによる効果がより顕著に得られる。例えば、被着体から熱硬化性保護膜形成フィルムを剥離したときに、熱硬化性保護膜形成フィルムの被着体における残存の有無を、目視によって容易に確認できる。前記割合が前記上限値以下であることで、着色剤(I)の過剰使用が抑制される。 When using the colorant (I), the content of the colorant (I) in the thermosetting protective film-forming film may be adjusted as appropriate depending on the purpose. For example, by adjusting the content of the colorant (I) in the thermosetting protective film-forming film and adjusting the light transmittance of the thermosetting protective film-forming film, the thermosetting protective film-forming film or the protective film can be On the other hand, when laser printing is performed, the print visibility can be adjusted. Furthermore, by adjusting the content of the colorant (I) in the thermosetting protective film forming film, it is possible to improve the design of the protective film and to make grinding marks on the back surface of the wafer less visible. Considering these points, the content ratio of colorant (I) in the thermosetting protective film-forming film to the total mass of the thermosetting protective film-forming film is 0.1 to 7.5% by mass. The amount is preferably 0.1 to 5% by mass, and more preferably 0.1 to 5% by mass. When the ratio is equal to or higher than the lower limit, the effect of using the colorant (I) can be more prominently obtained. For example, when the thermosetting protective film-forming film is peeled off from the adherend, it can be easily confirmed visually whether or not the thermosetting protective film-forming film remains on the adherend. When the ratio is equal to or less than the upper limit, excessive use of the colorant (I) is suppressed.
[硬化促進剤(C)]
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムは、硬化促進剤(C)を含有していてもよい。硬化促進剤(C)は、組成物(III)の硬化速度を調整するための成分である。
好ましい硬化促進剤(C)としては、例えば、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第3級アミン;2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール類(1個以上の水素原子が水素原子以外の基で置換されたイミダゾール);トリブチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン等の有機ホスフィン類(1個以上の水素原子が有機基で置換されたホスフィン);テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等が挙げられる。
[Curing accelerator (C)]
The composition (III) and the thermosetting protective film forming film may contain a curing accelerator (C). The curing accelerator (C) is a component for adjusting the curing speed of the composition (III).
Preferred curing accelerators (C) include, for example, tertiary amines such as triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris(dimethylaminomethyl)phenol; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole; , 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, and other imidazoles (where one or more hydrogen atoms are other than hydrogen atoms) (imidazole substituted with a group of Examples include tetraphenylboron salts such as tetraphenylborate.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する硬化促進剤(C)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one kind of curing accelerator (C), or may contain two or more kinds, and in the case of two or more kinds, Their combination and ratio can be selected arbitrarily.
硬化促進剤(C)を用いる場合、熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、硬化促進剤(C)の含有量は、熱硬化性成分(B)の含有量100質量部に対して、0.01~5質量部であることが好ましく、0.1~3質量部であることがより好ましい。硬化促進剤(C)の前記含有量が前記下限値以上であることで、硬化促進剤(C)を用いたことによる効果がより顕著に得られる。硬化促進剤(C)の含有量が前記上限値以下であることで、例えば、高極性の硬化促進剤(C)が、高温・高湿度条件下で熱硬化性保護膜形成フィルム中において被着体との接着界面側に移動して偏析することを抑制する効果が高くなる。その結果、保護膜形成フィルムを用いて得られた保護膜付きワーク加工物の信頼性がより向上する。 When using a curing accelerator (C), the content of the curing accelerator (C) in the thermosetting protective film forming film is 0.01 parts by mass based on 100 parts by mass of the thermosetting component (B). The amount is preferably 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 3 parts by weight. When the content of the curing accelerator (C) is at least the lower limit, the effect of using the curing accelerator (C) can be more significantly obtained. By setting the content of the curing accelerator (C) at or below the upper limit value, for example, the highly polar curing accelerator (C) can be deposited in the thermosetting protective film forming film under high temperature and high humidity conditions. The effect of suppressing migration to the adhesive interface side with the body and segregation becomes higher. As a result, the reliability of a work piece with a protective film obtained using the protective film forming film is further improved.
[カップリング剤(E)]
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムは、カップリング剤(E)を含有していてもよい。カップリング剤(E)として、無機化合物又は有機化合物と反応可能な官能基を有するものを用いることにより、熱硬化性保護膜形成フィルムから形成された保護膜の被着体に対する接着性を向上させることができる。また、カップリング剤(E)を用いることで、前記保護膜は、耐熱性を損なうことなく、耐水性が向上する。
[Coupling agent (E)]
The composition (III) and the thermosetting protective film forming film may contain a coupling agent (E). By using a coupling agent (E) that has a functional group that can react with an inorganic compound or an organic compound, the adhesion of the protective film formed from the thermosetting protective film forming film to the adherend can be improved. be able to. Further, by using the coupling agent (E), the water resistance of the protective film is improved without impairing the heat resistance.
カップリング剤(E)は、重合体成分(A)、熱硬化性成分(B)等が有する官能基と反応可能な官能基を有する化合物であることが好ましく、シランカップリング剤であることがより好ましい。 The coupling agent (E) is preferably a compound having a functional group capable of reacting with the functional group of the polymer component (A), thermosetting component (B), etc., and is preferably a silane coupling agent. More preferred.
好ましい前記シランカップリング剤としては、例えば、3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシジルオキシメチルジエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチルアミノ)プロピルメチルジエトキシシラン、3-(フェニルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、3-アニリノプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、イミダゾールシラン等が挙げられる。 Preferred examples of the silane coupling agent include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxymethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane, 3-(2-amino ethylamino)propylmethyldiethoxysilane, 3-(phenylamino)propyltrimethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyl Examples include dimethoxysilane, bis(3-triethoxysilylpropyl)tetrasulfane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and imidazolesilane.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有するカップリング剤(E)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one type of coupling agent (E), or may include two or more types, and in the case of two or more types, Their combination and ratio can be selected arbitrarily.
カップリング剤(E)を用いる場合、熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、カップリング剤(E)の含有量は、重合体成分(A)及び熱硬化性成分(B)の総含有量100質量部に対して、0.01~7質量部であることが好ましく、0.02~3質量部であることがより好ましい。カップリング剤(E)の前記含有量が前記下限値以上であることで、充填材(D)の樹脂への分散性の向上や、熱硬化性保護膜形成フィルムの被着体との接着性の向上など、カップリング剤(E)を用いたことによる効果がより顕著に得られる。カップリング剤(E)の前記含有量が前記上限値以下であることで、アウトガスの発生がより抑制される。 When using the coupling agent (E), the content of the coupling agent (E) in the thermosetting protective film forming film is 100% by mass of the total content of the polymer component (A) and the thermosetting component (B). The amount is preferably 0.01 to 7 parts by weight, more preferably 0.02 to 3 parts by weight. When the content of the coupling agent (E) is at least the lower limit, the dispersibility of the filler (D) in the resin can be improved, and the adhesiveness of the thermosetting protective film forming film to the adherend can be improved. The effects of using the coupling agent (E), such as improvement in When the content of the coupling agent (E) is at most the upper limit, the generation of outgas is further suppressed.
[架橋剤(F)]
重合体成分(A)として、上述のアクリル樹脂等の、他の化合物と結合可能なビニル基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、水酸基、カルボキシ基、イソシアネート基等の官能基を有するものを用いる場合、組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムは、架橋剤(F)を含有していてもよい。架橋剤(F)は、重合体成分(A)中の前記官能基を他の化合物と結合させて架橋するための成分であり、このように架橋することにより、熱硬化性保護膜形成フィルムの粘着力及び凝集力を調節できる。
[Crosslinking agent (F)]
As the polymer component (A), a polymer having a functional group such as a vinyl group, a (meth)acryloyl group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxy group, an isocyanate group, etc. that can be bonded to other compounds, such as the above-mentioned acrylic resin, is used. In this case, the composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain a crosslinking agent (F). The crosslinking agent (F) is a component for crosslinking the functional groups in the polymer component (A) by bonding them with other compounds, and by crosslinking in this way, the thermosetting protective film forming film is formed. Adhesion and cohesion can be adjusted.
架橋剤(F)としては、例えば、有機多価イソシアネート化合物、有機多価イミン化合物、金属キレート系架橋剤(金属キレート構造を有する架橋剤)、アジリジン系架橋剤(アジリジニル基を有する架橋剤)等が挙げられる。 Examples of the crosslinking agent (F) include organic polyvalent isocyanate compounds, organic polyvalent imine compounds, metal chelate crosslinking agents (crosslinking agents having a metal chelate structure), aziridine crosslinking agents (crosslinking agents having an aziridinyl group), etc. can be mentioned.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する架橋剤(F)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one type of crosslinking agent (F), or may contain two or more types, and when they are two or more types, they The combination and ratio can be arbitrarily selected.
架橋剤(F)を用いる場合、組成物(III)において、架橋剤(F)の含有量は、重合体成分(A)の含有量100質量部に対して、0.01~20質量部であることが好ましく、0.1~10質量部であることがより好ましい。架橋剤(F)の前記含有量が前記下限値以上であることで、架橋剤(F)を用いたことによる効果がより顕著に得られる。架橋剤(F)の前記含有量が前記上限値以下であることで、架橋剤(F)の過剰使用が抑制される。 When using the crosslinking agent (F), in the composition (III), the content of the crosslinking agent (F) is 0.01 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymer component (A). The amount is preferably 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 0.1 to 10 parts by mass. When the content of the crosslinking agent (F) is at least the lower limit, the effect of using the crosslinking agent (F) can be more significantly obtained. Excessive use of the crosslinking agent (F) is suppressed because the content of the crosslinking agent (F) is below the upper limit value.
[エネルギー線硬化性樹脂(G)]
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムは、エネルギー線硬化性樹脂(G)を含有していてもよい。熱硬化性保護膜形成フィルムは、エネルギー線硬化性樹脂(G)を含有していることにより、エネルギー線の照射によって特性を変化させることができる。
[Energy ray curable resin (G)]
The composition (III) and the thermosetting protective film forming film may contain an energy ray curable resin (G). Since the thermosetting protective film forming film contains the energy ray curable resin (G), its properties can be changed by irradiation with energy rays.
エネルギー線硬化性樹脂(G)は、エネルギー線硬化性化合物、又はエネルギー線硬化性化合物から合成されたと見做せる、エネルギー線硬化性オリゴマー若しくはエネルギー線硬化性ポリマー(重合体)である。
前記エネルギー線硬化性化合物としては、例えば、分子内に少なくとも1個の重合性二重結合を有する化合物が挙げられ、(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート系化合物が好ましい。
The energy ray curable resin (G) is an energy ray curable compound, or an energy ray curable oligomer or an energy ray curable polymer (polymer) that can be considered to be synthesized from an energy ray curable compound.
Examples of the energy ray-curable compound include compounds having at least one polymerizable double bond in the molecule, and acrylate compounds having a (meth)acryloyl group are preferred.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有するエネルギー線硬化性樹脂(G)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one kind of energy ray-curable resin (G), or may contain two or more kinds, and are two or more kinds. In this case, their combination and ratio can be selected arbitrarily.
エネルギー線硬化性樹脂(G)を用いる場合、熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、熱硬化性保護膜形成フィルムの総質量に対する、エネルギー線硬化性樹脂(G)の含有量の割合は、1~30質量%であることが好ましく、5~25質量%であることがより好ましい。 When using the energy ray curable resin (G), the content ratio of the energy ray curable resin (G) to the total mass of the thermosetting protective film forming film is 1 to 1. It is preferably 30% by weight, more preferably 5 to 25% by weight.
[光重合開始剤(H)]
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムは、エネルギー線硬化性樹脂(G)を含有する場合、エネルギー線硬化性樹脂(G)の重合反応を効率よく進めるために、光重合開始剤(H)を含有していてもよい。
[Photopolymerization initiator (H)]
When the composition (III) and the thermosetting protective film forming film contain the energy ray curable resin (G), in order to efficiently advance the polymerization reaction of the energy ray curable resin (G), the composition (III) and the thermosetting protective film forming film contain a photopolymerization initiator. (H) may be contained.
組成物(III)における光重合開始剤(H)としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール等のベンゾイン化合物;アセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-(4-(4-(2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニル)ベンジル)フェニル)-2-メチルプロパン-1-オン、2-(ジメチルアミノ)-1-(4-モルホリノフェニル)-2-ベンジル-1-ブタノン等のアセトフェノン化合物;ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド化合物;ベンジルフェニルスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド等のスルフィド化合物;1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα-ケトール化合物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物;チタノセン等のチタノセン化合物;チオキサントン等のチオキサントン化合物;パーオキサイド化合物;ジアセチル等のジケトン化合物;ベンジル;ジベンジル;ベンゾフェノン;2,4-ジエチルチオキサントン;1,2-ジフェニルメタン;2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパノン;1-クロロアントラキノン、2-クロロアントラキノン等のキノン化合物が挙げられる。
また、光重合開始剤(H)としては、例えば、アミン等の光増感剤等も挙げられる。
Examples of the photopolymerization initiator (H) in composition (III) include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin methyl benzoate, benzoin dimethyl ketal, and the like. Benzoin compounds; acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2-hydroxy-1-(4-(4 -(2-hydroxy-2-methylpropionyl)benzyl)phenyl)-2-methylpropan-1-one, 2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)-2-benzyl-1-butanone, etc. Acetophenone compounds; acylphosphine oxide compounds such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; benzylphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, etc. Sulfide compounds; α-ketol compounds such as 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; titanocene compounds such as titanocene; thioxanthone compounds such as thioxanthone; peroxide compounds; diketone compounds such as diacetyl; benzyl ; Dibenzyl; Benzophenone; 2,4-diethylthioxanthone; 1,2-diphenylmethane; 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone; 1-chloroanthraquinone, 2-chloroanthraquinone Examples include quinone compounds such as.
Examples of the photopolymerization initiator (H) include photosensitizers such as amines.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する光重合開始剤(H)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one type of photopolymerization initiator (H), or may contain two or more types, and in the case of two or more types. , their combination and ratio can be selected arbitrarily.
光重合開始剤(H)を用いる場合、熱硬化性保護膜形成フィルムにおける、光重合開始剤(H)の含有量は、エネルギー線硬化性樹脂(G)の含有量100質量部に対して、0.1~20質量部であることが好ましく、1~10質量部であることがより好ましい。 When using a photopolymerization initiator (H), the content of the photopolymerization initiator (H) in the thermosetting protective film forming film is based on 100 parts by mass of the energy ray curable resin (G). It is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight.
[汎用添加剤(J)]
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲内において、汎用添加剤(J)を含有していてもよい。
汎用添加剤(J)は、公知のものでよく、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されないが、好ましいものとしては、例えば、可塑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、ゲッタリング剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。
[General-purpose additive (J)]
The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain a general-purpose additive (J) within a range that does not impair the effects of the present invention.
The general-purpose additive (J) may be any known one and can be arbitrarily selected depending on the purpose, and is not particularly limited, but preferable examples include a plasticizer, an antistatic agent, an antioxidant, a gettering agent, Examples include ultraviolet absorbers.
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する汎用添加剤(J)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。
組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムの汎用添加剤(J)の含有量は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択すればよい。
The composition (III) and the thermosetting protective film-forming film may contain only one kind of general-purpose additive (J), or may contain two or more kinds, and in the case of two or more kinds, Their combination and ratio can be selected arbitrarily.
The content of the general-purpose additive (J) in the composition (III) and the thermosetting protective film-forming film is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the purpose.
[溶媒]
組成物(III)は、さらに溶媒を含有することが好ましい。溶媒を含有する組成物(III)は、取り扱い性が良好となる。
本明細書において、「溶媒」とは、特に断りのない限り、対象成分を溶解させるものだけでなく、対象成分を分散させる分散媒も含む概念とする。
[solvent]
It is preferable that composition (III) further contains a solvent. Composition (III) containing a solvent has good handling properties.
In this specification, unless otherwise specified, the term "solvent" is a concept that includes not only a substance that dissolves the target component but also a dispersion medium that disperses the target component.
前記溶媒は特に限定されないが、好ましいものとしては、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素;メタノール、エタノール、2-プロパノール、イソブチルアルコール(2-メチルプロパン-1-オール)、1-ブタノール等のアルコール;酢酸エチル等のエステル;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;テトラヒドロフラン等のエーテル;ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド(アミド結合を有する化合物)等が挙げられる。
組成物(III)が含有する溶媒は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。
The solvent is not particularly limited, but preferable examples include hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, isobutyl alcohol (2-methylpropan-1-ol), and 1-butanol. ; esters such as ethyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran; and amides (compounds having an amide bond) such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone.
Composition (III) may contain only one kind of solvent, or may contain two or more kinds of solvents, and when they are two or more kinds, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected.
組成物(III)が含有する溶媒で、より好ましいものとしては、例えば、組成物(III)中の含有成分をより均一に混合できる点から、メチルエチルケトン、トルエン、酢酸エチル等が挙げられる。 Among the solvents contained in composition (III), more preferable solvents include, for example, methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, and the like, from the standpoint that the components contained in composition (III) can be mixed more uniformly.
組成物(III)の溶媒の含有量は、特に限定されず、例えば、溶媒以外の成分の種類に応じて適宜選択すればよい。 The content of the solvent in composition (III) is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the types of components other than the solvent, for example.
<熱硬化性保護膜形成用組成物(III)の製造方法>
組成物(III)は、これを構成するための各成分を配合することで得られる。
各成分の配合時における添加順序は特に限定されず、2種以上の成分を同時に添加してもよい。
配合時に各成分を混合する方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法;ミキサーを用いて混合する方法;超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
各成分の添加及び混合時の温度並びに時間は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されず、適宜調節すればよいが、温度は15~30℃であることが好ましい。
<Method for producing thermosetting protective film forming composition (III)>
Composition (III) can be obtained by blending the components for constituting it.
The order in which each component is added when blending is not particularly limited, and two or more components may be added at the same time.
The method of mixing each component at the time of compounding is not particularly limited, and may be any known method, such as mixing by rotating a stirrer or stirring blade; mixing by using a mixer; or mixing by applying ultrasonic waves. You can select it as appropriate.
The temperature and time during addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each component does not deteriorate, and may be adjusted as appropriate, but the temperature is preferably 15 to 30°C.
◎エネルギー線硬化性保護膜形成フィルム
エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムをワークの目的とする箇所に貼付し、エネルギー線硬化させて、保護膜を形成するときの硬化条件は、保護膜が十分にその機能を発揮する程度の硬化度となる限り特に限定されず、エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムの種類に応じて、適宜選択すればよい。
例えば、エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムのエネルギー線硬化時における、エネルギー線の照度は、120~280mW/cm2であることが好ましい。そして、前記硬化時における、エネルギー線の光量は、100~1000mJ/cm2であることが好ましい。
◎Energy ray curable protective film forming film When applying the energy ray curable protective film forming film to the desired part of the workpiece and curing it with energy rays to form a protective film, the curing conditions are such that the protective film is sufficiently There is no particular limitation as long as the degree of curing is sufficient to exhibit its function, and it may be selected as appropriate depending on the type of energy ray-curable protective film-forming film.
For example, the illuminance of energy rays during energy ray curing of the energy ray curable protective film-forming film is preferably 120 to 280 mW/cm 2 . The amount of energy rays used during curing is preferably 100 to 1000 mJ/cm 2 .
<エネルギー線硬化性保護膜形成用組成物(IV)>
好ましいエネルギー線硬化性保護膜形成用組成物としては、例えば、前記エネルギー線硬化性成分(a)を含有するエネルギー線硬化性保護膜形成用組成物(IV)(本明細書においては、単に「組成物(IV)」と略記することがある)等が挙げられる。
<Energy ray curable protective film forming composition (IV)>
As a preferable composition for forming an energy ray curable protective film, for example, an energy ray curable composition for forming a protective film containing the energy ray curable component (a) (IV) (herein simply referred to as " (sometimes abbreviated as "Composition (IV)").
