JP2023532178A - サージカルガイド用光硬化性樹脂組成物、それから製造されたサージカルガイド及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 72
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 claims description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- -1 oxime ester Chemical class 0.000 claims description 10
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 8
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical group CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 6
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims description 3
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 claims description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 5
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 2
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- NKYRAXWYDRHWOG-UHFFFAOYSA-N 12-hydroxydodecyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C NKYRAXWYDRHWOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- AIXZBGVLNVRQSS-UHFFFAOYSA-N 5-tert-butyl-2-[5-(5-tert-butyl-1,3-benzoxazol-2-yl)thiophen-2-yl]-1,3-benzoxazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C2OC(C3=CC=C(S3)C=3OC4=CC=C(C=C4N=3)C(C)(C)C)=NC2=C1 AIXZBGVLNVRQSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000004053 dental implant Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-nonylsulfanyl-4-oxo-1h-pyrimidine-6-carboxylate Chemical compound CCCCCCCCCSC1=NC(=O)C=C(C(=O)OCC)N1 TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N hydroxybenzotriazole Substances O=C1C=CC=C2NNN=C12 NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
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Abstract
本発明の一態様は、光硬化可能な(メタ)アクリレート系ウレタン共重合体20~50重量部、第1の(メタ)アクリレートモノマー40~70重量部、第2の(メタ)アクリレートモノマー4~9重量部、光開始剤1~4重量部、及びUV吸収剤0.005~1重量部を含む、サージカルガイド用光硬化性樹脂組成物、それから製造されたサージカルガイド及びその製造方法を提供する。【選択図】図1
Description
本発明は、サージカルガイド用光硬化性樹脂組成物、それから製造されたサージカルガイド及びその製造方法に関する。
歯科用インプラント手術は、歯の欠損部位に人工歯を移植して失われた歯の機能を回復する医療行為である。人工歯を顎骨に固定する医療機器をフィクスチャーといい、施術者は、ドリリングを通じてフィクスチャーを挿入して患者の顎骨に固定することになる。このとき、施術者の熟練度によって計画されたフィクスチャーの挿入位置及び角度が変わることになり、このような誤差は施術されたインプラントフィクスチャー及び人工歯の耐久度に悪影響を及ぼすことになる。
このような問題を改善するため、施術者が施術計画に従ってフィクスチャーの挿入位置及び角度を案内する装置であるサージカルガイドを導入しようとした。
サージカルガイドは、フィクスチャーとドリルが通過できるドリルホールを有し、ドリルホールの位置及び角度を用いて植立手術を案内する装置であり、施術者はこのようなサージカルガイドを通じて植立誤差を最小限に管理して手術成功率を高めることができる。
ただし、従来のサージカルガイドは、ミーリング加工を通じて製造し、ミーリング加工は、製造時間が長くかかり、複雑な形状を具現するには無理がある。
そこで、3Dプリンティングに適用できるサージカルガイド用樹脂組成物を製造しようとしたが、光照射する方法で製造される3Dプリンティング用サージカルガイドの場合、安全性において問題が生じ得る。
前記問題点を解決するため、積層製造を通じてサージカルガイドの製造時間を短縮し、安全性及び複雑な形状を具現できるサージカルガイド用樹脂組成物又はサージカルガイドに対する開発が求められている。
本発明は、前述した従来技術の問題点を解決するためのもので、本発明の目的は、精度及び光安定性に優れたサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を提供することである。
本発明の一態様は、(メタ)アクリレート系ウレタン共重合体20~50重量部、第1の(メタ)アクリレート系モノマー40~70重量部、第2の(メタ)アクリレート系モノマー4~9重量部、光開始剤1~4重量部、及びUV吸収剤0.005~1重量部を含む、サージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を提供する。
一実施例において、前記第1及び第2の(メタ)アクリレート系モノマーは、それぞれ多官能性及び単官能性(メタ)アクリレート系モノマーであってもよい。
一実施例において、前記光開始剤は、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、非イミダゾール系化合物、チオキサントン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物及びこれらのうち2以上の混合物からなる群から選ばれた一つであってもよい。
