JP2023150112A - Organic el display device and manufacturing method thereof - Google Patents

Organic el display device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2023150112A
JP2023150112A JP2022059038A JP2022059038A JP2023150112A JP 2023150112 A JP2023150112 A JP 2023150112A JP 2022059038 A JP2022059038 A JP 2022059038A JP 2022059038 A JP2022059038 A JP 2022059038A JP 2023150112 A JP2023150112 A JP 2023150112A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
partition wall
pixel
organic
substrate
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022059038A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
智紀 三村
Tomonori Mimura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Futaba Corp
Original Assignee
Futaba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Futaba Corp filed Critical Futaba Corp
Priority to JP2022059038A priority Critical patent/JP2023150112A/en
Publication of JP2023150112A publication Critical patent/JP2023150112A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

To provide an organic EL display device that can achieve high brightness while suppressing a decrease in aperture ratio.SOLUTION: An organic EL display device includes a substrate, a plurality of pixels located on the substrate, a first partition wall that partitions each of the plurality of pixels, and a second partition wall located in a display area where the plurality of pixels are located and higher than the first partition wall. A first pixel included in the plurality of pixels includes a first electrode, an organic light emitting layer located on the first electrode, and a second electrode located on the organic light emitting layer, and the first partition wall exhibits liquid repellency, and the bottom surface of the second partition wall is in contact with at least one of the substrate and the first electrode.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、有機EL表示装置及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an organic EL display device and a manufacturing method thereof.

表示装置の一つとして、有機EL材料(EL:Electro-Luminescence)を発光物質として用いた有機EL表示装置が挙げられる。例えば下記特許文献1には、凸版印刷法により有機発光層を形成してなる有機EL素子が開示されており、当該有機EL素子に含まれる各画素は、隔壁で区画されている。加えて、下記特許文献1では、上記隔壁で区画された画素間の中央部に第二の隔壁が設けられる。これにより、画素外へ流出した有機発光層のインク溜まりが設けられる。 An example of a display device is an organic EL display device using an organic EL material (EL: Electro-Luminescence) as a light-emitting substance. For example, Patent Document 1 listed below discloses an organic EL element in which an organic light emitting layer is formed by a letterpress printing method, and each pixel included in the organic EL element is partitioned by partition walls. In addition, in Patent Document 1 listed below, a second partition wall is provided in the center between the pixels partitioned by the partition wall. This creates a pool of ink in the organic light-emitting layer that has flowed out of the pixel.

特開2013-105694号公報Japanese Patent Application Publication No. 2013-105694

上記特許文献1では、インク溜まりに有機発光層に含まれる材料が過剰に流出してしまうことがある。この場合、有機EL素子が良好に発光しないおそれなどがある。 In Patent Document 1, an excessive amount of material contained in the organic light emitting layer may leak into the ink reservoir. In this case, there is a possibility that the organic EL element will not emit light properly.

本発明の一側面の目的は、有機発光層の形成時に湿式法を利用する場合であっても、有機発光層に含まれる材料を所定の領域へ留めることが可能な有機EL表示装置及びその製造方法を提供することである。 An object of one aspect of the present invention is to provide an organic EL display device and manufacture thereof that can keep materials contained in an organic light emitting layer in a predetermined area even when a wet method is used to form the organic light emitting layer. The purpose is to provide a method.

本発明の一側面に係る有機EL表示装置は、基板と、基板上に位置する複数の画素と、複数の画素のそれぞれを区画する第1隔壁と、複数の画素が位置する表示領域に位置し、第1隔壁よりも高い第2隔壁と、を備え、複数の画素に含まれる第1画素は、第1電極と、第1電極上に位置する有機発光層と、有機発光層上に位置する第2電極とを有し、第1隔壁は、撥液性を示し、第2隔壁の底面は、基板と第1電極との少なくとも一方に接する。 An organic EL display device according to one aspect of the present invention includes a substrate, a plurality of pixels located on the substrate, a first partition wall that partitions each of the plurality of pixels, and a display area in which the plurality of pixels are located. , a second partition wall higher than the first partition wall, and a first pixel included in the plurality of pixels includes a first electrode, an organic light emitting layer located on the first electrode, and a first pixel located on the organic light emitting layer. and a second electrode, the first partition exhibits liquid repellency, and the bottom surface of the second partition is in contact with at least one of the substrate and the first electrode.

