JP2024022329A - Manufacturing method of cutting processed film and cutting processed film - Google Patents

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Abstract

【課題】優れた真直度(直線性)を有する端面を備える切削加工フィルムを製造できる切削加工フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の実施形態による切削加工フィルムの製造方法は、フィルムの端面を正面フライスによって切削加工する工程を含み、切削加工する工程における正面フライスの送り速度が、800mm/分以下である。【選択図】図1An object of the present invention is to provide a method for producing a cut film that can produce a cut film having an end face with excellent straightness (linearity). A method for manufacturing a cut film according to an embodiment of the present invention includes a step of cutting an end face of the film with a face milling cutter, and the feed rate of the face milling cutter in the cutting step is 800 mm/min or less. . [Selection diagram] Figure 1

Description

本発明は、切削加工フィルムの製造方法および切削加工フィルムに関する。 The present invention relates to a method for producing a cut film and a cut film.

フィルムの端面には、フィルムの製造時にササクレなどの凹凸が生じるおそれがある。そのため、端面切削加工装置の切削加工により、フィルムの端面の平滑性の向上を図ることが知られている(例えば、特許文献1参照)。近年、各種産業製品において部材の位置精度の向上が望まれており、それに伴って、製品に採用されるフィルムの外縁形状の精度の向上が求められている。とりわけ、フィルムの端面に優れた直線性(真っすぐさ)が要求される場合があるが、フィルムの端面の直線性の向上には改善の余地が残されている。 There is a possibility that irregularities such as cracks may occur on the end face of the film during film production. Therefore, it is known that the smoothness of the end face of the film is improved by cutting using an end face cutting device (for example, see Patent Document 1). In recent years, it has been desired to improve the positional accuracy of members in various industrial products, and along with this, there has been a demand for improved accuracy in the outer edge shape of films used in the products. In particular, excellent linearity (straightness) is sometimes required at the end faces of the film, but there is still room for improvement in improving the straightness of the end faces of the film.

特開2018-103276号公報Japanese Patent Application Publication No. 2018-103276

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、優れた真直度(直線性)を有する端面を備える切削加工フィルムを製造できる切削加工フィルムの製造方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and its main purpose is to provide a method for producing a cut film that can produce a cut film having an end face with excellent straightness (linearity). It's about doing.

[1]本発明の実施形態による切削加工フィルムの製造方法は、フィルムの端面を正面フライスによって切削加工する工程を含み、該切削加工する工程における正面フライスの送り速度が800mm/分以下である。
[2]上記[1]に記載の切削加工フィルムの製造方法において、上記フィルムが、第1フィルムと;該第1フィルムに積層される粘着剤層と;該粘着剤層を介して該第1フィルムに貼り付けられる第2フィルムと;を含む、積層フィルムであり、上記切削加工する工程における正面フライスの送り速度が、400mm/分以上であってもよい。
[3]上記[2]に記載の切削加工フィルムの製造方法において、上記第1フィルムが偏光子であり、上記第2フィルムが位相差層であってもよい。
[4]上記[1]から[3]のいずれかに記載の切削加工フィルムの製造方法において、上記切削加工する工程において、下記真直度測定による端面の真直度が0.007mm以下となるように、上記端面を切削加工してもよい。
真直度測定;
上記端面の座標をコンピュータ数値制御画像測定システムによって10点測定し、該10点の座標から近似線を算出し、該近似線と直交する方向における近似線と端面との間の間隔の最大値と最小値との差を真直度とする。
[5]本発明の別の局面による切削加工フィルムは、正面フライスによって切削加工された端面を有し、上記真直度測定による端面の真直度が0.007mm以下である。
[1] The method for producing a cut film according to an embodiment of the present invention includes a step of cutting the end face of the film with a face milling cutter, and the feed rate of the face milling cutter in the cutting step is 800 mm/min or less.
[2] In the method for producing a cut film according to [1] above, the film includes: a first film; an adhesive layer laminated on the first film; and the first film via the adhesive layer. The laminated film may include a second film attached to the film, and the feed rate of the face milling cutter in the cutting process may be 400 mm/min or more.
[3] In the method for manufacturing a cut film according to [2] above, the first film may be a polarizer, and the second film may be a retardation layer.
[4] In the method for producing a cut film according to any one of [1] to [3] above, in the cutting step, the straightness of the end face as measured by the following straightness measurement is 0.007 mm or less. , the end face may be cut.
Straightness measurement;
The coordinates of the end face are measured at 10 points using a computer numerically controlled image measurement system, an approximate line is calculated from the coordinates of the 10 points, and the maximum value of the distance between the approximate line and the end face in the direction orthogonal to the approximate line is calculated. The difference from the minimum value is taken as straightness.
[5] A cut film according to another aspect of the present invention has an end face cut by a face milling cutter, and the straightness of the end face as measured by the straightness measurement described above is 0.007 mm or less.

本発明の実施形態によれば、切削加工フィルムの端面における真直度(直線性)の向上を図ることができる。 According to the embodiment of the present invention, it is possible to improve the straightness (linearity) of the end face of the cut film.

図1は、本発明の1つの実施形態による切削加工フィルムの製造方法に用いられる積層フィルムの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a laminated film used in a method for manufacturing a cut film according to one embodiment of the present invention. 図2は、図1の積層フィルムの概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the laminated film of FIG. 1.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。 Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these embodiments.

(用語および記号の定義)
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した面内位相差である。例えば、「Re(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した面内位相差である。Re(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Re(λ)=(nx-ny)×dによって求められる。
(3)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Rth(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Rth(λ)=(nx-nz)×dによって求められる。
(4)Nz係数
Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。
(5)角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「45°」は±45°を意味する。
(Definition of terms and symbols)
Definitions of terms and symbols used herein are as follows.
(1) Refractive index (nx, ny, nz)
"nx" is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), and "ny" is the direction perpendicular to the slow axis in the plane (i.e., fast axis direction) "nz" is the refractive index in the thickness direction.
(2) In-plane phase difference (Re)
"Re(λ)" is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of λnm at 23°C. For example, "Re(550)" is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(λ) is determined by the formula: Re(λ)=(nx−ny)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(3) Phase difference in thickness direction (Rth)
"Rth (λ)" is a retardation in the thickness direction measured with light having a wavelength of λ nm at 23°C. For example, "Rth (550)" is the retardation in the thickness direction measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Rth(λ) is determined by the formula: Rth(λ)=(nx−nz)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(4) Nz coefficient The Nz coefficient is determined by Nz=Rth/Re.
(5) Angle When an angle is referred to in this specification, the angle includes both clockwise and counterclockwise directions with respect to the reference direction. Therefore, for example, "45°" means ±45°.

A.切削加工フィルムの製造方法の概略
図1は本発明の1つの実施形態による切削加工フィルムの製造方法に用いられる積層フィルムの平面図であり;図2は図1の積層フィルムの概略断面図である。
本発明の実施形態による切削加工フィルムの製造方法は、フィルム100の端面を正面フライスによって切削加工する工程(切削加工工程)を含んでいる。切削加工工程において、正面フライスは、フィルム100の端面に対して相対移動してフィルム100の端面を切削する。これにより、正面フライスによって切削加工された端面(切削加工面)を有する切削加工フィルムを製造する。切削加工工程における正面フライスの送り速度(フィルムの端面に対する相対移動速度)は、800mm/分以下、好ましくは750mm/分以下であり、代表的には200mm/分以上、好ましくは300mm/分以上、より好ましくは400mm/分以上である。正面フライスの送り速度が上記上限以下であれば、切削加工フィルムの切削加工面の真直度の向上を図ることができる。
A. Outline of the method for producing a cut film FIG. 1 is a plan view of a laminated film used in the method for producing a cut film according to one embodiment of the present invention; FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the laminated film of FIG. 1. .
The method for producing a cut film according to the embodiment of the present invention includes a step of cutting the end face of the film 100 with a face mill (cutting step). In the cutting process, the face milling cutter cuts the end surface of the film 100 by moving relative to the end surface of the film 100. Thereby, a cut film having an end face (cut surface) cut by the face milling cutter is manufactured. The feed speed of the face milling cutter (relative movement speed with respect to the end surface of the film) in the cutting process is 800 mm/min or less, preferably 750 mm/min or less, typically 200 mm/min or more, preferably 300 mm/min or more, More preferably it is 400 mm/min or more. If the feed rate of the face milling cutter is at most the above upper limit, it is possible to improve the straightness of the cut surface of the cut film.

