JP2023177443A - Grinding method for work-piece - Google Patents
Grinding method for work-piece Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023177443A JP2023177443A JP2022090120A JP2022090120A JP2023177443A JP 2023177443 A JP2023177443 A JP 2023177443A JP 2022090120 A JP2022090120 A JP 2022090120A JP 2022090120 A JP2022090120 A JP 2022090120A JP 2023177443 A JP2023177443 A JP 2023177443A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- grinding
- chuck table
- preliminary
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
本発明は、被加工物の一方の面側を研削することによって、円状の底面を有する凹部を形成する被加工物の研削方法に関する。 The present invention relates to a method for grinding a workpiece, which forms a recessed portion having a circular bottom surface by grinding one side of the workpiece.
IC(Integrated Circuit)等のデバイスのチップは、携帯電話及びパーソナルコンピュータ等の各種電子機器において不可欠の構成要素である。このようなチップは、例えば、表面側に複数のデバイスが形成されているウェーハ等の円板状の被加工物を個々のデバイスを含む領域毎に分割することで製造される。 2. Description of the Related Art Device chips such as ICs (Integrated Circuits) are essential components in various electronic devices such as mobile phones and personal computers. Such chips are manufactured, for example, by dividing a disk-shaped workpiece, such as a wafer, on which a plurality of devices are formed on the front surface into regions each including individual devices.
この被加工物は、製造されるチップの小型化を目的として、その分割に先立って薄化されることがある。被加工物を薄化する方法としては、例えば、被加工物を保持するチャックテーブルと、環状に離散して配置されている複数の研削砥石を有する研削ホイールとを備える研削装置における研削が挙げられる。この研削は、一般的に、以下の順序で行われる。 This workpiece may be thinned prior to its division in order to reduce the size of manufactured chips. Examples of methods for thinning the workpiece include grinding using a grinding device that includes a chuck table that holds the workpiece and a grinding wheel that has a plurality of grinding wheels that are arranged discretely in an annular shape. . This grinding is generally performed in the following order.
まず、被加工物の裏面が露出されるようにチャックテーブルによって被加工物の表面側を保持する。次いで、被加工物の半径よりも長い外径を有する研削ホイールとチャックテーブルとの双方を回転させながら、複数の研削砥石のいずれかと被加工物の裏面の中心とを接触させる。次いで、研削ホイールとチャックテーブルとの双方を回転させたまま、複数の研削砥石を被加工物の表面に近づける。 First, the front side of the workpiece is held by a chuck table so that the back side of the workpiece is exposed. Next, while rotating both the grinding wheel and the chuck table, which have an outer diameter longer than the radius of the workpiece, one of the plurality of grinding wheels is brought into contact with the center of the back surface of the workpiece. Next, the plurality of grinding wheels are brought close to the surface of the workpiece while both the grinding wheel and the chuck table are kept rotating.
これにより、被加工物の裏面側が研削されて被加工物が薄化される。ただし、被加工物を薄くすると被加工物の剛性が低くなり、その後の工程における被加工物の取り扱いが困難になるおそれがある。そこで、被加工物のうち複数のデバイスと重なる部分のみを薄化するように被加工物を研削する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 As a result, the back side of the workpiece is ground and the workpiece is thinned. However, if the workpiece is made thinner, the rigidity of the workpiece decreases, which may make it difficult to handle the workpiece in subsequent steps. Therefore, a method has been proposed in which a workpiece is ground so as to thin only the portion of the workpiece that overlaps with a plurality of devices (see, for example, Patent Document 1).
この方法においては、被加工物の半径よりも短い外径を有する研削ホイールを用いて上述のとおり被加工物の裏面側を研削することによって、被加工物の外周部を残存させるとともに、円状の底面を有する凹部を被加工物の裏面に形成する。これにより、被加工物の剛性の低下が抑制され、その後の工程における被加工物の取り扱いが容易になる。 In this method, by grinding the back side of the workpiece as described above using a grinding wheel having an outer diameter shorter than the radius of the workpiece, the outer circumference of the workpiece remains and a circular shape is formed. A recess having a bottom surface of is formed on the back surface of the workpiece. This suppresses a decrease in the rigidity of the workpiece, making it easier to handle the workpiece in subsequent steps.
