JP7348719B2 - Composite retardation plate, optical laminate, and image display device - Google Patents

Composite retardation plate, optical laminate, and image display device Download PDF

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Description

本発明は、複合位相差板、当該複合位相差板を含む光学積層体、及び当該光学積層体を備える画像表示装置に関する。 The present invention relates to a composite retardation plate, an optical laminate including the composite retardation plate, and an image display device including the optical laminate.

従来、画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に反射防止性能を有する光学積層体を配置して、外来光の反射による視認性の低下を抑制する方法が採用されている。 Conventionally, in image display devices, a method has been adopted in which an optical laminate having antireflection properties is disposed on the viewing side of an image display panel to suppress a decrease in visibility due to reflection of external light.

反射防止性能を有する光学積層体として、偏光板及び位相差層により構成される光学積層体が知られている。反射防止性能を有する光学積層体では、画像表示パネルに向かう外来光を偏光板により直線偏光に変換し、続く位相差層により円偏光に変換する。円偏光である外来光は、画像表示パネルの表面で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転し、位相差層により直線偏光に変換された後、続く偏光板により遮光される。その結果、外部への出射が著しく抑制される。 As an optical laminate having antireflection performance, an optical laminate composed of a polarizing plate and a retardation layer is known. In an optical laminate having antireflection performance, external light directed toward an image display panel is converted into linearly polarized light by a polarizing plate, and then converted into circularly polarized light by a subsequent retardation layer. External light, which is circularly polarized light, is reflected on the surface of the image display panel, but upon this reflection, the direction of rotation of the plane of polarization is reversed, and after being converted into linearly polarized light by the retardation layer, it is blocked by the subsequent polarizing plate. Ru. As a result, radiation to the outside is significantly suppressed.

反射防止性能を有する光学積層体の構成要素である位相差板として、複数の位相差層を接着層で接着してなる複合位相差板が知られている。例えば、特許文献1,2には、1/2波長層と1/4波長層とを接着層で接着してなる複合位相差板が記載されている。 As a retardation plate that is a component of an optical laminate having antireflection performance, a composite retardation plate formed by bonding a plurality of retardation layers with an adhesive layer is known. For example, Patent Documents 1 and 2 describe a composite retardation plate formed by bonding a 1/2 wavelength layer and a 1/4 wavelength layer with an adhesive layer.

特開2015-21975号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-21975 特開2015-21976号公報JP2015-21976A

複合位相差板は、単独で、又はこれを含む光学積層体として、搬送、巻き取り等がされる工程で、ロール状部材に接触することによって、または、屈曲部を有する画像表示パネルの表面に配置される等により、複合位相差板が折れ曲がった際、屈曲部にシワが発生し、品質不具合となる可能性がある。特に、複合位相差板が薄膜フィルムで形成されている場合は、顕著に発生することがある。 The composite retardation plate, alone or as an optical laminate including the same, can be transported, rolled up, etc. by contacting a roll-shaped member or on the surface of an image display panel having a bent part. When the composite retardation plate is bent due to the arrangement, wrinkles may occur at the bent portion, which may lead to quality defects. In particular, when the composite retardation plate is formed of a thin film, this phenomenon may occur significantly.

本発明は、搬送、巻き取り等がされる工程で、ロール状部材に接触することによって、または、屈曲部を有する画像表示装置パネルの表面に配置される等により、複合位相差板が折れ曲がった際でも屈曲部におけるシワの発生が抑制された複合位相差板、当該複合位相差板を含む光学積層体、及び当該光学積層体を備える画像表示装置を提供することを目的とする。 The present invention provides a method for bending a composite retardation plate by contacting a roll-shaped member or by being placed on the surface of an image display device panel having a bending portion during a process of conveyance, winding, etc. It is an object of the present invention to provide a composite retardation plate in which the occurrence of wrinkles at bent portions is suppressed even when the retardation plate is bent, an optical laminate including the composite retardation plate, and an image display device including the optical laminate.

本発明は、以下に示す複合位相差板、光学積層体、及び画像表示装置を提供する。
〔1〕 第1位相差層と、第2位相差層と、第1位相差層と第2位相差層とを接着する第1接着層とを含み、
第1接着層は、厚み方向の突刺し傾きが400g/mm~800g/mmである、複合位相差板。
The present invention provides a composite retardation plate, an optical laminate, and an image display device shown below.
[1] Includes a first retardation layer, a second retardation layer, and a first adhesive layer that adheres the first retardation layer and the second retardation layer,
The first adhesive layer is a composite retardation plate having a piercing slope in the thickness direction of 400 g/mm to 800 g/mm.

〔2〕 第1位相差層と、第2位相差層と、第1位相差層と第2位相差層とを接着する第1接着層とを含み、
第1接着層は、温度30℃での貯蔵弾性率が600MPa以上である、複合位相差板。
[2] Includes a first retardation layer, a second retardation layer, and a first adhesive layer that adheres the first retardation layer and the second retardation layer,
The first adhesive layer is a composite retardation plate having a storage modulus of 600 MPa or more at a temperature of 30°C.

〔3〕 第1位相差層と、第2位相差層と、第1位相差層と第2位相差層とを接着する第1接着層とを含み、
第1接着層は、ガラス転移温度が60℃~200℃である、複合位相差板。
[3] Includes a first retardation layer, a second retardation layer, and a first adhesive layer that adheres the first retardation layer and the second retardation layer,
The first adhesive layer is a composite retardation plate having a glass transition temperature of 60°C to 200°C.

〔4〕 第1接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層である、〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の複合位相差板。 [4] The composite retardation plate according to any one of [1] to [3], wherein the first adhesive layer is a cured product layer of an active energy ray-curable adhesive.

〔5〕 第1接着層は、厚みが0.5μm~5μmである、〔1〕~〔4〕のいずれか1項に記載の複合位相差板。 [5] The composite retardation plate according to any one of [1] to [4], wherein the first adhesive layer has a thickness of 0.5 μm to 5 μm.

〔6〕 第1位相差層は1/2波長層であり、第2位相差層は1/4波長層である、〔1〕~〔5〕のいずれか1項に記載の複合位相差板。 [6] The composite retardation plate according to any one of [1] to [5], wherein the first retardation layer is a 1/2 wavelength layer and the second retardation layer is a 1/4 wavelength layer. .

〔7〕 第1位相差層は1/2波長層、または1/4波長層であり、第2位相差層は光学補償層である、〔1〕~〔5〕のいずれか1項に記載の複合位相差板。 [7] The first retardation layer is a 1/2 wavelength layer or a 1/4 wavelength layer, and the second retardation layer is an optical compensation layer, according to any one of [1] to [5]. composite retardation plate.

〔8〕 第1位相差層及び第2位相差層の少なくとも一方は、液晶層である位相差発現層を含む、〔1〕~〔7〕のいずれか1項に記載の複合位相差板。 [8] The composite retardation plate according to any one of [1] to [7], wherein at least one of the first retardation layer and the second retardation layer includes a retardation expression layer that is a liquid crystal layer.

〔9〕 厚みが2μm~50μmである、〔1〕~〔8〕のいずれか1項に記載の複合位相差板。 [9] The composite retardation plate according to any one of [1] to [8], which has a thickness of 2 μm to 50 μm.

〔10〕 偏光板と、前記偏光板に積層された〔1〕~〔9〕のいずれか1項に記載の複合位相差板とを含み、
前記複合位相差板は、第1位相差層が前記偏光板側に位置する向きで積層されている、光学積層体。
[10] Comprising a polarizing plate and the composite retardation plate according to any one of [1] to [9] laminated on the polarizing plate,
The composite retardation plate is an optical laminate in which the first retardation layer is stacked in a direction facing the polarizing plate.

〔11〕 円偏光板である、〔10〕に記載の光学積層体。
〔12〕 前記偏光板と前記複合位相差板とを接着する第2接着層をさらに含む、〔10〕又は〔11〕に記載の光学積層体。
[11] The optical laminate according to [10], which is a circularly polarizing plate.
[12] The optical laminate according to [10] or [11], further comprising a second adhesive layer that adheres the polarizing plate and the composite retardation plate.

〔13〕 第2接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層である、〔12〕に記載の光学積層体。 [13] The optical laminate according to [12], wherein the second adhesive layer is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive.

〔14〕 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された〔10〕~〔13〕のいずれか1項に記載の光学積層体とを含む、画像表示装置。 [14] An image display device comprising an image display panel and the optical laminate according to any one of [10] to [13] arranged on the viewing side of the image display panel.

〔15〕 前記光学積層体は、前記偏光板が視認側に位置する向きで配置されている、〔14〕に記載の画像表示装置。 [15] The image display device according to [14], wherein the optical laminate is arranged in such a direction that the polarizing plate is located on the viewing side.

〔16〕 有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、〔15〕に記載の画像表示装置。 [16] The image display device according to [15], which is an organic electroluminescence display device.

本発明の複合位相差板によれば、搬送、巻き取り等がされる工程で、ロール状部材に接触することによって、または、屈曲部を有する画像表示装置パネルの表面に配置される等により、複合位相差板が折れ曲がった際でも屈曲部におけるシワの発生を抑制することができる。 According to the composite retardation plate of the present invention, by contacting a roll-shaped member during the process of conveying, winding, etc., or by being placed on the surface of an image display device panel having a bent portion, Even when the composite retardation plate is bent, the generation of wrinkles at the bent portion can be suppressed.

本発明の複合位相差板の一例を模式的に示す概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of a composite retardation plate of the present invention. 液晶層を位相差発現層として備える位相差層の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of a retardation layer including a liquid crystal layer as a retardation layer. (A)~(C)は、本発明の複合位相差板の製造方法における各製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。(A) to (C) are schematic cross-sectional views schematically showing an example of each manufacturing step in the method for manufacturing a composite retardation plate of the present invention.

以下、図面を参照しながら本発明の複合位相差板及び光学積層体について説明する。
[複合位相差板]
図1は、本発明の複合位相差板の一例を模式的に示す概略断面図である。図1に示すように、複合位相差板5は、第1位相差層1と、第2位相差層2と、第1位相差層1と第2位相差層2とを接着する第1接着層4とを含む。第1接着層4は、以下の条件a,b,cの少なくとも一つを満たすものであり、以下の条件a,b,cの内二つを満たすものであることが好ましく、以下の条件a,b,cを全て満たすものであることがさらに好ましい。
a)厚み方向の突刺し傾きが400g/mm~800g/mmである、
b)温度30℃での貯蔵弾性率が600MPa以上である、
c)ガラス転移温度が60℃~200℃である。
Hereinafter, the composite retardation plate and optical laminate of the present invention will be explained with reference to the drawings.
[Composite retardation plate]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the composite retardation plate of the present invention. As shown in FIG. 1, the composite retardation plate 5 includes a first retardation layer 1, a second retardation layer 2, and a first adhesive bonding the first retardation layer 1 and the second retardation layer 2 together. layer 4. The first adhesive layer 4 satisfies at least one of the following conditions a, b, and c, and preferably satisfies two of the following conditions a, b, and c, and the following condition a. , b, and c are more preferable.
a) The piercing inclination in the thickness direction is 400 g/mm to 800 g/mm,
b) The storage modulus at a temperature of 30°C is 600 MPa or more,
c) Glass transition temperature is 60°C to 200°C.

第1接着層4が上記の条件aを満たす場合は、複合位相差板5が折れ曲がった際でも、屈曲部における第1位相差層1及び/又は第2位相差層2にシワが発生することを抑制することができる。第1接着層4が上記条件aを満たす場合は、さらに下記の条件a’を満たすものであることが好ましい。
a’)厚み方向の突刺し傾きが500g/mm~800g/mmである。
When the first adhesive layer 4 satisfies the above condition a, even when the composite retardation plate 5 is bent, wrinkles will not occur in the first retardation layer 1 and/or the second retardation layer 2 at the bent portions. can be suppressed. When the first adhesive layer 4 satisfies the above condition a, it is preferable that the first adhesive layer 4 also satisfies the following condition a'.
a') The piercing slope in the thickness direction is 500 g/mm to 800 g/mm.

第1接着層4の突刺し傾きは、接着層に対して突刺し治具を垂直に突刺し、接着層が裂けるときの強さを表す。突刺し傾きは、突刺し強度から算出することができ、突刺し強度は、例えば小型卓上試験機〔(株)島津製作所製の商品名“EZ Test”〕を用いて測定できる。 The piercing inclination of the first adhesive layer 4 represents the strength when the adhesive layer is torn when the piercing jig is perpendicularly piercing the adhesive layer. The puncture inclination can be calculated from the puncture strength, and the puncture strength can be measured using, for example, a small tabletop tester [trade name "EZ Test" manufactured by Shimadzu Corporation].

第1接着層4の突刺し強度は、第1接着層4の形成と同様の条件(接着剤の種類、厚み、硬化条件)で剥離紙上に接着層試験片を形成し、かかる接着層試験片を剥離紙から剥離したものについて下記の方法で測定する。 The puncture strength of the first adhesive layer 4 was determined by forming an adhesive layer test piece on a release paper under the same conditions as for the formation of the first adhesive layer 4 (type of adhesive, thickness, curing conditions). The sample is peeled off from the release paper and measured using the following method.

突刺し強度の測定は、突刺し治具が通過することができる直径15mm以下の円形の穴の開いた2枚のサンプル台の間に接着層を挟んで行われる。突刺し治具は、円柱状の棒であり、その接着層に接する先端が球形又は半球形である突刺し針を備えることが好ましい。先端の球形部又は半球形部は、直径が0.5mmφ以上であり、5mmφ以下であることが好ましい。また、その曲率半径が0Rよりも大きく、0.7Rよりも小さいことが好ましい。突刺し治具の突刺し速度は、0.05cm/秒以上であり、0.5cm/秒以下であることが好ましい。 The puncture strength is measured by sandwiching an adhesive layer between two sample stands each having a circular hole with a diameter of 15 mm or less through which a puncture jig can pass. It is preferable that the stabbing jig is a cylindrical rod and includes a stabbing needle whose tip contacting the adhesive layer is spherical or hemispherical. The diameter of the spherical or hemispherical portion at the tip is preferably 0.5 mmφ or more and 5 mmφ or less. Further, it is preferable that the radius of curvature is larger than 0R and smaller than 0.7R. The stabbing speed of the stabbing jig is preferably 0.05 cm/sec or more and 0.5 cm/sec or less.

突刺し強度の測定は、接着層試験片を治具に固定して突刺していき、一箇所裂けた際の強度を測定する。得られた突刺し強度A(kg)と、裂けるまでの突刺し深さB(mm)と、下記式:
E=A/B
を用いて厚み方向の突刺し傾きE(kg/mm)を算出する。接着層の突き刺し傾きは、同じ条件で作製した5個以上の接着層の突き刺し傾きEの平均値とする。
To measure the puncture strength, the adhesive layer test piece is fixed to a jig and punctured, and the strength is measured when it is torn at one point. The obtained puncture strength A (kg), the puncture depth B (mm) until tearing, and the following formula:
E=A/B
The piercing slope E (kg/mm) in the thickness direction is calculated using The puncture inclination of the adhesive layer is the average value of the puncture inclinations E of five or more adhesive layers produced under the same conditions.

第1接着層4が上記の条件bを満たす場合は、複合位相差板が折れ曲がった際でも、屈曲部における第1位相差層1及び/又は第2位相差層2にシワが発生することを抑制することができる。第1接着層4が上記条件bを満たす場合は、温度30℃における貯蔵弾性率は、600MPa~4000MPaであることが好ましく、700MPa~3500MPaであることがより好ましく、1000MPa~3000MPaであることがさらに好ましく、1500MPa~3000MPaであることが最も好ましい。 If the first adhesive layer 4 satisfies the above condition b, wrinkles will not occur in the first retardation layer 1 and/or the second retardation layer 2 at the bent portions even when the composite retardation plate is bent. Can be suppressed. When the first adhesive layer 4 satisfies the above condition b, the storage modulus at a temperature of 30°C is preferably 600 MPa to 4000 MPa, more preferably 700 MPa to 3500 MPa, and even more preferably 1000 MPa to 3000 MPa. Preferably, it is 1500 MPa to 3000 MPa, most preferably.

第1接着層4の温度30℃での貯蔵弾性率は、複合位相差板5における第1接着層4の温度30℃での貯蔵弾性率が下記の方法で直接測定できる場合はその測定値とし、直接測定できない場合は、第1接着層4の形成と同様の条件(接着剤の種類、厚み、硬化条件)で剥離紙上に接着層試験片を形成し、かかる接着層試験片を剥離紙から剥離したものについて下記の方法で測定した貯蔵弾性率と同じ値とみなすことができるものとする。 The storage elastic modulus of the first adhesive layer 4 at a temperature of 30°C is the measured value if the storage elastic modulus of the first adhesive layer 4 of the composite retardation plate 5 at a temperature of 30°C can be directly measured by the following method. If direct measurement is not possible, form an adhesive layer test piece on a release paper under the same conditions as for forming the first adhesive layer 4 (type of adhesive, thickness, curing conditions), and remove the adhesive layer test piece from the release paper. This value can be regarded as the same as the storage modulus measured by the method below for the peeled product.

第1接着層4又は接着層試験片の貯蔵弾性率は、市販の動的粘弾性測定装置によって測定することができ、例えば、動的粘弾性測定装置(アイティー計測制御株式会社製、製品名DVA-200)が挙げられる。 The storage modulus of the first adhesive layer 4 or the adhesive layer test piece can be measured using a commercially available dynamic viscoelasticity measuring device, such as a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by IT Keizai Control Co., Ltd., product name: DVA-200).

第1接着層4が上記条件cを満たす場合は、複合位相差板5が折れ曲がった際でも、屈曲部における第1位相差層1及び/又は第2位相差層2にシワが発生することを抑制することができる。第1接着層4が上記条件cを満たす場合は、さらに下記の条件c’を満たすものであることが好ましい。
c’)ガラス転移温度が100~200℃である。
When the first adhesive layer 4 satisfies the above condition c, even when the composite retardation plate 5 is bent, wrinkles are not generated in the first retardation layer 1 and/or the second retardation layer 2 at the bent portions. Can be suppressed. When the first adhesive layer 4 satisfies the above condition c, it is preferable that the first adhesive layer 4 also satisfies the following condition c'.
c') Glass transition temperature is 100 to 200°C.

第1接着層4のガラス転移温度は、次の方法により測定した値とする。第1接着層4のガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)によって測定することができる。なお、第1接着層4の形成と同様の条件(接着剤の種類、厚み、硬化条件)で剥離紙上に接着層試験片を形成し、かかる接着層試験片を剥離紙から剥離したものについて、上記方法により測定したガラス転移温度も、第1接着層4のガラス転移温度と同じとみなすことができる。 The glass transition temperature of the first adhesive layer 4 is a value measured by the following method. The glass transition temperature of the first adhesive layer 4 can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC). Note that an adhesive layer test piece was formed on a release paper under the same conditions as for the formation of the first adhesive layer 4 (type of adhesive, thickness, curing conditions), and the adhesive layer test piece was peeled from the release paper. The glass transition temperature measured by the above method can also be considered to be the same as the glass transition temperature of the first adhesive layer 4.

複合位相差板5には、例えば、複合位相差板5またはこれを含む光学積層体を、搬送、巻き取り等をする工程で、搬送ロールや巻取ロール等のロール状部材に接触することによって、または屈曲部を有する画像表示パネルの表面に配置されることによって、複合位相差板が折れ曲がった状態で保持されることがある。本発明の複合位相差板5によると、折れ曲がった状態であっても第1位相差層1及び/又は第2位相差層2にシワが発生するのを抑制することができる。 For example, the composite retardation plate 5 may be coated by contacting with a roll-shaped member such as a transport roll or a winding roll during the process of transporting, winding up, etc. the composite retardation plate 5 or an optical laminate including the same. Alternatively, the composite retardation plate may be held in a bent state by being placed on the surface of an image display panel having a bent portion. According to the composite retardation plate 5 of the present invention, it is possible to suppress the generation of wrinkles in the first retardation layer 1 and/or the second retardation layer 2 even in a bent state.