[エネルギー線硬化性成分(a)]
エネルギー線硬化性成分(a)は、エネルギー線の照射によって硬化する成分であり、エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムに造膜性や、可撓性等を付与するとともに、硬化後に硬質の保護膜を形成するための成分でもある。
エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムにおいて、エネルギー線硬化性成分(a)は、未硬化であることが好ましく、粘着性を有することが好ましく、未硬化でかつ粘着性を有することがより好ましい。
[Energy ray curable component (a)]
The energy ray curable component (a) is a component that is cured by irradiation with energy rays, and provides film-forming properties, flexibility, etc. to the energy ray curable protective film forming film, and forms a hard protective film after curing. It is also an ingredient for forming.
In the energy beam-curable protective film-forming film, the energy beam-curable component (a) is preferably uncured, preferably adhesive, and more preferably uncured and adhesive.
エネルギー線硬化性成分(a)としては、例えば、エネルギー線硬化性基を有する、重量平均分子量が80000~2000000の重合体(a1)、及びエネルギー線硬化性基を有する、分子量が100~80000の化合物(a2)が挙げられる。前記重合体(a1)は、その少なくとも一部が架橋剤によって架橋されたものであってもよいし、架橋されていないものであってもよい。 Examples of the energy ray curable component (a) include a polymer (a1) having an energy ray curable group and a weight average molecular weight of 80,000 to 2,000,000, and a polymer (a1) having an energy ray curable group and a molecular weight of 100 to 80,000. Compound (a2) is mentioned. The polymer (a1) may be at least partially crosslinked with a crosslinking agent or may not be crosslinked.
組成物(IV)及びエネルギー線硬化性保護膜形成フィルムが含有する、エネルギー線硬化性成分(a)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (IV) and the energy ray curable protective film forming film may contain only one type of energy ray curable component (a), or may contain 2 or more types, and may contain 2 or more types. If so, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected.
[エネルギー線硬化性基を有しない重合体(b)]
組成物(IV)及びエネルギー線硬化性保護膜形成フィルムは、前記エネルギー線硬化性成分(a)として前記化合物(a2)を含有する場合、さらにエネルギー線硬化性基を有しない重合体(b)も含有することが好ましい。また、組成物(IV)及びエネルギー線硬化性保護膜形成フィルムは、前記化合物(a2)を含有せず、前記重合体(a1)、及びエネルギー線硬化性基を有しない重合体(b)をともに含有していてもよい。
[Polymer (b) without energy ray-curable group]
When the composition (IV) and the energy ray curable protective film forming film contain the compound (a2) as the energy ray curable component (a), the composition (IV) further contains a polymer (b) having no energy ray curable group. It is preferable to also contain. In addition, the composition (IV) and the energy ray curable protective film forming film do not contain the compound (a2) and contain the polymer (a1) and the polymer (b) that does not have an energy ray curable group. Both may be contained.
エネルギー線硬化性基を有しない重合体(b)としては、上述の組成物(III)の含有成分として挙げた、重合体成分(A)と同じものが挙げられる。ただし、重合体(b)はエネルギー線硬化性基を有しない。
これらの中でも、前記重合体(b)は、アクリル重合体(以下、「アクリル重合体(b-1)」と略記することがある)であることが好ましい。
Examples of the polymer (b) that does not have an energy ray-curable group include the same polymer component (A) listed as a component of the above-mentioned composition (III). However, the polymer (b) does not have an energy ray-curable group.
Among these, the polymer (b) is preferably an acrylic polymer (hereinafter sometimes abbreviated as "acrylic polymer (b-1)").
前記重合体(b)が、グリシジル基、水酸基、置換アミノ基、カルボキシ基、アミノ基等の官能基を有している場合には、前記重合体(b)は、架橋剤によって架橋されていてもよい。 When the polymer (b) has a functional group such as a glycidyl group, a hydroxyl group, a substituted amino group, a carboxy group, or an amino group, the polymer (b) is crosslinked with a crosslinking agent. Good too.
組成物(IV)及びエネルギー線硬化性保護膜形成フィルムが含有する、エネルギー線硬化性基を有しない重合体(b)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (IV) and the energy ray curable protective film-forming film may contain only one type of polymer (b) having no energy ray curable group, or two or more types. If there are two or more types, their combination and ratio can be selected arbitrarily.
組成物(IV)が、前記化合物(a2)を含有し、前記重合体(a1)及びエネルギー線硬化性基を有しない重合体(b)のいずれか一方又は両方を含有する場合、組成物(IV)において、前記化合物(a2)の含有量は、前記重合体(a1)及びエネルギー線硬化性基を有しない重合体(b)の総含有量100質量部に対して、10~400質量部であることが好ましく、30~350質量部であることがより好ましい。 When the composition (IV) contains the compound (a2) and either or both of the polymer (a1) and the polymer (b) which does not have an energy ray-curable group, the composition (IV) In IV), the content of the compound (a2) is 10 to 400 parts by mass based on 100 parts by mass of the total content of the polymer (a1) and the polymer (b) having no energy ray-curable group. The amount is preferably 30 to 350 parts by mass, and more preferably 30 to 350 parts by mass.
エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムにおける、エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムの総質量に対する、前記エネルギー線硬化性成分(a)及びエネルギー線硬化性基を有しない重合体(b)の合計含有量の割合は、5~90質量%であることが好ましく、10~80質量%であることがより好ましい。前記割合がこのような範囲であることで、エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムの造膜性、可撓性及びエネルギー線硬化性がより良好となる。 Total content of the energy ray curable component (a) and the polymer (b) having no energy ray curable group, relative to the total mass of the energy ray curable protective film forming film, in the energy ray curable protective film forming film. The proportion of is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 80% by mass. When the ratio is within such a range, the energy ray curable protective film forming film has better film forming properties, flexibility, and energy ray curability.
組成物(IV)は、エネルギー線硬化性成分(a)以外に、目的に応じて、熱硬化性成分、充填材、カップリング剤、架橋剤、光重合開始剤、着色剤及び汎用添加剤からなる群より選択される1種又は2種以上を含有していてもよい。 In addition to the energy beam curable component (a), the composition (IV) may contain a thermosetting component, a filler, a coupling agent, a crosslinking agent, a photopolymerization initiator, a coloring agent, and a general-purpose additive depending on the purpose. It may contain one or more selected from the group consisting of:
組成物(IV)における前記熱硬化性成分、充填材、カップリング剤、架橋剤、光重合開始剤、着色剤及び汎用添加剤としては、それぞれ、組成物(III)における熱硬化性成分(B)、充填材(D)、カップリング剤(E)、架橋剤(F)、光重合開始剤(H)、着色剤(I)及び汎用添加剤(J)と同じものが挙げられる。
これらの成分を含有するエネルギー線硬化性保護膜形成フィルムは、これらの成分を含有する熱硬化性保護膜形成フィルムと、同様の効果を奏する。特に、光重合開始剤は、エネルギー線硬化の反応を効率よく進めることから、エネルギー線硬化性保護膜形成フィルムは、光重合開始剤を含有することが好ましい。
The thermosetting component, filler, coupling agent, crosslinking agent, photoinitiator, coloring agent, and general-purpose additive in composition (IV) are the thermosetting component (B) in composition (III), respectively. ), filler (D), coupling agent (E), crosslinking agent (F), photopolymerization initiator (H), colorant (I), and general-purpose additive (J).
The energy ray-curable protective film-forming film containing these components has the same effects as the thermosetting protective film-forming film containing these components. In particular, since the photopolymerization initiator efficiently advances the energy ray curing reaction, it is preferable that the energy ray curable protective film forming film contains a photopolymerization initiator.
組成物(IV)における前記熱硬化性成分、充填材、カップリング剤、架橋剤、光重合開始剤、着色剤及び汎用添加剤の含有量は、目的に応じて適宜調節すればよく、特に限定されない。 The content of the thermosetting component, filler, coupling agent, crosslinking agent, photopolymerization initiator, coloring agent, and general-purpose additive in composition (IV) may be adjusted as appropriate depending on the purpose, and there are no particular limitations. Not done.
組成物(IV)は、希釈によってその取り扱い性が向上することから、さらに溶媒を含有するものが好ましい。
組成物(IV)が含有する溶媒としては、例えば、組成物(III)における溶媒と同じものが挙げられる。
組成物(IV)が含有する溶媒は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
組成物(IV)の溶媒の含有量は、特に限定されず、例えば、溶媒以外の成分の種類に応じて適宜選択すればよい。
Composition (IV) preferably further contains a solvent because its handling properties are improved by dilution.
Examples of the solvent contained in composition (IV) include the same solvents as in composition (III).
Composition (IV) may contain only one type of solvent, or may contain two or more types.
The content of the solvent in composition (IV) is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the types of components other than the solvent, for example.
<エネルギー線硬化性保護膜形成用組成物(IV)の製造方法>
組成物(IV)は、これを構成するための各成分を配合することで得られる。
エネルギー線硬化性保護膜形成用組成物は、例えば、配合成分の種類が異なる点以外は、先に説明した熱硬化性保護膜形成用組成物の場合と同じ方法で製造できる。
<Method for producing energy ray curable protective film forming composition (IV)>
Composition (IV) can be obtained by blending the components for constituting it.
The energy ray-curable composition for forming a protective film can be produced, for example, by the same method as for the composition for forming a thermosetting protective film described above, except that the types of ingredients are different.
◎非硬化性保護膜形成フィルム
好ましい非硬化性保護膜形成フィルムとしては、例えば、熱可塑性樹脂及び充填材を含有するものが挙げられる。
◎Non-curable protective film-forming film Preferred non-curing protective film-forming films include, for example, those containing a thermoplastic resin and a filler.
<非硬化性保護膜形成用組成物(V)>
好ましい非硬化性保護膜形成用組成物としては、例えば、前記熱可塑性樹脂及び充填材を含有する非硬化性保護膜形成用組成物(V)(本明細書においては、単に「組成物(V)」と略記することがある)等が挙げられる。
<Non-curable protective film forming composition (V)>
Preferred non-curable protective film-forming compositions include, for example, non-curable protective film-forming composition (V) containing the thermoplastic resin and filler (herein simply referred to as "composition (V)"). )”), etc.
[熱可塑性樹脂]
前記熱可塑性樹脂は、特に限定されない。
前記熱可塑性樹脂として、より具体的には、例えば、上述の組成物(III)の含有成分として挙げた、重合体成分(A)と同じものが挙げられる。ただし、前記熱可塑性樹脂はエネルギー線硬化性基を有しない。
[Thermoplastic resin]
The thermoplastic resin is not particularly limited.
More specifically, examples of the thermoplastic resin include the same ones as the polymer component (A) listed as a component of the above-mentioned composition (III). However, the thermoplastic resin does not have an energy ray-curable group.
組成物(V)及び非硬化性保護膜形成フィルムが含有する前記熱可塑性樹脂は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (V) and the non-curable protective film-forming film may contain only one type of thermoplastic resin, or may contain two or more types, and when they are two or more types, Combinations and ratios can be selected arbitrarily.
非硬化性保護膜形成フィルムにおける、非硬化性保護膜形成フィルムの総質量に対する、前記熱可塑性樹脂の含有量の割合は、25~75質量%であることが好ましい。 In the non-curable protective film-forming film, the content ratio of the thermoplastic resin to the total mass of the non-curable protective film-forming film is preferably 25 to 75% by mass.
[充填材]
充填材を含有する非硬化性保護膜形成フィルムは、充填材(D)を含有する熱硬化性保護膜形成フィルムと、同様の効果を奏する。
[Filling material]
A non-curable protective film-forming film containing a filler has the same effect as a thermosetting protective film-forming film containing a filler (D).
組成物(V)及び非硬化性保護膜形成フィルムが含有する充填材としては、組成物(III)及び熱硬化性保護膜形成フィルムが含有する充填材(D)と同じものが挙げられる。 The filler contained in the composition (V) and the non-curable protective film-forming film includes the same filler (D) contained in the composition (III) and the thermosetting protective film-forming film.
組成物(V)及び非硬化性保護膜形成フィルムが含有する充填材は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The composition (V) and the non-curable protective film-forming film may contain only one kind of filler, or two or more kinds of fillers, and when they are two or more kinds, a combination thereof and The ratio can be selected arbitrarily.
非硬化性保護膜形成フィルムにおける、非硬化性保護膜形成フィルムの総質量に対する、充填材の含有量の割合は、15~70質量%であることが好ましい。前記割合がこのような範囲であることで、組成物(III)を用いた場合と同様に、非硬化性保護膜形成フィルム及び保護膜の熱膨張係数の調整が、より容易となる。 In the non-curable protective film-forming film, the content ratio of the filler to the total mass of the non-curable protective film-forming film is preferably 15 to 70% by mass. When the ratio is within this range, it becomes easier to adjust the thermal expansion coefficient of the non-curable protective film-forming film and the protective film, as in the case of using composition (III).
組成物(V)は、前記熱可塑性樹脂及び充填材以外に、目的に応じて、他の成分を含有していてもよい。
前記他の成分は、特に限定されず、目的に応じて任意に選択できる。
例えば、前記熱可塑性樹脂及び着色剤を含有する組成物(V)を用いることにより、形成される非硬化性保護膜形成フィルム及び保護膜は、先に説明した熱硬化性保護膜形成フィルムが着色剤(I)を含有する場合と同様の効果を発現する。
In addition to the thermoplastic resin and filler, the composition (V) may contain other components depending on the purpose.
The other components are not particularly limited and can be arbitrarily selected depending on the purpose.
For example, by using the composition (V) containing the thermoplastic resin and a coloring agent, the non-curable protective film-forming film and protective film formed are different from the thermosetting protective film-forming film described above. The same effect as when containing agent (I) is expressed.
組成物(V)において、前記他の成分は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 In the composition (V), the other components may be used alone or in combination of two or more, and when two or more are used in combination, the combination and ratio thereof may be determined arbitrarily. You can choose.
組成物(V)の前記他の成分の含有量は、目的に応じて適宜調節すればよく、特に限定されない。 The content of the other components in composition (V) may be adjusted as appropriate depending on the purpose and is not particularly limited.
組成物(V)は、希釈によってその取り扱い性が向上することから、さらに溶媒を含有するものが好ましい。
組成物(V)が含有する溶媒としては、例えば、上述の組成物(III)における溶媒と同じものが挙げられる。
組成物(V)が含有する溶媒は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
組成物(V)の溶媒の含有量は、特に限定されず、例えば、溶媒以外の成分の種類に応じて適宜選択すればよい。
Composition (V) preferably further contains a solvent because its handling properties are improved by dilution.
Examples of the solvent contained in composition (V) include the same solvents as those in composition (III) described above.
Composition (V) may contain only one type of solvent, or may contain two or more types.
The content of the solvent in composition (V) is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on, for example, the types of components other than the solvent.
<非硬化性保護膜形成用組成物(V)の製造方法>
組成物(V)は、これを構成するための各成分を配合することで得られる。
非硬化性保護膜形成用組成物は、例えば、配合成分の種類が異なる点以外は、先に説明した熱硬化性保護膜形成用組成物の場合と同じ方法で製造できる。
<Method for producing non-curable protective film forming composition (V)>
Composition (V) is obtained by blending the components for constituting this.
The non-curable protective film-forming composition can be produced, for example, in the same manner as the thermosetting protective film-forming composition described above, except that the types of ingredients are different.
<<好ましい保護膜形成用シートの一例>>
前記保護膜形成用シートにおいては、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力、第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力、並びに第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差が、いずれも上述のいずれかの数値範囲であることが好ましい。このような保護膜形成用シートは、極めて優れた特性を有する。
好ましい保護膜形成用シートの一例としては、第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差が30mN/100mm以上200mN/100mm未満であり、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力が20mN/100mm以上であり、第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力が500mN/100mm以下である、保護膜形成用シートが挙げられる。
<<An example of a preferable protective film forming sheet>>
In the protective film forming sheet, the peeling force of the first release film to the protective film forming film, the peeling force of the second release film to the protective film forming film, and the difference in peeling force between the second release film and the first release film are , are preferably in any of the numerical ranges mentioned above. Such a protective film forming sheet has extremely excellent properties.
As an example of a preferable protective film forming sheet, the difference in peel force between the second release film and the first release film is 30 mN/100 mm or more and less than 200 mN/100 mm, and the peel force of the first release film with respect to the protective film forming film is 20 mN. /100 mm or more, and the peeling force of the second release film to the protective film forming film is 500 mN/100 mm or less.
前記保護膜形成用シートにおいては、第1剥離フィルムの保護膜形成フィルム側の面のうち、保護膜形成フィルムが積層されていない領域(非積層領域)と、第2剥離フィルムの保護膜形成フィルム側の面のうち、保護膜形成フィルムが積層されていない領域(非積層領域)と、の間には、介在物があってもよいし、無くてもよいが、介在物が実質的に無いことが好ましい。このような保護膜形成用シートを用いて、保護膜形成フィルムから第1剥離フィルムを剥離し(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第1剥離工程)、この剥離した第1剥離フィルムをロール状に巻き取るときに、第1剥離フィルムの巻きずれが抑制される。同様に、このような保護膜形成用シートを用いて、保護膜形成フィルム又は保護膜から第2剥離フィルムを剥離し(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第2剥離工程)、この剥離した第2剥離フィルムをロール状に巻き取るときに、第2剥離フィルムの巻きずれが抑制される。また、このような保護膜形成用シートは、より安価に製造できる。 In the protective film-forming sheet, a region on which the protective film-forming film is not laminated (non-laminated region) of the surface of the first release film on the protective film-forming film side and a protective film-forming film of the second release film There may or may not be inclusions between the side surface and the area where the protective film-forming film is not laminated (non-lamination area), but there are substantially no inclusions. It is preferable. Using such a protective film-forming sheet, the first release film is peeled off from the protective film-forming film (for example, in the first peeling step in the method for manufacturing a workpiece with a protective film described later), and the peeled first release film is When the release film is wound up into a roll, the first release film is prevented from slipping. Similarly, using such a protective film forming sheet, the second release film is peeled off from the protective film forming film or the protective film (for example, the second peeling step in the method for manufacturing a workpiece with a protective film described below). When this peeled second release film is wound up into a roll, the winding shift of the second release film is suppressed. Further, such a protective film forming sheet can be manufactured at a lower cost.
本明細書において、介在物が実質的に無いとは、介在物が全く無いか、又は、介在物があっても、介在物の最大幅が5mm未満であることを意味する。ここで、介在物の最大幅とは、介在物の表面上の異なる2点間を結ぶ線分の長さで最大のものを意味する。したがって、例えば、球状の介在物の最大幅は、この球の直径である。 As used herein, "substantially free of inclusions" means that there are no inclusions at all, or even if there are inclusions, the maximum width of the inclusions is less than 5 mm. Here, the maximum width of an inclusion means the maximum length of a line segment connecting two different points on the surface of the inclusion. Thus, for example, the maximum width of a spherical inclusion is the diameter of this sphere.
前記保護膜形成用シートにおいては、第1剥離フィルムの前記非積層領域と、第2剥離フィルムの前記非積層領域との間に、介在物が実質的に無い場合には、第1剥離フィルムの前記非積層領域の一部と、第2剥離フィルムの前記非積層領域の一部と、が互いに接触していてもよいし、互いに接触していなくてもよい。 In the protective film forming sheet, when there are substantially no inclusions between the non-laminated area of the first release film and the non-laminated area of the second release film, the A part of the non-laminated area and a part of the non-laminated area of the second release film may or may not be in contact with each other.
<<保護膜形成用シートの一例>>
図2(a)は、本実施形態の保護膜形成用シートの一例を模式的に示す平面図であり、図2(b)は、図2(a)に示す保護膜形成用シートのII-II線における断面を模式的に示す図である。
なお、図2以降の図において、既に説明済みの図に示すものと同じ構成要素には、その説明済みの図の場合と同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。
<<Example of protective film forming sheet>>
FIG. 2(a) is a plan view schematically showing an example of the protective film forming sheet of the present embodiment, and FIG. 2(b) is a plan view schematically showing an example of the protective film forming sheet shown in FIG. FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section taken along line II.