この有機EL表示装置では、複数の画素のそれぞれが第1隔壁によって区画される。これにより、各画素が配置される領域が第1隔壁によって定められる。ここで、第1隔壁は撥液性を示す。このため、有機発光層に含まれる材料の少なくとも一部を湿式法にて上記領域内に形成することによって、第1隔壁を高く設けなくとも、当該材料を上記領域内に留めることができる。加えて、第2隔壁の底面は、基板と第1電極との少なくとも一方に接する。この場合、当該底面が第1隔壁のみに接する場合と比較して、第2隔壁が基板上から剥離しにくい。したがって、撥液性を示す第1隔壁を形成した場合であっても、第2隔壁を高い信頼性にて形成できる。 In this organic EL display device, each of the plurality of pixels is partitioned by a first partition. Thereby, the area where each pixel is arranged is defined by the first partition wall. Here, the first partition wall exhibits liquid repellency. Therefore, by forming at least a part of the material included in the organic light-emitting layer in the above region using a wet method, the material can be kept within the above region without providing the first partition wall at a high height. Additionally, the bottom surface of the second partition is in contact with at least one of the substrate and the first electrode. In this case, the second partition wall is less likely to peel off from the substrate, compared to the case where the bottom surface contacts only the first partition wall. Therefore, even if the first partition wall exhibits liquid repellency is formed, the second partition wall can be formed with high reliability.

複数の画素に含まれる第2画素は、第1方向において第1画素に対して隣り合い、第2画素は、第1電極と、第1電極上に位置する別の有機発光層と、別の有機発光層上に位置する別の第2電極とを有し、第1隔壁のうち第1方向において第1画素と第2画素との間に位置する第1部分の底面と、第2隔壁のうち第1方向において第1画素と第2画素との間に位置する第2部分の底面とのそれぞれは、第1電極に接してもよい。この場合、第2隔壁をより高い信頼性にて形成できる。 A second pixel included in the plurality of pixels is adjacent to the first pixel in the first direction, and the second pixel includes a first electrode, another organic light emitting layer located on the first electrode, and another organic light emitting layer located on the first electrode. another second electrode located on the organic light emitting layer, and a bottom surface of a first portion of the first partition located between the first pixel and the second pixel in the first direction; The bottom surface of the second portion located between the first pixel and the second pixel in the first direction may be in contact with the first electrode. In this case, the second partition wall can be formed with higher reliability.

複数の画素に含まれる第2画素は、第1方向において前記第1画素に対して隣り合い、第2画素は、第1電極と、第1電極上に位置する別の有機発光層と、別の有機発光層上に位置する別の第2電極とを有し、第1隔壁のうち第1方向において第1画素と第2画素との間に位置する第1部分の底面と、第2隔壁のうち第1方向において第1画素と第2画素との間に位置する第2部分の底面とのそれぞれは、第1電極上に位置する下地膜に接してもよい。この場合、第2隔壁をより高い信頼性にて形成できる。 A second pixel included in the plurality of pixels is adjacent to the first pixel in the first direction, and the second pixel has a first electrode and another organic light emitting layer located on the first electrode. another second electrode located on the organic light-emitting layer of the first partition; The bottom surface of the second portion located between the first pixel and the second pixel in the first direction may be in contact with the base film located on the first electrode. In this case, the second partition wall can be formed with higher reliability.

表示領域において、第2隔壁は、第1方向に交差する第2方向の一端から他端まで延在してもよい。この場合、表示領域における各第2電極は、第2隔壁によって好適に分断可能になる。また、第2方向から見た第2隔壁は、オーバーハング形状を有してもよい。この場合、表示領域における各第2電極は、第2隔壁によってより好適に分断可能になる。 In the display area, the second partition wall may extend from one end to the other end in a second direction intersecting the first direction. In this case, each second electrode in the display area can be suitably divided by the second partition. Further, the second partition wall viewed from the second direction may have an overhang shape. In this case, each second electrode in the display area can be more suitably divided by the second partition.

第1隔壁の一部は、第2隔壁に重なってもよい。この場合、表示領域において画素が占める領域を増加できる。 A portion of the first partition may overlap the second partition. In this case, the area occupied by pixels in the display area can be increased.

