JP2024018516A - Polarizer and image display device - Google Patents

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JP2024018516A JP2022121906A JP2022121906A JP2024018516A JP 2024018516 A JP2024018516 A JP 2024018516A JP 2022121906 A JP2022121906 A JP 2022121906A JP 2022121906 A JP2022121906 A JP 2022121906A JP 2024018516 A JP2024018516 A JP 2024018516A
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Sosuke Saito
彰二 祖父江
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Abstract

To provide a polarizer including a retardation plate having a plurality of retardation layers each containing a cured product of a liquid crystal compound, the polarizer having excellent durability against peeling force applied when a base material is peeled.SOLUTION: A polarizer is formed by laminating a linear polarizer, a first bonding layer and a retardation plate in this order. The retardation plate includes a first retardation layer and a second retardation layer, where the first retardation layer and the second retardation layer each contains a cured product of a liquid crystal compound and has a puncture modulus of elasticity of 70 g/mm or more. The first bonding layer has a tensile modulus of elasticity of 1.0×108 Pa or less at 23°C and 55% relative humidity.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は偏光板及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to a polarizing plate and an image display device.

従来、画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に円偏光板を配置して、外来光の反射による視認性の低下を抑制する方法が採用されている。 Conventionally, in image display devices, a method has been adopted in which a circularly polarizing plate is disposed on the viewing side of an image display panel to suppress a decrease in visibility due to reflection of external light.

円偏光板は、直線偏光板と位相差板とが積層された構成である。円偏光板では、画像表示パネルに向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く位相差板により円偏光に変換する。円偏光である外来光は、画像表示パネルの表面で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転し、位相差板により直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光される。その結果、外部への外来光の出射が著しく抑制される。 A circularly polarizing plate has a structure in which a linearly polarizing plate and a retardation plate are laminated. In the circularly polarizing plate, external light directed toward the image display panel is converted into linearly polarized light by a linearly polarizing plate, and then converted into circularly polarized light by a subsequent retardation plate. External light, which is circularly polarized light, is reflected on the surface of the image display panel, but upon reflection, the rotation direction of the polarization plane is reversed, and after being converted to linearly polarized light by a retardation plate, the light is blocked by the following linear polarizer. be done. As a result, the emission of extraneous light to the outside is significantly suppressed.

位相差板においては、液晶化合物の硬化物を含む位相差層を有する構成が知られている(例えば、特許文献1、2)。かかる構成によると、位相差板の薄型化を図ることができる。 In the retardation plate, a structure having a retardation layer containing a cured product of a liquid crystal compound is known (for example, Patent Documents 1 and 2). According to this configuration, it is possible to reduce the thickness of the retardation plate.

特開2015-163935号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-163935 特開2019-91030号公報JP2019-91030A

液晶化合物の硬化物を含む位相差層を複数有する位相差板においては、薄型化を優先すると、基材剥離時に付加される剥離力により位相差層、特に剥離される基材に近い位相差層に損傷が生じるという不具合が生じることがあった。 In a retardation plate having multiple retardation layers containing a cured product of a liquid crystal compound, if priority is given to making it thin, the retardation layer, especially the retardation layer close to the base material to be peeled off, will be damaged by the peeling force applied when the base material is peeled off. There have been cases where problems have occurred in which damage has occurred.

本発明は、液晶化合物の硬化物を含む位相差層を複数有する位相差板を備えた偏光板であって、基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性に優れた偏光板を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a polarizing plate equipped with a retardation plate having a plurality of retardation layers containing a cured product of a liquid crystal compound, which has excellent durability against peeling force applied when peeling off a base material. With the goal.

本発明は、以下の偏光板を提供する。
〔1〕 直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板と、がこの順に積層されてなる偏光板であって、
前記位相差板は、
第1位相差層と第2位相差層とを有し、
前記第1位相差層及び前記第2位相差層は液晶化合物の硬化物を含み、
突き刺し弾性率が70g/mm以上であり、
前記第1貼合層は、温度23℃、相対湿度55%での引張弾性率が1.0×10Pa以下である、偏光板。
〔2〕前記第1貼合層の厚み(m)と引張弾性率(Pa)との積が500以下である、〔1〕に記載の偏光板
〔3〕 前記位相差板は、前記第1位相差層と前記第2位相差層との間に、配向膜のみを有する、または介在する他の層を有しない、〔1〕または〔2〕に記載の偏光板。
〔4〕 前記直線偏光板は偏光子を有し、
前記偏光子は、厚みが15μm以下である、〔1〕~〔3〕のずれか1項に記載の偏光板。
〔5〕 前記直線偏光板は前記偏光子の前記第1貼合層とは反対側の表面に設けられた保護フィルムを有し、
前記保護フィルムは、厚みが30μm以下である、〔4〕に記載の偏光板。
〔6〕 前記第1位相差層は、逆分散性のλ/4層である、〔1〕~〔5〕のいずれか1項に記載の偏光板。
〔7〕 前記第2位相差層は、ポジティブCプレートである、〔1〕~〔6〕のいずれか1項に記載の偏光板。
The present invention provides the following polarizing plate.
[1] A polarizing plate in which a linear polarizing plate, a first bonding layer, and a retardation plate are laminated in this order,
The retardation plate is
comprising a first retardation layer and a second retardation layer,
The first retardation layer and the second retardation layer include a cured product of a liquid crystal compound,
The puncture modulus is 70 g/mm or more,
The first bonding layer is a polarizing plate having a tensile modulus of 1.0×10 8 Pa or less at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55%.
[2] The polarizing plate according to [1], wherein the product of the thickness (m) and the tensile modulus (Pa) of the first bonding layer is 500 or less. [3] The retardation plate is The polarizing plate according to [1] or [2], which has only an alignment film or no other intervening layer between the retardation layer and the second retardation layer.
[4] The linearly polarizing plate has a polarizer,
The polarizing plate according to any one of [1] to [3], wherein the polarizer has a thickness of 15 μm or less.
[5] The linearly polarizing plate has a protective film provided on the surface of the polarizer opposite to the first lamination layer,
The polarizing plate according to [4], wherein the protective film has a thickness of 30 μm or less.
[6] The polarizing plate according to any one of [1] to [5], wherein the first retardation layer is a reverse dispersion λ/4 layer.
[7] The polarizing plate according to any one of [1] to [6], wherein the second retardation layer is a positive C plate.

本発明によると、基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性に優れた偏光板を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a polarizing plate that has excellent durability against peeling force applied when peeling off a base material.

本実施形態の偏光板の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of a polarizing plate of this embodiment. 位相差板の具体例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a specific example of a retardation plate. 位相差板の具体例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a specific example of a retardation plate. 本実施形態の画像表示装置の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of an image display device according to the present embodiment.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下のすべての図面においては、各構成要素を理解しやすくするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments. In all the drawings below, each component is shown adjusted to an appropriate scale to make it easier to understand, and the scale of each component shown in the drawings does not necessarily match the actual scale of the component.

[偏光板]
図1は、本実施形態の偏光板の一例を模式的に示す概略断面図である。図1に示すように、偏光板1は、前面側から、直線偏光板10と、第1貼合層21と、位相差板30と、がこの順に積層されている。位相差板30は、第1位相差層31と、第2位相差層32と、を有する。偏光板1は、円偏光板であってもよい。本明細書において、偏光板という用語は、円偏光板も包含する。
[Polarizer]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of a polarizing plate of this embodiment. As shown in FIG. 1, in the polarizing plate 1, a linear polarizing plate 10, a first bonding layer 21, and a retardation plate 30 are laminated in this order from the front side. The retardation plate 30 includes a first retardation layer 31 and a second retardation layer 32. The polarizing plate 1 may be a circularly polarizing plate. In this specification, the term polarizing plate also includes circularly polarizing plates.

位相差板30は、突き刺し弾性率が70g/mm以上である。突き刺し弾性率は、実施例に記載の方法にしたがった方法により測定される値とする。位相差板30の突き刺し弾性率は、好ましくは140g/mm以下であり、より好ましくは120g/mm以下であり、110g/mm以下であってもよい。位相差板30は、偏光板から剥離することを予定している基材を含んでいても含んでいなくてもよく、本明細書でいう位相差板30の突き刺し弾性率は、位相差板30の内、偏光板から剥離することを予定している基材を含まない部分の層構成の突き刺し弾性率を意味する。位相差板30において、第1位相差層31と第2位相差層32との間には、介在する他の層を有していてもよいし、有していなくてもよい。 The retardation plate 30 has a piercing elastic modulus of 70 g/mm or more. The puncture elastic modulus is a value measured by a method according to the method described in Examples. The puncture elastic modulus of the retardation plate 30 is preferably 140 g/mm or less, more preferably 120 g/mm or less, and may be 110 g/mm or less. The retardation plate 30 may or may not include a base material that is planned to be peeled off from the polarizing plate, and the puncture elastic modulus of the retardation plate 30 in this specification is the same as that of the retardation plate. 30 means the puncture elastic modulus of the layer structure of the portion that does not include the base material that is scheduled to be peeled off from the polarizing plate. In the retardation plate 30, there may or may not be another layer interposed between the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32.

位相差板30において、第1位相差層31と第2位相差層32とが貼合層(以下、「第3貼合層」とする)を介して貼合されている場合には、突き刺し弾性率は第3貼合層の硬さに依存するものの、第3貼合層が粘着剤からなる層である場合、突き刺し弾性率は低くなる傾向にあり、70g/mm未満である場合がある。一方、第3貼合層が接着剤からなる層である場合、突き刺し弾性率は高くなる傾向にあり、70g/mm以上である場合がある。位相差板30において、第1位相差層31と第2位相差層32とが、その間に介在する貼合層を有さずに積層されている場合には、位相差板30の突き刺し弾性率は高くなる傾向にあり、通常、70g/mm以上である。位相差板30において、第1位相差層31と第2位相差層32とが、貼合層を有さずに積層されている構成としては、第1位相差層31と第2位相差層32との間に、配向膜のみを有する、または介在する他の層を有しない構成が挙げられる。 In the retardation plate 30, when the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 are laminated via a lamination layer (hereinafter referred to as "third lamination layer"), piercing Although the elastic modulus depends on the hardness of the third bonding layer, when the third bonding layer is a layer made of an adhesive, the puncture elastic modulus tends to be low and may be less than 70 g/mm. . On the other hand, when the third bonding layer is a layer made of adhesive, the puncture elastic modulus tends to be high and may be 70 g/mm or more. In the retardation plate 30, when the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 are laminated without a bonding layer interposed therebetween, the puncture elastic modulus of the retardation plate 30 tends to be high and is usually 70 g/mm or more. In the retardation plate 30, a configuration in which the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 are laminated without a bonding layer is such that the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32, there may be mentioned a structure having only an alignment film or having no other intervening layer.

本発明者らは、突き刺し弾性率が高い位相差板を用いた偏光板は基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性が低いとの知見を得た。一方で、位相差板の突き刺し弾性率を低くすると、基材の剥離力が軽くなり基材が浮きやすいという問題が生じやすい。本発明者らは、さらに鋭意研究を重ね、突き刺し弾性率が70g/mm以上の位相差板を用いた偏光板であっても、直線偏光板10と位相差板30との間に介在する第1貼合層21を、温度23℃、相対湿度55%での引張弾性率が1.0×10Pa以下である粘接着剤からなるようにすることにより、基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性に優れた偏光板とすることができるとの知見を得て本発明に至った。また、本発明はかかる構成であることにより、ヒートショックや研磨により生じるクラックの発生を抑制することができる。第1貼合層21を形成する粘接着剤の温度23℃、相対湿度55%での引張弾性率は、好ましくは1.0×10Pa以下であり、より好ましくは1.0×10Pa以下であり、好ましくは1.0×10Pa以上であり、より好ましくは1.0×10Pa以上である。また、第1貼合層21を形成する粘接着剤の厚み(m)と引張弾性率(Pa)との積は、好ましくは500以下であり、より好ましくは50以下であり、さらに好ましくは5以下である。第1貼合層21を形成する粘接着剤の厚み(m)と引張弾性率(Pa)との積は、好ましくは0.005以上であり、より好ましくは0.5以上である。この数値範囲とすることにより、剥離力に対する耐久性を向上させることができる。 The present inventors have found that a polarizing plate using a retardation plate having a high puncture elastic modulus has low durability against the peeling force applied when peeling the base material. On the other hand, if the puncture elastic modulus of the retardation plate is lowered, the peeling force of the base material becomes lighter, which tends to cause the problem that the base material tends to float. The present inventors further conducted intensive research and found that even if the polarizing plate uses a retardation plate with a puncture elastic modulus of 70 g/mm or more, the By making the bonding layer 21 made of an adhesive having a tensile modulus of 1.0 x 10 8 Pa or less at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55%, the bonding layer 21 can be added at the time of peeling off the base material. The present invention was developed based on the finding that a polarizing plate having excellent durability against peeling force can be obtained. Furthermore, with this configuration, the present invention can suppress the occurrence of cracks caused by heat shock or polishing. The tensile modulus of the adhesive forming the first bonding layer 21 at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55% is preferably 1.0×10 7 Pa or less, more preferably 1.0×10 6 Pa or less, preferably 1.0×10 3 Pa or more, and more preferably 1.0×10 5 Pa or more. Further, the product of the thickness (m) and the tensile modulus (Pa) of the adhesive forming the first bonding layer 21 is preferably 500 or less, more preferably 50 or less, and even more preferably 5 or less. The product of the thickness (m) and tensile modulus (Pa) of the adhesive forming the first bonding layer 21 is preferably 0.005 or more, more preferably 0.5 or more. By setting the value within this range, durability against peeling force can be improved.

本発明に係る偏光板は基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性が高く、より具体的には、基材を備える位相差板を有する偏光板から基材を剥離する際に位相差板の位相差層が損傷することを抑制することができる。位相差板の位相差層は、液晶化合物の硬化物を含む層である場合には薄く、基材を剥離する際に損傷しやすく、特に基材に近い位相差層ほど損傷しやすいものの、本発明に係る偏光板においては、このような損傷を抑制することができる。基材としては、位相差板の製造工程で用いられた基材が挙げられる。 The polarizing plate according to the present invention has high durability against peeling force applied when peeling off a base material. Damage to the retardation layer can be suppressed. The retardation layer of a retardation plate, if it is a layer containing a cured product of a liquid crystal compound, is thin and easily damaged when the base material is peeled off, especially the closer the retardation layer is to the base material, the more likely it is to be damaged. In the polarizing plate according to the invention, such damage can be suppressed. Examples of the base material include base materials used in the manufacturing process of the retardation plate.

第1貼合層21を形成する粘接着剤の温度23℃、相対湿度55%での引張弾性率は、次の手順によって測定することができる。離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、「PETフィルム」ということがある。)の離型処理面にアプリケータを用いて粘接着剤組成物を塗布する。その後、室温雰囲気下に30分間載置して予備乾燥し、さらに温度100℃の条件下に5分間載置して本乾燥することにより、PETフィルムに塗布された粘接着剤組成物に含まれる溶剤を十分に揮発させる。最後に、所定の硬化処理(加熱処理や紫外線照射処理等)を行い、PETフィルム上に貼合層を作製し、PETフィルムを剥離して得られた貼合層を測定用のサンプルとして、後述する実施例に記載の方法によって引張弾性率を測定すればよい。 The tensile modulus of the adhesive forming the first bonding layer 21 at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55% can be measured by the following procedure. An adhesive composition is applied to the release-treated surface of a polyethylene terephthalate film (hereinafter sometimes referred to as "PET film") that has been subjected to a release process using an applicator. Thereafter, the pressure-sensitive adhesive composition applied to the PET film was dried by placing it in a room temperature atmosphere for 30 minutes to pre-dry it, and then placing it at a temperature of 100°C for 5 minutes to dry it. Thoroughly volatilize the solvent. Finally, a predetermined curing treatment (heat treatment, ultraviolet irradiation treatment, etc.) is performed to create a bonding layer on the PET film, and the bonding layer obtained by peeling off the PET film is used as a sample for measurement as described below. The tensile modulus may be measured by the method described in Examples.

[第1貼合層]
第1貼合層21は、直線偏光板10と位相差板30との貼合を担う層である。温度23℃、相対湿度55%での引張弾性率が1.0×10Pa以下の粘接着剤としては、例えば、粘着剤、接着剤が挙げられる。第1貼合層21としては好ましくは粘着剤が用いられる。
[First lamination layer]
The first bonding layer 21 is a layer responsible for bonding the linearly polarizing plate 10 and the retardation plate 30 together. Examples of the pressure-sensitive adhesive having a tensile modulus of elasticity of 1.0×10 8 Pa or less at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55% include pressure-sensitive adhesives and adhesives. As the first bonding layer 21, an adhesive is preferably used.

第1貼合層21に用いられる具体的な粘着剤としては、たとえば、アクリル系ポリマーや、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテルなどをベースポリマーとするもので構成することができる。なかでも、アクリル系ポリマーのように、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を保持し、基材との接着性にも優れ、さらには耐候性や耐熱性などを有し、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等の剥離問題を生じないものを選択して用いることが好ましい。アクリル系ポリマーにおいては、メチル基やエチル基、ブチル基等の炭素数が20以下のアルキル基を有するアクリル酸のアルキルエステルと、(メタ)アクリル酸や(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチルなどからなる官能基含有アクリル系モノマーとを、ガラス転移温度が好ましくは25℃以下、さらに好ましくは0℃以下となるように配合した、重量平均分子量が10万以上のアクリル系共重合体が、ベースポリマーとして有用である。 The specific adhesive used in the first bonding layer 21 may be made of, for example, an acrylic polymer, a silicone polymer, polyester, polyurethane, polyether, or the like as a base polymer. Among these, polymers such as acrylic polymers have excellent optical transparency, maintain appropriate wettability and cohesive strength, and have excellent adhesion to substrates, as well as weather resistance and heat resistance. It is preferable to select and use a material that does not cause peeling problems such as lifting or peeling under conditions of heating or humidification. In acrylic polymers, alkyl esters of acrylic acid having alkyl groups with carbon numbers of 20 or less, such as methyl, ethyl, and butyl groups, and functional compounds such as (meth)acrylic acid and hydroxyethyl (meth)acrylate are used. An acrylic copolymer with a weight average molecular weight of 100,000 or more, which is blended with a group-containing acrylic monomer so that the glass transition temperature is preferably 25°C or lower, more preferably 0°C or lower, is useful as a base polymer. It is.

アクリル系ポリマーとしては、特に限定されるものではないが、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシルなどの(メタ)アクリル酸エステル系ベースポリマーや、これらの(メタ)アクリル酸エステルを2種類以上用いた共重合系ベースポリマーが好適に用いられる。また、これらのベースポリマーには、極性モノマーが共重合されていてもよい。極性モノマーとしては、たとえば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリルアミド、2-N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートなどの、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基などの極性官能基を有するモノマーを挙げることができる。 Acrylic polymers include, but are not particularly limited to, (meth)acrylics such as butyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. Acid ester base polymers and copolymer base polymers using two or more of these (meth)acrylate esters are preferably used. Moreover, a polar monomer may be copolymerized with these base polymers. Examples of the polar monomer include (meth)acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, and 2-N,N-dimethylaminoethyl (meth) Examples include monomers having polar functional groups such as carboxyl groups, hydroxyl groups, amide groups, amino groups, and epoxy groups, such as acrylate and glycidyl (meth)acrylate.

これらのアクリル系ポリマーは、単独でも粘着剤として使用可能であるが、粘着剤には通常、架橋剤が配合される。架橋剤としては、2価または多価金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの、ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの、ポリエポキシ化合物やポリオール化合物であって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの、ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものなどが例示される。なかでもポリイソシアネート化合物が、有機系架橋剤として広く使用されている。 Although these acrylic polymers can be used alone as an adhesive, a crosslinking agent is usually added to the adhesive. Examples of crosslinking agents include divalent or polyvalent metal ions that form carboxylic acid metal salts with carboxyl groups, polyamine compounds that form amide bonds with carboxyl groups, Examples include polyepoxy compounds and polyol compounds that form ester bonds with carboxyl groups, and polyisocyanate compounds that form amide bonds with carboxyl groups. Among them, polyisocyanate compounds are widely used as organic crosslinking agents.

本実施形態において、第1貼合層を形成する粘着剤の引張弾性率を調整するための手段としては、特に制限されないが、たとえば、上述の粘着剤成分に、オリゴマー、具体的にはウレタンアクリレート系のオリゴマーを配合する方法を好適なものとして挙げることができる。さらに、このようなウレタンアクリレート系オリゴマーを配合した粘着剤にエネルギー線を照射して硬化させたものを用いてもよい。ウレタンアクリレート系オリゴマーが配合された粘着剤、あるいは、それを支持フィルム(セパレータ)上に塗工し紫外線硬化させたセパレータ付き粘着剤は、公知であり、粘着剤メーカーから入手できる。 In this embodiment, the means for adjusting the tensile modulus of the adhesive forming the first bonding layer is not particularly limited, but for example, oligomer, specifically urethane acrylate, is added to the above-mentioned adhesive component. Preferred methods include blending oligomers. Furthermore, an adhesive containing such a urethane acrylate oligomer may be cured by irradiating it with energy rays. Adhesives containing urethane acrylate oligomers, or adhesives with separators that are coated onto a support film (separator) and cured with ultraviolet light, are well known and can be obtained from adhesive manufacturers.

粘着剤には、上記のベースポリマー、架橋剤およびオリゴマーのほか、必要に応じて、粘着剤の粘着力、凝集力、粘性、弾性率、ガラス転移温度などを調整するために、たとえば、天然物や合成物である樹脂類、粘着性付与樹脂、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、消泡剤、腐食抑制剤、光重合開始剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。紫外線吸収剤には、サリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などがある。 In addition to the above-mentioned base polymer, crosslinking agent, and oligomer, the adhesive may contain natural products, for example, to adjust the adhesive strength, cohesive force, viscosity, elastic modulus, glass transition temperature, etc. Appropriate additives such as synthetic resins, tackifying resins, antioxidants, ultraviolet absorbers, dyes, pigments, antifoaming agents, corrosion inhibitors, and photopolymerization initiators may also be blended. Examples of ultraviolet absorbers include salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, cyanoacrylate compounds, and nickel complex salt compounds.

第1貼合層21の厚みは、その接着力などに応じて決定されるが、通常は1~40μmの範囲である。粘着剤層の厚みは3~25μm又は20μm以下とするのが、良好な加工性を保ち、高い耐久性を示すことから、好適である。また、上記範囲の厚みであることにより、剥離力に対する耐久性をより向上させることができる。 The thickness of the first bonding layer 21 is determined depending on its adhesive strength, etc., but is usually in the range of 1 to 40 μm. The thickness of the adhesive layer is preferably 3 to 25 μm or 20 μm or less, since this maintains good processability and exhibits high durability. Further, by having a thickness within the above range, durability against peeling force can be further improved.

第1貼合層21に用いられる具体的な接着剤としては、感圧型接着剤(粘着剤)以外の接着剤であって、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。 Specific adhesives used for the first bonding layer 21 include adhesives other than pressure-sensitive adhesives (adhesives), such as water-based adhesives and active energy ray-curable adhesives.

水系接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を水に溶解、又は分散させた接着剤が挙げられる。水系接着剤を用いた場合の乾燥方法については特に限定されるものではないが、例えば、熱風乾燥機や赤外線乾燥機を用いて乾燥する方法が採用できる。 Examples of water-based adhesives include adhesives in which polyvinyl alcohol-based resin is dissolved or dispersed in water. The drying method when using a water-based adhesive is not particularly limited, but for example, a method of drying using a hot air dryer or an infrared dryer can be adopted.

活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、紫外線、可視光、電子線、X線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含む無溶剤型の活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。無溶剤型の活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることにより、層間の密着性を向上させることができる。 Examples of active energy ray-curable adhesives include solvent-free active energy ray-curable adhesives containing a curable compound that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays. Can be mentioned. By using a solvent-free active energy ray-curable adhesive, it is possible to improve the adhesion between layers.

活性エネルギー線硬化型接着剤としては、良好な接着性を示すことから、カチオン重合性の硬化性化合物、ラジカル重合性の硬化性化合物のいずれか一方又は両方を含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるための光カチオン重合開始剤等のカチオン重合開始剤、又はラジカル重合開始剤をさらに含むことができる。 The active energy ray-curable adhesive preferably contains one or both of a cationically polymerizable curable compound and a radically polymerizable curable compound, since it exhibits good adhesive properties. The active energy ray-curable adhesive may further contain a cationic polymerization initiator such as a photocationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator for starting the curing reaction of the curable compound.

カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えば、脂環式環に結合したエポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物、2個以上のエポキシ基を有し芳香環を有さない多官能脂肪族エポキシ化合物、エポキシ基を1つ有する単官能エポキシ基(但し、脂環式エポキシ化合物に含まれるものを除く)、2個以上のエポキシ基を有し芳香環を有する多官能芳香族エポキシ化合物等のエポキシ系化合物;分子内に1個又は2個以上のオキセタン環を有するオキセタン化合物;これらの組み合わせを挙げることができる。 Examples of cationically polymerizable curable compounds include alicyclic epoxy compounds having an epoxy group bonded to an alicyclic ring, and polyfunctional aliphatic epoxy compounds having two or more epoxy groups and no aromatic ring. , monofunctional epoxy groups having one epoxy group (excluding those included in alicyclic epoxy compounds), polyfunctional aromatic epoxy compounds having two or more epoxy groups and an aromatic ring, etc. Compounds; oxetane compounds having one or more oxetane rings in the molecule; combinations thereof can be mentioned.

ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、(メタ)アクリル系化合物(分子内に1個又は2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物)、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。 Examples of radically polymerizable curable compounds include (meth)acrylic compounds (compounds having one or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule), and others having radically polymerizable double bonds. or a combination thereof.

活性エネルギー線硬化型接着剤は、必要に応じて、光増感助剤等の増感剤を含有することができる。増感剤を使用することにより、反応性が向上し、接着剤層の機械強度や接着強度をさらに向上させることができる。増感剤としては、公知のものを適宜適用することができる。増感剤を配合する場合、その配合量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量100質量部に対し、0.1~20質量部の範囲とすることが好ましい。 The active energy ray-curable adhesive may contain a sensitizer such as a photosensitizer, if necessary. By using a sensitizer, the reactivity is improved and the mechanical strength and adhesive strength of the adhesive layer can be further improved. As the sensitizer, any known sensitizer can be used as appropriate. When a sensitizer is blended, the blending amount is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the active energy ray-curable adhesive.

活性エネルギー線硬化型接着剤は、必要に応じて、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、溶媒等の添加剤を含有することができる。 Active energy ray-curable adhesives contain ion trapping agents, antioxidants, chain transfer agents, tackifiers, thermoplastic resins, fillers, flow regulators, plasticizers, antifoaming agents, and antistatic agents, as required. It may contain additives such as a chemical agent, a leveling agent, and a solvent.

活性エネルギー線硬化型接着剤を用いた場合は、紫外線、可視光、電子線、X線のような活性エネルギー線を照射し、接着剤の塗布層を硬化させて接着剤層を形成することができる。活性エネルギー線としては、紫外線が好ましく、この場合の光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等を用いることができる。 When using an active energy ray-curable adhesive, the adhesive layer can be formed by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays to harden the adhesive coating layer. can. As the active energy ray, ultraviolet rays are preferable, and in this case, as a light source, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excited mercury lamp, a metal halide lamp, etc. can be used. can.

接着剤を第1貼合層21とする場合の厚みは、その接着力などに応じて決定されるが、通常は0.02~10μmの範囲である。接着剤層の厚みは1~4μmとするのが、外力に対する耐久性をより向上させることのできる観点から、好適である。 The thickness of the adhesive used as the first bonding layer 21 is determined depending on its adhesive strength, etc., but is usually in the range of 0.02 to 10 μm. The thickness of the adhesive layer is preferably 1 to 4 μm from the viewpoint of further improving durability against external forces.

[直線偏光板]
直線偏光板10は、透過光より直線偏光を得る偏光機能を有するフィルムであればよい。当該フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、あるいは、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られる液相層を有するフィルム等が挙げられる。
[Linear polarizing plate]
The linearly polarizing plate 10 may be any film that has a polarizing function to obtain linearly polarized light from transmitted light. Examples of the film include a stretched film on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed, a film containing a film coated with a dye having absorption anisotropy as a polarizer, and the like. Examples of dyes having absorption anisotropy include dichroic dyes. A film coated with a dye having absorption anisotropy and used as a polarizer may be a stretched film on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed, or a composition containing a dichroic dye having liquid crystallinity or a dichroic dye. Examples include a film having a liquid phase layer obtained by applying a composition containing a chromatic dye and a polymerizable liquid crystal.

<延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板>
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板について説明する。偏光子である、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、及び二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程を有する、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。かかる偏光子をそのまま直線偏光板として用いてもよく、またはかかる偏光子の少なくとも一方の面に透明保護フィルムを貼合したものを直線偏光板として用いてもよい。
<Linear polarizing plate including stretched film as a polarizer>
A linear polarizing plate including a stretched film as a polarizer on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed will be described. Stretched films that have adsorbed dyes with absorption anisotropy, which are polarizers, are usually produced through a process of uniaxially stretching a polyvinyl alcohol resin film or by dyeing the polyvinyl alcohol resin film with a dichroic dye. It is manufactured through the steps of adsorbing a dichroic dye, treating the polyvinyl alcohol resin film with the dichroic dye adsorbed with an aqueous boric acid solution, and washing with water after the treatment with the aqueous boric acid solution. Such a polarizer may be used as it is as a linear polarizing plate, or such a polarizer with a transparent protective film pasted on at least one surface may be used as a linear polarizing plate.

こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚みは好ましくは5~40μmであり、より好ましくは15μm以下であり、さらに好ましくは10μm以下である。 The thickness of the polarizer obtained by uniaxially stretching the polyvinyl alcohol resin film, dyeing with a dichroic dye, boric acid treatment, washing with water, and drying is preferably 5 to 40 μm, more preferably 15 μm or less. , more preferably 10 μm or less.

