JP2023175395A - 熱電モジュール - Google Patents

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Abstract

【課題】冷却性能の低下を抑え、エレクトロケミカルマイグレーションを抑えること。【解決手段】光通信に用いられる熱電モジュール10であって、向かい合って配置された一対の基板である第1基板12及び第2基板13と、第1基板12及び第2基板13の間に配置された複数の熱電変換素子14と、熱電変換素子14を接続する一対の電極である第1電極15及び第2電極16と、第2基板13に配置されたメタライズ部17と、第1電極15及び第2電極16と電気的に接続されたアノードのポスト電極26と、第1電極15及び第2電極16と電気的に接続されたカソードのポスト電極22と、メタライズ部17と、アノードのポスト電極26より電圧が低い部分とを電気的に接続する導電体構造としてのワイヤ41とを備える。【選択図】図2

Description

本開示は、熱電モジュールに関する。
熱電モジュールの熱電素子及び電極材料であるCu、Niは、結露下の動作中にエレクトロケミカルマイグレーションを起こすと、モジュールの性能が低下する。熱電素子の電極との接合面以外の面に絶縁材による被膜を形成する熱電モジュールに関する技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。半導体装置のインナーリードのCuのエレクトロケミカルマイグレーションを防ぐため、樹脂で封止する技術が知られている(例えば、特許文献2参照。)。
特開2021-097186号公報 特開2003-092379号公報
特許文献1では、熱電モジュールの冷却面及びポスト電極には被膜がされない。そのため、冷却面にメタライズ部が配置されている場合、メタライズ部及びポスト電極のアノード及びカソードが冷却面で発生した水を介して接触する可能性がある。このとき、メタライズ部の電位はアノードの電位とカソードの電位の間をとるため、メタライズ部に水を介した電流が流れ、メタライズ部の材料であるCu、Niなどの金属がエレクトロケミカルマイグレーションを起こすおそれがある。その結果、メタライズ部の熱伝導性低下及び接合強度低下が発生する。
特許文献2に記載された樹脂封止を、熱電モジュールの冷却面のメタライズ部及びポスト電極に適用した場合、樹脂の熱伝導により冷却性能が低下する。
本開示は、冷却性能の低下を抑え、エレクトロケミカルマイグレーションを抑えることを目的とする。
本開示に従えば、光通信に用いられる熱電モジュールであって、向かい合って配置された一対の基板と、前記一対の基板との間に配置された複数の熱電素子と、前記熱電素子を接続する一対の電極と、前記一対の基板のうちの一方の基板に配置されたメタライズ部と、前記一対の電極と電気的に接続されたアノード電極と、前記一対の電極と電気的に接続されたカソード電極と、前記メタライズ部と、前記アノード電極より電圧が低い部分とを電気的に接続する導電体構造とを備える熱電モジュールが提供される。
本開示に従えば、光通信に用いられる熱電モジュールであって、向かい合って配置された一対の基板と、前記一対の基板との間に配置された複数の熱電素子と、前記熱電素子を接続する一対の電極と、前記一対の基板のうちの一方の基板に配置されたメタライズ部と、前記一対の電極と電気的に接続されたアノード電極と、前記一対の電極と電気的に接続されたカソード電極と、前記メタライズ部、前記アノード電極及び前記カソード電極が互いに隔絶された状態で配置された耐水部材と、を備える熱電モジュールが提供される。
本開示によれば、冷却性能の低下を抑え、エレクトロケミカルマイグレーションを抑えることができる。
図1は、第1実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す平面図である。 図2は、第1実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す断面図である。 図3は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。 図4は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。 図5は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。 図6-1は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。 図6-2は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。 図7は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。 図8は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。 図9は、第2実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す平面図である。 図10は、第2実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す断面図である。 