JP2023177576A - Active energy ray-curable hard coat agent, hard coat layer, laminate and base material with inorganic oxide film - Google Patents

Active energy ray-curable hard coat agent, hard coat layer, laminate and base material with inorganic oxide film Download PDF

Info

Publication number
JP2023177576A
JP2023177576A JP2022090315A JP2022090315A JP2023177576A JP 2023177576 A JP2023177576 A JP 2023177576A JP 2022090315 A JP2022090315 A JP 2022090315A JP 2022090315 A JP2022090315 A JP 2022090315A JP 2023177576 A JP2023177576 A JP 2023177576A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
meth
hard coat
coat layer
oxide film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2022090315A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7214946B1 (en
Inventor
健弘 鈴木
Takehiro Suzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyochem Co Ltd
Artience Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Toyochem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink SC Holdings Co Ltd, Toyochem Co Ltd filed Critical Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Priority to JP2022090315A priority Critical patent/JP7214946B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7214946B1 publication Critical patent/JP7214946B1/en
Priority to KR1020230066979A priority patent/KR20230167708A/en
Priority to CN202310600710.7A priority patent/CN116589879A/en
Publication of JP2023177576A publication Critical patent/JP2023177576A/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/104Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of tetraalcohols, e.g. pentaerythritol tetra(meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/042Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C08J7/0423Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder with at least one layer of inorganic material and at least one layer of a composition containing a polymer binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/046Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04Polyurethanes
    • C09D175/14Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D175/16Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2301/00Characterised by the use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
    • C08J2301/08Cellulose derivatives
    • C08J2301/10Esters of organic acids
    • C08J2301/12Cellulose acetate

Abstract

To provide a hard coat layer which has excellent adhesiveness between the hard coat layer and an inorganic oxide film and excellent hardness and scratch resistance on the surface of a hard coat film and hardly causes curling of the hard coat film and a hard coat agent for forming the hard coat layer.SOLUTION: There is provided an active energy ray-curable hard coat agent for forming a hard coat layer in a base material with an inorganic oxide film, which comprises a base material, a hard coat layer and an inorganic oxide film (excluding a transparent conductive film) in this order, wherein the active energy ray-curable hard coat agent comprises a compound (A) having a (meth)acryloyl group (excluding (B)), a compound (B) having a silsesquioxane skeleton and a photopolymerization initiator (C) and the compound (A) includes a compound (a1) having 6 or more (meth)acryloyl groups and a nurate ring skeleton and a compound (a2) having 3 or more (meth)acryloyl groups and a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、基材と、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)とをこの順に備えた無機酸化物膜付き基材における、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性ハードコート剤、ハードコート層、積層体、および無機酸化物膜付き酸化物基材に関する。 The present invention provides an active material for forming a hard coat layer in a base material with an inorganic oxide film comprising a base material, a hard coat layer, and an inorganic oxide film (excluding a transparent conductive film) in this order. The present invention relates to an energy ray-curable hard coat agent, a hard coat layer, a laminate, and an oxide base material with an inorganic oxide film.

ポリエチレンテレフタレート樹脂等のプラスチックからなる基材は、透明性や耐衝撃性に優れ、軽量であり加工が容易であるため、ガラス基材に変えて種々の用途に用いられている。 Base materials made of plastic such as polyethylene terephthalate resin have excellent transparency and impact resistance, are lightweight, and are easy to process, so they are used in place of glass base materials for various purposes.

しかし、プラスチック基材はガラス基材と比較して硬度および耐擦傷性等の表面特性に劣ることがある。このため、活性エネルギー線硬化性組成物をプラスチック基材表面に塗装してハードコート膜を形成し、プラスチック基材の表面特性を改良することが一般的である。 However, plastic substrates may have inferior surface properties such as hardness and scratch resistance compared to glass substrates. For this reason, it is common to coat the surface of a plastic substrate with an active energy ray-curable composition to form a hard coat film to improve the surface characteristics of the plastic substrate.

プラスチック基材の表面硬度をガラス基材並みの硬度とすることは、ハードコート膜を形成するだけでは不十分であり、ハードコート膜の上に無機物質層を積層させた積層体を形成することが提案されている。 In order to make the surface hardness of a plastic substrate as hard as that of a glass substrate, it is not enough to form a hard coat film; instead, it is necessary to form a laminate in which an inorganic material layer is laminated on a hard coat film. is proposed.

一方で、活性エネルギー線硬化性組成物を用いたハードコート膜上に無機物質層を積層する場合、ハードコート膜と無機物質層との密着性が不十分である。この課題に対して、特許文献1では、ヌレート環を有する3官能のアクリレートとシルセスキオキサン化合物を用いることで、無機物質層との密着性に優れることが開示されている。 On the other hand, when an inorganic material layer is laminated on a hard coat film using an active energy ray-curable composition, the adhesion between the hard coat film and the inorganic material layer is insufficient. To address this problem, Patent Document 1 discloses that the use of a trifunctional acrylate having a nurate ring and a silsesquioxane compound provides excellent adhesion to the inorganic material layer.

しかしながら、特許文献1の組成ではハードコート膜表面の硬度を十分に満たすものではなく、プラスチック基材が薄いフィルム状である場合にはハードコート膜を塗工した積層体がカールしてしまう課題があった。そのため、ハードコート膜と無機物質層との密着性と、ハードコート膜表面の硬度を両立し、かつフィルム状のプラスチック基材を用いてもハードコート膜を塗工した積層体がカールしない活性エネルギー線硬化性組成物が求められている。 However, the composition of Patent Document 1 does not sufficiently satisfy the hardness of the hard coat film surface, and when the plastic base material is a thin film, there is a problem that the laminate coated with the hard coat film curls. there were. Therefore, it is possible to achieve both the adhesion between the hard coat film and the inorganic material layer and the hardness of the hard coat film surface, and also to prevent the laminate coated with the hard coat film from curling even when using a film-like plastic base material. There is a need for linearly curable compositions.

特開2013-035274号公報Japanese Patent Application Publication No. 2013-035274

本発明は、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)との密着性に優れ、かつハードコート膜表面の硬度や耐擦傷性に優れ、さらにハードコート膜のカールが生じにくいハードコート層、および該ハードコート層を形成するためのハードコート剤の提供を目的とする。 The present invention has excellent adhesion between the hard coat layer and the inorganic oxide film (excluding the transparent conductive film), and has excellent hardness and scratch resistance on the surface of the hard coat film. The purpose of the present invention is to provide a hard coat layer that does not easily form, and a hard coat agent for forming the hard coat layer.

本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、以下の発明に至った。本発明は、以下の活性エネルギー線硬化性ハードコート剤、ハードコート層、積層体、および無機酸化物膜付き基材を提供する。
[1]:基材と、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)とをこの順に備えた無機酸化物膜付き基材における、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性ハードコート剤であって、
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)(ただし、化合物(B)を除く)と、シルセスキオキサン骨格を有する化合物(B)と、光重合開始剤(C)とを含み、
前記化合物(A)が、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)(ただし(a2)を除く)および(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。
[2]:前記化合物(B)は、シルセスキオキサン骨格及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b1)である、[1]記載の活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。
[3]:前記化合物(B)の含有率は、活性エネルギー線硬化性ハードコート剤の化合物(A)、化合物(B)、光重合開始剤(C)の合計100質量%中、1~30質量%である、[1]または[2]記載の活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。
[4]:基材と、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)とをこの順に備えた無機酸化物膜付き基材における、ハードコート層であって、
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)(ただし、化合物(B)を除く)と、シルセスキオキサン骨格を有する化合物(B)と、を含み、
前記化合物(A)が、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)(ただし(a2)を除く)および(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)を含むことを特徴とするハードコート層。
[5]:膜厚が100μm以下である基材と、[4]記載のハードコート層を有する積層体。
[6]:基材と、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)とをこの順に備えた無機酸化物膜付き基材であって、
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)(ただし、化合物(B)を除く)と、シルセスキオキサン骨格を有する化合物(B)とを含み、
前記化合物(A)が、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)(ただし(a2)を除く)および(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)を含むことを特徴とする無機酸化物膜付き基材。
The present inventors have conducted extensive research to solve the above problems, and as a result, have arrived at the following invention. The present invention provides the following active energy ray-curable hard coat agent, hard coat layer, laminate, and base material with an inorganic oxide film.
[1]: Activity for forming a hard coat layer in a base material with an inorganic oxide film comprising a base material, a hard coat layer, and an inorganic oxide film (excluding a transparent conductive film) in this order An energy ray curable hard coating agent,
A compound (A) having a (meth)acryloyl group (excluding the compound (B)), a compound (B) having a silsesquioxane skeleton, and a photopolymerization initiator (C),
The compound (A) has 6 or more (meth)acryloyl groups and a compound (a1) (excluding (a2)) having a nurate ring skeleton and 3 or more (meth)acryloyl groups, An active energy ray-curable hard coating agent comprising a compound (a2) having a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less.
[2]: The active energy ray-curable hard coating agent according to [1], wherein the compound (B) is a compound (b1) having a silsesquioxane skeleton and a (meth)acryloyl group.
[3]: The content of the compound (B) is 1 to 30% in the total of 100% by mass of the active energy ray-curable hard coating agent, compound (A), compound (B), and photopolymerization initiator (C). The active energy ray-curable hard coating agent according to [1] or [2], which is % by mass.
[4]: A hard coat layer in a base material with an inorganic oxide film comprising a base material, a hard coat layer, and an inorganic oxide film (excluding a transparent conductive film) in this order,
A compound (A) having a (meth)acryloyl group (excluding the compound (B)) and a compound (B) having a silsesquioxane skeleton,
The compound (A) has 6 or more (meth)acryloyl groups and a compound (a1) (excluding (a2)) having a nurate ring skeleton and 3 or more (meth)acryloyl groups, A hard coat layer comprising a compound (a2) having a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less.
[5]: A laminate comprising a base material having a thickness of 100 μm or less and a hard coat layer according to [4].
[6]: A base material with an inorganic oxide film comprising a base material, a hard coat layer, and an inorganic oxide film (excluding a transparent conductive film) in this order,
A compound (A) having a (meth)acryloyl group (excluding the compound (B)) and a compound (B) having a silsesquioxane skeleton,
The compound (A) has 6 or more (meth)acryloyl groups and a compound (a1) (excluding (a2)) having a nurate ring skeleton and 3 or more (meth)acryloyl groups, A base material with an inorganic oxide film, comprising a compound (a2) having a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less.

本発明により、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)との密着性に優れ、かつ表面の硬度や耐擦傷性に優れ、さらにハードコート膜のカールが生じにくいハードコート層、および該ハードコート層を形成するためのハードコート剤の提供が可能となる。 The present invention provides a hard coat layer that has excellent adhesion between the hard coat layer and the inorganic oxide film (excluding the transparent conductive film), has excellent surface hardness and scratch resistance, and is less likely to cause curling of the hard coat layer. It becomes possible to provide a coating layer and a hard coating agent for forming the hard coating layer.

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に含まれることは言うまでもない。また、本明細書において「~」を用いて特定される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値の範囲として含むものとする。 The present invention will be explained in detail below. It goes without saying that other embodiments are also included in the scope of the present invention as long as they meet the spirit of the present invention. Furthermore, in this specification, numerical ranges specified using "~" include the numerical values written before and after "~" as the lower limit and upper limit ranges.