偏光子の片面又は両面に貼合される保護フィルムの材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのような樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートのような樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、(メタ)アクリル系樹脂フィルム、ポリプロピレン系樹脂フィルムなど、当分野において公知のフィルムを挙げることができる。保護フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常300μm以下であり、200μm以下であることが好ましく、30μm以下であることがより好ましく、また、通常5μm以上であり、10μm以上であってもよい。保護フィルムの厚みが30μm以下、あるいは温度23℃における引張弾性率が2000MPa以上である場合、保護フィルムが基材剥離時に付加される力の緩和層として機能しにくいため、基材剥離に対する耐久性が低下し、剥離される基材に近い位相差層に損傷が生じる等の不具合が生じやすい。また、視認側の保護フィルムは位相差を有していてもよいし、位相差を有していなくてもよい。 The material of the protective film attached to one or both sides of the polarizer is not particularly limited, but examples include cyclic polyolefin resin films, cellulose acetate-based resins such as triacetylcellulose, and diacetylcellulose. Films known in the art, such as resin films, polyester resin films made of resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate, polycarbonate resin films, (meth)acrylic resin films, and polypropylene resin films. can be mentioned. From the viewpoint of thinning, the thickness of the protective film is usually 300 μm or less, preferably 200 μm or less, more preferably 30 μm or less, and usually 5 μm or more, and may be 10 μm or more. . If the thickness of the protective film is 30 μm or less, or if the tensile modulus at 23°C is 2000 MPa or more, the protective film will not function as a layer for relieving the force applied when peeling off the base material, resulting in poor durability against peeling off the base material. This tends to cause problems such as damage to the retardation layer close to the base material to be peeled off. Further, the protective film on the viewing side may or may not have a retardation.

保護フィルムは、偏光子の片面又は両面に、貼合層(以下、「第2貼合層」とする)を介して貼合することができる。 The protective film can be bonded to one or both sides of the polarizer via a bonding layer (hereinafter referred to as "second bonding layer").

<液晶層を有するフィルムを偏光子として備える直線偏光板>
液晶層を有するフィルムを偏光子として備える直線偏光板について説明する。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物、又は二色性色素と液晶化合物とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、単独で直線偏光板として用いてもよく、その片面又は両面に保護フィルムを有する構成で直線偏光板として用いてもよい。当該保護フィルムとしては、上記した延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板と同一のものが挙げられる。保護フィルムは、偏光子の片面又は両面に、第2貼合層を介して貼合することができる。
<Linear polarizing plate including a film having a liquid crystal layer as a polarizer>
A linear polarizing plate including a film having a liquid crystal layer as a polarizer will be described. A film coated with a dye having absorption anisotropy and used as a polarizer may be coated with a composition containing a dichroic dye having liquid crystal properties, or a composition containing a dichroic dye and a liquid crystal compound. Examples include the resulting film. The film may be used alone as a linearly polarizing plate, or may be used as a linearly polarizing plate with a protective film on one or both sides. Examples of the protective film include the same one as the linear polarizing plate having the above-mentioned stretched film as a polarizer. The protective film can be bonded to one or both sides of the polarizer via a second bonding layer.

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常20μm以下であり、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは5μm以下であり、さらに好ましくは0.5μm以上3μm以下である。 It is preferable for a film coated with a dye having absorption anisotropy to be thin, but if it is too thin, the strength tends to decrease and processability tends to be poor. The thickness of the film is usually 20 μm or less, preferably 15 μm or less, more preferably 5 μm or less, and even more preferably 0.5 μm or more and 3 μm or less.

前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開2013-33249号公報等に記載のフィルムが挙げられる。 Specific examples of the film coated with the dye having absorption anisotropy include the films described in JP-A No. 2013-33249 and the like.

直線偏光板の一態様として、直線偏光板の第1貼合層とは反対側の表面に保護フィルムが設けられた構成が挙げられる。 One embodiment of the linearly polarizing plate includes a configuration in which a protective film is provided on the surface of the linearly polarizing plate opposite to the first bonding layer.

<最前面の層>
直線偏光板10は、最前面に反射防止層を備えていてもよい。反射防止層は、直線偏光板10の表面又は内部での外光の反射光が視認されるのを防止する機能を有するものであり、従来に準じた反射防止層等の形成方法、すなわちコート法、スパッタ法、真空蒸着法等により形成することができる。反射防止層は、直線偏光板10の前面側に設けられる保護フィルムの前面側に予め形成しておくことにより、かかる保護フィルムを用いて反射防止層付き直線偏光板を構成してもよいし、保護フィルムとは別に設けられてもよい。
<Foremost layer>
The linear polarizing plate 10 may include an antireflection layer on the front surface. The antireflection layer has a function of preventing external light reflected from the surface or inside of the linear polarizing plate 10 from being visible, and can be formed using a conventional method for forming an antireflection layer, that is, a coating method. , a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like. The antireflection layer may be formed in advance on the front side of a protective film provided on the front side of the linearly polarizing plate 10, and such a protective film may be used to configure a linearly polarizing plate with an antireflection layer. It may be provided separately from the protective film.

直線偏光板10は、最前面に、反射防止層以外の表面処理層を有していてもよい。このような表面処理層としては、ハードコート層、スティッキング防止層、アンチグレア層、拡散層等が挙げられる。 The linearly polarizing plate 10 may have a surface treatment layer other than the antireflection layer on the front surface. Examples of such surface treatment layers include hard coat layers, anti-sticking layers, anti-glare layers, and diffusion layers.

[位相差板]
位相差板30は、第1位相差層31と第2位相差層32とを有し、第1位相差層31及び第2位相差層32は液晶化合物の硬化物を含み、突き刺し弾性率70g/mm以上であれば限定されない。位相差板30は、第3位相差層を有してもよい。第1位相差層、第2位相差層及び第3位相差層はそれぞれ2以上の層から成っていてもよい。位相差板30は、直線偏光板10側とは反対側の表面に、基材を有していてもよい。当該基材は、位相差層を形成するための基材であってもよく、当該位相差層から剥離可能であることができる。
[Retardation plate]
The retardation plate 30 has a first retardation layer 31 and a second retardation layer 32, the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 contain a cured product of a liquid crystal compound, and have a piercing elastic modulus of 70 g. There is no limitation as long as it is equal to or greater than /mm. The retardation plate 30 may include a third retardation layer. Each of the first retardation layer, the second retardation layer, and the third retardation layer may be composed of two or more layers. The retardation plate 30 may have a base material on the surface opposite to the linearly polarizing plate 10 side. The base material may be a base material for forming a retardation layer, and may be peelable from the retardation layer.

位相差板30は、式(1)及び式(2)で表される光学特性を有することが好ましい。位相差板30がかかる光学特性を有するためには、第1位相差層31、第2位相差層32若しくは第3位相差層が式(1)及び式(2)で表される光学特性を有するか、又は、第1位相差層31、第2位相差層32及び第3位相差層から選ばれる少なくとも2つを組み合わせることで式(1)及び式(2)で表される光学特性を発現すればよい。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
It is preferable that the retardation plate 30 has optical characteristics expressed by formulas (1) and (2). In order for the retardation plate 30 to have such optical characteristics, the first retardation layer 31, the second retardation layer 32, or the third retardation layer must have the optical characteristics expressed by formulas (1) and (2). or by combining at least two selected from the first retardation layer 31, the second retardation layer 32, and the third retardation layer, the optical characteristics expressed by formulas (1) and (2) can be achieved. It only needs to be expressed.
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)

本明細書において、Re(450)は波長450nmにおける面内位相差値を表し、Re(550)は波長550nmにおける面内位相差値を表し、Re(650)は波長650nmにおける面内位相差値を表す。 In this specification, Re (450) represents an in-plane retardation value at a wavelength of 450 nm, Re (550) represents an in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm, and Re (650) represents an in-plane retardation value at a wavelength of 650 nm. represents.

<位相差層>
位相差層としては、例えば、重合性液晶を重合させることにより形成される層及び延伸フィルムが挙げられる。位相差層の光学特性は重合性液晶の配向状態または延伸フィルムの延伸方法により調節することができる。重合性液晶を重合させることにより形成される層は、液晶化合物の硬化物を含む。位相差板30において、薄型化の観点から、少なくとも、第1位相差層31及び第2位相差層32は、液晶化合物の硬化物を含む層である。
<Retardation layer>
Examples of the retardation layer include a layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal and a stretched film. The optical properties of the retardation layer can be adjusted by the alignment state of the polymerizable liquid crystal or the stretching method of the stretched film. The layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal includes a cured product of the liquid crystal compound. In the retardation plate 30, from the viewpoint of thinning, at least the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 are layers containing a cured product of a liquid crystal compound.

(重合性液晶を重合させることにより形成される層)
本明細書においては、重合性液晶の光軸が基材平面に対して水平に配向したものを水平配向、重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直に配向したものを垂直配向と定義する。光軸とは、重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる方向、すなわち3方向の屈折率がすべて等しくなる方向を意味する。
(Layer formed by polymerizing polymerizable liquid crystal)
In this specification, horizontal alignment refers to a polymerizable liquid crystal whose optical axis is aligned horizontally to the plane of the substrate, and vertical alignment refers to a polymerizable liquid crystal whose optical axis is aligned perpendicular to the substrate plane. Define. Optical axis means the direction in which the cross section cut out in the direction perpendicular to the optical axis is a circle in the refractive index ellipsoid formed by the orientation of polymerizable liquid crystal, that is, the direction in which the refractive index in all three directions is equal. .

重合性液晶としては、棒状の重合性液晶および円盤状の重合性液晶が挙げられる。棒状の重合性液晶が基材に対して水平配向または垂直配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶が配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の円盤面に対して直交する方向に存在する。 Examples of the polymerizable liquid crystal include rod-shaped polymerizable liquid crystals and disk-shaped polymerizable liquid crystals. When the rod-shaped polymerizable liquid crystal is aligned horizontally or vertically with respect to the base material, the optical axis of the polymerizable liquid crystal coincides with the long axis direction of the polymerizable liquid crystal. When the disc-shaped polymerizable liquid crystal is oriented, the optical axis of the polymerizable liquid crystal exists in a direction perpendicular to the disc surface of the polymerizable liquid crystal.

延伸フィルムの遅相軸方向は延伸方法により異なり、一軸、二軸または斜め延伸等、その延伸方法に応じて遅相軸および光軸が決定される。 The slow axis direction of a stretched film varies depending on the stretching method, and the slow axis and optical axis are determined depending on the stretching method, such as uniaxial, biaxial or diagonal stretching.

重合性液晶を重合させることにより形成される層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。重合性液晶が棒状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する、この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶が円盤状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する、この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶の配向状態は、配向膜と重合性液晶との組み合わせにより調整することができる。 In order for the layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal to exhibit an in-plane retardation, the polymerizable liquid crystal may be oriented in a suitable direction. When the polymerizable liquid crystal is rod-shaped, an in-plane retardation occurs by aligning the optical axis of the polymerizable liquid crystal horizontally to the plane of the substrate. In this case, the optical axis direction and the slow axis direction are Match. When the polymerizable liquid crystal is disc-shaped, an in-plane retardation occurs by aligning the optical axis of the polymerizable liquid crystal horizontally to the substrate plane. In this case, the optical axis and the slow axis are orthogonal. do. The alignment state of the polymerizable liquid crystal can be adjusted by combining the alignment film and the polymerizable liquid crystal.

位相差層の面内位相差値は、位相差層の厚みによって調整することができる。面内位相差値は式(10)によって決定されることから、所望の面内位相差値(Re(λ))を得るためには、Δn(λ)と膜厚dを調整すればよい。
Re(λ)=d×Δn(λ) (10)
式中、Re(λ)は、波長λnmにおける面内位相差値を表し、dは膜厚を表し、Δn(λ)は波長λnmにおける複屈折率を表わす。
The in-plane retardation value of the retardation layer can be adjusted by adjusting the thickness of the retardation layer. Since the in-plane retardation value is determined by equation (10), in order to obtain the desired in-plane retardation value (Re(λ)), Δn(λ) and the film thickness d may be adjusted.
Re(λ)=d×Δn(λ) (10)
In the formula, Re(λ) represents the in-plane retardation value at the wavelength λnm, d represents the film thickness, and Δn(λ) represents the birefringence at the wavelength λnm.

複屈折率Δn(λ)は、面内位相差値を測定して、位相差層の厚みで除することで得られる。具体的な測定方法においては、ガラス基板のように基材自体に面内位相差が無いような基材上に製膜したものを測定することで、実質的な位相差層の特性を測定することができる。 The birefringence Δn(λ) is obtained by measuring the in-plane retardation value and dividing it by the thickness of the retardation layer. In the specific measurement method, the actual characteristics of the retardation layer are measured by measuring a film formed on a substrate that does not have an in-plane retardation, such as a glass substrate. be able to.

本明細書では、重合性液晶の配向又はフィルムの延伸により形成される屈折率楕円体における3方向の屈折率を、nx、nyおよびnzとして表す。nxは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。nyは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、該nxの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。nzは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。 In this specification, the refractive indices in three directions in a refractive index ellipsoid formed by orientation of a polymerizable liquid crystal or stretching of a film are expressed as nx, ny, and nz. nx represents the principal refractive index in the direction parallel to the film plane in the refractive index ellipsoid formed by the retardation layer. ny represents the refractive index in a direction parallel to the film plane and perpendicular to the direction of nx in the refractive index ellipsoid formed by the retardation layer. nz represents the refractive index in the direction perpendicular to the film plane in the refractive index ellipsoid formed by the retardation layer.

棒状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、nx>ny≒nz(ポジティブAプレート)となり、屈折率楕円体におけるnxの方向の軸と遅相軸が一致する。 When the optical axis of the rod-shaped polymerizable liquid crystal is oriented horizontally to the substrate plane, the refractive index relationship of the obtained retardation layer is nx > ny ≒ nz (positive A plate), which is The axis in the nx direction and the slow axis coincide.

また、円盤状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、nx<ny≒nz(ネガティブAプレート)となり、屈折率楕円体におけるnyの方向の軸と遅相軸が一致する。 Furthermore, when the optical axis of the disc-shaped polymerizable liquid crystal is oriented horizontally to the substrate plane, the refractive index relationship of the obtained retardation layer is nx < ny ≒ nz (negative A plate), and the refractive index The axis in the ny direction of the ellipsoid coincides with the slow axis.

重合性液晶を重合させることにより形成される層が厚み方向の位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。本発明において、厚み方向の位相差を発現するとは、式(20)において、Rth(厚み方向の位相差値)が負となる特性を示すものと定義する。Rthは、面内の進相軸を傾斜軸として40度傾斜させて測定される位相差値(R40)と、面内の位相差値(Re)とから算出することができる。すなわち、Rthは、Re、R40、d(位相差層の厚み)、およびn0(位相差層の平均屈折率)から、以下の式(21)~(23)によりnx、ny及びnzを求め、これらを式(20)に代入することで算出することができる。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (20)
Re =(nx-ny)×d (21)
40=(nx-ny')×d/cos(φ) (22)
(nx+ny+nz)/3=n0 (23)
ここで、
φ=sin-1〔sin(40°)/n0〕
ny'=ny×nz/〔ny2×sin2(φ)+nz2×cos2(φ)〕1/2
また、nx、nyおよびnzは前述の定義と同じである。
In order for the layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal to exhibit a retardation in the thickness direction, the polymerizable liquid crystal may be oriented in a suitable direction. In the present invention, expressing a retardation in the thickness direction is defined as exhibiting a characteristic in which Rth (retardation value in the thickness direction) is negative in equation (20). Rth can be calculated from the phase difference value (R 40 ) measured by tilting the in-plane fast axis by 40 degrees as the tilt axis and the in-plane phase difference value (Re). That is, Rth is determined by calculating nx, ny, and nz from Re, R 40 , d (thickness of the retardation layer), and n0 (average refractive index of the retardation layer) using the following equations (21) to (23). , can be calculated by substituting these into equation (20).
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (20)
Re = (nx-ny)×d (21)
R 40 = (nx-ny') x d/cos(φ) (22)
(nx+ny+nz)/3=n0 (23)
here,
φ=sin -1 [sin (40°)/n0]
ny'=ny×nz/[ny 2 ×sin 2 (φ)+nz 2 ×cos 2 (φ)] 1/2
Further, nx, ny and nz are the same as defined above.

重合性液晶が棒状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して垂直に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。重合性液晶が円盤状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。円盤状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材平面に対して平行であるため、Reを決めると、厚みが固定されるため、一義的にRthが決定されるが、棒状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直であるため、位相差層の厚みを調節することでReを変化させることなくRthを調節することができる。 When the polymerizable liquid crystal is rod-shaped, the optical axis of the polymerizable liquid crystal is oriented perpendicularly to the plane of the base material, thereby producing a retardation in the thickness direction. When the polymerizable liquid crystal is disc-shaped, the optical axis of the polymerizable liquid crystal is oriented horizontally to the plane of the base material, thereby producing a retardation in the thickness direction. In the case of a disc-shaped polymerizable liquid crystal, the optical axis of the polymerizable liquid crystal is parallel to the plane of the substrate, so once Re is determined, the thickness is fixed, so Rth is uniquely determined. In the case of a rod-shaped polymerizable liquid crystal, since the optical axis of the polymerizable liquid crystal is perpendicular to the plane of the substrate, it is possible to adjust Rth without changing Re by adjusting the thickness of the retardation layer. I can do it.

棒状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して垂直に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、nx≒ny<nz(ポジティブCプレート)となり、屈折率楕円体におけるnzの方向の軸と遅相軸方向が一致する。 When the optical axis of the rod-shaped polymerizable liquid crystal is oriented perpendicularly to the plane of the substrate, the refractive index relationship of the resulting retardation layer is nx≒ny<nz (positive C plate), which is the same in the refractive index ellipsoid. The axis in the nz direction and the slow axis direction coincide.

また、円盤状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して平行に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、nx<ny≒nz(ネガティブAプレート)となり、屈折率楕円体におけるnyの方向の軸と遅相軸方向が一致する。 In addition, when the optical axis of the disc-shaped polymerizable liquid crystal is oriented parallel to the substrate plane, the refractive index relationship of the obtained retardation layer is nx < ny ≒ nz (negative A plate), and the refractive index The axis of the ny direction in the ellipsoid coincides with the slow axis direction.

<重合性液晶>
重合性液晶とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でも良く、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でも良い。
<Polymerizable liquid crystal>
A polymerizable liquid crystal is a compound that has a polymerizable group and has liquid crystallinity. A polymerizable group means a group that participates in a polymerization reaction, and is preferably a photopolymerizable group. Here, the photopolymerizable group refers to a group that can participate in a polymerization reaction by active radicals, acids, etc. generated from a photopolymerization initiator, which will be described later. Examples of the polymerizable group include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group, oxetanyl group, and the like. Among these, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferable, and acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystallinity of the polymerizable liquid crystal may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, and if the thermotropic liquid crystal is classified according to the degree of order, it may be a nematic liquid crystal or a smectic liquid crystal.

棒状の重合性液晶としては、例えば、下記式(A)で表される化合物、及び下記式(X)で表される基を含む化合物が挙げられる。棒状の重合性液晶としては、波長分散性発現の観点から分子軸方向に対して垂直配向さらに複屈折性を有するT字型あるいはH型にメソゲン構造を有する液晶が好ましく、より強い分散が得られる観点からT字型液晶がより好ましく、T字型液晶の構造としては、具体的には、下記式(A)で表される化合物が挙げられる。 Examples of the rod-shaped polymerizable liquid crystal include a compound represented by the following formula (A) and a compound containing a group represented by the following formula (X). The rod-shaped polymerizable liquid crystal is preferably a liquid crystal having a T-shaped or H-shaped mesogenic structure that is oriented perpendicular to the molecular axis direction and has birefringence from the viewpoint of wavelength dispersion, and stronger dispersion can be obtained. From this point of view, a T-shaped liquid crystal is more preferable, and specific examples of the structure of the T-shaped liquid crystal include a compound represented by the following formula (A).

(式(A)で表される化合物)
式(A)は下記のとおりである。以下、式(A)で表される化合物を重合性液晶(A)ということがある。

Figure 2024018516000002
(Compound represented by formula (A))
Formula (A) is as follows. Hereinafter, the compound represented by formula (A) may be referred to as polymerizable liquid crystal (A).
Figure 2024018516000002

式(A)中、Arは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも1つ以上が含まれることが好ましい。二価の基Arに含まれる芳香族基が2つ以上である場合、2つ以上の芳香族基は互いに単結合、-CO-O-、-O-などの二価の結合基で結合していてもよい。
及びGはそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のフルオロアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
、L 及びBはそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
k、lは、それぞれ独立に0~3の整数を表し、1≦k+lの関係を満たす。ここで、2≦k+lである場合、B及びB、G及びGは、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
及びEはそれぞれ独立に、炭素数1~17のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-COO-で置換されていてもよく、-O-、-S-、-COO-を複数有する場合は互いに隣接しない。P及びPは互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも1つは重合性基である。
In formula (A), Ar represents a divalent aromatic group which may have a substituent. Preferably, the divalent aromatic group contains at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. When the divalent group Ar contains two or more aromatic groups, the two or more aromatic groups are bonded to each other through a single bond or a divalent bonding group such as -CO-O- or -O-. You can leave it there.
G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group. Here, the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. It may be substituted with 1 to 4 alkoxy groups, cyano groups, or nitro groups, and the carbon atoms constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group are oxygen atoms, sulfur atoms. Alternatively, it may be substituted with a nitrogen atom.
L 1 , L 2 , B 1 and B 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.
k and l each independently represent an integer from 0 to 3, and satisfy the relationship 1≦k+l. Here, when 2≦k+l, B 1 and B 2 and G 1 and G 2 may be the same or different from each other.
E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, where the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and the alkanediyl group The -CH 2 - contained therein may be substituted with -O-, -S-, or -COO-, and when a plurality of -O-, -S-, or -COO- are present, they are not adjacent to each other. P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one of them is a polymerizable group.

及びGは、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数1~4のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されていてもよい1,4-フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数1~4のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されていてもよい1,4-シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された1,4-フェニレンジイル基、無置換の1,4-フェニレンジイル基、又は無置換の1,4-trans-シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の1,4-フェニレンジイル基、又は無置換の1,4-trans-シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するG及びGのうち少なくとも1つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、L又はLに結合するG及びGのうち少なくとも1つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
G 1 and G 2 are each independently preferably a 1,4-phenylenediyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , a 1,4-cyclohexanediyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a 1,4-cyclohexanediyl group substituted with a methyl group. ,4-phenylenediyl group, unsubstituted 1,4-phenylenediyl group, or unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group, particularly preferably unsubstituted 1,4-phenylenediyl group or unsubstituted It is a substituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group.
Furthermore, at least one of the plurality of G 1 and G 2 is preferably a divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2 More preferably, one is a divalent alicyclic hydrocarbon group.

及びLはそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数1~4のアルキレン基、-O-、-S-、-Ra1ORa2-、-Ra3COORa4-、-Ra5OCORa6-、Ra7OC=OORa8-、-N=N-、-CR=CR-、又はC≡C-である。ここで、Ra1~Ra8はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数1~4のアルキレン基を表し、R及びRは炭素数1~4のアルキル基又は水素原子を表す。L及びLはそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、-ORa2-1-、-CH-、-CHCH-、-COORa4-1-、又はOCORa6-1-である。ここで、Ra2-1、Ra4-1、Ra6-1はそれぞれ独立に単結合、-CH-、-CHCH-のいずれかを表す。L及びLはそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、-O-、-CHCH-、-COO-、-COOCHCH-、又はOCO-である。 L 1 and L 2 are each independently preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a1 OR a2 -, -R a3 COOR a4 -, -R a5 OCOR a6 -, R a7 OC=OOR a8 -, -N=N-, -CR c =CR d -, or C≡C-. Here, R a1 to R a8 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R c and R d represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom. L 1 and L 2 are each independently more preferably a single bond, -OR a2-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a4-1 -, or OCOR a6-1 - . Here, R a2-1 , R a4-1 , and R a6-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, or -CH 2 CH 2 -. L 1 and L 2 are each independently more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, or OCO-.

及びBはそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数1~4のアルキレン基、-O-、-S-、-Ra9ORa10-、-Ra11COORa12-、-Ra13OCORa14-、又はRa15OC=OORa16-である。ここで、Ra9~Ra16はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数1~4のアルキレン基を表す。B及びBはそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、-ORa10-1-、-CH-、-CHCH-、-COORa12-1-、又はOCORa14-1-である。ここで、Ra10-1、Ra12-1、Ra14-1はそれぞれ独立に単結合、-CH-、-CHCH-のいずれかを表す。B及びBはそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、-O-、-CHCH-、-COO-、-COOCHCH-、-OCO-、又はOCOCHCH-である。 B 1 and B 2 are each independently preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a9 OR a10 -, -R a11 COOR a12 -, -R a13 OCOR a14 -, or R a15 OC=OOR a16 -. Here, R a9 to R a16 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. B 1 and B 2 are each independently more preferably a single bond, -OR a10-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a12-1 -, or OCOR a14-1 - . Here, R a10-1 , R a12-1 , and R a14-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, or -CH 2 CH 2 -. B 1 and B 2 are each independently, more preferably, a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, -OCO-, or OCOCH 2 CH 2 - .

k及びlは、逆波長分散性発現の観点から2≦k+l≦6の範囲が好ましく、k+l=4であることが好ましく、k=2かつl=2であることがより好ましい。k=2かつl=2であると対称構造となるため好ましい。 From the viewpoint of expressing reverse wavelength dispersion, k and l are preferably in the range of 2≦k+l≦6, preferably k+l=4, and more preferably k=2 and l=2. It is preferable that k=2 and l=2 because a symmetrical structure is obtained.

及びEはそれぞれ独立に、炭素数1~17のアルカンジイル基が好ましく、炭素数4~12のアルカンジイル基がより好ましい。 E 1 and E 2 are each independently preferably an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.

又はPで表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。 Examples of the polymerizable group represented by P 1 or P 2 include epoxy group, vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, and oxiranyl group. , and oxetanyl group. Among these, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferable, and acryloyloxy group is more preferable.

Arは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Arに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。 It is preferable that Ar has at least one selected from an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocycle which may have a substituent, and an electron-withdrawing group. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and the like, with benzene rings and naphthalene rings being preferred. The aromatic heterocycles include a furan ring, a benzofuran ring, a pyrrole ring, an indole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, a triazole ring, a triazine ring, a pyrroline ring, an imidazole ring, and a pyrazole ring. , thiazole ring, benzothiazole ring, thienothiazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, and phenanthroline ring. Among these, it is preferable to have a thiazole ring, benzothiazole ring, or benzofuran ring, and more preferably to have a benzothiazole group. Further, when Ar includes a nitrogen atom, it is preferable that the nitrogen atom has π electrons.

式(A)中、Arで表される2価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Nπは8以上が好ましく、より好ましくは10以上であり、さらに好ましくは14以上であり、特に好ましくは16以上である。また、好ましくは30以下であり、より好ましくは26以下であり、さらに好ましくは24以下である。 In formula (A), the total number N π of π electrons contained in the divalent aromatic group represented by Ar is preferably 8 or more, more preferably 10 or more, still more preferably 14 or more, and especially Preferably it is 16 or more. Further, it is preferably 30 or less, more preferably 26 or less, and still more preferably 24 or less.

Arで表される芳香族基としては、例えば以下の基が好適に挙げられる。 Preferred examples of the aromatic group represented by Ar include the following groups.

Figure 2024018516000003
Figure 2024018516000003

式(Ar-1)~式(Ar-23)中、*印は連結部を表し、Z、Z及びZは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~12のアルキルスルフィニル基、炭素数1~12のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数1~12のフルオロアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~12のアルキルチオ基、炭素数1~12のN-アルキルアミノ基、炭素数2~12のN,N-ジアルキルアミノ基、炭素数1~12のN-アルキルスルファモイル基又は炭素数2~12のN,N-ジアルキルスルファモイル基を表す。 In formulas (Ar-1) to (Ar-23), the mark * represents a connecting part, and Z 0 , Z 1 and Z 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. group, cyano group, nitro group, alkylsulfinyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkylsulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, carboxyl group, fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, Alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, N-alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, N,N-dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, N-alkylsulfamoyl group having 1 to 12 carbon atoms, or carbon Represents an N,N-dialkylsulfamoyl group having numbers 2 to 12.

、Q及びQは、それぞれ独立に、-CR2’3’-、-S-、-NH-、-NR2’-、-CO-又はO-を表し、R2’及びR3’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。 Q 1 , Q 2 and Q 3 each independently represent -CR 2' R 3' -, -S-, -NH-, -NR 2' -, -CO- or O-, and R 2' and R 3' each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

、及びJは、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。 J 1 and J 2 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.

、Y及びYは、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。 Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group.

及びWは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、mは0~6の整数を表す。 W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group, or a halogen atom, and m represents an integer of 0 to 6.

、Y及びYにおける芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数6~20の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも1つ含む炭素数4~20の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group for Y 1 , Y 2 and Y 3 include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, and biphenyl group. , naphthyl group is preferred, and phenyl group is more preferred. Examples of the aromatic heterocyclic group include a group having 4 to 20 carbon atoms and containing at least one heteroatom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom, such as a furyl group, a pyrrolyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group. Examples include aromatic heterocyclic groups, and furyl, thienyl, pyridinyl, thiazolyl, and benzothiazolyl groups are preferred.

、Y及びYは、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。 Y 1 , Y 2 and Y 3 may each independently be an optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or a polycyclic aromatic heterocyclic group. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a fused polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aromatic ring assembly. The polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a fused polycyclic aromatic heterocyclic group or a group derived from an aromatic ring assembly.

、Z及びZは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~12のアルコキシ基であることが好ましく、Zは、水素原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Z及びZは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。 Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; 0 is more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyano group, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, or a cyano group.

、Q及びQは、-NH-、-S-、-NR2’-、-O-が好ましく、R2’は水素原子が好ましい。中でも-S-、-O-、-NH-が特に好ましい。 Q 1 , Q 2 and Q 3 are preferably -NH-, -S-, -NR 2' -, -O-, and R 2' is preferably a hydrogen atom. Among them, -S-, -O-, and -NH- are particularly preferred.