上述した方法においては、被加工物の裏面の中心と凹部の底面の中心とが一致するように凹部が形成されることが好ましい。そして、このように凹部を形成するためには、チャックテーブルの回転軸となる直線が被加工物の裏面の中心を通るようにチャックテーブルによって被加工物の表面側を保持する必要がある。 In the method described above, it is preferable that the recess is formed such that the center of the back surface of the workpiece and the center of the bottom of the recess coincide. In order to form such a recess, it is necessary to hold the front side of the workpiece with the chuck table so that a straight line serving as the rotation axis of the chuck table passes through the center of the back side of the workpiece.
そのため、研削装置においては、被加工物の位置調整を行った後に被加工物をチャックテーブルに搬入することが多い。ただし、このような位置調整を行ったとしても、被加工物をチャックテーブルに搬入する際に被加工物の裏面の中心がチャックテーブルの回転軸となる直線からずれた位置に配置されるおそれもある。 Therefore, in the grinding apparatus, the workpiece is often carried into the chuck table after the position of the workpiece has been adjusted. However, even if such position adjustment is performed, there is a risk that the center of the back surface of the workpiece may be placed at a position that deviates from the straight line that serves as the rotation axis of the chuck table when the workpiece is transferred to the chuck table. be.
この点に鑑み、本発明の目的は、チャックテーブルの所望の位置からずれた位置に被加工物が搬入された場合であっても、被加工物の裏面(一方の面)の中心と凹部の底面の中心とが一致するように凹部を形成することが可能な被加工物の研削方法を提供することである。 In view of this point, an object of the present invention is to keep the center of the back surface (one surface) of the workpiece and the recess even when the workpiece is carried to a position shifted from the desired position on the chuck table. It is an object of the present invention to provide a method for grinding a workpiece that can form a recess so that the center of the bottom surface coincides with the center of the workpiece.
本発明によれば、被加工物の一方の面側を研削することによって、円状の底面を有する凹部を形成する被加工物の研削方法であって、チャックテーブルによって該被加工物の他方の面側を保持する予備保持ステップと、該被加工物の該一方の面側を研削することによって、該凹部の該底面よりも直径が短い円状の底面を有し、かつ、該凹部よりも浅い予備凹部を形成する予備研削ステップと、該予備研削ステップの後に、該被加工物の該一方の面の中心からみた該予備凹部の該底面の中心までの変位ベクトルを測定する測定ステップと、該測定ステップの後に、該予備保持ステップの際に該チャックテーブルによって保持された該被加工物の位置を該変位ベクトルの分だけ移動させるように該チャックテーブルと該被加工物とを相対的に移動させてから、該チャックテーブルによって該被加工物の該他方の面側を保持する保持ステップと、該保持ステップの後に、該被加工物の該一方の面側を研削することによって、該凹部を形成する研削ステップと、を含む被加工物の研削方法が提供される。 According to the present invention, there is provided a method for grinding a workpiece in which a concave portion having a circular bottom is formed by grinding one side of the workpiece, the method comprising: grinding the other side of the workpiece using a chuck table; a preliminary holding step of holding the surface side, and grinding the one surface side of the workpiece, so that the surface side of the workpiece has a circular bottom surface having a diameter shorter than the bottom surface of the recess, and is smaller than the recess. a preliminary grinding step of forming a shallow preliminary recess; and after the preliminary grinding step, a measuring step of measuring a displacement vector from the center of the one surface of the workpiece to the center of the bottom surface of the preliminary recess; After the measuring step, the chuck table and the workpiece are moved relative to each other so that the position of the workpiece held by the chuck table during the preliminary holding step is moved by the displacement vector. a holding step of holding the other surface side of the workpiece with the chuck table after the movement; and after the holding step, grinding the one surface side of the workpiece, thereby removing the concave portion. A method of grinding a workpiece is provided, comprising: a grinding step to form a workpiece.
好ましくは、該予備研削ステップにおいては、第1研削砥石を含む第1研削ホイールを使用して該被加工物が研削され、該研削ステップにおいては、第2研削砥石を含む第2研削ホイールを使用して該被加工物が研削され、該第2研削砥石に含まれる砥粒は、該第1研削砥石に含まれる砥粒よりも平均粒径が小さい。 Preferably, in the preliminary grinding step, a first grinding wheel including a first grinding wheel is used to grind the workpiece, and in the grinding step, a second grinding wheel including a second grinding wheel is used. The workpiece is ground by grinding, and the abrasive grains contained in the second grinding wheel have a smaller average particle size than the abrasive grains contained in the first grinding wheel.
