JP2023154056A - Method of preparing epalrestat - Google Patents

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クマール ニーラジ
Kumar Niraji
ナラジャールラ スリニバスル
Narajaarura Srinivar
クリシュナ ダンダムディ ヴァムスィ
Krishna Dandamdi Vamsti
ディキシット ギリッシュ
Dixit Girish
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Abstract

To provide a method of preparing epalrestat that is simple, cost-effective and suitable for industrial applications.SOLUTION: A method of preparing epalrestat comprises the steps: a. suspending an epalrestat DMF solvate in a solvent and keeping the suspension at 30-60°C; and b. isolating and drying epalrestat; where the solvent is ester, water or alcohol, or a mixture thereof.SELECTED DRAWING: None

Description

本出願は、エパルレスタット(Epalrestat)を調製する方法を提供する。本出願はまた、エパルレスタットを調製するための産業上利用可能な方法を提供する。 The present application provides a method of preparing Epalrestat. The present application also provides an industrially applicable method for preparing epalrestat.

「エパルレスタット」という一般名を有する医薬品化合物は、2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸という化学名を有している。エパルレスタットは、式(I)の構造を有している。

Figure 2023154056000001
The pharmaceutical compound with the generic name "epalrestat" is 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl ) has the chemical name acetic acid. Epalrestat has the structure of formula (I).
Figure 2023154056000001

エパルレスタットは、糖尿病性末梢神経障害に伴う、神経障害の自覚症状、振動覚の異常、及び心拍変動異常の改善を目的とした、日本で承認されているアルドース還元酵素阻害薬である。 Epalrestat is an aldose reductase inhibitor approved in Japan for the purpose of improving subjective symptoms of neuropathy, abnormal vibration sensation, and abnormal heart rate variability associated with diabetic peripheral neuropathy.

エパルレスタットは、水に難溶性である。エパルレスタットは、合計で4つの構造異性体を有している。その異性体とは、Z/E、Z/Z、E/E及びE/Zである。4つの配置のうち、Z/E異性体だけが、医薬組成物として有効な活性物質である。そのため、Z/E配置を有するエパルレスタットの研究が非常に重要である。 Epalrestat is sparingly soluble in water. Epalrestat has a total of four structural isomers. The isomers are Z/E, Z/Z, E/E and E/Z. Of the four configurations, only the Z/E isomer is an effective active agent as a pharmaceutical composition. Therefore, research on epalrestat with Z/E configuration is very important.

米国特許第4464382号は、酢酸ナトリウム及び酢酸の存在下で、ロダニン-3-酢酸を(E)-2-メチル-3-フェニルアクリルアルデヒドと反応させる、エパルレスタットの調製方法を開示している。当該特許の記述には、エパルレスタットの純度についての情報はない。しかしながら、本発明者らが行った実験の結果によると、米国特許第4464382号に記載のエパルレスタットの調製方法は、以下の理由のために産業上の適用が限定される。
1.エパルレスタットのZ/Z異性体(II)含有量が高く(3.75%)、エパルレスタットの純度は約88%であり、結晶化を繰り返し行うことによるさらなる精製が必要であること。
2.反応時間がより長いこと。
3.収率が低いこと(64%)。
4.製品の品質が全般的に不良であること。

Figure 2023154056000002
US Pat. No. 4,464,382 discloses a method for preparing epalrestat by reacting rhodanine-3-acetic acid with (E)-2-methyl-3-phenylacrylaldehyde in the presence of sodium acetate and acetic acid. There is no information about the purity of epalrestat in the patent description. However, according to the results of experiments conducted by the present inventors, the method for preparing epalrestat described in US Pat. No. 4,464,382 has limited industrial application for the following reasons.
1. The Z/Z isomer (II) content of epalrestat is high (3.75%) and the purity of epalrestat is approximately 88%, requiring further purification by repeated crystallizations.
2. Longer reaction time.
3. Low yield (64%).
4. The quality of the product is generally poor.
Figure 2023154056000002

日本特許第4892821号公報は、有機塩基及び溶媒の存在下で、ロダニン-3-酢酸を(E)-2-メチル-3-フェニルアクリルアルデヒドと反応させる、エパルレスタットの調製方法を開示している。しかしながら、上記方法は、エパルレスタットのZ/Z異性体含有量が0.1%以上である、エパルレスタットを生成する。 Japanese Patent No. 4,892,821 discloses a method for preparing epalrestat by reacting rhodanine-3-acetic acid with (E)-2-methyl-3-phenylacrylaldehyde in the presence of an organic base and a solvent. However, the above method produces epalrestat in which the Z/Z isomer content of epalrestat is greater than or equal to 0.1%.

CN102516197、CN102977047及びCN104072441は、エパルレスタットの異なる調製方法を開示している。しかし、記載の方法すべてが、エパルレスタットの所望の純度プロファイルをもたらしているわけではない。記載の方法はいずれも、低純度及び低収率などの1つ又は複数の欠点を有している。 CN102516197, CN102977047 and CN104072441 disclose different methods of preparing epalrestat. However, not all described methods yield the desired purity profile of epalrestat. All of the described methods have one or more drawbacks such as low purity and low yield.

したがって、エパルレスタットを生産するための単純で、経済的な、産業上利用可能な方法を提供する必要がある。 Therefore, there is a need to provide a simple, economical, and industrially viable method for producing epalrestat.

本発明のさらなるその他の目的は、以下の発明の概要及び発明の詳細な説明から、当業者に理解されよう。 Still other objects of the invention will be understood by those skilled in the art from the following Summary of the Invention and Detailed Description of the Invention.

