JP2023526996A - 口腔清掃及び／又は処置デバイスのための清掃ユニット - Google Patents

Abstract

口腔清掃ユニット、例えば、口腔清掃及び／又は処置デバイスのためのヘッドは、口腔清掃及び／又は処置機能を提供するためにＲＦ場を発生させるための電極を含む。口腔清掃ユニットは、基部又は支持構造から離れてほぼ同じ方向に突出する、少なくとも第１及び第２の突起構造を含む。各々が、１つ又は複数の電極を備える。突起構造は、互いに対向して配設され、第１及び第２の突起構造の間でその中に押される又は挿入される歯を受容することができるように構成される、空間又は隙間によって分離され、突起構造が、歯の両側で延びる、すなわち、歯を跨ぐ。これは、突起構造に備えられるＲＦ電極が、歯間腔へより近接して、歯の側面を下って少なくとも途中の位置へ到達するのを可能にし、歯間腔が、電極がＲＦ信号によって適切に駆動されると、歯の特徴と相互作用するＲＦエネルギー／場を使用して、より良好に清掃されるのを、又はさらに任意選択で感知されるのを可能にする。

Description

本発明は、口腔清掃及び／又は処置デバイス、特に清掃機能のために電磁エネルギーを用いる口腔清掃及び／又は処置デバイスのための清掃ユニットに関する。

高周波電磁放射は、口腔において清掃又は処置機能を提供するために使用され得る。特に、口腔清掃又は処置デバイスは、使用者の口腔に挿入されるためのヘッド部などの、清掃又は処置ユニットを含むことができ、その清掃ユニット部が、ＲＦ信号発生器へ連結される２つ又はそれを超える電極を含む。信号発生器は、ＲＦ信号を用いて電極を駆動し、それにより、ＲＦ場を電極の周り及びその間で発生させる。

米国特許第１０２０１７０１（Ｂ２）号によると、ＲＦ場が歯及び歯茎の表面と相互作用すると、それにより、汚れと口内の表面との間の結合を弛めることによる清掃機能が提供される。特に、このように発生させられるＲＦ場は、歯垢及びさらに歯石も除去することができる。歯の着色汚れもまた、低減され得る。

米国特許第１０２０１７０１（Ｂ２）号は、ＲＦ発生器、２つのＲＦ電極、及びシリコーンストリップの形態の、２つのＲＦ電極間に位置する誘電体バリアを備える、電気歯ブラシを開示する。誘電体バリアは、ブラシ毛の遠位先端部のレベルまで延びる高さを有する。バリアは、電極間で伝達されるＲＦ波を、バリアの上部にわたって伝わらせ、したがって、毛が使用において歯及び歯茎の表面と係合する領域に到達させる。

ブラシ毛の遠位先端部は、通常の方式で歯の表面と擦れ合って、歯を清掃し、一方で同時に、ＲＦ電極は、毛の先端部のレベルで、磨かれている同じ表面に清掃機能を提供する、ＲＦ波を放射する。

ＲＦ口腔清掃及び／又は処置デバイスの分野における発展が、一般的に求められる。

本発明は、請求項によって規定される。

本発明の態様による例により、口腔清掃及び／又は処置デバイスのための清掃ユニットであって、使用者の口腔に受容される清掃ユニットは、
清掃ユニットの表面から外側に延び、１つ又は複数の第１の電極を備える、第１の突起構造と、
清掃ユニットの表面から外側に延び、１つ又は複数の第２の電極を備える第２の突起構造と
を備え、
第２の突起構造が、隙間によって第１の突起構造から離隔され、
隙間が、第１及び第２の突起構造が隙間（及びしたがって、歯）の両側で延びる状態で、少なくとも１の歯が第１及び第２の突起構造の間の隙間に受容可能であるように、配設され、少なくとも１つの歯が隙間に受容される状態で、第１及び第２の突起構造が、歯の外側面を下って少なくとも途中まで延びる、
清掃ユニットが提供される。

本発明の実施形態は、歯が２組の電極間に嵌め込まれて、電極が歯の外側面を下って少なくとも途中まで配置され得るような形態の、電極を提供するという構想に基づく。このように、歯自体が電極間の絶縁バリアとして作用し、必要とされていた専用のバリア要素の代わりとなる。さらに、この配置は、電極が歯間腔へより近接して、歯間腔と同じ高さレベルで配置されるので、歯の間の歯間腔の清掃を改善する。歯が絶縁バリアをもたらすので、ＲＦエネルギーが、歯間腔を介して、すなわち、歯の両側の歯間腔を通って延びる経路に沿って、電極間で流れるように、自然に誘導される。

したがって、本発明の実施形態は、先行技術のデバイスと比較して向上した清掃能力を提供する。

清掃ユニットが上記で言及されるが、デバイスが、相加的に又は代替的に、ＲＦエネルギーを用いて口腔内の１つ又は複数の領域を処置するための、処置ユニットであることに留意されたい。したがって、本開示における清掃ユニットへの言及は、清掃及び／又は処置ユニットへの言及として理解される。

隙間は、好ましくは、第１の突起構造から第２の突起構造まで延びる。隙間は、第１の突起構造から第２の突起構造まで延びる空間からなる。隙間は、第１の突起構造から第２の突起構造まで延びる（途切れない）開放空間である。空間は、例えば、空隙を意味する。

隙間は、第１及び第２の突起構造の間で歯の全幅を受容するためのものである。隙間は、平均的な成人の平均的な大臼歯の全幅を受容するために適した大きさのものである。

突起構造は、歯が隙間に受容される状態で、突起構造が歯の側面に直接隣接している（すなわち、例えば、突起構造と歯の表面との間に他に何もない状態で、歯の表面に面する）ように配設される。突起構造は、歯の側面と接触する。

突起構造は、歯が隙間に受容される状態で、突起構造が歯の隣の市間空隙に隣接して、及びその両側で配置されるように、配設される。

清掃ユニットは、ＲＦエネルギーに基づく口腔清掃又は処置デバイスのためのユニットである。例えば、第１及び第２の電極の各々は、ＲＦ駆動信号を用いて駆動されて、ＲＦ電磁場を発生させるために適する。

清掃ユニットは、口腔清掃及び／又は処置機能を実行するために、使用者の口腔内に受容されるためのものである。

清掃ユニットは、例えば、歯ブラシ若しくは他のデバイスなどの、口腔清掃及び／若しくは処置デバイスのためのヘッドであるか、又は口に嵌め込まれるためのマウスピースユニットなどの、異なる形態の清掃若しくは処置ユニットである。

各突起構造は、各々、一組の１つ又は複数の突起部材を備える。

第１及び第２の突起構造は、したがって、例えば単一の突起部材、又は複数の突起部材から構成される。

各突起構造は、一部の例では、清掃ユニットの表面に細長いフットプリントを画定する、すなわち、清掃ユニットの表面上の線から延びる、単一の層状突起部材を備える。

各突起構造は、代替的に、複数の突起部材を備える。各突起部材が、それぞれの電極を備えるか、又は突起部材の１つのサブセットだけが、電極を備える。

例えば、一組の実施形態（以下でさらに説明される）では、各突起部材は、それぞれの毛を形成し、各突起構造は、毛のそれぞれの房又は束を備える。しかしながら、これは単なる一例の配置を表す。

各突起構造の１つ又は複数の突起部材の少なくとも一部は、可撓性がある。これは、歯が第１及び第２の突起構造の間の隙間に収容されるのを可能にするために、有用であり得る。

例えば、第１及び第２の突起構造の突起部材の少なくとも一部は、隙間に歯を受容するために曲がるように適合される。突起構造は、歯が隙間に受容されると、突起部材が弾性的に歯の外面と係合するようになる。

複数の突起部材（例えば、突起部材の束又は房）から突起構造を形成する利点は、突起構造が、隙間に収容される歯の形状により良好に合致する、又は必要な場合に、歯を収容するために外側により容易に変形することができることである。

一部の実施形態によると、清掃ユニットは、清掃ユニットの表面から外側に延びる、さらなる突起構造をさらに備え、さらなる突起構造が、１つ又は複数のさらなる電極を備え、さらなる突起構造が、第１及び第２の突起構造の間の隙間に設置され、第１及び第２の突起構造より低い高さまで突出する。