In the figures after FIG. 2, the same components as those shown in the already explained figures are given the same reference numerals as in the already explained figures, and detailed explanation thereof will be omitted.
ここに示す保護膜形成用シート1は、第1剥離フィルム12と、第1剥離フィルム12よりも剥離力が大きい第2剥離フィルム13と、第1剥離フィルム12と第2剥離フィルム13との間に設けられた保護膜形成フィルム11と、を備えている。図2(a)に示すように、第1剥離フィルム12と第2剥離フィルム13はいずれも長尺である。図2(a)は、保護膜形成用シート1を、その第1剥離フィルム12側の上方から見下ろして平面視したときの平面図である。
保護膜形成用シート1においては、2枚以上の保護膜形成フィルム11が、1枚の第1剥離フィルム12と1枚の第2剥離フィルム13の長手方向に沿って配置されており、ここでは、2枚以上の保護膜形成フィルム11が、1枚の第1剥離フィルム12と1枚の第2剥離フィルム13の長手方向に沿って、一列に配置されている。ここでは、符号11aは、保護膜形成フィルム11の第1剥離フィルム12側の面(本明細書においては、「第1面」と称することがある)を示し、符号11bは、保護膜形成フィルム11の第2剥離フィルム13側の面(本明細書においては、「第2面」と称することがある)を示している。
保護膜形成フィルム11の平面形状は、すべて円形又は略円形である。
保護膜形成フィルム11の直径D11は、135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満である。
The protective
In the protective
The planar shape of the protective
The diameter D 11 of the protective
第1剥離フィルム12は、その保護膜形成フィルム11の外周部11cと一致する位置には、切れ込みを実質的に有しておらず、第2剥離フィルム13は、その保護膜形成フィルム11の外周部11cと一致する位置には、切れ込み139を有している。切れ込み139の深さは、1μm未満である。切れ込み139は、上記のように見下ろして平面視したときに、円形又は略円形を描いている。
The
第2剥離フィルム13の保護膜形成フィルム11に対する剥離力と、第1剥離フィルム12の保護膜形成フィルム11に対する剥離力と、の差は、30mN/100mm以上200mN/100mm未満であることが好ましい。
第1剥離フィルム12の保護膜形成フィルム11に対する剥離力は、20mN/100mm以上であることが好ましい。
第2剥離フィルム13の保護膜形成フィルム11に対する剥離力は、500mN/100mm以下であることが好ましい。
第1剥離フィルム12の保護膜形成フィルム11側の面12bと、ステンレス鋼(SUS)板の表面と、を貼付したときの、第1剥離フィルム12とステンレス鋼板との間の付着力は、50mN/25mm未満であることが好ましく、第1剥離フィルム12の保護膜形成フィルム11側の面12bのうち、少なくとも保護膜形成フィルム11が積層されていない領域(非積層領域)122bが、上述の付着力(50mN/25mm未満)を有していることが好ましく、前記面12bの全領域(全面)が、上述の付着力(50mN/25mm未満)を有していてもよい。
第2剥離フィルム13の保護膜形成フィルム11側の面13aと、ステンレス鋼(SUS)板の表面と、を貼付したときの、第2剥離フィルム13とステンレス鋼板との間の付着力は、50mN/25mm未満であることが好ましく、第2剥離フィルム13の保護膜形成フィルム11側の面13aのうち、少なくとも保護膜形成フィルム11が積層されていない領域(非積層領域)132aが、上述の付着力(50mN/25mm未満)を有していることが好ましく、前記面13aの全領域(全面)が、上述の付着力(50mN/25mm未満)を有していてもよい。
The difference between the peeling force of the
The peel force of the
The peeling force of the
When the
When the
保護膜形成用シート1においては、第1剥離フィルム12の保護膜形成フィルム11側の面12bのうち、保護膜形成フィルム11が積層されていない領域(非積層領域)122bと、第2剥離フィルム13の保護膜形成フィルム11側の面13aのうち、保護膜形成フィルム11が積層されていない領域(非積層領域)132aと、の間には、介在物が実質的に無いことが好ましい。第1剥離フィルム12の前記非積層領域122bと、第2剥離フィルム13の前記非積層領域132aとの間に、介在物が実質的に無い場合には、図2(b)に示すように、第1剥離フィルム12の前記非積層領域122bと、第2剥離フィルム13の前記非積層領域132aと、が互いに接触していなくてもよいし、図3に示すように、第1剥離フィルム12の前記非積層領域122bの一部と、第2剥離フィルム13の前記非積層領域132aの一部と、が互いに接触していてもよい。図3は、本実施形態の保護膜形成用シートの他の例を模式的に示す断面図である。
第1剥離フィルム12の保護膜形成フィルム11側の面12bのうち、保護膜形成フィルム11が積層されている領域(積層領域)121bは、前記非積層領域122bに囲まれており、その形状は、保護膜形成フィルム11の平面形状と同じである。
同様に、第2剥離フィルム13の保護膜形成フィルム11側の面13aのうち、保護膜形成フィルム11が積層されている領域(積層領域)131aは、前記非積層領域132aに囲まれており、その形状は、保護膜形成フィルム11の平面形状と同じである。
In the protective
Of the
Similarly, of the
第2剥離フィルム13のうち、保護膜形成フィルム11が積層されている部位(積層部位、図2(b)においては、前記積層領域131aに対応した部位)の厚さT131aと、保護膜形成フィルム11が積層されていない部位(非積層部位、図2(b)においては、前記非積層領域132aに対応した部位)の厚さT132aと、の差(T131a-T132a)は、10μm未満であることが好ましく、-10μm以上であることが好ましい。
The thickness T 131a of the part of the
<<保護膜形成用シートの他の例>>
本実施形態の保護膜形成用シートは、上述のものに限定されず、本発明の効果を損なわない範囲内において、ここまでに説明したもの(例えば、図2(a)、図2(b)、図3に示した保護膜形成用シート)において、一部の構成が変更又は削除されたものや、さらに他の構成が追加されたものであってもよい。
<<Other examples of protective film forming sheets>>
The protective film-forming sheet of this embodiment is not limited to the above-mentioned one, and the sheets described so far (for example, FIG. 2(a), FIG. 2(b) , protective film forming sheet shown in FIG. 3), some of the configurations may be changed or deleted, or other configurations may be added.
図4は、本実施形態の保護膜形成用シートの他の例を模式的に示す断面図である。
ここに示す保護膜形成用シート2は、第2剥離フィルム23が、その保護膜形成フィルム11の外周部11cと一致する位置に、切れ込みを実質的に有しておらず、第1剥離フィルム22が、その保護膜形成フィルム11の外周部11cと一致する位置に、切れ込み229を有している。保護膜形成用シート2は、これらの点以外は、保護膜形成用シート1と同じである。
第1剥離フィルム22は、切れ込み229を有している点以外は、第1剥離フィルム12と同じであり、第1剥離フィルム22が有する切れ込み229は、第2剥離フィルム13が有する切れ込み139と同じである。
第2剥離フィルム23は、切れ込みを実質的に有していない点以外は、第2剥離フィルム13と同じである。
保護膜形成用シート2においては、第1剥離フィルム22の保護膜形成フィルム11側の面22bのうち、保護膜形成フィルム11が積層されていない領域(非積層領域)の一部と、第2剥離フィルム23の保護膜形成フィルム11側の面23aのうち、保護膜形成フィルム11が積層されていない領域(非積層領域)の一部と、が互いに接触していてもよい。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing another example of the protective film forming sheet of this embodiment.
In the protective
The
The
In the protective
図5(a)は、本実施形態の保護膜形成用シートのさらに他の例を模式的に示す平面図であり、図5(b)は、図5(a)に示す保護膜形成用シートのIII-III線における断面を模式的に示す図である。
ここに示す保護膜形成用シート3は、第1剥離フィルム12と第2剥離フィルム13との間に、さらに、第1剥離フィルム12と第2剥離フィルム13のそれぞれの2本の長辺に沿って、これら長辺の近傍に、帯状の保護膜形成フィルム31を備えている点以外は、保護膜形成用シート1と同じである。保護膜形成用シート3の幅方向において、2本の保護膜形成フィルム31は、第1剥離フィルム12と第2剥離フィルム13の両端部近傍に設けられており、2枚以上の保護膜形成フィルム11が、これら保護膜形成フィルム31の間に配置されている。
FIG. 5(a) is a plan view schematically showing still another example of the protective film forming sheet of the present embodiment, and FIG. 5(b) is a plan view schematically showing the protective film forming sheet shown in FIG. 5(a). FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section taken along line III-III of FIG.
The protective
保護膜形成フィルム31は、その形状以外は、保護膜形成フィルム11と同じである。保護膜形成フィルム31は、保護膜形成用シート3の製造時に、保護膜形成フィルム11と同時に形成できる。
保護膜形成フィルム31は、保護膜形成用シート3において、第1剥離フィルム12と第2剥離フィルム13との間に介在して、第1剥離フィルム12と第2剥離フィルム13との間の距離を一定値以上に保持するためのスペーサーとして機能する。
The protective
The protective
保護膜形成用シート3が保護膜形成フィルム31を備えていることにより、保護膜形成用シート3をロール状に巻き取り、次いで、ロールから繰り出したときに、第1剥離フィルム及び第2剥離フィルムにおける、保護膜形成フィルム11の巻き痕の発生が抑制される。
Since the protective film-forming
保護膜形成フィルム31の幅は、5~20mmであることが好ましい。
保護膜形成フィルム31の厚さは、保護膜形成フィルム11の厚さと同じであってよい。
The width of the protective
The thickness of the protective
図6は、本実施形態の保護膜形成用シートのさらに他の例を模式的に示す断面図である。
ここに示す保護膜形成用シート4は、第1剥離フィルム22と第2剥離フィルム23との間に、さらに、第1剥離フィルム22と第2剥離フィルム23のそれぞれの2本の長辺に沿って、これら長辺の近傍に、帯状の保護膜形成フィルム41を備えている点以外は、保護膜形成用シート2と同じである。保護膜形成用シート4の幅方向において、2本の保護膜形成フィルム41は、第1剥離フィルム22と第2剥離フィルム23の両端部近傍に設けられており、2枚以上の保護膜形成フィルム11が、これら保護膜形成フィルム41の間に配置されている。
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing still another example of the protective film forming sheet of this embodiment.
The protective film forming sheet 4 shown here is provided between the
保護膜形成フィルム41は、その形状以外は、保護膜形成フィルム11と同じであり、保護膜形成用シート4での保護膜形成フィルム41の配置の態様は、保護膜形成フィルム31での保護膜形成フィルム31の配置の態様と同じである。
保護膜形成用シート4は、保護膜形成用シート3と同様の効果を奏する。
保護膜形成フィルム41は、このような保護膜形成用シート4を用いて、保護膜形成フィルム又は保護膜から第2剥離フィルムを剥離(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第2剥離工程)した後、この剥離した第2剥離フィルムをロール状に巻き取る前に、取り除いてもよい。
The protective
The protective film forming sheet 4 has the same effect as the protective
The protective
図7は、本実施形態の保護膜形成用シートのさらに他の例を模式的に示す断面図である。
ここに示す保護膜形成用シート5は、切れ込み139を有する第2剥離フィルム13に代えて、切れ込みを有しない第2剥離フィルム23を備えている点以外は、図2(a)及び図2(b)に示す保護膜形成用シート1と同じであり、切れ込み229を有する第1剥離フィルム22に代えて、切れ込みを有しない第1剥離フィルム12を備えている点以外は、図4に示す保護膜形成用シート2と同じである。
保護膜形成用シート5においては、第1剥離フィルム12の保護膜形成フィルム11側の面12bのうち、保護膜形成フィルム11が積層されていない領域(非積層領域)の一部と、第2剥離フィルム23の保護膜形成フィルム11側の面23aのうち、保護膜形成フィルム11が積層されていない領域(非積層領域)の一部と、が互いに接触していてもよい。
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing still another example of the protective film forming sheet of this embodiment.
The protective film forming sheet 5 shown here is similar to FIGS. 2(a) and 2( The protection shown in FIG. 4 is the same as the protective
In the protective film forming sheet 5, of the
図8は、本実施形態の保護膜形成用シートのさらに他の例を模式的に示す断面図である。
ここに示す保護膜形成用シート6は、切れ込み139を有する第2剥離フィルム13に代えて、切れ込みを有しない第2剥離フィルム23を備えている点以外は、図5(a)及び図5(b)に示す保護膜形成用シート3と同じであり、切れ込み229を有する第1剥離フィルム22に代えて、切れ込みを有しない第1剥離フィルム12を備えている点以外は、図6に示す保護膜形成用シート4と同じである。
保護膜形成フィルム41は、このような保護膜形成用シート6を用いて、保護膜形成フィルム又は保護膜から第2剥離フィルムを剥離(例えば、後述する保護膜付きワーク加工物の製造方法における第2剥離工程)した後、この剥離した第2剥離フィルムをロール状に巻き取る前に、取り除いてもよい。
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing still another example of the protective film forming sheet of this embodiment.
The protective
The protective
<<保護膜形成用シートの製造方法>>
本実施形態の保護膜形成用シートは、公知の保護膜形成用シートの製造方法を適宜組み合わせることで、製造できる。
例えば、本実施形態の保護膜形成用シートは、第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムと、除去用剥離フィルムと、これら(前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムと、前記除去用剥離フィルム)の間に設けられた保護膜形成フィルムと、を備えて構成された積層シートを作製し、前記積層シートに対して、前記除去用剥離フィルムの露出面から、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの前記保護膜形成フィルム側の面を通過し、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの内部にまで到達する、直径が135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満の円形又は略円形の切れ込みを、前記積層シートの長手方向に沿って2以上形成して、前記保護膜形成フィルム及び除去用剥離フィルムを、平面形状が円形又は略円形の第1領域と、それ以外の第2領域と、に分割することで第1中間体を作製し、前記第1中間体において、前記保護膜形成フィルム及び除去用剥離フィルムの第2領域を、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムから取り除き、さらに、前記保護膜形成フィルムの第1領域から、これに貼付されている前記除去用剥離フィルムの第1領を取り除く(カス上げを行う)ことで、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムと、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの一方の面上に設けられた、直径が135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満の円形又は略円形の2枚以上の保護膜形成フィルムと、を備え、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムが、その前記円形又は略円形の保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを有する第2中間体を作製し、前記第2中間体が前記第1剥離フィルムを備えている場合には、第2剥離フィルムを新たに用意し、前記第2中間体が前記第2剥離フィルムを備えている場合には、第1剥離フィルムを新たに用意し、前記第2中間体中のすべての前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルム側とは反対側の露出面に、前記新たに用意した第2剥離フィルム又は第1剥離フィルムを貼付することで、製造できる。前記新たに用意した第2剥離フィルム又は第1剥離フィルムを貼付するとき、又は貼付した後は、前記第1剥離フィルムの前記保護膜形成フィルム側の面と、前記第2剥離フィルムの前記保護膜形成フィルム側の面とを、前記保護膜形成フィルムの近傍以外の領域で接触させて(貼り合わせて)もよい。
本製造方法(本明細書においては、「製造方法(α)」と称することがある)により、第1剥離フィルムと第2剥離フィルムとのいずれか一方が、その保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを有する保護膜形成用シート(例えば、図2(a)、図2(b)及び図3に示す保護膜形成用シート1、図4に示す保護膜形成用シート2)を製造できる。
また、本製造方法(製造方法(α))において、上記の第2中間体の作製時に、さらに、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムを形成するように、前記積層シートに対して切れ込みを形成することによって、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムも備えた保護膜形成用シート(例えば、図5(a)及び図5(b)に示す保護膜形成用シート3、図6に示す保護膜形成用シート4)を製造できる。
<<Production method of protective film forming sheet>>
The protective film forming sheet of this embodiment can be manufactured by appropriately combining known protective film forming sheet manufacturing methods.
For example, the protective film forming sheet of the present embodiment includes a first release film or a second release film, a release film for removal, and these (the first release film or the second release film, and the release film for removal). A protective film-forming film provided between the laminate sheets is prepared, and the first release film or the second release film is applied to the laminate sheet from the exposed surface of the release film for removal. A diameter of 135 mm or more and less than 150 mm, 185 mm or more and less than 200 mm, 285 mm or more and less than 300 mm, or 435 mm that passes through the surface of the film on the protective film forming film side and reaches the inside of the first release film or second release film. Two or more circular or approximately circular cuts of less than 450 mm are formed along the longitudinal direction of the laminated sheet, and the protective film forming film and the release film for removal are formed in a first region having a circular or approximately circular planar shape. and a second region other than that, to produce a first intermediate, and in the first intermediate, the second region of the protective film forming film and the release film for removal is divided into the first region film or the second release film, and further remove the first area of the removal release film affixed to the first area of the protective film forming film (by removing the residue). 1 release film or a second release film, and a diameter of 135 mm or more and less than 150 mm, 185 mm or more and less than 200 mm, 285 mm or more and less than 300 mm, or 435 mm or more, provided on one surface of the first release film or the second release film. two or more circular or substantially circular protective film-forming films less than 450 mm, wherein the first release film or the second release film coincides with the outer periphery of the circular or substantially circular protective film-forming film. A second intermediate body having a notch is prepared at the position, and when the second intermediate body is provided with the first release film, a second release film is newly prepared, and the second intermediate body is provided with the first release film. When a second release film is provided, a first release film is newly prepared, and the first release film or second release film side of all the protective film forming films in the second intermediate is It can be manufactured by attaching the newly prepared second release film or first release film to the exposed surface on the opposite side. When or after pasting the newly prepared second release film or first release film, the surface of the first release film on the protective film forming film side and the protective film of the second release film The surface on the forming film side may be brought into contact (bonded together) in a region other than the vicinity of the protective film forming film.
