JP2023502425A - 変更された構造を備えた層構造およびその製造 - Google Patents

Abstract

本発明は：（Ａ）第１の表面ａ１）と、表面ａ１）に実質的に平行に延びる第２の表面ａ２）を有する第１の透明な放射線彫刻可能な層（Ａ）、前記第１の層（Ａ）は着色のまたは黒色の部分彫刻を有し、前記彫刻は、層構造の第１の外側表面を形成する第１の表面ａ１）上に、非電離電磁波放射線（Ｅ）によって生成され；（Ｂ）任意で、第１の層（Ａ）に向かって面している第１の表面ｂ１）と、第１の層（Ａ）から離れて面し、第１の表面ｂ１）と実質的に平行に延びる別の表面ｂ２）を有する追加の透明な放射線彫刻可能な層（Ｂ）；および（Ｃ）任意で、少なくとも１つの追加の透明なプラスチック層（Ｃ）（ここで、追加の層（Ｃ）は、：層（Ａ）の第１の表面ａ１）の面上で、追加の層（Ｂ）の追加の表面ｂ２）の面上に、２つの層（Ａ）と（Ｂ）との間からなる選択肢の群の一つ、または追加の層（Ｃ）の場合には、前記選択肢の少なくとも２つの組み合わせからなる選択肢の群の一つに提供され、および着色のまたは黒色の部分彫刻の画像が、層構造の追加の表面に、層構造の追加の外表を形成しおよび第１の表面ａ１）の反対側に位置する不透明構造変化の形態で所在している）を有する層構造に関する。本発明は同様に、層構造の製造、ならびに本発明による層構造を有するセキュリティ文書に関する。【選択図】図１

Description

本発明は、領域の一部にわたる構造変化を備えた層構造、およびその製造、ならびに前記層構造を備えたセキュリティ文書に関する。

プラスチックベースのセキュリティ文書および／または価値のある文書（ｄｏｃｕｍｅｎｔｓ ｏｆ ｖａｌｕｅ）、とりわけ身分証明書、例えばＩＤカードは、今日では識別機能を取り替えるための層構造のその後の剥離を防止するために、多層複合体としの接着層を使用せずに、高温および高圧での積層によって製造されることが好ましい。対応するセキュリティ特徴は、積層プロセスの前またはその間にこれらの多層複合体に組み込まれるため、これらは、破壊することなく積層プロセスパラメータに耐えるように構成されなければならない。さらに、セキュリティ特徴は、複合体のその後の非破壊的な開放を可能にするいかなる弱点も多層複合体に導入してはならない。特に興味深いのは積層プロセスの後に、または完成したＩＤ文書に導入することができ、偽造の場合にはそのようなものとして容易に識別することができるセキュリティ機能である。理想的には、セキュリティ機能を文書保有者のデータに接続することが可能であるべきである。

セキュリティ文書および／または価値のある文書におけるセキュリティ機能は、通常、３つの安全レベルに分割される：
－ レベル１のセキュリティ機能は、追加の補助手段を使用せずに肉眼で純粋に視覚的に知覚可能なものである。

－ レベル２のセキュリティ機能は、見えるようにするために補助具（例えば、拡大鏡、光学フィルタ、リーダなど）を必要とするものである。

－ レベル３のセキュリティ機能は、法医学的方法によって実験室でのみ識別することができるものである。一般に、分析は、文書の少なくとも部分的な破壊に関連する。

したがって、好ましくは視覚的または触覚的手段によって迅速に知覚することができ、好ましくは文書保有者の個人データを含み、偽造の場合には、補助なしで、またはほとんど補助なしで、そのように迅速に知覚することができるレベル１のセキュリティ機能に対する必要性が増大している。このようなセキュリティ機能は、以下、パーソナライズされたセキュリティ機能とも呼ばれる。

プラスチック、特にポリカーボネートで作られたＩＤ文書の場合、最も重要なパーソナライズされたセキュリティ機能は、文書保有者の写真である。その理由は、空白の文書が完成した後に、例えば白黒写真として、レーザー彫刻の手段によって、それを文書に導入することができるからである。レーザー彫刻された写真の偽造防止を改善するために、出願番号ＥＰ１８１９０３６３．４の欧州特許出願に記載されているように、カラーで写真のレーザー彫刻を可能にする方法が開発されている。カラーでのレーザー彫刻とは別に、この方法は写真を偽造とより容易に区別することができるように、写真に部分的な構造化を施すことを可能にする。このようにして、例えば、さらなる構造化を生成することができるように、より強いレーザー放射線を用いて写真のいくつかの領域を彫刻することが可能である。しかしながら、多くの努力により、偽造者は例えば、透明ラッカーの部分的塗布によって、写真上に構造を作り出すこともできる。

ポリカーボネートで作られたＩＤ文書における一般的なセキュリティ機能は透明な窓である。偽造に対する証拠の改善は、偽造を試みる際に窓の透明性が破壊されることである。透明性の破壊は例えば、ＩＤ文書に透明フィルムが貼り付けられた場合や、機械的手段によって文書が分割された場合に生じる。場合によっては、透明な窓において、試みられた偽造をより困難にするために、レーザーを使用して、文書保有者の写真または他の個人固有の情報を彫刻する。この１つの変形は、ＷＯ２０１４／１５１３７７Ａ２に記載されている。

しかし、偽造に対抗するために、カラーレーザー彫刻の方法をさらに改良する必要性が依然としてある。

ＥＰ１８１９０３６３．４ ＷＯ２０１４／１５１３７７Ａ２

したがって、本発明の目的は、層構造に偽造防止彫刻を備えた層構造を提供すること、およびそれから製造された偽造防止のセキュリティ文書を提供することであった。さらなる目的は、より偽造防止の層構造を製造するための方法、またはその方法によって製造されるより偽造防止のセキュリティ文書を提供することであった。

本発明は第１に、以下：
（Ａ）第１の表面ａ１）と、表面ａ１）に本質的に並行に延びる第２の表面ａ２）を有する第１の透明な放射線彫刻可能な層（Ａ）、ここで、層構造の第１の外面を形成するその第１の表面ａ１）上の第１の層（Ａ）は、非電離電磁放射線（Ｅ）によって生成された領域の一部にわたる着色または黒色の彫刻を有する。非電離電磁放射線は、好ましくはレーザー放射線である；
（Ｂ）任意で、第１の層（Ａ）の方向に面する第１の表面ｂ１）と、第１の層（Ａ）から離れる方向に面し、表面ｂ１）と本質的に平行に延びるさらなる表面ｂ２）を有するさらなる透明な放射線彫刻可能な層（Ｂ）；
（Ｃ）任意で、少なくとも１つの追加の透明ポリマー層（Ｃ）、ここで、層（Ｃ）の配置は、層（Ａ）の第１の表面ａ１）の側、さらなる層（Ｂ２）のさらなる表面ｂ２）の側、２つの層（Ａ）と（Ｂ）の間、または複数のさらなる層（Ｃ）の場合、これらのうちの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択的に選択される
を有する層構造を提供し、
ここで、領域の一部にわたる着色または黒色彫刻の画像は、層構造の外面を形成し、第１の表面ａ１）とは反対の層構造の表面に構造変化の形態で存在する。構造変化は、好ましくは不透明である。

以下、構造変化を「不透明構造変化」または単に「変化構造」とも呼ぶ。

第１の層（Ａ）は、任意の透明な放射線彫刻可能な材料から製造することができ、その着色は、染料の存在下でレーザーによって変えることができる。層（Ａ）は、好ましくはポリマー層である。本出願による「レーザーによって変えることができる着色」とは、第１の層の材料において、持続放射線で１ワットまたはレーザーによるパルス放射線で５ワットの最小エネルギーの入力の場合に、染料による着色が達成可能であり、その結果、この彫刻が肉眼で明らかであることを意味する。パルス放射線については、０．５ｋＨｚ～１０００ｋＨｚ、好ましくは５ｋＨｚ～１００ｋＨｚ、より好ましくは１５ｋＨｚ～５０ｋＨｚの範囲内のパルス周波数を使用することが好ましい。パルス放射線については、５ｎｓ～１０００ｎｓ、より好ましくは１０ｎｓ～２００ｎｓのパルス持続時間を選択することが好ましい。

層（Ａ）は、好ましくはレーザー彫刻可能な層である。透明な放射線彫刻可能な層（Ａ）は、好ましくは領域の一部にわたって着色された彫刻を有する。彫刻は、好ましくは０．００５～１ｍｍ、さらに好ましくは０．０１～０．５ｍｍ、より好ましくは０．０２～０．１ｍｍの範囲内の幅を有する構造、例えば書かれた碑文を含む。彫刻は、好ましくは０．００１～２ｍｍ、より好ましくは０．００２～１ｍｍ、非常に好ましくは０．００５～０．５ｍｍ、さらにより好ましくは０．０１～０．１ｍｍの範囲内の深さを有する。

第１の層（Ａ）、および好ましくは全ての他の任意の層（Ｂ）および（Ｃ）は透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）であり、クリア（ｃｌｅａｒ）である。本発明による「透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）」によって理解されることは、４００～７００ｎｍの波長範囲内の光を、８０％を超える程度、好ましくは８５％を超える程度、より好ましくは９０％を超える程度、最も好ましくは９５％を超える程度まで透過させることである。

層構造の材料、特に第１の層（Ａ）の材料は、レーザーによる処理の前にクリア（ｃｌｅａｒ）であることが好ましい。本出願の文脈において、「クリア（ｃｌｅａｒ）」とは、層構造がＡＳＴＭ Ｄ１００３：２０１３規格に従って測定して、≦２０％、好ましくは≦１５％、より好ましくは≦１０％、とりわけ好ましくは≦５％の濁り（濁度とも呼ばれる）を有することを意味する。

任意のさらなる層（Ｂ）は、電磁放射線（Ｅ）が着色を可能にするのに十分なエネルギーで層（Ａ）の表面ａ１）に当たることができるように、電磁放射線（Ｅ）を少なくとも部分的に透過させる任意の材料から生成されてもよい。層（Ｂ）は、好ましくはポリマー層である。

任意の少なくとも１つの追加の層（Ｃ）は同様に、好ましくは、透明なプラスチックを含む。追加の層（Ｃ）は、好ましくはさらなる層（Ｂ）または第１の層（Ａ）と同じ材料組成を有する。

層構造は、領域の一部にわたる着色のまたは黒の彫刻の画像が、層構造の外面を形成し、第１の表面ａ１）とは反対の層構造の表面における構造変化の形態で存在することを特徴とする。「画像」によって理解されることは、一方の側の彫刻の実質的に同じ形態が、層構造の反対側に構造変化の形態で存在することである。画像は彫刻に対してわずかにシフトされてもよいし、彫刻とは反対側に、すなわち、層構造を通って直角に、彫刻から層構造の反対側の表面上に存在してもよい。