本発明においては、被加工物の一方の面側に予備凹部を形成してから、被加工物の一方の面の中心からみた予備凹部の底面の中心までの変位ベクトルを測定する。ここで、チャックテーブルの回転軸となる直線は、予備凹部の底面の中心を通る。そのため、この変位ベクトルは、被加工物の一方の面の中心からみたチャックテーブルの回転軸となる直線までの変位ベクトルに対応する。 In the present invention, a preliminary recess is formed on one surface of the workpiece, and then a displacement vector from the center of the one surface of the workpiece to the center of the bottom of the preliminary recess is measured. Here, a straight line serving as the rotation axis of the chuck table passes through the center of the bottom surface of the preliminary recess. Therefore, this displacement vector corresponds to a displacement vector from the center of one surface of the workpiece to a straight line serving as the rotation axis of the chuck table.
そして、本発明においては、被加工物の位置を変位ベクトルの分だけ移動させるようにチャックテーブルと被加工物とを相対的に移動させてからチャックテーブルによって被加工物の他方の面側を再び保持した後に、被加工物の一方の面側に凹部を形成する。この場合、チャックテーブルの回転軸となる直線が被加工物の一方の面の中心を通った状態で被加工物が研削される。その結果、被加工物の一方の面の中心と凹部の底面の中心とが一致するように凹部を形成することができる。 In the present invention, the chuck table and the workpiece are relatively moved so that the position of the workpiece is moved by the displacement vector, and then the chuck table moves the other side of the workpiece again. After holding, a recess is formed on one side of the workpiece. In this case, the workpiece is ground with a straight line serving as the rotation axis of the chuck table passing through the center of one surface of the workpiece. As a result, the recess can be formed such that the center of one surface of the workpiece coincides with the center of the bottom surface of the recess.
添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図1は、研削装置の一例を模式的に示す断面図である。図1に示される研削装置2は、チャックテーブル4を有する。このチャックテーブル4は、例えば、セラミックス等からなる円板状の枠体4aを有する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a grinding device. The grinding
また、枠体4aの上部には円状の底面を有する凹部が形成されており、この凹部には多孔質セラミックス等からなる円板状のポーラス板4bが固定されている。そして、ポーラス板4bの上面及びポーラス板4bを囲む枠体4aの上面は、円錐の側面に相当する形状に構成されており、被加工物を保持するための保持面として機能する。
Further, a recessed portion having a circular bottom surface is formed in the upper part of the
また、ポーラス板4bの下面側は、枠体4aの内部に形成された流路4c等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に連通する。そのため、チャックテーブル4の保持面に被加工物が置かれた状態で吸引源が動作すると、被加工物がチャックテーブル4側に吸引されて保持される。
Further, the lower surface side of the
さらに、チャックテーブル4は、回転機構(不図示)に接続されている。この回転機構は、例えば、プーリ及びモータ等を含む。そして、この回転機構が動作すると、チャックテーブル4の保持面の中心と上記の円錐の底面の中心とを通る直線を回転軸としてチャックテーブル4が回転する。 Furthermore, the chuck table 4 is connected to a rotation mechanism (not shown). This rotation mechanism includes, for example, a pulley and a motor. When this rotation mechanism operates, the chuck table 4 rotates with a straight line passing through the center of the holding surface of the chuck table 4 and the center of the bottom surface of the cone as the rotation axis.
また、チャックテーブル4は、水平方向移動機構(不図示)に連結されている。この水平方向移動機構は、例えば、ボールねじ及びモータ等を含む。あるいは、水平方向移動機構は、ターンテーブル及びモータ等を含む。そして、この水平方向移動機構が動作すると、チャックテーブル4が水平方向に移動する。 Further, the chuck table 4 is connected to a horizontal movement mechanism (not shown). This horizontal movement mechanism includes, for example, a ball screw and a motor. Alternatively, the horizontal movement mechanism includes a turntable, a motor, and the like. When this horizontal movement mechanism operates, the chuck table 4 moves in the horizontal direction.
また、チャックテーブル4は、傾き調整機構(不図示)に接続されている。この傾き調整機構は、例えば、チャックテーブル4を支持するようにチャックテーブル4の周方向に沿って概ね等しい角度の間隔で配置されている1つの固定軸と2つの可動軸とを含む。そして、傾き調整機構が動作すると、2つの可動軸の少なくとも一方がチャックテーブル4を昇降させる。その結果、チャックテーブル4の回転軸の傾きが調整される。 Further, the chuck table 4 is connected to a tilt adjustment mechanism (not shown). This tilt adjustment mechanism includes, for example, one fixed shaft and two movable shafts that are arranged at approximately equal angular intervals along the circumferential direction of the chuck table 4 so as to support the chuck table 4. When the tilt adjustment mechanism operates, at least one of the two movable shafts moves the chuck table 4 up and down. As a result, the inclination of the rotation axis of the chuck table 4 is adjusted.