本出願は、エパルレスタットを調製する方法に関する。特定の実施形態では、本出願は、エパルレスタットDMF溶媒和物を介したエパルレスタットの調製に関する。 The present application relates to a method of preparing epalrestat. In certain embodiments, the present application relates to the preparation of epalrestat via epalrestat DMF solvate.

本発明の態様は、5.98±0.2度の2θ角にピークを含むX線粉末回折パターンを有するエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。 Embodiments of the present invention provide crystals of epalrestat DMF solvate having an X-ray powder diffraction pattern containing a peak at a two-theta angle of 5.98±0.2 degrees.

本発明の別の態様は、約5.98、14.59及び26.69±0.2度にピークを含むX線粉末回折パターンを有するエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。 Another aspect of the invention provides crystals of epalrestat DMF solvate having an X-ray powder diffraction pattern containing peaks at about 5.98, 14.59 and 26.69±0.2 degrees.

本発明のさらに別の態様は、5.98、14.59、19.76、26.06、27.00及び32.63±0.2度の2θ角にピークを含むX線粉末回折パターンを有するエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。エパルレスタットDMF溶媒和物の結晶は、12.48、14.05、15.37、22.39、22.73及び26.69±0.2度の2θ角にピークを含むX線粉末回折パターンをさらに特徴とすることができる。 Yet another aspect of the invention provides an X-ray powder diffraction pattern containing peaks at 2-theta angles of 5.98, 14.59, 19.76, 26.06, 27.00 and 32.63 ± 0.2 degrees. Crystals of epalrestat DMF solvate are provided. Crystals of epalrestat DMF solvate have an X-ray powder diffraction pattern containing peaks at 2θ angles of 12.48, 14.05, 15.37, 22.39, 22.73, and 26.69 ± 0.2 degrees. Further features can be provided.

本発明のさらに別の態様は、図1と実質的に一致するX線粉末回折パターンを有するエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。 Yet another aspect of the invention provides crystals of epalrestat DMF solvate having an X-ray powder diffraction pattern substantially matching that of FIG.

本発明のさらに別の態様では、エパルレスタットDMF溶媒和物の結晶は、約118.91℃で吸熱し、約226.03℃で別の吸熱をする示差走査熱量測定サーモグラムを特徴とする。 In yet another aspect of the invention, crystals of epalrestat DMF solvate are characterized by a differential scanning calorimetry thermogram with an endotherm at about 118.91°C and another endotherm at about 226.03°C.

本発明のさらに別の態様は、図2と実質的に一致する示差走査熱量測定(DSC)曲線を特徴とするエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。 Yet another aspect of the invention provides crystals of epalrestat DMF solvate characterized by a differential scanning calorimetry (DSC) curve substantially consistent with FIG.

本発明のさらに別の態様は、
a)有機酸のアンモニウム塩(複数可)及びDMF含有溶媒(複数可)の存在下で、ロダニン-3-酢酸を(E)-2-メチル-3-フェニルアクリルアルデヒドと反応させるステップと、
b)エパルレスタットDMF溶媒和物を単離し、乾燥させるステップと
を含む、エパルレスタットDMF溶媒和物を調製する方法に関する。
Yet another aspect of the invention is
a) reacting rhodanine-3-acetic acid with (E)-2-methyl-3-phenylacrylaldehyde in the presence of ammonium salt(s) of an organic acid and DMF-containing solvent(s);
b) isolating and drying the epalrestat DMF solvate.

本発明のさらに別の態様は、
a)溶液を30~60℃に保持しながら、溶媒にエパルレスタットDMF溶媒和物を懸濁するステップと、
b)エパルレスタット結晶Bを単離し、乾燥させるステップと
を含む、エパルレスタットDMF溶媒和物からエパルレスタット結晶Bを調製する方法に関する。
Yet another aspect of the invention is
a) suspending epalrestat DMF solvate in a solvent while maintaining the solution at 30-60°C;
b) isolating and drying epalrestat crystals B.

本発明のさらに別の態様は、
a)懸濁液を10~30℃に保持しながら、溶媒にエパルレスタットDMF溶媒和物を懸濁するステップと、
b)エパルレスタット結晶Aを単離し、乾燥させるステップと
を含む、エパルレスタットDMF溶媒和物からエパルレスタット結晶Aを調製する方法に関する。
Yet another aspect of the invention is
a) suspending epalrestat DMF solvate in a solvent while maintaining the suspension at 10-30°C;
b) isolating and drying epalrestat crystals A.

本発明のさらに別の態様は、高純度のエパルレスタットを提供することである。 Yet another aspect of the invention is to provide highly purified epalrestat.

結晶性エパルレスタットDMF溶媒和物のX線粉末回折(XRPD)パターンを示す図である。FIG. 2 shows an X-ray powder diffraction (XRPD) pattern of crystalline epalrestat DMF solvate. 結晶性エパルレスタットDMF溶媒和物の示差走査熱量測定(DSC)曲線を示す図である。FIG. 2 shows a differential scanning calorimetry (DSC) curve of crystalline epalrestat DMF solvate.

本明細書で使用するとき、「DMF」は、N,N-ジメチルホルムアミドである。 As used herein, "DMF" is N,N-dimethylformamide.

本明細書で使用するとき、「溶媒和物」は、非溶媒和分子からなるホスト格子に溶媒の分子が組み込まれた結晶性分子化合物である。「水和物」は、組み込まれた溶媒が水である特別な種類の溶媒和物である。したがって、「無水」形態は、水分子がホスト分子の結晶格子に組み込まれていない形態である。 As used herein, a "solvate" is a crystalline molecular compound in which molecules of a solvent are incorporated into a host lattice of unsolvated molecules. "Hydrates" are a special type of solvate in which the incorporated solvent is water. Thus, an "anhydrous" form is one in which water molecules are not incorporated into the crystal lattice of the host molecule.