層構造の好ましい実施形態において、第１の表面ａ１）の反対側にあり、層構造のさらなる外面を形成する層構造の表面は、少なくとも、彫刻から始まる層構造を通って直角に延びる軸に対して４５°～９０°の範囲の角度にある部位において変化構造を有する。少なくとも、彫刻から始まる層構造を通って直角に延びる軸に対して、０°～９０°、さらに好ましくは５°～８０°、最も好ましくは１０°～７０°の範囲内の角度にある層構造内の部位に、変化構造を導入することが一般に可能である。

これは、着色のまたは黒色の彫刻が、非透明構造変化を有する層構造の側面から４５°～９０°の視角において、非透明構造変化によって、少なくとも部分的に、好ましくは完全に光学的に覆われるという効果を達成する。不透明構造変化による着色のまたは黒色の彫刻の光学的被覆率は、少なくとも不透明構造変化を有する層構造の側面から４５°～９０°の範囲内の視野角において、着色のまたは黒色の彫刻の幅に基づいて、好ましくは５０％～１００％、より好ましくは６０％～９０％、特に好ましくは７０％～８０％の範囲内である。

層構造の外面上の構造変化は、層が構造変化を伴う部位でもはや透明性を示さないか、またはほとんど示さないが、依然として半透明であり得、これは乳白色の外観で視覚的に現れることを特徴とする。構造変化の１つの説明は、電磁放射線（Ｅ）の進入部位での層の非常に急速な溶融のために、気泡が層の材料中に捕捉されることであり得る。別の説明は、電磁放射線（Ｅ）が層に入る部位における材料の化学的構造変化であり得る。

層構造の好ましい実施形態において、変化構造は、曇ったまたは乳白色の外観を有する。変化構造を含む層構造の領域は、標準ＡＳＴＭ Ｄ１００３：２０１３に従ってＢＹＫ－Ｇａｒｄｎｅｒヘイズガードプラス機器で測定して、好ましくは≧２０％、好ましくは≧５０％、より好ましくは≧８０％の濁度またはヘイズを有する。

さらに好ましくは、変化構造が層構造上に白色の彫刻として現れる。既に述べたように、変化構造は、領域の一部にわたる着色のまたは黒色の彫刻が存在する表面とは反対の層構造の表面上に存在する。このように、領域の一部にわたる着色のまたは黒色の彫刻は、変化構造から層構造の反対方向を指している。変化構造は乳白色で曇っているので、好ましくは、着色のまたは黒色の彫刻の少なくとも一部、好ましくは全体が変化構造によって覆われる。したがって、変化構造が存在する側からは、着色のまたは黒色の彫刻がもはや見えないことが可能である。変化構造の側面からの着色のまたは黒色の彫刻の視認性は、変化構造の幅を選択することによって調節することができる。逆に、層構造が着色のまたは黒色の彫刻の側から見られる場合には、変化構造は、着色のまたは黒色の彫刻の幅の選択によって覆うことができる。

層構造の好ましい実施形態において、変化構造を備えた部位の層（Ｂ）が、変化構造がない点におけるよりも少なくとも０．００１ｍｍ厚い層厚を有する。

層構造の好ましい実施形態において、層（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のうちの少なくとも１つ、好ましくはすべてが、以下の特性のうちの１つ、好ましくはすべてを有する：
Ｉ．マイクロメータースクリューによるか、またはミクロトーム切片およびその後の顕微鏡観察による厚さ計測によって決定される、１０μｍ～１００００μｍの範囲内、好ましくは２０μｍ～７０００μｍの範囲内、より好ましくは３０μｍ～５０００μｍの範囲内、最も好ましくは７０μｍ～２０００μｍの範囲内の層厚；
ＩＩ．好ましくはＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５によるＵＶ－ＶＩＳ－ＮＩＲ－ＭＩＲ法によって決定される、選択された放射線に対する≧２％～≦９９．９５％、好ましくは≧４％～≦９０％、より好ましくは≧５％～≦８５％の放射線透過率。

層構成の好ましい実施形態において、少なくとも層（Ａ）は、および好ましくは層（Ｂ）も、エチレン性不飽和モノマーのポリマー、二官能性反応性化合物の重縮合物および二官能性反応性化合物の重付加生成物またはこれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択される熱可塑性物質を含む。

好ましい熱可塑性物質は、ジフェノール、ポリ－またはコポリアクリレートおよびポリ－またはコポリメタアクリレートをベースとする1以上のポリカーボネートまたはコポリカーボネート、例えば、例として、そして好ましくは、ポリメチルメタクリレートまたはポリ（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）、スチレンとのポリマーまたはコポリマー、例えば、例として、そして好ましくは、ポリスチレン（ＰＳ）、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン（ＡＢＳ）、またはポリスチレン－アクリロニトリル（ＳＡＮ）、熱可塑性ポリウレタン、およびポリオレフィン、例えば、例として、そして好ましくは、ポリプロピレンタイプまたは環状オレフィン（ＴＯＰＡＳ（登録商標）、Ｈｏｅｃｈｓｔ）をベースとするポリオレフィン、テレフタル酸のポリ－またはコポリ縮合物、例えば、例として、そして好ましくは、ポリ－またはコポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴまたはＣｏＰＥＴ）、グリコール－変性ＰＥＴ（ＰＥＴＧ）、グリコール－変性ポリ－またはコポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴＧ）またはポリ－またはコポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴまたはＣｏＰＢＴ）、ポリアミド（ＰＡ）、ナフタレンジカルボン酸のポリ－またはコポリ縮合物、例えば、例として、そして好ましくは、ポリエチレングリコールナフタレート（ＰＥＮ）、少なくとも１つのシクロアルキルジカルボン酸のポリ－またはコポリ縮合物、例えば、例として、そして好ましくは、ポリシクロヘキサンジメタノールシクロヘキサンジカルボン酸（ＰＣＣＤ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、上記の少なくとも２つの混合物、またはそれらのブレンドである。

特に好ましい熱可塑性物質は、ジフェノールまたは少なくとも１つのポリカーボネートまたはコポリカーボネートを含有するブレンドをベースとする１種以上のポリカーボネートまたはコポリカーボネートである。非常に特に好ましいのは、少なくとも１つのポリカーボネートまたはコポリカーボネートおよびテレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸またはシクロアルキルジカルボン酸、好ましくはシクロヘキサンジカルボン酸の少なくとも１つのポリ－またはコポリ縮合物を含有するブレンドである。非常に特に好ましいのは、ポリカーボネートまたはコポリカーボネートであり、特に５００～１０００００、好ましくは１００００～８００００、より好ましくは１５０００～４００００の平均分子量Ｍｗを有するものであるか、またはそれらと１００００～２０００００、好ましくは２１０００～１２００００の平均分子量Ｍｗを有するテレフタル酸の少なくとも１つのポリ－またはコポリ縮合物とのブレンドである。

本発明の好ましい実施形態におけるテレフタル酸の好適なポリ－またはコポリ縮合物は、ポリアルキレンテレフタレートである。好適なポリアルキレンテレフタレートは、例えば、芳香族ジカルボン酸またはそれらの反応性誘導体（例えば、ジメチルエステルまたは無水物）と脂肪族、脂環式または芳香族脂肪族ジオールとの反応生成物およびこれらの反応生成物の混合物である。

好ましいポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸（またはその反応性誘導体）および２～１０個のＣ原子を有する脂肪族または脂環式ジオールから、公知の方法（Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ－Ｈａｎｄｂｕｃｈ［Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ］、第ＶＩＩＩ巻、第６９５ ｆｆ頁、Ｋａｒｌ－Ｈａｎｓｅｒ－Ｖｅｒｌａｇ、Ｍｕｎｉｃｈ １９７３）によって調製することができる。

好ましいポリアルキレンテレフタレートは、ジカルボン酸成分を基準にして少なくとも８０ｍｏｌ％、好ましくは９０ｍｏｌ％のテレフタル酸基、およびジオール成分を基準にして少なくとも８０ｍｏｌ％、好ましくは少なくとも９０ｍｏｌ％のエチレングリコールおよび／またはブタン－１，４－ジオールおよび／またはシクロヘキサン－１，４－ジメタノール基を含有する。

好ましいポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸基に加えて、８～１４個の炭素原子を有する他の芳香族ジカルボン酸または４～１２個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸、例えばフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン－２，６－ジカルボン酸、４，４’－ジフェニルジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジ酢酸の基を２０ｍｏｌ％まで含有することができる。

好ましいポリアルキレンテレフタレートは、エチレンおよび／またはブタン－１，４－ジオール基に加えて、３～１２個の炭素原子を有する他の脂肪族ジオールまたは６～２１個の炭素原子を有する脂環式ジオール、例えば、プロパン－１，３－ジオール、２－エチルプロパン－１，３－ジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタン－１，５－ジオール、ヘキサン－１，６－ジオール、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、３－メチルペンタン－２，４－ジオール、２－メチルペンタン－２，４－ジオール、２，２，４－トリメチルペンタン－１，３－ジオールおよび２－エチルヘキサン－１，６－ジオール、２，２－ジエチルプロパン－１，３－ジオール、ヘキサン－２，５－ジオール、１，４－ジ（［ベータ］－ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、２，２－ビス（４－ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、２，４－ジヒドロキシ－１，１，３，３－テトラメチルシクロブタン、２，２－ビス（３－［ベータ］－ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンおよび２，２－ビス（４－ヒドロキシプロポキシフェニル）プロパン（ＤＥ－Ａ ２４ ０７ ６７４、２４ ０７ ７７６、２７ １５ ９３２を参照）の基を８０ｍｏｌ％まで含有することができる。

ポリアルキレンテレフタレートは、例えばＤＥ－Ａ １９ ００ ２７０およびＵＳ特許３ ６９２ ７４４に記載されているように、比較的少量の３価または４価アルコール、または三塩基性または四塩基性カルボン酸の取り込みによって分岐され得る。好ましい分岐剤の例は、トリメシン酸、トリメリット酸、トリメチロールエタンおよびトリメチロールプロパンおよびペンタエリトリトールである。

分岐剤は、酸成分に対して１ｍｏｌ％以下を用いることが好ましい。

テレフタル酸およびその反応性誘導体（例えば、そのジアルキルエステル）ならびにエチレングリコールおよび／またはブタン－１，４－ジオールおよび／またはシクロヘキサン－１，４－ジメタノール基からのみ調製されたポリアルキレンテレフタレート、ならびにこれらのポリアルキレンテレフタレートの混合物が特に好ましい。

好ましいポリアルキレンテレフタレートはさらに、上記の酸成分の少なくとも２つから、および／または上記のアルコール成分の少なくとも２つから生成されるコポリエステルを含む；特に好ましいコポリエステルは、ポリ（エチレングリコール／ブタン－１，４－ジオール）テレフタレートである。

