JP2023182772A - Substrate processing apparatus and substrate processing method - Google Patents

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Abstract

To contribute to an improvement of a production efficiency of a substrate processing apparatus.SOLUTION: A substrate processing method contains: a step (t1) of receiving data of a first control job CJ1 as a processing to a first lot; and a step (t2) of receiving data of a second control job CJ2 as a processing to a second lot after that. The first control job CJ1 contains processing jobs PJ11 to PJ13. The second control job CJ2 contains processing jobs PJ21 to PJ23. For example, each recipe of the processing jobs PJ11, PJ13, and PJ21 to PJ23 contains a common attribute, and a recipe of the processing job PJ12 contains a different attribute. In this case, an execution of the processing job contained in the second control job CJ2 is planed even before completion of the first control job CJ1 so that the processing job of the common attribute is continued.SELECTED DRAWING: Figure 16

Description

この発明は、基板を処理するための基板処理装置および基板処理方法に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method for processing a substrate.

特許文献1は、基板を一枚ずつ処理する枚葉型の処理ユニットを有する基板処理装置の動作を規定するスケジュールを作成する方法を開示している。基板の処理を規定するプロセスジョブ情報がホストコンピュータから入力され、入力された順序でプロセスジョブ情報に対応するスケジュールが作成される。その作成されたスケジュールに従って、基板が処理ユニットに搬送され、処理ユニットにおいて基板に対する処理が実行され、処理後の基板が処理ユニットから搬出される。プロセスジョブは、1枚または複数枚の基板に対する処理である。 Patent Document 1 discloses a method for creating a schedule that defines the operation of a substrate processing apparatus having a single-wafer type processing unit that processes substrates one by one. Process job information that defines substrate processing is input from a host computer, and schedules corresponding to the process job information are created in the input order. According to the created schedule, the substrate is transported to the processing unit, processing is performed on the substrate in the processing unit, and the processed substrate is carried out from the processing unit. A process job is processing for one or more substrates.

特許文献1は、さらに、基板種や薬液温度といったカテゴリが共通するプロセスジョブが連続するようにプロセスジョブの実行順序をスケジュールする構成を開示している。 Patent Document 1 further discloses a configuration in which the execution order of process jobs is scheduled so that process jobs having common categories such as substrate type and chemical temperature are consecutive.

特開2016-139667号公報Japanese Patent Application Publication No. 2016-139667

基板処理装置には、基板を収容した基板収容器がセットされる。基板処理装置は、その基板収容器から基板を取り出して処理し、その基板収容器に処理後の基板を収容するように動作する。基板収容器は、複数枚(たとえば25枚)の基板を収容可能である。一つの基板収容器に収容された1枚以上の基板は処理ロットを構成する。この処理ロットに対する処理を規定する情報は、たとえばコントロールジョブ情報と呼ばれる。このコントロールジョブ情報は、1または複数のプロセスジョブ情報を含む。換言すれば、処理ロットに対する処理がコントロールジョブであり、一つのコントロールジョブは、一つまたは複数のプロセスジョブを含む。 A substrate container containing substrates is set in the substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus operates to take out a substrate from its substrate container, process it, and store the processed substrate in its substrate container. The substrate container can accommodate a plurality of substrates (for example, 25 substrates). One or more substrates accommodated in one substrate container constitute a processing lot. Information that defines the processing for this processing lot is called, for example, control job information. This control job information includes one or more process job information. In other words, processing for a processing lot is a control job, and one control job includes one or more process jobs.

基板処理装置は、複数個の基板収容器をそれぞれセット可能な複数の収容器保持部を備える場合がある。この場合、複数の処理ロットに対する処理を基板処理装置に対して予約することができる。より具体的には、複数の処理ロットに対応する複数のコントロールジョブ情報がホストコンピュータから基板処理装置に入力される。特許文献1に従ってプロセスジョブの順序が変更される場合であっても、コントロールジョブの範囲を超えてプロセスジョブの順序が入れ替えられることはない。それにより、処理ロットが順次処理されることを保証し、一つの処理ロットの処理開始から処理終了までの時間が一定限度を超えないようになっている。 The substrate processing apparatus may include a plurality of container holders each capable of setting a plurality of substrate containers. In this case, processing for a plurality of processing lots can be reserved for the substrate processing apparatus. More specifically, a plurality of pieces of control job information corresponding to a plurality of processing lots are input from a host computer to the substrate processing apparatus. Even if the order of process jobs is changed according to Patent Document 1, the order of process jobs will not be changed beyond the scope of the control job. This ensures that the processing lots are processed sequentially, and the time from the start of processing to the end of processing for one processing lot does not exceed a certain limit.

しかし、このような制限のために、生産性の向上が妨げられる場合がある。たとえば、第1のコントロールジョブが、第1カテゴリの第1プロセスジョブと、第2カテゴリの第2プロセスジョブを含み、第2のコントロールジョブが第1カテゴリの第3プロセスジョブを含む場合を想定する。コントロールジョブの範囲内でのみプロセスジョブの順序変更が可能であるとすれば、第1プロセスジョブ、第2プロセスジョブおよび第3プロセスジョブの順に処理が実行される。すると、第1および第2プロセスジョブの間で第1カテゴリから第2カテゴリへの変更のための準備工程が行われ、第2および第3プロセスジョブの間で第2カテゴリから第1カテゴリへの変更のための準備工程が行われる。したがって、第1カテゴリから第2カテゴリに変更し、再度、第1カテゴリに戻す処理が行われ、そのために、2回の準備工程が必要となる。このように、準備工程の回数が多くなるため、基板処理装置の生産効率の向上が妨げられる。 However, such limitations may hinder productivity improvements. For example, assume that the first control job includes a first process job in the first category and a second process job in the second category, and the second control job includes a third process job in the first category. . If it is possible to change the order of process jobs only within the scope of the control job, processing is executed in the order of the first process job, the second process job, and the third process job. Then, a preparation process for changing from the first category to the second category is performed between the first and second process jobs, and a preparation process for changing from the second category to the first category is performed between the second and third process jobs. A preparatory process for the change is carried out. Therefore, the process of changing from the first category to the second category and returning to the first category is performed, which requires two preparation steps. As described above, since the number of preparation steps increases, improvement in production efficiency of the substrate processing apparatus is hindered.

そこで、この発明の一つの目的は、基板処理装置の生産効率の向上に寄与することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 Therefore, one object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that can contribute to improving the production efficiency of the substrate processing apparatus.

この発明は、基板に対する処理を実行する処理ユニットを備えた基板処理装置によって基板を処理する基板処理方法を提供する。この方法は、前記基板処理装置が、第1ロットに対する処理である第1コントロールジョブを規定する第1コントロールジョブ情報を受け付ける工程と、前記基板処理装置が、前記第1コントロールジョブ情報を受け付けた後に、第2ロットに対する処理である第2コントロールジョブを規定する第2コントロールジョブ情報を受け付ける工程と、を含む。前記第1コントロールジョブ情報は、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第1レシピによる処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報と、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第2レシピによる処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報と、を含む。前記第2コントロールジョブ情報は、前記第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第3レシピによる処理である第3プロセスジョブを規定する第3プロセスジョブ情報を含む。そして、前記基板処理方法は、前記第1レシピおよび前記第3レシピが共通する属性を含み、前記第2レシピが当該属性を含まない場合に、前記第1プロセスジョブおよび前記第2プロセスジョブの間に前記第3プロセスジョブを実行する順序で前記第1、第2および第3プロセスジョブの実行計画を策定するスケジューリング工程と、前記策定された実行計画に従って前記処理ユニットによって基板を処理する処理実行工程と、をさらに含む。 The present invention provides a substrate processing method in which a substrate is processed by a substrate processing apparatus equipped with a processing unit that performs processing on the substrate. This method includes a step in which the substrate processing apparatus receives first control job information that defines a first control job that is a process for a first lot; and after the substrate processing apparatus receives the first control job information. , receiving second control job information that defines a second control job that is a process for the second lot. The first control job information includes first process job information that defines a first process job that is processing of one or more substrates included in the first lot according to a first recipe, and first process job information that is included in the first lot. and second process job information that defines a second process job that is a process for one or more substrates to be processed according to a second recipe. The second control job information includes third process job information that defines a third process job that is processing according to a third recipe for one or more substrates included in the second lot. In the substrate processing method, when the first recipe and the third recipe include a common attribute and the second recipe does not include the attribute, the first process job and the second process job a scheduling step of formulating an execution plan for the first, second, and third process jobs in the order in which the third process job is to be executed; and a processing execution step of processing the substrate by the processing unit according to the formulated execution plan. and further includes.

ロットとは、1枚または複数枚の基板で構成され、基板処理装置に対して処理の指令または予約がされる処理単位である。所定枚数の基板を収容することができる基板収容器を用いて基板処理装置に対して処理対象の基板が導入される場合には、その基板収容器に収容された1枚または複数枚の基板が一つのロットを構成してもよい。
コントロールジョブは、ロットに対して基板処理装置が実行すべき処理である。コントロールジョブ情報とは、コントロールジョブの内容を規定する情報である。したがって、コントロールジョブ情報によって、ロットが規定され、かつそのロットに対する処理内容が規定されるということもできる。一つのコントロールジョブは、一つまたは複数のプロセスジョブを含む。それに応じて、コントロールジョブ情報は、一つまたは複数のプロセスジョブ情報を含む。
A lot is a unit of processing that is composed of one or more substrates and for which a processing instruction or reservation is given to a substrate processing apparatus. When a substrate to be processed is introduced into a substrate processing apparatus using a substrate container that can accommodate a predetermined number of substrates, one or more substrates accommodated in the substrate container are It may constitute one lot.
A control job is a process that a substrate processing apparatus should perform on a lot. Control job information is information that defines the contents of a control job. Therefore, it can be said that the control job information defines a lot and also defines the processing contents for the lot. One control job includes one or more process jobs. Accordingly, the control job information includes one or more process job information.

プロセスジョブとは、共通のレシピによる1枚または複数枚の基板に対する処理である。プロセスジョブ情報は、プロセスジョブの内容を規定する情報である。プロセスジョブ情報は、レシピを指定する情報を含む。レシピとは、基板に対する処理条件を規定する情報である。処理条件は、基板に供給する流体(液体または気体)に関する条件を含んでいてもよい。流体に関する条件は、流体の種類、流体の温度、供給流量、供給時間などであってもよい。 A process job is processing for one or more substrates according to a common recipe. Process job information is information that defines the contents of a process job. The process job information includes information specifying a recipe. A recipe is information that defines processing conditions for a substrate. The processing conditions may include conditions regarding the fluid (liquid or gas) supplied to the substrate. The conditions regarding the fluid may include the type of fluid, the temperature of the fluid, the supply flow rate, the supply time, and the like.

レシピの属性とは、レシピのカテゴリと言い換えることもできる。たとえば、処理の連続実行が可能かどうかという観点に着目してレシピの属性を分類してもよい。より具体的には、プロセスジョブの実行計画を策定する際に着目されるレシピの属性は、基板に供給される流体の種類(たとえば薬液の種類)や流体の温度であってもよい。
基板処理装置は、複数の処理ユニットを含んでいてもよい。この場合、レシピは、処理をすべき1または複数の処理ユニットを指定する処理ユニット指定情報を含んでいてもよい。
The recipe attribute can also be referred to as a recipe category. For example, recipe attributes may be classified based on whether processing can be executed continuously. More specifically, the attributes of a recipe that are of interest when formulating an execution plan for a process job may be the type of fluid (for example, the type of chemical) or the temperature of the fluid supplied to the substrate.
The substrate processing apparatus may include multiple processing units. In this case, the recipe may include processing unit designation information that designates one or more processing units to perform processing.

基板処理装置は、処理対象の基板を待機させておくための基板待機場所から処理ユニットまで基板を搬送する基板搬送手段を備えていてもよい。この場合、プロセスジョブの実行計画は、基板の搬送に関する計画を含むことが好ましい。それに応じて、処理実行工程では、基板の搬送および処理ユニットでの基板処理が行われる。
この発明では、第1コントロールジョブに含まれる全てのプロセスジョブが完了する前に第2コントロールジョブに含まれるプロセスジョブが実行される場合がある。より具体的には、第1コントロールジョブに含まれるプロセスジョブと共通属性のレシピが指定されたプロセスジョブが第2コントロールジョブに含まれている場合に、コントロールジョブの枠を超えて、プロセスジョブの順序が入れ替えられる。すなわち、第1コントロールジョブが異なる属性のレシピが指定された第1プロセスジョブおよび第2プロセスジョブを含み、第2コントロールジョブが第1プロセスジョブのレシピと共通属性を有するレシピが指定された第3プロセスジョブを有する場合を考える。この場合、第1プロセスジョブ、第3プロセスジョブ、第2プロセスジョブの順にプロセスジョブを実行する計画が策定される。すなわち、第1コントロールジョブの完了よりも前に、第2コントロールジョブのプロセスジョブが割り込む。それにより、コントロールジョブの枠を超えてプロセスジョブの順序が入れ替えられ、共通属性のレシピが指定されたプロセスジョブをまとめて(連続して)実行できる。これにより、レシピの属性の切り替わり回数を減らすことができるので、生産効率の高い基板処理を実現できる。
The substrate processing apparatus may include a substrate transport means for transporting the substrate from a substrate standby location to the processing unit. In this case, it is preferable that the process job execution plan includes a plan for transporting the substrate. Accordingly, in the processing execution step, the substrate is transported and the substrate is processed in the processing unit.
In this invention, a process job included in the second control job may be executed before all process jobs included in the first control job are completed. More specifically, when a second control job includes a process job for which a recipe with a common attribute is specified as a process job included in the first control job, the process job is The order can be swapped. That is, the first control job includes a first process job and a second process job to which recipes with different attributes are specified, and the second control job includes a third process job to which a recipe having common attributes with the recipe of the first process job is specified. Consider a case where you have a process job. In this case, a plan is created to execute the process jobs in the order of the first process job, the third process job, and the second process job. That is, the process job of the second control job interrupts the process job before the first control job is completed. As a result, the order of process jobs is changed beyond the control job, and process jobs for which recipes with common attributes are specified can be executed all at once (successively). This makes it possible to reduce the number of times recipe attributes are switched, thereby realizing substrate processing with high production efficiency.

この発明の一実施形態では、前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、前記スケジューリング工程が、前記第3プロセスジョブの後に前記第2レシピに含まれる属性に対応する準備工程を実行する計画を策定する。
この方法では、準備工程を必要とする属性に着目してレシピを分類し、共通属性のレシピを指定したプロセスジョブをまとめて(連続して)実行することができる。それにより、レシピの切替えに際して必要となる準備工程の回数を少なくできるから、生産効率の高い基板処理を実現できる。
In one embodiment of the invention, the attribute is an attribute that requires a preparatory step before starting processing in the processing unit, and the scheduling step is included in the second recipe after the third process job. Develop a plan to perform the preparation steps corresponding to the attributes.
In this method, recipes are classified by focusing on attributes that require a preparation step, and process jobs that specify recipes with common attributes can be executed collectively (successively). As a result, the number of preparation steps required when switching recipes can be reduced, and substrate processing with high production efficiency can be realized.

この発明の一実施形態では、前記スケジューリング工程が、所定の割込実行条件が充足されると、未実行のプロセスジョブの計画を変更して、当該割込実行条件に基づいて選択されるプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリング工程を含む。
「割込実行を計画する」とは、或るプロセスジョブの実行順序を繰り上げて割り込ませるように計画変更することをいう。
In one embodiment of the present invention, the scheduling step, when a predetermined interrupt execution condition is satisfied, changes the plan of an unexecuted process job to execute a process job that is selected based on the interrupt execution condition. includes an interrupt scheduling step for planning the execution of interrupts.
"Planning interrupt execution" refers to changing the plan so that the execution order of a certain process job is moved up and interrupted.

たとえば、割込実行条件は、共通属性のレシピを指定したプロセスジョブをまとめて実行するよりも優先すべき条件であってもよい。このような割込実行条件を設定しておくことによって、コントロールジョブの枠を超えたプロセスジョブの入れ替えに伴って不都合が生じる場合には、そのような不都合を回避または解消できる。それにより、適切な基板処理を確保しながら、生産効率の向上を図ることができる。 For example, the interrupt execution condition may be a condition that should take priority over executing all process jobs that specify recipes with common attributes. By setting such interrupt execution conditions, if any inconvenience occurs due to the replacement of process jobs beyond the control job, such inconvenience can be avoided or eliminated. Thereby, it is possible to improve production efficiency while ensuring appropriate substrate processing.

この発明の一実施形態では、前記基板処理方法が、前記第1コントロールジョブの実行開始からの経過を表すコントロールジョブライフを計測する工程をさらに含み、前記スケジューリング工程が、前記コントロールジョブライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記第1コントロールジョブに含まれる未処理のプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリング工程を含む。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing method further includes a step of measuring a control job life representing progress from the start of execution of the first control job, and the scheduling step is performed so that the control job life is a predetermined time. The method includes an interrupt scheduling step of scheduling interrupt execution of an unprocessed process job included in the first control job when an interrupt execution condition including reaching a threshold is satisfied.

この方法では、コントロールジョブの実行開始からの経過を表すコントロールジョブライフが所定の閾値に達すると、そのコントロールジョブに含まれる未処理(未開始)のプロセスジョブの実行順序が繰り上げられる。たとえば、直前に開始されたプロセスジョブの次(または実行可能な最も早い順序)に実行するように実行順序が変更される。これにより、一つのコントロールジョブの実行開始から終了までに実質的な時間制限を課することができる。したがって、コントロールジョブの枠を超えてプロセスジョブを入れ替えて生産効率の向上を図り、併せて、一つのコントロールジョブの処理を合理的な時間内に終了させることができる。 In this method, when the control job life representing the progress from the start of execution of a control job reaches a predetermined threshold, the execution order of unprocessed (unstarted) process jobs included in the control job is moved up. For example, the execution order is changed to run after the previously started process job (or the earliest possible order). This makes it possible to impose a substantial time limit from the start to the end of execution of one control job. Therefore, production efficiency can be improved by replacing process jobs beyond the control job, and at the same time, processing of one control job can be completed within a reasonable time.

この発明の一実施形態では、前記基板処理方法が、前記第1レシピおよび前記第3レシピに共通する共通属性を用いた処理の継続状況を表す属性ライフを求める工程をさらに含み、前記スケジューリング工程が、前記属性ライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記共通属性を用いた処理を中断して、別の属性を有するレシピのプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリング工程を含む。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing method further includes a step of obtaining an attribute life representing a continuation status of processing using a common attribute common to the first recipe and the third recipe, and the scheduling step , when an interrupt execution condition including that the attribute life reaches a predetermined threshold is satisfied, the process using the common attribute is interrupted and interrupt execution of a process job of a recipe having a different attribute is planned. including an interrupt scheduling process.

一つの属性のレシピによる処理の継続に制限を設けることが好ましい場合がある。たとえば、共通の薬液を用いた処理を長く継続することにより、薬液の性能(品質)が劣化し、それによって、基板処理の品質が劣化する場合がある。このような場合には、共通属性のレシピによる処理を継続するよりも、属性を切り替えることで、基板処理の品質を保持できる。 It may be preferable to set a limit on the continuation of processing according to a recipe for one attribute. For example, if processing using a common chemical solution is continued for a long time, the performance (quality) of the chemical solution may deteriorate, thereby deteriorating the quality of substrate processing. In such a case, the quality of substrate processing can be maintained by switching attributes rather than continuing processing using a recipe with common attributes.

そこで、一つの属性による処理の継続状況を表す属性ライフが閾値に達することを割込実行条件とし、別の属性を有するレシピを指定したプロセスジョブの割込実行を計画することにより、高品質および高効率を両立した基板処理を実現できる。
処理の継続状況は、一つの属性の処理の継続時間、処理の繰り返し回数などであってもよい。処理の繰り返し回数とは、一つの属性の処理を連続して施した基板枚数、プロセスジョブの数、またはコントロールジョブの数であってもよい。
Therefore, by setting the interrupt execution condition to be that the attribute life representing the continuation status of processing by one attribute reaches a threshold value, and planning the interrupt execution of a process job that specifies a recipe with another attribute, high quality and It is possible to realize substrate processing that is both highly efficient.
The continuation status of processing may be the duration of processing for one attribute, the number of times the processing is repeated, or the like. The number of repetitions of processing may be the number of substrates that have been continuously processed with one attribute, the number of process jobs, or the number of control jobs.

