JP2023550283A - マイクロキャビティプレート - Google Patents

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Abstract

Figure 2023550283000001
マイクロキャビティプレートは、マイクロキャビティ基板と基部（３０３）とを備える。基部は、規則的な行列状に配置されることにより複数の開口部を形成する複数のグリッドセグメントを備える下部グリッドと、下部グリッドの外周から鉛直方向に延びる複数の側壁（３０９）を備える開ウェル（３０７）と、を備える。マイクロキャビティ基板は、下部グリッドの複数の開口部と位置合わせされた規則的な行列状に配置された複数のマイクロキャビティ（３１５）であって、各マイクロキャビティが、下部グリッドの開口部内に配置されるキャビティを有している、複数のマイクロキャビティを備える。マイクロキャビティプレートは、基部の規則的な行列を区切る下部グリッド上に配置されるように構成される上部グリッド（４０５）をさらに備えることができる。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０２０年１０月３０日を出願日とする米国仮特許出願第６３／１０７６６３号の米国特許法第１１９条に基づく優先権の利益を主張するものであり、この仮出願のすべての開示内容は、本明細書の依拠するところとし、引用することにより本明細書の一部をなすものとする。
本開示は、概して、マイクロキャビティプレートに関する。詳細には、本開示は、細胞培養及びハイスループットスクリーニングに用いられるマイクロキャビティプレートに関する。
多くの病気にとって、治療法を発見するプロセスの最初のステップが、薬剤の発見と開発である。このステップでは、薬剤療法の候補となる多くの分子化合物に対して試験が行われる。試験量が多いため、この試験は、ハイスループットスクリーニング（high throughput screening：ＨＴＳ）を用いて実施されることが多い。ＨＴＳは、自動化設備を用いて、無数のサンプルの生物活性を高速で試験する手法である。ＨＴＳでは、マイクロプレートを使用する場合が多いが、自動操作が可能なマイクロプレートの代表的な構成として、１５３６ウェルプレートが挙げられる。
そして、細胞が生体内（in vivo）で経験する環境をより正確に再現するため、３次元（３Ｄ）細胞培養モデル（スフェロイド）を用いてＨＴＳを実施することができる。スフェロイド（３次元細胞培養物）は、一般に、約１００～３００マイクロメートルの範囲の直径を有する。従来技術では、スフェロイドを９６ウェルプレートや３８４ウェルプレートに分注することは可能である。しかし、スフェロイドは大きいため、１５３６ウェルプレートのウェル形状では、１５３６ウェルプレートのウェルにスフェロイドを分注できない恐れがあった。したがって、３次元細胞培養物（スフェロイド）を生成する従来の１５３６ウェル細胞培養デバイスは、通常、ＨＴＳプロセスでの操作の自動化に適したものではなかった。さらに、従来の設備では、バルクスフェロイド作製容器で培養されたスフェロイドのような大きな構造体を、ＨＴＳ用の１５３６ウェルプレートに分注するのに利用できるものがなかった。
本開示の実施形態は、ＨＴＳプロセスでも使用可能なバルクスフェロイド作製用のマイクロキャビティプレートを提供するものである。マイクロキャビティプレートは、１５３６個の浅型キャビティを備え、各キャビティは、１５００μｍの直径を有している。これらのキャビティが、一般的な１５３６ウェルプレートと同様の規則的な行列状に配置されている。複数の実施形態において、マイクロキャビティの上面にグリッドを追加することにより、各マイクロキャビティを個別に扱ってＨＴＳを実施することが可能となる。したがって、本開示の実施形態は、培養プロセスの開始時から一括培養してきたスフェロイドに対して、グリッドの配置後に個別に対応することを可能にするものであり、そのため、既存の従来の設備が抱える問題を解決するものである。
一態様において、マイクロキャビティプレートは、基部とマイクロキャビティ基板とを備える。基部は、規則的な行列状に配置されることにより複数の開口部を形成する複数のグリッドセグメントを備える下部グリッドと、下部グリッドの外周から鉛直方向に延びる複数の側壁を備える開ウェルと、を備える。マイクロキャビティ基板は、下部グリッドの複数の開口部と位置合わせされた規則的な行列状に配置された複数のマイクロキャビティであって、各マイクロキャビティが、下部グリッドの開口部内に配置されるキャビティを有している、複数のマイクロキャビティを備える。
いくつかの実施形態では、マイクロキャビティプレートが上部グリッドをさらに備える。いくつかの実施形態では、上部グリッドが、下部グリッドの規則的な行列を鏡映した規則的な行列状の複数のウェル開口部を備える。いくつかの実施形態では、上部グリッドが、開ウェル内の、基部の規則的な行列を区切る下部グリッド上に配置されるように構成される。いくつかの実施形態では、複数のウェル開口部が、マイクロキャビティ基板の複数のマイクロキャビティと位置合わせされる。いくつかの実施形態では、各マイクロキャビティ開口部を画定するグリッドセグメントで構成される複数の側壁と、該マイクロキャビティ開口部の中心に配置される個別マイクロキャビティとにより、マイクロキャビティウェルが定義される。
いくつかの実施形態では、マイクロキャビティプレートがガスケット材をさらに備える。いくつかの実施形態では、ガスケット材は、上部グリッドの底面と一体に設けられ、上部グリッドが開ウェルに挿入されると、上部グリッドの底面とマイクロキャビティ基板の上面との間にガスケット材が配置される。
いくつかの実施形態では、複数のマイクロキャビティが、１５３６個の個別マイクロキャビティを含む。
いくつかの実施形態では、複数のマイクロキャビティの各キャビティが、上面と丸みを帯びた底部とを備える。いくつかの実施形態では、各マイクロキャビティの上面における当該マイクロキャビティの直径が約１５００μｍである。
いくつかの実施形態では、キャビティの内表面が、細胞に対して非接着性の被膜で被覆されている。いくつかの実施形態では、被膜が、超低接着（ＵＬＡ）表面被膜を含む。
いくつかの実施形態では、上部グリッドが、上部グリッドの外周から延びる複数の突起部を備える。いくつかの実施形態では、複数の突起部のうちの複数の突起部が、開ウェルの側壁に設けられた複数の貫通孔と位置合わせされて噛み合うように構成されている。
いくつかの実施形態では、マイクロキャビティ基板が、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、スチレン－ブタジエンコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレン、他の同様のポリマー、又はそれらの組み合わせから選ばれるポリマーから形成される。いくつかの実施形態では、マイクロキャビティ基板が、ポリスチレンから形成される。