本明細書で使用される「ピーク(複数可)」という用語は、XRPDでの特性決定について当業者が一般的に理解している特徴的なピークを意味する。例えば、「ピーク(複数可)」は、最強ピークに対して少なくとも10%、好ましくは少なくとも20%、より好ましくは少なくとも30%の相対強度を有することにより、一般的に定義することができる。 As used herein, the term "peak(s)" refers to characteristic peaks that are commonly understood by those skilled in the art for characterization in XRPD. For example, "peak(s)" can be generally defined by having a relative intensity of at least 10%, preferably at least 20%, more preferably at least 30% relative to the strongest peak.

本発明の態様は、エパルレスタットを調製する方法に関する。特定の実施形態では、本発明の態様は、エパルレスタットDMF溶媒和物を介した純粋なエパルレスタットの調製に関する。 Aspects of the invention relate to methods of preparing epalrestat. In certain embodiments, aspects of the invention relate to the preparation of pure epalrestat via epalrestat DMF solvate.

エパルレスタットDMF溶媒和物は、任意の1つ又は複数の分析技術によって特性決定することができ、分析技術はXRPDパターン、赤外吸収スペクトル、示差走査熱量測定(DSC)曲線、及び熱重量分析(TGA)曲線を含むことができる。 Epalrestat DMF solvate can be characterized by any one or more analytical techniques, including XRPD patterns, infrared absorption spectra, differential scanning calorimetry (DSC) curves, and thermogravimetric analysis (TGA). ) can contain curves.

本出願の別の態様は、1つ又は複数の分析法を使用することによって特性決定されたエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。 Another aspect of the present application provides crystals of epalrestat DMF solvate characterized by using one or more analytical methods.

本発明のさらに別の態様は、5.98±0.2度の2θ角にピークを含むX線粉末回折パターンを有するエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。 Yet another aspect of the present invention provides crystals of epalrestat DMF solvate having an X-ray powder diffraction pattern containing a peak at a two-theta angle of 5.98±0.2 degrees.

本発明のさらに別の態様は、5.98、14.59及び26.69±0.2度の2θ角にピークを含むX線粉末回折パターンを有するエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。 Yet another aspect of the invention provides crystals of epalrestat DMF solvate having an X-ray powder diffraction pattern containing peaks at 2-theta angles of 5.98, 14.59, and 26.69±0.2 degrees.

本発明のさらに別の態様は、5.98、14.59、19.76、26.06、27.00及び32.63±0.2度の2θ角にピークを含むX線粉末回折パターンを有するエパルレスタットDMF溶媒和物の結晶を提供する。エパルレスタットDMF溶媒和物の結晶は、12.48、14.05、15.37、22.39、22.73及び26.69±0.2度の2θ角にピークを含むX線粉末回折パターンをさらに特徴とすることができる。 Yet another aspect of the invention provides an X-ray powder diffraction pattern containing peaks at 2-theta angles of 5.98, 14.59, 19.76, 26.06, 27.00 and 32.63 ± 0.2 degrees. Crystals of epalrestat DMF solvate are provided. Crystals of epalrestat DMF solvate have an X-ray powder diffraction pattern containing peaks at 2θ angles of 12.48, 14.05, 15.37, 22.39, 22.73, and 26.69 ± 0.2 degrees. Further features can be provided.

表1に、それらのピーク及び強度を示す。 Table 1 shows their peaks and intensities.

Figure 2023154056000003
Figure 2023154056000003

本発明のさらに別の態様は、
a)有機酸のアンモニウム塩(複数可)及びDMF含有溶媒(複数可)の存在下で、ロダニン-3-酢酸を(E)-2-メチル-3-フェニルアクリルアルデヒドと反応させるステップと、
b)エパルレスタットDMF溶媒和物を単離し、乾燥させるステップと
を含むエパルレスタットDMF溶媒和物を調製する方法に関する。
Yet another aspect of the invention is
a) reacting rhodanine-3-acetic acid with (E)-2-methyl-3-phenylacrylaldehyde in the presence of ammonium salt(s) of an organic acid and DMF-containing solvent(s);
b) isolating and drying the epalrestat DMF solvate.

ステップa)は、DMF含有溶媒中で実施する。上記溶媒は、以下に限定されないが、水;例えば、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ホルムアミド、アセトアミド、プロパンアミド等の極性非プロトン性溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒、又はそれらの任意の混合物をさらに含有することができる。上記溶媒は、酢酸エチル、メタノール又はそれらの混合物をさらに含有するのが好ましい。上記溶媒は、DMF以外の溶媒を含有していないのがより好ましい。 Step a) is carried out in a DMF-containing solvent. The above solvents include, but are not limited to, water; polar aprotic solvents such as N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, pyridine, dimethylsulfoxide, sulfolane, formamide, acetamide, propanamide; methanol, ethanol; , propanol, butanol, isopropanol, etc.; ester solvents such as ethyl acetate, methyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, etc., or any mixture thereof. Preferably, the solvent further contains ethyl acetate, methanol or a mixture thereof. More preferably, the solvent does not contain any solvent other than DMF.

ステップa)は、有機酸のアンモニウム塩(複数可)の存在下で実施する。アンモニウム塩(複数可)のアンモニウムイオン部分は、式N(Rで表され、式中、R、R、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子又はC~Cアルキル基である。C~Cアルキル基は、直鎖又は分枝鎖であってもよい。 Step a) is carried out in the presence of ammonium salt(s) of an organic acid. The ammonium ion moiety of the ammonium salt(s) has the formula N(R 1 R 2 R 3 R 4 ) + , where R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently: It is a hydrogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group. The C 1 -C 6 alkyl group may be straight chain or branched.