一実施例において、前記UV吸収剤は、フェニルサリシレート系、ベンゾフェノン系及びベンゾトリアゾール系からなる群から選ばれた一つであってもよい。
一実施例において、前記組成物は、ステレオリソグラフィ装置、デジタル光源処理及び光造形面硬化方式からなる群から選ばれた1つの3Dプリンティングに使用される液状組成物であってもよい。
本発明の他の一態様は、前述したサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで光照射して製造したサージカルガイドを提供する。
一実施例において、前記サージカルガイドは、360~405nmの光源で光照射して製造してもよい。
本発明のさらに他の一態様は、(a)前述したサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を準備する段階、(b)前記光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで積層する段階、(c)前記(b)段階の生成物を洗浄液で洗浄する段階、(d)前記(c)段階の生成物を360~405nmの光源で10~30分間硬化する段階を含むサージカルガイドの製造方法を提供する。
一実施例において、前記(b)段階で前記3Dプリンティングは、360~405nmの光源で行われてもよい。
一実施例において、前記3Dプリンティングは、ステレオリソグラフィ装置、デジタル光源処理及び光造形面硬化方式からなる群から選ばれた1つで行われてもよい。
一実施例において、前記3Dプリンティングのz軸精度は、50~100μmであってもよい。
本発明の一態様によるサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物は、UV吸収剤及び光開始剤の含量を調節して精度及び光安定性に優れている。
本発明の効果は、前記効果に限定されるものではなく、本発明の詳細な説明または請求範囲に記載された発明の構成から推論可能なすべての効果を含むものと理解されなければならない。
以下、添付の図面を参照して本発明を詳細に説明する。しかし、本発明は、様々な異なる形態で具現されてもよく、したがって、ここで説明する実施例に限定されるものではない。また、図面において本発明を明確に説明するために説明と関係のない部分は省略し、明細書全体を通じて類似の部分に対しては、類似の図面符号を付けた。
明細書の全体において、ある部分が他の部分と「連結」されているとする場合、これは「直接的に連結」されている場合だけでなく、その中間に他の部材を挟んで「間接的に連結」されている場合も含む。また、ある部分がある構成要素を「含む」とする場合、これは、特に反対の記載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに備えることができることを意味する。
本明細書において数値的値の範囲が記載されたとき、その具体的な範囲が特に記述されない限り、その値は有効数字に対する化学における標準規則に従って提供された有効数字の精度を有する。例えば、10は、5.0~14.9の範囲を含み、数字10.0は、9.50~10.49の範囲を含む。
本明細書において、「(メタ)アクリル-」は、「メタクリル-」、「アクリル-」またはその両方を意味する。
以下、添付の図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
サージカルガイド用光硬化性樹脂組成物
本発明の一態様は、(メタ)アクリレート系ウレタン共重合体20~50重量部、第1の(メタ)アクリレート系モノマー40~70重量部、第2の(メタ)アクリレート系モノマー4~9重量部、光開始剤1~4重量部、及びUV吸収剤0.005~1重量部を含むサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を提供する。
本発明の一態様は、(メタ)アクリレート系ウレタン共重合体20~50重量部、第1の(メタ)アクリレート系モノマー40~70重量部、第2の(メタ)アクリレート系モノマー4~9重量部、光開始剤1~4重量部、及びUV吸収剤0.005~1重量部を含むサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を提供する。
前記組成物の組成比が前記範囲から外れると、硬化速度が遅すぎるか、または製造されたサージカルガイドの物性に欠陥が発生することがある。
また、前記光開始剤及びUV吸収剤の含量が前記範囲を満たすと、前記光硬化性樹脂組成物を3Dプリンタに適用する場合、z軸精度に優れており、持続的な光源処理による光安定性の低下を防止しうる。例えば、前記(メタ)アクリレート系ウレタン共重合体と光開始剤及びUV吸収剤の含量比が前記範囲から外れると、光硬化が十分に起こらず、物性が低下することがあり、製造されたサージカルガイドの精度が低下し、サージカルガイドによる手術の精度が低下することがある。
前記第1及び第2の(メタ)アクリレート系モノマーは、それぞれ多官能性及び単官能性(メタ)アクリレート系モノマーであってもよい。
前記単官能性(メタ)アクリレート系モノマーは、(メタ)アクリル酸エステル系、(メタ)アクリレートシラン系、窒素含有化合物系であってもよく、具体例として、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2-エトキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリルロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、テトラヒドロパーフリル(メタ)アクリレート、2-(N,N-ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート及びN-メチロール(メタ)アクリルアミドからなる群から選ばれた一つでもよいが、これに限定されるものではない。
前記多官能性(メタ)アクリレート系モノマーは、2~6官能性(メタ)アクリレート系モノマーからなる群から選ばれた一つであってもよい。