複合位相差板5の厚みは、薄型化の観点から、1μm~100μmであることが好ましく、1μm~50μmであることがさらに好ましく、2~50μmであることがより好ましい。
<第1位相差層及び第2位相差層>
第1位相差層1及び第2位相差層2は、光に所定の位相差を与える位相差発現層を少なくとも一つ含む位相差層であれば特に限定されず、例えば、1/2波長層、1/4波長層、ポジティブCプレート等の光学補償層であってもよく、逆波長分散性の位相差層であってもよい。特に、逆分散性の位相差層である場合は、いずれの波長においても光の透過が抑制されるため、反射防止性能を有する光学積層体として有効である。第1位相差層1及び第2位相差層2は、位相差発現層を少なとも一つ含むものであれば、位相差発現層のみからなるものであってもよいし、位相差発現層とともに他の層を含むものであってもよい。他の層としては、例えば、基材層、配向膜層、保護層等が挙げられる。なお、他の層は位相差の値には影響を及ぼさない。
The thickness of the composite retardation plate 5 is preferably from 1 μm to 100 μm, more preferably from 1 μm to 50 μm, and even more preferably from 2 μm to 50 μm, from the viewpoint of thinning.
<First retardation layer and second retardation layer>
The first retardation layer 1 and the second retardation layer 2 are not particularly limited as long as they include at least one retardation expressing layer that gives a predetermined retardation to light, and for example, a 1/2 wavelength layer. , a 1/4 wavelength layer, a positive C plate, or the like, or a retardation layer with reverse wavelength dispersion. In particular, in the case of a reverse dispersion retardation layer, transmission of light is suppressed at any wavelength, so it is effective as an optical laminate having antireflection performance. As long as the first retardation layer 1 and the second retardation layer 2 include at least one retardation layer, they may be composed of only a retardation layer, or may be composed of a retardation layer and a retardation layer. It may also include other layers. Examples of other layers include a base material layer, an alignment film layer, and a protective layer. Note that other layers do not affect the value of phase difference.

位相差発現層としては、液晶化合物を用いることにより形成される層(以下、「液晶層」という)、又は延伸フィルムが挙げられる。第1位相差層及び第2位相差層に含まれる位相差発現層は、複合位相差板の薄型化の観点から、少なくともいずれか一方は液晶層であることが好ましく、両方とも液晶層であることがさらに好ましい。液晶層である位相差発現層の方が、延伸フィルムである位相差発現層よりも、一般的に薄膜化が容易である。
第1位相差層1及び第2位相差層2は、それぞれ厚さが0.5μm~10μmであることが好ましく、0.5μm~5μmであることがより好ましい。なお、第1位相差層1及び第2位相差層がそれぞれ位相差発現層以外の他の層(基材層、配向膜層、保護層等)を含む場合、全体の厚みが0.5μm~300μmであることが好ましく、0.5μm~150μmであることがより好ましい。
Examples of the retardation layer include a layer formed using a liquid crystal compound (hereinafter referred to as "liquid crystal layer") or a stretched film. From the viewpoint of reducing the thickness of the composite retardation plate, at least one of the retardation layers included in the first retardation layer and the second retardation layer is preferably a liquid crystal layer, and both are liquid crystal layers. It is even more preferable. It is generally easier to make a retardation layer that is a liquid crystal layer thinner than a retardation layer that is a stretched film.
The thickness of each of the first retardation layer 1 and the second retardation layer 2 is preferably 0.5 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 5 μm. In addition, when the first retardation layer 1 and the second retardation layer each include other layers (base material layer, alignment film layer, protective layer, etc.) other than the retardation expressing layer, the total thickness is 0.5 μm or more. The thickness is preferably 300 μm, more preferably 0.5 μm to 150 μm.

第1位相差層1及び第2位相差層2の厚さが薄いほど、複合位相差板が折れ曲がった場合に、複合位相差板の屈曲部において、第1位相差層1及び第2位相差層2にシワが発生しやすくなるが、本発明の複合位相差板によると、第1位相差層1及び第2位相差層2が上記のように5μm以下と薄い場合であっても、シワの発生を抑制することができる。 As the thickness of the first retardation layer 1 and the second retardation layer 2 is thinner, when the composite retardation plate is bent, the first retardation layer 1 and the second retardation layer Although wrinkles are likely to occur in the layer 2, according to the composite retardation plate of the present invention, even if the first retardation layer 1 and the second retardation layer 2 are as thin as 5 μm or less as described above, wrinkles will not occur. The occurrence of can be suppressed.

本発明の複合位相差板における第1位相差層1と第2位相差層2との組み合わせとしては、例えば、
i)1/2波長層と、1/4波長層との組み合わせ、
ii)1/2波長層と、光学補償層との組み合わせ、
iii)1/4波長層と、光学補償層との組み合わせ、
iv)逆波長分散性1/4波長層と、光学補償層との組み合わせ、
等が挙げられる。
Examples of the combination of the first retardation layer 1 and the second retardation layer 2 in the composite retardation plate of the present invention include:
i) combination of 1/2 wavelength layer and 1/4 wavelength layer,
ii) combination of a 1/2 wavelength layer and an optical compensation layer,
iii) a combination of a quarter wavelength layer and an optical compensation layer,
iv) combination of a reverse wavelength dispersion 1/4 wavelength layer and an optical compensation layer,
etc.

1/2波長層は、入射光の電界振動方向(偏光面)にπ(=λ/2)の位相差を与えるものであり、直線偏光の向き(偏光方位)を変える機能を有している。また、円偏光の光を入射させると、円偏光の回転方向を反対回りにすることができる。 The 1/2 wavelength layer gives a phase difference of π (=λ/2) to the electric field vibration direction (polarization plane) of the incident light, and has the function of changing the direction of linearly polarized light (polarization direction). . Furthermore, when circularly polarized light is incident, the direction of rotation of the circularly polarized light can be reversed.

1/2波長層は、特定の波長λnmにおける面内レターデーション値であるRe(λ)がRe(λ)=λ/2を満足する層である。可視光域の何れの波長においてRe(λ)=λ/2を達成されていてもよいが、なかでも波長550nmにおいて達成されることが好ましい。波長550nmにおける面内レターデーション値であるRe(550)は、210nm≦Re(550)≦300nmを満足することが好ましい。また、220nm≦Re(550)≦290nmを満足することがより好ましい。 The 1/2 wavelength layer is a layer in which Re(λ), which is an in-plane retardation value at a specific wavelength λnm, satisfies Re(λ)=λ/2. Although Re(λ)=λ/2 may be achieved at any wavelength in the visible light range, it is preferably achieved at a wavelength of 550 nm. It is preferable that Re (550), which is an in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm, satisfies 210 nm≦Re (550)≦300 nm. Further, it is more preferable to satisfy 220 nm≦Re(550)≦290 nm.

波長550nmで測定した1/2波長層の厚み方向のレターデーション値であるRth(550)は、-150~150nmであることが好ましく、-100~100nmであることがより好ましい。 Rth (550), which is the retardation value in the thickness direction of the 1/2 wavelength layer measured at a wavelength of 550 nm, is preferably -150 to 150 nm, more preferably -100 to 100 nm.

1/4波長層は、入射光の電界振動方向(偏光面)にπ/2(=λ/4)の位相差を与えるものであり、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に(又は円偏光を直線偏光に)変換する機能を有している。 The 1/4 wavelength layer gives a phase difference of π/2 (=λ/4) to the electric field vibration direction (polarization plane) of the incident light, and converts linearly polarized light of a certain wavelength into circularly polarized light (or circularly polarized light). It has the function of converting polarized light into linearly polarized light.

1/4波長層は、特定の波長λnmにおける面内レターデーション値であるRe(λ)がRe(λ)=λ/4を満足する層であり、可視光域の何れかの波長において達成されていてもよいが、波長550nmで達成されることが好ましい。波長550nmにおける面内レターデーション値であるRe(550)が、100nm≦Re(550)≦160nmを満足することが好ましい。また、110nm≦Re(550)≦150nmを満足することがより好ましい。 The 1/4 wavelength layer is a layer in which the in-plane retardation value Re (λ) at a specific wavelength λ nm satisfies Re (λ) = λ/4, and is achieved at any wavelength in the visible light range. However, it is preferable to achieve the wavelength of 550 nm. It is preferable that Re (550), which is an in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm, satisfies 100 nm≦Re (550)≦160 nm. Further, it is more preferable to satisfy 110 nm≦Re(550)≦150 nm.

波長550nmで測定したλ/4波長層の厚み方向のレターデーション値であるRth(550)は、-120~120nmであることが好ましく、-80~80nmであることがより好ましい。 Rth (550), which is the retardation value in the thickness direction of the λ/4 wavelength layer measured at a wavelength of 550 nm, is preferably -120 to 120 nm, more preferably -80 to 80 nm.

光学補償層としては、例えば、ポジティブAプレート、ポジティブCプレート等が挙げられる。ポジティブAプレートは、その面内における遅相軸方向の屈折率をNx、その面内における進相軸方向の屈折率をNy、その厚み方向における屈折率をNzとしたときに、Nx>Nyの関係を満足するものである。ポジティブAプレートは、Nx>Ny≧Nzの関係を満足することが好ましい。また、ポジティブAプレートは1/4波長層としても機能することができる。ポジティブCプレートは、Nz>Nx≧Nyの関係を満足するものである。 Examples of the optical compensation layer include a positive A plate and a positive C plate. A positive A plate satisfies Nx>Ny, where the refractive index in the slow axis direction in the plane is Nx, the refractive index in the fast axis direction in the plane is Ny, and the refractive index in the thickness direction is Nz. It satisfies the relationship. The positive A plate preferably satisfies the relationship Nx>Ny≧Nz. The positive A plate can also function as a quarter wavelength layer. A positive C plate satisfies the relationship Nz>Nx≧Ny.

逆波長分散性とは、短波長での液晶配向面内位相差値の方が長波長での液晶配向面内位相差値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、下記式(a):
Re(450)≦Re(550)≦Re(650) (a)
を満たすことである。なお、Re(λ)は波長λnmの光に対する面内位相差値を表す。
Reverse wavelength dispersion is an optical property in which the liquid crystal alignment in-plane retardation value at a short wavelength is smaller than the liquid crystal alignment in-plane retardation value at a long wavelength, and is preferably expressed by the following formula (a):
Re(450)≦Re(550)≦Re(650) (a)
It is to satisfy the following. Note that Re(λ) represents an in-plane retardation value for light with a wavelength of λ nm.

位相差層の光学特性は、位相差発現層を構成する液晶化合物の配向状態、又は位相差発現層を構成する延伸フィルムの延伸方法により調節することができる。位相差層の光学特性を適宜調節することにより、複合位相差板5と偏光板とを積層して、反射防止性能を有する光学積層体を得ることができる。本明細書でいうところの光学積層体は、偏光板と複合位相差板5とが積層されてなるものであり、複合位相差板5は第1位相差層1が偏光板側に位置する向きで積層されているものとする。同じ複合位相差板5を用いた場合であっても、複合位相差板5の積層の向きが逆転すると、通常光学積層体の光学特性が異なる。 The optical properties of the retardation layer can be adjusted by the orientation state of the liquid crystal compound constituting the retardation layer or the stretching method of the stretched film constituting the retardation layer. By appropriately adjusting the optical properties of the retardation layer, the composite retardation plate 5 and the polarizing plate can be laminated to obtain an optical laminate having antireflection performance. The optical laminate referred to in this specification is formed by laminating a polarizing plate and a composite retardation plate 5, and the composite retardation plate 5 is oriented such that the first retardation layer 1 is located on the polarizing plate side. It is assumed that they are laminated. Even when the same composite retardation plate 5 is used, if the stacking direction of the composite retardation plate 5 is reversed, the optical properties of the optical laminate usually differ.

(液晶層から形成される位相差発現層)
位相差発現層が液晶層である場合について説明する。図2は、液晶層である位相差発現層と他の層とを含む位相差層の一例を模式的に示す概略断面図である。図2に示すように、位相差層30は、基材層31、配向層32、液晶層である位相差発現層33がこの順に積層されてなる。位相差層は、液晶層の位相差発現層33を含む構成であれば図2に示す位相差層30に限定されることはなく、位相差層30から基材層31が剥離されて配向層32と位相差発現層33のみからなる構成であってもよく、位相差層30から基材層31と配向層32が剥離されて液晶層の位相差発現層33のみからなる構成であってもよい。
薄膜化の観点から、位相差層は、基材層31が剥離されている構成であることが好ましく、液晶層の位相差発現層33のみからなる構成がさらに好ましい。基材層31は、基材層31上に形成される配向層32、及び液晶層の位相差発現層33を支持する支持層として機能を有する。基材層31は、樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。
(Retardation layer formed from liquid crystal layer)
A case where the retardation layer is a liquid crystal layer will be described. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of a retardation layer including a retardation expression layer, which is a liquid crystal layer, and other layers. As shown in FIG. 2, the retardation layer 30 includes a base material layer 31, an alignment layer 32, and a retardation layer 33, which is a liquid crystal layer, laminated in this order. The retardation layer is not limited to the retardation layer 30 shown in FIG. 2 as long as it includes the retardation expression layer 33 of the liquid crystal layer, and the base material layer 31 is peeled off from the retardation layer 30 to form an alignment layer. 32 and the retardation layer 33, or a structure in which the base layer 31 and the alignment layer 32 are peeled off from the retardation layer 30 and only the retardation layer 33 of the liquid crystal layer is formed. good.
From the viewpoint of thinning the layer, the retardation layer preferably has a structure in which the base layer 31 is peeled off, and more preferably a structure in which only the retardation layer 33 of the liquid crystal layer is formed. The base layer 31 functions as a support layer that supports the alignment layer 32 formed on the base layer 31 and the retardation layer 33 of the liquid crystal layer. The base layer 31 is preferably a film made of a resin material.

樹脂材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、延伸性等に優れる樹脂材料が用いられる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂;ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸メチル等の(メタ)アクリル酸系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂;ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルケトン系樹脂;ポリフェニレンスルフィド系樹脂;ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等を挙げることができる。これらの樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び(メタ)アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。なお、上記「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種」を意味する。 As the resin material, for example, a resin material having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, stretchability, etc. is used. Specifically, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; cyclic polyolefin resins such as norbornene polymers; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; (meth)acrylic acid, poly(meth)methyl acrylate, etc. (meth)acrylic acid resins; cellulose ester resins such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellulose acetate propionate; vinyl alcohol resins such as polyvinyl alcohol and polyvinyl acetate; polycarbonate resins; polystyrene resins; Arylate resins; polysulfone resins; polyethersulfone resins; polyamide resins; polyimide resins; polyetherketone resins; polyphenylene sulfide resins; polyphenylene oxide resins, and mixtures and copolymers thereof. I can do it. Among these resins, it is preferable to use any one of a cyclic polyolefin resin, a polyester resin, a cellulose ester resin, and a (meth)acrylic acid resin, or a mixture thereof. In addition, the above-mentioned "(meth)acrylic acid" means "at least one kind of acrylic acid and methacrylic acid."

基材層31は、上記の樹脂1種類又は2種以上を混合した単層であってもよく、2層以上の多層構造を有していてもよい。多層構造を有する場合、各層をなす樹脂は同じであってもよく異なっていてもよい。 The base material layer 31 may be a single layer made of one or more of the above resins, or may have a multilayer structure of two or more layers. When having a multilayer structure, the resins forming each layer may be the same or different.

樹脂フィルムをなす樹脂材料には、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。 Arbitrary additives may be added to the resin material forming the resin film. Examples of additives include ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, plasticizers, mold release agents, color inhibitors, flame retardants, nucleating agents, antistatic agents, pigments, and colorants.

基材層31の厚さは、特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の点から5~200μmであることが好ましく、10~200μmであることがより好ましく、10~150μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the base material layer 31 is not particularly limited, but generally from the viewpoint of workability such as strength and handleability, it is preferably 5 to 200 μm, more preferably 10 to 200 μm, and 10 to 150 μm. It is even more preferable that there be.

基材層31と配向層32との密着性を向上させるために、少なくとも基材層31の配向層32が形成される側の表面にコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を形成してもよい。なお、基材層31、又は基材層31及び配向層32を剥離して位相差層とする場合には、剥離界面での密着力を調整することによって剥離を容易とすることができる。 In order to improve the adhesion between the base layer 31 and the alignment layer 32, at least the surface of the base layer 31 on the side where the alignment layer 32 is formed may be subjected to corona treatment, plasma treatment, flame treatment, etc. A primer layer or the like may also be formed. Note that when the base material layer 31 or the base material layer 31 and the alignment layer 32 are peeled off to form a retardation layer, the peeling can be facilitated by adjusting the adhesion force at the peeling interface.

配向層32は、これらの配向層32上に形成される液晶層の位相差発現層33に含まれる液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有する。配向層32としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ(溝)を有するグルブ配向層を挙げることができる。配向層32の厚みは、通常0.01~10μmであり、0.01~5μmであることが好ましい。 The alignment layer 32 has an alignment regulating force that causes the liquid crystal compound contained in the retardation layer 33 of the liquid crystal layer formed on the alignment layer 32 to align the liquid crystal in a desired direction. Examples of the alignment layer 32 include an alignment polymer layer formed of an alignment polymer, a photoalignment polymer layer formed of a photoalignment polymer, and a groove alignment layer having an uneven pattern or a plurality of grooves on the layer surface. be able to. The thickness of the alignment layer 32 is usually 0.01 to 10 μm, preferably 0.01 to 5 μm.

配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材層31に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理をして形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層では、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。 The oriented polymer layer can be formed by applying a composition in which an oriented polymer is dissolved in a solvent to the base material layer 31, removing the solvent, and performing a rubbing treatment if necessary. In this case, in an oriented polymer layer formed of an oriented polymer, the alignment regulating force can be arbitrarily adjusted by adjusting the surface condition of the oriented polymer and rubbing conditions.

光配向性ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物を基材層31に塗布し、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向性ポリマー層では、光配向性ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。 The photo-alignable polymer layer can be formed by applying a composition containing a polymer having a photo-reactive group or a monomer and a solvent to the base layer 31, and irradiating it with polarized light. In this case, the alignment regulating force in the photo-alignable polymer layer can be arbitrarily adjusted by adjusting the polarized light irradiation conditions for the photo-alignable polymer.

グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材層31に転写して硬化する方法、基材層31に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。 The groove alignment layer can be formed, for example, by exposing and developing the surface of a photosensitive polyimide film through an exposure mask having pattern-shaped slits to form a concavo-convex pattern, or by applying activation to a plate-shaped master having grooves on the surface. A method of forming an uncured layer of an energy ray curable resin, transferring this layer to the base material layer 31 and curing it, forming an uncured layer of an active energy ray curable resin on the base material layer 31, The layer can be formed by a method of forming irregularities by pressing a roll-shaped master having irregularities on the layer and curing the layer.

液晶層である位相差発現層33は、光に所定の位相差を与えるものであれば特に限定されず、例えば、1/2波長層用の位相差発現層、1/4波長層用の位相差発現層、ポジティブCプレートなどの光学補償層用の位相差発現層、逆波長分散性1/4波長層用の位相差発現層として機能するものを挙げることができる。 The retardation developing layer 33, which is a liquid crystal layer, is not particularly limited as long as it gives a predetermined retardation to light. Examples include those that function as a retardation expression layer, a retardation expression layer for an optical compensation layer such as a positive C plate, and a retardation expression layer for a reverse wavelength dispersion 1/4 wavelength layer.