さらなる突起構造は、歯が隙間に受容されると、ＲＦ場が歯冠の付近で発生させられるのを可能にする、より短い一組の１つ又は複数の電極を備える。同時に、第１及び第２の突起構造は、歯の側面及び特に歯の間の歯間腔を処置するために、駆動されて、ＲＦ場を発生させることができる。

どのように突起構造が実施されるかに関して、異なる選択肢があり、それは、部分的に、清掃ユニットの意図される用途、すなわち、清掃ユニットが使用される口腔衛生デバイスの種類による。

例えば、一組の実施形態によると、清掃ユニットは、プラテンを備え、歯を清掃するためのプラテンの第１の面から外側に延びる複数の毛をさらに備え、複数の毛が、前記隙間に歯が入るのを可能にするように形状が定められる、及び／又は配設される。

この例における歯は、プラテンの第１の表面に向かって下方向に隙間に受容され、第１及び第２の突起構造は、それらの遠位先端部が動きの方向に向いた状態で、当該の歯にわたって下に下げられる。

この組の実施形態によると、清掃ユニットは、例えば、歯ブラシデバイスのためのヘッドである。

例えば、毛は、プラテンの上から下って第１及び第２の突起構造の間の隙間に歯を受容するのを妨げないように、形状が定められる、外形が定められる、又は単純に配置される。毛の構成は、前記隙間内に歯を入れ、収容するのを可能にするようなものである。

例えば、複数の毛の遠位端部は、前記隙間内に歯を入れ、収容するのを可能にするように形状が定められる外形を画定する。

第１及び第２の突起構造は、前記複数の毛のそれぞれ第１及び第２のサブセットによって、少なくとも部分的に形成される。

毛の第１のサブセットの毛のうちの１つ又は複数は、１つ又は複数の第１の電極を備え、第２のサブセットの１つ又は複数の毛は、１つ又は複数の第２の電極を備える。

第１の電極及び第２の電極の各々は、毛の形態である。例えば、毛のうちの１つ又は複数は、導電性ポリマから形成されるか、又はそうでなければ、電極として作用するように構成される。代替的に、毛のうちの１つ又は複数は、その上又は内に電極を保有する、又は一体化する。

一部の例では、毛の第１のサブセットが、第１の空間的集団に配設され、毛の第２のサブセットが、第２の空間的集団に配設され、第１及び第２の空間的集団が、前記隙間を画定する、それらの間の間隔を有する。

空間的集団は、各々、清掃ユニットの表面に細長いフットプリントを画定し、その結果、それらは、各々、線状の又は細長い外形を画定する。

一部の例では、清掃ユニットは、毛の第１のサブセットと毛の第２のサブセットとの間に配置される、毛の中間セットを備え、毛の中間セットが、毛の第１及び第２のサブセットの各々より短い長さを有し、毛の中間セットの遠位端部が、歯を受容するための前記隙間に対する下側境界を画定する。

毛の中間セットは、さらなる突起構造を形成し、一部の例において、１つ又は複数のさらなる電極を備える。代替的に、それは、単純に、ＲＦエネルギーが第１及び第２の突起構造の電極によって印加されると同時に、隙間に受容される歯冠を磨くのを可能にする。

１つ又は複数の実施形態によると、毛の第１及び第２のサブセットの各々は、複数の湾曲した毛を備え、各サブセットの湾曲した毛が、第１及び第２の突起構造の間の隙間に向かって内側に湾曲するように配設される。

この組の実施形態における突起構造は、したがって、歯のためのＵ形の受容隙間を画定する。隙間に向かって内側に湾曲する毛束内に電極を設けることによって、歯が隙間に受容されると、毛の先端部は、歯の側面に対して偏向される。これは、歯が清掃機能のための毛によって磨かれるのを可能にし、また、毛の間の電極が歯の側面に対して近接して保持されることを確実にして、ＲＦ清掃又は処置機能を最大限発揮させる。

上記の実施形態のいずれかによると、突起構造の各々は、それが突出する清掃ユニットの表面に細長いフットプリントを画定し、その結果、隙間は、前記細長いフットプリントの長さによって画定される長さを有する。

隙間は細長い。

歯磨き機能を提供するための、清掃ユニットが毛を備える一組の例が、上記で論じられた。

他の例では、清掃ユニットは異なる形態をとる。例えば、清掃ユニットは、ブラッシング用でないマウスピース、又はブラッシング用でない口腔処置デバイスのためのヘッドの形態をとる。ブラッシング用マウスピースデバイスもまた、１つの選択肢である。

１つ又は複数の実施形態によると、清掃ユニットは支持体を備え、支持体が、第１の方向を向く第１の側面、及び第１の方向と反対の第２の方向を向く第２の側面を有し、第１及び第２の突起構造が、第１の側面から外側に延びる。

清掃ユニットは、支持体の第２の側面の表面から外側に延び、１つ又は複数の第３の電極を備える、第３の突起構造、及び支持体の第２の側面から外側に延び、１つ又は複数の第４の電極を備える、第４の突起構造をさらに備え、第３の突起構造が、その中に歯を受容するためのさらなる隙間によって、第４の突起構造から離隔される。

この構造は、歯の上及び下列の歯が両方とも受容され、同時に清掃されるのを可能にし、１つの歯が、第１の（上）側面で第１の隙間に受容され、第２の歯が、第１の隙間の下の第２の隙間に受容され、支持体が、歯の間にスペーサ又はバリアをもたらす。

第３及び第４の突起構造は、それぞれ、第１及び第２の突起構造と一列になって配設され、その結果、隙間及びさらなる隙間は、前記第１及び第２の方向に平行な軸に沿って一列になる。

この例における清掃ユニットの断面は、Ｈ形を画定し、第１及び第２の突起構造がＨ形の上腕部を形成し、第３及び第４の突起構造がＨ形の下腕部を形成し、支持コアがＨ形における横棒を形成する。

突起構造は、各々、清掃ユニットの表面に細長いフットプリントを画定し、その結果、隙間は、これらの細長いフットプリントの長さと同等の長さを有する。

一部の例では、清掃ユニットは、マウスピースユニットであり、支持体が、口内の歯の輪郭の周りで延びるために、Ｕ形又は蹄鉄形状に延びる。コアの各側面の突起構造は、コアの同じ湾曲形状に沿って連続的に続いて、又は延びて、上歯を受容するための上側チャネル（第１及び第２の突起構造の間の隙間によって形成される）、及び下歯を受容するための下側チャネル（第３及び第４の突起構造の間の隙間によって形成される）を事実上画定する。

清掃ユニットは、単一の一体化又は単体構造の本体によって形成され、その結果、コア及び突起構造は、同じ一体化構造の一部分である。したがって、清掃ユニットは、ひとつながりの構造体として形成される。これは、例えば、歯又は口の輪郭へ合致するのを可能にするために、一部の例において可撓性がある。

本発明のさらなる態様による例は、
上記で論じられた、若しくは以下で説明される例若しくは実施形態のいずれかによる、又は本出願のいずれかの請求項による、清掃ユニット、並びに
第１の電極及び第２の電極と電気的に連通し、清掃ユニットが口腔に受容されると口腔清掃機能を提供するために、駆動信号（例えば、交番電位又は電流）を用いて電極を駆動して、電極の周り及びその間の領域においてＲＦ交番（電磁）場を誘導するように構成される、ＲＦ発生器
を備える、口腔清掃及び／又は処置デバイスを提供する。

ＲＦエネルギーは、清掃機能を提供するために、歯及び歯茎の表面と相互作用する。

１つ又は複数の実施形態によると、デバイスは第１及び第２の突起構造の間の区域において感知するための、例えば、第１及び第２の突起構造の間の隙間に持ち込まれた身体又は物体を感知するための、感知機能をさらに備える。

感知機能は、第１及び第２の電極を備える電気回路の電気的特性を監視することに基づく。例えば、ＲＦ発生器は、第１及び第２の電極へ電気的に接続され、電極間に交番駆動信号を印加するように配設される。回路はＲＦ発生器を備え、第１及び第２の電極はＲＦ発生回路を形成する。感知は、発生回路の電気的特性を監視することに基づく。

デバイスは、第１及び第２の電極を備える回路の１つ又は複数の電気的特性における変動を感知することに基づいて、第１の電極と第２の電極との間の区域において感知を実行するようにさらに適合される。