いくつかの実施形態では、基部が、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、スチレン－ブタジエンコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレン、他の同様のポリマー、又はそれらの組み合わせを含むポリマーから形成される。いくつかの実施形態では、基部が、ポリスチレンから形成される。
いくつかの実施形態では、上部グリッドが、天然ゴム、スチレン－ブタジエンブロックコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレンポリマー、ポリイソプレン、ポリブタジエン、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム、シリコーンエラストマー、フルオロエラストマー、ポリウレタンエラストマー、ニトリルゴム、又はそれらの組み合わせから選ばれるエラストマー材料から形成される。
いくつかの実施形態では、ガスケット材がエラストマーから形成される。いくつかの実施形態では、エラストマーがシリコーンを含む。いくつかの実施形態では、ガスケット材は感圧接着剤である。
いくつかの実施形態では、マイクロキャビティプレートはスフェロイドの細胞培養に使用される。いくつかの実施形態では、マイクロキャビティプレートはハイスループットスクリーニングに使用される。
一態様において、ハイスループットスクリーニングを実施する方法は、本明細書に記載のマイクロキャビティプレートに細胞を播種するステップを含む。本方法は、さらに、細胞を培養して複数のマイクロキャビティ内にスフェロイドを形成するステップと、マイクロキャビティプレート内の複数のマイクロキャビティの上部に上部グリッドを取り付けてマイクロキャビティウェルを形成するステップと、マイクロキャビティウェルのそれぞれを個別に扱って、培養したスフェロイドのハイスループットスクリーニングを実施するステップと、を含む。いくつかの実施形態では、細胞を培養するステップが、マイクロキャビティプレート内の細胞を細胞培養培地に接触させるステップを含む。
標準的な１５３６ウェルプレートを示す画像 複数のマイクロキャビティを六方最密充填配置で配置した構成を示す画像 本開示の一実施形態に係る１５３６マイクロキャビティプレートを示す上面図 本開示の一実施形態に係る、１５３６マイクロキャビティプレート用のグリッドを示す上面図 本開示の一実施形態に係る、グリッドを付けた状態の１５３６マイクロキャビティプレートを示す上面図 本開示の一実施形態に係る、グリッドを付けた状態の１５３６マイクロキャビティプレートを示す上面図 本開示の一実施形態に係る１５３６マイクロキャビティプレートを示す側断面図 本開示の一実施形態に係る、グリッドを付けた状態の１５３６マイクロキャビティプレートを示す側断面図 本開示の一実施形態に係る、グリッド及びガスケットを付けた状態の１５３６マイクロキャビティプレートを示す側断面図 本開示の一実施形態に係る、グリッド及びガスケットを付けた状態の１５３６マイクロキャビティプレートを示す側断面図
細胞が生体内で経験する環境をより正確に再現するため、３次元細胞培養モデルを用いてＨＴＳを実施することができる。３次元スフェロイドや３次元オルガノイド（以下、これらをスフェロイドと呼ぶ）などの３次元培養物における細胞応答は、細胞を単分子層で培養する２次元（２Ｄ）培養物における細胞応答に比べて、生体内での挙動により近いことが、近年の研究から明らかとなっている。３次元培養物では、次元が拡張されていることにより細胞応答に変化が生じると考えられている。これは、３次元に拡張した結果、周囲の細胞との相互作用を担う細胞表面の受容体の空間構成が影響を受け、細胞に物理的制約が加わるため、これが、細胞外から細胞内へのシグナル伝達に影響を与え、最終的には、遺伝子の発現や細胞の挙動に影響を与えるためと考えられている。しかしながら、３次元細胞培養物（スフェロイド）を生成する従来の培養デバイスは、ＨＴＳプロセスでの操作の自動化に最適なものではなかった。
ＨＴＳでは、マイクロプレートを使用する場合が多いが、自動操作が可能なマイクロプレートの代表的な構成として、１５３６ウェルプレートが挙げられる。図１は、標準的な１５３６ウェルプレート１０を示す画像である。図１に示す１５３６ウェルプレートは、行列状に配置された複数のウェル１５を有しており、個別のウェル１３が等間隔で配置されている。１５３６ウェルプレートの作業表面積は約４．５インチ（約１１４．３ｍｍ）×約３インチ（約７６．２ｍｍ）であり、当該マイクロプレートでは、この作業表面積全体に、ウェルが行列状に等間隔で配置されている。１５３６ウェルプレートのウェルは、直径が約１５００μｍで、非常に深型（約６０００μｍ）であるため、１つ１つのウェルが個別に扱われ、手動での操作が難しい。
また、マイクロプレートウェルが、ミリメートル（ｍｍ）やセンチメートル（ｃｍ）サイズのウェルであるのに対し、３次元細胞培養物（スフェロイド）を生成する従来の培養デバイスは、マイクロメートルサイズのウェルを備えている。マイクロメートルサイズのウェルを備える培養デバイスは、マイクロキャビティやマイクロスペースなど様々な呼称で呼ばれている。マイクロキャビティは、通常、丸みを帯びた非細胞接着性の底部を有する内部キャビティを備えており、マイクロキャビティ内に播種した細胞の自己組織化（互いに接着すること）による各マイクロキャビティ内でのスフェロイド形成を可能にすることにより、３次元細胞培養を支援するものである。一般的なマイクロキャビティは浅型（約５００～約３０００μｍ）であり、すべてのキャビティ内のすべてのスフェロイドを、一斉に細胞培養培地で覆うことができるため、手動での操作が容易である。
マイクロキャビティ容器はバルクスフェロイド作製容器と呼ばれ、ウェルが有するマイクロメートルサイズの形状と六方最密充填（「ハニカム」）ウェル配置とにより、一度に多くのスフェロイドを培養することを可能にするものである。図２は、複数のマイクロキャビティ２０を六方最密充填配置２５で配置した構成を示す画像である。かかる最密充填配置により、一般的なマイクロプレートの作業表面積である４．５インチ（約１１４．３ｍｍ）×３インチ（約７６．２ｍｍ）に、直径５００μｍのウェルを約１２５８８個配置することが可能となる。また、マイクロキャビティの直径を１５００μｍ（１５３６ウェルプレートのウェルの直径）まで大きくした場合には、ウェルを六方最密充填配置とすることにより、４．５インチ（約１１４．３ｍｍ）×３インチ（約７６．２ｍｍ）の一般的なマイクロプレートの作業表面積に、約２８４５個のウェルを配置することができる。しかしながら、六方最密充填配置のウェルでバルクスフェロイド作製は可能ではあるものの、これをＨＴＳに使用される標準的な設備で使用することはできなかった。これは、従来のバルクスフェロイド作製容器が、行列状に等間隔で配置されたウェルを自動で操作する構成を有していなかったためである。
