JP2023150384A - Black spot plate for ophthalmologic apparatus and manufacturing method thereof, and ophthalmologic apparatus - Google Patents

Black spot plate for ophthalmologic apparatus and manufacturing method thereof, and ophthalmologic apparatus Download PDF

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Abstract

To provide a black spot plate for ophthalmologic apparatus manufactured by a further simple method and capable of suppressing reflection at an interface between a substrate or another coating layer and the black point plate, and ophthalmologic apparatus using the black spot plate for preventing occurrence of ghost.SOLUTION: A black spot plate for ophthalmologic apparatus comprising a substrate layer, an antireflection layer composed of at least one layer provided on the substrate layer, and a light shielding layer provided as a small black spot on the antireflection layer, includes a first refractive index matching layer formed of a dielectric layer for preventing reflection of incident light from the antireflection layer, provided between the antireflection layer and the light shielding layer, and a second refractive index matching layer formed of a dielectric layer for preventing reflection of incident light from air, provided on the light shielding layer.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、被検眼の観察・撮影等に用いられる眼科装置に用いられる眼科装置用黒点板と、これを用いた眼科装置に関する。 The present invention relates to a sunspot plate for an ophthalmological apparatus used in an ophthalmological apparatus used for observing and photographing an eye to be examined, and an ophthalmological apparatus using the same.

眼底カメラ等の眼科装置においては、照明光源から照明光を対物レンズを介して被検眼に投影する照明系と、照明光の被検眼からの反射光をこの対物レンズ及び撮影絞りを介して観察手段及び撮影手段までそれぞれ案内する観察系及び撮影系を有する。 An ophthalmological apparatus such as a fundus camera includes an illumination system that projects illumination light from an illumination light source onto the eye to be examined via an objective lens, and an observation means that reflects light of the illumination light from the eye to be examined through the objective lens and a photographic diaphragm. and an observation system and a photographing system that guide the camera to the photographing means.

このような眼科装置においては、被検眼に対向する対物レンズの表面による反射光が観察系・撮影系に有害光として混入し、フレヤーやゴーストの原因となり、鮮明な眼底の観察・撮影が行えない。 In such ophthalmological equipment, the reflected light from the surface of the objective lens facing the subject's eye enters the observation and imaging systems as harmful light, causing flare and ghosting, making it impossible to clearly observe and photograph the fundus. .

従来、このような有害光を除去するために、様々な技術が開発されている。例えば、特許文献1には、光を透過可能な複数枚積層された基板間に黒色塗料層が小黒点として形成された黒点板が設けられた眼科装置が開示されている。この黒点板によれば、照明光源の光軸方向から見て中心部近傍に黒点が重なっており、この部分の照明光が遮蔽される。これにより、対物レンズ中心部近傍でのゴースト等の発生を防止することができる。 Conventionally, various techniques have been developed to remove such harmful light. For example, Patent Document 1 discloses an ophthalmologic apparatus that is provided with a sunspot board in which a black paint layer is formed as small sunspots between a plurality of laminated substrates that can transmit light. According to this black spot board, the black spots overlap near the center when viewed from the optical axis direction of the illumination light source, and the illumination light in this area is blocked. This makes it possible to prevent ghosts and the like from occurring near the center of the objective lens.

特許第3576645号公報Patent No. 3576645

しかしながら、従来の黒点板の製造方法においては、黒点の黒色塗料を充填するための微小な孔を基板上に形成するため、エッチング等の化学的手段、研削等の物理的手段を用いていた。 However, in conventional methods for manufacturing sunspot plates, chemical means such as etching and physical means such as grinding have been used to form minute holes on the substrate to be filled with the black paint for the sunspots.

このような手段による微小孔の形成においては、以下のような諸問題があった。まず、上記化学的手段・物理的手段に伴う設計上の制約があり、微小孔全域にわたって深さを均一にすることが難しかった。特に化学的手段においては、ある程度以上に微小孔を深くしようとすると長時間の溶解が必要となり、長時間の溶解に伴って微小孔の底部に凹凸が生じて均一にすることができない場合があった。また、複数の黒点板の製造に際して微小孔の形成にバラツキがあり再現性が悪かった。また、微小孔の形成後、深さの測定にも時間を要していた。さらには、基板の微小孔に直接黒色塗料を充填するため、両者の屈折率差によっては、基板側からの入射光が基板-黒色塗料層界面で反射を起こしてしまっていた。 Formation of micropores by such means has the following problems. First, there are design constraints associated with the chemical and physical means described above, making it difficult to make the depth uniform throughout the micropores. Particularly with chemical means, if you try to make the micropores deeper than a certain level, you will need to melt for a long time, and as a result of the long dissolution, the bottom of the micropores may become uneven and cannot be made uniform. Ta. In addition, when manufacturing a plurality of sunspot plates, there were variations in the formation of micropores, resulting in poor reproducibility. Furthermore, it took time to measure the depth after forming the micropores. Furthermore, since the black paint is directly filled into the micropores of the substrate, the incident light from the substrate side may be reflected at the interface between the substrate and the black paint layer, depending on the difference in refractive index between the two.

そこで、本発明は、フレヤーやゴーストの発生を防止する黒点板において、より簡便な方法で製造することができ、かつ、基板やその他被覆層と黒点板との界面での反射を抑制することのできる眼科装置用黒点板及びこれを用いた眼科装置を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a sunspot plate that prevents the occurrence of flare and ghosts, which can be manufactured by a simpler method, and which suppresses reflection at the interface between the board and other coating layers. An object of the present invention is to provide a sunspot board for an ophthalmological device and an ophthalmological device using the same.

この目的を達成するため、請求項1に記載の発明は、基板層と、前記基板層上に設けられた少なくとも一層から構成された反射防止層と、前記反射防止層上に小黒点として設けられた遮光層とを有する眼科装置用黒点板であって、前記反射防止層と前記遮光層との間には、前記反射防止層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第1屈折率マッチング層が設けられ、前記遮光層上には、空気からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第2屈折率マッチング層が設けられたことを特徴とする。 In order to achieve this object, the invention according to claim 1 provides a substrate layer, an antireflection layer formed of at least one layer provided on the substrate layer, and a small black dot provided on the antireflection layer. A sunspot plate for an ophthalmological device has a light-shielding layer, and a first refractive layer comprising a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the anti-reflection layer is provided between the anti-reflection layer and the light-shielding layer. A second refractive index matching layer is provided on the light shielding layer, and the second refractive index matching layer is made of a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the air.

請求項2に記載の発明は、基板層と、前記基板層上に小黒点として設けられた遮光層と、前記遮光層を覆って前記基板層上に設けられた少なくとも一層から構成された反射防止層とを有する眼科装置用黒点板であって、前記基板層と前記遮光層との間には、前記基板層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第1屈折率マッチング層が設けられ、前記遮光層と前記反射防止層との間には、前記反射防止層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第2屈折率マッチング層が設けられたことを特徴とする。 The invention according to claim 2 provides an anti-reflection device comprising: a substrate layer; a light-shielding layer provided as small dots on the substrate layer; and at least one layer provided on the substrate layer covering the light-shielding layer. A sunspot plate for an ophthalmological device having a first refractive index matching layer between the substrate layer and the light shielding layer, the first refractive index matching layer being a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the substrate layer. and a second refractive index matching layer made of a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the antireflection layer is provided between the light shielding layer and the antireflection layer. .

請求項3に記載の発明は、基板層と、前記基板層上に小黒点として設けられた遮光層と、前記遮光層を覆って前記基板層上に設けられた接着剤層と、前記接着剤層上に設けられたもう一方の基板層とを有する眼科装置用黒点板であって、前記基板層と前記遮光層との間には、前記基板層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第1屈折率マッチング層が設けられ、前記遮光層と前記接着剤層との間には、前記接着剤層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第2屈折率マッチング層が設けられたことを特徴とする。 The invention according to claim 3 provides a substrate layer, a light-shielding layer provided as a small dot on the substrate layer, an adhesive layer provided on the substrate layer covering the light-shielding layer, and the adhesive. A sunspot plate for an ophthalmological device has a substrate layer provided on the substrate layer, and a dielectric material between the substrate layer and the light shielding layer that prevents reflection of incident light from the substrate layer. A first refractive index matching layer is provided between the light shielding layer and the adhesive layer, and a second refractive index matching layer is provided between the light shielding layer and the adhesive layer, and the second refractive index matching layer is a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the adhesive layer. It is characterized by having a layer.