液晶層である位相差発現層33は、公知の液晶化合物を用いて形成することができる。
液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。また、液晶化合物は、高分子液晶化合物であってもよく、重合性液晶化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報、特開2005-289980号公報、特開2007-108732号公報、特開2010-244038号公報、特開2010-31223号公報、特開2010-270108号公報、特開2011-6360号公報、特開2011-207765号公報、特開2016-81035号公報、国際公開第2017/043438号及び特表2011-207765号公報に記載の液晶化合物が挙げられる。
The retardation expression layer 33, which is a liquid crystal layer, can be formed using a known liquid crystal compound.
The type of liquid crystal compound is not particularly limited, and rod-like liquid crystal compounds, discotic liquid crystal compounds, and mixtures thereof can be used. Further, the liquid crystal compound may be a polymeric liquid crystal compound, a polymerizable liquid crystal compound, or a mixture thereof. Examples of liquid crystal compounds include, for example, Japanese Patent Publication No. 11-513019, Japanese Patent Application Publication No. 2005-289980, Japanese Patent Application Publication No. 2007-108732, Japanese Patent Application Publication No. 2010-244038, Japanese Patent Application Publication No. 2010-31223, and Japanese Patent Application Publication No. 2010-31223. Liquid crystal compounds described in JP 2010-270108, JP 2011-6360, JP 2011-207765, JP 2016-81035, International Publication No. 2017/043438, and Japanese Patent Publication No. 2011-207765 can be mentioned.

例えば、重合性液晶化合物を用いる場合には、重合性液晶化合物を含む組成物を、配向層32上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって、位相差発現層33を形成することができる。位相差発現層33の厚みは、0.5μm~10μmであることが好ましく、0.5~5μmであることがさらに好ましい。 For example, when using a polymerizable liquid crystal compound, a composition containing the polymerizable liquid crystal compound is applied onto the alignment layer 32 to form a coating film, and this coating film is cured to form the retardation developing layer 33. can be formed. The thickness of the retardation layer 33 is preferably 0.5 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 5 μm.

重合性液晶化合物を含む組成物は、液晶化合物以外に、重合開始剤、重合性モノマー、界面活性剤、溶剤、密着改良剤、可塑剤、配向剤等が含まれていてもよい。重合性液晶化合物を含む組成物の塗布方法としては、ダイコーティング法等の公知の方法が挙げられる。重合性液晶化合物を含む組成物の硬化方法としては、活性エネルギー線(例えば紫外線)を照射する等の公知の方法が挙げられる。 In addition to the liquid crystal compound, the composition containing the polymerizable liquid crystal compound may contain a polymerization initiator, a polymerizable monomer, a surfactant, a solvent, an adhesion improver, a plasticizer, an alignment agent, and the like. Examples of the method for applying the composition containing the polymerizable liquid crystal compound include known methods such as die coating. As a method for curing a composition containing a polymerizable liquid crystal compound, known methods such as irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays) can be mentioned.

(延伸フィルムを位相差発現層として備える位相差層)
位相差発現層が延伸フィルムである場合について説明する。延伸フィルムは通常、基材を延伸することで得られる。基材を延伸する方法としては、例えば、基材がロールに巻き取られているロール(巻き取り体)を準備し、かかる巻き取り体から、基材を連続的に巻き出し、巻き出された基材を加熱炉へと搬送する。加熱炉の設定温度は、基材のガラス転移温度近傍(℃)~[ガラス転移温度+100](℃)の範囲、好ましくは、ガラス転移温度近傍(℃)~[ガラス転移温度+50](℃)の範囲とする。当該加熱炉においては、基材の進行方向へ、又は進行方向と直交する方向へ延伸する際に、搬送方向や張力を調整し任意の角度に傾斜をつけて一軸又は二軸の熱延伸処理を行う。延伸の倍率は、通常1.1~6倍であり、好ましくは1.1~3.5倍である。
(Retardation layer comprising a stretched film as a retardation expression layer)
A case where the retardation developing layer is a stretched film will be explained. Stretched films are usually obtained by stretching a base material. As a method for stretching the base material, for example, a roll (rolled body) in which the base material is wound onto a roll is prepared, and the base material is continuously unwound from the rolled body. Transport the substrate to a heating furnace. The temperature setting of the heating furnace is in the range of around the glass transition temperature of the substrate (°C) to [glass transition temperature +100] (°C), preferably around the glass transition temperature (°C) to [glass transition temperature +50] (°C). The range shall be . In the heating furnace, when stretching the base material in the direction of travel or in a direction perpendicular to the direction of travel, uniaxial or biaxial hot stretching is performed by adjusting the conveyance direction and tension and tilting it at an arbitrary angle. conduct. The stretching ratio is usually 1.1 to 6 times, preferably 1.1 to 3.5 times.

また、斜め方向に延伸する方法としては、連続的に配向軸を所望の角度に傾斜させることができるものであれば、特に限定されず、公知の延伸方法が採用できる。このような延伸方法は例えば、特開昭50-83482号公報や特開平2-113920号公報に記載された方法を挙げることができる。延伸することでフィルムに位相差性を付与する場合、延伸後の厚みは、延伸前の厚みや延伸倍率によって決定される。 Further, the method for stretching in the diagonal direction is not particularly limited as long as the orientation axis can be continuously tilted at a desired angle, and any known stretching method can be employed. Examples of such stretching methods include the methods described in JP-A-50-83482 and JP-A-2-113920. When imparting retardation properties to a film by stretching, the thickness after stretching is determined by the thickness before stretching and the stretching ratio.

前記基材は通常透明基材である。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、波長380~780nmにわたる光線に対しての透過率が80%以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、透光性樹脂基材が挙げられる。透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン;ノルボルネン系ポリマーなどの環状オレフィン系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート;ポリメタクリル酸エステル;ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂またはポリカーボネートが好ましい。 The substrate is usually a transparent substrate. Transparent substrate refers to a substrate that has transparency that allows light, particularly visible light, to pass through, and transparency refers to the property that the transmittance for light rays with a wavelength of 380 to 780 nm is 80% or more. say. A specific example of the transparent base material is a translucent resin base material. Examples of resins constituting the translucent resin base material include polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cyclic olefin resins such as norbornene polymers; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalate; polymethacrylate ester; polyacrylate ester; triacetyl cellulose; Cellulose esters such as diacetyl cellulose and cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyether sulfone; polyether ketone; polyphenylene sulfide and polyphenylene oxide. From the viewpoint of availability and transparency, polyethylene terephthalate, polymethacrylate, cellulose ester, cyclic olefin resin, or polycarbonate are preferred.

セルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の一部または全部が、エステル化されたものであり、市場から容易に入手することができる。また、セルロースエステル基材も市場から容易に入手することができる。市販のセルロースエステル基材としては、例えば、“フジタック(登録商標)フィルム”(富士フイルム(株));“KC8UX2M”、“KC8UY”及び“KC4UY”(コニカミノルタオプト(株))などが挙げられる。 Cellulose ester is obtained by esterifying some or all of the hydroxyl groups contained in cellulose, and can be easily obtained from the market. Furthermore, cellulose ester base materials are also easily available on the market. Commercially available cellulose ester base materials include, for example, "Fujitac (registered trademark) film" (Fuji Film Co., Ltd.); "KC8UX2M", "KC8UY", and "KC4UY" (Konica Minolta Opto Co., Ltd.). .

ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステル(以下、ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステルをまとめて(メタ)アクリル系樹脂ということがある。)は、市場から容易に入手できる。 Polymethacrylic esters and polyacrylic esters (hereinafter, polymethacrylic esters and polyacrylic esters may be collectively referred to as (meth)acrylic resins) are easily available on the market.

(メタ)アクリル系樹脂としては、例えば、メタクリル酸アルキルエステル又はアクリル酸アルキルエステルの単独重合体や、メタクリル酸アルキルエステルとアクリル酸アルキルエステルとの共重合体などが挙げられる。メタクリル酸アルキルエステルとして具体的には、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレートなどが、またアクリル酸アルキルエステルとして具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレートなどがそれぞれ挙げられる。かかる(メタ)アクリル系樹脂には、汎用の(メタ)アクリル系樹脂として市販されているものが使用できる。(メタ)アクリル系樹脂として、耐衝撃(メタ)アクリル樹脂と呼ばれるものを使用してもよい。 Examples of the (meth)acrylic resin include a homopolymer of an alkyl methacrylate or an alkyl acrylate, a copolymer of an alkyl methacrylate and an alkyl acrylate, and the like. Specific examples of methacrylic acid alkyl esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and propyl methacrylate, and specific examples of acrylic acid alkyl esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, and the like. As the (meth)acrylic resin, commercially available general-purpose (meth)acrylic resins can be used. As the (meth)acrylic resin, what is called an impact-resistant (meth)acrylic resin may be used.

さらなる機械的強度向上のために、(メタ)アクリル系樹脂にゴム粒子を含有させることも好ましい。ゴム粒子は、アクリル系のものが好ましい。ここで、アクリル系ゴム粒子とは、ブチルアクリレートや2-エチルヘキシルアクリレートのようなアクリル酸アルキルエステルを主成分とするアクリル系モノマーを、多官能モノマーの存在下に重合させて得られるゴム弾性を有する粒子である。アクリル系ゴム粒子は、このようなゴム弾性を有する粒子が単層で形成されたものであってもよいし、ゴム弾性層を少なくとも一層有する多層構造体であってもよい。多層構造のアクリル系ゴム粒子としては、上記のようなゴム弾性を有する粒子を核とし、その周りを硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体で覆ったもの、硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体を核とし、その周りを上記のようなゴム弾性を有するアクリル系重合体で覆ったもの、また硬質の核の周りをゴム弾性のアクリル系重合体で覆い、さらにその周りを硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体で覆ったものなどが挙げられる。弾性層で形成されるゴム粒子は、その平均直径が通常50~400nm程度の範囲にある。 In order to further improve the mechanical strength, it is also preferable that the (meth)acrylic resin contains rubber particles. The rubber particles are preferably acrylic. Here, the acrylic rubber particles have rubber elasticity obtained by polymerizing an acrylic monomer mainly composed of an acrylic acid alkyl ester such as butyl acrylate or 2-ethylhexyl acrylate in the presence of a polyfunctional monomer. It is a particle. The acrylic rubber particles may be formed of a single layer of particles having such rubber elasticity, or may be a multilayer structure having at least one rubber elastic layer. Acrylic rubber particles with a multilayer structure include those in which a particle having rubber elasticity as described above is the core and the surrounding area is covered with a hard alkyl methacrylate ester polymer; A core with a rubber-elastic acrylic polymer surrounding it, or a hard core with a rubber-elastic acrylic polymer and a hard alkyl methacrylate ester surrounding it. Examples include those covered with a polymer. The average diameter of the rubber particles formed in the elastic layer is usually in the range of about 50 to 400 nm.

(メタ)アクリル系樹脂におけるゴム粒子の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂100質量部あたり、通常5~50質量部程度である。(メタ)アクリル系樹脂及びアクリル系ゴム粒子は、それらを混合した状態で市販されているので、その市販品を用いることができる。アクリル系ゴム粒子が配合された(メタ)アクリル系樹脂の市販品の例として、住友化学(株)から販売されている“HT55X”や“テクノロイS001”などが挙げられる。“テクノロイ S001”は、フィルムの形で販売されている。 The content of rubber particles in the (meth)acrylic resin is usually about 5 to 50 parts by mass per 100 parts by mass of the (meth)acrylic resin. (Meth)acrylic resin and acrylic rubber particles are commercially available in a mixed state, so commercially available products can be used. Examples of commercially available (meth)acrylic resins containing acrylic rubber particles include "HT55X" and "Technolloy S001" sold by Sumitomo Chemical Co., Ltd. “Technoloy S001” is sold in film form.

環状オレフィン系樹脂は、市場から容易に入手できる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Topas”(登録商標)[Ticona社(独)]、“アートン”(登録商標)[JSR(株)]、“ゼオノア(ZEONOR)”(登録商標)[日本ゼオン(株)]、“ゼオネックス(ZEONEX)”(登録商標)[日本ゼオン(株)]および“アペル”(登録商標)[三井化学(株)]が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、例えば、溶剤キャスト法、溶融押出法などの公知の手段により製膜して、基材とすることができる。また、市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”(登録商標)[積水化学工業(株)]、“SCA40”(登録商標)[積水化学工業(株)]、“ゼオノアフィルム”(登録商標)[オプテス(株)]および“アートンフィルム”(登録商標)[JSR(株)]が挙げられる。 Cyclic olefin resins are easily available on the market. Commercially available cyclic olefin resins include “Topas” (registered trademark) [Ticona (Germany)], “Arton” (registered trademark) [JSR Corporation], and “ZEONOR” (registered trademark) [Japan Zeon Co., Ltd.], “ZEONEX” (registered trademark) [Nippon Zeon Co., Ltd.], and “APEL” (registered trademark) [Mitsui Chemicals Co., Ltd.]. Such a cyclic olefin resin can be formed into a film by a known method such as a solvent casting method or a melt extrusion method to form a base material. Moreover, a commercially available cyclic olefin resin base material can also be used. Commercially available cyclic olefin resin base materials include “Escina” (registered trademark) [Sekisui Chemical Co., Ltd.], “SCA40” (registered trademark) [Sekisui Chemical Co., Ltd.], and “Zeonor Film” (registered trademark). ) [Optes Co., Ltd.] and "Arton Film" (registered trademark) [JSR Co., Ltd.].

環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル基を有する芳香族化合物との共重合体である場合、環状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常50モル%以下、好ましくは15~50モル%の範囲である。鎖状オレフィンとしては、エチレンおよびプロピレンが挙げられ、ビニル基を有する芳香族化合物としては、スチレン、α-メチルスチレンおよびアルキル置換スチレンが挙げられる。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル基を有する芳香族化合物との三元共重合体である場合、鎖状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常5~80モル%であり、ビニル基を有する芳香族化合物に由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常5~80モル%である。このような三元共重合体は、その製造において、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。 When the cyclic olefin resin is a copolymer of a cyclic olefin and a chain olefin or an aromatic compound having a vinyl group, the content ratio of structural units derived from the cyclic olefin is based on the total structural units of the copolymer. On the other hand, the amount is usually 50 mol% or less, preferably in the range of 15 to 50 mol%. Examples of chain olefins include ethylene and propylene, and examples of aromatic compounds having a vinyl group include styrene, α-methylstyrene, and alkyl-substituted styrene. When the cyclic olefin resin is a terpolymer of a cyclic olefin, a chain olefin, and an aromatic compound having a vinyl group, the content ratio of structural units derived from the chain olefin is The content of structural units derived from aromatic compounds having vinyl groups is usually 5 to 80 mol% based on the total structural units of the copolymer. It is. Such a terpolymer has the advantage that a relatively small amount of expensive cyclic olefin can be used in its production.

<第1接着層>
第1接着層4は、上記した条件a,b,cの少なくとも一つを満たすものであれば、特に限定されることはなく、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤及びこれらの組み合わせから形成することができる。この中でも、第1接着層4は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層であることにより、上記した条件a,b,cの少なくとも一つを満たす第1接着層4を得やすくなるので好ましい。第1接着層4は、厚さが0.1μm~50μmであることが好ましく、0.1μm~10μmであることがより好ましく、0.5μm~5μmであることがさらに好ましい。
<First adhesive layer>
The first adhesive layer 4 is not particularly limited as long as it satisfies at least one of the conditions a, b, and c described above, and includes, for example, a water-based adhesive, an active energy ray-curable adhesive, and any of these Can be formed from a combination. Among these, since the first adhesive layer 4 is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive, it becomes easier to obtain the first adhesive layer 4 that satisfies at least one of the above-mentioned conditions a, b, and c. preferable. The thickness of the first adhesive layer 4 is preferably 0.1 μm to 50 μm, more preferably 0.1 μm to 10 μm, and even more preferably 0.5 μm to 5 μm.

活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線の照射を受けて硬化するものであり、上記した条件a,b,cの少なくとも一つを満たす第1接着層4を形成することができるものであれば限定されない。例えば、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物のようなカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物のようなラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、そこにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を配合した活性エネルギー線硬化型接着剤、及び開始剤を含まない活性エネルギー線硬化型接着剤に電子ビームを照射することで硬化させる電子線硬化型接着剤等が挙げられる。好ましくは、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤である。また、実質的に無溶剤で使用できる、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。 The active energy ray-curable adhesive is one that is cured by irradiation with active energy rays, and is capable of forming the first adhesive layer 4 that satisfies at least one of the conditions a, b, and c described above. There are no limitations. For example, a cationically polymerizable active energy ray-curable adhesive containing an epoxy compound and a cationic polymerization initiator, a radically polymerizable active energy ray-curable adhesive containing an acrylic curing component and a radical polymerization initiator, and an epoxy compound. An active energy ray-curable adhesive containing both a cationic polymerizable curing component such as and a radically polymerizable curing component such as an acrylic compound, and a cationic polymerization initiator and a radical polymerization initiator blended therein; and an electron beam curable adhesive that is cured by irradiating an active energy ray curable adhesive that does not contain an initiator with an electron beam. Preferably, it is a radically polymerizable active energy ray-curable adhesive containing an acrylic curing component and a radical polymerization initiator. Further, a cationically polymerizable active energy ray-curable adhesive containing an epoxy compound and a cationic polymerization initiator, which can be used substantially without solvent, is preferred.

カチオン重合可能なエポキシ化合物であって、それ自身が室温において液体であり、溶剤を存在させなくても適度な流動性を有し、適切な硬化接着強度を与えるものを選択し、それに適したカチオン重合開始剤を配合した活性エネルギー線硬化型接着剤は、複合位相差板の製造設備において、第1位相差層と第2位相差層とを接着する工程で通常必要となる乾燥設備を省くことができる。また、適切な活性エネルギー線量を照射することで硬化速度を促進させ、生産速度を向上させることもできる。 Select a cationically polymerizable epoxy compound that is itself liquid at room temperature, has appropriate fluidity even in the absence of a solvent, and provides appropriate cured adhesive strength, and uses a suitable cation. The active energy ray-curable adhesive containing a polymerization initiator can omit the drying equipment normally required in the process of bonding the first retardation layer and the second retardation layer in the manufacturing equipment for composite retardation plates. I can do it. Furthermore, by irradiating with an appropriate dose of active energy, the curing speed can be accelerated and the production speed can be improved.

このような接着剤に用いられるエポキシ化合物は、例えば、水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物、アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物、C-C二重結合を有する鎖状化合物のエポキシ化物、飽和炭素環に直接若しくはアルキレンを介してグリシジルオキシ基若しくはエポキシエチル基が結合しているか、又は飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物などであることができる。これらのエポキシ化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、異なる複数種を併用してもよい。なかでも脂環式エポキシ化合物は、カチオン重合性に優れることから、好ましく用いられる。 Epoxy compounds used in such adhesives include, for example, glycidyl ethers of aromatic compounds or chain compounds having hydroxyl groups, glycidyl aminations of compounds having amino groups, and chain compounds having C-C double bonds. epoxides, glycidyloxy or epoxyethyl groups are bonded directly to saturated carbocycles or via alkylene, or alicyclic epoxy compounds in which epoxy groups are bonded directly to saturated carbocycles. can. These epoxy compounds may be used alone or in combination of different types. Among them, alicyclic epoxy compounds are preferably used because they have excellent cationic polymerizability.

水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物は、例えば、これら芳香族化合物又は鎖状化合物の水酸基にエピクロロヒドリンを塩基性条件下で付加縮合させる方法によって製造できる。このような、水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物には、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル、多芳香環型エポキシ樹脂、アルキレングリコール又はポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテルなどが包含される。 A glycidyl etherified product of an aromatic compound or a chain compound having a hydroxyl group can be produced, for example, by a method of addition-condensing epichlorohydrin to the hydroxyl group of the aromatic compound or chain compound under basic conditions. Such glycidyl etherified aromatic compounds or chain compounds having a hydroxyl group include diglycidyl ethers of bisphenols, polyaromatic epoxy resins, diglycidyl ethers of alkylene glycols or polyalkylene glycols, etc. .

ビスフェノール類のジグリシジルエーテルとして、例えば、ビスフェノールAのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体、ビスフェノールFのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体、3,3′,5,5′-テトラメチル-4,4′-ビフェノールのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体などが挙げられる。 Examples of diglycidyl ethers of bisphenols include glycidyl etherified bisphenol A and oligomers thereof, glycidyl etherified bisphenol F and oligomers thereof, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'- Examples include glycidyl etherified biphenols and oligomers thereof.