図11は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。 図12は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。 図13は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。 図14は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。 図15は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。 図16は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。 図17は、第3実施形態に係るハウジング付きの熱電モジュールを模式的に示す平面図である。 図18は、第3実施形態に係るハウジング付きの熱電モジュールを模式的に示す断面図である。 図19は、第3実施形態に係る熱電モジュールの上面を模式的に示す平面図である。 図20は、第3実施形態に係る熱電モジュールの下面を模式的に示す平面図である。 図21は、第3実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す断面図である。 図22は、第3実施形態に係るハウジングを模式的に示す平面図である。 図23は、第3実施形態に係るハウジングを模式的に示す断面図である。
以下、本開示に係る実施形態について図面を参照しながら説明するが、本開示は実施形態に限定されない。以下で説明する複数の実施形態の構成要素は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。
実施形態においては、「左」、「右」、「前」、「後」、「上」、及び「下」の用語を用いて各部の位置関係について説明する。これらの用語は、光通信装置1の中心を基準とした相対位置又は方向を示す。左右方向と前後方向と上下方向とは直交する。
(第1実施形態)
[熱電モジュール]
図1は、第1実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す平面図である。図2は、第1実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す断面図である。熱電モジュール10は、例えば、光通信に使用される光学部品100の温調を行う。熱電モジュール10は、光学部品100を支持する。熱電モジュール10は、図2に示すように、一対の基板である第1基板12及び第2基板13と、第1基板12及び第2基板13の間に配置されている熱電変換素子(熱電素子)14とを備える。以下の説明に用いる各図における熱電変換素子14、第1電極15及び第2電極16の配置は模式的に示すものである。
熱電モジュール10は、第1基板12及び第2基板13の面積が異なる。実施形態では、熱電モジュール10は、幅方向または全周について、第2基板13が第1基板12より小さい。
一対の第1基板12及び第2基板13は、電気絶縁材料によって形成される。第1基板12及び第2基板13は、例えば、酸化アルミニウム(Al)、酸化ジルコニウム(ZrO)、二酸化ケイ素、酸化チタン、窒化珪素(Si)、窒化アルミニウム(AlN)で構成されている。
図1、図2に示すように、第1基板12及び第2基板13は、熱電変換素子14を挟んで向かい合って一対として配置されている。実施形態において、第2基板13は、第1基板12よりも上方に配置されている。第1基板12及び第2基板13は、板状に形成されている。実施形態において、第1基板12及び第2基板13は、矩形状に形成されている。第2基板13が一方の基板であり、第1基板12が他方の基板である。
図2に示すように、熱電変換素子14は、向かい合う一対の第1基板12と第2基板13との間に1つ以上配置されている。複数の熱電変換素子14は、複数の第1電極15及び第2電極16によって接続される。
熱電変換素子14は、熱電材料によって形成される。熱電変換素子14を形成する熱電材料として、マンガンケイ化物系化合物(Mn-Si)、マグネシウムケイ化物系化合物(Mg-Si-Sn)、スクッテルダイト系化合物(Co-Sb)、ハーフホイスラ系化合物(Zr-Ni-Sn)、及びビスマステルル系化合物(Bi-Te)が例示される。熱電変換素子14は、マンガンケイ化物系化合物、マグネシウムケイ化物系化合物、スクッテルダイト系化合物、ハーフホイスラ系化合物、又はビスマステルル系化合物から選択される1つの化合物により構成されてもよいし、少なくとも2つの化合物の組み合わせにより構成されてもよい。
熱電変換素子14は、p型素子14Pと、n型素子14Nとを含む。p型素子14P及びn型素子14Nは、所定面内に複数配置されている。前後方向において、p型素子14Pとn型素子14Nとは交互に配置されている。左右方向において、p型素子14Pとn型素子14Nとは交互に配置されている。
