JP2023524523A - Method for manufacturing aluminum alloy plate for vacuum chamber member - Google Patents

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Abstract

本明細書では、(a)Mg 0.80%~1.05%、Si 0.70%~1.0%、Mn 0.70%~0.90%、Fe 最大0.20%、Zn 最大0.08%、Cu 最大0.05%、Cr 最大0.03%、Ti 最大0.06%、不可避不純物、及び残部アルミニウム(重量%)からなる組成を有するAl-Mg-Si系アルミニウム合金の圧延供給材を供給すること、(b)圧延供給材を550~595℃の範囲の温度で均質化すること、(c)均質化圧延供給材を1つまたは複数の圧延工程で少なくとも10mmの厚みを有する熱間圧延板へと熱間圧延すること、(d)540~590℃の範囲の温度で熱間圧延板の溶体化熱処理(「SHT」)を行うこと、(e)SHT板を急速冷却すること、(f)冷却SHT板を延伸して1~5%の永久伸びを得ること、(g)延伸板を人工時効すること、の工程を含む、真空槽部材、バルブ、または総アセンブリ用のアルミニウム合金板を製造するための方法について記載する。【選択図】なしHerein, (a) Mg 0.80%-1.05%, Si 0.70%-1.0%, Mn 0.70%-0.90%, Fe max 0.20%, Zn max 0.08% Cu, maximum 0.05% Cr, maximum 0.03% Cr, maximum 0.06% Ti, unavoidable impurities, and the balance aluminum (% by weight). (b) homogenizing the rolling feed at a temperature in the range of 550-595° C.; (d) solution heat treating (“SHT”) the hot rolled plate at a temperature in the range of 540-590° C.; (f) drawing the cooled SHT plate to obtain a permanent elongation of 1-5%; and (g) artificially aging the drawn plate. A method for manufacturing an aluminum alloy plate for [Selection figure] None

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2020年6月10日出願の欧州特許出願第20179258.7号の利益及び当該出願に対する優先権を主張するものであり、その内容全体は参照により本明細書に組み込まれる。
CROSS-REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS This application claims the benefit of, and priority to, European Patent Application No. 20179258.7 filed June 10, 2020, the entire contents of which are hereby incorporated by reference. incorporated.

本発明は、半導体デバイス及び液晶デバイスを製造するための装置、例えば、CVD装置、PVD装置、イオン注入装置、スパッタリング装置、及びドライエッチング装置などの真空槽の部材、ならびに、その真空槽の内部に配置される部材、を形成するためのAl-Mg-Si系合金(6XXX系アルミニウム合金としても知られている)のアルミニウム合金板を製造するための方法に関する。本発明は更に、Al-Mg-Si系合金板から真空槽部材を製造するための方法に関する。本発明は更に、Al-Mg-Si系合金板からバルブ及び総アセンブリを製造するための方法に関する。 The present invention provides equipment for manufacturing semiconductor devices and liquid crystal devices, for example, vacuum chamber members such as CVD equipment, PVD equipment, ion implantation equipment, sputtering equipment, and dry etching equipment, and the inside of the vacuum chamber The present invention relates to a method for manufacturing an aluminum alloy plate of Al--Mg--Si series alloys (also known as 6XXX series aluminum alloys) to form a member to be disposed. The present invention further relates to a method for manufacturing a vacuum chamber member from an Al--Mg--Si based alloy plate. The invention further relates to a method for manufacturing valves and total assemblies from Al--Mg--Si based alloy plates.

洗浄用ガスとしてのハロゲンを含有する反応性ガス、エッチングガス、及び腐食性ガスは、半導体デバイス及び液晶デバイスを製造するための装置、例えば、CVD装置、PVD装置、イオン注入装置、スパッタリング装置、及びドライエッチング装置などの真空槽へと供給される。それゆえ、真空槽は腐食性ガスへの腐食耐性(以下、「腐食性ガス耐性」と呼ぶ)を有する必要がある。真空槽内においてハロゲンプラズマが生成されることが多いことから、プラズマに対する耐性(以下、「プラズマ耐性」と呼ぶ)もまた重要である。近年、アルミニウム材及びアルミニウム合金材は、アルミニウム材及びアルミニウム合金材が軽量で熱伝導性に優れていることから、真空槽の部材を形成するために使用されている。アルミニウム材及びアルミニウム合金材が腐食性ガス耐性及びプラズマ耐性において十分ではないことから、それらの特性を向上させるための様々な表面品質向上技術が提案されている。しかしながら、それら特性の多くは依然として不十分であり、それら特性の更なる向上が望まれている。高硬度を有する陽極酸化皮膜でアルミニウム材またはアルミニウム合金材をコーティングすることが、プラズマ耐性の向上に有効であることが判明している。硬い陽極酸化皮膜は高い物理的エネルギーを有するプラズマによる部材の磨耗に対する耐性を有しており、その理由から、プラズマ耐性を向上させることが可能となる。真空槽部材はまた、陽極酸化後における十分に高い機械的強度、伸長度、及び色均一性、ならびに高い破壊電圧を必要とする。 Halogen-containing reactive gases, etching gases, and corrosive gases as cleaning gases are used in equipment for manufacturing semiconductor devices and liquid crystal devices, such as CVD equipment, PVD equipment, ion implantation equipment, sputtering equipment, and It is supplied to a vacuum chamber such as a dry etching device. Therefore, the vacuum chamber must have corrosion resistance to corrosive gases (hereinafter referred to as "corrosive gas resistance"). Since halogen plasma is often generated in the vacuum chamber, resistance to plasma (hereinafter referred to as "plasma resistance") is also important. In recent years, aluminum materials and aluminum alloy materials have been used to form members of vacuum chambers because of their light weight and excellent thermal conductivity. Since aluminum and aluminum alloy materials are not sufficient in corrosive gas resistance and plasma resistance, various surface quality improvement techniques have been proposed to improve these properties. However, many of these properties are still insufficient, and further improvements in these properties are desired. It has been found that coating an aluminum material or an aluminum alloy material with an anodized film having high hardness is effective in improving plasma resistance. A hard anodized film has resistance to wear of the member by plasma having high physical energy, and for this reason, plasma resistance can be improved. Vacuum chamber members also require sufficiently high mechanical strength, elongation, and color uniformity after anodization, as well as high breakdown voltage.