研削装置2においては、チャックテーブル4よりも高い位置に研削ホイール6が設けられている。この研削ホイール6は、ステンレス鋼又はアルミニウム等の金属からなる環状のホイール基台6aを含む。また、ホイール基台6aの下面には円環状の凹部が形成されており、この凹部にはホイール基台6aの周方向に沿って概ね等しい角度の間隔で複数の研削砥石6bが固定されている。
In the
複数の研削砥石6bのそれぞれは、ビトリファイド又はレジノイド等の結合剤と、この結合剤に分散されたダイヤモンド等の砥粒とを含む。そして、複数の研削砥石6bの下面は、概ね同一平面上に位置付けられており、被加工物を研削するための研削面として機能する。
Each of the plurality of grinding
さらに、研削ホイール6は、回転機構(不図示)に接続されている。この回転機構は、例えば、スピンドル及びモータ等を含む。そして、この回転機構が動作すると、鉛直方向に沿った直線を回転軸として研削ホイール6が回転する。また、研削ホイール6が回転すると、複数の研削砥石6bが円環状の軌跡を描く。なお、研削ホイール6は、この軌跡の外径がチャックテーブル4の保持面の半径よりも短くなるように設計される。
Furthermore, the
また、研削ホイール6は、鉛直方向移動機構(不図示)に連結されている。この鉛直方向移動機構は、例えば、ボールねじ及びモータ等を含む。そして、この鉛直方向移動機構が動作すると、研削ホイール6が鉛直方向に移動する。
Further, the
また、研削ホイール6の近傍には、ノズル(不図示)が設けられている。このノズルは、水等の研削液を供給するポンプ(不図示)と連通しており、被加工物を複数の研削砥石6bによって研削する際に被加工物と複数の研削砥石6bとの接触界面(加工点)に研削液を供給する。
Further, a nozzle (not shown) is provided near the
研削装置2においては、チャックテーブル4よりも高く、かつ、研削ホイール6から離隔した位置にカメラ8が設けられている。このカメラ8は、例えば、光源と、対物レンズと、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサ又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ等の撮像素子とを含み、その下方に存在する構造物を撮像する。
In the grinding
図2は、研削装置2において被加工物の一方の面側を研削することによって、円状の底面を有する凹部を形成する被加工物の研削方法の一例を模式的に示すフローチャートである。この方法においては、まず、チャックテーブル4によって被加工物の他方の面側を保持する(予備保持ステップ:S1)。
FIG. 2 is a flowchart schematically showing an example of a method for grinding a workpiece in which a recess having a circular bottom surface is formed by grinding one side of the workpiece in the grinding
図3(A)は、予備保持ステップ(S1)の様子を模式的に示す断面図であり、図3(B)は、予備保持ステップ(S1)後の被加工物を模式的に示す上面図である。なお、この方法によって凹部が形成される被加工物11は、例えば、シリコン等の半導体材料からなり、その半径が研削ホイール6を回転させた時の複数の研削砥石6bの軌跡の外径よりも長いウェーハである。
FIG. 3(A) is a sectional view schematically showing the preliminary holding step (S1), and FIG. 3(B) is a top view schematically showing the workpiece after the preliminary holding step (S1). It is. The
そして、被加工物11の表面(他方の面)11a側には、複数のデバイスがマトリックス状に配列されている。すなわち、複数のデバイスの境界は、格子状に延在する。さらに、被加工物11の表面11aには、樹脂等からなる保護部材(不図示)が貼着されることが好ましい。この場合、被加工物11の裏面(一方の面)11b側を研削する際に表面11a側に加わる衝撃を緩和して複数のデバイスを保護することができる。
A plurality of devices are arranged in a matrix on the surface (other surface) 11a of the
予備保持ステップ(S1)においては、まず、被加工物11の裏面11bが上を向くとともにポーラス板4bの上面の全域が被加工物11によって覆われるようにチャックテーブル4に被加工物11を搬入する。なお、ここでは、この被加工物11の搬入に先立つ被加工物11の高精度の位置調整等は行わなくてよい。
In the preliminary holding step (S1), first, the
そのため、被加工物11は、チャックテーブル4の保持面の中心、すなわち、チャックテーブル4の回転軸となる直線が通る点からずれた位置に、その表面11aの中心が配置されることが多い。次いで、ポーラス板4bの下面側と連通する吸引源を動作させる。これにより、被加工物11の表面11a側がチャックテーブル4に吸引されて保持される。
Therefore, the center of the
予備保持ステップ(S1)の後には、被加工物11の裏面(一方の面)側を研削することによって、円状の底面を有する予備凹部を形成する(予備研削ステップ:S2)。図4(A)は、予備研削ステップ(S2)の様子を模式的に示す断面図であり、図4(B)は、予備研削ステップ(S2)後の被加工物11を模式的に示す上面図である。
After the preliminary holding step (S1), a preliminary recess having a circular bottom surface is formed by grinding the back surface (one surface) of the workpiece 11 (preliminary grinding step: S2). FIG. 4(A) is a sectional view schematically showing the preliminary grinding step (S2), and FIG. 4(B) is a top view schematically showing the
