KR20240020193A - Method for manufacturing machined film and machined film - Google Patents

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유타카 츠치야
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 우수한 진직도(직선성)를 갖는 단면을 구비하는 절삭 가공 필름을 제조할 수 있는 절삭 가공 필름의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 실시형태에 따른 절삭 가공 필름의 제조 방법은, 필름의 단면을 정면 프레이즈에 의해 절삭 가공하는 공정을 포함하고, 절삭 가공하는 공정에서의 정면 프레이즈의 이송 속도가, 800mm/분 이하이다.
The present invention provides a method for producing a cut film that can produce a cut film having a cross section with excellent straightness (linearity).
The method for producing a cutting film according to an embodiment of the present invention includes a step of cutting the cross-section of the film using a front framing, and the feed speed of the front framing in the cutting process is 800 mm/min or less.

Description

절삭 가공 필름의 제조 방법 및 절삭 가공 필름{METHOD FOR MANUFACTURING MACHINED FILM AND MACHINED FILM}Manufacturing method of cutting film and cutting film {METHOD FOR MANUFACTURING MACHINED FILM AND MACHINED FILM}

본 발명은, 절삭 가공 필름의 제조 방법 및 절삭 가공 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a cutting film and a cutting film.

필름의 단면(端面)에는, 필름의 제조 시에 거스러미 등의 요철이 생길 우려가 있다. 이로 인하여, 단면 절삭 가공 장치의 절삭 가공에 의해, 필름의 단면의 평활성의 향상을 도모하는 것이 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조). 근래, 각종 산업 제품에서 부재의 위치 정밀도의 향상이 요망되고 있으며, 그에 수반하여, 제품에 채용되는 필름의 외측 가장자리 형상의 정밀도의 향상이 요구되고 있다. 특히, 필름의 단면에 우수한 직선성(올곧음)이 요구되는 경우가 있는데, 필름의 단면의 직선성의 향상에는 개선의 여지가 남아 있다.There is a risk that irregularities such as hangnails may appear on the cross section of the film during the production of the film. For this reason, it is known to improve the smoothness of the cross-section of the film by cutting with a cross-section cutting device (for example, see Patent Document 1). In recent years, there has been a demand for improvement in the positional accuracy of members in various industrial products, and along with this, there has been a demand for improvement in the precision of the shape of the outer edge of the film used in the product. In particular, there are cases where excellent linearity (straightness) of the cross section of the film is required, and there remains room for improvement in improving the straightness of the cross section of the film.

일본 공개특허공보 2018-103276호Japanese Patent Publication No. 2018-103276

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이며, 그의 주된 목적은, 우수한 진직도(眞直度)(직선성)를 갖는 단면을 구비하는 절삭 가공 필름을 제조할 수 있는 절삭 가공 필름의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.The present invention was made to solve the above-described conventional problems, and its main purpose is to manufacture a cutting film capable of producing a cutting film having a cross-section with excellent straightness (straightness). The point is to provide a method.

[1] 본 발명의 실시형태에 따른 절삭 가공 필름의 제조 방법은, 필름의 단면을 정면 프레이즈(正面 fraise)에 의해 절삭 가공하는 공정을 포함하고, 해당 절삭 가공하는 공정에서의 정면 프레이즈의 이송 속도가 800mm/분 이하이다.[1] The method of manufacturing a cutting film according to an embodiment of the present invention includes a process of cutting the cross-section of the film by front fraise, and the feed speed of the front fraise in the cutting process is is less than 800mm/min.

[2] 상기 [1]에 기재된 절삭 가공 필름의 제조 방법에서, 상기 필름이, 제1 필름과; 해당 제1 필름에 적층되는 점착제층과; 해당 점착제층을 개재하여 해당 제1 필름에 첩부되는 제2 필름을 포함하는, 적층 필름이며, 상기 절삭 가공하는 공정에서의 정면 프레이즈의 이송 속도가, 400mm/분 이상이어도 된다.[2] In the method for producing a cutting film according to [1] above, the film includes a first film; an adhesive layer laminated on the first film; It is a laminated film including a second film attached to the first film via the adhesive layer, and the feed speed of the front frame in the cutting process may be 400 mm/min or more.

[3] 상기 [2]에 기재된 절삭 가공 필름의 제조 방법에서, 상기 제1 필름이 편광자이며, 상기 제2 필름이 위상차층이어도 된다.[3] In the method for producing a cutting film described in [2] above, the first film may be a polarizer, and the second film may be a retardation layer.

[4] 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 절삭 가공 필름의 제조 방법에서, 상기 절삭 가공하는 공정에서, 하기 진직도 측정에 의한 단면의 진직도가 0.007mm 이하가 되도록, 상기 단면을 절삭 가공하여도 된다.[4] In the method for producing a cutting film according to any one of [1] to [3] above, in the cutting process, the cross section is formed so that the straightness of the cross section according to the following straightness measurement is 0.007 mm or less. You may perform cutting processing.

진직도 측정;Straightness measurement;

상기 단면의 좌표를 컴퓨터 수치 제어 화상 측정 시스템에 의해 10점 측정하고, 해당 10점의 좌표로부터 근사선을 산출하고, 해당 근사선과 직교하는 방향에서의 근사선과 단면 사이의 간격의 최댓값과 최솟값의 차를 진직도로 한다.Measure the coordinates of the cross section at 10 points using a computer numerically controlled image measurement system, calculate an approximation line from the coordinates of the 10 points, and calculate the difference between the maximum and minimum values of the interval between the approximation line and the cross section in the direction perpendicular to the approximation line. is taken as straightness.

[5] 본 발명의 다른 국면에 따른 절삭 가공 필름은, 정면 프레이즈에 의해 절삭 가공된 단면을 갖고, 상기 진직도 측정에 의한 단면의 진직도가 0.007mm 이하이다.[5] The cut film according to another aspect of the present invention has a cross-section cut by a front fray, and the straightness of the cross-section according to the straightness measurement is 0.007 mm or less.

본 발명의 실시형태에 따르면, 절삭 가공 필름의 단면에서의 진직도(직선성)의 향상을 도모할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the straightness (linearity) in the cross section of the cut film can be improved.

도 1은, 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 절삭 가공 필름의 제조 방법에 이용되는 적층 필름의 평면도이다.
도 2는, 도 1의 적층 필름의 개략 단면도이다.
1 is a plan view of a laminated film used in a method for producing a cutting film according to one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the laminated film of FIG. 1.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

(용어 및 기호의 정의)(Definition of terms and symbols)

본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 하기와 같다.The definitions of terms and symbols in this specification are as follows.

(1) 굴절률(nx, ny, nz)(1) Refractive index (nx, ny, nz)

'nx'는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축(遲相軸) 방향)의 굴절률이고, 'ny'는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축(進相軸) 방향)의 굴절률이며, 'nz'는 두께 방향의 굴절률이다.'nx' is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (i.e., the slow axis direction), and 'ny' is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane (i.e., the fast axis). direction), and 'nz' is the refractive index in the thickness direction.

(2) 면내 위상차(Re)(2) In-plane phase difference (Re)

'Re(λ)'는, 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 예컨대, 'Re(550)'는, 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.'Re(λ)' is the in-plane phase difference measured with light with a wavelength of λ nm at 23°C. For example, 'Re(550)' is the in-plane phase difference measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(λ) can be obtained by the formula: Re(λ)=(nx-ny)×d, when the thickness of the layer (film) is d (nm).

(3) 두께 방향의 위상차(Rth)(3) Phase difference in the thickness direction (Rth)

'Rth(λ)'는, 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, 'Rth(550)'는, 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.'Rth(λ)' is the phase difference in the thickness direction measured with light with a wavelength of λ nm at 23°C. For example, 'Rth(550)' is the phase difference in the thickness direction measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. Rth(λ) can be obtained by the formula: Rth(λ)=(nx-nz)×d, when the thickness of the layer (film) is d (nm).

(4) Nz 계수(4) Nz coefficient

Nz 계수는, Nz=Rth/Re에 의해 구할 수 있다.The Nz coefficient can be obtained by Nz=Rth/Re.

(5) 각도(5) angle

본 명세서에서 각도를 언급할 때는, 당해 각도는 기준 방향에 대하여 시계 방향 및 반시계 방향의 양쪽을 포함한다. 따라서, 예컨대 '45°'는 ±45°를 의미한다.When an angle is mentioned herein, the angle includes both clockwise and counterclockwise directions with respect to the reference direction. Therefore, for example, '45°' means ±45°.

A. 절삭 가공 필름의 제조 방법의 개략A. Overview of the manufacturing method of the cutting film

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 절삭 가공 필름의 제조 방법에 이용되는 적층 필름의 평면도이고; 도 2는 도 1의 적층 필름의 개략 단면도이다.1 is a top view of a laminated film used in a method for producing a machined film according to one embodiment of the present invention; Figure 2 is a schematic cross-sectional view of the laminated film of Figure 1.

본 발명의 실시형태에 따른 절삭 가공 필름의 제조 방법은, 필름(100)의 단면을 정면 프레이즈에 의해 절삭 가공하는 공정(절삭 가공 공정)을 포함하고 있다. 절삭 가공 공정에서, 정면 프레이즈는, 필름(100)의 단면에 대하여 상대 이동하여 필름(100)의 단면을 절삭한다. 이로써, 정면 프레이즈에 의해 절삭 가공된 단면(절삭 가공면)을 갖는 절삭 가공 필름을 제조한다. 절삭 가공 공정에서의 정면 프레이즈의 이송 속도(필름의 단면에 대한 상대 이동 속도)는, 800mm/분 이하, 바람직하게는 750mm/분 이하이며, 대표적으로는 200mm/분 이상, 바람직하게는 300mm/분 이상, 보다 바람직하게는 400mm/분 이상이다. 정면 프레이즈의 이송 속도가 상기 상한 이하이면, 절삭 가공 필름의 절삭 가공면의 진직도의 향상을 도모할 수 있다.The method of manufacturing a cutting film according to an embodiment of the present invention includes a step of cutting the cross section of the film 100 using a front fuse (cutting step). In the cutting process, the front frame moves relative to the cross section of the film 100 to cut the cross section of the film 100. In this way, a machined film having a cross section (cut surface) machined by a front frame is manufactured. The feed speed of the front frame in the cutting process (relative moving speed with respect to the cross section of the film) is 800 mm/min or less, preferably 750 mm/min or less, and typically 200 mm/min or more, preferably 300 mm/min. or more, more preferably 400 mm/min or more. If the feed speed of the front frame is below the above upper limit, the straightness of the cut surface of the cut film can be improved.

진직도는, 직선성의 지표로서, 대표적으로는 하기 진직도 측정에 의해 측정된다.Straightness is an indicator of linearity and is typically measured by the following straightness measurement.

