JP2013517383A - Method for producing 6xxx alloy product for vacuum chamber - Google Patents

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JP2013517383A JP2012549394A JP2012549394A JP2013517383A JP 2013517383 A JP2013517383 A JP 2013517383A JP 2012549394 A JP2012549394 A JP 2012549394A JP 2012549394 A JP2012549394 A JP 2012549394A JP 2013517383 A JP2013517383 A JP 2013517383A
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ヴァンケッペル,ヨースト
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Abstract

本発明は、250mm以上の厚みを有し真空チャンバ用の要素の製造を目的とするアルミニウムブロックの製造方法に関するものであって、該方法において、連続的に、重量%でSi:0.5〜1.5、Mg:0.5〜1.5、Fe<0.3、Cu<0.2、Mn<0.8、Cr<0.10、Ti<0.15、他の元素各<0.05かつ合計<0.15、残分はアルミニウムという組成の合金ブロックを半連続鋳造により鋳造し、鋳造されかつ任意にて均質化されたブロックに対して直接450〜560℃の温度で溶体化熱処理を実施し、このように溶体化したブロックを、溶体化温度と200℃との間において200℃/h以上の冷却速度で焼入れし;このように焼入れし任意に応力除去したブロックの焼戻しを実施する。このように得られたブロックは、半導体で構成された電子集積回路、フラットディスプレイスクリーンならびに太陽電池パネルの製造用の真空チャンバの製作において特に有利である。
【選択図】なし
The present invention relates to a method of manufacturing an aluminum block having a thickness of 250 mm or more and intended for the manufacture of an element for a vacuum chamber, wherein in this method, Si: 0.5 to 1.5, Mg: 0.5 to 1.5, Fe <0.3, Cu <0.2, Mn <0.8, Cr <0.10, Ti <0.15, other elements <0 .05 and total <0.15, the balance being aluminum, cast by semi-continuous casting and solutionized directly at a temperature of 450-560 ° C. against the cast and optionally homogenized block The heat-treated block is quenched with the solution thus formed at a cooling rate of 200 ° C./h or more between the solution temperature and 200 ° C .; tempering of the block thus quenched and optionally stress-removed is performed. carry out. The blocks obtained in this way are particularly advantageous in the production of vacuum chambers for the production of semiconductor integrated electronic circuits, flat display screens and solar panels.
[Selection figure] None

Description

本発明は、半導体で構成された電子集積回路、フラットディスプレイスクリーンならびに太陽電池パネルの製造用の真空チャンバの製作において使用することを特に目的とする、6xxx合金製品の製造に関する。   The present invention relates to the manufacture of 6xxx alloy products specifically intended for use in the manufacture of vacuum chambers for the manufacture of semiconductor integrated electronic circuits, flat display screens and solar panels.

半導体で構成された電子集積回路、フラットディスプレイスクリーンならびに太陽電池パネルの製造用の真空チャンバの製作において使用するためのアルミニウム合金ブロックの製造においては、各作業のコストを制限しながら全ての特性を満たすことが重要である。   In the production of aluminum alloy blocks for use in the fabrication of semiconductor integrated electronic circuits, flat display screens and vacuum chambers for the production of solar panels, all properties are met while limiting the cost of each operation This is very important.

実際、ブロックはまず第一に、一般に少なくとも平均的な真空(10−3〜10−5Torr)レベルの真空を変形無く達成できるような形で、所望の寸法および剛性を呈する部品を機械加工により製作するのに充分な機械的特性を示さなければならない。したがって、所望の破壊強度(R)は一般に少なくとも260MPaであり、できればそれ以上でさえある。その上、塊から機械加工するためのブロック内の残留応力は、機械加工のときに変形なく且つ容易に所望の寸法を達成できるように、低いものでなければならない。特に大寸法の液晶パネルまたは太陽電池パネルを製作するため、真空チャンバの寸法は絶えず増大し続けていることから、特に少なくとも250mmさらには300mmという増々厚みの大きいアルミニウム合金ブロックを製造することが必要である。ブロックが厚くなればなるほど、機械加工時の優れた安定性を維持しながら充分な機械的特性を得ることは困難になる。 In fact, the block is first of all machined into a part that exhibits the desired dimensions and rigidity, generally in such a way that at least an average vacuum (10 −3 to 10 −5 Torr) level vacuum can be achieved without deformation. It must exhibit sufficient mechanical properties to produce. Therefore, the desired breaking strength (R m ) is generally at least 260 MPa and even higher if possible. Moreover, the residual stress in the block for machining from the mass must be low so that the desired dimensions can be easily achieved without deformation during machining. Especially in order to produce large-sized liquid crystal panels or solar cell panels, the dimensions of the vacuum chamber are constantly increasing, so it is necessary to produce aluminum alloy blocks with increasing thicknesses of at least 250 mm and even 300 mm. is there. The thicker the block, the more difficult it is to obtain sufficient mechanical properties while maintaining excellent stability during machining.

なお、高真空(10−6〜10−8Torr)の達成が必要な場合には、ブロックの多孔性レベルは充分低いものでなければならない。その上、真空チャンバ内で使用される気体は、多くの場合反応性が非常に高く、また真空チャンバの壁に由来する粒子または物質によるおよび/または部品の頻繁な交換による、シリコンウェハまたは液晶デバイスの汚染の危険性を回避するように、チャンバの表面を保護することが重要である。このような観点から見ると、アルミニウムは有利な材料であることがわかっており、それは、一般に陽極酸化処理によって、反応性ガスに対して耐性を有する硬質の酸化被膜をブロックの表面に製作することが可能だからである。しかしながら、陽極酸化被膜の強度は、特に製品の微細構造に関係する数多くの因子(結晶粒径、相析出、多孔性)により影響され、このパラメータを改善することが常に望まれている。 If a high vacuum (10 −6 to 10 −8 Torr) needs to be achieved, the block porosity level must be sufficiently low. Moreover, the gas used in the vacuum chamber is often very reactive and also due to particles or substances originating from the walls of the vacuum chamber and / or due to frequent replacement of parts or silicon wafers or liquid crystal devices It is important to protect the surface of the chamber so as to avoid the risk of contamination. From this point of view, aluminum has been found to be an advantageous material, which generally produces a hard oxide film resistant to reactive gases on the surface of the block by anodization. Because it is possible. However, the strength of the anodized film is influenced by a number of factors (crystal grain size, phase precipitation, porosity), particularly related to the microstructure of the product, and it is always desirable to improve this parameter.