一対の第1電極15及び第2電極16は、導電性を有する金属により形成される。第2電極16が一方の基板であり、第1電極15が他方の基板である。第1電極15及び第2電極16は、例えば、Cu、Ni、Auの3層で形成される。第1電極15は、第1基板12と熱電変換素子14との間に配置されている。第1電極15及び第2電極16は、熱電変換素子14を接続する。第1電極15は、第1基板12の上面12aに設けられる。第1電極15は、第1基板12の上面12aと平行な所定面内において複数設けられる。第2電極16は、第2基板13と熱電変換素子14との間に配置されている。第2電極16は、第2基板13の下面13bに設けられる。第2電極16は、第2基板13の下面13bと平行な所定面内において複数設けられる。
第1電極15及び第2電極16は、隣接する一対のp型素子14P及びn型素子14Nのそれぞれに接続される。第1電極15及び第2電極16は、複数の熱電変換素子14を直列に接続する。第1電極15及び第2電極16により複数の熱電変換素子14が直列に接続された直列回路が形成される。p型素子14P及びn型素子14Nが第1電極15及び第2電極16を介して電気的に接続されることにより、pn素子対が構成される。複数のpn素子対が第1電極15及び第2電極16を介して直列に接続されることにより、複数の熱電変換素子14を含む直列回路が構成される。
メタライズ部17は、第2基板13の上面13aに配置されている。メタライズ部17は、光学部品100を第2基板13の上面13aに固定する。メタライズ部17は、導電性を有する金属により形成される。
熱電変換素子14に電流が供給されることにより、熱電モジュール10がペルチェ効果により吸熱又は発熱する。この効果を利用して熱電モジュール10上部に配置した光学部品100を温調する。
第1基板12の下面12bは、熱電モジュール10の放熱面である。第2基板13の上面13aは、熱電モジュール10の冷却面(温調面)である。
熱電モジュール10は、カソードであるポスト21、ポスト電極22及び給電用ワイヤ23を備える。ポスト21は、第1基板12に配置されている。ポスト21は、第1基板12と電気的に接続されている。図1に示す例では、ポスト21は、第1基板12の左側方の前側に設けられている。ポスト21は、柱状である。ポスト21は、例えば、Niで形成される。カソード電極であるポスト電極22は、ポスト21の上側の端部に配置されている。ポスト電極22は、一対の第1電極15及び第2電極16と電気的に接続されている。ポスト電極22は、ポスト21と電気的に接続されている。ポスト電極22は、例えば、Auで形成される。
熱電モジュール10は、アノードであるポスト25、ポスト電極26及び給電用ワイヤ27を備える。ポスト25は、第1基板12と電気的に接続されている。ポスト25は、ポスト21と離れて配置されている。図1に示す例では、ポスト25は、第1基板12の左側方の後側に設けられている。ポスト25は、柱状である。ポスト25は、例えば、Niで形成される。アノード電極であるポスト電極26は、ポスト25の上側の端部に配置されている。ポスト電極26は、一対の第1電極15及び第2電極16と電気的に接続されている。ポスト電極26は、ポスト25と電気的に接続されている。ポスト電極26は、例えば、Auで形成される。
熱電モジュール10は、絶縁膜31によって覆われている。絶縁膜31は、熱電モジュール10の表面のうち、第1基板12より上下方向の下側と、第2基板13より上下方向の上側と、ポスト電極22と、ポスト電極26とを除いた部分を覆う。絶縁膜31は、電気絶縁性を有する材料で形成される。電気絶縁性を有する材料は、例えば、ポリイミド、ポリパラキシリレン、ポリテトラフルオロエチレン、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、及び、酸化チタンである。なお、図1において、絶縁膜31は図示を省略している。他の平面図においても同様である。
熱電モジュール10は、ポスト電極22、ポスト電極26、及び、メタライズ部17の表面に付着した水を介して、ポスト電極22、ポスト電極26、及び、メタライズ部17の間で電流が流れることを抑制する。
熱電モジュール10の熱電変換素子14及び各電極の材料であるCu、Niは、第2基板13の結露下の動作中にエレクトロケミカルマイグレーションを起こす。エレクトロケミカルマイグレーションの原因は、メタライズ部17の表面に付着した水を介して、メタライズ部17を流れ出る電流である。そこで、メタライズ部17に電気的な配線を行うことにより、電流が配線中を流れるようにして、エレクトロケミカルマイグレーションを抑制する。
実施形態では、エレクトロケミカルマイグレーションの対応策として、第2基板13の上面13aに配置されたメタライズ部17と、アノードのポスト電極26に対して電圧の低い場所、例えばカソードのポスト電極22とを電気的に接続する細長い配線を備える。より詳しくは、熱電モジュール10は、メタライズ部17の表面に付着した水を介して、ポスト電極22又はポスト電極26とメタライズ部17との間で電流が流れることを抑制する。
図1、図2に示す例では、熱電モジュール10は、メタライズ部17と、アノードのポスト電極26より電圧が低い部分とを電気的に接続する導電体構造としてワイヤ41を備える。ワイヤ41は、カソードのポスト電極22とメタライズ部17とを電気的に接続する。ワイヤ41は、導電性及び耐腐食性を有する。ワイヤ41は、例えば、Auで形成される。ワイヤ41は、例えば、Ag、Pt、Pd、Cu、Ti、W、Ni、BiTe、及び、これらの材料を組み合わせて形成されてもよい。ワイヤ41は、細長い形状である。ワイヤ41は、例えば、直径25μm、長さ0.5mmである。