具体例として、前記二官能性(メタ)アクリレート系モノマーは、1,2-エチレングリコールジアクリレート、1,12-ドデカンジオールアクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペート(neopentylglycol adipate)ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバル酸(hydroxyl puivalic acid)ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(dicyclo pentanyl)ジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレート、アリル(allyl)化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ヘキサヒドロフタル酸ジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチルプロパンジ(メタ)アクリレート、アダマンタン(adamantane)ジ(メタ)アクリレート、9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(fluorine)またはビスフェノールAエトキシレートジ(メタ)アクリレートであってもよい。
前記三官能性(メタ)アクリレート系モノマーは、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートまたはプロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートであってもよい。
前記四官能性(メタ)アクリレート系モノマーは、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレートまたはペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートであってもよく、前記五官能性(メタ)アクリレート系モノマーは、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、前記六官能性(メタ)アクリレート系モノマーは、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートまたはカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートであってもよいが、これに限定されるものではない。
前記(メタ)アクリレート系ウレタン共重合体は、単官能性(メタ)アクリレート系または多官能性(メタ)アクリレート系単量体からなる群から選ばれた1つ以上とウレタン系単量体と共重合結合した共重合体であってもよく、例えば、ウレタン-ジ(メタ)アクリレート共重合体であってもよいが、これに限定されるものではない。
前記光開始剤は、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、非イミダゾール系化合物、チオキサントン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物及びこれらのうち2以上の混合物からなる群から選ばれた一つであってもよく、例えば、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシドであってもよいが、これに限定されるものではない。
前記UV吸収剤は、フェニルサリシレート系、ベンゾフェノン系及びベンゾトリアゾール系からなる群から選ばれた1つであってもよく、例えば、ベンゾフェノン系またはベンゾトリアゾール系であってもよい。具体例として、2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトオキシベンゾフェノン、2,2'-ジ-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-t-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾールまたは2,4-ジ-t-ブチルフェニル-3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシベンゾトリアゾールであってもよい。
前記UV吸収剤の含量は、0.005~1重量部であってもよく、例えば、0.005重量部、0.05重量部、0.5重量部、1.0重量部またはこれらのうち2つの値の間の値であってもよい。
前記UV吸収剤がベンゾフェノン系の場合、光開始剤とよく組み合わせて製造されたサージカルガイドの光安定性を向上させることができる。具体的に、前記UV吸収剤を含めて光安定性を向上させることができるが、前記UV吸収剤の含量が1重量部を超えると、UV吸収剤の溶解度を超えて組成物に溶解せず析出し、積層しようとする積層厚さ、すなわちZ軸精度が50~100μmの範囲から過度に外れることがある。また、前記UV吸収剤が0.005重量部未満であると、積層しようとする積層厚さ、すなわちZ軸精度が100μmから外れて光安定性向上効果が不十分な場合がある。
本発明で使用される用語の「光安定性」とは、加えられる光量に応じて積層硬化度がどれだけ一定であるかを示す性質を意味する。
前記組成物は、ステレオリソグラフィ装置、デジタル光源処理及び光造形面硬化方式からなる群から選ばれた1つの3Dプリンティングに使用される液状組成物であってもよい。したがって、前記3Dプリンティングは、液状樹脂を使用する方式のプリンタを使用して行われてもよい。光硬化性3Dプリンタは、出力を所望の領域に光を照射して素材を硬化する方式のプリンタであり、他の印刷方式に比べて表面粗さに優れており、複雑な形態の構造物の製造に有利である。
前記ステレオリソグラフィ装置方式は、光硬化性樹脂組成物が入った水槽に紫外線レーザーを投射して硬化させ、これを積層させることにより成形物を製造しうる。このようなSLA 3Dプリンティング時、組成物の種類によって照射されるレーザーの波長が変更されてもよく、硬化速度と硬化された成形物の強度、表面粗さなどが変わり得る。
前記デジタル光源処理方式は、マスク投影イメージ硬化方式であり、光硬化性樹脂に光を選択的に投影して硬化させることにより具現しようとする形状の成形物を製造することができ、一般に造形板が下降して製品を生産するのとは異なり、造形板が上に移動して下方向に製品を生成しうる。このとき、ビームプロジェクタから提供される光を3Dプリンティング用硬化用樹脂組成物に投射して成形物を製造しうる。すなわち、造形板にはスライス断面層単位で硬化が順次行われ、3D成形物が製造されてもよい。
前記光造形面硬化方式は、高解像度で開発された液晶表示装置であるLCDをイメージングソースとして使用する方式であり、値が安く大面積高解像度出力が可能な方式である。光造形面硬化方式は、レーザーやプロジェクション方式のプリンタと比較して大面積出力が可能であるという長所があり、一度に大量に作製することができ、生産性に優れており、単位出力物の個数で出力時間を割ると、出力物あたり出力時間を短縮できる。
サージカルガイド
本発明の他の一態様は、前述したサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで光照射して製造したサージカルガイドを提供する。
本発明の他の一態様は、前述したサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで光照射して製造したサージカルガイドを提供する。