要するに、あらゆる工業的方法についてそうであるように、目標とする特性を経済的な方法によって達成することが所望される。数多くの大量流通利用分野(フラットスクリーン、ソーラーパネル)用の真空チャンバの大規模開発によって、近年、製造方法の単純化に対する関心が高まっている。   In short, it is desirable to achieve the targeted properties by an economic method, as is the case for any industrial method. Due to the large-scale development of vacuum chambers for a number of mass distribution applications (flat screens, solar panels), interest in the simplification of manufacturing methods has increased in recent years.

米国特許第6,565,984号明細書(Applied Materials Inc.)は、(重量%で)Si:0.54〜0.74、Cu:0.15〜0.30、Fe:0.05〜0.20、Mn≦0.14、Zn≦0.15、Cr:0.16〜0.28、Ti≦0.06、Mg:0.9〜1.1という組成をもつ、半導体製造用チャンバの製造に適合した合金について記載している。部品は、所望の形になるまで機械加工または押出し加工して得られる。この組成により不純物の粒子のサイズを制御することができ、こうして陽極酸化被膜の性能が改善される。   U.S. Pat. No. 6,565,984 (Applied Materials Inc.) includes (by weight) Si: 0.54-0.74, Cu: 0.15-0.30, Fe: 0.05- Semiconductor manufacturing chamber having a composition of 0.20, Mn ≦ 0.14, Zn ≦ 0.15, Cr: 0.16 to 0.28, Ti ≦ 0.06, Mg: 0.9 to 1.1 It describes alloys that are suitable for manufacturing. Parts are obtained by machining or extruding to the desired shape. This composition makes it possible to control the size of the impurity particles, thus improving the performance of the anodized film.

米国特許第6,982,121号明細書(九州三井アルミニウム工業株式会社)は、(重量%で)Mg:2.0〜3.5、Ti:0.004〜0.01%、および純度99.9%の残分のアルミニウムを含む、陽極酸化処理に適合しかつプラズマ処理用チャンバに適合した合金について記載している。この合金は、MgSiの析出を必要とする合金とは異なり、熱処理を必要としない。その上、この合金は、結晶粒径を制御するために合金5052および6061に添加されなければならないものの処理対象の半導体の重金属汚染を誘発する危険性のあるCrおよびMnの存在を必要としない。しかしながら、この合金の機械的特性は示されていない。その上、純度99.9%のアルミニウムはコストが高い。 U.S. Pat. No. 6,982,121 (Kyushu Mitsui Aluminum Co., Ltd.) describes (by weight) Mg: 2.0-3.5, Ti: 0.004-0.01%, and purity 99 An alloy that is compatible with anodization and compatible with plasma processing chambers, containing 9% residual aluminum is described. This alloy does not require heat treatment unlike an alloy that requires Mg 2 Si precipitation. In addition, this alloy does not require the presence of Cr and Mn, which must be added to alloys 5052 and 6061 to control grain size, but at the risk of inducing heavy metal contamination of the semiconductor being processed. However, the mechanical properties of this alloy are not shown. Moreover, 99.9% pure aluminum is costly.

米国特許出願公開第2009/0050485号明細書(株式会社神戸製鋼所)は、陽極酸化被膜の硬度が厚み内で変動するような形で陽極酸化処理された、(重量%で)Mg:0.1〜2.0、Si:0.1〜2.0、Mn:0.1〜2.0、Fe、CrおよびCu≦0.03という組成の合金について記載している。鉄、クロムおよび銅の含有量が極めて低いため、使用される金属のための多額の追加費用が発生することになる。   U.S. Patent Application Publication No. 2009/0050485 (Kobe Steel Works, Ltd.) is anodized in such a way that the hardness of the anodized film varies within the thickness. An alloy having a composition of 1 to 2.0, Si: 0.1 to 2.0, Mn: 0.1 to 2.0, Fe, Cr, and Cu ≦ 0.03 is described. Due to the extremely low content of iron, chromium and copper, significant additional costs are incurred for the metals used.

米国特許出願公開第2001/019777号明細書および特開2001−220637号公報(株式会社神戸製鋼所)は、(重量%で)Si:0.1〜2.0、Mg:0.1〜3.5、Cu:0.02〜4.0および不純物を含み、Crの含有量が0.04%未満である、チャンバ用の合金について記載している。これらの文書は、特に、溶体化の前に熱間圧延ステップを実施することによって得られる製品を開示している。   US Patent Application Publication No. 2001/019777 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-220737 (Kobe Steel Co., Ltd.) are (by weight percent) Si: 0.1 to 2.0, Mg: 0.1 to 3 .5, Cu: 0.02 to 4.0 and an alloy for a chamber containing impurities and having a Cr content of less than 0.04%. These documents disclose in particular products obtained by performing a hot rolling step prior to solution treatment.

欧州特許出願公開第2003219号明細書(株式会社神戸製鋼所)は、(重量%で)Mg0.5〜1.25%、Si:0.4〜1.4%、Cu:0.01〜0.7%、Fe:0.05〜0.4%、Mn:0.001〜1.0%、Cr0.01〜0.35%、TiおよびZr0.005〜0.1%を含む鍜造合金について記載している。この文書は、詳細には、溶体化の前に熱間鍜造ステップを実施することによって得られる製品を開示している。   European Patent Application No. 2003219 (Kobe Steel Co., Ltd.) has Mg 0.5 to 1.25% (by weight), Si: 0.4 to 1.4%, Cu: 0.01 to 0 0.7%, Fe: 0.05 to 0.4%, Mn: 0.001 to 1.0%, Cr 0.01 to 0.35%, Ti and Zr 0.005 to 0.1% Is described. This document discloses in detail the product obtained by performing a hot forging step prior to solutionizing.

文書「The effect of processing and Mn content on the T5 and T6 properties of AA6082 profiles」、Journal of Materials Processing Technology、173(2006)84−91は、AA6082合金形材について記載している。この文書は、詳細には、溶体化の前に熱間押出し加工ステップを実施して得られる製品を開示している。   Document “The effect of processing and Mn content on the T5 and T6 properties of AA6082 profiles”, Journal of Materials Processing Technology, 183, AA-83, A-83, A-83, A-83, A- This document discloses in detail the product obtained by performing a hot extrusion step prior to solutionization.