米国特許文献US-2012/0325381-A1は、真空槽用の部材を製造するために設計された少なくとも250mm厚のアルミニウムの塊の製造プロセスについて開示しており、その方法は、任意の6XXX系アルミニウム合金の塊を鋳造すること、任意選択的に、上記鋳造塊を均質化すること、鋳造塊に対して直接、溶体化熱処理を実施すること、及び任意選択的に、塊を均質化すること、塊を焼入れすること、冷間圧縮によって焼入れ塊の応力除去焼なましを行うこと、それに続いて、T652状態へと人工時効すること、を含む。本開示プロセスの重要な要素は、溶体化熱処理の前において、塊がその厚みを軽減するために熱間または冷間加工されていないことである。得られた板材はいわゆる「鋳造板」である。鋳造板の欠点は、多くの場合、凝固後の共晶状態において、鉄、マンガン、マグネシウム、及びケイ素のような元素の粒界において混合及び沈殿により生じた不可避相が、均質化処理及び溶体化熱処理のようなその後の加工工程において完全には溶解できずに、き裂発生部位として残ってしまい、その結果として、機械的特性(例えば、引張り強度、伸長度、靭性、及びその他の特性)が著しく低下してしまうこと、または、局部腐食(例えば、孔食)の発生箇所として残ってしまうこと、また更に、真空槽部材に特に関連している陽極酸化のような最終処理にとって有害であることである。鋳造合金の内部に存在する任意の酸化層はまた、その元の形態で残っており、その結果としてまた、機械的特性を低下させることになる。鋳造板材が、鋳放しの微細構造が実質的に維持されることを理由により高い費用対効果で製造され得、鋳造作業中の局所的な冷却速度に強く依存し得ることから、圧延板材と比較して、試験部位に応じて変化する機械的特性において遥かに多くのばらつきが存在し、鋳造板を多くの重要な用途にとってあまり適切ではないものとしている。 US patent document US-2012/0325381-A1 discloses a process for producing blocks of aluminum at least 250 mm thick designed for producing parts for vacuum chambers, the method comprising any 6XXX series aluminum casting an alloy ingot, optionally homogenizing the cast ingot, performing a solution heat treatment directly on the cast ingot, and optionally homogenizing the ingot; It involves quenching the ingot, subjecting the quenched ingot to stress relief annealing by cold pressing, followed by artificial aging to the T652 condition. A key element of the disclosed process is that the mass is not hot or cold worked to reduce its thickness prior to solution heat treatment. The resulting plate material is a so-called "cast plate". A drawback of cast plates is that in many cases, in the post-solidification eutectic state, unavoidable phases caused by mixing and precipitation at the grain boundaries of elements such as iron, manganese, magnesium, and silicon are dissipated during homogenization and solution treatment. It cannot be completely dissolved in subsequent processing steps such as heat treatment and remains as crack initiation sites, resulting in reduced mechanical properties (e.g., tensile strength, elongation, toughness, and other properties). be significantly degraded or left as a site for localized corrosion (e.g. pitting), or even detrimental to final treatments such as anodizing, which are particularly relevant to vacuum chamber components; is. Any oxide layer present within the cast alloy also remains in its original form, which also results in reduced mechanical properties. Compared to rolled plate, cast plate can be produced cost-effectively because the as-cast microstructure is substantially preserved, and can be strongly dependent on local cooling rates during the casting operation. As such, there is much more variability in mechanical properties that vary from test site to test site, making cast plates less suitable for many important applications.

本明細書に記載のアルミニウム合金材の相及び粒子を解析するための試料光学顕微鏡画像である。1 is an optical microscopy image of a sample for phase and grain analysis of an aluminum alloy material described herein.

本明細書中の以下において理解されることであるが、特に明記する場合を除き、アルミニウム合金表記及び焼戻し表記とは、2019年にAluminium Associationが公開し当業者に周知のAluminium Standards and Data and the Registration RecordsにおけるAluminium Association表記のことを意味する。焼戻し表記はまた、欧州規格EN515において規定されている。 As will be understood hereinafter, unless otherwise specified, aluminum alloy designations and temper designations refer to the Aluminum Standards and Data and the Aluminum Standards and Data published by the Aluminum Association in 2019 and known to those skilled in the art. It means the Aluminum Association notation in Registration Records. Tempering designations are also specified in the European standard EN515.

合金組成または好ましい合金組成のあらゆる記載におけるパーセンテージへの全ての言及は、特に明記しない限り、重量%である。 All references to percentages in any description of alloy compositions or preferred alloy compositions are by weight unless otherwise specified.

本明細書で用いる用語「最大」及び「最大約」は、その用語が指す特定の合金化部材のゼロ重量%の可能性を明確に含むがそれらに限定されない。例えば、最大0.08% Znは、Znを含まないアルミニウム合金を含んでいてもよい。 As used herein, the terms "up to" and "up to about" expressly include, but are not limited to, the possibility of zero weight percent of the particular alloyed component to which the term refers. For example, 0.08% Zn max may include Zn-free aluminum alloys.