請求項4に記載の発明は、請求項1~3のいずれかに記載の発明において、前記少なくとも一方の屈折率マッチング層中に、前記遮光層と同じ材料で形成された金属薄層が設けられたことを特徴とする。 The invention according to claim 4 is the invention according to any one of claims 1 to 3, wherein a thin metal layer formed of the same material as the light shielding layer is provided in the at least one refractive index matching layer. It is characterized by:

請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の眼科装置用黒点板の製造方法であって、前記基板層上に前記反射防止層を形成し、前記反射防止層上に所望のパターンを有するマスキング層を形成した後、前記第1屈折率マッチング層を構成する誘電体層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を構成する誘電体層を形成し、前記マスキング層を除去することを特徴とする。 The invention according to claim 5 is a method for manufacturing the sunspot plate for an ophthalmological device according to claim 1, which comprises forming the antireflection layer on the substrate layer, and forming a desired pattern on the antireflection layer. After forming a masking layer comprising: forming a dielectric layer constituting the first refractive index matching layer, a dielectric layer constituting the light shielding layer, and a dielectric layer constituting the second refractive index matching layer, and removing the masking layer. It is characterized by

請求項6に記載の発明は、請求項2に記載の眼科装置用黒点板の製造方法であって、前記基板層上に所望のパターンを有するマスキング層を形成した後、前記第1屈折率マッチング層を構成する誘電体層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を構成する誘電体層を形成し、前記マスキング層を除去し、前記第1屈折率マッチング層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を覆うように、前記基板層上に前記反射防止層を形成することを特徴とする。 The invention according to claim 6 is a method for manufacturing a sunspot plate for an ophthalmological device according to claim 2, in which, after forming a masking layer having a desired pattern on the substrate layer, the first refractive index matching is performed. A dielectric layer constituting the layers, the light shielding layer, and the second refractive index matching layer are formed, the masking layer is removed, and the first refractive index matching layer, the light shielding layer, and the second refractive index matching layer are formed. The antireflection layer is formed on the substrate layer so as to cover the two refractive index matching layer.

請求項7に記載の発明は、請求項3に記載の眼科装置用黒点板の製造方法であって、前記基板層上に所望のパターンを有するマスキング層を形成した後、前記第1屈折率マッチング層を構成する誘電体層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を構成する誘電体層を形成し、前記マスキング層を除去し、前記第1屈折率マッチング層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を覆うように、前記基板層上に前記接着剤層を形成し、前記接着剤層上に前記もう一方の基板層を接着することを特徴とする。 The invention according to claim 7 is a method for manufacturing a sunspot plate for an ophthalmological device according to claim 3, in which, after forming a masking layer having a desired pattern on the substrate layer, the first refractive index matching is performed. A dielectric layer constituting the layers, the light shielding layer, and the second refractive index matching layer are formed, the masking layer is removed, and the first refractive index matching layer, the light shielding layer, and the second refractive index matching layer are formed. The adhesive layer is formed on the substrate layer so as to cover the two refractive index matching layer, and the other substrate layer is bonded onto the adhesive layer.

請求項8に記載の発明は、請求項5~7のいずれかに記載の発明において、前記第1屈折率マッチング層および/または前記第2屈折率マッチング層の形成に際しては、少なくとも一層の金属薄層を前記誘電体層中に形成することを特徴とする。 The invention according to claim 8 is the invention according to any one of claims 5 to 7, when forming the first refractive index matching layer and/or the second refractive index matching layer, at least one metal thin layer is formed. A layer is formed in the dielectric layer.

請求項9に記載の発明は、請求項5~7のいずれかに記載の発明において、前記所望のパターンを有するマスキング層の形成と、前記屈折率マッチング層および前記遮光層の形成と、その後のマスキング層の除去に代えて、前記屈折率マッチング層および前記遮光層を全面に形成した後に不要部分を除去して所望のパターンとすることを特徴とする。 The invention according to claim 9 is the invention according to any one of claims 5 to 7, which includes forming the masking layer having the desired pattern, forming the refractive index matching layer and the light shielding layer, and then forming the masking layer having the desired pattern. Instead of removing the masking layer, the method is characterized in that the refractive index matching layer and the light shielding layer are formed on the entire surface and then unnecessary portions are removed to form a desired pattern.

請求項10に記載の発明は、照明光源からの照明光を穴鏡を介して被検眼に投影して前記被検眼を照明する照明系と、前記被検眼を撮影する光路中に設けられる撮影絞りを有する撮影系とを備えた眼科装置であって、前記照明系及び前記撮影系は被検眼と前記穴鏡との間に配設された互いに共用する対物レンズを有し、前記照明系は請求項1~4のいずれかに記載の眼科装置用黒点板を有すると共に、前記対物レンズのレンズ面を反射面と考えたとき、前記撮影絞りの開口部の像が形成される位置と前記遮光層が前記反射面を介して共役に設けられて、前記撮影絞りの開口部の前記像が前記遮光層により覆われるようにしたことを特徴とする。 The invention according to claim 10 provides an illumination system that projects illumination light from an illumination light source onto the eye to be examined through a hole mirror to illuminate the eye to be examined, and a photographing aperture provided in an optical path for photographing the eye to be examined. an ophthalmological apparatus comprising an imaging system having a lens, wherein the illumination system and the imaging system have a common objective lens disposed between the eye to be examined and the hole mirror; It has a sunspot plate for an ophthalmological device according to any one of items 1 to 4, and when the lens surface of the objective lens is considered as a reflective surface, a position where an image of the aperture of the photographic diaphragm is formed and the light shielding layer. is provided conjugately through the reflective surface, so that the image of the aperture of the photographing diaphragm is covered by the light shielding layer.

本発明によれば、従来技術の小黒点に相当する遮光層を形成するにあたり、基板や反射防止層に微小孔を設けるのではなく、マスキング技術を用いて所望のパターンにて遮光層を形成しているので、遮光層の幅や厚さといった寸法の設計上の制約が無く、全面にわたり厚さが均一であり、複数回製造しても再現性が高く、製造後に寸法を計測する必要が無い。また、基板層や反射防止層上に第1屈折率マッチング層を介して遮光層を形成しているので、基板側からの入射光が基板-遮光層間で反射を起こすことが抑制される。遮光層の基板層と反対側、すなわち、反射防止層、接着剤層、空気との間には第2屈折率マッチング層が形成されているので、こちら側からの入射光の反射も同時に抑制される。 According to the present invention, when forming a light-shielding layer corresponding to the small sunspots of the prior art, the light-shielding layer is formed in a desired pattern using masking technology, instead of providing micropores in the substrate or antireflection layer. Therefore, there are no design constraints on dimensions such as the width and thickness of the light-shielding layer, and the thickness is uniform over the entire surface, ensuring high reproducibility even when manufactured multiple times, and there is no need to measure dimensions after manufacturing. . Further, since the light shielding layer is formed on the substrate layer and the antireflection layer via the first refractive index matching layer, reflection of incident light from the substrate side between the substrate and the light shielding layer is suppressed. Since the second refractive index matching layer is formed on the side of the light shielding layer opposite to the substrate layer, that is, between the antireflection layer, the adhesive layer, and the air, reflection of incident light from this side is also suppressed. Ru.

