JP2023507932A - 電気制御可能な光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学的機能デバイス及び反射色制御用コーティングを有する光学システム、並びに付随する方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、下記を含む光学システムに関する：
－ ２つの相対する主要面（１１、１２）が備わったグレージング機能基材（１）、及びこれら２つの主要面のうちの１つ（１１）の上に形成された電気的に制御可能な光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学的機能デバイスを含む、光学アセンブリ（５０）であって、基材（１）の側において第１の反射角（ｕ）での反射における初期色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を有する初期色状態を有する、光学アセンブリ、並びに
－ 反射色制御用コーティング（３）であって、基材の他方の主要面（１２）上に形成されており、光学システム（４０）の外部面（４１）を形成しており、光学システム（４０）がこの第１の反射角（ｕ）において最終色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）を有する最終色状態を有することになるようなコーティングであり、この最終色状態が初期色状態に比べて、第１の反射角（ｕ）における基準色度（Ｌ^＊ｕｒｅｆ；ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）を有する基準色状態により近く、これが、第１の反射角（ｕ）で、初期色度と基準値の間及び最終色度と基準値の間の色距離（Ｃｕｌ、Ｃｕｆ）におおいて、０よりも小さい変動ΔＣｕに対応している、コーティング。
【選択図】図５

Description

本発明は、反射色制御用コーティング及び電気制御可能な光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学的機能デバイス、すなわち一般に「エレクトロクロミックデバイス」と呼ばれるタイプのデバイスを含む光学システムに関する。

前記光学システムは、この光学システムの光学アセンブリからの反射として観察される色を変更するための方法を用いて得ることができる。

エレクトロクロミックデバイスは、適切な電力供給の作用下で、クリア状態と着色状態の間で変更可能である一定の特性を有し、これらの特性はとりわけ、電磁スペクトルの一定の波長における透過率、吸光度及び／又は反射率、特に可視光及び／又は赤外線さらには光散乱における透過率、吸光度及び／又は反射率である。透過率の変動は、概して電磁スペクトルの光学（赤外線、可視光、紫外線）領域及び／又は他の領域内で発生し、したがって、可変的な光学特性及び／又はエネルギ特性を有するデバイスと呼称されるようになっており、光学領域は必ずしも、問題になっている唯一の領域ではない。

熱的観点から見ると、太陽スペクトルの少なくとも一部において吸光度を変更することのできるグレージングは、それらが外部の建築用グレージング又は自動車、列車及び航空機などの輸送手段の窓として設置されている場合に、室内又はキャビン／コンパートメント内の日照負荷を制御すること、そして高い日射の場合にこれらの室内等が過度に加熱されるのを回避することを可能にする。

光学的観点から見ると、これらのデバイスは、視界の度合いを制御することができ、こうして、これらのデバイスが外部グレージングとして設置されたときに、高い日照量の場合の眩しさを回避することが可能になる。これらのデバイスは同様に、外部グレージングとして使用される場合、及び例えば部屋（建物内のオフィス）間の内部間仕切りの一部としての内部グレージング、又は例えば列車若しくは航空機内のコンパートメントを隔離する目的の内部グレージングとして使用される場合の両方において、極めて有用なシャッタ効果をも有し得る。

これに関連して、基材上に形成されたエレクトロクロミックデバイスを組込んだ光学システムを利用することが公知である。その有利な特性にも関わらず、エレクトロクロミックデバイスが具備された光学システムには、反射色を有するという欠点がある。この色は、主として、エレクトロクロミックデバイスと隣接層－基材との間の界面、又はエレクトロクロミックデバイスとエレクトロクロミックデバイスの基材との間に設置された中間層からの入射光の反射に起因するものである。

さらに、これらのデバイスの使用に結び付けられる第２の欠点は、反射として観察されるこの色が、反射角に応じて、ひいては観察角度に応じて、変動するということにある。

最後に、エレクトロクロミックスタック層の厚みにおける小さな不均一性が、反射された色の大きな不均一性を導く可能性がある。

これらの欠点を軽減するため、基材上に被着されたエレクトロクロミックデバイスを備えたグレージングであって、この基材がポリビニルブチラール（ＰＶＢ）層を用いて対向基材と積層されているグレージングが、先行技術において記述されてきた。反射変更層が、ＰＶＢと対向基材の間に間置されている。この追加は複雑であり、変更層を担持し保持するために層の複雑な配設（積層）の使用を必要とする。

より厳密には、色の視覚的知覚には、色相、彩度及び輝度の主観的感覚に対応する３つの心理的－感覚的パラメータが関与する。色相は、青、緑、赤などの用語によって定義される。彩度は、有色放射線内で知覚される白色放射線の量とは対照的な色彩の豊かさの度合いを表現する。すなわち、色の彩度が低くなればなるほど、より白く見える。輝度又は明度は、有色刺激の値に関係する無彩色因子である。それは、眩しくない最大値から、光の無い状態（黒色）まで変動する。これら３つのパラメータを互いに独立して変動させることにより、想像できるあらゆる色感覚を作り出すことが可能である。これに関連して、例えばＣＩＥ １９３１及びＣＩＥＬＡＢ ７６色空間などの、色を描写するためのさまざまなシステムは、単に、前記色を描写する３つのパラメータの異なる定義方法でしかない。

人間の目の中では、これらの色の感覚は、「積分量」によって描写される。これに関して、色相及び彩度の両方を包含する概念である知覚色は、網膜内に存在する３つのタイプの感色性の高い受光器に対応する３つの信号の組合せであり、これらの受光器は、錐体視細胞と呼ばれている。図１に例示されているように、各タイプの錐体視細胞は、それに特異的なスペクトル感度を有する。したがって、物体の色は、これらの錐体視細胞の各励起を表現する数量を介して完全に描写することができる。錐体視細胞の励起は、錐体視細胞のスペクトル感度の関数としての、それに到達する光のスペクトル強度の積分である。したがって、青色錐体視細胞の感度が４５０ｎｍよりも４２０ｎｍにおいて２倍高い場合には、４２０ｎｍで１ｍＷ／ｃｍ^２の入射光が、４５０ｎｍで２ｍＷ／ｃｍ^２の入射光と同じ励起を創出する。錐体視細胞の同じ励起が創出されることを条件として、たとえ光のスペクトル分布が異なっていても、同じ色が知覚される。一例として、図２に示されている２つのスペクトルは、各錐体視細胞について同じ励起をひき起こすことから、人間に同じ色を知覚させる。したがって、所与の色について、それを作り出す能力を有する無限の数のスペクトルを識別することが可能である。

同じ原理は、光強度の感覚の描写にも適用される。この場合、桿体視細胞と呼ばれる受光器も同様に関与する。平均的な人間の目について、光強度に対する総合感度が決定されてきた。図３に例示されているように、人間の目の最大感度は、５５０ｎｍの波長の電磁放射線について得られ、これは、「緑色」の色相の波長に対応する。これに関連して、光反射率は、人間の感度を描写する光効率の曲線によって重み付けされた平均反射率を意味する。したがって、光反射率は、所与の入射光量について、人間の目が知覚する通りの反射率を測定する積分値である。１つの反射スペクトルと次の反射スペクトルとが同じ反射色の獲得を可能にするにもかかわらず、この光反射率の値は、著しく異なるものであり得る。

以下の本文中では、説明を目的として、反射色の視覚的外見及び光反射率値は、建物内のガラスの光特性及び日照特性を決定するときに一般的に使用されるフランス規格ＮＦ ＥＮ４１０にしたがって測定される。代替的には、これらのデータは同様に、他の公知の実験プロトコルにしたがって測定されてもよく、それでも本発明の本質から逸脱することはない。

したがって、単純で効果的かつ信頼性の高い方法でその反射色を制御することのできるエレクトロクロミックデバイスを備えた光学システムを提供する必要性が存在する。

より詳細には、本発明によると、下記を含む光学システムが提案されている：
－ ２つの相対する主要面が備わったグレージング機能基材、及びこれら２つの主要面のうちの１つの上に形成された電気的に制御可能な光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学的機能デバイスを含む光学アセンブリ、
ここで、
この電気化学的機能デバイスが、下記を備えた少なくとも１つのエレクトロクロミックスタックを含み：
第１の透明導電層、
前記第１の透明導電層の上方に配設された作用電極、
前記作用電極の上方に配設された対向電極、
前記対向電極の上方に配設された第２の透明導電層、
前記エレクトロクロミックスタック内に導入されたリチウムイオン、及び
好ましくは、電極と対向電極の間の中間にある、イオン伝導体の別個の層、
前記光学アセンブリは、基材の側で第１の反射角（ｕ）での反射における初期色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を有する初期色状態を有する；
－ 反射色制御用コーティング、
ここで、
前記反射色制御用コーティングは、基材の他方の主要面上に形成されており、前記光学システムの外部面を形成しており、光学システムがこの第１の反射角（ｕ）で最終色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）を有する最終色状態を有することになるようなものであり、この最終色状態が、初期色状態に比べて、前記第１の反射角（ｕ）で基準色度（Ｌ^＊ｕｒｅｆ；ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）を有する基準色状態により近く、これが、前記所定の第１の反射角（ｕ）で、初期色度と基準値の間及び最終色度と基準値の間の色距離（Ｃｕｌ、Ｃｕｆ）おいて、０よりも小さい変動ΔＣｕに対応しており、すなわち、下記に対応している：