多芳香環型エポキシ樹脂として、例えば、フェノールノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、クレゾールノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、フェノールアラルキル樹脂のグリシジルエーテル化物、ナフトールアラルキル樹脂のグリシジルエーテル化物、フェノールジシクロペンタジエン樹脂のグリシジルエーテル化物などが挙げられる。さらに、トリスフェノール類のグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体なども多芳香環型エポキシ樹脂に属する。 Examples of polyaromatic epoxy resins include glycidyl ethers of phenol novolac resins, glycidyl ethers of cresol novolak resins, glycidyl ethers of phenol aralkyl resins, glycidyl ethers of naphthol aralkyl resins, and glycidyl ethers of phenol dicyclopentadiene resins. Examples include chemical substances. Furthermore, glycidyl etherified products of trisphenols and their oligomers also belong to polyaromatic ring type epoxy resins.

アルキレングリコール又はポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテルとして、例えば、エチレングリコールのグリシジルエーテル化物、ジエチレングリコールのグリシジルエーテル化物、1,4-ブタンジオールのグリシジルエーテル化物、1,6-ヘキサンジオールのグリシジルエーテル化物などが挙げられる。 Examples of the diglycidyl ether of alkylene glycol or polyalkylene glycol include glycidyl ether of ethylene glycol, glycidyl ether of diethylene glycol, glycidyl ether of 1,4-butanediol, and glycidyl ether of 1,6-hexanediol. Can be mentioned.

アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物は、例えば、当該化合物のアミノ基にエピクロロヒドリンを塩基性条件下で付加縮合させる方法によって製造できる。アミノ基を有する化合物は、同時に水酸基を有していてもよい。このような、アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物には、1,3-フェニレンジアミンのグリシジルアミノ化物及びそのオリゴマー体、1,4-フェニレンジアミンのグリシジルアミノ化物及びそのオリゴマー体、3-アミノフェノールのグリシジルアミノ化及びグリジシジルエーテル化物並びにそのオリゴマー体、4-アミノフェノールのグリシジルアミノ化及びグリジシジルエーテル化物並びにそのオリゴマー体などが包含される。 A glycidylaminated compound of a compound having an amino group can be produced, for example, by a method of addition-condensing epichlorohydrin to the amino group of the compound under basic conditions. A compound having an amino group may also have a hydroxyl group. Such glycidylaminated compounds having an amino group include glycidylaminated products of 1,3-phenylenediamine and oligomers thereof, glycidylaminated products of 1,4-phenylenediamine and oligomers thereof, and 3-aminophenol. These include glycidylaminated and glycidyl etherified products of 4-aminophenol and oligomers thereof, glycidylaminated and glycidyl etherified products of 4-aminophenol, and oligomeric products thereof.

C-C二重結合を有する鎖状化合物のエポキシ化物は、その鎖状化合物のC-C二重結合を、塩基性条件下で過酸化物を用いてエポキシ化する方法によって製造できる。C-C二重結合を有する鎖状化合物には、ブタジエン、ポリブタジエン、イソプレン、ペンタジエン、ヘキサジエンなどが包含される。また、二重結合を有するテルペン類もエポキシ化原料として用いることができ、非環式モノテルペンとして、リナロールなどがある。エポキシ化に用いられる過酸化物は、例えば、過酸化水素、過酢酸、tert-ブチルヒドロペルオキシドなどであることができる。 An epoxidized product of a chain compound having a C--C double bond can be produced by a method of epoxidizing the C--C double bond of the chain compound using a peroxide under basic conditions. Chain compounds having a C—C double bond include butadiene, polybutadiene, isoprene, pentadiene, hexadiene, and the like. Terpenes having double bonds can also be used as raw materials for epoxidation, and examples of acyclic monoterpenes include linalool. The peroxide used in epoxidation can be, for example, hydrogen peroxide, peracetic acid, tert-butyl hydroperoxide, and the like.

飽和炭素環に直接若しくはアルキレンを介してグリシジルオキシ基又はエポキシエチル基が結合している脂環式エポキシ化合物は、先に掲げたビスフェノール類を代表例とする水酸基を有する芳香族化合物の芳香環を水素化して得られる水素化ポリヒドロキシ化合物のグリシジルエーテル化物、水酸基を有するシクロアルカン化合物のグリシジルエーテル化物、ビニル基を有するシクロアルカン化合物のエポキシ化物などであることができる。 Alicyclic epoxy compounds in which a glycidyloxy group or an epoxyethyl group is bonded to a saturated carbon ring directly or via an alkylene are the aromatic rings of aromatic compounds having a hydroxyl group, representative examples of which are the bisphenols listed above. Examples include a glycidyl etherified product of a hydrogenated polyhydroxy compound obtained by hydrogenation, a glycidyl etherified product of a cycloalkane compound having a hydroxyl group, and an epoxidized product of a cycloalkane compound having a vinyl group.

以上説明したエポキシ化合物は、市販品を容易に入手することが可能であり、例えばそれぞれ商品名で、三菱ケミカル株式会社から販売されている“jER”シリーズ、DIC株式会社から販売されている“エピクロン”、東都化成株式会社から販売されている“エポトート(登録商標)”、株式会社ADEKAから販売されている“アデカレジン(登録商標)”、ナガセケムテックス株式会社から販売されている“デナコール(登録商標)”、ダウケミカル社から販売されている“ダウエポキシ”、日産化学工業株式会社から販売されている“テピック(登録商標)”などが挙げられる。 The epoxy compounds described above can be easily obtained commercially, and for example, the "jER" series sold by Mitsubishi Chemical Corporation and the "Epiclon" series sold by DIC Corporation are available under the respective trade names. ”, “Epotote (registered trademark)” sold by Toto Kasei Co., Ltd., “ADEKA RIN (registered trademark)” sold by ADEKA Co., Ltd., and “Denacol (registered trademark)” sold by Nagase ChemteX Co., Ltd. )", "Dowepoxy" sold by Dow Chemical Company, and "Tepic (registered trademark)" sold by Nissan Chemical Industries, Ltd.

一方、飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物は、例えば、C-C二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物のC-C二重結合を、塩基性条件下で過酸化物を用いてエポキシ化する方法によって製造できる。C-C二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物としては、例えば、シクロペンテン環を有する化合物、シクロヘキセン環を有する化合物、シクロペンテン環又はシクロヘキセン環にさらに少なくとも2個の炭素原子が結合して追加の環を形成している多環式化合物などが挙げられる。C-C二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物は、環外に別のC-C二重結合を有していてもよい。C-C二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物の例を挙げると、シクロヘキセン、4-ビニルシクロヘキセン、単環式モノテルペンであるリモネン及びα-ピネンなどがある。 On the other hand, an alicyclic epoxy compound in which an epoxy group is directly bonded to a saturated carbon ring, for example, has a C-C double bond in a non-aromatic cyclic compound that has a C-C double bond in the ring. It can be produced by epoxidation using peroxide under certain conditions. Examples of non-aromatic cyclic compounds having a C--C double bond in the ring include compounds having a cyclopentene ring, compounds having a cyclohexene ring, and compounds having at least two carbon atoms further bonded to the cyclopentene ring or cyclohexene ring. Examples include polycyclic compounds forming additional rings. A non-aromatic cyclic compound having a C--C double bond within the ring may have another C--C double bond outside the ring. Examples of non-aromatic cyclic compounds having a C--C double bond in the ring include cyclohexene, 4-vinylcyclohexene, monocyclic monoterpenes limonene and α-pinene.

飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物は、上で述べたような環に直接結合したエポキシ基を有する脂環式構造が、適当な連結基を介して分子内に少なくとも2個形成された化合物であってもよい。ここでいう連結基には、例えば、エステル結合、エーテル結合、アルキレン結合などが包含される。 Alicyclic epoxy compounds in which an epoxy group is directly bonded to a saturated carbocyclic ring are those in which the alicyclic structure having an epoxy group directly bonded to a ring as described above is inserted into the molecule via an appropriate linking group. A compound may be formed of at least two. The linking group here includes, for example, an ester bond, an ether bond, an alkylene bond, and the like.

飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物の具体的な例を挙げると、次のようなものがある。 Specific examples of alicyclic epoxy compounds in which an epoxy group is directly bonded to a saturated carbon ring include the following.

3,4-エポキシシクロヘキシルメチル 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン、
1,2-エポキシ-4-エポキシエチルシクロヘキサン、
1,2-エポキシ-1-メチル-4-(1-メチルエポキシエチル)シクロヘキサン、 3,4-エポキシシクロヘキシルメチル (メタ)アクリレート、
2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールと4-エポキシエチル-1,2-エポキシシクロヘキサンとの付加物、
エチレン ビス(3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、
オキシジエチレン ビス(3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、
1,4-シクロヘキサンジメチル ビス(3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、
3-(3,4-エポキシシクロヘキシルメトキシカルボニル)プロピル 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレートなど。
3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate,
1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane,
1,2-epoxy-4-epoxyethylcyclohexane,
1,2-epoxy-1-methyl-4-(1-methylepoxyethyl)cyclohexane, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate,
an adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol and 4-epoxyethyl-1,2-epoxycyclohexane,
Ethylene bis(3,4-epoxycyclohexanecarboxylate),
Oxydiethylene bis(3,4-epoxycyclohexanecarboxylate),
1,4-cyclohexanedimethyl bis(3,4-epoxycyclohexanecarboxylate),
3-(3,4-epoxycyclohexylmethoxycarbonyl)propyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate, etc.

以上説明した飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物も、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、株式会社ダイセルから販売されている“セロキサイド”シリーズ及び“サイクロマー”、ダウケミカル社から販売されている“サイラキュア UVR”シリーズなどが挙げられる。 The above-described alicyclic epoxy compounds in which an epoxy group is directly bonded to a saturated carbocyclic ring are also easily available commercially; for example, they are sold under the respective trade names by Daicel Corporation. Examples include the "Celoxide" series, "Cyclomer" and the "Cyracure UVR" series sold by Dow Chemical Company.

エポキシ化合物を含有する硬化性接着剤は、さらにエポキシ化合物以外の活性エネルギー線硬化性化合物を含有してもよい。エポキシ化合物以外の活性エネルギー線硬化性化合物としては、例えば、オキセタン化合物やアクリル化合物などが挙げられる。なかでも、カチオン重合において硬化速度を促進できる可能性があることから、オキセタン化合物を併用することが好ましい。 The curable adhesive containing an epoxy compound may further contain an active energy ray curable compound other than the epoxy compound. Examples of active energy ray-curable compounds other than epoxy compounds include oxetane compounds and acrylic compounds. Among these, it is preferable to use an oxetane compound in combination, since the curing rate may be accelerated in cationic polymerization.

オキセタン化合物は、分子内に4員環エーテルを有する化合物であり、例えば、次のようなものを挙げることができる。 Oxetane compounds are compounds having a 4-membered ring ether in the molecule, and include, for example, the following compounds.

1,4-ビス〔(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシメチル〕ベンゼン、
3-エチル-3-(2-エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、
ビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、
3-エチル-3-(フェノキシメチル)オキセタン、
3-エチル-3-(シクロヘキシルオキシメチル)オキセタン、
フェノールノボラックオキセタン、
キシリレンビスオキセタン、
1,3-ビス〔(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ〕ベンゼンなど。
1,4-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]benzene,
3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane,
bis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl)ether,
3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane,
3-ethyl-3-(cyclohexyloxymethyl)oxetane,
phenol novolac oxetane,
xylylene bisoxetane,
1,3-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]benzene, etc.

オキセタン化合物も、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、東亞合成株式会社から販売されている“アロンオキセタン(登録商標)”シリーズ、宇部興産株式会社から販売されている“ETERNACOLL(登録商標)”シリーズなどが挙げられる。 Oxetane compounds are also easily available as commercial products, for example, the "Aron Oxetane (registered trademark)" series sold by Toagosei Co., Ltd. and the "Aron Oxetane (registered trademark)" series sold by Ube Industries, Ltd. under the respective trade names. Examples include the "ETERNACOLL (registered trademark)" series.

エポキシ化合物やオキセタン化合物を包含する硬化性化合物は、これらが配合された接着剤を無溶剤とするために、有機溶剤などで希釈されていないものを用いることが好ましい。また、接着剤を構成する他の成分であって、後述するカチオン重合開始剤や増感剤を包含する少量成分も、有機溶剤に溶解されたものよりも、有機溶剤が除去・乾燥されたその化合物単独の粉体又は液体を用いることが好ましい。 It is preferable to use a curable compound including an epoxy compound or an oxetane compound that has not been diluted with an organic solvent or the like so that the adhesive containing these compounds is solvent-free. In addition, small amounts of other components constituting the adhesive, including the cationic polymerization initiator and sensitizer described later, are more important than those dissolved in an organic solvent after the organic solvent has been removed and dried. It is preferable to use powder or liquid of the compound alone.

本発明の活性エネルギー線硬化型接着剤は、脂環式エポキシ化合物を含むことが好ましい。脂環式エポキシ化合物の含有量は、硬化性化合物の全量に対して、30質量%以上であることが好ましく、40質量%以上であることがより好ましく、85質量%以下であってもよい。本発明の活性エネルギー線硬化型接着剤は、さらに、オキセタン化合物を含んでいてもよい。オキセタン化合物を含む場合、オキセタン化合物の含有量と脂環式エポキシ化合物の含有量との比率(オキセタン含有量/脂環式エポキシ化合物)が1以下であることが好ましい。 The active energy ray-curable adhesive of the present invention preferably contains an alicyclic epoxy compound. The content of the alicyclic epoxy compound is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and may be 85% by mass or less, based on the total amount of the curable compound. The active energy ray-curable adhesive of the present invention may further contain an oxetane compound. When an oxetane compound is included, the ratio between the content of the oxetane compound and the content of the alicyclic epoxy compound (oxetane content/alicyclic epoxy compound) is preferably 1 or less.

カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線、例えば紫外線の照射を受けてカチオン種を発生する化合物である。それが配合された接着剤に求められる接着強度及び硬化速度を与えるものであればよいが、例えば、芳香族ジアゾニウム塩;芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩;鉄-アレーン錯体などが挙げられる。これらのカチオン重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよいし、異なる複数種を併用してもよい。 A cationic polymerization initiator is a compound that generates cationic species when irradiated with active energy rays, such as ultraviolet rays. For example, aromatic diazonium salts; onium salts such as aromatic iodonium salts and aromatic sulfonium salts; iron-arene complexes. Examples include. Each of these cationic polymerization initiators may be used alone, or a plurality of different types may be used in combination.

芳香族ジアゾニウム塩としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロボレートなど。
Examples of aromatic diazonium salts include the following.
Benzenediazonium hexafluoroantimonate,
benzenediazonium hexafluorophosphate,
Benzenediazonium hexafluoroborate, etc.

芳香族ヨードニウム塩としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
ジフェニルヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
ビス(4-ノニルフェニル)ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェートなど。
Examples of aromatic iodonium salts include the following.
diphenyliodonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate,
diphenyliodonium hexafluorophosphate,
diphenyliodonium hexafluoroantimonate,
Bis(4-nonylphenyl)iodonium hexafluorophosphate, etc.

芳香族スルホニウム塩としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
トリフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
ジフェニル(4-フェニルチオフェニル)スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
4,4′-ビス(ジフェニルスルホニオ)ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、
4,4′-ビス〔ジ(β-ヒドロキシエトキシフェニル)スルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、
4,4′-ビス〔ジ(β-ヒドロキシエトキシフェニル)スルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、
7-〔ジ(p-トルイル)スルホニオ〕-2-イソプロピルチオキサントン ヘキサフルオロアンチモネート、
7-〔ジ(p-トルイル)スルホニオ〕-2-イソプロピルチオキサントン テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
4-フェニルカルボニル-4′-ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロホスフェート、
4-(p-tert-ブチルフェニルカルボニル)-4′-ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロアンチモネート、
4-(p-tert-ブチルフェニルカルボニル)-4′-ジ(p-トルイル)スルホニオ-ジフェニルスルフィド テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなど。
Examples of aromatic sulfonium salts include the following.
triphenylsulfonium hexafluorophosphate,
triphenylsulfonium hexafluoroantimonate,
triphenylsulfonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate,
diphenyl(4-phenylthiophenyl)sulfonium hexafluoroantimonate,
4,4'-bis(diphenylsulfonio)diphenylsulfide bishexafluorophosphate,
4,4'-bis[di(β-hydroxyethoxyphenyl)sulfonio]diphenyl sulfide bishexafluoroantimonate,
4,4'-bis[di(β-hydroxyethoxyphenyl)sulfonio]diphenyl sulfide bishexafluorophosphate,
7-[di(p-tolyl)sulfonio]-2-isopropylthioxanthone hexafluoroantimonate,
7-[di(p-tolyl)sulfonio]-2-isopropylthioxanthone tetrakis(pentafluorophenyl)borate,
4-phenylcarbonyl-4'-diphenylsulfoniodiphenylsulfide hexafluorophosphate,
4-(p-tert-butylphenylcarbonyl)-4'-diphenylsulfoniodiphenylsulfide hexafluoroantimonate,
4-(p-tert-butylphenylcarbonyl)-4'-di(p-tolyl)sulfonio-diphenyl sulfide tetrakis(pentafluorophenyl)borate, etc.

鉄-アレーン錯体としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
キシレン-シクロペンタジエニル鉄(II) ヘキサフルオロアンチモネート、
クメン-シクロペンタジエニル鉄(II) ヘキサフルオロホスフェート、 キシレン-シクロペンタジエニル鉄(II) トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタナイドなど。
Examples of iron-arene complexes include the following.
Xylene-cyclopentadienyl iron(II) hexafluoroantimonate,
Cumene-cyclopentadienyl iron(II) hexafluorophosphate, xylene-cyclopentadienyl iron(II) tris(trifluoromethylsulfonyl)methanide, etc.

カチオン重合開始剤のなかでも、芳香族スルホニウム塩は、300nm以上の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械強度や接着強度を有する接着剤層を与えることができるため、好ましく用いられる。 Among cationic polymerization initiators, aromatic sulfonium salts have ultraviolet absorption properties even in the wavelength region of 300 nm or more, so they have excellent curability and can provide adhesive layers with good mechanical strength and adhesive strength. Therefore, it is preferably used.

カチオン重合開始剤も、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、日本化薬株式会社から販売されている“カヤラッド(登録商標)”シリーズ、ダウケミカル社から販売されている“サイラキュア UVI”シリーズ、サンアプロ株式会社から販売されている光酸発生剤“CPI”シリーズ、みどり化学株式会社から販売されている光酸発生剤“TAZ”、“BBI”及び“DTS”、株式会社ADEKAから販売されている“アデカオプトマー”シリーズ、ローディア社から販売されている“RHODORSIL(登録商標)” などが挙げられる。 Cationic polymerization initiators can also be easily obtained as commercially available products, such as the "Kayarad (registered trademark)" series sold by Nippon Kayaku Co., Ltd. and the Dow Chemical Company under the respective trade names. "Cyracure UVI" series sold by Sun-Apro Co., Ltd., photoacid generator "CPI" series sold by Sun-Apro Co., Ltd., photoacid generators "TAZ", "BBI" and "DTS" sold by Midori Kagaku Co., Ltd. , the "ADEKA Optomer" series sold by ADEKA Co., Ltd., and "RHODORSIL (registered trademark)" sold by Rhodia.

活性エネルギー線硬化型接着剤において、カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量100質量部に対して、通常0.5~20質量部の割合で配合され、好ましくは1~15質量部である。その量があまり少ないと、硬化が不十分になり、接着剤層の機械強度や接着強度を低下させることがある。また、その量が多すぎると、接着剤層中のイオン性物質が増加することで接着剤層の吸湿性が高くなり、得られる偏光板の耐久性能を低下させることがある。 In the active energy ray curable adhesive, the cationic polymerization initiator is usually blended in a proportion of 0.5 to 20 parts by mass, preferably 1 to 15 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the active energy ray curable adhesive. Part by mass. If the amount is too small, curing may be insufficient and the mechanical strength and adhesive strength of the adhesive layer may be reduced. Furthermore, if the amount is too large, the amount of ionic substances in the adhesive layer increases, which increases the hygroscopicity of the adhesive layer, which may reduce the durability of the resulting polarizing plate.