前記サージカルガイドは、360~405nmの光源で光照射して製造してもよく、例えば、380~400nmであってもよい。前記光照射する光源が前記範囲から外れる場合、前記積層製造時に適切な硬化が行われない場合があり、その後で積層製造、洗浄及び後硬化の全過程で適切な形状を維持することが困難になることがある。
また、前記サージカルガイドは、積層製造後、洗浄及び後硬化する過程を通じて完全なサージカルガイドの形態を備えることができ、前記後硬化時、光源も積層製造に使用される光源と同じ範囲であってもよい。
サージカルガイドの製造方法
本発明のさらに他の一態様は、(a)前述したサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を準備する段階、(b)前記光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで積層する段階、 (c)前記(b)段階の生成物を洗浄液で洗浄する段階、(d)前記(c)段階の生成物を360~405nmの光源で10~30分間硬化する段階を含むサージカルガイドの製造方法を提供する。
本発明のさらに他の一態様は、(a)前述したサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を準備する段階、(b)前記光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで積層する段階、 (c)前記(b)段階の生成物を洗浄液で洗浄する段階、(d)前記(c)段階の生成物を360~405nmの光源で10~30分間硬化する段階を含むサージカルガイドの製造方法を提供する。
前記(a)段階で前述したサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を準備する。前記サージカルガイド用光硬化性樹脂組成物の組成及びその効果などについては、前述の通りである。
前記(b)段階で前記光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで積層してもよく、前記(c)段階で前記(b)段階の生成物を洗浄液で洗浄してもよい。前記積層時の3Dプリンティングは、360~405nmの光源で行われてもよく、例えば、380~400nmであってもよく、前記光照射する光源が前記範囲から外れる場合、前記積層製造時に適切な硬化が行われない場合があり、その後で洗浄する過程で適切な形状を維持することが困難な場合がある。
前記(d)段階で前記(c)段階の生成物を360~405nmの光源で10~30分間硬化してもよく、例えば、380~400nmの光源で15~25分間硬化してもよい。前記(d)段階は、後硬化機を用いて硬化してもよく、前記(d)段階を含めて細かい後加工を通じて精密なサージカルガイドを製造してもよい。
前記3Dプリンティングは、ステレオリソグラフィ装置、デジタル光源処理及び光造形面硬化方式からなる群から選ばれた1つで行われてもよく、前記方式に対する特徴などについては、前述の通りである。
前記3Dプリンティングのz軸精度は、50~100μmであり、この積層厚さは、デンタル用3Dプリンティングで一般的に使用される厚さである。前記3Dプリンティングのz軸精度が50μm未満の場合、組成物に加えられる光エネルギーの総量及び回数が増加して出力速度が遅くなることがある。
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。
実施例1
ウレタン-ジメタクリレート(urethane dimethacrylate)共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート(Bisphenol A ethoxylate dimethacrylate)55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート(Tetrahydrofurfuryl methacrylate)6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド(phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide)2重量部及び2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン(2,5-Bis(5-tert-butyl-2-benzoxazolyl)thiophene)0.005重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
ウレタン-ジメタクリレート(urethane dimethacrylate)共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート(Bisphenol A ethoxylate dimethacrylate)55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート(Tetrahydrofurfuryl methacrylate)6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド(phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide)2重量部及び2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン(2,5-Bis(5-tert-butyl-2-benzoxazolyl)thiophene)0.005重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
実施例2
ウレタン-ジメタクリレート共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド2重量部及び2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン0.05重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
ウレタン-ジメタクリレート共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド2重量部及び2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン0.05重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
実施例3