予備研削ステップ(S2)においては、まず、チャックテーブル4の保持面の外周のうち最も高くなる点と保持面の中心とを結ぶ線分が鉛直方向と直交するようにチャックテーブル4の傾きを調整する。なお、この線分が既に鉛直方向と直交するようにチャックテーブル4が傾いている場合には、この調整は不要である。 In the preliminary grinding step (S2), first, the inclination of the chuck table 4 is adjusted so that the line segment connecting the highest point on the outer periphery of the holding surface of the chuck table 4 and the center of the holding surface is perpendicular to the vertical direction. do. Note that if the chuck table 4 is already tilted so that this line segment is perpendicular to the vertical direction, this adjustment is not necessary.
次いで、平面視において、研削ホイール6を回転させた時の複数の研削砥石6bの軌跡とチャックテーブル4の保持面の中心とが重なるようにチャックテーブル4を水平方向に移動させる。具体的には、予備凹部11cの直径が比較的小さくなるように、チャックテーブル4の保持面の中心の直上に上記の軌跡の内周よりも僅かに外側の部分を位置付ける。
Next, the chuck table 4 is moved in the horizontal direction so that the trajectory of the plurality of grinding
次いで、チャックテーブル4と研削ホイール6との双方を回転させる。次いで、チャックテーブル4と研削ホイール6との双方を回転させたまま、複数の研削砥石6bのそれぞれの研削面を被加工物11の裏面11bに押し当てるように研削ホイール6を下降させる。その結果、複数の研削砥石6bによって被加工物11の裏面11b側が研削されて、円状の底面を有する予備凹部11cが形成される。
Next, both the chuck table 4 and the
予備研削ステップ(S2)の後には、被加工物11の裏面(一方の面)11bの中心からみた予備凹部11cの底面の中心までの変位ベクトルを測定する(測定ステップ:S3)。図5(A)は、測定ステップ(S3)の様子を模式的に示す断面図であり、図5(B)は、測定ステップ(S3)後の被加工物11を模式的に示す上面図である。
After the preliminary grinding step (S2), a displacement vector from the center of the back surface (one surface) 11b of the
測定ステップ(S3)においては、まず、カメラ8によって撮像可能な範囲に被加工物11の外周の少なくとも一部及び予備凹部11cの外周の少なくとも一部が含まれるようにチャックテーブル4を水平方向に移動させる。次いで、カメラ8による撮像とチャックテーブル4の回転とを交互に繰り返すことによって、被加工物11の外周と予備凹部11cの外周とを含む画像を形成する。
In the measurement step (S3), first, the chuck table 4 is moved horizontally so that at least a part of the outer periphery of the
次いで、この画像を利用して、鉛直方向に垂直なXY座標平面における被加工物11の外周上の3点(例えば、図5(B)に示される点P1,P2,P3)及び予備凹部11cの外周上の3点(例えば、図5(B)に示される点P4,P5,P6)のそれぞれの座標を特定する。次いで、これらの座標に基づいて、被加工物11の裏面11bの中心C1の座標と予備凹部11cの底面の中心C2との座標を特定する。
Next, using this image, three points on the outer periphery of the workpiece 11 (for example, points P1, P2, and P3 shown in FIG. 5(B)) and the
具体的には、点P1~P3のそれぞれの座標が(X1,Y1)、(X2,Y2)及び(X3,Y3)である場合には、XY座標平面における被加工物11の裏面11bの座標(XC1,YC1)は、以下の数式(1)及び数式(2)によって算出される。
同様に、点P4~P6のそれぞれの座標が(X4,Y4)、(X5,Y5)及び(X6,Y6)である場合には、XY座標平面における予備凹部11cの底面の座標(XC2,YC2)は、以下の数式(3)及び数式(4)によって算出される。
次いで、被加工物11の裏面11bの中心C1からみた予備凹部11cの底面の中心C2までの変位ベクトル(ΔX,ΔY)を測定する。具体的には、この変位ベクトルは、以下の数式(5)及び数式(6)によって算出される。
測定ステップ(S3)の後には、被加工物11の位置を変位ベクトル(ΔX,ΔY)の分だけ移動させるようにチャックテーブル4と被加工物11とを相対的に移動させてから、チャックテーブル4によって被加工物11の表面(他方の面)11a側を保持する(保持ステップ:S4)。図6(A)は、保持ステップ(S4)の様子を模式的に示す断面図であり、図6(B)は、保持ステップ(S4)後の被加工物11を模式的に示す上面図である。
After the measurement step (S3), the chuck table 4 and the
保持ステップ(S4)においては、まず、ポーラス板4bの下面側と連通する吸引源の動作を停止させる。次いで、研削装置2の搬送機構(不図示)によって被加工物11を直上に上げてチャックテーブル4から被加工物11を搬出する。次いで、被加工物11を保持する搬送機構を変位ベクトル(ΔX,ΔY)の分だけ移動させる。
In the holding step (S4), first, the operation of the suction source communicating with the lower surface side of the
あるいは、チャックテーブル4を変位ベクトル(ΔX,ΔY)の逆ベクトル(-ΔX,-ΔY)の分だけ移動させる。次いで、搬送機構(不図示)によって被加工物11を直下に下げてチャックテーブル4に再び搬入する。次いで、ポーラス板4bの下面側と連通する吸引源を再び動作させる。これにより、被加工物11の表面11a側がチャックテーブル4に吸引されて再び保持される。
Alternatively, the chuck table 4 is moved by the inverse vector (-ΔX, -ΔY) of the displacement vector (ΔX, ΔY). Next, the