したがって、本発明によると、得られた光学システムは、制御された反射色を有する。エレクトロクロミックデバイスと隣接層との間の界面からの入射光の反射によって提供される色である、エレクトロクロミックデバイス及び基材により形成された光学アセンブリの初期色は、光学システムの外部面を形成するコーティングによって制御可能な形で変更される。

光学システムのこの外部面は、他のいかなる層も上に配設されていない面である。以下で詳述されるように、光学システムがグレージング内に組込まれる場合、この外部面は詳細にはグレージングの外部環境に曝露されるか又は、２重グレージング又は３重グレージングタイプのグレージングの内部に含められる可能性がある。

具体的には、特にコーティングから反射された成分を含む、光学システムによる光の全反射が、所与の反射角において最終色を有し、この最終色が、初期色に比べて所望の基準色により近いものとなるように、コーティングの反射色を制御することができる。

コーティングは、光学システムの外部面を形成し、したがって、このコーティングをカバーするために対向基材を提供することも、あるいは全光学システムの他の２つの層間にコーティングを挟むために複雑な製造プロセスを利用することも必要でない。

したがって、本発明に係る光学システムからの反射の色を単純で効果的かつ迅速な方法で制御することが可能である。したがって、この色を、所望の目標色の範囲内に来るように中和又は変更することができる。さらに、コーティングからの反射により、エレクトロクロミックスタックの層の厚み内の不均質性に関係する色の不均質性を減衰させることが可能である。最後に、反射角に伴う観察される色変動を減少させるために反射の色を変更することが可能である。

有利には、色制御コーティングは、予め強化処理されているか否かに関わらず、あらゆる性質そしてあらゆる厚みの基材に適用することができる。好ましくは、これは強化処理を受けていない基材に適用される。これは、透過率に関してあらゆる光学特性を有する基材、詳細には、着色又は無着色基材に対し適用可能である。

以下は、本発明に係る光学システムの他の有利な非限定的特徴である：
－ 第１の反射角ｕにおける光学システムからの光の全反射は、色制御コーティングによって反射された少なくとも１つの光ビームを含み、この反射された光ビームのスペクトルは、少なくとも１つの有効な反射波長範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］内にある少なくとも１つのスペクトル成分を含み、前記有効な反射波長範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］は、前記有効反射範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］内に含まれる波長λｍにおける任意の光量の光学アセンブリによる反射の変動が、前記所定の第１の反射角ｕにおける０より小さい色距離ＣｕｉとＣｕ（λ）との変動ΔＣｕ（λ）を生み出すような形で定義されており、ここで：

式中（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）は、第１の反射角ｕにおける反射における初期色度の初期色座標であり、
Ｃｕｉは、これらの初期色座標（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）とこの第１の反射角ｕにおける前記基準反射色度（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）との間の色距離であり、
（ａ^＊ｕ（λ）；ｂ^＊ｕ（λ））は、前記波長λにおける反射変動の後に得られた第１の反射角ｕにおける反射色度の色座標であり、
Ｃｕ（λ）は、これらの色座標（ａ^＊ｕ（λ）；ｂ^＊ｕ（λ））と第１の反射角ｕにおける前記基準反射色度（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）の色座標との間の色距離である；
－ 前記色制御コーティングによって反射されたビームの、前記有効な反射波長範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］内に含まれるスペクトル成分の光強度が、前記色制御コーティングにより反射されたビームの合計光強度の、好ましくは少なくとも５０％、好ましくは少なくとも５５％、好ましくは少なくとも６０％、好ましくは少なくとも６５％、及び好ましくは少なくとも７０％を構成している；
－ 光学アセンブリの初期色状態は、第１の反射角ｕにおける反射における初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と異なるものである第２の反射角ｖにおける反射における初期色度（ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）を有しており、初期色距離は、前記第１の反射角ｕで観察される前記初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と前記第２の反射角ｖで観察される初期色度（ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）との間で定義されており、反射色制御用コーティングは、光学システムがこの第２の反射角ｖで最終色度（ａ^＊ｖｆ；ｂ^＊ｖｆ）を有する最終色状態を有することになるようなものであり、前記第１の反射角ｕで観察される前記最終色度（ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）と第２の反射角ｖで観察される最終色度（ａ^＊ｖｆ；ｂ^＊ｖｆ）との間の最終色距離は前記初期色距離よりも小さく、これは、前記第１及び第２の反射角における初期色度間の初期色距離と、前記第１及び第２の反射角における最終色度間の最終色距離との間の色距離（Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｉ、Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｆ）において、０よりも小さい変動ΔＣａｎｇ（ｕ、ｖ）に対応している、すなわち、下記に対応している：

－ 前記色制御コーティングは、前記基材と直接接触している；
－ 前記色制御コーティングは、コーティングによって反射された光ビームが反射角及び／又は所定の色状態の関数として、所定の閾値よりも低い色度変動を有するような反射特性を有する材料の少なくとも１つの層を含んでいる；
－ 反射色制御用コーティングによって反射される光ビームの所定の色状態は、ａ^＊及びｂ^＊が少なくとも所定の反射角範囲内で厳密にゼロより低くなるようなものである；
前記色制御コーティングは、下記の中の少なくとも１つの材料の、１～１００ナノメートルの厚みの少なくとも１つの層を含んでいる：
－ ＭＯｘ、ここで、ｘが１～３、好ましくは１．５～２．５であり、ＭがＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｎのうちの１つ；
－ ＮｂＯｘ、ここで、ｘが１．５～３．５、好ましくは２～３；
－ ＭＮｘ、ここで、ｘが０～２、好ましくは０．５～１．５であり、ＭがＮｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
－ ＳｉＮｘ、ここで、ｘが０．７～２、好ましくは１～１．７；
－ ＳｎＮｘ、ここで、ｘが０～１．５、好ましくは０．３～１；
－ ＭＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．２であり、ｙが０～１．２であり、ＭがＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
－ ＭＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．２であり、ｙが０～１．５であり、ＭがＳｉ、Ｓｎのうちの１つ；
－ ＮｂＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．７であり、ｙが０～１．２；
－ Ｍ１Ｍ２ａＯｘＮｙ、ここで、ａが０～１であり、ｘが０～４．４であり、ｙが０～２．４であり、Ｍ１及びＭ２が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
－ ＳｎＺｎａＯｘ、ここで、ａが０～１．２であり、ｘが０～３．５、好ましくは１．８～３．２；
－ 前記色制御コーティングは、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｒＯ２、ＴｉＺｒＯ４、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ３、ＴｉＮ、ＮｂＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＨｆＯ２、ＨｆＮ、ＳｎＮ、ＴｉＯｘＮｙ、ＮｂＯｘＮｙ、ＴｉＺｒＯｘＮｙの中の少なくとも１つの材料の１～１００のナノメートルの厚みの少なくとも１つの層を含む。
－ 反射角ｕにおける光学システムからの全反射の合計光強度の少なくとも２０％、好ましくは少なくとも３０％、好ましくは少なくとも４０％、好ましくは少なくとも５０％、好ましくは少なくとも６０％、好ましくは少なくとも７０％、及び好ましくは少なくとも８０％は、前記色制御コーティングからの反射に起因するものである。

本発明は同様に、光学システムを形成するために光学アセンブリからの反射として観察者が観察するように意図された色を変更するための方法において、前記光学アセンブリは、２つの相対する主要面が備わったグレージング機能基材及び、基材のこれら２つの主要面のうちの１つの上に形成された電気的に制御可能な光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学的機能デバイスを含み、この電気化学的機能デバイスが：
第１の透明導電層、
前記第１の透明導電層の上方に配設された作用電極、
前記作用電極の上方に配設された対向電極、
前記対向電極の上方に配設された第２の透明導電層、
前記エレクトロクロミックスタック内に導入されたリチウムイオン、
及び、好ましくは、電極と対向電極の間の中間にある、イオン伝導体の別個の層、を備えた少なくとも１つのエレクトロクロミックスタックを含み、
第１の所定の反射角ｕにおいて観察される初期色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を有する初期色状態から、この第1の反射角ｕにおいて観察される最終色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）を有する最終色状態まで、色を変更する方法であって、この最終色状態は初期色状態に比べて、前記第１の反射角ｕにおける基準色度（Ｌ^＊ｕｒｅｆ；ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）を有する基準色状態により近く、
前記第１の反射角ｕにおいて、初期色度と基準色度の間及び他方では最終色度と基準色度の間の色距離（Ｃｕｌ、Ｃｕｆ）の変動ΔＣｕが、０よりも小さくなるように、すなわち、下記となるように、前記光学システムの基材の他方の主要面上に反射色制御用コーティングを配設することによって反射特性を変更する少なくとも１つの工程を含む方法にも関する：

したがって、本発明に係る方法によると、所与の光学アセンブリの色を変更することによって、本発明に係る光学システムを容易に得ることが可能である。

有利にも、前記初期色状態は、前記第１の反射角ｕで観察される前記初期色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と第２の反射角ｖで観察される初期色度（Ｌ^＊ｖｉ；ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）との間の初期色距離を有し、前記方法は、前記第１及び第２の反射角における初期色度間の初期色距離と、前記第１及び第２の反射角における最終色度間の最終色距離との間の色距離（Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｉ、Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｆ）の変動ΔＣａｎｇ（ｕ、ｖ）が、０よりも小さくなるような形で、すなわち、下記となるような形で、前記光学アセンブリの外側面の反射特性を変更する少なくとも１つの他の工程を含む：