成分として好ましく使用されるポリアルキレンテレフタレートは、好ましくは約０．４～１．５ｄｌ／ｇ、好ましくは０．５～１．３ｄｌ／ｇの固有粘度を有し、それぞれの場合において、２５℃でフェノール／ｏ－ジクロロベンゼン（１：１重量部）中で測定される。

少なくとも１つのポリカーボネートまたはコポリカーボネートとテレフタル酸の少なくとも１つのポリ－またはコポリ縮合物とのブレンドは、好ましくは少なくとも１つのポリカーボネートまたはコポリカーボネートと、ポリ－またはコポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリ－またはコポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートとのブレンドである。ポリカーボネートまたはコポリカーボネートと、ポリ－またはコポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリまたはコポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートとのそのようなブレンドは、好ましくは１重量％～９０重量％のポリカーボネートまたはコポリカーボネートと、９９重量％～１０重量％のポリ－またはコポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリまたはコポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートとを含むものであってもよく、好ましくは、１重量％～９０重量％のポリカーボネートと、９９重量％～１０重量％のポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートを含み、ここで、その割合が合計で１００重量％になるものであってもよい。ポリカーボネートまたはコポリカーボネートと、ポリ－またはコポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリ－またはコポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートとのこのようなブレンドは、より好ましくは２０重量％～８５重量％のポリカーボネートまたはコポリカーボネートと、８０重量％～１５重量％のポリ－またはコポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリ－またはコポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートとを含むものであってもよく、好ましくは、２０重量％～８５重量％のポリカーボネートと、８０重量％～１５重量％のポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートを含み、ここで、その割合が合計で１００重量％になるものであってもよい。ポリカーボネートまたはコポリカーボネートと、ポリ－またはコポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリ－またはコポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートとのこのようなブレンドは、最も好ましくは３５重量％～８０重量％のポリカーボネートまたはコポリカーボネートと、６５重量％～２０重量％のポリ－またはコポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリ－またはコポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートとを含むものであってもよく、好ましくは３５重量％～８０重量％のポリカーボネートと、６５重量％～２０重量％のポリブチレンテレフタレートまたはグリコール－変性ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートを含み、ここで、その割合が合計で１００重量％になるものであり得る。非常に特に好ましい実施形態は、前述の組成物中のポリカーボネートとグリコール－変性ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートとのブレンドを含むことができる。

好ましい実施形態における好適なポリカーボネートまたはコポリカーボネートは、特に芳香族ポリカーボネートまたはコポリカーボネートである。

ポリカーボネートまたはコポリカーボネートは、公知の様式で直鎖状または分岐状であり得る。

これらのポリカーボネートは、ジフェノール類、炭酸誘導体、任意に連鎖停止剤および任意に分岐剤から、公知の方法で製造することができる。ポリカーボネートの製造の詳細は、過去４０年程度の間に多くの特許明細書に記載されている。ここでは、単なる例として、Ｓｃｈｎｅｌｌ、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ、第９巻、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、Ｌｏｎｄｏｎ、Ｓｙｄｎｅｙ１９６４、Ｄ．Ｆｒｅｉｔａｇ、Ｕ．Ｇｒｉｇｏ、Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ、Ｈ．Ｎｏｕｖｅｒｔｎe、ＢＡＹＥＲ ＡＧ、Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ中の「Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、第１１巻、第２版、１９８８、６４８～７１８ページ、および最後にＤｒｅｓ．Ｕ．Ｇｒｉｇｏ、Ｋ．ＫｉｒｃｈｎｅｒおよびＰ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ、Ｂｅｃｋｅｒ／Ｂｒａｕｎちゅうの「Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ」［Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ］、Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ－Ｈａｎｄｂｕｃｈ［Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ］、第３／１巻、Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｅ、Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ、Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｅｓｔｅｒ［Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ、Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｓ、Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ、Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ Ｅｓｔｅｒｓ］、Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ Ｍｕｎｉｃｈ、Ｖｉｅｎｎａ １９９２、１１７－２９９頁へ言及することができる。

好適なジフェノールは例えば、一般式（Ｉ）のジヒドロキシアリール化合物であってもよい。

〔式中、Ｚは６～３４個の炭素原子を有する芳香族基であり、１個以上の、置換されていてもよい芳香族環および脂肪族または脂環式基またはアルキルアリールまたはヘテロ原子を架橋元素として含有してもよい〕
好適なジヒドロキシアリール化合物の例としては、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシジフェニル、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、ビス（ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（ヒドロキシフェニル）アリール、ビス（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホキシド、１，１’－ビス（ヒドロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼン、およびそれらの環アルキル化化合物および環ハロゲン化化合物が挙げられる。

これらおよびさらに好適な他のジヒドロキシアリール化合物は例えば、ＤＥ－Ａ ３ ８３２ ３９６、ＦＲ－Ａ １ ５６１ ５１８、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９６４、２８ ｆｆ頁；１０２ ｆｆ頁、およびＤ．Ｇ．Ｌｅｇｒａｎｄ、Ｊ．Ｔ．Ｂｅｎｄｌｅｒ、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ ２０００、７２ ｆｆ頁に記載されている。

好ましいジヒドロキシアリール化合物は例えば、レゾルシノール、４，４’－ジヒドロキシジフェニル、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－フェニルエタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－（１－ナフチル）エタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－（２－ナフチル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（３－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－フェニルプロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，４－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－２－メチルブタン、２，４－ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）－２－メチルブタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－４－メチルシクロヘキサン、１，３－ビス［２－（４－ヒドロキシフェニル）－２－プロピル］ベンゼン、１，１’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－ジイソプロピルベンゼン、１，１’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－４－ジイソプロピルベンゼン、１，３－ビス［２－（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）－２－プロピル］ベンゼン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）スルホンおよび２，２’，３，３’－テトラヒドロ－３，３，３’，３’－テトラメチル－１，１’－スピロビ［１Ｈ－インデン］－５，５’－ジオールまたは式（Ｉａ）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンである。

〔式中、
Ｒ^１およびＲ^２は、独立して、水素、ハロゲン、好ましくは塩素または臭素、Ｃ_１－Ｃ_８－アルキル、Ｃ_５－Ｃ_６－シクロアルキル、Ｃ_６－Ｃ_１０－アリール、好ましくはフェニル、およびＣ_７－Ｃ_１２－アラルキル、好ましくはフェニル－Ｃ_１－Ｃ_４－アルキル、とりわけベンジルであり、
ｍは、４～７からの整数であり、好ましくは４または５であり、
Ｒ^３およびＲ^４は、Ｘごとに個別に選択することができ、独立して、水素またはＣ_１－Ｃ_６－アルキルであり、および
Ｘは、炭素であり、
ただし、少なくとも１つの原子Ｘ上で、Ｒ^３およびＲ^４は両方ともアルキルである。好ましくは、式（Ｉａ）において、１個または２個のＸ原子上、とりわけ１個のＸ原子上のみで、Ｒ^３およびＲ^４は両方ともアルキルである〕
式（Ｉａ）におけるＲ^３およびＲ^４基のための好ましいアルキル基はメチルである。ジフェニル－置換炭素原子（Ｃ－１）へのアルファ位置のＸ原子は、好ましくはジアルキル－置換ではない；対照的に、Ｃ－１へのベータ位置のアルキル二置換は好適である。

特に好ましい式（Ｉａ）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンは、脂環式基（式（Ｉａ）のｍ＝４または５）に５および６個の環炭素原子Ｘを有するものであり、例えば式（Ｉａ－１）～（Ｉａ－３）のジフェノールである。

式（Ｉａ）の非常に特に好ましいジヒドロキシジフェニルシクロアルカンは、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン（式（Ｉａ－１）（式中、Ｒ^１およびＲ^２＝Ｈ））である。

このようなポリカーボネートは、ＥＰ－Ａ ３５９ ９５３に従って式（Ｉａ）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンから調製することができる。

特に好ましいジヒドロキシアリール化合物は、レゾルシノール、４，４’－ジヒドロキシジフェニル、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－フェニルエタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－（１－ナフチル）エタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－（２－ナフチル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（３，５－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－ジイソプロピルベンゼンおよび１，１’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－４－ジイソプロピルベンゼンである。

非常に特に好ましいジヒドロキシアリール化合物は、４，４’－ジヒドロキシジフェニルおよび２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパンである。

１つのジヒドロキシアリール化合物を使用してホモポリカーボネートを形成するか、または異なるジヒドロキシアリール化合物を使用してコポリカーボネートを形成することが可能である。式（Ｉ）または（Ｉａ）の１つのジヒドロキシアリール化合物を使用してホモポリカーボネートを形成すること、または式（ｅ）（Ｉ）および／または（Ｉａ）の２つ以上のジヒドロキシアリール化合物を使用してコポリカーボネートを形成することが可能である。種々のジヒドロキシアリール化合物は、ランダムまたはブロック様式で相互連結され得る。式（Ｉ）および（Ｉａ）のジヒドロキシアリール化合物から構成されるコポリカーボネートの場合、式（Ｉａ）のジヒドロキシアリール化合物と、任意に同様に使用可能な式（Ｉ）の他のジヒドロキシアリール化合物とのモル比は、好ましくは（Ｉａ）の９９ｍｏｌ％対（Ｉ）の１ｍｏｌ％～（Ｉａ）の２ｍｏｌ％対（Ｉ）の９８ｍｏｌ％の間、好ましくは、（Ｉａ）の９９ｍｏｌ％対（Ｉ）の１ｍｏｌ％～（Ｉａ）の１０ｍｏｌ％対（Ｉ）の９０ｍｏｌ％の間、特に、（Ｉａ）の９９ｍｏｌ％対（Ｉ）の１ｍｏｌ％～（Ｉａ）の３０ｍｏｌ％対（Ｉ）の７０ｍｏｌ％の間である。

非常に特に好ましいコポリカーボネートは、式（Ｉａ）および（Ｉ）の１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサンおよび２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパンジヒドロキシアリール化合物を使用して調製することができる。