By this manufacturing method (herein sometimes referred to as "manufacturing method (α)"), one of the first release film and the second release film is attached to the outer periphery of the protective film forming film. A protective film forming sheet having notches at matching positions (for example, protective
Further, in the present manufacturing method (manufacturing method (α)), when producing the second intermediate, cuts are further formed in the laminated sheet so as to form a protective film forming film as the spacer. In some cases, a protective film forming sheet including a protective film forming film as the spacer (for example, the protective
また、例えば、本実施形態の保護膜形成用シートは、平面形状が円形又は略円形の2枚以上の保護膜形成フィルムを、第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの長手方向に沿って形成可能なように、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの一方の面にマスクを形成することでマスキングし、前記マスキング後の前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの前記一方の面上に、前記保護膜形成フィルムを形成するための保護膜形成用組成物の層を形成し、前記保護膜形成用組成物の層から前記保護膜形成フィルムを形成し、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの前記一方の面上から、前記マスクと、前記マスク上の前記保護膜形成フィルムを除去することで、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの前記一方の面上に、直径が135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満の円形又は略円形の2枚以上の保護膜形成フィルムを形成し、前記保護膜形成フィルムが前記第1剥離フィルム上に設けられている場合には、第2剥離フィルムを新たに用意し、前記保護膜形成フィルムが前記第2剥離フィルム上に設けられている場合には、第1剥離フィルムを新たに用意し、すべての前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルム側とは反対側の露出面に、前記新たに用意した第2剥離フィルム又は第1剥離フィルムを貼付することで、製造できる。前記新たに用意した第2剥離フィルム又は第1剥離フィルムを貼付するとき、又は貼付した後は、前記第1剥離フィルムの前記保護膜形成フィルム側の面と、前記第2剥離フィルムの前記保護膜形成フィルム側の面とを、前記保護膜形成フィルムの近傍以外の領域で接触させて(貼り合わせて)もよい。
本製造方法(本明細書においては、「製造方法(β)」と称することがある)によれば、第1剥離フィルムと第2剥離フィルムがともに、その保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを実質的に有しない保護膜形成用シート(例えば、図7に示す保護膜形成用シート5)の製造方法として好適である。
また、製造方法(β)において、平面形状が円形又は略円形の保護膜形成フィルムに加えて、さらに、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムを形成するように、上記のマスクを形成することによって、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムも備えた保護膜形成用シート(例えば、図8に示す保護膜形成用シート6)を製造できる。
製造方法(β)においては、マスキング後の前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの前記一方の面上に、前記保護膜形成フィルムと、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムと、を形成するための保護膜形成用組成物の層を形成するときには、前記保護膜形成用組成物を前記一方の面上に塗工すればよい。
Further, for example, in the protective film forming sheet of the present embodiment, two or more protective film forming films each having a circular or substantially circular planar shape can be formed along the longitudinal direction of the first release film or the second release film. Masking is performed by forming a mask on one surface of the first release film or the second release film, and on the one surface of the first release film or the second release film after the masking, forming a layer of a protective film-forming composition for forming the protective film-forming film; forming the protective film-forming film from the layer of the protective film-forming composition; and forming the first release film or the second release film. By removing the mask and the protective film forming film on the mask from the one surface of the film, a layer having a diameter of 135 mm or more is formed on the one surface of the first release film or the second release film. Two or more circular or substantially circular protective film-forming films with a diameter of less than 150 mm, 185 mm or more and less than 200 mm, 285 mm or more and less than 300 mm, or 435 mm or more and less than 450 mm are formed, and the protective film-forming film is provided on the first release film. If the protective film-forming film is provided on the second release film, a new first release film is prepared, and all It can be manufactured by attaching the newly prepared second release film or first release film to the exposed surface of the protective film forming film opposite to the first release film or second release film side. When or after pasting the newly prepared second release film or first release film, the surface of the first release film on the protective film forming film side and the protective film of the second release film The surface on the forming film side may be brought into contact (bonded together) in a region other than the vicinity of the protective film forming film.
According to this manufacturing method (herein sometimes referred to as "manufacturing method (β)"), both the first release film and the second release film coincide with the outer periphery of the protective film forming film. This method is suitable as a method for producing a protective film forming sheet (for example, the protective film forming sheet 5 shown in FIG. 7) having substantially no notches at any position.
Further, in the manufacturing method (β), by forming the above mask so as to form a protective film forming film as the spacer in addition to the protective film forming film having a circular or substantially circular planar shape, A protective film forming sheet (for example, the protective
In the manufacturing method (β), the protective film-forming film and the protective film-forming film as the spacer are formed on the one surface of the first release film or the second release film after masking. When forming a layer of the composition for forming a protective film, the composition for forming a protective film may be coated on the one surface.
また、例えば、本実施形態の保護膜形成用シートは、第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの一方の面上に、前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの長手方向に沿って、平面形状が円形又は略円形の2以上の、保護膜形成フィルムを形成するための保護膜形成用組成物の層を形成し、前記保護膜形成用組成物の層から、直径が135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満の円形又は略円形の2枚以上の保護膜形成フィルムを形成し、前記保護膜形成フィルムが前記第1剥離フィルム上に設けられている場合には、第2剥離フィルムを新たに用意し、前記保護膜形成フィルムが前記第2剥離フィルム上に設けられている場合には、第1剥離フィルムを新たに用意し、すべての前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルム又は第2剥離フィルム側とは反対側の露出面に、前記新たに用意した第2剥離フィルム又は第1剥離フィルムを貼付することで、製造できる。前記新たに用意した第2剥離フィルム又は第1剥離フィルムを貼付するとき、又は貼付した後は、前記第1剥離フィルムの前記保護膜形成フィルム側の面と、前記第2剥離フィルムの前記保護膜形成フィルム側の面とを、前記保護膜形成フィルムの近傍以外の領域で接触させて(貼り合わせて)もよい。
本製造方法(本明細書においては、「製造方法(γ)」と称することがある)によれば、第1剥離フィルムと第2剥離フィルムがともに、その保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを実質的に有しない保護膜形成用シート(例えば、図7に示す保護膜形成用シート5)の製造方法として好適である。
また、製造方法(γ)において、平面形状が円形又は略円形の保護膜形成フィルムに加えて、さらに、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムを形成するための保護膜形成用組成物の層を形成し、前記保護膜形成用組成物の層から、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムを形成することにより、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムも備えた保護膜形成用シート(例えば、図8に示す保護膜形成用シート6)を製造できる。
製造方法(γ)においては、第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの一方の面上に、前記保護膜形成フィルムと、前記スペーサーとしての保護膜形成フィルムと、を形成するための保護膜形成用組成物の層を形成するときには、前記保護膜形成用組成物を前記一方の面上に、スクリーン印刷法等の印刷法によって印刷すればよい。
For example, the protective film forming sheet of the present embodiment may have a planar shape formed on one surface of the first release film or the second release film along the longitudinal direction of the first release film or the second release film. Form a layer of a protective film-forming composition for forming a protective film-forming film having two or more circular or substantially circular shapes, and from the layer of the protective film-forming composition, a layer having a diameter of 135 mm or more and less than 150 mm, 185 mm. Two or more circular or nearly circular protective film-forming films with a length of at least 200 mm, at least 285 mm and less than 300 mm, or at least 435 mm and less than 450 mm are formed, and the protective film-forming film is provided on the first release film. In this case, a second release film is newly prepared, and if the protective film forming film is provided on the second release film, a first release film is newly prepared and all of the protective film forming It can be manufactured by attaching the newly prepared second release film or first release film to the exposed surface of the film opposite to the first release film or second release film side. When or after pasting the newly prepared second release film or first release film, the surface of the first release film on the protective film forming film side and the protective film of the second release film The surface on the forming film side may be brought into contact (bonded together) in a region other than the vicinity of the protective film forming film.
According to this manufacturing method (herein sometimes referred to as "manufacturing method (γ)"), both the first release film and the second release film coincide with the outer periphery of the protective film forming film. This method is suitable as a method for producing a protective film forming sheet (for example, the protective film forming sheet 5 shown in FIG. 7) having substantially no notches at any position.
In addition, in the manufacturing method (γ), in addition to the protective film-forming film having a circular or substantially circular planar shape, a layer of a protective film-forming composition for forming the protective film-forming film as the spacer is further formed. By forming a protective film-forming film as a spacer from the layer of the protective film-forming composition, a protective film-forming sheet (for example, as shown in FIG. 8 A protective film forming sheet 6) can be manufactured.
In the manufacturing method (γ), a protective film forming film for forming the protective film forming film and the protective film forming film as the spacer on one surface of the first release film or the second release film. When forming a layer of the composition, the composition for forming a protective film may be printed on the one surface by a printing method such as a screen printing method.
◇保護膜付きワーク加工物の製造方法(保護膜形成用シートの使用方法)
前記保護膜形成用シートは、保護膜付きワーク加工物の製造に用いることができる。
本発明の一実施形態に係る保護膜付きワーク加工物の製造方法において、前記保護膜付きワーク加工物は、ワーク加工物と、前記ワーク加工物の一方の面に設けられた保護膜と、を備えており、前記ワーク加工物は、ワークを加工することにより得られ、前記ワークの平面形状が円形であり、前記ワークの直径が、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、前記保護膜は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから形成されたものであり、前記ワークの直径が6インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が135mm以上150mm未満であり、前記ワークの直径が8インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が185mm以上200mm未満であり、前記ワークの直径が12インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が285mm以上300mm未満であり、前記ワークの直径が18インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が435mm以上450mm未満であり、前記保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、前記保護膜形成フィルムの硬化物が前記保護膜であり、前記保護膜形成フィルムが非硬化性である場合には、前記ワークのいずれかの箇所に貼付された後の前記保護膜形成フィルムが前記保護膜であり、前記保護膜付きワーク加工物の製造方法は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから前記第1剥離フィルムを剥離する第1剥離工程と、前記第1剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムの外周部を前記ワークの外周部からはみ出させることなく、前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルムが設けられていた側の面を、前記ワークの一方の面に貼付することにより、前記ワークに前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜が設けられた第1積層体を作製する第1貼付工程と、前記第1貼付工程の後に、前記第1積層体中の前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜から前記第2剥離フィルムを剥離する第2剥離工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜の前記第2剥離フィルムが設けられていた側の面に、前記ワークを加工するための加工シートを貼付することにより、前記加工シートと、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜と、前記ワークと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体を作製する第2貼付工程と、前記第2貼付工程の後に、前記ワークを加工することにより、前記ワーク加工物を作製する加工工程と、前記第2貼付工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜を切断する切断工程と、を有し、前記保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、さらに、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムを硬化させることにより、前記保護膜を形成する硬化工程と、を有する。
◇Production method for workpieces with protective film (how to use protective film forming sheet)
The protective film forming sheet can be used for manufacturing a workpiece with a protective film.
In the method for manufacturing a workpiece with a protective film according to an embodiment of the present invention, the workpiece with a protective film includes a workpiece and a protective film provided on one surface of the workpiece. The workpiece is obtained by processing a workpiece, the planar shape of the workpiece is circular, and the diameter of the workpiece is 6 inches, 8 inches, 12 inches, or 18 inches, The protective film is formed from the protective film forming film in the protective film forming sheet, and when the diameter of the workpiece is 6 inches, the diameter of the protective film forming film is 135 mm or more and 150 mm. and when the diameter of the workpiece is 8 inches, the diameter of the protective film forming film is 185 mm or more and less than 200 mm, and when the diameter of the workpiece is 12 inches, the protective film forming film has a diameter of 285 mm or more and less than 300 mm, and the workpiece has a diameter of 18 inches, the diameter of the protective film-forming film is 435 mm or more and less than 450 mm, and the protective film-forming film is curable. is a cured product of the protective film-forming film, and when the protective film-forming film is non-curable, the protective film-forming film after being attached to any part of the workpiece. is the protective film, and the method for manufacturing a workpiece with a protective film includes: a first peeling step of peeling off the first release film from the protective film forming film in the protective film forming sheet; After the peeling step, the surface of the protective film forming film on the side where the first peeling film was provided is removed from one side of the work without causing the outer peripheral part of the protective film forming film to protrude from the outer peripheral part of the workpiece. a first laminate step of producing a first laminate in which the protective film-forming film or the protective film is provided on the workpiece by pasting the first laminate onto the surface of the workpiece; a second peeling step of peeling the second release film from the protective film-forming film or the protective film inside, and after the second peeling step, the protective film-forming film or the second release film of the protective film is removed. By pasting a processing sheet for processing the workpiece on the side where the workpiece was provided, the processing sheet, the protective film forming film or the protective film, and the workpiece are processed in this order. a second affixing step of producing a second laminate configured by laminating in the thickness direction; and a processing step of producing the workpiece by processing the workpiece after the second affixing step; After the second pasting step, a cutting step of cutting the protective film forming film or the protective film is provided, and when the protective film forming film is curable, the second peeling step further includes a cutting step of cutting the protective film forming film or the protective film. Later, the method includes a curing step of forming the protective film by curing the protective film forming film.
前記第1貼付工程の後の各工程において、保護膜形成フィルム及び保護膜のいずれを取り扱うかは、保護膜を形成するタイミングで決定される。保護膜形成フィルムが非硬化性である場合には、第1貼付工程の後に取り扱うのは、いずれの工程においても保護膜である。保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、硬化工程前に取り扱うのは保護膜形成フィルムであり、硬化工程後に取り扱うのは保護膜である。 In each step after the first pasting step, which one of the protective film forming film and the protective film is handled is determined at the timing of forming the protective film. When the protective film-forming film is non-curable, the protective film is handled in any step after the first application step. When the protective film-forming film is curable, it is the protective film-forming film that is handled before the curing process, and the protective film is handled after the curing process.
ワークが半導体ウエハである場合、本発明の一実施形態に係る保護膜付きワーク加工物の製造方法、すなわち保護膜付き半導体チップの製造方法において、前記保護膜付き半導体チップは、半導体チップと、前記半導体チップの裏面に設けられた保護膜と、を備えており、前記半導体チップは、半導体ウエハを加工(分割)することにより得られ、前記半導体ウエハの平面形状が円形であり、前記半導体ウエハの直径が、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、前記保護膜は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから形成されたものであり、前記半導体ウエハの直径が6インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が135mm以上150mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が8インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が185mm以上200mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が12インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が285mm以上300mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が18インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が435mm以上450mm未満であり、前記保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、前記保護膜形成フィルムの硬化物が前記保護膜であり、前記保護膜形成フィルムが非硬化性である場合には、前記半導体ウエハの裏面に貼付された後の前記保護膜形成フィルムが前記保護膜であり、前記保護膜付き半導体チップの製造方法は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから前記第1剥離フィルムを剥離する第1剥離工程と、前記第1剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムの外周部を前記半導体ウエハの外周部からはみ出させることなく、前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルムが設けられていた側の面を、前記半導体ウエハの一方の面に貼付することにより、前記半導体ウエハに前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜が設けられた第1積層体を作製する第1貼付工程と、前記第1貼付工程の後に、前記第1積層体中の前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜から前記第2剥離フィルムを剥離する第2剥離工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜の前記第2剥離フィルムが設けられていた側の面に、前記半導体ウエハを加工するための加工シートを貼付することにより、前記加工シートと、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜と、前記半導体ウエハと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体を作製する第2貼付工程と、前記第2貼付工程の後に、前記半導体ウエハを加工(分割)することにより、前記半導体チップを作製する加工工程と、前記第2貼付工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜を切断する切断工程と、を有し、前記保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、さらに、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムを硬化させることにより、前記保護膜を形成する硬化工程と、を有する保護膜付き半導体チップの製造方法が挙げられる。 When the workpiece is a semiconductor wafer, in the method for manufacturing a workpiece with a protective film according to an embodiment of the present invention, that is, the method for manufacturing a semiconductor chip with a protective film, the semiconductor chip with a protective film includes a semiconductor chip, a protective film provided on the back surface of a semiconductor chip, the semiconductor chip is obtained by processing (dividing) a semiconductor wafer, the planar shape of the semiconductor wafer is circular, and the semiconductor wafer has a The diameter of the semiconductor wafer is 6 inches, 8 inches, 12 inches, or 18 inches, the protective film is formed from the protective film forming film in the protective film forming sheet, and the diameter of the semiconductor wafer is When the diameter of the protective film forming film is 6 inches, the diameter of the protective film forming film is 135 mm or more and less than 150 mm, and when the diameter of the semiconductor wafer is 8 inches, the diameter of the protective film forming film is 185 mm or more and less than 200 mm. When the diameter of the semiconductor wafer is 12 inches, the diameter of the protective film forming film is 285 mm or more and less than 300 mm, and when the diameter of the semiconductor wafer is 18 inches, the protective film forming film is has a diameter of 435 mm or more and less than 450 mm, and the protective film-forming film is curable, the cured product of the protective film-forming film is the protective film, and the protective film-forming film is non-curable. In this case, the protective film forming film attached to the back surface of the semiconductor wafer is the protective film, and the method for manufacturing a semiconductor chip with a protective film includes forming the protective film in the protective film forming sheet. A first peeling step of peeling the first release film from the film, and after the first peeling step, the protective film forming film is removed without causing the outer peripheral portion of the protective film forming film to protrude from the outer peripheral portion of the semiconductor wafer. A first laminate in which the protective film forming film or the protective film is provided on the semiconductor wafer by attaching the side on which the first release film was provided to one surface of the semiconductor wafer. a second peeling step of peeling the second release film from the protective film forming film or the protective film in the first laminate after the first pasting step; After the second peeling step, a processing sheet for processing the semiconductor wafer is attached to the surface of the protective film forming film or the surface of the protective film on which the second release film was provided. and a second pasting step of producing a second laminate in which the protective film forming film or the protective film and the semiconductor wafer are laminated in this order in the thickness direction; A processing step of fabricating the semiconductor chip by processing (dividing) the semiconductor wafer after the pasting step, and a cutting step of cutting the protective film forming film or the protective film after the second pasting step. , and when the protective film-forming film is curable, a curing step of forming the protective film by curing the protective film-forming film after the second peeling step; A method for manufacturing a semiconductor chip with a protective film is mentioned.
前記製造方法によれば、前記保護膜形成フィルムの前記ワークへの貼付時に、(第1貼付工程において)、保護膜付きワーク加工物の製造効率を低下させずに、保護膜形成フィルムによるワークの汚染を抑制でき、保護膜形成用シートの使用時に、第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムの抜き加工が不要であり、使用後の第1剥離フィルム又は第2剥離フィルムを再利用できる。 According to the manufacturing method, when applying the protective film-forming film to the workpiece (in the first pasting step), the protective film-forming film can be used to attach the workpiece to the workpiece without reducing the manufacturing efficiency of the workpiece with the protective film. Contamination can be suppressed, there is no need to punch out the first release film or the second release film when using the protective film forming sheet, and the used first release film or second release film can be reused.
前記製造方法は、前記硬化工程を有する場合の製造方法(本明細書においては、「製造方法(1)」と称することがある)と、前記硬化工程を有しない場合の製造方法(本明細書においては、「製造方法(2)」と称することがある)と、に分けられる。
以下、これら製造方法について、順次説明する。
The manufacturing method includes a manufacturing method that includes the curing step (herein sometimes referred to as "manufacturing method (1)") and a manufacturing method that does not include the curing step (hereinafter referred to as "manufacturing method (1)"). (sometimes referred to as "manufacturing method (2)").
Hereinafter, these manufacturing methods will be explained one by one.
<<製造方法(1)>>
前記製造方法(1)において、前記保護膜付きワーク加工物は、ワーク加工物と、前記ワーク加工物の一方の面に設けられた保護膜と、を備えており、前記ワーク加工物は、ワークを加工することにより得られ、前記ワークの平面形状が円形であり、前記ワークの直径が、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、前記保護膜は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから形成されたものであり、前記ワークの直径が6インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が135mm以上150mm未満であり、前記ワークの直径が8インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が185mm以上200mm未満であり、前記ワークの直径が12インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が285mm以上300mm未満であり、前記ワークの直径が18インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が435mm以上450mm未満であり、前記保護膜形成フィルムが硬化性であるため、前記保護膜形成フィルムの硬化物が前記保護膜であり、前記保護膜付きワーク加工物の製造方法は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから前記第1剥離フィルムを剥離する第1剥離工程と、前記第1剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムの外周部を前記ワークの外周部からはみ出させることなく、前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルムが設けられていた側の面を、前記ワークの一方の面に貼付することにより、前記ワークに前記保護膜形成フィルムが設けられた第1積層体を作製する第1貼付工程と、前記第1貼付工程の後に、前記第1積層体中の前記保護膜形成フィルムから前記第2剥離フィルムを剥離する第2剥離工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜の前記第2剥離フィルムが設けられていた側の面に、前記ワークを加工するための加工シートを貼付することにより、前記加工シートと、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜と、前記ワークと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体を作製する第2貼付工程と、前記第2貼付工程の後に、前記ワークを加工することにより、前記ワーク加工物を作製する加工工程と、前記第2貼付工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜を切断する切断工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムを硬化させることにより、前記保護膜を形成する硬化工程と、を有する。
<<Manufacturing method (1)>>
In the manufacturing method (1), the workpiece with a protective film includes a workpiece and a protective film provided on one surface of the workpiece, and the workpiece has a protective film attached to the workpiece. The planar shape of the workpiece is circular, the diameter of the workpiece is 6 inches, 8 inches, 12 inches, or 18 inches, and the protective film is obtained by processing the protective film forming sheet. When the diameter of the workpiece is 6 inches, the diameter of the protective film formation film is 135 mm or more and less than 150 mm, and the diameter of the workpiece is 8 inches. In this case, the diameter of the protective film forming film is 185 mm or more and less than 200 mm, and when the diameter of the workpiece is 12 inches, the diameter of the protective film forming film is 285 mm or more and less than 300 mm, and the When the diameter of the workpiece is 18 inches, the diameter of the protective film forming film is 435 mm or more and less than 450 mm, and the protective film forming film is curable, so that the cured product of the protective film forming film is curable. The method for producing a workpiece with a protective film includes a first peeling step of peeling off the first release film from the protective film forming film in the protective film forming sheet; Afterwards, the surface of the protective film-forming film on the side where the first release film was provided is placed on one surface of the workpiece without causing the outer peripheral part of the protective film-forming film to protrude from the outer peripheral part of the workpiece. A first pasting step of producing a first laminate in which the protective film forming film is provided on the workpiece by pasting, and after the first pasting step, the protective film forming film in the first laminate is pasted. a second peeling step of peeling the second release film from the workpiece, and after the second peeling step, the protective film forming film or the surface of the protective film on the side where the second release film was provided, the workpiece. By pasting a processing sheet for processing, the processing sheet, the protective film forming film or the protective film, and the workpiece are laminated in this order in the thickness direction. 2. A second attaching step of producing a laminate; a processing step of producing the workpiece by processing the workpiece after the second attaching step; and a processing step of producing the workpiece after the second attaching step; The method includes a cutting step of cutting the formed film or the protective film, and a curing step of forming the protective film by curing the protective film forming film after the second peeling step.