本発明は同様に、上述のような光学システムの製造方法にも関する。

本発明は同様に、建築用グレージング、詳細には、内部間仕切り又はグレージング入り扉の外部グレージングとして、列車、航空機、自動車又は船などの輸送手段の内部間仕切り又は窓に備わったグレージングとして、コンピュータスクリーン又はＴＶスクリーンなどの表示スクリーン内のグレージングとして、又はカメラのレンズ内での、又はソーラーパネルを保護する目的での、上述のような光学システムの使用にも関する。

非限定的な例として提供されている添付図面を参照して提供される以下の説明によって、本発明がどのようなものであり、それをどのように実施できるかを明確に理解することが可能となる。

図１は、人間の目の中に存在する光感受性ある桿体視細胞及び錐体視細胞のスペクトル感度を例示するグラフである。 図２は、同じクロマの色の観察に導く２つの光スペクトルを示すグラフである。 図３は、入射放射線の波長の関数としての人間の目の感度のグラフ表示である。 図４は、グレージング機能基材及びエレクトロクロミックスタックを含む光学アセンブリの部分断面図である。 図５は、図１の光学アセンブリ及び反射色制御用コーティングを含む、本発明に係る光学システムの部分断面図である。 図６は、ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間内で、本発明の１つの特定の実施形態に係る図１の光学アセンブリの反射色の変更を例示するグラフである。 図７は、反射色制御用コーティングからの光の反射係数Ｒｏｕｔの関数としての本発明に係る光学システムからの光の全反射係数Ｒｔｏｔの変動、及び、基材とエレクトロクロミックスタックとの間の界面からの光の反射係数のさまざまな値について、かつ反射色制御用コーティングからの光の反射係数Ｒｏｕｔの関数としての光学システムからの光の全反射に対する反射色制御用コーティングからの光のこの反射係数Ｒｏｕｔの寄与の変動、を例示するグラフである。 図８は、ＳａｇｅＧｌａｓｓ（登録商標）グレージング上に被着された時点で、角度依存性Ｃ^＊（０°～６０°）が５未満で反射における光学アセンブリのＣＩＥＬＡＢシステム内の色座標ａ^＊及びｂ^＊がマイナスになるようなカラーシフトを生成するのに好適な色制御コーティングを形成するためのＴｉＯ２とＳｉＯ２の厚み対を示し、かつこの同じ基材上に被着させられたこのコーティングの反射係数を標示するグラフである。 図９は、ＳａｇｅＧｌａｓｓ（登録商標）グレージング上に被着された時点で、角度依存性Ｃ^＊（０°～６０°）が５未満で反射における光学アセンブリのＣＩＥＬＡＢシステム内の色座標ａ^＊及びｂ^＊がマイナスになるようなカラーシフトを生成するのに好適な色制御コーティングを形成するためのＳｉＮとＳｉＯ２の厚み対を示し、かつこの同じ基材上に被着させられたこのコーティングの反射係数を標示するグラフである。

予備的備考として、全ての図において、本発明のこれらのさまざまな実施形態の同一の又は類似の要素は、同じ参照符号で参照指示されており、毎回説明されない、という点が指摘されるものとする。

本発明の複数の特定の実施形態について、以下で説明する。本発明はいかなる形であれ、これらの特定の実施形態によって限定されず、他の実施形態も完全に充分利用可能である、ということが理解されるものである。

図５に例示されているように、本発明は、少なくとも以下の光学的要素を含む光学システム１０に関する：
－ ２つの相対する主要面１１、１２が備わったグレージング機能基材１及び、これら２つの主要面のうちの１つ１１の上に形成された電気的に制御可能な光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学的機能デバイスを含む光学アセンブリ（５０）、及び
－ 反射色制御用コーティング３であって、基材１の他方の主要面１２上に形成され、前記光学システム４０の外部面４１を形成するコーティング。

ここで電気化学的機能デバイスは、下記を備えた少なくとも１つのエレクトロクロミックスタック２を含む：
－ 第１の透明導電層、
－ 前記第１の透明導電層の上方に配設された作用電極、
－ 前記作用電極の上方に配設された対向電極、
－ 前記対向電極の上方に配設された第２の透明導電層、
－ 前記エレクトロクロミックスタック内に導入されたリチウムイオン、及び
－ 好ましくは、電極と対向電極の間の中間にある、イオン伝導体の別個の層。

別の層の「上方」又は「下方」への層の配設は、ここでは必ずしも、これら２つの層が互いに直接接触していることを意味しない。ここで「上方」及び「下方」なる用語は、グレージング機能基材との関係において任意に選択されるこれらのさまざまな要素の配設順序を意味する。したがって、代替的には、このような配設順序は、この同じ基材との関係において逆転されてもよい。さらに、互いの上下に被着された２つの層は、例えば、１つ以上の中間層によって物理的に分離されてよい。同様にして、「～の間」なる用語は、必ずしも３つの指定された要素が互いに直接接触することを意味しない。同様にして、「～の上に形成された」なる表現は、層が別の層の所与の側に設置されるという事実を表現するために使用される。この表現は、問題の層が他方の層の上に「直接」形成されることを暗示するものではない。前記層と他方の層の間には、他の中間層を配設することができる。

構造的観点から見ると、公知の通り、エレクトロクロミックスタックは、２つの透明導電層の間の中間にある２つの電極を含む。これらの電極のうち少なくとも１つは、本質的に、イオン及び電子の可逆的かつ同時のインタカレーションに好適であるエレクトロクロミック材料で作られており、インタカレーション及び脱インタカレーション状態に対応する酸化状態は、異なる色合いを有し、一方の状態は他方の状態よりも高い光透過率を有する。インタカレーション又は脱インタカレーション反応は、２つの透明導電層を用いて制御され、その電力供給は、電流発生器又は電圧発生器によって提供される。

作用電極は、エレクトロクロミックシステムの端子を横断して電圧が印加された場合にイオンを捕捉するのに好適であるカソードエレクトロクロミック材料で作られている。作用電極の着色状態はその最も還元された状態に対応している。

作用電極との関係において対称的に、対向電極内へのカチオンの可逆的インタカレーションも同様に可能である。換言すると、この対向電極はこうしてエレクトロクロミックシステムの端子を横断して電圧が印加された時点でイオンを失うことができる。この対向電極は、中性色の層あるいは、少なくとも、作用電極がクリア状態にある場合には高度に有色でなく、好ましくはその着色状態とそのクリア状態の間でエレクトロクロミックスタックの全体的コントラストを増大させるような酸化状態での色を有する層である。

作用電極及び対向電極は、イオン伝導体及び電気絶縁体という２重の機能を有する「電解質」と一般的に呼ばれている（ただしイオン伝導体（ＩＣ）としても知られている）界面領域によって分離される。したがって、イオン伝導体層は、作用電極と対向電極の間のあらゆる短絡を防止する。さらに、イオン伝導体層は２つの電極が電荷を保持し、こうしてそれらのクリア状態及び着色状態を保つことを可能にする。

１つの特定の実施形態によると、イオン伝導体層は、別個の中間層を作用電極と対向電極の間に被着させることによって形成される。これら３つの層の間の限界は、組成及び／又は微細構造の急激な変化によって定義される。したがって、このようなエレクトロクロミックスタックは、２つの別個の急激な界面によって分離された少なくとも３つの別個の層を有する。イオン伝導体層は、ゲル化溶液及び／又はイオン伝導性ポリマ及び／又はマグネトロンカソードスパッタリング、ＣＶＤ又はゾル－ゲルプロセスによって被着された１つ以上の鉱物層の形をとり得る。

代替的には、作用電極及び対向電極は、互いの上下にかつ互いに接触して被着され、その後に初めて、電解質機能を有する遷移領域が、製造プロセス中、詳細にはスタックの加熱段階中に電極内部で構成成分の移動を介して形成される。

電気化学的機能デバイスの前記第１及び第２の透明導電層は、ＳｎＯ２：Ｆ又はＩＴＯのコーティングなどの１つ以上の透明な導電性コーティングを含み得る。

好ましくは、ここで、エレクトロクロミックスタック２は、前記基材１と直接接触する。

一変形形態として、基材１とエレクトロクロミックスタック２の間には１つ以上の中間層が配設されてよい。

グレージング機能基材は詳細には、グレージング製造に好適である任意の材料でできていてよい。詳細には、それは、ガラス化された材料、ガラス又は好適なプラスチックであり得る。

基材は、強化処理されてもされなくてもよい。基材は任意の厚みを有していてよい。基材は任意の光学特性を有していてよく、詳細には、着色されてもされなくてもよい。

好ましくは、色制御コーティング３は、前記基材１と直接接触し、光学システム４０の外部面４１を画定する。

一変形形態として、１つ以上の中間層が基材１とコーティング３の間に配設され得る。

コーティング３は、あらゆる場合において、光学システム４０の外部面４１を形成する。

本発明に係る光学システムは、エレクトロクロミックスタック２及びコーティング３の被着後に強化処理されることになる光学システムの開発という状況において極めて有利である。コーティング３は、このとき、好ましくは、強化処理に耐えることができる。

光学システムは同様に、好ましくは強化処理工程に耐えることのできるエレクトロクロミックスタックも含んでいる。任意には、エレクトロクロミックスタックを保護するための層を追加してもよい。