活性エネルギー線硬化型接着剤を電子線硬化型で用いる場合、組成物中に光重合開始剤を含有させることは特に必要ではないが、紫外線硬化型で用いる場合には、光ラジカル発生剤を用いることが好ましい。光ラジカル発生剤としては、水素引き抜き型光ラジカル発生剤と開裂型光ラジカル発生剤とが挙げられる。 When using an active energy ray curable adhesive as an electron beam curable type, it is not particularly necessary to include a photopolymerization initiator in the composition, but when using an ultraviolet ray curable type adhesive, a photo radical generator is used. It is preferable. Examples of the photo-radical generator include hydrogen abstraction-type photo-radical generators and cleavage-type photo-radical generators.

水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、例えば1-メチルナフタレン、2-メチルナフタレン、1-フルオロナフタレン、1-クロロナフタレン、2-クロロナフタレン、1-ブロモナフタレン、2-ブロモナフタレン、1-ヨードナフタレン、2-ヨードナフタレン、1-ナフトール、2-ナフトール、1-メトキシナフタレン、2-メトキシナフタレン、1,4-ジシアノナフタレンなどのナフタレン誘導体、アントラセン、1,2-ベンズアントラセン、9,10-ジクロロアントラセン、9,10-ジブロモアントラセン、9,10-ジフェニルアントラセン、9-シアノアントラセン、9,10-ジシアノアントラセン、2,6,9,10-テトラシアノアントラセンなどのアントラセン誘導体、ピレン誘導体、カルバゾール、9-メチルカルバゾール、9-フェニルカルバゾール、9-プロペ-2-イニル-9H-カルバゾール、9-プロピル-9H-カルバゾール、9-ビニルカルバゾール、9H-カルバゾール-9-エタノール、9-メチル-3-ニトロ-9H-カルバゾール、9-メチル-3,6-ジニトロ-9H-カルバゾール、9-オクタノイルカルバゾール、9-カルバゾールメタノール、9-カルバゾールプロピオン酸、9-カルバゾールプロピオニトリル、9-エチル-3,6-ジニトロ-9H-カルバゾール、9-エチル-3-ニトロカルバゾール、9-エチルカルバゾール、9-イソプロピルカルバゾール、9-(エトキシカルボニルメチル)カルバゾール、9-(モルホリノメチル)カルバゾール、9-アセチルカルバゾール、9-アリルカルバゾール、9-ベンジル-9H-カルバゾール、9-カルバゾール酢酸、9-(2-ニトロフェニル)カルバゾール、9-(4-メトキシフェニル)カルバゾール、9-(1-エトキシ-2-メチル-プロピル)-9H-カルバゾール、3-ニトロカルバゾール、4-ヒドロキシカルバゾール、3,6-ジニトロ-9H-カルバゾール、3,6-ジフェニル-9H-カルバゾール、2-ヒドロキシカルバゾール、3,6-ジアセチル-9-エチルカルバゾールなどのカルバゾール誘導体、ベンゾフェノン、4-フェニルベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジメトキシ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2-ベンゾイル安息香酸メチルエステル、2-メチルベンゾフェノン、3-メチルベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘導体、芳香族カルボニル化合物、[4-(4-メチルフェニルチオ)フェニル]-フェニルメタノン、キサントン、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、4-クロロチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、4-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントンなどのチオキサントン誘導体やクマリン誘導体などが挙げられる。 Examples of the hydrogen abstraction type photoradical generator include 1-methylnaphthalene, 2-methylnaphthalene, 1-fluoronaphthalene, 1-chloronaphthalene, 2-chloronaphthalene, 1-bromonaphthalene, 2-bromonaphthalene, and 1-iodonaphthalene. , 2-iodonaphthalene, 1-naphthol, 2-naphthol, 1-methoxynaphthalene, 2-methoxynaphthalene, naphthalene derivatives such as 1,4-dicyanonaphthalene, anthracene, 1,2-benzanthracene, 9,10-dichloroanthracene , 9,10-dibromoanthracene, 9,10-diphenylanthracene, 9-cyanoanthracene, 9,10-dicyanoanthracene, 2,6,9,10-tetracyanoanthracene and other anthracene derivatives, pyrene derivatives, carbazole, 9- Methylcarbazole, 9-phenylcarbazole, 9-prop-2-ynyl-9H-carbazole, 9-propyl-9H-carbazole, 9-vinylcarbazole, 9H-carbazol-9-ethanol, 9-methyl-3-nitro-9H -Carbazole, 9-methyl-3,6-dinitro-9H-carbazole, 9-octanoylcarbazole, 9-carbazolemethanol, 9-carbazolepropionic acid, 9-carbazolepropionitrile, 9-ethyl-3,6-dinitro -9H-carbazole, 9-ethyl-3-nitrocarbazole, 9-ethylcarbazole, 9-isopropylcarbazole, 9-(ethoxycarbonylmethyl)carbazole, 9-(morpholinomethyl)carbazole, 9-acetylcarbazole, 9-allylcarbazole , 9-benzyl-9H-carbazole, 9-carbazoleacetic acid, 9-(2-nitrophenyl)carbazole, 9-(4-methoxyphenyl)carbazole, 9-(1-ethoxy-2-methyl-propyl)-9H- Carbazoles such as carbazole, 3-nitrocarbazole, 4-hydroxycarbazole, 3,6-dinitro-9H-carbazole, 3,6-diphenyl-9H-carbazole, 2-hydroxycarbazole, 3,6-diacetyl-9-ethylcarbazole Derivatives, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, 4,4'-bis(dimethoxy)benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, 2-benzoylbenzoic acid methyl ester , 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzophenone derivatives such as 2,4,6-trimethylbenzophenone, aromatic carbonyl compounds, [4-( 4-Methylphenylthio)phenyl]-phenylmethanone, xanthone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 4-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone , thioxanthone derivatives such as 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and coumarin derivatives.

開裂型光ラジカル発生剤は、活性エネルギー線を照射することにより当該化合物が開裂してラジカルを発生するタイプの光ラジカル発生剤であり、その具体例として、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体などのアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸S-フェニル類、チタノセン類、およびそれらを高分子量化した誘導体が挙げられるがこれに限定されるものではない。市販されている開裂型光ラジカル発生剤としては、1-(4-ドデシルベンゾイル)-1-ヒドロキシ-1-メチルエタン、1-(4-イソプロピルベンゾイル)-1-ヒドロキシ-1-メチルエタン、1-ベンゾイル-1-ヒドロキシ-1-メチルエタン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-ベンゾイル]-1-ヒドロキシ-1-メチルエタン、1-[4-(アクリロイルオキシエトキシ)-ベンゾイル]-1-ヒドロキシ-1-メチルエタン、ジフェニルケトン、フェニル-1-ヒドロキシ-シクロヘキシルケトン、ベンジルジメチルケタール、ビス(シクロペンタジエニル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-ピリル-フェニル)チタン、(η6-イソプロピルベンゼン)-(η5-シクロペンタジエニル)-鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6-ジメトキシ-ベンゾイル)-(2,4,4-トリメチル-ペンチル)-ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,4-ジペントキシフェニルホスフィンオキシドまたはビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニル-ホスフィンオキシド、(4-モルホリノベンゾイル)-1-ベンジル-1-ジメチルアミノプロパン、4-(メチルチオベンゾイル)-1-メチル-1-モルホリノエタンなどが挙げられるがこれに限定されるものではない。 A cleavage-type photoradical generator is a type of photoradical generator that generates radicals by cleavage of the compound when irradiated with active energy rays. Examples include, but are not limited to, ketones, oxime ketones, acylphosphine oxides, S-phenyl thiobenzoates, titanocenes, and high molecular weight derivatives thereof. Commercially available cleavable photoradical generators include 1-(4-dodecylbenzoyl)-1-hydroxy-1-methylethane, 1-(4-isopropylbenzoyl)-1-hydroxy-1-methylethane, and 1-benzoyl. -1-hydroxy-1-methylethane, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-benzoyl]-1-hydroxy-1-methylethane, 1-[4-(acryloyloxyethoxy)-benzoyl]-1-hydroxy- 1-Methylethane, diphenylketone, phenyl-1-hydroxy-cyclohexylketone, benzyldimethylketal, bis(cyclopentadienyl)-bis(2,6-difluoro-3-pyryl-phenyl)titanium, (η6-isopropylbenzene) -(η5-cyclopentadienyl)-iron(II) hexafluorophosphate, trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxy-benzoyl)-(2,4,4-trimethyl-pentyl)-phosphine oxide, Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-dipentoxyphenylphosphine oxide or bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenyl-phosphine oxide, (4-morpholinobenzoyl)-1-benzyl- Examples include, but are not limited to, 1-dimethylaminopropane, 4-(methylthiobenzoyl)-1-methyl-1-morpholinoethane, and the like.

本発明で使用される活性エネルギー硬化型接着剤の中で、電子線硬化型に含まれる光ラジカル発生剤、すなわち水素引き抜き型または開裂型光ラジカル発生剤は、いずれもそれぞれ単独で用いることができる他、複数を組み合わせて用いても良いが、光ラジカル発生剤単体の安定性や、硬化性の面でより好ましいものは開裂型光ラジカル発生剤の1種以上の組み合わせである。開裂型光ラジカル発生剤の中でもアシルホスフィンオキシド類が好ましく、より具体的には、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(商品名「DAROCURE TPO」;チバ・ジャパン(株))、ビス(2,6-ジメトキシ-ベンゾイル)-(2,4,4-トリメチル-ペンチル)-ホスフィンオキシド(商品名「CGI 403」;チバ・ジャパン(株))、またはビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,4-ジペントキシフェニルホスフィンオキシド(商品名「Irgacure819」;チバ・ジャパン(株))が好ましい。 Among the active energy curable adhesives used in the present invention, the photo radical generators included in the electron beam curable type, that is, hydrogen abstraction type or cleavage type photo radical generators, can be used alone. In addition, a combination of a plurality of photo-radical generators may be used, but in terms of stability and curability of the photo-radical generator alone, a combination of one or more cleavage-type photo-radical generators is more preferable. Among the cleavage type photoradical generators, acylphosphine oxides are preferable, and more specifically, trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (trade name "DAROCURE TPO"; Ciba Japan Co., Ltd.), bis(2,6-dimethoxy- benzoyl)-(2,4,4-trimethyl-pentyl)-phosphine oxide (trade name "CGI 403"; Ciba Japan Co., Ltd.), or bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4- Dipentoxyphenylphosphine oxide (trade name "Irgacure 819"; manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) is preferred.

活性エネルギー線硬化型接着剤は、必要に応じて増感剤を含有することができる。増感剤を使用することにより、反応性が向上し、接着層の機械強度や接着強度をさらに向上させることができる。増感剤としては、前述したものを適宜適用できる。 The active energy ray-curable adhesive may contain a sensitizer, if necessary. By using a sensitizer, the reactivity is improved and the mechanical strength and adhesive strength of the adhesive layer can be further improved. As the sensitizer, those mentioned above can be used as appropriate.

増感剤を配合する場合、その配合量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量100質量部に対し、0.1~20質量部の範囲とすることが好ましい。 When a sensitizer is blended, the blending amount is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the active energy ray-curable adhesive.

活性エネルギー線硬化型接着剤には、その効果を損なわない範囲で各種の添加剤を配合することができる。配合しうる添加剤として、例えば、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤などが挙げられる。 Various additives can be added to the active energy ray-curable adhesive within a range that does not impair its effectiveness. Examples of additives that can be blended include ion trapping agents, antioxidants, chain transfer agents, tackifiers, thermoplastic resins, fillers, fluidity regulators, plasticizers, antifoaming agents, and the like.

活性エネルギー線硬化型接着剤を構成するこれらの各成分は、通常、溶剤に溶かした状態で使用される。活性エネルギー線硬化型接着剤が溶剤を含む場合、活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布面に塗布し、乾燥させることで、接着層が得られる。溶剤に溶解しない成分は、系中に分散した状態であればよい。 These components constituting the active energy ray-curable adhesive are usually used in a state dissolved in a solvent. When the active energy ray curable adhesive contains a solvent, the adhesive layer can be obtained by applying the active energy ray curable adhesive to the coated surface and drying it. Components that do not dissolve in the solvent may be in a dispersed state in the system.

活性エネルギー線硬化型接着剤は、第1位相差層1の第2位相差層2との接着面、第2位相差層2の第1位相差層1との接着面、又はその両方に塗布される。第1位相差層1の第2位相差層2との接着面及び第2位相差層2の第1位相差層1との接着面に、予めコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を形成してもよい。
プライマー層の厚さは、通常0.001~5μm程度であり、好ましくは0.01μm以上、また好ましくは4μm以下、さらに好ましくは3μm以下である。プライマー層が厚すぎると、複合位相差板5の外観不良となりやすい。
The active energy ray-curable adhesive is applied to the adhesive surface of the first retardation layer 1 with the second retardation layer 2, the adhesive surface of the second retardation layer 2 with the first retardation layer 1, or both. be done. The adhesive surface of the first retardation layer 1 with the second retardation layer 2 and the adhesive surface of the second retardation layer 2 with the first retardation layer 1 are subjected to corona treatment, plasma treatment, flame treatment, etc. in advance. Alternatively, a primer layer or the like may be formed.
The thickness of the primer layer is usually about 0.001 to 5 μm, preferably 0.01 μm or more, more preferably 4 μm or less, and more preferably 3 μm or less. If the primer layer is too thick, the appearance of the composite retardation plate 5 tends to be poor.

活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度としては、種々方法で塗工できる粘度を有するものであればよいが、その温度25℃における粘度は、10~1,000mPa・secの範囲にあることが好ましく、20~500mPa・secの範囲にあることがより好ましい。その粘度があまり小さいと、所望の厚みでの層形成がしにくくなる傾向にある。一方、その粘度があまり大きいと、流動しにくくなって、ムラのない均質な塗膜が得られにくくなる傾向にある。また、粘度がある程度低い方が、接着剤層を薄膜化しやすい傾向にある。ここでいう粘度は、E型粘度計を用いてその接着剤を25℃に調温した後、10rpmで測定される値である。 The viscosity of the active energy ray-curable adhesive may be any viscosity that can be applied by various methods, but the viscosity at a temperature of 25°C is preferably in the range of 10 to 1,000 mPa·sec. , more preferably in the range of 20 to 500 mPa·sec. If the viscosity is too low, it tends to be difficult to form a layer with a desired thickness. On the other hand, if the viscosity is too high, it becomes difficult to flow and it tends to be difficult to obtain an even and homogeneous coating film. Further, when the viscosity is low to some extent, it tends to be easier to make the adhesive layer thinner. The viscosity here is a value measured at 10 rpm after controlling the temperature of the adhesive to 25° C. using an E-type viscometer.

上記活性エネルギー線硬化型接着剤は、電子線硬化型、紫外線硬化型の態様で用いることができる。本明細書において、活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられる。 The above-mentioned active energy ray curable adhesive can be used in an electron beam curable or ultraviolet ray curable form. In this specification, an active energy ray is defined as an energy ray that can generate active species by decomposing a compound that generates active species. Examples of such active energy rays include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α-rays, β-rays, γ-rays, and electron beams.

電子線硬化型において、電子線の照射条件は、上記活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは5kV~300kVであり、さらに好ましくは10kV~250kVである。加速電圧が5kV未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が300kVを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、透明保護フィルムや偏光子に損傷を与えるおそれがある。照射線量としては、5~100kGy、さらに好ましくは10~75kGyである。照射線量が5kGy未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、100kGyを超えると、位相差層に損傷を与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所望の光学特性を得ることができない。 In the electron beam curable adhesive, any suitable electron beam irradiation conditions can be employed as long as the active energy ray curable adhesive can be cured. For example, in electron beam irradiation, the acceleration voltage is preferably 5 kV to 300 kV, more preferably 10 kV to 250 kV. If the accelerating voltage is less than 5 kV, the electron beam may not reach the adhesive, resulting in insufficient curing. If the accelerating voltage exceeds 300 kV, the penetrating force through the sample is too strong and the electron beam bounces off, causing damage to the transparent protective film and the like. There is a risk of damaging the polarizer. The irradiation dose is 5 to 100 kGy, more preferably 10 to 75 kGy. If the irradiation dose is less than 5 kGy, the adhesive will be insufficiently cured, and if it exceeds 100 kGy, the retardation layer will be damaged, resulting in a decrease in mechanical strength and yellowing, making it impossible to obtain desired optical properties.

電子線照射は、通常、不活性ガス中で照射を行うが、必要であれば大気中や酸素を少し導入した条件で行ってもよい。酸素を適宜導入することによって、最初に電子線があたる位相差層表面にあえて酸素阻害を生じさせ、位相差層へのダメージを防ぐことができ、接着剤にのみ効率的に電子線を照射させることができる。 Electron beam irradiation is usually performed in an inert gas, but if necessary, it may be performed in the atmosphere or with a small amount of oxygen introduced. By appropriately introducing oxygen, oxygen inhibition is created on the surface of the retardation layer that is first hit by the electron beam, which prevents damage to the retardation layer and allows only the adhesive to be efficiently irradiated with the electron beam. be able to.

紫外線硬化型において、活性エネルギー線硬化型接着剤の光照射強度は、接着剤の組成ごとに決定されるものであって特に限定されないが、10~1,000mW/cm2であることが好ましい。樹脂組成物への光照射強度が10mW/cm2未満であると、反応時間が長くなりすぎ、1,000mW/cm2を超えると、光源から輻射される熱および組成物の重合時の発熱により、接着剤の構成材料の黄変を生じる可能性がある。なお、照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度であり、より好ましくは波長400nm以下の波長領域における強度であり、さらに好ましくは波長280~320nmの波長領域における強度である。このような光照射強度で1回あるいは複数回照射して、その積算光量を、好ましくは10mJ/cm2以上、さらに好ましくは100~1,000mJ/cm2となるように設定する。上記接着剤への積算光量が10mJ/cm2未満であると、重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、接着剤の硬化が不十分となる。一方でその積算光量が1,000mJ/cm2を超えると、照射時間が非常に長くなり、生産性向上には不利なものとなる。この際、使用する位相差層のフィルムの種類や接着剤種の組み合わせなどによって、どの波長領域(UVA(320~390nm)やUVB(280~320nm)など)での積算光量が必要かは異なる。 In the ultraviolet curable type, the light irradiation intensity of the active energy ray curable adhesive is determined depending on the composition of the adhesive and is not particularly limited, but is preferably 10 to 1,000 mW/cm 2 . If the light irradiation intensity to the resin composition is less than 10 mW/cm 2 , the reaction time will be too long, and if it exceeds 1,000 mW/cm 2 , the reaction time will be too long due to the heat radiated from the light source and the heat generated during polymerization of the composition. , yellowing of the constituent materials of the adhesive may occur. The irradiation intensity is preferably an intensity in a wavelength range effective for activating the photocationic polymerization initiator, more preferably an intensity in a wavelength range of 400 nm or less, and even more preferably an intensity in a wavelength range of 280 to 320 nm. is the strength at . The light is irradiated once or multiple times at such a light irradiation intensity, and the cumulative amount of light is preferably set to 10 mJ/cm 2 or more, more preferably 100 to 1,000 mJ/cm 2 . If the cumulative amount of light to the adhesive is less than 10 mJ/cm 2 , the generation of active species derived from the polymerization initiator will not be sufficient, resulting in insufficient curing of the adhesive. On the other hand, if the cumulative amount of light exceeds 1,000 mJ/cm 2 , the irradiation time becomes extremely long, which is disadvantageous for improving productivity. At this time, the required integrated light amount in which wavelength range (UVA (320 to 390 nm), UVB (280 to 320 nm), etc.) differs depending on the type of retardation layer film used, the combination of adhesive types, etc.