特に、デバイスは、コントローラを備える。コントローラは、第１及び第２の電極を備える回路の１つ又は複数の電気的特性における変動を感知することに基づいて、第１及び第２の突起構造の間の区域において（例えば、それらの間の隙間において）歯の特徴又は構造の存在を検出するように適合される。

有利な実施形態では、コントローラは、第１及び第２の突起構造の間の隙間に受容される歯の存在を感知する、又は隙間内の歯間空隙の存在を感知するように適合される。

それは、歯間空隙（歯間腔）に突起部材のうちの１つ又は複数を挿入又は受容することによって引き起こされる、突起部材のうちの１つ又は複数の撓みを感知する。

感知は、第１及び第２の電極間の電圧における変動を感知することに基づく。

感知は、第１及び第２の電極間の静電容量における変化を、直接的に又は間接的に感知することに基づく。

例えば、距離Ｄの隙間によって分離される第１及び第２の突起構造に関して、歯が隙間に受容されると、突起構造が隙間から外側に僅かに曲がる場合に、距離Ｄは、変化（増加）し、電極間の静電容量又はインピーダンスが、それに応じて変化する。静電容量における変化は、電極の対（第１の電極及び第２の電極から形成される）にわたる電圧変化を感知することに基づいて、測定される。

同様に、突起構造のうちの一方又は両方が歯間空隙に受容又は挿入される場合に、これはまた、第１及び第２の電極間の極間距離Ｄを変更し（例えば、それを減少させ）、静電容量における検出可能な変化をもたらす。

さらに、歯が隙間に受容される場合に、電極間の空間におけるこの物体の存在は、電極間の空間の全体的な誘電率を変化させ、それは、検出可能なやり方でそれらの間の実効静電容量を変化させる。

口腔清掃及び／又は処置デバイスは、第１及び第２の電極を備える回路、例えば、発生器回路の１つ又は複数の電気的特性を感知又は監視するように配設される感知ユニットを含む。コントローラは、センサユニットへ連結され、センサユニットから出力されるセンサ信号を受信するように配設され、出力されたセンサ信号に基づいて、突起構造の間の隙間において物体又は構造の受容又は挿入を検出するように適合される。

コントローラは、ＲＦ発生器と動作可能に連結され、感知の結果に基づいて、ＲＦ発生器の動作設定を構成するように適合される。例えば、それは、駆動信号の駆動スキームを変化させるように適合される。

コントローラは、突起構造の間の区域において、歯間腔（歯間空隙）などの、特定の歯の特徴又は構造を感知することに応じて、１つ又は複数の応答動作を発動するように適合される。

例えば、ＲＦ場の強度又は出力レベルは、増加させられる（例えば、隙間に受容される歯又は歯間空隙を検出することに応じて、ＲＦ駆動信号の振幅又は周波数を増加させることによって）。

コントローラは、感知結果に基づいて、清掃及び／又は処置デバイスの清掃機能を調整するように配設される。これは、デバイスに備えられる毛の振動動作、又は口腔洗浄デバイス又はフロッシングデバイスの場合における流体噴射動作などの、口腔清掃及び／又は処置デバイスに備えられる機械的清掃機能である。

例えば、毛の振動の周波数又は振幅は、隙間において歯又は歯間空隙を検出することに応じて、増加される。流体（空気又は液体）のパルス噴射は、一部の例において、フロッシング又は洗浄デバイスのノズルから発動される。ある特定の活性剤又は物質が、一部の例において、歯間の隙間又は歯の存在を検出することに応じて、自動的に放出される。

各場合における応答動作は、追加の清掃動作を実行するためのものである。これは、徹底して清掃することが通常は困難である、例えば歯間空隙域において実行される清掃を向上させるのを可能にする。

１つ又は複数の実施形態によると、第１の突起構造及び第２の突起構造は、各々、突起構造の間に画定される隙間の長さに沿って離隔される位置に配置される、少なくとも３つの電極を備える。

これは、例えば、各対が第１の電極のうちの１つ及び第２の電極のうちの１つから形成される、異なる位置の電極のそれぞれの協働する対の間で、隙間の長さに沿って複数の位置で感知するのを可能にする。したがって、隙間にわたる３組の電極が設けられる。これは、感知機能に空間的な定義又は決定を与える。例えば、電極の真ん中の対が歯間空隙を感知するが、その他の２つは感知しない場合に、これは、歯間空隙が３つの電極配置の中央に配置されることを指示する。

駆動信号は、ＲＦ発生器によって電極の各対間で印加される。

口腔清掃及び／又は処置デバイスは、清掃ユニット部へ直接的に又は間接的に連結される、ハンドル及び／又は本体部をさらに備える。それは、清掃ユニット部へ解放可能に連結されることが可能である。

一部の実施形態による口腔清掃及び／又は処置デバイスは、歯ブラシであり、清掃ユニットは、ブラシヘッドである。

口腔処置デバイスは、一部の例において、清掃ユニットを駆動して振動させるように配設される、振動機構を備える。

本発明のこれら及び他の態様は、本明細書で以下に説明される実施形態から明らかである、又はそれらを参照して明らかにされる。

本発明をより良好に理解するために、及びどのようにそれが行われるかをより明確に示すために、ここで、単なる例として、添付の図面を参照する。

１つ又は複数の実施形態による、例の清掃ユニットを示す図である。 歯を清掃するための使用における、例の清掃ユニットを例示する図である。 歯を清掃するための使用における、例の清掃ユニットを例示する図である。 １つ又は複数の実施形態による、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 毛を備える実施形態による、例の清掃ユニットを示す図である。 毛を備える実施形態による、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 毛を備える、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 電極が毛内に備えられる、例の清掃ユニットを示す図である。 電極が毛内に備えられる、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 電極が毛内に備えられる、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 湾曲した毛を備える、例の清掃ユニットを示す図である。 湾曲した毛を備える、例の清掃ユニットを示す図である。 湾曲した毛を備える、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 湾曲した毛を備える、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 Ｈ形の断面を有する、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 Ｈ形の断面を有する、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 １つ又は複数の実施形態による、さらなる例の清掃ユニットを示す図である。 例の口腔清掃及び／又は処置デバイスの構成要素を示す図である。 感知機能を備える、例の口腔清掃及び／又は処置デバイスの構成要素を示す図である。 歯間腔の感知のための、例の清掃及び／又は処置デバイスの使用を例示する図である。 感知機能を有する、さらなる例の清掃及び／又は処置デバイスの使用を例示する図である。 １つ又は複数の実施形態による、例の歯ブラシデバイスを示す図である。

本発明は、図を参照して説明される。

詳細な説明及び特定の例は、装置、システム及び方法の例示的な実施形態を指示するが、例示の目的のためにのみ意図され、本発明の範囲を限定することは意図されないことを理解されたい。本発明の装置、システム及び方法の、これらの及び他の特徴、態様及び利点が、以下の説明、添付の請求項、及び付随する図面から、より良好に理解されるようになる。図は、単なる概略的なものであり、縮尺通りに描写されていないことを理解されたい。同じ符号が、同じ又は同様の部分を指示するために、図を通して使用されることもまた理解されたい。

本発明は、口腔清掃機能を提供するためにＲＦ波を放射するための電極を含む、口腔清掃ユニット、例えば、口腔清掃及び／又は処置デバイスのためのヘッドを提供する。ユニットは、基部又は支持構造から離れてほぼ同じ方向に突出する、少なくとも第１及び第２の突起構造を含む。各々が、１つ又は複数の電極を備える。突起構造は、互いに対向して配設され、隙間が、それらの間で画定され、第１及び第２の突起構造の間でその中に押される又は挿入される歯を受容することができるように構成され、突起構造が、歯の両側で延びる、例えば、歯を跨ぐ。これは、突起構造に備えられる電極が、歯間腔へより近接して、歯の側面を下って少なくとも途中の位置へ到達するのを可能にし、歯間腔が、電極が適切に駆動されると、ＲＦ放射を使用してより良好に清掃されるのを可能にする。

図１は、本発明の実施形態による、口腔清掃及び／又は処置デバイスのための清掃ユニットの単純な第１の例を概略的に描写する。

清掃ユニット１０は、清掃ユニットの表面から外側に延びる、第１の突起構造１４ａを備える。これ例における清掃ユニットは、突起構造が伸びるプラテン１２などの、背板要素を備える。