初めに本明細書で用いられる用語について説明する。
尚、本明細書では、「(メタ)アクリル」、「(メタ)アクリロイル」、および「(メタ)アクリレート」、と表記した場合には、特に断りがない限り、それぞれ「アクリルまたはメタクリル」、「アクリロイルまたはメタクリロイル」、および「アクリレートまたはメタクリレート」を表すものとする。
また、「活性エネルギー線硬化性ハードコート剤」を「ハードコート剤」、「(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)」を「化合物(A)」、「(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)」を「化合物(a1)」、「(メタ)アクリロイル基を3個以上有する(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)」を「化合物(a2)」、「シルセスキオキサン骨格を有する化合物(B)」を「化合物(B)」、とそれぞれ称することがある。
本明細書中に出てくる各種成分は特に注釈しない限り、それぞれ独立に1種単独で、あるいは2種以上を混合して用いてもよい。
First, the terms used in this specification will be explained.
In this specification, "(meth)acrylic,""(meth)acryloyl," and "(meth)acrylate" are used as "acrylic or methacrylic," respectively, unless otherwise specified. "acryloyl or methacryloyl" and "acrylate or methacrylate".
In addition, "active energy ray-curable hard coating agent" is referred to as "hard coating agent", "(meth)acryloyl group-containing compound (A)" is referred to as "compound (A)", and "(meth)acryloyl group containing 6 or more and a compound (a1) having a nurate ring skeleton, and a compound (a2) having three or more (meth)acryloyl groups and a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less. "Compound (a2)" and "compound (B) having a silsesquioxane skeleton" may be respectively referred to as "compound (B)."
Unless otherwise noted, the various components appearing in this specification may be used individually or in combination of two or more.

《ハードコート剤》
本発明のハードコート剤は、基材と、ハードコート層と、無機酸化物膜とをこの順に備えた無機酸化物膜付基材における、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性ハードコート剤である。
本発明のハードコート剤は、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)および(メタ)アクリロイル基を3個以上有する(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)を含む化合物(A)と、化合物(B)と、光重合開始剤(C)とを含む。
このようなハードコート剤であることで、ハードコート層と、無機酸化物膜との密着性に優れ、かつハードコート膜表面の硬度や耐擦傷性に優れ、さらに無機酸化物膜付基材のカールが生じにくいハードコート層を形成することが可能となる。
《Hard coat agent》
The hard coat agent of the present invention is an active energy ray-curable hard coat agent for forming a hard coat layer on a base material with an inorganic oxide film comprising a base material, a hard coat layer, and an inorganic oxide film in this order. It is a coating agent.
The hard coating agent of the present invention comprises a compound (a1) having 6 or more (meth)acryloyl groups and a nurate ring skeleton, and a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less having 3 or more (meth)acryloyl groups. It contains a compound (A) containing a compound (a2), a compound (B), and a photopolymerization initiator (C).
By using such a hard coating agent, it has excellent adhesion between the hard coat layer and the inorganic oxide film, and also has excellent hardness and scratch resistance on the surface of the hard coat film. It becomes possible to form a hard coat layer that is less prone to curling.

<化合物(A)>
化合物(A)は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物である。
化合物(A)は、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)および(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、かつ(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)を含む。(a1)および(a2)を含むことで、カール性を抑えつつ、ハードコート膜表面の硬度を十分に確保することができる。
<Compound (A)>
Compound (A) is a compound having a (meth)acryloyl group.
Compound (A) has 6 or more (meth)acryloyl groups and has a nurate ring skeleton and Compound (a1) has 3 or more (meth)acryloyl groups and has a (meth)acryloyl group equivalent of 115 It contains the following compound (a2). By including (a1) and (a2), it is possible to suppress curling properties and ensure sufficient hardness on the surface of the hard coat film.

化合物(a1)は、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する。ヌレート環骨格は、窒素原子を有するイソシアネート化合物の三量体であり、六員環構造である。(メタ)アクリロイル基を6個以上有することで、架橋密度が増大し、ハードコート膜表面の硬度や耐擦傷性に優れかつハードコート膜のカールを抑えることができる。カール性を抑える詳細な要因は不明であるが、ヌレート環骨格部分の環構造が応力緩和に大きく寄与していると考える。
(メタ)アクリロイル基を3個有しヌレート環骨格をもつ化合物も比較的入手しやすいが、架橋密度が小さいためハードコート膜表面の硬度や耐擦傷性が不十分であり適さない。
Compound (a1) has six or more (meth)acryloyl groups and has a nurate ring skeleton. The nurate ring skeleton is a trimer of isocyanate compounds having a nitrogen atom and has a six-membered ring structure. By having six or more (meth)acryloyl groups, the crosslinking density increases, the hard coat film surface has excellent hardness and scratch resistance, and curling of the hard coat film can be suppressed. Although the detailed factors that suppress the curling property are unknown, it is believed that the ring structure of the nurate ring skeleton greatly contributes to stress relaxation.
A compound having three (meth)acryloyl groups and a nurate ring skeleton is also relatively easily available, but it is not suitable because its crosslinking density is low and the hardness and scratch resistance of the hard coat film surface are insufficient.

化合物(a1)として具体的には、ジイソシアネートのイソシアヌレート(三量体)と水酸基を有するポリ(メタ)アクリレート化合物との反応物、ポリイソシアネートのイソシアヌレート(三量体)とポリオールおよび水酸基を有するポリ又はモノ(メタ)アクリレート化合物との反応物が挙げられるが、ハードコート膜表面の硬度や耐擦傷性に優れる観点から、ジイソシアネートのイソシアヌレート(三量体)化合物と、水酸基を1個及び(メタ)アクリロイル基を2個以上有するポリ(メタ)アクリレート化合物との反応物が好ましい。
ジイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、及びジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族系ジイソシアネート、前記芳香族イソシアネートの水素添加体、並びに、イソホロンジイソシアネート、及びヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族系ジイソシアヌレ―トが挙げられ、
水酸基を1個有するモノ(メタ)アクリレートとしては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート, 2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及び4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、
水酸基を1個有するポリ(メタ)アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。
Specifically, the compound (a1) includes a reaction product of isocyanurate (trimer) of diisocyanate and a poly(meth)acrylate compound having a hydroxyl group, a reaction product of isocyanurate (trimer) of polyisocyanate, a polyol, and a poly(meth)acrylate compound having a hydroxyl group. Examples include reactants with poly or mono(meth)acrylate compounds, but from the viewpoint of improving the hardness and scratch resistance of the hard coat film surface, it is possible to combine an isocyanurate (trimer) compound of diisocyanate with one hydroxyl group and ( A reaction product with a poly(meth)acrylate compound having two or more meth)acryloyl groups is preferred.
Examples of diisocyanates include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated products of the aromatic isocyanates, and aliphatic diisocyanurates such as isophorone diisocyanate and hexamethylene diisocyanate. is,
Mono(meth)acrylates having one hydroxyl group include 2-hydroxyethyl(meth)acrylate, 2-hydroxypropyl(meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl(meth)acrylate,
Poly(meth)acrylates having one hydroxyl group include, but are not limited to, (meth)acrylates having a hydroxyl group such as pentaerythritol tri(meth)acrylate and dipentaerythritol penta(meth)acrylate.

前記ポリオールとしては、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール,及びトリシクロデカンジメタノール等が挙げられるが、これらに限定されない。 Examples of the polyol include, but are not limited to, ethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, cyclohexanediol, cyclohexanedimethanol, and tricyclodecane dimethanol.

化合物(a2)の(メタ)アクリロイル基当量は115以下であり、110以下であることが好ましい。(メタ)アクリロイル基当量が115以下であることで、硬化反応後の架橋塗膜が密な三次元構造をとり、ハードコート膜の硬度を上げることができる。 The (meth)acryloyl group equivalent of compound (a2) is 115 or less, preferably 110 or less. When the (meth)acryloyl group equivalent is 115 or less, the crosslinked coating film after the curing reaction has a dense three-dimensional structure, and the hardness of the hard coat film can be increased.

ここで、(メタ)アクリロイル基当量は下記式で求められる。
(メタ)アクリロイル基当量=分子量/同一分子中の(メタ)アクリロイル基数
Here, the (meth)acryloyl group equivalent is determined by the following formula.
(Meth)acryloyl group equivalent = molecular weight/number of (meth)acryloyl groups in the same molecule

化合物(a2)として、具体的には
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、及びペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、等のポリオールポリ(メタ)アクリレート化合物;
その他、(メタ)アクリロイル基を3個以上有する、ポリアクリルポリ(メタ)アクリレート、ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート、及びポリエステル(メタ)アクリレート等のポリマーポリオールのポリアクリレート;
ポリエポキシ(メタ)アクリレート;
等が挙げられるが、これらに限定されない。
Compound (a2) specifically includes trimethylolpropane tri(meth)acrylate, glycerin tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and pentaerythritol tri(meth)acrylate. Polyol poly(meth)acrylate compounds such as acrylate and pentaerythritol tetra(meth)acrylate;
In addition, polyacrylates of polymer polyols having three or more (meth)acryloyl groups, such as polyacrylic poly(meth)acrylate, polyurethane poly(meth)acrylate, and polyester(meth)acrylate;
Polyepoxy (meth)acrylate;
etc., but are not limited to these.

化合物(a2)の市販品としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(MIWON社製 Miramer M300等)、グリセリントリ(メタ)アクリレート(東亜合成社製 アロニックス M―930等)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(サートマー社製 SR399等)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(MIWON社製 Miramer M600等)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート(MIWON社製 Miramer M340等)、及びペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート(共栄社化学社製 ライトアクリレート PE-4A等)、等のポリオールポリ(メタ)アクリレート化合物:等が挙げられるが、これらに限定されない。 Commercially available products of compound (a2) include, for example, trimethylolpropane tri(meth)acrylate (Miramer M300, manufactured by MIWON, etc.), glycerin tri(meth)acrylate (Aronix M-930, manufactured by Toagosei, etc.), and dipentaerythritol. Penta(meth)acrylate (SR399, etc. manufactured by Sartomer), dipentaerythritol hexa(meth)acrylate (Miramer M600, etc. manufactured by MIWON), pentaerythritol tri(meth)acrylate (Miramer M340, etc. manufactured by MIWON), and pentaerythritol tetra Examples include, but are not limited to, polyol poly(meth)acrylate compounds such as (meth)acrylate (Light Acrylate PE-4A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., etc.).

化合物(A)の含有率は、活性エネルギー線硬化性ハードコート剤の化合物(A)、化合物(B)、光重合開始剤(C)の合計100質量%中、30質量%以上99質量%未満が好ましい。 The content of compound (A) is 30% by mass or more and less than 99% by mass out of the total 100% by mass of compound (A), compound (B), and photopolymerization initiator (C) of the active energy ray-curable hard coating agent. is preferred.

硬度及びカール性に優れたハードコート層を得るためには、化合物(A)100質量%中の化合物(a1)の含有率は5質量%以上が好ましく、より好ましくは25質量%以上であり、さらに好ましくは40質量%以上であり、化合物(A)100質量%中の化合物(a2)の含有率は5質量%以上が好ましく、より好ましくは25質量%以上であり、さらに好ましくは40質量%以上である。
また、化合物(A)100質量%中の化合物(a1)の含有率は95質量%以下が好ましく、より好ましくは75質量%以下であり、さらに好ましくは60質量%以下であり、化合物(A)100質量%中の化合物(a2)の含有率は95質量%以下が好ましく、より好ましくは75質量%以下であり、さらに好ましくは60質量%以下である。
化合物(a1)の含有率が上記範囲であることで、カール性の抑制および優れた耐擦傷性を満たすことができる。また、化合物(a2)の含有率が上記範囲であることで、ハードコート膜表面の十分な硬度と、耐擦傷性を満たすことができる。
In order to obtain a hard coat layer with excellent hardness and curling properties, the content of compound (a1) in 100% by mass of compound (A) is preferably 5% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, More preferably, it is 40% by mass or more, and the content of compound (a2) in 100% by mass of compound (A) is preferably 5% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, and still more preferably 40% by mass. That's all.
Further, the content of compound (a1) in 100% by mass of compound (A) is preferably 95% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, even more preferably 60% by mass or less, and the content of compound (A) The content of compound (a2) in 100% by mass is preferably 95% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, even more preferably 60% by mass or less.
When the content of compound (a1) is within the above range, curling can be suppressed and excellent scratch resistance can be achieved. Further, by having the content of the compound (a2) within the above range, sufficient hardness and scratch resistance of the hard coat film surface can be achieved.