この発明の一実施形態では、前記スケジューリング工程が、前記割込スケジューリング工程によって割込実行が計画されたプロセスジョブに続いて、当該プロセスジョブのレシピと共通する属性を有するプロセスジョブの実行を計画する。
この方法では、割込スケジューリングによって計画されたプロセスジョブに続いて、そのプロセスジョブのレシピと共通属性のレシピを指定したプロセスジョブの実行が計画される。これにより、プロセスジョブの割込実行を許容しながら、属性の切り替わりを抑制できる。したがって、割込スケジューリングによって適切な基板処理を確保しながら、処理効率の向上を図ることができる。
In one embodiment of the present invention, the scheduling step plans the execution of a process job that has attributes common to a recipe of the process job, following the process job whose execution is scheduled by the interrupt scheduling step. .
In this method, following a process job planned by interrupt scheduling, execution of a process job that specifies the recipe of the process job and the recipe of the common attribute is planned. Thereby, switching of attributes can be suppressed while allowing interrupt execution of process jobs. Therefore, it is possible to improve processing efficiency while ensuring appropriate substrate processing through interrupt scheduling.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置に対する、使用者による割込実行条件の入力を受け付ける工程をさらに含み、前記割込スケジューリング工程において、前記受け付けられた割込実行条件が適用される。この方法では、使用者による割込実行条件の指定が可能であるので、使用者の要求に対応しながら、処理効率を向上できる。
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットに処理液を供給する処理液供給ユニットを含み、前記属性が、前記処理液供給ユニットから供給される処理液に関する条件を含み、前記第1レシピおよび第3レシピが第1処理液条件を共通に指定しており、前記第2レシピが前記第1処理液条件とは異なる第2処理液条件を指定している。
An embodiment of the present invention further includes a step of receiving an input of an interrupt execution condition from a user to the substrate processing apparatus, and the accepted interrupt execution condition is applied in the interrupt scheduling step. With this method, the user can specify the interrupt execution conditions, so processing efficiency can be improved while responding to the user's requests.
In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus includes a processing liquid supply unit that supplies a processing liquid to the processing unit, and the attribute includes conditions regarding the processing liquid supplied from the processing liquid supply unit, The first recipe and the third recipe commonly specify a first treatment liquid condition, and the second recipe specifies a second treatment liquid condition different from the first treatment liquid condition.

この方法により、処理液条件が共通するプロセスジョブをまとめて(連続して)実行できるので、処理液条件の切り替わり回数を少なくできる。それにより、効率的な基板処理が可能になる。とくに、処理液条件の切り替わりに応じて準備工程が必要な場合には、準備工程の回数を少なくできるから、処理効率を高めることができる。
処理液条件は、処理液の種類および処理液の温度の一方または両方を含んでいてもよい。
With this method, process jobs with common processing liquid conditions can be executed together (successively), so the number of times the processing liquid conditions are changed can be reduced. This allows efficient substrate processing. Particularly, when a preparation step is required in response to a change in processing liquid conditions, the number of preparation steps can be reduced, so that processing efficiency can be improved.
The treatment liquid conditions may include one or both of the type of treatment liquid and the temperature of the treatment liquid.

この発明は、また、基板に対する処理を実行する処理ユニットを備えた基板処理装置によって基板を処理する基板処理方法であって、前記基板処理装置が、第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対して処理を実行する第1処理工程と、前記基板処理装置が、前記第1処理工程の後に、前記第1ロットとは異なる第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対して処理を実行する第2処理工程と、前記基板処理装置が、前記第2処理工程の後に、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対して処理を実行する第3処理工程と、を含む基板処理方法を提供する。 The present invention also provides a substrate processing method in which a substrate is processed by a substrate processing apparatus equipped with a processing unit that performs processing on the substrate, wherein the substrate processing apparatus processes one or more substrates included in a first lot. a first processing step in which a substrate is processed; and the substrate processing apparatus, after the first processing step, performs processing on one or more substrates included in a second lot different from the first lot. a second processing step in which the substrate processing apparatus performs processing on one or more substrates included in the first lot after the second processing step; and a third processing step in which the substrate processing apparatus performs processing on one or more substrates included in the first lot A method for processing a substrate is provided.

この発明の一実施形態では、前記第1ロットが、第1レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板と、前記第1レシピとは属性が異なる第2レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板とを含み、前記第2ロットが、前記第1レシピと共通の属性を有する第3レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板を含み、前記第1処理工程が、前記第1レシピによる処理を含み、前記第2処理工程が、前記第3レシピによる処理を含み、前記第3処理工程が、前記第2レシピによる処理を含む。 In one embodiment of the present invention, the first lot includes one or more substrates to be processed by a first recipe, and one or more substrates to be processed by a second recipe having attributes different from the first recipe. the second lot includes one or more substrates to be processed according to a third recipe having attributes in common with the first recipe, and the first processing step includes the first The second processing step includes processing according to the third recipe, and the third processing step includes processing according to the second recipe.

この発明の一実施形態では、前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、前記基板処理装置が、前記第2処理工程と前記第3処理工程との間に属性を切り替えるための準備工程を実行する。
この発明の一実施形態では、共通属性のレシピによる継続状況が所定の閾値に達すると、前記基板処理装置が、異なる属性のレシピによって処理すべき基板に対する処理を実行する。
In one embodiment of the present invention, the attribute is an attribute that requires a preparation process before starting processing in the processing unit, and the substrate processing apparatus is configured to perform the second processing step and the third processing step. Perform preparatory steps for switching attributes during the process.
In one embodiment of the present invention, when the continuation status of a recipe with a common attribute reaches a predetermined threshold, the substrate processing apparatus executes processing on a substrate to be processed using a recipe with a different attribute.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が前記第1ロットに対する処理を開始してからの経過が所定の閾値に達すると、前記基板処理装置は、前記第1ロットの未処理の基板を優先的に処理する。
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が前記第1ロットに対する処理を開始してからの経過時間、または前記第1ロットに対する処理を開始してから処理開始した基板もしくはロットの数が所定の閾値に達すると、前記基板処理装置は、前記第2ロットに対する処理に割り込んで、前記第1ロットの未処理の基板を優先的に処理する。
この発明は、また、基板処理装置に備えられるコンピュータによって実行されるプログラムであって、前記基板処理装置において、前述のような特徴を有する基板処理方法を実行するようにステップ群が組みこまれたコンピュータプログラムを提供する。このコンピュータプログラムを基板処理装置に備えられたコンピュータによって実行させることによって、前述のような処理効率の高い基板処理方法を実現できる。
In one embodiment of the present invention, when the elapsed time since the substrate processing apparatus started processing the first lot reaches a predetermined threshold, the substrate processing apparatus removes the unprocessed substrates of the first lot. Process with priority.
In one embodiment of the present invention, the elapsed time since the substrate processing apparatus started processing the first lot, or the number of substrates or lots that have been processed since the substrate processing apparatus started processing the first lot is a predetermined number. When the threshold value is reached, the substrate processing apparatus interrupts the processing of the second lot and preferentially processes the unprocessed substrates of the first lot.
The present invention also provides a program executed by a computer installed in a substrate processing apparatus, in which a group of steps are incorporated to execute a substrate processing method having the above-mentioned characteristics. Provide computer programs. By executing this computer program by a computer installed in a substrate processing apparatus, it is possible to realize a substrate processing method with high processing efficiency as described above.

この発明は、また、基板に対する処理を実行する処理ユニットと、ロットに対する処理であるコントロールジョブを規定するコントロールジョブ情報の入力を受け付けるコントロールジョブ情報受け付け手段と、を含む、基板処理装置を提供する。前記コントロールジョブ情報は、前記ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する処理であるプロセスジョブを規定するプロセスジョブ情報を含む。前記基板処理装置は、さらに、前記プロセスジョブ情報に基づいて、基板に対する処理計画を策定するスケジューリング手段と、前記スケジューリング手段によって策定された処理計画に従って前記処理ユニットによって基板処理を実行させる処理実行制御手段とを含む。前記コントロールジョブ情報受け付け手段は、第1ロットに対する処理である第1コントロールジョブを規定する第1コントロールジョブ情報を受け付け、前記第1コントロールジョブ情報を受け付けた後に、第2ロットに対する処理である第2コントロールジョブを規定する第2コントロールジョブ情報を受け付ける。前記第1コントロールジョブ情報は、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第1レシピによる処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報と、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第2レシピによる処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報と、を含む。前記第2コントロールジョブ情報は、前記第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第3レシピによる処理である第3プロセスジョブを規定する第3プロセスジョブ情報を含む。そして、前記スケジューリング手段は、前記第1レシピおよび前記第3レシピが共通する属性を含み、前記第2レシピが当該属性を含まない場合に、前記第1プロセスジョブおよび前記第2プロセスジョブの間に前記第3プロセスジョブを実行する順序で前記第1、第2および第3プロセスジョブの実行計画を策定する。 The present invention also provides a substrate processing apparatus that includes a processing unit that executes processing on a substrate, and control job information receiving means that receives input of control job information that defines a control job that is processing on a lot. The control job information includes process job information that defines a process job that is a process for one or more substrates included in the lot. The substrate processing apparatus further includes a scheduling means for formulating a processing plan for the substrate based on the process job information, and a processing execution control means for causing the processing unit to perform substrate processing according to the processing plan formulated by the scheduling means. including. The control job information receiving means receives first control job information that defines a first control job that is a process for a first lot, and after receiving the first control job information, specifies a second control job that is a process for a second lot. Second control job information defining a control job is received. The first control job information includes first process job information that defines a first process job that is processing of one or more substrates included in the first lot according to a first recipe, and first process job information that is included in the first lot. and second process job information that defines a second process job that is a process for one or more substrates to be processed according to a second recipe. The second control job information includes third process job information that defines a third process job that is processing according to a third recipe for one or more substrates included in the second lot. The scheduling means may be arranged between the first process job and the second process job when the first recipe and the third recipe include a common attribute and the second recipe does not include the attribute. An execution plan for the first, second, and third process jobs is formulated in the order in which the third process jobs are to be executed.

この発明の一実施形態では、前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、前記スケジューリング手段が、前記第3プロセスジョブの後に前記第2レシピに含まれる属性に対応する準備工程を実行する計画を策定する。
この発明の一実施形態では、前記スケジューリング手段が、所定の割込実行条件が充足されると、未実行のプロセスジョブの計画を変更して、当該割込実行条件に基づいて選択されるプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する。
In one embodiment of the present invention, the attribute is an attribute that requires a preparatory step before starting processing in the processing unit, and the scheduling means is included in the second recipe after the third process job. Develop a plan to perform the preparation steps corresponding to the attributes.
In one embodiment of the present invention, when a predetermined interrupt execution condition is satisfied, the scheduling means changes the plan of an unexecuted process job to execute a process job that is selected based on the interrupt execution condition. Execute interrupt scheduling to plan interrupt execution.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記第1コントロールジョブの実行開始からの経過を表すコントロールジョブライフを計測する手段をさらに含み、前記スケジューリング手段が、前記コントロールジョブライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記第1コントロールジョブに含まれる未処理のプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes means for measuring a control job life representing a progress from the start of execution of the first control job, and the scheduling means is arranged such that the control job life is a predetermined period. When an interrupt execution condition including reaching a threshold value is satisfied, interrupt scheduling is executed to plan interrupt execution of an unprocessed process job included in the first control job.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記第1レシピおよび前記第3レシピに共通する共通属性を用いた処理の継続状況を表す属性ライフを求める手段をさらに含み、前記スケジューリング手段が、前記属性ライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記共通属性を用いた処理を中断して、別の属性を有するレシピのプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes means for obtaining an attribute life representing a continuation status of processing using a common attribute common to the first recipe and the third recipe, and the scheduling means , when an interrupt execution condition including that the attribute life reaches a predetermined threshold is satisfied, the process using the common attribute is interrupted and interrupt execution of a process job of a recipe having a different attribute is planned. Executes interrupt scheduling.

この発明の一実施形態では、前記スケジューリング手段が、前記割込スケジューリングによって割込実行が計画されたプロセスジョブに続いて、当該プロセスジョブのレシピと共通する属性を有するプロセスジョブの実行を計画する。
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、使用者による割込実行条件の入力を受け付ける手段をさらに含み、前記スケジューリング手段が、前記割込スケジューリングにおいて、前記受け付けられた割込実行条件を適用する。
In one embodiment of the present invention, the scheduling means plans execution of a process job that has attributes common to a recipe of the process job, following the process job whose execution is scheduled by the interrupt scheduling.
In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes means for receiving an input of an interrupt execution condition from a user, and the scheduling means inputs the accepted interrupt execution condition in the interrupt scheduling. Apply.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットに処理液を供給する処理液供給ユニットをさらに含み、前記属性が、前記処理液供給ユニットから供給される処理液に関する条件を含み、前記第1レシピおよび第3レシピが第1処理液条件を共通に指定しており、前記第2レシピが前記第1処理液条件とは異なる第2処理液条件を指定している。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes a processing liquid supply unit that supplies a processing liquid to the processing unit, and the attribute includes conditions regarding the processing liquid supplied from the processing liquid supply unit. , the first recipe and the third recipe specify a first treatment liquid condition in common, and the second recipe specifies a second treatment liquid condition different from the first treatment liquid condition.

この発明は、また、基板に対する処理を実行する処理ユニットと、前記処理ユニットに対して基板を搬送する基板搬送手段と、前記処理ユニットおよび前記基板搬送手段を制御する制御ユニットと、を含む、基板処理装置を提供する。前記制御ユニットは、第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる第1処理工程と、前記第1処理工程の後に、前記第1ロットとは異なる第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる第2処理工程と、前記第2処理工程の後に、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる第3処理工程と、を実行する。 The present invention also provides a substrate comprising: a processing unit that performs processing on a substrate; a substrate transport means that transports the substrate to the processing unit; and a control unit that controls the processing unit and the substrate transport means. Provide processing equipment. The control unit includes a first processing step in which one or more substrates included in a first lot are transported to the processing unit by the substrate transport means and processed, and a first processing step after the first processing step. a second processing step in which one or more substrates included in a second lot different from the lot are transported to the processing unit by the substrate transport means and processed; and after the second processing step, the first lot is a third processing step of transporting one or more substrates included in the processing unit to the processing unit by the substrate transport means and processing them.

この発明の一実施形態では、前記第1ロットが、第1レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板と、前記第1レシピとは属性が異なる第2レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板とを含み、前記第2ロットが、前記第1レシピと共通の属性を有する第3レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板を含み、前記第1処理工程が、前記第1レシピによる処理を含み、前記第2処理工程が、前記第3レシピによる処理を含み、前記第3処理工程が、前記第2レシピによる処理を含む。 In one embodiment of the present invention, the first lot includes one or more substrates to be processed by a first recipe, and one or more substrates to be processed by a second recipe having attributes different from the first recipe. the second lot includes one or more substrates to be processed according to a third recipe having attributes in common with the first recipe, and the first processing step includes the first The second processing step includes processing according to the third recipe, and the third processing step includes processing according to the second recipe.

この発明の一実施形態では、前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、前記制御ユニットが、前記第2処理工程と前記第3処理工程との間に属性を切り替えるための準備工程を実行する。
この発明の一実施形態では、共通属性のレシピによる継続状況が所定の閾値に達すると、前記制御ユニットが、異なる属性のレシピによって処理すべき基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる。
In one embodiment of the present invention, the attribute is an attribute that requires a preparatory step before the start of processing in the processing unit, and the control unit is configured to control the process between the second processing step and the third processing step. Execute the preparation process for switching the attributes to .
In one embodiment of the present invention, when the continuation status of a recipe with a common attribute reaches a predetermined threshold, the control unit transports a substrate to be processed according to a recipe with a different attribute to the processing unit by the substrate transport means. Let it be processed.

この発明の一実施形態では、前記第1ロットに対する処理を開始してからの経過が所定
の閾値に達すると、前記制御ユニットが、前記第1ロットの未処理の基板を優先的に前記
基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる。
この発明の一実施形態では、前記第1ロットに対する処理を開始してからの経過時間、または前記第1ロットに対する処理を開始してから処理開始した基板もしくはロットの数が所定の閾値に達すると、前記制御ユニットが、前記第2ロットに対する処理に割り込んで、前記第1ロットの未処理の基板を優先的に前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる。
In one embodiment of the present invention, when the elapsed time since the start of processing for the first lot reaches a predetermined threshold, the control unit may preferentially transport the unprocessed substrates of the first lot. It is conveyed to the processing unit by means for processing.
In one embodiment of the present invention, when the elapsed time since the start of processing for the first lot, or the number of substrates or lots that have been processed since the start of processing for the first lot, reaches a predetermined threshold. , the control unit interrupts the processing of the second lot, and preferentially transports the unprocessed substrates of the first lot to the processing unit by the substrate transport means for processing.

図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す図解的な平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view showing the layout of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図2は、前記基板処理装置の図解的な側面図である。FIG. 2 is a schematic side view of the substrate processing apparatus. 図3は、前記基板処理装置の電気的構成を説明するためのブロック図である。FIG. 3 is a block diagram for explaining the electrical configuration of the substrate processing apparatus. 図4は、前記基板処理装置に備えられたスケジューリング機能部による処理例を説明するためのフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart for explaining an example of processing by a scheduling function section provided in the substrate processing apparatus. 図5は、全体スケジューリングの詳細を説明するためのフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart for explaining details of overall scheduling. 図6は、割込発生のための処理例を説明するためのフローチャートである。FIG. 6 is a flowchart for explaining an example of processing for generating an interrupt. 図7は、割込発生のための他の処理例を説明するためのフローチャートである。FIG. 7 is a flowchart for explaining another example of processing for generating an interrupt. 図8は、一つの処理ユニットを通る経路に対応した仮タイムテーブルの一例を示す。FIG. 8 shows an example of a temporary timetable corresponding to a route passing through one processing unit. 図9は、ホストコンピュータから基板処理装置に入力されるコントロールジョブデータの例を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining an example of control job data input from the host computer to the substrate processing apparatus. 図10Aおよび図10Bは、図9のコントロールジョブデータに対応して作成される仮タイムテーブルの一例を示す。10A and 10B show an example of a temporary timetable created corresponding to the control job data of FIG. 9. 図11は、最初に受信したコントロールジョブCJ1の最初のプロセスジョブPJ11の一枚の基板に対応する仮タイムテーブルを構成する全てのブロックを配置した例を示す。FIG. 11 shows an example in which all blocks constituting a temporary timetable corresponding to one board of the first process job PJ11 of the first received control job CJ1 are arranged. 図12は、コントロールジョブCJ1の2番目のプロセスジョブPJ12を保留して、3番目のプロセスジョブPJ13を計画した状態を示す。FIG. 12 shows a state in which the second process job PJ12 of the control job CJ1 is put on hold and the third process job PJ13 is planned. 図13は、コントロールジョブの枠内でプロセスジョブを入れ替えたスケジューリング例(第1の比較例)を示す。FIG. 13 shows a scheduling example (first comparative example) in which process jobs are replaced within the framework of a control job. 図14は、コントロールジョブの順序およびプロセスジョブの順序に従うスケジューリング例(第2の比較例)を示す。FIG. 14 shows a scheduling example (second comparative example) according to the order of control jobs and the order of process jobs. 図15は、コントロールジョブの枠を越えてプロセスジョブを入れ替えたスケジューリング例(実施例)を示す。FIG. 15 shows a scheduling example (embodiment) in which process jobs are replaced beyond the control job. 図16A~16Dは、割込スケジューリングを適用した例(実施例)を示しており、図16Aは、コントロールジョブCJ1の受け付け直後のスケジューリング例を示し、図16Bは、コントロールジョブCJ2の受け付け直後のスケジューリング例を示し、図16Cは、コントロールジョブCJ1のライフが閾値に達した直後の割込スケジューリングの例を示し、図16Dは、コントロールジョブCJ3の受け付け直後のスケジューリング例を示す。16A to 16D show examples (embodiments) in which interrupt scheduling is applied, FIG. 16A shows a scheduling example immediately after receiving control job CJ1, and FIG. 16B shows scheduling immediately after receiving control job CJ2. For example, FIG. 16C shows an example of interrupt scheduling immediately after the life of control job CJ1 reaches a threshold, and FIG. 16D shows an example of scheduling immediately after receiving control job CJ3.

以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す図解的な平面図であり、図2はその図解的な側面図である。この基板処理装置は、インデクサセクション1と、処理セクション2と、薬液キャビネットCC1とを含む。処理セクション2は、インデクサセクション1との間で基板Wを受け渡しするための受け渡しユニットPASSを備えている。インデクサセクション1は、未処理の基板Wを受け渡しユニットPASSに渡し、受け渡しユニットPASSから処理済みの基板Wを受け取る。処理セクション2は、受け渡しユニットPASSから未処理の基板Wを受け取って、その基板Wに対して、処理剤(処理液または処理ガス)を用いた処理、紫外線等の電磁波を用いた処理、物理洗浄処理(ブラシ洗浄、スプレーノズル洗浄等)などの各種の処理を施す。そして、処理セクション2は、処理後の基板Wを受け渡しユニットPASSに渡す。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a schematic plan view showing the layout of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic side view thereof. This substrate processing apparatus includes an indexer section 1, a processing section 2, and a chemical solution cabinet CC1. The processing section 2 includes a transfer unit PASS for transferring the substrate W to and from the indexer section 1. The indexer section 1 passes unprocessed substrates W to the transfer unit PASS, and receives processed substrates W from the transfer unit PASS. The processing section 2 receives the unprocessed substrate W from the delivery unit PASS, and processes the substrate W using a processing agent (processing liquid or processing gas), processing using electromagnetic waves such as ultraviolet rays, and physical cleaning. Perform various treatments such as cleaning (brush cleaning, spray nozzle cleaning, etc.). Then, the processing section 2 transfers the processed substrate W to the transfer unit PASS.

