JP2023171856A

JP2023171856A - 半導体素子製造時に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング組成物及びエッチング方法

Info

Publication number: JP2023171856A
Application number: JP2023165894A
Authority: JP
Inventors: クエイコーチー; Jhih Kuei Ge; リーイー－チア; Yi-Chia Lee; ダーリウウェン; Wen Dar Liu; ウーアイピン; Aiping Wu; スンライション; Laisheng Sun
Original assignee: Versum Materials US LLC
Current assignee: Versum Materials US LLC
Priority date: 2019-09-30
Filing date: 2023-09-27
Publication date: 2023-12-05
Also published as: KR20220073813A; TW202128722A; CN114466852A; WO2021067150A1; JP2022550171A

Abstract

【課題】本開示及び本請求の対象は、（Ａ）リン酸並びに（Ｂ）ケイ素含有化合物（ｉ）及び水性溶媒（ｉｉ）を含む混合物を含むエッチング組成物に関する。【解決手段】幾つかの実施形態では本エッチング組成物は追加の成分を含む。本エッチング組成物は、窒化ケイ素や酸化ケイ素を有しているマイクロエレクトロニクス素子からそのマイクロエレクトロニクス素子の製造時に酸化ケイ素よりも窒化ケイ素を選択的に除去するために有用である。【選択図】なし

Description

分野

本開示及び本請求の対象はエッチング組成物に関連し、より具体的には、酸化膜のエッチング速度を最小限に抑えつつ窒化膜を選択的に除去することができる高選択性エッチング組成物及び前記エッチング組成物を用いるエッチング処理を含む半導体製造のための方法に関する。

関連技術

犠牲的窒化ケイ素（ＳｉＮ_ｘ）選択性除去は３Ｄ－ＮＡＮＤメモリ素子製造の重要工程の１つである。エッチング処理後にＳｉＮ_ｘが除去されてＳｉＯ_ｘフィン構造が変化していない酸化ケイ素（ＳｉＯ_ｘ）コアが残る。伝統的にはＳｉＮ_ｘエッチングは１６０℃の熱リン酸によって達成可能であるが、ケイ素材料又は酸化ケイ素材料と比べたＳｉＮ_ｘエッチングの選択性は概して先進的３Ｄ－ＮＡＮＤメモリテクノロジーにとって低いものである。

半導体素子の集積度が高くなるにつれ、それらの半導体素子の信頼性及び電気的諸特性はそれらの半導体素子を構成する層の損傷や変形に影響されやすくなる。したがって、エッチング液を使用して特定の材料層を選択的に除去するためにエッチング処理を実施するときはそのエッチング液が他の材料層に関して高いエッチング選択性を有し、そのエッチング処理によって生じる副産物を少なくして工程内不良を減少させることが望ましい。

したがって、このような高い集積度では３Ｄ－ＮＡＮＤ製造における犠牲的ＳｉＮ_ｘ選択性除去の材料選択性要件の重要性が高くなり、ＳｉＮ_ｘ層をエッチングする一方で効果的にＳｉＯ_ｘ層を変化させずにいることが望ましい。したがって、ＳｉＯ_ｘよりもさらに高いＳｉＮ_ｘ選択性を実現するためにＳｉＯ_ｘエッチング速度をさらに抑制することが当技術分野において求められている。

１つの態様では本開示及び本請求の対象は、マイクロエレクトロニクス素子からの酸化ケイ素よりも窒化ケイ素の選択的除去に適切なエッチング組成物であって、
（Ａ）リン酸、並びに
（Ｂ）水性溶媒及びケイ素含有化合物（有機ケイ素化合物と呼ばれる場合もある）を含む混合物
を含む前記エッチング組成物を提供する。

幾つかの実施形態では前記ケイ素含有化合物は式Ｉを有し、
式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、及び
（ｉｉｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択される。

幾つかの実施形態では前記ケイ素含有化合物は式ＩＩを有し、
式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^３が水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ^１、及びＺ^２からなる群より選択され、及び
（ｉｖ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ^１及びＺ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される。

幾つかの実施形態では前記ケイ素含有化合物は式ＩＩＩを有し、
式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ^ａが水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂが各々独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌは
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は約７０質量％以下の純リン酸を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は約６０質量％以下の純リン酸を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は約３０質量％以上の前記混合物を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は約４０質量％以上の前記混合物を含む。本実施形態のその他の態様では前記純リン酸及び前記混合物が組み合わさって前記エッチング組成物の約１００質量％を構成する。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は約７０質量％超の純リン酸を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は約７５質量％超の純リン酸を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は約３０質量％以下の前記混合物を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は約２５質量％以上の前記混合物を含む。本実施形態のその他の態様では前記純リン酸及び前記混合物が組み合わさって前記エッチング組成物の約１００質量％を構成する。

幾つかの実施形態では前記混合物はリン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む。本実施形態の１つの態様ではこの少なくとも１種類の追加の酸は硝酸（ＨＮＯ_３）、硫酸（Ｈ_２ＳＯ_４）、塩酸（ＨＣｌ）、及びスルホン酸（メタンスルホン酸（ＣＨ_３ＳＯ_３Ｈ）等）のうちの１つである。その他の態様ではこの少なくとも１種類の追加の酸は硫酸を含む。

別の態様では本開示及び本請求の対象は、窒化ケイ素及び二酸化ケイ素を含む複合型半導体素子上における二酸化ケイ素と比べた窒化ケイ素のエッチング速度を選択的に向上させる方法であって、窒化ケイ素及び二酸化ケイ素を含む前記複合型半導体素子を前記エッチング組成物と接触させる工程を含む前記方法を提供する。

幾つかの実施形態では式Ｉ、式ＩＩ及び／又は式ＩＩＩの前記化合物は、エポキシ基、スチリル基、メタシロキシ基、アシロキシ基、ウレイド基、イソシアナト基、イソシアヌレート基、及びメルカプト基などの追加選択可能な基を１か所以上の水素の位置に含むことができる。

本開示及び本請求の対象のこれらの実施形態は単独で用いられても互いに組み合わせて用いられてもよい。

本明細書において引用される刊行物、特許出願、及び特許を含む全ての参照文献は、各参照文献が参照により援用されると個別及び具体的に示され、且つ、本明細書においてその全体が説明されている場合と同程度まで参照により本明細書に援用される。

本開示及び本請求の対象の説明（特に後続の特許請求の範囲）という文脈の中で「ａ」及び「ａｎ」及び「ｔｈｅ」という用語、並びに同様の指示物を使用することは、本明細書において別途指示されない限り又は文脈から明確に否定されない限り単数形と複数形の両方を含むと解釈されるべきである。「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、及び「含む（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」という用語は、別段の断りがない限り非制限型の用語（すなわち、「含むが限定されない」を意味する）として解釈されるべきである。本明細書における値の範囲の列挙は、本明細書において別途指示されない限り、単にその範囲内にある一つ一つの値を個別に参照する簡単な方法として作用することを意図したものあり、一つ一つの値は個々に本明細書において列挙されているかのように本明細書中に組み入れられる。本明細書に記載される全ての方法は、本明細書において別途指示されない限り又は文脈から明確にそうでないと否定されない限りあらゆる適切な順序で実施できる。本明細書において提示されるありとあらゆる例又は例示的表現（例えば「等」）の使用は単に本開示及び本請求の対象をより良好に表現することを意図したものであり、特許請求の範囲において別途請求されない限り本開示及び本請求の対象の範囲を制限するものではない。本明細書には、特許請求の範囲において請求されていない要素を本開示及び本請求の対象の実施にとって必須であると指示していると解釈されるべき表現は存在しない。

本開示及び本請求の対象の好ましい実施形態は、本発明者らが知る本開示及び本請求の対象を実施するための最良の形態を含み本明細書に記載されている。前述の説明を読むと当業者にはこれらの好ましい実施形態の変形が明らかになる場合がある。本発明者らは当業者がこれらの変形を適切なものとして用いることを期待しており、本発明者らは本開示及び本請求の対象が本明細書において具体的に記載されるものとは異なる方式で実施されることを意図している。したがって、本開示及び本請求の対象は、準拠法によって認められるように本明細書に添付されている特許請求の範囲の中で列挙されている本対象の全ての改変物と均等物を含む。また、上記の要素の全ての可能な変形の中におけるそれらの要素のあらゆる組合せが、本明細書において別途指示されない限り又は文脈から明確にそうでないと否定されない限り本開示及び本請求の対象に包含される。

本開示及び本請求の対象は、窒化ケイ素や酸化ケイ素を有しているマイクロエレクトロニクス素子からそのマイクロエレクトロニクス素子の製造時に酸化ケイ素よりも窒化ケイ素を選択的に除去するために有用な組成物に概して関する。

簡単に参照できるように「マイクロエレクトロニクス素子」又は「半導体基板」は、マイクロエレクトロニクス用途、集積回路用途、又はコンピュータチップ用途において使用するために製造される半導体ウエハー、フラットパネルディスプレイ、相変化メモリ素子、ソーラーパネル、並びにソーラー基板、光起電力、及びマイクロエレクトロメカニカルシステム（ＭＥＭＳ）を含む他の製品に対応する。ソーラー基板にはシリコン、アモルファスシリコン、ポリクリスタリンシリコン、モノクリスタリンシリコン、ＣｄＴｅ、セレン化銅インジウム、硫化銅インジウム、及びガリウムヒ化ガリウムが挙げられるがこれらに限定されない。前記ソーラー基板はドープ型でも非ドープ型でもよい。「マイクロエレクトロニクス素子」という用語には多少なりとも限定的な意味は無く、最終的にマイクロエレクトロニクス素子又はマイクロエレクトロニクス組立品になるあらゆる基板が含まれることを理解されたい。これらのマイクロエレクトロニクス素子又は半導体基板は低誘電率（ｋ）誘電材料、バリヤー材料、及び金属、例えばＡｌＣｕ合金、Ｗ、Ｔｉ、ＴｉＮ、並びにマイクロエレクトロニクス素子上又は半導体基板上の他の材料を含み得る。