真直度は、直線性の指標であって、代表的には下記真直度測定により測定される。
真直度測定;
フィルムの端面の座標をコンピュータ数値制御画像測定システムによって10点測定し、それら10点の座標から近似線を算出し、該近似線と直交する方向における近似線とフィルムの端面との間の間隔の最大値と最小値との差を真直度とする。より詳しくは、近似線と直交する方向における、先に測定した10点のそれぞれと算出した近似線との間の間隔を算出し、それら間隔のうち最大値と最小値との差を真直度(=最大値-最小値)とする。コンピュータ数値制御画像測定システムは、代表的には、Nikon社製のNEXIV(商品名)である。
切削加工フィルムの切削加工面における真直度は、代表的には0.0070mm以下、好ましくは0.0065mm以下、より好ましくは0.0060mm以下である。切削加工面における真直度が上記上限以下であれば、切削加工フィルムを各種産業製品(代表的には画像表示装置)に採用するときに、切削加工面を基準として切削加工フィルムを位置決めできる。そのため、切削加工フィルムと他部材との相対的な位置精度の向上を図ることができる。切削加工面における真直度の下限は、代表的には0mm以上であり、また例えば0.0010mm以上である。すなわち、切削加工工程では、フィルムの端面の真直度が上記上限以下となるように、端面を切削加工する。
Straightness is an index of linearity, and is typically measured by the following straightness measurement.
Straightness measurement;
The coordinates of the end face of the film are measured at 10 points using a computer numerically controlled image measurement system, an approximate line is calculated from the coordinates of those 10 points, and the distance between the approximate line and the end face of the film in the direction orthogonal to the approximate line is calculated. Let the difference between the maximum value and the minimum value be the straightness. More specifically, the distance between each of the 10 previously measured points and the calculated approximate line in the direction perpendicular to the approximate line is calculated, and the difference between the maximum and minimum values of these intervals is calculated as the straightness ( = maximum value - minimum value). The computer numerically controlled image measurement system is typically NEXIV (trade name) manufactured by Nikon.
The straightness of the cut surface of the cut film is typically 0.0070 mm or less, preferably 0.0065 mm or less, and more preferably 0.0060 mm or less. If the straightness on the cut surface is below the above upper limit, the cut film can be positioned with the cut surface as a reference when the cut film is employed in various industrial products (typically, image display devices). Therefore, it is possible to improve the relative positional accuracy between the cut film and other members. The lower limit of straightness on the cut surface is typically 0 mm or more, and for example 0.0010 mm or more. That is, in the cutting process, the end face of the film is cut so that the straightness of the end face is equal to or less than the above upper limit.

B.フィルムの詳細
1つの実施形態において、切削加工工程で切削されるフィルムは、第1フィルム11と;第1フィルム11に積層される粘着剤層41と;粘着剤層41を介して第1フィルム11に貼り付けられる第2フィルム2と;を含む、積層フィルム100である。粘着剤層を含む積層フィルムの端面が正面フライスによって切削加工される場合であっても、正面フライスの送り速度が上記下限以上であると、切削加工工程における粘着剤層の欠け(糊欠け)を安定して抑制できる。
B. Details of Film In one embodiment, the film cut in the cutting process includes the first film 11; the adhesive layer 41 laminated on the first film 11; and the first film 11 via the adhesive layer 41. This is a laminated film 100 including a second film 2 attached to a second film 2; Even when the end face of the laminated film including the adhesive layer is cut by a face milling cutter, if the feed speed of the face milling cutter is higher than the above lower limit, chipping of the adhesive layer (adhesive chipping) may occur during the cutting process. Can be stably suppressed.

図2に示すように、1つの実施形態による積層フィルム100は、第1フィルムの一例としての偏光子11を含む偏光板1と;偏光子11に積層される第1粘着剤層41と;第2フィルムの一例としての第1位相差層2であって、第1粘着剤層41を介して偏光子11に貼り付けられる第1位相差層2と;接着剤層7を介して第1位相差層2に貼り付けられる第2位相差層3と;第2位相差層3に積層される第2粘着剤層42とを備えている。第2粘着剤層42の表面には、はく離ライナー5が剥離可能に仮着されていてもよい。偏光板1における第1位相差層2と反対側の表面には、表面保護フィルム6が貼り付けられていてもよい。すなわち、図示例の積層フィルム100は、光学積層体であって、表面保護フィルム6と;偏光板1と;第1粘着剤層41と;第1位相差層2と;接着剤層7と;第2位相差層3と;第2粘着剤層42と;はく離ライナー5と;をこの順に備えている。
積層フィルム100の総厚みは、例えば10μm以上、好ましくは50μm以上であり、例えば200μm以下、好ましくは150μm以下である。
As shown in FIG. 2, the laminated film 100 according to one embodiment includes: a polarizing plate 1 including a polarizer 11 as an example of a first film; a first adhesive layer 41 laminated on the polarizer 11; A first retardation layer 2 as an example of two films, which is attached to the polarizer 11 via a first adhesive layer 41; It includes a second retardation layer 3 attached to the retardation layer 2; and a second adhesive layer 42 laminated on the second retardation layer 3. A release liner 5 may be temporarily attached to the surface of the second adhesive layer 42 in a releasable manner. A surface protection film 6 may be attached to the surface of the polarizing plate 1 opposite to the first retardation layer 2 . That is, the laminated film 100 of the illustrated example is an optical laminate, and includes the surface protection film 6; the polarizing plate 1; the first adhesive layer 41; the first retardation layer 2; the adhesive layer 7; The second retardation layer 3; the second adhesive layer 42; and the release liner 5 are provided in this order.
The total thickness of the laminated film 100 is, for example, 10 μm or more, preferably 50 μm or more, and, for example, 200 μm or less, preferably 150 μm or less.

積層フィルム100は、フィルムの厚み方向(積層方向)から見て直線的に延びる端面を有していれば、任意の適切な形状を採用できる。積層フィルムの形状として、代表的には多角形状が挙げられ、好ましくは四角形状が挙げられる。図1に示す積層フィルム100は、フィルムの厚み方向(積層方向)から見て、長方形状を有している。図示例の積層フィルムにおいて、長辺の寸法は、代表的には50mm以上500mm以下であり、短辺の寸法は、代表的には10mm以上200mm以下である。 The laminated film 100 can have any suitable shape as long as it has an end face that extends linearly when viewed from the thickness direction (laminated direction) of the film. The shape of the laminated film is typically polygonal, preferably quadrangular. The laminated film 100 shown in FIG. 1 has a rectangular shape when viewed from the film thickness direction (laminated direction). In the illustrated laminated film, the long side size is typically 50 mm or more and 500 mm or less, and the short side size is typically 10 mm or more and 200 mm or less.

以下、積層フィルム100の構成要素について、より詳細に説明する。 Hereinafter, the constituent elements of the laminated film 100 will be explained in more detail.

B-1.偏光板
B-1-1.偏光子
偏光子11としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
B-1. Polarizing plate B-1-1. Polarizer As the polarizer 11, any suitable polarizer may be adopted. For example, the resin film forming the polarizer may be a single layer resin film or a laminate of two or more layers.

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルム、部分ホルマール化PVA系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、PVAの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物などポリエン系配向フィルムが挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、PVA系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。 Specific examples of polarizers made of single-layer resin films include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films. Examples include those that have been dyed and stretched with a dichroic substance such as iodine or dichroic dye, and polyene-based oriented films such as dehydrated PVA and dehydrochloric acid treated polyvinyl chloride. Preferably, a polarizer obtained by dyeing a PVA film with iodine and uniaxially stretching is used because it has excellent optical properties.

上記ヨウ素による染色は、例えば、PVA系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは3~7倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、PVA系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理などが施される。例えば、染色の前にPVA系フィルムを水に浸漬して水洗することで、PVA系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、PVA系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。 The above-mentioned staining with iodine is performed, for example, by immersing the PVA-based film in an iodine aqueous solution. The stretching ratio of the above-mentioned uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after the dyeing process or may be performed while dyeing. Alternatively, it may be dyed after being stretched. If necessary, the PVA film is subjected to swelling treatment, crosslinking treatment, washing treatment, drying treatment, etc. For example, by immersing a PVA film in water and washing it with water before dyeing, you can not only wash dirt and anti-blocking agents from the surface of the PVA film, but also swell the PVA film and prevent uneven dyeing. It can be prevented.