本開示の実施形態は、ＨＴＳプロセスでも使用可能なバルクスフェロイド作製用のマイクロキャビティプレートを提供するものである。マイクロキャビティプレートは、１５３６個の浅型キャビティを備え、各キャビティは、１５００μｍの直径を有している。これらのキャビティが、一般的な１５３６ウェルプレートと同様の規則的な行列状に配置されている。マイクロキャビティが行列状に規則的に配置されているため、マイクロキャビティの上面に上部グリッドを追加することができる。上部グリッドを追加することにより、各マイクロキャビティがウェルを備えるようになり、それぞれを個別に扱うことができるようになるため、ＨＴＳを実施することが可能となる。したがって、本開示の実施形態は、培養プロセスの開始時から複数のスフェロイドをまとめて培養して、均質な培養環境を構築することを可能にするとともに、グリッドの配置後には各スフェロイドに個別に対応することを可能にするものである。
本開示の実施形態に係るマイクロキャビティプレートは、均質な培養環境を提供するものである。マイクロキャビティプレートに上部グリッドを配置して個別ウェルを形成する前の段階では、１５３６個のウェルを有するマイクロキャビティプレートで培養されたすべてのスフェロイドに対して同一の処理を同一のタイミングで行うことができるため、均質な培養環境を提供することができる。これに対し、個別のウェルを有する一般的なプレートの場合、各ウェルに同一量を分注することは、たとえ自動化設備を利用したとしても難しいため、培養環境の均質性は低くなってしまう。
本明細書に記載の実施形態に係るマイクロキャビティプレートは、上部グリッドを追加することにより、個別ウェルを有するプレートに転換することができる。上部グリッドは、プレート内の複数のマイクロキャビティの上部の位置に配置することができる。マイクロキャビティプレートに複数の個別ウェルを設ける構成は、後工程でグリッドを追加することにより、各ウェル内のスフェロイドを個別に扱うことが可能となるものであるため、かかる構成とすることにより、ユーザがＨＴＳを実施することが可能となる。
本明細書に記載の実施形態のマイクロキャビティプレートは、スフェロイドの操作（バルクスフェロイド作製容器から１５３６ウェルプレートへのスフェロイドの移し替え）を行うための自動分注器を必要としない。
図３は、上部グリッドを配置していない状態の１５３６マイクロキャビティプレートを示す俯瞰図である。マイクロキャビティプレート３００は、プレートの基部３０３を備えている。基部３０３の上には、開ウェル３０７が配置されている。この矩形の開ウェル３０７は、基部３０３から鉛直方向に延びる４枚の側壁３０９によって画定されている。そして、開ウェル３０７内に、複数のマイクロキャビティ３１５が配置されている。各マイクロキャビティ３１０は、約１５００μｍの直径を有する浅型キャビティである。複数のマイクロキャビティ３１５は、複数の行３２５と複数の列３３５の行列状に規則的に並べられている。各行３２０は、複数の行３２５における他の列に平行である。同様に、各列３３０は、複数の列３３５における他の列に平行である。１５３６マイクロキャビティプレートにおいて、各行３２０は、第１の方向に互いに等間隔に配置された４８個のマイクロキャビティで構成され、各列３３０は、第２の方向に互いに等間隔に配置された３２個のマイクロキャビティで構成されている。第２の方向は第１の方向に垂直であり、これにより、複数の行３２５と複数の列３３５から格子状のパターンが形成されている。
図４は、１５３６マイクロキャビティプレートに配置して使用する上部グリッドを示す俯瞰図である。上部グリッド４０５は、マイクロキャビティプレートの開ウェルの４枚の側壁の内側に配置できる矩形形状を有している。上部グリッド４０５は、第１の方向の複数のグリッドセグメント４１１と、第２の方向の複数のグリッドセグメント４１３とを備えている。第１の方向のグリッドセグメント４１１は、第２の方向のグリッドセグメント４１３に対して垂直に配置され、グリッドパターンを形成している。これら複数のグリッドセグメントにより、複数の行４２５及び複数の列４３５に規則的に配列された格子状に、複数の開口部が形成されている。各行４２０は、等間隔に配置された４８個の開口部で構成され、各列４３０は、等間隔に配置された３２個の開口部で構成されている。上部グリッド４０５のサイズは、マイクロキャビティプレート内の個々のマイクロキャビティを各開口部４１７で個別に取り囲むように設定される。グリッドがマイクロキャビティプレート上の所定の位置に配置されると、上部グリッドが各マイクロキャビティウェルの側壁を成し、複数の個別マイクロキャビティウェルが形成される。
図５は、上部グリッドを所定の位置に配置した状態の１５３６マイクロキャビティプレートを示す俯瞰図である。図５に示す、上部グリッドデバイスを装着した状態の１５３６マイクロキャビティプレート５００は、１５３６個の個別マイクロキャビティウェル３７５を備えている。個別マイクロキャビティウェル３７５は、複数の列５３５と複数の行５２５の行列状に規則的に並べられている。各マイクロキャビティウェル列５３０は、３２個のマイクロキャビティウェルで構成されている。各マイクロキャビティウェル行５２０は、４８個のマイクロキャビティウェルで構成されている。
図６は、上部グリッドを所定の位置に配置した状態の１５３６マイクロキャビティプレート６００の一実施形態を示す俯瞰図である。なお、図６に示す１５３６マイクロキャビティプレート６００の一実施形態の寸法は、本明細書に記載の１５３６マイクロキャビティプレートに使用可能な寸法の一例として示すものであり、これらに限定されるものではない。本明細書に記載の実施形態に係るマイクロキャビティプレートの設置面積（footprint）は、従来の１５３６ウェルプレートの標準寸法の設置面積とすることができる。かかる標準寸法の設置面積としては、米国国家規格協会（American National Standards Institute：ＡＮＳＩ）及び生物分子科学学会（Society for Biomolecular Sciences：ＳＢＳ）が規定する１５３６ウェルプレートの標準設置面積寸法などが挙げられる。例えば、いくつかの実施形態では、マイクロキャビティプレートの長さは、約５．０２９９インチ（約１２７．７５９ｍｍ）である。いくつかの実施形態では、マイクロキャビティプレートの幅は、約３．３６５４インチ（約８５．４８１ｍｍ）である。いくつかの実施形態では、マイクロキャビティプレートの作業エリアは、約４．２５２インチ（約１０８．０ｍｍ）の長さと約２．８３４７インチ（約７２．００１ｍｍ）の幅を有する開ウェルエリアにより規定される。複数の実施形態において、各マイクロキャビティウェルは、約０．０８８６インチ（約２２５０．４μｍ）の長さと約０．０８８６インチ（約２２５０．４μｍ）の幅を有し、個別マイクロキャビティは、各マイクロキャビティウェルの中心に配置される。複数の実施形態において、各マイクロキャビティは、約１５００μｍ（０．０５９０６インチ）の直径を有している。標準的な９６ウェルプレート又は３８４ウェルプレートの高さが、０．５６０インチ（約１４．２２ｍｍ）であるのに対し、複数の実施形態において、マイクロキャビティプレートの高さは、約０．７８０インチ（約１９．８１ｍｍ）である。なお、本明細書に示す例示的な寸法は、限定を意図するものではなく、その寸法公差は約±０．０１０インチ（約±２５４μｍ）である。