第１の突起構造は、この場合では突起構造の本体内に一体化される、第１の電極を備える。例えば、この場合における突起構造は、その中に一体化される電極を有する層状突起部材を備える。他の例では、電極が、突起構造の表面で露出されるか、又は突起構造自体が、電極として作用する導電性材料から形成される。

電極は、様々な形状又は構造をとる。それは、平板状の電極、例えば電極板を含む、又は一部の例において細長い導線を含む、又は一部の例において輪の形態で形状が定められる。平板状の電極が、好ましい例である。

電極１８ａ、１８ｂの各々の一部分は、一部の例において、露出され、例えば、各電極の末端部は、それぞれの突起構造の端部で露出される。

第２の突起構造１４ｂが、清掃ユニット１０の同じ表面から外側に延びてさらに設けられ、第２の電極１８ｂを備える。

第２の突起構造１４ｂは、隙間１６によって第１の突起構造１４ａから離隔される。

図２に示されるように、隙間１６は、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂが歯の両側で延びる状態で、歯２２が第１及び第２の突起構造の間の隙間に受容可能であるように、配設され、歯が隙間に受容される状態で、第１及び第２の突起構造が、歯の外側面を下って少なくとも途中まで延びる。

第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂは、各々、さらなる例において２つ以上の電極１８を備え、例えば、それらは、各々、突起構造の長さに沿って分配される一連の電極を備える。

隙間１６は、好ましくは、第１の突起構造１４ａから第２の突起構造１４ｂまで延びる。

隙間１６は、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの間で歯２２の本体の全幅を受容するためのものである。

第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂに備えられる電極１８ａ、１８ｂは、歯２２が突起構造の間の隙間１６に受容される状態で、電極が歯の側面を下って少なくとも途中まで配置される又は延びるように、配設される。このように、電極は、歯の間の歯間腔に隣接して配置され、それにより、より高強度の場が歯間腔に到達するのを可能にし、それにより、清掃を向上させる。

清掃ユニット１０は、ＲＦエネルギーに基づく口腔清掃及び／又は処置デバイスを用いた使用のための、清掃ユニットである。例えば、第１及び第２の電極１８ａ、１８ｂの各々は、ＲＦ駆動信号を用いて駆動されて、ＲＦ電磁場を発生させるために適する。清掃ユニットは、使用者の口腔内に受容されるためのものである。

特に、電極１８ａ、１８ｂは、デバイスが使用者の口腔に受容されると口腔清掃機能を実行するために、ＲＦ駆動信号を用いて駆動させて、電極の近位及びその間の空間内にＲＦ場を発生させるためのものである。

第１及び第２の電極１８ａ、１８ｂの各々は、ＲＦ駆動信号を受信するためのそれぞれの電気入力又は端子（示されない）へ接続される。

論じられたように、及び図２ａに示されるように、清掃ユニット１０は、歯２２が突起構造１４ａ、１４ｂに備えられる２組の１つ又は複数の電極１８ａ、１８ｂ間に嵌め込まれて、電極が歯の外側面を下って少なくとも途中まで配置されて保持され得るような形態で構成される。このように、歯自体が電極間の絶縁バリアとして作用し、必要とされていた専用のバリア要素の代わりとなる。

図２ｂに示されるように、この配置はまた、突起構造１４が歯２２にわたって下げられると、電極１８ａ、１８ｂが歯間腔へより近接して、歯間腔と同じ高さレベルで配置されるので、歯間腔の清掃を改善する。歯が絶縁バリアをもたらすので、ＲＦ振動（図２ｂで矢印３２によって図示される）は、歯間腔を介して、すなわち、歯の両側で歯間腔を通って延びる経路に沿って、電極１８ａ、１８ｂ間で流れる又は伝達するように、自然に誘導される。

図３は、突起構造１４ａ、１４ｂを有し、１つの突起構造が歯のいずれかの側にあるように歯２２にわたって配置される、使用における清掃ユニット１０を示す。第１の突起構造１４ａのみが、図３で視認できる。歯の間の歯間腔は、矢印２６によって指示される。この例における清掃ユニット１０は、それが連結される、例の口腔清掃及び／又は処置デバイスのハンドル又は本体部へ取り付けられて、示される。図示されるように、突起構造１４ａの側縁部は、歯のいずれかの側で歯間腔２２に隣接し、これは、ＲＦエネルギーが、第１の構造における電極１８ａから歯間腔２２を通って第２の構造１８ｂへ流れるように、使用において誘導されることを意味する。

図１から図３において、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂは、各々、清掃ユニットの表面に細長いフットプリントを画定する（すなわち、清掃ユニットの表面上の線から延びる）単一の層状突起部材を備えるが、他の構成が可能である。

例えば、一部の例によると、各突起構造は、例えば、それぞれ一列に配設される、複数の突起部材を備え、第１の突起構造の列が、第２の構造の列と対向する。各突起部材は、それぞれの電極を備える。

各突起構造の１つ又は複数の突起部材は、可撓性がある。これは、歯が第１及び第２の突起構造の間の隙間に収容されるのを可能にするために、有用であり得る。

例えば、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの突起部材は、隙間１６に歯２２を受容するために曲がるように適合される。突起構造は、歯が隙間に受容されると、突起部材が弾性的に歯の外面と係合するようになる。

図４は、１つ又は複数の実施形態による、さらなる例の清掃ユニット１０を示す。

この例では、清掃ユニット１０は、清掃ユニットの表面から外側に延びる、さらなる突起構造１５をさらに備え、さらなる突起構造１５が、１つ又は複数のさらなる電極１８ｃを備え、さらなる突起構造が、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの間の隙間１６に設置され、第１及び第２の突起構造より低い高さまで突出する。高さ方向は、図４ｂで矢印Ｈによって指示される。

さらなる突起構造１５は、歯が隙間１６に受容されると、ＲＦ場が歯２２の歯冠の付近で印加されるのを可能にする、より短い一組の１つ又は複数の電極１８ｃを備える。

どのように清掃ユニットの突起構造１４ａ、１４ｂが異なる実施形態により実施されるかに関して、いくつかの異なる選択肢がある。これは、部分的に、清掃ユニットの意図される用途、すなわち、清掃ユニットが使用される口腔衛生デバイスの種類による。

一組の実施形態によると、清掃ユニットは、歯を清掃するための複数の毛を備え、突起構造１４が、清掃ユニットの毛内又はその周りに組み込まれる。これは、例えば、清掃ユニットが歯ブラシデバイスを用いた使用のためのものである場合に、適する。例えば、それは、歯ブラシデバイスのためのヘッドである。

例えば、一組の実施形態によると、清掃ユニットは、プラテンを備え、歯を清掃するためのプラテンの第１の面から外側に延びる複数の毛をさらに備え、複数の毛が、前記隙間に歯が入るのを可能にするように形状が定められる、及び／又は配設される。例えば、毛は、プラテンの上から下って第１及び第２の突起構造の間の隙間に歯を受容するのを妨げないように、形状が定められる、外形が定められる、又は単純に配置される。毛の構成は、前記隙間内に歯を入れ、収容するのを可能にするようなものである。例えば、複数の毛の遠位端部は、前記隙間内に歯を入れ、収容するのを可能にするように形状が定められる外形を画定する。

図５は、第１の例を示す。

この例では、清掃ユニットは、毛４２の複数の束が第１及び第２の突起構造１４ａ、２４ｂと同じ方向に延びる、プラテン１２を備える。この例では、毛は、突起構造の一方の側にのみ配設され、隙間１６は毛を備えない。図５ｂに示されるように、毛５２の束は、プラテン１２の周辺域の周りに延びる配置で配置される。毛は、プラテン表面の周辺部全体の周りに延びて設けられるか、又は図５ｂに示されるように、空間が、隙間１６の両側に残されて、他の隣接する歯が毛に絡む、又は毛によって妨げられることなく、隙間への歯の受容を可能にする。

歯２２は、プラテンの第１の表面に向かって下方向に隙間１６に受容され、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂは、それらの遠位先端部が動きの方向に向いた状態で、当該の歯にわたって下に下げられる。

図６は、毛４２を備える、清掃ユニット１０の第２の例を示す。この例では、毛は、突起構造１４ａ、１４ｂの各々の両側に突起構造を囲んで配設され、その結果、突起構造は、清掃ユニットに備えられる毛の間に収まる。突起構造１４ａ、１４ｂは、歯が清掃ユニット１０を使用する使用者によって磨かれるときに、毛束４２と共に突起構造が曲がるのを可能にするために、可撓性材料から形成される。