黒点板を有さない従来の眼科装置の模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a conventional ophthalmological device without a sunspot plate. 中心ゴーストを示す写真画像である。This is a photographic image showing a central ghost. 黒点板を有する従来の眼科装置の模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a conventional ophthalmological device having a sunspot plate. 黒点板の挿入による黒点影を示す写真画像である。This is a photographic image showing a sunspot shadow caused by inserting a sunspot board. 従来の黒点板の模式断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a conventional sunspot board. 本発明の第1実施形態に係る黒点板の模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a sunspot plate according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第2実施形態に係る黒点板の模式断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a sunspot plate according to a second embodiment of the present invention. 本発明の第3実施形態に係る黒点板の模式断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a sunspot plate according to a third embodiment of the present invention. 実施例での黒点板の透過率、表面反射率、裏面反射率を示すグラフである。It is a graph showing transmittance, front surface reflectance, and back surface reflectance of a black spot plate in an example.

以下、図を参照して本発明を詳細に説明する。
図1には、本発明が対象とする眼底カメラ等の眼科装置100の光学系の概略が示される。まず、眼科装置100の照明光学系として、上流側より、観察用の照明光源101と、レンズ102、穴部(絞り)103aを有する穴鏡103、対物レンズ104が設けられている。符号200は被検眼である。照明光源101より照射された光は、細線Aで示す通り、レンズ102を経て、穴鏡103で反射され、対物レンズ104を経て、被検眼の網膜に照射される。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 schematically shows an optical system of an ophthalmological apparatus 100, such as a fundus camera, which is the object of the present invention. First, the illumination optical system of the ophthalmologic apparatus 100 includes, from the upstream side, an illumination light source 101 for observation, a lens 102, a hole mirror 103 having a hole (aperture) 103a, and an objective lens 104. Reference numeral 200 is the eye to be examined. As shown by the thin line A, the light emitted from the illumination light source 101 passes through the lens 102, is reflected by the hole mirror 103, passes through the objective lens 104, and is irradiated onto the retina of the eye to be examined.

次に、観察・撮影光学系として、センサー106、レンズ105、穴鏡103、対物レンズ104、被検眼200に至る。照明光源101より被検眼200の網膜に照射された光は、中線Bで示す通り、対物レンズ104を経て、穴鏡103の穴部103aを通過し、レンズ105を経て、センサー106によって受光されて、眼底像のデータとして、図示しない観察手段に供される。 Next, the observation/photographing optical system includes a sensor 106, a lens 105, a hole mirror 103, an objective lens 104, and an eye to be examined 200. The light irradiated onto the retina of the eye to be examined 200 from the illumination light source 101 passes through the objective lens 104, through the hole 103a of the hole mirror 103, through the lens 105, and is received by the sensor 106. The data is then provided to an observation means (not shown) as fundus image data.

ここで、対物レンズ104の表面104aでは、界面で反射光が生じ、太線Cで示す経路でセンサー106に到達し、図2に示すようなゴーストとして観察される。本発明の黒点板はこれを防止するために用いられるものである。 Here, on the surface 104a of the objective lens 104, reflected light is generated at the interface, reaches the sensor 106 along the path shown by the thick line C, and is observed as a ghost as shown in FIG. The black spot plate of the present invention is used to prevent this.

次に、図1の眼科装置100に、黒点板を挿入した模式図を図3に示す。照明光学系において、照明光源101とレンズ102の間に、黒点板107が挿入されている。照明光源101からの光は、細線Aで示すように照射されるが、黒点板107が影となり、太線Cで示すように光軸中央近傍の照明光が遮蔽される。その後照明光は穴鏡103で反射され、Cで示すように対物レンズ表面104aの表面の中央近傍を遮蔽する。これにより、対物レンズ表面104aで反射光が生じることが防止され、センサー106でゴーストが検出されない。なお、黒点の寸法次第で、あるいは、遮蔽領域が大きくなって観察・撮影系に影響を及ぼし、図4に示すような眼底像に黒点影が発生するという別の問題が生じる。 Next, FIG. 3 shows a schematic diagram in which a sunspot plate is inserted into the ophthalmological apparatus 100 of FIG. 1. In the illumination optical system, a black spot plate 107 is inserted between the illumination light source 101 and the lens 102. Light from the illumination light source 101 is emitted as shown by the thin line A, but the sunspot plate 107 forms a shadow and the illumination light near the center of the optical axis is blocked as shown by the thick line C2 . Thereafter, the illumination light is reflected by the hole mirror 103 and blocks the vicinity of the center of the objective lens surface 104a as shown by C2 . This prevents reflected light from occurring on the objective lens surface 104a, and no ghost is detected by the sensor 106. Note that depending on the size of the sunspot, or the shielding area becomes large, which may affect the observation/photographing system, another problem arises in that a sunspot shadow appears on the fundus image as shown in FIG. 4.

図5に、上述した従来技術による黒点板の模式断面図を示す。(a)は平面図、(b)は側断面図である。従来の黒点板10は、ガラス等で構成された基板層11と、基板層11上に設けられた微小孔に黒色塗料を充填してなる遮光層12と、その上に形成された反射防止層13とを有する。上述した通り、従来の黒点板10では、基板層に化学的あるいは物理的に微小孔を形成していたので、設計上の制約があり、微小孔全域にわたって深さを均一にすることが難しく、複数の黒点板を製造するに際して再現性が悪く、また、微小孔の形成後、深さの測定にも時間を有していた。さらには、微小孔に直接黒色塗料を充填するため、両者の屈折率差によっては、基板側からの入射光が基板-黒色塗料層界面で反射を起こしてしまっていた。 FIG. 5 shows a schematic cross-sectional view of the sunspot plate according to the prior art described above. (a) is a plan view, and (b) is a side sectional view. The conventional sunspot board 10 includes a substrate layer 11 made of glass or the like, a light shielding layer 12 formed by filling black paint into micropores provided on the substrate layer 11, and an antireflection layer formed thereon. 13. As mentioned above, in the conventional sunspot plate 10, the micropores are chemically or physically formed in the substrate layer, so there are design constraints, and it is difficult to make the depth of the micropores uniform over the entire area. The reproducibility was poor when manufacturing a plurality of sunspot plates, and it also took time to measure the depth after forming the micropores. Furthermore, since the black paint is directly filled into the micropores, incident light from the substrate side may be reflected at the interface between the substrate and the black paint layer, depending on the difference in refractive index between the two.

本発明は、これらの問題を解決するものであり、以下、図を参照して詳細に説明する。
<第1実施形態>
図6(a)は、本発明の第1実施形態に係る黒点板20の模式断面図である。黒点板20は、ガラスなどの透明な材質で構成された基板層21を有し、その表面には、反射防止層22が設けられている。反射防止層22は、基板層21と空気との間の反射を防止するような屈折率のものが選択される。反射防止層22の表面には、黒点層23が設けられている。以上が第1実施形態の基本構成である。なお、図6(a)では黒点層23は凸部を構成しているが、これは黒点層23の上下方向に長さを誇張したものであり、実際の黒点層23は、厚さがnmオーダーの薄層である。
The present invention solves these problems and will be described in detail below with reference to the drawings.
<First embodiment>
FIG. 6(a) is a schematic cross-sectional view of the sunspot plate 20 according to the first embodiment of the present invention. The sunspot plate 20 has a substrate layer 21 made of a transparent material such as glass, and an antireflection layer 22 is provided on the surface thereof. The antireflection layer 22 is selected to have a refractive index that prevents reflection between the substrate layer 21 and air. A sunspot layer 23 is provided on the surface of the antireflection layer 22 . The above is the basic configuration of the first embodiment. Note that although the sunspot layer 23 forms a convex portion in FIG. 6(a), this is an exaggerated vertical length of the sunspot layer 23, and the actual sunspot layer 23 has a thickness of nm A thin layer of order.

第1実施形態の黒点板を詳細に拡大すると、図6(b)に示すように、黒点層23は、光を不透過である遮光層24と、遮光層24と反射防止層22との間に、誘電体層25aで構成された第1屈折率マッチング層25を有する。また、黒点層23は、遮光層24と周囲の雰囲気(空気)との間に、誘電体層26aで構成された第2屈折率マッチング層26を有する。 When the sunspot plate of the first embodiment is enlarged in detail, as shown in FIG. It has a first refractive index matching layer 25 made of a dielectric layer 25a. Furthermore, the sunspot layer 23 has a second refractive index matching layer 26 formed of a dielectric layer 26a between the light shielding layer 24 and the surrounding atmosphere (air).