式(Ar-1)~(Ar-23)の中でも、式(Ar-6)及び式(Ar-7)が分子の安定性の観点から好ましい。
式(Ar-16)~(Ar-23)において、Yは、これが結合する窒素原子及びZと共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Arが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Yは、これが結合する窒素原子及びZと共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。
Among formulas (Ar-1) to (Ar-23), formulas (Ar-6) and (Ar-7) are preferred from the viewpoint of molecular stability.
In formulas (Ar-16) to (Ar-23), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . Examples of the aromatic heterocyclic group include those mentioned above as aromatic heterocycles that Ar may have, such as a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrroline ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, and an indole ring. ring, quinoline ring, isoquinoline ring, purine ring, pyrrolidine ring, etc. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. Further, Y 1 may be the aforementioned optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group, together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . Examples include a benzofuran ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, and the like.

(式(X)で表される基を含む化合物)
式(X)は下記のとおりである。以下、式(X)で表される基を含む化合物を重合性液晶(B)ということがある。
P11-B11-E11-B12-A11-B13- (X)
(Compound containing a group represented by formula (X))
Formula (X) is as follows. Hereinafter, a compound containing a group represented by formula (X) may be referred to as a polymerizable liquid crystal (B).
P11-B11-E11-B12-A11-B13- (X)

[式(X)中、P11は、重合性基を表わす。
A11は、2価の脂環式炭化水素基または2価の芳香族炭化水素基を表わす。該2価の脂環式炭化水素基および2価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数1~6のアルキル基および該炭素数1~6アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
B11は、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CO-NR16-、-NR16-CO-、-CO-、-CS-または単結合を表わす。R16は、水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表わす。
B12およびB13は、それぞれ独立に、-C≡C-、-CH=CH-、-CH-CH-、-O-、-S-、-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-O-C(=O)-O-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-C(=O)-NR16-、-NR16-C(=O)-、-OCH-、-OCF-、-CHO-、-CFO-、-CH=CH-C(=O)-O-、-O-C(=O)-CH=CH-または単結合を表わす。
E11は、炭素数1~12のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数1~5のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する-CH-は、-O-または-CO-に置き換わっていてもよい。]
[In formula (X), P11 represents a polymerizable group.
A11 represents a divalent alicyclic hydrocarbon group or a divalent aromatic hydrocarbon group. The hydrogen atom contained in the divalent alicyclic hydrocarbon group and the divalent aromatic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. The hydrogen atom contained in the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may be substituted with a fluorine atom.
B11 is -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR 16 -, -NR 16 -CO-, -CO-, - CS- or a single bond. R 16 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
B12 and B13 each independently represent -C≡C-, -CH=CH-, -CH 2 -CH 2 -, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O ) -O-, -OC(=O)-, -OC(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O ) -NR 16 -, -NR 16 -C(=O)-, -OCH 2 -, -OCF 2 -, -CH 2 O-, -CF 2 O-, -CH=CH-C(=O)- Represents O-, -OC(=O)-CH=CH- or a single bond.
E11 represents an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkoxy group may be substituted with a halogen atom. Furthermore, -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-. ]

A11の芳香族炭化水素基および脂環式炭化水素基の炭素数は、3~18の範囲であることが好ましく、5~12の範囲であることがより好ましく、5または6であることが特に好ましい。A11としては、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、1,4-フェニレン基が好ましい。 The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group of A11 is preferably in the range of 3 to 18, more preferably in the range of 5 to 12, particularly 5 or 6. preferable. As A11, cyclohexane-1,4-diyl group and 1,4-phenylene group are preferable.

E11としては、直鎖状の炭素数1~12のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基を構成する-CH-は、-O-に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、へキサン-1,6-ジイル基、へプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基およびドデカン-1,12-ジイル基等の炭素数1~12の直鎖状アルカンジイル基;-CH-CH-O-CH-CH-、-CH-CH-O-CH-CH-O-CH-CH-および-CH-CH-O-CH-CH-O-CH-CH-O-CH-CH-等が挙げられる。
B11としては、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-が好ましく、中でも、-CO-O-がより好ましい。
B12およびB13としては、それぞれ独立に、-O-、-S-、-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-O-C(=O)-O-が好ましく、中でも、-O-または-O-C(=O)-O-がより好ましい。
E11 is preferably a linear alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms. -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be replaced with -O-.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane -1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group and dodecane-1,12-diyl group Linear alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms such as diyl group; -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O- CH 2 -CH 2 - and -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -, and the like.
As B11, -O-, -S-, -CO-O-, and -O-CO- are preferable, and -CO-O- is especially preferable.
B12 and B13 are each independently -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C (=O)-O- is preferred, and -O- or -OC(=O)-O- is particularly preferred.

P11で示される重合性基としては、重合反応性、特に光重合反応性が高いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式(P-11)~式(P-15)で表わされる基であることが好ましい。 The polymerizable group represented by P11 is preferably a radically polymerizable group or a cationic polymerizable group in terms of high polymerization reactivity, particularly photopolymerization reactivity, and is easy to handle and also easy to produce a liquid crystal compound. Therefore, the polymerizable group is preferably a group represented by the following formulas (P-11) to (P-15).

Figure 2024018516000004

[式(P-11)~(P-15)中、
17~R21はそれぞれ独立に、炭素数1~6のアルキル基または水素原子を表わす。]
Figure 2024018516000004

[In formulas (P-11) to (P-15),
R 17 to R 21 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a hydrogen atom. ]

式(P-11)~式(P-15)で表わされる基の具体例としては、下記式(P-16)~式(P-20)で表わされる基が挙げられる。 Specific examples of the groups represented by formulas (P-11) to (P-15) include groups represented by formulas (P-16) to (P-20) below.

Figure 2024018516000005
Figure 2024018516000005

P11は、式(P-14)~式(P-20)で表わされる基であることが好ましく、ビニル基、p-スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
P11-B11-で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。
P11 is preferably a group represented by formula (P-14) to formula (P-20), and more preferably a vinyl group, p-stilbene group, epoxy group or oxetanyl group.
More preferably, the group represented by P11-B11- is an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group.

重合性液晶(B)としては、式(I)、式(II)、式(III)、式(IV)、式(V)または式(VI)で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (II)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (III)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (IV)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VI)
(式中、
A12~A14はそれぞれ独立に、A11と同義であり、B14~B16はそれぞれ独立に、B12と同義であり、B17は、B11と同義であり、E12は、E11と同義である。
F11は、水素原子、炭素数1~13のアルキル基、炭素数1~13のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基(-SOH)、カルボキシ基、炭素数1~10のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する-CH-は、-O-に置き換っていてもよい。)
Examples of the polymerizable liquid crystal (B) include compounds represented by formula (I), formula (II), formula (III), formula (IV), formula (V), or formula (VI).
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (II)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (III)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (IV)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VI)
(In the formula,
A12 to A14 are each independently synonymous with A11, B14 to B16 are each independently synonymous with B12, B17 is synonymous with B11, and E12 is synonymous with E11.
F11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 13 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a dimethylamino group, a hydroxy group, a methylol group, a formyl group, a sulfo group (-SO 3 H) represents a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and -CH 2 - constituting the alkyl group and alkoxy group may be replaced with -O-. good. )

重合性液晶(B)の具体例としては、液晶便覧(液晶便覧編集委員会編、丸善(株)平成12年10月30日発行)の「3.8.6 ネットワーク(完全架橋型)」、「6.5.1 液晶材料 b.重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開2010-31223号公報、特開2010-270108号公報、特開2011-6360号公報および特開2011-207765号公報記載の重合性液晶が挙げられる。 Specific examples of polymerizable liquid crystals (B) include "3.8.6 Network (fully cross-linked)" in the Liquid Crystal Handbook (edited by the Liquid Crystal Handbook Editorial Committee, published by Maruzen Co., Ltd. on October 30, 2000); Compounds having a polymerizable group among the compounds described in "6.5.1 Liquid crystal material b. Polymerizable nematic liquid crystal material", JP-A No. 2010-31223, JP-A No. 2010-270108, JP-A No. 2011 Examples include polymerizable liquid crystals described in JP-A-6360 and JP-A-2011-207765.

重合性液晶(B)の具体例としては、下記式(I-1)~式(I-4)、式(II-1)~式(II-4)、式(III-1)~式(III-26)、式(IV-1)~式(IV-26)、式(V-1)~式(V-2)および式(VI-1)~式(VI-6)で表わされる化合物が挙げられる。なお、下記式中、k1およびk2は、それぞれ独立して、2~12の整数を表わす。これらの重合性液晶(B)は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの点で、好ましい。 Specific examples of the polymerizable liquid crystal (B) include the following formulas (I-1) to (I-4), formulas (II-1) to (II-4), and formulas (III-1) to ( III-26), compounds represented by formula (IV-1) to formula (IV-26), formula (V-1) to formula (V-2), and formula (VI-1) to formula (VI-6) can be mentioned. In the following formula, k1 and k2 each independently represent an integer from 2 to 12. These polymerizable liquid crystals (B) are preferable in terms of their ease of synthesis or availability.

Figure 2024018516000006
Figure 2024018516000006

Figure 2024018516000007
Figure 2024018516000007

Figure 2024018516000008
Figure 2024018516000008

Figure 2024018516000009
Figure 2024018516000009

Figure 2024018516000010
Figure 2024018516000010

Figure 2024018516000011
Figure 2024018516000011

Figure 2024018516000012
Figure 2024018516000012

Figure 2024018516000013
Figure 2024018516000013

Figure 2024018516000014
Figure 2024018516000014

円盤状の重合性液晶としては、例えば、式(W)で表される基を含む化合物(以下、重合性液晶(C)ということがある)が挙げられる。 Examples of the disc-shaped polymerizable liquid crystal include a compound containing a group represented by formula (W) (hereinafter sometimes referred to as polymerizable liquid crystal (C)).

Figure 2024018516000015

[式(W)中、R40は、下記式(W-1)~(W-5)を表わす。
Figure 2024018516000015

[In formula (W), R 40 represents the following formulas (W-1) to (W-5).

Figure 2024018516000016
Figure 2024018516000016

40およびZ40は、炭素数1~12のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数1~5のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する-CH-は、-O-または-CO-に置き換わっていてもよい。 X 40 and Z 40 represent an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms; The hydrogen atoms included may be substituted with halogen atoms. Furthermore, -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-.

重合性液晶(C)の具体例としては、液晶便覧(液晶便覧編集委員会編、丸善(株)平成12年10月30日発行)の「6.5.1 液晶材料 b.重合性ネマチック液晶材料 図6.21」に記載された化合物、特開平7-258170号公報、特開平7-30637号公報、特開平7-309807号公報、特開平8-231470号公報記載の重合性液晶が挙げられる。 Specific examples of polymerizable liquid crystals (C) include “6.5.1 Liquid crystal materials b. Polymerizable nematic liquid crystals” in the Liquid Crystal Handbook (edited by the Liquid Crystal Handbook Editorial Committee, published by Maruzen Co., Ltd. on October 30, 2000). Compounds described in "Materials Figure 6.21", polymerizable liquid crystals described in JP-A-7-258170, JP-A-7-30637, JP-A-7-309807, and JP-A-8-231470 are mentioned. It will be done.

式(1)および式(2)で表される光学特性を有する位相差板30は、特定の構造を有する重合性液晶を重合させた場合、特定の構造を有する高分子フィルムを延伸した場合、又は、式(4)、(6)及び式(7)で表される光学特性を有する層と、式(5)、(6)及び式(7)で表される光学特性を有する層とを特定の遅相軸関係で組み合わせることで得られる。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
100nm<Re(550)<160nm (4)
200nm<Re(550)<320nm (5)
Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)
1.00≧Re(650)/Re(550) (7)
The retardation plate 30 having the optical properties represented by formulas (1) and (2) can be obtained by polymerizing a polymerizable liquid crystal having a specific structure, by stretching a polymer film having a specific structure, Alternatively, a layer having optical properties represented by formulas (4), (6) and formula (7) and a layer having optical properties represented by formulas (5), (6) and formula (7) are combined. It can be obtained by combining them with a specific slow axis relationship.
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
100nm<Re(550)<160nm (4)
200nm<Re(550)<320nm (5)
Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)
1.00≧Re(650)/Re(550) (7)

位相差板30は、好ましくは、式(1)および式(2)で表される光学特性を有する。位相差板30が式(1)および式(2)で表される光学特性を有すると、可視光域における各波長の光に対して、一様な偏光変換の特性が得られ、有機EL表示装置等の表示装置の黒表示時の光漏れを抑制することができる。 The retardation plate 30 preferably has optical characteristics expressed by formulas (1) and (2). When the retardation plate 30 has the optical characteristics expressed by formulas (1) and (2), uniform polarization conversion characteristics can be obtained for light of each wavelength in the visible light range, and organic EL display It is possible to suppress light leakage when a display device such as a device displays black.

前記特定の構造を有する重合性液晶としては、例えば、前記重合性液晶(A)が挙げられる。重合性液晶(A)を、基材平面に対して光軸が水平となるように配向することで、式(1)及び式(2)で表される光学特性を有する位相差層が得られ、さらに、前記式(10)に従って膜厚を調節することで、例えば、式(4)で表される光学特性等の所望の面内位相差値を有する位相差層を得ることができる。
100nm<Re(550)<160nm (4)
Examples of the polymerizable liquid crystal having the specific structure include the polymerizable liquid crystal (A). By orienting the polymerizable liquid crystal (A) so that the optical axis is horizontal to the plane of the base material, a retardation layer having optical properties represented by formulas (1) and (2) can be obtained. Furthermore, by adjusting the film thickness according to the above formula (10), it is possible to obtain a retardation layer having a desired in-plane retardation value, such as the optical property expressed by the formula (4), for example.
100nm<Re(550)<160nm (4)

式(4)、(6)及び式(7)で表される光学特性を有する層と、式(5)、(6)及び式(7)で表される光学特性を有する層とを特定の遅相軸関係で組み合わせる方法としては、周知の方法が挙げられる。
例えば、特開2001-4837号公報、特開2001-21720号公報及び特開2000-206331号公報には、液晶化合物からなる位相差層を少なくとも2層有する位相差フィルムが開示されている。
A layer having optical properties represented by formulas (4), (6) and formula (7) and a layer having optical properties represented by formulas (5), (6) and formula (7) are As a method of combining in a slow axis relationship, a well-known method can be mentioned.
For example, JP-A Nos. 2001-4837, 2001-21720, and 2000-206331 disclose retardation films having at least two retardation layers made of liquid crystal compounds.

上記式(6)及び式(7)で表される光学特性を有する位相差層は、周知の方法で得ることができる。すなわち、上記式(1)および式(2)で表される光学特性を有する位相差層を得る方法以外の方法で得られる位相差層は、概ね式(6)及び式(7)で表される光学特性を有する。 The retardation layer having the optical properties expressed by the above formulas (6) and (7) can be obtained by a well-known method. That is, a retardation layer obtained by a method other than the method of obtaining a retardation layer having optical properties represented by the above formulas (1) and (2) is generally represented by formulas (6) and (7). It has optical properties.

(第1位相差層)
第1位相差層31は、好ましくは式(4)で表される光学特性を有し(本明細書では、式(4)で表される光学特性を満たす位相差層を「λ/4層」ともいう。)、より好ましくは式(4-1)で表される光学特性を有する。面内位相差値Re(550)は、上記位相差層の面内位相差値の調整方法と同じ方法で調整することができる。
100nm<Re(550)<160nm (4)
130nm<Re(550)<150nm (4-1)
(First retardation layer)
The first retardation layer 31 preferably has optical properties expressed by formula (4) (herein, the retardation layer satisfying the optical properties expressed by formula (4) is referred to as "λ/4 layer"). ), more preferably having optical properties expressed by formula (4-1). The in-plane retardation value Re (550) can be adjusted by the same method as the method for adjusting the in-plane retardation value of the retardation layer.
100nm<Re(550)<160nm (4)
130nm<Re(550)<150nm (4-1)

さらに、第1位相差層は、好ましくは、式(1)及び式(2)で表される光学特性を有する(本明細書では、式(1)及び式(2)で表される光学特性を「逆分散性」ともいう)。かかる光学特性は、上記位相差層と同様の方法で得ることができる。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
Furthermore, the first retardation layer preferably has optical properties represented by formulas (1) and (2) (herein, optical properties represented by formulas (1) and (2)). (also called "inverse dispersion"). Such optical properties can be obtained by the same method as for the above-mentioned retardation layer.
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)

また、第1位相差層は、好ましくは、式(4)、(6)及び式(7)で表される光学特性を有する層Aと、式(5)、(6)及び式(7)で表される光学特性を有する層Bとを有する。かかる光学特性は、上記位相差層と同じの方法で得ることができる。
100nm<Re(550)<160nm (4)
200nm<Re(550)<320nm (5)
Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)
1.00≧Re(650)/Re(550) (7)
層Aは好ましくは式(4-1)で表される光学特性を有する層であり、層Bは好ましくは式(5-1)で表される光学特性を有する層である。
130nm<Re(550)<150nm (4-1)
265nm<Re(550)<285nm (5-1)
Further, the first retardation layer preferably includes a layer A having optical properties represented by formulas (4), (6), and (7), and a layer A having optical properties represented by formulas (5), (6), and formula (7). It has a layer B having optical properties expressed as follows. Such optical properties can be obtained by the same method as for the retardation layer described above.
100nm<Re(550)<160nm (4)
200nm<Re(550)<320nm (5)
Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)
1.00≧Re(650)/Re(550) (7)
Layer A is preferably a layer having optical properties expressed by formula (4-1), and layer B is preferably a layer having optical properties expressed by formula (5-1).
130nm<Re(550)<150nm (4-1)
265nm<Re(550)<285nm (5-1)

また、位相差板が第3位相差層を有する場合、第1位相差層は、好ましくは、式(6)及び(7)で表される光学特性を有する。かかる光学特性は、上記位相差層と同じ方法で得ることができる。
Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)
1.00≧Re(650)/Re(550) (7)
Further, when the retardation plate has a third retardation layer, the first retardation layer preferably has optical characteristics expressed by formulas (6) and (7). Such optical properties can be obtained by the same method as for the retardation layer described above.
Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)
1.00≧Re(650)/Re(550) (7)

第1位相差層は、1以上の重合性液晶を重合させることにより形成されるコーティング層である。第1位相差層が1つの位相差層からなり、式(1)及び式(2)で表される光学特性を有する場合、かかる位相差層は重合性液晶(A)を重合させることにより形成されるコーティング層であると好ましい。第2位相差層が式(6)及び式(7)で表される光学特性を有する場合、かかる位相差層は重合性液晶(B)を重合させることにより形成されるコーティング層であると好ましい。 The first retardation layer is a coating layer formed by polymerizing one or more polymerizable liquid crystals. When the first retardation layer consists of one retardation layer and has the optical properties expressed by formulas (1) and (2), the retardation layer is formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal (A). It is preferable that the coating layer is When the second retardation layer has the optical properties represented by formulas (6) and (7), the retardation layer is preferably a coating layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal (B). .

層Aは、好ましくは重合性液晶(B)を重合させることにより形成されるコーティング層である。層Bは、好ましくは重合性液晶(C)を重合させることにより形成されるコーティング層である。 Layer A is preferably a coating layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal (B). Layer B is preferably a coating layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal (C).

第1位相差層は、重合性液晶を重合させることにより形成される層であり、その厚さは、通常20μm以下であり、好ましくは5μm以下であり、より好ましくは0.5μm以上3μm以下である。第1位相差層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定によって求めることができる。 The first retardation layer is a layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal, and its thickness is usually 20 μm or less, preferably 5 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more and 3 μm or less. be. The thickness of the first retardation layer can be determined by measurement using an interference thickness meter, a laser microscope, or a stylus thickness meter.

(第2位相差層)
第2位相差層32は、好ましくは式(3)で表される光学特性を有する(ポジティブCプレート)。
nx≒ny<nz (3)
(Second retardation layer)
The second retardation layer 32 preferably has optical characteristics expressed by formula (3) (positive C plate).
nx≒ny<nz (3)

第2位相差層の面内位相差値Re(550)は通常0~10nmの範囲であり、好ましくは0~5nmの範囲である。厚み方向の位相差値Rthは、通常-10~-300nmの範囲であり、好ましくは-20~-200nmの範囲である。かかる面内位相差値Re(550)及び厚み方向の位相差値Rthは、上記位相差層と同じ方法で調整することができる。 The in-plane retardation value Re (550) of the second retardation layer is usually in the range of 0 to 10 nm, preferably in the range of 0 to 5 nm. The retardation value Rth in the thickness direction is usually in the range of -10 to -300 nm, preferably in the range of -20 to -200 nm. The in-plane retardation value Re (550) and the thickness direction retardation value Rth can be adjusted by the same method as for the above retardation layer.

第2位相差層は、1以上の重合性液晶を重合することで形成されるコーティング層である。より好ましくは重合性液晶(B)を重合することで形成されるコーティング層である。 The second retardation layer is a coating layer formed by polymerizing one or more polymerizable liquid crystals. More preferably, it is a coating layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal (B).

第2位相差層は、重合性液晶を重合させることにより形成される層であり、その厚さは、通常10μm以下であり、好ましくは5μm以下であり、より好ましくは0.3μm以上3μm以下である。第2位相差層の厚さは、第1位相差層と同じ方法で求めることができる。また、第1位相差層及び第2位相差層の厚さは、それぞれ5μm以下であると好ましい。 The second retardation layer is a layer formed by polymerizing polymerizable liquid crystal, and its thickness is usually 10 μm or less, preferably 5 μm or less, and more preferably 0.3 μm or more and 3 μm or less. be. The thickness of the second retardation layer can be determined by the same method as the first retardation layer. Further, the thickness of each of the first retardation layer and the second retardation layer is preferably 5 μm or less.

(第3位相差層)
第3位相差層は、好ましくは式(5)で表される光学特性を有し、さらに好ましくは式(5-1)で表される光学特性を有する。面内位相差値Re(550)は、上記位相差層の面内位相差値の調整方法と同じ方法で調整することができる。
200nm<Re(550)<320nm (5)
265nm<Re(550)<285nm (5-1)
(Third retardation layer)
The third retardation layer preferably has optical properties expressed by formula (5), and more preferably has optical properties expressed by formula (5-1). The in-plane retardation value Re (550) can be adjusted by the same method as the method for adjusting the in-plane retardation value of the retardation layer.
200nm<Re(550)<320nm (5)
265nm<Re(550)<285nm (5-1)

また、第3位相差層は、好ましくは式(6)及び(7)で表される光学特性を有する。かかる光学特性は、上記位相差層と同様の方法で得ることができる。
Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)
1.00≧Re(650)/Re(550) (7)
Further, the third retardation layer preferably has optical properties expressed by formulas (6) and (7). Such optical properties can be obtained by the same method as for the above-mentioned retardation layer.
Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)
1.00≧Re(650)/Re(550) (7)

第3位相差層は、好ましくは1以上の重合性液晶を重合することで形成されるコーティング層である。より好ましくは重合性液晶(B)又は(C)を重合することで形成されるコーティング層である。 The third retardation layer is preferably a coating layer formed by polymerizing one or more polymerizable liquid crystals. More preferably, it is a coating layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal (B) or (C).

第3位相差層は延伸フィルムであってもよく、延伸フィルムの場合、その厚さは、通常300μm以下であり、好ましくは5μm以上100μm以下であり、より好ましくは10μm以上50μm以下である。第3位相差層が重合性液晶を重合させることにより形成される層の場合、その厚さは、通常10μm以下であり、好ましくは5μm以下であり、より好ましくは0.5μm以上5μm以下である。第3位相差層の厚さは、第1位相差層と同じ方法で求めることができる。 The third retardation layer may be a stretched film, and in the case of a stretched film, its thickness is usually 300 μm or less, preferably 5 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 50 μm or less. When the third retardation layer is a layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal, its thickness is usually 10 μm or less, preferably 5 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less. . The thickness of the third retardation layer can be determined by the same method as the first retardation layer.

(基材)
位相差板30は、基材を有していてもよい。基材は通常透明基材である。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、波長380~780nmにわたる光線に対しての透過率が80%以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、透光性樹脂基材が挙げられる。透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン;ノルボルネン系ポリマーなどの環状オレフィン系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート;ポリメタクリル酸エステル;ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂またはポリカーボネートが好ましい。
(Base material)
The retardation plate 30 may have a base material. The substrate is usually a transparent substrate. Transparent substrate refers to a substrate that has transparency that allows light, particularly visible light, to pass through, and transparency refers to the property that the transmittance for light rays with a wavelength of 380 to 780 nm is 80% or more. say. A specific example of the transparent base material is a translucent resin base material. Examples of resins constituting the translucent resin base material include polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cyclic olefin resins such as norbornene polymers; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalate; polymethacrylate ester; polyacrylate ester; triacetyl cellulose; Cellulose esters such as diacetyl cellulose and cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyether sulfone; polyether ketone; polyphenylene sulfide and polyphenylene oxide. From the viewpoint of availability and transparency, polyethylene terephthalate, polymethacrylate, cellulose ester, cyclic olefin resin, or polycarbonate are preferred.

配向膜、第1位相差層、第2位相差層及び第3位相差層が形成される側の基材の面には、配向膜又は位相差層を形成する前に、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、真空下又は大気圧下、コロナ又はプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法又は基材表面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布するプライマー処理する方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プラズマ又は紫外線を照射して反応させるグラフト重合法等が挙げられる。中でも、真空下や大気圧下で、基材表面をコロナ又はプラズマ処理する方法が好ましい。 The surface of the base material on which the alignment film, the first retardation layer, the second retardation layer, and the third retardation layer are formed is subjected to surface treatment before forming the alignment film or the retardation layer. Good too. Surface treatment methods include methods of treating the surface of the base material with corona or plasma under vacuum or atmospheric pressure, methods of laser treatment of the base material surface, methods of ozone treatment of the base material surface, and methods of treating the base material surface with quenching. A method of chemical treatment or a method of flame treatment of the surface of the base material, a method of primer treatment of applying a coupling agent to the surface of the base material, a method of attaching a reactive monomer or a reactive polymer to the surface of the base material, and then radiation, Examples include a graft polymerization method in which a reaction is caused by irradiating plasma or ultraviolet rays. Among these, a method in which the surface of the base material is subjected to corona or plasma treatment under vacuum or atmospheric pressure is preferred.

コロナ又はプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法、及び、低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法が挙げられる。 A method for surface treating a base material with corona or plasma is to place the base material between opposing electrodes under pressure near atmospheric pressure, generate corona or plasma, and perform surface treatment on the base material. , a method of flowing gas between opposing electrodes, turning the gas into plasma between the electrodes, and spraying the plasma-formed gas onto the substrate; and a method of generating glow discharge plasma under low pressure conditions to treat the surface of the substrate. One example is how to do this.

中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、又は、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かかるコロナ又はプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる。 Among them, there are two methods: placing a base material between opposing electrodes under pressure near atmospheric pressure and generating corona or plasma to treat the surface of the base material; It is preferable to use a method in which the gas is turned into plasma between the steps, and the plasmatized gas is sprayed onto the base material. Such corona or plasma surface treatment is usually performed using commercially available surface treatment equipment.

基材は、位相差が小さい基材が好ましい。位相差が小さい基材としては、ゼロタック(登録商標)(コニカミノルタオプト(株))、Zタック(富士フィルム(株))などの位相差を有しないセルロースエステルフィルムが挙げられる。また、未延伸の環状オレフィン系樹脂基材も好ましい。 The base material is preferably a base material with a small retardation. Examples of the base material having a small retardation include cellulose ester films having no retardation such as Zerotack (registered trademark) (Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and ZTack (Fuji Film Co., Ltd.). Further, an unstretched cyclic olefin resin base material is also preferred.

また、配向膜、第1位相差層、第2位相差層及び第3位相差層が形成されていない基材の面には、ハードコート処理、帯電防止処理等がなされてもよい。また、性能に影響しない範囲で、紫外線吸収剤などの添加剤を含んでいてもよい。 Further, the surface of the base material on which the alignment film, the first retardation layer, the second retardation layer, and the third retardation layer are not formed may be subjected to hard coat treatment, antistatic treatment, or the like. Additionally, additives such as ultraviolet absorbers may be included within a range that does not affect performance.

基材の厚みは、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向があるため、通常5~300μmであり、好ましくは10~200μmである。 The thickness of the base material is usually 5 to 300 μm, preferably 10 to 200 μm, because if it is too thin, the strength will decrease and the workability will tend to be poor.

(重合性液晶組成物)
重合性液晶を重合させることにより形成される層(位相差層)は、通常、1以上の重合性液晶を含有する組成物(以下、重合性液晶組成物ということがある。)を、基材、配向膜、保護層又は位相差層の上に塗布し、得られた塗膜中の重合性液晶を重合させることにより形成される。
(Polymerizable liquid crystal composition)
A layer (retardation layer) formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal is usually formed by using a composition containing one or more polymerizable liquid crystals (hereinafter sometimes referred to as a polymerizable liquid crystal composition) as a base material. It is formed by coating on an alignment film, protective layer or retardation layer, and polymerizing the polymerizable liquid crystal in the resulting coating film.

重合性液晶組成物は、通常溶剤を含み、溶剤としては、重合性液晶を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。
具体的な溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、N-メチル-2-ピロリジノン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤;トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤;アセトニトリル等のニトリル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤;およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤;が挙げられる。これら他の溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。
The polymerizable liquid crystal composition usually contains a solvent, and the solvent is preferably a solvent that can dissolve the polymerizable liquid crystal and is inert to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal.
Specific solvents include alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, and phenol; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; acetone, methyl ethyl ketone, Ketone solvents such as cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, N-methyl-2-pyrrolidinone; non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane; toluene, xylene, etc. non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane; and chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. These other solvents may be used alone or in combination.

重合性液晶組成物における溶剤の含有量は、通常、固形分100質量部に対して、10質量部~10000質量部が好ましく、より好ましくは50質量部~5000質量部である。固形分とは、重合性液晶組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。 The content of the solvent in the polymerizable liquid crystal composition is usually preferably 10 parts by mass to 10,000 parts by mass, more preferably 50 parts by mass to 5,000 parts by mass, based on 100 parts by mass of solid content. The solid content means the total of the components of the polymerizable liquid crystal composition excluding the solvent.