本発明のハードコート剤は必要に応じて、(a1)、(a2)以外の化合物(A)を含有しても良い。
一例として、(メタ)アクリロイル基を3個以上有しかつ(メタ)アクリロイル基当量が115より大きい化合物(a3)や(メタ)アクリロイル基を1または2個有する化合物(a4)が挙げられる。
The hard coating agent of the present invention may contain a compound (A) other than (a1) and (a2), if necessary.
Examples include a compound (a3) having three or more (meth)acryloyl groups and a (meth)acryloyl group equivalent of more than 115, and a compound (a4) having one or two (meth)acryloyl groups.

化合物(a3)としては、例えば、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。 Examples of the compound (a3) include, but are not limited to, urethane acrylate, polyester acrylate, and epoxy acrylate.

<ウレタンアクリレート>
ウレタンアクリレートは、例えば、ジイソシアネートと水酸基を有する(メタ)アクリレート類とを反応させて得られるもの、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得られるもの等がある。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得ることもできる。
<Urethane acrylate>
Urethane acrylates include, for example, those obtained by reacting diisocyanates with (meth)acrylates having hydroxyl groups, and isocyanate group-containing urethane prepolymers obtained by reacting polyols and polyisocyanates under conditions with an excess of isocyanate groups. There are those obtained by reacting with (meth)acrylates having a hydroxyl group. Alternatively, a hydroxyl group-containing urethane prepolymer obtained by reacting a polyol and a polyisocyanate under conditions with an excess of hydroxyl groups can also be obtained by reacting with (meth)acrylates having isocyanate groups.

上記ポリイソシアネートとしては公知のものを使用でき、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、および脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。
芳香族ジイソシアネートとしては例えば、1,5-ナフチレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’-ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、4,4’-ジベンジルイソシアネート、1,3-フェニレンジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、m-テトラメチルキシリレンジイソシアネート、4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、および2,6-ジイソシアネート-ベンジルクロライド等が挙げられる。
脂肪族ジイソシアネートとしては例えば、ブタン-1,4-ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソプロピレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、およびリジンジイソシアネート等が挙げられる。
脂環族ジイソシアネートとしては例えば、シクロヘキサン-1,4-ジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジメリールジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン-4,4’-ジイソシアネート、1,3-ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、およびダイマー酸のカルボキシ基をイソシアネート基に転化したダイマージイソシアネート等が挙げられる。
Known polyisocyanates can be used as the polyisocyanate, including aromatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and the like.
Examples of aromatic diisocyanates include 1,5-naphthylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 4,4'-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 4,4'-dibenzylisocyanate, and 1,3-phenylene. Examples include diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, m-tetramethylxylylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and 2,6-diisocyanate-benzyl chloride.
Examples of the aliphatic diisocyanate include butane-1,4-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isopropylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.
Examples of the alicyclic diisocyanate include cyclohexane-1,4-diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dimeryl diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatemethyl)cyclohexane, Examples include methylcyclohexane diisocyanate, norbornane diisocyanate, and dimer diisocyanate obtained by converting the carboxy group of dimer acid into an isocyanate group.

水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸1-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸1-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシラウリル、(メタ)アクリル酸エチル-α-(ヒドロキシメチル)、単官能(メタ)アクリル酸グリセロール、あるいはこれらの(メタ)アクリレートと、ε-カプロラクトンラクトンの開環付加により末端に水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルや、上記水酸基含有(メタ)アクリレートに対してエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドを繰り返し付加したアルキレンオキサイド付加(メタ)アクリル酸エステル等の水酸基含有の(メタ)アクリル酸エステル類等が挙げられる。中でもトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートから選ばれる少なくとも一種を含むものが好ましい。 Examples of hydroxyl group-containing (meth)acrylates include trimethylolpropane di(meth)acrylate, trimethylolethane di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate (meth)acrylic acid 2- Hydroxyethyl, 1-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 1-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxy(meth)acrylate Hydroxybutyl, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, cyclohexanedimethanol mono(meth) Acrylic acid ester, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate-α-(hydroxymethyl), monofunctional glycerol (meth)acrylate, or these (Meth)acrylate and (meth)acrylic acid ester having a hydroxyl group at the end by ring-opening addition of ε-caprolactone lactone, and alkylene oxide such as ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide for the above hydroxyl group-containing (meth)acrylate. Hydroxyl group-containing (meth)acrylic esters, such as alkylene oxide-added (meth)acrylic esters, which are repeatedly added with . Among these, those containing at least one selected from trimethylolpropane di(meth)acrylate, trimethylolethane di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and dipentaerythritol penta(meth)acrylate are preferred.

<ポリエステルアクリレート>
ポリエステルアクリレートは、例えば、多塩基酸及び多価アルコールを重縮合して得られるポリエステルポリカルボン酸と、水酸基含有(メタ)アクリレート等とを反応させて得ることができる。
上記、多塩基酸としては、脂肪族系、脂環族系、及び芳香族系が挙げられ、それぞれ特に制限が無く使用できる。例えば脂肪族系多塩基酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸、スベリン酸、マレイン酸、フマル酸、ドデカン二酸、ピメリン酸、シトラコン酸、グルタル酸、イタコン酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられ、これらの脂肪族ジカルボン酸及びその無水物が利用できる。又、酸無水物の誘導体も利用できる。
<Polyester acrylate>
Polyester acrylate can be obtained, for example, by reacting a polyester polycarboxylic acid obtained by polycondensing a polybasic acid and a polyhydric alcohol with a hydroxyl group-containing (meth)acrylate.
Examples of the polybasic acids mentioned above include aliphatic acids, alicyclic acids, and aromatic acids, each of which can be used without particular limitations. For example, aliphatic polybasic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, suberic acid, maleic acid, fumaric acid, dodecanedioic acid, pimelic acid, citraconic acid, glutaric acid, Examples include itaconic acid, succinic anhydride, maleic anhydride, and these aliphatic dicarboxylic acids and their anhydrides can be used. Further, acid anhydride derivatives can also be used.

また、上記多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、3,3'-ジメチロールヘプタン、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、ポリオキシエチレングリコール(付加モル数10以下)、ポリオキシプロピレングリコール(付加モル数10以下)、プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、ブチルエチルペンタンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール,トリシクロデカンジメタノール、シクロペンタジエンジメタノール、ダイマージオール等の脂肪族又は脂環式ジオール類を挙げることができる。 Further, examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5 -Pentanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3,3'-dimethylolheptane, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, polyoxyethylene glycol (number of moles added is 10 or less) , polyoxypropylene glycol (additional mole number 10 or less), propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol , neopentyl glycol, octanediol, butylethylpentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, cyclohexanediol, cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, cyclopentadienedimethanol, dimer diol, etc. Mention may be made of cyclic diols.

また、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの3つ以上の水酸基を含有するポリオールを一部使用しても良い。 Further, polyols containing three or more hydroxyl groups such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, and dipentaerythritol may be used in part.

上記、多価アルコールのうち、ネオペンチルグリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、3,3'-ジメチロールヘプタン、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、ブチルエチルペンタンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、などの、分岐したアルカンに水酸基が2つ以上導入されたものが、オリゴマーの、接着性、耐熱性等の点で好ましい。 Among the above polyhydric alcohols, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3,3 '-Dimethylolheptane, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, butylethylpentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, trimethylolpropane, and other branched alkanes have hydroxyl groups. It is preferable that two or more oligomers are introduced in terms of adhesiveness, heat resistance, etc.

水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、上記と同様のものが挙げられ、中でもトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートから選ばれる少なくとも一種を含むものが好ましい。 Examples of the hydroxyl group-containing (meth)acrylates include those mentioned above, and among them, trimethylolpropane di(meth)acrylate, trimethylolethane di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta( Those containing at least one selected from meth)acrylates are preferred.

<エポキシアクリレート>
ポリエポキシアクリレートは、例えばエポキシ樹脂のグリシジル基を(メタ)アクリル酸でエステル化して、官能基を(メタ)アクリレート基としたものが挙げられる。
<Epoxy acrylate>
Examples of polyepoxy acrylates include those obtained by esterifying the glycidyl group of an epoxy resin with (meth)acrylic acid to form a (meth)acrylate group as a functional group.

化合物(a4)としては、例えば、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート及びビスフェノールAのエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート類、ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート及びポリエステルポリ(メタ)アクリレート等のオリゴマー、並びに2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、及びイソボニル(メタ)アクリレート等のモノ(メタ)アクリレート類が挙げられるが、これらに限定されない。 Examples of the compound (a4) include 1,3-butanediol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, and diethylene glycol di(meth)acrylate. acrylate, di(meth)acrylates such as neopentyl glycol di(meth)acrylate and ethylene oxide-modified di(meth)acrylate of bisphenol A, oligomers such as polyurethane poly(meth)acrylate and polyester poly(meth)acrylate, and 2 - Ethylhexyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, cyclopentanyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, and isobonyl ( Examples include, but are not limited to, mono(meth)acrylates such as meth)acrylate.

<化合物(B)>
化合物(B)は、シルセスキオキサン骨格を有する化合物である。シルセスキオキサン骨格の剛直な骨格によりハードコート層の硬度や耐擦傷性を低下させずに、酸素原子や一部残存するシラノール基との相互作用によりハードコート層と無機酸化物膜との密着性が良好となる。
化合物(B)は、シルセスキオキサン、即ち、3官能性シランを加水分解および縮合することで得られる(RSiO1.5の構造を持つネットワーク型ポリマーまたは多面体クラスター構造を持つ化合物であれば特に限定されず、ランダム構造、ハシゴ構造、完全カゴ型構造、不完全カゴ型構造等の公知慣用の構造のシルセスキオキサン骨格を有する化合物を用いることができる。(RSiO1.5中、nは、2以上の整数である。nとしては、2~200の整数が好ましく、2~150の整数がより好ましく、2~100の整数がさらに好ましい。また、(RSiO1.5中、Rは、メチル基、エチル基、フェニル基、(メタ)アクリルロイル基等の有機基であることが好ましい。
<Compound (B)>
Compound (B) is a compound having a silsesquioxane skeleton. Due to the rigid skeleton of the silsesquioxane skeleton, the hard coat layer and the inorganic oxide film adhere to each other through interaction with oxygen atoms and some remaining silanol groups without reducing the hardness or scratch resistance of the hard coat layer. The properties become better.
Compound (B) may be a silsesquioxane, that is, a network polymer having a structure of (RSiO 1.5 ) n obtained by hydrolyzing and condensing a trifunctional silane or a compound having a polyhedral cluster structure. There are no particular limitations, and compounds having a silsesquioxane skeleton with a known and commonly used structure such as a random structure, a ladder structure, a complete cage structure, an incomplete cage structure, etc. can be used. (RSiO 1.5 ) In n , n is an integer of 2 or more. n is preferably an integer of 2 to 200, more preferably 2 to 150, even more preferably 2 to 100. Further, in (RSiO 1.5 ) n , R is preferably an organic group such as a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, or a (meth)acryloyl group.