これらの文書において使用される方法は、高いコストを導く(使用されるアルミニウムの純度、方法のステップ数)。高い機械的特性を有し、残留応力が低く、かつ機械加工の後、反応性ガスに対して耐性を有する陽極酸化被膜を形成することが可能な、真空チャンバの製作において使用することを目的としたアルミニウム合金ブロックの、低コストで改良された製造方法に対するニーズが存在する。   The methods used in these documents lead to high costs (the purity of the aluminum used, the number of method steps). Intended for use in the fabrication of vacuum chambers that have high mechanical properties, low residual stress, and are capable of forming an anodized coating that is resistant to reactive gases after machining. There is a need for a low cost and improved manufacturing method for such aluminum alloy blocks.

本発明の第一の目的は、250mm以上の厚みを有し、真空チャンバ用の要素の製造を目的とする、アルミニウムブロックの製造方法であり、連続的に、
(a)重量%で、Si:0.5〜1.5、Mg:0.5〜1.5、Fe<0.3、Cu<0.2、Mn<0.8、Cr<0.10、Ti<0.15、他の元素各<0.05かつ合計<0.15、残分はアルミニウム、という組成の合金ブロックを半連続鋳造により鋳造し、
(b)任意にて、鋳造されたブロックの500℃〜590℃の温度での均質化を実施し、
(c)溶体化前に熱間または冷間変形ステップを実施することなく、鋳造されかつ任意にて均質化されたブロックに対して直接450℃〜560℃の温度で溶体化熱処理を実施し、
(d)このように溶体化したブロックを、溶体化温度と200℃との間において200℃/h以上の冷却速度で焼入れし、
(e)任意にて、このように焼入れしたブロックを応力除去し、
(f)このように焼入れし任意にて応力除去したブロックの焼戻しを実施する
という製造方法にある。
The first object of the present invention is a method for producing an aluminum block having a thickness of 250 mm or more and intended for the production of an element for a vacuum chamber.
(A) By weight%, Si: 0.5 to 1.5, Mg: 0.5 to 1.5, Fe <0.3, Cu <0.2, Mn <0.8, Cr <0.10 , Ti <0.15, each other element <0.05 and the total <0.15, the balance is aluminum, cast an alloy block by semi-continuous casting,
(B) optionally, homogenizing the cast block at a temperature of 500 ° C. to 590 ° C .;
(C) performing a solution heat treatment directly at a temperature of 450 ° C. to 560 ° C. on a cast and optionally homogenized block without performing a hot or cold deformation step before solution treatment;
(D) Quenching the block thus solutionized at a cooling rate of 200 ° C./h or more between the solution temperature and 200 ° C.,
(E) Optionally, stress relieve the block thus quenched,
(F) There is a manufacturing method in which tempering of the block thus quenched and optionally subjected to stress removal is performed.

本発明の別の目的は、250mm以上の厚みを有し、重量%で、Si:0.5〜1.5、Mg:0.5〜1.5、Fe<0.3、Cu<0.2、Mn<0.8、Cr<0.10、Ti<0.15、他の元素各<0.05かつ合計<0.15、残分はアルミニウムという組成を有し、かつ状態T6またはT652で、1/4厚みでの破壊強度Rが280MPa以上で、1/4厚みでの弾性限界Rp0.2が240MPa以上であるブロックであって、該ブロックは、半連続鋳造、500℃〜590℃の温度での鋳造されたブロックの任意の均質化、溶体化前に熱間または冷間変形ステップを実施することのない、鋳造されかつ任意にて均質化されたブロックに対する直接の、450℃〜560℃の温度での溶体化、溶体化温度と200℃との間における200℃/時以上の冷却速度での焼入れ、任意の応力除去および焼戻しによって得られる。 Another object of the present invention is to have a thickness of 250 mm or more, and by weight, Si: 0.5 to 1.5, Mg: 0.5 to 1.5, Fe <0.3, Cu <0. 2, Mn <0.8, Cr <0.10, Ti <0.15, each other element <0.05 and total <0.15, the balance being aluminum, and the state T6 or T652 in, in fracture strength R m in 1/4 thickness than 280 MPa, a block elastic limit R p0.2 of at 1/4 thickness is more than 240 MPa, the block, the semi-continuous casting, 500 ° C. ~ Optional homogenization of the cast block at a temperature of 590 ° C., 450 directly on the cast and optionally homogenized block without performing a hot or cold deformation step before solutionizing Solution treatment at a temperature of from ℃ to 560 ℃, solution treatment temperature and 200 ℃ 200 ° C. / hour or more of quenching at a cooling rate between obtained by any stress relief and tempering.

本発明のさらに別の目的は、半導体で構成された電子集積回路、フラットディスプレイスクリーンおよび/または太陽電池パネルの製造用の真空チャンバの製作における、本発明に係るブロックの使用にある。   Yet another object of the invention is the use of the block according to the invention in the manufacture of a vacuum chamber for the production of semiconductor integrated electronic integrated circuits, flat display screens and / or solar panels.

本発明に係る方法によって得られたブロック11(図1a)と21(図1b)の粒状構造を示す図である。FIG. 2 shows the granular structure of blocks 11 (FIG. 1a) and 21 (FIG. 1b) obtained by the method according to the invention. 基準ブロック31(図2a)および先行技術に係る方法(溶体化前に鍜造により変形)によって得られたブロック(図2b)の粒状構造を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the granular structure of the reference block 31 (FIG. 2a) and the block (FIG. 2b) obtained by the method according to the prior art (deformed by forging before solution treatment).

合金の呼称は、当業者にとっては公知であるアルミニウム協会(AA)の規則に準じたものである。冶金学的状態の定義は、欧州規格EN515中に示されている。   The names of the alloys are in accordance with the rules of the Aluminum Association (AA) which are well known to those skilled in the art. The definition of the metallurgical state is given in the European standard EN515.

別段の記載のないかぎり、静的機械的特性、換言すると破壊強度Rm、従来の0.2%伸長時弾性限界Rp0.2および破壊伸びA%は、EN10002−1規格にしたがって引張り試験により判定され、試料採取および試験の方向は、EN485−1規格により規定される。硬度は、EN ISO 6506規格にしたがって測定される。   Unless otherwise stated, the static mechanical properties, in other words, the breaking strength Rm, the conventional 0.2% elongation elastic limit Rp0.2 and the breaking elongation A% are determined by a tensile test according to the EN10002-1 standard. The direction of sampling and testing is defined by the EN 485-1 standard. The hardness is measured according to the EN ISO 6506 standard.