重合性液晶組成物の塗布は、通常、スピンコ-ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法によって行われる。塗布後、通常、得られた塗布膜中に含まれる重合性液晶が重合しない条件で溶剤を除去することにより、乾燥被膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法が挙げられる。 The polymerizable liquid crystal composition is usually applied by coating methods such as spin coating method, extrusion method, gravure coating method, die coating method, slit coating method, bar coating method, applicator method, or printing method such as flexographic method. This is done by a known method such as a method. After coating, a dry film is usually formed by removing the solvent under conditions such that the polymerizable liquid crystal contained in the obtained coating film does not polymerize. Examples of the drying method include natural drying, ventilation drying, heat drying, and reduced pressure drying.

(配向膜)
本明細書において、配向膜とは、重合性液晶を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布などにより溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。かかる配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向膜等が挙げられる。
(alignment film)
In this specification, the alignment film has an alignment regulating force that aligns the polymerizable liquid crystal in a desired direction.
The alignment film is preferably one that has resistance to a solvent that does not dissolve when the polymerizable liquid crystal composition is applied, etc., and also has heat resistance during heat treatment for removing the solvent and aligning the polymerizable liquid crystal. Examples of such an alignment film include an alignment film containing an alignment polymer, a photo-alignment film, and a groove alignment film in which a concavo-convex pattern or a plurality of grooves are formed on the surface for orientation.

配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。2種以上の配向性ポリマーを組み合わせて用いてもよい。 Examples of oriented polymers include polyamides and gelatins having an amide bond in the molecule, polyimide having an imide bond in the molecule, and polyamic acid which is a hydrolyzate thereof, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, polyoxazole, Examples include polyethyleneimine, polystyrene, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid and polyacrylic esters. Among them, polyvinyl alcohol is preferred. Two or more types of oriented polymers may be used in combination.

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物(以下、配向性ポリマー組成物ということがある。)を基材に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする(ラビング法)ことで得られる。 An oriented film containing an oriented polymer is usually produced by applying a composition in which an oriented polymer is dissolved in a solvent (hereinafter sometimes referred to as an oriented polymer composition) to a base material, and then removing the solvent or forming an oriented film. It can be obtained by applying a polymer composition on a base material, removing the solvent, and rubbing it (rubbing method).

前記溶剤としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、および、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the solvent include water, alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, Ester solvents such as propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, and methyl isobutyl ketone, aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane, toluene, Examples include aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, nitrile solvents such as acetonitrile, ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で0.1~20%が好ましく、0.1から10%程度がさらに好ましい。 The concentration of the oriented polymer in the oriented polymer composition may be within a range that allows the oriented polymer material to be completely dissolved in the solvent, but it is preferably 0.1 to 20% in terms of solid content with respect to the solution. It is more preferably about .1 to 10%.

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー(登録商標、日産化学工業(株)製)、オプトマー(登録商標、JSR(株)製)などが挙げられる。 Commercially available alignment film materials may be used as they are as the alignment polymer composition. Commercially available alignment film materials include Sunever (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Optomer (registered trademark, manufactured by JSR Corporation), and the like.

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコ-ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。本光学フィルムを、後述するRoll to Roll形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法には通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法などの印刷法が採用される。 Methods for applying the oriented polymer composition to the substrate include coating methods such as spin coating, extrusion, gravure coating, die coating, slit coating, bar coating, and applicator methods, and flexography. Examples of known methods include printing methods such as . When the present optical film is manufactured by a roll-to-roll continuous manufacturing method described below, a printing method such as a gravure coating method, a die coating method, or a flexo method is usually adopted as the coating method.

配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。 Examples of methods for removing the solvent contained in the oriented polymer composition include natural drying, ventilation drying, heating drying, and reduced pressure drying.

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビングを行うことができる(ラビング法)。 In order to impart an alignment regulating force to the alignment film, rubbing can be performed as necessary (rubbing method).

ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。 As a method of imparting an orientation regulating force by a rubbing method, a rubbing cloth is wrapped around a rotating rubbing roll, and an oriented polymer composition is applied to a substrate and annealed to form an oriented polymer composition on the surface of the substrate. Examples include a method of bringing oriented polymer films into contact with each other.

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じて光配向を行うことができる(光配向法)。 In order to impart an alignment regulating force to the alignment film, photoalignment can be performed as necessary (photoalignment method).

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物(以下、「光配向膜形成用組成物」ということがある。)を基材に塗布し、光(好ましくは、偏光UV)を照射することで得られる。光配向膜は、照射する光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。 A photo-alignment film is usually produced by coating a base material with a composition containing a polymer or monomer having a photo-reactive group and a solvent (hereinafter sometimes referred to as a "composition for forming a photo-alignment film"), and applying light ( Preferably, it is obtained by irradiating with polarized UV light. A photo-alignment film is more preferable in that the direction of the alignment regulating force can be arbitrarily controlled by selecting the polarization direction of the irradiated light.

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素-炭素二重結合(C=C結合)、炭素-窒素二重結合(C=N結合)、窒素-窒素二重結合(N=N結合)および炭素-酸素二重結合(C=O結合)からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。 The photoreactive group refers to a group that produces liquid crystal alignment ability when irradiated with light. Specifically, groups that are involved in molecular alignment induction caused by light irradiation or photoreactions that are the origin of liquid crystal alignment ability, such as isomerization reactions, dimerization reactions, photocrosslinking reactions, or photodecomposition reactions, can be mentioned. Among these, groups that participate in a dimerization reaction or a photocrosslinking reaction are preferable because they have excellent orientation. The photoreactive group is preferably a group having an unsaturated bond, especially a double bond, such as a carbon-carbon double bond (C=C bond), a carbon-nitrogen double bond (C=N bond), or a nitrogen-nitrogen double bond. Particularly preferred is a group having at least one selected from the group consisting of a double bond (N=N bond) and a carbon-oxygen double bond (C=O bond).

C=C結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ-ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。C=N結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。N=N結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。C=O結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ-ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。 Examples of the photoreactive group having a C═C bond include a vinyl group, a polyene group, a stilbene group, a stilbazole group, a stilbazolium group, a chalcone group, and a cinnamoyl group. Examples of the photoreactive group having a C=N bond include groups having structures such as an aromatic Schiff base and an aromatic hydrazone. Examples of the photoreactive group having an N=N bond include an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group, a formazan group, and a group having an azoxybenzene structure. Examples of the photoreactive group having a C═O bond include a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group, and a maleimide group. These groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, or a halogenated alkyl group.

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。 Among these, photoreactive groups that participate in photodimerization reactions are preferred, since the amount of polarized light irradiation required for photoalignment is relatively small, and it is easy to obtain a photoalignment film with excellent thermal stability and stability over time. Cinnamoyl and chalcone groups are preferred. As the polymer having a photoreactive group, one having a cinnamoyl group such that the end of the polymer side chain has a cinnamic acid structure is particularly preferred.

光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、上述の配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。 By applying the composition for forming a photo-alignment film onto a base material, a photo-alignment inducing layer can be formed on the base material. Examples of the solvent contained in the composition include those similar to those contained in the above-mentioned oriented polymer composition, and can be appropriately selected depending on the solubility of the polymer or monomer having a photoreactive group. .

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、少なくとも0.2質量%とすることが好ましく、0.3~10質量%の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコ-ルやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。 The content of the polymer or monomer having a photoreactive group in the composition for forming a photo-alignment film can be adjusted as appropriate depending on the type of polymer or monomer and the desired thickness of the photo-alignment film, but it should be at least 0.2% by mass. It is preferably in the range of 0.3 to 10% by mass. The composition for forming a photo-alignment film may contain a polymeric material such as polyvinyl alcohol or polyimide, and a photosensitizer as long as the properties of the photo-alignment film are not significantly impaired.

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。 Examples of the method for applying the photo-alignment film-forming composition to the substrate include the same method as the method for applying the alignment polymer composition to the substrate. Examples of the method for removing the solvent from the applied composition for forming a photo-alignment film include the same method as the method for removing the solvent from the alignment polymer composition.

偏光を照射するには、基板上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光UVを照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長250~400nmの範囲のUV(紫外線)が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、KrF、ArFなどの紫外光レ-ザ-などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長313nmの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光UVを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ-ラ-などの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。 In order to irradiate polarized light, polarized UV can be directly irradiated onto the photo-alignment film forming composition coated on the substrate, from which the solvent has been removed, or the polarized light can be irradiated from the substrate side, allowing the polarized light to pass through. It may also be a form of irradiation. Moreover, it is particularly preferable that the polarized light is substantially parallel light. The wavelength of the polarized light to be irradiated is preferably in a wavelength range in which a photoreactive group of a polymer or monomer having a photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet light) having a wavelength in the range of 250 to 400 nm is particularly preferred. Light sources used for polarized light irradiation include xenon lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, and ultraviolet lasers such as KrF and ArF. Lamps are more preferred. These lamps are preferable because they emit a high intensity of ultraviolet light with a wavelength of 313 nm. Polarized UV can be irradiated by passing the light from the light source through a suitable polarizer. As such a polarizer, a polarizing filter, a polarizing prism such as Glan-Thompson or Glan-Taylor, or a wire grid type polarizer can be used.

なお、ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域(パターン)を形成することもできる。 Note that by performing masking when performing rubbing or polarized light irradiation, it is also possible to form a plurality of regions (patterns) in which the directions of liquid crystal alignment are different.

グルブ配向膜は、膜表面の凹凸パターンまたは複数の溝によって、液晶配向が得られる膜である。H.V.ケネルらによって、複数の等間隔に並んだ直線状のグルブ(溝)を有する基材に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向するという事実が報告されている(Physical Review A24(5)、2713ページ、1981年)。 A groove alignment film is a film in which liquid crystal alignment can be obtained by a concavo-convex pattern or a plurality of grooves on the film surface. H. V. Kennel et al. reported the fact that when liquid crystal molecules are placed on a substrate that has a plurality of linear grooves lined up at equal intervals, the liquid crystal molecules align in the direction along the grooves ( Physical Review A24(5), page 2713, 1981).

グルブ配向膜を得る具体的な例としては、感光性ポリイミド表面に周期的なパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って不要なポリイミド膜を除去し凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤にUV硬化樹脂層を形成し、樹脂層を基材フィルムへ移してから硬化する方法、UV硬化樹脂層を形成した基材フィルムを搬送し、複数の溝を有するロール状の原盤をUV硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成後硬化する方法等が挙げられ、特開平6-34976号公報、特開2011-242743号公報記載の方法等を用いることができる。 A specific example of obtaining a groove alignment film is to expose the photosensitive polyimide surface to light through an exposure mask having slits in a periodic pattern, and then perform development and rinsing to remove unnecessary polyimide films and create uneven surfaces. A method of forming a pattern, a method of forming a UV-cured resin layer on a plate-shaped master having grooves on the surface, transferring the resin layer to a base film and then curing it, and transporting the base film on which the UV-cured resin layer has been formed. However, there is a method in which a roll-shaped master having a plurality of grooves is pressed against the surface of the UV-cured resin layer to form unevenness and then cured, such as methods described in JP-A-6-34976 and JP-A-2011-242743. method etc. can be used.

上記方法の中でも、複数の溝を有するロール状の原盤をUV硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成後硬化する方法が好ましい。ロール状原盤としては、耐久性の観点からステンレス(SUS)鋼を用いることができる。 Among the above methods, a method in which a roll-shaped master having a plurality of grooves is pressed against the surface of the UV-cured resin layer to form irregularities and then cured is preferred. As the rolled master, stainless steel (SUS) can be used from the viewpoint of durability.

UV硬化樹脂としては、単官能アクリレートの重合体、多官能アクリレートの重合体またはこれらの混合物の重合体を用いることができる。
単官能アクリレートとは、アクリロイルオキシ基(CH2=CH-COO-)及びメタクリロイルオキシ基(CH2=C(CH3)-COO-)からなる群より選ばれる基(以下、(メタ)アクリロイルオキシ基と記すこともある。)を分子内に1個有する化合物である。
As the UV curing resin, a monofunctional acrylate polymer, a polyfunctional acrylate polymer, or a mixture thereof can be used.
Monofunctional acrylate refers to a group selected from the group consisting of acryloyloxy group (CH2=CH-COO-) and methacryloyloxy group (CH2=C(CH3)-COO-) (hereinafter referred to as (meth)acryloyloxy group) ) is a compound that has one compound in its molecule.

(メタ)アクリロイルオキシ基を1個有する単官能アクリレートとしては、炭素数4から16のアルキル(メタ)アクリレート、炭素数2から14のβカルボキシアルキル(メタ)アクリレート、炭素数2から14のアルキル化フェニル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート及びイソボニル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Monofunctional acrylates having one (meth)acryloyloxy group include alkyl (meth)acrylates having 4 to 16 carbon atoms, β-carboxyalkyl (meth)acrylates having 2 to 14 carbon atoms, and alkylated carbon atoms having 2 to 14 carbon atoms. Examples include phenyl (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, and isobonyl (meth)acrylate.

多官能アクリレートとは、通常、(メタ)アクリロイルオキシ基を分子内に2個乃至6個有する化合物である。 Polyfunctional acrylate is usually a compound having 2 to 6 (meth)acryloyloxy groups in the molecule.

(メタ)アクリロイルオキシ基を2個有する2官能アクリレートとしては、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート;1,3-ブタンジオール(メタ)アクリレート;1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート;ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート;トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート;テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールジアクリレート;ビスフェノールAのビス(アクリロイロキシエチル)エーテル;エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート;プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート;エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート及び3-メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレートなどが例示される。 As the bifunctional acrylate having two (meth)acryloyloxy groups, 1,3-butanediol di(meth)acrylate; 1,3-butanediol (meth)acrylate; 1,6-hexanediol di(meth)acrylate ; Ethylene glycol di(meth)acrylate; Diethylene glycol di(meth)acrylate; Neopentyl glycol di(meth)acrylate; Triethylene glycol di(meth)acrylate; Tetraethylene glycol di(meth)acrylate; Polyethylene glycol diacrylate; Bisphenol A bis(acryloyloxyethyl) ether; ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate; propoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate; ethoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate and 3-methylpentanediol di(meth)acrylate; ) Acrylate etc. are exemplified.

(メタ)アクリロイルオキシ基を3個乃至6個有する多官能アクリレートとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート;トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート;エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート;プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート;トリペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート;トリペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート;トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート;トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート;トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートと酸無水物との反応物;ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートと酸無水物との反応物;トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレートと酸無水物との反応物;カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートと酸無水物との反応物;カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートと酸無水物との反応物、及びカプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレートと酸無水物などが挙げられる。なお、ここに示した多官能アクリレートの具体例において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。また、カプロラクトン変性とは、(メタ)アクリレート化合物のアルコール由来部位と(メタ)アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体、又は、開環重合体が導入されていることを意味する。 Polyfunctional acrylates having 3 to 6 (meth)acryloyloxy groups include trimethylolpropane tri(meth)acrylate; pentaerythritol tri(meth)acrylate; tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate tri(meth)acrylate ; Ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate; Propoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate; Pentaerythritol tetra(meth)acrylate; Dipentaerythritol penta(meth)acrylate; Dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; Pentaerythritol tetra(meth)acrylate; Tripentaerythritol penta(meth)acrylate; Tripentaerythritol hexa(meth)acrylate; Tripentaerythritol hepta(meth)acrylate; Tripentaerythritol octa(meth)acrylate; Pentaerythritol tri(meth)acrylate Reaction product of acrylate and acid anhydride; Reaction product of dipentaerythritol penta(meth)acrylate and acid anhydride; Reaction product of tripentaerythritol hepta(meth)acrylate and acid anhydride; Caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth)acrylate; caprolactone-modified pentaerythritol tri(meth)acrylate; caprolactone-modified tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate tri(meth)acrylate; caprolactone-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate; caprolactone-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate; ) acrylate; caprolactone-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; caprolactone-modified tripentaerythritol tetra(meth)acrylate; caprolactone-modified tripentaerythritol penta(meth)acrylate; caprolactone-modified tripentaerythritol hexa(meth)acrylate; caprolactone-modified tri- Pentaerythritol hepta(meth)acrylate; Caprolactone-modified tripentaerythritol octa(meth)acrylate; Reaction product of caprolactone-modified pentaerythritol tri(meth)acrylate and acid anhydride; Caprolactone-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate and acid anhydride and caprolactone-modified tripentaerythritol hepta(meth)acrylate and acid anhydrides. In addition, in the specific example of the polyfunctional acrylate shown here, (meth)acrylate means acrylate or methacrylate. Moreover, caprolactone modification means that a ring-opened product or a ring-opened polymer of caprolactone is introduced between the alcohol-derived moiety of the (meth)acrylate compound and the (meth)acryloyloxy group.

かかる多官能アクリレートには市販品を用いることもできる。かかる市販品としては、A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT(新中村化学株式会社製)、”ARONIXM-220”、同”M-325”、同”M-240”、同”M-270”、同”M-309”同”M-310”、同”M-321”、同”M-350”、同”M-360”、同”M-305”、同”M-306”、同”M-450”、同”M-451”、同”M-408”、同”M-400”、同”M-402”、同”M-403”、同”M-404”、同”M-405”、同”M-406”(東亜合成株式会社製)、”EBECRYL11”、同”145”、同”150”、同”40”、同”140”、同”180”、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYLシリーズ(ダイセル・サイテック株式会社製)などを挙げることができる。 Commercially available products can also be used as such polyfunctional acrylates. Such commercial products include A-DOD-N, A-HD-N, A-NOD-N, APG-100, APG-200, APG-400, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A- TMM-3, A-TMPT, AD-TMP, ATM-35E, A-TMMT, A-9550, A-DPH, HD-N, NOD-N, NPG, TMPT (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), "ARONIXM" -220", "M-325", "M-240", "M-270", "M-309", "M-310", "M-321", "M-350" ", "M-360", "M-305", "M-306", "M-450", "M-451", "M-408", "M-400" , "M-402", "M-403", "M-404", "M-405", "M-406" (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), "EBECRYL11", "145" ", "150", "40", "140", "180", DPGDA, HDDA, TPGDA, HPNDA, PETIA, PETRA, TMPTA, TMPEOTA, DPHA, EBECRYL series (manufactured by Daicel Cytec Corporation) etc. can be mentioned.

グルブ配向膜の凹凸としては、凸部の幅は0.05~5μmであることが好ましく、凹部の幅は0.1~5μmであることが好ましく、凹凸の段差の深さは2μm以下、好ましくは0.01~1μm以下であることが好ましい。この範囲であれば、配向乱れの小さな液晶配向を得ることができる。 Regarding the unevenness of the groove alignment film, the width of the convex portion is preferably 0.05 to 5 μm, the width of the concave portion is preferably 0.1 to 5 μm, and the depth of the step of the unevenness is preferably 2 μm or less, preferably is preferably 0.01 to 1 μm or less. Within this range, liquid crystal alignment with little alignment disorder can be obtained.

配向膜の厚さは、通常10nm~10000nmの範囲であり、好ましくは10nm~1000nmの範囲であり、より好ましくは500nm以下であり、さらに好ましくは10nm~500nmの範囲である。 The thickness of the alignment film is usually in the range of 10 nm to 10,000 nm, preferably in the range of 10 nm to 1,000 nm, more preferably 500 nm or less, and even more preferably in the range of 10 nm to 500 nm.

重合性液晶の液晶配向は、配向膜及び重合性液晶の性質によって制御される。例えば、配向膜が配向規制力として水平配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶は水平配向またはハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶は垂直配向または傾斜配向を形成することができる。配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。 The liquid crystal alignment of the polymerizable liquid crystal is controlled by the properties of the alignment film and the polymerizable liquid crystal. For example, if the alignment film is a material that exhibits a horizontal alignment regulating force as an alignment regulating force, the polymerizable liquid crystal can form a horizontal alignment or a hybrid alignment, and if the alignment film is a material that exhibits a vertical alignment regulating force, it can be polymerized. The liquid crystals can be vertically aligned or tilted. If the alignment film is made of an oriented polymer, the alignment regulating force can be adjusted arbitrarily by changing the surface condition and rubbing conditions, and if it is made of a photo-alignable polymer, it can be adjusted by changing the polarized light irradiation conditions. It is possible to arbitrarily adjust it by etc. Moreover, liquid crystal alignment can also be controlled by selecting physical properties such as surface tension and liquid crystallinity of the polymerizable liquid crystal.

重合性液晶の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させる公知の方法により行うことができる。具体的には、熱重合および光重合が挙げられ、重合の容易さの観点から、光重合が好ましい。光重合により重合性液晶を重合させる場合、光重合開始剤を含有した重合性液晶組成物を塗布し、乾燥して得られる乾燥被膜中の重合性液晶を液晶相状態にした後、該液晶状態を保持したまま、光重合させることが好ましい。 The polymerizable liquid crystal can be polymerized by a known method of polymerizing a compound having a polymerizable functional group. Specific examples include thermal polymerization and photopolymerization, with photopolymerization being preferred from the viewpoint of ease of polymerization. When polymerizing a polymerizable liquid crystal by photopolymerization, a polymerizable liquid crystal composition containing a photopolymerization initiator is applied and dried to bring the polymerizable liquid crystal in the dry film into a liquid crystal phase state. It is preferable to carry out photopolymerization while maintaining the .

光重合は、通常、乾燥被膜に光を照射することにより実施される。照射する光としては、乾燥被膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶の種類(特に、重合性液晶が有する光重合基の種類)およびその量に応じて、適宜選択され、具体的には、可視光、紫外光およびレーザー光からなる群より選択される光、活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶と光重合開始剤との種類を選択することが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥被膜を冷却しながら、光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に位相差層を形成できる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた位相差層を得ることもできる。 Photopolymerization is usually carried out by irradiating the dry film with light. The light to be irradiated is appropriately selected depending on the type of photopolymerization initiator contained in the dry film, the type of polymerizable liquid crystal (especially the type of photopolymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal), and the amount thereof. Examples include light selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light and laser light, and active electron beams. Among these, ultraviolet light is preferable because it is easy to control the progress of the polymerization reaction and it is possible to use photopolymerization equipment that is widely used in the field. It is preferable to select the types of polymerizable liquid crystal and photopolymerization initiator. Furthermore, during polymerization, the polymerization temperature can be controlled by irradiating light while cooling the dry film using an appropriate cooling means. By employing such a cooling means and polymerizing the polymerizable liquid crystal at a lower temperature, a retardation layer can be appropriately formed even if a base material with relatively low heat resistance is used. A patterned retardation layer can also be obtained by performing masking or development during photopolymerization.

重合性液晶組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素-炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基(-COOH)、水酸基(-OH)、アミノ基(-NH2)等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する、炭素-炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ1~20個であり、好ましくはそれぞれ1~10個である。 The polymerizable liquid crystal composition may also contain a reactive additive. The reactive additive preferably has a carbon-carbon unsaturated bond and an active hydrogen-reactive group in its molecule. The term "active hydrogen-reactive group" as used herein refers to a group that is reactive with groups having active hydrogen, such as carboxyl group (-COOH), hydroxyl group (-OH), and amino group (-NH2). Representative examples thereof include a glycidyl group, an oxazoline group, a carbodiimide group, an aziridine group, an imide group, an isocyanate group, a thioisocyanate group, and a maleic anhydride group. The number of carbon-carbon unsaturated bonds and active hydrogen-reactive groups that the reactive additive has is usually 1 to 20 each, preferably 1 to 10 each.

反応性添加剤において、活性水素反応性基は少なくとも2つ存在すると好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。 In the reactive additive, it is preferable that at least two active hydrogen-reactive groups exist, and in this case, the plurality of active hydrogen-reactive groups may be the same or different.

反応性添加剤が有する炭素-炭素不飽和結合とは、炭素-炭素二重結合又は炭素-炭素三重結合、あるいはそれらの組み合わせであってよいが、炭素-炭素二重結合であると好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び/又は(メタ)アクリル基として炭素-炭素不飽和結合を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも1種であるものが好ましく、アクリル基と、イソシアネート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。 The carbon-carbon unsaturated bond possessed by the reactive additive may be a carbon-carbon double bond, a carbon-carbon triple bond, or a combination thereof, and is preferably a carbon-carbon double bond. Among these, the reactive additive preferably contains a carbon-carbon unsaturated bond as a vinyl group and/or (meth)acrylic group. Further, it is preferable that the active hydrogen-reactive group is at least one selected from the group consisting of an epoxy group, a glycidyl group, and an isocyanate group, and a reactive additive having an acrylic group and an isocyanate group is particularly preferable.

反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、(メタ)アクリル基とエポキシ基とを有する化合物;オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、(メタ)アクリル基とオキセタン基とを有する化合物;ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、(メタ)アクリル基とラクトン基とを有する化合物;ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物;イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、2-イソシアナトエチルアクリレート及び20イソシアナトエチルメタクリレートなどの、(メタ)アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、2-イソシアナトエチルアクリレート、2-イソシアナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、2-イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。 Specific examples of reactive additives include compounds having a (meth)acrylic group and an epoxy group, such as methacryloxyglycidyl ether and acryloxyglycidyl ether; Compounds having a (meth)acrylic group and a lactone group, such as lactone acrylate and lactone methacrylate; Compounds having a vinyl group and an oxazoline group, such as vinyloxazoline and isopropenyloxazoline; Isocyanatomethyl acrylate Examples include oligomers of compounds having a (meth)acrylic group and an isocyanate group, such as isocyanatomethyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate, and 20-isocyanatoethyl methacrylate. Other examples include compounds having a vinyl group or vinylene group and an acid anhydride, such as methacrylic anhydride, acrylic anhydride, maleic anhydride, and vinyl maleic anhydride. Among them, methacryloxyglycidyl ether, acryloxyglycidyl ether, isocyanatomethyl acrylate, isocyanatomethyl methacrylate, vinyloxazoline, 2-isocyanatoethyl acrylate, 2-isocyanatoethyl methacrylate and the aforementioned oligomers are preferred, and isocyanatomethyl acrylate, Particular preference is given to 2-isocyanatoethyl acrylate and the oligomers mentioned above.

具体的には、下記式(Y)で表される化合物が好ましい。

Figure 2024018516000017

[式(Y)中、
nは1~10までの整数を表わし、R1’は、炭素数2~20の2価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数5~20の2価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある2つのR2’は、一方が-NH-であり、他方が>N-C(=O)-R3’で示される基である。R3’は、水酸基又は炭素-炭素不飽和結合を有する基を表す。
式(Y)中のR3’のうち、少なくとも1つのR3’は炭素-炭素不飽和結合を有する
基である。] Specifically, a compound represented by the following formula (Y) is preferred.
Figure 2024018516000017

[In formula (Y),
n represents an integer from 1 to 10, and R1' represents a divalent aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, or a divalent aromatic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms. represent. One of the two R2's in each repeating unit is -NH-, and the other is a group represented by >N-C(=O)-R3'. R3' represents a hydroxyl group or a group having a carbon-carbon unsaturated bond.
Among R3's in formula (Y), at least one R3' is a group having a carbon-carbon unsaturated bond. ]

前記式(Y)で表される反応性添加剤の中でも、下記式(YY)で表される化合物(以下、化合物(YY)という場合がある。)が特に好ましいものである(なお、nは前記と同じ意味である)。 Among the reactive additives represented by the formula (Y), the compound represented by the following formula (YY) (hereinafter sometimes referred to as compound (YY)) is particularly preferable (n is (same meaning as above).

Figure 2024018516000018

化合物(YY)には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、例えば、Laromer(登録商標)LR-9000(BASF社製)が挙げられる。
Figure 2024018516000018

As the compound (YY), a commercially available product can be used as it is or after being purified if necessary. Examples of commercially available products include Laromer (registered trademark) LR-9000 (manufactured by BASF).

重合性液晶組成物が反応性添加剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶100質量部に対して、通常0.1質量部~30質量部であり、好ましくは0.1質量部~5質量部である。 When the polymerizable liquid crystal composition contains a reactive additive, the content thereof is usually 0.1 parts by mass to 30 parts by mass, preferably 0.1 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal. ~5 parts by mass.

重合性液晶組成物は、1種以上のレベリング剤を含有することが好ましい。レベリング剤は、重合性液晶組成物の流動性を調整し、重合性液晶組成物を塗布することにより得られる塗布膜をより平坦にする機能を有し、具体的には、界面活性剤が挙げられる。レベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤およびフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。 The polymerizable liquid crystal composition preferably contains one or more leveling agents. The leveling agent has the function of adjusting the fluidity of the polymerizable liquid crystal composition and making the coating film obtained by applying the polymerizable liquid crystal composition more flat. It will be done. The leveling agent is preferably at least one selected from the group consisting of a leveling agent containing a polyacrylate compound as a main component and a leveling agent containing a fluorine atom-containing compound as a main component.

ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、”BYK-350”、”BYK-352”、”BYK-353”、”BYK-354”、”BYK-355”、”BYK-358N”、”BYK-361N”、”BYK-380”、”BYK-381”および”BYK-392”[BYK Chemie社]が挙げられる。 Leveling agents containing polyacrylate compounds as main ingredients include "BYK-350", "BYK-352", "BYK-353", "BYK-354", "BYK-355", "BYK-358N", BYK-361N”, “BYK-380”, “BYK-381” and “BYK-392” [BYK Chemie].

フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、”メガファック(登録商標)R-08”、同”R-30”、同”R-90”、同”F-410”、同”F-411”、同”F-443”、同”F-445”、同”F-470”、同”F-471”、同”F-477”、同”F-479”、同”F-482”および同”F-483”[DIC(株)];”サーフロン(登録商標)S-381”、同”S-382”、同”S-383”、同”S-393”、同”SC-101”、同”SC-105”、”KH-40”および”SA-100”[AGCセイミケミカル(株)];”E1830”、”E5844”[(株)ダイキンファインケミカル研究所];”エフトップEF301”、”エフトップEF303”、”エフトップEF351”および”エフトップEF352”[三菱マテリアル電子化成(株)]が挙げられる。 Leveling agents whose main component is a fluorine atom-containing compound include "Megafac (registered trademark) R-08", "Megafac (registered trademark) R-30", "Megafac (registered trademark) R-30", "Megafac (registered trademark) R-90", "Megafac (registered trademark)" "F-410", "Megafac (registered trademark)" -411", "F-443", "F-445", "F-470", "F-471", "F-477", "F-479", "F-" 482" and "F-483" [DIC Corporation]; "Surflon (registered trademark) S-381", "S-382", "S-383", "S-393", "Surflon (registered trademark) S-381", "S-382", "S-383", "S-393", "SC-101", "SC-105", "KH-40" and "SA-100" [AGC Seimi Chemical Co., Ltd.]; "E1830", "E5844" [Daikin Fine Chemical Research Institute Co., Ltd.]; Examples include "F-TOP EF301", "F-TOP EF303", "F-TOP EF351" and "F-TOP EF352" [Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.].

重合性液晶組成物がレベリング剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶100質量部に対して、0.01質量部以上5質量部以下が好ましく、0.05質量部以上5質量部以下がより好ましく、0.05質量部以上3質量部以下がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、重合性液晶を水平配向させることが容易であり、かつ、得られる偏光層がより平滑となる傾向がある。重合性液晶に対するレベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、得られる位相差層にムラが生じにくい傾向がある。 When the polymerizable liquid crystal composition contains a leveling agent, the content is preferably 0.01 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, and 0.05 parts by mass or more and 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal. The following is more preferable, and 0.05 parts by mass or more and 3 parts by mass or less is even more preferable. When the content of the leveling agent is within the above range, it is easy to horizontally align the polymerizable liquid crystal, and the resulting polarizing layer tends to be smoother. When the content of the leveling agent in the polymerizable liquid crystal is within the above range, the obtained retardation layer tends to be less likely to have unevenness.

重合性液晶組成物は、1種以上の重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、重合性液晶の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカルまたは酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。 The polymerizable liquid crystal composition preferably contains one or more polymerization initiators. The polymerization initiator is a compound that can initiate the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal, and a photopolymerization initiator is preferable because it can initiate the polymerization reaction under lower temperature conditions. Specifically, photopolymerization initiators that can generate active radicals or acids by the action of light can be mentioned, and among them, photopolymerization initiators that can generate radicals by the action of light are preferred.

重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。 Examples of the polymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, triazine compounds, iodonium salts, and sulfonium salts.

ベンゾイン化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテルが挙げられる。 Benzoin compounds include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.

ベンゾフェノン化合物としては、ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’-テトラ(tert-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンおよび2,4,6-トリメチルベンゾフェノンが挙げられる。 Examples of benzophenone compounds include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and 3,3',4,4'-tetra(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone. and 2,4,6-trimethylbenzophenone.

アルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、2-メチル-2-モルホリノ-1-(4-メチルチオフェニル)プロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1,2-ジフェニル-2,2-ジメトキシエタン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-〔4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル〕プロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび2-ヒドロキシ-2-メチル-1-〔4-(1-メチルビニル)フェニル〕プロパン-1-オンのオリゴマーが挙げられる。 Examples of alkylphenone compounds include diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1-(4-methylthiophenyl)propan-1-one, and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butane. -1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1,2-diphenyl-2,2-dimethoxyethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-[ 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]propan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propan-1-one Examples include oligomers.

アシルホスフィンオキサイド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドおよびビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。 Examples of the acylphosphine oxide compounds include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide.

トリアジン化合物としては、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシナフチル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシスチリル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(フラン-2-イル)エテニル〕-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル〕-1,3,5-トリアジンおよび2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-〔2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル〕-1,3,5-トリアジンが挙げられる。 As triazine compounds, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2 -(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-1,3 ,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine and 2,4-bis(trichloromethyl) -6-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine is mentioned.

重合開始剤には、市販のものを用いることができる。市販の重合開始剤としては、”イルガキュア(Irgacure)(登録商標)907”、”イルガキュア(登録商標)184”、”イルガキュア(登録商標)651”、”イルガキュア(登録商標)819”、”イルガキュア(登録商標)250”、”イルガキュア(登録商標)369”(チバ・ジャパン(株));”セイクオール(登録商標)BZ”、”セイクオール(登録商標)Z”、”セイクオール(登録商標)BEE”(精工化学(株));”カヤキュアー(kayacure)(登録商標)BP100”(日本化薬(株));”カヤキュアー(登録商標)UVI-6992”(ダウ社製);”アデカオプトマーSP-152”、”アデカオプトマーSP-170”((株)ADEKA);”TAZ-A”、”TAZ-PP”(日本シイベルヘグナー社);および”TAZ-104”(三和ケミカル社)が挙げられる。 A commercially available polymerization initiator can be used. Commercially available polymerization initiators include "Irgacure (registered trademark) 907", "Irgacure (registered trademark) 184", "Irgacure (registered trademark) 651", "Irgacure (registered trademark) 819", and "Irgacure (registered trademark)". (registered trademark) 250”, “Irgacure (registered trademark) 369” (Ciba Japan Co., Ltd.); “Seiqual (registered trademark) BZ”, “Seiqual (registered trademark) Z”, “Seiqual (registered trademark) BEE” ( Seiko Chemical Co., Ltd.); “Kayacure (registered trademark) BP100” (Nippon Kayaku Co., Ltd.); “Kayacure (registered trademark) UVI-6992” (manufactured by Dow Corporation); “Adeka Optomer SP-152” "," "ADEKA Optomer SP-170" (ADEKA Co., Ltd.); "TAZ-A", "TAZ-PP" (Japan Siberhegner Co., Ltd.); and "TAZ-104" (Sanwa Chemical Co., Ltd.).

重合性液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、その含有量は、該組成物に含有される重合性液晶の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶100質量部に対して、0.1~30質量部が好ましく、0.5~10質量部がより好ましく、0.5~8質量部がさらに好ましい。重合性開始剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶の配向を乱すことなく重合させることができる。 When the polymerizable liquid crystal composition contains a polymerization initiator, the content can be adjusted as appropriate depending on the type and amount of polymerizable liquid crystal contained in the composition, but it is The amount is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.5 to 10 parts by weight, and even more preferably 0.5 to 8 parts by weight. If the content of the polymerizable initiator is within this range, polymerization can be carried out without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal.

重合性液晶組成物が光重合開始剤を含有する場合、該組成物は光増感剤をさらに含有していてもよい。光増感剤としては、キサントン、チオキサントンなどのキサントン化合物(例えば、2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントンなど);アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセンなど)などのアントラセン化合物;フェノチアジンおよびルブレンが挙げられる。 When the polymerizable liquid crystal composition contains a photopolymerization initiator, the composition may further contain a photosensitizer. Examples of photosensitizers include xanthone compounds such as xanthone and thioxanthone (e.g., 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, etc.); anthracene compounds such as anthracene and anthracene containing an alkoxy group (e.g., dibutoxyanthracene, etc.); Includes phenothiazines and rubrene.

重合性液晶組成物が光重合開始剤および光増感剤を含有する場合、該組成物に含有される重合性液晶の重合反応をより促進することができる。光増感剤の使用量は、光重合開始剤および重合性液晶の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶100質量部に対して、0.1~30質量部が好ましく、0.5~10質量部がより好ましく、0.5~8質量部がさらに好ましい。 When the polymerizable liquid crystal composition contains a photopolymerization initiator and a photosensitizer, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal contained in the composition can be further promoted. The amount of the photosensitizer used can be adjusted as appropriate depending on the type and amount of the photopolymerization initiator and polymerizable liquid crystal, but is preferably 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable liquid crystal. More preferably 0.5 to 10 parts by weight, even more preferably 0.5 to 8 parts by weight.

重合性液晶の重合反応をより安定的に進行させるために、重合性液晶組成物は適量の重合禁止剤を含有してもよく、これにより、重合性液晶の重合反応の進行度合いを制御しやすくなる。 In order to make the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal proceed more stably, the polymerizable liquid crystal composition may contain an appropriate amount of a polymerization inhibitor, which makes it easier to control the degree of progress of the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal. Become.

重合禁止剤としては、ハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール(例えば、ブチルカテコールなど)、ピロガロール、2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル捕捉剤;チオフェノール類;β-ナフチルアミン類およびβ-ナフトール類が挙げられる。 Examples of polymerization inhibitors include radical scavengers such as hydroquinone, alkoxy group-containing hydroquinone, alkoxy group-containing catechol (such as butylcatechol), pyrogallol, and 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy radical. ; thiophenols; β-naphthylamines and β-naphthols.

重合性液晶組成物が重合禁止剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶の種類およびその量、並びに光増感剤の使用量などに応じて適宜調節できるが、重合性液晶100質量部に対して、0.1~30質量部が好ましく、0.5~10質量部がより好ましく、0.5~8質量部がさらに好ましい。重合禁止剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶の配向を乱すことなく重合させることができる。 When the polymerizable liquid crystal composition contains a polymerization inhibitor, the content can be adjusted as appropriate depending on the type and amount of the polymerizable liquid crystal, the amount of photosensitizer used, etc. 0.1 to 30 parts by weight is preferable, more preferably 0.5 to 10 parts by weight, and even more preferably 0.5 to 8 parts by weight. If the content of the polymerization inhibitor is within this range, polymerization can be carried out without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal.

[位相差板の製造方法]
位相差板を製造する場合、第1位相差層、第2位相差層及び第3位相差層を形成する順序は任意である。また、第1位相差層における層Aと層Bを形成する順序も任意である。
[Method for manufacturing retardation plate]
When manufacturing a retardation plate, the order of forming the first retardation layer, the second retardation layer, and the third retardation layer is arbitrary. Further, the order in which the layers A and B in the first retardation layer are formed is also arbitrary.

基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Aを形成し、該層Aの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Bが形成し、該層Bの上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成してもよい。
基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Bを形成し、該層Bの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Aを形成し、該層Aの上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成してもよい。
基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、該第2位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Aを形成し、該層Aの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Bを形成してもよい。
基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、該第2位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Bを形成し、該層Bの上に、配向膜を介す
るかまたは介さずに層Aを形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに層Aを形成し、該層Aの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Bを形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに層Bを形成し、該層Bの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Aを形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成してもよい。
A layer A is formed on the base material with or without an alignment film, a layer B is formed on the layer A with or without an alignment film, and an alignment film is formed on the layer B. The second retardation layer may be formed with or without a film.
A layer B is formed on the base material with or without an alignment film, a layer A is formed on the layer B with or without an alignment film, and an alignment film is formed on the layer A. The second retardation layer may be formed with or without a film.
A second retardation layer is formed on the substrate with or without an alignment film, a layer A is formed on the second retardation layer with or without an alignment film, and the layer A is formed on the second retardation layer with or without an alignment film. Layer B may be formed on layer A with or without an alignment film.
forming a second retardation layer on the base material with or without an alignment film; forming a layer B on the second retardation layer with or without an alignment film; Layer A may be formed on layer B with or without an alignment film.
A layer A is formed on one side of the base material with or without an alignment film, a layer B is formed on the layer A with or without an alignment film, and a layer B is formed on the other side of the base material. A second retardation layer may be formed on the surface with or without an alignment film.
A layer B is formed on one side of the base material with or without an alignment film, a layer A is formed on the layer B with or without an alignment film, and a layer A is formed on the other side of the base material. A second retardation layer may be formed on the surface with or without an alignment film.

層Aの上に配向膜を介するかまたは介さずに層Bが形成される場合、又は、層Bの上に配向膜を介するかまたは介さずに層Aが形成される場合は、層Aと層Bとの間に保護層があってもよい。また、第2位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに層Aが形成される場合、第2位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに層Aが形成される場合、層Aの上に配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層が形成される場合、又は、層Bの上に配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層が形成される場合は、第2の位相差層と層A又は層Bとの間に保護層があってもよい。 When layer B is formed on layer A with or without an alignment film, or when layer A is formed on layer B with or without an alignment film, layer A and There may be a protective layer between layer B and layer B. Further, when layer A is formed on the second retardation layer with or without an alignment film, layer A is formed on the second retardation layer with or without an alignment film. In this case, the second retardation layer is formed on layer A with or without an alignment film, or the second retardation layer is formed on layer B with or without an alignment film. If so, there may be a protective layer between the second retardation layer and layer A or layer B.

基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成し、該第1位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、該第2位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第3位相差層を形成してもよい。
基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第3位相差層を形成し、該第3位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、該第2位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成してもよい。基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成し、該第1位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第3位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、該第2位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第3位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第3位相差層を形成し、該第3位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、該第2位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第3位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成してもよい。
A first retardation layer is formed on the base material with or without an alignment film, and a second retardation layer is formed on the first retardation layer with or without an alignment film. A third retardation layer may be formed on the second retardation layer with or without an alignment film.
A third retardation layer is formed on the base material with or without an alignment film, and a second retardation layer is formed on the third retardation layer with or without an alignment film. A first retardation layer may be formed on the second retardation layer with or without an alignment film. A first retardation layer is formed on one surface of the base material with or without an alignment film, and a second retardation layer is formed on the first retardation layer with or without an alignment film. may be formed, and a third retardation layer may be formed on the other surface of the base material with or without an alignment film.
A second retardation layer is formed on one surface of the base material with or without an alignment film, and a first retardation layer is formed on the second retardation layer with or without an alignment film. may be formed, and a third retardation layer may be formed on the other surface of the base material with or without an alignment film.
A third retardation layer is formed on one surface of the base material with or without an alignment film, and a second retardation layer is formed on the third retardation layer with or without an alignment film. may be formed, and the first retardation layer may be formed on the other surface of the base material with or without an alignment film.
A second retardation layer is formed on one surface of the base material with or without an alignment film, and a third retardation layer is formed on the second retardation layer with or without an alignment film. may be formed, and the first retardation layer may be formed on the other surface of the base material with or without an alignment film.

基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成し、該第1位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成てもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、該第2位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層を形成してもよい。
A first retardation layer is formed on the base material with or without an alignment film, and a second retardation layer is formed on the first retardation layer with or without an alignment film. Good too.
A second retardation layer is formed on one surface of the base material with or without an alignment film, and a first retardation layer is formed on the second retardation layer with or without an alignment film. may be formed.
A second retardation layer is formed on one surface of the base material with or without an alignment film, and a first retardation layer is formed on the other surface of the base material with or without an alignment film. You may.

第1位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層が形成される場合、又は、第2位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第1位相差層が形成される場合は、第1位相差層と第2位相差層との間に保護層があってもよい。また、第2位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第3位相差層が形成される場合、又は、第3位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第2位相差層が形成される場合は、第2位相差層と第3位相差層との間に保護層があってもよい。 When the second retardation layer is formed on the first retardation layer with or without an alignment film, or when the second retardation layer is formed on the second retardation layer with or without an alignment film, the first retardation layer is formed on the first retardation layer. When a retardation layer is formed, a protective layer may be provided between the first retardation layer and the second retardation layer. Further, when a third retardation layer is formed on the second retardation layer with or without an alignment film, or when a third retardation layer is formed on the third retardation layer with or without an alignment film, When two retardation layers are formed, a protective layer may be provided between the second retardation layer and the third retardation layer.

(保護層)
保護層は、通常、多官能アクリレート(メタクリレート)、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー、ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶剤とを含有する保護層形成用組成物から形成されることが好ましい。
(protective layer)
The protective layer is usually made of acrylic oligomers or polymers made of polyfunctional acrylates (methacrylates), urethane acrylates, polyester acrylates, epoxy acrylates, etc., polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymers, polyvinylpyrrolidone, starches, methylcellulose, carboxylic The protective layer is preferably formed from a composition for forming a protective layer containing a water-soluble polymer such as methylcellulose or sodium alginate and a solvent.

保護層形成用組成物に含有される溶剤は、前記した溶剤と同様のものが挙げられ、中でも、水、アルコール溶剤およびエーテル溶剤からなる群より選ばれる少なくとも一つの溶剤が、保護層を形成する層を溶解させることがない点で、好ましい。アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。 Examples of the solvent contained in the composition for forming a protective layer include the same solvents as those described above, and among them, at least one solvent selected from the group consisting of water, an alcohol solvent, and an ether solvent forms the protective layer. This is preferable because it does not cause the layer to dissolve. Alcohol solvents include methanol, ethanol, butanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether and propylene glycol monomethyl ether. Ether solvents include ethylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate. Among these, ethanol, isopropyl alcohol, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate are preferred.

保護層の厚さは、通常20μm以下である。保護層の厚さは、0.5μm以上10μm以下が好ましく、1μm以上5μm以下がより好ましい。保護層の厚さは、通常、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定によって求めることができる。 The thickness of the protective layer is usually 20 μm or less. The thickness of the protective layer is preferably 0.5 μm or more and 10 μm or less, more preferably 1 μm or more and 5 μm or less. The thickness of the protective layer can usually be determined by measurement using an interference thickness meter, a laser microscope, or a stylus thickness meter.

続いて、連続的に位相差板を製造する方法について説明する。このような連続的に本光学フィルムを製造する好適な方法として、Roll to Roll形式による方法が挙げられる。ここでは、重合性液晶を重合させることにより形成される位相差層の製造方法について説明するが、重合性液晶を重合させることにより形成される位相差層にかえて、延伸フィルムからなる位相差層を用いてもよい、この場合、下記製造工程における「重合性液晶組成物を塗布し」を「延伸フィルムを積層し」に読み替えればよい。
また、下記に代表的な構成の製造方法を例示するが、その他の構成は、下記製造方法に準じて実施すればよい。
Next, a method for continuously manufacturing a retardation plate will be described. A preferred method for continuously manufacturing the present optical film is a roll-to-roll method. Here, we will explain a method for manufacturing a retardation layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal, but instead of a retardation layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal, a retardation layer made of a stretched film is used. In this case, "coating a polymerizable liquid crystal composition" in the manufacturing process described below may be replaced with "laminating a stretched film".
Further, although a manufacturing method of a typical configuration is illustrated below, other configurations may be implemented according to the manufacturing method described below.

(1)基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
(2)該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
(3)該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
(4)該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第1位相差層を形成する工程、
(5)前記(4)で得られた第1位相差層の上に保護層を連続的に形成する工程、
(6)前記(5)で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
(7)前記(6)で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第2位相差層を形成する工程、
(8)連続的に得られた光学フィルムを第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程を順に行う方法が挙げられる。なお、工程(3)、(5)及び(6)は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程(4)における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程(6)における「前記(5)で得られた保護層」は、「該第1位相差層」に、工程(7)における「前記(6)で得られた配向膜」は、「該第1位相差層」又は「前記(5)で得られた保護層」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。
(1) A step of preparing a roll in which a base material is wound around a core,
(2) a step of continuously feeding out the base material from the roll;
(3) a step of continuously forming an alignment film on the base material;
(4) applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film to continuously form a first retardation layer;
(5) Continuously forming a protective layer on the first retardation layer obtained in (4) above,
(6) a step of continuously forming an alignment film on the protective layer obtained in (5) above;
(7) a step of applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film obtained in (6) above to continuously form a second retardation layer;
(8) A method may be mentioned in which the optical film obtained continuously is wound around a second core, and the steps of obtaining a second roll are performed in order. Note that steps (3), (5), and (6) may be omitted if necessary, and in this case, "on the alignment film" in step (4) refers to "on the base material". In step (6), the "protective layer obtained in step (5)" is added to "the first retardation layer", and in step (7), "the alignment film obtained in step (6)" is added to "the first retardation layer". "first retardation layer" or "protective layer obtained in (5) above". Further, in order to suppress wrinkles and curls during transportation, a protective film may be laminated when the film is transported in each step.

また、
(1a)基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
(2a)該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
(3a)該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
(4a)該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第2位相差層を形成する工程、
(5a)前記(4a)で得られた第2位相差層の上に保護層を連続的に形成する工程、
(6a)前記(5a)で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
(7a)前記(6a)で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第1位相差層を形成する工程、
(8a)連続的に得られた光学フィルムを第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程を順に行う方法も挙げられる。なお、工程(3a)、(5a)及び(6a)は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程(4a)における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程(6a)における「前記(5a)で得られた保護層」は、「該第2位相差層」に、工程(7a)における「前記(6a)で得られた配向膜」は、「該第2位相差層」又は「前記(5a)で得られた保護層」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。
Also,
(1a) preparing a roll in which the base material is wound around a core;
(2a) continuously feeding out the base material from the roll;
(3a) Continuously forming an alignment film on the base material,
(4a) applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film to continuously form a second retardation layer;
(5a) Continuously forming a protective layer on the second retardation layer obtained in (4a),
(6a) Continuously forming an alignment film on the protective layer obtained in (5a),
(7a) a step of applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film obtained in (6a) to continuously form a first retardation layer;
(8a) There is also a method in which the optical film obtained continuously is wound around a second core, and the steps of obtaining a second roll are sequentially performed. Note that steps (3a), (5a), and (6a) may be omitted if necessary, and in this case, "on the alignment film" in step (4a) refers to "on the base material". In step (6a), the "protective layer obtained in (5a)" is added to "the second retardation layer", and in step (7a), "the alignment film obtained in (6a)" is added to "the second retardation layer". "second retardation layer" or "protective layer obtained in (5a) above". Further, in order to suppress wrinkles and curls during transportation, a protective film may be laminated when the film is transported in each step.

また、
(1b)基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
(2b)該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
(3b)該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
(4b)該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第1位相差層を形成する工程、
(5b)前記(4b)で得られた第1位相差層と反対の基材面に配向膜を連続的に形成する工程、
(6b)前記(5b)で得られた配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第2位相差層を形成する工程、
(7b)連続的に得られた光学フィルムを第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程、を順に行う方法も挙げられる。なお、工程(3b)、及び(5b)は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程(4b)における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程(6b)における「前記(5b)で得られた配向膜上」は、「前記(4b)で得られた第1位相差層と反対の基材面」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。
Also,
(1b) preparing a roll in which the base material is wound around a core;
(2b) continuously feeding out the base material from the roll;
(3b) Continuously forming an alignment film on the base material,
(4b) applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film to continuously form a first retardation layer;
(5b) Continuously forming an alignment film on the base material surface opposite to the first retardation layer obtained in (4b),
(6b) a step of applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film obtained in the above (5b) to continuously form a second retardation layer;
(7b) A method of sequentially performing the step of winding up the optical film obtained continuously onto a second core to obtain a second roll is also exemplified. Note that steps (3b) and (5b) may be omitted if necessary, and in this case, "on the alignment film" in step (4b) means "on the substrate" in step (6b). ), "on the alignment film obtained in (5b) above" is replaced with "on the base material surface opposite to the first retardation layer obtained in (4b) above". Further, in order to suppress wrinkles and curls during transportation, a protective film may be laminated when the film is transported in each step.

また、
(1c)透明基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
(2c)該ロールから、該透明基材を連続的に送り出す工程、
(3c)該透明基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
(4c)該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第2位相差層を形成する工程、
(5c)前記(4c)で得られた第2位相差層と反対の基材面に配向膜を連続的に形成する工程、
(6c)前記(5c)で得られた配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第1位相差層を形成する工程、
(7c)連続的に得られた光学フィルムを第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程、を順に行う方法も挙げられる。なお、工程(3c)、及び(5c)は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程(4c)における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程(6c)における「前記(5c)で得られた配向膜上」は、「前記(4c)で得られた第2位相差層と反対の基材面」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。
Also,
(1c) preparing a roll in which a transparent base material is wound around a core;
(2c) continuously feeding out the transparent base material from the roll;
(3c) a step of continuously forming an alignment film on the transparent substrate;
(4c) applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film to continuously form a second retardation layer;
(5c) a step of continuously forming an alignment film on the substrate surface opposite to the second retardation layer obtained in (4c);
(6c) a step of applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film obtained in (5c) to continuously form a first retardation layer;
(7c) A method of sequentially performing the step of winding up the optical film obtained continuously onto a second core to obtain a second roll is also exemplified. Note that steps (3c) and (5c) may be omitted if necessary, and in this case, "on the alignment film" in step (4c) means "on the base material" in step (6c). ), "on the alignment film obtained in (5c) above" is replaced with "on the base material surface opposite to the second retardation layer obtained in (4c) above". Further, in order to suppress wrinkles and curls during transportation, a protective film may be laminated when the film is transported in each step.

また、
(1d)基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
(2d)該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
(3d)該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
(4d)該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に層Aを形成する工程、
(5d)前記(4d)で得られた層Aの上に保護層を連続的に形成する工程、
(6d)前記(5d)で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
(7d)前記(6d)で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に層Bを形成する工程、
(8d)前記(7d)で得られた層Bの上に保護層を連続的に形成する工程、
(9d)前記(8d)で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
(10d)前記(9d)で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第2位相差層を形成する工程、
(11d)連続的に得られた光学フィルムを第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程を順に行う方法が挙げられる。なお、工程(3d)、(5d)、(6d)、(8d)、及び(9d)、は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程(4d)における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程(6d)における「前記(5d)で得られた保護層」は、「該層A」に、工程(7d)における「前記(6d)で得られた配向膜」は、「該層A」又は「前記(5d)で得られた保護層」に、工程(9d)における「前記(8d)で得られた保護層」は、「該層B」に、工程(10d)における「前記(9d)で得られた配向膜」は、「該層B」又は「前記(9d)で得られた保護層」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。
Also,
(1d) preparing a roll in which the base material is wound around a core;
(2d) continuously feeding out the base material from the roll;
(3d) continuously forming an alignment film on the base material,
(4d) applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film to continuously form layer A;
(5d) Continuously forming a protective layer on layer A obtained in (4d),
(6d) Continuously forming an alignment film on the protective layer obtained in (5d),
(7d) Applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film obtained in (6d) above to continuously form layer B;
(8d) Continuously forming a protective layer on layer B obtained in (7d),
(9d) Continuously forming an alignment film on the protective layer obtained in (8d),
(10d) a step of applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film obtained in (9d) to continuously form a second retardation layer;
(11d) A method may be mentioned in which the optical film obtained continuously is wound around a second core, and the steps of obtaining a second roll are sequentially performed. Note that steps (3d), (5d), (6d), (8d), and (9d) may be omitted as necessary, and in this case, "on the alignment film" in step (4d) "on the base material", in step (6d) "the protective layer obtained in the above (5d)" is "on the layer A", in the step (7d) "the protective layer obtained in the above (6d)" The "alignment film" is added to "the layer A" or the "protective layer obtained in step (5d) above", and the "protective layer obtained in step (8d)" in step (9d) is added to "the layer B". In step (10d), "the alignment film obtained in (9d) above" is read as "the layer B" or "the protective layer obtained in (9d) above". Further, in order to suppress wrinkles and curls during transportation, a protective film may be laminated when the film is transported in each step.

また、
(1e)基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
(2e)該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
(3e)該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
(4e)該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第1位相差層を形成する工程、
(5e)前記(4e)で得られた第1位相差層の上に保護層を連続的に形成する工程、
(6e)前記(5e)で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
(7e)前記(6e)で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第2位相差層を形成する工程、
(8e)前記(4e)で得られた第1位相差層と反対の基材面に配向膜を連続的に形成する工程、
(9e)前記(8e)で得られた配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第3位相差層を形成する工程、
(10e)連続的に得られた光学フィルムを第2の巻芯に巻き取り、第2ロールを得る工程を順に行う方法も挙げられる。なお、
工程(3e)、(5e)及び(8e)は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程(4e)における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程(6e)における「前記(5e)で得られた保護層」は、「前記(4e)で得られた第1位相差層」に、工程(9e)における、「前記(8e)で得られた配向膜上」は、「前記(4e)で得られた第1位相差層と反対の基材面」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。
Also,
(1e) preparing a roll in which the base material is wound around a core;
(2e) continuously feeding out the base material from the roll;
(3e) Continuously forming an alignment film on the base material,
(4e) applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film to continuously form a first retardation layer;
(5e) Continuously forming a protective layer on the first retardation layer obtained in (4e),
(6e) Continuously forming an alignment film on the protective layer obtained in (5e),
(7e) a step of applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film obtained in the above (6e) to continuously form a second retardation layer;
(8e) Continuously forming an alignment film on the surface of the base material opposite to the first retardation layer obtained in (4e),
(9e) a step of applying a polymerizable liquid crystal composition on the alignment film obtained in (8e) to continuously form a third retardation layer;
(10e) There is also a method in which the optical film obtained continuously is wound around a second core, and the steps of obtaining a second roll are sequentially performed. In addition,
Steps (3e), (5e), and (8e) may be omitted if necessary, and in this case, "on the alignment film" in step (4e) means "on the base material" in step ( The "protective layer obtained in step (5e) above" in step 6e) is added to the "first retardation layer obtained in step (4e) above" in step (9e), "the protective layer obtained in step (8e) above""On the film" should be read as "on the base material surface opposite to the first retardation layer obtained in (4e) above." Further, in order to suppress wrinkles and curls during transportation, a protective film may be laminated when the film is transported in each step. Further, in order to suppress wrinkles and curls during transportation, a protective film may be laminated when the film is transported in each step.

図2は、位相差板30の具体例を模式的に示す概略断面図である。図2(a)は、第1位相差層31及び第2位相差層32が積層された位相差板30である。図2(b)は、基材33、第1位相差層31及び、第2位相差層32が、この順番で積層された位相差板30である。図2(c)は、基材33、第2位相差層32及び、第1位相差層31が、この順番で積層された位相差板30である。図2(d)は、第1位相差層31、基材33及び、第2位相差層が、この順番で積層された位相差板30である。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a specific example of the retardation plate 30. FIG. 2A shows a retardation plate 30 in which a first retardation layer 31 and a second retardation layer 32 are laminated. FIG. 2B shows a retardation plate 30 in which a base material 33, a first retardation layer 31, and a second retardation layer 32 are laminated in this order. FIG. 2C shows a retardation plate 30 in which a base material 33, a second retardation layer 32, and a first retardation layer 31 are laminated in this order. FIG. 2D shows a retardation plate 30 in which a first retardation layer 31, a base material 33, and a second retardation layer are laminated in this order.