積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたPVA系樹脂層(PVA系樹脂フィルム)との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、PVA系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成して、樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を得ること;当該積層体を延伸および染色してPVA系樹脂層を偏光子とすること;により作製され得る。本発明の1つの実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温(例えば、95℃以上)で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本発明の1つの実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に2%以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にPVAを塗布する場合でも、PVAの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にPVAの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、PVAの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、PVA系樹脂層を液体に浸漬した場合において、PVA系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性を向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材/偏光子の積層体はそのまま用いてもよく(すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく)、樹脂基材/偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開2012-73580号公報、特許第6470455号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。 Specific examples of polarizers obtained using a laminate include a laminate of a resin base material and a PVA resin layer (PVA resin film) laminated on the resin base material, or a laminate of a resin base material and the resin Examples include polarizers obtained using a laminate with a PVA-based resin layer coated on a base material. A polarizer obtained using a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer coated on the resin base material can be obtained by, for example, applying a PVA-based resin solution to the resin base material and drying it. Forming a PVA-based resin layer thereon to obtain a laminate of a resin base material and the PVA-based resin layer; stretching and dyeing the laminate to use the PVA-based resin layer as a polarizer; obtain. In one embodiment of the present invention, preferably, a polyvinyl alcohol resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol resin is formed on one side of the resin base material. Stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution and stretching. Furthermore, the stretching may further include stretching the laminate in air at a high temperature (for example, 95° C. or higher) before stretching in the boric acid aqueous solution, if necessary. In addition, in one embodiment of the present invention, the laminate is preferably subjected to a drying shrinkage treatment in which the laminate is heated while being conveyed in the longitudinal direction to shrink by 2% or more in the width direction. Typically, the manufacturing method of this embodiment includes subjecting the laminate to an in-air auxiliary stretching process, a dyeing process, an underwater stretching process, and a drying shrinkage process in this order. By introducing auxiliary stretching, even when PVA is applied onto a thermoplastic resin, it becomes possible to improve the crystallinity of PVA and achieve high optical properties. At the same time, by increasing the orientation of PVA in advance, it is possible to prevent problems such as deterioration of orientation and dissolution of PVA when it is immersed in water during the subsequent dyeing and stretching processes, resulting in high optical properties. becomes possible to achieve. Furthermore, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, disturbance in the orientation of polyvinyl alcohol molecules and deterioration of orientation can be suppressed compared to when the PVA-based resin layer does not contain a halide. This can improve the optical properties of a polarizer obtained through a treatment process performed by immersing the laminate in a liquid, such as dyeing treatment and underwater stretching treatment. Furthermore, optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction by drying shrinkage treatment. The obtained resin base material/polarizer laminate may be used as is (that is, the resin base material may be used as a protective layer for the polarizer), or the resin base material may be peeled from the resin base material/polarizer laminate. However, any appropriate protective layer may be laminated on the peeled surface depending on the purpose. Details of the method for manufacturing such a polarizer are described in, for example, Japanese Patent Application Publication No. 2012-73580 and Japanese Patent No. 6470455. The entire descriptions of these publications are incorporated herein by reference.

偏光子の厚みは、例えば1μm~80μmであり、好ましくは1μm~15μmであり、より好ましくは1μm~12μmであり、さらに好ましくは3μm~12μmであり、特に好ましくは3μm~8μmである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。 The thickness of the polarizer is, for example, 1 μm to 80 μm, preferably 1 μm to 15 μm, more preferably 1 μm to 12 μm, even more preferably 3 μm to 12 μm, particularly preferably 3 μm to 8 μm. When the thickness of the polarizer is within such a range, curling during heating can be suppressed well, and good appearance durability during heating can be obtained.

偏光子は、好ましくは、波長380nm~780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、例えば41.5%~46.0%であり、好ましくは43.0%~46.0%であり、より好ましくは44.5%~46.0%である。偏光子の偏光度は、好ましくは97.0%以上であり、より好ましくは99.0%以上であり、さらに好ましくは99.9%以上である。 The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at a wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizer is, for example, 41.5% to 46.0%, preferably 43.0% to 46.0%, and more preferably 44.5% to 46.0%. The degree of polarization of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, and still more preferably 99.9% or more.

B-1-2.保護層
図2に示すように、偏光板1は、偏光子11に加えて、保護層12を備えていてもよい。保護層12は、偏光子11の少なくとも一方の面に設けられている。図示例の保護層12は、偏光子11に対して第1位相差層2と反対側に配置されている。保護層12は、代表的には、任意の適切な接着剤層(図示せず)を介して偏光子11に貼り合わされている。
B-1-2. Protective Layer As shown in FIG. 2, the polarizing plate 1 may include a protective layer 12 in addition to the polarizer 11. The protective layer 12 is provided on at least one surface of the polarizer 11. The protective layer 12 in the illustrated example is disposed on the opposite side of the first retardation layer 2 with respect to the polarizer 11. Protective layer 12 is typically bonded to polarizer 11 via any suitable adhesive layer (not shown).

保護層は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリノルボルネン系などのシクロオレフィン(COP)系、ポリエチレンテレフタレート(PET)系などのポリエステル系、トリアセチルセルロース(TAC)などのセルロース系樹脂、ポリカーボネート(PC)系、(メタ)アクリル系、ポリビニルアルコール系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリオレフィン系、アセテート系などの透明樹脂が挙げられる。また、(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系などの熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂なども挙げられる。なお、「(メタ)アクリル系樹脂」とは、アクリル系樹脂および/またはメタクリル系樹脂をいう。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマーなどのガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開2001-343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとN-メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。 The protective layer is formed of any suitable film that can be used as a protective layer of a polarizer. Specific examples of materials that are the main components of the film include cycloolefin (COP) systems such as polynorbornene systems, polyester systems such as polyethylene terephthalate (PET) systems, cellulose resins such as triacetylcellulose (TAC), and polycarbonate. Examples include transparent resins such as (PC), (meth)acrylic, polyvinyl alcohol, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polystyrene, polyolefin, and acetate. Other examples include thermosetting resins such as (meth)acrylic, urethane, (meth)acrylic urethane, epoxy, and silicone resins, and ultraviolet curable resins. Note that "(meth)acrylic resin" refers to acrylic resin and/or methacrylic resin. Other examples include glassy polymers such as siloxane polymers. Furthermore, the polymer film described in JP-A-2001-343529 (WO01/37007) can also be used. Materials for this film include, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in its side chain, and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and nitrile group in its side chain. For example, a resin composition containing an alternating copolymer of isobutene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile/styrene copolymer can be used. The polymer film may be, for example, an extrusion molded product of the resin composition. The materials for the resin film can be used alone or in combination.

また、保護層12には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理などの表面処理が施されていてもよい。さらに/あるいは、保護層12には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理(代表的には、(楕)円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること)が施されていてもよい。 Further, the protective layer 12 may be subjected to surface treatments such as hard coat treatment, antireflection treatment, antisticking treatment, and antiglare treatment, as necessary. Additionally/or, the protective layer 12 may be treated as necessary to improve visibility when viewed through polarized sunglasses (typically, imparting (elliptic) circular polarization function, ultra-high retardation ) may be applied.

保護層の厚みは、代表的には5mm以下であり、好ましくは1mm以下、より好ましくは1μm~500μm、さらに好ましくは5μm~150μmである。 The thickness of the protective layer is typically 5 mm or less, preferably 1 mm or less, more preferably 1 μm to 500 μm, and still more preferably 5 μm to 150 μm.

B-2.第1位相差層および第2位相差層
第1位相差層2は、第1粘着剤層41を介して偏光板1(偏光子11)に貼り合わされている。第2位相差層3は、第1位相差層2に対して偏光板1と反対側に位置し、接着剤層7を介して第1位相差層2に貼り合わされている。
B-2. First Retardation Layer and Second Retardation Layer The first retardation layer 2 is bonded to the polarizing plate 1 (polarizer 11) via the first adhesive layer 41. The second retardation layer 3 is located on the opposite side of the polarizing plate 1 with respect to the first retardation layer 2, and is bonded to the first retardation layer 2 via the adhesive layer 7.

第1位相差層2および第2位相差層3はそれぞれ、代表的には、液晶化合物の配向固化層である。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のnxとnyとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、位相差層付偏光板の顕著な薄型化を実現することができる。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。第1位相差層2および第2位相差層3においては、代表的には、棒状の液晶化合物が第1位相差層または第2位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している(ホモジニアス配向)。 Each of the first retardation layer 2 and the second retardation layer 3 is typically an alignment solidified layer of a liquid crystal compound. By using a liquid crystal compound, the difference between nx and ny of the obtained retardation layer can be made much larger than that of non-liquid crystal materials, so the thickness of the retardation layer can be adjusted to obtain the desired in-plane retardation. can be made significantly smaller. As a result, the thickness of the polarizing plate with a retardation layer can be significantly reduced. As used herein, the term "orientation-fixed layer" refers to a layer in which a liquid crystal compound is oriented in a predetermined direction and the orientation state is fixed. In addition, the "alignment hardened layer" is a concept that includes an orientation hardened layer obtained by curing a liquid crystal monomer as described below. In the first retardation layer 2 and the second retardation layer 3, rod-shaped liquid crystal compounds are typically aligned in the slow axis direction of the first retardation layer or the second retardation layer. (homogeneous orientation).

液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物(ネマチック液晶)が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。 Examples of the liquid crystal compound include a liquid crystal compound whose liquid crystal phase is a nematic phase (nematic liquid crystal). As such a liquid crystal compound, for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. The mechanism for developing liquid crystallinity of a liquid crystal compound may be either lyotropic or thermotropic. The liquid crystal polymer and the liquid crystal monomer may be used alone or in combination.

液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋(すなわち、硬化)させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により3次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。 When the liquid crystal compound is a liquid crystal monomer, the liquid crystal monomer is preferably a polymerizable monomer and a crosslinkable monomer. This is because the alignment state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or crosslinking (that is, curing) the liquid crystal monomer. After aligning the liquid crystal monomers, for example, by polymerizing or crosslinking the liquid crystal monomers, the alignment state can be fixed. Here, a polymer is formed by polymerization, and a three-dimensional network structure is formed by crosslinking, but these are non-liquid crystalline. Therefore, the formed retardation layer does not undergo transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystalline phase due to a temperature change, which is characteristic of liquid crystal compounds, for example. As a result, the retardation layer becomes an extremely stable retardation layer that is not affected by temperature changes.