진직도 측정;Straightness measurement;

필름의 단면의 좌표를 컴퓨터 수치 제어 화상 측정 시스템에 의해 10점 측정하고, 그들 10점의 좌표로부터 근사선을 산출하고, 해당 근사선과 직교하는 방향에서의 근사선과 필름의 단면 사이의 간격의 최댓값과 최솟값의 차를 진직도로 한다. 보다 상세하게는, 근사선과 직교하는 방향에서의, 앞서 측정한 10점 각각과 산출한 근사선 사이의 간격을 산출하고, 그들 간격 중 최댓값과 최솟값의 차를 진직도(=최댓값-최솟값)로 한다. 컴퓨터 수치 제어 화상 측정 시스템은, 대표적으로는, 니콘(Nikon)사 제조의 NEXIV(상품명)이다.The coordinates of the cross section of the film are measured at 10 points using a computer numerically controlled image measurement system, an approximation line is calculated from the coordinates of those 10 points, and the maximum value of the interval between the approximation line and the cross section of the film in the direction perpendicular to the approximation line is calculated. The difference between the minimum values is taken as straightness. More specifically, in the direction perpendicular to the approximation line, the interval between each of the 10 previously measured points and the calculated approximation line is calculated, and the difference between the maximum and minimum values of those intervals is taken as the straightness (=maximum value - minimum value). . A representative computer numerical control image measurement system is NEXIV (trade name) manufactured by Nikon.

절삭 가공 필름의 절삭 가공면에서의 진직도는, 대표적으로는 0.0070mm 이하, 바람직하게는 0.0065mm 이하, 보다 바람직하게는 0.0060mm 이하이다. 절삭 가공면에서의 진직도가 상기 상한 이하이면, 절삭 가공 필름을 각종 산업 제품(대표적으로는 화상 표시 장치)에 채용할 때에, 절삭 가공면을 기준으로 하여 절삭 가공 필름을 위치 결정할 수 있다. 이로 인하여, 절삭 가공 필름과 다른 부재와의 상대적인 위치 정밀도의 향상을 도모할 수 있다. 절삭 가공면에서의 진직도의 하한은, 대표적으로는 0mm 이상이며, 또한 예컨대 0.0010mm 이상이다. 즉, 절삭 가공 공정에서는, 필름의 단면의 진직도가 상기 상한 이하가 되도록, 단면을 절삭 가공한다.The straightness of the cut surface of the cut film is typically 0.0070 mm or less, preferably 0.0065 mm or less, and more preferably 0.0060 mm or less. If the straightness on the cutting surface is below the above upper limit, the cutting film can be positioned based on the cutting surface when applying the cutting film to various industrial products (typically image display devices). For this reason, the relative positional accuracy between the cutting film and other members can be improved. The lower limit of straightness on the cutting surface is typically 0 mm or more, for example, 0.0010 mm or more. That is, in the cutting process, the cross-section of the film is cut so that the straightness of the cross-section is below the above upper limit.

B. 필름의 상세B. Details of the film

하나의 실시형태에서, 절삭 가공 공정으로 절삭되는 필름은, 제1 필름(11)과; 제1 필름(11)에 적층되는 점착제층(41)과; 점착제층(41)을 개재하여 제1 필름(11)에 첩부되는 제2 필름(2)을 포함하는, 적층 필름(100)이다. 점착제층을 포함하는 적층 필름의 단면이 정면 프레이즈에 의해 절삭 가공되는 경우여도, 정면 프레이즈의 이송 속도가 상기 하한 이상이면, 절삭 가공 공정에서의 점착제층의 결손(점착제 결여)을 안정적으로 억제할 수 있다.In one embodiment, the film cut in the cutting process includes a first film 11; an adhesive layer 41 laminated on the first film 11; It is a laminated film 100 including a second film 2 affixed to the first film 11 via an adhesive layer 41 . Even in the case where the cross section of the laminated film containing the adhesive layer is cut by the front frame, if the feed speed of the front frame is more than the above lower limit, defects in the adhesive layer (adhesive absence) during the cutting process can be stably suppressed. there is.

도 2에 나타내는 바와 같이, 하나의 실시형태에 따른 적층 필름(100)은, 제1 필름의 일례로서의 편광자(11)를 포함하는 편광판(1)과; 편광자(11)에 적층되는 제1 점착제층(41)과; 제2 필름의 일례로서의 제1 위상차층(2)이며, 제1 점착제층(41)을 개재하여 편광자(11)에 첩부되는 제1 위상차층(2)과; 접착제층(7)을 개재하여 제1 위상차층(2)에 첩부되는 제2 위상차층(3)과; 제2 위상차층(3)에 적층되는 제2 점착제층(42)을 구비하고 있다. 제2 점착제층(42)의 표면에는, 박리 라이너(5)가 박리 가능하게 가착되어 있어도 된다. 편광판(1)에서의 제1 위상차층(2)과 반대 측의 표면에는, 표면 보호 필름(6)이 첩부되어 있어도 된다. 즉, 도시예의 적층 필름(100)은, 광학 적층체로서, 표면 보호 필름(6)과; 편광판(1)과; 제1 점착제층(41)과; 제1 위상차층(2)과; 접착제층(7)과; 제2 위상차층(3)과; 제2 점착제층(42)과; 박리 라이너(5)를 이 순서대로 구비하고 있다.As shown in FIG. 2, the laminated film 100 according to one embodiment includes a polarizing plate 1 including a polarizer 11 as an example of the first film; a first adhesive layer 41 laminated on the polarizer 11; The first retardation layer 2 is an example of the second film, and is attached to the polarizer 11 via the first adhesive layer 41; a second retardation layer (3) attached to the first retardation layer (2) via an adhesive layer (7); It is provided with a second adhesive layer (42) laminated on the second phase difference layer (3). A release liner 5 may be temporarily attached to the surface of the second adhesive layer 42 in a peelable manner. A surface protection film 6 may be affixed to the surface of the polarizing plate 1 opposite to the first retardation layer 2. That is, the laminated film 100 in the illustrated example is an optical laminated body, including a surface protection film 6; Polarizer (1) and; a first adhesive layer (41); a first phase difference layer (2); Adhesive layer (7); a second phase difference layer (3); a second adhesive layer (42); The release liners 5 are provided in this order.

적층 필름(100)의 총 두께는, 예컨대 10㎛ 이상, 바람직하게는 50㎛ 이상이며, 예컨대 200㎛ 이하, 바람직하게는 150㎛ 이하이다.The total thickness of the laminated film 100 is, for example, 10 μm or more, preferably 50 μm or more, for example, 200 μm or less, preferably 150 μm or less.

적층 필름(100)은, 필름의 두께 방향(적층 방향)으로부터 보아 직선적으로 연장되는 단면을 포함하고 있으면, 임의의 적절한 형상을 채용할 수 있다. 적층 필름의 형상으로서, 대표적으로는 다각 형상을 들 수 있고, 바람직하게는 사각 형상을 들 수 있다. 도 1에 나타내는 적층 필름(100)은, 필름의 두께 방향(적층 방향)으로부터 보아, 직사각형상을 포함하고 있다. 도시예의 적층 필름에서, 긴 변의 치수는, 대표적으로는 50mm 이상 500mm 이하이며, 짧은 변의 치수는, 대표적으로는 10mm 이상 200mm 이하이다.The laminated film 100 can have any appropriate shape as long as it includes a cross-section that extends linearly when viewed from the film thickness direction (lamination direction). The shape of the laminated film is typically a polygonal shape, preferably a square shape. The laminated film 100 shown in FIG. 1 has a rectangular shape when viewed from the film thickness direction (lamination direction). In the laminated film of the example shown, the dimension of the long side is typically 50 mm or more and 500 mm or less, and the dimension of the short side is typically 10 mm or more and 200 mm or less.

이하, 적층 필름(100)의 구성 요소에 대하여, 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the components of the laminated film 100 will be described in more detail.

B-1. 편광판B-1. polarizer

B-1-1. 편광자B-1-1. polarizer

편광자(11)로서는, 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 예컨대, 편광자를 형성하는 수지 필름은, 단층의 수지 필름이어도 되고, 2층 이상의 적층체여도 된다.As the polarizer 11, any suitable polarizer can be employed. For example, the resin film forming the polarizer may be a single-layer resin film or a laminate of two or more layers.

단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로서는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름을 들 수 있다. 바람직하게는, 광학 특성이 우수한 점에서, PVA계 필름을 요오드로 염색하고 1축 연신하여 얻어진 편광자가 이용된다.Specific examples of polarizers composed of a single-layer resin film include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA)-based films, partially formalized PVA-based films, and partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer-based films, and iodine and dichroic dyes. Examples include polyene-based oriented films, such as those that have been dyed and stretched with dichroic substances, and those that have been treated with dehydration of PVA and those with dehydrochloride treatment of polyvinyl chloride. Preferably, a polarizer obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching is used because it has excellent optical properties.

상기 요오드에 의한 염색은, 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 행하여진다. 상기 1축 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 3~7배이다. 연신은, 염색 처리 후에 행하여도 되고, 염색하면서 행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라서, PVA계 필름에, 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지하여 수세함으로써, PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정하는 것이 가능할 뿐만 아니라, PVA계 필름을 팽윤시켜 염색 얼룩 등을 방지할 수 있다.The dyeing with iodine is performed, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after dyeing treatment or may be performed while dyeing. Additionally, it may be dyed after stretching. If necessary, swelling treatment, crosslinking treatment, washing treatment, drying treatment, etc. are performed on the PVA-based film. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing it before dyeing, it is possible to not only clean the surface of the PVA-based film from contamination and anti-blocking agents, but also to swell the PVA-based film to prevent staining, etc.