インデクサセクション1は、複数のステージST1~ST4と、インデクサロボットIRとを含む。
ステージST1~ST4は、複数枚の基板W(たとえば半導体ウエハ)を積層状態で収容した基板収容器Cをそれぞれ保持することができる基板収容器保持部であり、基板待機場所を提供する。基板収容器Cは、基板Wを密閉した状態で収納するFOUP(Front Opening Unified Pod)であってもよいし、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッド、OC(Open Cassette)等であってもよい。たとえば、基板収容器CをステージST1~ST4に載置したとき、基板収容器Cでは、水平姿勢の複数枚の基板Wが互いに間隔を開けて鉛直方向に積層された状態となる。
Indexer section 1 includes a plurality of stages ST1 to ST4 and an indexer robot IR.
Stages ST1 to ST4 are substrate container holders capable of holding substrate containers C each containing a plurality of substrates W (for example, semiconductor wafers) in a stacked state, and provide a substrate waiting area. The substrate storage container C may be a FOUP (Front Opening Unified Pod) that stores the substrate W in a sealed state, a SMIF (Standard Mechanical Interface) pod, an OC (Open Cassette), or the like. For example, when the substrate container C is placed on the stages ST1 to ST4, a plurality of substrates W in a horizontal position are stacked in the vertical direction with an interval between them.

インデクサロボットIRは、たとえば、基台部6と、多関節アーム7と、一対のハンド8A,8Bとを含む。基台部6は、たとえば、当該基板処理装置のフレームに固定されている。多関節アーム7は、水平面に沿って回動可能な複数本のアーム部を互いに回動可能に結合して構成されており、アーム部の結合箇所である関節部でアーム部間の角度を変更することによって、屈伸するように構成されている。多関節アーム7の基端部は、基台部6に対して、鉛直軸線回りの回動が可能であるように結合されている。さらに、多関節アーム7は、基台部6に対して昇降可能に結合されている。換言すれば、基台部6には、多関節アーム7を昇降させるための昇降駆動機構、多関節アーム7を鉛直軸線回りに回動させるための回動駆動機構が内蔵されている。また、多関節アーム7には、各アーム部を独立して回動させるための個別回動駆動機構が備えられている。多関節アーム7の先端部に、鉛直軸線回りの個別回動および水平方向への個別進退が可能であるように、ハンド8A,8Bが結合されている。多関節アーム7には、ハンド8A,8Bを鉛直軸線回りに個別に回動させるためのハンド回動駆動機構と、ハンド8A,8Bを水平方向に個別に進退させるためのハンド進退機構とが備えられている。ハンド8A,8Bは、たとえば、1枚の基板Wをそれぞれ保持できるように構成されている。なお、ハンド8A,8Bは上下に重なった状態で配置されていてもよいが、図1では、明瞭化のために、ハンド8A,8Bを紙面に平行な方向(水平方向)にずらして描いてある。 The indexer robot IR includes, for example, a base 6, a multi-joint arm 7, and a pair of hands 8A, 8B. The base portion 6 is fixed to, for example, a frame of the substrate processing apparatus. The multi-joint arm 7 is constructed by rotatably connecting a plurality of arm parts that can rotate along a horizontal plane, and the angle between the arm parts can be changed at the joint part where the arm parts are joined. It is configured to bend and stretch by doing this. A base end portion of the multi-joint arm 7 is coupled to the base portion 6 so as to be rotatable about a vertical axis. Further, the multi-joint arm 7 is coupled to the base portion 6 so as to be movable up and down. In other words, the base portion 6 has built-in a lifting drive mechanism for raising and lowering the multi-joint arm 7 and a rotation drive mechanism for rotating the multi-joint arm 7 around the vertical axis. Further, the multi-joint arm 7 is equipped with an individual rotation drive mechanism for independently rotating each arm portion. Hands 8A and 8B are coupled to the distal end of the multi-joint arm 7 so as to be able to individually rotate around the vertical axis and move forward and backward in the horizontal direction. The multi-joint arm 7 includes a hand rotation drive mechanism for individually rotating the hands 8A and 8B around a vertical axis, and a hand advancement/retraction mechanism for individually advancing and retracting the hands 8A and 8B in the horizontal direction. It is being The hands 8A and 8B are configured to be able to each hold one substrate W, for example. Note that the hands 8A and 8B may be arranged in a vertically overlapping state, but in FIG. 1, the hands 8A and 8B are drawn shifted in a direction parallel to the page (horizontal direction) for clarity. be.

この構成により、インデクサロボットIRは、いずれかのステージST1~ST4に保持された基板収容器Cから一枚の未処理基板Wをハンド8Aで搬出して受け渡しユニットPASSに渡すように動作する。さらに、インデクサロボットIRは、受け渡しユニットPASSから一枚の処理済み基板Wをハンド8Bで受け取って、いずれかのステージST1~ST4に保持された基板収容器Cに収容するように動作する。 With this configuration, the indexer robot IR operates to carry out one unprocessed substrate W from the substrate container C held on any of the stages ST1 to ST4 using the hand 8A and transfer it to the transfer unit PASS. Furthermore, the indexer robot IR operates to receive one processed substrate W from the transfer unit PASS with the hand 8B and to store it in the substrate storage container C held on any of the stages ST1 to ST4.

処理セクション2は、複数(この実施形態では12個)の処理ユニットMPC1~MPC12と、主搬送ロボットCRと、前述の受け渡しユニットPASSとを含む。
処理ユニットMPC1~MPC12は、この実施形態では、立体的に配置されている。より具体的には、三層構造をなすように複数の処理ユニットMPC1~MPC12が配置されており、各層部分に4つの処理ユニットが配置されている。すなわち、第1層部分に4つの処理ユニットMPC1,MPC4,MPC7,MPC10が配置され、第2層部分に別の4つの処理ユニットMPC2,MPC5,MPC8,MPC11が配置され、第3層部分にさらに別の処理ユニットMPC3,MPC6,MPC9,MPC12が配置されている。
The processing section 2 includes a plurality of (12 in this embodiment) processing units MPC1 to MPC12, a main transfer robot CR, and the aforementioned delivery unit PASS.
In this embodiment, the processing units MPC1 to MPC12 are arranged three-dimensionally. More specifically, a plurality of processing units MPC1 to MPC12 are arranged to form a three-layer structure, with four processing units arranged in each layer. That is, four processing units MPC1, MPC4, MPC7, and MPC10 are arranged in the first layer part, another four processing units MPC2, MPC5, MPC8, and MPC11 are arranged in the second layer part, and further in the third layer part. Other processing units MPC3, MPC6, MPC9, MPC12 are arranged.

さらに具体的には、平面視において処理セクション2の中央に主搬送ロボットCRが配置されており、この主搬送ロボットCRとインデクサロボットIRとの間に受け渡しユニットPASSが配置されている。受け渡しユニットPASSを挟んで対向するように、3つの処理ユニットMPC1~MPC3を積層した第1処理ユニット群G1と、別の3つの処理ユニットMPC4~MPC6を積層した第2処理ユニット群G2とが配置されている。そして、第1処理ユニット群G1に対してインデクサロボットIRから遠い側に隣接するように、3つの処理ユニットMPC7~MPC9を積層した第3処理ユニット群G3が配置されている。同様に、第2処理ユニット群G2に対してインデクサロボットIRから遠い側に隣接するように、3つの処理ユニットMPC10~MPC12を積層した第4処理ユニット群G4が配置されている。第1~第4処理ユニット群G1~G4によって、主搬送ロボットCRが取り囲まれている。 More specifically, the main transport robot CR is arranged at the center of the processing section 2 in a plan view, and the delivery unit PASS is arranged between the main transport robot CR and the indexer robot IR. A first processing unit group G1, in which three processing units MPC1 to MPC3 are stacked, and a second processing unit group G2, in which another three processing units MPC4 to MPC6 are stacked, are arranged so as to face each other with the delivery unit PASS in between. has been done. A third processing unit group G3 in which three processing units MPC7 to MPC9 are stacked is arranged adjacent to the first processing unit group G1 on the side far from the indexer robot IR. Similarly, a fourth processing unit group G4 in which three processing units MPC10 to MPC12 are stacked is arranged adjacent to the second processing unit group G2 on the side far from the indexer robot IR. The main transport robot CR is surrounded by the first to fourth processing unit groups G1 to G4.

主搬送ロボットCRは、たとえば、基台部11と、多関節アーム12と、一対のハンド13A,13Bとを含む。基台部11は、たとえば、当該基板処理装置のフレームに固定されている。多関節アーム12は、水平面に沿って延びた複数本のアーム部を互いに回動可能に結合して構成されており、アーム部の結合箇所である関節部でアーム部間の角度を変更することによって、屈伸するように構成されている。多関節アーム12の基端部は基台部11に対して、鉛直軸線回りの回動が可能であるように結合されている。さらに、多関節アーム12は、基台部11に対して昇降可能に結合されている。換言すれば、基台部11には、多関節アーム12を昇降させるための昇降駆動機構、多関節アーム12を鉛直軸線回りに回動させるための回動駆動機構が内蔵されている。また、多関節アーム12には、各アーム部を独立して回動させるための個別回動駆動機構が備えられている。多関節アーム12の先端部に、鉛直軸線回りの個別回動および水平方向への個別進退が可能であるように、ハンド13A,13Bが結合されている。多関節アーム12には、ハンド13A,13Bを鉛直軸線回りに個別に回動させるためのハンド回動駆動機構と、ハンド13A,13Bを水平方向に個別に進退させるためのハンド進退機構とが備えられている。ハンド13A,13Bは、たとえば、1枚の基板Wをそれぞれ保持できるように構成されている。なお、ハンド13A,13Bは上下に重なった状態で配置されていてもよいが、図1では、明瞭化のために、ハンド13A,13Bを紙面に平行な方向(水平方向)にずらして描いてある。 The main transport robot CR includes, for example, a base portion 11, a multi-joint arm 12, and a pair of hands 13A, 13B. The base portion 11 is fixed to, for example, a frame of the substrate processing apparatus. The multi-joint arm 12 is configured by connecting a plurality of arm parts extending along a horizontal plane so as to be rotatable with each other, and the angle between the arm parts can be changed at the joint part where the arm parts are joined. It is configured to bend and stretch. A proximal end portion of the multi-joint arm 12 is coupled to the base portion 11 so as to be rotatable about a vertical axis. Further, the multi-joint arm 12 is coupled to the base portion 11 so as to be movable up and down. In other words, the base portion 11 has built-in a lifting drive mechanism for raising and lowering the multi-joint arm 12 and a rotation drive mechanism for rotating the multi-joint arm 12 around the vertical axis. Further, the multi-joint arm 12 is equipped with an individual rotation drive mechanism for independently rotating each arm portion. Hands 13A and 13B are coupled to the distal end of the multi-joint arm 12 so as to be able to independently rotate around a vertical axis and move forward and backward in the horizontal direction. The multi-joint arm 12 includes a hand rotation drive mechanism for individually rotating the hands 13A, 13B around a vertical axis, and a hand advancement/retraction mechanism for individually advancing and retracting the hands 13A, 13B in the horizontal direction. It is being Hands 13A and 13B are configured to be able to each hold one substrate W, for example. Note that the hands 13A and 13B may be arranged in a vertically overlapping state, but in FIG. 1, the hands 13A and 13B are drawn shifted in a direction parallel to the page (horizontal direction) for clarity. be.

この構成により、主搬送ロボットCRは、受け渡しユニットPASSから未処理の一枚の基板Wをハンド13Aで受け取り、その未処理の基板Wをいずれかの処理ユニットMPC1~MPC12に搬入する。また、主搬送ロボットCRは、処理ユニットMPC1~MPC12で処理された処理済みの基板Wをハンド13Bで受け取り、その基板Wを受け渡しユニットPASSに渡す。 With this configuration, the main transport robot CR receives one unprocessed substrate W from the transfer unit PASS with the hand 13A, and carries the unprocessed substrate W into one of the processing units MPC1 to MPC12. Further, the main transfer robot CR receives the processed substrate W processed by the processing units MPC1 to MPC12 with the hand 13B, and transfers the substrate W to the transfer unit PASS.

処理ユニットMPC1~MPC12は、基板Wを1枚ずつ処理する枚葉型の処理ユニットである。処理ユニットMPC1~MPC12は、たとえば、1枚の基板Wを水平姿勢で保持して回転させるスピンチャック15と、スピンチャック15に対して処理液(薬液またはリンス液)を供給する処理液ノズル16とを処理室17(チャンバ)内に備えた、回転液処理ユニットであってもよい。図2では、処理ユニットMPC3についてのみ、その内部構成を示し、他の処理ユニットの内部構成の図示を省いてある。 The processing units MPC1 to MPC12 are single-wafer type processing units that process the substrates W one by one. The processing units MPC1 to MPC12 each include, for example, a spin chuck 15 that holds and rotates one substrate W in a horizontal position, and a processing liquid nozzle 16 that supplies a processing liquid (chemical liquid or rinsing liquid) to the spin chuck 15. It may be a rotary liquid processing unit that is provided in the processing chamber 17 (chamber). In FIG. 2, only the internal configuration of the processing unit MPC3 is shown, and illustrations of the internal configurations of other processing units are omitted.

薬液キャビネットCC1は、処理ユニットMPC1~MPC12に処理液としての薬液を供給する処理液供給ユニットの一例である。この実施形態では、薬液キャビネットCC1は、全ての処理ユニットMPC1~MPC12に共通に薬液を供給するように構成されている。ただし、複数の薬液キャビネットを設けて、各薬液キャビネットが別の一つまたは複数の処理ユニットに対して薬液をそれぞれ供給する構成としてもよい。薬液キャビネットCC1は、薬液を貯留するタンク3と、タンク3内の薬液の温度を調節する温度調節ユニット4と、タンク3内の薬液を処理ユニットMPC1~MPC12に送り出すポンプ5とを備えている。 The chemical liquid cabinet CC1 is an example of a processing liquid supply unit that supplies a chemical liquid as a processing liquid to the processing units MPC1 to MPC12. In this embodiment, the chemical liquid cabinet CC1 is configured to commonly supply chemical liquid to all the processing units MPC1 to MPC12. However, a configuration may also be adopted in which a plurality of chemical liquid cabinets are provided and each chemical liquid cabinet supplies chemical liquid to one or more processing units. The chemical liquid cabinet CC1 includes a tank 3 for storing a chemical liquid, a temperature adjustment unit 4 for adjusting the temperature of the chemical liquid in the tank 3, and a pump 5 for delivering the chemical liquid in the tank 3 to the processing units MPC1 to MPC12.

図3は、前記基板処理装置の電気的構成を説明するためのブロック図である。基板処理装置は、制御ユニットとしてのコンピュータ20を備えている。コンピュータ20は、処理ユニットMPC1~MPC12、薬液キャビネットCC1、主搬送ロボットCRおよびインデクサロボットを制御する。コンピュータ20は、パーソナルコンピュータ(FAパソコン)の形態を有していてもよい。コンピュータ20は、制御部21と、出入力部22と、記憶部23とを備えている。制御部21は、CPU等の演算ユニットを含む。出入力部22は、表示ユニット等の出力機器と、キーボード、ポインティングデバイス、タッチパネル等の入力機器とを含む。さらに、出入力部22は、外部コンピュータであるホストコンピュータ24との通信のための通信モジュールを含む。記憶部23は、固体メモリデバイス、ハードディスクドライブ等の記憶装置を含む。 FIG. 3 is a block diagram for explaining the electrical configuration of the substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus includes a computer 20 as a control unit. The computer 20 controls the processing units MPC1 to MPC12, the chemical solution cabinet CC1, the main transport robot CR, and the indexer robot. The computer 20 may have the form of a personal computer (FA personal computer). The computer 20 includes a control section 21, an input/output section 22, and a storage section 23. The control unit 21 includes an arithmetic unit such as a CPU. The input/output unit 22 includes an output device such as a display unit, and an input device such as a keyboard, pointing device, and touch panel. Further, the input/output unit 22 includes a communication module for communicating with a host computer 24, which is an external computer. The storage unit 23 includes storage devices such as solid-state memory devices and hard disk drives.

制御部21は、スケジューリング機能部25(スケジューリング手段)と、処理実行指示部26(処理実行制御手段)とを含む。スケジューリング機能部25は、基板Wを基板収容器Cから搬出し、処理ユニットMPC1~MPC12のうちの一つ以上で処理した後、基板収容器Cに収容するために、基板処理装置のリソースを時系列に従って作動させるための計画(スケジュール)を作成する。処理実行指示部26は、スケジューリング機能部25によって作成されたスケジュールに従って、基板処理装置のリソースを作動させる。リソースとは、基板処理装置に備えられ、基板Wの処理のために用いられる各種のユニットであり、具体的には、処理ユニットMPC1~MPC12、インデクサロボットIR、主搬送ロボットCR、薬液キャビネットCC1およびそれらの構成要素を含む。インデクサロボットIRおよび主搬送ロボットCRは、基板搬送手段の一例である。 The control section 21 includes a scheduling function section 25 (scheduling means) and a process execution instruction section 26 (process execution control means). The scheduling function unit 25 uses resources of the substrate processing apparatus in order to unload the substrate W from the substrate container C, process it in one or more of the processing units MPC1 to MPC12, and then store it in the substrate container C. Create a plan (schedule) for operating according to the series. The processing execution instruction unit 26 operates the resources of the substrate processing apparatus according to the schedule created by the scheduling function unit 25. Resources are various units provided in the substrate processing apparatus and used for processing the substrate W, and specifically include processing units MPC1 to MPC12, indexer robot IR, main transfer robot CR, chemical solution cabinet CC1, and including those components. The indexer robot IR and the main transfer robot CR are examples of substrate transfer means.

記憶部23は、制御部21が実行するプログラム30と、ホストコンピュータ24から受信したコントロールジョブデータ(コントロールジョブ情報)40と、スケジューリング機能部25によって作成されたスケジュールデータ50とを含む各種データ等を記憶するように構成されている。コントロールジョブデータ40は、プロセスジョブデータ(プロセスジョブ情報)41を含む。 The storage unit 23 stores various data including a program 30 executed by the control unit 21, control job data (control job information) 40 received from the host computer 24, and schedule data 50 created by the scheduling function unit 25. configured to remember. The control job data 40 includes process job data (process job information) 41.

記憶部23に記憶されたプログラム30は、制御部21をスケジューリング機能部25として作動させるためのスケジュール作成プログラム31と、制御部21を処理実行指示部26として作動させるための処理実行プログラム32ととを含む。
コントロールジョブデータ40は、一つの基板収容器Cに収容された1枚または複数枚の基板によって定義される処理ロットに付与されたコントロールジョブ(CJ)符号と、一つまたは複数のプロセスジョブデータ41とを含む。プロセスジョブデータ41は、各基板Wに付与されたプロセスジョブ(PJ)符号と、プロセスジョブ符号に対応付けられたレシピとを含む。
The program 30 stored in the storage unit 23 includes a schedule creation program 31 for operating the control unit 21 as the scheduling function unit 25 and a process execution program 32 for operating the control unit 21 as the process execution instruction unit 26. including.
The control job data 40 includes a control job (CJ) code given to a processing lot defined by one or more substrates housed in one substrate container C, and one or more process job data 41 including. The process job data 41 includes a process job (PJ) code given to each substrate W and a recipe associated with the process job code.

レシピは、基板処理内容を定義したデータであり、基板処理条件および基板処理手順を含む。より具体的には、基板種情報、並行処理ユニット情報、使用処理液情報、処理時間情報等を含む。基板種情報は、処理対象の基板の種類を表す情報である。基板の種類の具体例は、製品を作り込むために使用される製品基板、処理ユニットのメンテナンス等のために使用され、製品の製造には使用されない非製品基板などである。並行処理ユニット情報とは、使用可能な処理ユニットを指定する処理ユニット指定情報であり、指定された処理ユニットによる並行処理が可能であることを表す。換言すれば、指定処理ユニットのうちの一つが使用できないときには、それ以外の指定処理ユニットによる代替が可能であることを表す。「使用できないとき」とは、当該処理ユニットが別の基板Wの処理のために使用中であるとき、当該処理ユニットが故障中であるとき、オペレータが当該処理ユニットで基板Wの処理をさせたくないと考えているとき、などである。使用処理液情報とは、基板処理のために用いる処理液の種類を指定する情報である。具体例は、薬液の種類および薬液の温度を指定する情報である。処理時間情報とは、処理液を供給する継続時間などである。使用処理液情報および処理時間情報は、処理条件情報の例である。 The recipe is data that defines the content of substrate processing, and includes substrate processing conditions and substrate processing procedures. More specifically, it includes substrate type information, parallel processing unit information, used processing liquid information, processing time information, etc. The substrate type information is information representing the type of substrate to be processed. Specific examples of types of substrates include product substrates used for manufacturing products, non-product substrates used for maintenance of processing units, etc., and not used for manufacturing products. Parallel processing unit information is processing unit designation information that designates usable processing units, and indicates that parallel processing by the designated processing units is possible. In other words, when one of the designated processing units cannot be used, it can be replaced by another designated processing unit. "When it cannot be used" means when the processing unit is in use for processing another substrate W, when the processing unit is out of order, or when the operator wants the processing unit to process the substrate W. When you think that there is no such thing, etc. The processing liquid information used is information specifying the type of processing liquid used for substrate processing. A specific example is information specifying the type of chemical liquid and the temperature of the chemical liquid. The processing time information includes, for example, the duration of supplying the processing liquid. Processing liquid information and processing time information are examples of processing condition information.