液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは40℃~120℃であり、さらに好ましくは50℃~100℃であり、最も好ましくは60℃~90℃である。 The temperature range in which a liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity differs depending on its type. Specifically, the temperature range is preferably 40°C to 120°C, more preferably 50°C to 100°C, and most preferably 60°C to 90°C.

上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、およびGB2280445などに記載の重合性メソゲン化合物が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、BASF社の商品名LC242、Merck社の商品名E7、Wacker-Chem社の商品名LC-Sillicon-CC3767が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。 Any suitable liquid crystal monomer may be employed as the liquid crystal monomer. For example, the Synthetic mesogenic compounds can be used. Specific examples of such polymerizable mesogenic compounds include, for example, BASF's product name LC242, Merck's product name E7, and Wacker-Chem's product name LC-Sillicon-CC3767. As the liquid crystal monomer, for example, a nematic liquid crystal monomer is preferable.

液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。1つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された液晶配向固化層(第1位相差層2)は、第1粘着剤層41を介して偏光板1の表面に転写され得る。同様に、基材上に形成された液晶配向固化層(第2位相差層3)は、接着剤層7を介して第1位相差層2の表面に転写され得る。 The liquid crystal alignment solidified layer is produced by subjecting the surface of a predetermined base material to an alignment treatment, applying a coating liquid containing a liquid crystal compound to the surface to align the liquid crystal compound in a direction corresponding to the alignment treatment, and forming the liquid crystal alignment layer. It can be formed by fixing the state. In one embodiment, the base material is any suitable resin film, and the liquid crystal alignment solidified layer (first retardation layer 2) formed on the base material is formed on the base material through the first adhesive layer 41. It can be transferred onto the surface of the polarizing plate 1. Similarly, the liquid crystal alignment solidified layer (second retardation layer 3) formed on the base material can be transferred to the surface of the first retardation layer 2 via the adhesive layer 7.

上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。 Any suitable orientation treatment may be employed as the orientation treatment. Specifically, mechanical alignment treatment, physical alignment treatment, and chemical alignment treatment can be mentioned. Specific examples of mechanical alignment treatment include rubbing treatment and stretching treatment. Specific examples of physical alignment treatment include magnetic field alignment treatment and electric field alignment treatment. Specific examples of chemical alignment treatment include oblique vapor deposition and photo alignment treatment. As the treatment conditions for various orientation treatments, any appropriate conditions may be adopted depending on the purpose.

液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。 The alignment of the liquid crystal compound is carried out by treatment at a temperature at which it exhibits a liquid crystal phase depending on the type of liquid crystal compound. By performing such temperature treatment, the liquid crystal compound assumes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is oriented in accordance with the orientation treatment direction of the substrate surface.

配向状態の固定は、1つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。 In one embodiment, the alignment state is fixed by cooling the liquid crystal compound oriented as described above. When the liquid crystal compound is a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer, the alignment state is fixed by subjecting the liquid crystal compound oriented as described above to a polymerization treatment or a crosslinking treatment.

液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開2006-163343号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。 Specific examples of the liquid crystal compound and details of the method for forming the alignment solidified layer are described in JP-A No. 2006-163343. The description of the publication is incorporated herein by reference.

第1位相差層および第2位相差層はそれぞれ、代表的には、屈折率特性がnx>ny=nzの関係を示す。なお、「ny=nz」はnyとnzが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ny>nzまたはny<nzとなる場合があり得る。 The first retardation layer and the second retardation layer each typically exhibit a refractive index characteristic of nx>ny=nz. Note that "ny=nz" includes not only the case where ny and nz are completely equal but also the case where they are substantially equal. Therefore, there may be cases where ny>nz or ny<nz as long as the effects of the present invention are not impaired.

代表的には、第1位相差層2または第2位相差層3のいずれか一方はλ/2板として機能し得、他方はλ/4板として機能し得る。ここでは、第1位相差層2がλ/2板として機能し得、第2位相差層3がλ/4板として機能し得る場合を説明するが、これらは逆であってもよい。第1位相差層2がλ/2板として機能し得、第2位相差層3がλ/4板として機能し得る場合には、第1位相差層2の面内位相差Re(550)は、好ましくは200nm~300nmであり、より好ましくは230nm~290nmであり、さらに好ましくは250nm~280nmである。第1位相差層2の遅相軸と偏光子11の吸収軸とのなす角度は、好ましくは10°~20°であり、より好ましくは12°~18°であり、さらに好ましくは約15°である。第2位相差層3の面内位相差Re(550)は、好ましくは100nm~190nmであり、より好ましくは110nm~170nmであり、さらに好ましくは130nm~160nmである。第2位相差層3の遅相軸と偏光子11の吸収軸とのなす角度は、好ましくは70°~80°であり、より好ましくは72°~78°であり、さらに好ましくは約75°である。このような構成であれば、理想的な逆波長分散特性に近い特性を得ることが可能であり、結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。 Typically, either the first retardation layer 2 or the second retardation layer 3 can function as a λ/2 plate, and the other can function as a λ/4 plate. Here, a case will be described in which the first retardation layer 2 can function as a λ/2 plate and the second retardation layer 3 can function as a λ/4 plate, but these may be reversed. When the first retardation layer 2 can function as a λ/2 plate and the second retardation layer 3 can function as a λ/4 plate, the in-plane retardation Re (550) of the first retardation layer 2 is preferably 200 nm to 300 nm, more preferably 230 nm to 290 nm, even more preferably 250 nm to 280 nm. The angle between the slow axis of the first retardation layer 2 and the absorption axis of the polarizer 11 is preferably 10° to 20°, more preferably 12° to 18°, and still more preferably about 15°. It is. The in-plane retardation Re (550) of the second retardation layer 3 is preferably 100 nm to 190 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, and still more preferably 130 nm to 160 nm. The angle between the slow axis of the second retardation layer 3 and the absorption axis of the polarizer 11 is preferably 70° to 80°, more preferably 72° to 78°, and still more preferably about 75°. It is. With such a configuration, it is possible to obtain characteristics close to ideal reverse wavelength dispersion characteristics, and as a result, extremely excellent antireflection characteristics can be realized.

第1位相差層2の厚みは、λ/2板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得、例えば1.5μm~2.5μmであり得る。第2位相差層3の厚みは、λ/4板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得、例えば0.5μm~1.5μmであり得る。
第1位相差層および第2位相差層はそれぞれ、Nz係数が好ましくは0.9~1.5であり、より好ましくは0.9~1.3である。このような関係を満たすことにより、得られる切削加工フィルムを画像表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。
The thickness of the first retardation layer 2 may be adjusted to obtain a desired in-plane retardation of the λ/2 plate, and may be, for example, 1.5 μm to 2.5 μm. The thickness of the second retardation layer 3 may be adjusted to obtain a desired in-plane retardation of the λ/4 plate, and may be, for example, 0.5 μm to 1.5 μm.
The first retardation layer and the second retardation layer each preferably have an Nz coefficient of 0.9 to 1.5, more preferably 0.9 to 1.3. By satisfying such a relationship, when the resulting cut film is used in an image display device, it is possible to achieve an extremely excellent reflective hue.

第1位相差層および第2位相差層はそれぞれ、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。 The first retardation layer and the second retardation layer may each exhibit inverse dispersion wavelength characteristics in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light, and the retardation value decreases according to the wavelength of the measurement light. It may exhibit positive wavelength dispersion characteristics, or it may exhibit flat wavelength dispersion characteristics in which the phase difference value hardly changes depending on the wavelength of the measurement light.

B-3.接着剤層
接着剤層7は、第1位相差層2と第2位相差層3とを貼り合わせている。接着剤層を構成する接着剤としては、任意の適切な接着剤が採用され得る。接着剤としては、代表的には活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、紫外線硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤が挙げられる。また、硬化メカニズムの観点からは、活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、ラジカル硬化型、カチオン硬化型、アニオン硬化型、ラジカル硬化型とカチオン硬化型とのハイブリッドが挙げられる。代表的には、ラジカル硬化型の紫外線硬化型接着剤が用いられ得る。汎用性に優れ、および、特性(構成)の調整が容易だからである。接着剤層(接着剤硬化後)の厚みは、代表的には0.1μm~3.0μmである。接着剤の詳細は、例えば、特開2018-017996号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
B-3. Adhesive Layer The adhesive layer 7 bonds the first retardation layer 2 and the second retardation layer 3 together. Any suitable adhesive may be employed as the adhesive constituting the adhesive layer. Typical examples of the adhesive include active energy ray-curable adhesives. Examples of active energy ray curable adhesives include ultraviolet ray curable adhesives and electron beam curable adhesives. From the viewpoint of the curing mechanism, active energy ray-curable adhesives include, for example, radical-curable adhesives, cation-curable adhesives, anion-curable adhesives, and hybrids of radical-curable and cationic-curable adhesives. Typically, a radical-curable ultraviolet curable adhesive may be used. This is because it has excellent versatility and its characteristics (configuration) can be easily adjusted. The thickness of the adhesive layer (after the adhesive is cured) is typically 0.1 μm to 3.0 μm. Details of the adhesive are described in, for example, Japanese Patent Application Publication No. 2018-017996. The description of the publication is incorporated herein by reference.