真空チャンバ用の要素は、特に真空チャンバの本体、仕切り弁本体、フランジ、連結用要素、気密性要素、通路、たわみ管である。   The elements for the vacuum chamber are in particular the body of the vacuum chamber, the gate valve body, the flange, the connecting element, the airtight element, the passage, the flexible tube.

本発明に係る方法において、6xxx系の合金が、溶体化前に熱間または冷間変形ステップを実施することなく、真空チャンバ用の要素の製作のために利用可能なブロックへと加工される。こうして、本発明によると、(重量%で)Si:0.5〜1.5、Mg:0.5〜1.5、Fe<0.3、Cu<0.2、Mn<0.8、Cr<0.10、Ti<0.15、他の元素各<0.05かつ合計<0.15、残分はアルミニウムという組成の合金製の厚み250mm以上のブロックが、半連続鋳造、500℃〜590℃の温度での鋳造されたブロックの任意の均質化、溶体化前に熱間または冷間変形ステップを実施することのない、鋳造されかつ任意にて均質化されたブロックに対する直接の、450〜560℃の温度での溶体化、溶体化温度と200℃との間における200℃/h以上の冷却速度での焼入れ、任意の応力除去、および焼戻しによって得られる。溶体化前に熱間または冷間変形ステップを実施することのない、鋳造されたブロックに対する直接の溶体化とは、本発明の枠内では、溶体化の前に熱間または冷間変形ステップが実施されないことを意味するが、それでも、表面機械加工または端部切断などの従来のステップを、特に均質化の前または後に実施することが可能である。   In the method according to the invention, 6xxx series alloys are processed into blocks that can be used for the fabrication of elements for vacuum chambers without performing a hot or cold deformation step prior to solution treatment. Thus, according to the invention, Si (by weight): 0.5-1.5, Mg: 0.5-1.5, Fe <0.3, Cu <0.2, Mn <0.8, Cr <0.10, Ti <0.15, each other element <0.05 and total <0.15, the balance is made of an alloy having a composition of aluminum with a thickness of 250 mm or more, semi-continuous casting, 500 ° C. Optional homogenization of the cast block at a temperature of ˜590 ° C., directly on the cast and optionally homogenized block without performing a hot or cold deformation step prior to solution treatment, It is obtained by solution treatment at a temperature of 450 to 560 ° C., quenching at a cooling rate of 200 ° C./h or more between the solution treatment temperature and 200 ° C., arbitrary stress removal, and tempering. Direct solution to cast blocks without performing a hot or cold deformation step prior to solution forming is within the framework of the present invention that a hot or cold deformation step is performed prior to solution forming. Although meant not to be performed, it is still possible to carry out conventional steps such as surface machining or edge cutting, in particular before or after homogenization.

鉄含有量は0.3重量%未満でなければならないが、これは、この値を超えると、反応性ガスから金属を保護するために得られる陽極酸化被膜が所望の強度に達しないからである。しかしながら、当該発明者らは、本発明に係る方法を用いて所望の特徴を示す陽極酸化被膜を得るために非常に高い純度レベルを達成する必要はないということを確認した。したがって、鉄含有量は、有利には少なくとも0.1重量%であり、これにより本発明に係る方法はきわめて経済的なものになる。   The iron content must be less than 0.3% by weight, because above this value, the anodic oxide coating obtained to protect the metal from reactive gases does not reach the desired strength. . However, the inventors have determined that it is not necessary to achieve a very high purity level in order to obtain an anodized film exhibiting the desired characteristics using the method according to the present invention. The iron content is therefore advantageously at least 0.1% by weight, which makes the process according to the invention very economical.

銅含有量は、0.2重量%未満でなければならないが、これは、銅含有量が過度に高い場合、焼入れに対する感受性が高まるからである。しかしながら、一部の場合において、特に溶体化後の冷却速度が800℃/h超である場合には、機械的特性を改善するために限られた量の銅を添加するのが有利である。本発明の一実施形態においては、0.03〜0.15重量%の銅含有量が好ましい。   The copper content must be less than 0.2% by weight because if the copper content is too high, the sensitivity to quenching is increased. However, in some cases, it is advantageous to add a limited amount of copper to improve mechanical properties, especially when the cooling rate after solutionization is greater than 800 ° C./h. In one embodiment of the invention, a copper content of 0.03 to 0.15% by weight is preferred.

当該発明者らは、クロム含有量が0.10重量%以上である場合、所望の機械的特性、特に最小の機械的強度が達成されないということを確認した。6xxx系合金製の真空チャンバのための鍛錬された加工素片製品の製作には、粒径を制御するためにクロムおよび/またはマンガンの存在が必要であるということが一般に認められている。当該発明者らは、本発明の枠内では、逆に、クロムの不在が有利であることを確認したのであるが、これは、クロムの不在により、粒状構造を劣化することなく、焼入れに対する感受性を制限し、また、厚みのある製品の機械的特性を改善することができるからである。本発明の有利な一実施形態においては、クロム含有量は0.05重量%未満、そして好ましくは0.03重量%未満である。一方、マンガン含有量は0.8重量%未満でなければならず、0.8重量%超の含有量は特に陽極酸化被膜の特性および真空チャンバの汚染に関して不利である。有利には、マンガン含有量は、陽極酸化被膜の特性に対して有害となり得る粗粒相の形成を回避するために、0.6重量%未満である。本発明の有利な実施形態においては、マンガン含有量は0.05重量%未満でさえある。当該発明者らは、驚くべきことに、Cr、MnおよびZrの不在下でさえ、本発明に係る方法によって得られた粒状構造は制御されており、機械的特性および反応性ガスに対する耐性の観点からみて充分な特性を得ることが可能であることを確認した。こうして、Cr、MnおよびZrが同時に不在であることで、合金の焼入れに対する感受性を極めて有意に低下させること、ひいては厚みのある製品の機械的特性を改善することが可能となり、しかもそのために粒状特性および陽極酸化被膜の特性が劣化することはない。本発明の有利な一実施形態において、Cr、MnおよびZrの含有量は、同時に0.05重量%未満であり、好ましくは0.03重量%未満である。   The inventors have confirmed that the desired mechanical properties, in particular the minimum mechanical strength, are not achieved when the chromium content is 0.10% by weight or more. It is generally accepted that the fabrication of wrought work piece products for vacuum chambers made of 6xxx series alloys requires the presence of chromium and / or manganese to control particle size. In contrast, the present inventors have confirmed that the absence of chromium is advantageous within the framework of the present invention. This is because the absence of chromium does not deteriorate the granular structure and is not sensitive to quenching. This is because the mechanical properties of a thick product can be improved. In an advantageous embodiment of the invention, the chromium content is less than 0.05% by weight and preferably less than 0.03% by weight. On the other hand, the manganese content must be less than 0.8% by weight, and a content of more than 0.8% by weight is particularly disadvantageous with respect to the properties of the anodized film and the contamination of the vacuum chamber. Advantageously, the manganese content is less than 0.6% by weight in order to avoid the formation of a coarse phase that can be detrimental to the properties of the anodized film. In an advantageous embodiment of the invention, the manganese content is even less than 0.05% by weight. The inventors surprisingly found that even in the absence of Cr, Mn and Zr, the granular structure obtained by the method according to the invention is controlled, in terms of mechanical properties and resistance to reactive gases. As a result, it was confirmed that sufficient characteristics could be obtained. Thus, the absence of Cr, Mn and Zr at the same time makes it possible to significantly reduce the susceptibility of the alloy to quenching and thus to improve the mechanical properties of the thick product, and for that reason granular properties. And the characteristics of the anodized film are not deteriorated. In an advantageous embodiment of the invention, the content of Cr, Mn and Zr is simultaneously less than 0.05% by weight, preferably less than 0.03% by weight.