保持ステップ(S4)の後には、被加工物11の裏面(一方の面)11b側を研削することによって、円状の底面を有する凹部を形成する(研削ステップ:S5)。図7(A)は、研削ステップ(S5)の様子を模式的に示す断面図であり、図7(B)は、研削ステップ(S5)後の被加工物11を模式的に示す上面図である。
After the holding step (S4), a recessed portion having a circular bottom surface is formed by grinding the back surface (one surface) 11b side of the workpiece 11 (grinding step: S5). FIG. 7(A) is a cross-sectional view schematically showing the state of the grinding step (S5), and FIG. 7(B) is a top view schematically showing the
研削ステップ(S5)においては、まず、平面視において、研削ホイール6を回転させた時の複数の研削砥石6bの軌跡とチャックテーブル4の保持面の中心とが重なるようにチャックテーブル4を水平方向に移動させる。具体的には、凹部11dの直径が比較的大きくなるように、チャックテーブル4の保持面の中心の直上に上記の軌跡の外周よりも僅かに内側の部分を位置付ける。
In the grinding step (S5), first, the chuck table 4 is moved horizontally so that the locus of the plurality of grinding
次いで、チャックテーブル4と研削ホイール6との双方を回転させる。次いで、チャックテーブル4と研削ホイール6との双方を回転させたまま、複数の研削砥石6bのそれぞれの研削面を被加工物11の裏面11bに押し当てるように研削ホイール6を下降させる。これにより、まず、被加工物11の裏面11b側のうち予備凹部11cの側面よりも僅かに外側に位置する部分が複数の研削砥石6bによって研削される。
Next, both the chuck table 4 and the
そして、複数の研削砥石6bの研削面が予備凹部11cの底面に接触すれば、被加工物11の複数のデバイスと重なる領域が所定の仕上げ厚さに至るまで被加工物11の裏面11b側を研削する。その結果、複数の研削砥石6bによって被加工物11の裏面11b側が研削されて、上記の予備凹部11cの底面よりも直径が長い円状の底面を有し、かつ、予備凹部11cよりも深い凹部11dが形成される。
When the grinding surfaces of the plurality of grinding
図2に示される方法においては、被加工物11の裏面11b側に予備凹部11cを形成してから、被加工物11の裏面11bの中心からみた予備凹部11cの底面の中心までの変位ベクトル(ΔX,ΔY)を測定する。ここで、チャックテーブル4の回転軸となる直線は、予備凹部11cの底面の中心を通る。そのため、この変位ベクトル(ΔX,ΔY)は、被加工物11の裏面11bの中心からみたチャックテーブル4の回転軸となる直線までの変位ベクトル(ΔX,ΔY)に対応する。
In the method shown in FIG. 2, after forming the
そして、この方法においては、被加工物11の位置を変位ベクトル(ΔX,ΔY)の分だけ移動させるようにチャックテーブル4と被加工物11とを相対的に移動させてからチャックテーブル4によって被加工物11の表面11a側を再び保持した後に、被加工物11の裏面11b側に凹部11dを形成する。この場合、チャックテーブル4の回転軸となる直線が被加工物11の裏面11bの中心を通った状態で被加工物11が研削される。その結果、被加工物11の裏面11bの中心と凹部11dの底面の中心とが一致するように凹部11dを形成することができる。
In this method, the chuck table 4 and the
なお、上述した方法は本発明の一態様であって、本発明の内容は上述した内容に限定されない。例えば、本発明においては、予備研削ステップ(S2)において使用される研削ホイール(第1研削ホイール)と研削ステップ(S5)において使用される研削ホイール(第2研削ホイール)とが異なっていてもよい。具体的には、第2研削ホイールは、第1研削ホイールよりも外径が大きくてもよい。 Note that the method described above is one embodiment of the present invention, and the content of the present invention is not limited to the content described above. For example, in the present invention, the grinding wheel (first grinding wheel) used in the preliminary grinding step (S2) and the grinding wheel (second grinding wheel) used in the grinding step (S5) may be different. . Specifically, the second grinding wheel may have a larger outer diameter than the first grinding wheel.
また、第1研削ホイールは粗研削用の研削ホイールであり、かつ、第2研削ホールは仕上げ研削用の研削ホイールであってもよい。なお、仕上げ研削用の研削ホイールに含まれる研削砥石(第2研削砥石)は、一般的に、粗研削用の研削ホイールに含まれる研削砥石(第1研削砥石)よりも平均粒径が小さい砥粒を含む。 Further, the first grinding wheel may be a grinding wheel for rough grinding, and the second grinding hole may be a grinding wheel for finish grinding. In addition, the grinding wheel (second grinding wheel) included in the grinding wheel for finish grinding is generally a grinding wheel with a smaller average particle diameter than the grinding wheel (first grinding wheel) included in the grinding wheel for rough grinding. Contains grains.