第1隔壁と第2隔壁とは、互いに接してもよい。この場合、表示領域において画素が占める領域を増加できる。 The first partition wall and the second partition wall may be in contact with each other. In this case, the area occupied by pixels in the display area can be increased.

本発明の別の一側面に係る有機EL表示装置の製造方法は、基板上に第1電極を形成する工程と、第1電極の一部を露出する第1開口部、及び第1開口部とは異なる第2開口部を有する第1隔壁を形成する工程と、第2開口部に第2隔壁を形成する工程と、第1開口部内に有機層を湿式法にて形成する工程と、有機層上に発光層を形成する工程と、発光層上に第2電極を形成する工程と、を備え、第1隔壁は、撥液性を示し、第2隔壁の底面は、基板と第1電極との少なくとも一方に接する。 A method for manufacturing an organic EL display device according to another aspect of the present invention includes a step of forming a first electrode on a substrate, a first opening for exposing a part of the first electrode, and a first opening for exposing a part of the first electrode. a step of forming a first partition having a different second opening, a step of forming a second partition in the second opening, a step of forming an organic layer in the first opening by a wet method, and a step of forming an organic layer in the first opening. forming a light-emitting layer thereon; and forming a second electrode on the light-emitting layer; the first partition wall exhibits liquid repellency; in contact with at least one side of the

この有機EL表示装置の製造方法では、第1隔壁の第1開口部内に有機層を湿式層にて形成する。ここで、第1隔壁は撥液性を示す。このため、有機層を第1開口部内に留めることができる。加えて、第2隔壁の底面は、基板と第1電極との少なくとも一方に接する。この場合、当該底面が第1隔壁のみに接する場合と比較して、第2隔壁が基板上から剥離しにくい。したがって、撥液性を示す第1隔壁を形成した場合であっても、第2隔壁を高い信頼性にて形成できる。 In this method of manufacturing an organic EL display device, an organic layer is formed as a wet layer within the first opening of the first partition. Here, the first partition wall exhibits liquid repellency. Therefore, the organic layer can be kept within the first opening. Additionally, the bottom surface of the second partition is in contact with at least one of the substrate and the first electrode. In this case, the second partition wall is less likely to peel off from the substrate, compared to the case where the bottom surface contacts only the first partition wall. Therefore, even if the first partition wall exhibits liquid repellency is formed, the second partition wall can be formed with high reliability.

本発明によれば、有機発光層の形成時に湿式法を利用する場合であっても、有機発光層に含まれる材料を所定の領域へ留めることが可能な有機EL表示装置及びその製造方法を提供できる。 According to the present invention, there is provided an organic EL display device and a method for manufacturing the same, in which the material contained in the organic light emitting layer can be kept in a predetermined region even when a wet method is used when forming the organic light emitting layer. can.

図1は、実施形態に係る有機EL表示装置の模式斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of an organic EL display device according to an embodiment. 図2(a)は、表示領域の要部概略平面図であり、図2(b)は、図2(a)のA-A線に沿った概略端面図である。2(a) is a schematic plan view of a main part of the display area, and FIG. 2(b) is a schematic end view taken along line AA in FIG. 2(a). 図3は、図2(a)のB-B線に沿った概略端面図である。FIG. 3 is a schematic end view taken along line BB in FIG. 2(a). 図4(a),(b)は、表示領域の製造方法を説明するための概略断面図である。FIGS. 4A and 4B are schematic cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the display area. 図5(a)は、表示領域の製造方法を説明するための概略平面図であり、図5(b)は、図5(a)のC-C線に沿った概略端面図であり、図5(c)は、図5(a)のD-D線に沿った概略端面図である。FIG. 5(a) is a schematic plan view for explaining the manufacturing method of the display area, and FIG. 5(b) is a schematic end view taken along line CC in FIG. 5(a). 5(c) is a schematic end view taken along line DD in FIG. 5(a). 図6(a)~(c)は、表示領域の製造方法を説明するための概略断面図である。FIGS. 6(a) to 6(c) are schematic cross-sectional views for explaining the method of manufacturing the display area. 図7(a),(b)は、表示領域の製造方法を説明するための概略断面図である。FIGS. 7A and 7B are schematic cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the display area. 図8は、比較例に係る第1隔壁及び第2隔壁を示す概略端面図である。FIG. 8 is a schematic end view showing a first partition wall and a second partition wall according to a comparative example. 図9(a)は、第1変形例に係る有機EL表示装置の概略要部端面図であり、図9(b)は、第2変形例に係る有機EL表示装置の概略要部端面図である。FIG. 9(a) is a schematic end view of main parts of an organic EL display device according to a first modification, and FIG. 9(b) is a schematic end view of main parts of an organic EL display device according to a second modification. be.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, the same elements or elements having the same function will be denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