ケイ素およびマグネシウムの含有量は、0.5〜1.5重量%である。有利には、0.5〜0.8重量%のケイ素と0.8〜1.2重量%のマグネシウムとの組合せ、または0.8〜1.2重量%のケイ素と0.6〜1.0重量%のマグネシウムとの組合せが実現される。特に高い機械的特性を達成できるようにする本発明の好ましい一実施形態においては、ケイ素含有量は0.8〜1重量%、好ましくは0.85〜0.95重量%であり、マグネシウム含有量は0.6〜0.8重量%、好ましくは0.65〜0.75重量%である。   The content of silicon and magnesium is 0.5 to 1.5% by weight. Advantageously, a combination of 0.5-0.8% by weight silicon and 0.8-1.2% by weight magnesium, or 0.8-1.2% by weight silicon and 0.6-1. A combination with 0% by weight of magnesium is realized. In a preferred embodiment of the invention that makes it possible to achieve particularly high mechanical properties, the silicon content is 0.8 to 1% by weight, preferably 0.85 to 0.95% by weight, and the magnesium content Is 0.6 to 0.8% by weight, preferably 0.65 to 0.75% by weight.

合金の鋳造は、直接冷却を用いた半連続鋳造によってブロックの形で実施される。典型的には、300〜450mmの厚みを有するブロック型を利用する。   Alloy casting is carried out in the form of blocks by semi-continuous casting with direct cooling. Typically, a block mold having a thickness of 300 to 450 mm is used.

鋳造されたブロックは、任意に、少なくとも一時間500℃〜590℃の温度で均質化されてよい。均質化の実施は、一般により有利な機械的特性およびより優れた陽極酸化被膜の特性を達成し、その上溶体化時間を削減できるようにすることから、有利である。均質化は、別の熱処理中か、あるいは溶体化熱処理の間に実施可能である。   The cast block may optionally be homogenized at a temperature between 500 ° C. and 590 ° C. for at least one hour. The implementation of homogenization is advantageous because it generally achieves more advantageous mechanical properties and better anodized film properties, while reducing solution time. Homogenization can be performed during another heat treatment or during a solution heat treatment.

鋳造と溶体化熱処理との間で、均質化が行なわれる場合にはその前または後に、一般に一面あたり少なくとも5mm程度の表面の機械加工(「スカルピング」とも呼ばれる)を実施して、表面の偏析層を除去し亀裂の存在を回避する。   Before or after homogenization is performed between casting and solution heat treatment, surface machining (also called “scalping”) of at least about 5 mm per surface is generally performed, and a segregation layer on the surface To avoid the presence of cracks.

次に、予め熱間または冷間変形ステップを行なうことなく直ちに、450〜560℃、好ましくは520〜550℃の温度で、鋳造され、任意にて均質化されたブロックに対して直接溶体化熱処理が実施される。先行技術の方法の従来の熱間変形は、一般に圧延および/または鍜造および/または押出し加工によって実施される。したがって、ブロックは、鋳造と溶体化との間で、鍛錬による有意な変形ステップを受けない。鍛錬とは、典型的には圧延および/または鍜造および/または押出し加工の作業を意味する。したがって、本発明によると、鋳造されたブロックの寸法(長さ、幅、厚み)のいずれも、鋳造と溶体化との間の鍛錬による有意な、すなわち典型的には少なくとも約10%の変化をこうむることがない。溶体化時間は、好ましくは一時間超である。溶体化前の熱間または冷間変形を回避できるようにする本発明に係る方法は、この変形ステップのコストが高いことから、経済的観点から見てきわめて有利である。先行技術によると、このタイプの方法は、6xxx合金製の真空チャンバのための要素の製作を目的としたブロックについては特に企図されてこなかったが、その理由は、恐らく、真空チャンバ用の要素を製造するために必要な機械的特性、陽極酸化被膜の強度および多孔性レベルが熱間変形無しでは達成されないことが懸念されたためである。その上、きわめて厚い一部の製品は、先行技術に係る方法によっては入手できなかった。驚くべきことに、当該発明者らは、このように単純化された方法が、先行技術に係る方法によって得られるものと同等の特性を達成できるようにするばかりでなく、一部の場合においてはそれらを凌ぐことができるようにするということを確認した。   Next, a direct solution heat treatment is performed directly on the block cast and optionally homogenized immediately at a temperature of 450-560 ° C., preferably 520-550 ° C., without prior hot or cold deformation steps. Is implemented. Conventional hot deformation of prior art methods is generally performed by rolling and / or forging and / or extrusion. Thus, the block does not undergo a significant deformation step by tempering between casting and solutionizing. Forging typically means rolling and / or forging and / or extrusion operations. Thus, according to the present invention, any of the dimensions (length, width, thickness) of the cast block will change significantly, typically at least about 10%, due to training between casting and solution treatment. It wo n’t hurt. The solution time is preferably more than one hour. The method according to the invention which makes it possible to avoid hot or cold deformation before solution treatment is very advantageous from an economic point of view because of the high cost of this deformation step. According to the prior art, this type of method has not been specifically intended for blocks intended for the fabrication of elements for vacuum chambers made of 6xxx alloy, perhaps because the elements for vacuum chambers This is because there was concern that the mechanical properties necessary for production, the strength of the anodized film and the level of porosity could not be achieved without hot deformation. Moreover, some very thick products were not available by prior art methods. Surprisingly, the inventors have not only made it possible for such a simplified method to achieve the same properties as those obtained by prior art methods, but in some cases We confirmed that we could surpass them.