本明細書において定義される場合、「低誘電率（ｋ）誘電材料」は層状マイクロエレクトロニクス素子中に誘電材料として使用される約３．５未満の誘電率を有するあらゆる材料に相当する。これらの低誘電率（ｋ）誘電材料はケイ素含有有機高分子、ケイ素含有有機／無機ハイブリッド材料、有機ケイ酸塩ガラス（ＯＳＧ）、ＴＥＯＳ、フッ素添加ケイ酸塩ガラス（ＦＳＧ）、二酸化ケイ素、及びカーボンドープ酸化物（ＣＤＯ）ガラスなどの低極性材料を含むことが好ましい。これらの低誘電率（ｋ）誘電材料は様々な密度及び様々な多孔性を有し得ることを理解されたい。

本明細書において定義される場合、「バリヤー材料」という用語は金属、例えば銅の前記誘電材料中への拡散を最小限にするためにその金属線、例えば銅配線に封をするために当技術分野において使用されるあらゆる材料に相当する。好ましいバリヤー層材料にはタンタル、チタン、ルテニウム、ハフニウム、及び他の耐熱金属並びにそれらの窒化物及びケイ化物が挙げられる。

本明細書では「実質的に含まない」は２質量％未満、好ましくは１質量％未満、より好ましくは０．５質量％未満、最も好ましくは０．１質量％未満として定義される。「実質的に含まない」には０．０質量％も含まれる。「含まない」という用語は０．０質量％を意味する。

本明細書において使用される場合、「約」及び「およそ」という用語はそれぞれ表示されている値の±５％に対応することが意図されている。

本明細書において使用される場合、「純」は希釈されていない酸又は他の材料の質量％の量を指す。例えば、１００ｇの８５％リン酸の中に含まれるものは８５ｇのその酸と１５グラムの希釈剤という構成である。

共有結合の結合点として知られ、理解されている表示に加えて
の記号も共有結合の結合点を表すことが意図されている。

組成物の特定の構成要素がゼロ下限を含む質量パーセンテージ範囲を参照して議論される全てのこのような組成物ではこのような構成要素は前記組成物の様々な具体的な実施形態では存在しても存在していなくてもよいこと、及びこのような構成要素が存在する例ではそれらの構成要素は、このような構成要素が用いられている前記組成物の総質量に対して０．００１質量パーセントもの低濃度で存在し得ることを理解されたい。これらの構成要素の全ての規定の質量パーセントは、別段の指示がない限り前記組成物の総質量に基づくことに留意されたい。さらに、全ての質量パーセントは別段の指示がない限り「純」であり、前記組成物にこれらの構成要素が添加されてそれらの構成要素が存在している水性組成物を含まないことを意味する。「少なくとも１」を参照するときはいつも「１以上」で置き換え可能である。「少なくとも１」や「１以上」は「少なくとも２」又は「２以上」及び「少なくとも３」や「３以上」などを含む。

広義には本開示及び本請求の対象の実施は、（Ａ）リン酸及び（Ｂ）本明細書において開示されるケイ素含有化合物と水性溶媒の混合物を含む、又はこれらから基本的に成る、又はこれらから成る上記のエッチング組成物に関する。幾つかの態様では前記エッチング組成物は他の成分を含むことができる。

幾つかの実施形態では本明細書において開示される前記エッチング組成物は以下の化合物、すなわち過酸化水素及び他の過酸化物、アンモニウムイオン、フッ化物イオン、無機塩基、水酸化第四級アンモニウム、金属含有化合物、並びに研磨剤のうちの少なくとも１つを実質的に含まないように製剤される。

その他の実施形態では前記エッチング組成物は（ｉ）リン酸及び（ｉｉ）本明細書において開示される前記ケイ素含有化合物と水性溶媒の前記混合物から基本的に成る。このような実施形態では（ｉ）と（ｉｉ）の合計量は１００質量％に等しくはなく、前記エッチング組成物の有効性を実質的に変化させない他の成分を含むことができる。

別の実施形態では前記エッチング組成物は（ｉ）リン酸及び（ｉｉ）様々な濃度の本明細書において開示される前記ケイ素含有化合物と前記水性溶媒から成る。このような実施形態では（ｉ）と（ｉｉ）の合計量は１００質量％に等しいが、前記組成物の有効性を実質的に変化させないこのような少量で存在する少量及び／又は微量の他の不純物を含むことがある。例えば、１つのこのような実施形態では前記エッチング組成物は２質量％以下の不純物を含み得る。別の実施形態では前記エッチング組成物は１質量％以下の不純物を含み得る。その他の実施形態では前記エッチング組成物は０．０５質量％以下の不純物を含み得る。

本明細書に記載される本発明の組成物の組成を質量％換算で参照するとき、不純物などの非必須構成要素を含む全ての構成要素の質量％が加算されて１００質量％を超えることは決してないことが理解される。列挙された構成要素から「基本的に成」る組成物ではこのような構成要素は加算されて前記組成物の１００質量％になることも加算されて１００質量％未満になることもある。これらの構成要素が加算されて１００質量％未満になる場合ではこのような組成物は幾らか少量の非必須混入物質又は不純物を含む場合がある。例えば、１つのこのような実施形態では前記エッチング組成物は２質量％以下の不純物を含み得る。別の実施形態では前記エッチング組成物は１質量％以下の不純物を含み得る。その他の実施形態では前記エッチング組成物は０．０５質量％以下の不純物を含み得る。他のこのような実施形態では前記成分は少なくとも９０質量％、より好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％、最も好ましくは少なくとも９９．９質量％になることができ、且つ、前記エッチング組成物の性能に実質的に影響しない他の成分を含むことができる。あるいは、重要な非必須不純物成分が存在しない場合では全ての必須構成要素の組合せは基本的に加算されて１００質量％になることが理解される。

組成物

上記のように、本開示及び本請求の対象は、（Ａ）リン酸及び（Ｂ）本明細書において開示されるケイ素含有化合物と水性溶媒の混合物を含む、又はこれらから基本的に成る、又はこれらから成るエッチング組成物に関する。幾つかの態様では前記エッチング組成物は他の成分を含むことができる。

成分

（Ａ）リン酸

本開示及び本請求の対象の前記エッチング組成物にはリン酸が含まれる。商業品質のリン酸が使用可能である。この市販のリン酸は８０％～８５％の水性組成物として利用可能であることが典型的である。好ましい実施形態ではエレクトロニクス用品質のリン酸組成物が使用され、このようなエレクトロニクス用品質の組成物は粒子数が１００粒子／ｍｌ以下であることが典型的であり、それらの粒子のサイズは０．５ミクロン以下であり、リットル当たり低パーツパーミリオン～低パーツパービリオンのレベルで前記酸の中に金属イオンが存在する。ある特定の実施形態では他の無機酸、例えば、フッ化水素酸、硝酸、又はそれらの混合物等が本開示及び本請求の対象の前記組成物に添加されることはない。

リン酸が（純粋物基準で）以下の質量パーセントのリストから選択される始点と終点を有する範囲、すなわち前記組成物の約４０質量％～約９５質量％、約４５質量％～約９０質量％、又は約５０質量％～約９０質量％、又は約５５質量％～約８５質量％という範囲の中の量で含まれる。このリン酸は以下の質量パーセントのリストによって規定される量、すなわち３０％、３５％、３７％、４０％、４２％、４５％、４７％、５０％、５２％、５５％、５７％、６０％、６２％、６５％、６８％、７０％、７２％、７５％、７８％、８０％、８２％、８５％、８８％、９０％、９２％、及び９５％の量で存在してもよい。

幾つかの実施形態では前記純リン酸の含量は約７０質量％以下である。本実施形態のその他の態様では前記純リン酸の含量は約６０質量％以下である。

幾つかの実施形態では前記純リン酸の含量は約７０質量％超である。本実施形態のその他の態様では前記純リン酸の含量は約７５質量％超である。

（Ｂ）混合物

上記の通り、前記エッチング組成物には（Ｉ）本明細書において開示されるケイ素含有化合物と（ＩＩ）水性溶媒の混合物が含まれる。

Ｉ．ケイ素含有化合物

前記ケイ素含有化合物の量は前記エッチング組成物の約０．００１質量％～約１５質量％の範囲になる。前記ケイ素含有化合物は前記エッチング組成物の約０．１質量％～約１０質量％を構成することが好ましい。前記組成物に転化される前記ケイ素含有化合物の表記された質量パーセントを含むこれらの質量パーセントは、別段の指示がない限り、純粋物基準である。代替的実施形態では前記ケイ素含有化合物は以下の質量パーセントのリストによって規定される始点と終点を有する範囲内の量、すなわち０．００１、０．０１％、０．１％、０．２％、０．３％、０．４％、０．５％、０．６％、０．７％、０．８％、０．９％、１％、１．２％、１．５％、１．７％、２％、２．２％、２．５％、２．７％、３％、３．２％、３．５％、３．７％、４％、４．２％、４．５％、４．７％、５％、５．２％、５．５％、５．７％、６％、６．２％、６．５％、６．８％、７％、７．２％、７．５％、７．８％、８％、８．２％、８．５％、８．８％、９％、９．２％、９．５％、１０％、１２％、１５％、１７％、及び２０％の量で存在し得る。

式Ｉの前記ケイ素含有化合物を含む前記エッチング組成物の幾つかの実施形態ではＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が同じである。本実施形態のその他の態様ではＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が水素である。

式Ｉの前記ケイ素含有化合物を含む前記エッチング組成物の幾つかの実施形態ではＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５のうちの少なくとも１つが水素以外のものである。