ワークが半導体ウエハである場合には、前記製造方法(1)において、前記保護膜付き半導体チップは、半導体チップと、前記半導体チップの裏面に設けられた保護膜と、を備えており、前記半導体チップは、半導体ウエハを加工(分割)することにより得られ、前記半導体ウエハの平面形状が円形であり、前記半導体ウエハの直径が、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、前記保護膜は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから形成されたものであり、前記半導体ウエハの直径が6インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が135mm以上150mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が8インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が185mm以上200mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が12インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が285mm以上300mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が18インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が435mm以上450mm未満であり、前記保護膜形成フィルムが硬化性であるため、前記保護膜形成フィルムの硬化物が前記保護膜であり、前記保護膜付き半導体チップの製造方法は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから前記第1剥離フィルムを剥離する第1剥離工程と、前記第1剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムの外周部を前記半導体ウエハの外周部からはみ出させることなく、前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルムが設けられていた側の面を、前記半導体ウエハの裏面に貼付することにより、前記半導体ウエハに前記保護膜形成フィルムが設けられた第1積層体を作製する第1貼付工程と、前記第1貼付工程の後に、前記第1積層体中の前記保護膜形成フィルムから前記第2剥離フィルムを剥離する第2剥離工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜の前記第2剥離フィルムが設けられていた側の面に、前記半導体ウエハを加工するための加工シートを貼付することにより、前記加工シートと、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜と、前記半導体ウエハと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体を作製する第2貼付工程と、前記第2貼付工程の後に、前記半導体ウエハを加工(分割)することにより、前記半導体チップを作製する加工工程と、前記第2貼付工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜を切断する切断工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムを硬化させることにより、前記保護膜を形成する硬化工程と、を有する。 When the work is a semiconductor wafer, in the manufacturing method (1), the semiconductor chip with a protective film includes a semiconductor chip and a protective film provided on the back surface of the semiconductor chip, and the semiconductor chip includes a semiconductor chip and a protective film provided on the back surface of the semiconductor chip. The chip is obtained by processing (dividing) a semiconductor wafer, the planar shape of the semiconductor wafer is circular, the diameter of the semiconductor wafer is 6 inches, 8 inches, 12 inches, or 18 inches; The protective film is formed from the protective film forming film in the protective film forming sheet, and when the diameter of the semiconductor wafer is 6 inches, the diameter of the protective film forming film is 135 mm or more and 150 mm. and when the diameter of the semiconductor wafer is 8 inches, the diameter of the protective film forming film is 185 mm or more and less than 200 mm, and when the diameter of the semiconductor wafer is 12 inches, the protective film is When the diameter of the forming film is 285 mm or more and less than 300 mm, and the diameter of the semiconductor wafer is 18 inches, the diameter of the protective film forming film is 435 mm or more and less than 450 mm, and the protective film forming film is curable. Therefore, the cured product of the protective film forming film is the protective film, and the method for manufacturing a semiconductor chip with a protective film includes peeling the first release film from the protective film forming film in the protective film forming sheet. and after the first peeling step, the first peeling film of the protective film forming film is provided without causing the outer peripheral part of the protective film forming film to protrude from the outer peripheral part of the semiconductor wafer. a first attaching step of producing a first laminate in which the protective film-forming film is provided on the semiconductor wafer by attaching the side that had previously been attached to the back surface of the semiconductor wafer; Later, a second peeling step of peeling off the second release film from the protective film-forming film in the first laminate; and after the second peeling step, the protective film-forming film or the second release film of the protective film is removed. By pasting a processing sheet for processing the semiconductor wafer on the side where the release film was provided, the processing sheet, the protective film forming film or the protective film, and the semiconductor wafer are separated. In this order, the semiconductor wafer is processed (divided) by a second adhesion step of producing a second laminate configured by laminating these layers in the thickness direction, and after the second adhesion step, the semiconductor wafer is processed (divided). By curing the protective film forming film after the processing step of producing a chip, the cutting step of cutting the protective film forming film or the protective film after the second pasting step, and the second peeling step. , a curing step of forming the protective film.
加工工程及び切断工程を行う順番は、目的に応じて任意に選択でき、加工工程を行ってから切断工程を行ってもよいし、加工工程及び切断工程を同時に行ってもよいし、切断工程を行ってから加工工程を行ってもよい。
本実施形態においては、ワークの加工と、保護膜形成フィルム又は保護膜の切断とを、その順序によらず、中断することなく同じ操作によって連続的に行った場合には、加工工程及び切断工程を同時に行ったものとみなす。
The order in which the machining process and cutting process are performed can be arbitrarily selected depending on the purpose; the machining process may be performed before the cutting process, the machining process and the cutting process may be performed at the same time, or the cutting process may be performed simultaneously. After that, the processing step may be performed.
In this embodiment, if the processing of the workpiece and the cutting of the protective film forming film or the protective film are performed continuously by the same operation without interruption, regardless of the order, the processing step and the cutting step are considered to have taken place at the same time.
加工工程及び切断工程は、いずれも、これらを行う順番に応じて、公知の方法で行うことができる。 Both the processing step and the cutting step can be performed by known methods depending on the order in which they are performed.
ワークが半導体ウエハであり、加工(分割)工程を行ってから切断工程を行う場合には、半導体ウエハの分割(換言すると個片化)は、例えば、ステルスダイシング(登録商標)又はレーザーダイシング等によって行うことができる。
ステルスダイシング(登録商標)とは、以下のような方法である。すなわち、まず、半導体ウエハの内部において、分割予定箇所を設定し、この箇所を焦点として、この焦点に集束するように、レーザー光を照射することにより、半導体ウエハの内部に改質層を形成する。半導体ウエハの改質層は、半導体ウエハの他の箇所とは異なり、レーザー光の照射によって変質しており、強度が弱くなっている。そのため、半導体ウエハに力が加えられることにより、半導体ウエハの内部の改質層において、半導体ウエハの両面方向に延びる亀裂が発生し、半導体ウエハの分割(切断)の起点となる。次いで、半導体ウエハに力を加えて、前記改質層の部位において半導体ウエハを分割し、半導体チップを作製する。
When the workpiece is a semiconductor wafer and the cutting process is performed after the processing (dividing) process, the semiconductor wafer is divided (in other words, into pieces) by stealth dicing (registered trademark) or laser dicing, etc. It can be carried out.
Stealth dicing (registered trademark) is a method as follows. That is, first, a location to be divided is set inside the semiconductor wafer, and a modified layer is formed inside the semiconductor wafer by irradiating laser light with this location as a focal point. . Unlike other parts of the semiconductor wafer, the modified layer of the semiconductor wafer is altered by the laser light irradiation, and its strength is weakened. Therefore, when force is applied to the semiconductor wafer, cracks extending in the direction of both surfaces of the semiconductor wafer are generated in the modified layer inside the semiconductor wafer, which becomes a starting point for division (cutting) of the semiconductor wafer. Next, force is applied to the semiconductor wafer to divide the semiconductor wafer at the modified layer portions, thereby producing semiconductor chips.
ワークが半導体ウエハであり、加工(分割)工程を行ってから切断工程を行う場合には、保護膜形成フィルム又は保護膜の切断は、例えば、保護膜形成フィルム又は保護膜を、その半導体チップへの貼付面に対して平行な方向に引っ張る、所謂エキスパンドによって行うことができる。エキスパンドされた保護膜形成フィルム又は保護膜は、半導体チップの外周に沿って切断される。このようなエキスパンドによる切断は、-20~5℃等の低温下において、行うことが好ましい。 When the workpiece is a semiconductor wafer and the cutting process is performed after the processing (dividing) process, the protective film forming film or the protective film is cut by, for example, cutting the protective film forming film or the protective film onto the semiconductor chip. This can be done by so-called expanding, which involves pulling in a direction parallel to the surface to which it is attached. The expanded protective film forming film or protective film is cut along the outer periphery of the semiconductor chip. Such expanding cutting is preferably carried out at a low temperature such as -20 to 5°C.
ワークが半導体ウエハであり、加工(分割)工程及び切断工程を同時に行う場合には、ブレードを用いるブレードダイシング、レーザー照射によるレーザーダイシング、又は研磨剤を含む水の吹き付けによるウォーターダイシング等の各ダイシングによって、半導体ウエハの分割と、保護膜形成フィルム又は保護膜の切断と、を同時に行ことができる。
また、ステルスダイシング(登録商標)により改質層を形成し、かつ分割を行っていない半導体ウエハと、保護膜形成フィルム又は保護膜と、をともに、上記と同様の方法でエキスパンドすることにより、半導体ウエハの分割と、保護膜形成フィルム又は保護膜の切断と、を同時に行こともできる。
When the workpiece is a semiconductor wafer and the processing (dividing) process and cutting process are performed at the same time, each dicing method may be used, such as blade dicing using a blade, laser dicing using laser irradiation, or water dicing using spraying water containing an abrasive. , it is possible to simultaneously divide the semiconductor wafer and cut the protective film forming film or the protective film.
In addition, a semiconductor wafer on which a modified layer has been formed by stealth dicing (registered trademark) and which has not been divided and a protective film forming film or a protective film are expanded in the same manner as above. It is also possible to divide the wafer and cut the protective film forming film or protective film at the same time.
ワークが半導体ウエハであり、切断工程を行ってから加工(分割)工程を行う場合には、上記と同様の各ダイシング時の手法によって、半導体ウエハを分割することなく、保護膜形成フィルム又は保護膜を切断することができ、次いで、半導体ウエハをブレーキングによって分割することができる。 If the workpiece is a semiconductor wafer and the cutting process is followed by the processing (dividing) process, the same method as above for each dicing process can be used to remove the protective film forming film or protective film without dividing the semiconductor wafer. can be cut, and the semiconductor wafer can then be divided by braking.
図9~図10は、ワークが半導体ウエハである場合の前記製造方法(1)の一例を模式的に説明するための断面図である。ここでは、図2(a)及び図2(b)に示す保護膜形成用シート1を用いた場合の製造方法について説明する。
9 to 10 are cross-sectional views schematically illustrating an example of the manufacturing method (1) when the workpiece is a semiconductor wafer. Here, a manufacturing method using the protective
<第1剥離工程>
製造方法(1)の前記第1剥離工程においては、図9(a)に示すように、保護膜形成用シート1中の保護膜形成フィルム11から第1剥離フィルム12を剥離する。
このときの剥離速度は、5~100mm/sであることが好ましい。
<First peeling step>
In the first peeling step of manufacturing method (1), as shown in FIG. 9(a), the
The peeling speed at this time is preferably 5 to 100 mm/s.
保護膜形成用シート1において、第1剥離フィルム12は、保護膜形成フィルム11の外周部11cと一致する位置に、切れ込みを実質的に有しない。そして、通常は、剥離フィルムに形成される切れ込みは、保護膜形成フィルムの切断時に形成されるため、第1剥離フィルム12は、保護膜形成フィルム11の外周部11cと一致する位置に、切れ込みを実質的に有しなければ、それ以外の領域にも、切れ込みを実質的に有しない。このような第1剥離フィルム12は、保護膜形成フィルム11から剥離した後、再利用するのに好適である。さらに、切れ込みを実質的に有しない第1剥離フィルム12においては、切れ込みの部位に保護膜形成フィルムの一部が残像する不具合が抑制される。さらに、保護膜形成用シート1において、保護膜形成フィルム11はすでに目的とする形状に抜き加工されているため、保護膜形成用シート1の使用時、すなわち、第1剥離工程を行うまでの間に、保護膜形成フィルムの抜き加工と、それに伴う第1剥離フィルム12及び第2剥離フィルム13の抜き加工が、ともに不要である。したがって、第1剥離フィルム12及び第2剥離フィルム13の加工時に生じる切断屑で、装置内が汚染されることもない。
In the protective film-forming
<第1貼付工程>
製造方法(1)の第1剥離工程の後、前記第1貼付工程においては、図9(b)に示すように、保護膜形成フィルム11の外周部11cを半導体ウエハ9の外周部9cからはみ出させることなく、保護膜形成フィルム11の第1剥離フィルム12が設けられていた側の面(第1面)11aを、半導体ウエハ9の裏面9bに貼付することにより、半導体ウエハ9に保護膜形成フィルム11が設けられた第1積層体101を作製する。半導体ウエハ9の回路面9aには、複数個の突状電極91が設けられている。
<First pasting process>
After the first peeling step of manufacturing method (1), in the first pasting step, as shown in FIG. A protective film is formed on the
半導体ウエハ9の平面形状(回路面9a及び裏面9bの形状)は、円形であり、保護膜形成フィルム11の平面形状(第1面11a及び第2面11bの形状)は、円形又は略円形である。
半導体ウエハ9の直径D9は、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、半導体ウエハ9の直径D9が6インチである場合には、保護膜形成フィルム11の直径D11が135mm以上150mm未満であり、半導体ウエハ9の直径D9が8インチである場合には、保護膜形成フィルム11の直径D11が185mm以上200mm未満であり、半導体ウエハ9の直径D9が12インチである場合には、保護膜形成フィルム11の直径D11が285mm以上300mm未満であり、半導体ウエハ9の直径D9が18インチである場合には、保護膜形成フィルム11の直径D11が435mm以上450mm未満である。すなわち、図9(b)中の、半導体ウエハ9の断面は、半導体ウエハ9の中心を含み、保護膜形成フィルム11の断面は、保護膜形成フィルム11の重心を含んでいる。
The planar shape of the semiconductor wafer 9 (the shape of the
The diameter D 9 of the
第1貼付工程において、D9とD11が上述の関係を満たすことにより、保護膜形成フィルム11の外周部11cを半導体ウエハ9の外周部9cからはみ出させることなく、保護膜形成フィルム11を半導体ウエハ9に容易に貼付できるため、保護膜形成フィルム11による半導体ウエハ9の汚染を抑制できる。さらに、D11が過剰に小さくなっていないため、半導体ウエハ9の使用効率が高くなり、保護膜付きワーク加工物の製造効率の低下が抑制される。
In the first pasting process, by D 9 and D 11 satisfying the above relationship, the protective
第1貼付工程においては、保護膜形成フィルム11の半導体ウエハ9への貼付速度は、5~100mm/sであることが好ましく、貼付圧力は0.15~0.6MPaであることが好ましい。
In the first attachment step, the attachment speed of the protective
第1貼付工程においては、保護膜形成フィルム11を加熱することにより軟化させて、半導体ウエハ9に貼付してもよい。
In the first attachment step, the protective
半導体ウエハ9は、その厚さを目的の値とするために、その裏面9bが研削されたものであってよい。すなわち、半導体ウエハ9の裏面9bは、研削面であってよい。
The
<第2剥離工程>
製造方法(1)の第1貼付工程の後、前記第2剥離工程においては、図9(c)に示すように、第1積層体101中の保護膜形成フィルム11から第2剥離フィルム13を剥離する。
<Second peeling process>
After the first pasting step of manufacturing method (1), in the second peeling step, the
<硬化工程>
製造方法(1)の第2剥離工程の後、前記硬化工程においては、図9(d)に示すように、保護膜形成フィルム11を硬化させることにより、保護膜11’を形成する。このときの硬化条件は、先に説明したとおりである。
図9(d)中、符号11a’は保護膜11’の第1面を示し、符号11b’は保護膜11’の第2面を示し、符号11c’は保護膜11’の外周部を示しており、それぞれ、保護膜形成フィルム11の第1面11a、保護膜形成フィルム11の第2面11b、保護膜形成フィルム11の外周部11cに対応している。図9(d)中、保護膜形成フィルム11が保護膜11’となっている第1積層体に対しては、新たに符号101’を付しており、本明細書においてはこれも「第1積層体」と称する。
<Curing process>
After the second peeling step of manufacturing method (1), in the curing step, as shown in FIG. 9(d), the protective
In FIG. 9(d), 11a' indicates the first surface of the
<第2貼付工程>
製造方法(1)の第2剥離工程(ここでは硬化工程)の後、前記第2貼付工程においては、図10(a)に示すように、第1積層体101’中の保護膜11’の第2面(ここでは露出面)11b’に、半導体ウエハ9を加工するための加工シートであるダイシングシート8を貼付する。これにより、ダイシングシート8と、保護膜11’と、半導体ウエハ9と、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体102を作製する。
<Second pasting process>
After the second peeling step (here, curing step) of manufacturing method (1), in the second pasting step, as shown in FIG. 10(a), the protective film 11' in the first laminate 101' is removed. A
ダイシングシート8としては、例えば、基材81と、基材81の一方の面上に設けられた粘着剤層82と、を備えて構成された、公知のダイシングシートが挙げられる。ダイシングシート8は、その一方の表面8a(ここでは粘着剤層82の基材81側とは反対側の面82a)において、保護膜11’に貼付する。
ただし、用いるダイシングシートはこれに限定されず、基材81と粘着剤層82を備えて構成されたものに該当しないダイシングシートであってもよい。
Examples of the
However, the dicing sheet to be used is not limited to this, and may be a dicing sheet that does not include the
<加工工程、切断工程>
製造方法(1)の第2貼付工程の後、前記加工工程においては、図10(b)に示すように、半導体ウエハ9を加工(分割)することにより、半導体チップ90を作製し、前記切断工程においては、保護膜11’を切断する。図10(b)中、切断後の保護膜11’に対しては、新たに符号110’を付している。なお、本明細書においては、「切断後の保護膜」を単に「保護膜」と称することがある。図10(b)中、符号90aは半導体チップ90の回路面を示し、符号90bは半導体チップ90の裏面を示し、符号110a’は切断後の保護膜110’の第1面を示し、符号110b’は切断後の保護膜110’の第2面を示しており、それぞれ、半導体ウエハ9の回路面9a、半導体ウエハ9の裏面9b、保護膜11’の第1面11a’、保護膜11’の第2面11b’に対応している。
<Processing process, cutting process>
After the second pasting step of manufacturing method (1), in the processing step, as shown in FIG. 10(b), the
加工工程及び切断工程を行う順番は、先の説明のとおり、限定されない。
加工工程及び切断工程を行う方法は、先に説明したとおりである。
As explained above, the order in which the processing steps and cutting steps are performed is not limited.
The method of performing the processing step and the cutting step is as described above.