溶体化の後の焼入れステップはきわめて重要であり、溶体化温度と200℃との間で200℃/h以上という冷却速度で実施されなければならない。冷却速度は、ブロックの半厚みで計算される。冷却速度が過度に低い場合、当該発明者らは、求められる機械的特性が達成されないことを確認した。   The quenching step after solution treatment is very important and must be performed at a cooling rate of 200 ° C./h or more between the solution temperature and 200 ° C. The cooling rate is calculated by the half thickness of the block. When the cooling rate is too low, the inventors have confirmed that the required mechanical properties are not achieved.

本発明の有利な第一の実施形態において、冷却速度は、200℃/h〜400℃/hである。実際、驚くべきことに、冷却速度が200℃/h〜400℃/hである場合、充分な機械的特性と、圧縮による応力除去ステップの回避を可能にする低い残留エネルギーとが同時に得られる。このような冷却速度は、霧による散水を用いて得ることができる。   In a first advantageous embodiment of the invention, the cooling rate is between 200 ° C./h and 400 ° C./h. In fact, surprisingly, when the cooling rate is between 200 ° C./h and 400 ° C./h, sufficient mechanical properties and low residual energy are obtained at the same time, which makes it possible to avoid the stress relief step by compression. Such a cooling rate can be obtained using watering by fog.

本発明の有利な第二の実施形態においては、冷却速度は800℃/h以上である。このような冷却速度は、散水または浸水により得ることができる。過度に高い冷却速度は、ブロック内で過度に大きな内部応力を生成し得ることから、好ましくは、冷却のためには少なくとも50℃の温度の水が使用される。   In a second advantageous embodiment of the invention, the cooling rate is 800 ° C./h or more. Such a cooling rate can be obtained by watering or flooding. Preferably, water at a temperature of at least 50 ° C. is used for cooling because an excessively high cooling rate can create excessive internal stresses within the block.

任意にて、このように焼入れされたブロックは、好ましくは1%〜5%の永久変形率で冷間圧縮により応力除去される。冷却速度が800℃/h超である第二の実施形態においては、応力除去はきわめて有利であることがわかっている。応力除去は、金属内の残留応力を減少させ、機械加工の際の変形を回避できるようにする。   Optionally, the block thus quenched is stress relieved by cold compression, preferably with a permanent deformation rate of 1% to 5%. In the second embodiment, where the cooling rate is greater than 800 ° C./h, stress relief has been found to be very advantageous. Stress relief reduces residual stress in the metal and allows deformation during machining to be avoided.

最後に、このように焼入れされ、任意にて応力除去されたブロックの焼戻しが実施される。焼戻し温度は、好ましくは150〜190℃、より好ましくは165〜185℃であり、焼戻し時間は5〜40時間そして好ましくは8〜20時間である。有利には、静的機械的特性(RおよびRp0.2)のピークに対応する状態T6またはT652を達成するために焼戻しが実施される。 Finally, tempering of the block thus quenched and optionally stress relieved is performed. The tempering temperature is preferably 150 to 190 ° C., more preferably 165 to 185 ° C., and the tempering time is 5 to 40 hours and preferably 8 to 20 hours. Advantageously, tempering is carried out to achieve a state T6 or T652 corresponds to the peak of the static mechanical properties (R m and R p0.2).

本発明に係る方法によって得られるブロックは、高い機械的特性を特徴とする。したがって、本発明に係る方法によって得られた製品の、状態T6またはT652での、1/4厚みでの破壊強度Rは280MPa以上であり、1/4厚みでの弾性限界Rp0.2は240MPa以上である。有利な実施形態においては、組成が、Si:0.5〜1.2、Mg:0.6〜1.0、Fe:0.1〜0.3、Cu<0.2、Mn<0.05、Cr<0.05、Ti<0.15、他の元素各<0.05かつ合計<0.15である合金が使用され、状態T6またはT652で、300MPa以上の1/4厚みでの破壊強度Rが達成され、1/4厚みでの弾性限界Rp0.2は270MPa以上であり、その上ケイ素含有量が0.8〜1重量%、好ましくは0.85〜0.95重量%で、マグネシウム含有量が0.6〜0.8重量%、好ましくは0.65〜0.75重量%である場合には、状態T6またはT652で、1/4厚みでの破壊強度Rは320MPa以上であり、1/4厚みでの弾性限界Rp0.2は、300MPa以上である。 The blocks obtained by the method according to the invention are characterized by high mechanical properties. Thus, the product obtained by the process according to the present invention, in a state T6 or T652, fracture strength R m in 1/4 thickness is at least 280 MPa, 1/4 elastic limit R p0.2 in thickness 240 MPa or more. In an advantageous embodiment, the composition is Si: 0.5-1.2, Mg: 0.6-1.0, Fe: 0.1-0.3, Cu <0.2, Mn <0. 05, Cr <0.05, Ti <0.15, each other element <0.05 and the sum <0.15 is used, and in the state T6 or T652, the thickness is ¼ of 300 MPa or more. fracture strength R m is achieved, 1/4 the elastic limit Rp 0.2 of the thickness is at least 270 MPa, its upper silicon content 0.8-1% by weight, preferably 0.85-0.95 weight %, When the magnesium content is 0.6 to 0.8 wt%, preferably 0.65 to 0.75 wt%, the fracture strength R m at 1/4 thickness in state T6 or T652 Is 320 MPa or more, and the elastic limit R p0.2 at ¼ thickness is 300 MPa or more. The

状態T6またはT652で、本発明に係る製品により、少なくとも0.5%の伸びの最小値が達成される。一部の場合においては、少なくとも4%の伸びの最小値が、本発明に係る製品によって達成される。   In state T6 or T652, the product according to the invention achieves a minimum elongation of at least 0.5%. In some cases, a minimum value of elongation of at least 4% is achieved with the product according to the invention.

本発明に係る製品の粒状構造は、溶体化前の鍛錬の不在の特徴をなしている。したがって、単純な冶金学的検査により、溶体化前に熱間または冷間変形が実施される先行技術に係る製品と本発明に係る製品とを区別することが可能である。典型的には、本発明に係る製品の粒状構造は、平均粒径が200μm以上を有する、等方性である。   The granular structure of the product according to the present invention is characterized by the absence of training prior to solutionization. Therefore, it is possible to distinguish between a product according to the prior art and a product according to the present invention in which hot or cold deformation is carried out before solutionization by a simple metallurgical inspection. Typically, the granular structure of the product according to the invention is isotropic with an average particle size of 200 μm or more.