B-4.粘着剤層
第1粘着剤層41は、偏光子11と第1位相差層2との間に位置し、それらを貼り合わせている。第2粘着剤層42は、第2位相差層3における第1位相差層2と反対側の表面に設けられている。
B-4. Adhesive Layer The first adhesive layer 41 is located between the polarizer 11 and the first retardation layer 2, and bonds them together. The second adhesive layer 42 is provided on the surface of the second retardation layer 3 opposite to the first retardation layer 2 .

第1粘着剤層41および第2粘着剤層42のそれぞれは、25℃における貯蔵弾性率が、好ましくは1.0×10Pa~1.0×10Paであり、より好ましくは1.0×10Pa~2.0×10Paである。粘着剤層の貯蔵弾性率がこのような範囲であれば、切削加工工程において、粘着剤層に欠けが生じることを安定して抑制できる。 Each of the first adhesive layer 41 and the second adhesive layer 42 has a storage modulus at 25° C. of preferably 1.0×10 4 Pa to 1.0×10 6 Pa, more preferably 1.0×10 4 Pa to 1.0×10 6 Pa. It is 0×10 4 Pa to 2.0×10 5 Pa. If the storage elastic modulus of the adhesive layer is within such a range, chipping of the adhesive layer can be stably suppressed in the cutting process.

第1粘着剤層41および第2粘着剤層42のそれぞれは、粘着剤から構成される。粘着剤としては、任意の適切な構成が採用され得る。粘着剤層を構成する粘着剤の具体例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、およびポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤のベース樹脂を形成するモノマーの種類、数、組み合わせおよび配合比、ならびに、架橋剤の配合量、反応温度、反応時間などを調整することにより、目的に応じた所望の特性を有する粘着剤を調製することができる。粘着剤のベース樹脂は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。透明性、加工性および耐久性などの観点から、アクリル系粘着剤(アクリル系粘着剤組成物)が好ましい。アクリル系粘着剤組成物は、代表的には、(メタ)アクリル系ポリマーを主成分として含む。(メタ)アクリル系ポリマーは、粘着剤組成物の固形分中、例えば50質量%以上、好ましくは70質量%以上、より好ましくは90質量%以上の割合で粘着剤組成物に含有され得る。(メタ)アクリル系ポリマーは、モノマー単位としてアルキル(メタ)アクリレートを主成分として含有する。なお、(メタ)アクリレートはアクリレートおよび/またはメタクリレートをいう。アルキル(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分中、好ましくは80質量%以上、より好ましくは90質量%以上の割合で含有され得る。アルキル(メタ)アクリレートのアルキル基としては、例えば、1個~18個の炭素原子を有する直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。当該アルキル基の平均炭素数は、好ましくは3個~9個であり、より好ましくは3個~6個である。好ましいアルキル(メタ)アクリレートは、ブチルアクリレートである。(メタ)アクリル系ポリマーを構成するモノマー(共重合モノマー)としては、アルキル(メタ)アクリレート以外に、カルボキシル基含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマー、アミド基含有モノマー、芳香環含有(メタ)アクリレート、複素環含有ビニル系モノマーなどが挙げられる。共重合モノマーの代表例としては、アクリル酸、4-ヒドロキシブチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、N-ビニル-2-ピロリドンが挙げられる。アクリル系粘着剤組成物は、好ましくは、シランカップリング剤および/または架橋剤を含有し得る。シランカップリング剤としては、例えばエポキシ基含有シランカップリング剤が挙げられる。架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤が挙げられる。さらに、アクリル系粘着剤組成物は、酸化防止剤および/または導電剤を含有してもよい。粘着剤層またはアクリル系粘着剤組成物の詳細は、例えば、特開2006-183022号公報、特開2015-199942号公報、特開2018-053114号公報、特開2016-190996号公報、国際公開第2018/008712号に記載されており、これらの公報の記載は本明細書に参考として援用される。 Each of the first adhesive layer 41 and the second adhesive layer 42 is made of an adhesive. Any suitable configuration may be adopted as the adhesive. Specific examples of adhesives constituting the adhesive layer include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, urethane adhesives, epoxy adhesives, and polyether adhesives. can be mentioned. By adjusting the type, number, combination, and blending ratio of monomers that form the base resin of the adhesive, as well as the amount of crosslinking agent, reaction temperature, reaction time, etc., adhesives can have the desired characteristics depending on the purpose. can be prepared. The base resin of the adhesive may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoints of transparency, processability, durability, etc., acrylic adhesives (acrylic adhesive compositions) are preferred. The acrylic pressure-sensitive adhesive composition typically contains a (meth)acrylic polymer as a main component. The (meth)acrylic polymer may be contained in the adhesive composition in a proportion of, for example, 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, based on the solid content of the adhesive composition. The (meth)acrylic polymer contains alkyl (meth)acrylate as a main component as a monomer unit. Note that (meth)acrylate refers to acrylate and/or methacrylate. The alkyl (meth)acrylate may be contained in a monomer component forming the (meth)acrylic polymer in a proportion of preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more. Examples of the alkyl group of the alkyl (meth)acrylate include linear or branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. The average number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 3 to 9, more preferably 3 to 6. A preferred alkyl (meth)acrylate is butyl acrylate. In addition to alkyl (meth)acrylates, the monomers (comonomers) constituting (meth)acrylic polymers include carboxyl group-containing monomers, hydroxyl group-containing monomers, amide group-containing monomers, aromatic ring-containing (meth)acrylates, Examples include ring-containing vinyl monomers. Representative examples of copolymerizable monomers include acrylic acid, 4-hydroxybutyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, and N-vinyl-2-pyrrolidone. The acrylic pressure-sensitive adhesive composition may preferably contain a silane coupling agent and/or a crosslinking agent. Examples of the silane coupling agent include epoxy group-containing silane coupling agents. Examples of the crosslinking agent include isocyanate crosslinking agents and peroxide crosslinking agents. Furthermore, the acrylic adhesive composition may contain an antioxidant and/or a conductive agent. Details of the adhesive layer or the acrylic adhesive composition can be found in, for example, JP2006-183022A, JP2015-199942A, JP2018-053114A, JP2016-190996A, International Publication No. No. 2018/008712, and the descriptions of these publications are incorporated herein by reference.

第1粘着剤層41の厚みは、例えば3μm~30μmであり、好ましくは5μm~20μmである。第2粘着剤層42の厚みは、例えば5μm~40μmであり、好ましくは10μm~20μmである。 The thickness of the first adhesive layer 41 is, for example, 3 μm to 30 μm, preferably 5 μm to 20 μm. The thickness of the second adhesive layer 42 is, for example, 5 μm to 40 μm, preferably 10 μm to 20 μm.

B-5.表面保護フィルム
図示例において、表面保護フィルム6は、偏光板1の保護層12に貼り付けられている。表面保護フィルム6は、代表的には、基材61と、粘着剤層62とを備えている。基材61の材料としては、例えば、保護層12を構成する樹脂と同様のものが挙げられる。粘着剤層62は、表面保護フィルム6の基材61を保護層12に貼り付けている。粘着剤層62は、上記した粘着剤層41、42と同様に説明される。
B-5. Surface Protection Film In the illustrated example, the surface protection film 6 is attached to the protective layer 12 of the polarizing plate 1 . The surface protection film 6 typically includes a base material 61 and an adhesive layer 62. Examples of the material for the base material 61 include the same resin as the protective layer 12 . The adhesive layer 62 adheres the base material 61 of the surface protection film 6 to the protective layer 12. The adhesive layer 62 will be explained in the same manner as the adhesive layers 41 and 42 described above.

B-6.はく離ライナー
はく離ライナー5は、第2粘着剤層42の表面に仮着されている。はく離ライナー5は、はく離ライナーとして使用できる任意の適切な樹脂フィルムで形成される。当該樹脂フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレンが挙げられる。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。はく離ライナー5における第2粘着剤層42との接触面には、離型処理層が設けられていてもよい。離型処理層を形成する離型処理剤としては、例えば、シリコーン系離型処理剤、フッ素系離型処理剤、長鎖アルキルアクリレート系剥離剤が挙げられる。離型処理剤は、単独でまたは組み合わせて使用できる。
B-6. Release Liner The release liner 5 is temporarily attached to the surface of the second adhesive layer 42. Release liner 5 is formed of any suitable resin film that can be used as a release liner. Specific examples of the material that is the main component of the resin film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, and polypropylene. The materials for the resin film can be used alone or in combination. A release treatment layer may be provided on the surface of the release liner 5 that comes into contact with the second adhesive layer 42 . Examples of the mold release treatment agent forming the mold release treatment layer include silicone mold release treatment agents, fluorine mold release treatment agents, and long chain alkyl acrylate release agents. The mold release treatment agents can be used alone or in combination.