図７は、１５３６マイクロキャビティプレートの一部を示す側断面図である。マイクロキャビティプレート７００の図示部分では、成形底部コンポーネント（基部）１０が示されている。基部１０は、側壁１３と下部グリッド１７とにより画定された開ウェルを有している。基部１０は、平坦な底部と、基部１０の底部の外周に設けられたフランジ（スカート）１２とを有することができる。窪みを有するマイクロキャビティ基板２０が基部１０の内部に配置され、個々のマイクロキャビティ２３が個別に下部グリッド１７の開口部内に嵌め込まれた状態となっている。下部グリッド１７は、規則的な行列状に並べられた複数のグリッドセグメントを備えることができ、各グリッドセグメントは、平坦な上部と平坦な底部とを有することができる。また、基部１０は、下部グリッドの外周を鉛直方向に延びて下部グリッドを取り囲む外周部を成す側壁１３を有する開ウェルによりさらに規定される。開ウェル内へのマイクロキャビティ基板２０の配置は、規則的な行列状に間隔を空けて配置された複数のマイクロキャビティ２３と、規則的な行列状の格子構成で配置された下部グリッド１７の開口部とが位置合わせされるように行われる。いくつかの実施形態では、下部グリッドの高さは、約０．０６０インチ（約１５２４．０μｍ）とすることができる。いくつかの実施形態では、下部グリッドの高さは約０．０６３インチ（約１６００．２μｍ）とすることができ、下部グリッドの各開口部は、長さ約０．０８８６インチ（約２２５０．４μｍ）、幅約０．０８８６インチ（約２２５０．４μｍ）である。マイクロキャビティ基板２０は、湾曲した（丸みを帯びた）底部２７を有する複数のマイクロキャビティ２３を備えており、この底部２７により窪み状のマイクロキャビティが画定される。各マイクロキャビティは、円形の上部開口部と、丸みを帯びた底部とを有するキャビティを有している。各マイクロキャビティは、直径約１５００μｍ、深さ約１６００μｍである。開ウェル内へのマイクロキャビティ基板２０の配置は、マイクロキャビティ基板の各マイクロキャビティが下部グリッドの開口部の中心に配置されるように行われる。マイクロキャビティの底部は、マイクロキャビティプレートの底面よりも上方に位置することができる。
マイクロキャビティ基板は、フィルム材から形成することができる。例えば、マイクロキャビティ基板は、０．００３～０．０１５インチ（約７６．２～３８１．０μｍ）の厚さを有する平坦なフィルム材から形成することができるが、これに限定されるものではない。フィルム材は、任意の適切な材料で形成することができる。かかる材料の例として、ポリスチレン、ポリメチルペンテン、ポリエチレン、ポリプロピレン、又は積層体を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。マイクロキャビティ基板の丸みを帯びた底部の頂点における厚さは、約３５マイクロメートル～約７５マイクロメートルの範囲内とすることができる。マイクロキャビティ基板の他の箇所の厚さは、場所により変化してよい。
図８は、１５３６マイクロキャビティプレートの一部を示す側断面図である。マイクロキャビティプレート８００の図示部分では、基部１０の開ウェル内のマイクロキャビティ基板２０の上部２５の上に、上部グリッド３０を配置した状態が示されている。上部グリッド３０をマイクロキャビティ基板２０の上に配置して、プレートの成形底部コンポーネントに追加することにより、上部グリッドのセグメントがマイクロキャビティウェル５０の側壁５５を成して、個別のマイクロキャビティウェル５０を画定することができる。開ウェル内への上部グリッド３０の配置は、上部グリッド３０の下部（底部）３５が、マイクロキャビティプレートの下部グリッドと位置合わせされた状態で、マイクロキャビティ基板２０の上部２５上に配置されるとともに、上部グリッド３０の上部３３が、基部１０の上部１１又は開ウェル側壁の上部まで延びるように行うことができる。上部グリッド３０は、第１の方向の複数のグリッドセグメント３７と、垂直方向の複数のグリッドセグメント３９とによって形成される規則的な行列を有している。いくつかの実施形態では、上部グリッドは、約０．７１７インチ（約１８．２１２ｍｍ）の高さを有している。上部グリッド３０の複数のグリッドセグメントにより、下部グリッド１７の格子構成を鏡映した、長さ約０．０８８６インチ（約２２５０．４μｍ）、幅約０．０８８６インチ（約２２５０．４μｍ）の複数の開口部が画定される。また、任意選択的に、基部が、マイクロキャビティプレートの外周（外縁）に沿ってフランジ（スカート）１２を備えることもできる。この構成は、プレートの安定性に寄与することができる。
図９は、本発明の実施形態に係る、ガスケットシートを備えた１５３６マイクロキャビティプレートの一部を示す側断面図である。図９に示すように、ガスケット材（ガスケットシート）６０を使用して、ウェル５０とウェル５０の間を封止することができる。ガスケットシート６０は、マイクロキャビティ基板２０の上部２５と上部グリッド３０の下部３５の間に配置される。複数の実施形態において、ガスケット材（ガスケットシート）は、エラストマーから形成される。いくつかの例では、ガスケットシートは、シリコーンから形成される。ガスケットシートを使用して、上部グリッドがマイクロキャビティ基板の上面に接触する部分を封止することができる。かかる封止は、例えば、プレート同士をスナップ嵌めして圧縮をかけることにより行うことができるほか、あるいは、感圧接着剤などの材料から作られた接着剤系のガスケットシートを用いることよっても行うことができる。いくつかの実施形態では、両プレートの外周にスナップ嵌め機構が配置される。いくつかの実施形態では、プレートの内部にスナップ嵌め機構が配置される。このスナップ嵌め機構は、隣接する４つのウェルの間の支柱の形態で設けられ、これらの４つのウェルをまとめて圧縮嵌合するものである。
図１０は、ガスケット６０で上部グリッド３０を封止した状態の１５３６マイクロキャビティプレートの一部を示す側断面図である。ガスケット材６０は、上部グリッド３０の下部３５とマイクロキャビティ基板２０の上部２５の間に配置される。上部グリッド３０は、上部グリッド３０の外周に突起部３１を備えている。突起部３１は、開ウェルの側壁１３（すなわち、プレートの外周壁）に設けられた貫通孔６１と噛み合ってスナップ嵌めされるように構成される。圧縮が加わる（所定の位置となるように押し付けられる）と、上部グリッドの突起部がプレート外周壁の貫通孔に嵌まり、上部グリッドがプレートの一部に封着される。そして、その結果、複数のマイクロキャビティが、複数のマイクロキャビティウェルに変化する。
いくつかの実施形態では、上部グリッドを、一部品として一体成形することができる。いくつかの実施形態では、基部と、下部グリッドと、マイクロキャビティ基板とを備える底部コンポーネントを、一部品として一体成形することができる。ガスケット材は、上部グリッド上にオーバーモールドで設けることができる。いくつかの実施形態では、底部コンポーネントを射出成形により形成することができる。ガスケット材は、エラストマーなどの任意の適切な材料とすることができる。いくつかの実施形態では、エラストマーをシリコーンとすることができる。いくつかの実施形態では、ガスケット材は、感圧接着剤である。