以下では、光学アセンブリ５０又は光学システム４０の色又は色状態について、公知のＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間（一般にＣＩＥＬＡＢ色空間と呼ばれる）を用いて説明する。ここで：
－ 成分Ｌ^＊は、明度であり、０（黒）から１００（白）まで測定され、
－ 成分ａ^＊は、緑色（－３００）から赤色（＋２９９）までの範囲内にある、１本の軸上の６００レベルの範囲を表わし、
－ 成分ｂ^＊は、青色（－３００）から黄色（＋２９９）までの範囲内にある、１本の軸上の６００レベルの範囲を表わす。

このような色空間の成分ａ^＊及びｂ^＊は、例えば図６に示されている。

基材１及び電気化学的機能デバイスを含む光学アセンブリ５０は、基材側で反射角ｕでの反射における初期色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を有する初期色状態を有する。この光学アセンブリ５０は、図４に概略的に示されている。座標（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）は、反射角ｕでの光学アセンブリ５０の反射における初期色度の初期色座標である。

基材１の側から光学アセンブリ５０上に入射する光ビームＬＩは、部分的に反射される。この入射ビームの全反射は、角度ｕで反射された光ビームＬＲｉ（ｕ）を含む。

角度ｕで反射されたこの光ビームＬＲｉ（ｕ）は主として、空気／基材界面からすなわち光学アセンブリ５０の外部面から反射された成分ＬＲ１と、電気化学的機能デバイスと基材１の間の界面から反射された成分ＬＲ２を含む。角度ｕで反射された光ビームＬＲｉ（ｕ）は、初期スペクトルＳＩを有する。

本発明に係る光学システム４０は、この反射角ｕでの反射において最終色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）を有する最終色状態を有する。座標（ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）は、反射角ｕでの光学システム４０の反射における最終色度の最終色座標である。

コーティング３の側から光学システム４０上に入射する光ビームＬＩは、部分的に反射される。この入射ビームの全反射は、角度ｕで反射された光ビームＬＲｆ（ｕ）を含む。

角度ｕで反射されたこの光ビームＬＲｆ（ｕ）は、色制御用コーティング３から反射された成分ＬＲＣを含む。このコーティング３のナノスケールの厚みのため、このコーティング３が１回の反射しか引き起こさないことが一般に認められている。それはさらに、電気化学的機能デバイスと基材１の間の界面から反射された成分ＬＲ２を含む。

角度ｕで反射された光ビームＬＲｆ（ｕ）は最終スペクトルＳＦを有する。

特筆すべきことに、光学システム４０は、光学アセンブリ５０の初期色状態に比べて、前記反射角ｕにおいて基準色度（Ｌ^＊ｕｒｅｆ；ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）を有する基準色状態により近い。

概して、選択された基準色度（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）は、技術的かつ／又は美観上の理由から、反射において得られるべき特定の色に対応している。座標（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）は、反射角ｕでの光学アセンブリ５０の反射における基準色度の基準色座標である。

ＣＩＥＬＡＢ色空間において、反射角ｕでの基準色座標（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）と初期色座標（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）との間の初期色距離Ｃｕｉは、以下の等式を満たす：

反射角ｕにおける基準色座標（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）と最終色座標（ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕ^＊ｕｆ）との間の最終色距離Ｃｕｆは、以下の等式を満たす：

したがって、光学システム４０の最終色状態は、所定の反射角ｕにおいて、初期色度と基準色度の間及び最終色度と基準色度の間の色距離（Ｃｕｉ、Ｃｕｆ）の変動ΔＣｕが０より小さくなるようなもの、すなわち、下記のようなものである。

したがって、図６に例示されている実施例では、光学アセンブリ５０の反射としての初期色のクリア状態で測定された値（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）は（－１０，４８０５；１０，９１８３）であり、これは、黄緑色に対応する。この値は、ここでは、正方形で表わされている。他の実施形態では、反射角ｕでの反射におけるこの初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）は、本発明の精神から逸脱することなく、可視スペクトル全体の任意の値であってよい。

基準色度は、得ようとしている基準色に関係する。それは、最終色度（ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）に対応する角度ｕでの反射における光学システム４０の「最終色」とは異なるものである。ここで、基準色度は、角度ｕでの反射における光学アセンブリの初期色度、及びコーティング３の色度、すなわちこのコーティングの反射色によって左右される。

初期色距離Ｃｕｉは、図６中に示された色空間内で初期色点（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）から選択された基準色点（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）まで延在するベクトルのノルムに対応する。

同様にして、最終色距離Ｃｕｆは、図６中に示された色空間内で最終色点（ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）から選択された基準色点（ａ^＊ｒｅｆ；ｂ^＊ｒｅｆ）まで延在するベクトルのノルムに対応する。

ここでより詳細に説明される実施例においては、基準色度（ａ^＊ｒｅｆ；ｂ^＊ｒｅｆ）は、緑青色に対応する。しかしながら、他の実施形態によると、反射角ｕでの反射におけるこの基準色度（ａ^＊ｒｅｆ；ｂ^＊ｒｅｆ）は、本発明の精神から逸脱することなく、全可視スペクトル中の任意の値であってよい。

反射角ｕでの光学システム４０からの全反射の合計光強度の、好ましくは少なくとも２０％、好ましくは少なくとも３０％、好ましくは少なくとも４０％、好ましくは少なくとも５０％、好ましくは少なくとも６０％、好ましくは少なくとも７０％、及び好ましくは少なくとも８０％が、前記色制御コーティング３による反射に起因する。

換言すると、コーティング３によって反射された光ビームＬＲＣは、好ましくは、光学システム４０によって反射される全光ビームの主成分である。

結果として、エレクトロクロミックスタック内の厚みの小さな変動に起因する反射された色の不均一性が、こうして制限される。

その上、コーティングからの反射が反射ビームの大部分を形成するようにコーティングの光学特性を好適な形で選択することによって、一方では、所定の反射色を光学システムに提供し、他方では、反射角に応じた反射された色の変動を制限することが可能である。

空気中の反射係数が低い場合でも、コーティング３は、それが充分に有色である場合、観察される反射色を変更することを可能にする。

図７は、一方では、反射色制御用コーティング３からの光の反射係数Ｒｏｕｔの関数としての本発明に係る光学システム４０からの光の全反射係数Ｒｔｏｔの変動、そして他方では、反射色制御用コーティング３からの光の反射係数Ｒｏｕｔの関数としての光学システム４０からの光の全反射に対する反射色制御用コーティング３からの光のこの反射係数Ｒｏｕｔの寄与の変動を例示するグラフを示す。これらの表示は基材１とエレクトロクロミックスタック２との間の界面からの光の反射係数Ｒｉｎのさまざまな値について示されている。

ここで、全反射係数Ｒｔｏｔは、反射された光ビームＬＲｆ及び入射光ビームＬＩの強度比として定義される。

ここで、反射色制御用コーティング３からの光の反射係数Ｒｏｕｔは、コーティング３により反射された光ビームＬＲＣの強度と入射光ビームＬＩの強度の比として定義される。

基材とエレクトロクロミックスタックの間の界面からの光の反射係数Ｒｉｎは、この界面により反射される光ビームＬＲ２と入射光ビームＬＩの強度比として定義される。

コーティング３が無い場合、空気／基材界面からの反射係数は、およそ４％に等しく、反射は無色である。座標（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）はこのとき（０、０）に近い。この反射は、基材１とエレクトロクロミックスタック２の間の界面によって反射された光ビームの色を部分的に中和する。

例えば、光学アセンブリ５０を形成するＳａｇｅ Ｇｌａｓｓ（登録商標）グレージング内に組込まれたものといった光学アセンブリの場合、基材１とエレクトロクロミックスタック２の間の界面における反射係数Ｒｉｎは非常に低く、約２％に等しい。これらの条件下で、コーティングからの反射係数Ｒｏｕｔは５％に等しく、合計反射係数ＲｔｏｔＩは約７％である。したがって、コーティング３からの反射は、コーティング３及び光学アセンブリ５０によって形成された光学システム４０からの合計反射の７０％超に寄与する。

係数Ｒｉｎがさらに高く、例えば５％に等しい場合、類似の寄与を保証するため、約２０％の合計反射係数Ｒｔｏｔに対して、係数Ｒｏｕｔは１５％より高くなければならない。

本発明に係る光学システム４０においては、空気／基材界面における反射係数は、コーティング３を追加することによって変更される。

反射角ｕで本発明に係る光学システム４０によって反射されたビームＬＲｆ（ｕ、λ）を波長λについて得るために、反射角ｕで光学アセンブリ５０によって反射される光ビームＬＲｉ（ｕ、λ）を波長λについて変更することにより、波長λでの反射の変更後の反射における色度（ａ^＊ｕ（λ）；ｂ^＊ｕ（λ））と初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）の間のこの色距離の変動ΔＣｕ（λ）がひき起こされる。

座標（ａ^＊ｕ（λ）；ｂ^＊ｕ（λ））は、前記波長λで達成された反射の変動後に得られる反射角ｕでの反射における色度の色座標である。

これらの色座標（ａ^＊ｕ（λ）；ｂ^＊ｕ（λ））と、反射角ｕでの反射における前記基準色度（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）の色座標との間の色距離は、Ｃｕ（λ）と記す。

この色距離変動は、光学システム４０の反射色が、反射色制御用コーティング無しの光学アセンブリ５０の色に比べて、所望の基準色により近いものであるという事実を表現している。この変動ΔＣｕ（λ）は、以下の等式を満たす：