列挙したすべての有機酸のうち、好ましい酸は、サリチル酸、安息香酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マロン酸、フマル酸、マレイン酸、ピメリン酸、クエン酸、酒石酸、スベリン酸、ピログルタミン酸、ジピコリン酸、酒石酸、リンゴ酸、マレイン酸、クエン酸、酢酸、及びそれらの組合せからなるカルボン酸の群から選択される。有機酸は、酢酸及びクエン酸から選択されるのがより好ましい。 Of all the organic acids listed, preferred acids are salicylic acid, benzoic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, malonic acid, fumaric acid, maleic acid, pimelic acid, citric acid, tartaric acid, suberic acid, pyroglutamic acid, selected from the group of carboxylic acids consisting of dipicolinic acid, tartaric acid, malic acid, maleic acid, citric acid, acetic acid, and combinations thereof. More preferably, the organic acid is selected from acetic acid and citric acid.

有機酸のアンモニウム塩(複数可)は、クエン酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、酢酸メタンアミニウム、酢酸ジエチルアンモニウム、酢酸トリエチルアンモニウム及び酢酸ブチルアンモニウム並びにこれらの組合せからなる群から選択されるのが好ましい。 Preferably, the ammonium salt(s) of the organic acid is selected from the group consisting of ammonium citrate, ammonium acetate, methanaminium acetate, diethylammonium acetate, triethylammonium acetate and butylammonium acetate, and combinations thereof.

ステップa)の反応に適切な温度は、約150℃未満、約100℃未満、約80℃未満、約60℃未満、約40℃未満、約30℃未満、約20℃未満、約10℃未満、又はその他の任意の適切な温度であってもよい。 Suitable temperatures for the reaction of step a) include less than about 150°C, less than about 100°C, less than about 80°C, less than about 60°C, less than about 40°C, less than about 30°C, less than about 20°C, less than about 10°C. , or any other suitable temperature.

ステップa)で得られる反応混合物は、場合によって濾過して、不溶性の固体を除去してもよく、又はデカンテーション、遠心分離、重力濾過、吸引濾過等の方法、若しくは固体を除去するためのその他の任意の技術によって、粒子を除去してもよい。 The reaction mixture obtained in step a) may optionally be filtered to remove insoluble solids, or by methods such as decantation, centrifugation, gravity filtration, suction filtration, or other methods for removing solids. The particles may be removed by any of the following techniques.

ステップb)は、ステップa)で得られた固体を単離することを含む。固体は、液体から固体を分離することに関する当業者に既知の一般的な技術を用いて、懸濁液から単離することができる。例えば、固体は、例えば、重力若しくは吸引による濾過、遠心分離、デカンテーション等の技術、又は固体を除去するためのその他の任意の技術を用いて単離してもよい。固体を単離した後、ステップa)で使用される溶媒で、固体を場合によって洗浄することができる。 Step b) comprises isolating the solid obtained in step a). Solids can be isolated from suspensions using common techniques known to those skilled in the art for separating solids from liquids. For example, solids may be isolated using techniques such as, for example, filtration by gravity or suction, centrifugation, decantation, or any other technique for removing solids. After isolating the solid, it can optionally be washed with the solvent used in step a).

回収された固体はさらに乾燥させる。乾燥は、トレイ乾燥機、真空オーブン、エアーオーブン、流動床乾燥機、スピンフラッシュ乾燥機、フラッシュ乾燥機等で実施することができる。乾燥は、約150℃未満、約120℃未満、約100℃未満、約80℃未満、約60℃未満、又は化合物が品質の点で劣化しない限りはその他の任意の適切な温度で、大気圧又は減圧下で、実施することができる。必要とされる純度に達するまで、所望の時間、乾燥を実施してもよい。例えば、乾燥時間は、約1時間~約15時間、又はそれより長く変動してもよい。 The recovered solids are further dried. Drying can be carried out in a tray dryer, vacuum oven, air oven, fluidized bed dryer, spin flash dryer, flash dryer, etc. Drying can be carried out at atmospheric pressure at a temperature below about 150°C, below about 120°C, below about 100°C, below about 80°C, below about 60°C, or any other suitable temperature so long as the compound does not deteriorate in quality. Alternatively, it can be carried out under reduced pressure. Drying may be carried out for a desired period of time until the required purity is achieved. For example, drying times may vary from about 1 hour to about 15 hours, or longer.

本出願のさらに別の態様は、
a)溶液を30~60℃に保持しながら、溶媒にエパルレスタットDMF溶媒和物を懸濁するステップと、
b)エパルレスタット結晶Bを単離し、乾燥させるステップと
を含む方法で調製されるときの、エパルレスタット結晶Bを調製する方法を提供する。
個々のステップは、本明細書において以下に別々に記載する。
Yet another aspect of the present application is:
a) suspending epalrestat DMF solvate in a solvent while maintaining the solution at 30-60°C;
b) isolating and drying the epalrestat crystals B.
The individual steps are described separately herein below.

ステップa)で使用することができる適切な溶媒として、以下に限定されないが、例えば、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、プロパン酸メチル、プロパン酸エチル、ブタン酸メチル、ブタン酸エチル等のエステル;水;例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、グリセロール等のアルコール、又はそれらの混合物が挙げられる。エタノールが、最も好ましい溶媒である。 Suitable solvents that can be used in step a) include, but are not limited to, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, methyl propanoate, ethyl propanoate. , esters such as methyl butanoate, ethyl butanoate; water; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, ethylene glycol, glycerol, or mixtures thereof. Ethanol is the most preferred solvent.