本発明の目的は、真空槽部材を形成するためのAl-Mg-Si系アルミニウム合金または6XXX系アルミニウム合金のアルミニウム合金板を製造するための方法を提供することである。本発明の別の目的は、Al-Mg-Si系アルミニウム合金板から真空槽部材を製造するための方法を提供することである。本発明の更なる目的は、Al-Mg-Si系アルミニウム合金板からバルブ及び総アセンブリを製造するための方法を提供することである。
これら及びその他の目的ならびに更なる利点は本発明によって満たされ、またはそれを上回ることになり、真空槽部材用のアルミニウム合金板を製造するための方法を提供し、その方法は、下記の順番において、
(a)Mg 0.80%~1.05%、
Si 0.70%~1.0%、
Mn 0.70%~0.90%、
Fe 最大0.20%、
Zn 最大0.08%、好ましくは最大0.05%、
Cu 最大0.05%、好ましくは最大0.03%、
Cr 最大0.03%、好ましくは最大0.02%、
Ti 最大0.06%、好ましくは0.01%~0.06%、
各<0.03%、合計<0.10%の不可避不純物、残部アルミニウム、
(重量%)からなる組成を有するAl-Mg-Si系アルミニウム合金の圧延供給材を供給すること、
(b)圧延供給材を550℃~595℃の範囲の温度で均質化すること、
(c)均質化圧延供給材を1つまたは複数の圧延工程で少なくとも10mmの厚みを有する熱間圧延板へと熱間圧延すること、
(d)540℃~590℃の範囲の温度で熱間圧延板の溶体化熱処理(「SHT」)を行うこと、
(e)好ましくは、噴射焼入れ、または水中またはその他の焼入れ媒体中における浸漬焼入れのうちの1つによって、SHT板の急速冷却または焼入れを行うこと、
(f)冷却SHT板を延伸して1%~5%の永久伸びを得ること、
(g)延伸板を、好ましくはT6状態(例えば、T651)またはT7状態(例えば、T7651)へと人工時効すること、
の工程を含む。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an aluminum alloy plate of Al--Mg--Si series aluminum alloy or 6XXX series aluminum alloy for forming a vacuum chamber member. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a vacuum chamber member from an Al--Mg--Si based aluminum alloy plate. A further object of the present invention is to provide a method for manufacturing valves and total assemblies from Al--Mg--Si based aluminum alloy plates.
These and other objects and further advantages are met or exceeded by the present invention, which provides a method for manufacturing aluminum alloy plates for vacuum chamber members, the method comprising, in the following order: ,
(a) 0.80% to 1.05% Mg,
Si 0.70% to 1.0%,
Mn 0.70% to 0.90%,
Fe max 0.20%,
Zn max 0.08%, preferably max 0.05%,
Cu max 0.05%, preferably max 0.03%,
Cr max 0.03%, preferably max 0.02%,
Ti maximum 0.06%, preferably 0.01% to 0.06%,
each <0.03%, total <0.10% unavoidable impurities, balance aluminum,
(% by weight) of Al--Mg--Si based aluminum alloy rolling feedstock;
(b) homogenizing the rolling feedstock at a temperature in the range of 550°C to 595°C;
(c) hot rolling the homogenized rolling feed in one or more rolling steps into a hot rolled plate having a thickness of at least 10 mm;
(d) performing a solution heat treatment (“SHT”) of the hot rolled sheet at a temperature in the range of 540° C. to 590° C.;
(e) rapid cooling or quenching of the SHT plate, preferably by one of injection quenching or immersion quenching in water or other quenching media;
(f) stretching the chilled SHT plate to obtain an elongation set of 1% to 5%;
(g) artificially aging the drawn sheet, preferably to the T6 state (e.g. T651) or T7 state (e.g. T7651);
including the steps of

熱機械加工と組み合わせてAl-Mg-Si系合金の狭い組成範囲を慎重に制御することにより、得られたアルミニウム合金板は理論上、真空槽部材を製造するのに適したものとなる。合金は広範囲の厚みで利用可能であり、硬い陽極コーティングで極めて良好に陽極酸化することができる。アルミニウム板材は、真空槽部材の良好な形状安定性をもたらす高い機械的特性を有する。陽極酸化材のいくつかの特性は、板材の微細構造及び組成によって決まる。板材はその板の内部において均一に分布している相を有する微細構造を有しており、例えば、陽極酸化後の表面における板の厚み及び均一性に関して、あまり影響されない陽極層がもたらされる。本発明による得られた板材は、例えば、5%HClを使用した発泡漏れ試験で試験した際に高い腐食性ガス耐性を提供し、ISO-2376(2010)に従い測定した際に高い破壊電圧(AC、DC)を有する。 By carefully controlling the narrow compositional range of Al--Mg--Si alloys in combination with thermo-mechanical processing, the resulting aluminum alloy plates are theoretically suitable for fabricating vacuum chamber components. The alloy is available in a wide range of thicknesses and can be anodized very well with hard anodic coatings. The aluminum plate material has high mechanical properties that provide good shape stability of the vacuum chamber member. Some properties of the anodized material are determined by the microstructure and composition of the plate material. The plate material has a microstructure with uniformly distributed phases in the interior of the plate, resulting in an anodic layer that is less affected, for example, in terms of plate thickness and uniformity on the surface after anodization. The sheet material obtained according to the invention provides, for example, high resistance to corrosive gases when tested in a foam leak test using 5% HCl and a high breakdown voltage (AC , DC).

一実施形態では、T651状態における55mm厚のAl-Mg-Si系合金板は、適用可能な標準ISO 6892-1 Bに従い、LT方向における、少なくとも250MPa、更には少なくとも265MPaの引張り降伏強度(YS)を有する。 In one embodiment, the 55 mm thick Al-Mg-Si based alloy plate in the T651 condition has a tensile yield strength (YS) of at least 250 MPa, or even at least 265 MPa in the LT direction according to applicable standard ISO 6892-1 B have

一実施形態では、T651状態における55mm厚のAl-Mg-Si系合金板は、適用可能な標準ISO 6892-1 Bに従い、LT方向における、少なくとも300MPa、更には少なくとも310MPaの引張り強度(UTS)を有する。 In one embodiment, the 55 mm thick Al-Mg-Si based alloy plate in the T651 condition has a tensile strength (UTS) of at least 300 MPa, or even at least 310 MPa in the LT direction according to applicable standard ISO 6892-1 B. have.

一実施形態では、T651状態における55mm厚のAl-Mg-Si系合金板は、適用可能な標準ISO 6892-1 Bに従い、LT方向における、少なくとも8%、更には少なくとも10%の伸長度(A50mm)を有する。 In one embodiment, the 55 mm thick Al-Mg-Si based alloy plate in the T651 condition has an elongation (A 50 mm ).

Siと組み合わせたMgは、MgSi相の形成により強度をもたらす、アルミニウム合金内における主要な合金化元素である。Mgは、0.80%~1.05%の範囲、好ましくは0.85%~1.05%の範囲でなければならない。Mg含有率の好ましい上限は1.0%である。Mg含有率が高過ぎると、その後に適用される陽極酸化コーティングの品質に悪影響を及ぼす粗大MgSi相の形成が引き起こされ得る。Mg含有率が低過ぎると、アルミニウム板の引張り特性に悪影響が生じる。 Mg in combination with Si is a major alloying element in aluminum alloys that provides strength through the formation of the Mg 2 Si phase. Mg should be in the range 0.80% to 1.05%, preferably in the range 0.85% to 1.05%. A preferred upper limit of the Mg content is 1.0%. Too high a Mg content can lead to the formation of coarse Mg 2 Si phases that adversely affect the quality of subsequently applied anodized coatings. Too low a Mg content adversely affects the tensile properties of the aluminum sheet.

Siは0.70%~1.0%の範囲でなければならない。一実施形態では、Si含有率は、少なくとも0.75%、好ましくは少なくとも0.80%、最も好ましくは少なくとも0.84%である。一実施形態では、Si含有率の上限は0.95%である。 Si should be in the range of 0.70% to 1.0%. In one embodiment the Si content is at least 0.75%, preferably at least 0.80% and most preferably at least 0.84%. In one embodiment, the upper limit for Si content is 0.95%.