基材33を有する位相差板30から基材を取り除くことで基材を有さない位相差板30(図2(a))を得ることができる。 By removing the base material from the retardation plate 30 having the base material 33, it is possible to obtain the retardation plate 30 without the base material (FIG. 2(a)).

また、第1位相差層31を有する基材33と、第2位相差層32を有する基材33’を貼り合せることでも、位相差板30を製造することができる。具体例としては、図2(e)、図2(f)及び図2(g)が挙げられる。貼り合せには、貼合層(以下、位相差板30内での層間の貼合に用いられる貼合層を「第3貼合層」とも称する。)を用いることができる。 Further, the retardation plate 30 can also be manufactured by bonding the base material 33 having the first retardation layer 31 and the base material 33' having the second retardation layer 32. Specific examples include FIG. 2(e), FIG. 2(f), and FIG. 2(g). For bonding, a bonding layer (hereinafter, the bonding layer used for bonding between layers within the retardation plate 30 is also referred to as a "third bonding layer") can be used.

図3は、第1位相差層が層A及び層Bから構成される場合、又は、第3位相差層を有する場合の、位相差板30の具体例を模式的に示す概略断面図である。図3(a)は、層A34、層B35、第2位相差層32がこの順で積層された位相差板30である。図3(b)は、層B35、層A34、第2位相差層32がこの順で積層された位相差板30である。図3(c)は、基材33、層A34、層B35及び第2位相差層32がこの順番で積層された位相差板30である。図3(d)は、基材33、第1位相差層31、第2位相差層32及び第3位相差層38がこの順番で積層された位相差板30である。図3(e)は、基材33、層B35、層A34及び第2位相差層32がこの順番で積層された位相差板30である。図3(f)は、基材33、第3位相差層38、第2位相差32及び第1位相差層31がこの順番で積層された位相差板30である。図3(g)は、基材33、第2位相差32、層B35及び層A34がこの順番で積層された位相差板30である。図3(h)は、基材33、第2位相差32、層A34及び層B35がこの順番で積層された位相差板30である。基材33を有する位相差板30から基材33を剥離することで基材33を有さない位相差板30(図3(a)、(b))を得ることもできる。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing a specific example of the retardation plate 30 when the first retardation layer is composed of layers A and B, or when it has a third retardation layer. . FIG. 3A shows a retardation plate 30 in which layer A 34, layer B 35, and second retardation layer 32 are laminated in this order. FIG. 3(b) shows a retardation plate 30 in which layer B35, layer A34, and second retardation layer 32 are laminated in this order. FIG. 3C shows a retardation plate 30 in which a base material 33, a layer A34, a layer B35, and a second retardation layer 32 are laminated in this order. FIG. 3D shows a retardation plate 30 in which a base material 33, a first retardation layer 31, a second retardation layer 32, and a third retardation layer 38 are laminated in this order. FIG. 3E shows a retardation plate 30 in which a base material 33, a layer B35, a layer A34, and a second retardation layer 32 are laminated in this order. FIG. 3F shows a retardation plate 30 in which a base material 33, a third retardation layer 38, a second retardation layer 32, and a first retardation layer 31 are laminated in this order. FIG. 3G shows a retardation plate 30 in which a base material 33, a second retardation 32, a layer B35, and a layer A34 are laminated in this order. FIG. 3(h) shows a retardation plate 30 in which a base material 33, a second retardation 32, a layer A34, and a layer B35 are laminated in this order. By peeling the base material 33 from the retardation plate 30 having the base material 33, it is also possible to obtain the retardation plate 30 (FIGS. 3A and 3B) without the base material 33.

第1位相差層31、層A34及び層B35を含む構成の場合、又は、第3位相差層33を有する場合には基材33の両面にそれぞれの層を積層してもよい。具体的な例として、例えば、図3(i)は、第2位相差層32、基材33、層A34及び層B35がこの順番で積層された位相差板30である。図3(j)は、第2位相差層32、基材33、層B35及び層A34がこの順番で積層された位相差板30である。図3(k)は、第1位相差層31、基材33、第3位相差層38及び第2位相差層32がこの順番で積層された位相差板30である。図3(l)は、第1位相差層31、基材33、第2位相差層32及び第3位相差層38がこの順番で積層された位相差板30である。図3(m)は、第3位相差層38、基材33、第1位相差層31及び第2位相差層32がこの順番で積層された位相差板30である。図3(n)は、第3位相差層38、基材33、第2位相差層32及び第1位相差層31がこの順番で積層された位相差板30である。第2位相差層32、層A34及び層B35は、各層上に直接塗布により形成してもよく、各層を製造後貼合によって貼り合せてもよく、また各層を順次転写によって積層してもよい。 In the case of a structure including the first retardation layer 31, layer A34, and layer B35, or in the case of having the third retardation layer 33, the respective layers may be laminated on both sides of the base material 33. As a specific example, for example, FIG. 3(i) shows a retardation plate 30 in which a second retardation layer 32, a base material 33, a layer A34, and a layer B35 are laminated in this order. FIG. 3(j) shows a retardation plate 30 in which the second retardation layer 32, the base material 33, the layer B35, and the layer A34 are laminated in this order. FIG. 3(k) shows a retardation plate 30 in which a first retardation layer 31, a base material 33, a third retardation layer 38, and a second retardation layer 32 are laminated in this order. FIG. 3(l) shows a retardation plate 30 in which a first retardation layer 31, a base material 33, a second retardation layer 32, and a third retardation layer 38 are laminated in this order. FIG. 3(m) shows a retardation plate 30 in which a third retardation layer 38, a base material 33, a first retardation layer 31, and a second retardation layer 32 are laminated in this order. FIG. 3(n) shows a retardation plate 30 in which a third retardation layer 38, a base material 33, a second retardation layer 32, and a first retardation layer 31 are laminated in this order. The second retardation layer 32, layer A34, and layer B35 may be formed by direct coating on each layer, each layer may be bonded together after manufacturing, or each layer may be sequentially laminated by transfer. .

位相差板30は、第1位相差層31と第2位相差層32との間に、介在する他の層を有する構成であっても、介在する他の層を有しない構成であってもよい。介在する他の層としては、基材33、上述の保護層、上述の配向膜、第3貼合層が挙げられる。位相差板30は、第1位相差層31と第2位相差層32との間に、介在する他の層として配向膜のみを有する構成や、介在する他の層を有しない構成においては、突き刺し弾性率が35g/mm以上となりやすくなる。本明細書において、第1位相差層31と第2位相差層32との間に介在する層は、第1位相差層31の第2位相差層32側の最表面から第2位相差層32の第1位相差層31側の最表面との間に介在する層を意味する。したがって、第1位相差層31が層Aと層Bとから構成される場合、層Aと層Bとの間に介在する層は、第1位相差層31と第2位相差層32との間に介在する層とはみなさない。 The retardation plate 30 may have a structure with another intervening layer between the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32, or may have a structure without another intervening layer. good. Other intervening layers include the base material 33, the above-mentioned protective layer, the above-mentioned alignment film, and the third bonding layer. In a configuration in which the retardation plate 30 has only an alignment film as an intervening layer between the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32, or in a configuration in which there is no other intervening layer, The puncture modulus tends to be 35 g/mm or more. In the present specification, the layer interposed between the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 is a layer that extends from the outermost surface of the first retardation layer 31 on the second retardation layer 32 side to the second retardation layer 32. 32 and the outermost surface on the first retardation layer 31 side. Therefore, when the first retardation layer 31 is composed of layer A and layer B, the layer interposed between layer A and layer B is the layer between the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32. It is not considered to be an intervening layer.

[第2貼合層、第3貼合層]
第2貼合層は、直線偏光板10内で層同士を貼合するために用いられる貼合層であり、第3貼合層は、位相差板30内で層同士を貼合するために用いられる貼合層である。以下、貼合層という場合には、第2貼合層および第3貼合層のどちらをも含むものとする。
[Second lamination layer, third lamination layer]
The second bonding layer is a bonding layer used for bonding layers within the linearly polarizing plate 10, and the third bonding layer is a bonding layer used for bonding layers within the retardation plate 30. This is the laminating layer used. Hereinafter, when it is referred to as a bonding layer, it includes both the second bonding layer and the third bonding layer.

貼合層は、粘着剤組成物を用いて形成された粘着剤層、又は、接着剤組成物を用いて形成された接着剤層である。第2貼合層および第3貼合層は、熱付与時の熱収縮挙動を抑制する観点からは接着剤層であることが好ましい。 The bonding layer is an adhesive layer formed using an adhesive composition or an adhesive layer formed using an adhesive composition. The second bonding layer and the third bonding layer are preferably adhesive layers from the viewpoint of suppressing thermal shrinkage behavior when heat is applied.

貼合層が粘着剤層である場合、粘着剤層を形成するために用いる粘着剤組成物としては、上記の透湿度を満たすことができるものであれば特に限定されない。粘着剤組成物としては、例えば、ゴム系ポリマー、(メタ)アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリビニルエーテル系ポリマー、ポリビニルアルコール系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、ビニルアルキルエーテル系ポリマー、ポリビニルピロリドン系ポリマー、ポリ(メタ)アクリルアミド系ポリマー、セルロース系ポリマー等のポリマーを主成分として含むものであればよい。本明細書において、主成分とは、粘着剤組成物の全固形分のうち50質量%以上を含む成分をいう。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤組成物としては、ゴム系ポリマーが好ましい。なお、上記「(メタ)アクリル」とは、「アクリル及びメタクリルの少なくとも1種」を意味する。「(メタ)アクリレート」等の表記も同様である。 When the bonding layer is a pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive composition used to form the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as it can satisfy the moisture permeability described above. Examples of the adhesive composition include rubber polymers, (meth)acrylic polymers, urethane polymers, polyester polymers, silicone polymers, polyvinyl ether polymers, polyvinyl alcohol polymers, polyolefin polymers, and vinyl alkyl ether polymers. Any polymer may be used as long as it contains a polymer such as a polyvinylpyrrolidone polymer, a poly(meth)acrylamide polymer, or a cellulose polymer as a main component. In this specification, the main component refers to a component containing 50% by mass or more of the total solid content of the adhesive composition. The adhesive composition may be of an active energy ray curable type or a thermosetting type. As the adhesive composition, rubber-based polymers are preferred. In addition, the above-mentioned "(meth)acrylic" means "at least one of acrylic and methacryl." The same applies to expressions such as "(meth)acrylate".

ゴム系ポリマーとしては、天然ゴム;ポリイソブチレンゴム(PIB)、イソプレンゴム(IR)、イソブチレン-イソプレンゴム(IIR)、ノルマルブチレン-イソブチレン共重合体ゴム、ブタジエンゴム(BR)、クロロプレンゴム(CR)、アクリロニトリル-ブタジエンゴム(NBR)、スチレン-ブタジエンゴム(SBR)、スチレン-イソプレンゴム(SIR)、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体ゴム(SIBS)、スチレン-エチレン-ブチレン-スチレンブロック共重合体ゴム(SEBS)、スチレン-エチレン-プロピレン-スチレンブロック共重合体ゴム(SEPS)、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体ゴム(SBS)、スチレン-エチレン-プロピレンブロック共重合体ゴム(SEP)等の合成ゴム等を挙げることができる。ゴム系ポリマーは、ポリイソブチレンゴム(PIB)、イソブチレン-イソプレンゴム(IIR)、ノルマルブチレン-イソブチレン共重合体ゴムが好ましく、ポリイソブチレンゴム(PIB)がより好ましい。 Examples of rubber-based polymers include natural rubber; polyisobutylene rubber (PIB), isoprene rubber (IR), isobutylene-isoprene rubber (IIR), normal butylene-isobutylene copolymer rubber, butadiene rubber (BR), and chloroprene rubber (CR). , acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), styrene-butadiene rubber (SBR), styrene-isoprene rubber (SIR), styrene-isoprene-styrene block copolymer rubber (SIBS), styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer rubber (SEBS), styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer rubber (SEPS), styrene-butadiene-styrene block copolymer rubber (SBS), styrene-ethylene-propylene block copolymer rubber (SEP), etc. Examples include synthetic rubber. The rubber-based polymer is preferably polyisobutylene rubber (PIB), isobutylene-isoprene rubber (IIR), or normal butylene-isobutylene copolymer rubber, and more preferably polyisobutylene rubber (PIB).

(メタ)アクリル系ポリマーとしては、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシルのような(メタ)アクリル酸エステルの1種又は2種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。 The (meth)acrylic polymer is one type of (meth)acrylic ester such as butyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. Alternatively, a polymer or copolymer containing two or more types of monomers is preferably used. It is preferable to copolymerize a polar monomer with the base polymer. Examples of the polar monomer include (meth)acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and glycidyl ( Examples include monomers having carboxyl groups, hydroxyl groups, amide groups, amino groups, epoxy groups, etc., such as meth)acrylates.

活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する粘着剤組成物である。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。さらに必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を含有させることもある。 An active energy ray-curable adhesive composition has the property of being cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams, and remains sticky and forms a film even before irradiation with active energy rays. It is an adhesive composition that can be closely adhered to adherends such as adhesives, etc., and has the property that it can be cured by irradiation with active energy rays to adjust the adhesive strength. The active energy ray-curable adhesive composition is preferably an ultraviolet ray-curable adhesive composition. The active energy ray curable adhesive composition further contains an active energy ray polymerizable compound in addition to the base polymer and the crosslinking agent. Furthermore, if necessary, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, etc. may be included.

粘着剤組成物は、ポリマーに加えて溶剤;粘着付与剤、軟化剤、充填剤(金属粉やその他の無機粉末等)、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する硬化物とすることができる。 In addition to the polymer, the adhesive composition contains a solvent; a tackifier, a softener, a filler (such as metal powder or other inorganic powder), an antioxidant, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, a colorant, and an antifoaming agent. , a corrosion inhibitor, a photopolymerization initiator, and other additives. When an active energy ray-curable adhesive composition is used, a cured product having a desired degree of curing can be obtained by irradiating the formed adhesive layer with active energy rays.

粘着剤層は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。 The adhesive layer can be formed by applying a diluted solution of the adhesive composition in an organic solvent onto a base material and drying it.

貼合層が接着剤層である場合、接着剤層を形成するために用いる接着剤組成物としては、上記の透湿度を満たすことができるものであれば特に限定されない。接着剤組成物としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、天然ゴム接着剤、α-オレフィン系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤、エチレン-酢酸ビニル樹脂エマルション接着剤、エチレン-酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、塩化ビニル樹脂溶剤系接着剤、クロロプレンゴム系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、シリコーン系接着剤、スチレン-ブタジエンゴム溶剤系接着剤、ニトリルゴム系接着剤、ニトロセルロース系接着剤、反応性ホットメルト接着剤、フェノール樹脂系接着剤、変性シリコーン系接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリイミド系接着剤、ポリウレタン樹脂ホットルト接着剤、ポリオレフィン樹脂ホットメルト接着剤、ポリ酢酸ビニル樹脂溶剤系接着剤、ポリスチレン樹脂溶剤系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリビニルピロリドン樹脂系接着剤、ポリビニルブチラール系接着剤、ポリベンズイミダゾール接着剤、ポリメタクリレート樹脂溶剤系接着剤、メラミン樹脂系接着剤、ユリア樹脂系接着剤、レゾルシノール系接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、1種単独又は2種以上を混合して使用することができる。 When the bonding layer is an adhesive layer, the adhesive composition used to form the adhesive layer is not particularly limited as long as it can satisfy the above moisture permeability. Examples of adhesive compositions include water-based adhesives, active energy ray-curable adhesives, natural rubber adhesives, α-olefin adhesives, urethane resin adhesives, ethylene-vinyl acetate resin emulsion adhesives, and ethylene-vinyl acetate resin emulsion adhesives. Vinyl acetate resin hot melt adhesive, epoxy resin adhesive, vinyl chloride resin solvent adhesive, chloroprene rubber adhesive, cyanoacrylate adhesive, silicone adhesive, styrene-butadiene rubber solvent adhesive, nitrile Rubber adhesives, nitrocellulose adhesives, reactive hot melt adhesives, phenolic resin adhesives, modified silicone adhesives, polyester hot melt adhesives, polyamide resin hot melt adhesives, polyimide adhesives, polyurethane Resin hot melt adhesive, polyolefin resin hot melt adhesive, polyvinyl acetate resin solvent-based adhesive, polystyrene resin solvent-based adhesive, polyvinyl alcohol-based adhesive, polyvinylpyrrolidone resin-based adhesive, polyvinyl butyral-based adhesive, polybenzimidazole Examples include adhesives, polymethacrylate resin solvent adhesives, melamine resin adhesives, urea resin adhesives, resorcinol adhesives, and the like. Such adhesives can be used alone or in combination of two or more.

水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルション接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性(メタ)アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。 Examples of water-based adhesives include polyvinyl alcohol resin aqueous solutions, water-based two-component urethane emulsion adhesives, and the like. Active energy ray-curable adhesives are adhesives that are cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, such as those containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, those containing a photoreactive resin, Examples include those containing a binder resin and a photoreactive crosslinking agent. Examples of the polymerizable compound include photopolymerizable monomers such as photocurable epoxy monomers, photocurable (meth)acrylic monomers, and photocurable urethane monomers, and oligomers derived from these monomers. . Examples of the photopolymerization initiator include those containing substances that generate active species such as neutral radicals, anion radicals, and cation radicals upon irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.

貼合層の厚みは特に限定されないが、貼合層が粘着剤層である場合、5μm以上であることが好ましく、15μm以上であってもよく、20μm以上であってもよく、25μm以上であってもよく、通常200μm以下であり、100μm以下であってもよく、50μm以下であってもよい。貼合層が接着剤層である場合、貼合層の厚みは、0.01μm以上であることが好ましく、0.05μm以上であってもよく、0.5μm以上であってもよく、また5μm以下であることが好ましく、3μm以下であってもよく、2μm以下であってもよい。 The thickness of the bonding layer is not particularly limited, but when the bonding layer is an adhesive layer, it is preferably 5 μm or more, may be 15 μm or more, may be 20 μm or more, and may be 25 μm or more. It may be generally 200 μm or less, may be 100 μm or less, or may be 50 μm or less. When the bonding layer is an adhesive layer, the thickness of the bonding layer is preferably 0.01 μm or more, may be 0.05 μm or more, may be 0.5 μm or more, and may be 5 μm or more. It is preferably below, and may be 3 μm or less, or may be 2 μm or less.

[偏光板の製造方法]
本実施形態の偏光板は、上記位相差板と上記直線偏光板とを、第1貼合層を用いて貼り合わせることで得ることができる。位相差板の第1位相差層が一層のみから構成され、かつ遅相軸が一つしか存在しない場合、位相差板の第1位相差層の遅相軸(光軸)に対して、該直線偏光板の透過軸が実質的に45°となるように設定するのが好ましい。実質的に45°とは、通常45±5°の範囲である。このような角度の配置において、偏光板は、円偏光板として機能することができる。
[Manufacturing method of polarizing plate]
The polarizing plate of this embodiment can be obtained by bonding the above-mentioned retardation plate and the above-mentioned linear polarizing plate together using a first bonding layer. When the first retardation layer of the retardation plate is composed of only one layer and there is only one slow axis, the relative It is preferable to set the transmission axis of the linearly polarizing plate to substantially 45°. Substantially 45° is typically in the range of 45±5°. In such an angular arrangement, the polarizing plate can function as a circularly polarizing plate.

直線偏光板へ、基材を有さない位相差板を貼合する方法としては、基材を取り除いた(剥離した)位相差板を、第1貼合層を用いて直線偏光板へ貼合する方法、及び、位相差板を第1貼合層を用いて直線偏光板へ貼合した後に、基材を取り除く(剥離する)方法等が挙げられる。本実施形態としては、位相差板を直線偏光板へ貼合した後に基材を取り除く形態が好ましい。本発明によると、このような形態であっても、基材を取り除く際に、位相差板の位相差層における損傷を抑制することができる。 As a method for laminating a retardation plate without a base material to a linearly polarizing plate, the retardation plate from which the base material has been removed (peeled) is laminated to the linearly polarizing plate using a first laminating layer. and a method of removing (peeling) the base material after laminating the retardation plate to the linearly polarizing plate using the first laminating layer. In this embodiment, it is preferable that the base material be removed after the retardation plate is bonded to the linearly polarizing plate. According to the present invention, even in such a configuration, damage to the retardation layer of the retardation plate can be suppressed when the base material is removed.

第1貼合層は、位相差板が有する位相差層側に粘接着剤を塗布することにより直接形成されてもよく、直線偏光板側へ粘接着剤を塗布することにより直接形成されてもよく、または予め他の基材上に形成されている第1貼合層を直線偏光板と位相差板との間に介在させてもよい。基材と、位相差層との間に配向膜がある場合は、基材と共に配向膜も取り除いてもよい。 The first bonding layer may be formed directly by applying an adhesive to the retardation layer side of the retardation plate, or may be formed directly by applying an adhesive to the linear polarizing plate side. Alternatively, a first bonding layer previously formed on another base material may be interposed between the linearly polarizing plate and the retardation plate. If there is an alignment film between the base material and the retardation layer, the alignment film may be removed together with the base material.

位相差層又は配向膜等と化学結合を形成する官能基を表面に有する基材は、位相差層又は配向膜等と化学結合を形成し、取り除き難くなる傾向がある。よって基材を剥離して取り除く場合は、表面の官能基が少ない基材が好ましく、また、表面に官能基を形成する表面処理を施していない基材が好ましい。 A base material having a functional group on its surface that forms a chemical bond with the retardation layer, alignment film, etc. tends to form a chemical bond with the retardation layer, alignment film, etc., making it difficult to remove. Therefore, when removing the base material by peeling it off, a base material with few functional groups on the surface is preferable, and a base material that has not been subjected to surface treatment to form functional groups on the surface is preferable.

また、基材と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、基材と配向膜との密着力が大きくなる傾向があるため、基材を剥離して取り除く場合は、基材と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。また、基材と配向膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましく、さらに、配向性ポリマー組成物及び光配向膜形成用組成物等の溶液には基材を溶解する、溶剤等の成分が含まれないことが好ましい。 In addition, alignment films that have functional groups that form chemical bonds with the base material tend to have a strong adhesion between the base material and the alignment film, so when removing the base material by peeling it, it is necessary to It is preferable to use an alignment film with a small number of functional groups forming . In addition, it is preferable that a reagent that crosslinks the substrate and the alignment film is not included, and further, the solution of the alignment polymer composition and the composition for forming a photoalignment film contains components such as a solvent that dissolve the substrate. It is preferable that it not be included.

また、位相差層と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、位相差層と配向膜との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材と共に配向膜を取り除く場合は、位相差層と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。また、位相差層及び配向膜には、位相差層と配向膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましい。 Furthermore, an alignment film having a functional group that forms a chemical bond with the retardation layer tends to have a strong adhesion between the retardation layer and the alignment film. Therefore, when removing the alignment film together with the base material, it is preferable to use an alignment film that has fewer functional groups that form chemical bonds with the retardation layer. Further, it is preferable that the retardation layer and the alignment film do not contain a reagent that crosslinks the retardation layer and the alignment film.

また、配向膜と化学結合を形成する官能基を有する位相差層は、配向膜と位相差層との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材を取り除く場合又は、基材と共に配向膜を取り除く場合は、基材又は配向膜と化学結合を形成する官能基が少ない位相差層が好ましい。また、重合性液晶組成物は、好ましくは基材又は配向膜と位相差層とを架橋する試薬を含まない。 Further, a retardation layer having a functional group that forms a chemical bond with the alignment film tends to have a strong adhesion between the alignment film and the retardation layer. Therefore, when removing the base material or when removing the alignment film together with the base material, a retardation layer having fewer functional groups that form chemical bonds with the base material or the alignment film is preferable. Furthermore, the polymerizable liquid crystal composition preferably does not contain a reagent that crosslinks the base material or the alignment film and the retardation layer.

例えば、基材、第2位相差層32及び、第1位相差層31がこの順番で積層された位相差板30の第1位相差層31の表面に第1貼合層21を貼付し、そこへ直線偏光板10を貼合し、その後、位相差板30の基材を取り除くことで、直線偏光板10、第1貼合層21、第1位相差層31及び、第2位相差層32がこの順番で積層された、図1に示される構成の偏光板を製造することができる。また、基材、第1位相差層及び、第2位相差層がこの順番で積層された位相差板の第2位相差層の表面に第1貼合層を貼付し、そこへ直線偏光板を貼合し、その後、位相差板の基材を取り除くことで、直線偏光板、第2位相差層及び、第1位相差層がこの順番で積層された偏光板を製造することができる。薄膜化の観点から、基材を剥離する事が好ましい。 For example, the first bonding layer 21 is attached to the surface of the first retardation layer 31 of the retardation plate 30 in which the base material, the second retardation layer 32, and the first retardation layer 31 are laminated in this order, By laminating the linear polarizing plate 10 there and then removing the base material of the retardation plate 30, the linear polarizing plate 10, the first lamination layer 21, the first retardation layer 31, and the second retardation layer 32 are laminated in this order, a polarizing plate having the configuration shown in FIG. 1 can be manufactured. In addition, the first bonding layer is attached to the surface of the second retardation layer of the retardation plate in which the base material, the first retardation layer, and the second retardation layer are laminated in this order, and the linear polarizing layer is attached thereto. A polarizing plate in which a linearly polarizing plate, a second retardation layer, and a first retardation layer are laminated in this order can be manufactured by laminating them together and then removing the base material of the retardation plate. From the viewpoint of thinning the film, it is preferable to peel off the base material.

第1位相差層が層A及び層Bを含む場合、又は、第3位相差層を含む場合は、各層の積層方向に制限がある。
具体的には、λ/4の位相差を有する層Aと、λ/2の位相差を有する層Bを積層する場合、直線偏光板の吸収軸に対して、まず層Bを、層Bの遅相軸が75°となるように形成し、次に層Aを、層Aの遅相軸が15°となるように形成する。
また、λ/4の位相差を有する第1位相差層と、λ/2の位相差を有する第3位相差層を有する場合、直線偏光板の吸収軸に対して、まず第3位相差層を、第3位相差層の遅相軸が75°となるように形成し、次に第1位相差層を、第1位相差層の遅相軸が15°となるように形成する。第2位相差層の位置に制限はないが、直線偏光板、層B及び層Aがこの順番で積層されか、又は、直線偏光板、第3位相差層及び第1位相差層がこの順番で積層される必要がある。このように積層することで、得られる偏光板は広帯域円偏光板として機能を発現することが可能となる。ここで、層Aと層Bを形成する軸角度に制限はなく、例えば、特開2004-126538号公報に記載のように、層Aと層Bの遅相軸角度を偏光板の吸収軸に対して30°と-30°、あるいは45°と-45°としても、広帯域λ/4板としての機能を発現させることができることは公知であるから、所望の方法で層を積層することが可能である。
When the first retardation layer includes layer A and layer B, or when it includes the third retardation layer, there is a restriction on the stacking direction of each layer.
Specifically, when layer A having a retardation of λ/4 and layer B having a retardation of λ/2 are laminated, layer B is first stacked with respect to the absorption axis of the linear polarizing plate. The layer A is formed so that the slow axis is 75°, and then layer A is formed so that the slow axis of layer A is 15°.
In addition, in the case of having a first retardation layer having a retardation of λ/4 and a third retardation layer having a retardation of λ/2, the third retardation layer is first is formed so that the slow axis of the third retardation layer is 75°, and then the first retardation layer is formed so that the slow axis of the first retardation layer is 15°. There is no restriction on the position of the second retardation layer, but the linear polarizing plate, layer B and layer A may be laminated in this order, or the linear polarizing plate, third retardation layer and first retardation layer may be laminated in this order. It needs to be laminated with By laminating in this manner, the resulting polarizing plate can function as a broadband circularly polarizing plate. Here, there is no limit to the axis angle at which the layers A and B are formed, and for example, as described in JP-A-2004-126538, the slow axis angle of the layers A and B is set to the absorption axis of the polarizing plate. However, it is known that the function as a broadband λ/4 plate can be achieved even if the angle is 30° and -30°, or 45° and -45°, so it is possible to laminate layers in a desired manner. It is.

[画像表示装置]
図4は、本実施形態の画像表示装置の一例を模式的に示す概略断面図である。画像表示装置2は、図4に示すように、前面側から、図1に示す偏光板1、画像表示パネル40をこの順に有する。画像表示装置2において、偏光板1は、直線偏光板10側が位相差板30よりも前面側となるような向きで配置される。
[Image display device]
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the image display device of this embodiment. As shown in FIG. 4, the image display device 2 includes the polarizing plate 1 shown in FIG. 1 and the image display panel 40 in this order from the front side. In the image display device 2, the polarizing plate 1 is arranged in such a direction that the linearly polarizing plate 10 side is in front of the retardation plate 30.

偏光板1が円偏光板である場合、画像表示装置2において、外部からの入射光は、偏光板1で反射する光と、偏光板1を透過する光とがある。偏光板1は、最前面に反射防止層を有する構成であってもよく、反射防止層を設けることにより、偏光板1の表面で反射する光(以下、「外部反射光」ともいう)を低減することができる。偏光板1を透過する光は、画像表示パネル40で反射されて反射光となり(以下、「内部反射光」ともいう)、偏光板1に吸収される。内部反射光は、偏光板1で全て吸収されることが望ましいものの、一部は前面から放出される(以下、かかる光を「放出内部反射光」ともいう)。 When the polarizing plate 1 is a circularly polarizing plate, in the image display device 2, external incident light includes light that is reflected by the polarizing plate 1 and light that is transmitted through the polarizing plate 1. The polarizing plate 1 may have an anti-reflection layer on the front surface, and by providing the anti-reflection layer, light reflected on the surface of the polarizing plate 1 (hereinafter also referred to as "external reflected light") is reduced. can do. The light transmitted through the polarizing plate 1 is reflected by the image display panel 40 to become reflected light (hereinafter also referred to as "internally reflected light"), and is absorbed by the polarizing plate 1. Although it is desirable that all of the internally reflected light be absorbed by the polarizing plate 1, a portion of it is emitted from the front surface (hereinafter, such light is also referred to as "emitted internally reflected light").