第1屈折率マッチング層25は、図面下方からの入射光が反射防止層22と遮光層24との界面で反射が起こらないよう、反射防止層22の屈折率と遮光層24の屈折率とを勘案してその屈折率が選択される。同様にして、第2屈折率マッチング層26は、図面上方からの入射光が空気と遮光層24との界面で反射が起こらないよう、空気の屈折率と遮光層24の屈折率とを勘案してその屈折率が選択される。 The first refractive index matching layer 25 matches the refractive index of the anti-reflection layer 22 and the refractive index of the light-shielding layer 24 so that incident light from below the drawing is not reflected at the interface between the anti-reflection layer 22 and the light-shielding layer 24. The refractive index is selected accordingly. Similarly, the second refractive index matching layer 26 takes into account the refractive index of the air and the refractive index of the light shielding layer 24 so that the incident light from above the drawing is not reflected at the interface between the air and the light shielding layer 24. and its refractive index is selected.

黒点層23における各層の厚さについて述べる。遮光層24は、光を不透過とすることが必要であり、遮光するのに十分な厚さであればよい。通常、100nm以上で成膜される。第1屈折率マッチング層25および第2屈折率マッチング層26は、本実施形態のように誘電体層25a、26aの単層で構成されることもあり、また、後述の変更例のように多層で構成されることもあるが、85~500nmの範囲で成膜される。 The thickness of each layer in the sunspot layer 23 will be described. The light shielding layer 24 needs to be opaque to light, and may have a thickness sufficient to block light. Usually, the film is formed to have a thickness of 100 nm or more. The first refractive index matching layer 25 and the second refractive index matching layer 26 may be composed of a single layer of dielectric layers 25a and 26a as in this embodiment, or may be composed of multiple layers as in a modification example described later. The film is formed in the range of 85 to 500 nm.

遮光層24の材質は、金属が好ましく、特に、Cr、Ni、Ti、Fe、Si、Ta、Nb、Zr、Mo、W等が特に好ましい。第1屈折率マッチング層25および第2屈折率マッチング層26を構成する誘電体層25aおよび26aの材質は、SiO、NbO、Y、Al、TiO、Ta、ZrO、HfO等の酸化物系や、MgF等のフッ化物系が好ましい。図6(b)では、誘電体層25aおよび26aはそれぞれ一層として図示しているが、これらの化合物から2種以上を選択して2層以上を積層して第1屈折率マッチング層25および第2屈折率マッチング層26を構成してもよい。 The material of the light shielding layer 24 is preferably metal, and particularly preferably Cr, Ni, Ti, Fe, Si, Ta, Nb, Zr, Mo, W, etc. The materials of the dielectric layers 25a and 26a constituting the first refractive index matching layer 25 and the second refractive index matching layer 26 are SiO2 , NbO2 , Y2O3 , Al2O3 , TiO2 , Ta2O . 5 , ZrO 2 , HfO 2 and other oxide types, and MgF 2 and other fluoride types are preferable. In FIG. 6(b), the dielectric layers 25a and 26a are each shown as a single layer, but two or more types of these compounds are selected and two or more layers are laminated to form the first refractive index matching layer 25 and the first refractive index matching layer 25. A two-refractive index matching layer 26 may be configured.

上記黒点板20aの製造方法は下記の通りである。すなわち、ガラス等の透明な基板層21上に、公知の方法で反射防止層22を成膜する。続いて、反射防止層22上に、マスク成膜(穴の開いたマスクをかぶせて成膜)、リフトオフ成膜等のマスキングを行う公知の方法にて、所望のパターンが形成された図示しないマスキング層を成膜する。 The method for manufacturing the sunspot plate 20a is as follows. That is, an antireflection layer 22 is formed on a transparent substrate layer 21 made of glass or the like by a known method. Next, a mask (not shown) in which a desired pattern is formed is formed on the anti-reflection layer 22 by a known masking method such as mask film formation (film formation by covering with a mask with holes), lift-off film formation, etc. Deposit a layer.

このマスキング層に対して、第1屈折率マッチング層25を構成する1または複数の誘電体層25aの材料によって、蒸着やスパッタリング等の公知の成膜を行い、マスキング層の所望のパターン内に、所望の厚さにて第1屈折率マッチング層25を成膜する。続いて、遮光層24の材料、第2屈折率マッチング層26を構成する1または複数の誘電体層26aの材料によって同様に成膜を行う。最後に、マスキング層を除去する。以上のようにして、図6(b)に示す第1実施形態の黒点板20aが得られる。 This masking layer is coated with a known film forming method such as vapor deposition or sputtering using the material of one or more dielectric layers 25a constituting the first refractive index matching layer 25 to form a desired pattern of the masking layer. A first refractive index matching layer 25 is formed to a desired thickness. Subsequently, film formation is performed in the same manner using the material of the light shielding layer 24 and the material of one or more dielectric layers 26a constituting the second refractive index matching layer 26. Finally, the masking layer is removed. In the manner described above, the black spot plate 20a of the first embodiment shown in FIG. 6(b) is obtained.

あるいは、マスキング技術に代えて、フォトリソグラフィを用いることも可能である。すなわち、反射防止層22上に、所望の厚さにて第1屈折率マッチング層25、遮光層24の材料、第2屈折率マッチング層26の成膜を全面に行う。続いて、フォトリソグラフィなどでパターニング・エッチングを行い不要部分を除去する方法である。 Alternatively, it is also possible to use photolithography instead of masking technology. That is, the first refractive index matching layer 25, the material of the light shielding layer 24, and the second refractive index matching layer 26 are formed on the entire surface of the antireflection layer 22 to a desired thickness. Next, patterning and etching are performed using photolithography or the like to remove unnecessary portions.

本発明の黒点板の製造方法によれば、穴あけ加工をせずに平滑な表面に成膜を行うので、全面にわたり均一な厚さを得ることができ、nmオーダーで厚さを制御することができ、さらに、複数個の黒点板を製造する際にも再現性が高い。 According to the method for manufacturing a sunspot plate of the present invention, since the film is formed on a smooth surface without drilling, a uniform thickness can be obtained over the entire surface, and the thickness can be controlled on the nanometer order. Furthermore, the reproducibility is high even when manufacturing a plurality of sunspot plates.

<第1実施形態、変更例1>
図6(c)に、第1実施形態の変更例を示す。この変更例の黒点板20bにおいては、第1屈折率マッチング層25および第2屈折率マッチング層26の層中に、遮光層24を構成する材料と同種の材料(金属)で構成された金属薄層25b、26bが形成されている。すなわち、第1屈折率マッチング層25においては誘電体層25a、金属薄層25b、誘電体層25aの順に積層され、第2屈折率マッチング層26においては誘電体層26a、金属薄層26b、誘電体層26aの順に積層されている。
<First embodiment, modification example 1>
FIG. 6(c) shows a modification of the first embodiment. In the sunspot plate 20b of this modification, a metal thin film made of the same material (metal) as the material constituting the light shielding layer 24 is included in the first refractive index matching layer 25 and the second refractive index matching layer 26. Layers 25b and 26b are formed. That is, in the first refractive index matching layer 25, the dielectric layer 25a, the metal thin layer 25b, and the dielectric layer 25a are laminated in this order, and in the second refractive index matching layer 26, the dielectric layer 26a, the metal thin layer 26b, and the dielectric layer 25a are laminated in this order. The body layers 26a are laminated in this order.

なお、金属薄層は、第1屈折率マッチング層25と第2屈折率マッチング層26のどちらか一方にのみ形成されていてもよい。金属薄層25bおよび26bの厚さは、約10~200nmの範囲で成膜される。 Note that the metal thin layer may be formed only on either the first refractive index matching layer 25 or the second refractive index matching layer 26. The thickness of the thin metal layers 25b and 26b is approximately 10 to 200 nm.