好適な炭酸誘導体は、例えば、一般式（ＩＩ）のジアリールカーボネートであり得る

〔式中、
Ｒ、Ｒ’およびＲ’’は、同一または異なっていて、独立して、水素、直鎖状または分岐状のＣ_１－Ｃ_３４－アルキル、Ｃ_７－Ｃ_３４－アルキルアリールまたはＣ_６－Ｃ_３４－アリールであり、Ｒは、さらに－ＣＯＯ－Ｒ’’’であってもよく、ここで、Ｒ’’’は、水素、直鎖状または分岐状のＣ_１－Ｃ_３４－アルキル、Ｃ_７－Ｃ_３４－アルキルアリールまたはＣ_６－Ｃ_３４－アリールである〕
好ましいジアリールカーボネートは、例えば、ジフェニルカーボネート、メチルフェニルフェニルカーボネートおよびジ（メチルフェニル）カーボネート、４－エチルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－エチルフェニル）カーボネート、４－ｎ－プロピルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－ｎ－プロピルフェニル）カーボネート、４－イソプロピルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－イソプロピルフェニル）カーボネート、４－ｎ－ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－ｎ－ブチルフェニル）カーボネート、４－イソブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－イソブチルフェニル）カーボネート、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）カーボネート、４－ｎ－ペンチルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－ｎ－ペンチルフェニル）カーボネート、４－ｎ－ヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－ｎ－ヘキシルフェニル）カーボネート、４－イソオクチルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－イソオクチルフェニル）カーボネート、４－ｎ－ノニルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－ｎ－ノニルフェニル）カーボネート、４－シクロヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－シクロヘキシルフェニル）カーボネート、４－（１－メチル－１－フェニルエチル）フェニルフェニルカーボネート、ジ［４－（１－メチル－１－フェニルエチル）フェニル］カーボネート、ビフェニル－４－イルフェニルカーボネート、ジ（ビフェニル－４－イル）カーボネート、４－（１－ナフチル）フェニルフェニルカーボネート、４－（２－ナフチル）フェニルフェニルカーボネート、ジ［４－（１－ナフチル）フェニル］カーボネート、ジ［４－（２－ナフチル）フェニル］カーボネート、４－フェノキシフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－フェノキシフェニル）カーボネート、３－ペンタデシルフェニルフェニルカーボネート、ジ（３－ペンタデシルフェニル）カーボネート、４－トリチルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－トリチルフェニル）カーボネート、（メチルサリチレート）フェニルカーボネート、ジ（メチルサリチレート）カーボネート、（エチルサリチレート）フェニルカーボネート、ジ（エチルサリチレート）カーボネート、（ｎ－プロピルサリチレート）フェニルカルボネート、ジ（ｎ－プロピルサリチレート）カルボネート、（イソプロピルサリチレート）フェニルカーボネート、ジ（イソプロピルサリチレート）カーボネート、（ｎ－ブチルサリチレート）フェニルカーボネート、（ｎ－ブチルサリチレート）フェニルカーボネート、ジ（ｎ－ブチルサリチレート）カーボネート、（イソブチルサリチレート）フェニルカーボネート、ジ（イソブチルサリチレート）カーボネート、（ｔｅｒｔ－ブチルサリチレート）フェニルカーボネート、ジ（ｔｅｒｔ－ブチルサリチレート）カーボネート、ジ（フェニルサリチレート）カーボネートおよびジ（ベンジルサリチレート）カーボネートである。

特に好ましいジアリール化合物は、ジフェニルカーボネート、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）カーボネート、ビフェニル－４－イルフェニルカーボネート、ジ（ビフェニル－４－イル）カーボネート、４－（１－メチル－１－フェニルエチル）フェニルフェニルカーボネート、ジ［４－（１－メチル－１－フェニルエチル）フェニル］カーボネートおよびジ（メチルサリチレート）カーボネートである。ジフェニルカーボネートが非常に特に好ましい。

１つのジアリールカーボネートまたは異なるジアリールカーボネートのいずれかを使用することが可能である。

末端基の制御または変異のために、例えば、使用されるジアリールカーボネートの調製に使用されなかった１つ以上のモノヒドロキシアリール化合物を連鎖停止剤として使用することがさらに可能である。これらは、一般式（ＩＩＩ）のものであってもよい。

〔式中、
Ｒ^Ａは、直鎖状または分岐状Ｃ_１－Ｃ_３４－アルキル、Ｃ_７－Ｃ_３４－アルキルアリール、Ｃ_６－Ｃ_３４－アリールまたは－ＣＯＯ－Ｒ^Ｄであり、ここで、Ｒ^Ｄは、水素、直鎖状または分岐状のＣ_１－Ｃ_３４－アルキル、Ｃ_７－Ｃ_３４－アルキルアリールまたはＣ_６－Ｃ_３４－アリールであり、および
Ｒ^Ｂ、Ｒ^Ｃは、同一または異なっていて、独立して、直鎖状または分岐状のＣ_１－Ｃ_３４－アルキル、Ｃ_７－Ｃ_３４－アルキルアリール、またはＣ_６－Ｃ_３４－アリールである〕
このようなモノヒドロキシアリール化合物は、例えば、１－、２－または３－メチルフェノール、２，４－ジメチルフェノール、４－エチルフェノール、４－ｎ－プロピルフェノール、４－イソプロピルフェノール、４－ｎ－ブチルフェノール、４－イソブチルフェノール、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、４－ｎ－ペンチルフェノール、４－ｎ－ヘキシルフェノール、４－イソオクチルフェノール、４－ｎ－ノニルフェノール、３－ペンタデシルフェノール、４－シクロヘキシルフェノール、４－（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、４－フェニルフェノール、４－フェノキシフェノール、４－（１－ナフチル）フェノール、４－（２－ナフチル）フェノール、４－トリチルフェノール、メチルサリチレート、エチルサリチレート、ｎ－プロピルサリチレート、イソプロピルサリチレート、ｎ－ブチルサリチレート、イソブチルサリチレート、ｔｅｒｔ－ブチルサリチレート、フェニルサリチレートおよびベンジルサリチレートである。

４－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、４－イソオクチルフェノールおよび３－ペンタデシルフェノールが好ましい。

好適な分岐剤としては、３個以上の官能基を有する化合物、好ましくは３個以上の水酸基を有する化合物が挙げられる。

３個以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する好適な化合物は、例えば、フロログルシノール、４，６－ジメチル－２，４，６－トリ（４－ヒドロキシフェニル）ヘプト－２－エン、４，６－ジメチル－２，４，６－トリ（４－ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５－トリ（４－ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１－トリ（４－ヒドロキシフェニル）エタン、トリ（４－ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２－ビス（４，４－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４－ビス（４－ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノールおよびテトラ（４－ヒドロキシフェニル）メタンである。

３個以上の官能基を有する他の好適な化合物は、例えば、２，４－ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸／三塩化トリメソイル、三塩化シアヌルおよび３，３－ビス（３－メチル－４－ヒドロキシフェニル）－２－オキソ－２，３－ジヒドロインドールである。

好ましい分岐剤は、３，３－ビス（３－メチル－４－ヒドロキシフェニル）－２－オキソ－２，３－ジヒドロインドールおよび１，１，１－トリ（４－ヒドロキシフェニル）エタンである。

層構造の好ましい実施形態において、層（Ａ）は、および好ましくは層（Ｂ）も、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有する少なくとも１つの添加剤を含み、または層（Ａ）、および好ましくは層（Ｂ）も、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有するコーティング組成物の形態で少なくとも１つの添加剤でコーティングされる。

好適な添加剤としては、原則として、全てのレーザー感受性添加剤、いわゆるレーザーマーキング添加剤、すなわち、使用される放射線（Ｃ）の波長範囲の吸収剤からなる添加剤が挙げられる。添加剤は、好ましくは少なくとも１以上の有機および／または無機ＩＲ吸収剤、好ましくは無機ＩＲ吸収剤を含む。このような添加剤および成形コンパウンド（ｍｏｌｄｉｎｇ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）におけるその使用は、例えば、ＷＯ－Ａ ２００４／５０７６６およびＷＯ－Ａ ２００４／５０７６７に記載されており、商品名Ｍｉｃａｂｓ（商標）でＤＳＭから市販されている。

好適な有機ＩＲ吸収剤は、例えば、７００～２５００ｎｍ（近赤外線＝ＮＩＲ）の間で可能な限り最も高い吸収を有する化合物である。好適な赤外線（ｉｎｆｒａｒｅｄ）吸収剤としては、例えば、Ｍ．Ｍａｔｓｕｏｋａ、Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ａｂｓｏｒｂｉｎｇ Ｄｙｅｓ、Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９９０に物質クラスによって記載されているような文献から知られているものが挙げられる。アゾ、アゾメチン、メチン、アントラキノン、インダントロン、ピラントロン、フラバントロン、ベンザントロン、フタロシアニン、ペリレン、ジオキサジン、チオインジゴ、イソインドリン、イソインドリノン、キナクリドン、ピロロピロールまたはキノフタロン顔料、ならびにアゾ、アゾメチンまたはメチン染料の金属錯体またはアゾ化合物の金属塩を含む物質クラスからの赤外線吸収剤が特に好適である。これらの中でも、フタロシアニンおよびナフタロシアニンが非常に特に好適である。熱可塑性プラスチックへの溶解性が改善されているため、嵩高い側基を有するフタロシアニンおよびナフタロシアニンが好ましい。

好適な無機ＩＲ吸収剤は、例えば、ＷＯ－Ａ ２００６／０４２７１４に記載されているような、例えばリン含有スズ－銅混合酸化物などの金属の混合酸化物、例えばホウ化物および／またはタングステン酸塩（ｔｕｎｇｓｔａｔｅｓ）の群からのものおよびそれらの混合物、好ましくはホウ化物および／またはタングステン酸塩の群からの少なくとも１以上のＩＲ吸収剤およびそれらの混合物、より好ましくはタングステン酸塩の群からの少なくとも１以上のＩＲ吸収剤である。

ホウ化物の群からの好適な無機ＩＲ吸収剤は、例えば、Ｍ_ｘＢ_ｙ（Ｍ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｙ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＣａ；ｘおよびｙは１～６の整数であり）のタイプの化合物を含み、例えば、六ホウ化ランタン（ＬａＢ_６）、ホウ化プラセオジム（ＰｒＢ_６）、ホウ化ネオジウム（ＮｄＢ_６）、ホウ化セリウム（ＣｅＢ_６）、ホウ化テルビウム（ＴｂＢ_６）、ホウ化ジスプロシウム（ＤｙＢ_６）、ホウ化ホルミウム（ＨｏＢ_６）、ホウ化イットリウム（ＹＢ_６）、ホウ化サマリウム（ＳｍＢ_６）、ホウ化ユーロピウム（ＥｕＢ_６）、ホウ化エルビウム（ＥｒＢ_６）、ホウ化ツリウム（ＴｍＢ_６）、ホウ化イッテルビウム（ＹｂＢ_６）、ホウ化ルテチウム（ＬｕＢ_６）、ホウ化ストロンチウム（ＳｒＢ_６）、ホウ化カルシウム（ＣａＢ_６）、ホウ化チタニウム（ＴｉＢ_２）、ホウ化ジルコニウム（ＺｒＢ_２）、ホウ化ハフニウム（ＨｆＢ_２）、ホウ化バナジウム（ＶＢ_２）、ホウ化タンタル（ＴａＢ_２）、ホウ化クロム（ＣｒＢおよびＣｒＢ_２）、ホウ化モリブデン（ＭｏＢ_２、Ｍｏ_２Ｂ_５およびＭｏＢ）、ホウ化タングステン（Ｗ_２Ｂ_５）またはそれらの組み合わせである。