はく離ライナー5の厚みは、例えば5μm~60μmであり、好ましくは20μm~45μmである。なお、離型処理層が施されている場合、はく離ライナーの厚みは、離型処理層の厚みを含めた厚みである。 The thickness of the release liner 5 is, for example, 5 μm to 60 μm, preferably 20 μm to 45 μm. In addition, when a mold release treatment layer is applied, the thickness of the release liner is the thickness including the thickness of the mold release treatment layer.

C.切削加工工程の詳細
1つの実施形態では、切削加工工程において、上記した積層フィルム100の端面が正面フライスによって切削加工される。このような切削加工工程は、任意の適切な端面切削加工装置により実施され得る。端面切削加工装置として、例えば、特開2018-103276号公報に記載の端面切削加工装置が挙げられる。この公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
C. Details of Cutting Process In one embodiment, in the cutting process, the end face of the above-described laminated film 100 is cut using a face milling cutter. Such a cutting step may be performed by any suitable end face cutting device. Examples of the end face cutting apparatus include the end face cutting apparatus described in JP-A No. 2018-103276. This publication is incorporated herein by reference in its entirety.

切削加工工程では、正面フライスが積層フィルム100の端面に対して、上記した送り速度で相対移動する。積層フィルム100が端面切削加工装置に固定された状態で正面フライスが移動してもよく、正面フライスが固定された状態で積層フィルム100が移動してもよい。正面フライスは、代表的には、端面切削加工装置に固定された状態のフィルム100の周囲を一方向(好ましくは平面視時計回り方向または反時計回り方向)に、上記した送り速度で移動して、積層フィルム100の端面の全体を切削する。 In the cutting process, the face milling cutter moves relative to the end surface of the laminated film 100 at the above-described feed rate. The face milling cutter may be moved while the laminated film 100 is fixed to the end face cutting device, or the laminated film 100 may be moved while the face milling cutter is fixed. Typically, the face milling cutter moves in one direction (preferably clockwise or counterclockwise in plan view) around the film 100 fixed to the end face cutting device at the above feed rate. , the entire end surface of the laminated film 100 is cut.

切削加工工程において、正面フライスは、積層フィルム100の積層方向と直交する方向に延びる軸線を中心として回転する。正面フライスの回転速度は、代表的には3000rpm~6000rpmであり、好ましくは4000rpm~5000rpmである。
正面フライスの刃数は、特に制限されず、例えば1枚~5枚であり、好ましくは2枚~4枚である。
正面フライスにおけるすくい角(ラジアルレーキ角)は、代表的には5°~35°であり、好ましくは10°~30°である。
正面フライスにおける取り付け角(アキシャルレーキ角)は、代表的には0°~20°であり、好ましくは5°~15°である。
正面フライスにおける逃げ角は、代表的には1°~20°であり、好ましくは1°~10°である。
In the cutting process, the face milling cutter rotates around an axis extending in a direction perpendicular to the lamination direction of the laminated film 100. The rotational speed of the face milling cutter is typically between 3000 rpm and 6000 rpm, preferably between 4000 rpm and 5000 rpm.
The number of blades of the face milling cutter is not particularly limited, and is, for example, 1 to 5, preferably 2 to 4.
The rake angle (radial rake angle) in a face mill is typically 5° to 35°, preferably 10° to 30°.
The mounting angle (axial rake angle) in a face mill is typically 0° to 20°, preferably 5° to 15°.
The clearance angle in face milling is typically between 1° and 20°, preferably between 1° and 10°.

切削加工工程が上記条件で実施されると、切削加工された端面(切削加工面)の真直度を安定して向上できる。これによって、切削加工フィルム(切削加工積層フィルム)が製造される。切削加工フィルム(切削加工積層フィルム)が備える切削加工面の少なくとも1つは、上記した範囲の真直度を有している。図示例の長方形状の切削加工フィルム(切削加工積層フィルム)では、好ましくは、短辺側の切削加工面が上記した範囲の真直度を有している。長辺側の切削加工面の真直度は、上記した範囲内であってもよく、上記した範囲外であってもよい。また、切削加工面は、正面フライスによる切削痕を有していてもよい。切削痕は、フィルムの厚み方向と交差する方向(代表的には円弧状)に延びていてもよい。 When the cutting process is carried out under the above conditions, the straightness of the cut end face (cutting surface) can be stably improved. In this way, a cut film (cut laminated film) is manufactured. At least one of the cut surfaces of the cut film (cut laminated film) has straightness within the above range. In the illustrated example of a rectangular cut film (cut laminated film), the cut surface on the short side preferably has straightness within the above range. The straightness of the machined surface on the long side may be within the above range or may be outside the above range. Further, the cut surface may have cutting marks caused by a face milling cutter. The cutting marks may extend in a direction (typically in an arc shape) intersecting the thickness direction of the film.

D.画像表示装置
上記A項からC項に記載の切削加工フィルム(代表的には切削加工積層フィルム)は、画像表示装置に適用され得る。したがって、切削加工フィルムを含む画像表示装置もまた、本発明の実施形態に包含される。画像表示装置は、代表的には、画像表示セルと、画像表示セルに粘着剤層を介して貼り合わせられた切削加工フィルムと、を含む。切削加工フィルムの端面(特に短辺側の切削加工面)の真直度が優れているので、切削加工フィルムの端面(特に短辺側の切削加工面)を基準として、画像表示セルに対して貼り付け可能である。そのため、画像表示セルと切削加工フィルムとの相対的な位置精度の向上を図ることができる。切削加工フィルムが切削加工積層フィルムである場合、切削加工積層フィルムは、代表的には、第2粘着剤層からはく離ライナーが剥離された後、第2粘着剤層によって画像表示セルに貼り付けられる。また、表面保護フィルムは、切削加工積層フィルムの使用前に剥離されてもよく、偏光板の表面に貼着したままの状態で使用されてもよい。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス(EL)表示装置(例えば、有機EL表示装置、無機EL表示装置)が挙げられる。
D. Image display device The cut film (typically a cut laminated film) described in the above sections A to C can be applied to an image display device. Therefore, an image display device including a cut film is also included in the embodiments of the present invention. An image display device typically includes an image display cell and a cut film bonded to the image display cell via an adhesive layer. The edge face of the cut film (especially the cut face on the short side) has excellent straightness, so it can be pasted to the image display cell using the end face of the cut film (especially the cut face on the short side) as a reference. It can be attached. Therefore, it is possible to improve the relative positional accuracy between the image display cell and the cut film. When the machined film is a machined laminate film, the machined laminate film is typically applied to the image display cell by the second adhesive layer after the release liner is peeled from the second adhesive layer. . Further, the surface protection film may be peeled off before using the cut laminated film, or may be used while being attached to the surface of the polarizing plate. Typical examples of image display devices include liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices (eg, organic EL display devices and inorganic EL display devices).

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「%」は質量基準である。
(1)厚み
10μm以下の厚みは、干渉膜厚計(大塚電子社製、製品名「MCPD-3000」)を用いて測定した。10μmを超える厚みは、デジタルマイクロメーター(アンリツ社製、製品名「KC-351C」)を用いて測定した。
(2)真直度
実施例および比較例の切削加工フィルム(光学積層体)の20サンプルのそれぞれについて、下記のように真直度を算出した。切削加工フィルムの短辺側の端面の座標をコンピュータ数値制御画像測定システム(Nikon社製、製品名「NEXIV」)によって10点測定し、10点の座標から近似線を算出した。次いで、当該近似線と直交する方向(長辺方向)における近似線と端面(具体的には先に測定した10点のそれぞれ)との間の間隔の最大値と最小値との差を真直度とした。
また、各実施例(または比較例1)における20サンプルの真直度を、スミルノフグラブズ検定による棄却検定に供し、真直度が棄却値(p<0.05)となったデータを除外して、真直度の平均値を算出した。実施例1および実施例2は、棄却値となった2サンプルを除いた18サンプルの平均値を算出した。実施例3および実施例4は、棄却値となった1サンプルを除いた19サンプルの平均値を算出した。比較例1は、棄却値がなかったため、20サンプルの平均値を算出した。その結果を表1に示す。
(3)表面保護フィルムの浮き(SPV浮き)
実施例および比較例の切削加工フィルム(光学積層体)を、光学顕微鏡にて表面保護フィルム側から観測して、表面保護フィルムの浮きを測長した。
〇(優):SPVの浮きが50μm以下。
△(可):SPVの浮きが50μmを超過。
(4)粘着剤層の欠け(糊欠け)
実施例および比較例の切削加工フィルム(光学積層体)を、表面保護フィルムを剥離した状態で、光学顕微鏡にて観察して、粘着剤層の欠けを測長した。
〇(優):糊欠けが70μm以下。
△(可):糊欠けが70μmを超過。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The method for measuring each characteristic is as follows. Note that unless otherwise specified, "parts" and "%" in Examples and Comparative Examples are based on mass.
(1) Thickness The thickness of 10 μm or less was measured using an interference film thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., product name “MCPD-3000”). Thickness exceeding 10 μm was measured using a digital micrometer (manufactured by Anritsu Corporation, product name “KC-351C”).
(2) Straightness The straightness was calculated as follows for each of the 20 samples of cut films (optical laminates) of Examples and Comparative Examples. The coordinates of the end face on the short side of the cut film were measured at 10 points using a computer numerically controlled image measurement system (manufactured by Nikon, product name "NEXIV"), and an approximate line was calculated from the coordinates of the 10 points. Next, the difference between the maximum value and the minimum value of the interval between the approximate line and the end face (specifically, each of the 10 points measured earlier) in the direction perpendicular to the approximate line (long side direction) is determined as the straightness. And so.
In addition, the straightness of the 20 samples in each Example (or Comparative Example 1) was subjected to a rejection test using the Smirnov-Grabbs test, and the data for which the straightness was a rejection value (p<0.05) was excluded, and the straightness was The average value of the degree was calculated. In Examples 1 and 2, the average value of 18 samples excluding 2 samples that were critical values was calculated. In Example 3 and Example 4, the average value of 19 samples was calculated, excluding one sample that was a rejection value. In Comparative Example 1, there was no critical value, so the average value of 20 samples was calculated. The results are shown in Table 1.
(3) Lifting of surface protection film (SPV lifting)
The cut films (optical laminates) of Examples and Comparative Examples were observed from the surface protection film side using an optical microscope, and the length of the surface protection film was measured.
〇 (Excellent): SPV lifting is 50 μm or less.
△ (Acceptable): SPV lifting exceeds 50 μm.
(4) Chips in the adhesive layer (chips in the adhesive)
The cut films (optical laminates) of Examples and Comparative Examples were observed with an optical microscope with the surface protection film removed, and the length of the adhesive layer was measured.
〇 (Excellent): Adhesive chipping is 70 μm or less.
△ (Acceptable): Adhesive chipping exceeds 70 μm.