本第1実施形態の変更例によれば、屈折率マッチング層中に吸収作用を持つ薄層を挿入することで、膜内に侵入した光を吸収減衰させることができる。それにより干渉効果による反射光低減だけでなく、吸収効果による反射光低減を実現することができるという効果を奏する。 According to a modification of the first embodiment, by inserting a thin layer having an absorption function into the refractive index matching layer, it is possible to absorb and attenuate light that has entered the film. As a result, it is possible to achieve not only a reduction in reflected light due to an interference effect but also a reduction in reflected light due to an absorption effect.

黒点板20bの製造方法は、上記のマスキング工程において、マスキング層の所望のパターン内に、誘電体層25aの材料、金属薄層25bの材料、誘電体層25aの材料(以上3層で第1屈折率マッチング層25を構成)、遮光層24の材料、誘電体層26aの材料、金属薄層26bの材料、誘電体層26aの材料(以上3層で第2屈折率マッチング層26を構成)という順に成膜を行う。続いて、マスキング層を除去する。あるいは、フォトリソグラフィを用いる場合は、マスキング工程に代えて、誘電体層25a、金属薄層25b、誘電体層25a、遮光層24、誘電体層26a、金属薄層26b、誘電体層26aという順に全面に成膜し、不要部分を除去する。以上のようにして、図6(c)に示す黒点板20bが得られる。 The method for manufacturing the sunspot plate 20b is such that, in the above masking step, the material of the dielectric layer 25a, the material of the metal thin layer 25b, and the material of the dielectric layer 25a (the first material of the three layers) are added in the desired pattern of the masking layer. material of the light shielding layer 24, material of the dielectric layer 26a, material of the metal thin layer 26b, material of the dielectric layer 26a (the above three layers constitute the second refractive index matching layer 26) Film formation is performed in this order. Subsequently, the masking layer is removed. Alternatively, when photolithography is used, instead of the masking step, the order of dielectric layer 25a, thin metal layer 25b, dielectric layer 25a, light shielding layer 24, dielectric layer 26a, thin metal layer 26b, and dielectric layer 26a is A film is formed on the entire surface and unnecessary parts are removed. In the manner described above, the black spot plate 20b shown in FIG. 6(c) is obtained.

<第1実施形態、変更例2>
図6(d)に、第1実施形態の変更例2を示す。この変更例の黒点板20cにおいては、上述の黒点板20bと同様に第1屈折率マッチング層25および第2屈折率マッチング層26の層中に、遮光層24を構成する材料と同種の材料(金属)で構成された金属薄層25a、26aが2層ずつ形成されている。なお、図6(d)は一例であり、第1屈折率マッチング層25と第2屈折率マッチング層26のどちらか一方に金属薄層が2層設けられていて他方には0~1層設けられていても良い。また、第1屈折率マッチング層25と第2屈折率マッチング層26の両方あるいは一方に3層以上の金属薄層を設けても良い。
<First embodiment, modification example 2>
FIG. 6(d) shows a second modification of the first embodiment. In the sunspot plate 20c of this modification, the same kind of material as the material constituting the light shielding layer 24 is included in the first refractive index matching layer 25 and the second refractive index matching layer 26, similarly to the above-mentioned sunspot plate 20b. Two metal thin layers 25a and 26a each made of metal (metal) are formed. Note that FIG. 6(d) is an example, and one of the first refractive index matching layer 25 and the second refractive index matching layer 26 is provided with two metal thin layers, and the other is provided with 0 to 1 metal thin layer. It's okay to be left behind. Further, three or more thin metal layers may be provided on both or one of the first refractive index matching layer 25 and the second refractive index matching layer 26.

本第1実施形態の変更例によれば、屈折率マッチング層を多層構成にすることで、反射防止帯域を広帯域に広げることや、より反射率を低減することが可能になる。 According to the modification of the first embodiment, by forming the refractive index matching layer into a multilayer structure, it becomes possible to widen the antireflection band to a wide band and further reduce the reflectance.

黒点板20cの製造方法は、黒点板20bの製造方法と同様である。マスキング工程において、マスキング層の所望のパターン内に、所望の層順となるように順次成膜を行う。続いて、マスキング層を除去する。以上のようにして、図6(d)に示す黒点板20cが得られる。 The method for manufacturing the sunspot plate 20c is the same as the method for manufacturing the sunspot plate 20b. In the masking step, films are sequentially formed in a desired pattern of the masking layer in a desired layer order. Subsequently, the masking layer is removed. In the manner described above, the black spot plate 20c shown in FIG. 6(d) is obtained.

<第2実施形態>
図7(a)は、本発明の第2実施形態に係る黒点板30の模式断面図である。黒点板30は、ガラスなどの透明な材質で構成された基板層31を有し、その表面には、黒点層33が設けられている。そして、黒点層33を覆うようにして、基板層31上に反射防止層32が設けられている。反射防止層32は、基板層31と空気との間の反射を防止するような屈折率のものが選択される。以上が第2実施形態の基本構成である。
<Second embodiment>
FIG. 7(a) is a schematic cross-sectional view of a sunspot plate 30 according to a second embodiment of the present invention. The sunspot plate 30 has a substrate layer 31 made of a transparent material such as glass, and a sunspot layer 33 is provided on the surface thereof. Then, an antireflection layer 32 is provided on the substrate layer 31 so as to cover the sunspot layer 33 . The antireflection layer 32 is selected to have a refractive index that prevents reflection between the substrate layer 31 and air. The above is the basic configuration of the second embodiment.

第2実施形態の黒点板を詳細に拡大すると、図7(b)に示すように、黒点層33は、光を不透過である遮光層34と、遮光層34と基板層31との間に、誘電体層35aで構成された第1屈折率マッチング層35を有する。また、黒点層23は、遮光層34とそれを覆う周囲の反射防止層32との間に、誘電体層36aで構成された第2屈折率マッチング層36を有する。 When the sunspot plate of the second embodiment is enlarged in detail, as shown in FIG. , a first refractive index matching layer 35 made of a dielectric layer 35a. Furthermore, the sunspot layer 23 has a second refractive index matching layer 36 made of a dielectric layer 36a between the light shielding layer 34 and the surrounding antireflection layer 32 that covers it.

第1屈折率マッチング層35は、図面下方からの入射光が基板層31と遮光層34との界面で反射が起こらないよう、基板層31の屈折率と遮光層34の屈折率とを勘案してその屈折率が選択される。同様にして、第2屈折率マッチング層36は、図面上方からの入射光が反射防止層32と遮光層34との界面で反射が起こらないよう、反射防止層32の屈折率と遮光層34の屈折率とを勘案してその屈折率が選択される。 The first refractive index matching layer 35 takes into account the refractive index of the substrate layer 31 and the refractive index of the light shielding layer 34 so that the incident light from the bottom of the drawing is not reflected at the interface between the substrate layer 31 and the light shielding layer 34. and its refractive index is selected. Similarly, the second refractive index matching layer 36 is configured to match the refractive index of the anti-reflection layer 32 and the light-shielding layer 34 so that the incident light from above the drawing is not reflected at the interface between the anti-reflection layer 32 and the light-shielding layer 34. The refractive index is selected in consideration of the refractive index.

上記黒点板30aの製造方法は下記の通りである。すなわち、ガラス等の透明な基板層31上に、マスク成膜(穴の開いたマスクをかぶせて成膜)、リフトオフ成膜等のマスキングを行う公知の方法にて、所望のパターンが形成された図示しないマスキング層を成膜する。 The method for manufacturing the sunspot plate 30a is as follows. That is, a desired pattern is formed on a transparent substrate layer 31 made of glass or the like by a known masking method such as mask film formation (film formation by covering with a mask with holes), lift-off film formation, etc. A masking layer (not shown) is formed.