本発明における活性エネルギー線の照射により接着剤の重合硬化を行うために用いる光源は、特に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲380~440nmを発光するLED光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。エネルギーの安定性や装置の簡便さという観点から、波長400nm以下に発光分布を有する紫外光源であることが好ましい。 The light source used to polymerize and harden the adhesive by irradiation with active energy rays in the present invention is not particularly limited, but includes, for example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon Examples include arc lamps, tungsten lamps, gallium lamps, excimer lasers, LED light sources that emit light in the wavelength range of 380 to 440 nm, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, and metal halide lamps. From the viewpoint of energy stability and device simplicity, it is preferable that the ultraviolet light source has an emission distribution at a wavelength of 400 nm or less.

[光学積層体]
本発明の光学積層体は、偏光板と上記した複合位相差板とが積層されてなるものである。光学積層体は、偏光板と複合位相差板とを接着する第2接着層を含んでいてもよい。偏光板に積層する複合位相差板の層構成を調整することにより、反射防止性能を有する光学積層体とすることができる。反射防止性能を有する光学積層体は、例えば円偏光板である。画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に反射防止性能を有する光学積層体を設けることにより、外来光の反射による視認性の低下を抑制することができる。
[Optical laminate]
The optical laminate of the present invention is formed by laminating a polarizing plate and the above-described composite retardation plate. The optical laminate may include a second adhesive layer that adheres the polarizing plate and the composite retardation plate. By adjusting the layer structure of the composite retardation plate laminated on the polarizing plate, an optical laminate having antireflection performance can be obtained. The optical laminate having antireflection performance is, for example, a circularly polarizing plate. In an image display device, by providing an optical laminate having antireflection properties on the viewing side of an image display panel, it is possible to suppress a decrease in visibility due to reflection of external light.

外来光の反射による視認性の低下を抑制することができる、偏光板と、複合位相差板とからなる光学積層体の層構成としては、
v)視認側から偏光板、1/2波長層(第1位相差層)、第2接着層、1/4波長層(第2位相差層)がこの順で積層されてなる層構成の光学積層体、
vi)視認側から偏光板、1/4波長層(第1位相差層)、第2接着層、ポジティブCプレート等の光学補償層層(第2位相差層)がこの順で積層されてなる層構成の光学積層体、
が具体的に例示される。
The layer structure of an optical laminate consisting of a polarizing plate and a composite retardation plate that can suppress a decrease in visibility due to reflection of external light is as follows:
v) Optical device with a layered structure in which a polarizing plate, a 1/2 wavelength layer (first retardation layer), a second adhesive layer, and a 1/4 wavelength layer (second retardation layer) are laminated in this order from the viewing side. laminate,
vi) A polarizing plate, a quarter wavelength layer (first retardation layer), a second adhesive layer, and an optical compensation layer (second retardation layer) such as a positive C plate are laminated in this order from the viewing side. optical laminate with layered structure,
is specifically exemplified.

光学積層体の厚みは、薄型化の観点から、通常50~500μmであり、50~200μmであることが好ましく、50~150μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the optical laminate is usually 50 to 500 μm, preferably 50 to 200 μm, and more preferably 50 to 150 μm, from the viewpoint of thinning.

<偏光板>
偏光板は、透過光より直線偏光を得る偏光機能を有するフィルムであればよい。当該フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、あるいは、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られる液相層を有するフィルム等が挙げられる。
<Polarizing plate>
The polarizing plate may be any film having a polarizing function to obtain linearly polarized light from transmitted light. Examples of the film include a stretched film on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed, a film containing a film coated with a dye having absorption anisotropy as a polarizer, and the like. Examples of dyes having absorption anisotropy include dichroic dyes. A film coated with a dye having absorption anisotropy and used as a polarizer may be a stretched film on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed, or a composition containing a dichroic dye having liquid crystallinity or a dichroic dye. Examples include a film having a liquid phase layer obtained by applying a composition containing a chromatic dye and a polymerizable liquid crystal.

(延伸フィルムを偏光子として備える偏光板)
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として備える偏光板について説明する。偏光子である、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、及び二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程を有する、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。かかる偏光子をそのまま偏光板として用いてもよく、またはかかる偏光子の少なくとも一方の面に透明保護フィルムを貼合したものを偏光板として用いてもよい。
(Polarizing plate with stretched film as a polarizer)
A polarizing plate including a stretched film as a polarizer on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed will be described. Stretched films that have adsorbed dyes with absorption anisotropy, which are polarizers, are usually produced through a process of uniaxially stretching a polyvinyl alcohol resin film or by dyeing the polyvinyl alcohol resin film with a dichroic dye. It is manufactured through the steps of adsorbing a dichroic dye, treating the polyvinyl alcohol resin film with the dichroic dye adsorbed with an aqueous boric acid solution, and washing with water after the treatment with the aqueous boric acid solution. Such a polarizer may be used as it is as a polarizing plate, or a transparent protective film bonded to at least one surface of such a polarizer may be used as a polarizing plate.

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などが挙げられる。 Polyvinyl alcohol resin is obtained by saponifying polyvinyl acetate resin. As the polyvinyl acetate resin, in addition to polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, copolymers of vinyl acetate and other monomers copolymerizable therewith are used. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and acrylamides having an ammonium group.

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常85~100モル%程度であり、好ましくは98モル%以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常1,000~10,000程度であり、好ましくは1,500~5,000の範囲である。 The saponification degree of the polyvinyl alcohol resin is usually about 85 to 100 mol%, preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can also be used. The degree of polymerization of the polyvinyl alcohol resin is usually about 1,000 to 10,000, preferably 1,500 to 5,000.

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光板の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、例えば、10~150μm程度とすることができる。 A film formed from such a polyvinyl alcohol resin is used as an original film of a polarizing plate. The method of forming a polyvinyl alcohol resin into a film is not particularly limited, and any known method can be used to form the film. The thickness of the polyvinyl alcohol base film can be, for example, about 10 to 150 μm.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後で行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常3~8倍程度である。 Uniaxial stretching of the polyvinyl alcohol resin film can be performed before, simultaneously with, or after dyeing with a dichroic dye. When uniaxial stretching is performed after dyeing, this uniaxial stretching may be performed before or during the boric acid treatment. Moreover, it is also possible to perform uniaxial stretching in these plural steps. In the uniaxial stretching, it may be uniaxially stretched between rolls having different circumferential speeds, or it may be uniaxially stretched using hot rolls. Further, the uniaxial stretching may be dry stretching in which the film is stretched in the atmosphere, or wet stretching in which the polyvinyl alcohol resin film is stretched in a swollen state using a solvent. The stretching ratio is usually about 3 to 8 times.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法によって行われる。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性有機染料には、 C.I. DIRECT RED 39 などのジスアゾ化合物からなる二色性直接染料、トリスアゾ、テトラキスアゾなどの化合物からなる二色性直接染料が包含される。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に、水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。 Staining of a polyvinyl alcohol resin film with a dichroic dye is carried out, for example, by immersing the polyvinyl alcohol resin film in an aqueous solution containing the dichroic dye. Specifically, iodine or a dichroic organic dye is used as the dichroic dye. Dichroic organic dyes include dichroic direct dyes made of disazo compounds such as C.I. DIRECT RED 39, and dichroic direct dyes made of compounds such as trisazo and tetrakisazo. It is preferable that the polyvinyl alcohol resin film is soaked in water before being dyed.

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水100質量部あたり、通常0.01~1質量部程度である。またヨウ化カリウムの含有量は、水100質量部あたり、通常 0.5~20質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常20~40℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間(染色時間)は、通常20~1,800秒程度である。 When using iodine as a dichroic dye, a method is usually employed in which a polyvinyl alcohol resin film is immersed in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide for dyeing. The content of iodine in this aqueous solution is usually about 0.01 to 1 part by mass per 100 parts by mass of water. The content of potassium iodide is usually about 0.5 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of water. The temperature of the aqueous solution used for dyeing is usually about 20 to 40°C. The immersion time (staining time) in this aqueous solution is usually about 20 to 1,800 seconds.

一方、二色性色素として二色性の有機染料を用いる場合は通常、水溶性二色性染料を含む水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。
この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水100質量部あたり、通常1×10-4~10質量部程度であり、好ましくは1×10-3~1質量部であり、さらに好ましくは1×10-3~1×10-2質量部である。この水溶液は、硫酸ナトリウムのような無機塩を染色助剤として含んでいてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常20~80℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間(染色時間)は、通常10~1,800秒程度である。
On the other hand, when using a dichroic organic dye as the dichroic dye, a method of dyeing by immersing a polyvinyl alcohol resin film in an aqueous solution containing a water-soluble dichroic dye is usually employed.
The content of the dichroic organic dye in this aqueous solution is usually about 1 x 10 -4 to 10 parts by weight, preferably 1 x 10 -3 to 1 part by weight, and more preferably about 1 x 10 -3 to 1 part by weight, per 100 parts by weight of water. The amount is 1×10 −3 to 1×10 −2 parts by mass. This aqueous solution may also contain inorganic salts such as sodium sulfate as dyeing aids. The temperature of the dichroic dye aqueous solution used for dyeing is usually about 20 to 80°C. The immersion time (staining time) in this aqueous solution is usually about 10 to 1,800 seconds.

二色性色素による染色後のホウ酸処理は通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬する方法により行うことができる。このホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水100質量部あたり、通常2~15質量部程度であり、好ましくは5~12質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いた場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましく、その場合のヨウ化カリウムの含有量は、水100質量部あたり、通常0.1~15質量部程度であり、好ましくは5~12質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常 60~1,200秒程度であり、好ましくは150~600秒、さらに好ましくは200~400秒である。ホウ酸処理の温度は、通常50℃以上であり、好ましくは50~85℃、さらに好ましくは60~80℃である。 The boric acid treatment after dyeing with a dichroic dye can usually be carried out by immersing the dyed polyvinyl alcohol resin film in an aqueous boric acid solution. The content of boric acid in this boric acid aqueous solution is usually about 2 to 15 parts by weight, preferably 5 to 12 parts by weight, per 100 parts by weight of water. When iodine is used as the dichroic dye, the boric acid aqueous solution preferably contains potassium iodide, and the content of potassium iodide in this case is usually 0.1 to 100 parts by mass of water. The amount is about 15 parts by mass, preferably 5 to 12 parts by mass. The immersion time in the boric acid aqueous solution is usually about 60 to 1,200 seconds, preferably 150 to 600 seconds, and more preferably 200 to 400 seconds. The temperature of the boric acid treatment is usually 50°C or higher, preferably 50 to 85°C, more preferably 60 to 80°C.

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬する方法により行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常5~40℃程度である。
また浸漬時間は、通常1~120秒程度である。
The polyvinyl alcohol resin film treated with boric acid is usually washed with water. The water washing treatment can be performed, for example, by immersing a boric acid-treated polyvinyl alcohol resin film in water. The temperature of water in the washing process is usually about 5 to 40°C.
The immersion time is usually about 1 to 120 seconds.

水洗後に乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は例えば、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常30~100℃程度であり、好ましくは50~80℃である。乾燥処理の時間は、通常60~600秒程度であり、好ましくは120~600秒である。乾燥処理により、偏光子の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常5~20質量%程度であり、好ましくは8~15質量%である。水分率が5質量%を下回ると、偏光子の可撓性が失われ、偏光子がその乾燥後に損傷したり、破断したりすることがある。また、水分率が20質量%を上回ると、偏光子の熱安定性が悪くなる可能性がある。 After washing with water, a drying process is performed to obtain a polarizer. The drying process can be performed using, for example, a hot air dryer or a far-infrared heater. The temperature of the drying treatment is usually about 30 to 100°C, preferably 50 to 80°C. The drying time is usually about 60 to 600 seconds, preferably 120 to 600 seconds. The drying process reduces the moisture content of the polarizer to a practical level. Its moisture content is usually about 5 to 20% by weight, preferably 8 to 15% by weight. When the moisture content is less than 5% by mass, the flexibility of the polarizer is lost and the polarizer may be damaged or broken after drying. Furthermore, if the moisture content exceeds 20% by mass, the thermal stability of the polarizer may deteriorate.

こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚みは好ましくは5~40μmである。 The thickness of the polarizer obtained by subjecting the polyvinyl alcohol resin film to uniaxial stretching, dyeing with a dichroic dye, boric acid treatment, washing with water, and drying is preferably 5 to 40 μm.

偏光子の片面又は両面に貼合される保護フィルムの材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのような樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートのような樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、(メタ)アクリル系樹脂フィルム、ポリプロピレン系樹脂フィルムなど、当分野において公知のフィルムを挙げることができる。保護フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常300μm以下であり、200μm以下であることが好ましく、50μm以下であることがより好ましく、また、通常5μm以上であり、20μm以上であることが好ましい。また、視認側の保護フィルムは位相差を有していてもよいし、位相差を有していなくてもよい。一方、第1位相差層に積層される側の保護フィルムは、その位相差が10nm以下であることが好ましい。 The material of the protective film attached to one or both sides of the polarizer is not particularly limited, but examples include cyclic polyolefin resin films, cellulose acetate-based resins such as triacetylcellulose, and diacetylcellulose. Films known in the art, such as resin films, polyester resin films made of resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate, polycarbonate resin films, (meth)acrylic resin films, and polypropylene resin films. can be mentioned. From the viewpoint of thinning, the thickness of the protective film is usually 300 μm or less, preferably 200 μm or less, more preferably 50 μm or less, and usually 5 μm or more, preferably 20 μm or more. . Further, the protective film on the viewing side may or may not have a retardation. On the other hand, it is preferable that the protective film laminated on the first retardation layer has a retardation of 10 nm or less.

(液晶層を有するフィルムを偏光子として備える偏光板)
液晶層を有するフィルムを偏光子として備える偏光板について説明する。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物、又は二色性色素と液晶化合物とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、単独で偏光板として用いてもよく、その片面又は両面に保護フィルムを有する構成で偏光板として用いてもよい。当該保護フィルムとしては、上記した延伸フィルムを偏光子として備える偏光板と同一のものが挙げられる。
(Polarizing plate comprising a film having a liquid crystal layer as a polarizer)
A polarizing plate including a film having a liquid crystal layer as a polarizer will be described. A film coated with a dye having absorption anisotropy and used as a polarizer may be coated with a composition containing a dichroic dye having liquid crystal properties, or a composition containing a dichroic dye and a liquid crystal compound. Examples include the resulting film. The film may be used alone as a polarizing plate, or may be used as a polarizing plate with a protective film on one or both sides. Examples of the protective film include the same one as the polarizing plate having the above-mentioned stretched film as a polarizer.

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常20μm以下であり、好ましくは5μm以下であり、より好ましくは0.5μm以上3μm以下である。 It is preferable for a film coated with a dye having absorption anisotropy to be thin, but if it is too thin, the strength tends to decrease and processability tends to be poor. The thickness of the film is usually 20 μm or less, preferably 5 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more and 3 μm or less.

前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開2012-33249号公報等に記載のフィルムが挙げられる。 Specific examples of the film coated with the dye having absorption anisotropy include the films described in JP-A No. 2012-33249 and the like.

前記吸収異方性を有する色素を、前記複合位相差板の第1位相差層側に直接塗布することにより、複合位相差板と偏光板とを積層してなる光学積層体を得てもよい。この場合、第2接着層を有することなく、複合位相差板と偏光板とを積層することができる。 An optical laminate formed by laminating a composite retardation plate and a polarizing plate may be obtained by directly applying the dye having absorption anisotropy to the first retardation layer side of the composite retardation plate. . In this case, the composite retardation plate and the polarizing plate can be laminated without having the second adhesive layer.

<第2接着層>
第2接着層は、例えば、粘着剤、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤及びこれらの組み合わせから構成することができる。この中でも、第2接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層であることにより、本発明の複合位相差板を含む光学積層体が折れ曲がった場合であっても、屈曲部におけるシワの発生をより抑制することができるので好ましい。本明細書において、「第2接着層」との用語は、接着剤から構成される接着層のみでなく、粘着剤から構成される粘着層をも含むものとする。
<Second adhesive layer>
The second adhesive layer can be composed of, for example, an adhesive, a water-based adhesive, an active energy ray-curable adhesive, or a combination thereof. Among these, the second adhesive layer is a cured product layer of an active energy ray-curable adhesive, so even when the optical laminate including the composite retardation plate of the present invention is bent, wrinkles at the bent portion can be avoided. This is preferable because it can further suppress the occurrence of. In this specification, the term "second adhesive layer" includes not only an adhesive layer made of an adhesive but also an adhesive layer made of an adhesive.

第2接着層をなす活性エネルギー線硬化型接着剤については、上記第1接着層での説明が適用される。第1接着層及び第2接着層が活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される場合、第1接着層と第2接着層とは同じ活性エネルギー線硬化型接着剤から形成されてもよいし、異なる活性エネルギー線硬化型接着剤から形成されてもよい。 Regarding the active energy ray-curable adhesive forming the second adhesive layer, the explanation for the first adhesive layer above applies. When the first adhesive layer and the second adhesive layer are formed from an active energy ray curable adhesive, the first adhesive layer and the second adhesive layer may be formed from the same active energy ray curable adhesive, They may be formed from different active energy ray-curable adhesives.

[複合位相差板及び光学積層体の製造方法]
本発明の複合位相差板は、図3(A)に示すような第1位相差発現層13、第1配向層12及び第1基材層11を含む第1位相差層10と、図3(B)に示すような第2位相差発現層23、第2配向層22及び第1基材層21を含む第2位相差層20とを第1接着層40を介して積層させることで製造できる。本発明の複合位相差板は、例えば、図3(C)に示すように、第1基材層11、第1配向層12、第1位相差発現層13、第1接着層40、第2位相差発現層23、第2配向層22、第2基材層21の順に積層された積層体である。また、本発明の複合位相差板は、第1位相差発現層13、第1配向層12、第1基材層11、第1接着層40、第2基材層21、第2配向層22、第2位相差発現層23の順に積層された積層体であってもよい。図3(A)~(C)において、Wは複合位相差板又は積層体の幅方向を表す。
[Method for manufacturing composite retardation plate and optical laminate]
The composite retardation plate of the present invention includes a first retardation layer 10 including a first retardation layer 13, a first alignment layer 12, and a first base layer 11 as shown in FIG. Manufactured by laminating a second retardation layer 20 including a second retardation layer 23, a second alignment layer 22, and a first base layer 21 as shown in (B) via a first adhesive layer 40. can. For example, as shown in FIG. 3C, the composite retardation plate of the present invention includes a first base layer 11, a first alignment layer 12, a first retardation layer 13, a first adhesive layer 40, a second This is a laminate in which a retardation expression layer 23, a second alignment layer 22, and a second base layer 21 are laminated in this order. Further, the composite retardation plate of the present invention includes a first retardation layer 13 , a first orientation layer 12 , a first base layer 11 , a first adhesive layer 40 , a second base layer 21 , a second orientation layer 22 , the second phase difference expressing layer 23 may be stacked in this order. In FIGS. 3A to 3C, W represents the width direction of the composite retardation plate or the laminate.

第1位相差層10と第2位相差層20とを接着させる方法としては、第1位相差層10の貼合面又は第2位相差層20の貼合面のいずれか又はその両方に接着剤を塗工し、これにもう一方の貼合面を積層し、第1接着層40を構成する接着剤を硬化させる方法が挙げられる。第1接着層40を構成する接着剤の塗工には、例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーターなど、種々の塗工方式が利用できる。 As a method for bonding the first retardation layer 10 and the second retardation layer 20, adhesive is attached to either or both of the bonding surface of the first retardation layer 10 or the bonding surface of the second retardation layer 20. An example of this method is to apply an adhesive, laminate the other bonding surface thereon, and harden the adhesive constituting the first adhesive layer 40. Various coating methods can be used to apply the adhesive constituting the first adhesive layer 40, such as a doctor blade, wire bar, die coater, comma coater, and gravure coater.

第1接着層を構成する接着剤を硬化する方法としては、接着剤の種類によって硬化する方法を適宜選択すればよい。接着剤が、活性エネルギー線硬化型接着剤である場合、上述のように、活性エネルギー線で硬化する方法が好ましい。第1位相差層10の貼合面又は第2位相差層20の貼合面のいずれか又はその両方に、コロナ処理、プラズマ処理等を行ってもよいし、プライマー層を形成してもよい。 As a method for curing the adhesive constituting the first adhesive layer, a curing method may be selected as appropriate depending on the type of adhesive. When the adhesive is an active energy ray-curable adhesive, a method of curing with active energy rays is preferred, as described above. Corona treatment, plasma treatment, etc. may be performed on either or both of the bonding surface of the first retardation layer 10 or the bonding surface of the second retardation layer 20, or a primer layer may be formed. .