プロセスジョブ(PJ)とは、共通の処理が施されるべき1枚または複数枚の基板Wに対して行われる当該処理をいう。プロセスジョブ符号とは、プロセスジョブを識別するための識別情報(基板群識別情報)である。すなわち、共通のプロセスジョブ符号が付与された複数枚の基板Wには、当該プロセスジョブ符号に対応付けられたレシピによる共通の処理が施される。ただし、異なるプロセスジョブ符号に対応する基板処理内容(レシピ)が同じである場合もあり得る。たとえば、処理順序(基板収容器Cからの払い出し順序)が連続している複数枚の基板Wに対して共通の処理が施されるとき、それらの複数枚の基板Wに対して共通のプロセスジョブ符号が付与される。 A process job (PJ) refers to a process performed on one or more substrates W to which a common process is to be performed. The process job code is identification information (substrate group identification information) for identifying a process job. That is, a plurality of substrates W given a common process job code are subjected to a common process according to a recipe associated with the process job code. However, there may be cases where the substrate processing contents (recipes) corresponding to different process job codes are the same. For example, when a common process is performed on a plurality of substrates W whose processing order (order of discharging from the substrate container C) is consecutive, a common process job is applied to the plurality of substrates W. A sign is assigned.

コントロールジョブ(CJ)は、一つの処理ロットに対する処理である。一つのコントロールジョブは、一つまたは複数のプロセスジョブを含む。
制御部21は、各基板収容器C(ロット)に対応するコントロールジョブデータを、ホストコンピュータ24から出入力部22を介して取得し、記憶部23に記憶させる。それによって、制御部21は、コントロールジョブデータに含まれているプロセスジョブデータを取得して、記憶部23に記憶させる。プロセスジョブデータの取得および記憶は、各基板Wに対するスケジューリングが実行されるよりも前に行われればよい。たとえば、基板収容器CがステージST1~ST4に保持された直後に、ホストコンピュータ24から制御部21に当該基板収容器Cに対応するコントロールジョブデータが与えられてもよい。スケジューリング機能部25は、記憶部23に格納されたコントロールジョブデータ40に含まれるプロセスジョブデータ基づいて各プロセスジョブを計画し、その計画を表すスケジュールデータ50を記憶部23に格納する。処理実行指示部26は、記憶部23に格納されたスケジュールデータ50に基づいて、インデクサロボットIR、主搬送ロボットCR、処理ユニットMPC1~MPC12、および薬液キャビネットCC1を制御することにより、基板処理装置にプロセスジョブを実行させる。
A control job (CJ) is processing for one processing lot. One control job includes one or more process jobs.
The control unit 21 acquires control job data corresponding to each substrate container C (lot) from the host computer 24 via the input/output unit 22 and stores it in the storage unit 23 . Thereby, the control unit 21 acquires the process job data included in the control job data and stores it in the storage unit 23. Acquisition and storage of process job data may be performed before scheduling for each substrate W is performed. For example, control job data corresponding to the substrate holder C may be provided from the host computer 24 to the control unit 21 immediately after the substrate holder C is held on the stages ST1 to ST4. The scheduling function unit 25 plans each process job based on the process job data included in the control job data 40 stored in the storage unit 23, and stores schedule data 50 representing the plan in the storage unit 23. The processing execution instruction section 26 controls the indexer robot IR, the main transfer robot CR, the processing units MPC1 to MPC12, and the chemical solution cabinet CC1 based on the schedule data 50 stored in the storage section 23, thereby instructing the substrate processing apparatus. Run the process job.

図4~図7は、スケジューリング機能部25による処理例を説明するためのフローチャートである。より具体的には、制御部21(コンピュータ20)がスケジュール作成プログラム31を実行することによって、所定の制御周期で繰り返し行われる処理が表されている。換言すれば、スケジュール作成プログラム31には、図4~図7に示す処理をコンピュータに実行させるようにステップ群が組み込まれている。 4 to 7 are flowcharts for explaining processing examples by the scheduling function unit 25. More specifically, the process is shown to be repeated at a predetermined control cycle when the control unit 21 (computer 20) executes the schedule creation program 31. In other words, the schedule creation program 31 includes a group of steps that cause the computer to execute the processes shown in FIGS. 4 to 7.

ホストコンピュータ24は、コントロールジョブデータを制御部21に与えて、そのコントロールジョブデータ(CJ)に含まれるプロセスジョブデータ(PJ)によって定義されるプロセスジョブの開始を指示する。制御部21は、そのコントロールジョブデータを受信して(ステップS1。コントロールジョブ情報受け付け手段)、そこに含まれるプロセスジョブデータを記憶部23に格納する(ステップS2)。そのプロセスジョブデータを用いて、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブを実行するためのスケジューリングを行う。 The host computer 24 provides control job data to the control unit 21 and instructs the control unit 21 to start a process job defined by process job data (PJ) included in the control job data (CJ). The control section 21 receives the control job data (step S1; control job information receiving means), and stores the process job data included therein in the storage section 23 (step S2). Using the process job data, the scheduling function unit 25 performs scheduling for executing the process job.

スケジューリング機能部25は、まず、プロセスジョブの処理対象である各基板を処理するための仮タイムテーブルを作成する(ステップS3)。たとえば、プロセスジョブデータにおいて或るプロセスジョブ符号に対応付けられたレシピが、処理ユニットMPC1~MPC12の並行処理を指定しているとする。すなわち、当該レシピに従う基板処理が、12個の処理ユニットMPC1~MPC12のいずれにおいても実行可能である場合を考える。この場合、当該プロセスジョブ符号が付与された基板Wが処理を受けるときに通る経路は、12通りである。すなわち、その基板Wの処理のために選択し得る経路は、処理ユニットMPC1~MPC12のいずれかを通る12個の経路である。そこで、スケジューリング機能部25は、その12個の経路に対応した仮タイムテーブルを各基板に対して作成する。 The scheduling function unit 25 first creates a temporary timetable for processing each substrate to be processed by the process job (step S3). For example, assume that a recipe associated with a certain process job code in the process job data specifies parallel processing of the processing units MPC1 to MPC12. That is, consider a case where substrate processing according to the recipe can be executed in any of the 12 processing units MPC1 to MPC12. In this case, there are 12 routes that the substrate W given the process job code takes when undergoing processing. That is, the routes that can be selected for processing the substrate W are 12 routes that pass through any of the processing units MPC1 to MPC12. Therefore, the scheduling function section 25 creates a temporary timetable corresponding to the 12 routes for each board.

処理ユニットMPC1を通る経路に対応した仮タイムテーブルを図8に示す。この仮タイムテーブルは、インデクサロボットIRによる基板収容器Cからの基板Wの搬出(Get)を表すブロックと、インデクサロボットIRによる当該基板Wの受け渡しユニットPASSへの搬入(Put)を表すブロックと、主搬送ロボットCRによる受け渡しユニットPASSからの当該基板Wの搬出(Get)を表すブロックと、主搬送ロボットCRによる当該基板Wの処理ユニットMPC1への搬入(Put)を表すブロックと、処理ユニットMPC1による当該基板Wに対する処理を表す処理ブロックと、主搬送ロボットCRによる処理ユニットMPC1からの処理済みの基板Wの搬出(Get)を表すブロックと、主搬送ロボットCRによる当該基板Wの受け渡しユニットPASSへの搬入(Put)を表すブロックと、インデクサロボットIRによる当該基板Wの受け渡しユニットPASSからの搬出(Get)を表すブロックと、インデクサロボットIRによる当該基板Wの基板収容器Cへの搬入(Put)を表すブロックとを含む。スケジューリング機能部25は、これらのブロックを時間軸上で重なり合いのないように順番に配置することによって、仮タイムテーブルを作成する。さらに、図8の仮タイムテーブルは、処理ブロックが配置された期間中において、薬液キャビネットCC1からの薬液の供給を表す薬液供給ブロックを含む。 FIG. 8 shows a temporary timetable corresponding to the route passing through the processing unit MPC1. This temporary timetable includes a block representing the unloading (Get) of the substrate W from the substrate container C by the indexer robot IR, a block representing the loading (Put) of the substrate W into the delivery unit PASS by the indexer robot IR, A block representing unloading (Get) of the substrate W from the delivery unit PASS by the main transport robot CR, a block representing loading (Put) of the relevant substrate W to the processing unit MPC1 by the main transport robot CR, and a block representing the transport (Put) of the relevant substrate W from the transfer unit PASS by the main transport robot CR. A processing block representing processing for the substrate W, a block representing unloading (Get) of the processed substrate W from the processing unit MPC1 by the main transfer robot CR, and a block representing the transfer (Get) of the processed substrate W from the processing unit MPC1 by the main transfer robot CR to the transfer unit PASS. A block representing loading (Put), a block representing loading (Get) of the substrate W from the transfer unit PASS by the indexer robot IR, and a block representing loading (Put) of the substrate W into the substrate container C by the indexer robot IR. and a block representing the block. The scheduling function unit 25 creates a temporary timetable by arranging these blocks in order so that they do not overlap on the time axis. Furthermore, the temporary timetable in FIG. 8 includes a chemical solution supply block that represents the supply of a chemical solution from the chemical solution cabinet CC1 during the period in which the processing blocks are arranged.

スケジューリング機能部25は、同じ基板Wに対して、処理ユニットMPC2~MPC12をそれぞれ通る経路に対応した同様の仮タイムテーブル(処理ブロックを処理ユニットMPC2~MPC12にそれぞれ配置した仮タイムテーブル)を作成する。こうして、一枚の基板Wに対して合計12経路分の仮タイムテーブルが作成される。
一方、図4に示すように、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブデータに基づいて、プロセスジョブの属性を判別し、その属性を表す属性データを記憶部23に記憶する(ステップS4)。属性とは、処理の種別である。より具体的には、処理対象の基板の種類は、属性の一つの例である。属性の他の例は、基板の処理条件である。より具体的には、プロセスジョブデータ中のレシピで指定された処理液(とくに薬液)の種類、処理液の温度などが基板の処理条件の例である。図8に示す仮タイムテーブルの例では、薬液キャビネットCC1から60℃に温度調節された薬液の供給がレシピにおいて指定されている場合を示してある。したがって、この例では、60℃での薬液供給を表す属性データが記憶部23に格納される。
The scheduling function unit 25 creates similar temporary timetables (temporary timetables in which processing blocks are arranged in processing units MPC2 to MPC12, respectively) corresponding to routes passing through processing units MPC2 to MPC12, respectively, for the same substrate W. . In this way, temporary timetables for a total of 12 routes are created for one board W.
On the other hand, as shown in FIG. 4, the scheduling function unit 25 determines the attributes of the process job based on the process job data, and stores attribute data representing the attributes in the storage unit 23 (step S4). An attribute is a type of processing. More specifically, the type of substrate to be processed is one example of the attribute. Other examples of attributes are substrate processing conditions. More specifically, examples of substrate processing conditions include the type of processing liquid (especially chemical liquid) specified in the recipe in the process job data, the temperature of the processing liquid, and the like. In the example of the temporary timetable shown in FIG. 8, a case is shown in which the recipe specifies the supply of a chemical solution whose temperature is adjusted to 60° C. from the chemical solution cabinet CC1. Therefore, in this example, attribute data representing supply of chemical liquid at 60° C. is stored in the storage unit 23.

薬液キャビネットCC1が同時に異なる2つ以上の温度の薬液供給が不可能な構成の場合には、同時には1種類の温度の薬液供給のみが計画可能である。異なる温度の薬液を供給するためには、タンク3(図2参照)内の薬液の温度を変更するための調節が必要である。したがって、異なる温度の薬液供給は、異なる時間に計画される必要がある。より具体的には、薬液温度の変更のための準備工程に要する充分な時間を空けた異なる期間に計画される必要がある。したがって、或る温度の薬液の使用が計画されている期間には、他の温度の薬液を使うプロセスジョブの計画は禁止される。この実施形態では、全ての処理ユニットMPC1~MPC12に対して、一つの薬液キャビネットCC1からの薬液が供給されるように構成されており、かつ薬液キャビネットCC1は同時には一種類のみの温度の薬液供給が可能である。そこで、或る温度の薬液の使用がいずれかの処理ユニットに対して計画されると、いずれの処理ユニットにおいても、他の温度の薬液使用の計画は禁止される。 If the chemical liquid cabinet CC1 is configured such that it is not possible to supply chemical liquids at two or more different temperatures at the same time, it is possible to plan the supply of chemical liquids at only one type of temperature at the same time. In order to supply chemicals at different temperatures, adjustments are required to change the temperature of the chemicals in the tank 3 (see FIG. 2). Therefore, chemical liquid supplies at different temperatures need to be scheduled at different times. More specifically, it is necessary to plan for different periods with sufficient time required for the preparation process for changing the temperature of the chemical solution. Therefore, during a period in which the use of a chemical liquid at a certain temperature is planned, planning of process jobs that use chemical liquids at other temperatures is prohibited. In this embodiment, the chemical liquid is supplied from one chemical liquid cabinet CC1 to all the processing units MPC1 to MPC12, and the chemical liquid cabinet CC1 is configured to supply chemical liquid at only one type of temperature at the same time. is possible. Therefore, when the use of a chemical solution at a certain temperature is planned for any processing unit, plans for the use of a chemical solution at other temperatures are prohibited in any processing unit.

薬液キャビネットCC1は、所定の複数個の処理ユニットへと同時に薬液を供給できるように構成されていてもよい。この場合には、重複した期間に異なる処理ユニットで同じ温度の同種薬液を使用する計画を立てることが許容される。
作成された仮タイムテーブルは、スケジュールデータ50の一部として記憶部23に格納される(図4のステップS5)。同様の仮タイムテーブルが同じプロセスジョブ符号が付与された基板Wの全てに対応して作成される。仮タイムテーブルの作成段階では、別の基板Wに関するブロックとの干渉(時間軸上での重なり合い)は考慮されない。
The chemical solution cabinet CC1 may be configured to be able to simultaneously supply chemical solutions to a plurality of predetermined processing units. In this case, it is permissible to plan to use the same type of chemical solution at the same temperature in different processing units during overlapping periods.
The created temporary timetable is stored in the storage unit 23 as part of the schedule data 50 (step S5 in FIG. 4). A similar temporary timetable is created corresponding to all the substrates W assigned the same process job code. At the stage of creating the temporary timetable, interference with blocks related to another substrate W (overlap on the time axis) is not taken into account.

受信済みの全てのプロセスジョブに対して仮タイムテーブルの作成を終えると(ステップS6:YES)、スケジューリング機能部25は、全体スケジューリングを実行する(ステップS7)。全体スケジューリングとは、作成された仮タイムテーブルのブロックを、各リソースの他のブロックと重複しないように、時間軸上に配置することである。全体スケジューリングによって作成されたスケジュールデータは記憶部23に格納される(ステップS8)。 After completing the creation of temporary timetables for all received process jobs (step S6: YES), the scheduling function unit 25 executes overall scheduling (step S7). Overall scheduling means arranging the blocks of the created temporary timetable on the time axis so as not to overlap with other blocks of each resource. The schedule data created by the overall scheduling is stored in the storage unit 23 (step S8).

新たなコントロールジョブデータが受信された場合に(ステップS1:YES)、既にスケジューリング済みでかつ未実行のプロセスジョブが存在するときもあり得る。このような場合には、全体スケジューリング(ステップS7)では、それらの未実行のプロセスジョブも含めて、再度、全ての未実行プロセスジョブに対するスケジューリングが実行される。 When new control job data is received (step S1: YES), there may be a case where there is a process job that has already been scheduled and has not yet been executed. In such a case, in the overall scheduling (step S7), scheduling is again performed for all unexecuted process jobs, including those unexecuted process jobs.

新たなコントロールジョブデータの受信がなければ(ステップS1:NO)、スケジューリング機能部25は、再スケジューリングのための割込が発生したかどうかを判断する(ステップS9)。割込の発生がなければ(ステップS9:NO)、今制御周期の処理を終える。割込が発生すると(ステップS9:YES)、再度、全ての未実行プロセスジョブに対するスケジューリングが実行される(ステップS7。割込スケジューリング工程)。再スケジューリングのための割込は、図6および図7を参照して後述する割込判定処理によって、必要な場合に生じる。割込判定処理は、未実行のプロセスジョブの実行順序を計画済みの順序から変更すべき割込実行条件が成立すると、割込を発生する。 If new control job data is not received (step S1: NO), the scheduling function unit 25 determines whether an interruption for rescheduling has occurred (step S9). If no interrupt occurs (step S9: NO), the processing for the current control cycle ends. When an interrupt occurs (step S9: YES), scheduling for all unexecuted process jobs is executed again (step S7: interrupt scheduling step). An interrupt for rescheduling is generated when necessary by an interrupt determination process that will be described later with reference to FIGS. 6 and 7. The interrupt determination process generates an interrupt when an interrupt execution condition for changing the execution order of unexecuted process jobs from the planned order is satisfied.

図5は、全体スケジューリング(図4のステップS7)の詳細を説明するためのフローチャートである。スケジューリング機能部25は、基板Wの仮タイムテーブルを記憶部23から読み出して、その仮タイムテーブルを構成しているブロックを時間軸上に配置していく。
さらに具体的には、スケジューリング機能部25は、割込が発生したかどうかを判断し(ステップS21)、割込の発生がなければ、未計画のプロセスジョブがあるかどうかを判断する(ステップS22)。「未計画のプロセスジョブ」とは、一度も計画されたことのないプロセスジョブのほか、再スケジューリングのための割込が発生した場合には、当該再スケジューリングにおいて未計画のプロセスジョブも含む。つまり、スケジューリング対象のプロセスジョブのうちで未計画のプロセスジョブである。
FIG. 5 is a flowchart for explaining details of the overall scheduling (step S7 in FIG. 4). The scheduling function unit 25 reads the temporary timetable of the substrate W from the storage unit 23 and arranges the blocks forming the temporary timetable on the time axis.
More specifically, the scheduling function unit 25 determines whether an interrupt has occurred (step S21), and if no interrupt has occurred, determines whether there is an unplanned process job (step S22). ). "Unplanned process jobs" include not only process jobs that have never been planned, but also process jobs that are not planned for rescheduling when an interruption for rescheduling occurs. In other words, it is an unplanned process job among the process jobs to be scheduled.

全てのプロセスジョブが計画済みであれば(ステップS22:NO)、今制御周期の処理を終える。未計画のプロセスジョブがあれば(ステップS22:YES)、スケジューリング機能部25は、受信時間が最も早い未計画のプロセスジョブの1枚の基板Wに対応する仮タイムテーブルを読み出す(ステップS23)。スケジューリング機能部25は、その読み出した仮タイムテーブルに対応する属性が、現在処理実行中のプロセスジョブの属性と共通かどうかを判断する(ステップS24)。より具体的には、基板処理装置において現在実行中のプロセスジョブに用いられている薬液の温度(属性、処理液条件の一例)が、当該仮タイムテーブルに対応するプロセスジョブのレシピで指定されている属性と共通しているかどうかを判断する。この判断は、仮タイムテーブル毎(あるいはプロセスジョブ毎)に記憶部23に格納されている属性データを用いて行うことができる。現在実行中のプロセスジョブが存在しなければ、ステップS24の判断は否定となる。 If all the process jobs have been planned (step S22: NO), the processing for the current control cycle ends. If there is an unplanned process job (step S22: YES), the scheduling function unit 25 reads the temporary timetable corresponding to one substrate W of the unplanned process job with the earliest reception time (step S23). The scheduling function unit 25 determines whether the attributes corresponding to the read provisional timetable are common to the attributes of the process job currently being processed (step S24). More specifically, the temperature of the chemical solution (attribute, an example of processing solution conditions) used in the process job currently being executed in the substrate processing apparatus is specified in the recipe of the process job corresponding to the temporary timetable. Determine whether the attribute is in common with the specified attribute. This determination can be made using attribute data stored in the storage unit 23 for each temporary timetable (or for each process job). If there is no process job currently being executed, the determination in step S24 will be negative.

現在実行中のプロセスジョブの属性と共通していれば(ステップS24:YES)、スケジューリング機能部25は、当該仮タイムテーブルを構成する各ブロックを対応するリソースに時間軸上で前詰めに配置する(ステップS27)。すなわち、各ブロックは、同一リソースが同じ時間に重複して使用されないようにしながら、時間軸上で最も早い位置に配置される。同様の処理が同じプロセスジョブの全ての基板の仮タイムテーブルについて実行される。 If the attributes are the same as those of the process job currently being executed (step S24: YES), the scheduling function unit 25 arranges each block constituting the temporary timetable in the corresponding resource in a front-justified manner on the time axis. (Step S27). That is, each block is placed at the earliest position on the time axis while preventing the same resource from being used redundantly at the same time. A similar process is performed for the temporary timetables of all substrates of the same process job.