ウレタン-ジメタクリレート共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド2重量部及び2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン0.5重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
ウレタン-ジメタクリレート共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド2重量部及び2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン0.5重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
実施例4
ウレタン-ジメタクリレート共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド2重量部及び2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン1.0重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
ウレタン-ジメタクリレート共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド2重量部及び2,5-ビス(5-tert-ブチルベンゾキサゾール-2-イル)チオフェン1.0重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
比較例1
ウレタン-ジメタクリレート共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド2重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
ウレタン-ジメタクリレート共重合体35重量部、ビスフェノールAエトキシレートジメタリレート55重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート6重量部、フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド2重量部を混合して光硬化性樹脂組成物を製造した。
実験例1:光安定性及びZ軸精度確認
前記実施例及び比較例の組成物を韓国登録特許第1,772,999号に開示された3Dプリンタを使用して作業曲線(Working Curve)を描くように実験し、その結果を図1に示した。
前記実施例及び比較例の組成物を韓国登録特許第1,772,999号に開示された3Dプリンタを使用して作業曲線(Working Curve)を描くように実験し、その結果を図1に示した。
図1において、各実施例が目標とするZ軸精度である積層厚さ50~100μmを具現することが確認できる。
実施例2~4の場合、目標積層の厚さの具現のための光量投入量が多かったが、傾きが低く、目標厚さに到達できる光量範囲が広いので、光安定性に優れていた。光吸収剤の含量が少ない実施例1と光吸収剤を含まない比較例1の場合、積層厚さの範囲は広かったが、光安定性は他の候補群に比べて低かった。
このとき、実施例3と実施例4の場合、積層厚さ100μmの積層時に過度に長い時間が必要であり、これによる副反応で過硬化現象が発生し、スラッジのような望まない形状物が出力された。
実験例2:Z軸精度の具現確認
前記実施例及び比較例の組成物を韓国登録特許第1,772,999号に開示された3Dプリンターを使用し、1軸のサイズが10mmで、軸の厚さが1mmのスキャフォールドキューブを製造して図2に示し、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した後、380~400nmの光源を装着した後硬化機を用いて20分硬化した試片を5回製造し、1軸と2軸の厚さの平均値を図2及び下記表1に示した。
前記実施例及び比較例の組成物を韓国登録特許第1,772,999号に開示された3Dプリンターを使用し、1軸のサイズが10mmで、軸の厚さが1mmのスキャフォールドキューブを製造して図2に示し、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した後、380~400nmの光源を装着した後硬化機を用いて20分硬化した試片を5回製造し、1軸と2軸の厚さの平均値を図2及び下記表1に示した。
図2及び前記表1を参考すると、UV吸収剤の含有有無によって軸の厚さが変化し、z軸精度に差があることが確認できる。1軸測定値の場合、比較例とすべての実施例においてz軸厚さが設計寸法との誤差が0.040mm以下であった。しかし、2軸測定値の場合、UV吸収剤を含む実施例1~4は、いずれも誤差が0.040mm以下であったが、UV吸収剤を全く含まない比較例1は、誤差が0.100mm以上でz軸精度が不十分であった。したがって、UV吸収剤を含めて光安定性を改善できることが確認できる。
前述した本発明の説明は例示のためのものであり、本発明が属する技術分野の通常の知識を有する者は、本発明の技術的思想や必須的な特徴を変更することなく、他の具体的な形態で容易に変形が可能であることを理解できるだろう。したがって、以上で述べた実施例はすべての点で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。例えば、単一型で説明されている各構成要素は分散して実施されてもよく、同様に分散されて説明されている構成要素も結合された形態で実施されてもよい。
本発明の範囲は、後述する請求範囲によって示され、請求範囲の意味と範囲及びその均等概念から導き出されるすべての変更又は変形された形態が本発明の範囲に含まれるものと解釈されなければならない。
Claims (11)
- (メタ)アクリレート系ウレタン共重合体20~50重量部と、
第1の(メタ)アクリレート系モノマー40~70重量部と、
第2の(メタ)アクリレート系モノマー4~9重量部と、
光開始剤1~4重量部と、
UV吸収剤0.005~1重量部を含む、サージカルガイド用光硬化性樹脂組成物。 - 前記第1及び第2の(メタ)アクリレート系モノマーは、それぞれ多官能性及び単官能性(メタ)アクリレート系モノマーである、請求項1に記載のサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物。
- 前記光開始剤は、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、非イミダゾール系化合物、チオキサントン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物及びこれらのうち2以上の混合物からなる群から選ばれた一つである、請求項1に記載のサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物。