このために、反射角ｕで反射色制御用コーティング３により反射される光ビームＬＲＣのスペクトルは、有効反射波長範囲（［λｍｉｎ；λｍａｘ］）内にある少なくとも１つのスペクトル成分を含み、前記有効反射波長範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］は、前記有効反射範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］内に含まれる波長λでの任意量の光の光学アセンブリ５０による反射の変更が、所定の反射角（ｕ）で０より小さい、すなわちΔＣｕ（λ）＜０である色距離Ｃｕｉ、Ｃｕ（λ）の変動ΔＣｕ（λ）を生み出すような形で定義される。

前記有効反射波長範囲は、詳細には、単一の連続する波長範囲又は互いに別個である複数の波長範囲を含み得る。この複数の波長範囲は、最適な波長範囲セットを形成する。

したがって、電気化学的機能デバイス２が上に形成される主要面１１とは反対側である基材１の主要面１２上への反射色制御用コーティング３の配設は、光学アセンブリ５０からの全反射のスペクトルを変更する。より詳細には、光学アセンブリ５０からの全反射のこのスペクトルは、本発明に係る光学システムからの全反射のスペクトルを得るように変更される。

一実施形態によると、反射角ｕで、コーティング３により反射された光ビームＬＲＣは、前記有効反射範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］内に含まれる少なくとも１つの波長λでより大きい光量を含む。この有効反射範囲は、この範囲内に含まれる波長で反射される光量の増加が、反射角ｕでの色度を基準色度にさらに近づけるこの色度の変動をひき起こすような形で、定義される。換言すると、この範囲内に含まれる波長で反射される光量の増加により角度ｕで観察される色変動がひき起こされ、これにより得られた光学システムの色は基準色にさらに近づくことになる。

ここで「光量の増加」とは、問題の波長λでの光強度の増加を意味する。

別の実施形態によると、反射角ｕで、コーティング３により反射された光ビーム、詳細には、コーティング３により反射された光ビームＬＲＣは、前記有効反射範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］内に含まれる少なくとも１つの波長λにおいてより少ない光量を含む。この有効反射範囲は、この範囲内に含まれる波長で反射される光量の減少が、反射角ｕでの色度を基準色度にさらに近づけるこの色度の変動をひき起こすような形で定義される。換言すると、この範囲内に含まれる波長で反射される光量の減少により角度ｕで観察される色変動がひき起こされ、これによって得られた光学システムの色は基準色にさらに近づくことになる。

ここで「光量の減少」とは、問題の波長λでの光強度の減少を意味する。

負のΔＣｕ（λ）値は、初期の色を所望のものにさらに近づかせることのできる、光学システム５０に対するコーティング３の追加後の、波長λにおける角度ｕでの反射色変動を表わし、得られた色は初期の色に比べて所望の基準色に「さらに近い」ものである。反対に、正のΔＣｕ（λ）値の獲得は、初期の色との関係における所望の色、すなわち基準色の離隔を表現する。

図６に例示されているＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間を参照すると、負のΔａ^＊ｕ値は、反射角ｕにおける緑に向かう色変動を表わし、一方正のΔａ^＊ｕ値は、反射角ｕにおける赤に向かう色変動を意味する。同じ論法によると、負のΔｂ^＊ｕ値は、反射角ｕにおける青に向かう色変動を表わし、一方正のΔｂ^＊ｕ値は反射角ｕにおける黄に向かう色変動を意味する。

反射角ｕでの反射色変動（Δａ^＊ｕ（λ）；Δｂ^＊ｕ（λ））は、それぞれ、以下の等式によって定義される：
Δａ^＊ｕ（λ）＝ａ^＊ｕ（λ）－ａ^＊ｕｉ、及び
Δｂ^＊ｕ（λ）＝ｂ^＊ｕ（λ）－ｂ^＊ｕｉ。

これら２つの等式、ΔＣｕ（λ）を定義する前述の等式及びａ^＊ｕｉ、ａ^＊ｕｒｅｆ、ｂ^＊ｕｉ及びｂ^＊ｕｒｅｆの公知の値を用いて、コーティング３の追加の結果としての色距離の変動ΔＣｕ（λ）を計算することは容易である。

したがって、例えば、有効吸収範囲（λｍｉｎ；λｍａｘ）内に含まれる波長λでの任意の光量の反射変動が角度ｕにおける初期色を角度ｕにおける基準色に向かってシフトさせる変更、あるいは換言すると０より小さい色距離（Ｃｕｉ、Ｃｕ（λ））の変動ΔＣｕ（λ）を生み出す有効吸収範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］が、決定されることになる。

反射波長に応じて光学アセンブリ５０にコーティング３を追加することで観察される反射色変動（Δａ^＊ｕ（λ）；Δｂ^＊ｕ（λ））に関しては、この基準を満たす有効反射範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］を決定することができる。

好ましくは、反射角ｕで色制御コーティング３によって反射され前記有効反射波長範囲［λｍｉｎ；λｍａｘ］内に含まれるビームＬＲＣのスペクトル成分の光強度は、前記色制御コーティング３によって反射角ｕで反射されたビームＬＲＣの合計光強度の少なくとも５０％、好ましくは少なくとも５５％、好ましくは少なくとも６０％、好ましくは少なくとも６５％、好ましくは少なくとも７０％、好ましくは少なくとも７５％、好ましくは少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、及び好ましくは少なくとも９０％を構成する。

したがって、入射光ビームの反射の変更は、有効に達成される。

問題のいずれの反射角についても同様に、類似の条件が求められ得ると考えられる。

その上、色制御コーティング３による入射ビームの反射の変更は同様に、観察される反射色の角度依存性を制限できる可能性がある。

したがって、光学アセンブリ５０の初期色状態は概して、反射角ｕでの反射における初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）とは異なるものである反射角ｕと異なる別の反射角ｖでの反射における初期色度（ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）を有する。初期色座標（ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）は、他の反射角ｖでの光学アセンブリ５０からの反射における初期色度の色座標である。

前記反射角ｕで観察される前記初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と前記反射角ｖで観察される初期色度（ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）との間で、初期色距離が定義される。

有利には、反射色制御用コーティング３は、本発明に係る光学システム４０が、この他方の反射角ｖでの反射における最終色度（ａ^＊ｖｆ；ｂ^＊ｖｆ）を有する最終色状態を有し、こうして、前記反射角ｕで観察される前記最終色度（ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕ^＊ｕｆ）と前記他方の反射角ｖで観察される最終色度（ａ^＊ｖｆ；ｂ^＊ｖｆ）との間の最終色距離Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｆが、前記反射角ｕで観察される前記初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と前記他方の反射角ｖで観察される初期色度（ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）との間の前記初期色距離Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｉよりも小さくなるようなものである。

最終色座標（ａ^＊ｖｆ；ｂ^＊ｖｆ）は、他の反射角ｖでの反射における最終色度の色座標である。

これは、一方では問題の前記別個の反射角での初期色度間の初期色距離Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｉと、他方では前記第１及び第２の反射角での最終色度間の最終色距離Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｆとの間の、０より小さい色距離変動ΔＣａｎｇ（ｕ、ｖ）、すなわち、下記に対応する：

前記色制御コーティング３は、このコーティング３によって反射された光ビームＬＲＬが反射角及び／又は所定の色状態の関数として、所定の閾値よりも低い色度変動を有するような反射特性を有する材料の少なくとも１つの層を含んでいる。

詳細には、前記コーティング３は、その色又は換言するとその色状態が、変更すべき光学アセンブリのものに比べて基準色により近いものとなるように、かつ、コーティング３のこの色の角度依存性が、光学アセンブリ５０の反射色の角度依存性よりも低くなるように、すなわち、反射角の関数としてのコーティング３の色度変動が、光学アセンブリ５０の反射角の関数としての色度の変動よりも小さくなるように定義される。

ここで詳述されている実施例において、反射色制御用コーティング３により反射された光ビームＬＲＣの所定の色状態は、ａ^＊とｂ^＊が、少なくとも反射角ｕの所定の範囲（ｕ１、ｕ２）内で厳密にゼロより低くなるようなものである。

ここで、これにより光学アセンブリの初期の黄緑色を青緑色に変化させることが可能である。

さらに、反射色制御用コーティング３により反射された光ビームＬＲＣの所定の色状態は、０°～６０°の反射角での色度間の距離Ｃ^＊（０°～６０°）が５未満となるようなものである。したがって、反射角の関数としての色度の変動は、さまざまな反射角での色度間の反射における色距離によって定量化可能である。反射角の関数としてのこの色距離は、ここでは５に等しい所定の閾値よりも小さい。所定の閾値はさらに、８より低い任意の値に等しく設定され得ると考えられる。

比較として、先行技術に係るエレクトロクロミックスタックが備わった一部の基材は、およそ１２．７±１に等しい０°及び６０°の反射角での色度間距離Ｃ^＊（０°～６０°）を有する。

ここでは、０°及び６０°の反射角での色度間距離の値が使用されているが、例えば８～６０°のさまざまな反射角での色度間距離の他の値を使用してもよい。２つの異なる反射角での色度間距離が２以上である場合に、人間の目により色の変動が知覚されると考えられている。