本発明の複合位相差板は、図3(C)に示すような積層体であってもよいし、第1基材層11及び第2基材層21の少なくとも一方の層を剥離した積層体であってもよい。また、図3(C)に示す積層体から第1基材層11及び第1配向層12が剥離された積層体であってもよいし、図3(C)に示す積層体から第2基材層21及び第2配向層22が剥離された積層体であってもよい。 The composite retardation plate of the present invention may be a laminate as shown in FIG. 3(C), or a laminate obtained by peeling off at least one of the first base layer 11 and the second base layer 21. It may be. Alternatively, the first base layer 11 and the first alignment layer 12 may be peeled off from the laminate shown in FIG. 3(C), or the second base layer may be removed from the laminate shown in FIG. It may be a laminate in which the material layer 21 and the second alignment layer 22 are separated.

[光学積層体の用途]
円偏光板である光学積層体は、画像表示パネルの視認側に配置されて反射防止性能を付与する光学積層体として、さまざまな画像表示装置に用いることができる。画像表示装置とは、画像表示パネルを有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置(例えば電場放出表示装置(FED)、表面電界放出表示装置(SED))、電子ペーパー(電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置(例えばグレーティングライトバルブ(GLV)表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を有する表示装置)および圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置および投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの画像表示装置は、2次元画像を表示する画像表示装置であってもよいし、3次元画像を表示する立体画像表示装置であってもよい。特に円偏光板である光学積層体は、屈曲部を有する画像表示パネルを備え得る有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置に有効に用いることができる。
[Applications of optical laminate]
An optical laminate that is a circularly polarizing plate can be used in various image display devices as an optical laminate that is placed on the viewing side of an image display panel and provides antireflection performance. An image display device is a device having an image display panel, and includes a light emitting element or a light emitting device as a light source. Image display devices include liquid crystal display devices, organic electroluminescence (EL) display devices, inorganic electroluminescence (EL) display devices, touch panel display devices, and electron emission display devices (e.g., field emission displays (FEDs), surface field emission displays). (SED)), electronic paper (display devices using electronic ink or electrophoretic elements, plasma display devices, projection type display devices (e.g. grating light valve (GLV) display devices, displays with digital micromirror devices (DMD)) LCD devices) and piezoelectric ceramic displays.Liquid crystal display devices include transmission type liquid crystal display devices, transflective type liquid crystal display devices, reflective type liquid crystal display devices, direct view type liquid crystal display devices, and projection type liquid crystal display devices. These image display devices may be image display devices that display two-dimensional images or stereoscopic image display devices that display three-dimensional images.In particular, optical laminated devices that are circularly polarizing plates The body can be advantageously used in organic electroluminescent (EL) display devices that can include image display panels with bends.

本発明によると、屈曲部を有する画像表示パネルの表面にこれに沿わせるように光学積層体を屈曲させて配置しても、シワの発生がない光学積層体を得ることができる。 According to the present invention, even if the optical laminate is bent and placed along the surface of an image display panel having a bent portion, it is possible to obtain an optical laminate that does not generate wrinkles.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
[光硬化型の接着剤1~15の調製]
(1)カチオン硬化性成分の準備
以下に示すカチオン硬化性成分を準備した。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
[Preparation of photocurable adhesives 1 to 15]
(1) Preparation of cationic curable component The following cationic curable component was prepared.

(A-1)3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(商品名:CEL2021P、株式会社ダイセル製)、
(A-2)2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物(商品名:EHPE3150、株式会社ダイセル製)、
(B-1)ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(商品名:EX-211、ナガセケムテックス株式会社製)、
(B-2)1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル(商品名:EX-214、ナガセケムテックス株式会社製)、
(B-3)2-エチルヘキシルグリシジルエーテル(商品名:EX-121、ナガセケムテックス株式会社製)
(C-1)レゾルシノールジグリシジルエーテル(商品名:EX-201、ナガセケムテックス株式会社製)
(C-2)多官能グリシジルエーテル(商品名:VG3101L、株式会社プリンテック製)
(D-1)3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン(商品名:OXT-221、東亞合成株式会社)
(D-2)キシリレンビスオキセタン(商品名:OXT-121、東亞合成株式会社)
(2)ラジカル硬化性成分の準備
以下に示すラジカル硬化性成分を準備した。
(A-1) 3',4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate (product name: CEL2021P, manufactured by Daicel Corporation),
(A-2) 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol (trade name: EHPE3150, manufactured by Daicel Corporation),
(B-1) Neopentyl glycol diglycidyl ether (product name: EX-211, manufactured by Nagase ChemteX Corporation),
(B-2) 1,4-butanediol diglycidyl ether (product name: EX-214, manufactured by Nagase ChemteX Corporation),
(B-3) 2-ethylhexyl glycidyl ether (product name: EX-121, manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
(C-1) Resorcinol diglycidyl ether (product name: EX-201, manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
(C-2) Polyfunctional glycidyl ether (product name: VG3101L, manufactured by Printec Co., Ltd.)
(D-1) 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane (product name: OXT-221, Toagosei Co., Ltd.)
(D-2) Xylylene bisoxetane (product name: OXT-121, Toagosei Co., Ltd.)
(2) Preparation of radical curable component The following radical curable component was prepared.

(E-1)4-ヒドロキシブチルアクリレート(商品名:4HBA、日本化成株式会社製)
(E-2)1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート(商品名:CHDMMA、日本化成株式会社製)
(E-3)ジメチルアクリルアミド(商品名:DMAA、株式会社興人製)
(E-4)ポリウレタンアクリレート(商品名:紫光 UV-3000B、日本合成化学工業株式会社製)
(3)カチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤の準備
以下に示すカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤(表1では「開始剤」と略記)を準備した。
(E-1) 4-hydroxybutyl acrylate (product name: 4HBA, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)
(E-2) 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate (trade name: CHDMMA, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)
(E-3) Dimethylacrylamide (product name: DMAA, manufactured by Kojin Co., Ltd.)
(E-4) Polyurethane acrylate (product name: Shiko UV-3000B, manufactured by Nippon Gosei Chemical Industry Co., Ltd.)
(3) Preparation of cationic polymerization initiator and radical polymerization initiator The following cationic polymerization initiator and radical polymerization initiator (abbreviated as "initiator" in Table 1) were prepared.

(F-1)カチオン重合開始剤(商品名:CPI-100、サンアプロ株式会社製)
(F-2)ラジカル重合開始剤(商品名:IRGACURE1173、BASF社製)
(4)増感剤の準備
以下に示す増感剤を準備した。
(F-1) Cationic polymerization initiator (product name: CPI-100, manufactured by San-Apro Co., Ltd.)
(F-2) Radical polymerization initiator (product name: IRGACURE1173, manufactured by BASF)
(4) Preparation of sensitizer The following sensitizer was prepared.

(G-1)1,4-ジエトキシナフタレン(表1では「DEN」と略記)
(5)接着剤1~15の調製
上記のカチオン硬化性成分およびカチオン重合開始剤、または、ラジカル硬化性成分およびラジカル重合開始剤を、表1に示す配合割合(単位は質量部)で混合した後、脱泡して、光硬化型の接着剤1~15を調製した。なお、カチオン重合開始剤(F-1)は、50%プロピレンカーボネート溶液として配合し、表1はその固形分量で表示した。
(G-1) 1,4-diethoxynaphthalene (abbreviated as “DEN” in Table 1)
(5) Preparation of Adhesives 1 to 15 The above cationic curable component and cationic polymerization initiator, or the radical curable component and radical polymerization initiator were mixed in the proportions shown in Table 1 (unit: parts by mass). Thereafter, the mixture was defoamed to prepare photocurable adhesives 1 to 15. The cationic polymerization initiator (F-1) was blended as a 50% propylene carbonate solution, and Table 1 shows the solid content.

[粘着剤1の調製]
(1)材料の準備
以下に示すアクリル系のベースポリマー(G-1)、イソシアネート系架橋剤(G-2)及びシランカップリング剤(G-3)を準備した。
[Preparation of adhesive 1]
(1) Preparation of materials The following acrylic base polymer (G-1), isocyanate crosslinking agent (G-2), and silane coupling agent (G-3) were prepared.

(H-1)ブチルアクリレート、メチルアクリレート、アクリル酸及びヒドロキシエチルアクリレートの共重合体
(H-2)トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液(固形分濃度75%)(「コロネートL」(商品名)、東ソー株式会社製)
(H-3)3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、液体(「KBM-403」(商品名)、信越化学工業(株)製)
(2)粘着剤1の調製
上記アクリル系のベースポリマー(H-1)100質量部と、イソシアネート系架橋剤(H-2)0.2質量部と、シランカップリング剤(H-3)0.2質量部とを混合し、十分に撹拌して、酢酸エチルで希釈することにより、粘着剤1を調製した。
(H-1) Copolymer of butyl acrylate, methyl acrylate, acrylic acid and hydroxyethyl acrylate (H-2) Ethyl acetate solution (solid content concentration 75%) of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate ("Coronate L") ” (product name), manufactured by Tosoh Corporation)
(H-3) 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, liquid (“KBM-403” (trade name), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(2) Preparation of adhesive 1 100 parts by mass of the above acrylic base polymer (H-1), 0.2 parts by mass of isocyanate crosslinking agent (H-2), and 0 parts by mass of silane coupling agent (H-3). Adhesive 1 was prepared by mixing .2 parts by mass, stirring thoroughly, and diluting with ethyl acetate.

〔試験例1〕(粘度測定)
上記で調製した接着剤1~15について、東機産業株式会社製のE型粘度計“TVE-25”を用いて、温度25℃及び10rpmにおける粘度を測定した。結果を表1に示す。
[Test Example 1] (Viscosity measurement)
The viscosity of the adhesives 1 to 15 prepared above was measured at a temperature of 25° C. and 10 rpm using an E-type viscometer “TVE-25” manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. The results are shown in Table 1.

〔試験例2〕(突刺し傾きの測定)
(1)接着剤1~15を用いた接着層試験片の調製
上記で調製した接着剤1~15を、剥離紙上に塗工し、フュージョンUVシステムズ社製の紫外線ランプ「Hバルブ」が取り付けられた紫外線照射装置を用い、光照射強度が400mW/cm、波長280~320nmでの積算光量が400mJ/cmとなるように紫外線を照射して接着剤を硬化させて、硬化させた接着層を剥離紙から剥離して接着層試験片を調製した。接着層試験片の厚さは、30μmであった。接着層試験片の厚みは、接触式膜厚計〔ニコン(株)製の商品名“DIGIMICRO MH-15M”〕により測定した。
[Test Example 2] (Measurement of piercing inclination)
(1) Preparation of adhesive layer test pieces using Adhesives 1 to 15 The adhesives 1 to 15 prepared above were coated on release paper, and an ultraviolet lamp "H Bulb" manufactured by Fusion UV Systems was attached. The adhesive was cured by irradiating the adhesive with ultraviolet rays using a UV irradiation device with a light irradiation intensity of 400 mW/cm 2 and an integrated light amount of 400 mJ/cm 2 at a wavelength of 280 to 320 nm. was peeled off from the release paper to prepare an adhesive layer test piece. The thickness of the adhesive layer test piece was 30 μm. The thickness of the adhesive layer test piece was measured using a contact type film thickness meter [trade name "DIGIMICRO MH-15M" manufactured by Nikon Corporation].

(2)粘着剤1を用いた粘着層試験片の調製
上記で調製した粘着剤1を剥離紙上に塗工し、90℃で1分間加熱処理して、得られた粘着層を剥離紙から剥離して粘着層試験片を調製した。粘着層試験片の厚さは、5μm、25μmであった。粘着層試験片の厚みは、接触式膜厚計〔ニコン(株)製の商品名“DIGIMICRO MH-15M”〕により測定した。
(2) Preparation of adhesive layer test piece using adhesive 1 The adhesive 1 prepared above was coated on release paper, heat treated at 90°C for 1 minute, and the resulting adhesive layer was peeled from the release paper. An adhesive layer test piece was prepared. The thickness of the adhesive layer test piece was 5 μm and 25 μm. The thickness of the adhesive layer test piece was measured using a contact type film thickness meter [trade name "DIGIMICRO MH-15M" manufactured by Nikon Corporation].

(3)接着層試験片及び粘着層試験片の突刺し傾きの測定
上記(1)及び(2)で調製した接着層試験片及び粘着層試験片の突刺し傾きを以下の方法により測定算出した。まず、直径1mm、先端の曲率半径0.5Rの突刺治具を装着した小型卓上試験機〔(株)島津製作所製の商品名“EZ Test”〕を用いて、突刺し強度の測定を行った。得られた突き刺し強度A(kg)と、裂けるまでの突き刺し深さB(mm)と、下記式とを用いて、単位膜厚当たりの突き刺し傾きE(kg/mm)を算出した。
E=A/B
測定は、5個以上の試験片について行い、上記式を用いて算出した突き刺し傾きについてその平均値を求めた。測定結果を表1に示す。
(3) Measurement of the piercing slope of the adhesive layer test piece and the adhesive layer test piece The piercing slope of the adhesive layer test piece and adhesive layer test piece prepared in (1) and (2) above was measured and calculated by the following method. . First, the puncture strength was measured using a small tabletop tester [trade name "EZ Test" manufactured by Shimadzu Corporation] equipped with a puncture jig with a diameter of 1 mm and a tip radius of curvature of 0.5R. . The puncture inclination E (kg/mm) per unit film thickness was calculated using the obtained puncture strength A (kg), the puncture depth B (mm) until tearing, and the following formula.
E=A/B
The measurement was performed on five or more test pieces, and the average value of the piercing inclination calculated using the above formula was determined. The measurement results are shown in Table 1.

〔試験例3〕(貯蔵弾性率の測定)
(1)接着剤1~15を用いた接着層フィルムの調製
上記で調製した接着剤1~15を、厚み50μmの環状ポリオレフィン系樹脂フィルム〔日本ゼオン(株)から販売されている「ゼオノアフィルム」〕の片面に、塗工機〔バーコーター、第一理化(株)製〕を用いて塗工し、その塗工面にさらに厚み50μmの環状ポリオレフィン系樹脂フィルム〔日本ゼオン(株)から販売されている「ゼオノアフィルム」〕を積層させた。次に、フュージョンUVシステムズ社製の紫外線ランプ「Hバルブ」により、積算光量が1500mJ/cm2(UVB)となるように紫外線を照射して接着剤を硬化させた。接着層の厚みは30μmであった。かかる積層体を5mm×30mmの大きさに裁断し、両面の環状ポリオレフィン系樹脂フィルムを剥がして接着層のみからなる接着層フィルムを得た。
[Test Example 3] (Measurement of storage modulus)
(1) Preparation of adhesive layer film using Adhesives 1 to 15 The adhesives 1 to 15 prepared above were applied to a 50 μm thick cyclic polyolefin resin film [“Zeonor Film” sold by Nippon Zeon Co., Ltd.] ] on one side using a coating machine [Bar coater, manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd.], and then coated with a 50 μm thick cyclic polyolefin resin film [sold by Nippon Zeon Co., Ltd.] on the coated surface. ``Zeonor Film''] was laminated. Next, the adhesive was cured by irradiating ultraviolet rays using an ultraviolet lamp "H Bulb" manufactured by Fusion UV Systems, Inc. such that the cumulative amount of light was 1500 mJ/cm 2 (UVB). The thickness of the adhesive layer was 30 μm. This laminate was cut into a size of 5 mm x 30 mm, and the cyclic polyolefin resin films on both sides were peeled off to obtain an adhesive layer film consisting only of the adhesive layer.

(2)粘着剤1を用いた粘着層フィルムの調製
上記で調製した粘着剤1を、剥離紙の片面に、塗工機〔バーコーター、第一理化(株)製〕を用いて塗工し、その粘着層の上面にさらに剥離紙を積層させ、90℃で1分間加熱処理し、23℃、50%RHの条件下で7日間養生した。養生後の粘着層の厚みは25μmであった。かかる積層体を、5mm×30mmの大きさに裁断し、両面の剥離紙を剥がして粘着層のみからなる粘着層フィルムを得た。
(2) Preparation of adhesive layer film using adhesive 1 Apply adhesive 1 prepared above to one side of release paper using a coating machine [bar coater, manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd.]. A release paper was further laminated on the top surface of the adhesive layer, heat treated at 90° C. for 1 minute, and cured for 7 days at 23° C. and 50% RH. The thickness of the adhesive layer after curing was 25 μm. This laminate was cut into a size of 5 mm x 30 mm, and the release paper on both sides was peeled off to obtain an adhesive layer film consisting only of the adhesive layer.

(3)接着層フィルム及び粘着層フィルムの貯蔵弾性率の測定
上記(1)で調製した接着層フィルム及び上記(2)で調製した粘着層フィルムをその長辺が引張り方向となるように、アイティー計測制御(株)製の動的粘弾性測定装置「DVA-220」を用いてつかみ具の間隔2cmで把持し、引張りと収縮の周波数を10Hz、測定温度を30℃にし、温度30℃における貯蔵弾性率を求めた。測定結果を表1に示す。
(3) Measurement of storage modulus of adhesive layer film and adhesive layer film The adhesive layer film prepared in (1) above and the adhesive layer film prepared in Using a dynamic viscoelasticity measuring device "DVA-220" manufactured by Tee Keisaku Control Co., Ltd., the samples were gripped with a gap of 2 cm between the grips, the tension and contraction frequency was 10 Hz, the measurement temperature was 30°C, and the temperature was 30°C. The storage modulus was determined. The measurement results are shown in Table 1.

〔試験例4〕(ガラス転移温度の測定)
(1)接着剤1~15を用いた測定用試料の調製
上記で調製した接着剤1~15を、厚み50μmの環状ポリオレフィン系樹脂フィルム〔日本ゼオン(株)から販売されている「ゼオノアフィルム」〕の片面に、塗工機〔バーコーター、第一理化(株)製〕を用いて塗工し、その塗工面にさらに厚み50μmの環状ポリオレフィン系樹脂フィルム〔日本ゼオン(株)から販売されている「ゼオノアフィルム」〕を積層させた。次に、フュージョンUVシステムズ社製の紫外線ランプ「Hバルブ」により、積算光量が1500mJ/cm2(UVB)となるように紫外線を照射して接着剤を硬化させた。接着層の厚みは30μmであった。次に、接着層を挟んでいる環状ポリオレフィン系樹脂フィルムを剥がし、接着層を5mg採取して、アルミニウム押え蓋型容器に入れ、押さえつけて密閉し、測定用試料を作製した。
[Test Example 4] (Measurement of glass transition temperature)
(1) Preparation of measurement samples using Adhesives 1 to 15 Adhesives 1 to 15 prepared above were applied to a 50 μm thick cyclic polyolefin resin film [“Zeonor Film” sold by Nippon Zeon Co., Ltd.] ] on one side using a coating machine [Bar coater, manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd.], and then coated with a 50 μm thick cyclic polyolefin resin film [sold by Nippon Zeon Co., Ltd.] on the coated surface. ``Zeonor Film''] was laminated. Next, the adhesive was cured by irradiating ultraviolet rays using an ultraviolet lamp "H Bulb" manufactured by Fusion UV Systems, Inc. such that the cumulative amount of light was 1500 mJ/cm 2 (UVB). The thickness of the adhesive layer was 30 μm. Next, the cyclic polyolefin resin film sandwiching the adhesive layer was peeled off, and 5 mg of the adhesive layer was collected, placed in an aluminum press lid-type container, and sealed by pressing to prepare a measurement sample.