また、タングステン酸塩の群からの好適な無機ＩＲ吸収剤には、例えば、Ｗ_ｙＯ_ｚ（Ｗ＝タングステン、Ｏ＝酸素；ｚ／ｙ＝２．２０－２．９９）および／またはＭ_ｘＷ_ｙＯ_ｚ（Ｍ＝Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類からの金属、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ；ｘ／ｙ＝０．００１－１．０００；ｚ／ｙ＝２．２－３．０）のタイプのタングステン化合物の群からのものがあり、好ましい元素は、Ｈ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、ＦｅおよびＳｎであり、そのなかでもＣｓが非常の特に好ましい。特に好ましいのは、Ｂａ_０．３３ＷＯ_３、Ｔｌ_０．３３ＷＯ_３、Ｋ_０．３３ＷＯ_３、Ｒｂ_０．３３ＷＯ_３、Ｃｓ_０．３３ＷＯ_３、Ｎａ_０．３３ＷＯ_３、Ｎａ_０．７５ＷＯ_３およびそれらの混合が特に好ましい。本発明の特に好ましい実施形態において、無機ＩＲ吸収剤としてＣｓ_０．３３ＷＯ_３を単独で使用することが非常に特に好ましい。同様に好ましいのは、０．２０および０．２５のＣｓ／Ｗ比である。

ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５によるＵＶ－ＶＩＳ－ＮＩＲ－ＭＩＲ法によって決定される選択された放射線について、本発明の方法が≧１０％～≦９９％、好ましくは≧３０％～≦９５％、より好ましくは≧４０％～≦９３％の放射線透過率を有する層構造上で実施される場合、固有の着色が少ないため、無機ＩＲ吸収剤の中において、ホウ化物よりもタングステン酸塩のほうが好ましい。

このようなタングステン酸塩は、例えば、三酸化タングステン、二酸化タングステン、酸化タングステンの水和物、六塩化タングステン、タングステン酸アンモニウムまたはタングステン酸、および任意に元素Ｍを含むさらなる塩、例えば炭酸セシウム、特に化学量論比を、個々の成分のモル比が式Ｍ_ｘＷ_ｙＯ_ｚによって与えられるように混合することによって調製される。次に、この混合物を還元雰囲気、例えばアルゴン－水素雰囲気中で、１００℃～８５０℃の温度で処理し、最後に得られた粉末を不活性ガス雰囲気中で５５０℃～１２００℃の温度で熱処理する。本発明の無機ＩＲ吸収剤ナノ粒子はＩＲ吸収剤を以下に記載する分散剤およびさらなる有機溶剤、例えばトルエン、ベンゼンまたは類似の芳香族炭化水素と混合し、好適なミル、例えばボールミル中で粉砕し、酸化ジルコニウム（例えば０．３ｍｍの直径を有する）を添加して所望の粒径分布を生成することによって製造することができる。ナノ粒子は、分散体の形態で得られる。粉砕後、任意に、さらなる分散剤を添加することが可能である。溶剤を高温および減圧下で除去する。２００ｎｍ未満、より好ましくは１００ｎｍ未満の平均サイズを有するナノ粒子が好ましい。粒子のサイズは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて決定することができる。ＩＲ吸収体ナノ粒子に関するこの種の測定は、例えば、Ａｄａｃｈｉら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｅｒａｍ．Ｓｏｃ．、２００８、９１、２８９７－２９０２に記載されている。

タングステン酸塩の調製は、例えば、ＥＰ－Ａ １ ８０１ ８１５により詳細に記載されており、それらは、例えば、ＹＭＤＳ８７４の名称でＳｕｍｉｔｏｍｏ Ｍｅｔａｌ Ｍｉｎｉｎｇ Ｃｏ．、Ｌｔｄ．（日本）から市販されている。

例えば、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５によるＵＶ－ＶＩＳ－ＮＩＲ－ＭＩＲ法によって決定して、≧１０％～≦９９％、好ましくは≧３０％～≦９５％、より好ましくは≧４０％～≦９３％の選択された放射線に対する放射線透過率を有する透明な熱可塑性物質を含む層構造（Ａ）でのその使用のために、このようにして得られた粒子は有機マトリックス中に、例えばアクリレート中に分散され、任意選択で、適切な補助剤、例えば二酸化ジルコニウムを使用し、任意選択で有機溶剤、例えばトルエン、ベンゼンまたは類似の炭化水素を使用して、ミル中で上記のように粉砕される。

好適なポリマーベースの分散剤は、特に、高い透過率を有する分散剤、例えば、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリエステルまたはポリエステルウレタン、およびそれらから誘導されるポリマーである。

好ましい分散剤はポリアクリレート、ポリエーテルおよびポリエステルベースのポリマーであり、高熱安定性の特に好ましい分散剤はポリアクリレート、例えば、ポリメチルメタクリレート、およびポリエステルである。これらのポリマーまたはアクリレートをベースとするコポリマーの混合物を使用することも可能である。この種の分散助剤およびタングステン酸塩分散液の製造方法は例えば、ＪＰ ２００８２１４５９６およびＡｄａｃｈｉら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｅｒａｍ．Ｓｏｃ．、２００７、９０ ４０５９－４０６１に記載されている。好適な分散剤は市販されている。

特に、ポリアクリレートベースの分散剤が好適である。このような好適な分散剤は、例えば、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、商標ＥＦＫＡ（商標）、例えばＥＦＫＡ（商標）４５００およびＥＦＫＡ（商標）４５３０のもとで入手可能である。ポリエステル含有分散剤も同様に好適である。これらは、例えば、Ａｖｅｃｉａから、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ（商標）の商標、例えば、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ（商標）２２０００、２４０００ＳＣ、２６０００、２７０００のもとで、入手可能である。ポリエーテル含有分散剤はまた、例えば、Ｋｕｓｕｍｏｔｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、Ｄｉｓｐａｒｌｏｎ（商標）ＤＡ２３４およびＤＡ３２５の商標で知られている。ポリウレタンベースの系も好適である。ポリウレタンベースの系は、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、ＥＦＫＡ（登録商標）４０４６、ＥＦＫＡ（登録商標）４０４７の商標で入手可能である。Ｔｅｘａｐｈｏｒ（登録商標）Ｐ６０とＰ６３は、Ｃｏｇｎｉｓからの対応する商標である。

添加剤は、好ましくは少なくとも１以上の有機および／または無機ＩＲ吸収剤を含む。

分散剤中のＩＲ吸収剤の量は、本発明に従って使用される無機ＩＲ吸収剤の分散体に対して、０．２重量％～５０．０重量％、好ましくは１．０％～４０．０重量％、より好ましくは５．０％～３５．０重量％、最も好ましくは１０．０％～３０．０重量％であってよい。すぐに使用できるＩＲ吸収剤配合物の全体の組成は、純粋なＩＲ吸収剤材料および分散剤だけでなく、さらなる助剤、例えば二酸化ジルコニウム、および残留溶剤、例えばトルエン、ベンゼンまたは類似の芳香族炭化水素を含むことができる。

層構造のポリマー組成物中の無機ＩＲ吸収剤、より好ましくはタングステン酸塩の群からの無機ＩＲ吸収剤の量にはいかなる制限もない。しかしながら、無機ＩＲ吸収剤、特にタングステン酸塩は、全ポリマー組成物中の無機ＩＲ吸収剤の固形分として計算して、典型的には、≧０．７重量％～≦４．５重量％、好ましくは≧０．６重量％～≦２重量％、より好ましくは≧０．７重量％～≦１．５重量％の量で使用することができる。

本文脈において、「無機ＩＲ吸収剤の固体分」、特にタングステン酸塩は、純粋な物質を含む分散体、懸濁液または他の調製物としてではなく、純粋な物質としての無機ＩＲ吸収剤、特にタングステン酸塩を意味し、ここで、ＩＲ添加剤の含有量、特にタングステン酸塩の含有量は、以下に報告され、明確に別段の記載がない限り、常にこの固体分に関連する。

好ましくは、ＩＲ吸収剤としてタングステン酸塩に加えて、さらなるＩＲ吸収剤を任意に使用することができ、そのような混合物中のその量に関する割合は、常に上記タングステン酸塩の割合未満である。混合物の場合、組成物は、好ましくは２～５（両端を含む）、特に好ましくは２つまたは３つの異なるＩＲ吸収剤を含む。さらなるＩＲ吸収剤は、好ましくはホウ化物および酸化スズの群から選択され、より好ましくはＬａＢ_６またはアンチモンドープ酸化スズまたはインジウムスズ酸化物である。

あるいは、層構造が、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有するコーティング組成物の形態で添加剤でコーティングされてもよい。これらのコーティング組成物は、≧０．７０μｍ～≦１０００μｍ、好ましくは≧１．０μｍ～≦５０μｍ、より好ましくは≧１．０μｍ～≦２．５μｍの範囲の波長範囲で吸収するＩＲ吸収剤を含むことが好ましい。これらのコーティング組成物は、例えば、Ｃｌｅａｒｗｅｌｄ（商標）として、ＬＤ９２０、ＬＤ９３０またはＬＤ９４０の名称のもとで市販されている。

使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有する少なくとも１つの添加剤は、層構造中に存在してもよい。

本発明はさらに、以下の工程：
ｉ） 少なくとも
ｉ）１． 第１の表面ａ１）および第２の表面ａ２）を有する第１の透明な放射線彫刻可能な層（Ａ）（ここで、これらの表面は、互いに本質的に平行に延びている）、
ｉ）２． 任意で、第１の層（Ａ）の方向に面する第１の表面ｂ１）および反対方向に、したがって第１の層（Ａ）から離れる方向に面するさらなる表面ｂ２）を有するさらなる透明な放射線彫刻可能な層（Ｂ）
を有する、好ましくは着色されていない層構造から出発し；
ｉｉ） 第１の透明放射線彫刻可能な層（Ａ）の第１の表面ａ１）の少なくとも一部を着色剤、好ましくは着色剤を含有する着色浴（Ｆ）と接触させ；
ｉｉｉ） ｉｉ）からの層構造を、着色浴（Ｆ）から離れた側から表面ａ２）を介して、または任意にｂ２）も介して、集束非電離電磁放射線で照射すること
を含む、着色層構造を製造するための方法を提供する。

層構造は、好ましくは工程ｉｉｉ）で非電離電磁放射線と接触する２つの外面を有する。外側面の１つは、好ましくは第１の表面ａ１）によって形成される。さらなる外面は好ましくは第２の表面ａ２）によって、または存在する場合にはさらなる表面ｂ２）によって形成される。層構造は、ステップｉｖ）において、外側の１つの上にさらなる層またはコーティングによって重ねられてもよい。

本発明の層構造に関連して既に上述したように、第１の層（Ａ）の第１の表面ａ１）への集束非電離放射線の入射は、領域の一部にわたる着色または黒色の彫刻をもたらす。集束非電離放射線が、第１の層（Ａ）の第２の表面ａ２）によって、またはさらなる層（Ｂ）のさらなる表面ｂ２）によって形成される外面に入射すると、その結果、層構造の外面、すなわち表面ａ２）またはｂ２）における不透明な構造変化の形態で、領域の一部にわたって着色または黒色の彫刻の画像が得られる。