このマスキング層に対して、第1屈折率マッチング層35を構成する1または複数の誘電体層35aの材料によって、蒸着やスパッタリング等の公知の成膜を行い、マスキング層の所望のパターン内に、所望の厚さにて第1屈折率マッチング層35を成膜する。続いて、遮光層34の材料、第2屈折率マッチング層36を構成する1または複数の誘電体層36aの材料によって同様に成膜を行う。最後に、マスキング層を除去する。あるいは、マスキング技術に代えて、前述のフォトリソグラフィを用いる。続いて、黒点層33を覆うように、公知の方法で反射防止層32を成膜する。以上のようにして、図7(b)に示す第2実施形態の黒点板30aが得られる。 With respect to this masking layer, known film formation such as vapor deposition or sputtering is performed using the material of one or more dielectric layers 35a constituting the first refractive index matching layer 35, and within a desired pattern of the masking layer, A first refractive index matching layer 35 is formed to a desired thickness. Subsequently, film formation is performed in the same manner using the material of the light shielding layer 34 and the material of one or more dielectric layers 36a constituting the second refractive index matching layer 36. Finally, the masking layer is removed. Alternatively, the above-mentioned photolithography may be used instead of the masking technique. Subsequently, an antireflection layer 32 is formed by a known method so as to cover the sunspot layer 33. In the manner described above, the black spot plate 30a of the second embodiment shown in FIG. 7(b) is obtained.

<第2実施形態、変更例1>
図7(c)に、第2実施形態の変更例を示す。この変更例の黒点板30bにおいては、第1屈折率マッチング層35および第2屈折率マッチング層36の少なくとも一方の層中に、遮光層34を構成する材料と同種の材料(金属)で構成された金属薄層35b、金属36bが形成されている。なお、薄層は、どちらか一方にのみ形成されていてもよい。この変更例の黒点板30bの黒点層33の製造工程は、第1実施形態の変更例の黒点板20bの黒点層23の製造工程におけるマスキング工程と同様であるので、説明を省略する。
<Second embodiment, modification example 1>
FIG. 7(c) shows a modification of the second embodiment. In the sunspot plate 30b of this modification, at least one of the first refractive index matching layer 35 and the second refractive index matching layer 36 is made of the same material (metal) as the material constituting the light shielding layer 34. A metal thin layer 35b and metal 36b are formed. Note that the thin layer may be formed only on either one. The manufacturing process of the sunspot layer 33 of the sunspot board 30b of this modification is the same as the masking process in the manufacturing process of the sunspot layer 23 of the sunspot board 20b of the modification of the first embodiment, so a description thereof will be omitted.

<第2実施形態、変更例2>
図7(d)に、第2実施形態の変更例を示す。この変更例の黒点板30cにおいては、上述の黒点板30bと同様に第1屈折率マッチング層35および第2屈折率マッチング層36の少なくとも一方の層中に、遮光層34を構成する材料と同種の材料(金属)で構成された金属薄層35b、金属36bが二層ずつ形成されている。この変更例の黒点板30cの黒点層33の製造工程は、第1実施形態の変更例の黒点板20cの黒点層23の製造工程におけるマスキング工程と同様であるので、説明を省略する。また、金属薄層は第1屈折率マッチング層35および第2屈折率マッチング層36にそれぞれ二層ずつ設けた形態に限定されないのも同様である。
<Second embodiment, modification example 2>
FIG. 7(d) shows a modification of the second embodiment. In the sunspot plate 30c of this modification, the same material as that constituting the light shielding layer 34 is included in at least one of the first refractive index matching layer 35 and the second refractive index matching layer 36, as in the above-mentioned blackspot plate 30b. Two thin metal layers 35b and two metal layers 36b are formed of the material (metal). The manufacturing process of the sunspot layer 33 of the sunspot board 30c of this modification is the same as the masking process in the manufacturing process of the sunspot layer 23 of the sunspot board 20c of the modification of the first embodiment, so a description thereof will be omitted. Similarly, the metal thin layer is not limited to two layers provided in each of the first refractive index matching layer 35 and the second refractive index matching layer 36.

<第3実施形態>
図8(a)は、本発明の第3実施形態に係る黒点板40の模式断面図である。黒点板40は、ガラスなどの透明な材質で構成された基板層41を有し、その表面には、黒点層43が設けられている。そして、黒点層43を覆うようにして、基板層41上に接着剤層42が設けられている。さらに、接着剤層42上には、もう一方の基板層47が接着されている。接着剤層42およびもう一方の基板層47は、基板層41と空気との間の反射を防止するような屈折率のものが選択される。以上が第3実施形態の基本構成である。
<Third embodiment>
FIG. 8(a) is a schematic cross-sectional view of a sunspot plate 40 according to a third embodiment of the present invention. The sunspot plate 40 has a substrate layer 41 made of a transparent material such as glass, and a sunspot layer 43 is provided on the surface thereof. Then, an adhesive layer 42 is provided on the substrate layer 41 so as to cover the sunspot layer 43. Furthermore, another substrate layer 47 is bonded onto the adhesive layer 42. Adhesive layer 42 and the other substrate layer 47 are selected to have refractive indices that prevent reflections between substrate layer 41 and air. The above is the basic configuration of the third embodiment.

第3実施形態の黒点板を詳細に拡大すると、図8(b)に示すように、黒点層43は、光を不透過である遮光層44と、遮光層44と基板層41との間に、誘電体層45aで構成された第1屈折率マッチング層45を有する。また、黒点層43は、遮光層44とそれを覆う周囲の接着剤層42との間に、誘電体層45aで構成された第2屈折率マッチング層46を有する。 When the sunspot plate of the third embodiment is enlarged in detail, as shown in FIG. , a first refractive index matching layer 45 made of a dielectric layer 45a. Furthermore, the sunspot layer 43 has a second refractive index matching layer 46 made of a dielectric layer 45a between the light shielding layer 44 and the surrounding adhesive layer 42 covering it.

第1屈折率マッチング層45は、図面下方からの入射光が基板層41と遮光層44との界面で反射が起こらないよう、基板層41の屈折率と遮光層44の屈折率とを勘案してその屈折率が選択される。同様にして、第2屈折率マッチング層46は、図面上方からの入射光が接着剤層42と遮光層44との界面で反射が起こらないよう、接着剤層42の屈折率と遮光層44の屈折率とを勘案してその屈折率が選択される。 The first refractive index matching layer 45 is formed by considering the refractive index of the substrate layer 41 and the refractive index of the light shielding layer 44 so that the incident light from the bottom of the drawing is not reflected at the interface between the substrate layer 41 and the light shielding layer 44. and its refractive index is selected. Similarly, the second refractive index matching layer 46 is configured to match the refractive index of the adhesive layer 42 and the light shielding layer 44 so that the incident light from above the drawing is not reflected at the interface between the adhesive layer 42 and the light shielding layer 44. The refractive index is selected in consideration of the refractive index.

上記黒点板40aの製造方法は下記の通りである。すなわち、ガラス等の透明な基板層41上に、マスク成膜、(穴の開いたマスクをかぶせて成膜)、リフトオフ成膜等のマスキングを行う公知の方法にて、所望のパターンが形成された図示しないマスキング層を成膜する。 The method for manufacturing the sunspot plate 40a is as follows. That is, a desired pattern is formed on a transparent substrate layer 41 made of glass or the like by a known masking method such as mask film formation (film formation by covering with a mask with holes), lift-off film formation, etc. A masking layer (not shown) is formed.