本発明に係る光学システム４０の一実施形態によると、前記色制御コーティング３は、以下のものからの少なくとも１つの材料の、１～１００ナノメートルの厚みの少なくとも１つの層を含む：
－ ケイ素、チタン、ジルコニウム、ハフニウム又はスズ酸化物ＭＯｘ、ここで、ｘが１～３、好ましくは１．５～２．５であり、ＭがＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｎのうちの１つ；
－ 酸化ニオブＮｂＯｘ、ここで、ｘが１．５～３．５、好ましくは２～３；
－ ニオブ、チタン、ジルコニウム又はハフニウム窒化物ＭＮｘ、ここで、ｘが０～２、好ましくは０．５～１．５であり、ＭがＮｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
－ 窒化ケイ素ＳｉＮｘ、ここで、ｘが０．７～２、好ましくは１～１．７；
－ 窒化スズＳｎＮｘ、ここで、ｘが０～１．５、好ましくは０．３～１；
－ チタン、ジルコニウム又はハフニウムのオキシ窒化物ＭＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．２で、ｙが０～１．２であり、ＭがＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
－ ケイ素又はスズのオキシ窒化物ＭＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．２で、ｙが０～１．５であり、ＭがＳｉ、Ｓｎのうちの１つ；
－ オキシ窒化ニオブＮｂＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．７で、ｙが０～１．２；
－ ２つの化合物Ｍ１及びＭ２のオキシ窒化物Ｍ１Ｍ２ａＯｘＮｙ、ここで、ａが０～１、ｘが０～４．４、ｙが０～２．４であり、Ｍ１及びＭ２がＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
－ スズ－ジルコニウムオキシ窒化物、ＳｎＺｎａＯｘ、ここで、ａが０～１．２、ｘが０～３．５、好ましくは１．８～３．２。

詳細には、コーティング３は好ましくは、以下の化合物のうちの少なくとも１つの化合物の少なくとも１つの層を含む：ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｒＯ２、ＴｉＺｒＯ４、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ３、ＴｉＮ、ＮｂＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＨｆＯ２、ＨｆＮ、ＳｎＮ、ＴｉＯｘＮｙ、ＮｂＯｘＮｙ、ＴｉＺｒＯｘＮｙ。

概して、コーティング３は、例えば１．８超という高い屈折率ｎの材料の一層、又は高低屈折率の材料層の交番を含む。低屈折率の材料は、１．８未満の屈折率を有する。各層の厚みは、１００ナノメートル未満、好ましくは９０ナノメートル未満、好ましくは８０ナノメートル未満、好ましくは７０ナノメートル未満、好ましくは６０ナノメートル未満、好ましくは５０ナノメートル未満、及び好ましくは４０ナノメートル未満である。コーティングの合計厚みは、好ましくは１ミクロン未満、好ましくは１００ナノメートル未満、好ましくは９０ナノメートル未満、好ましくは８０ナノメートル未満、好ましくは７０ナノメートル未満、好ましくは６０ナノメートル未満、好ましくは５０ナノメートル未満、及び好ましくは４０ナノメートル未満である。

概して、厚みの小さい層、すなわち１００ｎｍ未満、好ましくはそれよりも小さい厚みの層をコーティング３内に使用することには、より大きい厚みのいわゆる「厚い」層の場合に比較して複数の技術的利点がある。

具体的には、層を被着させるのに使用されるプロセスに関する不確実性は、層の厚みと共に変動する。したがって、実際には、このような不確実性は、被着すべき層の厚みの所与の百分率（典型的には５％又は１０％）で表現される。この層の厚みが増大した場合、潜在的な厚み変動も同様に絶対値で増大し、逆も同様である。換言すると、いわゆる「厚い」層を均一に被着させることは、相対的により複雑である。したがって、小さい厚みの層の被着は、変動の影響がより少ないプロセスであり、したがってより安定したものである。

ところで、たとえ最小限のものであっても、層の厚みのあらゆる変動が、反射におけるその色的外観の無視できない変動を生み出す。したがって、全体として考慮した場合、いわゆる「厚い」層は、反射における色変動をより多く示す。

対照的に、小さい厚みの層の被着は、これらの色変動を制限できるようにし、したがって、反射において相対的により均一な外観を得ることを可能にする。

このことは、観察者が観察角度を変更する場合になおさら言えることであり、層の「半径方向の」色の均一性はこれらの局所的な厚み変動に対して非常に敏感である。

詳細には、コーティング３は、これらの材料のうちの１つの材料の単一層を含んでいてよく、あるいは、これらの材料の交番する複数の層を含んでいてもよい。詳細には、コーティング３は、窒化ケイ素ＳｉＮｘ及び酸化ケイ素ＳｉＯｘの1つ以上の層、又は酸化チタンＴｉＯｘ及び酸化ケイ素ＳｉＯｘの１つ以上の層を含んでいてよい。

これらの材料の各々は、水分又は摩擦などの環境条件に充分に耐えると同時に光学システムを強化処理するのに好適な温度までの加熱にも耐えることを可能にする特性を有する。

詳細には、ここで説明されている実施例に関しては、さまざまな考えられる色制御コーティング３の特性は、光学的モデリングによって決定された。これらのコーティング３は、上述の基準を満たしている：すなわち、これらのコーティングは、ａ^＊＜０及びｂ^＊＜０となるような色座標を有する反射における色状態、及び例えば０～６０°の反射角で観察される色度間の色距離が５未満すなわちＣ^＊（０°～６０°）＜５である色の低い角度依存性を有する。

一実施形態によると、コーティング３は、ａ^＊＜０及びｂ^＊＜０となるような色状態を有する１～６５ナノメートルの厚みの窒化ケイ素ＳｉＮｘ層を含むことができる。このコーティングで覆われたガラス基材の反射係数Ｒｔｏｔは８～２２％であり、コーティングからの反射係数Ｒｏｕｔは０％～１８％である。０°～６０°の角度依存性は、３未満、すなわちＣ^＊（０°～６０°）＜３である。

別の実施形態によると、コーティング３は、ａ^＊＜０及びｂ^＊＜０となるような色状態を有する厚み２５～５５ナノメートルの二酸化チタンＴｉＯ２層を含む。このコーティングで覆われたガラス基材の反射係数Ｒｔｏｔは２１．５％～３４．５％であり、コーティングからの反射係数Ｒｏｕｔは１９％～３２％である。０°～６０°の角度依存性は、４未満、すなわちＣ^＊（０°～６０°）＜４である。

別の実施形態によると、コーティング３は、酸化チタンＴｉＯｘ層及び酸化ケイ素ＳｉＯｘ層を含む。

０°～６０°の角度依存性が５未満すなわちＣ^＊（０°～６０°）＜５で、ａ^＊＜０及びｂ^＊＜０となるような色状態を有する酸化ケイ素ＳｉＯｘ及び酸化チタンＴｉＯｘの厚みの組合せは、図８にグラフで示されている。

この図８は同様に、ガラス基材上に被着された得られたコーティングからの反射係数Ｒｔｏｔを概略的に示している。

１５ナノメートルの酸化チタンＴｉＯｘの層と４５ナノメートルの酸化ケイ素ＳｉＯｘの層で極めて有利な特性を有するコーティングが得られる。

別の実施形態によると、コーティング３は、窒化ケイ素ＳｉＮｘ層と酸化ケイ素ＳｉＯｘ層を含む。

０°～６０°の角度依存性が５未満すなわちＣ^＊（０°～６０°）＜５で、ａ^＊＜０及びｂ^＊＜０となるような色状態を有する窒化ケイ素ＳｉＮｘ及び酸化ケイ素ＳｉＯｘ層の厚みの組合せは、図９にグラフで示されている。この図９は同様に、ガラス基材上に被着された得られたコーティングからの反射係数Ｒｔｏｔを概略的に示している。

極めて有利な特性を有する別のコーティングが、３０ナノメートルの窒化ケイ素ＳｉＮｘの層及び３０ナノメートルの酸化ケイ素ＳｉＯｘの層で得られる。

他の企図可能なコーティングは、各層の化学的組成、層厚み、層数及び相対的配設を変動させることによって達成され得る。

当業者にとって公知のさまざまな手段を介してコーティングの各層を基材上に配設することができる。

これは、特に、マグネトロン被着又は湿式プロセスを用いた被着であり得る。

本発明は同様に、以上で説明されたもののような光学システム４０を形成するために光学アセンブリ５０からの反射として観察者が観察するように意図された色を変更するための方法において、第1の所定の反射角ｕにおいて観察される初期色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を有する初期色状態から、この第1の反射角ｕにおいて観察される最終色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）を有する最終色状態まで、色を変更する方法にも関し、この最終色状態は、初期色状態に比べて、前記第1の反射角ｕにおける基準色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を有する基準色状態により近いものである。

この方法は、初期色度と基準色度の間及び最終色度と基準色度の間の色距離（Ｃｕｌ、Ｃｕｆ）の変動ΔＣｕが、反射角ｕにおいて０よりも小さくなるように、前記光学システム４０の基材１の他方の主要面１２（すなわちエレクトロクロミックスタック２が形成される主要面１１とは反対側の面）上に反射色制御用コーティング３を配設することによって光学アセンブリ５０の反射特性を変更する少なくとも１つの工程を含む。この工程は、光学システムの反対色を目標の基準色により近づけることを可能にする。

前記初期色状態は、反射角ｕで観察される前記初期色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と別の反射角ｖで観察される初期色度（Ｌ^＊ｖｉ；ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）との間の初期色距離を有しており、前記方法は、前記第１及び第２の反射角における初期色度間の初期色距離Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｉと、前記第１及び第２の反射角における最終色度間の最終色距離Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｆとの間の色距離の変動ΔＣａｎｇ（ｕ、ｖ）が、０よりも小さくなるような形で、前記光学アセンブリ５０の反射特性を変更する少なくとも１つの他の工程を含む。この工程は、反射角に伴う光学システムの反対色の変動を制限することを可能にする。