まず、本実施形態に係る有機EL表示装置の構成の概略について、図1を参照しつつ説明する。図1は、本実施形態に係る有機EL表示装置の模式斜視図である。図1に示される有機EL表示装置1は、パッシブマトリックス型の表示装置である。有機EL表示装置1は、互いに積層している第1基板2及び第2基板3と、表示領域4と、配線部5と、集積回路6と、FPC7(フレキシブルプリント回路)と、保護樹脂8とを備える。以下では、第1基板2と第2基板3とが互いに積層する方向を、「積層方向(第3方向D3)」として説明する。積層方向は、第1基板2及び第2基板3の厚さ方向に相当する。加えて、以下では、積層方向に直交する方向を水平方向とし、水平方向の所定方向を第1方向D1とし、第1方向D1に交差若しくは直交する方向を第2方向D2として説明する。 First, the outline of the configuration of the organic EL display device according to this embodiment will be explained with reference to FIG. 1. FIG. 1 is a schematic perspective view of an organic EL display device according to this embodiment. The organic EL display device 1 shown in FIG. 1 is a passive matrix type display device. The organic EL display device 1 includes a first substrate 2 and a second substrate 3, a display area 4, a wiring section 5, an integrated circuit 6, an FPC 7 (flexible printed circuit), and a protective resin 8, which are stacked on each other. Equipped with In the following, the direction in which the first substrate 2 and the second substrate 3 are stacked on each other will be described as a "stacking direction (third direction D3)". The stacking direction corresponds to the thickness direction of the first substrate 2 and the second substrate 3. In addition, hereinafter, a direction perpendicular to the stacking direction will be referred to as a horizontal direction, a predetermined direction in the horizontal direction will be referred to as a first direction D1, and a direction intersecting or orthogonal to the first direction D1 will be referred to as a second direction D2.

第1基板2は、封止基板として機能する基板であり、第2基板3に対向している。第1基板2は、例えば枠状の封止層(不図示)を介して第2基板3と接合している。この封止層は、例えば接着性を示す紫外線硬化樹脂を含んでおり、スペーサ等をさらに含んでもよい。第1基板2は、例えば平面視にて略長方形状を呈している。本実施形態では、平面視にて、第1基板2の短手方向は第1方向D1に延在し、第1基板2の長手方向は第2方向D2に延在する。第1基板2は、例えばガラス基板、セラミックス基板、金属基板、又は可撓性を示す基板(例えば、プラスチック基板)である。 The first substrate 2 is a substrate that functions as a sealing substrate, and is opposed to the second substrate 3. The first substrate 2 is bonded to the second substrate 3 via, for example, a frame-shaped sealing layer (not shown). This sealing layer contains, for example, an ultraviolet curing resin exhibiting adhesive properties, and may further contain a spacer or the like. The first substrate 2 has, for example, a substantially rectangular shape in plan view. In this embodiment, in plan view, the lateral direction of the first substrate 2 extends in the first direction D1, and the longitudinal direction of the first substrate 2 extends in the second direction D2. The first substrate 2 is, for example, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, or a flexible substrate (for example, a plastic substrate).