一実施形態では、Mg/Siの比率(重量%)は、0.9超、好ましくは1.0超、最も好ましくは1.05超である。アルミニウム合金中の遊離Siの量を減少させることは、本発明に従い実施される比較的高温のSHT後におけるアルミニウム板の伸長度を高くする上で好都合である。 In one embodiment, the Mg/Si ratio (wt%) is greater than 0.9, preferably greater than 1.0, and most preferably greater than 1.05. Reducing the amount of free Si in the aluminum alloy is advantageous in increasing the elongation of the aluminum sheet after the relatively high temperature SHT carried out in accordance with the present invention.

別の重要な合金化元素はMnであり、アルミニウム板の強度を高めて結晶粒組織を制御するために0.70%~0.90%の範囲でなければならず、溶体化熱処理及び焼入れの後に再結晶化がもたらされる。好ましい下限は0.75%である。好ましい上限は0.85%である。 Another important alloying element is Mn, which should be in the range of 0.70% to 0.90% to increase the strength and control the grain structure of the aluminum plate, and is suitable for solution heat treatment and quenching. Recrystallization is brought about later. A preferred lower limit is 0.75%. A preferred upper limit is 0.85%.

Feは、0.20%を超えてはならない不純物元素である。陽極酸化後において、結晶粒度を制御し高い機械的強度及び良好な腐食耐性を得るためには、Feレベルは好ましくは最大0.12%である。しかしながら、少なくとも0.03%、より好ましくは少なくとも0.04%含まれていることが好ましい。Fe含有率が低過ぎると、望ましくない再結晶した結晶粒粗大化が引き起こされ得、アルミニウム合金が高価なものとなる。Fe含有率が高過ぎると、引張り特性の低下がもたらされ、例えば、とりわけAlFeSi相の形成に起因して、陽極酸化後の破壊電圧に悪影響が生じ、更に、腐食性ガス耐性に悪影響が生じる。 Fe is an impurity element that should not exceed 0.20%. After anodization, the Fe level is preferably up to 0.12% in order to control grain size and obtain high mechanical strength and good corrosion resistance. However, it preferably contains at least 0.03%, more preferably at least 0.04%. Too low an Fe content can cause undesirable recrystallized grain coarsening, making the aluminum alloy expensive. Too high an Fe content leads to reduced tensile properties, for example due to the formation of the AlFeSi phase, which adversely affects the breakdown voltage after anodization and also adversely affects the corrosive gas resistance. .

Zn 最大約0.08%、Cu 最大約0.05%、及びCr 最大約0.03%は、許容可能な不純物であるが、その後に適用される陽極酸化コーティングの品質に悪影響を及ぼし、例えば、腐食性ガス耐性が低下することになる。一実施形態では、Znは、最大約0.05%、好ましくは最大約0.03%である。一実施形態では、Cuは、最大約0.03%、好ましくは最大約0.02%である。一実施形態では、Crは最大約0.02%である。 Up to about 0.08% Zn, up to about 0.05% Cu, and up to about 0.03% Cr are acceptable impurities but adversely affect the quality of subsequently applied anodized coatings, e.g. , the corrosive gas resistance is lowered. In one embodiment, Zn is up to about 0.05%, preferably up to about 0.03%. In one embodiment Cu is up to about 0.03%, preferably up to about 0.02%. In one embodiment, Cr is up to about 0.02%.

Ti 最大0.06%は、鋳放しの微細構造の結晶微細化用添加剤として添加される。一実施形態では、Tiは、約0.01%~0.06%の範囲、好ましくは約0.01%~0.04%の範囲で含まれる。 Up to 0.06% Ti is added as an additive for grain refinement of the as-cast microstructure. In one embodiment, Ti is present in the range of about 0.01%-0.06%, preferably in the range of about 0.01%-0.04%.

残部はアルミニウム及び不可避不純物からなる。不純物は、各最大0.03%、合計最大0.10%で含まれる。 The balance consists of aluminum and unavoidable impurities. Impurities are included at a maximum of 0.03% each and a maximum of 0.10% total.

一実施形態では、Al-Mg-Si系アルミニウム合金は、Mg 0.80%~1.05%、Si 0.70%~1.0%、Mn 0.70%~0.90%、Fe 最大0.20%、Zn 最大0.08%、Cu 最大0.05%、Cr 最大0.03%、Ti 最大0.06%、各最大0.03%、合計最大0.10%の不可避不純物、残部アルミニウム、(及び、本明細書に記載及び請求項に記載の好ましいより狭い範囲)、(重量%)からなる組成を有する。 In one embodiment, the Al-Mg-Si based aluminum alloy comprises Mg 0.80%-1.05%, Si 0.70%-1.0%, Mn 0.70%-0.90%, Fe max. 0.20% Zn maximum 0.08% Cu maximum 0.05% Cr maximum 0.03% Ti maximum 0.06% each maximum 0.03% total maximum 0.10% unavoidable impurities; The balance is aluminum (and preferred narrower ranges described and claimed herein), (% by weight).

一実施形態では、Al-Mg-Si系アルミニウム合金は、
Mg 0.70%~1.05%、
Si 0.70%~1.0%、
Mn 0.60%~1.0%、好ましくは最大0.95%、
Fe 最大0.20%、
Zn 最大0.2%、
Cu 最大0.10%、
Cr 最大0.05%、好ましくは最大0.04%、
Ti 最大0.1%、好ましくは0.01%~0.08%、
Ni 最大0.06%、
各<0.05%、合計<0.15%の不可避不純物、残部アルミニウム、
(重量%)を含む組成を有する。
In one embodiment, the Al—Mg—Si based aluminum alloy is
Mg 0.70% to 1.05%,
Si 0.70% to 1.0%,
Mn 0.60% to 1.0%, preferably up to 0.95%,
Fe max 0.20%,
Zn maximum 0.2%,
Cu max 0.10%,
Cr max 0.05%, preferably max 0.04%,
Ti maximum 0.1%, preferably 0.01% to 0.08%,
Ni maximum 0.06%,
each <0.05%, total <0.15% unavoidable impurities, balance aluminum,
(% by weight).