적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)의 적층체, 혹은, 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 발명의 하나의 실시형태에서는, 바람직하게는, 수지 기재의 편측에, 할로겐화물과 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지층을 형성한다. 연신은, 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은, 필요에 따라서, 붕산 수용액 중에서의 연신의 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더욱 포함할 수 있다. 더하여, 본 발명의 하나의 실시형태에서는, 바람직하게는, 적층체는, 긴 길이 방향으로 반송하면서 가열함으로써 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리에 제공된다. 대표적으로는, 본 실시형태의 제조 방법은, 적층체에, 공중 보조 연신 처리와 염색 처리와 수중 연신 처리와 건조 수축 처리를 이 순서대로 실시하는 것을 포함한다. 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지 위에 PVA를 도포하는 경우에도, PVA의 결정성을 높이는 것이 가능해지고, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능하게 된다. 또한, 동시에 PVA의 배향성을 사전에 높임으로써, 나중의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때에, PVA의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있고, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능하게 된다. 또한, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비해, 폴리비닐알코올 분자의 배향의 흐트러짐, 및 배향성의 저하가 억제될 수 있다. 이로써, 염색 처리 및 수중 연신 처리 등, 적층체를 액체에 침지하여 행하는 처리 공정을 거쳐 얻어지는 편광자의 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 건조 수축 처리에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시킴으로써, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세는, 예컨대 일본 공개특허공보 2012-73580호, 일본 특허공보 제6470455호에 기재되어 있다. 이들 공보는, 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.Specific examples of the polarizer obtained using the laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer applied to the resin substrate. A polarizer obtained by using a laminated body can be mentioned. A polarizer obtained using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer formed by applying to the resin substrate is, for example, applied by applying a PVA-based resin solution to a resin substrate, drying it, and forming a PVA-based resin layer on the resin substrate, Obtaining a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; It can be produced by stretching and dyeing the laminate and using the PVA-based resin layer as a polarizer. In one embodiment of the present invention, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is preferably formed on one side of the resin substrate. Stretching typically includes stretching the laminate by immersing it in an aqueous boric acid solution. Additionally, stretching, if necessary, may further include air stretching the laminate at a high temperature (for example, 95°C or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution. In addition, in one embodiment of the present invention, the laminate is preferably subjected to a dry shrink treatment in which the laminate is shrunk by 2% or more in the width direction by heating while conveying in the longitudinal direction. Typically, the manufacturing method of this embodiment includes performing aerial auxiliary stretching treatment, dyeing treatment, underwater stretching treatment, and dry shrink treatment on the laminate in this order. By introducing auxiliary stretching, even when applying PVA on a thermoplastic resin, it becomes possible to increase the crystallinity of PVA and achieve high optical properties. Moreover, by increasing the orientation of PVA in advance at the same time, problems such as a decrease in orientation or dissolution of PVA when immersed in water in the later dyeing process or stretching process can be prevented, making it possible to achieve high optical properties. I do it. Additionally, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the disruption of the orientation of polyvinyl alcohol molecules and the decrease in orientation can be suppressed compared to the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. Thereby, the optical properties of the polarizer obtained through a treatment process performed by immersing the laminate in a liquid, such as dyeing treatment and underwater stretching treatment, can be improved. Additionally, optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction through dry shrinkage treatment. The obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as is (i.e., the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), or the resin substrate may be peeled from the resin substrate/polarizer laminate and applied to the peeled surface for the purpose. Any appropriate protective layer may be laminated and used. Details of the manufacturing method of such a polarizer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent Application Publication No. 6470455. The entire description of these publications is incorporated herein by reference.

편광자의 두께는, 예컨대 1㎛~80㎛이고, 바람직하게는 1㎛~15㎛이며, 보다 바람직하게는 1㎛~12㎛이고, 더욱 바람직하게는 3㎛~12㎛이며, 특히 바람직하게는 3㎛~8㎛이다. 편광자의 두께가 이와 같은 범위이면, 가열 시의 컬을 양호하게 억제할 수 있고, 또 양호한 가열 시의 외관 내구성이 얻어진다.The thickness of the polarizer is, for example, 1 μm to 80 μm, preferably 1 μm to 15 μm, more preferably 1 μm to 12 μm, further preferably 3 μm to 12 μm, and especially preferably 3 μm to 12 μm. It is ㎛~8㎛. If the thickness of the polarizer is within this range, curling during heating can be suppressed satisfactorily, and good external appearance durability during heating can be obtained.

편광자는, 바람직하게는, 파장 380nm~780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은, 예컨대 41.5%~46.0%이고, 바람직하게는 43.0%~46.0%이며, 보다 바람직하게는 44.5%~46.0%이다. 편광자의 편광도는, 바람직하게는 97.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다.The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength between 380 nm and 780 nm. The single transmittance of the polarizer is, for example, 41.5% to 46.0%, preferably 43.0% to 46.0%, and more preferably 44.5% to 46.0%. The polarization degree of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, and even more preferably 99.9% or more.

B-1-2. 보호층B-1-2. protective layer

도 2에 나타내는 바와 같이, 편광판(1)은, 편광자(11)에 더하여, 보호층(12)을 구비하고 있어도 된다. 보호층(12)은, 편광자(11)의 적어도 한쪽의 면에 마련되어 있다. 도시예의 보호층(12)은, 편광자(11)에 대하여 제1 위상차층(2)과 반대 측에 배치되어 있다. 보호층(12)은, 대표적으로는, 임의의 적절한 접착제층(도시하지 않음)을 개재하여 편광자(11)에 첩합되어 있다.As shown in FIG. 2 , the polarizing plate 1 may be provided with a protective layer 12 in addition to the polarizer 11 . The protective layer 12 is provided on at least one side of the polarizer 11. The protective layer 12 in the illustrated example is disposed on the side opposite to the first retardation layer 2 with respect to the polarizer 11. The protective layer 12 is typically bonded to the polarizer 11 via any suitable adhesive layer (not shown).

보호층은, 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 폴리노보넨계 등의 시클로올레핀(COP)계, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)계 등의 폴리에스테르계, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리카보네이트(PC)계, (메트)아크릴계, 폴리비닐알코올계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리올레핀계, 아세테이트계 등의 투명 수지를 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 또한, '(메트)아크릴계 수지'란, 아크릴계 수지 및/또는 메타크릴계 수지를 말한다. 이 밖에도, 예컨대, 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 공개특허공보 2001-343529호(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는, 예컨대, 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있고, 예컨대, 이소부텐과 N-메틸말레이미드를 포함하는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은, 예컨대, 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다. 수지 필름의 재료는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.The protective layer is formed from any suitable film that can be used as a protective layer for a polarizer. Specific examples of materials that become the main components of the film include cycloolefin (COP)-based such as polynorbornene-based, polyester-based such as polyethylene terephthalate (PET)-based, cellulose-based resin such as triacetylcellulose (TAC), and polycarbonate. Transparent resins such as (PC)-based, (meth)acrylic-based, polyvinyl alcohol-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, polysulfone-based, polystyrene-based, polyolefin-based, and acetate-based resins can be mentioned. In addition, thermosetting resins or ultraviolet curing resins such as (meth)acrylic, urethane, (meth)acrylic urethane, epoxy, silicone, etc. may also be included. In addition, '(meth)acrylic resin' refers to acrylic resin and/or methacrylic resin. In addition, for example, glassy polymers such as siloxane polymers can also be mentioned. Additionally, the polymer film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-343529 (WO01/37007) can also be used. As a material for this film, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in the side chain and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and a nitrile group in the side chain can be used, for example, isobutene and A resin composition containing an alternating copolymer containing N-methylmaleimide and an acrylonitrile/styrene copolymer can be mentioned. The polymer film may be, for example, an extrusion molded product of the resin composition. The materials for the resin film can be used individually or in combination.

또한, 보호층(2)에는, 필요에 따라서, 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티 글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 또한/혹은, 보호층(12)에는, 필요에 따라서, 편광 선글라스를 통하여 시인하는 경우의 시인성을 개선하는 처리(대표적으로는, (타)원편광 기능을 부여하는 것, 초고위상차를 부여하는 것)가 실시되어 있어도 된다.Additionally, the protective layer 2 may be subjected to surface treatment such as hard coat treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, or anti-glare treatment as needed. Additionally, the protective layer 12 may be treated, as necessary, to improve visibility when viewed through polarized sunglasses (typically, imparting an (other) circularly polarized light function or imparting an ultra-high phase difference. ) may be implemented.

보호층의 두께는, 대표적으로는 5mm 이하이고, 바람직하게는 1mm 이하, 보다 바람직하게는 1㎛~500㎛, 더욱 바람직하게는 5㎛~150㎛이다.The thickness of the protective layer is typically 5 mm or less, preferably 1 mm or less, more preferably 1 μm to 500 μm, and still more preferably 5 μm to 150 μm.

B-2. 제1 위상차층 및 제2 위상차층B-2. First phase contrast layer and second phase contrast layer

제1 위상차층(2)은, 제1 점착제층(41)을 개재하여 편광판(1)(편광자(11))에 첩합되어 있다. 제2 위상차층(3)은, 제1 위상차층(2)에 대하여 편광판(1)과 반대 측에 위치하고, 접착제층(7)을 개재하여 제1 위상차층(2)에 첩합되어 있다.The first retardation layer 2 is bonded to the polarizing plate 1 (polarizer 11) via the first adhesive layer 41. The second retardation layer 3 is located on the side opposite to the polarizing plate 1 with respect to the first retardation layer 2, and is bonded to the first retardation layer 2 via an adhesive layer 7.

제1 위상차층(2) 및 제2 위상차층(3)은 각각, 대표적으로는, 액정 화합물의 배향 고화층이다. 액정 화합물을 이용함으로써, 얻어지는 위상차층의 nx와 ny의 차를 비액정 재료에 비하여 현격히 크게 할 수 있으므로, 소망하는 면내 위상차를 얻기 위한 위상차층의 두께를 현격히 작게 할 수 있다. 그 결과, 위상차층 부착 편광판의 현저한 박형화를 실현할 수 있다. 본 명세서에서 '배향 고화층'이란, 액정 화합물이 층내에서 소정의 방향으로 배향하고, 그의 배향 상태가 고정되어 있는 층을 말한다. 또한, '배향 고화층'은, 후술하는 바와 같이 액정 모노머를 경화시켜 얻어지는 배향 경화층을 포함하는 개념이다. 제1 위상차층(2) 및 제2 위상차층(3)에서는, 대표적으로는, 봉상의 액정 화합물이 제1 위상차층 또는 제2 위상차층의 지상축 방향으로 늘어선 상태로 배향하고 있다(호모지니어스 배향).The first phase difference layer 2 and the second phase difference layer 3 are each typically an alignment-fixed layer of a liquid crystal compound. By using a liquid crystal compound, the difference between nx and ny of the resulting retardation layer can be significantly increased compared to a non-liquid crystal material, so the thickness of the retardation layer for obtaining the desired in-plane retardation can be significantly reduced. As a result, significant thinning of the polarizing plate with a retardation layer can be realized. In this specification, the term 'alignment-fixed layer' refers to a layer in which a liquid crystal compound is oriented in a predetermined direction within the layer, and its orientation state is fixed. In addition, the 'alignment solidified layer' is a concept that includes an alignment hardened layer obtained by curing a liquid crystal monomer, as will be described later. In the first retardation layer 2 and the second retardation layer 3, typically, rod-shaped liquid crystal compounds are aligned in the slow axis direction of the first retardation layer or the second retardation layer (homogeneous orientation) ).

액정 화합물로서는, 예컨대, 액정상이 네마틱상인 액정 화합물(네마틱 액정)을 들 수 있다. 이와 같은 액정 화합물로서 예컨대, 액정 폴리머나 액정 모노머가 사용 가능하다. 액정 화합물의 액정성의 발현 기구는, 리오트로픽이어도 서모트로픽이어도 어느 쪽이어도 된다. 액정 폴리머 및 액정 모노머는, 각각 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여도 된다.Examples of the liquid crystal compound include a liquid crystal compound (nematic liquid crystal) whose liquid crystal phase is a nematic phase. As such a liquid crystal compound, for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. The mechanism for expressing liquid crystallinity of the liquid crystal compound may be lyotropic or thermotropic. The liquid crystal polymer and liquid crystal monomer may be used individually or in combination.