- 前記UV吸収剤は、フェニルサリシレート系、ベンゾフェノン系及びベンゾトリアゾール系からなる群から選ばれた一つである、請求項1に記載のサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物。
- 前記組成物は、ステレオリソグラフィ装置、デジタル光源処理及び光造形面硬化方式からなる群から選ばれた1つの3Dプリンティングに使用される液状組成物である、請求項1に記載のサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物。
- 請求項1~5のいずれか一項に記載のサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで光照射して製造した、サージカルガイド。
- 前記サージカルガイドは、360~405nmの光源で光照射して製造した、請求項6に記載のサージカルガイド。
- (a)請求項1~5のいずれか一項に記載のサージカルガイド用光硬化性樹脂組成物を準備する段階と、
(b)前記光硬化性樹脂組成物を3Dプリンティングで積層する段階と、
(c)前記(b)段階の生成物を洗浄液で洗浄する段階と、
(d)前記(c)段階の生成物を360~405nmの光源で10~30分間硬化する段階を含む、サージカルガイドの製造方法。 - 前記(b)段階で前記3Dプリンティングは、360~405nmの光源で行われる、請求項8に記載のサージカルガイドの製造方法。
- 前記3Dプリンティングは、ステレオリソグラフィ装置、デジタル光源処理及び光造形面硬化方式からなる群から選ばれた1つで行われる、請求項8に記載のサージカルガイドの製造方法。
- 前記3Dプリンティングのz軸精度は、50~100μmである、請求項8に記載のサージカルガイドの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200066268A KR102373393B1 (ko) | 2020-06-02 | 2020-06-02 | 서지컬 가이드용 광경화성 수지 조성물, 이로부터 제조된 서지컬 가이드 및 그의 제조방법 |
KR10-2020-0066268 | 2020-06-02 | ||
PCT/KR2021/006028 WO2021246677A1 (ko) | 2020-06-02 | 2021-05-13 | 서지컬 가이드용 광경화성 수지 조성물, 이로부터 제조된 서지컬 가이드 및 그의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023532178A true JP2023532178A (ja) | 2023-07-27 |
Family
ID=78831318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022574269A Pending JP2023532178A (ja) | 2020-06-02 | 2021-05-13 | サージカルガイド用光硬化性樹脂組成物、それから製造されたサージカルガイド及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230235180A1 (ja) |
EP (1) | EP4159777A1 (ja) |
JP (1) | JP2023532178A (ja) |
KR (1) | KR102373393B1 (ja) |
CN (1) | CN115698107A (ja) |
WO (1) | WO2021246677A1 (ja) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4993053B2 (ja) | 2001-02-27 | 2012-08-08 | 株式会社トクヤマ | 歯科用硬化性組成物 |
JP2010037254A (ja) | 2008-08-04 | 2010-02-18 | Gc Corp | 光重合型歯科用表面被覆材 |
CN108671267B (zh) * | 2012-11-30 | 2022-02-18 | H·戴维·迪恩 | 用于高精度医学植入物的吸收剂和反射性生物相容性染料 |
KR102424243B1 (ko) * | 2015-01-13 | 2022-07-25 | 한국전자통신연구원 | 치과 임플란트 시술용 가이드의 3차원 조형을 위한 조성물 |
KR101772999B1 (ko) | 2016-07-14 | 2017-08-31 | 오스템임플란트 주식회사 | 3d 프린팅 장치 |
JP2020075941A (ja) * | 2016-12-05 | 2020-05-21 | Dic株式会社 | サージカルガイド用の立体造形物を形成するために用いられる光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物 |
EP3681434A4 (en) * | 2017-09-11 | 2021-04-07 | 3M Innovative Properties Company | RADIATION CURABLE COMPOSITIONS AND COMPOSITE ARTICLES MADE BY AN ADDITIVE MANUFACTURING PROCESS |
-
2020
- 2020-06-02 KR KR1020200066268A patent/KR102373393B1/ko active IP Right Grant
-
2021
- 2021-05-13 WO PCT/KR2021/006028 patent/WO2021246677A1/ko unknown
- 2021-05-13 EP EP21816987.8A patent/EP4159777A1/en active Pending
- 2021-05-13 CN CN202180040123.6A patent/CN115698107A/zh active Pending
- 2021-05-13 JP JP2022574269A patent/JP2023532178A/ja active Pending
- 2021-05-13 US US18/007,581 patent/US20230235180A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20210149928A (ko) | 2021-12-10 |
CN115698107A (zh) | 2023-02-03 |
KR102373393B1 (ko) | 2022-03-11 |
US20230235180A1 (en) | 2023-07-27 |
WO2021246677A1 (ko) | 2021-12-09 |
EP4159777A1 (en) | 2023-04-05 |
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