マイクロキャビティウェルは、任意の適切な非結合性被膜を有することができる。例えば、かかる被膜を、細胞に対して非接着性の表面被膜とすることができる。いくつかの実施形態では、かかる非細胞接着性の表面被膜は、コーニング（Corning）社の超低接着（Ultra Low Attachment：ＵＬＡ）表面被膜である。コーニング社の超低接着表面は、親水性で、生物活性がなく、非分解性であるため、再現性の高いスフェロイドの形成とその容易な採取に貢献するものである。超低接着表面の共有結合により、ウェル表面への細胞接着性が低減される。超低接着（ＵＬＡ）表面により、均質で再現性の高い３次元の多細胞スフェロイド形成が可能となる。この１５３６マイクロキャビティウェル構成により、３次元細胞培養及び分析を高い生産効率で行うことが可能となる。
本明細書に記載の実施形態に係るマイクロキャビティプレートは、任意の適切な材料で形成することができる。いくつかの例では、マイクロキャビティプレートの形成を複数工程で行うことができる。例えば、一工程として、１５３６マイクロキャビティプレートの底部コンポーネントを構築する工程を行うことができる。なお、底部コンポーネントは、プレートの基部と下部グリッド部とを備えるコンポーネントである。かかる構築に用いる材料としては、プラスチックポリマー、コポリマー、又はポリマーブレンドを挙げることができる。限定されるものではないが、例として、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、スチレン－ブタジエンコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレン、他の同様のポリマー、又はそれらの組み合わせが挙げられる。また、任意の適切な構築方法を用いて、マイクロプレートの下部グリッド又は基部を形成することができる。限定されるものではないが、例として、射出成形、熱成形、又は３Ｄプリントなどのプラスチック部品の成形に適した方法が挙げられる。
なお、下部グリッド部と同時に、マイクロキャビティ基板を形成することもできる。マイクロキャビティ基板は、マイクロキャビティプレートの他の部分の製作に用いた材料や方法と同一又は同様の材料や方法を用いて形成することができる。いくつかの実施形態では、マイクロキャビティ基板を、プレートの他の部分とは別体に成形（形成）した上で、接合することもできる。かかる接合は、熱接合又は超音波溶接などの任意のプラスチック接合法により行うことができる。マイクロキャビティ基板の構築に用いる材料としては、プラスチックポリマー、コポリマー、又はポリマーブレンドを挙げることができる。限定されるものではないが、例として、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、スチレン－ブタジエンコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレンポリマー、他の同様のポリマー、又はそれらの組み合わせが挙げられる。また、任意の適切な構築方法を用いて、マイクロキャビティ基板を形成することができる。かかる構築方法の例としては、射出成形、熱成形、又は３Ｄプリントなどのプラスチック部品の成形に適した方法が挙げられる、これらに限定されるものではない。
上部グリッドは、基部又は下部グリッド及びマイクロキャビティ基板と同様の材料を用いて形成することができる。いくつかの実施形態では、上部グリッドをより弾性の高いエラストマー材料を用いて形成することもでき、例えば、天然ゴム、スチレン－ブタジエンブロックコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレンポリマー、ポリイソプレン、ポリブタジエン、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム、シリコーンエラストマー、フルオロエラストマー、ポリウレタンエラストマー、ニトリルゴムなどのエラストマー材料により形成することができる。また、任意の適切な構築方法を用いて、マイクロプレートの上部グリッドを形成することができる。かかる構築方法の例としては、射出成形、熱成形、又は３Ｄプリントなどのプラスチック部品の成形に適した方法が挙げられる、これらに限定されるものではない。
上部グリッドが非エラストマー材料から作られるいくつかの実施形態では、上部グリッドの製造工程に、基板に直接接触するグリッドの部分にエラストマーを加える追加プロセスが含まれる。このエラストマーにより、基板と上部グリッドの間の封止が促進され、上部グリッドの設置後も個別マイクロキャビティウェルの保全性（integrity）が維持される。かかる実施形態では、上部グリッドは、マイクロキャビティプレートとは別体に、単独で包装されて供給されることになる。これは、プレートの他の部分を使用して細胞培養を行っている間、上部グリッドを無菌状態に保つ必要があるためである。
本開示の実施形態によれば、本明細書に記載のマイクロキャビティプレート上で細胞を培養する方法又は細胞を採取する方法も開示される。いくつかの実施形態では、本方法は、マイクロキャビティプレートにおける細胞凝集体（スフェロイド）の細胞培養を含む。
本開示の実施形態は、本明細書に記載のマイクロキャビティプレートを使用する方法をさらに含む。１５３６マイクロキャビティプレートを使用する際、ユーザは、マイクロキャビティプレートに細胞を播種する前の段階では、マイクロキャビティプレートから上部グリッドを外した状態としておく必要がある。これにより、手動での操作が容易になり、初期において均質な培養環境を維持することが可能となる。そして、培養により必要な特性（細胞数、スフェロイド数、分化状態など）が生成されると、プレート内の細胞培養培地を排液する。なお、スフェロイドが含まれる個別マイクロキャビティ内には、当然ながら細胞培養培地もいくらか残るため、ここでの排液の結果、細胞培養培地はほぼ排液された状態となる。このタイミングで、上部グリッドを挿入し、培地や試薬を加えてＨＴＳを実施することができる。
一実施形態では、ハイスループットスクリーニングを実施する方法は、マイクロキャビティプレートに細胞を播種するステップと、細胞を培養して複数のマイクロキャビティ内にスフェロイドを形成するステップと、マイクロキャビティプレート内の複数のマイクロキャビティの上部に上部グリッドを取り付けてマイクロキャビティウェルを形成するステップと、各マイクロキャビティウェルを個別に扱って、培養したスフェロイドのハイスループットスクリーニングを実施するステップと、を含む。細胞を培養するステップは、マイクロキャビティプレート内の細胞を細胞培養培地に接触させるステップを含むことができる。