ステップb)は、ステップa)で得られた固体を単離することを含む。固体は、液体から固体を分離することについて当業者に既知の一般的な技術を用いて、懸濁液から単離することができる。例えば固体は、例えば、重力若しくは吸引による濾過、遠心分離、デカンテーション等の技術、又は固体を除去するためのその他の任意の技術を用いて単離してもよい。固体を単離した後、ステップa)で使用される溶媒で、固体を場合によって洗浄することができる。 Step b) comprises isolating the solid obtained in step a). Solids can be isolated from suspensions using common techniques known to those skilled in the art for separating solids from liquids. For example, solids may be isolated using techniques such as filtration by gravity or suction, centrifugation, decantation, or any other technique for removing solids. After isolating the solid, it can optionally be washed with the solvent used in step a).

回収された固体は、場合によってさらに乾燥させてもよい。乾燥は、トレイ乾燥機、真空オーブン、エアーオーブン、流動床乾燥機、スピンフラッシュ乾燥機、フラッシュ乾燥機等で実施することができる。上記乾燥は、約150℃未満、約120℃未満、約100℃未満、約80℃未満、約60℃未満、又は上記化合物が品質の点で劣化しない限りはその他の任意の適切な温度で、大気圧又は減圧下で、実施することができる。必要とされる純度に達するまで、所望の時間、乾燥を実施してもよい。例えば、乾燥時間は、約1時間~約15時間、又はそれより長く変動してもよい。 The recovered solids may optionally be further dried. Drying can be carried out in a tray dryer, vacuum oven, air oven, fluidized bed dryer, spin flash dryer, flash dryer, etc. The drying is at a temperature below about 150°C, below about 120°C, below about 100°C, below about 80°C, below about 60°C, or any other suitable temperature so long as the compound does not deteriorate in quality. It can be carried out at atmospheric pressure or under reduced pressure. Drying may be carried out for a desired period of time until the required purity is achieved. For example, drying times may vary from about 1 hour to about 15 hours, or longer.

本発明のさらに別の態様は、
a)懸濁液を10~30℃に保持しながら、溶媒にエパルレスタットDMF溶媒和物を懸濁するステップと、
b)エパルレスタット結晶Aを単離し、乾燥させるステップと
を含む方法で調製されるときのエパルレスタット結晶Aを提供することである。
個々のステップは、本明細書において以下に別々に記載する。
Yet another aspect of the invention is
a) suspending epalrestat DMF solvate in a solvent while maintaining the suspension at 10-30°C;
b) isolating and drying the epalrestat crystals A.
The individual steps are described separately herein below.

ステップa)で使用することができる適切な溶媒として、以下に限定されないが、水;例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、グリセロール等のアルコール、又はそれらの混合物が挙げられる。水、メタノール又はそれらの混合物が、最も好ましい溶媒である。 Suitable solvents that can be used in step a) include, but are not limited to, water; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, ethylene glycol, glycerol, or mixtures thereof. Water, methanol or mixtures thereof are the most preferred solvents.

ステップb)は、ステップa)で得られた固体を単離することを含む。固体は、液体から固体を分離することについて当業者に既知の一般的な技術を用いて、懸濁液から単離することができる。例えば固体は、例えば、重力若しくは吸引による濾過、遠心分離、デカンテーション等の技術、又は固体を除去するためのその他の任意の技術を用いて単離してもよい。固体を単離した後、ステップa)で使用される溶媒で、固体を場合によって洗浄することができる。 Step b) comprises isolating the solid obtained in step a). Solids can be isolated from suspensions using common techniques known to those skilled in the art for separating solids from liquids. For example, solids may be isolated using techniques such as filtration by gravity or suction, centrifugation, decantation, or any other technique for removing solids. After isolating the solid, it can optionally be washed with the solvent used in step a).

回収された固体は、場合によってさらに乾燥させてもよい。乾燥は、トレイ乾燥機、真空オーブン、エアーオーブン、流動床乾燥機、スピンフラッシュ乾燥機、フラッシュ乾燥機等で実施することができる。乾燥は、約150℃未満、約120℃未満、約100℃未満、約80℃未満、約60℃未満、又は化合物が品質の点で劣化しない限りはその他の任意の適切な温度で、大気圧又は減圧下で、実施することができる。必要とされる純度に達するまで、所望の時間、乾燥を実施してもよい。例えば、乾燥時間は、約1時間~約15時間、又はそれより長く変動してもよい。 The recovered solids may optionally be further dried. Drying can be carried out in a tray dryer, vacuum oven, air oven, fluidized bed dryer, spin flash dryer, flash dryer, etc. Drying can be carried out at atmospheric pressure at a temperature below about 150°C, below about 120°C, below about 100°C, below about 80°C, below about 60°C, or any other suitable temperature so long as the compound does not deteriorate in quality. Alternatively, it can be carried out under reduced pressure. Drying may be carried out for a desired period of time until the required purity is achieved. For example, drying times may vary from about 1 hour to about 15 hours, or longer.

特に指定しない限り、本明細書で使用するすべての百分率及び比は、組成物全体の重量によるものであり、すべての測定値は、約25℃及びおおよそ大気圧で測定されたものである。特に断りのない限り、温度はすべて摂氏で表す。本明細書で使用するとき、「含む」は、記載した要素、又は構造若しくは機能の点で上記要素の等価物、さらに記載していないその他の任意の要素(複数可)を意味する。「有する」、「含む」及び「含有する」という用語はまた、オープンエンドと解釈されるべきである。本明細書に記載の範囲はすべて、その範囲の終点を含み、2つの値の「間」の範囲を示す値を含む。示されているかそうでないかに関わらず、本明細書に記載の値はすべて、状況によって定められる値に近似し、予想される実験誤差、手法の誤差、及び値を測定するために使用される所与の手法についての計器誤差の程度を含む。 Unless otherwise specified, all percentages and ratios used herein are by weight of the entire composition and all measurements are taken at about 25° C. and approximately atmospheric pressure. All temperatures are expressed in degrees Celsius unless otherwise noted. As used herein, "comprising" means the described element, or an equivalent in structure or function of the above element, as well as any other element(s) not described. The terms "having," "comprising," and "containing" are also to be construed as open-ended. All ranges recited herein are inclusive of the endpoints of the range and include values indicating ranges "between" the two values. All values set forth herein, whether indicated or otherwise, approximate values dictated by the circumstances and are subject to expected experimental error, methodological error, and use in determining the values. Contains the degree of instrument error for a given technique.