以上により、ワーク加工物である半導体チップ90と、半導体チップ90の一方の面(裏面90b)に設けられた保護膜110’と、を備えて構成された、目的とする、保護膜付きワーク加工物である保護膜付き半導体チップ109が複数個得られる。これら複数個の保護膜付き半導体チップ109はすべて、1枚のダイシングシート8上で整列した状態となっており、これら保護膜付き半導体チップ109とダイシングシート8は、保護膜付き半導体チップ群103を構成している。
As described above, the target workpiece with a protective film, which is configured to include a
この後、公知の方法で、保護膜付き半導体チップ109をダイシングシート8から引き離してピックアップし、このピックアップした保護膜付き半導体チップ109を用いて公知の方法で、保護膜付き半導体チップが搭載された半導体装置を製造できる。
Thereafter, the
<他の工程>
製造方法(1)は、第1剥離工程と、第1貼付工程と、第2剥離工程と、第2貼付工程と、加工工程と、切断工程と、硬化工程と、のいずれにも該当しない他の工程を有していてもよい。
前記他の工程の種類と、これを行うタイミングは、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されない。
<Other processes>
Manufacturing method (1) does not fall under any of the first peeling process, first pasting process, second peeling process, second pasting process, processing process, cutting process, and curing process. The process may include the following steps.
The types of the other steps and the timing at which they are performed can be arbitrarily selected depending on the purpose and are not particularly limited.
前記他の工程としては、例えば、保護膜形成フィルム11の第2面11b、保護膜11’ の第2面11b’、又は切断後の保護膜110’の第2面110b’に対して、レーザー光を照射することにより、保護膜形成フィルム11、保護膜11’又は切断後の保護膜110’に印字を行う印字工程が挙げられる(図示略)。
本実施形態において、印字工程を行うタイミングは、特に限定されない。
In the other step, for example, a laser beam is applied to the
In this embodiment, the timing of performing the printing process is not particularly limited.
<硬化工程を行うタイミング>
ここまでは、第2剥離工程と第2貼付工程との間に、硬化工程を行う場合について説明したが、硬化工程を行うタイミングは、第2剥離工程の後であれば、いずれであってもよい。例えば、硬化工程は、第2貼付工程と加工工程との間、第2貼付工程と切断工程との間、加工工程と切断工程との間、及び切断工程の後、のいずれで行ってもよいし、印字工程を行う場合には、印字工程とその前の工程との間、及び印字工程とその後の工程との間、のいずれで行ってもよい。
<Timing to perform the curing process>
Up to this point, we have explained the case where the curing process is performed between the second peeling process and the second pasting process, but the curing process can be performed at any timing as long as it is after the second peeling process. good. For example, the curing step may be performed between the second pasting step and the processing step, between the second pasting step and the cutting step, between the working step and the cutting step, or after the cutting step. However, when performing the printing process, it may be performed either between the printing process and the previous process, or between the printing process and the subsequent process.
<<製造方法(2)>>
前記製造方法(2)において、前記保護膜付きワーク加工物は、ワーク加工物と、前記ワーク加工物の一方の面に設けられた保護膜と、を備えており、前記ワーク加工物は、ワークを加工することにより得られ、前記ワークの平面形状が円形であり、前記ワークの直径が、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、前記保護膜は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから形成されたものであり、前記ワークの直径が6インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が135mm以上150mm未満であり、前記ワークの直径が8インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が185mm以上200mm未満であり、前記ワークの直径が12インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が285mm以上300mm未満であり、前記ワークの直径が18インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が435mm以上450mm未満であり、前記保護膜形成フィルムが非硬化性であるため、前記ワークのいずれかの箇所に貼付された後の前記保護膜形成フィルムが前記保護膜であり、前記保護膜付きワーク加工物の製造方法は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから前記第1剥離フィルムを剥離する第1剥離工程と、前記第1剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムの外周部を前記ワークの外周部からはみ出させることなく、前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルムが設けられていた側の面を、前記ワークの一方の面に貼付することにより、前記ワークに前記保護膜が設けられた第1積層体を作製する第1貼付工程と、前記第1貼付工程の後に、前記第1積層体中の前記保護膜から前記第2剥離フィルムを剥離する第2剥離工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜の前記第2剥離フィルムが設けられていた側の面に、前記ワークを加工するための加工シートを貼付することにより、前記加工シートと、前記保護膜と、前記ワークと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体を作製する第2貼付工程と、前記第2貼付工程の後に、前記ワークを加工することにより、前記ワーク加工物を作製する加工工程と、前記第2貼付工程の後に、前記保護膜を切断する切断工程と、を有する。
<<Manufacturing method (2)>>
In the manufacturing method (2), the workpiece with a protective film includes a workpiece and a protective film provided on one surface of the workpiece, and the workpiece has a protective film attached to the workpiece. The planar shape of the workpiece is circular, the diameter of the workpiece is 6 inches, 8 inches, 12 inches, or 18 inches, and the protective film is obtained by processing the protective film forming sheet. When the diameter of the workpiece is 6 inches, the diameter of the protective film formation film is 135 mm or more and less than 150 mm, and the diameter of the workpiece is 8 inches. In this case, the diameter of the protective film forming film is 185 mm or more and less than 200 mm, and when the diameter of the workpiece is 12 inches, the diameter of the protective film forming film is 285 mm or more and less than 300 mm, and the When the diameter of the workpiece is 18 inches, the diameter of the protective film-forming film is 435 mm or more and less than 450 mm, and the protective film-forming film is non-curable, so that it cannot be attached to any part of the workpiece. The protective film-forming film after the protective film is the protective film, and the method for producing a workpiece with a protective film includes the step of peeling off the first release film from the protective film-forming film in the protective film-forming sheet. 1 peeling step, and after the first peeling step, the side of the protective film forming film where the first peeling film was provided without causing the outer peripheral part of the protective film forming film to protrude from the outer peripheral part of the workpiece. a first attaching step of producing a first laminate in which the protective film is provided on the workpiece by attaching the surface of the workpiece to one side of the workpiece; and after the first attaching step, the first A second peeling step of peeling off the second release film from the protective film in the laminate; and after the second peeling step, the second release film is applied to the surface of the protective film on the side where the second release film was provided. By pasting a processing sheet for processing the workpiece, a second laminate is produced in which the processing sheet, the protective film, and the workpiece are laminated in this order in their thickness direction. a second pasting step of fabricating the workpiece by processing the workpiece after the second pasting step, and a cutting step of cutting the protective film after the second pasting step. and has.
製造方法(2)は、ワークの種類によらず、前記硬化工程を有さず、ワークに貼付した後の保護膜形成フィルムをそのまま保護膜とする点を除けば、製造方法(1)と同じである。 Manufacturing method (2) is the same as manufacturing method (1), regardless of the type of workpiece, except that it does not include the curing step and the protective film forming film after being affixed to the workpiece is used as a protective film as it is. It is.
ワークが半導体ウエハである場合には、前記製造方法(2)において、前記保護膜付き半導体チップは、半導体チップと、前記半導体チップの裏面に設けられた保護膜と、を備えており、前記半導体チップは、半導体ウエハを加工(分割)することにより得られ、前記半導体ウエハの平面形状が円形であり、前記半導体ウエハの直径が、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、前記保護膜は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから形成されたものであり、前記半導体ウエハの直径が6インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が135mm以上150mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が8インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が185mm以上200mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が12インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が285mm以上300mm未満であり、前記半導体ウエハの直径が18インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が435mm以上450mm未満であり、前記保護膜形成フィルムが非硬化性であるため、前記半導体ウエハの裏面に貼付された後の前記保護膜形成フィルムが前記保護膜であり、前記保護膜付き半導体チップの製造方法は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから前記第1剥離フィルムを剥離する第1剥離工程と、前記第1剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムの外周部を前記半導体ウエハの外周部からはみ出させることなく、前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルムが設けられていた側の面を、前記半導体ウエハの裏面に貼付することにより、前記半導体ウエハに前記保護膜が設けられた第1積層体を作製する第1貼付工程と、前記第1貼付工程の後に、前記第1積層体中の前記保護膜から前記第2剥離フィルムを剥離する第2剥離工程と、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜の前記第2剥離フィルムが設けられていた側の面に、前記半導体ウエハを加工するための加工シートを貼付することにより、前記加工シートと、前記保護膜と、前記半導体ウエハと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体を作製する第2貼付工程と、前記第2貼付工程の後に、前記半導体ウエハを加工(分割)することにより、前記半導体チップを作製する加工工程と、前記第2貼付工程の後に、前記保護膜を切断する切断工程と、を有する。 When the work is a semiconductor wafer, in the manufacturing method (2), the semiconductor chip with a protective film includes a semiconductor chip and a protective film provided on the back surface of the semiconductor chip, and the semiconductor chip includes a semiconductor chip and a protective film provided on the back surface of the semiconductor chip. The chip is obtained by processing (dividing) a semiconductor wafer, the planar shape of the semiconductor wafer is circular, the diameter of the semiconductor wafer is 6 inches, 8 inches, 12 inches, or 18 inches; The protective film is formed from the protective film forming film in the protective film forming sheet, and when the diameter of the semiconductor wafer is 6 inches, the diameter of the protective film forming film is 135 mm or more and 150 mm. and when the diameter of the semiconductor wafer is 8 inches, the diameter of the protective film forming film is 185 mm or more and less than 200 mm, and when the diameter of the semiconductor wafer is 12 inches, the protective film is When the diameter of the forming film is 285 mm or more and less than 300 mm, and the diameter of the semiconductor wafer is 18 inches, the diameter of the protective film forming film is 435 mm or more and less than 450 mm, and the protective film forming film is non-curable. Therefore, the protective film forming film after being attached to the back surface of the semiconductor wafer is the protective film, and the method for manufacturing the semiconductor chip with a protective film includes forming the protective film in the protective film forming sheet. A first peeling step of peeling the first release film from the film, and after the first peeling step, the protective film forming film is removed without causing the outer peripheral portion of the protective film forming film to protrude from the outer peripheral portion of the semiconductor wafer. a first attaching step of producing a first laminate in which the protective film is provided on the semiconductor wafer by attaching the side on which the first release film was provided to the back surface of the semiconductor wafer; , a second peeling step of peeling the second release film from the protective film in the first laminate after the first pasting step; and a second peeling of the protective film after the second peeling step. By attaching a processing sheet for processing the semiconductor wafer to the side on which the film was provided, the processing sheet, the protective film, and the semiconductor wafer are arranged in this order to reduce their thickness. a second adhering step of producing a second laminate configured by laminating in the direction; and a processing step of producing the semiconductor chips by processing (dividing) the semiconductor wafer after the second adhering step. , a cutting step of cutting the protective film after the second pasting step.
図11~図12は、ワークが半導体ウエハである場合の前記製造方法(2)の一例を模式的に説明するための断面図である。ここでは、図2(a)及び図2(b)に示す保護膜形成用シート1を用いた場合の製造方法について説明する。
11 and 12 are cross-sectional views schematically illustrating an example of the manufacturing method (2) when the workpiece is a semiconductor wafer. Here, a manufacturing method using the protective
<第1剥離工程>
製造方法(2)の前記第1剥離工程は、図11(a)に示すように、製造方法(1)の第1剥離工程と同じである。したがって、製造方法(2)の第1剥離工程では、製造方法(1)の第1剥離工程の場合と同じ効果が得られる。
<First peeling step>
The first peeling step of manufacturing method (2) is the same as the first peeling step of manufacturing method (1), as shown in FIG. 11(a). Therefore, in the first peeling step of manufacturing method (2), the same effect as in the first peeling step of manufacturing method (1) can be obtained.
<第1貼付工程>
製造方法(2)の第1剥離工程の後、前記第1貼付工程においては、保護膜形成フィルム11の外周部11cを半導体ウエハ9の外周部9cからはみ出させることなく、保護膜形成フィルム11の第1剥離フィルム12が設けられていた側の面(第1面)11aを、半導体ウエハ9の裏面9bに貼付することにより、図11(b)に示すように、半導体ウエハ9に保護膜11’が設けられた第1積層体101’を作製する。
製造方法(2)の第1貼付工程は、半導体ウエハ9へ貼付後の保護膜形成フィルム11を保護膜11’として取り扱う点を除けば、製造方法(1)の第1貼付工程と同じである。この段階で保護膜形成フィルム11を保護膜11’として取り扱うため、第1積層体には、符号として101ではなく、101’を付している。
製造方法(2)の第1貼付工程では、製造方法(1)の第1貼付工程の場合と同じ効果が得られる。
<First pasting process>
After the first peeling step of manufacturing method (2), in the first pasting step, the protective
The first affixing step of manufacturing method (2) is the same as the first affixing step of manufacturing method (1), except that the protective
In the first pasting step of manufacturing method (2), the same effect as in the first pasting step of manufacturing method (1) can be obtained.
<第2剥離工程>
製造方法(2)の第1貼付工程の後、前記第2剥離工程においては、図11(c)に示すように、第1積層体101’中の保護膜11’から第2剥離フィルム13を剥離する。
<Second peeling process>
After the first pasting step of manufacturing method (2), in the second peeling step, the
<第2貼付工程>
製造方法(2)の第2剥離工程の後、前記第2貼付工程においては、図12(a)に示すように、第1積層体101’中の保護膜11’の第2面(ここでは露出面)11b’に、半導体ウエハ9を加工するための加工シートであるダイシングシート8を貼付する。これにより、ダイシングシート8と、保護膜11’と、半導体ウエハ9と、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体102を作製する。
<Second pasting process>
After the second peeling step of manufacturing method (2), in the second pasting step, as shown in FIG. 12(a), the second surface (here, A
<加工工程、切断工程>
製造方法(2)の第2貼付工程の後、前記加工工程においては、図12(b)に示すように、半導体ウエハ9を加工(分割)することにより、半導体チップ90を作製し、前記切断工程においては、保護膜11’を切断する。
<Processing process, cutting process>
After the second pasting step of manufacturing method (2), in the processing step, as shown in FIG. 12(b),
以上により、ワーク加工物である半導体チップ90と、半導体チップ90の一方の面(裏面90b)に設けられた保護膜110’と、を備えて構成された、目的とする、保護膜付きワーク加工物である保護膜付き半導体チップ109が複数個得られる。これら複数個の保護膜付き半導体チップ109はすべて、1枚のダイシングシート8上で整列した状態となっており、これら保護膜付き半導体チップ109とダイシングシート8は、保護膜付き半導体チップ群103を構成している。
As described above, the target workpiece with a protective film, which is configured to include a
この後、公知の方法で、製造方法(1)の場合と同じ方法で、保護膜付き半導体チップ109をダイシングシート8から引き離してピックアップし、このピックアップした保護膜付き半導体チップ109を用いて公知の方法で、半導体装置を製造できる。
Thereafter, by a known method, the
<他の工程>
製造方法(2)は、製造方法(1)の場合と同様に、第1剥離工程と、第1貼付工程と、第2剥離工程と、第2貼付工程と、加工工程と、切断工程と、のいずれにも該当しない他の工程を有していてもよい。
前記他の工程の種類と、これを行うタイミングは、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されない。前記他の工程としては、例えば、製造方法(1)の場合と同様の印字工程が挙げられる。
<Other processes>
Manufacturing method (2), as in manufacturing method (1), includes a first peeling step, a first pasting step, a second peeling step, a second pasting step, a processing step, a cutting step, It may also include other steps that do not fall under any of the above.
The types of the other steps and the timing at which they are performed can be arbitrarily selected depending on the purpose and are not particularly limited. Examples of the other steps include the same printing step as in manufacturing method (1).
以下、具体的実施例により、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に、何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below.
<樹脂の製造原料>
本実施例及び比較例において略記している、樹脂の製造原料の正式名称を、以下に示す。
BA:アクリル酸n-ブチル
MA:アクリル酸メチル
GMA:メタクリル酸グリシジル
HEA:アクリル酸2-ヒドロキシエチル
<Resin manufacturing raw materials>
The official names of the raw materials for resin production, which are abbreviated in the examples and comparative examples, are shown below.
BA: n-butyl acrylate MA: methyl acrylate GMA: glycidyl methacrylate HEA: 2-hydroxyethyl acrylate
<保護膜形成用組成物の製造原料>
保護膜形成用組成物の製造に用いた原料を以下に示す。
[重合体成分(A)]
(A)-1:BA(10質量部)、MA(70質量部)、GMA(5質量部)及びHEA(15質量部)を共重合して得られたアクリル樹脂(重量平均分子量400000、ガラス転移温度-1℃)。
[エポキシ樹脂(B1)]
(B1)-1:液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱ケミカル社製「jER828」、分子370、エポキシ当量184~194g/eq)
(B1)-2:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC社製「エピクロンHP-7200」、軟化点56~66℃、エポキシ当量254~264g/eq)
[熱硬化剤(B2)]
(B2)-1:ジシアンジアミド(三菱ケミカル社製「DICY7」、平均粒子径3μm、最大粒子径25μm)
[硬化促進剤(C)]
(C)-1:2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール(四国化成工業社製「キュアゾール(登録商標)2PHZ-PW」)
[充填材(D)]
(D)-1:シリカフィラー(アドマテックス社製「SC2050MB」、エポキシ系化合物で表面修飾された球状シリカフィラー、平均粒子径0.5μm、最大粒子径2.0μm)
[カップリング剤(E)]
(E)-1:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(シランカップリング剤、信越シリコーン社製「KBM403」、分子量236.3)
[着色剤(I)]
(I)-1:カーボンブラック(三菱ケミカル社製「MA600」、平均粒子径20nm)
<Raw materials for producing the composition for forming a protective film>
The raw materials used for producing the composition for forming a protective film are shown below.
[Polymer component (A)]
(A)-1: Acrylic resin (weight average molecular weight 400,000, glass transition temperature -1°C).
[Epoxy resin (B1)]
(B1)-1: Liquid bisphenol A type epoxy resin (“jER828” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, molecule 370, epoxy equivalent 184 to 194 g/eq)
(B1)-2: Dicyclopentadiene type epoxy resin (“Epiclon HP-7200” manufactured by DIC, softening point 56-66°C, epoxy equivalent 254-264 g/eq)
[Thermosetting agent (B2)]
(B2)-1: Dicyandiamide (“DICY7” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation,
[Curing accelerator (C)]
(C)-1:2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (“Curezol (registered trademark) 2PHZ-PW” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
[Filler (D)]
(D)-1: Silica filler (“SC2050MB” manufactured by Admatex, spherical silica filler surface modified with an epoxy compound, average particle size 0.5 μm, maximum particle size 2.0 μm)
[Coupling agent (E)]
(E)-1:3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (silane coupling agent, “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., molecular weight 236.3)
[Colorant (I)]
(I)-1: Carbon black (“MA600” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, average particle size 20 nm)
[実施例1]
<<保護膜形成用シートの製造>>
<保護膜形成用組成物(III)の製造>
重合体成分(A)-1(9.22質量部)、エポキシ樹脂(B1)-1(11.82質量部)、エポキシ樹脂(B1)-2(3.7質量部)、熱硬化剤(B2)-1(0.22質量部)、硬化促進剤(C)-1(0.22質量部)、充填材(D)-1(73.6質量部)、カップリング剤(E)-1(0.22質量部)及び着色剤(I)-1(1質量部)を、メチルエチルケトンに溶解又は分散させて、23℃で撹拌することで、溶媒以外のすべての成分の合計濃度が67質量%である熱硬化性の保護膜形成用組成物(III)-1を得た。なお、ここに示す前記溶媒以外の成分の配合量はすべて、溶媒を含まない目的物の配合量である。
[Example 1]
<<Manufacture of protective film forming sheet>>
<Production of protective film forming composition (III)>
Polymer component (A)-1 (9.22 parts by mass), epoxy resin (B1)-1 (11.82 parts by mass), epoxy resin (B1)-2 (3.7 parts by mass), thermosetting agent ( B2)-1 (0.22 parts by mass), curing accelerator (C)-1 (0.22 parts by mass), filler (D)-1 (73.6 parts by mass), coupling agent (E)- 1 (0.22 parts by mass) and colorant (I)-1 (1 part by mass) were dissolved or dispersed in methyl ethyl ketone and stirred at 23°C, so that the total concentration of all components other than the solvent was 67. A thermosetting protective film-forming composition (III)-1 having a mass percentage of 1% by weight was obtained. Note that all the blending amounts of components other than the solvent shown here are the blending amounts of the target product not containing the solvent.