化合物(B)は、(RSiO1.5中、Rの少なくとも一部が(メタ)アクリロイル基である、シルセスキオキサン骨格及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b1)と、Rが(メタ)アクリロイル基ではないシルセスキオキサン骨格を有する化合物(b2)に分けられる。化合物(B)は、シルセスキオキサン骨格及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b1)であることが好ましい。(メタ)アクリロイル基を有することでハードコート層の耐擦傷性の低下をより抑え、耐擦傷性が高いだけでなく、耐アルカリ性、無機酸化物膜層との密着性が向上できる。
なお、シルセスキオキサン骨格を有する場合は、(メタ)アクリロイル基を有していても、化合物(B)に分類される。
Compound (B) is a compound (b1) having a silsesquioxane skeleton and a (meth)acryloyl group in which at least a part of R is a (meth)acryloyl group in (RSiO 1.5 ) n , and a compound (b1) in which R is a (meth)acryloyl group. It is divided into compounds (b2) having a silsesquioxane skeleton that is not a (meth)acryloyl group. The compound (B) is preferably a compound (b1) having a silsesquioxane skeleton and a (meth)acryloyl group. By having a (meth)acryloyl group, the deterioration of the scratch resistance of the hard coat layer can be further suppressed, and not only the scratch resistance is high, but also the alkali resistance and the adhesion with the inorganic oxide film layer can be improved.
In addition, when it has a silsesquioxane skeleton, it is classified as a compound (B) even if it has a (meth)acryloyl group.

シルセスキオキサン骨格及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b1)の市販品としては、東亞合成製のAC-SQ TA-100、MAC-SQ T M-100、AC-SQ SI-20、MAC-SQ SI-20、MAC-SQ HDMなどが挙げられる。
Rが(メタ)アクリロイル基ではないシルセスキオキサン骨格を有する化合物(b2)の市販品としては、小西化学工業製のSR-21、SR-23 SR-13、SR-33、SO-04、荒川化学工業製のSQ107、SQ109、SQ506、東亞合成製のOX-SQ TX-100、OX-SQ SI-20、OX-SQ HDXが挙げられる。
Commercial products of the compound (b1) having a silsesquioxane skeleton and a (meth)acryloyl group include AC-SQ TA-100, MAC-SQ TM-100, AC-SQ SI-20, and MAC manufactured by Toagosei. -SQ SI-20, MAC-SQ HDM, etc.
Commercially available compounds (b2) having a silsesquioxane skeleton in which R is not a (meth)acryloyl group include SR-21, SR-23, SR-13, SR-33, SO-04, manufactured by Konishi Chemical Industry Co., Ltd. Examples include SQ107, SQ109, and SQ506 manufactured by Arakawa Chemical Industries, and OX-SQ TX-100, OX-SQ SI-20, and OX-SQ HDX manufactured by Toagosei.

シルセスキオキサン骨格を有する化合物(B)の含有率は、活性エネルギー線硬化性ハードコート剤の化合物(A)、化合物(B)、光重合開始剤(C)の合計100質量%中、1~30質量%含むことが好ましく3~27質量%含むことがより好ましく、5~25質量%含むことがさらに好ましい。
上記含有率であることで、無機酸化物膜の膜厚が厚い場合にも、ハードコート層と無機酸化物膜との密着性が良好となるために好ましい。
The content of the compound (B) having a silsesquioxane skeleton is 1% by mass in the total of 100% by mass of the active energy ray-curable hard coating agent compound (A), compound (B), and photopolymerization initiator (C). The content is preferably 30 to 30% by mass, more preferably 3 to 27% by mass, and even more preferably 5 to 25% by mass.
The above content is preferable because the adhesion between the hard coat layer and the inorganic oxide film is good even when the inorganic oxide film is thick.

<光重合開始剤(C)>
光重合開始剤(C)としては、例えば、モノカルボニル系光重合開始剤、ジカルボニル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、アミノカルボニル系光重合開始剤等が使用できる。
光重合開始剤(C)は、増感剤と併用してもよい。
<Photopolymerization initiator (C)>
Examples of the photopolymerization initiator (C) include monocarbonyl photopolymerization initiators, dicarbonyl photopolymerization initiators, acetophenone photopolymerization initiators, benzoin ether photopolymerization initiators, and acylphosphine oxide photopolymerization initiators. agent, aminocarbonyl photopolymerization initiator, etc. can be used.
The photopolymerization initiator (C) may be used in combination with a sensitizer.

例えば、ベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、3,3´,4,4´-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2-/4-イソ-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、及び1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン等のモノカルボニル系光重合開始剤;
2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、及びメチル-α-オキソベンゼンアセテート等のジカルボニル系光重合開始剤;
2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン、及び1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム等のアセトフェノン系光重合開始剤;
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイゾブチルエーテル、及びベンゾインノルマルブチルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤;
2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、及び4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系光重合開始剤;
並びに、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-n-ブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4´-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4´-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、及び2,5´-ビス(4-ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等のアミノカルボニル系光重合開始剤;
等が挙げられる。
For example, benzophenone, 4-methylbenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, Monocarbonyl photopolymerization initiators such as 2-/4-iso-propylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, and 1-chloro-4-propoxythioxanthone;
Dicarbonyl photopolymerization initiators such as 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, and methyl-α-oxobenzene acetate;
2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexylphenyl ketone , diethoxyacetophenone, dibutoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2-methyl-1-[ 4-(Methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, and 1-phenyl-1,2-propane Acetophenone photopolymerization initiator such as dione-2-(o-ethoxycarbonyl)oxime;
Benzoin ether photopolymerization initiators such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin normal butyl ether;
Acyl phosphine oxide photopolymerization initiators such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 4-n-propylphenyl-di(2,6-dichlorobenzoyl)phosphine oxide;
Also, ethyl-4-(dimethylamino)benzoate, 2-n-butoxyethyl-4-(dimethylamino)benzoate, isoamyl-4-(dimethylamino)benzoate, 2-(dimethylamino)ethylbenzoate, 4,4' - Aminocarbonyl photopolymerization initiators such as bis-4-dimethylaminobenzophenone, 4,4′-bis-4-diethylaminobenzophenone, and 2,5′-bis(4-diethylaminobenzal)cyclopentanone;
etc.

光重合開始剤(C)の市販品としては、IGM-Resins B.V.社製のOmnirad184、651、500、907、127、369、784、2959、エサキュアワン、BASF(株)社製ルシリンTPO等が挙げられる。特に、活性エネルギー線硬化後の耐黄変の観点で、Omnirad184やエサキュアワンが好ましい。 As a commercially available photopolymerization initiator (C), IGM-Resins B. V. Omnirad 184, 651, 500, 907, 127, 369, 784, 2959, Esacure One manufactured by BASF Corporation, Lucirin TPO manufactured by BASF Corporation, and the like. In particular, Omnirad 184 and Esacure One are preferred from the viewpoint of yellowing resistance after curing with active energy rays.

光重合開始剤(C)の含有率は、ハードコート層が紫外線により所定の物性になるように硬化できる量さえ含まれていれば制限されないが、ハードコート層が紫硬化速度、並びに、硬度及び耐擦傷性の観点から、活性エネルギー線硬化性ハードコート剤の化合物(A)、化合物(B)、光重合開始剤(C)の合計100質量%中、1~15質量%含むことが好ましく、3~10質量%含むことがより好ましい。 The content of the photopolymerization initiator (C) is not limited as long as it contains an amount that allows the hard coat layer to be cured by ultraviolet rays to achieve predetermined physical properties. From the viewpoint of scratch resistance, it is preferable that the active energy ray-curable hard coating agent contains 1 to 15% by mass of the total of 100% by mass of compound (A), compound (B), and photopolymerization initiator (C), It is more preferable to contain 3 to 10% by mass.

<その他成分>
本発明のハードコート剤は、必要に応じて、有機溶剤(D)、添加剤および(メタ)アクリロイル基を有さない樹脂成分等のその他化合物(E)を含有してもよい。
添加剤としては、熱硬化性樹脂、重合禁止剤、レベリング剤、スリップ剤、消泡剤、界面活性剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、導電剤、無機充填剤、顔料、染料等が挙げられる。
<Other ingredients>
The hard coating agent of the present invention may contain an organic solvent (D), additives, and other compounds (E) such as a resin component having no (meth)acryloyl group, as necessary.
Additives include thermosetting resins, polymerization inhibitors, leveling agents, slip agents, defoaming agents, surfactants, antibacterial agents, anti-blocking agents, plasticizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antioxidants, Examples include silane coupling agents, conductive agents, inorganic fillers, pigments, and dyes.

[有機溶剤(D)]
本発明のハードコート剤は、有機溶剤(D)を含んでもよい。
有機溶剤(D)としては、トルエン、キシレンといった芳香族系有機溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンといったケトン系有機溶剤、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、エステル系有機溶剤、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、などのアルコール系有機溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコエーテル系有機溶剤など公知の有機溶剤を使用できる。
[Organic solvent (D)]
The hard coating agent of the present invention may also contain an organic solvent (D).
Examples of the organic solvent (D) include aromatic organic solvents such as toluene and xylene, ketone organic solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, ester organic solvents, methanol, Known organic solvents can be used, such as alcohol-based organic solvents such as ethanol, n-propanol, isopropanol, and n-butanol, and glycoether-based organic solvents such as propylene glycol monomethyl ether.

有機溶剤(D)を含む場合、有機溶剤(D)の含有率は、塗工性及び成膜性の観点から、本発明のハードコート剤の不揮発分濃度が1~70質量%となる範囲であることが好ましい。 When containing an organic solvent (D), the content of the organic solvent (D) is within a range such that the nonvolatile content concentration of the hard coating agent of the present invention is 1 to 70% by mass from the viewpoint of coating properties and film forming properties. It is preferable that there be.

<ハードコート層>
ハードコート層は本発明のハードコート剤を活性エネルギー線により硬化させて得ることができる。活性エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線が挙げられる。紫外線の供給源としては例えば高圧水銀灯やメタルハライドランプ等が挙げられ、その照射エネルギーは通常100~2,000mJ/cm程度である。電子線の供給方式としては例えばスキャン式電子線照射、カーテン式電子線照射法等が挙げられ、その照射エネルギーは通常10~200kGy程度である。
<Hard coat layer>
The hard coat layer can be obtained by curing the hard coat agent of the present invention with active energy rays. Examples of active energy rays include ultraviolet rays and electron beams. Examples of sources of ultraviolet rays include high-pressure mercury lamps and metal halide lamps, and the irradiation energy thereof is usually about 100 to 2,000 mJ/cm 2 . Examples of electron beam supply methods include scanning electron beam irradiation and curtain electron beam irradiation, and the irradiation energy is usually about 10 to 200 kGy.

<積層体>
本発明の積層体は、膜厚が100μm以下である基材と、ハードコート層とを有する。
基材(支持体とも言う)としては、特に限定はなく、ガラス、合成樹脂成型物、フィルムなどが挙げられる。合成樹脂成型物としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、メチルメタクリレートを主成分とする共重合体樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン-メチルメタクリレート共重合体樹脂、スチレン-アクリロニトリル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、ポリアリルジグリコールカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂等の合成樹脂の成型物が挙げられる。
<Laminated body>
The laminate of the present invention includes a base material having a thickness of 100 μm or less and a hard coat layer.
The base material (also referred to as support) is not particularly limited, and examples thereof include glass, synthetic resin moldings, films, and the like. Synthetic resin molded products include polymethyl methacrylate resin, copolymer resin whose main component is methyl methacrylate, polystyrene resin, styrene-methyl methacrylate copolymer resin, styrene-acrylonitrile copolymer resin, polycarbonate resin, and cellulose acetate butylene resin. Examples include molded products of synthetic resins such as rate resins, polyallyl diglycol carbonate resins, polyvinyl chloride resins, and polyester resins.

また、フィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテルフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィルム等が挙げられる。 Examples of films include polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane film, diacetyl cellulose film, triacetyl cellulose (TAC) film, acetyl cellulose butyrate film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, and polyvinyl alcohol. Film, ethylene vinyl alcohol film, polyolefin film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentyl film, polysulfone film, polyetheretherketone film, polyethersulfone film, polyetherimide film, polyimide film, fluororesin film, nylon film , acrylic film, etc.