偏光板1は、偏光板1を画像表示パネル40に貼合させるために用いることができる粘着剤層を後面上に備え、粘着剤層付き偏光板として構成されていてもよい。 The polarizing plate 1 may be provided with an adhesive layer on the rear surface that can be used to bond the polarizing plate 1 to the image display panel 40, and may be configured as a polarizing plate with an adhesive layer.

<画像表示装置が有していてもよい他の層>
画像表示装置2は、上記した層以外の層を有していてもよい。以下、画像表示装置2が有していてもよい他の層を例示する。
<Other layers that the image display device may have>
The image display device 2 may have layers other than the layers described above. Hereinafter, other layers that the image display device 2 may have will be illustrated.

(タッチセンサパネル)
タッチセンサパネルは、画像表示装置の画面に接触(タッチ)する指などを検知(センシング)する装置(センサ)であり、画面上の指の位置を検知して画像表示装置に入力する入力手段として用いられる。タッチセンサパネルは、偏光板1と画像表示パネル40の間に配置されてもよく、偏光板1の前面側に配置されていてもよい。タッチセンサパネルとしては、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量結合方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式、赤外線方式等のタッチセンサパネルが例示される。低コストであることから、抵抗膜方式、静電容量結合方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。
(touch sensor panel)
A touch sensor panel is a device (sensor) that detects (sensing) a finger or the like that contacts (touches) the screen of an image display device, and serves as an input means to detect the position of the finger on the screen and input it to the image display device. used. The touch sensor panel may be placed between the polarizing plate 1 and the image display panel 40, or may be placed on the front side of the polarizing plate 1. As a touch sensor panel, the detection method is not limited as long as it is a sensor that can detect the touched position, such as resistive film method, capacitive coupling method, optical sensor method, ultrasonic method, electromagnetic inductive coupling. Examples include touch sensor panels using a touch sensor panel based on a surface acoustic wave method, a surface acoustic wave method, an infrared method, or the like. Resistive film type and capacitive coupling type touch sensor panels are preferably used because of their low cost.

抵抗膜方式のタッチセンサパネルの一例は、互いに対向配置された一対の基板と、それら一対の基板の間に挟持された絶縁性スペーサーと、各基板の内側の前面に抵抗膜として設けられた透明導電膜と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。抵抗膜方式のタッチセンサパネルを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、対向する抵抗膜が短絡して、抵抗膜に電流が流れる。タッチ位置検知回路が、このときの電圧の変化を検知し、タッチされた位置が検出される。 An example of a resistive film type touch sensor panel includes a pair of substrates facing each other, an insulating spacer sandwiched between the pair of substrates, and a transparent resistive film provided as a resistive film on the inside front of each substrate. It is composed of a conductive film and a touch position detection circuit. In an image display device equipped with a resistive film type touch sensor panel, when the surface of the front plate is touched, opposing resistive films are short-circuited, and current flows through the resistive films. The touch position detection circuit detects the voltage change at this time, and the touched position is detected.

静電容量結合方式のタッチセンサパネルの一例は、基板と、基板の全面に設けられた位置検出用透明電極と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量結合方式のタッチセンサパネルを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明電極が接地される。タッチ位置検知回路が、透明電極の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。静電容量方式タッチセンサパネルは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域(表示部)に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域(非表示部)に対応する領域である。 An example of a capacitive coupling type touch sensor panel includes a substrate, a transparent electrode for position detection provided on the entire surface of the substrate, and a touch position detection circuit. In an image display device including a capacitive coupling type touch sensor panel, when the surface of the front plate is touched, a transparent electrode is grounded at the touched point via the capacitance of the human body. A touch position detection circuit detects grounding of the transparent electrode, and the touched position is detected. A capacitive touch sensor panel is divided into an active area and a non-active area located around the active area. The active area corresponds to the area where the screen is displayed on the display panel (display part) and is the area where the user's touch is sensed, and the inactive area is the area where the screen is not displayed on the display device (non-active area). This is the area corresponding to the display section).

タッチセンサパネルの厚みは、例えば5μm以上2,000μm以下であってよく、5μm以上100μm以下であってもよい。 The thickness of the touch sensor panel may be, for example, 5 μm or more and 2,000 μm or less, or 5 μm or more and 100 μm or less.

<フレキシブル画像表示装置>
画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置であってもよい。フレキシブル画像表示装置は、折り曲げ可能な画像表示装置である。フレキシブル画像表示装置は、光学式指紋認証システムが組み込まれ、折り曲げ可能な画像表示素子と、本発明の偏光板とを備える。折り曲げ可能な画像表示素子は、例えば有機EL表示パネルである。有機EL表示パネルに対して視認側に本発明の偏光板が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用偏光板は、さらに前面板やタッチセンサパネルを備えていてもよい。
視認側から前面板、本発明の偏光板、およびタッチセンサパネルがこの順に積層されているか、または視認側から前面板、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板が、この順に積層されていることが好ましい。タッチセンサパネルよりも視認側に偏光子が存在すると、タッチセンサパネルのパターンが視認されにくくなり、結果として表示画像の視認性が良くなるので、タッチセンサパネルよりも視認側に本発明の偏光板を備える構成、すなわち、前面板、本発明の偏光板及びタッチセンサパネルをこの順で備えることがさらに好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前面板、偏光板、タッチセンサパネルのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
<Flexible image display device>
The image display device may be a flexible image display device. A flexible image display device is an image display device that can be folded. The flexible image display device incorporates an optical fingerprint authentication system and includes a bendable image display element and a polarizing plate of the present invention. The foldable image display element is, for example, an organic EL display panel. The polarizing plate of the present invention is placed on the viewing side of the organic EL display panel and is configured to be bendable. The polarizing plate for a flexible image display device may further include a front plate and a touch sensor panel.
The front plate, the polarizing plate of the present invention, and the touch sensor panel may be laminated in this order from the viewing side, or the front plate, the touch sensor panel, and the polarizing plate of the present invention may be laminated in this order from the viewing side. preferable. If a polarizer is present on the viewing side of the touch sensor panel, the pattern of the touch sensor panel becomes difficult to see, and as a result, the visibility of the displayed image improves. Therefore, the polarizing plate of the present invention is placed on the viewing side of the touch sensor panel. It is more preferable to have a configuration including a front plate, a polarizing plate of the present invention, and a touch sensor panel in this order. Each member can be laminated using an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like. Further, a light-shielding pattern formed on at least one surface of any one of the front plate, polarizing plate, and touch sensor panel can be provided.

視認側から前面板、本発明の偏光板および、折り曲げ可能な画像表示パネルを備えるフレキシブル画像表示装置において、前面板および本発明の偏光板は、偏光板と、前面板とを備える前面板付き偏光板を構成する。この前面板付き偏光板において、前面板は通常、偏光板の視認側に配置され、偏光板とは、例えば粘着剤または接着剤により積層される。
視認側からタッチセンサパネル、本発明の偏光板および、折り曲げ可能な画像表示パネルを備えるフレキシブル画像表示装置において、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板は、偏光板とタッチセンサパネルとを備えるタッチセンサパネル付き偏光板を構成する。また、視認側から、本発明の偏光板、タッチセンサパネル、および折り曲げ可能な画像表示素子を備えるフレキシブル画像表示装置において、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板は、偏光板とタッチセンサパネルとを備えるタッチセンサパネル付き偏光板を構成する。このタッチセンサパネル付き偏光板において、タッチセンサパネルは偏光板よりも背面側(視認側とは反対側)に配置されてもよいし、偏光板よりも視認側に配置されてもよい。タッチセンサパネルと偏光板とは、例えば粘着剤または接着剤により積層される。
In a flexible image display device that includes, from the viewing side, a front plate, a polarizing plate of the present invention, and a foldable image display panel, the front plate and the polarizing plate of the present invention are polarized light with a front plate that includes a polarizing plate and a front plate. Configure the board. In this polarizing plate with a front plate, the front plate is usually arranged on the viewing side of the polarizing plate, and is laminated with the polarizing plate using, for example, a pressure-sensitive adhesive or an adhesive.
In a flexible image display device that includes, from the viewing side, a touch sensor panel, a polarizing plate of the present invention, and a foldable image display panel, the touch sensor panel and the polarizing plate of the present invention include a touch sensor that includes a polarizing plate and a touch sensor panel. Constitutes a polarizing plate with a panel. Further, from the viewing side, in a flexible image display device including a polarizing plate of the present invention, a touch sensor panel, and a bendable image display element, the touch sensor panel and the polarizing plate of the present invention combine the polarizing plate and the touch sensor panel. A polarizing plate with a touch sensor panel is configured. In this polarizing plate with a touch sensor panel, the touch sensor panel may be placed on the back side (opposite to the viewing side) of the polarizing plate, or may be placed on the viewing side of the polarizing plate. The touch sensor panel and the polarizing plate are laminated with, for example, an adhesive or an adhesive.

本発明の偏光板は、その視認側に前面板を積層して前面板付き偏光板として用いることもできる。前面板付き偏光板は、本発明の偏光板と、その視認側に配置された前面板とを備える。 The polarizing plate of the present invention can also be used as a polarizing plate with a front plate by laminating a front plate on its viewing side. A polarizing plate with a front plate includes the polarizing plate of the present invention and a front plate disposed on the viewing side thereof.

(前面板)
前面板としては、ガラス、樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなるもの等が挙げられる。ガラスとしては、例えば、高透過ガラスや、強化ガラスを用いることができる。特に薄い透明面材を使用する場合には、化学強化を施したガラスが好ましい。ガラスの厚みは、例えば100μm~5mmとすることができる。
(Front plate)
Examples of the front plate include glass, a resin film containing a hard coat layer on at least one surface thereof, and the like. As the glass, for example, high transmittance glass or tempered glass can be used. Especially when using a thin transparent surface material, chemically strengthened glass is preferable. The thickness of the glass can be, for example, 100 μm to 5 mm.

樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなる前面板は、既存のガラスのように硬直ではなく、フレキシブルな特性を有することができる。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、5μm~100μmであってもよい。 The front panel, which includes a hard coat layer on at least one surface of the resin film, is not rigid like existing glass, but can have flexible characteristics. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, and may be, for example, 5 μm to 100 μm.

樹脂フィルムとしては、例えばノルボルネン、多環ノルボルネン系単量体のようなシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体、セルロース(ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、イソブチルエステルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース)エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリシクロオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ等の高分子で形成されたフィルムであってもよい。これらの高分子はそれぞれ単独又は2種以上混合して使用することができる。
樹脂フィルムは、未延伸フィルムであってもよいし、延伸フィルム、例えば1軸延伸フィルム、2軸延伸フィルムであってもよい。樹脂フィルムとしては、透明性及び耐熱性に優れている点で、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、1軸延伸ポリエステルフィルム、2軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、透明性及び耐熱性に優れるとともに、フィルムの大型化に対応できる点で、シクロオレフィン系誘導体フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムが好ましく、透明性と光学的に異方性のない樹脂フィルムが比較的入手しやすい点で、トリアセチルセルロース及びイソブチルエステルセルロースフィルムが、それぞれ好ましい。樹脂フィルムの厚さは、通常5~200μmであり、好ましくは20~100μmである。
Examples of resin films include cycloolefin derivatives having units of monomers containing cycloolefins such as norbornene and polycyclic norbornene monomers, cellulose (diacetylcellulose, triacetylcellulose, acetylcellulose butyrate, isobutyl ester) cellulose, propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose) ethylene-vinyl acetate copolymer, polycycloolefin, polyester, polystyrene, polyamide, polyetherimide, polyacrylic, polyimide, polyamideimide, polyethersulfone, polysulfone, polyethylene , polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyether ether ketone, polyether sulfone, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, The film may be made of a polymer such as polycarbonate, polyurethane, or epoxy. These polymers can be used alone or in a mixture of two or more.
The resin film may be an unstretched film or a stretched film, such as a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film. As the resin film, polyamide-imide film, polyimide film, uniaxially oriented polyester film, and biaxially oriented polyester film are preferable because they have excellent transparency and heat resistance. Cycloolefin derivative films and polymethyl methacrylate films are preferable because they can be used in various applications, while triacetyl cellulose and isobutyl ester cellulose films are preferable because resin films that are transparent and have no optical anisotropy are relatively easy to obtain. However, each is preferable. The thickness of the resin film is usually 5 to 200 μm, preferably 20 to 100 μm.

(遮光パターン)
遮光パターンはベゼルとも呼ばれる部材であり、前面板における表示素子側に形成することができる。遮光パターンを備えることにより、表示装置を構成する各配線を隠して使用者に視認されないようにすることができる。遮光パターンの色及び材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色等の多様な色を有する樹脂物質で形成することができる。一実施形態において、遮光パターンの厚さは2μm~50μmであってもよく、好ましくは4μm~30μmであってもよく、より好ましくは6μm~15μmの範囲であってもよい。また、遮光パターンと表示部の間の段差による気泡混入及び境界部の視認を抑制するために、遮光パターンに形状を付与することができる。
(shading pattern)
The light shielding pattern is a member also called a bezel, and can be formed on the display element side of the front panel. By providing the light-shielding pattern, each wiring constituting the display device can be hidden so that it is not visible to the user. The color and material of the light shielding pattern are not particularly limited, and may be formed of resin materials having various colors such as black, white, and gold. In one embodiment, the thickness of the light shielding pattern may be in the range of 2 μm to 50 μm, preferably 4 μm to 30 μm, and more preferably 6 μm to 15 μm. Further, in order to suppress the inclusion of air bubbles and visibility of the boundary portion due to the step difference between the light shielding pattern and the display section, a shape can be given to the light shielding pattern.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例、比較例中の「%」及び「部」で表される配合量は、特記しない限り、質量%及び質量部である。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The amounts expressed in "%" and "parts" in Examples and Comparative Examples are mass % and parts by mass, unless otherwise specified.

[円偏光板の評価(基材剥離に対する耐久性)]
円偏光板の、直線偏光板の最表面の保護フィルムに粘着剤層を積層した。これを裁断し、幅25mm×長さ約150mmの試験片を作製した。試験片の粘着剤層をガラス板に貼合した。円偏光板の、位相差体の最表面の基材(第2位相差層の形成に用いた基材)の表面(幅25mmの一辺)に剥離用テープ(幅25mm×長さ約180mm)を貼り付けた。剥離用テープの一端をつかみ、引張り試験機を用いて基材層を剥離した。剥離速度は300mm/分、15000mm/分の両方で行った。剥離角度は180°とした。剥離時に、基材に近い側の位相差層に損傷が生じた場合はジッピング発生(評価C)、この現象が観察されない場合はジッピングなし(評価A)、この現象が僅かに見られる場合はジッピング僅かにあり(評価B)、と判定した。
[Evaluation of circularly polarizing plate (durability against base material peeling)]
An adhesive layer was laminated on the protective film on the outermost surface of the linearly polarizing plate of the circularly polarizing plate. This was cut to prepare a test piece with a width of 25 mm and a length of about 150 mm. The adhesive layer of the test piece was attached to a glass plate. A release tape (width 25 mm x length approximately 180 mm) was applied to the surface (one side of width 25 mm) of the outermost base material of the retardation material (the base material used for forming the second retardation layer) of the circularly polarizing plate. Pasted. One end of the peeling tape was grasped and the base material layer was peeled off using a tensile testing machine. The peeling speed was both 300 mm/min and 15000 mm/min. The peeling angle was 180°. If the retardation layer on the side closer to the base material is damaged during peeling, zipping will occur (rating C), if this phenomenon is not observed, there will be no zipping (rating A), if this phenomenon is slightly observed, zipping will occur. It was determined that it was slightly present (evaluation B).

[位相差板の突き刺し弾性率の測定]
カトーテック株式会社製のハンディー圧縮試験機「NDG5突き刺し試験機、ニードル貫通力測定仕様」にニードルを取り付けた。ニードルを最表面から基材を剥離した位相差体の第2位相差層側の表面から表面に対して垂直に突刺した。測定試料突刺し試験用サンプルが破断する直前の応力F(g)とそのときのひずみ量S(mm)を算出し、突き刺し弾性率(g/mm)を応力F(g)/ひずみ量S(mm)の式から算出した。この操作を、5枚の測定試料に対してそれぞれ行い、その平均値を突き刺し弾性率とした。ニードルとしては、先端径が1mmφ、0.5Rであるものを使用した。ニードルを突き刺す速度は、0.33cm/秒とした。測定は温度23℃、相対湿度55%の室温環境下で行った。
上記方法にて、後述の実施例1~6、比較例1~2、参考例1の円偏光板の作製に用いられた位相差板A、B、Cの突き刺し弾性率を測定した。表1に測定結果を示す。
[Measurement of puncture elastic modulus of retardation plate]
A needle was attached to a handy compression testing machine "NDG5 piercing tester, needle penetration force measurement specification" manufactured by Kato Tech Co., Ltd. A needle was inserted perpendicularly to the surface of the second retardation layer side of the retardation material from which the base material had been peeled off from the outermost surface. Calculate the stress F (g) just before the measurement sample puncture test sample breaks and the amount of strain S (mm) at that time, and calculate the puncture elastic modulus (g/mm) as stress F (g) / amount of strain S ( mm). This operation was performed for each of the five measurement samples, and the average value was taken as the piercing elastic modulus. The needle used had a tip diameter of 1 mmφ and a diameter of 0.5R. The needle piercing speed was 0.33 cm/sec. The measurements were performed in a room temperature environment with a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55%.
Using the above method, the puncture elastic modulus of retardation plates A, B, and C used in the production of circularly polarizing plates of Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 2, and Reference Example 1, which will be described later, was measured. Table 1 shows the measurement results.

[第1貼合層の引張弾性率の測定]
第1貼合層として用いる粘着剤を、剥離紙の片面に、塗工機〔バーコーター、第一理化(株)製〕を用いて塗工し、その粘着層の上面にさらに剥離紙を積層させ、90℃で1分間加熱処理し、温度23℃、相対湿度55%の条件下で7日間養生した。かかる積層体を、MD長さ100mm、TD長さ50mmの大きさに裁断し、両面の剥離紙を剥がして粘着層のみからなる粘着層フィルムを得た。接着剤層についても、所定の硬化方法で接着剤を硬化させて、接着剤層のみからなるフィルムを得た。
[Measurement of tensile modulus of first lamination layer]
The adhesive used as the first lamination layer is applied to one side of the release paper using a coating machine [Bar coater, manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd.], and the release paper is further laminated on the top surface of the adhesive layer. The sample was heated at 90° C. for 1 minute, and then cured for 7 days at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55%. This laminate was cut into pieces with a MD length of 100 mm and a TD length of 50 mm, and the release paper on both sides was peeled off to obtain an adhesive layer film consisting only of the adhesive layer. Regarding the adhesive layer, the adhesive was also cured using a predetermined curing method to obtain a film consisting only of the adhesive layer.

JIS K7161:1994及びJIS K7127:1999に準拠し、試験片が降伏点を持たない場合には引張り破壊ひずみを、降伏点を持つ場合には引張り破壊伸びひずみを破断伸度とし、破断伸度を測定した。上記の様に得られた粘着層フィルムを、引張試験機〔(株)島津製作所製 オートグラフ AG-Xplus試験機〕の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が5cmとなるように測定用サンプルのMD長さ方向の両端を挟み、温度23℃、相対湿度55%の環境下、引張速度300mm/分で測定用サンプルをMD長さ方向に引っ張り、温度23℃、相対湿度55%でのMD長さ方向における引張弾性率〔Pa〕を算出した。 In accordance with JIS K7161:1994 and JIS K7127:1999, if the test piece does not have a yield point, the tensile strain at break is taken as the elongation at break, and if it has a yield point, the tensile elongation at break is taken as the elongation at break. It was measured. The adhesive layer film obtained as described above was placed between the upper and lower grips of a tensile tester [Autograph AG-Xplus tester manufactured by Shimadzu Corporation], and the sample for measurement was placed at a distance of 5 cm between the grips. The measurement sample was pulled in the MD length direction at a pulling speed of 300 mm/min in an environment of a temperature of 23°C and a relative humidity of 55%, holding both ends of the MD lengthwise. The tensile modulus [Pa] in the transverse direction was calculated.

[製造例1:第1位相差層を含む積層体の作製]
(i)光配向膜形成用組成物の調製
下記構造の光配向性材料5部(重量平均分子量:30000)とシクロペンタノン(溶媒)95部とを混合した。得られた混合物を80℃で1時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物を得た。
[Production Example 1: Production of laminate including first retardation layer]
(i) Preparation of composition for forming photo-alignment film 5 parts of photo-alignment material having the following structure (weight average molecular weight: 30,000) and 95 parts of cyclopentanone (solvent) were mixed. The resulting mixture was stirred at 80° C. for 1 hour to obtain a composition for forming a photo-alignment film.

Figure 2024018516000019
Figure 2024018516000019

(ii)第1位相差層形成用組成物の調製
以下に示す重合性液晶化合物A、及び重合性液晶化合物Bを90:10の質量比で混合した。この混合物100部に対して、レベリング剤(F-556;DIC株式会社製)を1.0部、及び重合開始剤である2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン(「イルガキュア369(Irg369)」、BASFジャパン株式会社製)を6部添加した。
(ii) Preparation of first retardation layer forming composition Polymerizable liquid crystal compound A and polymerizable liquid crystal compound B shown below were mixed at a mass ratio of 90:10. To 100 parts of this mixture, 1.0 part of a leveling agent (F-556; manufactured by DIC Corporation) and 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butane as a polymerization initiator were added. 6 parts of -1-one ("Irgacure 369 (Irg369)", manufactured by BASF Japan Ltd.) was added.

さらに、固形分濃度が13%となるようにN-メチル-2-ピロリドン(NMP)を添加し、80℃で1時間攪拌することにより、第1位相差層形成用組成物を得た。 Furthermore, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added so that the solid content concentration was 13%, and the mixture was stirred at 80° C. for 1 hour to obtain a first retardation layer forming composition.

重合性液晶化合物Aは、特開2010-31223号公報に記載された方法で製造した。また、重合性液晶化合物Bは、特開2009-173893号公報に記載された方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。 Polymerizable liquid crystal compound A was produced by the method described in JP-A No. 2010-31223. Furthermore, polymerizable liquid crystal compound B was produced according to the method described in JP-A No. 2009-173893. The molecular structure of each is shown below.

(重合性液晶化合物A)

Figure 2024018516000020
(Polymerizable liquid crystal compound A)
Figure 2024018516000020

(重合性液晶化合物B)

Figure 2024018516000021
(Polymerizable liquid crystal compound B)
Figure 2024018516000021

(iii)位相差層基材の準備
厚みが50μmであるシクロオレフィン系樹脂フィルム(日本ゼオン株式会社製、「ZF-14-50」)上にコロナ処理を施し、位相差層基材とした。コロナ処理は、ウシオ電機株式会社製のTEC-4AXを使用して行った。コロナ処理は、出力0.78kW、処理速度10m/分の条件で1回行った。
(iii) Preparation of retardation layer base material A cycloolefin resin film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., "ZF-14-50") having a thickness of 50 μm was subjected to corona treatment to prepare a retardation layer base material. Corona treatment was performed using TEC-4AX manufactured by Ushio Inc. Corona treatment was performed once under conditions of an output of 0.78 kW and a treatment speed of 10 m/min.

(iv)光配向膜の形成
位相差層基材に、光配向膜形成用組成物をバーコーターにより塗布した。塗布膜を80℃で1分間乾燥し、偏光UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ電機株式会社製)を用いて、100mJ/cmの積算光量で偏光UV露光を実施した。得られた水平配向膜の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ、100nmであった。
(iv) Formation of photo-alignment film The composition for forming a photo-alignment film was applied to the retardation layer base material using a bar coater. The coating film was dried at 80° C. for 1 minute, and polarized UV exposure was performed using a polarized UV irradiation device (SPOT CURE SP-7; manufactured by Ushio Inc.) at an integrated light intensity of 100 mJ/cm 2 . The thickness of the obtained horizontal alignment film was measured using a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation) and was found to be 100 nm.

(v)第1位相差層の形成
続いて、室温25℃、相対湿度30%の環境下において、第1位相差層形成用組成物を孔径0.2μmのPTFE製メンブレンフィルタ(アドバンテック東洋株式会社製、品番;T300A025A)に通し、25℃に保温した配向膜付き基材フィルム上にバーコーターを用いて塗布した。塗膜を120℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(ユニキュアVB―15201BY-A、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長:365nm、波長365nmにおける積算光量:1000mJ/cm)した。得られた塗膜の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ2μmであった。
得られた第1位相差層の位相差値を測定したところ、Re(450)=121nm、Re(550)=139nm、Re(650)=146nmであった。
各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.05
(v) Formation of first retardation layer Subsequently, in an environment of room temperature 25°C and relative humidity 30%, the composition for forming the first retardation layer was applied to a PTFE membrane filter with a pore size of 0.2 μm (Advantech Toyo Co., Ltd. (product number: T300A025A) and coated on a substrate film with an alignment film kept at 25° C. using a bar coater. After drying the coating film at 120°C for 1 minute, it was irradiated with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp (Unicure VB-15201BY-A, manufactured by Ushio Inc.) (under nitrogen atmosphere, wavelength: 365 nm, cumulative light intensity at wavelength 365 nm). :1000mJ/ cm2 ). The thickness of the obtained coating film was measured with a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation) and was found to be 2 μm.
When the retardation values of the obtained first retardation layer were measured, Re (450) = 121 nm, Re (550) = 139 nm, and Re (650) = 146 nm.
The relationship between the in-plane retardation values at each wavelength was as follows.
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.05

[製造例2:第2位相差層を含む積層体の作製]
(i)配向性ポリマー組成物(1)の調製
サンエバーSE-610(日産化学株式会社製)1部と2-ブトキシエタノールを99部とを混合して配向性ポリマー組成物(1)を得た。
[Production Example 2: Production of laminate including second retardation layer]
(i) Preparation of oriented polymer composition (1) 1 part of Sunever SE-610 (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) and 99 parts of 2-butoxyethanol were mixed to obtain an oriented polymer composition (1). .

(ii)第2位相差層形成用組成物の調製
下図で示す重合性液晶(BASF社製、LC242)を19.2部、レベリング剤(ビックケミージャパン社製、「BYK-361N」)を0.1部、重合開始剤(BASFジャパン製「イルガキュア 907」)を0.5部、反応添加剤(BASFジャパン製、「Laromaer LR-9000」)1.1部、及びプロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセタート79.1部を混合した。混合液を80℃で1時間攪拌することにより、第2位相差層形成用組成物を得た。
(ii) Preparation of second retardation layer forming composition 19.2 parts of polymerizable liquid crystal (manufactured by BASF, LC242) shown in the figure below, 0 parts of a leveling agent ("BYK-361N", manufactured by BYK Chemie Japan) .1 part, 0.5 parts of polymerization initiator ("Irgacure 907" manufactured by BASF Japan), 1.1 parts of reaction additive ("Laromaer LR-9000" manufactured by BASF Japan), and 2 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether. - 79.1 parts of acetate were mixed. A composition for forming a second retardation layer was obtained by stirring the mixed solution at 80° C. for 1 hour.

Figure 2024018516000022
Figure 2024018516000022

(iii)位相差層基材の準備
厚みが50μmであるシクロオレフィン系樹脂フィルム(日本ゼオン株式会社製、「ZF-14-50」)上にコロナ処理を施し、位相差層基材とした。コロナ処理は、ウシオ電機株式会社製のTEC-4AXを使用して行った。コロナ処理は、出力0.78kW、処理速度10m/分の条件で1回行った。
(iii) Preparation of retardation layer base material A cycloolefin resin film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., "ZF-14-50") having a thickness of 50 μm was subjected to corona treatment to prepare a retardation layer base material. Corona treatment was performed using TEC-4AX manufactured by Ushio Inc. Corona treatment was performed once under conditions of an output of 0.78 kW and a treatment speed of 10 m/min.

(iv)配向性ポリマー膜の形成
位相差層基材に、配向性ポリマー組成物(1)を、バーコーターを用いて塗布し、90℃で1分間乾燥し、配向膜を得た。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、34nmであった。
(iv) Formation of oriented polymer film The oriented polymer composition (1) was applied to the retardation layer base material using a bar coater, and dried at 90° C. for 1 minute to obtain an oriented film. The thickness of the obtained alignment film was measured using a laser microscope and was found to be 34 nm.

(v)第2位相差層の形成
続いて、配向膜上に第2位相差層形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、90℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、温度:25℃、波長365nmにおける積算光量:1000mJ/cm)することにより第2位相差層を得た。得られた第2位相差層の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は450nmであった。また、得られた位相差フィルム(2)の波長550nmでの位相差値を測定したところRe(550)=1nm、Rth(550)=-70nmであった。すなわち、第2位相差層は下記式(3)で表される光学特性を有した。なお、COPの波長550nmにおける位相差値は略0であるため、当該光学特性には影響しない。
nx≒ny<nz (3)
(v) Formation of second retardation layer Next, a composition for forming a second retardation layer was applied onto the alignment film using a bar coater, dried at 90°C for 1 minute, and then using a high-pressure mercury lamp. Then, a second retardation layer was obtained by irradiating ultraviolet light (under nitrogen atmosphere, temperature: 25° C., cumulative light amount at 365 nm wavelength: 1000 mJ/cm 2 ). When the film thickness of the obtained second retardation layer was measured using a laser microscope, the film thickness was 450 nm. Furthermore, when the retardation values of the obtained retardation film (2) at a wavelength of 550 nm were measured, they were Re (550) = 1 nm and Rth (550) = -70 nm. That is, the second retardation layer had optical characteristics expressed by the following formula (3). Note that since the retardation value of COP at a wavelength of 550 nm is approximately 0, it does not affect the optical characteristics.
nx≒ny<nz (3)

[製造例3:位相差板Aの作製]
製造例1で得られた第1位相差層を含む積層体と、製造例2で得られた第2位相差層を含む積層体とを、下記の活性エネルギー線硬化型接着剤Aにより、それぞれの位相差層面(基材側の表面とは反対側の表面)が貼合面となるように貼り合わせた。次いで、紫外線を照射して活性エネルギー線硬化型接着剤Aを硬化させた。このようにして、第1位相差層及び第2位相差層の2層の位相差層を含む位相差板Aを作製した。
[Production Example 3: Production of retardation plate A]
The laminate containing the first retardation layer obtained in Production Example 1 and the laminate containing the second retardation layer obtained in Production Example 2 were each treated with the following active energy ray-curable adhesive A. were bonded together so that the retardation layer surface (the surface on the opposite side to the surface on the base material side) was the bonding surface. Next, the active energy ray-curable adhesive A was cured by irradiation with ultraviolet rays. In this way, a retardation plate A including two retardation layers, a first retardation layer and a second retardation layer, was produced.