式Ｉの前記ケイ素含有化合物を含む前記エッチング組成物の幾つかの実施形態ではｍは０～２０である。本実施形態のその他の態様ではｍは０である。本実施形態のその他の態様ではｍは１である。本実施形態のその他の態様ではｍは２である。本実施形態のその他の態様ではｍは３である。本実施形態のその他の態様ではｍは４である。本実施形態のその他の態様ではｍは５である。本実施形態のその他の態様ではｍは６である。本実施形態のその他の態様ではｍは７である。本実施形態のその他の態様ではｍは８である。本実施形態のその他の態様ではｍは９である。本実施形態のその他の態様ではｍは１０である。本実施形態のその他の態様ではｍは１１である。本実施形態のその他の態様ではｍは１２である。本実施形態のその他の態様ではｍは１３である。本実施形態のその他の態様ではｍは１４である。本実施形態のその他の態様ではｍは１５である。本実施形態のその他の態様ではｍは１６である。本実施形態のその他の態様ではｍは１７である。本実施形態のその他の態様ではｍは１８である。本実施形態のその他の態様ではｍは１９である。本実施形態のその他の態様ではｍは２０である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では式Ｉの前記ケイ素含有化合物の含量は約５質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式Ｉの前記ケイ素含有化合物の含量は約４質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式Ｉの前記ケイ素含有化合物の含量は約３質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式Ｉの前記ケイ素含有化合物の含量は約２質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式Ｉの前記ケイ素含有化合物の含量は約１質量％以下である。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である式Ｉの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０であり、（ｉｖ）Ｒ^３が
である式Ｉの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である式Ｉの前記ケイ素含有化合物を含む。

式ＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む前記エッチング組成物の幾つかの実施形態ではｍは０～２０である。本実施形態のその他の態様ではｍは０である。本実施形態のその他の態様ではｍは１である。本実施形態のその他の態様ではｍは２である。本実施形態のその他の態様ではｍは３である。本実施形態のその他の態様ではｍは４である。本実施形態のその他の態様ではｍは５である。本実施形態のその他の態様ではｍは６である。本実施形態のその他の態様ではｍは７である。本実施形態のその他の態様ではｍは８である。本実施形態のその他の態様ではｍは９である。本実施形態のその他の態様ではｍは１０である。本実施形態のその他の態様ではｍは１１である。本実施形態のその他の態様ではｍは１２である。本実施形態のその他の態様ではｍは１３である。本実施形態のその他の態様ではｍは１４である。本実施形態のその他の態様ではｍは１５である。本実施形態のその他の態様ではｍは１６である。本実施形態のその他の態様ではｍは１７である。本実施形態のその他の態様ではｍは１８である。本実施形態のその他の態様ではｍは１９である。本実施形態のその他の態様ではｍは２０である。

式ＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む前記エッチング組成物の幾つかの実施形態ではｎは０～２０である。本実施形態のその他の態様ではｎが０である。本実施形態のその他の態様ではｎは１である。本実施形態のその他の態様ではｎは２である。本実施形態のその他の態様ではｎは３である。本実施形態のその他の態様ではｎは４である。本実施形態のその他の態様ではｎは５である。本実施形態のその他の態様ではｎは６である。本実施形態のその他の態様ではｎは７である。本実施形態のその他の態様ではｎは８である。本実施形態のその他の態様ではｎは９である。本実施形態のその他の態様ではｎは１０である。本実施形態のその他の態様ではｎは１１である。本実施形態のその他の態様ではｎは１２である。本実施形態のその他の態様ではｎは１３である。本実施形態のその他の態様ではｎは１４である。本実施形態のその他の態様ではｎは１５である。本実施形態のその他の態様ではｎは１６である。本実施形態のその他の態様ではｎは１７である。本実施形態のその他の態様ではｎは１８である。本実施形態のその他の態様ではｎは１９である。本実施形態のその他の態様ではｎは２０である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では式ＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約５質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式ＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約４質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式ＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約３質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式ＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約２質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式ＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約１質量％以下である。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は式ＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）Ｚ^１及びＺ^２の各々が
である式ＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｉｉ）Ｚ^１及びＺ^２の各々が
である式ＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｉ）Ｚ^１及びＺ^２の各々が
である式ＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝０及び（ｉｉｉ）Ｚ^１及びＺ^２の各々が
である式ＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記ケイ素含有化合物は式ＩＩＩを有し、
式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が独立して水素、ヒドロキシル、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ^ａが水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂが各々独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌは
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約５質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約４質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約３質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約２質量％以下である。本実施形態のその他の態様では式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物の含量は約１質量％以下である。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）Ｌが
であり、（ｉｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が１～５であり、（ｉｖ）ｎ＝０である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。本実施形態のその他の態様ではｍ１とｍ２の合計が１である。本実施形態のその他の態様ではｍ１とｍ２の合計が２である。本実施形態のその他の態様ではｍ１とｍ２の合計が３である。本実施形態のその他の態様ではｍ１とｍ２の合計が４である。本実施形態のその他の態様ではｍ１とｍ２の合計が５である。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａが

であり、式中、Ｒａが
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａが
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａが
であり、式中、Ｒ^ａが
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が－ＯＣＨ_３であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が２であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
であり、式中、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々がＦである式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝２であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａが
であり、（ｖ）ｍ１＝０及び（ｖｉ）Ｌが
である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａが
であり、式中、Ｒ^ａ及びＲ^ｂが－ＣＨ_３であり、（ｖ）ｍ１＝３であり、（ｖｉ）Ｌが
である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が２であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が１であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、次の構造、すなわち
を有する式ＩＩＩの前記ケイ素含有化合物を含み、式中、Ｒは
であり、ｘは１～５である。本実施形態のその他の態様ではｘは１である。本実施形態のその他の態様ではｘは２である。本実施形態のその他の態様ではｘは３である。本実施形態のその他の態様ではｘは４である。本実施形態のその他の態様ではｘは５である。

幾つかの実施形態では前記１つ以上のケイ素含有化合物は、式Ｉ、式ＩＩ及び／又は式ＩＩＩを有する１種類以上のケイ素含有化合物の組合せ物を含む。

ＩＩ．水性溶媒

本開発の前記エッチング組成物は水性であり、水を含む。本開示及び本請求の対象では水は様々な形で機能し、例えば、前記組成物の１種類以上の構成要素を溶解するため、それらの構成要素の担体として、残留物を除去するときの助剤として、前記組成物の粘度調整剤として、及び希釈剤として機能する。前記エッチング組成物に使用される水は脱イオン（ＤＩ）水であることが好ましい。

幾つかの実施形態では前記水性溶媒は水を含む。本実施形態のその他の態様では前記水性溶媒は水から基本的に成る。本実施形態のその他の態様では前記水性溶媒は水から成る。

水は以下の質量パーセントのリストから選択される始点と終点を有する範囲、すなわち前記エッチング組成物の約１質量％～約５０質量％という範囲の中の量で含まれる。本開示及び本請求の対象の他の好ましい実施形態は約５．０質量％～約３５質量％又は１０質量％～３０質量％の水を含む。水は以下の質量パーセントのリストによって規定される量、すなわち１％、５％、８％、１０％、１２％、１５％、１７％、２０％、２２％、２５％、２７％、３０％、３２％、３５％、３７％、４０％、４２％、４５％、４７％、及び５０％の量で存在してよい。本開示及び本請求の対象のさらに他の好ましい実施形態はこれらの他の成分の所望の質量パーセントを達成するような量の水を含むことが可能である。

エッチング組成物の例となる実施形態

以下のものは、（Ａ）純リン酸及び（Ｂ）（Ｉ）本明細書において開示されるケイ素含有化合物と（ＩＩ）水性溶媒の混合物を含むエッチング組成物の例となる実施形態である。

１つの実施形態では前記エッチング組成物は、
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式Ｉ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、及び
（ｉｉｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから基本的に成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから成る。

１つの実施形態では前記エッチング組成物は、
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^３が水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ^１、及びＺ^２からなる群より選択され、及び
（ｉｖ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ^１及びＺ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから基本的に成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから成る。

１つの実施形態では前記エッチング組成物は、
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ^ａが水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂが各々独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌは
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから基本的に成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから成る。

１つの実施形態では前記エッチング組成物は、
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式Ｉ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、及び
（ｉｉｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから基本的に成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は（ｉ）約７５質量％超の純リン酸及び（ｉｉ）約２５質量％未満の前記混合物を含む。

１つの実施形態では前記エッチング組成物は、
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^３が水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ^１、及びＺ^２からなる群より選択され、及び
（ｉｖ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ^１及びＺ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから基本的に成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は（ｉ）約７５質量％超の純リン酸及び（ｉｉ）約２５質量％未満の前記混合物を含む。

１つの実施形態では前記エッチング組成物は、
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）
Ｒ^ａが水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される、
（ｃ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂが各々独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌは
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を含む。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから基本的に成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物はＡ及びＢから成る。本実施形態のその他の態様では前記エッチング組成物は（ｉ）約７５質量％超の純リン酸及び（ｉｉ）約２５質量％未満の前記混合物を含む。

Ｃ．他の成分

上で例示したエッチング組成物を含む前記エッチング組成物は以下に記載するような他の成分を含むことができる。

Ｉ．追加の酸

幾つかの実施形態では前記混合物はリン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む。本実施形態の１つの態様では前記少なくとも１種類の追加の酸は硝酸（ＨＮＯ_３）、硫酸（Ｈ_２ＳＯ_４）、塩酸（ＨＣｌ）、及びスルホン酸（例えばメタンスルホン酸（ＣＨ_３ＳＯ_３Ｈ））のうちの１つである。

（ａ）硫酸

幾つかの実施形態では前記混合物の中に含まれる前記少なくとも１種類の追加の酸は硫酸である。本実施形態の１つの態様では前記少なくとも１種類の追加の酸は約２５質量％以下の純硫酸を含む。本実施形態のその他の態様では前記少なくとも１種類の追加の酸は硫酸から成る。幾つかの実施形態では前記少なくとも１種類の追加の酸は約２５質量％以下の純硫酸から成る。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では前記混合物は純硫酸を含み、前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。本実施形態のその他の態様では前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．５質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では前記混合物は純硫酸をさらに含み、１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約７．０質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約６．０質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約５．０質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約４．０質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約３．０質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約２．５質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約３．０質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約２．２５質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約２．５質量部の純リン酸が存在する。本実施形態のその他の態様では１質量部の純硫酸当たり約２．７５質量部の純リン酸が存在する。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では前記混合物は純硫酸をさらに含み、前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。本実施形態のその他の態様では前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．５質量％である。