基材上に、本発明のハードコート剤を塗布し、活性エネルギー線により硬化させたハードコート層を形成することで積層体を得ることができる。基材の表面(基材が例えばフィルム状のものであれば片面又は両面)にハードコート剤を塗布する条件は、特に限定されず、塗布手段としては、例えば、スプレー、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター及びドットコーター等が挙げられる。ハードコート層の厚みは特に限定されないが、1~30μmが好ましく、5~25μmがより好ましい。 A laminate can be obtained by applying the hard coat agent of the present invention onto a base material and forming a hard coat layer cured by active energy rays. The conditions for applying the hard coating agent to the surface of the substrate (for example, one side or both sides if the substrate is in the form of a film) are not particularly limited, and the application means include, for example, spraying, a roll coater, and a reverse roll coater. , a gravure coater, a knife coater, a bar coater, a dot coater, and the like. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 30 μm, more preferably 5 to 25 μm.

<無機酸化物膜付き基材>
本発明の無機酸化物膜付き基材は、前記積層体のハードコート層側に無機酸化物膜を備える。ただし、無機酸化物膜は、透明導電膜を除く。
本発明のハードコート層は、無機酸化物膜との密着性に優れるため、ハードコート層と無機酸化物膜が直接積層した場合の無機酸化物膜の剥がれを抑制することができる。
なお、必要に応じて、基材とハードコート層の間に、他の樹脂層等を更に有していてもよい。他の樹脂層としては例えば製造工程での帯電を防止するための帯電防止樹脂層、本発明の積層体の硬度をより上げるためのハードコート樹脂層、基材と本発明のハードコート層との密着性を向上させるためのアンカー樹脂層等が挙げられるがこの限りではない。
<Substrate with inorganic oxide film>
The base material with an inorganic oxide film of the present invention includes an inorganic oxide film on the hard coat layer side of the laminate. However, the inorganic oxide film excludes the transparent conductive film.
Since the hard coat layer of the present invention has excellent adhesion to the inorganic oxide film, it is possible to suppress peeling of the inorganic oxide film when the hard coat layer and the inorganic oxide film are directly laminated.
Note that, if necessary, another resin layer or the like may be further provided between the base material and the hard coat layer. Other resin layers include, for example, an antistatic resin layer to prevent static electricity during the manufacturing process, a hard coat resin layer to further increase the hardness of the laminate of the present invention, and a layer between the base material and the hard coat layer of the present invention. Examples include, but are not limited to, an anchor resin layer for improving adhesion.

無機酸化物膜は、乾式成膜工法によって形成されたものであり、例えば、無機酸化物蒸着膜、無機酸化物スパッタ膜及び無機酸化物CVD膜が挙げられるが、無機酸化物蒸着膜又は無機酸化物スパッタ膜であることが好ましい。 The inorganic oxide film is formed by a dry film forming method, and examples thereof include an inorganic oxide vapor-deposited film, an inorganic oxide sputtered film, and an inorganic oxide CVD film. A material sputtered film is preferable.

無機酸化物膜層の厚みは、物理的特性、光学的特性、電気的特性を満たせば特に限定されないが、通常、0.01~0.5μmである。 The thickness of the inorganic oxide film layer is not particularly limited as long as it satisfies physical, optical, and electrical properties, but is usually 0.01 to 0.5 μm.

無機酸化物膜を構成する元素としては、Si、Ti、Zn、Al、Ga、In、Ce、Bi、Sb、Zr、Sn及びTa等が挙げられるが、これらに限らない。本発明のハードコート剤は無機酸化物膜に酸化ケイ素を使用した場合に特に効果を発揮する。 Examples of elements constituting the inorganic oxide film include, but are not limited to, Si, Ti, Zn, Al, Ga, In, Ce, Bi, Sb, Zr, Sn, and Ta. The hard coating agent of the present invention is particularly effective when silicon oxide is used in the inorganic oxide film.

[無機酸化物膜付き基材の製造方法]
本発明の無機酸化物膜付き基材の製造方法は、特に限定されない。例えば、(1)基材の表面(基材が例えばフィルム状のものであれば片面又は両面)に本発明のハードコート剤を塗布し、(2)該基材に熱を加えた後、(3)更に活性エネルギー線を照射することにより硬化させてハードコート層を形成する工程を経て積層体を製造する。(4)ハードコート層上に無機酸化物膜を形成する工程を経て製造する態様が挙げられる。
すなわち工程(1)~(3)により、基材と、本発明のハードコート層を有する積層体を製造し、該積層体のハードコート層上に無機酸化物膜を形成する無機酸化物膜付き基材の製造方法であることが好ましい。
本発明のハードコート層は、耐擦傷性が高いため、無機酸化物膜付き基材製造工程や加工工程等におけるハードコート層の傷付きを防ぐことが可能である。
[Method for manufacturing base material with inorganic oxide film]
The method for producing the inorganic oxide film-coated base material of the present invention is not particularly limited. For example, (1) the hard coating agent of the present invention is applied to the surface of the substrate (for example, on one or both sides if the substrate is in the form of a film), (2) after applying heat to the substrate, ( 3) A laminate is manufactured through a step of further curing by irradiating active energy rays to form a hard coat layer. (4) An embodiment in which the product is manufactured through a step of forming an inorganic oxide film on the hard coat layer is mentioned.
That is, by steps (1) to (3), a laminate having a base material and a hard coat layer of the present invention is manufactured, and an inorganic oxide film is formed on the hard coat layer of the laminate. Preferably, the method is a method for manufacturing a base material.
Since the hard coat layer of the present invention has high scratch resistance, it is possible to prevent the hard coat layer from being scratched during the manufacturing process of the inorganic oxide film-coated substrate, the processing process, and the like.

工程(1)に関し、基材の表面(基材が例えばフィルム状のものであれば片面又は両面)にハードコート剤を塗布する条件は、特に限定されず、塗布手段としては、例えば、スプレー、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター及びドットコーター等が挙げられる。また、塗工量も特に限定されないが、通常、乾燥不揮発分として0.01~10g/m程度である。 Regarding step (1), the conditions for applying the hard coat agent to the surface of the substrate (on one side or both sides if the substrate is in the form of a film, for example) are not particularly limited, and the application means include, for example, spraying, Examples include a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a knife coater, a bar coater, and a dot coater. Further, the coating amount is not particularly limited, but is usually about 0.01 to 10 g/m 2 as dry nonvolatile content.

工程(2)に関し、該基材に熱を加える際の条件も特に限定されないが、通常、温度80~150℃程度で、時間が10秒~2分程度である。 Regarding step (2), the conditions for applying heat to the base material are not particularly limited, but usually the temperature is about 80 to 150°C and the time is about 10 seconds to 2 minutes.

工程(3)に関し、活性エネルギー線を照射する際の条件も特に限定されない。活性エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線が挙げられる。紫外線の供給源としては例えば高圧水銀灯やメタルハライドランプ等が挙げられ、その照射エネルギーは通常100~2,000mJ/cm程度である。電子線の供給方式としては例えばスキャン式電子線照射、カーテン式電子線照射法等が挙げられ、その照射エネルギーは通常10~200kGy程度である。 Regarding step (3), the conditions for irradiating active energy rays are not particularly limited. Examples of active energy rays include ultraviolet rays and electron beams. Examples of sources of ultraviolet rays include high-pressure mercury lamps and metal halide lamps, and the irradiation energy thereof is usually about 100 to 2,000 mJ/cm 2 . Examples of electron beam supply methods include scanning electron beam irradiation and curtain electron beam irradiation, and the irradiation energy is usually about 10 to 200 kGy.

工程(4)に関し、ハードコート層に無機酸化物膜を形成する手段は特に限定されないが、ドライコート法が好ましい。具体的には、例えば、真空蒸着法又はスパッタリング法等の物理的方法や、CVD等の化学的方法(化学的気相反応等)が挙げられる。 Regarding step (4), the means for forming the inorganic oxide film on the hard coat layer is not particularly limited, but a dry coating method is preferred. Specifically, for example, a physical method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method, and a chemical method (chemical vapor phase reaction, etc.) such as CVD may be used.

また、無機酸化物膜付き基材を加飾用フィルムやアンテナフィルム、導電フィルム、フレキシブルプリント配線基板として使用する場合は、無機酸化物膜を回路パターン化してもよい。この場合の無機酸化物膜付き基材の製法方法も特に限定されず、例えば工程(1)~(4)により得られた無機酸化物膜付き基材の無機酸化物膜側に各種レジストを塗布し、回路パターンを描写した後でエッチング液(アルカリ溶液)に浸漬し、レジストを除去する方法が挙げられる。回路パターンの形状は細線状、ドット状、メッシュ状及び面状等、如何なる形態であってよい。 Furthermore, when the base material with an inorganic oxide film is used as a decorative film, an antenna film, a conductive film, or a flexible printed wiring board, the inorganic oxide film may be formed into a circuit pattern. In this case, the manufacturing method of the base material with an inorganic oxide film is not particularly limited, and for example, various resists are applied to the inorganic oxide film side of the base material with an inorganic oxide film obtained in steps (1) to (4). However, after drawing the circuit pattern, the resist is immersed in an etching solution (alkaline solution) to remove the resist. The shape of the circuit pattern may be any shape, such as a thin line shape, a dot shape, a mesh shape, or a planar shape.

以下、実施例及び比較例により、本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は、本発明の技術的範囲を何ら制限するものではない。なお、実施例で「部」とあるのは「質量部」を、「%」とあるのは「質量%」を意味する。
また、表中の配合量は、質量部であり、溶剤以外は、不揮発分換算値である。尚、表中の空欄は配合していないことを表す。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the following Examples do not limit the technical scope of the present invention. In the examples, "parts" means "parts by mass" and "%" means "% by mass."
Further, the blending amounts in the table are parts by mass, and values other than the solvent are nonvolatile content equivalent values. In addition, a blank column in the table indicates that it is not blended.

<(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)の製造>
(合成例1)(a1-1): 攪拌機、還流冷却器、窒素導入管、温度計、滴下漏斗を備えた4口フラスコに、アロニックスM305(東亞合成(株)製、分子量298のペンタエリスリトールトリアクリレート(PE-3A)67.5質量%と分子量352のペンタエリスリトールテトラアクリレート(PE-4A)32.5質量%とを含む、ペンタエリスリトールポリアクリレート)1325.6質量部 と、ネオスタンU-810(日東化成(株)製、錫触媒)0.1質量部を入れ、液温を50℃にした後、デスモジュールZ4470BA(住化コベストロ(株)製、不揮発分に対して分子量667のイソホロンジイソシアネート(IPDI)トリマーを85.8質量%含む、NCO含有率11.9%、不揮発分70質量%(揮発分酢酸ブチル)のヌレート環を有するポリイソシアネート)1109.8質量部を滴下漏斗から30分間かけて滴下した。
昇温が治まった後、80℃ に昇温し3時間反応させ、FT-IR上でイソシアネート基のピークが無くなったことを確認後、室温まで温度を下げ、不揮発分中、重量平均分子量1600のアクリロイル基を9個有するウレタンアクリレート(a1-1)74.3質量%、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PE-4A)(a2-1)20.5質量%、及び(メタ)アクリロイル基を有さないその他化合物(e-1)5.2質量%を含む、不揮発分86.3質量%の溶液を得た。
<Production of compound (a1) having 6 or more (meth)acryloyl groups and having a nurate ring skeleton>
(Synthesis Example 1) (a1-1): In a 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel, add Aronix M305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., pentaerythritol trifluoride having a molecular weight of 298). 1325.6 parts by mass of pentaerythritol polyacrylate) containing 67.5% by mass of acrylate (PE-3A) and 32.5% by mass of pentaerythritol tetraacrylate (PE-4A) having a molecular weight of 352, and neostane U-810 ( After adding 0.1 part by mass of tin catalyst (manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) and bringing the liquid temperature to 50°C, add Desmodur Z4470BA (manufactured by Sumika Covestro Co., Ltd., isophorone diisocyanate (manufactured by Sumika Covestro Co., Ltd., with a molecular weight of 667 relative to the nonvolatile content). IPDI) 1109.8 parts by mass of polyisocyanate containing 85.8% by mass of trimer, NCO content 11.9%, non-volatile content 70% by mass (volatile component butyl acetate) having nurate rings was added from the dropping funnel for 30 minutes. dripped.
After the temperature rise subsided, the temperature was raised to 80°C and reacted for 3 hours. After confirming that the peak of isocyanate groups disappeared on FT-IR, the temperature was lowered to room temperature and the non-volatile components had a weight average molecular weight of 1600. 74.3% by mass of urethane acrylate (a1-1) having 9 acryloyl groups, 20.5% by mass of pentaerythritol tetraacrylate (PE-4A) (a2-1), and others without (meth)acryloyl groups A solution containing 5.2% by mass of compound (e-1) and a nonvolatile content of 86.3% by mass was obtained.