第2基板3は、表示領域4及び配線部5が設けられる素子基板である。第2基板3は、例えば平面視にて略長方形状を呈している。第2基板3は、例えばガラス基板、又は可撓性を示す基板(例えば、プラスチック基板等)であり、透光性を示す。平面視にて、第2基板3の短辺は第1基板2の短辺と略同一であり、第2基板3の長辺は、第1基板2の長辺よりも長くなっている。このため、第1基板2の一短辺と第2基板3の一短辺とを合わせた場合、第2基板3の一部は、第1基板2から露出している。なお、本実施形態における「略同一」は、完全同一だけを示すのではなく、多少の誤差(例えば、最大数%程度)を包含する概念である。 The second substrate 3 is an element substrate on which a display area 4 and a wiring section 5 are provided. The second substrate 3 has, for example, a substantially rectangular shape in plan view. The second substrate 3 is, for example, a glass substrate or a flexible substrate (such as a plastic substrate), and exhibits light-transmitting properties. In plan view, the short sides of the second substrate 3 are substantially the same as the short sides of the first substrate 2, and the long sides of the second substrate 3 are longer than the long sides of the first substrate 2. Therefore, when one short side of the first substrate 2 and one short side of the second substrate 3 are combined, a part of the second substrate 3 is exposed from the first substrate 2. Note that "substantially the same" in this embodiment does not mean only complete sameness, but is a concept that includes some error (for example, about several percent at most).

表示領域4は、電流が供給されることによって光を発生する領域であり、第2基板3上に設けられている。表示領域4は、第1基板2、第2基板3、及び上記封止層によって囲まれて封止された封止空間内に設けられている。この封止空間内には、乾燥剤等が設けられてもよい。表示領域4の詳細については、後述する。 The display area 4 is an area that generates light when current is supplied, and is provided on the second substrate 3. The display area 4 is provided in a sealed space surrounded and sealed by the first substrate 2, the second substrate 3, and the sealing layer. A desiccant or the like may be provided in this sealed space. Details of the display area 4 will be described later.

配線部5は、複数の引き回し配線を含む部分である。図示しないが、配線部5は、例えば、表示領域4と集積回路6とを接続する引き回し配線、集積回路6とFPC7とを接続する引き回し配線などを含む。これらの引き回し配線は、例えば順に積層されたモリブデン合金層、アルミニウム合金層、及びモリブデン合金層を含む。配線部5には、上記引き回し配線を保護するためのバリア膜が設けられてもよい。このバリア膜は、例えば酸化ケイ素膜、窒化ケイ素膜等の絶縁膜である。 The wiring section 5 is a portion including a plurality of routing wirings. Although not shown, the wiring section 5 includes, for example, a wiring that connects the display area 4 and the integrated circuit 6, a wiring that connects the integrated circuit 6 and the FPC 7, and the like. These routing wirings include, for example, a molybdenum alloy layer, an aluminum alloy layer, and a molybdenum alloy layer stacked in this order. The wiring portion 5 may be provided with a barrier film for protecting the above-mentioned routing wiring. This barrier film is, for example, an insulating film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film.

集積回路6は、表示領域4内における各画素の発光及び非発光を制御する駆動回路である。集積回路6は、第2基板3において第1基板2から露出した領域に搭載されており、配線部5に接続されている。集積回路6は、例えばICチップ等である。有機EL表示装置1における集積回路6の数は、1つでもよいし、複数でもよい。 The integrated circuit 6 is a drive circuit that controls whether or not each pixel in the display area 4 emits light. The integrated circuit 6 is mounted on a region of the second substrate 3 exposed from the first substrate 2 and is connected to the wiring section 5 . The integrated circuit 6 is, for example, an IC chip. The number of integrated circuits 6 in the organic EL display device 1 may be one or more.

FPC7は、有機EL表示装置1と外部装置とを接続する配線である。FPC7は、例えば可撓性を示すプラスチック基板を用いて形成される。FPC7に接続される外部装置は、例えば電源及び電流制御回路等である。 The FPC 7 is a wiring that connects the organic EL display device 1 and an external device. The FPC 7 is formed using, for example, a flexible plastic substrate. External devices connected to the FPC 7 include, for example, a power supply and a current control circuit.

保護樹脂8は、封止空間の外側に位置する配線部5と、集積回路6とを保護するために設けられる樹脂である。保護樹脂8は、例えば種々の硬化性樹脂である。 The protective resin 8 is a resin provided to protect the wiring section 5 and the integrated circuit 6 located outside the sealed space. The protective resin 8 is, for example, various curable resins.