액정 화합물이 액정 모노머인 경우, 당해 액정 모노머는, 중합성 모노머 및 가교성 모노머인 것이 바람직하다. 액정 모노머를 중합 또는 가교(즉, 경화)시킴으로써, 액정 모노머의 배향 상태를 고정할 수 있기 때문이다. 액정 모노머를 배향시킨 후에, 예컨대, 액정 모노머끼리를 중합 또는 가교시키면, 그에 따라 상기 배향 상태를 고정할 수 있다. 여기에서, 중합에 의해 폴리머가 형성되고, 가교에 의해 3차원 망목 구조가 형성되게 되지만, 이들은 비액정성이다. 따라서, 형성된 위상차층은, 예컨대, 액정성 화합물에 특유의 온도 변화에 의한 액정상, 유리상, 결정상으로의 전이가 일어날 일은 없다. 그 결과, 위상차층은, 온도 변화에 영향을 받지 않는, 지극히 안정성이 우수한 위상차층이 된다.When the liquid crystal compound is a liquid crystal monomer, the liquid crystal monomer is preferably a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer. This is because the alignment state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or crosslinking (i.e., curing) the liquid crystal monomer. After aligning the liquid crystal monomers, for example, by polymerizing or crosslinking the liquid crystal monomers, the alignment state can be fixed accordingly. Here, polymers are formed by polymerization and a three-dimensional network structure is formed by crosslinking, but these are non-liquid crystalline. Therefore, the formed retardation layer is unlikely to transition into a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to temperature changes peculiar to liquid crystalline compounds, for example. As a result, the phase difference layer becomes a phase difference layer that is not affected by temperature changes and has extremely excellent stability.

액정 모노머가 액정성을 나타내는 온도 범위는, 그의 종류에 따라 다르다. 구체적으로는, 당해 온도 범위는, 바람직하게는 40℃~120℃이고, 더욱 바람직하게는 50℃~100℃이며, 가장 바람직하게는 60℃~90℃이다.The temperature range in which a liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity varies depending on its type. Specifically, the temperature range is preferably 40°C to 120°C, more preferably 50°C to 100°C, and most preferably 60°C to 90°C.

상기 액정 모노머로서는, 임의의 적절한 액정 모노머가 채용될 수 있다. 예컨대, 일본 특허출원공표 2002-533742(WO00/37585), EP358208(US5211877), EP66137(US4388453), WO93/22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171, 및 GB2280445 등에 기재된 중합성 메소겐 화합물을 사용할 수 있다. 이와 같은 중합성 메소겐 화합물의 구체예로서는, 예컨대, 바스프(BASF)사의 상품명 LC242, 머크(Merck)사의 상품명 E7, 와커-캠(Wacker-Chem)사의 상품명 LC-Sillicon-CC3767을 들 수 있다. 액정 모노머로서는, 예컨대 네마틱성 액정 모노머가 바람직하다.As the liquid crystal monomer, any suitable liquid crystal monomer may be employed. For example, polymerization described in Japanese Patent Application Publication 2002-533742 (WO00/37585), EP358208 (US5211877), EP66137 (US4388453), WO93/22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171, and GB2280445. Sexual mesogenic compounds can be used. Specific examples of such polymerizable mesogenic compounds include, for example, BASF's trade name LC242, Merck's trade name E7, and Wacker-Chem's trade name LC-Sillicon-CC3767. As the liquid crystal monomer, for example, a nematic liquid crystal monomer is preferable.

액정 배향 고화층은, 소정의 기재의 표면에 배향 처리를 실시하고, 당해 표면에 액정 화합물을 포함하는 도공액을 도공하고 당해 액정 화합물을 상기 배향 처리에 대응하는 방향으로 배향시키고, 당해 배향 상태를 고정함으로써 형성될 수 있다. 하나의 실시형태에서는, 기재는 임의의 적절한 수지 필름이며, 당해 기재 위에 형성된 액정 배향 고화층(제1 위상차층(2))은, 제1 점착제층(41)을 개재하여 편광판(1)의 표면에 전사될 수 있다. 마찬가지로, 기재 위에 형성된 액정 배향 고화층(제2 위상차층(3))은, 접착제층(7)을 개재하여 제1 위상차층(2)의 표면에 전사될 수 있다.The liquid crystal alignment solidification layer performs an orientation treatment on the surface of a predetermined substrate, applies a coating liquid containing a liquid crystal compound to the surface, orients the liquid crystal compound in a direction corresponding to the orientation treatment, and maintains the orientation state. It can be formed by fixing it. In one embodiment, the substrate is any suitable resin film, and the liquid crystal alignment solidification layer (first retardation layer 2) formed on the substrate is formed on the surface of the polarizing plate 1 via the first adhesive layer 41. can be transcribed. Likewise, the liquid crystal alignment solidification layer (second retardation layer 3) formed on the substrate can be transferred to the surface of the first retardation layer 2 via the adhesive layer 7.

상기 배향 처리로서는, 임의의 적절한 배향 처리가 채용될 수 있다. 구체적으로는, 기계적인 배향 처리, 물리적인 배향 처리, 화학적인 배향 처리를 들 수 있다. 기계적인 배향 처리의 구체예로서는, 러빙 처리, 연신 처리를 들 수 있다. 물리적인 배향 처리의 구체예로서는, 자장(磁場) 배향 처리, 전장(電場) 배향 처리를 들 수 있다. 화학적인 배향 처리의 구체예로서는, 사방(斜方) 증착법, 광배향(光配向) 처리를 들 수 있다. 각종 배향 처리의 처리 조건은, 목적에 따라 임의의 적절한 조건이 채용될 수 있다.As the orientation treatment, any appropriate orientation treatment may be employed. Specifically, mechanical alignment treatment, physical alignment treatment, and chemical alignment treatment can be mentioned. Specific examples of mechanical orientation treatment include rubbing treatment and stretching treatment. Specific examples of physical alignment treatment include magnetic field alignment treatment and electric field alignment treatment. Specific examples of chemical alignment treatment include oblique vapor deposition and photo-alignment treatment. The treatment conditions for various orientation treatments may be any appropriate conditions depending on the purpose.

액정 화합물의 배향은, 액정 화합물의 종류에 따라 액정상을 나타내는 온도에서 처리함으로써 이루어진다. 이와 같은 온도 처리를 행함으로써, 액정 화합물이 액정 상태를 취하고, 기재 표면의 배향 처리 방향에 따라 당해 액정 화합물이 배향한다.The alignment of the liquid crystal compound is achieved by treatment at a temperature that exhibits a liquid crystal phase depending on the type of the liquid crystal compound. By performing such temperature treatment, the liquid crystal compound assumes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is aligned according to the orientation treatment direction of the substrate surface.

배향 상태의 고정은, 하나의 실시형태에서는, 상기와 같이 배향한 액정 화합물을 냉각함으로써 이루어진다. 액정 화합물이 중합성 모노머 또는 가교성 모노머인 경우에는, 배향 상태의 고정은, 상기와 같이 배향한 액정 화합물에 중합 처리 또는 가교 처리를 실시함으로써 이루어진다.In one embodiment, the alignment state is fixed by cooling the liquid crystal compound aligned as described above. When the liquid crystal compound is a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer, the alignment state is fixed by subjecting the liquid crystal compound oriented as described above to polymerization treatment or crosslinking treatment.

액정 화합물의 구체예 및 배향 고화층의 형성 방법의 상세는, 일본 공개특허공보 2006-163343호에 기재되어 있다. 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.Specific examples of the liquid crystal compound and details of the method for forming the alignment solidification layer are described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-163343. The description in this publication is incorporated herein by reference.

제1 위상차층 및 제2 위상차층은 각각, 대표적으로는, 굴절률 특성이 nx>ny=nz의 관계를 나타낸다. 또한, 'ny=nz'는 ny와 nz가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 따라서, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, ny>nz 또는 ny<nz가 되는 경우가 있을 수 있다.The first retardation layer and the second retardation layer each typically exhibit a relationship of nx>ny=nz in refractive index characteristics. Additionally, 'ny=nz' includes not only the case where ny and nz are completely the same, but also the case where they are substantially the same. Therefore, there may be cases where ny > nz or ny < nz within a range that does not impair the effect of the present invention.

대표적으로는, 제1 위상차층(2) 또는 제2 위상차층(3)의 어느 한쪽은 λ/2판으로서 기능할 수 있고, 다른 쪽은 λ/4판으로서 기능할 수 있다. 여기에서는, 제1 위상차층(2)이 λ/2판으로서 기능할 수 있고, 제2 위상차층(3)이 λ/4판으로서 기능할 수 있는 경우를 설명하지만, 이들은 역이어도 된다. 제1 위상차층(2)이 λ/2판으로서 기능할 수 있고, 제2 위상차층(3)이 λ/4판으로서 기능할 수 있는 경우에는, 제1 위상차층(2)의 면내 위상차 Re(550)는, 바람직하게는 200nm~300nm이고, 보다 바람직하게는 230nm~290nm이며, 더욱 바람직하게는 250nm~280nm이다. 제1 위상차층(2)의 지상축과 편광자(11)의 흡수축이 이루는 각도는, 바람직하게는 10°~20°이고, 보다 바람직하게는 12°~18°이며, 더욱 바람직하게는 약 15°이다. 제2 위상차층(3)의 면내 위상차 Re(550)는, 바람직하게는 100nm~190nm이고, 보다 바람직하게는 110nm~170nm이며, 더욱 바람직하게는 130nm~160nm이다. 제2 위상차층(3)의 지상축과 편광자(11)의 흡수축이 이루는 각도는, 바람직하게는 70°~80°이고, 보다 바람직하게는 72°~78°이며, 더욱 바람직하게는 약 75°이다. 이와 같은 구성이면, 이상적인 역파장분산 특성에 가까운 특성을 얻는 것이 가능하고, 결과로서, 매우 우수한 반사 방지 특성을 실현할 수 있다.Typically, either the first phase difference layer 2 or the second phase difference layer 3 may function as a λ/2 plate, and the other may function as a λ/4 plate. Here, a case is described where the first phase difference layer 2 can function as a λ/2 plate and the second phase difference layer 3 can function as a λ/4 plate, but these may be reversed. In the case where the first retardation layer 2 can function as a λ/2 plate and the second retardation layer 3 can function as a λ/4 plate, the in-plane retardation Re( 550) is preferably 200 nm to 300 nm, more preferably 230 nm to 290 nm, and even more preferably 250 nm to 280 nm. The angle formed by the slow axis of the first retardation layer 2 and the absorption axis of the polarizer 11 is preferably 10° to 20°, more preferably 12° to 18°, and even more preferably about 15°. It is °. The in-plane phase difference Re(550) of the second phase difference layer 3 is preferably 100 nm to 190 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, and still more preferably 130 nm to 160 nm. The angle formed by the slow axis of the second retardation layer 3 and the absorption axis of the polarizer 11 is preferably 70° to 80°, more preferably 72° to 78°, and even more preferably about 75°. It is °. With such a configuration, it is possible to obtain characteristics close to ideal reverse wavelength dispersion characteristics, and as a result, very excellent anti-reflection characteristics can be realized.