図７は、さらなる例を示す。この例では、清掃ユニット１０は、第１の突起構造１４ａと第２の突起構造１４ｂとの間の隙間１６に配置される、毛４４の中間セットを備える。毛４４の中間セットは、毛の第１及び第２のサブセットの各々より低い高さまで突出する。毛４４の中間セットの遠位端部は、それによって、歯２２を受容するための隙間１６に対する下側境界を事実上画定する。

この配置は、中間の毛４４が、ＲＦエネルギーが第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの電極１８によって印加されると同時に、隙間に受容される歯２２の歯冠を磨くことができることを意味する。

有利な組の実施形態によると、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂは、清掃ユニット１０に備えられる複数の毛４２のそれぞれ第１及び第２のサブセットによって、少なくとも部分的に形成される。

毛の第１のサブセットの毛のうちの１つ又は複数は、１つ又は複数の第１の電極を備え、第２のサブセットの１つ又は複数の毛は、１つ又は複数の第２の電極を備える。

毛の第１及び第２のサブセットは、各々、突起構造を画定する、毛のそれぞれの空間的集団を形成する。

これは、異なるやり方で実施され得る。第１の電極及び第２の電極の各々は、一部の例において、それら自身が毛の形態で設けられる。例えば、毛のうちの１つ又は複数は、導電性ポリマ、又はそれが電極として作用するのを可能にする他の導電性材料から形成される。代替的に、毛のうちの１つ又は複数は、単純に、その上又は内に１つ又は複数の電極を保有する、又は一体化する。

例として、毛の形態の電極は、外側面の少なくとも一部が金属で被覆される、ナイロン製の毛で設けられる。導電性金属被覆は、電極として機能する。一部の例では、毛は、それが導電性及び非導電性区画を備えるように、選択的に金属で被覆される。

さらなる例として、毛の形態の電極は、導電性シリコーン又はゴム材料から形成される毛で設けられる。

さらなる例として、毛の形態の電極は、その中に埋め込まれる、又はそうでなければ一体化される導電性要素（例えば、１つ又は複数の薄い金属の導線又は板）を備える、可撓性部材で設けられる。可撓性部材は、内側導電性要素を囲む絶縁シースを備える。この絶縁シースは、例えば、歯を清掃するために適した、非導電性シリコーン又は弾性ゴム又は熱可塑性ポリマ（例えば、ポリアミド６．１２、ＴＰＥ、ポリブチレンテレフタレート）から形成される。

毛の形態の電極の製造は、オーバーモールドされるプリンテッドエレクトロニクスなどの標準的な製造技術によって、又はラミネート加工技術によって達成され得る。

構想の単純な第１の例が、図８で示される。ここで、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの各々は、毛の線状の束の形態の毛のそれぞれの空間的集団として形成される。第１の突起構造の毛は、第１の線状配置で配設され、第２の突起構造の毛は、第２の線状配置で配設される。個々の毛は、突起部材を形成し、突起部材の全体が、全体的な突起構造を形成する。第１及び第２の線状配置は、互いに対向し、それらの間の間隔が、歯を受容するための隙間１６を画定する。

この例では、第１及び第２の突起構造を形成する毛の第１及び第２のセット以外に、清掃ユニットに備えられる他の毛はない。

しかしながら、他の例では、第１及び第２の突起構造の各々を形成する毛は、単純に、清掃ユニットに備えられる複数の毛のサブセットである。

図９及び図１０は、そのような配置の２つの例を示す。

図９の例では、第１及び第２の突起構造の各々は、毛のそれぞれのサブセットから形成され、毛のサブセットが、清掃ユニットの表面に沿って一列に延びる線状の束として形成され、第１及び第２の突起構造の列が、互いに対向する。図９の例では、第１及び第２の突起構造を形成する毛のサブセットは、各突起構造の一方の側でのみ、清掃ユニットのさらなる通常の毛に隣接する。図１０の例では、第１及び第２の突起構造を形成する毛のサブセットは、清掃ユニットに備えられる残りの複数の毛の間に収まる、例えば、残りの通常の毛によって全面で囲まれる。

上記の例の各々では、突起構造１４の各々を形成する毛は、各々、それぞれの電極を備える、若しくはそれからなるか、又は突起構造の各々を形成する毛の１つのサブセットのみが、電極を備える、若しくはそれからなる。

上記で論じられたように、一部の例では、清掃ユニットは、それぞれ、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂを形成する毛の第１及び第２のサブセットの間に配置される、毛の中間セットを備え、毛の中間セットが、毛の第１及び第２のサブセットの各々より短い長さを有する。この場合における毛の中間セットの遠位端部は、歯を受容するための前記隙間への下側境界を画定する。

毛の中間セットは、さらなる突起構造１４を形成し、一部の例において、１つ又は複数のさらなる電極を備える。

有利な一組の実施形態によると、毛の第１及び第２のサブセットの各々は、複数の湾曲した毛を備え、各サブセットの湾曲した毛が、第１及び第２の突起構造の間の隙間１６に向かって内側に湾曲するように配設される。

そのような実施形態の例が、図１１及び図１２で図示される。清掃ユニット１０は、それぞれ、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂを形成する、湾曲した毛の第１及び第２の束５４ａ、５４ｂを備える。第１及び第２の突起構造の各々の毛は、毛の形態である、又は各束において１つ又は複数の毛に備えられる、例えば、毛内に一体化される、１つ又は複数の電極を含む。

この組の実施形態における突起構造１４ａ、１４ｂは、したがって、歯を受容するためのＵ形の隙間を事実上画定する。

図１２に示されるように、隙間１６に向かって内側に湾曲する毛束内に電極を設けることによって、歯２２が隙間に受容されると、毛の先端部は、歯の側面に対して偏向される。これは、歯が清掃機能のための毛によって磨かれるのを可能にし、また、毛の間の電極が歯の側面に対して近接して保持されることを確実にして、ＲＦ清掃機能を最大限発揮させる。

図１３及び図１４は、突起構造１４ａ、１４ｂが、各々、隙間１６に向かって内側に湾曲する毛のそれぞれのサブセットを備える、さらなる例を図示する。この例では、清掃ユニット１０は、上記の図７の例と同様に、突起構造の間の隙間に位置する、毛５６のさらなる中間セットを備える。毛のこの中間セットは、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂを形成する毛束５４ａ、５４ｂのいずれよりも低い高さまで延び、図１４に示されるように、歯が隙間に受容されると、歯冠を磨くのを可能にし得る。中間の毛束５６は、さらなる突起構造を形成し、１つ又は複数のさらなる電極を備えて、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂが歯の側面及び歯間腔の近くで清掃を実行しながら、中間の毛が歯冠の近くでＲＦ清掃機能を実行するのを可能にする。

一部の例では、湾曲した毛の先端部は、湾曲した毛の基部に対して一定の角度で配設される。特に、複数の湾曲した毛の各々は、先端部を備え、プラテン１２の上面で清掃ユニットへ固定される基部をさらに備え、湾曲した毛の先端部が、湾曲した毛の基部に対して一定の角度で配置される。

複数の湾曲した毛は、一部の例において、湾曲した毛の基部に対しておよそ６０～１２０度の角度で配置される。

上記の実施形態のいずれかによると、突起構造の各々は、それが突出する清掃ユニットの表面に細長いフットプリントを画定し、その結果、隙間は、前記細長いフットプリントの長さによって画定される長さを有する。

隙間は細長い。

歯磨き機能を提供するための、清掃ユニット１０が毛を備える一組の実施形態が、上記で論じられた。

他の非限定的な例では、清掃ユニットは異なる形態をとる。例えば、清掃ユニットは、マウスピース、又はブラッシング用でない口腔処置デバイスのためのヘッドの形態をとる。

図１５及び図１６は、清掃ユニットがマウスピースユニット６２の形態である、一組の実施形態によるさらなる例の清掃ユニットを示す。図１５はユニットを通る断面を示し、図１６はユニットの平面図を示す。

この例では、清掃ユニット１０は支持体７６を備え、支持体が、第１の方向を向く第１の側面７７ａ、及び第１の方向と反対の第２の方向を向く第２（反対）の側面７７ｂを有し、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂが、第１の側面７７ａから外側に延び、第１の隙間１６ａによって分離される。