Al-Mg-Si-Mn系アルミニウム合金を、鋳造製品用の当該技術分野における通常の鋳造技術、例えば、直接チル(DC)鋳造法、電磁鋳造(EMC)鋳造法、電磁攪拌(EMS)鋳造法を用いて、熱間圧延板材に製造するためのインゴットまたはスラブとして提供するが、約220mm以上、例えば、400mm、500mm、または600mmの範囲のインゴット厚みを有していることが好ましい。圧延供給材の鋳造後、鋳放しのインゴットは一般的に、インゴットの鋳造表面近傍の偏析ゾーンを除去するために削られる。結晶微細化用添加剤、例えば、当該技術分野において周知の、チタン及びホウ素、またはチタン及び炭素を含有する結晶微細化用添加剤などは、微細な鋳放しの結晶粒組織を得るために、そのまま使用される。 Al-Mg-Si-Mn based aluminum alloys are subjected to conventional casting techniques in the art for cast products, such as direct chill (DC) casting, electromagnetic casting (EMC) casting, electromagnetic stir (EMS) casting. is used to provide an ingot or slab for manufacture into hot rolled sheet stock, preferably having an ingot thickness of about 220 mm or greater, for example in the range of 400 mm, 500 mm, or 600 mm. After casting the rolling feed, the as-cast ingot is typically ground to remove segregation zones near the casting surface of the ingot. Refining additives, such as those containing titanium and boron or titanium and carbon, which are well known in the art, may be used in situ to obtain a fine as-cast grain structure. used.

均質化熱処理の目的には、少なくとも以下の目的、(i)凝固中に形成される粗大可溶性相を可能な限り多く溶解すること、及び(ii)濃度勾配を小さくして溶解工程を容易とすること、がある。予備加熱処置によってもまた、これらの目的の一部が達成される。均質化プロセスは550℃~595℃の温度範囲で実施される。一実施形態では、均質化温度は、少なくとも555℃、より好ましくは少なくとも565℃である。均質化温度における浸漬時間は、約1~20時間の範囲であり、好ましくは約15時間を超えないものであり、より好ましくは約5~15時間の範囲である。適用可能な加熱速度は、当該技術分野における通常の加熱速度である。 The objectives of the homogenization heat treatment include at least the following objectives: (i) to dissolve as much of the coarse soluble phase formed during solidification as possible, and (ii) to reduce the concentration gradient to facilitate the dissolution process. Sometimes. The preheating procedure also achieves some of these goals. The homogenization process is carried out in a temperature range of 550°C to 595°C. In one embodiment, the homogenization temperature is at least 555°C, more preferably at least 565°C. The soaking time at the homogenization temperature ranges from about 1 to 20 hours, preferably does not exceed about 15 hours, and more preferably ranges from about 5 to 15 hours. Applicable heating rates are the usual heating rates in the art.

10mm以上の厚みの熱間圧延板となるように熱間圧延を実施する。一実施形態では、上限は、約230mm、好ましくは約200mm、より好ましくは約180mmである。 Hot rolling is performed so as to obtain a hot rolled sheet having a thickness of 10 mm or more. In one embodiment, the upper limit is about 230mm, preferably about 200mm, more preferably about 180mm.

次の重要な加工工程は、熱間圧延板材の溶体化熱処理(「SHT」)である。板材を加熱して、可溶性合金化元素の全てまたは実質的に全ての部分を可能な限り多く溶液にする必要がある。SHTは、約540℃~590℃の温度範囲の温度で実施されることが好ましい。より高いSHT温度は、より有利な機械的特性、例えば、高いRをもたらす。一実施形態では、SHT温度の下限は545℃であり、好ましくは550℃である。一実施形態では、SHT温度の上限は、約580℃、より好ましくは約575℃である。SHT温度が低いと、アルミニウム板の強度が低下し、一部の大きなMgSi相が溶解せずに残り、いわゆる「ホットスポット」が生成され得、陽極酸化後の腐食耐性が低下し、破壊電圧が低下することになる。例えば、最大50mmの板厚において、より短い浸漬時間、例えば、約10~180分間の範囲、好ましくは10~40分間の範囲、より好ましくは10~35分間の範囲が極めて有効であると考えられている。比較的高いSHT温度において浸漬時間が長過ぎると、アルミニウム板の延性に悪影響を及ぼすいくつかの相の成長が引き起こされる。SHTは一般的に、バッチまたは連続炉において実施される。SHT後、板材を、100℃以下の温度、好ましくは40℃未満への高い冷却速度で冷却して、第二相の無秩序な沈殿を防止または最小化させることが重要である。その一方で、好ましくは、冷却速度を、板材の平坦度が十分となり残留応力が低レベルとなることが可能となるように、高過ぎることにならないようにすべきである。好適な冷却速度は、水、例えば、水浸漬またはウォータージェットを使用することによって達成することができる。 The next important processing step is the solution heat treatment ("SHT") of the hot rolled plate. The sheet should be heated to bring all or substantially all of the soluble alloying elements into solution as much as possible. SHT is preferably carried out at a temperature in the temperature range of about 540°C to 590°C. Higher SHT temperatures lead to more favorable mechanical properties, eg higher Rm . In one embodiment, the lower limit of SHT temperature is 545°C, preferably 550°C. In one embodiment, the upper limit for SHT temperature is about 580°C, more preferably about 575°C. If the SHT temperature is low, the strength of the aluminum plate will be reduced, and some large Mg 2 Si phases will remain undissolved, so-called “hot spots” may be created, and the corrosion resistance after anodization will be reduced and fractured. Voltage will drop. For example, at plate thicknesses of up to 50 mm, shorter immersion times, for example, in the range of about 10 to 180 minutes, preferably in the range of 10 to 40 minutes, more preferably in the range of 10 to 35 minutes, are considered very effective. ing. Too long a soaking time at a relatively high SHT temperature causes the growth of several phases that adversely affect the ductility of the aluminum sheet. SHT is generally performed in batch or continuous furnaces. After SHT, it is important to cool the sheet material at a high cooling rate to a temperature below 100°C, preferably below 40°C, to prevent or minimize random precipitation of secondary phases. On the other hand, the cooling rate should preferably not be too high to allow sufficient flatness of the plate and low levels of residual stress. A suitable cooling rate can be achieved by using water, eg water immersion or water jet.

SHT及び焼入れを行った板材を更に、好ましくは、その元の長さの約1%~5%の範囲で延伸することによって冷間加工して、その内部の残留応力を軽減し、板材の平坦度を向上させる。延伸は、約1.5%~4%、より好ましくは約2%~3.5%の範囲であることが好ましい。 The SHT and quenched sheet is further cold worked, preferably by stretching in the range of about 1% to 5% of its original length to relieve residual stresses therein and flatten the sheet. improve degree. It is preferred that the stretch be in the range of about 1.5% to 4%, more preferably about 2% to 3.5%.