(合成例2)(a1-2): 攪拌機、還流冷却器、窒素導入管、温度計、滴下漏斗を備えた4 口フラスコに、アロニックスM305(東亞合成(株)製、分子量298のペンタエリスリトールトリアクリレート(PE-3A)67.5質量%と分子量352のペンタエリスリトールテトラアクリレート(PE-4A)32.5質量%とを含む、ペンタエリスリトールポリアクリレート)1325.6質量部 と、ネオスタンU-810(日東化成(株)製、錫触媒)0.1質量部 を入れ、液温を50℃ にした後、デュラネートTPA-100(旭化成(株)製、不揮発分に対して分子量505のヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)トリマーを88.3質量%含む、NCO含有率23.1%、不揮発分100質量%(揮発分酢酸ブチル)のヌレート環を有するポリイソシアネート)571.7質量部を滴下漏斗から30分間かけて滴下した。
昇温が治まった後、80℃ に昇温し3時間反応させ、FT-IR上でイソシアネート基のピークが無くなったことを確認後、室温まで温度を下げ、不揮発分中、重量平均分子量1400のアクリロイル基を9個有するウレタンアクリレート(a1-2)73.8質量%、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PE-4A:)(a2-1)22.7質量%、及び(メタ)アクリロイル基を有さないその他化合物(e-2)3.5質量%を含む、不揮発分100質量%の混合物を得た。
(Synthesis Example 2) (a1-2): In a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel, add Aronix M305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., pentaerythritol trichloride with a molecular weight of 298). 1325.6 parts by mass of pentaerythritol polyacrylate) containing 67.5% by mass of acrylate (PE-3A) and 32.5% by mass of pentaerythritol tetraacrylate (PE-4A) having a molecular weight of 352, and neostane U-810 ( After adding 0.1 part by mass of tin catalyst (manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) and bringing the liquid temperature to 50°C, add Duranate TPA-100 (manufactured by Asahi Kasei Corp., hexamethylene diisocyanate (manufactured by Asahi Kasei Corporation) with a molecular weight of 505 based on the non-volatile content). HDI) 571.7 parts by mass of polyisocyanate containing 88.3% by mass of trimer, 23.1% NCO content and nurate rings with 100% by mass of non-volatile content (volatile content: butyl acetate) was added from the dropping funnel for 30 minutes. dripped.
After the temperature rise subsided, the temperature was raised to 80°C and reacted for 3 hours. After confirming that the peak of isocyanate groups disappeared on FT-IR, the temperature was lowered to room temperature and the non-volatile components had a weight average molecular weight of 1400. 73.8% by mass of urethane acrylate (a1-2) having 9 acryloyl groups, 22.7% by mass of pentaerythritol tetraacrylate (PE-4A:) (a2-1), and no (meth)acryloyl group A mixture containing 3.5% by mass of other compound (e-2) and a nonvolatile content of 100% by mass was obtained.

(合成例3)(a1-3): 攪拌機、還流冷却器、窒素導入管、温度計、滴下漏斗を備えた4 口フラスコに、
デスモジュールZ4470BA(住化コベストロ(株)製、不揮発分に対して分子量667のイソホロンジイソシアネート(IPDI)トリマーを85.8質量%含む、NCO含有率11.9%、不揮発分70質量%(揮発分酢酸ブチル)のヌレート環を有するポリイソシアネート)4439.0質量部と、シクロヘキシルジメタノール((株)製、分子量144、水酸基価389mgKOH/g)432.6質量部と、ネオスタンU-810(日東化成(株)製、錫触媒)0.1質量部を入れ、80℃ に昇温して3時間反応させ、FT -IR上でイソシアネート基のピークが5割になったことを確認後、4-ヒドロキシブチルアクリレート(分子量144、水酸基価389mgKOH/g)865.0質量部を入れ、さらに、80℃ で3時間反応させ、FT-IR上でイソシアネート基のピークが無くなったことを確認後、室温まで温度を下げ、不揮発分中、重量平均分子量4000のアクリロイル基を6個有するウレタンアクリレート(a1-3)90.0質量%、及び(メタ)アクリロイル基を有さないその他化合物(e-3)10.0質量%を含む、不揮発分76.8質量%の溶液を得た。
(Synthesis Example 3) (a1-3): In a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen introduction tube, thermometer, and dropping funnel,
Desmodur Z4470BA (manufactured by Sumika Covestro Co., Ltd., contains 85.8% by mass of isophorone diisocyanate (IPDI) trimer with a molecular weight of 667 based on nonvolatile content, NCO content 11.9%, nonvolatile content 70% by mass (volatile content) 4439.0 parts by mass of polyisocyanate having a nurate ring (butyl acetate), 432.6 parts by mass of cyclohexyl dimethanol (manufactured by Co., Ltd., molecular weight 144, hydroxyl value 389 mgKOH/g), Neostan U-810 (Nitto Kasei) Co., Ltd., tin catalyst) was added, the temperature was raised to 80°C, and the reaction was carried out for 3 hours. After confirming that the peak of isocyanate groups was 50% on FT-IR, 4- Add 865.0 parts by mass of hydroxybutyl acrylate (molecular weight 144, hydroxyl value 389 mgKOH/g), further react at 80°C for 3 hours, and after confirming that the isocyanate group peak has disappeared on FT-IR, heat to room temperature. Lower the temperature, and in the nonvolatile matter, 90.0% by mass of urethane acrylate (a1-3) having 6 acryloyl groups with a weight average molecular weight of 4000, and other compounds (e-3) having no (meth)acryloyl groups 10 A solution with a non-volatile content of 76.8% by weight was obtained, containing .0% by weight.

表1、2の略号の詳細は、以下のとおりである。
<化合物(A)>
a2-1:合成例1又は合成例2で得られる混合物に含まれるペンタエリスリトールテトラアクリレート(PE-4A)(官能基数:4個、アクロイル基当量:88)
a2-2:アロニックスM-403(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(官能基数:6個、アクリロイル基当量:96):40~50%とジペンタエリスリトールペンタアクリレート(官能基数:5個、アクリロイル基当量:105):50~60%との混合物;東亞合成社製)
a3-1:Miramer PU610(ウレタンアクリレート、重量平均分子量:1800、官能基数:6個、アクリロイル基:当量300、MIWON社製)
a3-2:アロニックスM315(イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート(官能基数:2個、アクリロイル基:当量185)8%とイソシアヌル酸EO変性トリアクリレート(官能基数:3個、アクリロイル基:当量141)92%との混合物;東亞合成(株)製)
a4:ビスコート#230(1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、大阪有機化学工業社製)
Details of the abbreviations in Tables 1 and 2 are as follows.
<Compound (A)>
a2-1: Pentaerythritol tetraacrylate (PE-4A) contained in the mixture obtained in Synthesis Example 1 or Synthesis Example 2 (number of functional groups: 4, acroyl group equivalent: 88)
a2-2: Aronix M-403 (dipentaerythritol hexaacrylate (number of functional groups: 6, acryloyl group equivalent: 96): 40 to 50% and dipentaerythritol pentaacrylate (number of functional groups: 5, acryloyl group equivalent: 105) ): 50-60% mixture; manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
a3-1: Miramer PU610 (urethane acrylate, weight average molecular weight: 1800, number of functional groups: 6, acryloyl group: equivalent weight 300, manufactured by MIWON)
a3-2: Aronix M315 (isocyanuric acid EO modified diacrylate (number of functional groups: 2, acryloyl group: equivalent weight 185) 8% and isocyanuric acid EO modified triacrylate (number of functional groups: 3, acryloyl group: equivalent weight 141) 92% (Mixture with Toagosei Co., Ltd.)
a4: Viscoat #230 (1,6-hexanediol diacrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)

<化合物(B)>
b1-1:MAC-SQ HDM(メタアクリロイル基を有する。不揮発分濃度50%のプロピレングリコールモノブチルエーテル溶液、東亜合成社製)
b1-2:AC-SQ SI20(アクリロイル基を有する。東亜合成社製)
b2:SR-13((メタ)アクリロイル基を有さないシルセスキオキサン。小西化学工業製)
<光重合開始剤(C)>
・Esacure One(エサキュアワン、アセトフェノン系光重合開始剤 DKSHジャパン(株)社製)
<その他成分>
x-1:PGM-AC-2140Y(表面がアクリレートで修飾されたシリカ微粒子、日産化学(株)社製)
<Compound (B)>
b1-1: MAC-SQ HDM (having a methacryloyl group. Propylene glycol monobutyl ether solution with a non-volatile concentration of 50%, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
b1-2: AC-SQ SI20 (has an acryloyl group. Manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
b2: SR-13 (silsesquioxane without (meth)acryloyl group. Manufactured by Konishi Chemical Industry)
<Photopolymerization initiator (C)>
・Esacure One (acetophenone photopolymerization initiator manufactured by DKSH Japan Co., Ltd.)
<Other ingredients>
x-1: PGM-AC-2140Y (Silica fine particles whose surface is modified with acrylate, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.)

[実施例1]
≪ハードコート剤の調製≫
攪拌機付きフラスコに、不揮発分換算で化合物(a1-1)が45部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(a2-1)が12.4部、その他化合物(e-1)が3.1部となるように、合成例1で得られた溶液を加え、さらに化合物(a2-2)としてアロニックスM-403(東亞合成社製)を32.6部、化合物(B)としてMAC-SQ HDM(東亜合成社製)10部、及び光重合開始剤(C)としてEsacure One(DKSHジャパン(株)社製)5部をよく混合し、有機溶剤としてメチルエチルケトンを不揮発分濃度60%となるように調整してハードコート剤を得た。
≪ハードコート層及び積層体の作製≫
上記で得られたハードコート剤を、80μm厚のトリアセチルセルロース(TAC)フィルム上に、バーコーターを用いて、乾燥後の膜厚が15μmになるように塗工した後、高圧水銀ランプで500mJ/cmの紫外線を照射し、ハードコート層を形成し、積層体を作製した。
[Example 1]
≪Preparation of hard coating agent≫
In a flask with a stirrer, add 45 parts of compound (a1-1), 12.4 parts of pentaerythritol tetraacrylate (a2-1), and 3.1 parts of other compound (e-1) in terms of nonvolatile content. , the solution obtained in Synthesis Example 1 was added, and 32.6 parts of Aronix M-403 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was added as compound (a2-2), and MAC-SQ HDM (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was added as compound (B). ) and 5 parts of Esacure One (manufactured by DKSH Japan Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator (C) were thoroughly mixed, and methyl ethyl ketone was used as an organic solvent to adjust the nonvolatile content concentration to 60% to form a hard coat. obtained the drug.
<<Preparation of hard coat layer and laminate>>
The hard coating agent obtained above was coated on an 80 μm thick triacetyl cellulose (TAC) film using a bar coater so that the film thickness after drying was 15 μm, and then 500 mJ was applied using a high pressure mercury lamp. / cm2 ultraviolet rays were irradiated to form a hard coat layer to produce a laminate.