本発明に係る方法によって得られるブロックは、半導体で構成された電子集積回路、フラットディスプレイパネルおよび/または太陽電池パネル製造用の真空チャンバの製作において使用可能である。したがって、機械加工に対するブロックの挙動は、とりわけ、高い機械的特性および低い残留応力レベルにより、有利である。その上、通常の陽極処理方法による、機械加工されたブロック上に得られる陽極酸化被膜は、真空チャンバ内で使用される反応性ガスに対する耐性を有する。   The blocks obtained by the method according to the invention can be used in the production of vacuum chambers for the production of electronic integrated circuits, flat display panels and / or solar panels composed of semiconductors. Thus, the block behavior for machining is advantageous, inter alia, due to high mechanical properties and low residual stress levels. Moreover, the anodic oxide coating obtained on the machined block by conventional anodizing methods is resistant to reactive gases used in the vacuum chamber.

本発明に係る方法によって得られるブロックは、同様に、得られる特性が好適である他のすべての利用分野のためにも有利に使用可能である。   The blocks obtained by the method according to the invention can likewise be used advantageously for all other applications in which the properties obtained are suitable.

この実施例では、本発明に係る方法を、基準例に係る方法と比較した。本発明に係る方法を、二つの異なる合金に適用した。   In this example, the method according to the present invention was compared with the method according to the reference example. The method according to the invention was applied to two different alloys.

直接冷却式半連続鋳造により、表1に示された組成を有する四つの合金ブロックを鋳造した。410mmの厚みまで、ブロックをスカルピングした。   Four alloy blocks having the compositions shown in Table 1 were cast by direct cooling semi-continuous casting. The block was sculpted to a thickness of 410 mm.

Figure 2013517383
Figure 2013517383

ブロックを540〜590℃の温度で、少なくとも4時間均質化した。   The block was homogenized at a temperature of 540-590 ° C. for at least 4 hours.

次に、ブロックを540℃で溶体化した。溶体化の後、ブロック11、21および31を60℃の水で焼入れし(540℃〜200℃の間の計算上の平均冷却速度は約1500℃/hであった)、一方ブロック12は、空気で焼入れし、540℃〜200℃の間の平均冷却速度は約90℃/hであった。   The block was then solutionized at 540 ° C. After solutionization, blocks 11, 21, and 31 were quenched with 60 ° C. water (the calculated average cooling rate between 540 ° C. and 200 ° C. was about 1500 ° C./h), while block 12 was Quenched with air, the average cooling rate between 540 ° C. and 200 ° C. was about 90 ° C./h.

異なる複数のブロックはその後1.5〜2.5%の冷間圧縮を受け、次に状態T652を得るように165℃での焼戻しを受けた。   The different blocks were then subjected to 1.5-2.5% cold compression and then tempered at 165 ° C. to obtain state T652.

得られた製品の粒状構造は、図1a(ブロック11)、1b(ブロック21)および2a(ブロック31)に示されている。比較のため、先行技術に係る方法(溶体化前に鍜造)による製品の粒状構造を図2bに示す。   The granular structure of the resulting product is shown in FIGS. 1a (block 11), 1b (block 21) and 2a (block 31). For comparison, FIG. 2b shows the granular structure of the product by the method according to the prior art (forging before solution).

得られた機械的特性は表2に提供されている。   The resulting mechanical properties are provided in Table 2.

Figure 2013517383
Figure 2013517383

本発明に係る方法により得られたブロック(11および21)は、基準インゴットで得られたものに比べて高い機械的強度(Rm、Rp0.2)を示し、インゴット11で得られた機械的強度がきわめて有利である。   The blocks (11 and 21) obtained by the method according to the present invention show a higher mechanical strength (Rm, Rp0.2) than that obtained with the reference ingot, and the mechanical strength obtained with the ingot 11 Is very advantageous.

本発明にしたがって得られたブロックは、わずかな残留応力を有し、このため、機械加工の際のブロックの変形を回避することができる。本発明に係るブロック内に観察される多孔性レベルは非常に低く、高真空を達成するのに充分低いものであった。   The block obtained according to the invention has a slight residual stress, so that deformation of the block during machining can be avoided. The level of porosity observed in the blocks according to the invention was very low and low enough to achieve a high vacuum.

米国特許第6,565,984号明細書US Pat. No. 6,565,984 米国特許第6,982,121号明細書US Pat. No. 6,982,121 米国特許出願公開第2009/0050485号明細書US Patent Application Publication No. 2009/0050485 米国特許出願公開第2001/019777号明細書US Patent Application Publication No. 2001/019777 特開2001−220637号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-220737 欧州特許出願公開第2003219号明細書European Patent Application No. 2003219

「The effect of processing and Mn content on the T5 and T6 properties of AA6082 profiles」、Journal of Materials Processing Technology、173(2006)84−91"The effect of processing and Mn content on the T5 and T6 properties of AA6082 profiles", Journal of Materials Processing Technology, 173 (2006) 173 (2006).

Claims (15)