着色浴（Ｂ）は少なくとも１つの着色剤、好ましくは少なくとも１つの染料、より好ましくはカラーインデックス分類による溶剤染料および／または分散染料の群からの少なくとも１つの染料またはこれらの染料の混合物を含むことができる。

英国染料染色学会および米国繊維化学技術・染色技術協会のカラーインデックス（ＣＩ）は、化学組成／化学構造のグループ名および番号を介して、すべての着色剤を明確に特徴付ける。

カラーインデックス分類による溶剤染料の群からの染料は、例えば、Ｌａｎｘｅｓｓ ＡＧ、ＧｅｒｍａｎｙからのＭａｃｒｏｌｅｘ（商標）染料と呼ばれるものであってもよい。例としては、Ｍａｃｒｏｌｅｘ（商標）Ｂｌｕｅ ３Ｒ、Ｍａｃｒｏｌｅｘ（商標）Ｒｅｄ Ｈ、Ｍａｃｒｏｌｅｘ（商標）Ｙｅｌｌｏｗ ６Ｇ（ＣＩによるＳｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １７９）、Ｍａｃｒｏｌｅｘ（商標）Ｖｉｏｌｅｔ Ｒｅｄ Ｒ（ＣＩによるＤｉｓｐｅｒｓｅ Ｖｉｏｌｅｔ ３１）、Ｍａｃｒｏｌｅｘ（商標）Ｏｒａｎｇｅ Ｒ（ＣＩによるＳｏｌｖｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ １０７）、またはこれらの染料の混合物が挙げられる。

カラーインデックス分類による分散染料（ｄｉｓｐｅｒｓｅ ｄｙｅｓ）の群からの染料は、例えば、ジアゾ、ジフェニルアミンおよびアントラキノン化合物、アセテート染料、分散染料（ｄｉｓｐｅｒｓｅ ｄｙｅｓ）および／または分散染料（ｄｉｓｐｅｒｓｏｌ ｄｙｅｓ）であり得、ジスパースブルー＃３、ジスパースブルー＃１４、ジスパースイエロー＃３、ジスパースレッド＃１３４およびジスパースレッド＃７を含む。上述の染料の分類および説明は、「カラーインデックス」、第３版、英国染料染色学会および米国繊維化学技術・染色技術協会の共同出版（１９７１）による。非常に一般的には、染料は、単一の染料成分として、または所望の色に従って混合物の成分として使用され得る。したがって、本明細書で使用される「染料」という用語は、染料混合物も包含する。

好適な染料には、水不溶性ジアゾ－ジフェニルアミンおよびアントラキノン化合物が含まれる。特に好適なものは、カラーインデックス、第３版、第２巻、英国染料染色学会、１９７１年、２４７９頁および２１８７～２７４３頁に開示されているようなアセテート染料、分散アセテート染料、分散染料（ｄｉｓｐｅｒｓｅ ｄｙｅｓ）および分散染料（ｄｉｓｐｅｒｓｏｌ ｄｙｅｓ）である。

好ましい分散染料は、ＤｙｓｔａｒのＰａｌａｎｉｌ Ｂｌｕｅ Ｅ－Ｒ１５０（アントラキノン／ジスパースブルー）、ＤＩＡＮＩＸ Ｏｒａｎｇｅ Ｅ－３ＲＮ（アゾ染料／Ｃｌジスパース－オレンジ２５）および溶剤染料としての上記Ｍａｃｒｏｌｅｘ（商標）染料を含む。

着色浴は、好ましくは：
ａ）溶剤および／または分散剤、好ましくは水および／または有機溶剤、より好ましくは水
ｂ）着色剤、好ましくは染料、より好ましくはカラーインデックス分類による溶剤染料および／または分散染料からの染料
ｃ）イソプロパノール
を含む。

有利な着色浴は、＞８０℃の温度でのポリカーボネート層構造の同時着色に適したものであることが見出されている。これらは、例えば、ＷＯ－Ａ ０３／０４０４６１、ＥＰ－Ａ ２０５０８６６、ＷＯ－Ａ ０３／０８３２０７に記載されている。本発明の方法の条件下では、層構造の本質的に部分的な着色が照射領域で起こり、その結果、強い彫刻がこれらの部位で正確に見えるようになる。

したがって、さらに好ましくは、着色浴は、すでに述べた成分ａ）およびｂ）に加えて、成分ｃ）を含む。

成分ａ）～ｃ）は、着色浴の総重量に基づいて以下の量で存在してもよい：
ａ）１０重量％～９０重量％、好ましくは１５重量％～８５重量％、より好ましくは３５重量％～５０重量％、
ｂ）０．０１重量％～５０重量％、好ましくは０．１重量％～２０重量％、より好ましくは０．２重量％～１５重量％、
ｃ）５重量％～９０重量％、好ましくは１０重量％～８０重量％、より好ましくは１５重量％～６０重量％。

着色浴は好ましくはカラーインデックス分類による分散染料の群から選択される染料および／または染料混合物、非常に特に、アゾ、ジフェニルアミンおよびアントラキノン化合物からなる群から選択される染料を含む。

着色浴は、好ましくはカラーインデックス分類による溶剤染料の群から選択される染料および／または染料混合物、最も好ましくはＭａｋｒｏｌｅｘ（商標）染料の染料および／または染料混合物を含む。

使用される溶剤および／または分散剤ａ）は、水および／または有機溶剤であってもよい。水を使用することが好ましい。

有用な有機溶剤には、接触時に層構造を攻撃せず、特に化学的にそれを攻撃せず、すなわち、より詳細にはその光学特性に影響を及ぼさない、すべての標準溶剤が含まれる。例としては、ブチルアルコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコール、エチルアルコール、エチレングリコール、ヘプタン、ヘキサン、ペンタン、プロパルギルアルコール、プロピルアルコールまたは上記溶剤の混合物が挙げられる。

本発明の方法では、水およびｃ）を使用することが好ましい。

工程ｉｉｉ）における層構造の照射は、集束非電離電磁放射線で行われ、ここで、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５によるＵＶ－ＶＩＳ－ＮＩＲ－ＭＩＲ法によって決定される、選択された放射線について、集束非電離電磁放射線の波長範囲は、着色浴が≧２％～≦９９％、好ましくは≧３０％～≦９５％、より好ましくは≧４０％～≦９３％の放射線透過率を有するように選択される。

好ましくは、工程ｉｉｉ）における照射は、≧０．１μｍ～≦１０００μｍ、好ましくは≧１．０μｍ～≦５０μｍ、より好ましくは≧１．０μｍ～≦２．５μｍの範囲の波長を有するレーザー放射線で行われる。

照射がレーザーによって行われる場合、これは、特にピクセルファイルまたはグレーシェードファイルの彫刻のために、連続波動作（ＣＷレーザー）で行うことができる。層構造の照射のために、またはベクトル画像、またはハーフトーン画像のために、パルスレーザー放射を使用することが特に好まれる。好ましくは０．５ｋＨｚ～１０００ｋＨｚのパルス周波数が使用され；好ましくは５ｋＨｚ～１００ｋＨｚのパルス周波数、特に好ましくは１５ｋＨｚ～５０ｋＨｚのパルス周波数が使用される。

工程ｉｉｉ）において照射に使用されるレーザービームのパワーを変化させることにより、所望の用途でなされる要求に従って、レーザー照射部位における着色の強度に影響を及ぼすことが可能である。使用するレーザー出力が高いほど、層構造のレーザー照射部位での着色が強くなる。

工程ｉｉｉ）において照射に使用されるレーザービームの周波数を変化させることにより、層（Ａ）の側面ａ１）の、すなわち着色浴から離れた層構造の側面の、触覚彫刻を灰色の濃淡で整合させることができる。低周波数の場合、パルス持続時間は、有機材料の場合、側面ａ１）の部分炭化を可能にするのに十分な長さである。これにより、彫刻は暗色に見える。これは、６０ワットの公称出力を有するレーザーを用いて、３０ｋＨｚ未満の周波数で達成される。３０ｋＨｚ以上の周波数の場合、パルス持続時間は特に短い。したがって、材料の構造変化は目に見え、知覚できるようになるが、有機材料の場合の炭化はたとえあったとしても、限定された程度にしか行われない。したがって、構造変化は、無色または白色の彫刻として現れる。

本方法では、ＮｄＹＡＧレーザー（ネオジムをドープしたイットリウムアルミニウムガーネットレーザー）を使用することが好ましい。しかしながら、層構造のカラーレーザー彫刻に関しては、層構造のようなプラスチック部品の彫刻および溶接に好適なレーザータイプを使用することも可能である。たとえば、ＣＯ_２レーザーを使用することもできる。

また、着色浴の色濃度は、照射後の、本発明の層構造のような、プラスチック部品の部分的な着色の強度に影響を及ぼし得る。着色浴の全重量に基づいて、０．０１重量％～５０重量％、より好ましくは０．１重量％～３０重量％、最も好ましくは０．２重量％～２０重量％の着色剤、好ましくは染料ｂ）の濃度が好ましい。

本方法の好ましい実施形態において、工程ｉｉｉ）における層構造は、好ましくはさらなる層（Ｂ）を通して第１の層（Ａ）上に照射される。

本方法の好ましい実施形態において、少なくとも層（Ａ）は、および好ましくは層（Ｂ）も、エチレン性不飽和モノマーのポリマー、二官能性反応性化合物の重縮合物および二官能性反応性化合物の重付加生成物またはこれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択される熱可塑性物質を含む。

繰り返しを避けるために、以下、本発明の層構造に関連して、好ましい実施形態、材料、組成物および添加剤に関する熱可塑性物質に関する上記の詳細を参照する。

本方法の好ましい実施形態において、層（Ａ）は、および任意選択で層（Ｂ）も、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有する少なくとも１つの添加剤を含み、または層（Ａ）は、および好ましくは層（Ｂ）も、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有するコーティング組成物の形態で少なくとも１つの添加剤でコーティングされる。好ましい添加剤およびそれらの好ましい量は、既に上述されている。

本方法の好ましい実施態様において、添加剤が少なくとも１以上の有機および／または無機ＩＲ吸収剤を含む。

本方法の好ましい実施形態において、着色剤または着色浴（Ｆ）は、カラーインデックス分類による、溶剤染料および／または分散染料の群からの少なくとも１つの染料またはこれらの染料の混合物を含む。

本方法の好ましい実施形態において、着色浴（Ｆ）は：
ａ） 溶剤および／または分散剤、好ましくは水および／または有機溶剤
ｂ） 少なくとも１つの着色剤、好ましくは少なくとも１つの染料、より好ましくは、カラーインデックス分類による溶剤染料および／または分散染料からの少なくとも１つの染料または前述の染料の混合物
を含む。