硫酸を含む前記エッチング組成物の様々な非限定的な実施形態を以下に例示する。

（ｉ）式Ｉのケイ素含有化合物及び硫酸を含む組成物の例となる実施形態

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含む。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．５質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．８３質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．９４質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８４．２７質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８４．６質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式Ｉの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸並びに（Ｂ）（ｉ）約５質量％以下の
（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び（ｉｉｉ）水を含む水性溶媒を含む約４０質量％以上の混合物を含む。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸並びに（Ｂ）（ｉ）約５質量％以下の

（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び（ｉｉｉ）水から基本的に成る水性溶媒を含む約４０質量％以上の前記混合物から基本的に成る。

幾つかの実施形態では前記エッチング組成物は、（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸並びに（Ｂ）（ｉ）約５質量％以下の
（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び（ｉｉｉ）水から成る水性溶媒から成る約４０質量％以上の混合物から成る。

（ｉｉ）式ＩＩのケイ素含有化合物及び硫酸を含む組成物の例となる実施形態

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩの前記化合物は
及び（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．５質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含む。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である。

（ｉｉｉ）式ＩＩＩのケイ素含有化合物及び硫酸を含む組成物の例となる実施形態

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、式中、Ｒは
であり、且つ、ｘは１～５であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含む。本実施形態のその他の態様ではｘは１である。本実施形態のその他の態様ではｘは２である。本実施形態のその他の態様ではｘは３である。本実施形態のその他の態様ではｘは４である。本実施形態のその他の態様ではｘは５である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、式中、Ｒは
であり、且つ、ｘは１～５であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。本実施形態のその他の態様ではｘは１である。本実施形態のその他の態様ではｘは２である。本実施形態のその他の態様ではｘは３である。本実施形態のその他の態様ではｘは４である。本実施形態のその他の態様ではｘは５である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、式中、Ｒは
であり、且つ、ｘは１～５であり、（ｉｉ）前記混合物は硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．５質量％である。本実施形態のその他の態様ではｘは１である。本実施形態のその他の態様ではｘは２である。本実施形態のその他の態様ではｘは３である。本実施形態のその他の態様ではｘは４である。本実施形態のその他の態様ではｘは５である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＳｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_３）であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含む。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＳｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_３）であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＳｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_３）であり、（ｉｉ）前記混合物は硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．５質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含む。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．５質量％である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は純硫酸をさらに含み、（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である。

前記エッチング組成物の幾つかの実施形態では（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物は
であり、（ｉｉ）前記混合物は硫酸をさらに含み、及び（ｉｉｉ）前記純リン酸と前記純硫酸の総含量は前記組成物の約８３．５質量％である。

（ｂ）スルホン酸

幾つかの実施形態では前記混合物の中に含まれる前記少なくとも１種類の追加の酸はスルホン酸である。このスルホン酸はアルキルスルホン酸又はアリールスルホン酸であることが典型的である。スルホン酸はＲ’－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－ＯＨという一般構造を有する。本実施形態の１つの態様ではＲ’はＣ_１～Ｃ１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基から選択される。本実施形態の別の態様ではＲ’はＣ_１～Ｃ１０直鎖アルキル基又はＣ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基から選択される。別の態様では前記混合物にはエタンスルホン酸、３－ヒドロキシプロパン－１－スルホン酸、３－アミノ－１－プロパンスルホン酸、スルホ酢酸、ノナフルオロブタン－１－スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、３－アミノベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物、及びメタンスルホン酸から選択される１種類以上のスルホン酸が含まれる。本実施形態の１つの態様では前記スルホン酸はメタンスルホン酸（ＣＨ_３ＳＯ_３Ｈ）である。

（ｃ）他の酸

幾つかの実施形態では前記混合物の中に含まれる前記少なくとも１種類の追加の酸は硫酸であり、硝酸（ＨＮＯ_３）及び塩酸（ＨＣｌ）のうちの１つ以上である。

この少なくとも１種類の追加の酸（スルホン酸及び／又は硫酸など）の総量は前記エッチング組成物の約０．１質量％～約６０％、約０．２質量％～約４０％、又は約０．５質量％～約３５質量％である。この少なくとも１種類の追加の酸が使用されるときは前記組成物の約１質量％～約３０質量％で含まれることが好ましい。代替的実施形態でこの少なくとも１種類の追加の酸の総量は以下の質量パーセントのリストによって規定される始点と終点を有する範囲内の量、すなわち０．１％、０．５％、０．８％、１％、２％、３％、４％、５％、６％、７．０％、８％、９％、１０％、１１％、１２％、１３％、１４％、１５％、１６％、１７％、１８％、１９％、２０％、２１％、２２％、２３％、２４％、２５％、２７％、３０％、３２％、３５％、３７％、及び４０％の量である。これらの質量パーセンテージは「純」物質の質量パーセント値である。

代替的実施形態では本開示及び本請求の対象の前記組成物はこの少なくとも１種類の追加の酸（硫酸及び／又はスルホン酸などの添加）を含まないか、又は実質的に含まない。

ＩＩ．追加のケイ素含有化合物

幾つかの実施形態では前記混合物は式Ｉ、式ＩＩ、又は式ＩＩＩの化合物以外の追加のケイ素含有化合物を含むことができる。このような追加のケイ素含有化合物はアルキルシルセスキオキサン類、ビニルシルセスキオキサン、カルボン酸アルキルシルセスキオキサン及びアルキレングリコールアルキルシルセスキオキサンのうちの１種類以上であり得る。

ＩＩＩ．ヒドロキシル基含有水混和性溶媒

幾つかの実施形態では前記混合物はヒドロキシル基含有水混和性溶媒を含むことができる。このヒドロキシル基含有水混和性溶媒は、窒化ケイ素が優先的及び選択的にエッチングされるように酸化ケイ素を保護するように主に機能する。

適切なヒドロキシル基含有水混和性溶媒の分類にはアルカンジオール及びアルカンポリオール（アルキレングリコールを含むがこれに限定されない）、グリコール、アルコキシアルコール（グリコールモノエーテルを含むがこれに限定されない）、飽和脂肪族一価アルコール、不飽和非芳香族一価アルコール、及び環含有低分子量アルコールが挙げられるがこれらに限定されない。

（Ｃ_２～Ｃ_２０）アルカンジオール及び（Ｃ_３～Ｃ_２０）アルカントリオールなどの適切な水溶性アルカンジオール及びアルカンポリオールの例には２－メチル－１，３－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，２－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、及びピナコールが挙げられるがこれらに限定されない。

適切な水溶性アルキレングリコールの例にはエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、及びテトラエチレングリコールが挙げられるがこれらに限定されない。

適切な水溶性アルコキシアルコールの例には３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、３－メトキシ－１－ブタノール、１－メトキシ－２－ブタノール、及び水溶性グリコールモノエーテルが挙げられるがこれらに限定されない。

適切な水溶性グリコールモノエーテルの例にはエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、１－メトキシ－２－プロパノール、２－メトキシ－１－プロパノール、１－エトキシ－２－プロパノール、２－エトキシ－１－プロパノール、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル及びエチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、及びそれらの混合物が挙げられるがこれらに限定されない。

適切な水溶性飽和脂肪族一価アルコールの例にはメタノール、エタノール、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、１－ブタノール、２－ブタノール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、２－ペンタノール、ｔ－ペンチルアルコール、１－ヘキサノール、及びそれらの混合物が挙げられるがこれらに限定されない。

適切な水溶性不飽和非芳香族一価アルコールの例にはアリルアルコール、プロパギルアルコール、２－ブテニルアルコール、３－ブテニルアルコール、４－ペンテン－２－オール、及びそれらの混合物が挙げられるがこれらに限定されない。

適切な水溶性環含有低分子量アルコールの例にはα－テルピネオール、テトラヒドロフルフリルアルコール、フルフリルアルコール、１，３－シクロペンタンジオール、及びそれらの混合物が挙げられるがこれらに限定されない。

幾つかの実施形態ではヒドロキシル基含有水混和性溶媒の量は前記組成物の約１．０質量％～約３０質量％を構成する。このヒドロキシル基含有水混和性溶媒が使用されるときはこのヒドロキシル基含有水混和性溶媒が前記組成物の約５質量％～約１５質量％を構成することが好ましい。

幾つかの実施形態では本開示及び本請求の対象の前記組成物はヒドロキシル基含有水混和性溶媒を含まないか、若しくは実質的に含まず、又は上記のヒドロキシル基含有水混和性溶媒のどれか若しくは全てを含まないか、若しくは実質的に含まない。

ＩＶ．ケイ酸

幾つかの実施形態では前記混合物はケイ酸を含むことができる。ケイ酸が使用される場合ではこのケイ酸は酸化ケイ素の保護及び窒化ケイ素エッチングの選択性の向上を補助する。

幾つかの実施形態ではケイ酸の量は前記組成物の約０．００１質量％～約５．０質量％を構成し、好ましくは約０．０１質量％～約２．０質量％を構成する。他の実施形態ではこのケイ酸は前記組成物の約０．０２質量％～約０．０８質量％を構成する。

幾つかの実施形態では本開示及び本請求の対象の前記組成物はケイ酸を添加されないか、又は実質的に添加されない。

Ｖ．リン酸化合物

幾つかの実施形態では前記混合物はリン酸化合物、例えばトリエチルリン酸（ＴＥＰＯ）及び／又はトリメチルリン酸（ＴＭＰＯ）などを含むことができる。リン酸化合物が使用される場合ではこのリン酸化合物は補足的な溶媒として機能する。