清掃ユニット１０は、支持体７６の第２の側面７７ｂの表面から外側に延び、１つ又は複数の第３の電極１８ｃを備える、第３の突起構造１４ｃ、及び支持体７６の第２の側面７７ｂから外側に延び、１つ又は複数の第４の電極１８ｄを備える、第４の突起構造１４ｄをさらに備え、第３の突起構造が、その中に歯を受容するためのさらなる隙間１６ｂによって、第４の突起構造から離隔される。

この構造は、歯の上及び下列の歯が両方とも受容され、同時に清掃されるのを可能にし、１つの歯が、第１の（上）側面７７ａで第１の隙間１６ａに受容され、第２の歯が、第２の側面７７ｂで第１の隙間の下の第２の隙間１６ｂに受容され、支持体７６が、受容される歯の間にスペーサ又はバリアをもたらす。

図１５に示されるように、第３及び第４の突起構造１４ｃ、１４ｄは、それぞれ、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂと一列になって配設され、その結果、隙間１６ａ及びさらなる隙間１６ｂは、前記第１及び第２の方向に平行な軸に沿って一列になる。しかしながら、さらなる例では、隙間１６ａ及びさらなる隙間１６ｂは、上及び下顎の異なる弧形を収容するために、前記軸に垂直な方向に互いからずらされる。第１の突起構造から第３の突起構造を、及び第２の突起構造から第４の突起構造をずらすことはまた、各々によって保有される電極を空間的に分離することにおいて、有益である。これは、突起構造の各対によって発生させられる、ＲＦ場間の干渉を避ける。これは、特に、感知がさらに実行される実施形態（後述される）において有益である。

図１５に示される例では、ユニットは、マウスピースユニットであり、支持体７６が、口内の歯の輪郭の周りで延びるために、Ｕ字形状又は蹄鉄形状に延びる。コアの各側面７７ａ、７７ｂの突起構造１４は、コアの同じ湾曲形状の周りで連続的に続いて、又は延びて、上歯を受容するための上側チャネル（第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの間の隙間１６ａによって形成される）、及び下歯を受容するための下側チャネル（第３及び第４の突起構造１４ｃ、１４ｄの間の隙間１６ｂによって形成される）を事実上画定する。

突起構造は、したがって各々、清掃ユニットの表面に細長いフットプリントを画定し、その結果、隙間は、これらの細長いフットプリントの長さと同等の長さを有する。

清掃ユニット１０は、単一の一体化又は単体構造の本体によって形成され、その結果、コア７６及び突起構造１４は、同じ一体化構造の一部分である。したがって、清掃ユニットは、一部の例において、ひとつながりの構造体として形成される。これは、例えば、歯又は口の輪郭へ合致するのを可能にするために、一部の例において可撓性材料から形成される。

図１５の例は、マウスピースユニットの形態であるが、これは必須ではない。他の例では、清掃ユニットは異なる形態をとる。例えば、支持体７６は、層状又は板状の形態であり、突起構造のそれぞれの対が、板状の支持体の両側から延びる。これは、一部の例において、清掃及び／又は処置デバイスのためのヘッドであり、デバイスは、口腔内にヘッドを保持するためのハンドルを有し、ヘッドは、、同時に上及び下歯を清掃するのを可能にし得る。

１つ又は複数の実施形態による口腔清掃ユニット１０のためのさらなる一例の配置が、図１７に示される。この例では、清掃ユニットは、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの各々の表面から突起構造の間の隙間１６の内側に突出する、複数の毛４２を備える。特に、第１及び第２の突起構造の各々は、隙間に向かって内側に向く側面を有し、複数の毛４２が、突起構造の側面から隙間内に突出する。各突起構造の毛は、例えばもう一方の相対する突起構造に向かう方向に延びる。

毛４２は、突起構造の間の隙間１６に途中までのみ延び、その結果、隙間は、歯２２が受容され得る、毛４２の相対するセットの遠位端部間の区域を画定する自由空間を有する。歯が隙間２２に受容されると、図１７に示されるように、毛は、歯の側面と係合して、例えば物理的な清掃機能を提供する。電極１８ａ、１８ｂは、ＲＦ場３２が第１及び第２の電極１８ａ、１８ｂ間の区域に発生させられるように、突起構造に一体化される、又はそれによって保有される。使用において、これは、図１７に示されるように、歯の側面で歯間腔を通って延びる。

図１７に示される構造は、一部の場合において、清掃及び／又は処置デバイスのための清掃ヘッドなどの、清掃ユニットの一部、又は例えばマウスピースユニットの一部を形成する。例えば、図１２に示されるプラテン１２は、図１５のものなどの、マウスピースユニットの支持体７６の少なくとも一部分を形成する。

本発明のさらなる態様による例は、口腔清掃及び／又は処置デバイス若しくは装置を提供する。

一例の口腔清掃及び／又は処置デバイス若しくは装置の構成要素が、図１８で概略的に示される。

デバイス又は装置は、上記で論じられた、若しくは以下で説明される例若しくは実施形態のいずれかによる、又は本出願のいずれかの請求項による、清掃ユニット１０を備える。デバイスは、第１の電極１８ａ及び第２の電極１８ｂと電気的に連通し、清掃ユニットが口腔に受容されると口腔清掃機能を提供するために、交番電位を用いて電極を駆動して、電極の周り及びその間の領域において高周波（ＲＦ）電磁場を誘導するように構成される、ＲＦ発生器８２をさらに備える。

上記で論じられたように、ＲＦエネルギーは、清掃機能を提供するために、歯及び歯茎の表面と相互作用する。

ＲＦ発生器２２は、電極１８ａ、１８ｂへ電気的に連結され、電極の対へＲＦ駆動信号を供給して、ＲＦ場の発生を誘導するように配設される。交番駆動信号は、第１及び第２の電極１８ａ、１８ｂ間に印加され、その結果、交番電位差が電極間で誘導される。それゆえに、第１及び第２の電極は、電極の対を事実上形成し、この対は、ＲＦ発生器から交流印加電圧又は交流電流で連結されるコンデンサ配置を事実上形成する。

ＲＦ発生器は、３ｋＨｚ～３００ＧＨｚ、より好ましくは例えば５００ｋＨｚ～３０ＭＨｚのいずれかの駆動周波で、数第１及び第２の電極を駆動する。

デバイスは、ＲＦ発生器を制御するためのコントローラ又はプロセッサをさらに含む。使用者がＲＦ清掃の作動・停止を切り替えるのを可能にするために、使用者制御手段、例えばボタンが、設けられる。

１つ又は複数の実施形態によると、第１及び第２の突起構造の間の隙間に持ち込まれた身体又は物体を感知するための、感知機能をさらに備える。

デバイスは、第１及び第２の電極を備える回路の１つ又は複数の電気的特性における変動を感知することに基づいて、第１の電極と第２の電極との間の区域において感知を実行するように適合される。

例えば、ＲＦ発生器は、第１及び第２の電極へ電気的に接続され、電極間に交番駆動信号を印加するように配設される。回路はＲＦ発生器を備え、第１及び第２の電極はＲＦ発生回路を形成する。感知は、ＲＦ発生回路の電気的特性を監視することに基づく。

１つ又は複数の実施形態による口腔衛生のための例の回路配置が、図１９で概略的に描写される。

デバイス８０は、電極１８ａ、１８ｂへ電気的に連結され、電極の対へＲＦ駆動信号を供給して、ＲＦ場の発生を誘導するように配設される、ＲＦ発生器２２を含む。ＲＦ場は、清掃ユニットが口腔に受容されると、口腔清掃機能を実行するように適合される。

交番駆動信号は、電極１８ａ、１８ｂ間に印加され、その結果、交番電位差が電極間で誘導される。それゆえに、電極の対は、ＲＦ発生器から交流印加電圧で連結されるコンデンサ配置を事実上形成する。

デバイス８０は、電極１８ａ、１８ｂの対へ電気的に連結される、感知ユニット２４をさらに含む。感知ユニット２４は、電極を備える回路の電気的特性における変動を感知するように適合される。

図１の例では、感知ユニット２４は、電極の対と（及びＲＦ電流発生器と）電気的に並列に接続され、これは、感知ユニット２４が、電極間に持ち込まれた（異）物による電極距離Ｄ又は誘電率の変動によって誘導される静電容量変化により、電極間の電圧における変動を感知するように動作可能であることを意味する。