そして、同様の処理が、記憶部23に格納された未計画のプロセスジョブデータに対して、繰り返される(ステップS22)。
仮タイムテーブルを読み出したプロセスジョブの属性が現在実行中のプロセスジョブの属性と異なる場合には(ステップS24:NO)、現在実行中のプロセスジョブと属性が共通する未計画のプロセスジョブが存在するかどうかが判断される(ステップS25)。該当するプロセスジョブが存在すれば、当該共通属性のプロセスジョブのうちで受信順序が最先のプロセスジョブの仮タイムテーブルが読み出される(ステップS26)。そして、この仮タイムテーブルに対して、ステップS27の処理が実行される。
Similar processing is then repeated for the unplanned process job data stored in the storage unit 23 (step S22).
If the attributes of the process job for which the temporary timetable has been read are different from the attributes of the currently executing process job (step S24: NO), there is an unplanned process job that has the same attributes as the currently executing process job. It is determined whether or not (step S25). If the corresponding process job exists, the temporary timetable of the process job that is received first among the process jobs with the common attribute is read (step S26). Then, the process of step S27 is executed on this temporary timetable.

一方、共通属性の未計画プロセスジョブが存在しなければ(ステップS25:NO)、スケジューリング機能部25は、読み出した仮タイムテーブルのプロセスジョブの属性に基づいて、準備工程が必要かどうかを判断する(ステップS28)。たとえば、薬液キャビネットCC1から供給すべき薬液の温度を変更すべきときには、薬液キャビネットCC1内で薬液の温度を調整するための準備工程が必要である。このような準備工程が必要なときには(ステップS28:YES)、スケジューリング機能部25は、薬液キャビネットCC1に対して、準備工程を表す準備工程ブロックを配置し(ステップS29)、その後に、ステップS27の処理を実行する。このとき、準備工程よりも前、すなわち、たとえば薬液の温度調節が完了するよりも前に処理ブロックを配置しないように、時間軸上での処理ブロックの配置が調整される。準備工程が必要でないときには(ステップS28:NO)、準備工程ブロックの配置は省かれる。 On the other hand, if there is no unplanned process job with the common attribute (step S25: NO), the scheduling function unit 25 determines whether a preparation process is necessary based on the attributes of the process job in the read provisional timetable. (Step S28). For example, when the temperature of the chemical liquid to be supplied from the chemical liquid cabinet CC1 is to be changed, a preparation step is required to adjust the temperature of the chemical liquid within the chemical liquid cabinet CC1. When such a preparation process is necessary (step S28: YES), the scheduling function unit 25 arranges a preparation process block representing the preparation process in the chemical solution cabinet CC1 (step S29), and then performs the preparation process block in step S27. Execute processing. At this time, the arrangement of the processing blocks on the time axis is adjusted so that the processing blocks are not arranged before the preparation step, that is, before the temperature adjustment of the chemical solution is completed, for example. If the preparation process is not necessary (step S28: NO), the arrangement of the preparation process block is omitted.

割込が発生したときには(ステップS21:YES)、スケジューリング機能部25は、その割込によって優先的に処理すべきプロセスジョブの仮タイムテーブルを記憶部23から読み出す。その仮タイムテーブルに対して、ステップS28,S29,S27の処理が実行される(割込スケジューリング)。
割込が発生することによって、未実行の全てのプロセスジョブについての再スケジューリングが行われる。したがって、割込によって優先処理すべきプロセスジョブ(成立した割込実行条件に応じて選択されるプロセスジョブ)についての計画(ステップS27)の後には、その他の未実行のプロセスジョブが未計画のプロセスジョブとして扱われ(ステップS22:YES)、そのスケジューリングが実行される。
When an interruption occurs (step S21: YES), the scheduling function unit 25 reads from the storage unit 23 a temporary timetable of a process job to be processed preferentially by the interruption. The processes of steps S28, S29, and S27 are executed for the temporary timetable (interrupt scheduling).
When an interrupt occurs, all unexecuted process jobs are rescheduled. Therefore, after planning (step S27) for a process job to be processed with priority by an interrupt (a process job selected according to the established interrupt execution condition), other unexecuted process jobs are It is treated as a job (step S22: YES), and its scheduling is executed.

図6は、割込判定処理の一例を説明するためのフローチャートである。制御部21は、コントロールジョブに含まれる最初のプロセスジョブの実行を指示すると(ステップS41:YES)、当該コントロールジョブのライフ(コントロールジョブライフ)の計測を開始する(ステップS42)。コントロールジョブライフとは、この例では、コントロールジョブの開始からの経過を表す数量である。コントロールジョブライフの一つの具体例は、コントロールジョブを開始してからの経過時間である。コントロールジョブライフの他の例は、コントロールジョブを開始してから基板処理装置によって処理開始(または処理終了)したプロセスジョブの数、コントロールジョブを開始してから基板処理装置によって処理開始(または処理終了)した基板Wの数、コントロールジョブを開始してから基板処理装置によって処理開始(または処理終了)したコントロールジョブの数などである。 FIG. 6 is a flowchart for explaining an example of the interrupt determination process. When the control unit 21 instructs execution of the first process job included in the control job (step S41: YES), it starts measuring the life of the control job (control job life) (step S42). In this example, the control job life is a quantity representing the progress since the start of the control job. One specific example of the control job life is the elapsed time since the control job was started. Other examples of control job life are the number of process jobs that have started (or finished being processed) by the substrate processing equipment since starting the control job, and the number of process jobs that have started (or finished being processed) by the substrate processing equipment since starting the control job. ), the number of control jobs processed by the substrate processing apparatus after starting the control job (or completed), and the like.

コントロールジョブライフの計測は、個々のコントロールジョブについてそれぞれ行われる。すなわち、制御部21は、実行中の全てのコントロールジョブのそれぞれのコントロールジョブライフを計測する。制御部21は、新たなコントロールジョブが開始されると当該コントロールジョブのコントロールジョブライフの計測を開始する(ステップS42)。また、制御部21は、いずれかのコントロールジョブが終了すると、そのコントロールジョブのコントロールジョブライフの計測を終了する(ステップS43,S44)。 The control job life is measured for each control job. That is, the control unit 21 measures the control job life of all the control jobs being executed. When a new control job is started, the control unit 21 starts measuring the control job life of the control job (step S42). Furthermore, when any control job ends, the control unit 21 ends the measurement of the control job life of that control job (steps S43, S44).

スケジューリング機能部25は、計測中の全てのコントロールジョブライフを参照し、いずれかのコントロールジョブライフが予め定める閾値に達したかどうか(割込実行条件)を判断する(ステップS45)。いずれのコントロールジョブライフも閾値に達していなければ(ステップS45:NO)、割込を発生させずに、処理を終える。いずれかのコントロールジョブライフが閾値に達すると、スケジューリング機能部25は、割込を発生させる(ステップS46)。より具体的には、スケジューリング機能部25は、コントロールジョブライフが閾値に達したコントロールジョブ中の未実行のプロセスジョブを他のプロセスジョブに優先して割込実行させるための割込を発生させる。 The scheduling function unit 25 refers to all the control job lives being measured and determines whether any control job life has reached a predetermined threshold (interrupt execution condition) (step S45). If the life of any control job has not reached the threshold (step S45: NO), the process ends without generating an interrupt. When the life of any control job reaches the threshold value, the scheduling function unit 25 generates an interrupt (step S46). More specifically, the scheduling function unit 25 generates an interrupt to cause an unexecuted process job among the control jobs whose control job life has reached a threshold value to be executed with priority over other process jobs.

スケジューリング機能部25は、そのプロセスジョブを優先的に実行するために、作成済みのスケジューリングに対して、当該プロセスジョブを割り込ませるための再スケジューリングを実行する(図4のステップS9:YES、図5のステップS21:YES)。この再スケジューリングでは、スケジューリング機能部25は、その割込対象のプロセスジョブが実行開始済みのプロセスジョブの次に実行されるように、既存のスケジューリングを破棄して、スケジューリングを再度実行する。 The scheduling function unit 25 executes rescheduling to interrupt the created schedule with the process job in order to execute the process job preferentially (step S9 in FIG. 4: YES, FIG. Step S21: YES). In this rescheduling, the scheduling function unit 25 discards the existing scheduling and executes the scheduling again so that the process job to be interrupted is executed next to the process job that has already started execution.

このような割込再スケジューリングにより、一つのコントロールジョブの処理開始から終了までに実質的な時間制限を設けることができる。それにより、或るコントロールジョブの最初の基板が処理終了してから基板収容器C内で長時間待機させられることを回避できる。たとえば、基板収容器Cが開閉蓋付の容器(FOUP等)である場合に、開閉蓋が長時間に渡って開状態のままになることを回避できる。それにより、処理済みの基板の表面への悪影響、たとえば自然酸化膜の成長や周囲雰囲気による影響などを抑制できる。さらに、基板収容器Cを保持するステージSTが長時間にわたって一つの基板収容器Cで占有されることを回避でき、次の基板収容器Cを投入できるまでの時間を短縮できる。 With such interrupt rescheduling, it is possible to set a substantial time limit from the start to the end of processing of one control job. Thereby, it is possible to avoid waiting for a long time in the substrate container C after the first substrate of a certain control job is processed. For example, when the substrate container C is a container with an opening/closing lid (such as a FOUP), it is possible to prevent the opening/closing lid from remaining open for a long time. Thereby, adverse effects on the surface of the processed substrate, such as the growth of a natural oxide film and the effects of the surrounding atmosphere, can be suppressed. Furthermore, it is possible to avoid that the stage ST holding the substrate accommodating container C is occupied by one substrate accommodating container C for a long time, and the time until the next substrate accommodating container C can be loaded can be shortened.

図7は、割込判定処理の他の例を説明するためのフローチャートである。この例では、制御部21は、新たな属性を指定したレシピを有するプロセスジョブが実行開始されると(ステップS51:YES)、当該属性のライフ(属性ライフ)を計測する。属性ライフとは、この例では、或る属性による処理開始(換言すれば属性の切替え)からの経過を表す数量である。属性ライフの一つの具体例は、新たな属性による処理開始してからの経過時間である。属性ライフの他の例は、新たな属性による処理を開始してから基板処理装置によって処理開始(または処理終了)したプロセスジョブの数、新たな属性による処理を開始してから基板処理装置によって処理開始(または処理終了)した基板Wの数、新たな属性による処理を開始してから基板処理装置によって処理開始(または処理終了)したコントロールジョブの数などである。 FIG. 7 is a flowchart for explaining another example of the interrupt determination process. In this example, when a process job having a recipe specifying a new attribute is started to be executed (step S51: YES), the control unit 21 measures the life of the attribute (attribute life). In this example, the attribute life is a quantity representing the progress from the start of processing for a certain attribute (in other words, attribute switching). One specific example of the attribute life is the elapsed time from the start of processing using a new attribute. Other examples of attribute life are the number of process jobs that have started (or finished being processed) by a substrate processing device since starting processing with a new attribute, and the number of process jobs processed by a substrate processing device since starting processing with a new attribute. These include the number of substrates W that have started (or finished processing), the number of control jobs that have started processing (or finished processing) by the substrate processing apparatus after starting processing based on a new attribute, and so on.

複数の属性が定義される場合には、属性ライフの計測は、個々の属性についてそれぞれ行われる。すなわち、制御部21は、基板処理のために現に適用されている属性のそれぞれの属性ライフを計測する。制御部21は、新たな属性による処理が開始されると当該属性の計測を開始する(ステップS52)。また、制御部21は、いずれかの属性の適用が終了すると、その属性の属性ライフの計測を終了する(ステップS53,S54)。 When multiple attributes are defined, attribute life measurement is performed for each individual attribute. That is, the control unit 21 measures the attribute life of each attribute currently applied for substrate processing. When processing using a new attribute is started, the control unit 21 starts measuring the new attribute (step S52). Furthermore, when the application of any attribute is completed, the control unit 21 ends the measurement of the attribute life of that attribute (steps S53, S54).

スケジューリング機能部25は、計測中の全ての属性ライフを参照し、いずれかの属性ライフが予め定める閾値に達したかどうか(割込実行条件)を判断する(ステップS55)。いずれの属性ライフも閾値に達していなければ(ステップS55:NO)、割込を発生させずに、処理を終える。いずれかの属性ライフが閾値に達すると、スケジューリング機能部25は、割込を発生させる(ステップS56)。より具体的には、スケジューリング機能部25は、属性ライフが閾値に達した属性とは異なる属性が指定された未実行のプロセスジョブを優先して割込実行させるための割込を発生させる。 The scheduling function unit 25 refers to all attribute lives being measured and determines whether any attribute life has reached a predetermined threshold (interrupt execution condition) (step S55). If none of the attribute lives has reached the threshold (step S55: NO), the process ends without generating an interrupt. When the life of any attribute reaches the threshold value, the scheduling function unit 25 generates an interrupt (step S56). More specifically, the scheduling function unit 25 generates an interrupt to preferentially execute an unexecuted process job for which an attribute different from the attribute whose attribute life has reached the threshold value is specified.

スケジューリング機能部25は、そのプロセスジョブを優先的に実行するために、作成済みのスケジューリングに対して、当該プロセスジョブを割り込ませるための再スケジューリングを実行する(図4のステップS9:YES、図5のステップS21:YES)。この再スケジューリングでは、スケジューリング機能部25は、その割込対象のプロセスジョブが実行開始済みのプロセスジョブの次に実行されるように、既存のスケジューリングを破棄して、スケジューリングを再度実行する。 The scheduling function unit 25 executes rescheduling to interrupt the created schedule with the process job in order to execute the process job preferentially (step S9 in FIG. 4: YES, FIG. Step S21: YES). In this rescheduling, the scheduling function unit 25 discards the existing scheduling and executes the scheduling again so that the process job to be interrupted is executed next to the process job that has already started execution.

たとえば、薬液の種類が属性の一つである場合に、同じ薬液を繰り返し循環使用すると、薬液の品質が劣化し、基板処理に影響を及ぼすおそれがある。そこで、或る種類の薬液について使用開始からのライフ(たとえば処理した基板枚数)を計測し、そのライフが閾値に達した時点で別の種類の薬液を指定したプロセスジョブを優先実行する一方で、ライフが閾値に達した薬液を交換する措置をとることができる。 For example, when the type of chemical liquid is one of the attributes, if the same chemical liquid is used repeatedly, the quality of the chemical liquid may deteriorate and substrate processing may be affected. Therefore, the life of a certain type of chemical solution from the start of use (for example, the number of substrates processed) is measured, and when the life reaches a threshold, a process job that specifies a different type of chemical solution is executed with priority. Measures can be taken to replace the chemical solution whose life has reached the threshold.

図6および図7の割込判定処理は、いずれか一方のみが行われてもよいし、両方が行われてもよい。また、さらに別の観点から再スケジューリングの契機を提供する割込判定処理が行われてもよい。
図9は、ホストコンピュータ24からコンピュータ20に入力されるコントロールジョブデータの一例を示す。この例では、3つのコントロールジョブCJ1,CJ2,CJ3に対応するコントロールジョブデータが、この順序でコンピュータ20に与えられた場合を想定している。
Only one or both of the interrupt determination processes shown in FIGS. 6 and 7 may be performed. Furthermore, an interruption determination process that provides an opportunity for rescheduling may be performed from another perspective.
FIG. 9 shows an example of control job data input from the host computer 24 to the computer 20. In this example, it is assumed that control job data corresponding to three control jobs CJ1, CJ2, and CJ3 are given to the computer 20 in this order.

コンピュータ20は、ホストコンピュータ24からコントロールジョブデータが与えられると、受信した順にコントロールジョブに符号CJ1,CJ2,CJ3を与えて管理する。この例では、コントロールジョブCJ1は複数のプロセスジョブPJ11,PJ12,PJ13を含み、これらは、コントロールジョブデータ中で順序付けられている。すなわち、コントロールジョブCJ1のデータ(コントロールジョブデータ)は、複数のプロセスジョブPJ11~PJ13を表すプロセスジョブデータを含む。また、コントロールジョブCJ2は複数のプロセスジョブPJ21,PJ22,PJ23を含み、これらは、コントロールジョブデータ中で順序付けられている。すなわち、コントロールジョブCJ2のデータ(コントロールジョブデータ)は、複数のプロセスジョブPJ21~PJ23を表すプロセスジョブデータを含む。コントロールジョブCJ3は複数のプロセスジョブPJ31,PJ32,PJ33を含み、これらは、コントロールジョブデータ中で順序付けられている。すなわち、コントロールジョブCJ3のデータ(コントロールジョブデータ)は、複数のプロセスジョブPJ31~PJ33を表すプロセスジョブデータを含む。コンピュータ20は、受信したコントロールジョブに含まれるプロセスジョブに対して、重複しないように符号PJ11,PJ12,PJ13;PJ21,PJ22,PJ23;PJ31,PJ32,PJ33を与えて管理する。 When the computer 20 receives control job data from the host computer 24, it manages the control jobs by assigning codes CJ1, CJ2, and CJ3 to the control jobs in the order in which they are received. In this example, control job CJ1 includes a plurality of process jobs PJ11, PJ12, PJ13, which are ordered in the control job data. That is, the data of control job CJ1 (control job data) includes process job data representing a plurality of process jobs PJ11 to PJ13. Furthermore, the control job CJ2 includes a plurality of process jobs PJ21, PJ22, and PJ23, which are ordered in the control job data. That is, the data of control job CJ2 (control job data) includes process job data representing a plurality of process jobs PJ21 to PJ23. The control job CJ3 includes a plurality of process jobs PJ31, PJ32, and PJ33, which are ordered in the control job data. That is, the data of control job CJ3 (control job data) includes process job data representing a plurality of process jobs PJ31 to PJ33. The computer 20 manages the process jobs included in the received control job by assigning codes PJ11, PJ12, PJ13; PJ21, PJ22, PJ23; PJ31, PJ32, PJ33 to avoid duplication.

各プロセスジョブを表すプロセスジョブデータは、基板処理条件を表すレシピを規定するレシピデータを含む。レシピデータは、使用可能な処理ユニット、処理ユニットにおける具体的な処理手順、および各処理手順において使用する処理液(とくに薬液)に関する指示(処理液条件)を含む。処理液に関する指示は、この実施形態では、薬液の種類および/または温度を指定する薬液レシピデータを含む。プロセスジョブデータは、さらに、搬送オプションデータを含んでいてもよい。搬送オプションデータは、たとえば、基板搬送時に使用するロボットのハンドを設定するためのハンド設定データを含む。プロセスジョブデータは、さらに、前後処理スキップの設定データを含んでいてもよい。前後処理スキップとは、直前に実行されるプロセスジョブのレシピと同じレシピがプロセスジョブデータにおいて指定されているときに、前後処理を省くことをいう。前後処理とは、レシピの異なるプロセスジョブの間で必要に応じて実行される準備処理をいう。 Process job data representing each process job includes recipe data that defines a recipe representing substrate processing conditions. The recipe data includes instructions (processing liquid conditions) regarding usable processing units, specific processing procedures in the processing units, and processing liquids (especially chemical liquids) used in each processing procedure. In this embodiment, the instructions regarding the processing liquid include chemical liquid recipe data that specifies the type and/or temperature of the chemical liquid. Process job data may further include transport option data. The transport option data includes, for example, hand setting data for setting a robot hand to be used during substrate transport. The process job data may further include setting data for skipping pre- and post-processing. Skip pre-processing and post-processing refers to skipping pre-processing and post-processing when the same recipe as the recipe of the process job to be executed immediately before is specified in the process job data. Pre- and post-processing refers to preparation processing that is executed as necessary between process jobs with different recipes.

図9の例では、プロセスジョブPJ11,PJ13;PJ21,PJ22,PJ23;PJ32,PJ33に対して薬液レシピC1(第1処理液条件)が指定されており、プロセスジョブPJ12;PJ31に対して薬液レシピC2(第2処理液条件)が指定されている。たとえば、薬液レシピC1は、第1の温度(たとえば60℃)の薬液の使用を指定し、それに応じて、薬液キャビネットCC1は、第1の温度の薬液を供給するように制御される。また、薬液レシピC2は、第1の温度とは異なる第2の温度(たとえば80℃)の薬液の使用を指定し、それに応じて、薬液キャビネットCC1は、第2の温度の薬液を供給するように制御される。薬液キャビネットCC1から供給される薬液の温度の切替えは、瞬時に行うことはできない。すなわち、薬液キャビネットCC1内で温度調整のための準備工程が必要であり、薬液温度を変更し、変更後の温度で安定した薬液を供給するには、相応の時間を要する。 In the example of FIG. 9, chemical recipe C1 (first processing liquid condition) is specified for process jobs PJ11, PJ13; PJ21, PJ22, PJ23; PJ32, PJ33, and chemical recipe C1 (first processing liquid condition) is specified for process jobs PJ12; C2 (second processing liquid condition) is specified. For example, the chemical liquid recipe C1 specifies the use of a chemical liquid at a first temperature (for example, 60° C.), and the chemical liquid cabinet CC1 is controlled to supply the chemical liquid at the first temperature accordingly. Further, the chemical liquid recipe C2 specifies the use of a chemical liquid at a second temperature (for example, 80° C.) different from the first temperature, and in response, the chemical liquid cabinet CC1 supplies the chemical liquid at the second temperature. controlled by. The temperature of the chemical solution supplied from the chemical solution cabinet CC1 cannot be changed instantaneously. That is, a preparatory step for temperature adjustment is required in the chemical liquid cabinet CC1, and it takes a considerable amount of time to change the chemical liquid temperature and supply a stable chemical liquid at the changed temperature.