幾つかの実施形態では前記リン酸化合物（例えばＴＭＰＯ）の量は前記組成物の約０．０５質量％～約１５質量％を構成し、好ましくは約０．１質量％～約５質量％を構成する。他の実施形態ではリン酸化合物が使用されるときにはこのリン酸化合物（例えばＴＭＰＯ）は前記組成物の約２質量％を構成する。

幾つかの実施形態では本開示及び本請求の対象の前記組成物はリン酸化合物を添加されないか、又は実質的に添加されない。

ＶＩ．界面活性剤

幾つかの実施形態では前記混合物は少なくとも１種類の水溶性非イオン性界面活性剤を含むことができる。界面活性剤は残留物の除去を補助するように働く。

これらの水溶性非イオン性界面活性剤の例にはポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビットテトラオレエート、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ポリエチレングリコールモノオレエート、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、アルキルアルカノールアミド、及びそれらの混合物が挙げられる。

幾つかの実施形態では前記界面活性剤の量としては、前記組成物の約０．００１質量％～約５質量％が挙げられ、好ましくは前記組成物の約０．０１質量％～約２．５質量％が挙げられ、最も好ましくは前記組成物の約０．１質量％～約１．０質量％が挙げられる。

幾つかの実施形態では本開示及び本請求の対象の前記組成物は界面活性剤を含まないか、又は実質的に含まない。

ＶＩＩ．キレート剤

幾つかの実施形態では前記混合物は少なくとも１種類の金属キレート剤を含むことができる。金属キレート剤は、金属を組成物中に保持し、且つ、金属残留物の溶解を増強する前記組成物の能力を上昇させるように機能し得る。

適切なキレート剤の例には以下の有機酸及びそれらの異性体及び塩、すなわちエチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）、ブチレンジアミンテトラ酢酸、（１，２－シクロヘキシレンジアミン）テトラ酢酸（ＣｙＤＴＡ）、ジエチレントリアミンペンタ酢酸（ＤＥＴＰＡ）、エチレンジアミンテトラプロピオン酸、（ヒドロキシエチル）エチレンジアミントリ酢酸（ＨＥＤＴＡ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン）酸（ＥＤＴＭＰ）、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸（ＴＴＨＡ）、１，３－ジアミノ－２－ヒドロキシプロパン－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラ酢酸（ＤＨＰＴＡ）、メチルイミノジ酢酸、プロピレンジアミンテトラ酢酸、ニトロトリ酢酸（ＮＴＡ）、クエン酸、酒石酸、グルコン酸、サッカリン酸、グリセリン酸、シュウ酸、フタル酸、マレイン酸、マンデル酸、マロン酸、乳酸、サリチル酸、沒食子酸プロピル、ピロガロール、８－ヒドロキシキノリン、及びシステインが挙げられるがこれらに限定されない。好ましいキレート剤はＥＤＴＡやＣｙＤＴＡなどのアミノカルボン酸及びＥＤＴＭＰなどのアミノホスホン酸である。

幾つかの実施形態では前記キレート剤の量は前記組成物の約０．１質量％～約１０質量％を構成し、好ましくは約０．５質量％～約５質量％を構成する。

幾つかの実施形態では本開示及び本請求の対象の前記組成物はキレート剤を含まないか、又は実質的に含まない。

ある実施形態では前記組成物は金属水酸化物、金属の添加、ハロゲン化物含有化合物、ＴＥＯＳ、シリルリン酸化合物、並びに反復性モノマーを含まないシラン類及びシラノール類を実質的に含まないか、又は含まない。

製造方法

本開示及び本請求の対象は本明細書において説明及び請求される前記エッチング組成物を製造する方法をさらに含む。

１つの実施形態では前記エッチング組成物を形成するための前記方法は、
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、及び
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式Ｉ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、及び
（ｉｉｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を混合することを含む。

１つの実施形態では前記エッチング組成物を形成するための前記方法は、
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^３が水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ^１、及びＺ^２からなる群より選択され、及び
（ｉｖ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ^１及びＺ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を混合することを含む。

１つの実施形態では前記エッチング組成物を形成するための前記方法は、
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ^ａが水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂが各々独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌは
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を混合することを含む。

１つの実施形態では前記エッチング組成物を形成するための前記方法は、
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式Ｉ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、及び
（ｉｉｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を混合することを含む。

１つの実施形態では前記エッチング組成物を形成するための前記方法は、
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^３が水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ^１、及びＺ^２からなる群より選択され、及び
（ｉｖ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ^１及びＺ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を混合することを含む。

１つの実施形態では前記エッチング組成物を形成するための前記方法は、
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ^ａが水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂが各々独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌは
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒を含む前記混合物
を混合することを含む。

使用方法

本開示及び本請求の対象は、窒化ケイ素及び二酸化ケイ素を含む複合型半導体素子上における二酸化ケイ素と比べた窒化ケイ素のエッチング速度を選択的に向上させる方法をさらに含む。

１つの実施形態では前記方法は、
（ａ）窒化ケイ素及び二酸化ケイ素を含む前記複合型半導体素子を本明細書において開示及び／又は請求される前記エッチング組成物のうちの１つ以上と接触させる工程、及び
（ｂ）前記窒化ケイ素を少なくとも部分的に除去した後に前記複合型半導体素子を洗浄する工程
を含む。本実施形態のその他の態様では前記接触工程は約１６０℃の温度で実施される。

その他の実施形態では前記方法は（ｃ）乾燥工程を含むことができる。

本説明の方法では「少なくとも部分的に除去される」は前記材料の少なくとも９０％の除去、好ましくは少なくとも９５％の除去を意味する。本開発の前記組成物を使用して少なくとも９９％が除去されることが最も好ましい。

その他の実施形態では前記方法は、前記基板を希釈フッ化水素酸（ｄＨＦ）（１：１００のＨＦ／水混液）と（例えば浸漬又は散布により）接触させることを含む前処理工程を含むことができる。ｄＨＦ前処理工程を除外することもでき、それでも本開示及び本請求の対象の前記組成物を使用して高い相対的エッチング速度を達成できることが認められている。また、このｄＨＦ前処理工程が用いられたときに本開示及び本請求の対象の前記組成物はリン酸組成物単独のときと比較して前記基板に与える損害が少ないことが分かった。このｄＨＦ前処理工程に起因する損害の拡大は、本開示及び本請求の対象の前記組成物を使用して処理するときの撹拌を抑制し、前処理と本開示及び本請求の対象の前記組成物との接触との間の時間を短縮することにより最小限にすることができる。

幾つかの実施形態では前記接触工程は、例えば、浸漬、散布、又は枚葉プロセスの介在などのあらゆる適切な手段により実施可能である。

幾つかの実施形態では前記接触工程時の前記組成物の温度は約１００℃～２００℃であることが好ましい。その他の態様ではこの温度は約１４０℃～１８０℃である。その他の態様では前記接触工程時の前記組成物の温度は約１６０℃である。

幾つかの実施形態では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約３００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約５００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約１０００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約１２５０以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約１５００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約２０００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約２５００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約３０００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約３５００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約４０００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約４５００以上である。その他の態様では本開示及び本請求の対象エッチング組成物の酸化ケイ素に対して窒化ケイ素を選択するエッチング選択性は約５０００以上である。

幾つかの実施形態では酸化ケイ素のエッチングは１Å／分未満である。その他の態様では酸化ケイ素のエッチングは０．５Å／分未満である。その他の態様では酸化ケイ素のエッチングは０．０１Å／分未満である。

幾つかの実施形態では前記洗浄工程（ｃ）はあらゆる適切な手段で実行され、例えば浸漬法又は散布法により前記基板を脱イオン水で洗浄することによって実施される。別の態様では前記洗浄工程は、脱イオン水と水混和性有機溶媒、例えばイソプロピルアルコールなどとの混合物を用いて実施される。

幾つかの実施形態では前記乾燥工程はあらゆる適切な手段で実行され、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）蒸気乾燥、加熱、又は求心力によって実施される。

これより本開示のより具体的な実施形態及びこのような実施形態を裏付ける実験結果を参照する。これらの例は本開示の内容をさらに充分に例示するために以下に提示されるものであり、本開示の内容多少なりとも限定するものと解釈されるべきではない。

本開示の内容の主旨又は範囲から逸脱せずに本開示の内容及び本明細書において提示される特定の例に対して様々な改変と変形が可能であることが当業者に明らかになる。したがって、以下の例によって提供される説明を含む本開示の内容は、あらゆる請求項及びそれらの均等物の範囲の中に入る本開示の内容の改変及び変形を包含することが意図されている。

材料と方法

ここで使用される全ての成分は市販されている。

本例では以下のケイ素含有化合物を施用した。

エッチング組成物を調製するための全般的手順

本例において示される全ての組成物は、１インチ（約２．５４ｃｍ）のテフロン被覆撹拌子を使用して２５０ｍＬのビーカーの中で構成要素を混合することで調製した。典型的にはこのビーカーに添加される１番目の材料は脱イオン（ＤＩ）水であった。リン酸は次に添加されることが典型的であり、続いて前記ケイ素含有化合物が添加され、（もしあれば）その後に残りの構成要素が添加される。

基板の組成

本例において使用される各被検２０ｍｍ×２０ｍｍクーポンはシリコン基板上に窒化ケイ素、すなわちＳｉＮ_ｘの層を含んだ。比較例はシリコン基板上に酸化ケイ素、すなわちＳｉＯ_ｘの層を含んだ。

処理条件

2分の１インチ（約１．２７ｃｍ）の球形テフロン撹拌子を３００ｒｐｍにセットして２５０ｍＬのビーカーの中で１００ｇの前記エッチング組成物を使用してエッチング検査を実行した。ホットプレート上で前記エッチング組成物を約１６０℃の温度まで加熱した。検査前に前記ＳｉＮｘ基板小片、ポリシリコン基板小片、及びパターン検査基板小片（被検クーポン）をＤＨＦ（１：１００のＨＦ／ＤＩ水）で約３分間にわたって処理した。前記ＳｉＯｘ被検クーポンはＤＨＦで前処理されなかった。これらの被検クーポンを約３分間（ＳｉＮｘ基板）から約６０分間（ＳｉＯｘ基板）にわたって前記組成物の中に撹拌しながら浸漬した。