マイクロキャビティプレートで、任意の種類の細胞を培養することができる。かかる細胞としては、不死化細胞、初代培養細胞、がん細胞、幹細胞（例えば、胚細胞又は人工多能性細胞）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。細胞は、哺乳類細胞、鳥類細胞、魚類細胞などであってよい。また、細胞は、任意の組織細胞とすることができる。例えば、腎臓、線維芽細胞、乳房、皮膚、脳、卵巣、肺、骨、神経、筋肉、心臓、結腸直腸、膵臓、免疫（例えば、Ｂ細胞）、血液などの細胞が挙げられるが、これらに限定されるものではない。細胞は、分散状態（例えば、播種したばかりの細胞）、コンフルエントな状態、２次元培養、３次元培養、スフェロイドなどの任意の培養形態とすることができる。
マイクロキャビティプレート上で細胞を培養するステップは、マイクロキャビティプレート上に細胞を播種するステップを含むことができる。マイクロキャビティプレートに細胞を播種するステップは、当該細胞を含有する溶液をマイクロキャビティプレートに接触させるステップを含むことができる。マイクロキャビティプレート上で細胞を培養するステップは、マイクロキャビティプレートを細胞培養培地に接触させるステップをさらに含むことができる。一般に、マイクロキャビティプレートを細胞培養培地に接触させるステップは、マイクロキャビティプレート上で培養する細胞を、細胞培養を行う培地を有する環境に播種（配置）するステップを含む。マイクロキャビティプレートに細胞培養培地を接触させるステップは、細胞培養培地をマイクロキャビティプレートにピペット注入するステップを含むことができる。いくつかの実施形態では、細胞培養培地は、所定期間の間マイクロキャビティプレート内に入れておくことができ、所定期間後に細胞培養培地の少なくとも一部を排液して、新鮮な細胞培養培地を加えることができる。細胞培養培地の排液や交換は、任意の所定のスケジュールに従って行うことができる。例えば、細胞培養培地の少なくとも一部を、１時間ごと、又は１２時間ごと、又は２４時間ごと、又は２日ごと、又は３日ごと、又は４日ごと、又は５日ごとに排液、交換することができる。
細胞の増殖を支えることができる任意の細胞培養培地を使用することができる。細胞培養培地としては、例えば、糖、塩、アミノ酸、血清（例えば、ウシ胎児血清）、抗生物質、増殖因子、分化因子、又は着色剤などの所望の因子が挙げられるが、これらに限定されるものではない。例示的な細胞培養培地としては、ダルベッコ変法イーグル（ＤＭＥＭ）培地（Dulbecco's Modified Eagle Medium）、ハムＦ－１２培地（Ham's F12 Nutrient Mixture）、最小必須（ＭＥＭ）培地（Minimum Essential Media）、ＲＰＭＩ培地、イスコーブ変法ダルベッコ（ＩＭＤＭ）培地（Iscove's Modified Dulbecco's Medium）、メセンカルト（MesenCult）（商標）－ＸＦ培地（ステムセルテクノロジーズ社（STEMCELL Technologies Inc）から市販）などが挙げられる。
以上、特定の特徴、要素又はステップを特定の実施形態に関連して説明したが、これらを本開示の種々の実施形態に組み込むことができることが理解されるであろう。また、１つの特定の実施形態に関連して説明した特定の特徴、要素又はステップを、例示していない様々な組み合わせ又は順序で、他の実施形態と交換したり、組み合わせたりすることができることも理解されるであろう。
本明細書において、「the（その／前記）」、「a」又は「an」は、「少なくとも１つ」を意味し、特にそうではない旨が明記されている場合を除き、「１つだけ」を意味するものと限定されるべきではない。したがって、例えば、冠詞「a」で導かれる「開口部」という表現は、文脈上明らかにそうでない場合を除き、その「開口部」を２つ以上有する例も包含する。
本明細書で使用するすべての科学技術用語は、特に断りのない限り、当技術分野で一般的に用いられる意味を有している。本明細書に示す定義は、本明細書において何度も使用される特定の用語の理解を容易にするためのものであり、本開示の範囲を限定することを意図するものではない。
本明細書において、「備える」「含む」「有する」（have，having，include，including，comprise，comprisingなど）は、非限定的な（open-ended）意味で用いており、概ね「含むが、これ（これら）に限定されない（including, but not limited to）」ことを意味している。
本明細書において、「約（about）」ある特定の値以上、「約」ある特定の値～「約」他の特定の値、又は、「約」該他の特定の値以下、という形で範囲を表現する場合がある。このような表現で範囲を表す場合、該ある特定の値～該他の特定の値を含む他の実施形態が存在する。同様に、ある値の前に「約」をつけてその値を近似値として表現する場合、その特定の値自身によって構成される他の実施形態も存在することが理解されるであろう。また、各範囲の両端点が持つ意味は、互いに相関しているとともに互いに独立でもあることも理解されるであろう。
特に明記しない限り、本明細書に記載のすべての数値は、「約」を伴っているか否かにかかわらず、「約」を包含した数値と解釈すべきである。ただし、「約」で導かれた数値として表現されているか否かにかかわらず、本明細書に記載のすべての数値は詳細に検討されたものであることも理解されたい。したがって、「１０ｍｍ未満の寸法」と「約１０ｍｍ未満の寸法」のいずれもが、「約１０ｍｍ未満の寸法」の実施形態と「１０ｍｍ未満の寸法」の実施形態の両方を包含するものとする。
特に明記しない限り、本明細書に記載のいかなる方法も、各ステップ（工程）を特定の順序で実施することを要請していると解釈されることを意図するものではない。したがって、方法クレームにおいてそのステップの順序を実際に記載している場合を除き、又は、各ステップが特定の順序に限定される旨の他の記載が請求の範囲又は発明の詳細な説明において明確になされている場合を除き、各ステップの特定の順序が推測されることは、それがいかなる順序であっても意図していない。
特定の実施形態の種々の特徴、要素又はステップを、移行句「～を含む」「～を備える」「～を有する」（comprising）を使用して開示する場合があるが、これは、移行句「～からなる（consisting）」又は「～から本質的になる（consisting essentially of）」を使用して記載し得るものなどの代替的な実施形態も含意するものであることを理解されたい。したがって、例えば、Ａ＋Ｂ＋Ｃを含む（comprising）方法が含意する代替的な実施形態として、Ａ＋Ｂ＋Ｃからなる（consisting）方法の実施形態、及びＡ＋Ｂ＋Ｃから本質的になる（consisting essentially of）方法の実施形態が挙げられる。
以上、本開示の複数の実施形態を詳細な説明において説明してきたが、本開示は、本明細書に記載の実施形態に限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲によって記載され定義付けされる開示内容から逸脱しない範囲で、多種多様な再構成や、変形、置換が可能であることを理解されたい。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