[調製例1]
1.偏光板の作製
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Tg約75℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:100μm)を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」)を9:1で混合したPVA系樹脂100質量部に、ヨウ化カリウム13質量部を添加したものを水に溶かし、PVA水溶液(塗布液)を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記PVA水溶液を塗布して60℃で乾燥することにより、厚み13μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、130℃のオーブン内で縦方向(長手方向)に2.4倍に一軸延伸した(空中補助延伸処理)。
次いで、積層体を、液温40℃の不溶化浴(水100質量部に対して、ホウ酸を4質量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴(水100質量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを1:7の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液)に、最終的に得られる偏光子の単体透過率(Ts)が所望の値となるように濃度を調整しながら60秒間浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温40℃の架橋浴(水100質量部に対して、ヨウ化カリウムを3質量部配合し、ホウ酸を5質量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(ホウ酸濃度4重量%、ヨウ化カリウム濃度5重量%)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に総延伸倍率が5.5倍となるように一軸延伸を行った(水中延伸処理)。
その後、積層体を液温20℃の洗浄浴(水100質量部に対して、ヨウ化カリウムを4質量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた(洗浄処理)。
その後、約90℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約75℃に保たれたSUS製の加熱ロールに接触させた(乾燥収縮処理)。
このようにして、樹脂基材上に厚み約5μmの偏光子を形成し、樹脂基材/偏光子の構成を有する積層体を得た。
得られた積層体の偏光子表面(樹脂基材とは反対側の面)に、保護層としてHC-TACフィルム(厚み20μm)を貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離し、保護層/偏光子/の構成を有する偏光板を得た。
[Preparation example 1]
1. Preparation of polarizing plate A long, amorphous isophthalic polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) with a Tg of approximately 75°C was used as the thermoplastic resin base material, and one side of the resin base material was subjected to corona treatment. was applied.
100 parts by mass of a PVA resin prepared by mixing polyvinyl alcohol (degree of polymerization 4200, degree of saponification 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name "Gosefaimer") at a ratio of 9:1. to which 13 parts by mass of potassium iodide was added was dissolved in water to prepare a PVA aqueous solution (coating solution).
The PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of the resin base material and dried at 60° C. to form a PVA-based resin layer with a thickness of 13 μm, thereby producing a laminate.
The obtained laminate was uniaxially stretched 2.4 times in the vertical direction (longitudinal direction) in an oven at 130° C. (in-air auxiliary stretching treatment).
Next, the laminate was immersed for 30 seconds in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by blending 4 parts by mass of boric acid with 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 40° C. (insolubilization treatment).
Next, the final polarizer was added to a dyeing bath (an iodine aqueous solution obtained by blending iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 30°C. The sample was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration so that the single transmittance (Ts) became a desired value (staining treatment).
Next, it was immersed in a crosslinking bath (boric acid aqueous solution obtained by blending 3 parts by mass of potassium iodide and 5 parts by mass of boric acid with 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 40 °C for 30 seconds. (Crosslinking treatment).
Thereafter, while immersing the laminate in a boric acid aqueous solution (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 70°C, the laminate was completely rolled in the longitudinal direction (longitudinal direction) between rolls having different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed so that the stretching ratio was 5.5 times (underwater stretching treatment).
Thereafter, the laminate was immersed in a cleaning bath (an aqueous solution obtained by blending 4 parts by mass of potassium iodide with 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 20° C. (cleaning treatment).
Thereafter, while drying in an oven kept at about 90°C, it was brought into contact with a SUS heating roll whose surface temperature was kept at about 75°C (drying shrinkage treatment).
In this way, a polarizer with a thickness of about 5 μm was formed on the resin base material, and a laminate having a resin base material/polarizer configuration was obtained.
An HC-TAC film (thickness: 20 μm) was attached as a protective layer to the polarizer surface (the surface opposite to the resin base material) of the obtained laminate. Next, the resin base material was peeled off to obtain a polarizing plate having a protective layer/polarizer/structure.

2.第1位相差層および第2位相差層の作製
ネマチック液晶相を示す重合性液晶(BASF社製:商品名「Paliocolor LC242」、下記式で表される)10gと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤(BASF社製:商品名「イルガキュア907」)3gとを、トルエン40gに溶解して、液晶組成物(塗工液)を調製した。

Figure 2024022329000002
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み38μm)表面を、ラビング布を用いてラビングし、配向処理を施した。配向処理の方向は、偏光板に貼り合わせる際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て15°方向となるようにした。この配向処理表面に、上記液晶塗工液をバーコーターにより塗工し、90℃で2分間加熱乾燥することによって液晶化合物を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて1mJ/cmの光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、PETフィルム上に液晶配向固化層Aを形成した。液晶配向固化層Aの厚みは2μm、面内位相差Re(550)は270nmであった。さらに、液晶配向固化層Aは、nx>ny=nzの屈折率分布を有していた。液晶配向固化層Aを第1位相差層として用いた。
塗工厚みを変更したこと、および、配向処理方向を偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て75°方向となるようにしたこと以外は上記と同様にして、PETフィルム上に液晶配向固化層Bを形成した。液晶配向固化層Bの厚みは1μm、面内位相差Re(550)は140nmであった。さらに、液晶配向固化層Bは、nx>ny=nzの屈折率分布を有していた。液晶配向固化層Bを第2位相差層として用いた。 2. Preparation of the first retardation layer and the second retardation layer: 10 g of polymerizable liquid crystal exhibiting a nematic liquid crystal phase (manufactured by BASF, trade name "Paliocolor LC242", represented by the following formula) and light directed against the polymerizable liquid crystal compound. A liquid crystal composition (coating liquid) was prepared by dissolving 3 g of a polymerization initiator (trade name: "Irgacure 907" manufactured by BASF) in 40 g of toluene.
Figure 2024022329000002
The surface of a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 38 μm) was rubbed using a rubbing cloth to perform orientation treatment. The orientation treatment direction was set to be 15 degrees from the viewing side with respect to the direction of the absorption axis of the polarizer when bonding to the polarizing plate. The above-mentioned liquid crystal coating solution was applied to this alignment-treated surface using a bar coater, and the liquid crystal compound was aligned by heating and drying at 90° C. for 2 minutes. The thus formed liquid crystal layer was irradiated with light of 1 mJ/cm 2 using a metal halide lamp to cure the liquid crystal layer, thereby forming a liquid crystal alignment solidified layer A on the PET film. The thickness of the liquid crystal alignment solidified layer A was 2 μm, and the in-plane retardation Re (550) was 270 nm. Furthermore, the liquid crystal alignment solidified layer A had a refractive index distribution of nx>ny=nz. The liquid crystal alignment solidified layer A was used as the first retardation layer.
The coating was applied on the PET film in the same manner as above, except that the coating thickness was changed and the orientation treatment direction was set at 75° when viewed from the viewing side with respect to the direction of the absorption axis of the polarizer. A liquid crystal alignment solidified layer B was formed. The thickness of the liquid crystal alignment solidified layer B was 1 μm, and the in-plane retardation Re (550) was 140 nm. Furthermore, the liquid crystal alignment solidified layer B had a refractive index distribution of nx>ny=nz. The liquid crystal alignment solidified layer B was used as the second retardation layer.