これらの部分を約３分間にわたってＤＩ水浴中又はＤＩ水の散布により洗浄し、その後でフィルター濾過済みの窒素を使用してこれらの部分を乾燥した。窒化ケイ素のエッチング速度と酸化ケイ素のエッチング速度をエッチング前後の厚さの変化から推定し、且つ、分光偏光解析法（ＦｉｌｍＴｅｋ（商標）２０００ＰＡＲ－ＳＥ、サイエンティフィック・コンピューティン・インターナショナル社）により測定した。典型的な初期層厚はＳｉＮ_ｘについては４３９５Åであり、ＳｉＯ_ｘについては２２９Åであった。

以下のシリーズの表は本開示及び本請求のエッチング組成物の幾つかの実施形態の評価結果を示している。

テーブル１及びテーブル２は前記ケイ素含有オリゴマーの添加によってＳｉＯ_ｘのエッチング速度が抑制され、ＳｉＯ_２よりもＳｉＮ_ｘをエッチングする選択性が上昇したことを示している。テーブル１は硫酸の添加によってＳｉＯ_２エッチング速度がさらに低下し、したがって選択性が上昇したことをさらに示している。

テーブル３はＳｉＯ_２に対してＳｉＮｘを選択する選択性への硫酸濃度の顕著な効果をさらに示した。

テーブル４はＳｉ化合物１の濃度が上昇するにつれＳｉＯ_２エッチング速度が低下することでＳｉＯ_２に対してＳｉＮｘを選択する選択性が明らかに上昇したことを示している。

テーブル５及びテーブル６はメタンスルホン酸も硫酸と同じ役割を果たし、メタンスルホン酸の添加によってもＳｉＯ_２エッチング速度が低下し、選択性が上昇できたことを示している。

テーブル７は前記アルキルスルホン酸及び硫酸が本開示及び本請求の対象の前記組成物に添加されたときの相対的除去速度の増加を示している。

これまでの説明は主に例示目的でしたものである。本開示及び本請求の対象がその例となる実施形態に関して示され、説明されたが、当業者は本開示及び本請求の対象の主旨及び範囲から逸脱せずに本開示及び本請求の対象の前述の変更、省略、及び付加、並びに他の様々な変更、省略、及び付加を本開示及び本請求の対象に行い得ることを理解するべきである。