[実施例4]
攪拌機付きフラスコに、不揮発分換算で化合物(a1-2)が45部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(a2-1)が13.8部、その他成分(e-2)が2.1部となるように、合成例2で得られた溶液を加え、さらに化合物(a2-2)としてアロニックスM-403(東亞合成社製)を31.2部、化合物(B)としてMAC-SQ HDM(東亜合成社製)10部、及び光重合開始剤(C)としてEsacure One(DKSHジャパン(株)社製)5部をよく混合し、有機溶剤としてメチルエチルケトンを不揮発分濃度60%となるように調整してハードコート剤を得た。
また、実施例1と同様にして積層体を作製した。
[Example 4]
In a flask equipped with a stirrer, add 45 parts of compound (a1-2), 13.8 parts of pentaerythritol tetraacrylate (a2-1), and 2.1 parts of other components (e-2) in terms of nonvolatile content. , the solution obtained in Synthesis Example 2 was added, and 31.2 parts of Aronix M-403 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was added as compound (a2-2), and MAC-SQ HDM (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was added as compound (B). ) and 5 parts of Esacure One (manufactured by DKSH Japan Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator (C) were thoroughly mixed, and methyl ethyl ketone was used as an organic solvent to adjust the nonvolatile content concentration to 60% to form a hard coat. obtained the drug.
Further, a laminate was produced in the same manner as in Example 1.

[実施例5]
攪拌機付きフラスコに、不揮発分換算で化合物(a1-3)が45部、その他成分(e-3)が5部となるように、合成例3で得られた溶液を加え、さらに化合物(a2-2)としてアロニックスM-403(東亞合成社製)を45部、化合物(B)としてMAC-SQ HDM(東亜合成社製)10部、及び光重合開始剤(C)としてEsacure One(DKSHジャパン(株)社製)5部をよく混合し、有機溶剤としてメチルエチルケトンを不揮発分濃度60%となるように調整してハードコート剤を得た。
また、実施例1と同様にして積層体を作製した。
[Example 5]
The solution obtained in Synthesis Example 3 was added to a flask equipped with a stirrer so that the amount of compound (a1-3) was 45 parts and the other component (e-3) was 5 parts in terms of nonvolatile content, and then compound (a2-3) was added to the flask with a stirrer. 2) 45 parts of Aronix M-403 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 10 parts of MAC-SQ HDM (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) as the compound (B), and Esacure One (DKSH Japan (manufactured by DKSH Japan) as the photopolymerization initiator (C). Co., Ltd.) were thoroughly mixed, and methyl ethyl ketone was used as an organic solvent to adjust the nonvolatile content concentration to 60% to obtain a hard coat agent.
Further, a laminate was produced in the same manner as in Example 1.

[実施例2、3、6~24、比較例1]
各成分を表1、2に示す組成および配合量(不揮発分換算質量部)としたこと以外は、実施例1と同様にして、不揮発分濃度60%のハードコート剤をそれぞれ得た。
また、表1、2に示すフィルムおよび乾燥後の膜厚としたこと以外は実施例1と同様にして、積層体を作製した。
[Examples 2, 3, 6 to 24, Comparative Example 1]
A hard coat agent having a nonvolatile content concentration of 60% was obtained in the same manner as in Example 1, except that each component had the composition and blending amount (parts by mass in terms of nonvolatile content) shown in Tables 1 and 2.
Further, a laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the films and the film thicknesses after drying were as shown in Tables 1 and 2.

[比較例2~5]
各成分を表2に示す組成で配合してよく混合し、有機溶剤としてメチルエチルケトンを不揮発分濃度60%となるように調整してハードコート剤を得た。
また、実施例1と同様にして積層体を作製した。
[Comparative Examples 2 to 5]
Each component was blended in the composition shown in Table 2, mixed well, and methyl ethyl ketone was used as an organic solvent to adjust the nonvolatile content concentration to 60% to obtain a hard coat agent.
Further, a laminate was produced in the same manner as in Example 1.

≪HZ[%];ヘイズ値の測定≫
上記作製した積層体について、日本電色工業社製「ヘイズメーターSH7000」によりハードコート層表面のヘイズ値(HZ)を測定した。1.5%未満であれば実用上問題はない。
[評価基準]
・1.0%未満:非常に良好
・1.0以上1.5%未満:実用上問題なし
・1.5%以上:実用不可
≪HZ [%]; Measurement of haze value≫
Regarding the laminate produced above, the haze value (HZ) of the surface of the hard coat layer was measured using "Hazemeter SH7000" manufactured by Nippon Denshoku Industries. There is no practical problem if it is less than 1.5%.
[Evaluation criteria]
・Less than 1.0%: Very good ・1.0 or more and less than 1.5%: No practical problem
・1.5% or more: Not practical

≪鉛筆硬度≫
作製した積層体について、JIS K5600-5-4に準じ、各種硬度の鉛筆を45゜の角度で積層体のハードコート層の表面にあて、荷重をかけて引っ掻き試験を行い、傷がつかない最も硬い鉛筆の硬さを鉛筆硬度とした。
鉛筆硬度は硬いほうが良好であり、5H以上であれば実用上問題なく使用できる。4H以下であると、打痕跡等の欠陥が発生する恐れがあり、実用不可である。
≪Pencil hardness≫
The produced laminate was subjected to a scratch test in accordance with JIS K5600-5-4 by applying a pencil of various hardness to the surface of the hard coat layer of the laminate at an angle of 45° and applying a load. The hardness of a hard pencil was defined as pencil hardness.
The harder the pencil hardness is, the better it is, and if it is 5H or higher, it can be used practically without any problems. If it is less than 4H, defects such as dent marks may occur, making it impractical.

≪耐擦傷性≫
作製した積層体について、テスター産業社製「学振型摩擦堅牢度試験機」により耐擦傷性を評価した。荷重1000gを取り付けた摩擦子(表面積1cm)にスチールウール#0000を取り付け、ハードコート層の表面(1cm×15cm)を10往復させた。その後、ハードコート層の表面のキズの本数を数え、下記基準で評価した。傷の数は少ないほうが良好であり、10本以下であれば実用上問題なく使用できる。
[評価基準]
・3:傷なし(0本):非常に良好
・2:傷1本以上10本以下:実用上問題なし
・1:傷11本以上:実用不可
≪Abrasion resistance≫
The produced laminate was evaluated for scratch resistance using a "Gakushin type friction fastness tester" manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd. Steel wool #0000 was attached to a friction element (surface area 1 cm 2 ) to which a load of 1000 g was attached, and the surface of the hard coat layer (1 cm×15 cm) was moved back and forth 10 times. Thereafter, the number of scratches on the surface of the hard coat layer was counted and evaluated according to the following criteria. The fewer the number of scratches, the better; if the number is 10 or less, it can be used without any problem in practical use.
[Evaluation criteria]
・3: No scratches (0): Very good ・2: 1 to 10 scratches: No practical problem ・1: 11 or more scratches: Not practical

≪カール性≫
作製した積層体について、以下に記載する方法によりカール性を評価した。積層体を10cm×10cmに切り出し、4隅の浮き具合の平均高さを算出した。
[評価基準]
・3:5mm未満:非常に良好
・2:5mm以上10mm未満:実用上問題なし
・1:10mm以上:実用不可
≪Curling property≫
The curling properties of the produced laminates were evaluated by the method described below. The laminate was cut into a size of 10 cm x 10 cm, and the average height of the four corners was calculated.
[Evaluation criteria]
・3: Less than 5 mm: Very good ・2: 5 mm or more and less than 10 mm: No practical problem ・1: 10 mm or more: Not practical

<無機酸化物膜付き基材の作製>
上記で作製した実施例1~24、比較例1~5のハードコート層上に、真空デバイス社製「マグトロンスパッタMSP-30T」により酸化ケイ素をそれぞれ厚さ0.01μm、0.1μm及び0.5μmになるようにスパッタリングして酸化ケイ素膜を形成し、無機酸化物膜付き基材をそれぞれ作製した。
<Preparation of base material with inorganic oxide film>
On the hard coat layers of Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 5 prepared above, silicon oxide was applied to a thickness of 0.01 μm, 0.1 μm, and 0.1 μm, respectively, using “Magtron Sputter MSP-30T” manufactured by Vacuum Devices. A silicon oxide film was formed by sputtering to a thickness of .5 μm, and a base material with an inorganic oxide film was produced.

≪無機酸化物膜の密着性≫
酸化ケイ素膜とハードコート層との密着性は、作製した無機酸化物膜付き基材の酸化ケイ素膜に1mmの間隔で碁盤目状にカッターで傷を付け、100マスの格子パターンを形成した後、碁盤目状の傷全体を覆うようにセロハンテープを付着させ、引きはがし、酸化ケイ素膜の剥離状態を目視で観察し、以下の基準で評価した。剥がれがないほど良好であり、評価基準の3以上であれば実用上問題なく使用できる。
[評価基準]
・4:傷の線の周囲が完全に滑らかで、どの格子にも剥がれがない。:非常に良好
・3:傷の交点周囲に酸化ケイ素膜の小さな剥がれが観察されるが、剥がれた面積の合計は碁盤目の5%未満。:良好
・2:傷の縁方向に沿って酸化ケイ素膜が剥がれたり、傷の交差点で酸化ケイ素膜が剥がれたりしており、剥がれた面積の合計が碁盤目の5%以上15%未満。:実用上問題なし
・1:剥がれた面積の合計が碁盤目の15%以上。:実用不可
≪Adhesion of inorganic oxide film≫
The adhesion between the silicon oxide film and the hard coat layer was determined after making scratches with a cutter in a checkerboard pattern at 1 mm intervals on the silicon oxide film of the base material with the inorganic oxide film to form a 100-square grid pattern. A cellophane tape was attached so as to cover the entire checkerboard-shaped scratches, and then peeled off.The state of peeling of the silicon oxide film was visually observed and evaluated according to the following criteria. The less peeling, the better, and if it is 3 or higher according to the evaluation criteria, it can be used practically without any problems.
[Evaluation criteria]
・4: The area around the scratch line is completely smooth, and there is no peeling on any of the grids. : Very good ・3: Small peeling of the silicon oxide film is observed around the intersection of scratches, but the total peeled area is less than 5% of the grid. : Good ・2: The silicon oxide film is peeled off along the edge direction of the scratch, or the silicon oxide film is peeled off at the intersection of the scratches, and the total peeled area is 5% or more and less than 15% of the grid. : No practical problem. ・1: Total peeled area is 15% or more of the grid. :Not practical

表1、2に示す通り、本発明のハードコート剤を用いることで、形成したハードコート層と無機酸化物膜との密着性および耐擦傷性の両立が可能であり、さらに透明性、硬度、カール性にも優れていることが確認できた。これにより、得られる無機酸化物膜付き基材は、基材と無機酸化物膜との密着性、透明性、硬度、およびカール性にも優れたものであることがわかる。
As shown in Tables 1 and 2, by using the hard coat agent of the present invention, it is possible to achieve both adhesion and scratch resistance between the formed hard coat layer and the inorganic oxide film, as well as transparency, hardness, It was confirmed that the curling property was also excellent. This shows that the obtained base material with an inorganic oxide film has excellent adhesion between the base material and the inorganic oxide film, transparency, hardness, and curling property.