さらなる実施例では、感知ユニット２４は、例えば、電極１８ａ、１８ｂのうちの１つ又は複数と直列に接続される、異なる電気的配置で設けられる。

デバイス８０は、感知ユニット２４からの感知信号を受信し、処理するように配設される、コントローラ２８をさらに備える。

一部の例では、コントローラ２８は、さらに、ＲＦ発生器２２へ通信可能に又は動作可能に連結され、その結果、センサユニット２４からの感知信号の分析の結果が、例えば、ＲＦ発生器によって実施されたＲＦ駆動スキームを通知するために、使用され得る。

一部の例では、コントローラ２８は、ＲＦ発生器２２の動作を制御するように適合される。

電極１８ａ、１８ｂを備える回路及びＲＦ発生器８２は、共にＲＦ発生回路を形成すると理解され得る。図１９の例では、感知ユニット２４は、感知がＲＦ発生回路の１つ又は複数の電気的特性における変動を検出することに基づくように、この回路へ電気的に接続されて配設される。

コントローラ２８は、第１及び第２の電極を備える回路の１つ又は複数の電気的特性における変動を感知することに基づいて、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの間の区域において（例えば、それらの間の隙間１６において）歯の特徴又は構造の存在を検出するように適合される。

有利な実施形態では、コントローラ２８は、第１及び第２の突起構造の間の隙間１６に受容される歯２２の存在を感知する、又は隙間内の歯間空隙２６の存在を感知するように適合される。

感知は、第１及び第２の電極１８ａ、１８ｂ間の電圧における変動を感知することに基づく。

感知は、第１及び第２の電極１８ａ、１８ｂ間の静電容量における変化を、直接的に又は間接的に感知することに基づく。

例えば、距離Ｄの隙間によって分離される第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂに関して、歯が隙間に受容されると、突起構造が隙間から外側に僅かに曲がる場合に、距離Ｄは、変化（増加）し、電極１８ａ、１８ｂ間の静電容量が、それに応じて変化する。静電容量又はインピーダンスにおける変化は、電極の対（第１の電極及び第２の電極から形成される）にわたる電圧変化を感知することに基づいて、測定される。

同様に、突起構造のうちの一方又は両方が歯間空隙に受容又は挿入される場合に、これはまた、第１及び第２の電極間の極間距離Ｄを変更し、静電容量における検出可能な変化をもたらす。

さらに、歯が隙間に受容される場合に、電極間の空間におけるこの物体の存在は、電極間の空間の全体的な誘電率を変化させ、それは、検出可能なやり方でそれらの間の実効静電容量を変化させる。

述べられたように、コントローラ２８は、感知ユニット２４へ連結され、センサユニットから出力されるセンサ信号を受信するように配設され、出力されたセンサ信号に基づいて、突起構造の間の隙間において歯の特徴又は構造の存在を検出するように適合される。

特定の歯の特徴又は構造は、電極間の回路の電気的特性における異なる変化と関連する。例えば、開放空間が、電極間の第１の実効静電容量（電極間の測定可能な電圧に反映される）と関連し、電極間の歯間空隙が、第２の実効静電容量と関連し、隙間における歯の全幅の存在が、異なる実効静電容量と関連する。歯間空隙の大きさは、電極間の検出される実効静電容量又は電極を備える回路の他の電気的特性に基づいて、コントローラによって検出可能である。

一部の例では、デバイスは、コントローラへ通信可能に連結されるメモリを含み、メモリが、複数の異なる可能な歯の特徴又は実体の各々に関する参照回路特性を記録する、参照データセット、例えばルックアップテーブルを記憶する。

コントローラ２８は、突起構造の間の区域において、歯間腔などの、特定の歯の特徴又は構造を感知することに応じて、１つ又は複数の応答動作を発動するように適合される。

例えば、ＲＦ場の強度又は出力レベルは、増加させられる（例えば、隙間に受容される歯又は歯間空隙を検出することに応じて、ＲＦ駆動信号の振幅又は周波数を増加させることによって）。

コントローラは、感知結果に基づいて、清掃及び／又は処置デバイス８０の清掃機能を調整するように配設される。これは、デバイスに備えられる毛の振動動作、又は口腔洗浄デバイス又はフロッシングデバイスの場合における流体噴射動作などの、口腔清掃及び／又は処置デバイスに備えられる機械的清掃機能である。

例えば、デバイスは、毛を振動させるためにプラテン１２へ振動を加えるように配設される、機械的振動機構を含み、毛の振動の周波数又は振幅が、隙間において歯又は歯間腔を検出することに応じて、増加又は減少させられる。流体（空気又は液体）のパルス噴射は、一部の例において、フロッシング又は洗浄デバイスのノズルから発動される。ある特定の活性剤又は物質が、一部の例において、歯間の隙間又は歯の存在を検出することに応じて、自動的に放出される。

各場合における応答動作は、追加の清掃及び／又は処置動作を実行するためのものである。これは、徹底して清掃することが通常は困難である、例えば歯間空隙域において実行される清掃を向上させるのを可能にする。

図２０は、例の清掃及び／又は処置デバイスの使用を図示する。清掃ヘッド１０が、歯の列にわたって配置されており、その結果、２つの隣接する歯２２が、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの間の隙間１６（見えない）に部分的に受容される。２つの隣接する歯２２の間の歯間腔２６は、したがって、突起構造の間の隙間に配置される。コントローラ２８（示されない）は、ＲＦ発生回路の電圧における変動、又は電極間の実効静電容量における変化に基づいて、隣接歯間の隙間の存在を検出する。

代替的に、清掃ヘッドは、９０度回転され、突起構造１４ａ、１４ｂが、各々、歯２２のうちの１つの両側の歯間腔に受容される。この場合では、歯は、突起構造の間の隙間１６に完全に受容される。突起構造が歯間腔に入るときの突起構造の撓みは、検出可能である。

１つ又は複数の実施形態によると、第１の突起構造及び第２の突起構造は、各々、突起構造の間に画定される隙間の長さに沿って離隔される位置に配置される、少なくとも３つの電極を備える。例が図２１で示される。ここで、第１及び第２の突起構造１４ａ、１４ｂの各々は、複数の空間的に分離された部分（この例では３つ）から構成され、各々が、それぞれの電極を備える。

これは、例えば、各対が第１の電極１８ａのうちの１つ及び第２の電極１８ｂのうちの１つから形成される、異なる位置の電極のそれぞれの協働する対の間で、第１及び第２の突起構造の間の隙間１６の長さに沿って、複数の位置で感知するのを可能にする。したがって、隙間にわたる３組の電極が設けられる。これは、感知機能に空間的な定義又は決定を与える。例えば、電極の真ん中の対が歯間の隙間を感知するが、その他の２つは感知しない場合に、これは、歯間の隙間２６が３つの電極配置の中央に配置されることを指示する。

駆動信号は、例えばＲＦ発生器８２によって、電極の各対間で印加される。

上述のように、感知の結果は、一部の例において、有線又は無線通信インターフェースによって外部デバイスへ伝えられる。例えば、感知の結果は、サーバへアップロードされる、又は例えば、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）又はＷｉ－Ｆｉ（登録商標）などの無線通信プロトコルを介して、スマートフォンなどの移動通信デバイスへ伝えられる。

結果は、対象者の臨床モニタリングのために経時的に監視される。例えば、歯間空隙の大きさの増大、歯茎の窪み、又は歯の動きが、検出され得る。

口腔清掃及び／又は処置デバイスは、清掃ユニットへ直接的に又は間接的に連結される、ハンドル及び／又は本体部をさらに備える。ハンドル又は本体部は、ＲＦ発生器８２を収納又は収容し、発生器と清掃ユニットの電極との間の電気的接続を容易にする。

清掃ユニットは、口腔清掃及び／又は処置デバイスの本体部への使い捨てアタッチメント（例えば歯ブラシデバイスのためのヘッド）である。それは、本体部へ解放可能に、機械的に、及び電気的に連結されるように適合される。