[作用]
実施形態では、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中において、ワイヤ41によって、メタライズ部17に電位がある場合でも、メタライズ部17からカソードのポスト電極22へ電流が流れる。実施形態では、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、ワイヤ41によって、メタライズ部17に電位の発生が抑制される。実施形態では、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、ワイヤ41によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることが抑制される。これにより、実施形態は、ワイヤ41によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションが抑制される。
[効果]
実施形態では、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中において、メタライズ部17に電位がある場合でも、ワイヤ41によって、メタライズ部17からカソードのポスト電極22へ電流を流すことができる。実施形態は、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、ワイヤ41によって、メタライズ部17に電位が発生することを抑制できる。実施形態によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、ワイヤ41によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることを抑制できる。これにより、実施形態は、ワイヤ41によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。
実施形態では、ワイヤ41は、細長い。実施形態は、ワイヤ41を介しメタライズ部17への熱流入、又はメタライズ部17からの熱流出による冷却性能の低下を抑えることができる。
(第1実施形態の変形例1)
図3は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。図4は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。変形例1の熱電モジュール10の基本的な構成は第1実施形態と同様である。第1実施形態と同様の構成は、同じ符号を付して説明を省略する。以下の他の変形例及び他の実施形態の説明においても同様である。
熱電モジュール10は、導電体構造としてスルーホール42を備える。スルーホール42は、メタライズ部17と第2電極16とを電気的に接続する。スルーホール42は、例えば、Cu、Ni、Pd又はAuで形成される。スルーホール42は、例えば、Ag、Pt、Ti、W、BiTe、及び、これらの材料を組み合わせて形成されてもよい。スルーホール42は、細長い形状である。
変形例では、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中において、スルーホール42によって、メタライズ部17から第2電極16へ電流を流すことができる。変形例は、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、スルーホール42によって、メタライズ部17に電位が発生することを抑制できる。変形例によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、スルーホール42によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることを抑制できる。変形例によれば、スルーホール42によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。
(第1実施形態の変形例2)
図5は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。図6-1は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。図6-2は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。
熱電モジュール10は、導電体構造としてスルーホール42及び導電部材43を備える。スルーホール42は、変形例2と同様に構成される。導電部材43は、第1実施形態の熱電変換素子14の少なくとも1つを置き換えたものである。導電部材43は、例えば、Au、Ag、Pt、Pd、Cu、Ti、W、Ni、BiTe及びこれらの組み合わせで形成される。
図6-1に示す例では、導電性材料43と熱電変換素子14とが直列接続になっている。図6-2に示す例では、導電性材料43と熱電変換素子14とが直列接続になっていない。