제1 위상차층(2)의 두께는, λ/2판의 소망하는 면내 위상차가 얻어지도록 조정될 수 있고, 예컨대 1.5㎛~2.5㎛일 수 있다. 제2 위상차층(3)의 두께는, λ/4판의 소망하는 면내 위상차가 얻어지도록 조정될 수 있고, 예컨대 0.5㎛~1.5㎛일 수 있다.The thickness of the first retardation layer 2 can be adjusted to obtain the desired in-plane retardation of the λ/2 plate, and can be, for example, 1.5 μm to 2.5 μm. The thickness of the second retardation layer 3 can be adjusted to obtain the desired in-plane retardation of the λ/4 plate, and can be, for example, 0.5 μm to 1.5 μm.

제1 위상차층 및 제2 위상차층은 각각, Nz 계수가 바람직하게는 0.9~1.5이고, 보다 바람직하게는 0.9~1.3이다. 이와 같은 관계를 충족시킴으로써, 얻어지는 절삭 가공 필름을 화상 표시 장치에 이용한 경우에, 매우 우수한 반사 색상을 달성할 수 있다.The first phase difference layer and the second phase difference layer each have an Nz coefficient of preferably 0.9 to 1.5, and more preferably 0.9 to 1.3. By satisfying this relationship, when the resulting cut film is used in an image display device, very excellent reflected color can be achieved.

제1 위상차층 및 제2 위상차층은 각각, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산파장 특성을 나타내도 되고, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 작아지는 양(正)의 파장분산 특성을 나타내도 되며, 위상차값이 측정광의 파장에 따라서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장분산 특성을 나타내도 된다.The first phase difference layer and the second phase difference layer may each exhibit inverse dispersion wavelength characteristics in which the phase difference value increases depending on the wavelength of the measurement light, or may exhibit positive wavelength dispersion characteristics in which the phase difference value decreases depending on the wavelength of the measurement light. Alternatively, the phase difference value may exhibit flat wavelength dispersion characteristics that hardly change depending on the wavelength of the measurement light.

B-3. 접착제층B-3. adhesive layer

접착제층(7)은, 제1 위상차층(2)과 제2 위상차층(3)을 첩합시키고 있다. 접착제층을 구성하는 접착제로서는, 임의의 적절한 접착제가 채용될 수 있다. 접착제로서는, 대표적으로는 활성 에너지선 경화형 접착제를 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제로서는, 예컨대, 자외선 경화형 접착제, 전자선 경화형 접착제를 들 수 있다. 또한, 경화 메커니즘의 관점에서는, 활성 에너지선 경화형 접착제로서는, 예컨대, 라디칼 경화형, 양이온 경화형, 음이온 경화형, 라디칼 경화형과 양이온 경화형의 하이브리드를 들 수 있다. 대표적으로는, 라디칼 경화형의 자외선 경화형 접착제가 이용될 수 있다. 범용성이 우수하고, 또 특성(구성)의 조정이 용이하기 때문이다. 접착제층(접착제 경화 후)의 두께는, 대표적으로는 0.1㎛~3.0㎛이다. 접착제의 상세는, 예컨대, 일본 공개특허공보 2018-017996호에 기재되어 있다. 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.The adhesive layer 7 bonds the first retardation layer 2 and the second retardation layer 3 together. As the adhesive constituting the adhesive layer, any suitable adhesive may be employed. Representative examples of adhesives include active energy ray-curable adhesives. Examples of active energy ray-curable adhesives include ultraviolet ray-curable adhesives and electron beam-curable adhesives. Additionally, from the viewpoint of the curing mechanism, examples of active energy ray curable adhesives include radical curing type, cation curing type, anion curing type, and hybrid of radical curing type and cation curing type. Typically, a radical curing type ultraviolet curing type adhesive can be used. This is because it has excellent versatility and the characteristics (configuration) can be easily adjusted. The thickness of the adhesive layer (after adhesive curing) is typically 0.1 μm to 3.0 μm. Details of the adhesive are described in, for example, Japanese Patent Application Publication No. 2018-017996. The description in this publication is incorporated herein by reference.

B-4. 점착제층B-4. adhesive layer

제1 점착제층(41)은, 편광자(11)와 제1 위상차층(2) 사이에 위치하고, 그들을 첩합시키고 있다. 제2 점착제층(42)은, 제2 위상차층(3)에서의 제1 위상차층(2)과 반대 측의 표면에 마련되어 있다.The first adhesive layer 41 is located between the polarizer 11 and the first retardation layer 2, and bonds them together. The second adhesive layer 42 is provided on the surface of the second retardation layer 3 opposite to the first retardation layer 2.

제1 점착제층(41) 및 제2 점착제층(42)의 각각은, 25℃에서의 저장 탄성률이, 바람직하게는 1.0×104Pa~1.0×106Pa이며, 보다 바람직하게는 1.0×104Pa~2.0×105Pa이다. 점착제층의 저장 탄성률이 이와 같은 범위이면, 절삭 가공 공정에서, 점착제층에 결손이 생기는 것을 안정적으로 억제할 수 있다.The storage elastic modulus of each of the first adhesive layer 41 and the second adhesive layer 42 at 25°C is preferably 1.0×10 4 Pa to 1.0×10 6 Pa, more preferably 1.0×10 It is 4 Pa~2.0×10 5 Pa. If the storage modulus of the adhesive layer is in this range, defects in the adhesive layer can be stably suppressed during the cutting process.

제1 점착제층(41) 및 제2 점착제층(42)의 각각은, 점착제로 구성된다. 점착제로서는, 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 점착제층을 구성하는 점착제의 구체예로서는, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제, 및 폴리에테르계 점착제를 들 수 있다. 점착제의 베이스 수지를 형성하는 모노머의 종류, 수, 조합 및 배합비와, 가교제의 배합량, 반응 온도, 반응 시간 등을 조정함으로써, 목적에 따른 소망하는 특성을 갖는 점착제를 조제할 수 있다. 점착제의 베이스 수지는, 단독으로 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 투명성, 가공성 및 내구성 등의 관점에서, 아크릴계 점착제(아크릴계 점착제 조성물)가 바람직하다. 아크릴계 점착제 조성물은, 대표적으로는, (메트)아크릴계 폴리머를 주성분으로서 포함한다. (메트)아크릴계 폴리머는, 점착제 조성물의 고형분 중, 예컨대 50질량% 이상, 바람직하게는 70질량% 이상, 보다 바람직하게는 90질량% 이상의 비율로 점착제 조성물에 함유될 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머는, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 또한, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말한다. 알킬(메트)아크릴레이트는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 중, 바람직하게는 80질량% 이상, 보다 바람직하게는 90질량% 이상의 비율로 함유될 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트의 알킬기로서는, 예컨대, 1개~18개의 탄소 원자를 갖는 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기를 들 수 있다. 당해 알킬기의 평균 탄소수는, 바람직하게는 3개~9개이며, 보다 바람직하게는 3개~6개이다. 바람직한 알킬(메트)아크릴레이트는, 부틸아크릴레이트이다. (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머(공중합 모노머)로서는, 알킬(메트)아크릴레이트 이외에, 카복실기 함유 모노머, 하이드록실기 함유 모노머, 아미드기 함유 모노머, 방향환 함유 (메트)아크릴레이트, 복소환 함유 비닐계 모노머 등을 들 수 있다. 공중합 모노머의 대표예로서는, 아크릴산, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈을 들 수 있다. 아크릴계 점착제 조성물은, 바람직하게는, 실란 커플링제 및/또는 가교제를 함유할 수 있다. 실란 커플링제로서는, 예컨대 에폭시기 함유 실란 커플링제를 들 수 있다. 가교제로서는, 예컨대, 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제를 들 수 있다. 또한, 아크릴계 점착제 조성물은, 산화 방지제 및/또는 도전제를 함유하여도 된다. 점착제층 또는 아크릴계 점착제 조성물의 상세는, 예컨대, 일본 공개특허공보 2006-183022호, 일본 공개특허공보 2015-199942호, 일본 공개특허공보 2018-053114호, 일본 공개특허공보 2016-190996호, 국제 공개 제2018/008712호에 기재되어 있으며, 이들 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.Each of the first adhesive layer 41 and the second adhesive layer 42 is made of adhesive. As the adhesive, any suitable composition may be employed. Specific examples of the adhesive constituting the adhesive layer include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, urethane adhesives, epoxy adhesives, and polyether adhesives. By adjusting the type, number, combination and mixing ratio of the monomers forming the base resin of the adhesive, the amount of crosslinking agent, reaction temperature, reaction time, etc., an adhesive having desired properties according to the purpose can be prepared. The base resin of the adhesive may be used individually, or may be used in combination of two or more types. From the viewpoints of transparency, processability, durability, etc., an acrylic adhesive (acrylic adhesive composition) is preferable. Acrylic adhesive compositions typically contain a (meth)acrylic polymer as a main component. The (meth)acrylic polymer may be contained in the adhesive composition at a rate of, for example, 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more, of the solid content of the adhesive composition. The (meth)acrylic polymer contains alkyl (meth)acrylate as a main component as a monomer unit. Additionally, (meth)acrylate refers to acrylate and/or methacrylate. The alkyl (meth)acrylate may be contained in a proportion of preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, among the monomer components forming the (meth)acrylic polymer. Examples of the alkyl group of the alkyl (meth)acrylate include a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. The average number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 3 to 9, more preferably 3 to 6. A preferred alkyl (meth)acrylate is butyl acrylate. Monomers (copolymerized monomers) constituting the (meth)acrylic polymer include, in addition to alkyl (meth)acrylates, monomers containing carboxyl groups, monomers containing hydroxyl groups, monomers containing amide groups, (meth)acrylates containing aromatic rings, and heterocycles. and vinyl-containing monomers. Representative examples of copolymerized monomers include acrylic acid, 4-hydroxybutylacrylate, phenoxyethyl acrylate, and N-vinyl-2-pyrrolidone. The acrylic adhesive composition may preferably contain a silane coupling agent and/or a crosslinking agent. Examples of the silane coupling agent include epoxy group-containing silane coupling agents. Examples of crosslinking agents include isocyanate-based crosslinking agents and peroxide-based crosslinking agents. Additionally, the acrylic adhesive composition may contain an antioxidant and/or a conductive agent. Details of the adhesive layer or acrylic adhesive composition are, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-183022, Japanese Patent Application Publication No. 2015-199942, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-053114, Japanese Patent Application Publication No. 2016-190996, International Publication No. It is described in No. 2018/008712, and the descriptions of these publications are incorporated herein by reference.

제1 점착제층(41)의 두께는, 예컨대 3㎛~30㎛이고, 바람직하게는 5㎛~20㎛이다. 제2 점착제층(42)의 두께는, 예컨대 5㎛~40㎛이고, 바람직하게는 10㎛~20㎛이다.The thickness of the first adhesive layer 41 is, for example, 3 μm to 30 μm, and is preferably 5 μm to 20 μm. The thickness of the second adhesive layer 42 is, for example, 5 μm to 40 μm, and is preferably 10 μm to 20 μm.