3.積層体フィルムの作製
上記1.で得られた偏光板の偏光子表面に、上記2.で得られた液晶配向固化層A(第1位相差層)および液晶配向固化層B(第2位相差層)をこの順に転写した。このとき、偏光子の吸収軸と配向固化層Aの遅相軸とのなす角度が15°、偏光子の吸収軸と配向固化層Bの遅相軸とのなす角度が75°になるようにして転写(貼り合わせ)した。なお、液晶配向固化層A(第1位相差層)は、アクリル系粘着剤層(厚み5μm、25℃における貯蔵弾性率1.4×10Pa、第1粘着剤層)を介して偏光子に転写(貼り合わせ)した。液晶配向固化層B(第2位相差層)は、紫外線硬化型接着剤層(厚み1.0μm、接着剤層)を介して液晶配向固化層Aに転写(貼り合わせ)した。また、液晶配向固化層B(第2位相差層)の表面にアクリル系粘着剤層(厚み20μm、25℃における貯蔵弾性率1.4×10Pa、第2粘着剤層)を配置した。その後、当該アクリル系粘着剤層(第2粘着剤層)の表面に、はく離ライナー(はく離処理層が設けられたポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム)を貼り付けた。最後に、基材(ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム)と;基材に積層されるアクリル系粘着剤層と;を備える表面保護フィルムを、偏光板の保護層に貼り付けた。
以上によって、表面保護フィルム/偏光板/第1粘着剤層/第1位相差層/接着剤層/第2位相差層/第2粘着剤層/はく離ライナーの構成を有する積層フィルムを得た。積層フィルムは、積層方向から見て長方形状を有していた。積層フィルムの長辺の寸法は200mmであり、積層フィルムの短辺の寸法は100mmであった。
3. Preparation of laminate film 1. The above 2. is applied to the polarizer surface of the polarizing plate obtained in 2. The liquid crystal alignment fixed layer A (first retardation layer) and the liquid crystal alignment fixed layer B (second retardation layer) obtained in step 1 were transferred in this order. At this time, the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the fixed alignment layer A is 15°, and the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the fixed alignment layer B is 75°. It was transferred (pasted). The liquid crystal alignment solidified layer A (first retardation layer) is attached to a polarizer via an acrylic adhesive layer (thickness: 5 μm, storage modulus at 25° C.: 1.4×10 5 Pa, first adhesive layer). Transferred (pasted) to. The liquid crystal alignment solidified layer B (second retardation layer) was transferred (bonded) to the liquid crystal alignment solidified layer A via an ultraviolet curable adhesive layer (thickness: 1.0 μm, adhesive layer). Further, an acrylic adhesive layer (thickness 20 μm, storage modulus at 25° C. 1.4×10 5 Pa, second adhesive layer) was disposed on the surface of the liquid crystal alignment solidified layer B (second retardation layer). Thereafter, a release liner (a polyethylene terephthalate resin film provided with a release layer) was attached to the surface of the acrylic adhesive layer (second adhesive layer). Finally, a surface protection film comprising a base material (polyethylene terephthalate resin film) and an acrylic adhesive layer laminated on the base material was attached to the protective layer of the polarizing plate.
As described above, a laminated film having the structure of surface protection film/polarizing plate/first adhesive layer/first retardation layer/adhesive layer/second retardation layer/second adhesive layer/release liner was obtained. The laminated film had a rectangular shape when viewed from the lamination direction. The long side dimension of the laminated film was 200 mm, and the short side dimension of the laminated film was 100 mm.

[実施例1~4および比較例1]
調製例1で得た積層フィルムを端面切削加工装置にセットした。詳しくは、2つの保持部が、0.17MPaのクランプ圧力で、積層フィルムを厚み方向に挟んで保持した。次いで、積層フィルムの端面を、下記切削条件で正面フライスによって切削加工した。切削加工において、正面フライスは、表1に示す送り速度で、積層フィルムの端面に対して相対移動した。これによって、切削加工フィルム(光学積層体)を得た。なお、各送り速度において、20サンプル(切削加工フィルム)を準備した。
<切削条件>
刃数:3枚
すくい角/取り付け角/逃げ角:20°/10°/6°
回転速度:4500rpm
最大切削量:0.8+0.2mm(2回加工)
[Examples 1 to 4 and Comparative Example 1]
The laminated film obtained in Preparation Example 1 was set in an end face cutting device. Specifically, the two holding parts held the laminated film between them in the thickness direction with a clamping pressure of 0.17 MPa. Next, the end face of the laminated film was cut using a face mill under the following cutting conditions. In the cutting process, the face milling cutter was moved relative to the end face of the laminated film at the feed rate shown in Table 1. As a result, a cut film (optical laminate) was obtained. Note that 20 samples (cut films) were prepared at each feed rate.
<Cutting conditions>
Number of teeth: 3 Rake angle/mounting angle/relief angle: 20°/10°/6°
Rotation speed: 4500rpm
Maximum cutting amount: 0.8+0.2mm (processed twice)

Figure 2024022329000003
Figure 2024022329000003

[評価]
表1から明らかなように、本発明の実施例によれば、正面フライスの送り速度を800mm/分以下とすることにより、端面の真直度を向上できることがわかる。また、正面フライスの送り速度を400mm/分以上とすれば、表面保護フィルムの浮きおよび粘着剤層の欠けを抑制できることがわかる。
[evaluation]
As is clear from Table 1, according to the examples of the present invention, the straightness of the end face can be improved by setting the feed rate of the face milling cutter to 800 mm/min or less. It is also seen that lifting of the surface protection film and chipping of the adhesive layer can be suppressed by setting the feed speed of the face milling cutter to 400 mm/min or more.

本発明の切削加工フィルムの製造方法は、各種産業製品に用いられる切削加工フィルム、特に切削加工積層フィルムを製造できる。切削加工積層フィルムは、液晶表示装置、有機EL表示装置および無機EL表示装置などの表示装置に好適に用いられる。 The method for producing a cut film of the present invention can produce cut films used in various industrial products, particularly cut laminated films. The cut laminated film is suitably used for display devices such as liquid crystal display devices, organic EL display devices, and inorganic EL display devices.

1 偏光板
11 偏光子
2 第1位相差層
41 第1粘着剤層
100 積層フィルム
1 Polarizing plate 11 Polarizer 2 First retardation layer 41 First adhesive layer 100 Laminated film

Claims (5)

フィルムの端面を正面フライスによって切削加工する工程を含み、
前記切削加工する工程における前記正面フライスの送り速度が、800mm/分以下である、切削加工フィルムの製造方法。
Including the process of cutting the end face of the film with a face mill,
A method for manufacturing a cut film, wherein the feed rate of the face milling cutter in the cutting step is 800 mm/min or less.
前記フィルムは、第1フィルムと;前記第1フィルムに積層される粘着剤層と;前記粘着剤層を介して前記第1フィルムに貼り付けられる第2フィルムと;を含む、積層フィルムであり、
前記切削加工する工程における前記正面フライスの送り速度が、400mm/分以上である、請求項1に記載の切削加工フィルムの製造方法。
The film is a laminated film including: a first film; an adhesive layer laminated on the first film; a second film attached to the first film via the adhesive layer;
The method for producing a cut film according to claim 1, wherein the feed rate of the face milling cutter in the cutting step is 400 mm/min or more.
前記第1フィルムは、偏光子であり、
前記第2フィルムは、位相差層である、請求項2に記載の切削加工フィルムの製造方法。
The first film is a polarizer,
The method for producing a cut film according to claim 2, wherein the second film is a retardation layer.
前記切削加工する工程において、下記真直度測定による前記端面の真直度が0.007mm以下となるように、前記端面を切削加工する、請求項1に記載の切削加工フィルムの製造方法:
真直度測定;
前記端面の座標をコンピュータ数値制御画像測定システムによって10点測定し、前記10点の座標から近似線を算出し、前記近似線と直交する方向における前記近似線と前記端面との間の間隔の最大値と最小値との差を真直度とする。
The method for producing a cut film according to claim 1, wherein in the cutting step, the end face is cut so that the straightness of the end face is 0.007 mm or less as measured by the following straightness measurement:
Straightness measurement;
Measure the coordinates of the end face at 10 points using a computer numerically controlled image measurement system, calculate an approximate line from the coordinates of the 10 points, and calculate the maximum distance between the approximate line and the end face in a direction orthogonal to the approximate line. The difference between the value and the minimum value is the straightness.
正面フライスによって切削加工された端面を有し、下記真直度測定による前記端面の真直度が0.007mm以下である、切削加工フィルム:
真直度測定;
前記端面の座標をコンピュータ数値制御画像測定システムによって10点測定し、前記10点の座標から近似線を算出し、前記近似線と直交する方向における前記近似線と前記端面との間の間隔の最大値と最小値との差を真直度とする。
A cut film having an end face cut by a face mill, and the straightness of the end face measured by the following straightness measurement is 0.007 mm or less:
Straightness measurement;
Measure the coordinates of the end face at 10 points using a computer numerically controlled image measurement system, calculate an approximate line from the coordinates of the 10 points, and calculate the maximum distance between the approximate line and the end face in a direction orthogonal to the approximate line. The difference between the value and the minimum value is the straightness.
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