変形例では、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中において、スルーホール42及び導電部材43によって、メタライズ部17から第2電極16を介して第1電極15へ電流を流すことができる。変形例は、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、スルーホール42及び導電部材43によって、メタライズ部17に電位が発生することを抑制できる。変形例によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、スルーホール42及び導電部材43によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることを抑制できる。変形例によれば、スルーホール42及び導電部材43によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。
(第1実施形態の変形例3)
図7は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。図8は、第1実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。熱電モジュール10は、導電体構造として導線44を備える。熱電モジュール10は、電源カソード443を備える。
導線44は、メタライズ部17と電源カソード443とを電気的に接続する。導線44は、半田441によってメタライズ部17に固定される。導線44は、半田442によって電源カソード443に固定される。導線44は、例えば、Cu、Ni又はAuで形成される。導線44は、例えば、Ag、Pt、Pd、Ti、W、BiTe及びこれらの組み合わせで形成されてもよい。半田441及び半田442は、例えば、AuSn、SnAgCu、SnSb、CuSn、InSn、BiSnで形成される。
変形例では、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中において、導線44によって、メタライズ部17から電源カソード443へ電流を流すことができる。変形例は、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、導線44によって、メタライズ部17に電位が発生することを抑制できる。変形例によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、導線44によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることを抑制できる。変形例によれば、導線44によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。
(第2実施形態)
図9は、第2実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す平面図である。図10は、第2実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す断面図である。熱電モジュール10は、耐水部材51を備える。
実施形態では、第2基板13の上面13aに配置されたメタライズ部17に対して、アノードのポスト電極26を隔絶する耐水部材51を備える。より詳しくは、熱電モジュール10は、メタライズ部17が、耐水部材51を介して、アノードのポスト電極26及びカソードのポスト電極22と接していない。
耐水部材51は、メタライズ部17、アノードのポスト電極26及びカソードのポスト電極22が互いに隔絶された状態で配置されている。実施形態では、耐水部材51は、耐水性を有する材料で形成される。耐水部材51は、例えば、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂又はシリコンゴムで形成される。
耐水部材51は、アノードのポスト電極26及び給電用ワイヤ27を覆って配置されている。耐水部材51は、上下方向視において、第1基板12の左側方の端部よりも左側まで位置する。耐水部材51は、メタライズ部17及びカソードのポスト電極22から隔絶されている。耐水部材51は、メタライズ部17及びカソードのポスト電極22から離間している。
[作用]
実施形態によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、耐水部材51によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることが抑制される。これにより、実施形態は、ワイヤ41によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションが抑制される。
実施形態では、メタライズ部17がアノードのポスト電極26と耐水部材51を介して接しない。実施形態によれば、耐水部材51を介したメタライズ部17への熱流入は起こらず、冷却性能が低下しない。
[効果]