一部の実施形態による口腔清掃及び／又は処置デバイスは、歯ブラシ８０であり、清掃ユニット１０は、歯ブラシのためのブラシヘッドである。ＲＦ発生器（示されない）を収納する本体部９２の遠位端部へ取り付けられる、歯ブラシヘッドの形態の清掃ユニット１０を示す一例が、図２２で概略的に示される。本体部は、デバイスのためのハンドルを形成する。

口腔清掃デバイスは、一部の例において、例えば毛を振動させるために、清掃ユニットを駆動して振動させるように配設される、振動機構を備える。

任意選択で、清掃ユニット１０は、本体部９２へ解放可能に連結されることが可能であるように配設され、その結果、清掃ユニットは、本体部から取外し可能である。

多様な異なる種類の口腔清掃デバイスが、本発明の実施形態により提供される。

非限定的な例として、本発明の実施形態による口腔清掃又は処置デバイスは、以下のいずれかである；
歯ブラシデバイス（例えば電動歯ブラシ）、
口腔洗浄器デバイス、
電動フロッシングデバイス、
複合ブラッシング及びフロッシングデバイス、又は
マウスピースデバイス、例えばブラッシング用マウスピースデバイス。

上記で論じられたように、実施形態はコントローラを利用する。コントローラは、要求される様々な機能を実行するために、ソフトウエア及び／又はハードウエアを用いて、数多くのやり方で実施され得る。プロセッサは、要求される機能を実行するためのソフトウエア（例えばマイクロコード）を使用してプログラムされる、１つ又は複数のマイクロプロセッサを用いる、コントローラの一例である。コントローラは、しかしながら、プロセッサを用いて又は用いることなく、実施され、また、いくつかの機能を実行するための専用ハードウエア、及び他の機能を実行するためのプロセッサ（例えば、１つ又は複数のプログラムされたマイクロプロセッサ及び関連回路）の組合せとして、実施される。

本開示の様々な実施形態において用いられる、コントローラ構成要素の例には、従来のマイクロプロセッサ、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）が挙げられるが、これらに限定されない。

様々な実施において、プロセッサ又はコントローラは、ＲＡＭ、ＰＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ、及びＥＥＰＲＯＭ（登録商標）などの揮発性及び不揮発性コンピュータメモリなどの、１つ又は複数の記憶媒体を伴う。記憶媒体は、１つ又は複数のプロセッサ及び／又はコントローラで実行されると要求される機能を実行する、１つ又は複数のプログラムで符号化される。様々な記憶媒体が、そこに記憶される１つ又は複数のプログラムがプロセッサ又はコントローラにロードされ得るように、プロセッサ若しくはコントローラ内に据え付けられる、又は可搬式である。

図面、本開示及び添付の請求項を検討することにより、開示された実施形態への変更が、特許請求される本発明を実践する際に、当業者によって理解され、行われ得る。請求項において、「備える」という語は、他の要素又はステップを除外せず、単数形は、複数を除外しない。

単に、ある特定の測定値が相互に異なる独立請求項において挙げられるということが、これらの測定値の組合せが有利に使用され得ないことを指示しない。

用語「ように適合される」が請求項又は明細書において使用される場合に、用語「ように適合される」は、用語「ように構成される」に等しいことが意図されることに留意されたい。

請求項におけるいかなる符号も、範囲を限定するとは解釈されるべきではない。

Claims (13)

1. 口腔清掃及び／又は処置デバイスのための清掃ユニットであって、使用者の口腔に受容される前記清掃ユニットは、
   前記清掃ユニットの表面から外側に延び、１つ又は複数の第１の電極を備える、第１の突起構造と、
   前記清掃ユニットの前記表面から外側に延び、１つ又は複数の第２の電極を備える第２の突起構造と
   を備え、
   前記第２の突起構造が、隙間によって前記第１の突起構造から離隔され、前記隙間が、前記第１の突起構造から前記第２の突起構造まで延びる空間からなり、
   前記隙間が、前記第１及び第２の突起構造が前記隙間の両側で延びる状態で、少なくとも１の歯が前記第１及び第２の突起構造の間の前記隙間に受容可能であるように配設され、前記少なくとも１つの歯が前記隙間に受容される状態で、前記第１及び第２の突起構造が、前記歯の外側面を下って少なくとも途中まで延び、
   前記第１及び第２の突起構造が、各々、複数の突起部材を備え、各突起構造の前記突起部材の少なくとも一部が可撓性である、
   清掃ユニット。
2. 前記第１及び第２の突起構造の前記突起部材の少なくとも一部が、前記隙間に歯を受容するために曲がり、その結果、前記歯が前記隙間に受容されると、前記突起部材が弾性的に前記歯の外面と係合する、請求項１に記載の清掃ユニット。
3. 前記清掃ユニットがプラテンを備え、歯を清掃するための前記プラテンの第１の面から外側に延びる複数の毛をさらに備え、前記複数の毛が、前記隙間に歯が入るのを可能にするように形状が定められる及び／又は配設される、請求項１又は２に記載の清掃ユニット。
4. 前記第１及び第２の突起構造が、前記複数の毛のそれぞれ第１及び第２のサブセットによって、少なくとも部分的に形成され、前記毛が前記突起部材を形成する、請求項３に記載の清掃ユニット。
5. 毛の前記第１のサブセットの前記毛のうちの１つ又は複数が、前記１つ又は複数の第１の電極を備え、前記第２のサブセットの１つ又は複数の毛が、前記１つ又は複数の第２の電極を備える、請求項４に記載の清掃ユニット。
6. 毛の前記第１のサブセットが、第１の空間的集団に配設され、毛の前記第２のサブセットが、第２の空間的集団に配設され、前記第１及び第２の空間的集団が、前記隙間を画定する、それらの間の間隔を有する、請求項４又は５に記載の清掃ユニット。
7. 前記第１及び第２の電極が毛の形態である、請求項３から６のいずれか一項に記載の清掃ユニット。
8. 前記清掃ユニットが、毛の前記第１のサブセットと毛の前記第２のサブセットとの間に配置される、毛の中間セットを備え、毛の前記中間セットが、毛の前記第１及び第２のサブセットの各々より短い長さを有し、毛の前記中間セットの遠位端部が、前記歯を受容するための前記隙間に対する下側境界を画定する、請求項４から７のいずれか一項に記載の清掃ユニット。
9. 毛の前記第１及び第２のサブセットの各々が、複数の湾曲した毛を備え、各サブセットの前記湾曲した毛が、前記隙間に向かって内側方向に湾曲するように配設される、請求項４から８のいずれか一項に記載の清掃ユニット。
10. 前記清掃ユニットが、支持体を備え、前記支持体が、第１の方向を向く第１の側面、及び前記第１の方向と反対の第２の方向を向く第２の側面を有し、前記第１及び第２の突起構造が、前記第１の側面から外側に延び、
    前記清掃ユニットが、前記支持体の前記第２の側面の表面から外側に延び、１つ又は複数の第３の電極を備える、第３の突起構造、及び前記支持体の前記第２の側面から外側に延び、１つ又は複数の第４の電極を備える、第４の突起構造をさらに備え、前記第３の突起構造が、その中に歯を受容するためのさらなる隙間によって、前記第４の突起構造から離隔される、請求項１から９のいずれか一項に記載の清掃ユニット。
11. 前記第３及び第４の突起構造が、それぞれ、前記第１及び第２の突起構造と一列になって配設され、その結果、前記隙間及び前記さらなる隙間が、前記第１及び第２の方向に平行な軸に沿って一列になる、請求項１０に記載の清掃ユニット。
12. 請求項１から１１のいずれか一項に記載の清掃ユニット、並びに
    第１の電極及び第２の電極と電気的に連通し、前記清掃ユニットが口腔に受容されると口腔清掃機能を提供するために、ＲＦ交番駆動信号を用いて前記電極を駆動して、前記電極の周り及びその間の領域においてＲＦ交番場を誘導するように構成される、ＲＦ発生器
    を備える、口腔清掃及び／又は処置デバイス。
13. 前記口腔清掃及び／又は処置デバイスは、前記第１及び第２の電極を備える回路の１つ又は複数の電気的特性における変動を感知することに基づいて、第１及び第２の突起構造の間の区域において歯の特徴又は構造の存在を検出する、コントローラを備え、
    任意選択で、前記コントローラが、前記第１及び第２の突起構造の間の隙間に受容される歯の存在、又は前記隙間における歯間空隙の存在を検出する、請求項１２に記載の口腔清掃及び／又は処置デバイス。

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