本発明のその他の特徴、利点及び態様は、以下の説明から当業者に明白になるであろう。説明及び以下の特定の実施例は、本発明の好ましい実施形態を示すが、例示するためだけに示されることを理解されたい。開示される本発明の趣旨及び範囲内の変更及び改変は、本開示の説明及びその他の部分を読むことによって、当業者に容易に明白になるであろう。 Other features, advantages, and aspects of the invention will be apparent to those skilled in the art from the following description. It is to be understood that the description and the following specific examples, while indicating preferred embodiments of the invention, are given by way of illustration only. Changes and modifications within the spirit and scope of the disclosed invention will become readily apparent to those skilled in the art from reading the description and other portions of this disclosure.

定義
文脈が他のことを示さない限り、以下の定義が、本出願に関連して使用される。
DEFINITIONS Unless the context indicates otherwise, the following definitions are used in connection with this application.

本発明のある特定の態様及び実施形態は、以下の実施例によってさらに詳細に記述され、実施例は例示のみを目的として提供され、いかなる方法であっても、本発明の範囲を限定するものではない。 Certain aspects and embodiments of the invention are described in further detail by the following examples, which are provided for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention in any way. do not have.

XRPDは、45kV及び40mAでのCu-Kα線を使用して、PANalytical EMPYREAN(PANalytical、オランダ)回折計で記録した。回折パターンは、0.01度のステップサイズで5~40度の2θ範囲にわたって収集した。 XRPD was recorded on a PANalytical EMPYREAN (PANalytical, Netherlands) diffractometer using Cu-Kα radiation at 45 kV and 40 mA. Diffraction patterns were collected over a 2θ range of 5 to 40 degrees with a step size of 0.01 degrees.

DSC(示差走査熱量測定)は、窒素気流下でアルミニウムルツボを用いることにより、加熱速度5℃/分で、DSC-60(Shimadzu)で行った。 DSC (differential scanning calorimetry) was performed on a DSC-60 (Shimadzu) at a heating rate of 5° C./min by using an aluminum crucible under a nitrogen stream.

実施例1
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸DMF溶媒和物の調製
ロダニン-3-酢酸(65.40g)、(E)-2-メチル-3-フェニルアクリルアルデヒド(50.0g)を、25~30℃でDMF(500ml)に溶解した。酢酸アンモニウム溶液(31.63g、30.0mlの水に溶解)を反応混合物に添加し、25~35℃で12時間撹拌した。反応が終了した後、反応混合物を5~15℃に冷却した。50.0gの濃HClを、5~15℃で、15分間かけてゆっくりと添加した。反応を5~15℃で2時間維持した。反応塊を濾過し、冷却したDMF(150ml)で洗浄した。この物質を2時間吸引乾燥して、標題化合物を得た。
収量:153.0g
Example 1
Preparation of 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid DMF solvate Rhodanine-3- Acetic acid (65.40 g) and (E)-2-methyl-3-phenylacrylaldehyde (50.0 g) were dissolved in DMF (500 ml) at 25-30°C. Ammonium acetate solution (31.63 g, dissolved in 30.0 ml water) was added to the reaction mixture and stirred at 25-35° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to 5-15°C. 50.0 g of concentrated HCl was added slowly over 15 minutes at 5-15°C. The reaction was maintained at 5-15°C for 2 hours. The reaction mass was filtered and washed with cold DMF (150ml). This material was sucked dry for 2 hours to give the title compound.
Yield: 153.0g

2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸の結晶Bの調製
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸DMF溶媒和物(153.0g)を、25~30℃で、500mlのエタノールに懸濁した。温度を55~60℃に上昇させ、2時間、反応を維持した。反応混合物を35~40℃に冷却し、2時間維持した。反応塊を濾過し、エタノール(200ml)で洗浄した。この物質を30分間、吸引乾燥した。こうして得られたウェットケーキを25~30℃で、水(500ml)に懸濁した。反応を25~30℃で、30分間維持した。反応塊を濾過し、100mlの水とエタノール(100mlを1回)で2回洗浄した。上記物質を真空下50~60℃で、15時間乾燥させた。
収量:78.50g(72.02%)
HPLCによる純度:99.94% Z/Z異性体:0.01%
HPLCの条件:
計測器:Waters e2695分離モジュール2489uv/vis検出器、カラム:C18(150x4.6)mm、5μm、検出器:280nmのUV、流速:1.0mL/分、溶出:均一濃度、ランタイム40分
Preparation of crystals B of 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid 2-((Z) )-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid DMF solvate (153.0 g) was heated at 25 to 30°C. Then, it was suspended in 500 ml of ethanol. The temperature was increased to 55-60°C and the reaction was maintained for 2 hours. The reaction mixture was cooled to 35-40°C and maintained for 2 hours. The reaction mass was filtered and washed with ethanol (200ml). This material was sucked dry for 30 minutes. The wet cake thus obtained was suspended in water (500 ml) at 25-30°C. The reaction was maintained at 25-30°C for 30 minutes. The reaction mass was filtered and washed twice with 100 ml of water and ethanol (1 x 100 ml). The material was dried under vacuum at 50-60° C. for 15 hours.
Yield: 78.50g (72.02%)
Purity by HPLC: 99.94% Z/Z isomer: 0.01%
HPLC conditions:
Instrumentation: Waters e2695 separation module 2489 uv/vis detector, column: C18 (150x4.6) mm, 5 μm, detector: UV at 280 nm, flow rate: 1.0 mL/min, elution: isocratic, run time 40 min