層（Ａ）は、および好ましくは層（Ｂ）も、好ましくは少なくとも１つの熱可塑性物質および／または少なくとも１つの黒色顔料、好ましくはカーボンブラックを含む。

層構造の第１の表面ａ１）は、好ましくは工程ｉｉ）の前に、着色浴の不在下で、集束非電離電磁放射線（Ｅ）で表面ａ２）を通して照射される。

層構造は、好ましくは、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有する少なくとも１つの添加剤を含む熱可塑性物質の少なくとも１つの層を有することができ、およびここで、この熱可塑性物質の少なくとも１つの層は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５によるＵＶ－ＶＩＳ－ＮＩＲ－ＭＩＲ法によって決定される選択された放射線について、≧１０％～≦９９％、好ましくは≧３０％～≦９５％、より好ましくは≧４０％～≦９３％の放射線透過率を有し、好ましくは無機ＩＲ吸収剤、より好ましくはタングステン酸塩の群からの無機ＩＲ吸収剤である。この層は、好ましくは最終的にはカラーレーザー彫刻もされる層構造の外側層を形成する。

層構造は、好ましくは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５によるＵＶ－ＶＩＳ－ＮＩＲ－ＭＩＲ法によって決定される選択された放射線について、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有する熱可塑性物質の少なくとも１つの外側層を備え、およびここで、熱可塑性物質のこの少なくとも１つの層は、≧１０％～≦９９％、好ましくは≧３０％～≦９５％、より好ましくは≧４０％～≦９３％の放射線透過率を有し、好ましくは、無機ＩＲ吸収剤、より好ましくはタングステン酸塩の群からの無機ＩＲ吸収剤を有し、および少なくとも１つの熱可塑性物質および少なくとも１つのレーザー感受性添加剤、好ましくは黒色顔料、より好ましくはカーボンブラックを含むさらなる層を有する。

この実施形態は、例えば、本発明のカラーレーザー彫刻と黒色レーザー彫刻との組み合わせを可能にする。この目的のために、層構造、特に層（Ａ）は、工程ｉ）の前および／または工程ｉｉｉ）の後のいずれかで、工程ｉｉｉ）におけるように着色浴（Ｂ）の不在下でＥ）で照射されてもよい。同じ放射線（Ｃ）が、このさらなる照射のために理想的に使用され得る。着色浴（Ｆ）の不在下で（Ｃ）を照射することにより、所望の部位の表面に、好ましくはその下の層構造の透明層に黒色彫刻を施すことが可能になる。着色浴の外側でレーザー彫刻を行う場合には、これらの層構造の高いレーザー反応性がレーザー照射部位で黒化をもたらす。層構造が着色浴内にある場合、レーザービームの強度は、照射部位のみに着色が行われ、層構造の表面の黒化をもたらされないように、着色浴によって減衰される。

着色浴の外側で黒色または白色のレーザー彫刻を作成するために、手順は、好ましくは以下のとおりである：使用されるレーザービームの周波数を変化させることによって、グレーシェードで層構成の触覚彫刻を調整することが可能である。低周波数の場合、パルス持続時間は、有機材料の場合、層内の炭化を可能にするのに十分な長さである。これにより、彫刻は暗色に見える。これは、６０ワットの公称出力を有するレーザーを用いて、３０ｋＨｚ未満の周波数で達成される。３０ｋＨｚ以上の周波数の場合、パルス持続時間は特に短い。これは材料の構造変化を目に見えるようにし、知覚できるようにし、有機材料の場合には炭化があるとしても、限られた炭化しかない。これは、この彫刻が、無色または白色の外観を有することを意味する。

本発明はさらに、本発明の層構造または本発明の方法によって得られる層構造を有するセキュリティ文書に関する。より詳細には、本発明の方法によって個人化された、またはカラー彫刻されたセキュリティ文書、例えば、ＩＤカード、パスポートおよび運転免許証、ならびに他の個人化されたセキュリティ文書は、適用される個人化された、またはカラー彫刻された情報の高度な偽造証明を特徴とする。本発明の方法は、分散されおよび偽造防止の様式で、白黒彫刻との組み合わせを含む着色で、空白文書を個人化するために使用することができる。さらに、カラーで、あるいは黒色と白色の彫刻と組み合わせて、触覚レーザー彫刻を生成することが可能であり、これは、今日まで黒色でのみ可能であった。

例
フィルム１：Ｍａｋｒｏｆｏｌ（商標）ＩＤ ６－２ ０００００透明、厚さ６００μｍのポリカーボネートから構成され、Ｃｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＡＧ（本発明の層構造の層（Ｃ）に相当する）から。

フィルム２：厚さ１００μｍのＩＲ吸収剤を有する透明ポリカーボネートフィルムを以下のように製造した（本発明の層構造の層（Ａ）または（Ｂ）に相当）：
マスターバッチ：高濃度ＩＲマスターバッチの配合
フィルム２を製造するためのマスターバッチは、ポリカーボネートに慣用の２５０℃～３３０℃の加工温度で、従来の二軸配合押出機（ＺＳＫ ３２）を用いて製造した。

以下の組成を有するマスターバッチを配合し、続いてペレット化した：
・ ９４．６９重量％のＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＡＧからのＭａｋｒｏｌｏｎ（商標）３１０８ポリカーボネート
・ ０．７５重量％のＳｕｍｉｔｏｍｏからのＹＭＤＳ ８７４ ＩＲ吸収剤
・ ４．５重量％のＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＡＧからのＭａｋｒｏｌｏｎ（商標）３１０８粉末
・ ０．００６重量％（６０ｐｐｍ）の平均粒径９５ｎｍを有するランプブラック１０１（Ｅｖｏｎｉｋ－Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨからのカーボンブラック）。

押出フィルム２の製造
押出フィルムの製造に使用される装置は以下を備える：
・ 直径（Ｄ）６０ｍｍ、長さ３３ Ｄのスクリューを備える、少なくとも１つのポリカーボネートを含有する層を押出成形するための押出機。スクリューは揮発分除去ゾーンを有する；
・ 溶融ポンプ；
・ クロスヘッド；
・ 幅４５０ｍｍのスロットダイ；
・ 第３のロールが水平に対して＋／４５°旋回可能である、水平ロール配置を有する３ローラー平滑カレンダー；
・ ロールコンベヤー；
・ 厚さ測定手段
・ 保護フィルムの両面塗布のための装置；
・ 引取装置；
・ 巻取りステーション。

マスターバッチのペレットは、乾燥機から押出機の充填ホッパーに運ばれた。材料を溶融し、押出機のバレル／スクリュー可塑化システムに運んだ。溶融物は、スロットダイから平滑化カレンダーに送られた。フィルムの最終的な整形と冷却は平滑カレンダー（３本のロールから成る）上で行われた。表面は非平坦化鋼ロール（６番側）と非平坦化シリコーンゴムロール（２番側）を用いてエンボス加工した。フィルム表面をテクスチャー加工するために使用されるゴムロールは、ナウタロール社（Ｎａｕｔａ Ｒｏｌｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）のＵＳ－４ ３６８ ２４０に開示されている。その後、フィルムを、引取を通して輸送し、次いでフィルムを巻き取った。

フィルム１および２のラミネーションにより、積層体Ａを得る：
ラミネーションは、Ｂueｒｃｋｌｅ ５０／１００ ラミネーションプレスで行った。

積層体である以下の層構造を作製した：
フィルム２、１００μｍ
フィルム１、６００μｍ
フィルム２、１００μｍ
上述の層構造は、以下のプレス設定で積層された：
プレスを１７０～１８０℃に予熱する
１５Ｎ／ｃｍ²で８分間加圧
１００Ｎ／ｃｍ²で２分間加圧
プレスを３８℃まで冷却し、プレスを開ける
ラミネーションのために高光沢ラミネーションシートを使用した；このようにして積層体は、両側に高光沢表面を受け、したがってガラスクリアな外観を有した。

着色浴の組成
５重量％の水
１５重量％のＭａｃｒｏｌｅｘ（商標）Ｂｌｕｅ ３Ｒ（染料、Ｌａｎｘｅｓｓ ＡＧ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄから）
８０重量％のイソプロパノール
実施例１：
４つのスペーサーを上記の組成の着色浴（Ｆ）に入れた。上述のような特性を有する積層体Ａの形態の本発明の層構造をスペーサー上に配置した。スペーサーの高さは、積層体Ａが着色浴（Ｆ）によってその下側からのみ濡れるように調整した。

積層体Ａのレーザー照射は、Ｆｏｂａ Ｄ８４Ｓ ＮｄＹＡＧ １０６４ｎｍレーザーを用いて行った。これを、レーザー出力約７．５ワット、パルス動作でのレーザー周波数３０ｋＨｚ、電流３０Ａで動作させた。走行速度は６０ｍｍ／ｓとした。フィルム付き着色浴（Ｆ）をＦｏｂａ Ｄ８４Ｓレーザー装置の工作物キャリア上に置いた。レーザーの焦点は、積層体Ａのフィルム表面に合わせた。

照射後、積層体Ａを着色浴（Ｆ）から取り出し、水で洗浄した。ラミネートＡを照射源に面する側から見ると、以下の観察がなされた：暗い背景に対して見ると、レーザー彫刻要素は白色に見えた；青色を知覚することは不可能またはほとんど不可能であった；レーザー彫刻は白色に見えた。白色の背景で見ると、青色を明確に知覚することが可能であった。

積層体Ａを、着色浴（Ｆ）に面する側から見た場合、白色または明るい色の背景に対しても、黒色または暗い色の背景に対しても、色を明確に知覚することが可能であった。

この効果の説明は、構造変化の定義において既に記載されている。

レーザーが照射において最初に接触する表面、この場合は表面ａ２）における層構造のヘイズの測定のために、ＩＳＯ １３４６８－１に相当する標準ＡＳＴＭ Ｄ１００３：２０１３に従って濁度の測定を行った。この目的のために、ＢＹＫ－Ｇａｒｄｎｅｒヘイズガードプラス機器を使用し、これを使用して、標準ＡＳＴＭ Ｄ１００３：２０１３に従ってヘイズを決定した。測定されたヘイズは８７．２％の値に達し、０％はガラスクリア層に相当するゼロヘイズを示した。層構造は、レーザー光が照射されなかった部位で５％のヘイズを有していた。同標準を用いて、レーザーによる彫刻を行う前の積層体Ａを通る透過率は８１．１％であるのに対して、彫刻部位にレーザーによる彫刻を導入した後の透過率は３８．２％であることがわかった。

実施例２
実施例１を、赤色の着色浴および黄色の着色浴で繰り返した。

着色浴の組成は、染料を除いて実施例１と同じであった。使用した赤色染料は、Ｍａｃｒｏｌｅｘ（登録商標）Ｒｅｄ Ｈであった。

使用した黄色染料は、Ｍａｃｒｏｌｅｘ（登録商標）Ｙｅｌｌｏｗ ６Ｇであった。

積層体を暗い背景に対して観察した場合、レーザー彫刻要素は白色に見え、色を知覚することは不可能であり、レーザー彫刻は白色に見えた。白色の背景で見ると、赤色および黄色を明確に知覚することが可能であった。