これまでの説明は主に例示目的でしたものである。本開示及び本請求の対象がその例となる実施形態に関して示され、説明されたが、当業者は本開示及び本請求の対象の主旨及び範囲から逸脱せずに本開示及び本請求の対象の前述の変更、省略、及び付加、並びに他の様々な変更、省略、及び付加を本開示及び本請求の対象に行い得ることを理解するべきである。
本発明は、以下の態様を含んでいる。
（１）
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式Ｉ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が独立して水素、Ｃ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ _３～Ｃ _１０分岐鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０環状アルキル基、Ｃ _５～Ｃ _１２アリール基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、ならびに、
（ｉｉｉ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が独立してＣ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０分岐鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０環状アルキル基、Ｃ _５～Ｃ _１２アリール基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ _１～Ｃ _１０アルキルから選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（２）
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ ^３が水素、Ｃ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ _３～Ｃ _１０分岐鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０環状アルキル基、Ｃ _５～Ｃ _１２アリール基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ ^１、及びＺ ^２からなる群より選択され、及び
（ｉｖ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が独立してＣ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０分岐鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０環状アルキル基、Ｃ _５～Ｃ _１２アリール基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ _１～Ｃ _１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ ^１及びＺ ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（３）
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が独立して水素、Ｃ _１～Ｃ _６直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ ^ａが水素、Ｃ _１～Ｃ _６直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂが各々独立して水素、Ｃ _１～Ｃ _６直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌが
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ ^１、Ｘ ^２、及びＸ ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（４）
前記混合物が純リン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（５）
前記混合物がＨＮＯ _３、Ｈ _２ＳＯ _４、ＨＣｌ、及びメタンスルホン酸から選択される純リン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（６）
前記混合物が純硫酸をさらに含む、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（７）
前記混合物が約２５質量％以下の純硫酸をさらに含む、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（８）
前記混合物が純メタンスルホン酸をさらに含む、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（９）
前記混合物がスルホン酸をさらに含む、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１０）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１１）
（ｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、（ｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約７．０質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約６．０質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１４）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約５．０質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１５）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約４．０質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１６）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約３．０質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１７）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約２．５質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１８）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約３．０質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１９）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．２５質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２０）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．５質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２１）
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．７５質量部の純リン酸が存在する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２２）
前記水性溶媒が水を含む、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２３）
前記水性溶媒が水から基本的に成る、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２４）
前記水性溶媒が水から成る、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２５）
前記混合物がアルキルシルセスキオキサン類、ビニルシルセスキオキサン、カルボン酸アルキルシルセスキオキサン、及びアルキレングリコールアルキルシルセスキオキサンから選択される１種類以上の追加のケイ素含有化合物をさらに含む、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２６）
前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２７）
前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２８）
前記式は前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成る、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（２９）
前記式は前記純リン酸及び前記混合物から成る、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（３０）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式Ｉの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、（１）に記載の組成物。
（３１）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式Ｉの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、（１）に記載の組成物。
（３２）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式ＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、（２）に記載の組成物。
（３３）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式ＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、（２）に記載の組成物。
（３４）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式ＩＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、（３）に記載の組成物。
（３５）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式ＩＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、（３）に記載の組成物。
（３６）
ｍが０である、（１）に記載の組成物。
（３７）
式Ｉの前記化合物の含量が約５質量％以下である、（１）に記載の組成物。
（３８）
式Ｉの前記化合物の含量が約４質量％以下である、（１）に記載の組成物。
（３９）
式Ｉの前記化合物の含量が約３質量％以下である、（１）に記載の組成物。
（４０）
式Ｉの前記化合物の含量が約２質量％以下である、（１）に記載の組成物。
（４１）
式Ｉの前記化合物の含量が約１質量％以下である、（１）に記載の組成物。
（４２）
Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が同じである、（１）に記載の組成物。
（４３）
Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が水素である、（１）に記載の組成物。
（４４）
Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５のうちの少なくとも１つが水素以外のものである、（１）に記載の組成物。
（４５）
（ｉ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、（１）に記載の組成物。
（４６）
（ｉ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、（１）に記載の組成物。
（４７）
（ｉ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、（１）に記載の組成物。
（４８）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
である、（１）に記載の組成物。
（４９）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（１）に記載の組成物。
（５０）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（１）に記載の組成物。
（５１）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（１）に記載の組成物。
（５２）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．８３質量％である、
（１）に記載の組成物。
（５３）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．９４質量％である、
（１）に記載の組成物。
（５４）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８４．２７質量％である、
（１）に記載の組成物。
（５５）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８４．６質量％である、
（１）に記載の組成物。
（５６）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
である、（１）に記載の組成物。
（５７）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（１）に記載の組成物。
（５８）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である。
（１）に記載の組成物。
（５９）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（１）に記載の組成物。
（６０）
（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約４０質量％以上の混合物であって、
（ｉ）約５質量％以下の
（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び
（ｉｉｉ）水を含む水性溶媒
を含む前記混合物
を含む組成物。
（６１）
（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約４０質量％以上の混合物であって、
（ｉ）約５質量％以下の
（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び
（ｉｉｉ）水から基本的に成る水性溶媒
から基本的に成る前記混合物
から基本的に成る組成物。
（６２）
（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約４０質量％以上の混合物であって、
（ｉ）約５質量％以下の
（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び
（ｉｉｉ）水から成る水性溶媒
から成る前記混合物
から成る組成物。
（６３）
ｍが０である、（２）に記載の組成物。
（６４）
ｎが０である、（２）に記載の組成物。
（６５）
ｍが０であり、ｎが０である、（２）に記載の組成物。
（６６）
式ＩＩの前記化合物の含量が約５質量％以下である、（２）に記載の組成物。
（６７）
式ＩＩの前記化合物の含量が約４質量％以下である、（２）に記載の組成物。
（６８）
式ＩＩの前記化合物の含量が約３質量％以下である、（２）に記載の組成物。
（６９）
式ＩＩの前記化合物の含量が約２質量％以下である、（２）に記載の組成物。
（７０）
式ＩＩの前記化合物の含量が約１質量％以下である、（２）に記載の組成物。
（７１）
（ｉ）ｍ＝０及びｎ＝３であり、（ｉｉ）Ｚ ^１及びＺ ^２の各々が
である、（２）に記載の組成物。
（７２）
（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝３及び（ｉｉｉ）Ｚ ^１及びＺ ^２の各々が
である、（２）に記載の組成物。
（７３）
（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝３及び（ｉｉ）Ｚ ^１及びＺ ^２の各々が
である、（２）に記載の組成物。
（７４）
（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝３及び（ｉｉｉ）Ｚ ^１及びＺ ^２の各々が
である、（２）に記載の組成物。
（７５）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（２）に記載の組成物。
（７６）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（２）に記載の組成物。
（７７）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（２）に記載の組成物。
（７８）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（２）に記載の組成物。
（７９）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（２）に記載の組成物。
（８０）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（２）に記載の組成物。
（８１）
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約５質量％以下である、（３）に記載の組成物。
（８２）
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約４質量％以下である、（３）に記載の組成物。
（８３）
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約３質量％以下である、（３）に記載の組成物。
（８４）
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約２質量％以下である、（３）に記載の組成物。
（８５）
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約１質量％以下である、（３）に記載の組成物。
（８６）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）Ｌが
であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）ｍ１とｍ２の合計が１～５である、（３）に記載の組成物。
（８７）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（８８）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）ＡがＲａ＝Ｈの
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（８９）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａは
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（９０）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）ＡはＲａが
である
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（９１）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が＝２、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）ＬはＸ ^１、Ｘ ^２及びＸ ^３の各々が
である
である、（３）に記載の組成物。
（９２）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）ＡはＲａが
である
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（９３）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝２であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａは
であり、（ｖ）ｍ１＝０及び（ｖｉ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（９４）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）ＡはＲ ^ａ及びＲ ^ｂが
である
であり、（ｖ）ｍ１＝３であり、（ｖｉ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（９５）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が２であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（９６）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（９７）
（ｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が１であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である、（３）に記載の組成物。
（９８）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＲが
であり、ｘ＝１～５である
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（３）に記載の組成物。
（９９）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＲが
であり、ｘ＝１～５である
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（３）に記載の組成物。
（１００）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＲが
であり、ｘ＝１～５である、
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（３）に記載の組成物。
（１０１）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物がＳｉ（ＯＣＨ _３） _３（ＣＨ _２ＣＨ _２ＣＦ _３）であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（３）に記載の組成物。
（１０２）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物がＳｉ（ＯＣＨ _３） _３（ＣＨ _２ＣＨ _２ＣＦ _３）であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（３）に記載の組成物。
（１０３）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物がＳｉ（ＯＣＨ _３） _３（ＣＨ _２ＣＨ _２ＣＦ _３）であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（３）に記載の組成物。
（１０４）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（３）に記載の組成物。
（１０５）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（３）に記載の組成物。
（１０６）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（３）に記載の組成物。
（１０７）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（３）に記載の組成物。
（１０８）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（３）に記載の組成物。
（１０９）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（３）に記載の組成物。
（１１０）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（３）に記載の組成物。
（１１１）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（３）に記載の組成物。
（１１２）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
（３）に記載の組成物。
（１１３）
前記組成物が、約２７００の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１１４）
前記組成物が、約２５００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１１５）
前記組成物が、約２２５０以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１１６）
前記組成物が、約２０００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１１７）
前記組成物が、約１５００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１１８）
前記組成物が、約１２５０以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１１９）
前記組成物が、約１０００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２０）
前記組成物が、約５００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２１）
前記組成物が、約３００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２２）
前記組成物が酸化ケイ素に対するエッチング選択性に勝る約１５００と約２７００との間のエッチング選択性を窒化ケイ素に対して有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２３）
前記組成物が酸化ケイ素に対するエッチング選択性に勝る約２０００と約２７００との間のエッチング選択性を窒化ケイ素に対して有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２４）
前記組成物が、約２２５０～約２７００の範囲の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２５）
前記組成物が、約２５００～約２７００の範囲の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２６）
前記組成物が、約２６００～約２７００の範囲の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、（１）～（３）のいずれか１項に記載の組成物。
（１２７）
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式Ｉ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が独立して水素、Ｃ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ _３～Ｃ _１０分岐鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０環状アルキル基、Ｃ _５～Ｃ _１２アリール基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、及び
（ｉｉｉ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が独立してＣ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０分岐鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０環状アルキル基、Ｃ _５～Ｃ _１２アリール基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ _１～Ｃ _１０アルキルから選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（１２８）
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ ^３が水素、Ｃ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ _３～Ｃ _１０分岐鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０環状アルキル基、Ｃ _５～Ｃ _１２アリール基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ ^１、及びＺ ^２からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が独立してＣ _１～Ｃ _１０直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０分岐鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _１０環状アルキル基、Ｃ _５～Ｃ _１２アリール基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ _２～Ｃ _１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ _１～Ｃ _１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ ^１及びＺ ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（１２９）
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、及びＲ ^３の各々が独立して水素、Ｃ _１～Ｃ _６直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ ^ａが水素、Ｃ _１～Ｃ _６直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂが各々独立して水素、Ｃ _１～Ｃ _６直鎖アルキル基、Ｃ _３～Ｃ _６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌが
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ ^１、Ｘ ^２、及びＸ ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（１３０）
前記組成物が（ｉ）約７５質量％超の純リン酸と（ｉｉ）約２５質量％未満の混合物を含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３１）
前記混合物が純リン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３２）
前記混合物がＨＮＯ _３、Ｈ _２ＳＯ _４、ＨＣｌ、及びメタンスルホン酸から選択される純リン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３３）
前記混合物が純硫酸をさらに含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３４）
前記混合物が約１０質量％以下の純硫酸をさらに含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３５）
前記混合物が純メタンスルホン酸をさらに含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３６）
前記混合物がスルホン酸をさらに含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３７）
前記水性溶媒が水を含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３８）
前記水性溶媒が水から基本的に成る、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１３９）
前記水性溶媒が水から成る、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１４０）
前記混合物がアルキルシルセスキオキサン類、ビニルシルセスキオキサン、カルボン酸アルキルシルセスキオキサン、及びアルキレングリコールアルキルシルセスキオキサンから選択される１種類以上の追加のケイ素含有化合物をさらに含む、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１４１）
前記式は前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成る、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１４２）
前記式は前記純リン酸及び前記混合物から成る、（１２７）～（１２９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１４３）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式Ｉの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、（１２７）に記載の組成物。
（１４４）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式Ｉの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、（１２７）に記載の組成物。
（１４５）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式ＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、（１２８）に記載の組成物。
（１４６）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式ＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、（１２８）に記載の組成物。
（１４７）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式ＩＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、（１２９）に記載の組成物。
（１４８）
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式ＩＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、（１２９）に記載の組成物。
（１４９）
Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が同じである、（１２７）に記載の組成物。
（１５０）
Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が水素である、（１２７）に記載の組成物。
（１５１）
Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５のうちの少なくとも１つが水素以外のものである、（１２７）に記載の組成物。
（１５２）
式Ｉの前記化合物の含量が約５質量％以下である、（１２７）に記載の組成物。
（１５３）
式Ｉの前記化合物の含量が約４質量％以下である、（１２７）に記載の組成物。
（１５４）
式Ｉの前記化合物の含量が約３質量％以下である、（１２７）に記載の組成物。
（１５５）
式Ｉの前記化合物の含量が約２質量％以下である、（１２７）に記載の組成物。
（１５６）
式Ｉの前記化合物の含量が約１質量％以下である、（１２７）に記載の組成物。
（１５７）
（ｉ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、（１２７）に記載の組成物。
（１５８）
（ｉ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０であり、（ｉｖ）Ｒ ^３＝－Ｃ _３Ｈ _６ＮＨ _２である、（１２７）に記載の組成物。
（１５９）
（ｉ）Ｒ ^ａ及びＲ ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ ^１、Ｒ ^２、Ｒ ^３、Ｒ ^４、及びＲ ^５の各々が水素であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、（１２８）に記載の組成物。
（１６０）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
である、（１２８）に記載の組成物。
（１６１）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
（１２７）に記載の組成物。
（１６２）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
（１２７）に記載の組成物。
（１６３）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
（１２７）に記載の組成物。
（１６４）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８１．８５質量％である、
（１２７）に記載の組成物。
（１６５）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８２．４質量％である、
（１２７）に記載の組成物。
（１６６）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８２．９５質量％である、
（１２７）に記載の組成物。
（１６７）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．２３質量％である、
（１２７）に記載の組成物。
（１６８）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
である、（１２７）に記載の組成物。
（１６９）
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
（１２７）に記載の組成物。
（１７０）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
である、（１２８）に記載の組成物。
（１７１）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
（１２８）に記載の組成物。
（１７２）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
である、（１２８）に記載の組成物。
（１７３）
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
（１２８）に記載の組成物。
（１７４）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
である、（１２９）に記載の組成物。
（１７５）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
（１２９）に記載の組成物。
（１７６）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
である、（１２９）に記載の組成物。
（１７７）
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
（１２９）に記載の組成物。
（１７８）
窒化ケイ素と二酸化ケイ素を含む半導体基板上における二酸化ケイ素に対して窒化ケイ素のエッチング速度を選択的に向上させる方法であって、
（ａ）窒化ケイ素と二酸化ケイ素を含む前記半導体基板を（１）～（１７７）のいずれか１項の組成物と接触させる工程、及び
（ｂ）前記窒化ケイ素が少なくとも部分的に除去された後に前記半導体素子を洗浄する工程
を含む前記方法。
（１７９）
前記半導体素子を乾燥させる工程をさらに含む、（１７８）の方法。
（１８０）
酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性が約３００超である、（１７８）の方法。
（１８１）
前記接触工程が約１６０℃の温度で実施される、（１７８）の方法。