このマスキング層に対して、第1屈折率マッチング層45を構成する1または複数の誘電体層45aの材料によって、蒸着やスパッタリング等の公知の成膜を行い、マスキング層の所望のパターン内に、所望の厚さにて第1屈折率マッチング層45を成膜する。続いて、遮光層44の材料、第2屈折率マッチング層46を構成する1または複数の誘電体層46aの材料によって同様に成膜を行う。最後に、マスキング層を除去する。あるいは、マスキング技術に代えて、前述のフォトリソグラフィを用いる。続いて、黒点層43を覆うように、公知の方法で接着剤層42を成膜する。最後に、接着剤層42上に、もう一方の基板層47を貼付けする。以上のようにして、図8(b)に示す第3実施形態の黒点板40aが得られる。 This masking layer is formed by a known method such as vapor deposition or sputtering using the material of the one or more dielectric layers 45a constituting the first refractive index matching layer 45, so that a desired pattern of the masking layer is formed. A first refractive index matching layer 45 is formed to a desired thickness. Subsequently, film formation is performed in the same manner using the material of the light shielding layer 44 and the material of one or more dielectric layers 46a constituting the second refractive index matching layer 46. Finally, the masking layer is removed. Alternatively, the above-mentioned photolithography may be used instead of the masking technique. Subsequently, an adhesive layer 42 is formed by a known method to cover the sunspot layer 43. Finally, the other substrate layer 47 is pasted onto the adhesive layer 42. In the manner described above, the black spot plate 40a of the third embodiment shown in FIG. 8(b) is obtained.

<第3実施形態、変更例1>
図8(c)に、第3実施形態の変更例を示す。この変更例の黒点板40bにおいては、第1屈折率マッチング層45および第2屈折率マッチング層46の少なくとも一方の層中に、遮光層44を構成する材料と同種の材料(金属)で構成された金属薄層35b、金属36bが形成されている。なお、薄層は、どちらか一方にのみ形成されていてもよい。この変更例の黒点板40bの黒点層43の製造工程は、第1実施形態の変更例の黒点板20bの黒点層23の製造工程におけるマスキング工程と同様であるので、説明を省略する。
<Third embodiment, modification example 1>
FIG. 8(c) shows a modification of the third embodiment. In the sunspot plate 40b of this modification, at least one of the first refractive index matching layer 45 and the second refractive index matching layer 46 is made of the same material (metal) as the material constituting the light shielding layer 44. A metal thin layer 35b and metal 36b are formed. Note that the thin layer may be formed only on either one. The manufacturing process of the sunspot layer 43 of the sunspot board 40b of this modification is the same as the masking process in the manufacturing process of the sunspot layer 23 of the sunspot board 20b of the modification of the first embodiment, so a description thereof will be omitted.

<第3実施形態、変更例2>
図8(d)に、第3実施形態の変更例を示す。この変更例の黒点板40cにおいては、上述の黒点板40bと同様に第1屈折率マッチング層45および第2屈折率マッチング層46の少なくとも一方の層中に、遮光層44を構成する材料と同種の材料(金属)で構成された金属薄層35b、金属36bが二層ずつ形成されている。この変更例の黒点板40cの黒点層43の製造工程は、第1実施形態の変更例の黒点板20cの黒点層23の製造工程におけるマスキング工程と同様であるので、説明を省略する。また、金属薄層は第1屈折率マッチング層45および第2屈折率マッチング層46にそれぞれ二層ずつ設けた形態に限定されないのも同様である。
<Third embodiment, modification example 2>
FIG. 8(d) shows a modification of the third embodiment. In the sunspot plate 40c of this modification, the same material as that constituting the light shielding layer 44 is included in at least one of the first refractive index matching layer 45 and the second refractive index matching layer 46, as in the above-mentioned blackspot plate 40b. Two thin metal layers 35b and two metal layers 36b are formed of the material (metal). The manufacturing process of the sunspot layer 43 of the sunspot board 40c of this modification is the same as the masking process in the manufacturing process of the sunspot layer 23 of the sunspot board 20c of the modification of the first embodiment, so the explanation will be omitted. Similarly, the metal thin layer is not limited to two layers provided in each of the first refractive index matching layer 45 and the second refractive index matching layer 46.

以上説明した本発明の眼科装置用黒点板は、黒点層の製造方法に特徴を有していることから、黒点層の設計精度が向上しており、また、黒点層においては、遮光層と他の層の界面において屈折率マッチング層を設けているから、透過率および反射率の性能が向上しており、例えば図3に示すように、従来の黒点板を使用する眼底カメラ等の眼科装置において、黒点板を置き換えることで使用することができる。 The sunspot plate for ophthalmological equipment of the present invention described above has a feature in the manufacturing method of the sunspot layer, so the design accuracy of the sunspot layer is improved, and the sunspot layer has a light shielding layer and other parts. Since a refractive index matching layer is provided at the interface between the layers, the performance of transmittance and reflectance is improved. , can be used by replacing the sunspot board.

以下、製造例の一例を説明する。
図6(c)に示す第1実施形態の変更例1の黒点板20bの構成にて、眼科装置用黒点板を作製した。各層の仕様は表1に示す。
An example of a manufacturing example will be described below.
A sunspot board for an ophthalmological apparatus was manufactured using the configuration of the sunspot board 20b of Modification Example 1 of the first embodiment shown in FIG. 6(c). The specifications of each layer are shown in Table 1.

Figure 2023150384000002
Figure 2023150384000002

上記製造例の光学特性のグラフを図9に示す。グラフに示すように、透過率はほぼ0であり、400~800nmの可視光領域において、表面反射率および裏面反射率も良好であることが分かる。 A graph of the optical characteristics of the above manufacturing example is shown in FIG. As shown in the graph, the transmittance is almost 0, and it can be seen that the front surface reflectance and back surface reflectance are also good in the visible light region of 400 to 800 nm.

高精度かつ高性能な眼科装置用黒点板を、より簡便な方法によって製造することができる。 A highly accurate and high-performance sunspot plate for ophthalmological devices can be manufactured by a simpler method.

10:従来の黒点板、11:基板層、12:黒点層、13:反射防止層、
20,20a~20c:本発明の黒点板、21:基板層、22:反射防止層、23:黒点層、24:遮光層、25:第1屈折率マッチング層、25a:誘電体層、25b:金属薄層、26:第2屈折率マッチング層、26a:誘電体層、26b:金属薄層、
30,30a~30c:本発明の黒点板、31:基板層、32:反射防止層、33:黒点層、34:遮光層、35:第1屈折率マッチング層、35a:誘電体層、35b:金属薄層、36:第2屈折率マッチング層、36a:誘電体層、36b:金属薄層、
40,40a~40c:本発明の黒点板、41:基板層、42:接着剤層、43:黒点層、44:遮光層、45:第1屈折率マッチング層、45a:誘電体層、45b:金属薄層、46:第2屈折率マッチング層、46a:誘電体層、46b:金属薄層、47:もう一方の基板層、
100:眼科装置、101:照明光源、102:レンズ、103:穴鏡、103a:穴部、104:対物レンズ、104a:対物レンズ表面、105:レンズ、106:センサー、200:被検眼、A~C:光路。


10: Conventional sunspot board, 11: Substrate layer, 12: Sunspot layer, 13: Antireflection layer,
20, 20a to 20c: sunspot plate of the present invention, 21: substrate layer, 22: antireflection layer, 23: sunspot layer, 24: light shielding layer, 25: first refractive index matching layer, 25a: dielectric layer, 25b: metal thin layer, 26: second refractive index matching layer, 26a: dielectric layer, 26b: metal thin layer,
30, 30a to 30c: blackspot plate of the present invention, 31: substrate layer, 32: antireflection layer, 33: sunspot layer, 34: light shielding layer, 35: first refractive index matching layer, 35a: dielectric layer, 35b: metal thin layer, 36: second refractive index matching layer, 36a: dielectric layer, 36b: metal thin layer,
40, 40a to 40c: blackspot plate of the present invention, 41: substrate layer, 42: adhesive layer, 43: sunspot layer, 44: light shielding layer, 45: first refractive index matching layer, 45a: dielectric layer, 45b: metal thin layer, 46: second refractive index matching layer, 46a: dielectric layer, 46b: metal thin layer, 47: other substrate layer,
100: Ophthalmological device, 101: Illumination light source, 102: Lens, 103: Hole mirror, 103a: Hole, 104: Objective lens, 104a: Objective lens surface, 105: Lens, 106: Sensor, 200: Eye to be examined, A~ C: Optical path.