積層体を、着色浴（Ｆ）に面する側から見た場合、白色または明るい色の背景および黒色または暗い色の背景の両方に対して、色を明確に知覚することが可能であった。

レーザーが照射において最初に接触する表面、この場合は表面ａ２）における層構造のヘイズの測定のために、ＩＳＯ １３４６８－１に相当する標準ＡＳＴＭ Ｄ１００３：２０１３に従って濁度の測定を行った。この目的のために、ＢＹＫ－Ｇａｒｄｎｅｒヘイズガードプラス機器を使用し、これを使用して、標準ＡＳＴＭ Ｄ１００３：２０１３に従ってヘイズを決定した。測定されたヘイズは８７．２％の値に達し、０％はガラスクリア層に相当するゼロヘイズを示した。層構造は、レーザー光が照射されなかった部位で５％のヘイズを有していた。

図
以下の図は、これらの実施形態に限定されることなく、構造変化および領域の一部にわたる着色または黒色彫刻がレーザーによって層構造に同時に導入される方法を例として示す。図は示す：
図１ａ：領域の一部にわたる着色または黒色彫刻および不透明な構造変化の両方が、互いに対して垂直な画像としてレーザーによって導入される、側面図としての本発明の層構造の概略図。

図１ｂ：図１のような本発明の層構造の概略図であるが、層構造はレーザーに対して約４５°回転されている。

図１ｃ：図１のような本発明の層構造の概略図であるが、層構造に対して約４５°回転されたレーザーを有する。
図２：製造工程の概略図。

図１ａは、実施例１または２に記載されたように製造された層構造体１上に、実施例について上述した条件下で、色１２０が第１の表面ａ１）１０上に導入され、不透明な構造変化１１０がさらなる表面ａ２）２０上に導入された様子を示す。積層体Ａの形態での層構造１のレーザー照射のために、レーザー光１００は、まず、層構造１のさらなる表面ａ２）２０上に垂直に向けられた。レーザービーム１００が層構造１のさらなる表面ａ２）２０に当たると、非透明構造変化１１０が生成された。次いで、レーザービーム１００は、層構造１の厚さＤを通って、さらなる表面ａ２）２０まで垂直に走行した。第１の面ａ１）１０に当たると、層構造体１を通過したレーザー光１００は、一旦構造変化部１１０を作製した後、着色または黒色の彫刻１２０を作成した。この着色は、第１の表面１０が着色浴２００と直接接触しているので可能であった。

図１ｂは、図１ａに示されているように同じ方法であって、レーザービーム１００が約４５°の角度で層構造１のさらなる表面２０に当たるように、層構造１、特に層構造１のさらなる表面２０がレーザーの入射角に対して数度だけ回転されているものを示す。レーザー光１００のビーム経路は同様に、層構造の厚さＤを通っており、レーザービームは、図１の配置におけるよりも幾分大きい距離を覆っている。その結果、領域の一部にわたって着色または黒色の彫刻１２０の画像を構成する非透明構造変化１１０は、層構造１を通る法線に対してわずかにシフトされた配置にある。

図１ｃは、図１ａに示されているように同じ方法であって、レーザービーム１００が、約４５°の角度で、層構造１のさらなる表面ａ２）２０に当たるように、レーザーおよびしたがってレーザー光１００が層構造１のさらなる表面２０に対して数度だけ回転されているものを示す。レーザー光１００のビーム経路は同様に、層構造の厚さＤを通っており、レーザービームは、図１の配置におけるよりも幾分大きい距離を覆っている。その結果、彫刻１２０の画像を構成する非透明構造変化１１０は、層構造１を通る法線に対してわずかにずれた配置にある。

図２は、本発明の方法の工程を示す。工程ｉ）３００において、着色されていない層構造体１は、積層体Ａの形態で提供された。図１ａについて上述したように、これは、Ｆｏｂａ Ｄ８４Ｓレーザー装置の工作物キャリア上で行われる。工程ｉｉ）４００では、第１の表面ａ１）１０のみが着色浴（Ｆ）２００と接触するように、着色浴（Ｆ）２００を層構造体１の下に配置した。第３の工程ｉｉｉ）５００において、層構造１は最初に、層構造１のさらなる表面ａ２）２０上にレーザービーム１００によって照射され、レーザー光１００が当たると、さらなる表面ａ２）上に不透明な構造変化１１０が生成された。その後、レーザー光は、第１の表面ａ１）１０に当たり、そこの領域の一部の上に着色または黒色の彫刻１２０を生成する。

Claims (15)

1. （Ａ）第１の表面ａ１）と、表面ａ１）に本質的に並行に延びる第２の表面ａ２）を有する第１の透明な放射線彫刻可能な層（Ａ）（ここで、層構造の第１の外面を形成するその第１の表面ａ１）上の第１の層（Ａ）は、非電離電磁放射線（Ｅ）によって生成された領域の一部にわたる着色または黒色の彫刻を有する）；
   （Ｂ）任意で、第１の層（Ａ）の方向に面する第１の表面ｂ１）と、第１の層（Ａ）から離れる方向に面し、表面ｂ１）と本質的に平行に延びるさらなる表面ｂ２）を有するさらなる透明な放射線彫刻可能な層（Ｂ）；
   （Ｃ）任意で、少なくとも１つの追加の透明ポリマー層（Ｃ）（ここで、層（Ｃ）の配置は、層（Ａ）の第１の表面ａ１）の側、さらなる層（Ｂ）のさらなる表面ｂ２）の側、２つの層（Ａ）と（Ｂ）の間、または複数のさらなる層（Ｃ）の場合、これらのうちの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択的に選択される）
   を有する層構造であって、
   ここで、領域の一部にわたる着色または黒色の彫刻の画像が、層構造のさらなる外面を形成し、第１の表面ａ１）とは反対の層構造の表面の不透明な構造変化の形態で存在する、前記層構造。
2. 第１の表面ａ１）の反対側にあり、層構造のさらなる外面を形成する層構造の表面が、少なくとも彫刻から始まる層構造を通って直角に延びる軸に対して４５°～９０°の範囲の角度にある部位において変化構造を有する、請求項１に記載の層構造。
3. 変化構造が、濁ったまたは乳白色の外観を有し、好ましくは２０～５００ＮＴＵの範囲内の濁度、より好ましくは５０～４５０ＮＴＵの範囲内の濁度を有する、先行する請求項のいずれかに記載の層構造。
4. 変化構造を有する部位の層（Ｂ）が、変化構造がない部位よりも少なくとも０．００１ｍｍ厚い層厚を有する、先行する請求項のいずれかに記載の層構造。
5. 層（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の少なくとも１つ、好ましくはすべてが、以下の特性：
   Ｉ． １０μｍ～１００００μｍの範囲内の層厚；
   ＩＩ． ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５によるＵＶ－ＶＩＳ－ＮＩＲ－ＭＩＲ法によって決定される、選択された放射線に対する≧２％～≦９９．９５％、好ましくは≧４％～≦９０％、より好ましくは≧５％～≦８５％の放射線透過率
   の１つ、好ましくは２つ、より好ましくは３つ、最も好ましくはすべてを有する、先行する請求項のいずれかに記載の層構造。
6. 少なくとも層（Ａ）が、および好ましくは層（Ｂ）も、エチレン性不飽和モノマーのポリマー、二官能性反応性化合物の重縮合物および二官能性反応性化合物の重付加生成物またはこれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択される熱可塑性物質を含む、先行する請求項のいずれかに記載の層構造。
7. 層（Ａ）が、および好ましくは層（Ｂ）も、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有する少なくとも１つの添加剤を含むか、または層（Ａ）が、および好ましくは層（Ｂ）も、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有するコーティング組成物の形態の少なくとも１つの添加剤でコーティングされている、先行する請求項のいずれかに記載の層構造。
8. 以下の工程：
   ｉ） 少なくとも
   ｉ）１． 第１の表面ａ１）、および第２の表面ａ２）を有する第１の透明な放射線彫刻可能な層（Ａ）（ここで、これらの表面は、互いに本質的に平行に延びている）
   ｉ）２． 任意で、第１の層（Ａ）の方向に面する第１の表面ｂ１）および反対方向に、したがって第１の層（Ａ）から離れる方向に面するさらなる表面ｂ２）を有するさらなる透明な放射線彫刻可能な層（Ｂ）
   を有する、好ましくは着色されていない層構造から出発し；
   ｉｉ） 第１の透明放射線彫刻可能な層（Ａ）の第１の表面ａ１）の少なくとも一部を着色剤、好ましくは着色剤を含有する着色浴（Ｆ）と接触させ；
   ｉｉｉ） ｉｉ）からの層構造を、着色浴（Ｆ）から離れた側から表面ａ２）を介して、または任意にｂ２）も介して、集束非電離電磁放射線で照射すること
   を含む、着色層構造を製造するための方法。
9. 工程ｉｉｉ）における層構造が、好ましくはさらなる層（Ｂ）を通して第１の層（Ａ）上に照射される、請求項８に記載の方法。
10. 少なくとも層（Ａ）、および好ましくは層（Ｂ）も、エチレン性不飽和モノマーのポリマー、二官能性反応性化合物の重縮合物および二官能性反応性化合物の重付加生成物またはこれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択される熱可塑性物質を含む、請求項８および９のいずれかに記載の方法。
11. 層（Ａ）が、および任意で層（Ｂ）も、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有する少なくとも１つの添加剤を含むか、または層（Ａ）が、および好ましくは層（Ｂ）も、使用される集束非電離電磁放射線の波長範囲に吸収極大を有するコーティング組成物の形態の少なくとも１つの添加剤でコーティングされている、請求項８～１０のいずれかに記載の方法。
12. 添加剤が、少なくとも１以上の有機および／または無機ＩＲ吸収剤を含む、請求項１１に記載の方法。
13. 着色剤または着色浴（Ｆ）が、カラーインデックス分類による溶剤染料および／または分散染料の群からの少なくとも１つの染料またはこれらの染料の混合物を含む、請求項８～１２のいずれかに記載の方法。
14. 着色浴（Ｆ）が：
    ａ） 溶剤および／または分散剤、好ましくは水および／または有機溶剤、
    ｂ） 少なくとも１つの着色剤、好ましくは少なくとも１つの染料、より好ましくは、カラーインデックス分類による溶剤染料および／または分散染料からの少なくとも１つの染料または前述の染料の混合物
    を含む、請求項８～１３のいずれかに記載の方法。
15. 請求項１～７のいずれかに記載の層構造を有するか、または請求項８～１４のいずれかに記載の方法によって得ることができるセキュリティ文書。

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