Claims

（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式Ｉ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、ならびに、
（ｉｉｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^３が水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ^１、及びＺ^２からなる群より選択され、及び
（ｉｖ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ^１及びＺ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（Ａ）約７０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％以上の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ^ａが水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂが各々独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌが
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
前記混合物が純リン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物がＨＮＯ_３、Ｈ_２ＳＯ_４、ＨＣｌ、及びメタンスルホン酸から選択される純リン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物が純硫酸をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物が約２５質量％以下の純硫酸をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物が純メタンスルホン酸をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物がスルホン酸をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％と約８５質量％との間である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、（ｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約７．０質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約６．０質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約５．０質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約４．０質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約３．０質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．０質量部～約２．５質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約３．０質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．２５質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．５質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（ｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、（ｉｉ）１質量部の純硫酸当たり約２．７５質量部の純リン酸が存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記水性溶媒が水を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記水性溶媒が水から基本的に成る、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記水性溶媒が水から成る、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物がアルキルシルセスキオキサン類、ビニルシルセスキオキサン、カルボン酸アルキルシルセスキオキサン、及びアルキレングリコールアルキルシルセスキオキサンから選択される１種類以上の追加のケイ素含有化合物をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記式は前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成る、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記式は前記純リン酸及び前記混合物から成る、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式Ｉの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、請求項１に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式Ｉの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、請求項１に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式ＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、請求項２に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式ＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、請求項２に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式ＩＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、請求項３に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式ＩＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、請求項３に記載の組成物。
ｍが０である、請求項１に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約５質量％以下である、請求項１に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約４質量％以下である、請求項１に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約３質量％以下である、請求項１に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約２質量％以下である、請求項１に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約１質量％以下である、請求項１に記載の組成物。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が同じである、請求項１に記載の組成物。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が水素である、請求項１に記載の組成物。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５のうちの少なくとも１つが水素以外のものである、請求項１に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、請求項１に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、請求項１に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
である、請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．８３質量％である、
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．９４質量％である、
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８４．２７質量％である、
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８４．６質量％である、
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
である、請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である。
請求項１に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項１に記載の組成物。
（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約４０質量％以上の混合物であって、
（ｉ）約５質量％以下の
（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び
（ｉｉｉ）水を含む水性溶媒
を含む前記混合物
を含む組成物。
（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約４０質量％以上の混合物であって、
（ｉ）約５質量％以下の
（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び
（ｉｉｉ）水から基本的に成る水性溶媒
から基本的に成る前記混合物
から基本的に成る組成物。
（Ａ）約６０質量％以下の純リン酸、
（Ｂ）約４０質量％以上の混合物であって、
（ｉ）約５質量％以下の
（ｉｉ）約２４質量％以下の純硫酸、及び
（ｉｉｉ）水から成る水性溶媒
から成る前記混合物
から成る組成物。
ｍが０である、請求項２に記載の組成物。
ｎが０である、請求項２に記載の組成物。
ｍが０であり、ｎが０である、請求項２に記載の組成物。
式ＩＩの前記化合物の含量が約５質量％以下である、請求項２に記載の組成物。
式ＩＩの前記化合物の含量が約４質量％以下である、請求項２に記載の組成物。
式ＩＩの前記化合物の含量が約３質量％以下である、請求項２に記載の組成物。
式ＩＩの前記化合物の含量が約２質量％以下である、請求項２に記載の組成物。
式ＩＩの前記化合物の含量が約１質量％以下である、請求項２に記載の組成物。
（ｉ）ｍ＝０及びｎ＝３であり、（ｉｉ）Ｚ^１及びＺ^２の各々が
である、請求項２に記載の組成物。
（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝３及び（ｉｉｉ）Ｚ^１及びＺ^２の各々が
である、請求項２に記載の組成物。
（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝３及び（ｉｉ）Ｚ^１及びＺ^２の各々が
である、請求項２に記載の組成物。
（ｉ）ｍ＝０であり、（ｉｉ）ｎ＝３及び（ｉｉｉ）Ｚ^１及びＺ^２の各々が
である、請求項２に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項２に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項２に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項２に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項２に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項２に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項２に記載の組成物。
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約５質量％以下である、請求項３に記載の組成物。
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約４質量％以下である、請求項３に記載の組成物。
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約３質量％以下である、請求項３に記載の組成物。
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約２質量％以下である、請求項３に記載の組成物。
式ＩＩＩの前記化合物の含量が約１質量％以下である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）Ｌが
であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）ｍ１とｍ２の合計が１～５である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）ＡがＲａ＝Ｈの
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａは
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）ＡはＲａが
である
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が＝２、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）ＬはＸ^１、Ｘ^２及びＸ^３の各々が
である
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）ＡはＲａが
である
であり、（ｖ）ｍ１＝０であり、（ｖｉ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝２であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）Ａは
であり、（ｖ）ｍ１＝０及び（ｖｉ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ２＝３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝１であり、（ｉｖ）ＡはＲ^ａ及びＲ^ｂが
である
であり、（ｖ）ｍ１＝３であり、（ｖｉ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が２であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が３であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が
であり、（ｉｉ）ｍ１とｍ２の合計が１であり、（ｉｉｉ）ｎ＝０であり、（ｉｖ）Ｌが
である、請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＲが
であり、ｘ＝１～５である
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＲが
であり、ｘ＝１～５である
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物はＲが
であり、ｘ＝１～５である、
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物がＳｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_３）であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物がＳｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_３）であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物がＳｉ（ＯＣＨ_３）_３（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_３）であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項３に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．５質量％である、
請求項３に記載の組成物。
前記組成物が、約２７００の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約２５００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約２２５０以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約２０００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約１５００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約１２５０以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約１０００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約５００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約３００以上の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が酸化ケイ素に対するエッチング選択性に勝る約１５００と約２７００との間のエッチング選択性を窒化ケイ素に対して有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が酸化ケイ素に対するエッチング選択性に勝る約２０００と約２７００との間のエッチング選択性を窒化ケイ素に対して有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約２２５０～約２７００の範囲の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約２５００～約２７００の範囲の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
前記組成物が、約２６００～約２７００の範囲の、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式Ｉ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、及び
からなる群より選択され、及び
（ｉｉｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ＝０～２０であり、
（ｉｉ）ｎ＝０～２０であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^３が水素、Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、フッ素置換Ｃ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、窒素含有基、酸素含有基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基及びＣ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
Ｚ^１、及びＺ^２からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が独立してＣ_１～Ｃ_１０直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０分岐鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_１０環状アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１２アリール基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルケニル基、Ｃ_２～Ｃ_１０直鎖又は分岐鎖アルキニル基、
及び
で置換されたＣ_１～Ｃ_１０アルキルから選択され、
（ｖ）Ｚ^１及びＺ^２が各々独立して
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
及び
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
（Ａ）約７０質量％超の純リン酸、
（Ｂ）約３０質量％未満の混合物であって、
（Ｉ）式ＩＩＩ、すなわち、
の化合物であって、式中、
（ｉ）ｍ１及びｍ２のうちの少なくとも一方が１以上であることを条件としてｍ１及びｍ２が各々０～１０に等しく、
（ｉｉ）ｎ＝０又は１であり、
（ｉｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３の各々が独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基、及び
からなる群より選択され、
（ｉｖ）Ａは
（ａ）
（ｂ）Ｒ^ａが水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｃ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂが各々独立して水素、Ｃ_１～Ｃ_６直鎖アルキル基、Ｃ_３～Ｃ_６分岐鎖アルキル基から選択される
（ｄ）
から選択され、
（ｖ）Ｌが
（ａ）
（ｂ）
（ｃ）
（ｄ）
（ｅ）Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３の各々が独立してＣｌ、Ｂｒ、Ｆ、又はＩから選択される
（ｆ）
（ｇ）
（ｈ）
（ｉ）
（ｊ）
から選択される前記化合物、並びに
（ＩＩ）水性溶媒、
を含む前記混合物、
を含む組成物。
前記組成物が（ｉ）約７５質量％超の純リン酸と（ｉｉ）約２５質量％未満の混合物を含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物が純リン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物がＨＮＯ_３、Ｈ_２ＳＯ_４、ＨＣｌ、及びメタンスルホン酸から選択される純リン酸以外の少なくとも１種類の追加の酸をさらに含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物が純硫酸をさらに含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物が約１０質量％以下の純硫酸をさらに含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物が純メタンスルホン酸をさらに含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物がスルホン酸をさらに含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記水性溶媒が水を含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記水性溶媒が水から基本的に成る、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記水性溶媒が水から成る、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記混合物がアルキルシルセスキオキサン類、ビニルシルセスキオキサン、カルボン酸アルキルシルセスキオキサン、及びアルキレングリコールアルキルシルセスキオキサンから選択される１種類以上の追加のケイ素含有化合物をさらに含む、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記式は前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成る、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記式は前記純リン酸及び前記混合物から成る、請求項１２７～１２９のいずれか１項に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式Ｉの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、請求項１２７に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式Ｉの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、請求項１２７に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式ＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、請求項１２８に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式ＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、請求項１２８に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から基本的に成り、式ＩＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から基本的に成る、請求項１２９に記載の組成物。
前記式が前記純リン酸及び前記混合物から成り、前記混合物が式ＩＩＩの前記化合物及び前記水性溶媒から成る、請求項１２９に記載の組成物。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が同じである、請求項１２７に記載の組成物。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が水素である、請求項１２７に記載の組成物。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５のうちの少なくとも１つが水素以外のものである、請求項１２７に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約５質量％以下である、請求項１２７に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約４質量％以下である、請求項１２７に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約３質量％以下である、請求項１２７に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約２質量％以下である、請求項１２７に記載の組成物。
式Ｉの前記化合物の含量が約１質量％以下である、請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が
であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０であり、（ｉｖ）Ｒ^３＝－Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２である、請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）Ｒ^ａ及びＲ^ｂの各々が
であり、（ｉｉ）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５の各々が水素であり、（ｉｉｉ）ｍ＝０である、請求項１２８に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
である、請求項１２８に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含む、
請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が純硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８０質量％～約８５質量％の範囲である、
請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８１．８５質量％である、
請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８２．４質量％である、
請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８２．９５質量％である、
請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、
（ｉｉ）前記混合物が硫酸をさらに含み、及び
（ｉｉｉ）前記純リン酸及び前記純硫酸の総含量が前記組成物の約８３．２３質量％である、
請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
である、請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式Ｉの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
請求項１２７に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
である、請求項１２８に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
請求項１２８に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
である、請求項１２８に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
請求項１２８に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
である、請求項１２９に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
請求項１２９に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
である、請求項１２９に記載の組成物。
（ｉ）式ＩＩＩの前記化合物が
であり、及び
（ｉｉ）前記純リン酸の含量が前記組成物の約８０．７５質量％である、
請求項１２９に記載の組成物。
窒化ケイ素と二酸化ケイ素を含む半導体基板上における二酸化ケイ素に対して窒化ケイ素のエッチング速度を選択的に向上させる方法であって、
（ａ）窒化ケイ素と二酸化ケイ素を含む前記半導体基板を請求項１～１７７のいずれか１項の組成物と接触させる工程、及び
（ｂ）前記窒化ケイ素が少なくとも部分的に除去された後に前記半導体素子を洗浄する工程
を含む前記方法。
前記半導体素子を乾燥させる工程をさらに含む、請求項１７８の方法。
酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択性が約３００超である、請求項１７８の方法。
前記接触工程が約１６０℃の温度で実施される、請求項１７８の方法。