実施形態によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、耐水部材51によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることを抑制できる。実施形態は、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、耐水部材51によって、メタライズ部17に電位が発生することを抑制できる。これにより、実施形態は、耐水部材51によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。
実施形態では、メタライズ部17がアノードのポスト電極26と耐水部材51を介して接しない。実施形態によれば、耐水部材51を介したメタライズ部17への熱流入は起こらず、冷却性能の低下を抑えることができる。
(第2実施形態の変形例1)
図11は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。図12は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。
変形例1では、熱電モジュール10は、メタライズ部17が、耐水部材52及び耐水部材53を介して、アノードのポスト電極26、カソードのポスト電極22及びハウジング18と接していない。
熱電モジュール10は、ハウジング18を備える。ハウジング18は、第1基板12の下面12bに接合されている。図12において、ハウジング18は、第1基板12の下面12bに接合された壁部のみを図示し、他の壁部は図示を省略している。ハウジング18は、熱電モジュール10、及び、光学部品100を収容する。ハウジング18は、アースされている。
熱電モジュール10は、耐水部材52及び耐水部材53を備える。耐水部材52及び耐水部材53は、耐水部材51と同様の材料で形成される。
耐水部材52は、カソードのポスト電極22及び給電用ワイヤ23を覆って配置されている。耐水部材52は、上下方向視において、第1基板12の左側方の端部よりも左側まで位置する。耐水部材52は、メタライズ部17及びアノードのポスト電極26から隔絶されている。耐水部材52は、メタライズ部17及びアノードのポスト電極26から離間している。
耐水部材53は、ハウジング18における、第1基板12の下面12bと接する面18aのうち露出した部分を覆って配置されている。耐水部材53は、メタライズ部17、カソードのポスト電極22及びアノードのポスト電極26から隔絶されている。耐水部材53は、メタライズ部17、カソードのポスト電極22及びアノードのポスト電極26から離間している。
熱電モジュール10は、第2基板13の上面13aに配置されたメタライズ部17に対して、カソードのポスト電極22を隔絶する耐水部材52と、アースされたハウジング18を隔絶する耐水部材53とを備える。より詳しくは、熱電モジュール10は、メタライズ部17が、耐水部材51を介して、カソードのポスト電極22及びハウジング18と接していない。
変形例によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、耐水部材52及び耐水部材53によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることを抑制できる。変形例は、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、耐水部材52及び耐水部材53によって、メタライズ部17に電位が発生することを抑制できる。これにより、変形例は、耐水部材52及び耐水部材53によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。
変形例では、メタライズ部17がカソードのポスト電極22及びハウジング18と耐水部材52及び耐水部材53を介して接しない。変形例によれば、耐水部材52及び耐水部材53を介したメタライズ部17への熱流入は起こらず、冷却性能の低下を抑えることができる。
(第2実施形態の変形例2)
図13は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。図14は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。
変形例2では、第2基板13の上面13aに配置されたメタライズ部17に対して、アノードのポスト電極26を隔絶する耐水部材55を備える。より詳しくは、熱電モジュール10は、メタライズ部17が、耐水部材55を介して、アノードのポスト電極26及びカソードのポスト電極22と接していない。
熱電モジュール10は、耐水部材55を備える。耐水部材55は、光学部品100が搭載されたメタライズ部17の露出した部分を覆って配置されている。耐水部材55は、耐水部材51と同様の材料で形成される。耐水部材55は、カソードのポスト電極22及びアノードのポスト電極26から隔絶されている。耐水部材55は、カソードのポスト電極22及びアノードのポスト電極26から離間している。
熱電モジュール10は、光学部品100が搭載されたメタライズ部17の露出した部分を、カソードのポスト電極22及びアノードのポスト電極26から隔絶する耐水部材55を備える。より詳しくは、熱電モジュール10は、メタライズ部17が、カソードのポスト電極22及びアノードのポスト電極26と接していない。