実施例2
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸DMF溶媒和物の調製
ロダニン-3-酢酸(131.0g)を700mLのDMFに溶解し、次いで(E)-2-メチル-3-フェニルアクリルアルデヒド(100.0g)及び200mlのDMFを、反応混合物に、25~35℃で添加した。酢酸アンモニウム溶液(63.27g、60mlの水に溶解)を反応混合物に添加し、30~35℃で4時間撹拌した。反応が終了した後、反応混合物を10~15℃に冷却した。100.0gの濃HClを10~15℃でゆっくりと添加した。反応を10~15℃で2時間維持した。反応塊を濾過し、DMFで洗浄した。上記物質を2~4時間スピン乾燥して、標題化合物を得た。
収量:260.50g
Example 2
Preparation of 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid DMF solvate Rhodanine-3- Acetic acid (131.0 g) was dissolved in 700 mL of DMF, then (E)-2-methyl-3-phenylacrylaldehyde (100.0 g) and 200 mL of DMF were added to the reaction mixture at 25-35 °C. . Ammonium acetate solution (63.27 g, dissolved in 60 ml water) was added to the reaction mixture and stirred at 30-35° C. for 4 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to 10-15°C. 100.0 g of concentrated HCl was added slowly at 10-15°C. The reaction was maintained at 10-15°C for 2 hours. The reaction mass was filtered and washed with DMF. The above material was spin dried for 2-4 hours to yield the title compound.
Yield: 260.50g

2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸の結晶Bの調製
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸DMF溶媒和物(260.5g)を、25~35℃で、1200mlのエタノールに懸濁した。温度を55~60℃に上昇させ、反応を2時間維持した。反応混合物を35~40℃に冷却し、2時間維持した。反応塊を濾過し、エタノール(400ml)で洗浄した。この物質を2時間スピン乾燥した。こうして得られたウェットケーキを30~35℃で水(1000ml)に懸濁した。反応を30~60分間維持した。反応塊を濾過し、水(400ml)及びエタノール(200ml)で洗浄した。上記物質を真空下50~60℃で、8~10時間乾燥させた。
収量:162.5g(74.54%)
HPLCによる純度:99.92% Z/Z異性体:0.02%
HPLCの条件:
Waters e2695分離モジュール2489uv/visの検出器、カラム:C18(150x4.6)mm、5μm、検出器:280nmのUV、流速:1.0mL/分、溶出:均一濃度、ランタイム40分
Preparation of crystals B of 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid 2-((Z) )-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid DMF solvate (260.5 g) was heated at 25 to 35°C. Then, it was suspended in 1200 ml of ethanol. The temperature was increased to 55-60°C and the reaction was maintained for 2 hours. The reaction mixture was cooled to 35-40°C and maintained for 2 hours. The reaction mass was filtered and washed with ethanol (400ml). This material was spin dried for 2 hours. The wet cake thus obtained was suspended in water (1000 ml) at 30-35°C. The reaction was maintained for 30-60 minutes. The reaction mass was filtered and washed with water (400ml) and ethanol (200ml). The material was dried under vacuum at 50-60° C. for 8-10 hours.
Yield: 162.5g (74.54%)
Purity by HPLC: 99.92% Z/Z isomer: 0.02%
HPLC conditions:
Waters e2695 separation module 2489uv/vis detector, column: C18 (150x4.6) mm, 5 μm, detector: UV at 280 nm, flow rate: 1.0 mL/min, elution: isocratic, run time 40 minutes

実施例3
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸DMF溶媒和物の調製
ロダニン-3-酢酸(78.6kg)を377.6kgのDMFに溶解し、次いで(E)-2-メチル-3-フェニルアクリルアルデヒド(60.0kg)及び169.9kgのDMFを、反応混合物に25~35℃で添加した。酢酸アンモニウム溶液(38.0kg、34kgの水に溶解)を反応混合物に添加し、30~35℃で4時間撹拌した。反応が終了した後、反応混合物を10~15℃に冷却した。60.0kgの濃HClを10~15℃でゆっくりと添加した。反応を10~15℃で2時間維持した。反応塊を濾過し、169.9kgの冷却したDMFで洗浄した。上記物質を2時間スピン乾燥して、標題化合物を得た。
収量:164.06kg
Example 3
Preparation of 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid DMF solvate Rhodanine-3- Acetic acid (78.6 kg) was dissolved in 377.6 kg of DMF, then (E)-2-methyl-3-phenylacrylaldehyde (60.0 kg) and 169.9 kg of DMF were added to the reaction mixture at 25-35°C. Added with. Ammonium acetate solution (38.0 kg, dissolved in 34 kg of water) was added to the reaction mixture and stirred at 30-35° C. for 4 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was cooled to 10-15°C. 60.0 kg of concentrated HCl was added slowly at 10-15°C. The reaction was maintained at 10-15°C for 2 hours. The reaction mass was filtered and washed with 169.9 kg of chilled DMF. The above material was spin dried for 2 hours to give the title compound.
Yield: 164.06kg