説明を簡単にするために、プロセスジョブPJ11,PJ12,PJ13;PJ21,PJ22,PJ23;PJ31,PJ32,PJ33のレシピデータが、いずれも、一つの処理ユニットMPC1での処理を指定している場合を想定する。
図10Aは薬液レシピC1が指定されたプロセスジョブPJ11,PJ13;PJ21,PJ22,PJ23;PJ32,PJ33の各基板に対して作成される仮タイムテーブルを示し、図10Bは薬液レシピC2が指定されたプロセスジョブPJ12;PJ31の各基板に対して作成される仮タイムテーブルを示す。
To simplify the explanation, assume that the recipe data of process jobs PJ11, PJ12, PJ13; PJ21, PJ22, PJ23; PJ31, PJ32, PJ33 all specify processing in one processing unit MPC1. Suppose.
FIG. 10A shows a temporary timetable created for each board of process jobs PJ11, PJ13; PJ21, PJ22, PJ23; PJ32, PJ33 for which chemical recipe C1 is specified, and FIG. 10B shows a temporary timetable for each board for which chemical recipe C2 is specified. A temporary timetable created for each substrate of process jobs PJ12 and PJ31 is shown.

スケジューリング機能部25は、全てのプロセスジョブPJ11,PJ12,PJ13;PJ21,PJ22,PJ23;PJ31,PJ32,PJ33に対応する仮タイムテーブルをそれぞれ作成する。
想定している例では、プロセスジョブPJ11,PJ12,PJ13;PJ21,PJ22,PJ23;PJ31,PJ32,PJ33のレシピデータが、いずれも、一つの処理ユニットMPC1での処理を指定しているので、一つの処理ユニットMPC1での処理を指定して基板に対する処理を行うための仮タイムテーブルが作成される。すなわち、処理ユニットMPC1に処理ブロックをそれぞれ配置した仮タイムテーブルが作成される。処理ブロックは、基板処理のために当該処理ユニットが占有されることを表す。もしも、或るプロセスジョブのレシピが複数の処理ユニットでの並行処理を許容している場合には、当該許容された複数の処理ユニットにそれぞれ処理ブロックを配置した複数の仮タイムテーブルが作成される。
The scheduling function unit 25 creates temporary timetables corresponding to all process jobs PJ11, PJ12, PJ13; PJ21, PJ22, PJ23; PJ31, PJ32, PJ33, respectively.
In the assumed example, the recipe data for process jobs PJ11, PJ12, PJ13; PJ21, PJ22, PJ23; PJ31, PJ32, PJ33 all specify processing by one processing unit MPC1, so A temporary timetable is created for specifying processing in one processing unit MPC1 and processing the substrate. That is, a temporary timetable is created in which processing blocks are arranged in each processing unit MPC1. A processing block represents that the processing unit is occupied for substrate processing. If a recipe for a certain process job allows parallel processing in multiple processing units, multiple temporary timetables are created in which processing blocks are placed in each of the allowed processing units. .

また、処理ユニットMPC1に配置された処理ブロックの期間中において、薬液キャビネットCC1から薬液を供給すべき期間には、薬液キャビネットCC1に対応して薬液供給ブロックが配置される。薬液供給ブロックは、薬液キャビネットCC1が薬液供給のために使用されることを表す。図10Aの仮タイムテーブルでは、薬液レシピC1に従って第1の温度(たとえば60℃)の薬液供給を指定する薬液供給ブロックが配置されており、図10Bの仮タイムテーブルでは、薬液レシピC2に従って第2の温度(たとえば80℃)の薬液供給を指定する薬液供給ブロックが配置されている。 Moreover, during the period of the processing blocks arranged in the processing unit MPC1, during the period when the chemical liquid is to be supplied from the chemical liquid cabinet CC1, a chemical liquid supply block is arranged corresponding to the chemical liquid cabinet CC1. The chemical solution supply block represents that the chemical solution cabinet CC1 is used for drug solution supply. In the tentative timetable of FIG. 10A, a chemical solution supply block that specifies the supply of a first temperature (for example, 60° C.) according to the chemical recipe C1 is arranged, and in the tentative timetable of FIG. A chemical solution supply block that specifies the supply of a chemical solution at a temperature of (for example, 80° C.) is arranged.

図11は、最初に受信したコントロールジョブCJ1の最初のプロセスジョブPJ11の最初の基板に対応する仮タイムテーブルを構成する全てのブロックを配置した例を示す。
スケジューリング機能部25は、まず、プロセスジョブPJ11の仮タイムテーブルから取得されたブロックを対応するリソースのスペースに時間軸上において最も早い位置に(すなわち前詰めで)順に配置していく。このとき、スケジューリング機能部25は、同一のリソースのスペースでブロックが重なり合わないように各ブロックを配置する。プロセスジョブPJ11は、たとえば1枚の基板に対する処理を処理ユニットMPC1で行うべきことを指定する処理である。そこで、スケジューリング機能部25は、処理ブロックを処理ユニットMPC1に対応するように配置する。
FIG. 11 shows an example in which all blocks constituting a temporary timetable corresponding to the first substrate of the first process job PJ11 of the first received control job CJ1 are arranged.
The scheduling function unit 25 first arranges the blocks acquired from the temporary timetable of the process job PJ11 in the corresponding resource space in order at the earliest position on the time axis (that is, in a front-aligned manner). At this time, the scheduling function unit 25 arranges each block so that the blocks do not overlap in the same resource space. The process job PJ11 is, for example, a process that specifies that processing for one substrate should be performed by the processing unit MPC1. Therefore, the scheduling function section 25 arranges the processing blocks so as to correspond to the processing unit MPC1.

また、プロセスジョブPJ11の薬液レシピC1は、第1の温度(たとえば60℃)の薬液の使用を指定しているので、処理ブロックを配置した期間内において薬液を使用する期間には、薬液キャビネットCC1に対応付けて薬液供給ブロック(60℃)が配置される。プロセスジョブPJ11の直前に薬液レシピC1を指定した別のプロセスジョブが実行または計画されていない場合には、薬液供給ブロック(60℃)の前には、薬液レシピC1に対応した薬液温度調整のための準備工程ブロックが配置される。こうして、プロセスジョブPJ11に対するスケジューリングを終える。 Furthermore, since the chemical solution recipe C1 of the process job PJ11 specifies the use of a chemical solution at the first temperature (for example, 60° C.), the chemical solution cabinet CC1 A chemical solution supply block (60° C.) is arranged in correspondence with the above. If another process job specifying chemical recipe C1 is not executed or planned immediately before process job PJ11, a chemical liquid temperature adjustment corresponding to chemical liquid recipe C1 is performed before the chemical liquid supply block (60°C). Preparation process blocks are placed. In this way, scheduling for process job PJ11 is completed.

もしも、プロセスジョブPJ11が2枚以上の基板に対する処理である場合には、2枚目以降の基板に対しても同様にして処理ユニットMPC1での処理が繰り返し計画される。プロセスジョブPJ11が複数の処理ユニットでの並行処理を許容している場合には、処理ブロックがより早い時刻に配置できるように、当該許容された複数の処理ユニットのいずれかを用いる仮タイムテーブルが選択される。 If the process job PJ11 is processing for two or more substrates, the processing in the processing unit MPC1 is repeatedly planned for the second and subsequent substrates in the same manner. If the process job PJ11 allows parallel processing in multiple processing units, a temporary timetable using any of the allowed processing units is created so that processing blocks can be placed at earlier times. selected.

次に、スケジューリング機能部25は、コントロールジョブCJ1のデータ中においてプロセスジョブPJ11の次に記述されたプロセスジョブPJ12に対するスケジューリングを開始する。ところが、プロセスジョブPJ12のレシピデータは、第2温度(たとえば80℃)の薬液の使用を指定する薬液レシピC2を含み、この薬液レシピC1は、直前に計画したプロセスジョブPJ11の薬液レシピC1とは異なる。そこで、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ12の計画を保留する。 Next, the scheduling function unit 25 starts scheduling for the process job PJ12 described next to the process job PJ11 in the data of the control job CJ1. However, the recipe data for process job PJ12 includes a chemical recipe C2 that specifies the use of a chemical at a second temperature (for example, 80°C), and this chemical recipe C1 is different from the chemical recipe C1 for process job PJ11 that was planned immediately before. different. Therefore, the scheduling function unit 25 puts the plan of the process job PJ12 on hold.

次に、図12に示すように、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ12の処理スケジューリングを保留した状態で、コントロールジョブCJ1においてプロセスジョブPJ12の次に情報(プロセスジョブデータ)が記述されているプロセスジョブPJ13に対するスケジューリングを行う。プロセスジョブPJ13のレシピは、プロセスジョブPJ11と同じ薬液レシピC1を指定しているので、直前に計画済みのプロセスジョブPJ11の処理条件(薬液温度)と計画中のプロセスジョブPJ13の処理条件(薬液温度)とが同じである。 Next, as shown in FIG. 12, the scheduling function unit 25 suspends the processing scheduling of the process job PJ12, and executes a process for which information (process job data) is written next to the process job PJ12 in the control job CJ1. Scheduling is performed for job PJ13. The recipe for process job PJ13 specifies the same chemical recipe C1 as process job PJ11, so the processing conditions (chemical temperature) of the previously planned process job PJ11 and the processing conditions (chemical temperature) of the currently planned process job PJ13 are specified. ) are the same.

そこで、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ13の仮タイムテーブルを構成するブロックを、同一リソースの他のブロックと重複しないように時間軸上で前詰めに配置していく。これにより、処理ブロックが処理ユニットMPC1に配置される。また、プロセスジョブPJ13は、60℃の薬液の使用を指定しているので、処理ブロックを配置した期間内において薬液を使用する期間には、薬液キャビネットCC1に対応付けて薬液供給ブロックが配置される。こうして、プロセスジョブPJ13に対するスケジューリングを終える。 Therefore, the scheduling function unit 25 arranges the blocks constituting the temporary timetable of the process job PJ13 so that they do not overlap with other blocks of the same resource so that they are shifted toward the front on the time axis. Thereby, the processing block is placed in the processing unit MPC1. In addition, since the process job PJ13 specifies the use of a chemical solution at 60°C, a chemical solution supply block is placed in association with the chemical solution cabinet CC1 during the period in which the chemical solution is used within the period in which the processing block is placed. . In this way, scheduling for process job PJ13 is completed.

もしも、プロセスジョブPJ13が2枚以上の基板に対する処理である場合には、2枚目以降の基板に対しても同様にして処理ユニットMPC1での処理が繰り返し計画される。
以下、同様にして、プロセスジョブがスケジューリングされていく。
図13は、第1の比較例に係るスケジューリングを示す。説明を簡単にするために、図13では、処理ブロック、薬液供給ブロックおよび準備工程ブロックのみを示す。準備工程ブロックとは、薬液レシピを実行するために必要な準備工程を指示するためのブロックである。より具体的には、薬液レシピC1の実行に先立って、薬液キャビネットCC1内では、薬液を第1の温度(たとえば60℃)に調整するための準備工程が行われる。同様に、薬液レシピC2の実行に先立って、薬液キャビネットCC1内では、薬液を第2の温度(たとえば80℃)に調整するための準備工程が行われる。薬液の温度が調整済みであれば、準備工程を計画する必要はない。
If the process job PJ13 is processing for two or more substrates, the processing in the processing unit MPC1 is repeatedly planned for the second and subsequent substrates in the same manner.
Thereafter, process jobs are scheduled in the same manner.
FIG. 13 shows scheduling according to the first comparative example. To simplify the explanation, FIG. 13 shows only the processing block, chemical solution supply block, and preparatory process block. The preparatory process block is a block for instructing a preparatory process necessary to execute a chemical liquid recipe. More specifically, prior to execution of the chemical liquid recipe C1, a preparation process for adjusting the chemical liquid to a first temperature (for example, 60° C.) is performed in the chemical liquid cabinet CC1. Similarly, prior to execution of the chemical liquid recipe C2, a preparation process for adjusting the chemical liquid to a second temperature (for example, 80° C.) is performed in the chemical liquid cabinet CC1. If the temperature of the chemical solution has been adjusted, there is no need to plan a preparation process.

最初のプロセスジョブPJ11のレシピは、薬液レシピC1を指定しているので、対応する処理ブロックよりも前(より正確には、薬液供給ブロックよりも前)に、準備工程ブロックが配置される。この準備工程ブロックは、薬液レシピC1(第1の温度の薬液供給)を実行するための準備工程を指示する。プロセスジョブPJ11の次には、同じ薬液レシピC1を指定するプロセスジョブPJ13の実行が計画されるので、対応する処理ブロックに先立って準備工程を実行する必要がなく、したがって、準備工程ブロックは配置されない。 Since the recipe of the first process job PJ11 specifies the chemical recipe C1, the preparation process block is placed before the corresponding processing block (more precisely, before the chemical supply block). This preparation process block instructs a preparation process for executing the chemical liquid recipe C1 (chemical liquid supply at the first temperature). After process job PJ11, execution of process job PJ13 that specifies the same chemical recipe C1 is planned, so there is no need to execute a preparation process before the corresponding processing block, and therefore no preparation process block is placed. .

この比較例では、プロセスジョブの順序の入れ替えは、一つのコントロールジョブの範囲内においてのみ許容されている。したがって、プロセスジョブPJ13の次に、プロセスジョブPJ12の実行が計画されている。プロセスジョブPJ12のレシピは、薬液レシピC2(第2の温度の薬液供給)を指定しているので、対応する処理ブロックよりも前に準備工程ブロックが配置される。この準備工程ブロックは、薬液キャビネットCC1において、第2の温度に薬液の温度調整を行わせるためのブロックである。 In this comparative example, changing the order of process jobs is allowed only within the scope of one control job. Therefore, process job PJ12 is planned to be executed next to process job PJ13. Since the recipe for the process job PJ12 specifies the chemical liquid recipe C2 (chemical liquid supply at the second temperature), the preparation process block is placed before the corresponding processing block. This preparation process block is a block for adjusting the temperature of the chemical solution to a second temperature in the chemical solution cabinet CC1.

こうして、コントロールジョブCJ1の全てのプロセスジョブPJ11~PJ13の計画を終えると、次のコントロールジョブCJ2が計画される。コントロールジョブCJ2に含まれるプロセスジョブPJ21~PJ23のレシピは、いずれも薬液レシピC1(第1の温度の薬液供給)を指定しているので、最初のプロセスジョブPJ21に対応する処理ブロックよりも前に、準備工程ブロックが配置される。この準備工程ブロックは、薬液キャビネットCC1において、第1の温度に薬液の温度調整を行わせるためのブロックである。コントロールジョブCJ1を構成する他のプロセスジョブPJ22,PJ23のレシピは、いずれも薬液レシピC1を指定しているので、これらの処理ブロックが処理ユニットMPC1に対して順に配置され、それらの処理ブロックと先の処理ブロックとの間には準備工程ブロックは配置されない。 In this way, when all the process jobs PJ11 to PJ13 of the control job CJ1 have been planned, the next control job CJ2 is planned. The recipes for process jobs PJ21 to PJ23 included in control job CJ2 all specify chemical recipe C1 (chemical liquid supply at the first temperature), so the process block corresponding to the first process job PJ21 is , a preparation process block is placed. This preparation process block is a block for adjusting the temperature of the chemical liquid to the first temperature in the chemical liquid cabinet CC1. The recipes of the other process jobs PJ22 and PJ23 that make up the control job CJ1 both specify the chemical recipe C1, so these processing blocks are arranged in order with respect to the processing unit MPC1, and the processing blocks and the previous one are arranged in order. No preparation process block is placed between the processing block and the processing block.

こうして、コントロールジョブCJ2の全てのプロセスジョブPJ21~PJ23の計画を終えると、次のコントロールジョブCJ3が計画される。コントロールジョブCJ2を後回しにして、コントロールジョブCJ1の次にコントロールジョブCJ3が計画されることはない。
コントロールジョブCJ3は、直前に計画済みのプロセスジョブPJ23のレシピと同じ薬液レシピC1を指定するプロセスジョブPJ32,PJ33を含む。そこで、プロセスジョブPJ31よりも前に、プロセスジョブPJ32,PJ33が順に計画され、その後に、薬液レシピC2(第2の温度の薬液)を指定するプロセスジョブPJ31が計画される。それにより、プロセスジョブPJ23,PJ32の処理ブロックの間に準備工程ブロックを配置する必要がなくなる。プロセスジョブPJ33とPJ31との間には、準備工程ブロックが配置される。この準備工程ブロックは、薬液キャビネットCC1において、第2の温度に薬液の温度を調整するための準備工程を指示するブロックである。
In this way, when all process jobs PJ21 to PJ23 of control job CJ2 have been planned, the next control job CJ3 is planned. Control job CJ3 is not planned next to control job CJ1 with control job CJ2 postponed.
Control job CJ3 includes process jobs PJ32 and PJ33 that specify the same chemical recipe C1 as the recipe of process job PJ23 that was planned immediately before. Therefore, process jobs PJ32 and PJ33 are planned in order before process job PJ31, and after that, process job PJ31 that specifies chemical liquid recipe C2 (chemical liquid at the second temperature) is planned. This eliminates the need to arrange a preparatory process block between the processing blocks of process jobs PJ23 and PJ32. A preparation process block is arranged between process jobs PJ33 and PJ31. This preparation process block is a block that instructs a preparation process for adjusting the temperature of the chemical liquid to the second temperature in the chemical liquid cabinet CC1.

図14は、第2の比較例に係るスケジューリングを示す。この第2の比較例では、コントロールジョブCJ1,CJ2,CJ3が、この順序で計画されており、かつ各コントロールジョブに含まれるプロセスジョブが記述された順序で計画されている。その結果、プロセスジョブPJ11の処理ブロックの前、プロセスジョブPJ11,PJ12の処理ブロック間、プロセスジョブPJ12,PJ13の処理ブロック間、プロセスジョブPJ23,PJ31の処理ブロック間、プロセスジョブPJ31,PJ32の処理ブロック間に、それぞれ準備工程ブロックが配置されている。したがって、合計で5回の準備工程が実行される。これに対して、図13に示す第1の比較例では、合計で4回の準備工程が実行される。したがって、第1の比較例の方が準備工程の回数が少ないので、全体の基板処理時間が短く、生産性が高い。 FIG. 14 shows scheduling according to the second comparative example. In this second comparative example, control jobs CJ1, CJ2, and CJ3 are planned in this order, and the process jobs included in each control job are planned in the order in which they are described. As a result, before the processing block of process job PJ11, between the processing blocks of process jobs PJ11 and PJ12, between the processing blocks of process jobs PJ12 and PJ13, between the processing blocks of process jobs PJ23 and PJ31, and the processing blocks of process jobs PJ31 and PJ32 Preparation process blocks are arranged between them. Therefore, a total of five preparatory steps are performed. On the other hand, in the first comparative example shown in FIG. 13, the preparation process is executed a total of four times. Therefore, since the first comparative example requires fewer preparation steps, the overall substrate processing time is shorter and productivity is higher.

図15は、この発明の一実施形態におけるスケジューリング例(実施例)を示す。この実施形態では、コントロールジョブCJ1,CJ2,CJ3が、それらの受信順序で実行される必要がなく、コントロールジョブの範囲を超えて、プロセスジョブの実行順序を入れ替えることが許容される。すなわち、受信済みのプロセスジョブは、直前に計画されたプロセスジョブが指定する薬液レシピと同じ薬液レシピを指定するプロセスジョブが連続するように順序を入れ替えて計画される。 FIG. 15 shows a scheduling example (example) in one embodiment of the present invention. In this embodiment, the control jobs CJ1, CJ2, and CJ3 do not need to be executed in the order in which they were received, and it is permissible to change the execution order of the process jobs beyond the scope of the control jobs. That is, the received process jobs are rearranged and planned so that process jobs that specify the same chemical recipe as the previously planned process job specify are consecutive.

つまり、プロセスジョブPJ11,PJ13,PJ21,PJ22,PJ23,PJ32,PJ33,PJ12,PJ31の順序で計画される。その結果、プロセスジョブPJ11の処理ブロックの前、プロセスジョブPJ33,PJ12の処理ブロック間に、それぞれ準備工程ブロックが配置されている。したがって、準備工程は2回実行されるに過ぎないので、第1および第2の比較例よりも、全体の基板処理時間が短く、生産性が高い。 That is, the process jobs PJ11, PJ13, PJ21, PJ22, PJ23, PJ32, PJ33, PJ12, and PJ31 are planned in this order. As a result, preparation process blocks are arranged before the processing block of process job PJ11 and between the processing blocks of process jobs PJ33 and PJ12. Therefore, since the preparation process is performed only twice, the overall substrate processing time is shorter and the productivity is higher than in the first and second comparative examples.