マイクロキャビティプレートであって、
規則的な行列状に配置されることにより複数の開口部を形成する複数のグリッドセグメントを備える下部グリッドと、
前記下部グリッドの外周から鉛直方向に延びる複数の側壁を備える開ウェルと、
を備える基部と、
前記下部グリッドの前記複数の開口部と位置合わせされた規則的な行列状に配置された複数のマイクロキャビティであって、各マイクロキャビティが、前記下部グリッドの開口部内に配置されるキャビティを有している、複数のマイクロキャビティを備えるマイクロキャビティ基板と、
を備えるマイクロキャビティプレート。
実施形態２
上部グリッドをさらに備える、実施形態１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態３
前記上部グリッドが、前記下部グリッドの前記規則的な行列を鏡映した規則的な行列状の複数のウェル開口部を備える、実施形態２に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態４
前記上部グリッドが、前記開ウェル内の、前記基部の前記規則的な行列を区切る前記下部グリッド上に配置されるように構成される、実施形態３に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態５
前記複数のウェル開口部が、前記マイクロキャビティ基板の前記複数のマイクロキャビティと位置合わせされる、実施形態４に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態６
各マイクロキャビティ開口部を画定するグリッドセグメントで構成される複数の側壁と、該マイクロキャビティ開口部の中心に配置される個別マイクロキャビティとにより、マイクロキャビティウェルが定義される、実施形態５に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態７
ガスケット材をさらに備える、実施形態４に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態８
前記ガスケット材は、前記上部グリッドの底面と一体に設けられ、
前記上部グリッドが前記開ウェルに挿入されると、前記上部グリッドの前記底面と前記マイクロキャビティ基板の上面との間に前記ガスケット材が配置される、実施形態７に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態９
前記複数のマイクロキャビティが、１５３６個の個別マイクロキャビティを含む、実施形態１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１０
前記複数のマイクロキャビティの各キャビティが、上面と丸みを帯びた底部とを備える、実施形態１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１１
各マイクロキャビティの前記上面における該マイクロキャビティの直径が約１５００μｍである、実施形態１０に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１２
前記キャビティの内表面が、細胞に対して非接着性の被膜で被覆されている、実施形態１０に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１３
前記被膜が、超低接着（ＵＬＡ）表面被膜を含む、実施形態１２に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１４
前記上部グリッドが、該上部グリッドの外周から延びる複数の突起部を備える、実施形態４に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１５
前記複数の突起部のうちの複数の突起部が、前記開ウェルの前記側壁に設けられた複数の貫通孔と位置合わせされて噛み合うように構成されている、実施形態１４に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１６
前記マイクロキャビティ基板が、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、スチレン－ブタジエンコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレン、他の同様のポリマー、又はそれらの組み合わせから選ばれるポリマーから形成される、実施形態１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１７
前記マイクロキャビティ基板が、ポリスチレンから形成される、実施形態１６に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１８
前記基部が、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、スチレン－ブタジエンコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレン、他の同様のポリマー、又はそれらの組み合わせを含むポリマーから形成される、実施形態１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態１９
前記基部が、ポリスチレンから形成される、実施形態１８に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態２０
前記上部グリッドが、天然ゴム、スチレン－ブタジエンブロックコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレンポリマー、ポリイソプレン、ポリブタジエン、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム、シリコーンエラストマー、フルオロエラストマー、ポリウレタンエラストマー、ニトリルゴム、又はそれらの組み合わせから選ばれるエラストマー材料から形成される、実施形態１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態２１
前記ガスケット材がエラストマーから形成される、実施形態７に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態２２
前記エラストマーがシリコーンを含む、実施形態２１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態２３
前記ガスケット材が感圧接着剤から形成される、実施形態７に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態２４
前記マイクロキャビティプレートがスフェロイドの細胞培養に使用される、実施形態１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態２５