Claims (6)

基材と、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)とをこの順に備えた無機酸化物膜付き基材における、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性ハードコート剤であって、
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)(ただし、化合物(B)を除く)と、シルセスキオキサン骨格を有する化合物(B)と、光重合開始剤(C)とを含み、
前記化合物(A)が、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)(ただし(a2)を除く)および(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。
Active energy ray curability for forming a hard coat layer in a base material with an inorganic oxide film comprising a base material, a hard coat layer, and an inorganic oxide film (excluding a transparent conductive film) in this order A hard coating agent,
A compound (A) having a (meth)acryloyl group (excluding the compound (B)), a compound (B) having a silsesquioxane skeleton, and a photopolymerization initiator (C),
The compound (A) has 6 or more (meth)acryloyl groups and a compound (a1) (excluding (a2)) having a nurate ring skeleton and 3 or more (meth)acryloyl groups, An active energy ray-curable hard coating agent comprising a compound (a2) having a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less.
前記化合物(B)は、シルセスキオキサン骨格及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b1)を含む、請求項1記載の活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。 The active energy ray-curable hard coating agent according to claim 1, wherein the compound (B) includes a compound (b1) having a silsesquioxane skeleton and a (meth)acryloyl group. 前記化合物(B)の含有率は、活性エネルギー線硬化性ハードコート剤の化合物(A)、化合物(B)、光重合開始剤(C)の合計100質量%中、1~30質量%である、請求項1記載の活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。 The content of the compound (B) is 1 to 30% by mass in the total of 100% by mass of the active energy ray-curable hard coating agent, compound (A), compound (B), and photopolymerization initiator (C). , the active energy ray-curable hard coating agent according to claim 1. 基材と、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)とをこの順に備えた無機酸化物膜付き基材における、ハードコート層であって、
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)(ただし、化合物(B)を除く)と、シルセスキオキサン骨格を有する化合物(B)と、を含み、
前記化合物(A)が、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)(ただし(a2)を除く)および(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)を含むことを特徴とするハードコート層。
A hard coat layer in a base material with an inorganic oxide film comprising a base material, a hard coat layer, and an inorganic oxide film (excluding a transparent conductive film) in this order,
A compound (A) having a (meth)acryloyl group (excluding the compound (B)) and a compound (B) having a silsesquioxane skeleton,
The compound (A) has 6 or more (meth)acryloyl groups and a compound (a1) (excluding (a2)) having a nurate ring skeleton and 3 or more (meth)acryloyl groups, A hard coat layer comprising a compound (a2) having a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less.
膜厚が100μm以下である基材と、請求項4記載のハードコート層を有する積層体。 A laminate comprising a base material having a thickness of 100 μm or less and a hard coat layer according to claim 4. 基材と、ハードコート層と、無機酸化物膜(ただし、透明導電膜を除く)とをこの順に備えた無機酸化物膜付き基材であって、
前記ハードコート層が、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)(ただし、化合物(B)を除く)と、シルセスキオキサン骨格を有する化合物(B)とを含み、
前記化合物(A)が、(メタ)アクリロイル基を6個以上有し、かつヌレート環骨格を有する化合物(a1)(ただし(a2)を除く)および(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、(メタ)アクリロイル基当量が115以下である化合物(a2)を含むことを特徴とする無機酸化物膜付き基材。
A base material with an inorganic oxide film comprising a base material, a hard coat layer, and an inorganic oxide film (excluding a transparent conductive film) in this order,
The hard coat layer contains a compound (A) having a (meth)acryloyl group (excluding the compound (B)) and a compound (B) having a silsesquioxane skeleton,
The compound (A) has 6 or more (meth)acryloyl groups and a compound (a1) (excluding (a2)) having a nurate ring skeleton and 3 or more (meth)acryloyl groups, A base material with an inorganic oxide film, comprising a compound (a2) having a (meth)acryloyl group equivalent of 115 or less.
JP2022090315A 2022-06-02 2022-06-02 Active energy ray-curable hard coating agents, hard coating layers, laminates, and substrates with inorganic oxide films Active JP7214946B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022090315A JP7214946B1 (en) 2022-06-02 2022-06-02 Active energy ray-curable hard coating agents, hard coating layers, laminates, and substrates with inorganic oxide films
KR1020230066979A KR20230167708A (en) 2022-06-02 2023-05-24 Active energy beam curable hard coating agent, hard coating layer, laminate, and substrate with inorganic oxide film
CN202310600710.7A CN116589879A (en) 2022-06-02 2023-05-25 Active energy ray-curable hard coating agent, hard coating layer, laminate, and substrate with inorganic oxide film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022090315A JP7214946B1 (en) 2022-06-02 2022-06-02 Active energy ray-curable hard coating agents, hard coating layers, laminates, and substrates with inorganic oxide films

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP7214946B1 JP7214946B1 (en) 2023-01-31
JP2023177576A true JP2023177576A (en) 2023-12-14

Family

ID=85111640

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022090315A Active JP7214946B1 (en) 2022-06-02 2022-06-02 Active energy ray-curable hard coating agents, hard coating layers, laminates, and substrates with inorganic oxide films

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7214946B1 (en)
KR (1) KR20230167708A (en)
CN (1) CN116589879A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7338029B1 (en) * 2022-12-27 2023-09-04 東洋インキScホールディングス株式会社 An active energy ray-curable composition for forming a hard coat layer, a hard coat film using the same, and a laminate thereof.

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1110767A (en) * 1997-06-25 1999-01-19 Asahi Glass Co Ltd Transparently coated molding and its manufacture
JP2004002774A (en) * 2002-03-29 2004-01-08 Sanyo Chem Ind Ltd Radiation curable resin composition for cellulose acetate film
JP2010155892A (en) * 2008-12-26 2010-07-15 Arakawa Chem Ind Co Ltd Coating agent and metal laminate
JP2012130863A (en) * 2010-12-22 2012-07-12 Kansai Paint Co Ltd Multilayer coating film forming method and coated article
JP2013018848A (en) * 2011-07-09 2013-01-31 Kansai Paint Co Ltd Active energy ray-curable composition and coated article
JP2013035274A (en) * 2011-07-13 2013-02-21 Kansai Paint Co Ltd Laminate and method of manufacturing the same
JP2015199946A (en) * 2014-03-31 2015-11-12 荒川化学工業株式会社 Undercoat agent for substrate with copper thin film, substrate with copper thin film and manufacturing method thereof, conductive film, and electrode film
JP2016069653A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 荒川化学工業株式会社 Undercoating agent for substrate with copper thin film, substrate with copper thin film, method for producing substrate with copper thin film and conductive film
JP2018150522A (en) * 2017-03-13 2018-09-27 三洋化成工業株式会社 Photocurable resin composition
JP7136299B1 (en) * 2021-09-21 2022-09-13 東洋インキScホールディングス株式会社 Active energy ray-curable undercoating agent, undercoating layer, laminate, and substrate with metal film

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014125976A1 (en) * 2013-02-12 2017-02-02 新日鉄住金化学株式会社 Resin laminate
JP6354665B2 (en) * 2014-06-23 2018-07-11 信越化学工業株式会社 Photocurable coating composition and coated article
KR102289082B1 (en) * 2014-08-13 2021-08-13 에스케이이노베이션 주식회사 Composition for making hard coating layer
JP6284068B1 (en) * 2017-05-16 2018-02-28 東洋インキScホールディングス株式会社 Active energy ray-curable composition and index matching layer and laminate using the same
WO2019146659A1 (en) * 2018-01-24 2019-08-01 株式会社ダイセル Resin composition for forming hard coating layer
CN112442292A (en) * 2019-08-28 2021-03-05 荒川化学工业株式会社 Active energy ray-curable antiglare hard coating agent, cured film, and laminated film

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1110767A (en) * 1997-06-25 1999-01-19 Asahi Glass Co Ltd Transparently coated molding and its manufacture
JP2004002774A (en) * 2002-03-29 2004-01-08 Sanyo Chem Ind Ltd Radiation curable resin composition for cellulose acetate film
JP2010155892A (en) * 2008-12-26 2010-07-15 Arakawa Chem Ind Co Ltd Coating agent and metal laminate
JP2012130863A (en) * 2010-12-22 2012-07-12 Kansai Paint Co Ltd Multilayer coating film forming method and coated article
JP2013018848A (en) * 2011-07-09 2013-01-31 Kansai Paint Co Ltd Active energy ray-curable composition and coated article
JP2013035274A (en) * 2011-07-13 2013-02-21 Kansai Paint Co Ltd Laminate and method of manufacturing the same
JP2015199946A (en) * 2014-03-31 2015-11-12 荒川化学工業株式会社 Undercoat agent for substrate with copper thin film, substrate with copper thin film and manufacturing method thereof, conductive film, and electrode film
JP2016069653A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 荒川化学工業株式会社 Undercoating agent for substrate with copper thin film, substrate with copper thin film, method for producing substrate with copper thin film and conductive film
JP2018150522A (en) * 2017-03-13 2018-09-27 三洋化成工業株式会社 Photocurable resin composition
JP7136299B1 (en) * 2021-09-21 2022-09-13 東洋インキScホールディングス株式会社 Active energy ray-curable undercoating agent, undercoating layer, laminate, and substrate with metal film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230167708A (en) 2023-12-11
JP7214946B1 (en) 2023-01-31
CN116589879A (en) 2023-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1948748B1 (en) Low viscosity multi-functional urethane acrylate oligomer-containing high solid uv curable coating compostion
JP5382277B2 (en) Active energy ray-curable resin composition, adhesive and laminated film
JP6168313B2 (en) Undercoat agent for substrate with copper thin film, substrate with copper thin film and method for producing the same, and conductive film and electrode film
WO2010146801A1 (en) Urethane (meth)acrylate compound and resin composition containing same
KR101866753B1 (en) Non-aqueous undercoat agent for a plastic film with a cured thin film which is set by the radiation of actinic-energy-ray, and a plastic film with a cured thin film which is set by the radiation of actinic-energy-ray
JP5561517B2 (en) Active energy ray-curable oligomer, active energy ray-curable resin composition, cured film, and plastic film.
JP7214946B1 (en) Active energy ray-curable hard coating agents, hard coating layers, laminates, and substrates with inorganic oxide films
JP6904047B2 (en) An active energy ray-curable adhesive composition and an adhesive composition for an acrylic resin member using the same.
JP7283591B2 (en) Active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition, cured product and laminate
JP6861018B2 (en) Active energy ray-curable composition for optical articles and optical articles using the same
JP6699132B2 (en) Photocurable composition, laminated body using the same, and light guide plate
CN109096469B (en) Urethane (meth) acrylate, active energy ray-curable resin composition, cured product, and protective film
JP5812328B2 (en) Active energy ray-curable resin composition and film using the same
JP6578692B2 (en) Active energy ray-curable resin composition and coating agent using the same
JP2017179368A (en) Active energy ray curable composition and coating film
JP2010241917A (en) Resin composition
JP6780256B2 (en) Active energy ray-curable resin composition
JP7292596B1 (en) Coating composition and laminate
JP2021155724A (en) Active energy ray-curable pressure sensitive adhesive composition, adhesive layer and laminate
JP7220856B1 (en) Coating composition and laminate
JP7431398B1 (en) Active energy ray-curable composition and laminate
JP7200817B2 (en) Active energy ray-curable compound, release agent, active energy ray-curable release coating composition, and release film
JP7461239B2 (en) Urethane (meth)acrylate composition, active energy ray-curable composition, and cured product thereof
JP5893493B2 (en) Hard coat composition for thin film
JP7087466B2 (en) Method for manufacturing resin laminate and resin laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220701

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20220701

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221004

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221013

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221220

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20221223

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221223

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20221223

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7214946

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151