<活性エネルギー線硬化型接着剤A>
下記成分を配合して混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤Aを調製した。
・3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(商品名:CEL2021P、株式会社ダイセル製):70質量部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(商品名:EX-211、ナガセケムテックス株式会社製):20質量部
・2-エチルヘキシルグリシジルエーテル(商品名:EX-121、ナガセケムテックス株式会社製):10質量部
・カチオン重合開始剤(商品名:CPI-100_50%溶液、サンアプロ株式会社製):4.5質量部(実質固形分2.25質量部)
・1,4-ジエトキシナフタレン:2質量部
<Active energy ray curable adhesive A>
After blending and mixing the following components, the active energy ray-curable adhesive A was prepared by defoaming.
・3',4'-Epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate (product name: CEL2021P, manufactured by Daicel Corporation): 70 parts by mass ・Neopentyl glycol diglycidyl ether (product name: EX-211, Nagasechem) 2-ethylhexyl glycidyl ether (trade name: EX-121, manufactured by Nagase ChemteX Corporation): 20 parts by mass ・Cationic polymerization initiator (trade name: CPI-100_50% solution, San-Apro) Co., Ltd.): 4.5 parts by mass (substantially solid content 2.25 parts by mass)
・1,4-diethoxynaphthalene: 2 parts by mass

[製造例4:位相差板Bの作製]
基材/配向層/第2位相差層(ポジティブCプレート)/配向層/第1位相差層(λ/4層)、がこの順に積層された位相差板Bを以下のようにして作製した。
[Production Example 4: Production of retardation plate B]
A retardation plate B in which base material/alignment layer/second retardation layer (positive C plate)/orientation layer/first retardation layer (λ/4 layer) were laminated in this order was produced as follows. .

(基材)
基材として、シクロオレフィンポリマーフィルム(COP)(日本ゼオン株式会社製のZF-14)を準備した。
(Base material)
A cycloolefin polymer film (COP) (ZF-14 manufactured by Zeon Corporation) was prepared as a base material.

(コロナ処理)
コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のAGF-B10を用いた。コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回行った。
(Corona treatment)
AGF-B10 manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd. was used as the corona treatment device. Corona treatment was performed once using the above corona treatment apparatus under conditions of an output of 0.3 kW and a treatment speed of 3 m/min.

(高圧水銀ランプ)
高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアVB―15201BY-Aを用いた。
(High pressure mercury lamp)
Unicure VB-15201BY-A manufactured by Ushio Inc. was used as a high-pressure mercury lamp.

コロナ処理を施した基材の表面に、位相差板Aの作製において調製した配向性ポリマー組成物(1)を、バーコータ-を用いて塗布し、90℃で1分間乾燥した。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、34nmであった。続いて、配向膜上に、位相差板Aの作製において調製した第2位相差層形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、90℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:1000mJ/cm)することにより第2位相差層(ポジディブCプレート)を形成し、第2位相差層を有する第2位相差フィルムを得た。得られた第2位相差層の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は450nmであった。また、得られた第2位相差フィルムの波長550nmでの位相差値を測定したところ、Re(550)=1nm、Rth(550)=-70nmであった。すなわち、第2位相差層は、下記式(3):
nx≒ny<nz (3)
で表される光学特性を有した。なお、基材の波長550nmにおける位相差値は略0であるため、当該光学特性には影響しない。
The oriented polymer composition (1) prepared in the production of retardation plate A was applied to the surface of the corona-treated substrate using a bar coater, and dried at 90° C. for 1 minute. The thickness of the obtained alignment film was measured using a laser microscope and was found to be 34 nm. Subsequently, the second retardation layer forming composition prepared in the production of retardation plate A was applied onto the alignment film using a bar coater, dried at 90°C for 1 minute, and then coated using a high-pressure mercury lamp. Then, a second retardation layer (positive C plate) is formed by irradiating ultraviolet rays (under a nitrogen atmosphere, cumulative light amount at a wavelength of 365 nm: 1000 mJ/cm 2 ), and a second retardation film having the second retardation layer is formed. I got it. When the film thickness of the obtained second retardation layer was measured using a laser microscope, the film thickness was 450 nm. Furthermore, when the retardation values of the obtained second retardation film at a wavelength of 550 nm were measured, Re(550)=1 nm and Rth(550)=-70 nm. That is, the second retardation layer has the following formula (3):
nx≒ny<nz (3)
It had optical properties expressed as follows. Note that since the retardation value of the base material at a wavelength of 550 nm is approximately 0, it does not affect the optical properties.

次に、第2位相差フィルムの第2位相差層の上に、下記配向性ポリマー組成物(2)を、バーコーターを用いて塗布し、100℃で1分間乾燥した。得られた配向膜の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ、100nmであった。続いて、配向膜をラビング処理し処理面に位相差板Aの作製において調製した第1位相差層形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、120℃で1分間乾燥した。高圧水銀ランプを用いて、塗膜に紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:1000mJ/cm)することにより、第2位相差層の上に第1位相差層を形成し、位相差板Bを得た。得られた第1位相差層の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ2μmであった。得られた位相差板Bの位相差値を測定したところ、Re(450)=121nm、Re(550)=139nm、Re(650)=146nmであった。
各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.05
すなわち、得られた位相差板Bは上述の式(1)、(2)及び(4)で表される光学特性を有した。
Next, on the second retardation layer of the second retardation film, the following oriented polymer composition (2) was applied using a bar coater and dried at 100° C. for 1 minute. The thickness of the obtained alignment film was measured using a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation) and was found to be 100 nm. Subsequently, the alignment film was subjected to a rubbing treatment, and the first retardation layer forming composition prepared in the production of retardation plate A was applied to the treated surface using a bar coater, and dried at 120° C. for 1 minute. A first retardation layer is formed on the second retardation layer by irradiating the coating film with ultraviolet rays (in a nitrogen atmosphere, cumulative light amount at a wavelength of 365 nm: 1000 mJ/cm 2 ) using a high-pressure mercury lamp, A retardation plate B was obtained. The thickness of the obtained first retardation layer was measured using a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation) and was found to be 2 μm. When the retardation values of the obtained retardation plate B were measured, Re (450) = 121 nm, Re (550) = 139 nm, and Re (650) = 146 nm.
The relationship between the in-plane retardation values at each wavelength was as follows.
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.05
That is, the obtained retardation plate B had optical characteristics expressed by the above-mentioned formulas (1), (2), and (4).

(配向性ポリマー組成物(2))
市販のポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール1000完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)、水を加えて100℃で1時間加熱し、固形分量2質量%(溶剤濃度98質量%)の配向性ポリマー組成物(2)を得た。
(Oriented polymer composition (2))
Commercially available polyvinyl alcohol (Polyvinyl Alcohol 1000 completely saponified type, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to water and heated at 100°C for 1 hour to obtain an oriented polymer with a solid content of 2% by mass (solvent concentration of 98% by mass). Composition (2) was obtained.

[製造例5:位相差板Cの作製]
位相差板Aの作製において、第1位相差層を含む積層体と、第2位相差層を含む積層体との貼り合わせに、活性エネルギー線硬化型接着剤Aに代えて、粘着剤層3(厚み5μmのシート状のアクリル系粘着剤)を用いて位相差板を作製したこと以外は、位相差板Aと同様にして位相差板Cを作製した。
[Production Example 5: Production of retardation plate C]
In producing the retardation plate A, the adhesive layer 3 was used instead of the active energy ray-curable adhesive A to bond the laminate including the first retardation layer and the laminate including the second retardation layer. Retardation plate C was produced in the same manner as retardation plate A, except that the retardation plate was produced using (a sheet-like acrylic adhesive having a thickness of 5 μm).

[製造例6:偏光子の作製]
厚み20μm、重合度2,400、ケン化度99.9%以上のポリビニルアルコールフィルムを、乾式で延伸倍率4.5倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水100重量部あたりヨウ素0.05重量部及びヨウ化カリウム5重量部を含有する、28℃の染色浴に60秒間浸漬した。
[Manufacture example 6: Preparation of polarizer]
A polyvinyl alcohol film with a thickness of 20 μm, a degree of polymerization of 2,400, and a degree of saponification of 99.9% or more is uniaxially stretched in a dry manner at a stretching ratio of 4.5 times, and while maintaining the tension state, 0 iodine per 100 parts by weight of water is added. 05 parts by weight and 5 parts by weight of potassium iodide for 60 seconds at 28°C.

次いで、水100重量部あたりホウ酸5.5重量部及びヨウ化カリウム15重量部を含有する、64℃のホウ酸水溶液1に、110秒間浸漬した。次いで、水100重量部あたりホウ酸5.5重量部及びヨウ化カリウム15重量部を含有する、67℃のホウ酸水溶液2に、30秒間浸漬した。その後、3℃の純水を用いて水洗し、乾燥して、厚みが8μmの偏光子を得た。 Next, it was immersed for 110 seconds in a 64° C. boric acid aqueous solution 1 containing 5.5 parts by weight of boric acid and 15 parts by weight of potassium iodide per 100 parts by weight of water. Next, it was immersed for 30 seconds in a 67° C. boric acid aqueous solution 2 containing 5.5 parts by weight of boric acid and 15 parts by weight of potassium iodide per 100 parts by weight of water. Thereafter, it was washed with pure water at 3° C. and dried to obtain a polarizer with a thickness of 8 μm.

[製造例7:直線偏光板の作製]
以下の保護フィルムを準備した。
保護フィルム:厚さ13μmのノルボルネン系樹脂フィルム〔日本ゼオン株式会社製、商品名「ZEONOR」〕
上記で作製した偏光子の片面に水系接着剤を介して、上記の保護フィルムを、ロール貼合機を用いて貼合した。貼合後、80℃で3分間乾燥処理を行った。偏光子の片面にのみ保護フィルムが積層された直線偏光板を得た。直線偏光板は、偏光子、接着剤層及び保護フィルムがこの順に積層されたものであった。
[Production Example 7: Production of linear polarizing plate]
The following protective films were prepared.
Protective film: Norbornene resin film with a thickness of 13 μm [manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., product name “ZEONOR”]
The above-mentioned protective film was bonded to one side of the polarizer produced above using a roll bonding machine via a water-based adhesive. After lamination, drying treatment was performed at 80° C. for 3 minutes. A linear polarizing plate was obtained in which a protective film was laminated only on one side of the polarizer. The linear polarizing plate had a polarizer, an adhesive layer, and a protective film laminated in this order.

[製造例8:粘着剤層1の作製]
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル81.8部、アクリル酸ブチル90.0部、アクリル酸メチル5.0部及びアクリル酸5.0部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を55℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル(重合開始剤)0.15部を酢酸エチル10部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、1時間この温度で保持し、次いで内温を54~56℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度17.3部/hrで反応容器内へ連続的に加え、(メタ)アクリル系樹脂の濃度が35質量%となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から6時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えて(メタ)アクリル系樹脂の濃度が20質量%となるように調節し、アクリル樹脂溶液1を調製した。得られたアクリル樹脂は、重量平均分子量Mw が160万、分子量分布Mw/Mnが4.5であった。なお、Mw及びMnは、GPC装置にカラムとして、東ソー(株)製の「TSKgel GMHHR-H(S)」を2本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度2mg/mL、試料導入量100μL、温度40℃、流速1mL/分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。
[Production Example 8: Preparation of adhesive layer 1]
81.8 parts of ethyl acetate, 90.0 parts of butyl acrylate, 5.0 parts of methyl acrylate, and 5.0 parts of acrylic acid were placed in a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirrer. A mixed solution was charged, and the internal temperature was raised to 55° C. while replacing the air in the device with nitrogen gas to make it oxygen-free. Thereafter, the entire amount of a solution prepared by dissolving 0.15 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) in 10 parts of ethyl acetate was added. After adding the polymerization initiator, the temperature was maintained at this temperature for 1 hour, and then ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/hr while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C. ) When the concentration of the acrylic resin reached 35% by mass, the addition of ethyl acetate was stopped, and the mixture was kept at this temperature until 6 hours had elapsed from the start of the addition of ethyl acetate. Finally, ethyl acetate was added to adjust the concentration of (meth)acrylic resin to 20% by mass to prepare acrylic resin solution 1. The obtained acrylic resin had a weight average molecular weight Mw of 1.6 million and a molecular weight distribution Mw/Mn of 4.5. For Mw and Mn, two columns of "TSKgel GMHHR-H (S)" manufactured by Tosoh Corporation were connected in series in the GPC device, tetrahydrofuran was used as the eluent, and the sample concentration was 2 mg/mL. Measurements were made using standard polystyrene conversion under the conditions of a sample introduction amount of 100 μL, a temperature of 40° C., and a flow rate of 1 mL/min.

上記アクリル樹脂溶液1の固形分100部に対して、架橋剤(東ソー株式会社製:商品名「コロネートL」(トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液(固形分濃度75質量%))を有効成分ベースで0.15部、シランカップリング剤(信越化学工業株式会社製:商品名「KBM-403」)を0.2部添加し、更に固形分濃度が13%となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物1を得た。 To 100 parts of the solid content of the above acrylic resin solution 1, a crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation, product name "Coronate L") (ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (solid content concentration 75% by mass)) ) on an active ingredient basis and 0.2 parts of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "KBM-403") were added, and the solid content concentration was further adjusted to 13%. Ethyl acetate was added to obtain adhesive composition 1.

粘着剤組成物1を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック(株)から入手した「PLR-382190」〕の離型処理面に、アプリケータを用いて乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、100℃で1分間乾燥して粘着剤層(粘着剤シート)を作製した。次いで得られた粘着剤層のセパレータフィルムと反対側の表面を離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック(株)から入手した「PET-251130」〕の離型処理面と貼合し、粘着剤層1を作製した。 Adhesive composition 1 was applied to the release-treated surface of a release-treated polyethylene terephthalate film [PLR-382190 obtained from Lintec Corporation] using an applicator after drying. It was coated to a thickness of 25 μm and dried at 100° C. for 1 minute to prepare an adhesive layer (adhesive sheet). Next, the surface of the resulting adhesive layer opposite to the separator film was the release-treated surface of a polyethylene terephthalate film ("PET-251130" obtained from Lintec Corporation) that had been subjected to a release treatment. The adhesive layer 1 was produced by laminating.

[製造例9:粘着剤層2の作製]
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル100部、アクリル酸ブチル99.0部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル0.5部、及びアクリル酸0.5部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を55℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル(重合開始剤)0.12部を酢酸エチル10部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、1時間この温度で保持し、次いで内温を54~56℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度17.3部/hrで反応容器内へ連続的に加え、(メタ)アクリル系樹脂の濃度が35質量%となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から6時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えて(メタ)アクリル系樹脂の濃度が20質量%となるように調節し、アクリル樹脂溶液2を調製した。得られたアクリル樹脂は、重量平均分子量Mw が170万、分子量分布Mw/Mnが3.9であった。なお、Mw及びMnは、GPC装置にカラムとして、東ソー(株)製の「TSKgel GMHHR-H(S)」を2本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度2mg/mL、試料導入量100μL、温度40℃、流速1mL/分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。
[Production Example 9: Preparation of adhesive layer 2]
In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirrer, 100 parts of ethyl acetate, 99.0 parts of butyl acrylate, 0.5 part of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.5 parts of acrylic acid were added. The internal temperature was raised to 55° C. while replacing the air inside the device with nitrogen gas to make it oxygen-free. Thereafter, a solution of 0.12 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) dissolved in 10 parts of ethyl acetate was added in its entirety. After adding the polymerization initiator, the temperature was maintained at this temperature for 1 hour, and then ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/hr while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C. ) When the concentration of the acrylic resin reached 35% by mass, the addition of ethyl acetate was stopped, and the mixture was kept at this temperature until 6 hours had elapsed from the start of the addition of ethyl acetate. Finally, ethyl acetate was added to adjust the concentration of (meth)acrylic resin to 20% by mass to prepare acrylic resin solution 2. The obtained acrylic resin had a weight average molecular weight Mw of 1.7 million and a molecular weight distribution Mw/Mn of 3.9. For Mw and Mn, two columns of "TSKgel GMHHR-H (S)" manufactured by Tosoh Corporation were connected in series in the GPC device, tetrahydrofuran was used as the eluent, and the sample concentration was 2 mg/mL. Measurements were made using standard polystyrene conversion under the conditions of a sample introduction amount of 100 μL, a temperature of 40° C., and a flow rate of 1 mL/min.

アクリル樹脂溶液2の固形分80部に対して、二官能アクリレート(新中村化学工業株式会社より入手;品番「A-DOG」)を20部(固形分)、架橋剤(東ソー株式会社製:商品名「コロネートL」(トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液(固形分濃度75質量%))を有効成分ベースで2.5部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製:商品名「イルガキュア500」)を1.5部、シランカップリング剤(信越化学工業株式会社製:商品名「KBM-403」)を0.3部添加し、更に固形分濃度が13%となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物2を得た。
A-DOGは、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンとのアセタール化合物のジアクリレートであって、下式の構造を有する。
To 80 parts of solid content of acrylic resin solution 2, 20 parts (solid content) of bifunctional acrylate (obtained from Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; product number "A-DOG"), crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation: product) 2.5 parts of "Coronate L" (ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (solid content concentration 75% by mass)) based on the active ingredient, photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) : 1.5 parts of silane coupling agent (product name: "Irgacure 500") and 0.3 parts of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name "KBM-403") were added, and the solid content concentration was further adjusted to 13%. Ethyl acetate was added to obtain adhesive composition 2.
A-DOG is a diacrylate of an acetal compound of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane, and has the structure of the following formula.

Figure 2024018516000023
Figure 2024018516000023

粘着剤組成物2を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック(株)から入手した「PLZ-383030」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが15μmとなるように塗布し、100℃で1分間乾燥して粘着剤層(粘着剤シート)を作製した。次いで得られた粘着剤層のセパレータフィルムと反対側の表面を離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック(株)から入手した「PLR-381031」〕の離型処理面と貼合した。続けて紫外線を下記の条件で照射し、粘着剤層2を作製した。
<UV照射条件>
・Fusion UVランプシステム(フュージョンUVシステムズ社製)Hバルブ使用・UV波長領域UVAの積算光量250mJ/cm(測定器:FusionUV社製UV Power PuckIIによる測定値)
Adhesive composition 2 was applied to the release-treated surface of a release-treated polyethylene terephthalate film [PLZ-383030 obtained from Lintec Corporation] using an applicator to determine the thickness after drying. The adhesive layer (adhesive sheet) was prepared by applying the adhesive so that the adhesive layer had a thickness of 15 μm and drying at 100° C. for 1 minute. Next, the surface of the obtained adhesive layer opposite to the separator film was the release-treated surface of a polyethylene terephthalate film ("PLR-381031" obtained from Lintec Corporation), which had been subjected to a release treatment. Pasted. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated under the following conditions to produce adhesive layer 2.
<UV irradiation conditions>
・Using Fusion UV lamp system (manufactured by Fusion UV Systems) H bulb ・Cumulative light intensity of UV wavelength range UVA 250 mJ/cm 2 (Measuring device: Value measured by UV Power Puck II manufactured by Fusion UV)

[製造例10:粘着剤層3の作製]
粘着剤組成物2を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布したこと以外は、製造例9と同様にして、粘着剤層3を作製した。
[Production Example 10: Preparation of adhesive layer 3]
Adhesive layer 3 was produced in the same manner as in Production Example 9, except that adhesive composition 2 was applied so that the thickness after drying was 5 μm.

[実施例1]
実施例1の積層体(円偏光板)を次のようにして作製した。上記で作製した直線偏光板の偏光子に粘着剤層1(厚み25μmのシート状のアクリル系粘着剤)を積層した。粘着剤層1の上記方法により測定した引張弾性率は表1に示す通りであった。製造例3で作製した位相差板Aから、第1位相差層の形成に用いた基材を剥離した。露出した水平配向膜と前記粘着剤層(第1貼合層)とを貼り合わせ、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板Aとがこの順で積層された積層体(円偏光板)を作製した。偏光子の吸収軸と、第1位相差層の遅相軸とのなす角度は45°であった。
[Example 1]
The laminate (circularly polarizing plate) of Example 1 was produced as follows. Adhesive layer 1 (sheet-like acrylic adhesive with a thickness of 25 μm) was laminated on the polarizer of the linearly polarizing plate produced above. The tensile modulus of adhesive layer 1 measured by the above method was as shown in Table 1. From the retardation plate A produced in Production Example 3, the base material used to form the first retardation layer was peeled off. The exposed horizontal alignment film and the adhesive layer (first lamination layer) are laminated together to form a laminate (circular) in which a linear polarizing plate, a first lamination layer, and a retardation plate A are laminated in this order. A polarizing plate) was prepared. The angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the first retardation layer was 45°.

[実施例2]
実施例1の積層体(円偏光板)の作製で用いた粘着剤層1に代えて、粘着剤層2(厚み15μmのシート状のアクリル系粘着剤)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板Aとがこの順で積層された積層体(円偏光板)を得た。粘着剤層2の上記方法により測定した引張弾性率は表1に示す通りであった。
[Example 2]
Example 1 except that adhesive layer 2 (sheet-like acrylic adhesive with a thickness of 15 μm) was used in place of adhesive layer 1 used in the production of the laminate (circularly polarizing plate) of Example 1. In the same manner as above, a laminate (circularly polarizing plate) in which a linearly polarizing plate, a first bonding layer, and a retardation plate A were laminated in this order was obtained. The tensile modulus of adhesive layer 2 measured by the above method was as shown in Table 1.

[実施例3]
実施例1の積層体(円偏光板)の作製で用いた粘着剤層1に代えて、粘着剤層3(厚み5μmのシート状のアクリル系粘着剤)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板Aとがこの順で積層された積層体(円偏光板)を得た。粘着剤層3の上記方法により測定した引張弾性率は表1に示す通りであった。
[Example 3]
Example 1 except that adhesive layer 3 (sheet-like acrylic adhesive with a thickness of 5 μm) was used in place of adhesive layer 1 used in the production of the laminate (circularly polarizing plate) of Example 1. In the same manner as above, a laminate (circularly polarizing plate) in which a linearly polarizing plate, a first bonding layer, and a retardation plate A were laminated in this order was obtained. The tensile modulus of the adhesive layer 3 measured by the above method is as shown in Table 1.

[実施例4]
実施例1の積層体(円偏光板)の作製で用いた位相差板Aに代えて、製造例4で作製した位相差板Bを用いて、位相差板Bの第1位相差層に粘着剤層1(第1貼合層)を貼り合わせたこと以外は、実施例1と同様にして、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板Bとがこの順で積層された積層体(円偏光板)を得た。
[Example 4]
In place of the retardation plate A used in the production of the laminate (circularly polarizing plate) in Example 1, the retardation plate B produced in Production Example 4 was used, and the adhesive was applied to the first retardation layer of the retardation plate B. The linear polarizing plate, the first laminating layer, and the retardation plate B were laminated in this order in the same manner as in Example 1, except that the agent layer 1 (first laminating layer) was laminated. A laminate (circularly polarizing plate) was obtained.

[実施例5]
実施例2の積層体(円偏光板)の作製で用いた位相差板Aに代えて、製造例4で作製した位相差板Bを用いて、位相差板Bの第1位相差層に粘着剤層2(第1貼合層)を貼り合わせたこと以外は、実施例2と同様にして、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板Bとがこの順で積層された積層体(円偏光板)を得た。
[Example 5]
In place of the retardation plate A used in the production of the laminate (circularly polarizing plate) in Example 2, the retardation plate B produced in Production Example 4 was used, and the adhesive was applied to the first retardation layer of the retardation plate B. The linear polarizing plate, the first laminating layer, and the retardation plate B were laminated in this order in the same manner as in Example 2, except that the agent layer 2 (first laminating layer) was laminated. A laminate (circularly polarizing plate) was obtained.

[実施例6]
実施例4の積層体(円偏光板)の作製で用いた粘着剤層1に代えて、粘着剤層3(厚み5μmのシート状粘着剤)を用いたこと以外は、実施例4と同様にして、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板Bとがこの順で積層された積層体(円偏光板)を得た。
[Example 6]
The procedure was the same as in Example 4, except that adhesive layer 3 (sheet-like adhesive with a thickness of 5 μm) was used instead of adhesive layer 1 used in the production of the laminate (circularly polarizing plate) in Example 4. Thus, a laminate (circularly polarizing plate) in which the linearly polarizing plate, the first bonding layer, and the retardation plate B were laminated in this order was obtained.

[比較例1]
実施例1の積層体(円偏光板)の作製で用いた粘着剤層1に代えて、上述の活性エネルギー線硬化型接着剤Aにより形成された接着剤層A(乾燥後の厚み1.5μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板Aとがこの順に積層された積層体(円偏光板)を得た。接着剤層Aの上記方法により測定した引張弾性率は表1に示す通りであった。
[Comparative example 1]
In place of the adhesive layer 1 used in the production of the laminate (circularly polarizing plate) of Example 1, an adhesive layer A (thickness after drying: 1.5 μm) formed from the above-mentioned active energy ray-curable adhesive A was used. ) was used in the same manner as in Example 1, to obtain a laminate (circularly polarizing plate) in which a linearly polarizing plate, a first bonding layer, and a retardation plate A were laminated in this order. The tensile modulus of adhesive layer A measured by the above method was as shown in Table 1.

[比較例2]
実施例4の積層体(円偏光板)の作製で用いた粘着剤層1に代えて、上述の活性エネルギー線硬化型接着剤Aにより形成された接着剤層A(乾燥後の厚み1.5μm)を用いたこと以外は、実施例4と同様にして、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板Bとがこの順に積層された積層体(円偏光板)を得た。
[Comparative example 2]
In place of the adhesive layer 1 used in the production of the laminate (circularly polarizing plate) of Example 4, an adhesive layer A (thickness after drying: 1.5 μm) formed of the above-mentioned active energy ray-curable adhesive A was used. ) was used in the same manner as in Example 4, to obtain a laminate (circularly polarizing plate) in which a linearly polarizing plate, a first bonding layer, and a retardation plate B were laminated in this order.

[参考例1]
実施例3の積層体(円偏光板)の作製で用いた位相差板Aに代えて、製造例5で作製した位相差板Cを用いたこと以外は、実施例3と同様にして、直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板とがこの順で積層された積層体(円偏光板)を得た。
[Reference example 1]
A straight line was produced in the same manner as in Example 3, except that the retardation plate C prepared in Production Example 5 was used in place of the retardation plate A used in the production of the laminate (circularly polarizing plate) in Example 3. A laminate (circularly polarizing plate) in which a polarizing plate, a first bonding layer, and a retardation plate were laminated in this order was obtained.

[評価]
実施例1~6、比較例1~2、参考例1の円偏光板について、第2位相差層の形成に用いた基材を剥離した際の耐久性を、上述の方法にしたがって評価した。表1に評価結果を示す。
[evaluation]
The durability of the circularly polarizing plates of Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 2, and Reference Example 1 when the base material used to form the second retardation layer was peeled off was evaluated according to the method described above. Table 1 shows the evaluation results.

Figure 2024018516000024
Figure 2024018516000024

1 偏光板、2 画像表示装置、10 直線偏光板、21 第1貼合層、30 位相差板、31 第1位相差層、32 第2位相差層、40 画像表示パネル。 1 polarizing plate, 2 image display device, 10 linear polarizing plate, 21 first bonding layer, 30 retardation plate, 31 first retardation layer, 32 second retardation layer, 40 image display panel.

Claims (7)

直線偏光板と、第1貼合層と、位相差板と、がこの順に積層されてなる偏光板であって、
前記位相差板は、
第1位相差層と第2位相差層とを有し、
前記第1位相差層及び前記第2位相差層は液晶化合物の硬化物を含み、
突き刺し弾性率が70g/mm以上であり、
前記第1貼合層は、温度23℃、相対湿度55%での引張弾性率が1.0×10Pa以下である、偏光板。
A polarizing plate in which a linear polarizing plate, a first bonding layer, and a retardation plate are laminated in this order,
The retardation plate is
comprising a first retardation layer and a second retardation layer,
The first retardation layer and the second retardation layer include a cured product of a liquid crystal compound,
The puncture modulus is 70 g/mm or more,
The first bonding layer is a polarizing plate having a tensile modulus of 1.0×10 8 Pa or less at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55%.
前記第1貼合層の厚み(m)と前記引張弾性率(Pa)との積が500以下である、請求項1に記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1, wherein the product of the thickness (m) of the first bonding layer and the tensile modulus (Pa) is 500 or less. 前記位相差板は、前記第1位相差層と前記第2位相差層との間に、配向膜のみを有する、または介在する他の層を有しない、請求項1または2に記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1 or 2, wherein the retardation plate has only an alignment film or no other intervening layer between the first retardation layer and the second retardation layer. . 前記直線偏光板は偏光子を有し、
前記偏光子は、厚みが15μm以下である、請求項1または2に記載の偏光板。
The linearly polarizing plate has a polarizer,
The polarizing plate according to claim 1 or 2, wherein the polarizer has a thickness of 15 μm or less.
前記直線偏光板は前記偏光子の前記第1貼合層とは反対側の表面に設けられた保護フィルムを有し、
前記保護フィルムは、厚みが30μm以下である、請求項4に記載の偏光板。
The linear polarizing plate has a protective film provided on the surface of the polarizer opposite to the first bonding layer,
The polarizing plate according to claim 4, wherein the protective film has a thickness of 30 μm or less.
前記第1位相差層は、逆分散性のλ/4層である、請求項1または2に記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1 or 2, wherein the first retardation layer is a λ/4 layer with reverse dispersion property. 前記第2位相差層は、ポジティブCプレートである、請求項1または2に記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1 or 2, wherein the second retardation layer is a positive C plate.
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