図16A~図16Dは、この発明の一実施形態におけるスケジューリングの他の例(実施例)を示す。このスケジューリング例では、コントロールジョブの実行開始からの経過時間(コントロールジョブライフの一例)に基づく割込スケジューリングが実行されている。
図15のスケジューリング例では、コントロールジョブCJ1の中で最初に実行されるプロセスジョブPJ11の実行開始から、最後に実行されるプロセスジョブPJ12の開始までに長時間を要し、それまでに、経過時間(コントロールジョブライフ)が閾値に達するおそれがある。それにより、プロセスジョブPJ11に対応した基板は、処理を終了して基板収容器Cに収容された後、最後のプロセスジョブPJ12の全ての基板が当該基板収容器Cに収容されるまで、長時間に渡って待機状態となる。たとえば、基板収容器Cが開閉蓋を備えている場合に、開閉蓋が長時間に渡って開放状態となり、基板収容器C内の基板が周囲の雰囲気に長時間に渡ってさらされる。図16A~図16Dのスケジューリング例は、このような課題を解決している。
16A to 16D show other examples (examples) of scheduling in one embodiment of the present invention. In this scheduling example, interrupt scheduling is performed based on the elapsed time from the start of execution of the control job (an example of the control job life).
In the scheduling example shown in FIG. 15, it takes a long time from the start of execution of process job PJ11, which is executed first among control jobs CJ1, to the start of process job PJ12, which is executed last. (control job life) may reach the threshold. As a result, after the substrates corresponding to the process job PJ11 are processed and stored in the substrate container C, the substrates corresponding to the process job PJ11 are stored in the substrate container C for a long time until all the substrates of the last process job PJ12 are stored in the substrate container C. It will be in a standby state for a while. For example, when the substrate container C is provided with an opening/closing lid, the opening/closing lid remains open for a long period of time, and the substrates in the substrate container C are exposed to the surrounding atmosphere for a long period of time. The scheduling examples shown in FIGS. 16A to 16D solve this problem.

このスケジューリング例は、コントロールジョブCJ1,CJ2,CJ3が、時刻t1,t2,t3にそれぞれ受信される場合を想定している。
時刻t1にコントロールジョブCJ1が受信されると、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ11,PJ12,PJ13の実行を計画し、処理実行指示部26はその計画を即時に実行する。この時点では、コントロールジョブCJ2,CJ3は、未受信である。直前にいずれのプロセスジョブも計画されていない場合、スケジューリング機能部25は、コントロールジョブCJ1の最初のプロセスジョブPJ11を計画する。スケジューリング機能部25は、図16Aに示すように、プロセスジョブPJ11の処理ブロックよりも前(より正確には、薬液供給ブロックよりも前)に、薬液レシピC1のための準備工程ブロックを配置する。スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ11の次に、共通の薬液レシピC1を指定するプロセスジョブPJ13の実行を計画し、その後に、プロセスジョブPJ12の実行を計画する。プロセスジョブPJ13の処理ブロックとプロセスジョブPJ12の処理ブロックとの間には、薬液レシピC2のための準備工程ブロックが配置される。
This scheduling example assumes that control jobs CJ1, CJ2, and CJ3 are received at times t1, t2, and t3, respectively.
When control job CJ1 is received at time t1, scheduling function section 25 plans execution of process jobs PJ11, PJ12, and PJ13, and processing execution instruction section 26 immediately executes the plan. At this point, control jobs CJ2 and CJ3 have not been received. If no process job has been scheduled immediately before, the scheduling function unit 25 plans the first process job PJ11 of the control job CJ1. As shown in FIG. 16A, the scheduling function unit 25 arranges the preparation process block for the chemical liquid recipe C1 before the processing block of the process job PJ11 (more precisely, before the chemical liquid supply block). The scheduling function unit 25 plans to execute a process job PJ13 that specifies the common chemical recipe C1 next to the process job PJ11, and then plans to execute the process job PJ12. A preparatory step block for the chemical recipe C2 is arranged between the processing block of the process job PJ13 and the processing block of the process job PJ12.

プロセスジョブPJ11を実行開始した後であって、プロセスジョブPJ13の実行を開始する前の時刻t2に別のコントロールジョブCJ2が受信されると、スケジューリング機能部25は、その時点で未実行のプロセスジョブPJ13,PJ12およびPJ21,PJ22,PJ23についてのスケジューリングを実行し、処理実行指示部26はその計画を即時に実行する。すなわち、再スケジューリングを行い、その再スケジューリングによる処理が実行される。 When another control job CJ2 is received at time t2 after starting the execution of the process job PJ11 and before starting the execution of the process job PJ13, the scheduling function unit 25 sends the unexecuted process job at that time. Scheduling is executed for PJ13, PJ12, PJ21, PJ22, and PJ23, and the processing execution instruction unit 26 immediately executes the plan. That is, rescheduling is performed, and the processing resulting from the rescheduling is executed.

図16Bに示すように、スケジューリング機能部25は、実行中のプロセスジョブPJ11と共通の薬液レシピC1を指定するプロセスジョブPJ13,PJ21,PJ22,PJ23を順に実行し、その後に、薬液レシピC2のための準備工程を経て、プロセスジョブPJ12を実行するようにスケジューリングを行う。
この計画に従って処理を実行している間に、図16Cに示すように、プロセスジョブPJ22を実行開始し、プロセスジョブPJ23の実行を開始する前の時刻t11に、コントロールジョブCJ1の実行開始からの経過時間(コントロールジョブライフ)が閾値に到達したとする。すると、スケジューリング機能部25は、コントロールジョブCJ1のうち未実行のプロセスジョブPJ12の割込実行を計画する。
As shown in FIG. 16B, the scheduling function unit 25 sequentially executes process jobs PJ13, PJ21, PJ22, and PJ23 that specify a chemical recipe C1 that is common to the process job PJ11 that is being executed, and then After the preparation process, the process job PJ12 is scheduled to be executed.
While the process is being executed according to this plan, as shown in FIG. 16C, the process job PJ22 starts executing, and at time t11 before starting the process job PJ23, the progress from the start of the control job CJ1 execution starts. Suppose that the time (control job life) reaches a threshold value. Then, the scheduling function unit 25 plans interrupt execution of the unexecuted process job PJ12 among the control jobs CJ1.

より具体的には、スケジューリング機能部25は、直前に実行開始したプロセスジョブPJ22に続いて、プロセスジョブPJ12を実行するように再スケジューリングを行う。プロセスジョブPJ12は、薬液レシピC2を指定しているので、プロセスジョブPJ2の処理ブロックの前に薬液レシピC2のための準備工程ブロックが配置される。時刻t11の時点では、プロセスジョブPJ12の他に薬液レシピC2を指定するプロセスジョブを受信していないので、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ12の次に残りのプロセスジョブPJ23の実行を計画する。プロセスジョブPJ23の処理ブロックの前には、薬液レシピC1のための準備工程ブロックが配置される。 More specifically, the scheduling function unit 25 reschedules the process job PJ12 to be executed following the process job PJ22 that started execution immediately before. Since the process job PJ12 specifies the chemical recipe C2, a preparation process block for the chemical recipe C2 is placed before the processing block of the process job PJ2. At time t11, since no process job specifying chemical recipe C2 has been received in addition to process job PJ12, the scheduling function unit 25 plans to execute the remaining process job PJ23 after process job PJ12. A preparatory process block for the chemical recipe C1 is arranged before the processing block for the process job PJ23.

このように再スケジューリングがされた後、図16Dに示すように、プロセスジョブPJ12の実行開始後であって、準備工程の実行開始前の時刻t3に、コントロールジョブCJ3が受信される。すると、スケジューリング機能部25は、時刻t3の時点で未開始のプロセスジョブPJ23,PJ31,PJ32,PJ33についての再スケジューリングを行う。その結果、実行中のプロセスジョブPJ12と共通の薬液レシピC2を指定するプロセスジョブPJ31の実行が計画され、その後に薬液レシピC1に切り替えるための準備工程が計画され、さらに、薬液レシピC1を指定するプロセスジョブPJ23,PJ32,PJ33を順に実行する計画が策定される。 After rescheduling in this manner, as shown in FIG. 16D, the control job CJ3 is received at time t3 after the start of execution of the process job PJ12 and before the start of execution of the preparation process. Then, the scheduling function unit 25 reschedules the process jobs PJ23, PJ31, PJ32, and PJ33 that have not been started at time t3. As a result, execution of process job PJ31 that specifies chemical recipe C2 that is common to process job PJ12 that is being executed is planned, and then a preparation process for switching to chemical recipe C1 is planned, and further, the process job PJ31 that specifies chemical recipe C1 is planned. A plan is formulated to execute process jobs PJ23, PJ32, and PJ33 in order.

このように、スケジューリング機能部25は、コントロールジョブデータが受信されるたびに再スケジューリングを行って準備工程の回数を最小限とする。さらに、スケジューリング機能部25は、各コントロールジョブの最初のプロセスジョブの実行からの経過時間等のライフを計測し、そのライフが閾値に達すると、当該コントロールジョブの未実行のプロセスジョブを割込実行させるための再スケジューリングを行う。 In this way, the scheduling function unit 25 performs rescheduling every time control job data is received, thereby minimizing the number of preparation steps. Furthermore, the scheduling function unit 25 measures the life of each control job, such as the elapsed time from the execution of the first process job, and when the life reaches a threshold value, interrupts execution of the unexecuted process job of the control job. reschedule to allow

以上のように、この実施形態によれば、コントロールジョブCJ1に含まれる全てのプロセスジョブPJ11~PJ13が完了する前に、別のコントロールジョブCJ2に含まれるプロセスジョブPJ21等が実行される。すなわち、コントロールジョブCJ1に含まれるプロセスジョブPJ11,PJ13と共通属性の薬液レシピC1が指定されたプロセスジョブPJ21~PJ23がコントロールジョブCJ2に含まれているので、コントロールジョブの枠を超えて、プロセスジョブの順序が入れ替えられる。これにより、共通属性の薬液レシピC1が指定されたプロセスジョブをまとめて(連続して)実行できるので、薬液レシピの切り替わり回数を減らすことができ、それに応じて準備工程の回数を削減できる。それにより、生産効率の高い基板処理を実現できる。 As described above, according to this embodiment, before all process jobs PJ11 to PJ13 included in control job CJ1 are completed, process job PJ21 and the like included in another control job CJ2 are executed. In other words, since the control job CJ2 includes process jobs PJ21 to PJ23 in which the chemical recipe C1 having the common attribute is specified as process jobs PJ11 and PJ13 included in the control job CJ1, the process jobs PJ11 and PJ13 included in the control job CJ1 are included in the control job CJ2. The order of is swapped. As a result, process jobs in which the chemical recipe C1 with the common attribute is specified can be executed all at once (successively), so the number of times the chemical recipe is switched can be reduced, and the number of preparation steps can be reduced accordingly. Thereby, substrate processing with high production efficiency can be realized.

一方、所定の割込実行条件が充足されると(図6のステップS45、図7のステップS55)、未実行のプロセスジョブの計画を変更して、割込実行条件に対応したプロセスジョブを優先的に実行させる。それにより、コントロールジョブの枠を超えたプロセスジョブの入れ替えに伴って不都合が生じる場合には、そのような不都合を回避または解消できる。それにより、適切な基板処理を確保しながら、生産効率の向上を図ることができる。
具体的には、一つのコントロールジョブの処理開始から終了までに実質的な時間制限を設けることができる(図6参照)。それにより、或るコントロールジョブの最初の基板が処理終了してから基板収容器C内で長時間待機させられることを回避できる。たとえば、基板収容器Cが開閉蓋付の容器(FOUP等)である場合に、開閉蓋が長時間に渡って開状態のままになることを回避できる。それにより、処理済みの基板の表面への悪影響、たとえば自然酸化膜の成長や周囲雰囲気による影響などを抑制できる。さらに、基板収容器Cを保持するステージSTが長時間にわたって一つの基板収容器Cで占有されることを回避でき、次の基板収容器Cを投入できるまでの時間を短縮できる。また、薬液の継続使用に対して制限を設けることができる(図7参照)。同じ薬液を繰り返し循環使用すると、薬液の品質が劣化し、基板処理に影響を及ぼすおそれがある。そこで、或る種類の薬液について使用開始からのライフ(たとえば処理した基板枚数)を計測し、そのライフが閾値に達した時点で別の種類の薬液を指定したプロセスジョブを優先実行する一方で、ライフが閾値に達した薬液を交換する措置をとることができる。
On the other hand, when a predetermined interrupt execution condition is satisfied (step S45 in FIG. 6, step S55 in FIG. 7), the plan of unexecuted process jobs is changed and the process job corresponding to the interrupt execution condition is prioritized. make it execute. As a result, if any inconvenience occurs due to the replacement of process jobs beyond the control job, such inconvenience can be avoided or eliminated. Thereby, it is possible to improve production efficiency while ensuring appropriate substrate processing.
Specifically, a substantial time limit can be set from the start to the end of processing for one control job (see FIG. 6). Thereby, it is possible to avoid waiting for a long time in the substrate container C after the first substrate of a certain control job is processed. For example, when the substrate container C is a container with an opening/closing lid (such as a FOUP), it is possible to prevent the opening/closing lid from remaining open for a long time. Thereby, adverse effects on the surface of the processed substrate, such as the growth of a natural oxide film and the effects of the surrounding atmosphere, can be suppressed. Furthermore, it is possible to avoid that the stage ST holding the substrate accommodating container C is occupied by one substrate accommodating container C for a long time, and the time until the next substrate accommodating container C can be loaded can be shortened. Further, restrictions can be placed on the continued use of the chemical solution (see FIG. 7). If the same chemical solution is used repeatedly, the quality of the chemical solution may deteriorate and the substrate processing may be affected. Therefore, the life of a certain type of chemical solution from the start of use (for example, the number of substrates processed) is measured, and when the life reaches a threshold, a process job that specifies a different type of chemical solution is executed with priority. Measures can be taken to replace the chemical solution whose life has reached the threshold.

さらに、このような割込スケジューリングが行われると、割込実行が計画されたプロセスジョブに続いて、当該プロセスジョブのレシピと共通する属性を有するプロセスジョブの実行が計画される。それにより、これにより、割込実行の計画を許容しながら、属性の切り替わりを抑制できる。したがって、割込実行によって適切な基板処理を確保しながら、処理効率の向上を図ることができる。 Further, when such interrupt scheduling is performed, execution of a process job having attributes common to the recipe of the process job is planned to follow the process job for which interrupt execution is planned. Thereby, it is possible to suppress switching of attributes while allowing interrupt execution planning. Therefore, processing efficiency can be improved while ensuring appropriate substrate processing through interrupt execution.

割込実行条件は、出入力部22(図3参照)の一例である操作装置を用いて、使用者が入力して指定できるようになっていてもよい。コンピュータ20は、このような入力を受け付けて、割込実行条件を監視し、条件が充足されると、割込スケジューリングを実行する。それにより、使用者の要求に対応しながら、基板処理装置の処理効率を向上できる。
以上、この発明の一実施形態について説明してきたが、この発明は、さらに他の形態で実施することもできる。たとえば、前述の実施形態では、レシピによって規定される属性の例として、主として処理液の温度を例に説明したが、前述のとおり、処理液の種類についても、その変更に際して準備工程が必要な属性の例である。これらの例に限らず、開始または変更に際して準備が必要な属性がレシピで指定されている場合には、その属性が可能な限り連続するようにコントロールジョブの枠を越えてプロセスジョブの実行順序を入れ替えることにより、基板処理装置の生産効率を向上できる。
The interrupt execution conditions may be input and specified by the user using an operating device, which is an example of the input/output unit 22 (see FIG. 3). The computer 20 receives such input, monitors interrupt execution conditions, and executes interrupt scheduling when the conditions are satisfied. Thereby, the processing efficiency of the substrate processing apparatus can be improved while meeting user demands.
Although one embodiment of this invention has been described above, this invention can also be implemented in other forms. For example, in the above-described embodiment, the temperature of the processing liquid was mainly explained as an example of the attribute specified by the recipe, but as mentioned above, the type of processing liquid also has an attribute that requires a preparation process when changing it. This is an example. In addition to these examples, if a recipe specifies an attribute that requires preparation when starting or changing, the execution order of the process job should be changed beyond the control job so that the attribute is as continuous as possible. By replacing them, the production efficiency of the substrate processing apparatus can be improved.

また、前述の実施形態では、一つの薬液キャビネットCC1が備えられている構成について説明したが、2つ以上の薬液キャビネットが備えられていてもよい。
また、前述の実施形態では、処理セクション2に1台の主搬送ロボットCRが備えられている構成について説明したが、2台以上の主搬送ロボットが備えられていてもよい。それらの2台以上の主搬送ロボットは、それぞれがインデクサロボットIRとの間で直接的に(他の主搬送ロボットを介さずに)基板Wの受け渡しを行うように配置されていてもよい。また、2台以上の主搬送ロボットのうちの少なくとも一台が、他の主搬送ロボットを介してインデクサロボットIRとの間で基板Wをやりとりするように配置されていてもよい。
Further, in the above-described embodiment, a configuration in which one chemical liquid cabinet CC1 is provided has been described, but two or more chemical liquid cabinets may be provided.
Further, in the above-described embodiment, a configuration in which the processing section 2 is provided with one main transport robot CR has been described, but two or more main transport robots may be provided. The two or more main transport robots may be arranged so that each of them directly transfers the substrate W to and from the indexer robot IR (without going through another main transport robot). Further, at least one of the two or more main transport robots may be arranged to exchange the substrate W with the indexer robot IR via another main transport robot.

また、前述の実施形態における処理ユニットMPC1~MPC12の配置および数についても一例に過ぎず、配置および数の変更が可能であることはもちろんである。むろん、複数の処理ユニットは、同種の処理ユニットであってもよいし、異なる種類の処理ユニットを含んでいてもよい。
また、前述の実施形態では、主として、ホストコンピュータ24からコントロールジョブデータが与えられる場合について説明したが、使用者が操作する操作装置(出入力部22の一例)からの指示によってコントロールジョブデータが制御部21に与えられてもよい。
Further, the arrangement and number of processing units MPC1 to MPC12 in the above-described embodiment are merely examples, and it goes without saying that the arrangement and number can be changed. Of course, the plurality of processing units may be of the same type or may include processing units of different types.
Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the control job data is given from the host computer 24 was mainly explained, but the control job data is controlled by an instruction from the operating device (an example of the input/output section 22) operated by the user. 21.

その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。 In addition, various design changes can be made within the scope of the claims.

1 :インデクサセクション
2 :処理セクション
3 :タンク
4 :温度調節ユニット
5 :ポンプ
15 :スピンチャック
16 :処理液ノズル
17 :処理室
20 :コンピュータ
21 :制御部
22 :出入力部
23 :記憶部
24 :ホストコンピュータ
25 :スケジューリング機能部
26 :処理実行指示部
30 :プログラム
31 :スケジュール作成プログラム
32 :処理実行プログラム
40 :コントロールジョブデータ
41 :プロセスジョブデータ
50 :スケジュールデータ
C :基板収容器
C1,C2 :薬液レシピ
CC1 :薬液キャビネット
CJ1~CJ3:コントロールジョブ
CR :主搬送ロボット
G1~G4 :処理ユニット群
IR :インデクサロボット
MPC1~MPC12:処理ユニット
PASS :受け渡しユニット
PJ11~PJ13:プロセスジョブ
PJ21~PJ23:プロセスジョブ
PJ31~PJ33:プロセスジョブ
ST1~ST4:ステージ
W :基板
1: Indexer section 2: Processing section 3: Tank 4: Temperature adjustment unit 5: Pump 15: Spin chuck 16: Processing liquid nozzle 17: Processing chamber 20: Computer 21: Control section 22: Input/input section 23: Storage section 24: Host computer 25: Scheduling function unit 26: Processing execution instruction unit 30: Program 31: Schedule creation program 32: Processing execution program 40: Control job data 41: Process job data 50: Schedule data C: Substrate containers C1, C2: Chemical solution Recipe CC1: Chemical solution cabinet CJ1-CJ3: Control job CR: Main transfer robot G1-G4: Processing unit group IR: Indexer robot MPC1-MPC12: Processing unit PASS: Delivery unit PJ11-PJ13: Process job PJ21-PJ23: Process job PJ31 ~PJ33: Process job ST1~ST4: Stage W: Substrate

この発明は、基板に対する処理を実行する処理ユニットを備えた基板処理装置によって基板を処理する基板処理方法を提供する。この発明の一実施形態に係る方法は、前記基板処理装置が、第1ロットに対する処理である第1コントロールジョブを規定する第1コントロールジョブ情報を受け付ける工程と、前記基板処理装置が、前記第1コントロールジョブ情報を受け付けた後に、第2ロットに対する処理である第2コントロールジョブを規定する第2コントロールジョブ情報を受け付ける工程と、を含む。前記第1コントロールジョブ情報は、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第1レシピによる処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報と、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第レシピによる処理である第プロセスジョブを規定する第プロセスジョブ情報と、を含む。前記第2コントロールジョブ情報は、前記第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第レシピによる処理である第プロセスジョブを規定する第プロセスジョブ情報を含む。前記基板処理方法は、前記第1レシピおよび前記第レシピが共通する属性を含み、前記第レシピが当該属性を含まない場合に、前記第1プロセスジョブおよび前記第プロセスジョブの間に前記第プロセスジョブを実行する順序で前記第1、第2および第3プロセスジョブの実行計画を策定するスケジューリング工程と、前記策定された実行計画に従って前記処理ユニットによって基板を処理する処理実行工程と、をさらに含んでもよいThe present invention provides a substrate processing method in which a substrate is processed by a substrate processing apparatus equipped with a processing unit that performs processing on the substrate. A method according to an embodiment of the present invention includes a step in which the substrate processing apparatus receives first control job information defining a first control job that is a process for a first lot; After receiving the control job information, the method includes the step of receiving second control job information that defines a second control job that is a process for the second lot. The first control job information includes first process job information that defines a first process job that is processing of one or more substrates included in the first lot according to a first recipe, and first process job information that is included in the first lot. and third process job information that defines a third process job that is a process for one or more substrates to be processed according to a third recipe. The second control job information includes second process job information that defines a second process job that is a process for one or more substrates included in the second lot according to a second recipe. In the substrate processing method, when the first recipe and the second recipe include a common attribute and the third recipe does not include the attribute, the process is performed between the first process job and the third process job. a scheduling step of formulating an execution plan for the first , second, and third process jobs in the order in which the second process job is to be executed; and a processing execution step of processing the substrate by the processing unit according to the formulated execution plan; It may further include .