２つの変更工程は好ましくは、例えば被着によって、基材１の他方の主要面１２上に単一のコーティング３を配設することによって、同時に実施される。しかしながら、コーティングのうちの少なくとも１つは光学システムの反射色を目標基準色により近づける効果を有し、コーティングのうちの少なくとも別のものが、反射角に伴う光学システムの反射色変動を制限する効果を有するような形で、さまざまなコーティングを基材の問題の面上に連続して形成することを企図することが可能である。

本発明は同様に、上述のもののような光学システムの製造方法にも関する。この製造方法は、例えば、以下の工程を、好ましくはこの順序で含む：
－ 基材１を提供する工程、
－ 基材の主要面のうちの一方の上にエレクトロクロミックスタック２を形成する工程、
－ 基材の他方の主要面上にコーティング３を形成する工程；
－ 好ましくは、得られた光学システムを強化処理する工程。

別の実施形態によると、基材は、エレクトロクロミックスタックの形成前又は基材上のコーティングの形成前に強化処理される。

コーティング３の形成に関しては、例えば以下の工程を実施することを想定し得る。

第１の工程では、分光光度計又は同等の機能を有する任意の他の公知のデバイスを用いて、光学アセンブリ５０の反射スペクトルを測定する。

この測定に基づいて、反射角ｕでの反射における光学アセンブリ５０の初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）が、例えばＣＩＥ１９３１ＸＹＺ色空間などの公知の色空間を用いて決定される。

その後、透過におけるこの初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と反射角ｕでの反射における基準色度（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）との間の初期色距離Ｃｕｉが決定される。

次に、反射光量の変動が得られた光学システムの色座標内での適切な変動を導くことになる波長範囲が決定される。

次に、例えばコンピュータ生成の光学モデルを用いて、得られた光学システムの色状態の色座標に対して極めて望ましい効果を生み出すような形で、前記波長範囲内で反射された光量を増減させるコーティングの材料及び厚みが決定される。

対応するコーティングは、基材１の他方の主要面１２上に形成される。

リバースエンジニアリングが関与する方法によると、最終的光学システムから、反射におけるその初期色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を決定することも同様に可能である。このためには、外部コーティング３のアブレーションを行ない、その後、こうしてその外部コーティング３が除去された光学アセンブリの反射スペクトルの測定を実施するだけで充分である。

得られた光学システムは好ましくは平坦であるが、湾曲していてもよい。

本発明によると、上述の光学システムは、詳細には、建築用グレージング、特に内部間仕切り又はガラス張り扉の外部グレージングとして、列車、航空機、自動車又は船舶などの輸送手段の内部間仕切り又は窓に装備されるグレージングとして、コンピュータスクリーン又はＴＶスクリーンなどの表示スクリーン内又はカメラのレンズ内のグレージングとして、あるいはソーラーパネルを保護するために使用可能である。

詳細には、本発明に係る光学システムは、さまざまな光学的要素が内部で異なる形で組織されて以下のものを形成するさまざまなグレージング構成へと組込まれ得る：
－ エレクトロクロミックスタック２、ガラスシートの形をした基材１、及びコーティング３を含み、好ましくは建物の内部にエレクトロクロミックスタック２を、そして外部にコーティングに設置するように配設された単層グレージング；
－ 好ましくは建物の外部から内部へ、コーティング３、ガラスシートの形をした基材１、エレクトロクロミックスタック２、不活性ガスが充填されたキャビティ、低放射率コーティング及び別のガラスシートの形をした別の基材を含む、２重グレージング；
－ 好ましくは建物の外部から内部へ、コーティング３、ガラスシートの形をした基材１、エレクトロクロミックスタック２、不活性ガスが充填されたキャビティ、低放射率コーティング、及び別のガラスシートの形をした別の基材を含む、３重グレージング；
－ 好ましくは建物の外部から内部へ、ガラスシート、低放射率コーティング、不活性ガスが充填されたキャビティ、コーティング３、ガラスシートの形をした基材１、エレクトロクロミックスタック２、不活性ガスが充填されたキャビティ及び第３のガラスシートを含む、３重グレージング。

全ての構成において、コーティング３は、建物の外部に向けられるよう意図されており、全ての事例において、光学アセンブリ５０及びコーティング３によって形成された光学システムの外部面上に位置付けされる。

全ての構成において、コーティング３は、エレクトロクロミックスタックが形成される側とは反対の基材の側に位置設定される。

本明細書中に記載の値は、言及された数値に厳密に限定されるものとして理解されてはならない。むしろ、別段の指示の無いかぎり、各々の値は、言及されている正確な値及びこの値を包含する機能的に同等の値の範囲の両方を示す。

本発明の特定の実施形態が例示され説明されてきたが、本発明の精神及び範囲内で他のさまざまな変更及び修正を加えることができるということは明白である。したがって本明細書は、添付クレーム内で、本発明の範囲に入るあらゆる修正を網羅するように意図されている。

本発明は、異なる図の中で描写され示されている実施形態に限定されず、当業者であれば、本発明の精神にしたがったあらゆる変形形態を実装することができるものである。

Claims (14)

1. 下記を具備している、光学システム（４０）：
   － ２つの相対する主要面（１１、１２）が備わったグレージング機能基材（１）及び、これら２つの主要面のうちの１つ（１１）の上に形成された電気的に制御可能な光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学的機能デバイスを含む、光学アセンブリ（５０）、
   ここで、
   前記電気化学的機能デバイスが、下記を備えた少なくとも１つのエレクトロクロミックスタック（２）を含み：
   第１の透明導電層、
   前記第１の透明導電層の上方に配設された作用電極、
   前記作用電極の上方に配設された対向電極、
   前記対向電極の上方に配設された第２の透明導電層、
   前記エレクトロクロミックスタック内に導入されたリチウムイオン、及び
   好ましくは、前記電極と前記対向電極の間の中間にある、イオン伝導体の別個の層、
   かつ
   前記光学アセンブリ（５０）が、前記基材（１）の側で、第１の反射角（ｕ）での反射における初期色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を有する初期色状態を有する；
   － 反射色制御用コーティング（３）、
   ここで、
   前記反射色制御用コーティング（３）は、前記基材の他方の主要面（１２）上に形成されており、前記光学システム（４０）の外部面（４１）を形成しており、かつ前記光学システム（４０）が前記第１の反射角（ｕ）での最終色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）を有する最終色状態を有することになるようなものであり、この最終色状態が、前記初期色状態に比べて、前記第１の反射角（ｕ）で基準色度（Ｌ^＊ｕｒｅｆ；ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）を有する基準色状態に近く、これが、前記所定の第１の反射角（ｕ）で、前記初期色度と前記基準値の間及び前記最終色度と前記基準値の間の色距離（Ｃｕｌ、Ｃｕｆ）において、０よりも小さい変動ΔＣｕに対応しており、すなわち、下記に対応している：
   

   

   ここで、前記色制御コーティング（３）が、１～１００ナノメートル、好ましくは９０ナノメートル未満、好ましくは８０ナノメートル未満、好ましくは７０ナノメートル未満、好ましくは６０ナノメートル未満、好ましくは５０ナノメートル未満、及び好ましくは４０ナノメートル未満の厚みの、少なくとも１つの層を有し、かつこの少なくとも１つの層が、下記のうちの少なくとも１つの材料の層である：
   － ＭＯｘ、ここで、ｘが１～３、好ましくは１．５～２．５であり、ＭがＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｎのうちの１つ；
   － ＮｂＯｘ、ここで、ｘが１．５～３．５、好ましくは２～３；
   － ＭＮｘ、ここで、ｘが０～２、好ましくは０．５～１．５であり、ＭがＮｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
   － ＳｉＮｘ、ここで、ｘが０．７～２、好ましくは１～１．７；
   － ＳｎＮｘ、ここで、ｘが０～１．５、好ましくは０．３～１；
   － ＭＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．２であり、ｙが０～１．２であり、ＭがＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
   － ＭＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．２であり、ｙが０～１．５であり、ＭがＳｉ、Ｓｎのうちの１つ；
   － ＮｂＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．７であり、ｙが０～１．２；
   － Ｍ１Ｍ２ａＯｘＮｙ、ここで、ａが０～１であり、ｘが０～４．４であり、ｙが０～２．４であり、Ｍ１及びＭ２が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
   － ＳｎＺｎａＯｘ、ここで、ａが０～１．２であり、ｘが０～３．５、好ましくは１．８～３．２。
2. 前記第１の反射角（ｕ）における前記光学システム（４０）の全反射が、前記色制御コーティング（３）によって反射された少なくとも１つの光ビームを含み、この反射された光ビームのスペクトルが、少なくとも１つの有効な反射波長範囲（［λｍｉｎ；λｍａｘ］）内にある少なくとも１つのスペクトル成分を含み、前記有効な反射波長範囲（［λｍｉｎ；λｍａｘ］）は、前記有効反射範囲（［λｍｉｎ；λｍａｘ］）内に含まれる波長λにおける任意の光量の、前記光学アセンブリによる反射の変動が、前記所定の第１の反射角（ｕ）における０より小さい色距離（Ｃｕｉ、Ｃｕ（λ））の変動ΔＣｕ（λ）を生み出すような形で定義されており、ここで：
   （ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）は、前記第１の反射角（ｕ）での反射における初期色度の初期色座標であり、
   Ｃｕｉは、これらの初期色座標（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）とこの第１の反射角（ｕ）における前記基準反射色度（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）との間の色距離であり、
   （ａ^＊ｕ（λ）；ｂ^＊ｕ（λ））は、前記波長λにおいて前記反射変動の後に得られる前記第１の反射角（ｕ）における前記反射色度の色座標であり、
   Ｃｕ（λ）は、これらの色座標（ａ^＊ｕ（λ）；ｂ^＊ｕ（λ））と前記第１の反射角（ｕ）における前記基準反射色度（ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）の前記色座標との間の前記色距離であり；
   前記色距離変動ΔＣｕ（λ）が下記である：
   