B-5. 표면 보호 필름B-5. surface protection film

도시예에서, 표면 보호 필름(6)은, 편광판(1)의 보호층(12)에 첩부되어 있다. 표면 보호 필름(6)은, 대표적으로는, 기재(61)와 점착제층(62)을 구비하고 있다. 기재(61)의 재료로서는, 예컨대, 보호층(12)을 구성하는 수지와 마찬가지의 것을 들 수 있다. 점착제층(62)은, 표면 보호 필름(6)의 기재(61)를 보호층(12)에 첩부하고 있다. 점착제층(62)은, 상기한 점착제층(41, 42)과 마찬가지로 설명된다.In the illustrated example, the surface protection film 6 is affixed to the protective layer 12 of the polarizing plate 1. The surface protection film 6 typically includes a base material 61 and an adhesive layer 62. Examples of the material of the base material 61 include those similar to the resin constituting the protective layer 12. The adhesive layer 62 attaches the base material 61 of the surface protection film 6 to the protective layer 12 . The adhesive layer 62 is explained similarly to the adhesive layers 41 and 42 described above.

B-6. 박리 라이너B-6. release liner

박리 라이너(5)는, 제2 점착제층(42)의 표면에 가착되어 있다. 박리 라이너(5)는, 박리 라이너로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 수지 필름으로 형성된다. 당해 수지 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌을 들 수 있다. 수지 필름의 재료는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 박리 라이너(5)에서의 제2 점착제층(42)과의 접촉면에는, 이형 처리층이 마련되어 있어도 된다. 이형 처리층을 형성하는 이형 처리제로서는, 예컨대, 실리콘계 이형 처리제, 불소계 이형 처리제, 장쇄 알킬아크릴레이트계 박리제를 들 수 있다. 이형 처리제는, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.The release liner 5 is temporarily attached to the surface of the second adhesive layer 42 . The release liner 5 is formed of any suitable resin film that can be used as a release liner. Specific examples of materials that serve as the main component of the resin film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, and polypropylene. The materials for the resin film can be used individually or in combination. A release treatment layer may be provided on the contact surface of the release liner 5 with the second adhesive layer 42. Examples of the release treatment agent that forms the release treatment layer include a silicone-based release treatment agent, a fluorine-based release treatment agent, and a long-chain alkyl acrylate-based release agent. The mold release treatment agent can be used individually or in combination.

박리 라이너(5)의 두께는, 예컨대 5㎛~60㎛이며, 바람직하게는 20㎛~45㎛이다. 또한, 이형 처리층이 실시되어 있는 경우, 박리 라이너의 두께는, 이형 처리층의 두께를 포함한 두께이다.The thickness of the release liner 5 is, for example, 5 μm to 60 μm, and is preferably 20 μm to 45 μm. In addition, when a release treatment layer is applied, the thickness of the release liner is a thickness including the thickness of the release treatment layer.

C. 절삭 가공 공정의 상세C. Details of cutting process

하나의 실시형태에서는, 절삭 가공 공정에서, 상기한 적층 필름(100)의 단면이 정면 프레이즈에 의해 절삭 가공된다. 이와 같은 절삭 가공 공정은, 임의의 적절한 단면 절삭 가공 장치에 의해 실시될 수 있다. 단면 절삭 가공 장치로서 예컨대, 일본 공개특허공보 2018-103276호에 기재된 단면 절삭 가공 장치를 들 수 있다. 이 공보는, 그의 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.In one embodiment, in the cutting process, the cross section of the above-described laminated film 100 is cut by using a front fuse. This cutting process can be performed using any suitable cross-sectional cutting equipment. Examples of the cross-sectional cutting device include the cross-sectional cutting device described in Japanese Patent Application Publication No. 2018-103276. This publication is hereby incorporated by reference in its entirety.

절삭 가공 공정에서는, 정면 프레이즈가 적층 필름(100)의 단면에 대해서, 상기한 이송 속도로 상대 이동한다. 적층 필름(100)이 단면 절삭 가공 장치에 고정된 상태에서 정면 프레이즈가 이동하여도 되고, 정면 프레이즈가 고정된 상태에서 적층 필름(100)이 이동하여도 된다. 정면 프레이즈는, 대표적으로는, 단면 절삭 가공 장치에 고정된 상태의 필름(100)의 주위를 일 방향(바람직하게는 평면시에서 시계 방향 또는 반시계 방향)으로, 상기한 이송 속도로 이동하고, 적층 필름(100)의 단면의 전체를 절삭한다.In the cutting process, the front frame moves relative to the cross section of the laminated film 100 at the above-mentioned feed rate. The front frame may be moved while the laminated film 100 is fixed to the single-sided cutting machine, or the laminated film 100 may be moved while the front frame is fixed. The front frame typically moves around the film 100 fixed to the single-sided cutting device in one direction (preferably clockwise or counterclockwise in plan view) at the above-mentioned feed rate, The entire cross section of the laminated film 100 is cut.

절삭 가공 공정에서, 정면 프레이즈는, 적층 필름(100)의 적층 방향과 직교하는 방향으로 연장되는 축선을 중심으로 하여 회전한다. 정면 프레이즈의 회전 속도는, 대표적으로는 3000rpm~6000rpm이고, 바람직하게는 4000rpm~5000rpm이다.In the cutting process, the front frame rotates around an axis extending in a direction perpendicular to the lamination direction of the laminated film 100. The rotation speed of the front phrase is typically 3000 rpm to 6000 rpm, and preferably 4000 rpm to 5000 rpm.

정면 프레이즈의 날 수는, 특별히 제한되지 않고, 예컨대 1매~5매이며, 바람직하게는 2매~4매이다.The number of blades of the front phrase is not particularly limited, and is, for example, 1 to 5, preferably 2 to 4.

정면 프레이즈에서의 절삭각(래디얼 레이크각)은, 대표적으로는 5°~35°이며, 바람직하게는 10°~30°이다.The cutting angle (radial rake angle) at the front frame is typically 5° to 35°, and preferably 10° to 30°.

정면 프레이즈에서의 장착각(액시얼 레이크각)은, 대표적으로는 0°~20°이며, 바람직하게는 5°~15°이다.The mounting angle (axial rake angle) in the front frame is typically 0° to 20°, and preferably 5° to 15°.

정면 프레이즈에서의 릴리프각은, 대표적으로는 1°~20°이며, 바람직하게는 1°~10°이다.The relief angle in the front frame is typically 1° to 20°, and preferably 1° to 10°.

절삭 가공 공정이 상기 조건으로 실시되면, 절삭 가공된 단면(절삭 가공면)의 진직도를 안정적으로 향상시킬 수 있다. 이로써, 절삭 가공 필름(절삭 가공 적층 필름)이 제조된다. 절삭 가공 필름(절삭 가공 적층 필름)이 구비하는 절삭 가공면의 적어도 하나는, 상기한 범위의 진직도를 갖고 있다. 도시예의 직사각형상의 절삭 가공 필름(절삭 가공 적층 필름)에서는, 바람직하게는, 짧은 변 측의 절삭 가공면이 상기한 범위의 진직도를 갖고 있다. 긴 변 측의 절삭 가공면의 진직도는, 상기한 범위 내이어도 되고, 상기한 범위 밖이어도 된다. 또한, 절삭 가공면은, 정면 프레이즈에 의한 절삭 자국을 갖고 있어도 된다. 절삭 자국은, 필름의 두께 방향과 교차하는 방향(대표적으로는 원호상)으로 연장되어 있어도 된다.If the cutting process is performed under the above conditions, the straightness of the cut cross section (cut surface) can be stably improved. In this way, a cut film (cut laminated film) is manufactured. At least one of the cut surfaces of the cut film (cut laminated film) has a straightness in the above-mentioned range. In the rectangular cut film (cut laminated film) of the example shown, the cut surface on the short side preferably has a straightness in the above range. The straightness of the cutting surface on the long side may be within the above range or outside the above range. Additionally, the cut surface may have cutting marks caused by front fraying. The cutting mark may extend in a direction intersecting the thickness direction of the film (typically in an arc shape).

D. 화상 표시 장치D. Image display device

상기 A항부터 C항에 기재된 절삭 가공 필름(대표적으로는 절삭 가공 적층 필름)은, 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 따라서, 절삭 가공 필름을 포함하는 화상 표시 장치도 또한, 본 발명의 실시형태에 포함된다. 화상 표시 장치는, 대표적으로는, 화상 표시 셀과, 화상 표시 셀에 점착제층을 개재하여 첩합된 절삭 가공 필름을 포함한다. 절삭 가공 필름의 단면(특히 짧은 변 측의 절삭 가공면)의 진직도가 우수하므로, 절삭 가공 필름의 단면(특히 짧은 변 측의 절삭 가공면)을 기준으로 하여 화상 표시 셀에 대하여 첩부 가능하다. 이로 인하여, 화상 표시 셀과 절삭 가공 필름과의 상대적인 위치 정밀도의 향상을 도모할 수 있다. 절삭 가공 필름이 절삭 가공 적층 필름인 경우, 절삭 가공 적층 필름은, 대표적으로는, 제2 점착제층으로부터 박리 라이너가 박리된 후, 제2 점착제층에 의해 화상 표시 셀에 첩부된다. 또한, 표면 보호 필름은, 절삭 가공 적층 필름의 사용 전에 박리되어도 되고, 편광판의 표면에 첩착한 채로의 상태로 사용되어도 된다. 화상 표시 장치의 대표예로서는, 액정 표시 장치, 일렉트로 루미네선스(EL) 표시 장치(예컨대, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)를 들 수 있다.The cutting film (typically a cutting laminated film) described in items A to C above can be applied to an image display device. Accordingly, an image display device including a machining film is also included in embodiments of the present invention. An image display device typically includes an image display cell and a cut film bonded to the image display cell through an adhesive layer. Since the cross-section of the cut film (especially the cut surface on the short side) has excellent straightness, it can be attached to the image display cell using the cross-section of the cut film (particularly the cut surface on the short side) as a reference. As a result, the relative positional accuracy between the image display cell and the cutting film can be improved. When the cut film is a cut laminated film, the cut laminated film is typically affixed to an image display cell with the second adhesive layer after the release liner is peeled from the second adhesive layer. In addition, the surface protection film may be peeled off before use of the cutting laminated film, or may be used in a state affixed to the surface of the polarizing plate. Representative examples of image display devices include liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices (eg, organic EL display devices and inorganic EL display devices).

[실시예][Example]

이하, 실시예에 따라 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예 및 비교예에서의 '부' 및 '%'는 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The measurement method for each characteristic is as follows. In addition, unless otherwise specified, 'part' and '%' in Examples and Comparative Examples are based on mass.

(1) 두께(1) Thickness

10㎛ 이하의 두께는, 간섭 막두께계(오오츠카 덴시사 제조, 제품명 'MCPD-3000')를 이용하여 측정하였다. 10㎛를 초과하는 두께는, 디지털 마이크로미터(안리츠사 제조, 제품명 'KC-351C')를 이용하여 측정하였다.The thickness of 10 μm or less was measured using an interference thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics, product name ‘MCPD-3000’). Thickness exceeding 10㎛ was measured using a digital micrometer (manufactured by Anritsu, product name 'KC-351C').