冷却後、延伸板材を時効、好ましくは人工時効して、より好ましくはT6状態、より好ましくはT651状態をもたらす。一実施形態では、人工時効は150℃~190℃の範囲の温度で、好ましくは5~60時間の期間にわたり実施される。 After cooling, the drawn sheet is aged, preferably artificially aged, to result in a more preferably T6 condition, more preferably a T651 condition. In one embodiment, artificial aging is performed at a temperature in the range of 150° C. to 190° C., preferably for a period of 5 to 60 hours.

一実施形態では、延伸板材を、過時効T7状態、好ましくはT74またはT76状態、より好ましくはT7651状態へと時効する。 In one embodiment, the drawn sheet is aged to an overaged T7 condition, preferably a T74 or T76 condition, more preferably a T7651 condition.

本発明の更なる態様では、真空槽部材を製造するための方法に関し、その方法は、本明細書に記載及び請求項に記載の少なくとも10mmの厚みを有するAl-Mg-Si系合金板を製造するための工程を含み、
(h)例えば、T6、T651、T7、T74、T76、またはT7651状態の上記時効板を、所定の形状及び寸法の真空槽部材へと機械切削すること、
(i)好ましくは陽極酸化によって真空槽部材の表面処理を行い、好ましくは、少なくとも20μm厚、好ましくは少なくとも30μm厚の陽極層または陽極コーティング層をもたらすこと、
(j)任意選択的に、このように陽極酸化した材を、好ましくは少なくとも約1時間の期間にわたり、少なくとも80℃の温度、好ましくは少なくとも98℃の温度の脱イオン水中に水和または密閉すること、
の続く工程を更に含む。一実施形態では、水和は、2つの工程、少なくとも10分間の期間にわたる30℃~70℃の温度の第1の工程、及び少なくとも約1時間の期間にわたる少なくとも98℃の温度の第2の工程で実施される。
A further aspect of the present invention relates to a method for manufacturing a vacuum chamber member, the method manufacturing an Al--Mg--Si based alloy plate having a thickness of at least 10 mm as described and claimed herein. including a step for
(h) machining the aged plate, for example in T6, T651, T7, T74, T76, or T7651 condition, into vacuum chamber members of predetermined shape and dimensions;
(i) surface-treating the vacuum chamber member, preferably by anodizing, preferably resulting in an anodic layer or anodic coating layer, preferably at least 20 μm thick, preferably at least 30 μm thick;
(j) optionally hydrating or sealing such anodized material in deionized water at a temperature of at least 80° C., preferably at a temperature of at least 98° C., preferably for a period of at least about 1 hour; matter,
further comprising the steps of In one embodiment, the hydration is performed in two steps, a first step at a temperature of 30°C to 70°C over a period of at least 10 minutes and a second step at a temperature of at least 98°C over a period of at least about 1 hour. carried out in

一実施形態では、陽極酸化は、少なくとも硫酸を含む約15℃~30℃の温度の電解液、及び約1.0A/dm~約2A/dmの電流密度を使用して実施される。陽極酸化浴内の酸濃度は一般的に、約5~20容量%の範囲である。このプロセスは、所望の酸化層厚に応じて、約0.5~60分間を要する。硫酸陽極酸化は一般的に、約8マイクロメートル~約40マイクロメートル厚の酸化層を生じさせる。 In one embodiment, the anodization is performed using an electrolyte containing at least sulfuric acid at a temperature of about 15° C. to 30° C. and a current density of about 1.0 A/dm 2 to about 2 A/dm 2 . The acid concentration in the anodizing bath is generally in the range of about 5-20% by volume. This process takes about 0.5 to 60 minutes, depending on the desired oxide layer thickness. Sulfuric acid anodization generally produces an oxide layer about 8 microns to about 40 microns thick.

一実施形態では、陽極酸化は、少なくとも硫酸を含む約0℃~10℃の温度の電解液、及び約3A/dm~約4.5A/dmの電流密度を使用して実施される。このプロセスは一般的に、約20分間~約120分間を要する。この硬いコーティングの陽極酸化は一般的に、約30マイクロメートル~約80マイクロメートル厚または更なる厚みの酸化層を生じさせる。 In one embodiment, the anodization is performed using an electrolyte containing at least sulfuric acid at a temperature of about 0° C. to 10° C. and a current density of about 3 A/dm 2 to about 4.5 A/dm 2 . This process generally takes from about 20 minutes to about 120 minutes. Anodization of this hard coating generally produces an oxide layer about 30 micrometers to about 80 micrometers thick or even thicker.

一部の実施形態では、本明細書に記載の材は、1mmあたり400相未満の10μm超のサイズを有する相及び粒子の密度を有していてもよい。例えば、材は、1mmあたり100~400相の範囲または1mmあたり250~350相の範囲の10μm超のサイズを有する相及び粒子の密度を有していてもよい。相及び粒子としては、AlFeSi型の相及び粒子、ならびにMgSiの相及び粒子を挙げることができる。 In some embodiments, materials described herein may have a density of phases and particles having a size greater than 10 μm 2 of less than 400 phases per mm 2 . For example, the material may have a density of phases and particles with a size greater than 10 μm 2 in the range of 100-400 phases per mm 2 or in the range of 250-350 phases per mm 2 . The phases and particles may include those of the AlFeSi type and those of Mg 2 Si.