変形例によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、耐水部材55によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることを抑制できる。変形例は、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、耐水部材55によって、メタライズ部17に電位が発生することを抑制できる。これにより、変形例は、耐水部材55によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。
(第2実施形態の変形例3)
図15は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す平面図である。図16は、第2実施形態に係る熱電モジュールの変形例を模式的に示す断面図である。
変形例3では、第2基板13の上面13aに配置されたメタライズ部とアノードのポスト電極26との間に突起物56を備える。言い換えると、第2基板13の上面13aに配置されたメタライズ部17に対して、カソードのポスト電極22及びアノードのポスト電極26を隔絶する突起部56を備える。突起部56は、メタライズ部17と給電用ワイヤ23及び給電用ワイヤ27の電気絶縁されていない露出部を離間させる。メタライズ部17は、突起部56によって、アノードのポスト電極26及びカソードのポスト電極22と接していない。
突起部56は、壁状に形成されている。突起部56は、第1電極15から上方に立設されている。突起部56は、左右方向において、ポスト21及びポスト25と、第2基板13との間に配置されている。突起部56の上下方向の上端部は、メタライズ部17より上方に位置する。突起部56の前後方向の長さは、第1基板12の前後方向の長さと同じである。
突起部56は、例えば、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、シリコンゴム、ポリパラキシリレン、ポリテトラフルオロエチレン等の電気絶縁材料で構成されている。
突起部56は、例えば、Cu、Ni、Pd、Au、Ag、Ti、W等の金属材料で構成されていてもよい。突起部56が金属材料で構成されている場合、突起部56とアノードのポスト電極26及びカソードのポスト電極22とは電気的に断絶されている必要がある。
変形例によれば、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、突起部56によって、メタライズ部17に水を介して電流が流れることを抑制できる。変形例は、熱電モジュール10は、第2基板13の結露中においても、突起部56によって、メタライズ部17に電位が発生することを抑制できる。これにより、変形例は、突起部56によって、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。
(第3実施形態)
図17は、第3実施形態に係るハウジングに搭載された熱電モジュールを模式的に示す平面図である。図18は、第3実施形態に係るハウジングに搭載された熱電モジュールを模式的に示す断面図である。図19は、第3実施形態に係る熱電モジュールの上面を模式的に示す平面図である。図20は、第3実施形態に係る熱電モジュールの下面を模式的に示す平面図である。図21は、第3実施形態に係る熱電モジュールを模式的に示す断面図である。図22は、第3実施形態に係るハウジングを模式的に示す平面図である。図23は、第3実施形態に係るハウジングを模式的に示す断面図である。
図17、図18は、熱電モジュール10が、回路付きハウジング(以下、「ハウジング」という。)9に搭載された熱電モジュールである。熱電モジュール10は、ハウジング9の上面93aに配置されている。ハウジング9は、熱電モジュール10、及び、光学部品100を収容するハウジングに電子回路を付加したものである。図18において、ハウジング9は、第1基板12の下面12bに接合された壁部のみを図示し、他の壁部は図示を省略している。ハウジング9は、熱電モジュール10と電気的に接続する電子回路を備える。
熱電モジュール10の一対の第1基板12及び第2基板13を載置するハウジング9には電気回路を備える。第1基板12はスルーホール121を備える。スルーホール121と電気回路を介して第1電極15及び第2電極16とアノードのポスト電極26及びカソードのポスト電極22とが電気的に接続される。ハウジング9の上面に突起物57を備える。
熱電モジュール10は、第1基板12の下面12bにメタライズ部81及びメタライズ部82を備える。メタライズ部81は、スルーホール121を介して、第1電極15と電気的に接続されている。メタライズ部81は、導電性を有する金属により形成される。スルーホール121は、上下方向視においてポスト電極22と重なる位置に配置されている。メタライズ部82は、スルーホール122を介して、第1電極15と電気的に接続されている。メタライズ部82は、導電性を有する金属により形成される。スルーホール122は、上下方向視においてポスト電極26と重なる位置に配置されている。
ハウジング9は、ハウジング基板90と、ハウジング基板90の上面90aに積層されたハウジング第1電極92と、ハウジング第1電極92の上面92aに積層された絶縁層91と、絶縁層91の上面91aに積層されたハウジング第2電極93とを備える。