(2)粘着剤1を用いた測定用試料の調製
上記で調製した粘着剤1を、剥離紙の片面に、塗工機〔バーコーター、第一理化(株)製〕を用いて塗工し、その粘着層の上面にさらに剥離紙を積層させ、90℃で1分間加熱処理し、23℃、50%RHの条件下で7日間養生した。粘着層の厚みは25μmであった。次に、粘着層を挟んでいる剥離紙を剥がし、その粘着層を5mg採取して、アルミニウム押え蓋型容器に入れ、押さえつけて密閉し、測定用試料を作製した。
(2) Preparation of measurement sample using adhesive 1 Apply adhesive 1 prepared above to one side of release paper using a coating machine [bar coater, manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd.]. A release paper was further laminated on the top surface of the adhesive layer, heat treated at 90° C. for 1 minute, and cured for 7 days at 23° C. and 50% RH. The thickness of the adhesive layer was 25 μm. Next, the release paper sandwiching the adhesive layer was peeled off, and 5 mg of the adhesive layer was collected, placed in an aluminum presser lid type container, and sealed by pressing to prepare a measurement sample.

(3)接着層試料及び粘着層試料のガラス転移温度(Tg)の測定
示差走査熱量計(DSC)〔エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)から販売されている「EXSTAR-6000 DSC6220」〕に、上記(1)及び(2)で調製した接着層試料及び粘着層試料が入った容器(測定用試料)をセットし、窒素ガスをパージしながら、20℃から-60℃まで降温し、-60℃に達してから1分間保持した後、-60℃から200℃まで10℃/分の昇温速度で昇温し、200℃に達したら直ちに20℃まで降温した。そして、-60℃から200℃まで昇温するときのDSC曲線から、JIS K 7121-1987「プラスチックの転移温度測定方法」に規定される中間点ガラス転移温度を求め、これを測定対象のガラス転移温度(Tg)とした。結果を表1に示す。
(3) Measurement of glass transition temperature (Tg) of adhesive layer sample and adhesive layer sample The adhesive layer sample prepared in (1) and (2) and the container containing the adhesive layer sample (measurement sample) were set, and the temperature was lowered from 20°C to -60°C while purging with nitrogen gas, and the temperature was lowered to -60°C. After reaching the temperature, the temperature was held for 1 minute, and then the temperature was raised from -60°C to 200°C at a rate of 10°C/min, and when it reached 200°C, the temperature was immediately lowered to 20°C. Then, from the DSC curve when the temperature is raised from -60°C to 200°C, the midpoint glass transition temperature specified in JIS K 7121-1987 "Method for measuring the transition temperature of plastics" is determined, and this is determined as the glass transition temperature of the object to be measured. Temperature (Tg). The results are shown in Table 1.

[複合位相差板の製造例]
(1-1)第1複合位相差板(実施例1~14及び比較例1~4)の製造
液晶層である位相差発現層、配向層及び基材層の3層からなる1/2波長層(第1位相差層)と、液晶層である位相差発現層、配向層及び基材層の3層からなる1/4波長層(第2位相差層)とを、位相差発現層が内側になるようにして表2に示す接着剤(接着剤1~15)を用いて積層し、上記試験例2において接着層試験片を形成したときと同様の条件で紫外線を照射し、光硬化型の接着剤を硬化させて硬化物層を形成し積層体を得た。なお、硬化後の接着層の厚さは表2に記載の通りとなるようにした。得られた積層体から、第1基材層、第1配向層、第2基材層及び第2配向層を剥離した後のものを第1複合位相差板(実施例1~14及び比較例1~4)とした。
[Example of manufacturing composite retardation plate]
(1-1) Production of the first composite retardation plate (Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 4) 1/2 wavelength consisting of three layers: a retardation layer that is a liquid crystal layer, an alignment layer, and a base material layer (first retardation layer), and a quarter wavelength layer (second retardation layer) consisting of three layers: a retardation layer, which is a liquid crystal layer, an alignment layer, and a base material layer. The adhesives shown in Table 2 (Adhesives 1 to 15) were laminated so that the inner side was exposed, and the adhesive layer was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as when forming the adhesive layer test piece in Test Example 2 above to be photocured. The adhesive in the mold was cured to form a cured material layer to obtain a laminate. The thickness of the adhesive layer after curing was as shown in Table 2. After peeling off the first base layer, first alignment layer, second base layer, and second alignment layer from the obtained laminate, the first composite retardation plate (Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 4).

(1-2)第1複合位相差板(比較例5,6)の製造
上記(1)と同じ1/2波長層の位相差発現層の上に粘着剤1を塗布し、上記試験例2において粘着層試験片を形成したときと同様の条件で粘着層を形成し、その上に位相差発現層が粘着層に接触するように上記(1)と同じ1/4波長層を積層して積層体を得た。
なお、粘着層の厚さは表2に記載の通りとなるようにした。得られた積層体から、第1基材層、第1配向層、第2基材層及び第2配向層を剥離した後のものを第1複合位相差板(比較例5,6)とした
(2-1)第2複合位相差板(実施例15~28及び比較例7)の製造
液晶層である位相差発現層、配向層及び基材層の3層からなる逆分散性1/4波長層(第1位相差層)と、液晶層である位相差発現層、配向層及び基材層の3層からなるポジティブCプレート(第2位相差層)とを、位相差発現層が内側になるようにして表3に示す接着剤(接着剤1~15)を用いて積層し、上記試験例2において接着層試験片を形成したときと同様の条件で紫外線を照射し、光硬化型の接着剤を硬化させて硬化物層を形成し積層体を得た。なお、硬化後の接着層の厚さは表3に記載の通りとなるようにした。得られた積層体から、第1基材層及び第2基材層を剥離した後のものを第2複合位相差板(実施例15~28及び比較例7)とした。
(1-2) Production of first composite retardation plate (Comparative Examples 5 and 6) Adhesive 1 was applied on the retardation layer of the same 1/2 wavelength layer as in (1) above, and Test Example 2 An adhesive layer was formed under the same conditions as when forming the adhesive layer test piece in , and the same 1/4 wavelength layer as in (1) above was laminated on it so that the retardation layer was in contact with the adhesive layer. A laminate was obtained.
The thickness of the adhesive layer was set as shown in Table 2. The first composite retardation plate (Comparative Examples 5 and 6) was obtained after peeling off the first base layer, first alignment layer, second base layer, and second alignment layer from the obtained laminate. (2-1) Production of second composite retardation plate (Examples 15 to 28 and Comparative Example 7) Reverse dispersion 1/4 consisting of three layers: a retardation layer which is a liquid crystal layer, an alignment layer and a base material layer A positive C plate (second retardation layer) consisting of a wavelength layer (first retardation layer), a retardation layer (liquid crystal layer), an alignment layer, and a base material layer, with the retardation layer on the inside. The adhesives shown in Table 3 (adhesives 1 to 15) were laminated so that The adhesive was cured to form a cured product layer to obtain a laminate. The thickness of the adhesive layer after curing was as shown in Table 3. A second composite retardation plate (Examples 15 to 28 and Comparative Example 7) was obtained after the first base layer and the second base layer were peeled off from the obtained laminate.

(2-2)第2複合位相差板(比較例8,9)の製造
上記(3)と同じ逆分散性1/4波長層の上に粘着剤1を塗布し、上記試験例2において粘着層試験片を形成したときと同様の条件で粘着層を形成し、その上に位相差発現層が粘着層に接触するように上記(3)と同じポジティブCプレートを積層して積層体を得た。なお、粘着層の厚さは表3に記載の通りとなるようにした。得られた積層体から、第1基材層及び第2基材層を剥離した後のものを第2複合位相差板(比較例8,9)とした
[光学積層体の製造例]
(1)偏光板の製造
平均重合度約2,400、ケン化度99.9モル%以上で厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルムを、30℃の純水に浸漬した後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の質量比が0.02/2/100の水溶液に30℃で浸漬してヨウ素染色を行った(ヨウ素染色工程)。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の質量比が12/5/100の水溶液に、56.5℃で浸漬してホウ酸処理を行った(ホウ酸処理工程)。ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを8℃の純水で洗浄した後、65℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子(延伸後の厚さ27μm)を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は5.3倍であった。得られた偏光子に両面に、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム(商品名:KC4UYTAC、コニカミノルタ製、厚さ40μm)を水系接着剤を介してニップロールで貼り合せた。得られた貼合物の張力を430N/mに保ちながら、60℃で2分間乾燥して、両面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光板を得た。上述の水系接着剤は、水100部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール(クラレポバールKL318、クラレ製)3部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂(スミレーズレジン650、住化ケムテックス製、固形分濃度30%の水溶液)1.5部を添加して調製した。
(2-2) Production of second composite retardation plate (Comparative Examples 8 and 9) Adhesive 1 was applied on the same reverse dispersion 1/4 wavelength layer as in (3) above, and adhesive An adhesive layer was formed under the same conditions as when forming the layer test piece, and the same positive C plate as in (3) above was laminated thereon so that the retardation layer was in contact with the adhesive layer to obtain a laminate. Ta. The thickness of the adhesive layer was set as shown in Table 3. A second composite retardation plate (Comparative Examples 8 and 9) was obtained after peeling off the first base layer and the second base layer from the obtained laminate. [Production example of optical laminate]
(1) Manufacture of polarizing plate After immersing a 75 μm thick polyvinyl alcohol film with an average degree of polymerization of about 2,400 and a degree of saponification of 99.9 mol% or more in pure water at 30°C, iodine/potassium iodide/ Iodine dyeing was performed by immersing the sample in an aqueous solution having a water mass ratio of 0.02/2/100 at 30° C. (iodine dyeing step). The polyvinyl alcohol film that had undergone the iodine dyeing process was immersed in an aqueous solution with a mass ratio of potassium iodide/boric acid/water of 12/5/100 at 56.5°C to perform boric acid treatment (boric acid treatment process). ). After washing the polyvinyl alcohol film that had undergone the boric acid treatment process with pure water at 8°C, it was dried at 65°C to obtain a polarizer (thickness 27 μm after stretching) in which iodine was adsorbed and oriented in polyvinyl alcohol. . At this time, stretching was performed in the iodine dyeing step and the boric acid treatment step. The total stretching ratio in this stretching was 5.3 times. A saponified triacetylcellulose film (trade name: KC4UYTAC, manufactured by Konica Minolta, thickness 40 μm) was bonded to both sides of the obtained polarizer using a nip roll via a water-based adhesive. While maintaining the tension of the obtained bond at 430 N/m, it was dried at 60° C. for 2 minutes to obtain a polarizing plate having triacetyl cellulose films as protective films on both sides. The above-mentioned water-based adhesive contains 100 parts of water, 3 parts of carboxyl group-modified polyvinyl alcohol (Kuraray Poval KL318, manufactured by Kuraray), and a water-soluble polyamide epoxy resin (Sumirezu Resin 650, manufactured by Sumika Chemtex, solid content concentration 30%). was prepared by adding 1.5 parts of an aqueous solution of

(2)第1光学積層体(実施例1~14及び比較例1~4)の製造
上記で製造した偏光板と上記(1-1)又は(1-2)で製造した第1複合位相差板とを、第1複合位相差板の第1位相差層側が接着面となるようにアクリル系粘着剤(膜厚25μm)を用いて貼合し、第1光学積層体を製造した。このとき、上記で製造した偏光板の吸収軸方向(0°)に対して第1位相差層の遅相軸が反時計回りを正として-15°となるように積層し、かつ上記で製造した偏光板の吸収軸方向と第2位相差層の遅相軸とが-75°となるように積層した。
(2) Production of the first optical laminate (Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 4) The polarizing plate produced above and the first composite retardation produced in (1-1) or (1-2) above The first composite retardation plate was bonded to the first optical laminate using an acrylic adhesive (thickness: 25 μm) so that the first retardation layer side of the first composite retardation plate served as the adhesive surface, thereby producing a first optical laminate. At this time, the first retardation layer was laminated so that the slow axis of the first retardation layer was -15° with the counterclockwise direction being positive with respect to the absorption axis direction (0°) of the polarizing plate manufactured above, and The polarizing plates were laminated so that the absorption axis direction of the polarizing plate and the slow axis of the second retardation layer were -75°.

(3)第2光学積層体の製造(実施例15~28及び比較例7~9)
上記で製造した偏光板と上記(2-1)又は(2-2)で製造した第2複合位相差板とを、第2複合位相差板の第1位相差層側が接着面となるようにアクリル系粘着剤(膜厚25μm)を用いて貼合し、第2光学積層体を製造した。このとき、上記で製造した偏光板の吸収軸方向(0°)に対して、第1位相差層の遅相軸とが45°となるように積層した。
(3) Production of second optical laminate (Examples 15 to 28 and Comparative Examples 7 to 9)
The polarizing plate manufactured above and the second composite retardation plate manufactured in (2-1) or (2-2) above are bonded together so that the first retardation layer side of the second composite retardation plate is the adhesive surface. They were laminated using an acrylic pressure-sensitive adhesive (film thickness: 25 μm) to produce a second optical laminate. At this time, the layers were stacked so that the slow axis of the first retardation layer was at 45° with respect to the absorption axis direction (0°) of the polarizing plate manufactured above.

〔試験例5〕(シワの発生の評価)
上記(2)で製造した第1光学積層体及び上記(3)で製造した第2光学積層体を、複合位相差板側が貼着面となるようにアクリル系粘着剤(膜厚25μm)を用いて屈曲部2Rを有するアルミ板に貼合し、屈曲部でのシワの発生を目視で観察し、以下の基準に基づいてシワの発生を評価した。評価結果を表2及び表3に示す。
1:屈曲部においてシワが確認されなかった、
2:屈曲部においてわずかにシワがあることが確認された(シワの数:1~5本)、
3:屈曲部においてシワがあることが確認され(シワの数:5本以上)。
[Test Example 5] (Evaluation of wrinkle occurrence)
The first optical laminate produced in (2) above and the second optical laminate produced in (3) above were bonded using an acrylic adhesive (film thickness 25 μm) so that the composite retardation plate side was the adhesive surface. The film was bonded to an aluminum plate having a bent portion 2R, and the occurrence of wrinkles at the bent portion was visually observed, and the occurrence of wrinkles was evaluated based on the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
1: No wrinkles were observed at the bent part.
2: It was confirmed that there were slight wrinkles at the bent part (number of wrinkles: 1 to 5),
3: It was confirmed that there were wrinkles at the bent part (number of wrinkles: 5 or more).

Figure 0007348719000002
Figure 0007348719000002

Figure 0007348719000003
Figure 0007348719000003

1 第1位相差層、2 第2位相差層、4 第1接着層、5 複合位相差板、10 第1位相差層、11 第1基材層、12 第1配向層、13 第1位相差発現層、20 第2位相差層、21 第2基材層、22 第2配向層、23 第2位相差発現層、40 第1接着層、50 積層体(複合位相差板)、W 幅方向。 1 First retardation layer, 2 Second retardation layer, 4 First adhesive layer, 5 Composite retardation plate, 10 First retardation layer, 11 First base layer, 12 First orientation layer, 13 First place Retardation expression layer, 20 Second retardation layer, 21 Second base layer, 22 Second alignment layer, 23 Second retardation expression layer, 40 First adhesive layer, 50 Laminated body (composite retardation plate), W Width direction.

Claims (15)

第1位相差層と、第2位相差層と、第1位相差層と第2位相差層とを接着する第1接着層とを含み、
第1接着層は、厚み方向の突刺し傾きが400g/mm~800g/mmであり、
第1接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性化合物の全量に対して35質量%以上の脂環式エポキシ化合物を含む、複合位相差板。
including a first retardation layer, a second retardation layer, and a first adhesive layer that adheres the first retardation layer and the second retardation layer,
The first adhesive layer has a piercing slope in the thickness direction of 400 g/mm to 800 g/mm,
The first adhesive layer is a cured product layer of an active energy ray-curable adhesive,
The active energy ray-curable adhesive is a composite retardation plate containing an alicyclic epoxy compound in an amount of 35% by mass or more based on the total amount of the curable compound.
第1位相差層と、第2位相差層と、第1位相差層と第2位相差層とを接着する第1接着層とを含み、
第1接着層は、温度30℃での貯蔵弾性率が600MPa以上であり、厚み方向の突刺し傾きが400g/mm~800g/mmであり、かつ活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性化合物の全量に対して35質量%以上の脂環式エポキシ化合物を含む、複合位相差板。
including a first retardation layer, a second retardation layer, and a first adhesive layer that adheres the first retardation layer and the second retardation layer,
The first adhesive layer has a storage modulus of 600 MPa or more at a temperature of 30°C, a piercing slope in the thickness direction of 400 g/mm to 800 g/mm, and a cured product layer of an active energy ray-curable adhesive. and
The active energy ray-curable adhesive is a composite retardation plate containing an alicyclic epoxy compound in an amount of 35% by mass or more based on the total amount of the curable compound.
第1位相差層と、第2位相差層と、第1位相差層と第2位相差層とを接着する第1接着層とを含み、
第1接着層は、ガラス転移温度が60℃~200℃であり、厚み方向の突刺し傾きが400g/mm~800g/mmであり、かつ活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層であり、
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化性化合物の全量に対して35質量%以上の脂環式エポキシ化合物を含む、複合位相差板。
including a first retardation layer, a second retardation layer, and a first adhesive layer that adheres the first retardation layer and the second retardation layer,
The first adhesive layer has a glass transition temperature of 60° C. to 200° C., a piercing inclination in the thickness direction of 400 g/mm to 800 g/mm, and is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive. ,
The active energy ray-curable adhesive is a composite retardation plate containing an alicyclic epoxy compound in an amount of 35% by mass or more based on the total amount of the curable compound.
第1接着層は、厚みが0.5μm~5μmである、請求項1~3のいずれか1項に記載の複合位相差板。 The composite retardation plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the first adhesive layer has a thickness of 0.5 μm to 5 μm. 第1位相差層は1/2波長層であり、第2位相差層は1/4波長層である、請求項1~4のいずれか1項に記載の複合位相差板。 The composite retardation plate according to any one of claims 1 to 4, wherein the first retardation layer is a 1/2 wavelength layer and the second retardation layer is a 1/4 wavelength layer. 第1位相差層は1/2波長層、または1/4波長層であり、第2位相差層は光学補償層である、請求項1~4のいずれか1項に記載の複合位相差板。 The composite retardation plate according to any one of claims 1 to 4, wherein the first retardation layer is a 1/2 wavelength layer or a 1/4 wavelength layer, and the second retardation layer is an optical compensation layer. . 第1位相差層及び第2位相差層の少なくとも一方は、液晶層である位相差発現層を含む、請求項1~6のいずれか1項に記載の複合位相差板。 The composite retardation plate according to any one of claims 1 to 6, wherein at least one of the first retardation layer and the second retardation layer includes a retardation expression layer that is a liquid crystal layer. 厚みが2μm~50μmである、請求項1~7のいずれか1項に記載の複合位相差板。 The composite retardation plate according to any one of claims 1 to 7, having a thickness of 2 μm to 50 μm. 偏光板と、前記偏光板に積層された請求項1~8のいずれか1項に記載の複合位相差板とを含み、
前記複合位相差板は、第1位相差層が前記偏光板側に位置する向きで積層されている、光学積層体。
comprising a polarizing plate and the composite retardation plate according to any one of claims 1 to 8 laminated on the polarizing plate,
The composite retardation plate is an optical laminate in which the first retardation layer is stacked in a direction facing the polarizing plate.
円偏光板である、請求項9に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 9, which is a circularly polarizing plate. 前記偏光板と前記複合位相差板とを接着する第2接着層をさらに含む、請求項9又は10に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 9 or 10, further comprising a second adhesive layer that adheres the polarizing plate and the composite retardation plate. 第2接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層である、請求項11に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 11, wherein the second adhesive layer is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive. 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された請求項9~12のいずれか1項に記載の光学積層体とを含む、画像表示装置。 An image display device comprising an image display panel and the optical laminate according to any one of claims 9 to 12, which is disposed on the viewing side of the image display panel. 前記光学積層体は、前記偏光板が視認側に位置する向きで配置されている、請求項13に記載の画像表示装置。 The image display device according to claim 13, wherein the optical laminate is arranged in such a direction that the polarizing plate is located on the viewing side. 有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、請求項14に記載の画像表示装置。 The image display device according to claim 14, which is an organic electroluminescent display device.
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