   

   請求項１に記載の光学システム（４０）。
3. 前記色制御コーティングによって反射されたビームの、前記有効な反射波長範囲（［λｍｉｎ；λｍａｘ］）内に含まれる前記スペクトル成分の光強度が、前記色制御コーティング（３）により反射されたビームの合計光強度の、少なくとも３０％、好ましくは少なくとも４０％、好ましくは少なくとも４５％、好ましくは少なくとも５０％、好ましくは少なくとも５５％、好ましくは少なくとも６０％、好ましくは少なくとも６５％、及び好ましくは少なくとも７０％を構成している、請求項２に記載の光学システム（４０）。
4. － 前記光学アセンブリ（５０）の前記初期色状態が、前記第１の反射角における反射における初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と異なるものである第２の反射角（ｖ）における反射における初期色度（ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）を有しており、初期色距離が、前記第１の反射角（ｕ）で観察される前記初期色度（ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と前記第２の反射角（ｖ）で観察される前記初期色度（ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）との間で定義されており、
   － 前記反射色制御用コーティング（３）は、前記光学システム（４０）がこの第２の反射角（ｖ）で最終色度（ａ^＊ｖｆ；ｂ^＊ｖｆ）を有する最終色状態を有することになるようなものであり、前記第１の反射角（ｕ）で観察される前記最終色度（ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）と前記第２の反射角（ｖ）で観察される前記最終色度（ａ^＊ｖｆ；ｂ^＊ｖｆ）との間の最終色距離が、前記初期色距離よりも小さく、これは、前記第１及び第２の反射角における初期色度間の前記初期色距離と、前記第１及び第２の反射角における前記最終色度間の最終色距離との間の色距離（Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｉ、Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｆ）において、０よりも小さい変動ΔＣａｎｇ（ｕ、ｖ）に対応している、すなわち下記に対応している：
   

   

   請求項１～３のいずれか１項に記載の光学システム（４０）。
5. 前記色制御コーティング（３）が前記基材（１）と直接接触している、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学システム（４０）。
6. 前記色制御コーティング（３）は、前記コーティング（３）によって反射される光ビームが前記反射角及び／又は所定の色状態の関数として所定の閾値よりも低い色度変動を有するような反射特性を有する材料の少なくとも１つの層を含んでいる、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学システム（４０）。
7. 前記反射色制御用コーティングによって反射される前記光ビームの前記所定の色状態は、ａ^＊及びｂ^＊が少なくとも所定の反射角範囲内で厳密にゼロより低くなるようなものである、請求項６に記載の光学システム（４０）。
8. 前記色制御コーティング（３）の前記少なくとも１つの層が、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｓｉ３Ｎ４、ＺｒＯ２、ＴｉＺｒＯ４、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ３、ＴｉＮ、ＮｂＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＨｆＯ２、ＨｆＮ、ＳｎＮ、ＴｉＯｘＮｙ、ＮｂＯｘＮｙ、ＴｉＺｒＯｘＮｙの中の１つの材料で構成されている、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学システム（４０）。
9. 前記コーティング（３）の前記合計厚みが、好ましくは1ミクロン未満、好ましくは１００ナノメートル未満、好ましくは９０ナノメートル未満、好ましくは８０ナノメートル未満、好ましくは７０ナノメートル未満、好ましくは６０ナノメートル未満、好ましくは５０ナノメートル未満、及び好ましくは４０ナノメートル未満である、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学システム（４０）。
10. 前記反射角（ｕ）における前記光学システムからの全反射の合計光強度の、少なくとも２０％、好ましくは少なくとも３０％、好ましくは少なくとも４０％、好ましくは少なくとも５０％、及び好ましくは少なくとも６０％が、前記色制御コーティング（３）からの反射に起因するものである、請求項１～９のいずれか１項に記載の光学システム（４０）。
11. 光学システム（４０）を形成するために光学アセンブリ（５０）からの反射として観察者が観察するように意図された色を変更するための方法；
    ここで、
    前記光学アセンブリ（５０）は、２つの相対する主要面が備わったグレージング機能基材（１）、及び前記基材のこれら２つの主要面のうちの１つの上に形成された電気的に制御可能な光学特性及び／又はエネルギ特性を有する電気化学的機能デバイスを含み、この電気化学的機能デバイスが、下記を備えた少なくとも１つのエレクトロクロミックスタック（２）を含み：
    第１の透明導電層、
    前記第１の透明導電層の上方に配設された作用電極、
    前記作用電極の上方に配設された対向電極、
    前記対向電極の上方に配設された第２の透明導電層、
    前記エレクトロクロミックスタック内に導入されたリチウムイオン、及び
    好ましくは、前記電極と前記対向電極の間の中間にある、イオン伝導体の別個の層、
    前記方法は、第1の所定の反射角（ｕ）において観察される初期色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）を有する初期色状態から、この第1の反射角（ｕ）において観察される最終色度（Ｌ^＊ｕｆ；ａ^＊ｕｆ；ｂ^＊ｕｆ）を有する最終色状態まで、色を変更させ、この最終色状態は、前記初期色状態に比べて、前記第１の反射角（ｕ）において基準色度（Ｌ^＊ｕｒｅｆ；ａ^＊ｕｒｅｆ；ｂ^＊ｕｒｅｆ）を有する基準色状態に近く、
    前記方法は、前記初期色度と前記基準色度の間及び前記最終色度と前記基準色度の間の色距離（Ｃｕｌ、Ｃｕｆ）の変動ΔＣｕが、前記第１の反射角（ｕ）において０よりも小さくなるように、すなわち、下記になるようにして、前記光学システム（４０）の前記基材（１）の前記他方の主要面上に、反射色制御用コーティング（３）を配設することによって、反射特性を変更する、少なくとも１つの工程を含み：
    

    

    前記色制御コーティング（３）が、下記の中の少なくとも１つの材料の、１～１００ナノメートル、好ましくは９０ナノメートル未満、好ましくは８０ナノメートル未満、好ましくは７０ナノメートル未満、好ましくは６０ナノメートル未満、好ましくは５０ナノメートル未満、及び好ましくは４０ナノメートル未満の厚みの少なくとも１つの層を含んでいる：
    － ＭＯｘ、ここで、ｘが１～３、好ましくは１．５～２．５であり、ＭがＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｎのうちの１つ；
    － ＮｂＯｘ、ここで、ｘが１．５～３．５、好ましくは２～３；
    － ＭＮｘ、ここで、ｘが０～２、好ましくは０．５～１．５であり、ＭがＮｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
    － ＳｉＮｘ、ここで、ｘが０．７～２、好ましくは１～１．７；
    － ＳｎＮｘ、ここで、ｘが０～１．５、好ましくは０．３～１；
    － ＭＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．２であり、ｙが０～１．２であり、ＭがＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
    － ＭＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．２であり、ｙが０～１．５であり、ＭがＳｉ、Ｓｎのうちの１つ；
    － ＮｂＯｘＮｙ、ここで、ｘが０～２．７であり、ｙが０～１．２；
    － Ｍ１Ｍ２ａＯｘＮｙ、ここで、ａが０～１であり、ｘが０～４．４であり、ｙが０～２．４であり、Ｍ１及びＭ２が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちの１つ；
    － ＳｎＺｎａＯｘ、ここで、ａが０～１．２であり、ｘが０～３．５、好ましくは１．８～３．２。
12. 前記初期色状態が、前記第１の反射角（ｕ）で観察される前記初期色度（Ｌ^＊ｕｉ；ａ^＊ｕｉ；ｂ^＊ｕｉ）と第２の反射角（ｖ）で観察される初期色度（Ｌ^＊ｖｉ；ａ^＊ｖｉ；ｂ^＊ｖｉ）との間の初期色距離を有し、
    前記第１及び第２の反射角における初期色度間の前記初期色距離と、前記第１及び第２の反射角における前記最終色度間の最終色距離との間の色距離（Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｉ、Ｃａｎｇ（ｕ、ｖ）ｆ）の変動ΔＣａｎｇ（ｕ、ｖ）が、０よりも小さくなるような形で、すなわち下記となるような形で、前記光学アセンブリの外側面の反射特性を変更する少なくとも１つの他の工程を含む：
    

    

    請求項１１に記載の方法。
13. 請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学システム（４０）の製造方法。
14. 建築用グレージング、詳細には、内部間仕切り又はグレージング入り扉の外部グレージングとしての、列車、航空機、自動車又は船などの輸送手段の内部間仕切り又は窓に備わったグレージングとしての、コンピュータスクリーン又はＴＶスクリーンなどの表示スクリーン内のグレージングとしての、又はカメラのレンズ内での、又はソーラーパネルを保護する目的での、請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学システム（４０）の使用。

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