<保護膜形成フィルムの製造>
ポリエチレンテレフタレート製フィルムの片面がシリコーン処理により剥離処理されて構成された、長尺の第2剥離フィルム(リンテック社製「SP-PET502150」、厚さ50μm)を用い、その前記剥離処理面に、上記で得られた保護膜形成用組成物(III)-1を塗工し、100℃で2分乾燥させることにより、厚さ25μmの熱硬化性の保護膜形成フィルムを製造した。
<Production of protective film forming film>
A long second release film ("SP-PET502150" manufactured by Lintec Corporation, thickness 50 μm), which is composed of one side of a polyethylene terephthalate film subjected to release treatment by silicone treatment, is used, and the above-mentioned A thermosetting protective film-forming film having a thickness of 25 μm was produced by applying the protective film-forming composition (III)-1 obtained in
<保護膜形成用シートの製造>
ポリエチレンテレフタレート製フィルムの片面がシリコーン処理により剥離処理されて構成された、長尺の除去用剥離フィルム(リンテック社製「SP-PET381130」,厚さ38μm)を用意した。
上記で得られた保護膜形成フィルムの、第2剥離フィルムを備えていない側の露出面に、ラミネートロールを用いて、上記の除去用剥離フィルムの剥離処理面を貼付した。これにより、保護膜形成フィルムと、前記保護膜形成フィルムの一方の面に設けられた除去用剥離フィルムと、前記保護膜形成フィルムの他方の面に設けられた第2剥離フィルムと、を備えて構成された長尺の積層シートを得た。
<Manufacture of protective film forming sheet>
A long release film for removal ("SP-PET381130" manufactured by Lintec Corporation, thickness 38 μm) was prepared by having one side of a polyethylene terephthalate film subjected to release treatment by silicone treatment.
The release-treated surface of the above-mentioned release film for removal was attached to the exposed surface of the protective film-forming film obtained above on the side not provided with the second release film using a laminating roll. This includes a protective film-forming film, a release film for removal provided on one surface of the protective film-forming film, and a second release film provided on the other surface of the protective film-forming film. A long laminated sheet was obtained.
次いで、この積層シートに対して、その中の除去用剥離フィルム側からブレードをあてて、除去用剥離フィルムの露出面から、保護膜形成フィルムを通過し、第2剥離フィルムの内部にまで到達する円形の切れ込みを、積層シートの長手方向に2以上形成した。このとき、第2剥離フィルムにおいては、その保護膜形成フィルム側の面から15μmの深さまで、前記切れ込みを形成した。このように、長尺の積層シートの長手方向に沿って、円形の抜き加工を2箇所以上行うことにより、保護膜形成フィルムを、直径が299.5mmの2以上の第1領域と、それ以外の第2領域と、に分割し、除去用剥離フィルムも同様に、第1領域と第2領域とに分割した。これにより、図1(a)~図1(b)に示すものと同様の構成を有する第1中間体を得た。
次いで、この第1中間体において、保護膜形成フィルムの第2領域を、これに貼付されている除去用剥離フィルムの第2領域とともに、第2剥離フィルムから取り除き、さらに、保護膜形成フィルムの第1領域から、これに貼付されている除去用剥離フィルムの第1領域を取り除く(カス上げを行う)ことにより、第2中間体を得た。
Next, a blade is applied to this laminated sheet from the side of the release film for removal, so that the blade passes through the protective film forming film from the exposed surface of the release film for removal and reaches the inside of the second release film. Two or more circular cuts were formed in the longitudinal direction of the laminated sheet. At this time, in the second release film, the cut was formed to a depth of 15 μm from the surface on the protective film forming film side. In this way, by performing circular punching at two or more locations along the longitudinal direction of the long laminated sheet, the protective film forming film is divided into two or more first regions each having a diameter of 299.5 mm and the other regions. The release film for removal was similarly divided into a first region and a second region. As a result, a first intermediate having a structure similar to that shown in FIGS. 1(a) to 1(b) was obtained.
Next, in this first intermediate, the second region of the protective film-forming film is removed from the second release film together with the second region of the release film for removal attached thereto, and further, the second region of the protective film-forming film is removed from the second release film. A second intermediate was obtained by removing the first region of the release film for removal attached to the first region (removal of residue).
次いで、ポリエチレンテレフタレート製フィルムの片面がシリコーン処理により剥離処理されて構成された、長尺の第1剥離フィルム(リンテック社製「SP-PET381130」,厚さ38μm)を用意した。そして、第2中間体中のすべての保護膜形成フィルムの第1領域、すなわち、直径が299.5mmの2以上の円形の保護膜形成フィルムの露出面(第2剥離フィルム側とは反対側の面)に、ラミネートロールを用いて、この第1剥離フィルムの剥離処理面を貼付するとともに、第1剥離フィルムの剥離処理面と、第2剥離フィルムの剥離処理面とを、保護膜形成フィルムの近傍以外の領域で接触させた。このとき、ラミネートロールの温度を70℃とし、貼付圧力を0.3MPaとし、貼付速度を10m/minとした。
以上のように、製造方法(α)により、図2(a)及び図2(b)に示す構成の長尺の保護膜形成用シートを製造した。
Next, a long first release film ("SP-PET381130" manufactured by Lintec Corporation, thickness 38 μm) was prepared, which was composed of a polyethylene terephthalate film on one side of which was subjected to release treatment by silicone treatment. Then, the first region of all the protective film-forming films in the second intermediate, that is, the exposed surface of two or more circular protective film-forming films with a diameter of 299.5 mm (on the side opposite to the second release film side), Using a laminating roll, apply the release-treated surface of the first release film to the surface of the protective film-forming film. Contact was made in an area other than the vicinity. At this time, the temperature of the laminating roll was 70° C., the application pressure was 0.3 MPa, and the application speed was 10 m/min.
As described above, a long protective film forming sheet having the configuration shown in FIGS. 2(a) and 2(b) was manufactured by the manufacturing method (α).
<<保護膜形成用シートの評価>>
<第1剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力の測定>
上記で得られた保護膜形成用シートから、幅100mm、長さ130mmの第1試験片を切り出した。この第1試験片の第2剥離フィルム側の露出面(第2剥離フィルムの保護膜形成フィルム側とは反対側の面)の全面を、補強用の接着性フィルムである汎用両面テープ(リンテック社製「タックライナーTL-202*」)を介して、アクリル板(厚さ2mm)の表面に貼付することにより、第1試験片をアクリル板上に固定した。
次いで、引張試験機(島津製作所社製「AG-1S」)を用いて、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、この第1試験片中の保護膜形成フィルムから、第1剥離フィルムを剥離した。このとき、剥離速度を1000mm/minとし、第1剥離フィルムと保護膜形成フィルムの互いに接触していた面同士が180°の角度を為すように、第1剥離フィルムを保護膜形成フィルムから剥離した(180°剥離を行った)。そして、第1剥離フィルムの剥離部分の長さが30mmを超えた後から、剥離が終了するまでに測定された剥離力の平均値を算出し、この平均値を第1剥離フィルムの剥離力として採用した。結果を表1中の「第1剥離フィルムの剥離力(mN/100mm)」の欄に示す。
<<Evaluation of protective film forming sheet>>
<Measurement of peeling force of the first release film against the protective film forming film>
A first test piece with a width of 100 mm and a length of 130 mm was cut out from the protective film forming sheet obtained above. The entire exposed surface of the first test piece on the second release film side (the surface opposite to the protective film forming film side of the second release film) was covered with a general-purpose double-sided tape (Lintec Co., Ltd.), which is an adhesive film for reinforcement. The first test piece was fixed onto the acrylic plate (thickness: 2 mm) by attaching it to the surface of the acrylic plate (thickness: 2 mm) via Tackliner TL-202* (manufactured by Manufacturer, Inc.).
Next, using a tensile tester ("AG-1S" manufactured by Shimadzu Corporation), a first release film was separated from the protective film forming film in this first test piece in an environment of a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%. was peeled off. At this time, the first release film was peeled off from the protective film-forming film at a peeling speed of 1000 mm/min such that the surfaces of the first release film and the protective film-forming film that were in contact with each other formed an angle of 180°. (180° peeling was performed). Then, calculate the average value of the peeling force measured after the length of the peeled part of the first release film exceeds 30 mm until the peeling is completed, and use this average value as the peeling force of the first release film. Adopted. The results are shown in the column of "Peeling force of first peeling film (mN/100mm)" in Table 1.
<第2剥離フィルムの保護膜形成フィルムに対する剥離力の測定>
上記で得られた保護膜形成用シートから、幅120mm、長さ145mmの切片を切り出した。この切片中の第1剥離フィルムを保護膜形成フィルムから剥離し、これにより新たに生じた保護膜形成フィルムの露出面(第2剥離フィルム側とは反対側の面)の全面に、ポリエチレンテレフタレートを主成分とする易接着性フィルム(厚さ25μm、東洋紡社製「PET25A-4100」)の易接着面を貼り合わせた。このとき、ラミネーター(大成ラミネーター社製「VA-400」)を用いて、貼付圧力0.3MPa、貼付速度1m/min、貼付温度70℃の条件で、熱ラミネートにより貼り合わせた。そして、得られたものから、幅100mm、長さ130mmの第2試験片を切り出した。この第2試験片の第2剥離フィルム側の露出面(第2剥離フィルムの保護膜形成フィルム側とは反対側の面)の全面を、補強用の接着性フィルムである汎用両面テープ(リンテック社製「タックライナーTL-202*」)を介して、アクリル板(厚さ2mm)の表面に貼付することにより、第2試験片をアクリル板上に固定した。
次いで、引張試験機(島津製作所社製「AG-1S」)を用いて、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、この第2試験片中の第2剥離フィルムから、保護膜形成フィルムと前記易接着性フィルムの積層物を剥離した。このとき、剥離速度を1000mm/minとし、前記積層物(より具体的には前記積層物中の保護膜形成フィルム)と第2剥離フィルムの互いに接触していた面同士が180°の角度を為すように、前記積層物を第2剥離フィルムから剥離した(180°剥離を行った)。そして、前記積層物の剥離部分の長さが30mmを超えた後から、剥離が終了するまでに測定された剥離力の平均値を算出し、この平均値を第2剥離フィルムの剥離力として採用した。結果を表1中の「第2剥離フィルムの剥離力(mN/100mm)」の欄に示す。
<Measurement of peeling force of the second release film against the protective film forming film>
A section with a width of 120 mm and a length of 145 mm was cut from the protective film forming sheet obtained above. The first release film in this section is peeled off from the protective film-forming film, and polyethylene terephthalate is applied to the entire exposed surface of the newly formed protective film-forming film (the surface opposite to the second release film side). The easily adhesive surfaces of the easily adhesive film (thickness 25 μm, "PET25A-4100" manufactured by Toyobo Co., Ltd.), which is the main component, were bonded together. At this time, using a laminator ("VA-400" manufactured by Taisei Laminator Co., Ltd.), the sheets were bonded together by thermal lamination under conditions of a bonding pressure of 0.3 MPa, a bonding speed of 1 m/min, and a bonding temperature of 70.degree. Then, a second test piece with a width of 100 mm and a length of 130 mm was cut out from the obtained product. The entire exposed surface of this second test piece on the second release film side (the surface opposite to the protective film forming film side of the second release film) was covered with a general-purpose double-sided tape (Lintec Co., Ltd.), which is an adhesive film for reinforcement. The second test piece was fixed onto the acrylic plate (thickness: 2 mm) by attaching it to the surface of the acrylic plate (thickness: 2 mm) via Tackliner TL-202* (manufactured by Manufacturer, Inc.).
Next, using a tensile tester (“AG-1S” manufactured by Shimadzu Corporation), a protective film-forming film was tested from the second release film in this second test piece in an environment of a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%. Then, the laminate of the easily adhesive film was peeled off. At this time, the peeling speed was set to 1000 mm/min, and the surfaces of the laminate (more specifically, the protective film forming film in the laminate) and the second release film that were in contact with each other formed an angle of 180°. The laminate was peeled off from the second release film (180° peeling was performed). Then, the average value of the peeling force measured from when the length of the peeled part of the laminate exceeds 30 mm until the peeling is completed is calculated, and this average value is adopted as the peeling force of the second peeling film. did. The results are shown in the column of "Peeling force of second release film (mN/100mm)" in Table 1.
<第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差の算出>
上記で求めた第2剥離フィルムの剥離力と、第1剥離フィルムの剥離力と、の差を算出した。結果を表1に示す。
<Calculation of the difference in peeling force between the second release film and the first release film>
The difference between the peeling force of the second peeling film determined above and the peeling force of the first peeling film was calculated. The results are shown in Table 1.
<第1剥離フィルムの剥離適性の評価>
テープラミネーター(リンテック社製「RAD-3600F/12」)を用い、ゴムロールの温度を60℃とし、テーブルの温度を80℃として、上記で得られた保護膜形成用シートを用いて、剥離速度50mm/sで第1剥離フィルムを剥離しながら、貼付速度50mm/s、貼付圧力0.25MPaの条件で、20枚の保護膜形成フィルムを1枚ずつ連続して、20枚の12インチシリコンウエハ(直径300mm、厚さ300μm)の#2000研磨面に対して貼付することを試みた。そして、第1剥離フィルムの剥離時に、第1剥離フィルムとともに第2剥離フィルムから剥離した保護膜形成フィルムの枚数(剥離枚数)を確認し、下記基準に従って、第1剥離フィルムの剥離適性を評価した。結果を表1に示す。
[評価基準]
A:保護膜形成フィルムの剥離枚数が0枚であり、第1剥離フィルムの剥離適性が高い。
B:保護膜形成フィルムの剥離枚数が1枚であり、第1剥離フィルムの剥離適性が良好である。
C:保護膜形成フィルムの剥離枚数が2枚以上であり、第1剥離フィルムの剥離適性が低い。
<Evaluation of peelability of first release film>
Using a tape laminator ("RAD-3600F/12" manufactured by Lintec Corporation), the temperature of the rubber roll was set to 60 °C, the temperature of the table was set to 80 °C, and the protective film forming sheet obtained above was used at a peeling speed of 50 mm. While peeling off the first release film at a speed of 50 mm/s and a pressure of 0.25 MPa, 20 protective film-forming films were successively applied one by one to 20 12-inch silicon wafers ( An attempt was made to attach it to a #2000 polished surface with a diameter of 300 mm and a thickness of 300 μm. Then, when the first release film was peeled off, the number of protective film-forming films that were peeled off from the second release film together with the first release film (number of peeled sheets) was confirmed, and the peelability of the first release film was evaluated according to the following criteria. . The results are shown in Table 1.
[Evaluation criteria]
A: The number of peeled protective film forming films is 0, and the peelability of the first peeling film is high.
B: The number of peeled protective film forming films is one, and the peelability of the first peeling film is good.
C: The number of peeled protective film-forming films is two or more, and the peelability of the first peeling film is low.
<保護膜形成フィルムによるシリコンウエハの汚染の抑制効果の評価>
上記の第1剥離フィルムの剥離適性の評価時に、デジタル顕微鏡(キーエンス社製「VHS-7000」)を用いて、500倍の倍率で、保護膜形成フィルムが貼付されたすべてのシリコンウエハの外周部を観察した。そして、外周部に保護膜形成フィルムの付着が見られるシリコンウエハの枚数(汚染枚数)を確認し、下記基準に従って、保護膜形成フィルムによるシリコンウエハの汚染の抑制効果を評価した。結果を表1に示す。
[評価基準]
A:シリコンウエハの汚染枚数が0枚であり、保護膜形成フィルムによる汚染の抑制効果が高い。
B:シリコンウエハの汚染枚数が1枚であり、保護膜形成フィルムによる汚染の抑制効果が良好である。
C:シリコンウエハの汚染枚数が2枚以上であり、保護膜形成フィルムによる汚染の抑制効果が低い。
<Evaluation of the effect of suppressing contamination of silicon wafers by protective film forming film>
When evaluating the releasability of the first release film described above, the outer periphery of all silicon wafers to which the protective film-forming film was attached was measured using a digital microscope (VHS-7000 manufactured by Keyence Corporation) at a magnification of 500 times. observed. Then, the number of silicon wafers on which the protective film forming film was observed to adhere to the outer periphery (number of contaminated sheets) was confirmed, and the effect of suppressing contamination of the silicon wafers by the protective film forming film was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
[Evaluation criteria]
A: The number of contaminated silicon wafers is 0, and the effect of suppressing contamination by the protective film forming film is high.
B: The number of contaminated silicon wafers is one, and the effect of suppressing contamination by the protective film forming film is good.
C: The number of contaminated silicon wafers is two or more, and the effect of suppressing contamination by the protective film forming film is low.
<<第1剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力の測定>>
前記第1剥離フィルムの剥離力の測定後に、保護膜形成フィルムから剥離した第1剥離フィルム(幅100mm、長さ130mm)を切断することで、幅25mm、長さ130mmの第1剥離フィルム片を2枚作製した。23℃の貼付温度条件で、貼付速度を300mm/minとし、貼付圧力を0.3MPaとして、前記第1剥離フィルム片を、その剥離処理面(すなわち、保護膜形成フィルムが貼付されていた面)によって、ステンレス鋼板(パルテック社製「SUS304 ♯600 片面 600HL 0.5mm×70mm×150mm」)の♯600研磨された面に貼付することで、第1剥離フィルム片付きステンレス鋼板を得た。ここで、「23℃の貼付温度条件」とは、ラミネートローラーの温度を23℃とし、ステンレス鋼板の温度を23℃としたことを意味する。
次いで、引張試験機(島津製作所社製「AG-1S」)を用いて、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、この第1剥離フィルム片付きステンレス鋼板中のステンレス鋼板から、第1剥離フィルム片を剥離した。このとき、剥離速度を300mm/minとし、ステンレス鋼板と第1剥離フィルム片の互いに接触していた面同士が90°の角度を為すように、第1剥離フィルム片をその長さ方向へ剥離した(90°剥離を行った)。そして、測定開始から第1剥離フィルム片の長さ110mmの部分までについて、この90°剥離のときの荷重(付着力)を測定し、測定開始から第1剥離フィルム片の長さ60mmの部分までの測定値を有効値から除外し、それ以降の測定値の平均値を付着力(mN/25mm)として採用した。
このような、付着力の測定を2回行い、その時の平均値を、第1剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力(mN/25mm)として採用した。結果を表1に示す。
<<Measurement of adhesion between the first release film and the stainless steel plate>>
After measuring the peeling force of the first release film, the first release film (width 100 mm, length 130 mm) peeled from the protective film forming film is cut to obtain a first release film piece having a width of 25 mm and a length of 130 mm. Two pieces were made. Under the bonding temperature condition of 23° C., the bonding speed was 300 mm/min, and the bonding pressure was 0.3 MPa, the first release film piece was removed from its peel-treated surface (i.e., the surface to which the protective film-forming film had been bonded). A stainless steel plate with a first release film piece was obtained by attaching it to the #600 polished surface of a stainless steel plate (“SUS304 #600 single-sided 600HL 0.5 mm x 70 mm x 150 mm” manufactured by Paltech). Here, "23°C bonding temperature condition" means that the temperature of the laminating roller was 23°C and the temperature of the stainless steel plate was 23°C.
Next, using a tensile testing machine ("AG-1S" manufactured by Shimadzu Corporation), a first peeling test was performed from the stainless steel plate in the stainless steel plate with the first peeling film piece in an environment of a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%. The film piece was peeled off. At this time, the peeling speed was set to 300 mm/min, and the first peeling film piece was peeled in the length direction so that the surfaces of the stainless steel plate and the first peeling film piece that were in contact with each other formed an angle of 90°. (90° peeling was performed). Then, the load (adhesive force) during this 90° peeling is measured from the start of measurement to a 110 mm long part of the first release film piece, and from the start of measurement to a 60 mm long part of the first release film piece. The measured value was excluded from the effective values, and the average value of the subsequent measured values was adopted as the adhesive force (mN/25 mm).