また、本発明においては、チャックテーブル4と研削ホイール6とを相対的に移動させる移動機構に制限はない。例えば、本発明は、チャックテーブル4を鉛直方向に移動させる鉛直方向移動機構と、研削ホイール6を水平方向に移動させる水平方向移動機とを備える研削装置において実施されてもよい。
Further, in the present invention, there is no restriction on the moving mechanism for relatively moving the chuck table 4 and the
その他、上述した実施形態にかかる構造及び方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, etc. according to the embodiments described above can be modified and implemented as appropriate without departing from the scope of the objective of the present invention.
2 :研削装置
4 :チャックテーブル(4a:枠体、4b:ポーラス板、4c:流路)
6 :研削ホイール(6a:ホイール基台、6b:研削砥石)
8 :カメラ
11:被加工物(11a:表面、11b:裏面、11c:予備凹部、11d:凹部)
2: Grinding device 4: Chuck table (4a: frame body, 4b: porous plate, 4c: flow path)
6: Grinding wheel (6a: wheel base, 6b: grinding wheel)
8: Camera 11: Workpiece (11a: front surface, 11b: back surface, 11c: preliminary recess, 11d: recess)
Claims (2)
チャックテーブルによって該被加工物の他方の面側を保持する予備保持ステップと、
該被加工物の該一方の面側を研削することによって、該凹部の該底面よりも直径が短い円状の底面を有し、かつ、該凹部よりも浅い予備凹部を形成する予備研削ステップと、
該予備研削ステップの後に、該被加工物の該一方の面の中心からみた該予備凹部の該底面の中心までの変位ベクトルを測定する測定ステップと、
該測定ステップの後に、該予備保持ステップの際に該チャックテーブルによって保持された該被加工物の位置を該変位ベクトルの分だけ移動させるように該チャックテーブルと該被加工物とを相対的に移動させてから、該チャックテーブルによって該被加工物の該他方の面側を保持する保持ステップと、
該保持ステップの後に、該被加工物の該一方の面側を研削することによって、該凹部を形成する研削ステップと、
を含む被加工物の研削方法。 A method for grinding a workpiece, the method comprising: forming a recess having a circular bottom surface by grinding one side of the workpiece;
a preliminary holding step of holding the other side of the workpiece with a chuck table;
a preliminary grinding step of forming a preliminary recess having a circular bottom surface having a diameter shorter than the bottom surface of the recess and being shallower than the recess by grinding the one surface side of the workpiece; ,
After the preliminary grinding step, a measuring step of measuring a displacement vector from the center of the one surface of the workpiece to the center of the bottom surface of the preliminary recess;
After the measuring step, the chuck table and the workpiece are moved relative to each other so that the position of the workpiece held by the chuck table during the preliminary holding step is moved by the displacement vector. a holding step of holding the other side of the workpiece by the chuck table after moving;
After the holding step, a grinding step of forming the recessed portion by grinding the one surface side of the workpiece;
A method of grinding a workpiece, including:
該研削ステップにおいては、第2研削砥石を含む第2研削ホイールを使用して該被加工物の該一方の面側が研削され、
該第2研削砥石に含まれる砥粒は、該第1研削砥石に含まれる砥粒よりも平均粒径が小さい請求項1に記載の被加工物の研削方法。
In the preliminary grinding step, the one surface side of the workpiece is ground using a first grinding wheel including a first grinding wheel,
In the grinding step, the one surface side of the workpiece is ground using a second grinding wheel including a second grinding wheel,
2. The method for grinding a workpiece according to claim 1, wherein the abrasive grains included in the second grinding wheel have a smaller average grain size than the abrasive grains contained in the first grinding wheel.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022090120A JP2023177443A (en) | 2022-06-02 | 2022-06-02 | Grinding method for work-piece |