250mm以上の厚みを有し真空チャンバ用の要素の製造を目的とするアルミニウムブロックの製造方法であって、連続的に、
(a)重量%でSi:0.5〜1.5、Mg:0.5〜1.5、Fe<0.3、Cu<0.2、Mn<0.8、Cr<0.10、Ti<0.15、他の元素各<0.05かつ合計<0.15、残分はアルミニウムという組成の合金ブロックを半連続鋳造により鋳造し、
(b)任意にて、鋳造されたブロックの500℃〜590℃の温度での均質化を実施し、
(c)溶体化前に熱間または冷間変形ステップを実施することなく、鋳造されかつ任意に均質化されたブロックに対して直接450〜560℃の温度で溶体化熱処理を実施し、
(d)このように溶体化したブロックを、溶体化温度と200℃との間において200℃/h以上の冷却速度で焼入れし、
(e)任意にて、このように焼入れしたブロックを応力除去し、
(f)このように焼入れし任意に応力除去したブロックの焼戻しを実施する
という製造方法。
A method for producing an aluminum block having a thickness of 250 mm or more and intended for producing an element for a vacuum chamber,
(A) By weight%: Si: 0.5 to 1.5, Mg: 0.5 to 1.5, Fe <0.3, Cu <0.2, Mn <0.8, Cr <0.10, Casting an alloy block having a composition of Ti <0.15, each other element <0.05 and total <0.15, the balance being aluminum by semi-continuous casting,
(B) optionally, homogenizing the cast block at a temperature of 500 ° C. to 590 ° C .;
(C) performing a solution heat treatment directly at a temperature of 450-560 ° C. on the cast and optionally homogenized block without performing a hot or cold deformation step before solution treatment;
(D) Quenching the block thus solutionized at a cooling rate of 200 ° C./h or more between the solution temperature and 200 ° C.,
(E) Optionally, stress relieve the block thus quenched,
(F) A manufacturing method of performing tempering of the block thus quenched and optionally subjected to stress removal.
マンガン含有量が0.6重量%未満、好ましくは0.05重量%未満である、請求項1に記載の方法。   2. Process according to claim 1, wherein the manganese content is less than 0.6% by weight, preferably less than 0.05% by weight. クロム含有量が0.05重量%未満、好ましくは0.03重量%未満である、請求項1または請求項2に記載の方法。   3. A process according to claim 1 or claim 2, wherein the chromium content is less than 0.05% by weight, preferably less than 0.03% by weight. Cr、MnおよびZrの含有量が同時に0.05重量%未満、そして好ましくは0.03重量%未満である、請求項1〜3のいずれか一つに記載の方法。   4. A method according to any one of claims 1 to 3, wherein the contents of Cr, Mn and Zr are simultaneously less than 0.05% by weight and preferably less than 0.03% by weight. 鉄含有量が少なくとも0.1重量%である、請求項1〜4のいずれか一つに記載の方法。   The process according to any one of claims 1 to 4, wherein the iron content is at least 0.1% by weight. ケイ素含有量が0.5〜0.8重量%であり、マグネシウム含有量が0.8〜1.2重量%である、請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the silicon content is 0.5 to 0.8 wt% and the magnesium content is 0.8 to 1.2 wt%. ケイ素含有量が、0.8〜1.2重量%であり、マグネシウム含有量が0.6〜1.0重量%である、請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the silicon content is 0.8 to 1.2% by weight and the magnesium content is 0.6 to 1.0% by weight. ケイ素含有量が0.8〜1重量%、好ましくは0.85〜0.95重量%であり、マグネシウム含有量が0.6〜0.8重量%、好ましくは0.65〜0.75重量%である、請求項7に記載の方法。   The silicon content is 0.8-1% by weight, preferably 0.85-0.95% by weight, and the magnesium content is 0.6-0.8% by weight, preferably 0.65-0.75% by weight. The method of claim 7, wherein the method is%. 溶体化温度と200℃との間の前記冷却速度が200℃/h〜400℃/hである、請求項1〜8のいずれか一つに記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the cooling rate between a solution temperature and 200 ° C. is 200 ° C./h to 400 ° C./h. 溶体化温度と200℃との間の前記冷却速度が800℃/h以上である、請求項1〜8のいずれか一つに記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the cooling rate between the solution temperature and 200 ° C. is 800 ° C./h or more. 応力除去が1%〜5%の永久変形率で冷間圧縮によって実施される、請求項1〜10のいずれか一つに記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the stress relief is performed by cold compression at a permanent deformation rate of 1% to 5%. 250mm以上の厚みを有し、重量%でSi:0.5〜1.5、Mg:0.5〜1.5、Fe<0.3、Cu<0.2、Mn<0.8、Cr<0.10、Ti<0.15、他の元素各<0.05かつ合計<0.15、残分はアルミニウムという組成を有し、かつ状態T6またはT652で、1/4厚みでの破壊強度Rが280MPa以上で、1/4厚みでの弾性限界Rp0.2が240MPa以上であるブロックであって、半連続鋳造、500℃〜590℃の温度での鋳造されたブロックの任意の均質化、溶体化前に熱間または冷間変形ステップを実施することのない、鋳造されかつ任意にて均質化されたブロックに対する直接の、450〜560℃の温度での溶体化、溶体化温度と200℃との間における200℃/h以上の冷却速度での焼入れ、任意の応力除去および焼戻しによって得られるブロック。 It has a thickness of 250 mm or more, and by weight, Si: 0.5 to 1.5, Mg: 0.5 to 1.5, Fe <0.3, Cu <0.2, Mn <0.8, Cr <0.10, Ti <0.15, each other element <0.05 and total <0.15, the balance being aluminum, and destruction at 1/4 thickness in state T6 or T652 intensity R m or more 280 MPa, 1/4 elastic limit R p0.2 in thickness a block is at least 240 MPa, semi-continuous casting, 500 ° C. to 590 any cast block at a temperature of ° C. Solution treatment temperature at 450-560 ° C. directly on cast and optionally homogenized blocks without performing a hot or cold deformation step prior to homogenization and solution treatment. Cooling rate of 200 ° C./h or more between 200 ° C. and 200 ° C. Blocks of hardening obtained by any stress relief and tempering. 請求項1〜11のいずれか一つに記載の方法により得られる、請求項12に記載のブロック。   13. A block according to claim 12, obtained by the method according to any one of claims 1-11. 組成が、重量%でSi:0.5〜1.2、Mg:0.6〜1.0、Fe0.1〜0.3、Cu<0.2、Mn<0.05、Cr<0.05、Ti<0.15、他の元素各<0.05かつ合計<0.15であること、および状態T6またはT652で、1/4厚みでの破壊強度Rが300MPa以上で、1/4厚みでの弾性限界Rp0.2が270MPa以上であることを特徴とする、請求項12または請求項13に記載のブロック。 The composition was Si: 0.5 to 1.2, Mg: 0.6 to 1.0, Fe0.1 to 0.3, Cu <0.2, Mn <0.05, Cr <0. 05, Ti <0.15, the other elements <0.05 and total <it is 0.15, and in a state T6 or T652, in the fracture strength R m in 1/4 thickness at least 300 MPa, 1 / The block according to claim 12 or 13, wherein the elastic limit Rp0.2 at 4 thicknesses is 270 MPa or more. 半導体で構成された電子集積回路、フラットディスプレイスクリーンおよび/または太陽電池パネルの製造用の真空チャンバの製作における、請求項12〜14のいずれか一つに記載のブロックの使用。   Use of a block according to any one of claims 12 to 14 in the manufacture of a vacuum chamber for the production of semiconductor integrated electronic integrated circuits, flat display screens and / or solar panels.
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