The adhesion force was measured twice, and the average value was taken as the adhesion force (mN/25 mm) between the first release film and the stainless steel plate. The results are shown in Table 1.
<<第2剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力の測定>>
前記第2剥離フィルムの剥離力の測定後に、保護膜形成フィルムから剥離した第2剥離フィルム(幅100mm、長さ130mm)を切断することで、幅25mm、長さ130mmの第2剥離フィルム片を2枚作製した。そして、前記第1剥離フィルム片に代えて、この第2剥離フィルム片を用いた点以外は、上記の第1剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力の測定時と同じ方法で、第2剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力を測定した。結果を表1に示す。
<<Measurement of adhesion between the second release film and the stainless steel plate>>
After measuring the peeling force of the second release film, the second release film (width 100 mm, length 130 mm) peeled from the protective film forming film is cut to obtain a second release film piece having a width of 25 mm and a length of 130 mm. Two pieces were made. Then, the second release film was measured in the same manner as in the measurement of the adhesive force between the first release film and the stainless steel plate, except that this second release film was used instead of the first release film. The adhesion between the release film and the stainless steel plate was measured. The results are shown in Table 1.
<<保護膜形成用シートの製造及び評価>>
[実施例2]
すべての円形の保護膜形成フィルムの直径を、299.5mmに代えて299mmとした点以外は、実施例1の場合と同じ方法で、保護膜形成用シートを製造し、評価した。結果を表1に示す。
<<Manufacture and evaluation of protective film forming sheet>>
[Example 2]
A protective film-forming sheet was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the diameter of all circular protective film-forming films was 299 mm instead of 299.5 mm. The results are shown in Table 1.
[実施例3]
すべての円形の保護膜形成フィルムの直径を、299.5mmに代えて285mmとした点以外は、実施例1の場合と同じ方法で、保護膜形成用シートを製造し、評価した。結果を表1に示す。
[Example 3]
A protective film-forming sheet was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the diameter of all circular protective film-forming films was 285 mm instead of 299.5 mm. The results are shown in Table 1.
[実施例4]
すべての円形の保護膜形成フィルムの直径を、299.5mmに代えて299mmとした点と、ポリエチレンテレフタレート製フィルムの片面がシリコーン処理により剥離処理されて構成された、長尺の第1剥離フィルムとして、上述の「SP-PET381130」に代えて、リンテック社製「SP-PET38T124-2,厚さ38μm)を用いた点、以外は、実施例1の場合と同じ方法で、保護膜形成用シートを製造し、評価した。結果を表1に示す。
[Example 4]
The diameter of all circular protective film-forming films was changed to 299 mm instead of 299.5 mm, and the long first release film was configured by having one side of a polyethylene terephthalate film released by silicone treatment. A protective film forming sheet was formed in the same manner as in Example 1, except that "SP-PET38T124-2, thickness 38 μm) manufactured by Lintec Corporation was used in place of the above-mentioned "SP-PET381130". It was manufactured and evaluated. The results are shown in Table 1.
[比較例1]
すべての円形の保護膜形成フィルムの直径を、299.5mmに代えて300mmとした点以外は、実施例1の場合と同じ方法で、保護膜形成用シートを製造し、評価した。結果を表1に示す。
[Comparative example 1]
A protective film-forming sheet was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the diameter of all circular protective film-forming films was 300 mm instead of 299.5 mm. The results are shown in Table 1.
[比較例2]
実施例1の場合と同じ方法で、保護膜形成フィルムと、前記保護膜形成フィルムの一方の面に設けられた除去用剥離フィルムと、前記保護膜形成フィルムの他方の面に設けられた第2剥離フィルムと、を備えて構成された長尺の積層シートを製造した。さらに、すべての円形の保護膜形成フィルムの直径を、299.5mmに代えて299mmとした点以外は、実施例1の場合と同じ方法で、この積層シートに対して、円形の切れ込みを形成した(円形の抜き加工を行った)。そして、以降の工程を行わず、この円形の切れ込みを形成後の積層シート(前記第1中間体)を、比較用の長尺の保護膜形成用シートとして、実施例1の場合と同じ方法で評価した。すなわち、本比較例では、上述の除去用剥離フィルムを、円形の切れ込みが形成された第1剥離フィルムと見做して、図1(a)及び図1(b)に示すものと同様の構成を有する第1中間体を評価した。結果を表1に示す。
[Comparative example 2]
In the same manner as in Example 1, a protective film-forming film, a release film for removal provided on one surface of the protective film-forming film, and a second release film provided on the other surface of the protective film-forming film were prepared. A long laminated sheet comprising a release film and a release film was manufactured. Furthermore, circular notches were formed in this laminated sheet in the same manner as in Example 1, except that the diameter of all circular protective film-forming films was changed to 299 mm instead of 299.5 mm. (Circular punching was performed). Then, without performing the subsequent steps, the laminated sheet after forming the circular cuts (the first intermediate) was used as a long protective film forming sheet for comparison in the same manner as in Example 1. evaluated. That is, in this comparative example, the above-mentioned release film for removal is regarded as a first release film in which a circular cut is formed, and a structure similar to that shown in FIGS. 1(a) and 1(b) is used. The first intermediate having the following was evaluated. The results are shown in Table 1.
上記結果から明らかなように、実施例1~4においては、保護膜形成フィルムのシリコンウエハ(ワーク)への貼付時に、保護膜形成フィルムによるシリコンウエハの汚染を抑制できた。実施例1~4においては、保護膜形成フィルムの直径が299.5mm以下であり、シリコンウエハの直径と、保護膜形成フィルムの直径と、の差が、0.5mm以上であった。そして、実施例1~4においては、保護膜形成フィルムの直径が285mm以上であり、シリコンウエハの直径と、保護膜形成フィルムの直径と、の差が、15mm以下であり、保護膜形成用シートは保護膜付きワーク加工物の製造効率を低下させないものであった。
実施例1~4においては、保護膜形成用シート中の保護膜形成フィルムのサイズが、シリコンウエハのサイズに近いため、保護膜形成用シートの使用時に、保護膜形成フィルムのさらなる抜き加工は不要であり、そのため、剥離フィルムの抜き加工も不要であった。
実施例1~4においては、保護膜形成用シート中の第1剥離フィルムが切れ込みを有さず、使用後の第1剥離フィルムは再利用可能であった(再利用適性を有していた)。
As is clear from the above results, in Examples 1 to 4, contamination of the silicon wafer by the protective film forming film was suppressed when the protective film forming film was attached to the silicon wafer (workpiece). In Examples 1 to 4, the diameter of the protective film forming film was 299.5 mm or less, and the difference between the diameter of the silicon wafer and the diameter of the protective film forming film was 0.5 mm or more. In Examples 1 to 4, the diameter of the protective film forming film is 285 mm or more, the difference between the diameter of the silicon wafer and the diameter of the protective film forming film is 15 mm or less, and the protective film forming sheet This did not reduce the production efficiency of the work piece with the protective film.
In Examples 1 to 4, the size of the protective film forming film in the protective film forming sheet is close to the size of the silicon wafer, so no further punching of the protective film forming film is required when using the protective film forming sheet. Therefore, punching of the release film was not necessary.
In Examples 1 to 4, the first release film in the protective film forming sheet did not have any cuts, and the first release film after use was reusable (had reusability). .
なかでも、実施例2~4においては、保護膜形成フィルムの直径が299mm以下であり、シリコンウエハの直径と、保護膜形成フィルムの直径と、の差が、1mm以上であり、保護膜形成フィルムによるシリコンウエハの汚染の抑制効果が高かった。この観点で、実施例2~4の保護膜形成用シートは、より好ましい特性を有していた。 In particular, in Examples 2 to 4, the diameter of the protective film-forming film is 299 mm or less, the difference between the diameter of the silicon wafer and the diameter of the protective film-forming film is 1 mm or more, and the protective film-forming film is The effect of suppressing contamination of silicon wafers was high. From this point of view, the protective film forming sheets of Examples 2 to 4 had more preferable characteristics.
なかでも、実施例1~3においては、第1剥離フィルムの剥離力が70mN/100mmであり、低水準となっており、第1剥離フィルムの剥離適性が高かった。実施例1~3においては、第2剥離フィルム及び第1剥離フィルムの剥離力差が、80mN/100mmであり、大きかった。これらの観点で、実施例1~3の保護膜形成用シートは、より好ましい特性を有していた。 In particular, in Examples 1 to 3, the peeling force of the first release film was 70 mN/100 mm, which was a low level, and the peelability of the first release film was high. In Examples 1 to 3, the difference in peel force between the second release film and the first release film was 80 mN/100 mm, which was large. From these viewpoints, the protective film forming sheets of Examples 1 to 3 had more preferable characteristics.
なお、実施例1~4においては、第1剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力が5.3mN/25mm以下であり、第2剥離フィルムとステンレス鋼板との間の付着力が2.9mN/25mmであって、これら第1剥離フィルム及び第2剥離フィルムはいずれも、ロール状に巻き取るときに、巻きずれの抑制効果が高いものであると推測された。 In Examples 1 to 4, the adhesive force between the first release film and the stainless steel plate was 5.3 mN/25 mm or less, and the adhesive force between the second release film and the stainless steel plate was 2.9 mN. /25 mm, and it was presumed that both the first release film and the second release film had a high effect of suppressing winding deviation when wound into a roll.
これに対して、比較例1においては、保護膜形成フィルムによるシリコンウエハの汚染の抑制効果が低かった。比較例1においては、保護膜形成フィルムの直径が300mmであり、シリコンウエハの直径と同じであった。 On the other hand, in Comparative Example 1, the effect of suppressing contamination of the silicon wafer by the protective film forming film was low. In Comparative Example 1, the diameter of the protective film forming film was 300 mm, which was the same as the diameter of the silicon wafer.
比較例2においては、保護膜形成用シート中の第1剥離フィルム及び第2剥離フィルムが、いずれも切れ込みを有しており、使用後の第1剥離フィルム及び第2剥離フィルムは再利用不可能であった(再利用適性を有していなかった)。 In Comparative Example 2, both the first release film and the second release film in the protective film forming sheet had slits, and the used first release film and second release film could not be reused. (was not suitable for reuse).
ここまでは、保護膜形成フィルムとして、その平面形状が円形であるものを備えた保護膜形成用シートについての実施例及び比較例を示したが、保護膜形成フィルムとして、その平面形状が略円形(例えば、楕円形)であるものを備えた保護膜形成用シートを用いた場合も、同様の評価結果が得られると認識できた。 Up to this point, we have shown examples and comparative examples of protective film-forming sheets that have a circular planar shape as the protective film-forming film. It was recognized that similar evaluation results could be obtained even when a protective film forming sheet having a shape (for example, elliptical) was used.
本発明は、半導体装置をはじめとする各種基板装置の製造に利用可能である。 The present invention can be used to manufacture various substrate devices including semiconductor devices.
1,2,3,4,5,6・・・保護膜形成用シート、
11・・・保護膜形成フィルム、11a・・・保護膜形成フィルムの第1面(保護膜形成フィルムの第1剥離フィルム側の面、保護膜形成フィルムの第1剥離フィルムが設けられていた側の面)、11b・・・保護膜形成フィルムの第2面(保護膜形成フィルムの第2剥離フィルム側の面)、11c・・・保護膜形成フィルムの外周部、
11’・・・保護膜、11b’・・・保護膜の第2面、
12,22・・・第1剥離フィルム、
13,23・・・第2剥離フィルム、139・・・第2剥離フィルムの切れ込み、
101・・・第1積層体、101’・・・保護膜形成フィルムが保護膜となっている第1積層体、
102・・・第2積層体、
109・・・保護膜付き半導体チップ(保護膜付きワーク加工物)、
110’・・・切断後の保護膜、
8・・・ダイシングシート(加工シート)、
81・・・基材、82・・・粘着剤層、
9・・・半導体ウエハ(ワーク)、9b・・・半導体ウエハの裏面(ワークの一方の面)、9c・・・半導体ウエハの外周部(ワークの外周部)、
90・・・半導体チップ(ワーク加工物)、90b・・・半導体チップの裏面(ワーク加工物の一方の面)、
D9・・・半導体ウエハの直径(ワークの直径)
D11・・・保護膜形成フィルムの直径
1, 2, 3, 4, 5, 6... Sheet for forming a protective film,
11...Protective film forming film, 11a...First surface of the protective film forming film (the surface on the first release film side of the protective film forming film, the side of the protective film forming film on which the first release film was provided) surface), 11b...the second surface of the protective film-forming film (the surface on the second release film side of the protective film-forming film), 11c...the outer periphery of the protective film-forming film,
11'...protective film, 11b'...second surface of the protective film,
12, 22... first release film,
13, 23... second release film, 139... notch in second release film,
101... first laminate, 101'... first laminate in which the protective film forming film is a protective film,
102... second laminate,
109... Semiconductor chip with protective film (workpiece with protective film),
110'...protective film after cutting,
8... Dicing sheet (processing sheet),
81... Base material, 82... Adhesive layer,
9... Semiconductor wafer (work), 9b... Back side of semiconductor wafer (one side of work), 9c... Outer periphery of semiconductor wafer (outer periphery of work),
90... Semiconductor chip (workpiece), 90b... Back side of semiconductor chip (one side of workpiece),
D9 ...Diameter of semiconductor wafer (diameter of workpiece)
D11 ...Diameter of protective film forming film
Claims (4)
前記保護膜形成用シートは、第1剥離フィルムと、前記第1剥離フィルムよりも剥離力が大きい第2剥離フィルムと、前記第1剥離フィルムと前記第2剥離フィルムとの間に設けられた保護膜形成フィルムと、を備え、
2枚以上の前記保護膜形成フィルムが、1枚の前記第1剥離フィルムと1枚の前記第2剥離フィルムの長手方向に沿って配置されており、
前記保護膜形成フィルムの平面形状が、円形又は略円形であり、
前記保護膜形成フィルムの直径が、135mm以上150mm未満、185mm以上200mm未満、285mm以上300mm未満、又は435mm以上450mm未満であり、
前記第1剥離フィルムと前記第2剥離フィルムとのいずれか一方又は両方が、その前記保護膜形成フィルムの外周部と一致する位置に、切れ込みを実質的に有しない、保護膜形成用シート。 A sheet for forming a protective film,
The protective film forming sheet includes a first release film, a second release film having a greater release force than the first release film, and a protection film provided between the first release film and the second release film. A film-forming film;
Two or more of the protective film forming films are arranged along the longitudinal direction of one of the first release film and one of the second release film,
The planar shape of the protective film forming film is circular or approximately circular,
The diameter of the protective film forming film is 135 mm or more and less than 150 mm, 185 mm or more and less than 200 mm, 285 mm or more and less than 300 mm, or 435 mm or more and less than 450 mm,
A sheet for forming a protective film, wherein either one or both of the first release film and the second release film does not substantially have a cut at a position that coincides with the outer periphery of the protective film-forming film.
前記第1剥離フィルムの前記保護膜形成フィルムに対する剥離力が20mN/100mm以上であり、
前記第2剥離フィルムの前記保護膜形成フィルムに対する剥離力が500mN/100mm以下である、請求項1に記載の保護膜形成用シート。 The difference between the peeling force of the second release film with respect to the protective film forming film and the peeling force of the first release film with respect to the protective film forming film is 30 mN/100 mm or more and less than 200 mN/100 mm,
The peeling force of the first release film with respect to the protective film forming film is 20 mN/100 mm or more,
The protective film forming sheet according to claim 1, wherein the second release film has a peeling force of 500 mN/100 mm or less with respect to the protective film forming film.
前記保護膜付きワーク加工物は、ワーク加工物と、前記ワーク加工物の一方の面に設けられた保護膜と、を備えており、
前記ワーク加工物は、ワークを加工することにより得られ、
前記ワークの平面形状が円形であり、
前記ワークの直径が、6インチ、8インチ、12インチ、又は18インチであり、
前記保護膜は、請求項1又は2に記載の保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから形成されたものであり、
前記ワークの直径が6インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が135mm以上150mm未満であり、前記ワークの直径が8インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が185mm以上200mm未満であり、前記ワークの直径が12インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が285mm以上300mm未満であり、前記ワークの直径が18インチである場合には、前記保護膜形成フィルムの直径が435mm以上450mm未満であり、
前記保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、前記保護膜形成フィルムの硬化物が前記保護膜であり、前記保護膜形成フィルムが非硬化性である場合には、前記ワークのいずれかの箇所に貼付された後の前記保護膜形成フィルムが前記保護膜であり、
前記製造方法は、前記保護膜形成用シート中の前記保護膜形成フィルムから前記第1剥離フィルムを剥離する第1剥離工程と、
前記第1剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムの外周部を前記ワークの外周部からはみ出させることなく、前記保護膜形成フィルムの前記第1剥離フィルムが設けられていた側の面を、前記ワークの一方の面に貼付することにより、前記ワークに前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜が設けられた第1積層体を作製する第1貼付工程と、
前記第1貼付工程の後に、前記第1積層体中の前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜から前記第2剥離フィルムを剥離する第2剥離工程と、
前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜の前記第2剥離フィルムが設けられていた側の面に、前記ワークを加工するための加工シートを貼付することにより、前記加工シートと、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜と、前記ワークと、がこの順に、これらの厚さ方向において積層されて構成された第2積層体を作製する第2貼付工程と、
前記第2貼付工程の後に、前記ワークを加工することにより、前記ワーク加工物を作製する加工工程と、
前記第2貼付工程の後に、前記保護膜形成フィルム又は前記保護膜を切断する切断工程と、を有し、
前記保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、さらに、前記第2剥離工程の後に、前記保護膜形成フィルムを硬化させることにより、前記保護膜を形成する硬化工程と、を有する、保護膜付きワーク加工物の製造方法。 A method for manufacturing a workpiece with a protective film, the method comprising:
The workpiece with a protective film includes a workpiece and a protective film provided on one surface of the workpiece,
The workpiece is obtained by processing a workpiece,
The workpiece has a circular planar shape,
The diameter of the workpiece is 6 inches, 8 inches, 12 inches, or 18 inches,
The protective film is formed from the protective film forming film in the protective film forming sheet according to claim 1 or 2,
When the diameter of the work is 6 inches, the diameter of the protective film forming film is 135 mm or more and less than 150 mm, and when the diameter of the work is 8 inches, the diameter of the protective film forming film is 185 mm. or more and less than 200 mm, and when the diameter of the work is 12 inches, the diameter of the protective film forming film is 285 mm or more and less than 300 mm, and when the diameter of the work is 18 inches, the protective film is The diameter of the formed film is 435 mm or more and less than 450 mm,
When the protective film-forming film is curable, the cured product of the protective film-forming film is the protective film, and when the protective film-forming film is non-curable, any of the works The protective film forming film after being affixed to the location is the protective film,
The manufacturing method includes a first peeling step of peeling the first release film from the protective film forming film in the protective film forming sheet;
After the first peeling step, the surface of the protective film forming film on the side where the first peeling film was provided is removed from the surface of the protective film forming film on the side where the first peeling film was provided, without causing the outer peripheral part of the protective film forming film to protrude from the outer peripheral part of the workpiece. A first pasting step of creating a first laminate in which the protective film forming film or the protective film is provided on the work by pasting it on one side of the work;
After the first pasting step, a second peeling step of peeling the second release film from the protective film forming film or the protective film in the first laminate;
After the second peeling step, a processing sheet for processing the workpiece is attached to the protective film forming film or the surface of the protective film on the side where the second release film was provided. a second pasting step of producing a second laminate in which a sheet, the protective film forming film or the protective film, and the workpiece are laminated in this order in their thickness direction;
a processing step of producing the workpiece by processing the workpiece after the second pasting step;
After the second pasting step, a cutting step of cutting the protective film forming film or the protective film,
When the protective film-forming film is curable, the protective film further comprises, after the second peeling step, a curing step of curing the protective film-forming film to form the protective film. A method for manufacturing a workpiece with a
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