TW112119084A TW202348350A (en) | 2022-06-02 | 2023-05-23 | Grinding method for workpiece including matching two displacement vectors to match a center of a bottom of a recess portion to a center of a surface to be grinded of the workpiece |
KR1020230068479A KR20230167716A (en) | 2022-06-02 | 2023-05-26 | Method for grinding workpiece |
CN202310627679.6A CN117161962A (en) | 2022-06-02 | 2023-05-30 | Method for grinding workpiece |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022090120A JP2023177443A (en) | 2022-06-02 | 2022-06-02 | Grinding method for work-piece |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023177443A true JP2023177443A (en) | 2023-12-14 |
Family
ID=88932485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022090120A Pending JP2023177443A (en) | 2022-06-02 | 2022-06-02 | Grinding method for work-piece |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023177443A (en) |
KR (1) | KR20230167716A (en) |
CN (1) | CN117161962A (en) |
TW (1) | TW202348350A (en) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5390740B2 (en) | 2005-04-27 | 2014-01-15 | 株式会社ディスコ | Wafer processing method |
-
2022
- 2022-06-02 JP JP2022090120A patent/JP2023177443A/en active Pending
-
2023
- 2023-05-23 TW TW112119084A patent/TW202348350A/en unknown
- 2023-05-26 KR KR1020230068479A patent/KR20230167716A/en unknown
- 2023-05-30 CN CN202310627679.6A patent/CN117161962A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202348350A (en) | 2023-12-16 |
KR20230167716A (en) | 2023-12-11 |
CN117161962A (en) | 2023-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW202305928A (en) | Hard Wafer Grinding Method | |
CN111843621B (en) | Method for forming holding surface | |
KR20170028833A (en) | Grinding wheel and method for grinding workpiece | |
TW201310517A (en) | Method of processing wafer | |
JP2013004726A (en) | Processing method of plate-like object | |
TW202137290A (en) | Grinding method | |
JP2017159421A (en) | Chamfering device | |
JP2023177443A (en) | Grinding method for work-piece | |
JP2020093381A (en) | Discoidal work-piece processing method | |
JP7413103B2 (en) | Wafer grinding method | |
CN115070549A (en) | Method and apparatus for manufacturing semiconductor device | |
JP2022181245A (en) | Grinding evaluation method | |
JP2021146417A (en) | Grinding method for wafer | |
JP7146355B2 (en) | How to check the condition of the grinding wheel | |
JP2017092412A (en) | Grinding method for disk-like workpiece | |
TWI834865B (en) | Maintaining surface formation method | |
US20240025001A1 (en) | Workpiece grinding method | |
JP2022074966A (en) | Wafer grinding method | |
US20230398654A1 (en) | Workpiece grinding method | |
JP2022113963A (en) | Wafer grinding method | |
JP2021185005A (en) | Chamfering device | |
TW202337629A (en) | Grinding method of wafer | |
JP2022071274A (en) | Adjustment method of grinding device | |
JP2004202656A (en) | Truing method of polisher for polishing | |
JP2024003445A (en) | Grinding method for wafer |