2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸の結晶Bの調製
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸DMF溶媒和物(164.06kg)を、30~35℃で、568.0kgのエタノールに懸濁した。温度を55~60℃に上昇させ、反応を2時間維持した。反応混合物を35~40℃に冷却し、2時間維持した。反応塊を濾過し、エタノール(189.4kg)で洗浄した。上記物質を2時間スピン乾燥した。こうして得られたウェットケーキを30~35℃で水(600リットル)に懸濁した。反応を25~30℃で30~60分間維持した。反応塊を濾過し、水(240リットル)及びエタノール(94.7kg)で洗浄した。上記物質を真空下50~60℃で、8~10時間乾燥させた。
収量:102.0kg(77.98%)
HPLCによる純度:99.94% Z/Z異性体:0.01%
HPLCの条件:
Waters e2695分離モジュール2489uv/visの検出器、カラム:C18(150x4.6)mm、5μm、検出器:280nmのUV、流速:1.0mL/分、溶出:均一濃度、ランタイム40分
Preparation of crystals B of 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid 2-((Z) )-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid DMF solvate (164.06 kg) was heated at 30 to 35°C. Then, it was suspended in 568.0 kg of ethanol. The temperature was increased to 55-60°C and the reaction was maintained for 2 hours. The reaction mixture was cooled to 35-40°C and maintained for 2 hours. The reaction mass was filtered and washed with ethanol (189.4 kg). The material was spin dried for 2 hours. The wet cake thus obtained was suspended in water (600 liters) at 30-35°C. The reaction was maintained at 25-30°C for 30-60 minutes. The reaction mass was filtered and washed with water (240 liters) and ethanol (94.7 kg). The material was dried under vacuum at 50-60° C. for 8-10 hours.
Yield: 102.0kg (77.98%)
Purity by HPLC: 99.94% Z/Z isomer: 0.01%
HPLC conditions:
Waters e2695 separation module 2489uv/vis detector, column: C18 (150x4.6) mm, 5 μm, detector: UV at 280 nm, flow rate: 1.0 mL/min, elution: isocratic, run time 40 minutes

実施例4
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸の結晶Aの調製
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸DMF溶媒和物(15.0g)を150mlの水に懸濁し、25~30℃で6時間撹拌した。上記物質を濾過し、水とメタノールの混合液で洗浄した。上記物質を、真空下55~60℃で、6時間乾燥させた。
収量:9.15g(72.75%)
Example 4
Preparation of crystals A of 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid 2-((Z) )-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid DMF solvate (15.0 g) was suspended in 150 ml of water. The mixture became cloudy and stirred at 25-30°C for 6 hours. The material was filtered and washed with a mixture of water and methanol. The material was dried under vacuum at 55-60° C. for 6 hours.
Yield: 9.15g (72.75%)

実施例5
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸の結晶Aの調製
2-((Z)-5-((E)-2-メチル-3-フェニルアリリデン)-4-オキソ-2-チオキソチアゾリジン-3-イル)酢酸DMF溶媒和物(15.0g)を、150mlのメタノールに懸濁し、20~30℃で6時間撹拌した。上記物質を濾過し、メタノールで洗浄した。上記物質を、真空下55~60℃で、12時間乾燥させた。
収量:9.0g(71.55%)
Example 5
Preparation of crystals A of 2-((Z)-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid 2-((Z) )-5-((E)-2-methyl-3-phenylallylidene)-4-oxo-2-thioxothiazolidin-3-yl)acetic acid DMF solvate (15.0 g) was dissolved in 150 ml of methanol. The mixture was suspended and stirred at 20-30°C for 6 hours. The material was filtered and washed with methanol. The material was dried under vacuum at 55-60° C. for 12 hours.
Yield: 9.0g (71.55%)

Claims (4)

a.溶媒にエパルレスタットDMF溶媒和物を懸濁させ、懸濁液を30~60℃に保持するステップと、
b.エパルレスタットを単離し、乾燥させるステップと
を含み、
前記溶媒が、エステル、水若しくはアルコール又はそれらの混合物である、エパルレスタットを調製する方法。
a. suspending epalrestat DMF solvate in a solvent and maintaining the suspension at 30-60°C;
b. isolating and drying the epalrestat;
A method of preparing epalrestat, wherein the solvent is an ester, water or alcohol or a mixture thereof.
a.有機酸のアンモニウム塩及びDMF含有溶媒の存在下で、ロダニン-3-酢酸を(E)-2-メチル-3-フェニルアクリルアルデヒドと反応させるステップと、
b.ステップaで得られる生成物を単離し、乾燥させるステップと、
c.溶媒にステップbで得られる生成物を懸濁させ、懸濁液を30~60℃に保持するステップと、
d.ステップcで得られるエパルレスタットを単離し、乾燥させるステップと
を含み、
有機酸の前記アンモニウム塩が、クエン酸アンモニウム及び酢酸アンモニウム並びにそれらの組合せから選択され、
前記溶媒が、エステル、水若しくアルコール又はそれらの混合物である、エパルレスタットを調製する方法。
a. reacting rhodanine-3-acetic acid with (E)-2-methyl-3-phenylacrylaldehyde in the presence of an ammonium salt of an organic acid and a DMF-containing solvent;
b. isolating and drying the product obtained in step a;
c. suspending the product obtained in step b in a solvent and maintaining the suspension at 30-60°C;
d. isolating and drying the epalrestat obtained in step c;
the ammonium salt of an organic acid is selected from ammonium citrate and ammonium acetate and combinations thereof;
A method of preparing epalrestat, wherein the solvent is an ester, water or alcohol or a mixture thereof.
前記溶媒がエタノールである、請求項1又は2に記載の方法。 3. The method according to claim 1 or 2, wherein the solvent is ethanol. 調製されるエパルレスタットの純度が99.9%以上である、請求項1又は2に記載の方法。
The method according to claim 1 or 2, wherein the purity of the epalrestat prepared is 99.9% or more.
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