基板処理装置は、処理対象の基板を待機させておくための基板待機場所から処理ユニットまで基板を搬送する基板搬送手段を備えていてもよい。この場合、プロセスジョブの実行計画は、基板の搬送に関する計画を含むことが好ましい。それに応じて、処理実行工程では、基板の搬送および処理ユニットでの基板処理が行われる。
この発明の一実施形態では、第1コントロールジョブに含まれる全てのプロセスジョブが完了する前に第2コントロールジョブに含まれるプロセスジョブが実行される場合がある。より具体的には、第1コントロールジョブに含まれるプロセスジョブと共通属性のレシピが指定されたプロセスジョブが第2コントロールジョブに含まれている場合に、コントロールジョブの枠を超えて、プロセスジョブの順序が入れ替えられる。すなわち、第1コントロールジョブが異なる属性のレシピが指定された第1プロセスジョブおよび第プロセスジョブを含み、第2コントロールジョブが第1プロセスジョブのレシピと共通属性を有するレシピが指定された第プロセスジョブを有する場合を考える。この場合、第1プロセスジョブ、第プロセスジョブ、第プロセスジョブの順にプロセスジョブを実行する計画が策定される。すなわち、第1コントロールジョブの完了よりも前に、第2コントロールジョブのプロセスジョブが割り込む。それにより、コントロールジョブの枠を超えてプロセスジョブの順序が入れ替えられ、共通属性のレシピが指定されたプロセスジョブをまとめて(連続して)実行できる。これにより、レシピの属性の切り替わり回数を減らすことができるので、生産効率の高い基板処理を実現できる。
The substrate processing apparatus may include a substrate transport means for transporting the substrate from a substrate standby location to the processing unit. In this case, it is preferable that the process job execution plan includes a plan for transporting the substrate. Accordingly, in the processing execution step, the substrate is transported and the substrate is processed in the processing unit.
In one embodiment of the present invention, a process job included in the second control job may be executed before all process jobs included in the first control job are completed. More specifically, when a second control job includes a process job for which a recipe with a common attribute is specified as a process job included in the first control job, the process job is The order can be swapped. That is, the first control job includes a first process job and a third process job to which recipes with different attributes are specified, and the second control job includes a second process job to which a recipe having common attributes with the recipe of the first process job is specified . Consider a case where you have a process job. In this case, a plan is created to execute the process jobs in the order of the first process job, the second process job, and the third process job. That is, the process job of the second control job interrupts the process job before the first control job is completed. As a result, the order of process jobs is changed beyond the control job, and process jobs for which recipes with common attributes are specified can be executed all at once (successively). This makes it possible to reduce the number of times recipe attributes are switched, thereby realizing substrate processing with high production efficiency.

この発明の一実施形態では、前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、前記スケジューリング工程が、前記第プロセスジョブの後に前記第レシピに含まれる属性に対応する準備工程を実行する計画を策定する。
この方法では、準備工程を必要とする属性に着目してレシピを分類し、共通属性のレシピを指定したプロセスジョブをまとめて(連続して)実行することができる。それにより、レシピの切替えに際して必要となる準備工程の回数を少なくできるから、生産効率の高い基板処理を実現できる。
In one embodiment of the invention, the attribute is an attribute that requires a preparatory step before starting processing in the processing unit, and the scheduling step is included in the third recipe after the second process job. Develop a plan to perform the preparation steps corresponding to the attributes.
In this method, recipes are classified by focusing on attributes that require a preparation step, and process jobs that specify recipes with common attributes can be executed collectively (successively). As a result, the number of preparation steps required when switching recipes can be reduced, and substrate processing with high production efficiency can be realized.

この発明の一実施形態では、前記基板処理方法が、前記第1レシピおよび前記第レシピに共通する共通属性を用いた処理の継続状況を表す属性ライフを求める工程をさらに含み、前記スケジューリング工程が、前記属性ライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記共通属性を用いた処理を中断して、別の属性を有するレシピのプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリング工程を含む。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing method further includes a step of obtaining an attribute life representing a continuation status of processing using a common attribute common to the first recipe and the second recipe, and the scheduling step includes: , when an interrupt execution condition including that the attribute life reaches a predetermined threshold is satisfied, the process using the common attribute is interrupted and interrupt execution of a process job of a recipe having a different attribute is planned. including an interrupt scheduling process.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置に対する、使用者による割込実行条件の入力を受け付ける工程をさらに含み、前記割込スケジューリング工程において、前記受け付けられた割込実行条件が適用される。この方法では、使用者による割込実行条件の指定が可能であるので、使用者の要求に対応しながら、処理効率を向上できる。
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットに処理液を供給する処理液供給ユニットを含み、前記属性が、前記処理液供給ユニットから供給される処理液に関する条件を含み、前記第1レシピおよび第レシピが第1処理液条件を共通に指定しており、前記第レシピが前記第1処理液条件とは異なる第2処理液条件を指定している。
An embodiment of the present invention further includes a step of receiving an input of an interrupt execution condition from a user to the substrate processing apparatus, and the accepted interrupt execution condition is applied in the interrupt scheduling step. With this method, the user can specify the interrupt execution conditions, so processing efficiency can be improved while responding to the user's requests.
In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus includes a processing liquid supply unit that supplies a processing liquid to the processing unit, and the attribute includes conditions regarding the processing liquid supplied from the processing liquid supply unit, The first recipe and the second recipe commonly specify a first treatment liquid condition, and the third recipe specifies a second treatment liquid condition different from the first treatment liquid condition.

この発明の一実施形態では、前記第1ロットが、第1レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板と、前記第1レシピとは属性が異なる第レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板とを含み、前記第2ロットが、前記第1レシピと共通の属性を有する第レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板を含み、前記第1処理工程が、前記第1レシピによる処理を含み、前記第2処理工程が、前記第レシピによる処理を含み、前記第3処理工程が、前記第レシピによる処理を含む。 In one embodiment of the present invention, the first lot includes one or more substrates to be processed by a first recipe, and one or more substrates to be processed by a third recipe having attributes different from the first recipe. the second lot includes one or more substrates to be processed according to a second recipe having attributes common to the first recipe, and the first processing step includes the first The second processing step includes processing according to the second recipe, and the third processing step includes processing according to the third recipe.

この発明の一実施形態は、また、基板に対する処理を実行する処理ユニットと、ロットに対する処理であるコントロールジョブを規定するコントロールジョブ情報の入力を受け付けるコントロールジョブ情報受け付け手段と、を含む、基板処理装置を提供する。前記コントロールジョブ情報は、前記ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する処理であるプロセスジョブを規定するプロセスジョブ情報を含む。前記基板処理装置は、さらに、前記プロセスジョブ情報に基づいて、基板に対する処理計画を策定するスケジューリング手段と、前記スケジューリング手段によって策定された処理計画に従って前記処理ユニットによって基板処理を実行させる処理実行制御手段とを含む。前記コントロールジョブ情報受け付け手段は、第1ロットに対する処理である第1コントロールジョブを規定する第1コントロールジョブ情報を受け付け、前記第1コントロールジョブ情報を受け付けた後に、第2ロットに対する処理である第2コントロールジョブを規定する第2コントロールジョブ情報を受け付ける。前記第1コントロールジョブ情報は、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第1レシピによる処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報と、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第レシピによる処理である第プロセスジョブを規定する第プロセスジョブ情報と、を含む。前記第2コントロールジョブ情報は、前記第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第レシピによる処理である第プロセスジョブを規定する第プロセスジョブ情報を含む。そして、前記スケジューリング手段は、前記第1レシピおよび前記第レシピが共通する属性を含み、前記第レシピが当該属性を含まない場合に、前記第1プロセスジョブおよび前記第プロセスジョブの間に前記第プロセスジョブを実行する順序で前記第1、第2および第3プロセスジョブの実行計画を策定する。 An embodiment of the present invention also provides a substrate processing apparatus that includes a processing unit that executes processing on a substrate, and a control job information receiving means that receives input of control job information that defines a control job that is processing on a lot. I will provide a. The control job information includes process job information that defines a process job that is a process for one or more substrates included in the lot. The substrate processing apparatus further includes a scheduling means for formulating a processing plan for the substrate based on the process job information, and a processing execution control means for causing the processing unit to perform substrate processing according to the processing plan formulated by the scheduling means. including. The control job information receiving means receives first control job information that defines a first control job that is a process for a first lot, and after receiving the first control job information, specifies a second control job that is a process for a second lot. Second control job information defining a control job is received. The first control job information includes first process job information that defines a first process job that is processing of one or more substrates included in the first lot according to a first recipe, and first process job information that is included in the first lot. and third process job information that defines a third process job that is a process for one or more substrates to be processed according to a third recipe. The second control job information includes second process job information that defines a second process job that is a process for one or more substrates included in the second lot according to a second recipe. The scheduling means may be arranged between the first process job and the third process job when the first recipe and the second recipe include a common attribute and the third recipe does not include the attribute. An execution plan for the first, second , and third process jobs is formulated in the order in which the second process job is executed.

この発明の一実施形態では、前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、前記スケジューリング手段が、前記第プロセスジョブの後に前記第レシピに含まれる属性に対応する準備工程を実行する計画を策定する。
この発明の一実施形態では、前記スケジューリング手段が、所定の割込実行条件が充足されると、未実行のプロセスジョブの計画を変更して、当該割込実行条件に基づいて選択されるプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する。
In one embodiment of the invention, the attribute is an attribute that requires a preparatory step before starting processing in the processing unit, and the scheduling means is included in the third recipe after the second process job. Develop a plan to perform the preparation steps corresponding to the attributes.
In one embodiment of the present invention, when a predetermined interrupt execution condition is satisfied, the scheduling means changes the plan of an unexecuted process job to execute a process job that is selected based on the interrupt execution condition. Execute interrupt scheduling to plan interrupt execution.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記第1レシピおよび前記第レシピに共通する共通属性を用いた処理の継続状況を表す属性ライフを求める手段をさらに含み、前記スケジューリング手段が、前記属性ライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記共通属性を用いた処理を中断して、別の属性を有するレシピのプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes means for obtaining an attribute life representing a continuation status of processing using a common attribute common to the first recipe and the second recipe, and the scheduling means , when an interrupt execution condition including that the attribute life reaches a predetermined threshold is satisfied, the process using the common attribute is interrupted and interrupt execution of a process job of a recipe having a different attribute is planned. Executes interrupt scheduling.

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットに処理液を供給する処理液供給ユニットをさらに含み、前記属性が、前記処理液供給ユニットから供給される処理液に関する条件を含み、前記第1レシピおよび第レシピが第1処理液条件を共通に指定しており、前記第レシピが前記第1処理液条件とは異なる第2処理液条件を指定している。 In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes a processing liquid supply unit that supplies a processing liquid to the processing unit, and the attribute includes conditions regarding the processing liquid supplied from the processing liquid supply unit. , the first recipe and the second recipe specify a first treatment liquid condition in common, and the third recipe specifies a second treatment liquid condition different from the first treatment liquid condition.

この発明の一実施形態では、前記第1ロットが、第1レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板と、前記第1レシピとは属性が異なる第レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板とを含み、前記第2ロットが、前記第1レシピと共通の属性を有する第レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板を含み、前記第1処理工程が、前記第1レシピによる処理を含み、前記第2処理工程が、前記第レシピによる処理を含み、前記第3処理工程が、前記第レシピによる処理を含む。 In one embodiment of the present invention, the first lot includes one or more substrates to be processed by a first recipe, and one or more substrates to be processed by a third recipe having attributes different from the first recipe. the second lot includes one or more substrates to be processed according to a second recipe having attributes common to the first recipe, and the first processing step includes the first The second processing step includes processing according to the second recipe, and the third processing step includes processing according to the third recipe.

記憶部23に記憶されたプログラム30は、制御部21をスケジューリング機能部25として作動させるためのスケジュール作成プログラム31と、制御部21を処理実行指示部26として作動させるための処理実行プログラム32とを含む。
コントロールジョブデータ40は、一つの基板収容器Cに収容された1枚または複数枚の基板によって定義される処理ロットに付与されたコントロールジョブ(CJ)符号と、一つまたは複数のプロセスジョブデータ41とを含む。プロセスジョブデータ41は、各基板Wに付与されたプロセスジョブ(PJ)符号と、プロセスジョブ符号に対応付けられたレシピとを含む。
The program 30 stored in the storage unit 23 includes a schedule creation program 31 for operating the control unit 21 as the scheduling function unit 25 and a process execution program 32 for operating the control unit 21 as the process execution instruction unit 26. include.
The control job data 40 includes a control job (CJ) code given to a processing lot defined by one or more substrates housed in one substrate container C, and one or more process job data 41 including. The process job data 41 includes a process job (PJ) code given to each substrate W and a recipe associated with the process job code.

Claims (9)

基板に対する処理を実行する処理ユニットを備えた基板処理装置によって基板を処理する基板処理方法であって、
前記基板処理装置が、第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対して処理を実行する第1処理工程と、
前記基板処理装置が、前記第1処理工程の後に、前記第1ロットとは異なる第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対して処理を実行する第2処理工程と、
前記基板処理装置が、前記第2処理工程の後に、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対して処理を実行する第3処理工程と、を含み、
前記基板処理装置が前記第1ロットに対する処理を開始してからの経過時間、または前記第1ロットに対する処理を開始してから処理開始した基板もしくはロットの数が所定の閾値に達すると、前記基板処理装置は、前記第2ロットに対する処理に割り込んで、前記第1ロットの未処理の基板を優先的に処理する、基板処理方法。
A substrate processing method in which a substrate is processed by a substrate processing apparatus equipped with a processing unit that performs processing on the substrate,
a first processing step in which the substrate processing apparatus performs processing on one or more substrates included in a first lot;
a second processing step in which the substrate processing apparatus performs processing on one or more substrates included in a second lot different from the first lot after the first processing step;
The substrate processing apparatus includes, after the second processing step, a third processing step of performing processing on one or more substrates included in the first lot,
When the elapsed time since the substrate processing apparatus started processing the first lot or the number of substrates or lots that have been processed since the start of processing the first lot reaches a predetermined threshold, the substrate processing apparatus A substrate processing method, wherein the processing apparatus interrupts processing for the second lot and preferentially processes unprocessed substrates of the first lot.
前記第1ロットが、第1レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板と、前記第1レシピとは属性が異なる第2レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板とを含み、
前記第2ロットが、前記第1レシピと共通の属性を有する第3レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板を含み、
前記第1処理工程が、前記第1レシピによる処理を含み、
前記第2処理工程が、前記第3レシピによる処理を含み、
前記第3処理工程が、前記第2レシピによる処理を含む、請求項1に記載の基板処理方法。
The first lot includes one or more substrates to be processed according to a first recipe, and one or more substrates to be processed according to a second recipe having different attributes from the first recipe,
the second lot includes one or more substrates to be processed by a third recipe having attributes in common with the first recipe;
the first treatment step includes treatment according to the first recipe,
the second treatment step includes treatment according to the third recipe,
The substrate processing method according to claim 1, wherein the third processing step includes processing according to the second recipe.
前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、
前記基板処理装置が、前記第2処理工程と前記第3処理工程との間に属性を切り替えるための準備工程を実行する、請求項2に記載の基板処理方法。
The attribute is an attribute that requires a preparatory step before starting processing in the processing unit,
3. The substrate processing method according to claim 2, wherein the substrate processing apparatus executes a preparation step for switching attributes between the second processing step and the third processing step.
共通属性のレシピによる継続状況が所定の閾値に達すると、前記基板処理装置が、異なる属性のレシピによって処理すべき基板に対する処理を実行する、請求項2または3に記載の基板処理方法。 4. The substrate processing method according to claim 2, wherein when the continuation status of a recipe with a common attribute reaches a predetermined threshold, the substrate processing apparatus executes processing on a substrate to be processed using a recipe with a different attribute. 基板処理装置に備えられるコンピュータによって実行されるプログラムであって、前記基板処理装置において、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法を実行するようにステップ群が組みこまれたコンピュータプログラム。 A computer program executed by a computer installed in a substrate processing apparatus, the computer program including a group of steps for executing the method according to any one of claims 1 to 4 in the substrate processing apparatus. . 基板に対する処理を実行する処理ユニットと、
前記処理ユニットに対して基板を搬送する基板搬送手段と、
前記処理ユニットおよび前記基板搬送手段を制御する制御ユニットと、を含み、
前記制御ユニットが、
第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる第1処理工程と、
前記第1処理工程の後に、前記第1ロットとは異なる第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる第2処理工程と、
前記第2処理工程の後に、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる第3処理工程と、
を実行し、
前記第1ロットに対する処理を開始してからの経過時間、または前記第1ロットに対する処理を開始してから処理開始した基板もしくはロットの数が所定の閾値に達すると、前記制御ユニットが、前記第2ロットに対する処理に割り込んで、前記第1ロットの未処理の基板を優先的に前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる、基板処理装置。
a processing unit that performs processing on the substrate;
a substrate transport means for transporting the substrate to the processing unit;
a control unit that controls the processing unit and the substrate transport means,
The control unit includes:
A first processing step in which one or more substrates included in a first lot are transported to the processing unit by the substrate transport means and processed;
After the first processing step, a second processing step in which one or more substrates included in a second lot different from the first lot is transported to the processing unit by the substrate transport means and processed;
After the second processing step, a third processing step in which one or more substrates included in the first lot is transported to the processing unit by the substrate transport means and processed;
Run
When the elapsed time since the start of processing for the first lot or the number of substrates or lots that have been processed since the start of processing for the first lot reaches a predetermined threshold, the control unit The substrate processing apparatus interrupts the processing of two lots, and preferentially transports the unprocessed substrates of the first lot to the processing unit by the substrate transport means for processing.
前記第1ロットが、第1レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板と、前記第1レシピとは属性が異なる第2レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板とを含み、
前記第2ロットが、前記第1レシピと共通の属性を有する第3レシピによって処理すべき1枚または複数枚の基板を含み、
前記第1処理工程が、前記第1レシピによる処理を含み、
前記第2処理工程が、前記第3レシピによる処理を含み、
前記第3処理工程が、前記第2レシピによる処理を含む、請求項6に記載の基板処理装置。
The first lot includes one or more substrates to be processed according to a first recipe, and one or more substrates to be processed according to a second recipe having different attributes from the first recipe,
the second lot includes one or more substrates to be processed by a third recipe having attributes in common with the first recipe;
the first treatment step includes treatment according to the first recipe,
the second treatment step includes treatment according to the third recipe,
The substrate processing apparatus according to claim 6, wherein the third processing step includes processing according to the second recipe.
前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、
前記制御ユニットが、前記第2処理工程と前記第3処理工程との間に属性を切り替えるための準備工程を実行する、請求項7に記載の基板処理装置。
The attribute is an attribute that requires a preparatory step before starting processing in the processing unit,
The substrate processing apparatus according to claim 7 , wherein the control unit executes a preparation step for switching attributes between the second processing step and the third processing step.
共通属性のレシピによる継続状況が所定の閾値に達すると、前記制御ユニットが、異なる属性のレシピによって処理すべき基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる、請求項7または8に記載の基板処理装置。 9. When the continuation status according to a recipe with a common attribute reaches a predetermined threshold, the control unit transports a substrate to be processed according to a recipe with a different attribute to the processing unit by the substrate transport means and processes it. The substrate processing apparatus described in .
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