(2) 진직도(2) Straightness

실시예 및 비교예의 절삭 가공 필름(광학 적층체)의 20 샘플의 각각에 대하여, 하기와 같이 진직도를 산출하였다. 절삭 가공 필름의 짧은 변 측의 단면의 좌표를 컴퓨터 수치 제어 화상 측정 시스템(니콘(Nikon)사 제조, 제품명 'NEXIV')에 의해 10점 측정하고, 10점의 좌표로부터 근사선을 산출하였다. 이어서, 당해 근사선과 직교하는 방향(긴 변 방향)에서의 근사선과 단면(구체적으로는 먼저 측정한 10점의 각각) 사이의 간격의 최댓값과 최솟값의 차를 진직도로 하였다.For each of the 20 samples of the cutting film (optical laminate) of Examples and Comparative Examples, the straightness was calculated as follows. The coordinates of the cross section on the short side of the cut film were measured at 10 points using a computer numerical control image measurement system (manufactured by Nikon, product name 'NEXIV'), and an approximation line was calculated from the coordinates of the 10 points. Next, the difference between the maximum and minimum values of the interval between the approximation line and the cross section (specifically, each of the 10 points previously measured) in the direction perpendicular to the approximation line (long side direction) was taken as straightness.

또한, 각 실시예(또는 비교예 1)에서의 20 샘플의 진직도를, 스미르노프 그럽스 검정에 의한 기각 검정에 제공하고, 진직도가 기각값(p<0.05)이 된 데이터를 제외하고, 진직도의 평균값을 산출하였다. 실시예 1 및 실시예 2는, 기각값이 된 2 샘플을 제외한 18 샘플의 평균값을 산출하였다. 실시예 3 및 실시예 4는, 기각값이 된 1 샘플을 제외한 19 샘플의 평균값을 산출하였다. 비교예 1은, 기각값이 없었기 때문에, 20 샘플의 평균값을 산출하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.In addition, the straightness of the 20 samples in each example (or Comparative Example 1) was subjected to a rejection test using the Smirnov Grubbs test, excluding data where the straightness reached a rejection value (p<0.05). , the average value of straightness was calculated. In Examples 1 and 2, the average value of 18 samples was calculated excluding the 2 samples that were rejected. In Examples 3 and 4, the average value of 19 samples excluding 1 sample that was rejected was calculated. In Comparative Example 1, since there were no rejection values, the average value of 20 samples was calculated. The results are shown in Table 1.

(3) 표면 보호 필름의 들뜸(SPV 들뜸)(3) Lifting of the surface protective film (SPV lifting)

실시예 및 비교예의 절삭 가공 필름(광학 적층체)을, 광학 현미경으로 표면 보호 필름 측으로부터 관측하여, 표면 보호 필름의 들뜸을 측장(測長)하였다.The cut films (optical laminates) of the examples and comparative examples were observed from the surface protection film side with an optical microscope, and the lifting of the surface protection film was measured.

○(우(優)): SPV의 들뜸이 50㎛ 이하.○ (Right): SPV lifting is 50㎛ or less.

△(가(可)): SPV의 들뜸이 50㎛를 초과.△ (A): SPV lifting exceeds 50㎛.

(4) 점착제층의 결손(점착제 결여)(4) Defect of adhesive layer (lack of adhesive)

실시예 및 비교예의 절삭 가공 필름(광학 적층체)을, 표면 보호 필름을 박리 한 상태로, 광학 현미경으로 관찰하고, 점착제층의 결손을 측장하였다.The cut films (optical laminates) of the examples and comparative examples were observed under an optical microscope with the surface protection film peeled off, and defects in the adhesive layer were measured.

○(우): 점착제 결여가 70㎛ 이하.○ (right): Lack of adhesive is 70 μm or less.

△(가): 점착제 결여가 70㎛를 초과.△(a): Lack of adhesive exceeds 70㎛.

[조제예 1][Preparation example 1]

1. 편광판의 제작1. Production of polarizer

열가소성 수지 기재로서, 장척상이며, Tg 약 75℃인, 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 이용하여, 수지 기재의 편면에, 코로나 처리를 실시하였다.As a thermoplastic resin substrate, an amorphous isophthalic copolymerization polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm), which is long and has a Tg of about 75°C, was used, and corona treatment was performed on one side of the resin substrate.

폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(일본 합성화학공업사 제조, 상품명 '고세파이머')를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100질량부에, 요오드화 칼륨 13질량부를 첨가한 것을 물에 녹여, PVA 수용액(도포액)을 조제하였다.100 parts by mass of PVA-based resin mixed at 9:1 with polyvinyl alcohol (degree of polymerization 4200, degree of saponification 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., brand name ‘Gosephimer’), potassium iodide 13 The added mass was dissolved in water to prepare a PVA aqueous solution (coating solution).

수지 기재의 코로나 처리면에, 상기 PVA 수용액을 도포하고 60℃에서 건조함으로써, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하고, 적층체를 제작하였다.The PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of the resin substrate and dried at 60°C to form a PVA-based resin layer with a thickness of 13 μm, thereby producing a laminate.

얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 종방향(긴 길이 방향)으로 2.4배로 1축 연신하였다(공중 보조 연신 처리).The obtained laminate was uniaxially stretched 2.4 times in the longitudinal direction (longitudinal direction) in an oven at 130°C (air auxiliary stretching treatment).

이어서, 적층체를, 액온 40℃의 불용화욕(물 100질량부에 대해서, 붕산을 4질량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by mixing 4 parts by mass of boric acid with 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서, 액온 30℃의 염색욕(물 100질량부에 대해서, 요오드와 요오드화 칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광자의 단체 투과율(Ts)이 소망하는 값이 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색 처리).Next, in a dyeing bath (iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 30°C, the single transmittance (Ts) of the polarizer finally obtained is the desired value. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration as much as possible (dyeing treatment).

이어서, 액온 40℃의 가교욕(물 100질량부에 대해서, 요오드화 칼륨을 3질량부 배합하고, 붕산을 5질량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Next, it was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by mass of potassium iodide and 5 parts by mass of boric acid with respect to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (crosslinking treatment).

그 후, 적층체를, 액온 70℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4중량%, 요오드화 칼륨 농도 5중량%)에 침지시키면서, 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 길이 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 1축 연신을 행하였다(수중 연신 처리).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous boric acid solution (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 70°C, and the total stretch ratio was stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) between rolls with different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed to increase the size by 5.5 times (underwater stretching treatment).

그 후, 적층체를 액온 20℃의 세정욕(물 100질량부에 대해서, 요오드화 칼륨을 4질량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (an aqueous solution obtained by mixing 4 parts by mass of potassium iodide with 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 20°C (washing treatment).

그 후, 약 90℃로 유지된 오븐 중에서 건조하면서, 표면 온도가 약 75℃로 유지된 SUS제의 가열 롤에 접촉시켰다(건조 수축 처리).Afterwards, it was dried in an oven maintained at about 90°C and brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at about 75°C (dry shrink treatment).

이와 같이 하여, 수지 기재 위에 두께 약 5㎛의 편광자를 형성하여, 수지 기재/편광자의 구성을 갖는 적층체를 얻었다.In this way, a polarizer with a thickness of about 5 μm was formed on the resin substrate, and a laminate having a resin substrate/polarizer configuration was obtained.

얻어진 적층체의 편광자 표면(수지 기재와는 반대 측의 면)에, 보호층으로서 HC-TAC 필름(두께 20㎛)을 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하고, 보호층/편광자의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.An HC-TAC film (thickness 20 μm) was bonded to the polarizer surface (surface opposite to the resin substrate) of the obtained laminate as a protective layer. Next, the resin substrate was peeled, and a polarizing plate having a protective layer/polarizer configuration was obtained.

2. 제1 위상차층 및 제2 위상차층의 제작2. Fabrication of the first phase contrast layer and the second phase contrast layer

네마틱 액정상을 나타내는 중합성 액정(BASF사 제조: 상품명 'Paliocolor LC242', 하기 식으로 나타냄) 10g과, 당해 중합성 액정 화합물에 대한 광중합 개시제(BASF사 제조: 상품명 '이르가큐어 907') 3g을, 톨루엔 40g에 용해하여, 액정 조성물(도공액)을 조제하였다.10 g of a polymerizable liquid crystal exhibiting a nematic liquid crystalline phase (manufactured by BASF, brand name 'Paliocolor LC242', expressed in the formula below), and a photopolymerization initiator for the polymerizable liquid crystal compound (manufactured by BASF, brand name 'Irgacure 907') 3 g was dissolved in 40 g of toluene to prepare a liquid crystal composition (coating solution).

폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(두께 38㎛) 표면을, 러빙 포(布)를 이용하여 러빙하여, 배향 처리를 실시하였다. 배향 처리의 방향은, 편광판에 첩합할 때에 편광자의 흡수축의 방향에 대하여 시인측에서 보아 15° 방향이 되도록 하였다. 이 배향 처리 표면에, 상기 액정 도공액을 바 코터에 의해 도공하고, 90℃에서 2분간 가열 건조하는 것에 의해 액정 화합물을 배향시켰다. 이와 같이 하여 형성된 액정층에, 메탈할라이드 램프를 이용하여 1mJ/cm2의 광을 조사하고, 당해 액정층을 경화시킴으로써, PET 필름 위에 액정 배향 고화층 A를 형성하였다. 액정 배향 고화층 A의 두께는 2㎛, 면내 위상차 Re(550)는 270nm였다. 또한, 액정 배향 고화층 A는, nx>ny=nz의 굴절률 분포를 갖고 있었다. 액정 배향 고화층 A를 제1 위상차층으로서 이용하였다.The surface of a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness 38 μm) was rubbed using a rubbing cloth to perform an orientation treatment. The direction of the orientation treatment was set to be 15° when viewed from the viewer's side with respect to the direction of the absorption axis of the polarizer when bonding to the polarizing plate. The liquid crystal coating liquid was applied to this alignment treated surface using a bar coater, and the liquid crystal compound was aligned by heating and drying at 90°C for 2 minutes. The liquid crystal layer thus formed was irradiated with light at 1 mJ/cm 2 using a metal halide lamp, and the liquid crystal layer was cured, thereby forming a liquid crystal alignment layer A on the PET film. The thickness of the liquid crystal alignment solidification layer A was 2 μm, and the in-plane retardation Re (550) was 270 nm. Additionally, the liquid crystal alignment-fixed layer A had a refractive index distribution of nx>ny=nz. Liquid crystal alignment-fixed layer A was used as the first retardation layer.