以下の実施例は、本発明を更に説明するのに役立つものであるが、本発明の任意の限定を構成するものではない。別の見方をすれば、手段がその様々な実施形態、変更、及び均等物を有し得、本明細書の読解後、本発明の趣旨から逸脱することなく、それらが当業者へと示唆され得ることが明確に理解されるであろう。 The following examples serve to further illustrate the invention, but do not constitute any limitation of the invention. On the other hand, the means may have various embodiments, modifications and equivalents thereof that will be suggested to those skilled in the art after reading this specification without departing from the spirit of the invention. It will be clearly understood to obtain

本明細書に記載の陽極酸化用のアルミニウム合金試料について相解析実験を実施した。130mmの厚みを有する試料(本明細書では、「試料1」と呼ぶ)、40mmの厚みを有する試料(本明細書では、「試料2」と呼ぶ)、及び14mmの厚みを有する試料(本明細書では、「試料3」と呼ぶ)、を含む厚みの異なる3つの試料について調査を行った。表面近傍位置(「表面」)、4分の1厚位置(「s/4」)、及び2分の1厚位置(「s/2」)、を含む試料のそれぞれにおける3つの位置を解析した。1つの位置あたり7つの画像を1280×1024画素(0.382μm/画素)でキャプチャした。7つの画像の0.191mm/画像を解析し、それぞれの位置の約1.34mm(合計で12.05mmとなる)を調査した。それゆえ、試料を広範囲にわたって調査した。 Phase analysis experiments were performed on aluminum alloy samples for anodization as described herein. A sample with a thickness of 130 mm (referred to herein as "Sample 1"), a sample with a thickness of 40 mm (referred to herein as "Sample 2"), and a sample with a thickness of 14 mm (referred to herein as "Sample 2"). (referred to as "Sample 3" in the literature). Three locations were analyzed on each of the samples, including a near-surface location (“surface”), a quarter-thickness location (“s/4”), and a half-thickness location (“s/2”). . Seven images per position were captured at 1280×1024 pixels 2 (0.382 μm/pixel). Seven images of 0.191 mm 2 /image were analyzed, examining approximately 1.34 mm 2 at each location (totaling 12.05 mm 2 ). Therefore, the samples were extensively investigated.

200×の倍率の光学顕微鏡を使用して画像を取得した。同じ方法で試料を調製した。エッチングは実施しなかった。それぞれの試料について、調製法に起因する、データに対する何らかの影響(例えば、グレースケール解析ツールの使用により場合により誤解され得る細孔または引っ掻き傷など)を避けるため特別に注意を払いながら、研削及び研磨を実施した。 Images were acquired using an optical microscope with 200× magnification. Samples were prepared in the same manner. No etching was performed. For each sample, grinding and polishing, taking special care to avoid any effects on the data due to the method of preparation (e.g. pores or scratches, which can sometimes be misinterpreted by the use of grayscale analysis tools) carried out.

解析した相及び粒子は主に、AlFeSi型の相及び粒子に加え、MgSiの相及び粒子であった。ImageJソフトウェアを使用して検出を実施し、グレースケールで解析を実施した。試料画像を図1に示す。フィルターを使用して、10μm超の領域を有する粒子のみをカウントした。結果を以下の表1に示す。それぞれの位置の密度を「密度(相/mm)」と表示した列に示し、それぞれの試料の平均密度(それぞれの試料の3つの位置の平均をとることにより計算した)を「平均密度(相/mm)」と表示した列に示し、9つの測定値(3つの試料、1試料あたり3つの位置)の平均をとることにより計算した総平均密度を「全試料の総平均密度(相/mm)」と表示した列に示す。表1に示すように、密度は250~320相mmの範囲である。

Figure 2023524523000001
The analyzed phases and particles were mainly those of the AlFeSi type, as well as those of Mg 2 Si. Detection was performed using ImageJ software and analysis was performed in grayscale. A sample image is shown in FIG. A filter was used to count only particles with an area greater than 10 μm 2 . The results are shown in Table 1 below. The density for each location is shown in the column labeled "Density (Phase/mm 2 )" and the average density for each sample (calculated by averaging the three locations for each sample) is labeled "Average Density ( The total average density, calculated by averaging 9 measurements (3 samples, 3 locations per sample), is shown in the column labeled "Phase/mm 2 )" and is labeled "Total Average Density of All Samples (Phase /mm 2 )”. As shown in Table 1, the density ranges from 250 to 320 phase mm 2 .
Figure 2023524523000001

上で挙げた全ての特許、刊行物、及び抄録の全体は参照により本明細書に組み込まれる。本発明の様々な目的を実施するための本発明の様々な実施形態について記載してきた。これらの実施形態が本発明の原理を単に例示するものであるということを認識すべきである。その多数の変更及び改変は、以下の特許請求の範囲において定義する本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、当業者には容易に明白である。 All patents, publications, and abstracts cited above are hereby incorporated by reference in their entirety. Various embodiments of the invention have been described for carrying out the various objectives of the invention. It should be recognized that these embodiments are merely illustrative of the principles of the invention. Numerous variations and modifications thereof will be readily apparent to those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the following claims.

Claims (21)