Claims (10)

基板層と、
前記基板層上に設けられた少なくとも一層から構成された反射防止層と、
前記反射防止層上に小黒点として設けられた遮光層とを有する眼科装置用黒点板であって、
前記反射防止層と前記遮光層との間には、前記反射防止層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第1屈折率マッチング層が設けられ、
前記遮光層上には、空気からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第2屈折率マッチング層が設けられたことを特徴とする眼科装置用黒点板。
a substrate layer;
an antireflection layer formed of at least one layer provided on the substrate layer;
A sunspot board for an ophthalmological device, comprising a light shielding layer provided as small sunspots on the antireflection layer,
A first refractive index matching layer made of a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the antireflection layer is provided between the antireflection layer and the light shielding layer,
A sunspot plate for an ophthalmological apparatus, characterized in that a second refractive index matching layer made of a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the air is provided on the light shielding layer.
基板層と、
前記基板層上に小黒点として設けられた遮光層と、
前記遮光層を覆って前記基板層上に設けられた少なくとも一層から構成された反射防止層とを有する眼科装置用黒点板であって、
前記基板層と前記遮光層との間には、前記基板層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第1屈折率マッチング層が設けられ、
前記遮光層と前記反射防止層との間には、前記反射防止層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第2屈折率マッチング層が設けられたことを特徴とする眼科装置用黒点板。
a substrate layer;
a light shielding layer provided as small dots on the substrate layer;
A sunspot board for an ophthalmological device, comprising an antireflection layer formed of at least one layer provided on the substrate layer and covering the light shielding layer,
A first refractive index matching layer made of a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the substrate layer is provided between the substrate layer and the light shielding layer,
A second refractive index matching layer made of a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the anti-reflection layer is provided between the light-shielding layer and the anti-reflection layer. Black spot board.
基板層と、
前記基板層上に小黒点として設けられた遮光層と、
前記遮光層を覆って前記基板層上に設けられた接着剤層と、
前記接着剤層上に設けられたもう一方の基板層とを有する眼科装置用黒点板であって、
前記基板層と前記遮光層との間には、前記基板層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第1屈折率マッチング層が設けられ、
前記遮光層と前記接着剤層との間には、前記接着剤層からの入射光の反射を防止する誘電体層からなる第2屈折率マッチング層が設けられたことを特徴とする眼科装置用黒点板。
a substrate layer;
a light shielding layer provided as small dots on the substrate layer;
an adhesive layer provided on the substrate layer covering the light shielding layer;
and another substrate layer provided on the adhesive layer, the sunspot board for an ophthalmological device comprising:
A first refractive index matching layer made of a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the substrate layer is provided between the substrate layer and the light shielding layer,
A second refractive index matching layer made of a dielectric layer that prevents reflection of incident light from the adhesive layer is provided between the light shielding layer and the adhesive layer. Black spot board.
前記少なくとも一方の屈折率マッチング層中に、前記遮光層と同じ材料で形成された金属薄層が設けられたことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の眼科装置用黒点板。 4. The sunspot board for an ophthalmological apparatus according to claim 1, wherein a thin metal layer made of the same material as the light shielding layer is provided in the at least one refractive index matching layer. 前記基板層上に前記反射防止層を形成し、
前記反射防止層上に所望のパターンを有するマスキング層を形成した後、前記第1屈折率マッチング層を構成する誘電体層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を構成する誘電体層を形成し、
前記マスキング層を除去することを特徴とする請求項1に記載の眼科装置用黒点板の製造方法。
forming the antireflection layer on the substrate layer;
After forming a masking layer having a desired pattern on the antireflection layer, a dielectric layer constituting the first refractive index matching layer, a dielectric layer constituting the light shielding layer, and a dielectric layer constituting the second refractive index matching layer are formed. form,
2. The method of manufacturing a sunspot board for an ophthalmological device according to claim 1, further comprising removing the masking layer.
前記基板層上に所望のパターンを有するマスキング層を形成した後、前記第1屈折率マッチング層を構成する誘電体層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を構成する誘電体層を形成し、
前記マスキング層を除去し、
前記第1屈折率マッチング層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を覆うように、前記基板層上に前記反射防止層を形成することを特徴とする請求項2に記載の眼科装置用黒点板の製造方法。
After forming a masking layer having a desired pattern on the substrate layer, forming a dielectric layer constituting the first refractive index matching layer, a dielectric layer constituting the light shielding layer, and a dielectric layer constituting the second refractive index matching layer. death,
removing the masking layer;
The ophthalmological device according to claim 2, wherein the antireflection layer is formed on the substrate layer so as to cover the first refractive index matching layer, the light shielding layer, and the second refractive index matching layer. Method of manufacturing sunspot plates.
前記基板層上に所望のパターンを有するマスキング層を形成した後、前記第1屈折率マッチング層を構成する誘電体層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を構成する誘電体層を形成し、
前記マスキング層を除去し、
前記第1屈折率マッチング層、前記遮光層、前記第2屈折率マッチング層を覆うように、前記基板層上に前記接着剤層を形成し、
前記接着剤層上に前記もう一方の基板層を接着することを特徴とする請求項3に記載の眼科装置用黒点板の製造方法。
After forming a masking layer having a desired pattern on the substrate layer, forming a dielectric layer constituting the first refractive index matching layer, a dielectric layer constituting the light shielding layer, and a dielectric layer constituting the second refractive index matching layer. death,
removing the masking layer;
forming the adhesive layer on the substrate layer so as to cover the first refractive index matching layer, the light shielding layer, and the second refractive index matching layer;
4. The method of manufacturing a sunspot board for an ophthalmological device according to claim 3, wherein the other substrate layer is bonded onto the adhesive layer.
前記第1屈折率マッチング層および/または前記第2屈折率マッチング層の形成に際しては、少なくとも一層の金属薄層を前記誘電体層中に形成することを特徴とする請求項5~7のいずれかに記載の眼科装置用黒点板の製造方法。 Any one of claims 5 to 7, characterized in that when forming the first refractive index matching layer and/or the second refractive index matching layer, at least one metal thin layer is formed in the dielectric layer. A method for producing a sunspot plate for an ophthalmological device as described in . 前記所望のパターンを有するマスキング層の形成と、前記屈折率マッチング層および前記遮光層の形成と、その後のマスキング層の除去に代えて、
前記屈折率マッチング層および前記遮光層を全面に形成した後に不要部分を除去して所望のパターンとすることを特徴とする請求項5~7のいずれかに記載の眼科装置用黒点板の製造方法。
Instead of forming the masking layer having the desired pattern, forming the refractive index matching layer and the light shielding layer, and then removing the masking layer,
The method for manufacturing a sunspot board for an ophthalmological device according to any one of claims 5 to 7, characterized in that after forming the refractive index matching layer and the light shielding layer on the entire surface, unnecessary portions are removed to form a desired pattern. .
照明光源からの照明光を穴鏡を介して被検眼に投影して前記被検眼を照明する照明系と、
前記被検眼を撮影する光路中に設けられる撮影絞りを有する撮影系とを備え、
前記照明系及び前記撮影系は被検眼と前記穴鏡との間に配設された互いに共用する対物レンズを有し、前記照明系は請求項1~4のいずれかに記載の眼科装置用黒点板を有すると共に、前記対物レンズのレンズ面を反射面と考えたとき、前記撮影絞りの開口部の像が形成される位置と前記遮光層が前記反射面を介して共役に設けられて、前記撮影絞りの開口部の前記像が前記遮光層により覆われるようにしたことを特徴とする眼科装置。


an illumination system that projects illumination light from an illumination light source onto the eye to be examined via a hole mirror to illuminate the eye to be examined;
and a photographing system having a photographing aperture provided in an optical path for photographing the eye to be examined;
The illumination system and the photographing system have a mutually shared objective lens disposed between the eye to be examined and the hole mirror, and the illumination system has a sunspot for an ophthalmological apparatus according to any one of claims 1 to 4. When considering the lens surface of the objective lens as a reflective surface, the light shielding layer is provided in a conjugate manner with the position where an image of the aperture of the photographing diaphragm is formed via the reflective surface, An ophthalmological apparatus characterized in that the image of the aperture of the photographing diaphragm is covered by the light shielding layer.


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