도공 두께를 변경한 것, 및, 배향 처리 방향을 편광자의 흡수축의 방향에 대하여 시인측에서 보아 75° 방향이 되도록 한 것 이외에는 상기와 마찬가지로 하여, PET 필름 위에 액정 배향 고화층 B를 형성하였다. 액정 배향 고화층 B의 두께는 1㎛, 면내 위상차 Re(550)는 140nm였다. 또한, 액정 배향 고화층 B는, nx>ny=nz의 굴절률 분포를 갖고 있었다. 액정 배향 고화층 B를 제2 위상차층으로서 이용하였다.Liquid crystal alignment solidification layer B was formed on the PET film in the same manner as above except that the coating thickness was changed and the orientation treatment direction was 75° when viewed from the visual side with respect to the direction of the absorption axis of the polarizer. The thickness of the liquid crystal alignment solidification layer B was 1 μm, and the in-plane retardation Re(550) was 140 nm. Additionally, the liquid crystal alignment-fixed layer B had a refractive index distribution of nx>ny=nz. Liquid crystal alignment-fixed layer B was used as the second phase difference layer.

3. 적층체 필름의 제작3. Production of laminate film

상기 1.에서 얻어진 편광판의 편광자 표면에, 상기 2.에서 얻어진 액정 배향 고화층 A(제1 위상차층) 및 액정 배향 고화층 B(제2 위상차층)를 이 순서대로 전사하였다. 이때, 편광자의 흡수축과 배향 고화층 A의 지상축이 이루는 각도가 15°, 편광자의 흡수축과 배향 고화층 B의 지상축이 이루는 각도가 75°가 되도록 하여 전사(첩합)하였다. 또한, 액정 배향 고화층 A(제1 위상차층)는, 아크릴계 점착제층(두께 5㎛, 25℃에서의 저장 탄성률 1.4×105Pa, 제1 점착제층)을 개재하여 편광자에 전사(첩합)하였다. 액정 배향 고화층 B(제2 위상차층)는, 자외선 경화형 접착제층(두께 1.0㎛, 접착제층)을 개재하여 액정 배향 고화층 A에 전사(첩합)하였다. 또한, 액정 배향 고화층 B(제2 위상차층)의 표면에 아크릴계 점착제층(두께 20㎛, 25℃에서의 저장 탄성률 1.4×105Pa, 제2 점착제층)을 배치하였다. 그 후, 당해 아크릴계 점착제층(제2 점착제층)의 표면에, 박리 라이너(박리 처리층이 마련된 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름)를 첩부하였다. 마지막으로, 기재(폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름)와; 기재에 적층되는 아크릴계 점착제층을 구비하는 표면 보호 필름을, 편광판의 보호층에 첩부하였다.The liquid crystal alignment fixed layer A (first phase difference layer) and liquid crystal alignment layer B (second phase difference layer) obtained in above 2. were transferred to the polarizer surface of the polarizing plate obtained in above 1. in this order. At this time, the transfer (lamination) was performed so that the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the orientation-frozen layer A was 15°, and the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the orientation-frozen layer B was 75°. In addition, the liquid crystal alignment solidification layer A (first retardation layer) was transferred (laminated) to the polarizer through an acrylic adhesive layer (thickness 5 μm, storage modulus at 25°C 1.4×10 5 Pa, first adhesive layer). . The liquid crystal alignment solidified layer B (second phase difference layer) was transferred (laminated) to the liquid crystal alignment solidified layer A through an ultraviolet curing adhesive layer (thickness 1.0 μm, adhesive layer). Additionally, an acrylic adhesive layer (thickness 20 μm, storage modulus at 25°C of 1.4×10 5 Pa, second adhesive layer) was placed on the surface of liquid crystal alignment solidification layer B (second retardation layer). After that, a release liner (a polyethylene terephthalate-based resin film provided with a release treatment layer) was attached to the surface of the acrylic adhesive layer (second adhesive layer). Finally, a substrate (polyethylene terephthalate-based resin film); A surface protection film including an acrylic adhesive layer laminated on a base material was affixed to the protective layer of the polarizing plate.

이상에 의해, 표면 보호 필름/편광판/제1 점착제층/제1 위상차층/접착제층/제2 위상차층/제2 점착제층/박리 라이너의 구성을 갖는 적층 필름을 얻었다. 적층 필름은, 적층 방향으로부터 보아 직사각형상을 갖고 있었다. 적층 필름의 긴 변의 치수는 200mm이며, 적층 필름의 짧은 변의 치수는 100mm였다.As a result of the above, a laminated film having the structure of surface protection film/polarizing plate/1st adhesive layer/1st retardation layer/adhesive layer/2nd retardation layer/2nd adhesive layer/release liner was obtained. The laminated film had a rectangular shape when viewed from the lamination direction. The dimension of the long side of the laminated film was 200 mm, and the dimension of the short side of the laminated film was 100 mm.

[실시예 1~4 및 비교예 1][Examples 1 to 4 and Comparative Example 1]

조제예 1에서 얻은 적층 필름을 단면 절삭 가공 장치에 셋팅하였다. 상세하게는, 2개의 보유지지부가, 0.17MPa의 클램프 압력으로, 적층 필름을 두께 방향에 끼워 보유지지하였다. 이어서, 적층 필름의 단면을, 하기 절삭 조건으로 정면 프레이즈에 의해 절삭 가공하였다. 절삭 가공에서, 정면 프레이즈는, 표 1에 나타내는 이송 속도로, 적층 필름의 단면에 대하여 상대 이동하였다. 이로써, 절삭 가공 필름(광학 적층체)을 얻었다. 또한, 각 이송 속도에서, 20 샘플(절삭 가공 필름)을 준비하였다.The laminated film obtained in Preparation Example 1 was set in a single-sided cutting machine. In detail, the two holding parts held the laminated film between them in the thickness direction with a clamp pressure of 0.17 MPa. Next, the cross section of the laminated film was cut with a front fray under the following cutting conditions. In cutting processing, the front frame moved relative to the cross section of the laminated film at the feed rate shown in Table 1. As a result, a cutting film (optical laminate) was obtained. Additionally, at each feed rate, 20 samples (cut film) were prepared.

<절삭 조건><Cutting conditions>

날 수: 3매Number of blades: 3

절삭각/장착각/릴리프각: 20°/10°/6°Cutting angle/mounting angle/relief angle: 20°/10°/6°

회전 속도: 4500rpmRotation speed: 4500rpm

최대 절삭량: 0.8+0.2mm(2회 가공)Maximum cutting amount: 0.8+0.2mm (2 times machining)

[표 1][Table 1]

[평가][evaluation]

표 1로부터 명확한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따르면, 정면 프레이즈의 이송 속도를 800mm/분 이하로 함으로써, 단면의 진직도를 향상시킬 수 있는 것을 알 수 있다. 또한, 정면 프레이즈의 이송 속도를 400mm/분 이상으로 하면, 표면 보호 필름의 들뜸 및 점착제층의 결손을 억제할 수 있는 것을 알 수 있다.As is clear from Table 1, according to the embodiment of the present invention, the straightness of the cross section can be improved by setting the feed speed of the front frame to 800 mm/min or less. Additionally, it can be seen that when the feed speed of the front frame is set to 400 mm/min or more, lifting of the surface protection film and defects in the adhesive layer can be suppressed.

본 발명의 절삭 가공 필름의 제조 방법은, 각종 산업 제품에 이용되는 절삭 가공 필름, 특히 절삭 가공 적층 필름을 제조할 수 있다. 절삭 가공 적층 필름은, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 및 무기 EL 표시 장치 등의 표시 장치에 적합하게 이용된다.The method for producing a cutting film of the present invention can produce a cutting film used in various industrial products, especially a cutting laminated film. The cutting laminated film is suitably used in display devices such as liquid crystal display devices, organic EL display devices, and inorganic EL display devices.

1: 편광판
11: 편광자
2: 제1 위상차층
41: 제1 점착제층
100: 적층 필름
1: Polarizer
11: Polarizer
2: First phase contrast layer
41: First adhesive layer
100: Laminated film

Claims (5)

필름의 단면을 정면 프레이즈(正面 fraise)에 의해 절삭 가공하는 공정을 포함하고,
상기 절삭 가공하는 공정에서의 상기 정면 프레이즈의 이송 속도가, 800mm/분 이하인, 절삭 가공 필름의 제조 방법.
It includes a process of cutting the cross section of the film by front fraise,
A method for producing a cutting film, wherein the feed speed of the front frame in the cutting process is 800 mm/min or less.
제1항에 있어서,
상기 필름은, 제1 필름과; 상기 제1 필름에 적층되는 점착제층과; 상기 점착제층을 개재하여 상기 제1 필름에 첩부되는 제2 필름을 포함하는, 적층 필름이며,
상기 절삭 가공하는 공정에서의 상기 정면 프레이즈의 이송 속도가, 400mm/분 이상인, 절삭 가공 필름의 제조 방법.
According to paragraph 1,
The film includes a first film; an adhesive layer laminated on the first film; It is a laminated film including a second film attached to the first film through the adhesive layer,
A method for producing a cutting film, wherein the feed speed of the front frame in the cutting process is 400 mm/min or more.
제2항에 있어서,
상기 제1 필름은, 편광자이고,
상기 제2 필름은, 위상차층인, 절삭 가공 필름의 제조 방법.
According to paragraph 2,
The first film is a polarizer,
A method of manufacturing a cutting film, wherein the second film is a retardation layer.
제1항에 있어서,
상기 절삭 가공하는 공정에서, 하기 진직도 측정에 의한 상기 단면의 진직도가 0.007mm 이하가 되도록, 상기 단면을 절삭 가공하는, 절삭 가공 필름의 제조 방법:
(진직도 측정 - 상기 단면의 좌표를 컴퓨터 수치 제어 화상 측정 시스템에 의해 10점 측정하고, 상기 10점의 좌표로부터 근사선을 산출하고, 상기 근사선과 직교하는 방향에서의 상기 근사선과 상기 단면 사이의 간격의 최댓값과 최솟값의 차를 진직도로 한다.)
According to paragraph 1,
In the cutting process, the cross-section is cut so that the straightness of the cross-section according to the following straightness measurement is 0.007 mm or less:
(Straightness measurement - Measure the coordinates of the cross section at 10 points using a computer numerical control image measurement system, calculate an approximation line from the coordinates of the 10 points, and determine the distance between the approximation line and the cross section in a direction perpendicular to the approximation line. The difference between the maximum and minimum values of the interval is considered straightness.)
정면 프레이즈에 의해 절삭 가공된 단면을 갖고, 하기 진직도 측정에 의한 상기 단면의 진직도가 0.007mm 이하인, 절삭 가공 필름:
(진직도 측정 - 상기 단면의 좌표를 컴퓨터 수치 제어 화상 측정 시스템에 의해 10점 측정하고, 상기 10점의 좌표로부터 근사선을 산출하고, 상기 근사선과 직교하는 방향에서의 상기 근사선과 상기 단면 사이의 간격의 최댓값과 최솟값의 차를 진직도로 한다.)
A cut film having a cross-section cut by a front frame, and the straightness of the cross-section according to the following straightness measurement is 0.007 mm or less:
(Straightness measurement - Measure the coordinates of the cross section at 10 points using a computer numerical control image measurement system, calculate an approximation line from the coordinates of the 10 points, and determine the distance between the approximation line and the cross section in a direction perpendicular to the approximation line. The difference between the maximum and minimum values of the interval is considered straightness.)
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