ハウジング基板90は、電気絶縁材料によって形成される。ハウジング基板90は、板状に形成されている。実施形態において、ハウジング基板90は、矩形状に形成されている。
ハウジング第1電極92は、熱電モジュール10と組み付けられた状態で、上下方向視においてポスト電極26と重なる位置に、電極921が配置されている。電極921は、側面視において、ハウジング第2電極93と同じ上下方向の高さに配置されている。電極921は、スルーホール922を介して、ハウジング第1電極92と接続されている。電極921は、熱電モジュール10のメタライズ部82と接続される。
ハウジング第2電極93は、熱電モジュール10と組み付けられた状態で、上下方向視においてポスト電極26と重なる位置に、開口部931が形成されている。開口部931は、電極921の全周が露出する大きさ、形状に形成されている。
熱電モジュール10とハウジング9とは、接合層83を介して接合される。接合層83は、例えば、導電性を有する接着剤である。接合層83は、例えば、エポキシ、フェノール、アクリル、ウレタン及びシリコンなどの樹脂、Au、Ag、Cu、Ni及びCなどの導電フィラーである。
[効果]
実施形態によれば、メタライズ部17のエレクトロケミカルマイグレーションを抑制できる。実施形態は、冷却性能の低下を抑え、エレクトロケミカルマイグレーションを抑えることができる。
1…光通信装置、10…熱電モジュール、12…第1基板、12a…上面、12b…下面、13…第2基板、13a…上面、13b…下面、14…熱電変換素子(熱電素子)、14P…p型素子、14N…n型素子、15…第1電極、16…第2電極、17…メタライズ部、21…ポスト、22…ポスト電極(カソード電極)、23…給電用ワイヤ、25…ポスト、26…ポスト電極(アノード電極)、27…給電用ワイヤ、31…絶縁膜、41…ワイヤ(導電体構造)、100…光学部品。

Claims (12)

  1. 光通信に用いられる熱電モジュールであって、
    向かい合って配置された一対の基板と、
    前記一対の基板との間に配置された複数の熱電素子と、
    前記熱電素子を接続する一対の電極と、
    前記一対の基板のうちの一方の基板に配置されたメタライズ部と、
    前記一対の電極と電気的に接続されたアノード電極と、
    前記一対の電極と電気的に接続されたカソード電極と、
    前記メタライズ部と、前記アノード電極より電圧が低い部分とを電気的に接続する導電体構造と、
    を備える熱電モジュール。
  2. 前記導電体構造は、前記メタライズ部と前記カソード電極とを電気的に接続するワイヤである、
    請求項1に記載の熱電モジュール。
  3. 前記導電体構造は、前記メタライズ部と前記一対の電極のうちの一方の電極とを電気的に接続するスルーホールである、
    請求項1に記載の熱電モジュール。
  4. 前記導電体構造は、前記メタライズ部と前記一対の電極のうちの一方の電極とを電気的に接続するスルーホール及び導電部材である
    請求項1に記載の熱電モジュール。
  5. 前記導電部材は、前記複数の熱電素子と直列接続されていない
    請求項4に記載の熱電モジュール。
  6. 電源カソード、
    を備え、
    前記導電体構造は、前記メタライズ部と前記電源カソードとを電気的に接続する導線である
    請求項1に記載の熱電モジュール。
  7. 光通信に用いられる熱電モジュールであって、
    向かい合って配置された一対の基板と、
    前記一対の基板との間に配置された複数の熱電素子と、
    前記熱電素子を接続する一対の電極と、
    前記一対の基板のうちの一方の基板に配置されたメタライズ部と、
    前記一対の電極と電気的に接続されたアノード電極と、
    前記一対の電極と電気的に接続されたカソード電極と、
    前記メタライズ部、前記アノード電極及び前記カソード電極が互いに隔絶された状態で配置された耐水部材と、
    を備える熱電モジュール。
  8. 前記耐水部材は、前記アノード電極を覆って配置されている、
    請求項7に記載の熱電モジュール。
  9. 前記一対の基板のうちの他方の基板に配置されたハウジング、
    を備え、
    前記耐水部材は、前記カソード電極及び前記ハウジングの露出した部分を覆って配置されている、
    請求項7に記載の熱電モジュール。
  10. 前記耐水部材は、前記メタライズ部の露出した部分を覆って配置されている、
    請求項7に記載の熱電モジュール。
  11. 前記メタライズ部と前記アノード電極との間に配置された突起物、
    を備える請求項7に記載の熱電モジュール。
  12. 前記一対の基板を載置するハウジングには電気回路を備え、
    前記一対の基板のうち下側の基板はスルーホールを備え、
    前記スルーホールと前記電気回路を介して前記一対の電極と前記アノード電極及び前記カソード電極が接続され、
    前記ハウジングの上面に突起物を備えた
    請求項7に記載の熱電モジュール。
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