前記マイクロキャビティプレートがハイスループットスクリーニングに使用される、実施形態１に記載のマイクロキャビティプレート。
実施形態２６
ハイスループットスクリーニングを実施する方法であって、
実施形態１に記載のマイクロキャビティプレートに細胞を播種するステップと、
前記細胞を培養して前記複数のマイクロキャビティ内にスフェロイドを形成するステップと、
前記マイクロキャビティプレート内の前記複数のマイクロキャビティの上部に上部グリッドを取り付けてマイクロキャビティウェルを形成するステップと、
前記マイクロキャビティウェルのそれぞれを個別に扱って、培養した前記スフェロイドのハイスループットスクリーニングを実施するステップと、
を含む、方法。
実施形態２７
前記細胞を培養するステップが、前記マイクロキャビティプレート内の前記細胞を細胞培養培地に接触させるステップを含む、実施形態２６に記載の方法。
１０、３０３ 基部
１１ 基部の上部
１２ フランジ（スカート）
１５ 複数のウェル
１７ 下部グリッド
２０ マイクロキャビティ基板
２３ マイクロキャビティ
２７ マイクロキャビティの底部
３０、４０５ 上部グリッド
３１ 突起部
３３ 上部グリッドの上部
３５ 上部グリッドの下部
３７、４１１ 第１の方向のグリッドセグメント
３９、４１３ 第２の方向（垂直方向）のグリッドセグメント
５０ マイクロキャビティウェル
５５ 各マイクロキャビティウェルの側壁
６０ ガスケットシート（ガスケット材）
６１ 貫通孔
３００、５００、６００、７００、８００ マイクロキャビティプレート
３０７ 開ウェル
３０９ 開ウェルの側壁
３１０ 各マイクロキャビティ
３１５ 複数のマイクロキャビティ
３２０ 各マイクロキャビティ行
３２５ 複数のマイクロキャビティ行
３３０ 各マイクロキャビティ列
３３５ 複数のマイクロキャビティ列
３７５ 個別マイクロキャビティウェル
４１７ 開口部
４２０ 各開口部行
４２５ 複数の開口部行
４３０ 各開口部列
４３５ 複数の開口部列
５２０ 各個別マイクロキャビティ行
５２５ 複数の個別マイクロキャビティ行
５３０ 各個別マイクロキャビティ列
５３５ 複数の個別マイクロキャビティ列

Claims (15)

  1. スフェロイド細胞培養物のハイスループットスクリーニングに用いられるマイクロキャビティプレートであって、
    規則的な行列状に配置されることにより複数の開口部を形成する複数のグリッドセグメントを備える下部グリッドと、
    前記下部グリッドの外周から鉛直方向に延びる複数の側壁を備える開ウェルと、
    を備える基部と、
    前記下部グリッドの前記複数の開口部と位置合わせされた規則的な行列状に配置された複数のマイクロキャビティであって、各マイクロキャビティが、前記下部グリッドの開口部内に配置されるキャビティを有している、複数のマイクロキャビティを備えるマイクロキャビティ基板と、
    前記下部グリッドの前記規則的な行列を鏡映した規則的な行列状の複数のウェル開口部を備える上部グリッドと、
    を備え、
    前記上部グリッドが、前記開ウェル内の、前記基部の前記規則的な行列を区切る前記下部グリッド上に配置されるように構成され、
    前記複数のウェル開口部が、前記マイクロキャビティ基板の前記複数のマイクロキャビティと位置合わせされる、マイクロキャビティプレート。
  2. 各マイクロキャビティ開口部を画定するグリッドセグメントで構成される複数の側壁と、該マイクロキャビティ開口部の中心に配置される個別マイクロキャビティとにより、マイクロキャビティウェルが定義される、請求項１に記載のマイクロキャビティプレート。
  3. 前記マイクロキャビティプレートが、ガスケット材をさらに備え、
    前記上部グリッドが前記開ウェルに挿入されると、前記上部グリッドの底面と前記マイクロキャビティ基板の上面との間に前記ガスケット材が配置される、請求項１に記載のマイクロキャビティプレート。
  4. 前記複数のマイクロキャビティが、１５３６個の個別マイクロキャビティを含む、請求項１に記載のマイクロキャビティプレート。
  5. 前記複数のマイクロキャビティの各キャビティが、上面と丸みを帯びた底部とを備える、請求項１に記載のマイクロキャビティプレート。
  6. 各マイクロキャビティの前記上面における該マイクロキャビティの直径が約１５００μｍである、請求項５に記載のマイクロキャビティプレート。
  7. 前記キャビティの内表面が、超低接着（ＵＬＡ）表面被膜で被覆されている、請求項５に記載のマイクロキャビティプレート。
  8. 前記上部グリッドが、該上部グリッドの外周から延びる複数の突起部を備え、
    前記突起部が、前記開ウェルの前記側壁に設けられた複数の貫通孔と位置合わせされて噛み合うように構成されている、請求項１に記載のマイクロキャビティプレート。
  9. 前記マイクロキャビティ基板及び前記基部のそれぞれが、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、スチレン－ブタジエンコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレン、他の同様のポリマー、又はそれらの組み合わせから選ばれるポリマーから形成される、請求項１に記載のマイクロキャビティプレート。
  10. 前記マイクロキャビティ基板及び前記基部のそれぞれが、ポリスチレンから形成される、請求項９に記載のマイクロキャビティプレート。
  11. 前記上部グリッドが、天然ゴム、スチレン－ブタジエンブロックコポリマー、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレンポリマー、ポリイソプレン、ポリブタジエン、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム、シリコーンエラストマー、フルオロエラストマー、ポリウレタンエラストマー、ニトリルゴム、又はそれらの組み合わせから選ばれるエラストマー材料から形成される、請求項１に記載のマイクロキャビティプレート。
  12. 前記ガスケット材がエラストマーから形成される、請求項３に記載のマイクロキャビティプレート。
  13. 前記エラストマーがシリコーンを含む、請求項１２に記載のマイクロキャビティプレート。
  14. 前記ガスケット材が感圧接着剤から形成される、請求項３に記載のマイクロキャビティプレート。
  15. ハイスループットスクリーニングを実施する方法であって、
    請求項１に記載のマイクロキャビティプレートに細胞を播種するステップと、
    前記細胞を培養して前記複数のマイクロキャビティ内にスフェロイドを形成するステップと、
    前記マイクロキャビティプレート内の前記細胞を細胞培養培地に接触させるステップと、
    マイクロキャビティウェルのそれぞれを個別に扱って、培養した前記スフェロイドのハイスループットスクリーニングを実施するステップと、
    を含む、方法。
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