真空槽部材、バルブ、または総アセンブリ用のアルミニウム合金板を製造するための方法であって、
(a)Mg 0.80%~1.05%、
Si 0.70%~1.0%、
Mn 0.70%~0.90%、
Fe 最大0.20%、
Zn 最大0.08%、
Cu 最大0.05%、
Cr 最大0.03%、
Ti 最大0.06%、
各<0.03%、合計<0.10%の不可避不純物、残部アルミニウム、
(重量%)からなる組成を有するAl-Mg-Si系アルミニウム合金の圧延供給材を供給すること、
(b)前記圧延供給材を550℃~595℃の範囲の温度で均質化すること、
(c)前記均質化圧延供給材を1つまたは複数の圧延工程で少なくとも10mmの厚みを有する熱間圧延板へと熱間圧延すること、
(d)540℃~590℃の範囲の温度で前記熱間圧延板の溶体化熱処理(「SHT」)を行うこと、
(e)前記SHT板を急速冷却すること、
(f)前記冷却SHT板を延伸して1%~5%の永久伸びを得ること、
(g)前記延伸板を人工時効すること、
の工程を含む、前記方法。
A method for manufacturing an aluminum alloy plate for a vacuum chamber member, valve or total assembly comprising:
(a) 0.80% to 1.05% Mg,
Si 0.70% to 1.0%,
Mn 0.70% to 0.90%,
Fe max 0.20%,
Zn maximum 0.08%,
Cu max 0.05%,
Cr max 0.03%,
Ti maximum 0.06%,
each <0.03%, total <0.10% unavoidable impurities, balance aluminum,
(% by weight) of Al--Mg--Si based aluminum alloy rolling feedstock;
(b) homogenizing the rolling feedstock at a temperature in the range of 550°C to 595°C;
(c) hot rolling said homogenized rolling feed in one or more rolling steps into a hot rolled plate having a thickness of at least 10 mm;
(d) performing a solution heat treatment (“SHT”) of said hot rolled sheet at a temperature in the range of 540° C. to 590° C.;
(e) rapidly cooling the SHT plate;
(f) stretching the cooled SHT plate to obtain an elongation set of 1% to 5%;
(g) artificially aging the drawn sheet;
The above method, comprising the step of
前記均質化圧延供給材の前記熱間圧延は、10mm~230mmの範囲の厚みを有する板へのものである、請求項1に記載の方法。 The method of claim 1, wherein said hot rolling of said homogenized rolling feedstock is into a plate having a thickness in the range of 10mm to 230mm. Mg含有率は0.85%~1.05%の範囲である、請求項1または請求項2に記載の方法。 A method according to claim 1 or claim 2, wherein the Mg content ranges from 0.85% to 1.05%. Si含有率は0.70%~0.95%の範囲である、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の方法。 A method according to any one of claims 1 to 3, wherein the Si content ranges from 0.70% to 0.95%. Mg/Si比率(重量%)は0.9超である、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の方法。 5. The method of any one of claims 1 to 4, wherein the Mg/Si ratio (wt%) is greater than 0.9. Mn含有率は0.75%~0.85%の範囲である、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の方法。 A method according to any one of claims 1 to 5, wherein the Mn content ranges from 0.75% to 0.85%. Fe含有率は最大0.12%である、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の方法。 7. A method according to any one of claims 1 to 6, wherein the Fe content is max 0.12%. Ti含有率は0.01%~0.06%の範囲である、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の方法。 A method according to any one of claims 1 to 7, wherein the Ti content is in the range 0.01% to 0.06%. 前記圧延供給材の前記均質化は、555℃~595℃の範囲の温度である、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の方法。 A method according to any one of the preceding claims, wherein said homogenization of said rolling feed is at a temperature in the range of 555°C to 595°C. 前記熱間圧延板の前記溶体化熱処理は、545℃~580℃の範囲の温度である、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の方法。 A method according to any preceding claim, wherein the solution heat treatment of the hot rolled plate is at a temperature in the range of 545°C to 580°C. 前記人工時効は150℃~190℃の範囲の温度で実施される、請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の方法。 A method according to any one of claims 1 to 10, wherein said artificial aging is carried out at a temperature in the range of 150°C to 190°C. 前記人工時効は5~60時間の期間にわたり実施される、請求項11に記載の方法。 12. The method of claim 11, wherein said artificial aging is performed over a period of 5-60 hours. 前記急速冷却は、噴射焼入れ、または水中またはその他の焼入れ媒体中における浸漬焼入れのうちの1つによって実施される、請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の方法。 13. A method according to any preceding claim, wherein the rapid cooling is performed by one of injection quenching or immersion quenching in water or other quenching media. 前記人工時効はT6焼戻しを得るために実施される、請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の方法。 14. A method according to any preceding claim, wherein said artificial aging is performed to obtain a T6 temper. (h)前記時効板を真空槽部材、バルブ、または総アセンブリへと機械切削すること、
(i)前記真空槽部材、前記バルブ、または前記総アセンブリを表面処理すること、
の工程を更に含む、請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の方法。
(h) machining the aging plate into a vacuum chamber member, valve, or total assembly;
(i) surface treating the vacuum chamber member, the valve, or the total assembly;
15. The method of any one of claims 1 to 14, further comprising the step of
前記表面処理は陽極酸化によって実施される、請求項15に記載の方法。 16. The method of claim 15, wherein said surface treatment is performed by anodizing. 前記アルミニウム合金板は、1mmあたり400相未満の10μm超のサイズを有する相及び粒子の密度を有する、請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の方法。 17. The method of any one of the preceding claims, wherein the aluminum alloy plate has a density of phases and grains with a size greater than 10 [mu ] m <2> of less than 400 phases per mm<2>. 真空槽部材、バルブ、または総アセンブリ用のアルミニウム合金板を製造するための方法であって、
(a)Mg 0.70%~1.05%、
Si 0.70%~1.0%、
Mn 0.60%~1.0%、
Fe 最大0.20%、
Zn 最大0.2%、
Cu 最大0.10%、
Cr 最大0.05%、
Ti 最大0.1%、
Ni 最大0.06%、
各<0.05%、合計<0.15%の不可避不純物、残部アルミニウム、
(重量%)からなる組成を有するAl-Mg-Si系アルミニウム合金の圧延供給材を供給すること、
(b)前記圧延供給材を550℃~595℃の範囲の温度で均質化すること、
(c)前記均質化圧延供給材を1つまたは複数の圧延工程で少なくとも10mmの厚みを有する熱間圧延板へと熱間圧延すること、
(d)540℃~590℃の範囲の温度で前記熱間圧延板の溶体化熱処理(「SHT」)を行うこと、
(e)前記SHT板を急速冷却すること、
(f)前記冷却SHT板を延伸して1%~5%の永久伸びを得ること、
(g)前記延伸板を人工時効すること、
の工程を含む、前記方法。
A method for manufacturing an aluminum alloy plate for a vacuum chamber member, valve or total assembly comprising:
(a) 0.70% to 1.05% Mg,
Si 0.70% to 1.0%,
Mn 0.60% to 1.0%,
Fe max 0.20%,
Zn maximum 0.2%,
Cu max 0.10%,
Cr max 0.05%,
Ti maximum 0.1%,
Ni maximum 0.06%,
each <0.05%, total <0.15% unavoidable impurities, balance aluminum,
(% by weight) of Al--Mg--Si based aluminum alloy rolling feedstock;
(b) homogenizing the rolling feedstock at a temperature in the range of 550°C to 595°C;
(c) hot rolling said homogenized rolling feed in one or more rolling steps into a hot rolled plate having a thickness of at least 10 mm;
(d) performing a solution heat treatment (“SHT”) of said hot rolled sheet at a temperature in the range of 540° C. to 590° C.;
(e) rapidly cooling the SHT plate;
(f) stretching the cooled SHT plate to obtain an elongation set of 1% to 5%;
(g) artificially aging the drawn sheet;
The above method, comprising the step of
前記急速冷却は、噴射焼入れ、または水中またはその他の焼入れ媒体中における浸漬焼入れのうちの1つによって実施される、請求項18に記載の方法。 19. The method of claim 18, wherein the rapid cooling is performed by one of injection quenching or immersion quenching in water or other quenching media. 前記人工時効は150℃~190℃の範囲の温度で5~60時間の期間にわたり実施される、請求項18または請求項19に記載の方法。 A method according to claim 18 or claim 19, wherein said artificial aging is carried out at a temperature in the range of 150°C to 190°C for a period of 5 to 60 hours. 前記人工時効はT6焼戻しを得るために実施される、請求項18から請求項20のいずれか1項に記載の方法。 21. A method according to any one of claims 18 to 20, wherein said artificial aging is performed to obtain a T6 temper.
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