次に、図2を参照しながら、表示領域4の詳細について説明する。図2(a)は、表示領域の要部概略平面図であり、図2(b)は、図2(a)のA-A線に沿った概略端面図である。図3は、図2(b)のB-B線に沿った概略端面図である。なお、図2(a),(b)及び図3のそれぞれにおいては、第1基板2は省略されている。図2(a)に示されるように、表示領域4には、第1方向D1に沿って延在する複数の陽極線11と、第2方向D2に沿って延在する複数の陰極線12と、第1隔壁13と、第2隔壁14とが位置する。 Next, details of the display area 4 will be explained with reference to FIG. 2. 2(a) is a schematic plan view of a main part of the display area, and FIG. 2(b) is a schematic end view taken along line AA in FIG. 2(a). FIG. 3 is a schematic end view taken along line BB in FIG. 2(b). Note that the first substrate 2 is omitted in each of FIGS. 2(a), 2(b), and 3. As shown in FIG. 2(a), the display area 4 includes a plurality of anode rays 11 extending along a first direction D1, a plurality of cathode rays 12 extending along a second direction D2, A first partition wall 13 and a second partition wall 14 are located.

表示領域4において、陽極線11の一部と、陰極線12の一部とは、互いに重なっている。具体的には、陽極線11の一部は、第3方向D3において第2基板3と陰極線12の一部との間に位置する。陽極線11と陰極線12とが交差する位置には、画素Pが設けられる。このため、表示領域4に位置する複数の画素Pは、第2基板3上においてマトリクス状に配置される。 In the display area 4, a portion of the anode ray 11 and a portion of the cathode ray 12 overlap each other. Specifically, a portion of the anode ray 11 is located between the second substrate 3 and a portion of the cathode ray 12 in the third direction D3. A pixel P is provided at a position where the anode line 11 and the cathode line 12 intersect. Therefore, the plurality of pixels P located in the display area 4 are arranged in a matrix on the second substrate 3.

図2(b)に示されるように、各画素Pは、陽極線11の一部と、当該一部上に位置する有機発光層21と、有機発光層21上に位置する陰極線12とを有する。図2(b)に示される2つの画素Pのうち、一方を第1画素P1とし、他方を第2画素P2とする。第1画素P1と第2画素P2とは、互いに第1方向D1に沿って並んでおり、共通する陽極線11を有する。一方、第1画素P1に含まれる有機発光層21及び陰極線12は、第2画素P2に含まれる有機発光層21及び陰極線12と異なる。なお、複数の画素Pのうち第2方向D2に沿って一列に並ぶ画素同士は、共通する陰極線12を有し、互いに異なる陽極線11を有する。 As shown in FIG. 2(b), each pixel P has a part of the anode ray 11, an organic light emitting layer 21 located on the part, and a cathode ray 12 located on the organic light emitting layer 21. . Among the two pixels P shown in FIG. 2(b), one is defined as a first pixel P1, and the other is defined as a second pixel P2. The first pixel P1 and the second pixel P2 are arranged along the first direction D1 and have a common anode line 11. On the other hand, the organic light emitting layer 21 and cathode rays 12 included in the first pixel P1 are different from the organic light emitting layer 21 and cathode rays 12 included in the second pixel P2. Note that among the plurality of pixels P, the pixels arranged in a row along the second direction D2 have a common cathode ray 12 and have mutually different anode rays 11.

有機発光層21は、発光材料を含む発光層を少なくとも備える層である。有機発光層21は、平面視にて対応する陰極線12と略同一形状を呈する。すなわち、有機発光層21は、平面視にて第2方向D2に沿った略直線形状を呈しており、有機発光層21の幅は、陰極線12の幅と略同一である。有機発光層21は、発光層に加えて、他の有機層(例えば、電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層、及び正孔注入層等)を有してもよい。発光層に含まれる発光材料は、低分子有機化合物でもよく、高分子有機化合物でもよい。発光材料として、蛍光材料が用いられてもよく、リン光材料が用いられてもよい。電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層、及び正孔注入層は、それぞれ有機材料を含む。例えば、正孔輸送層には正孔輸送性を示す低分子有機化合物であるα-NPDが含まれ、電子輸送層には電子輸送性を示す低分子有機化合物であるAlqが含まれる。有機発光層21の厚さは、例えば100nm以上300nm以下である。 The organic light-emitting layer 21 is a layer that includes at least a light-emitting layer containing a light-emitting material. The organic light emitting layer 21 has substantially the same shape as the corresponding cathode ray 12 in plan view. That is, the organic light emitting layer 21 has a substantially linear shape along the second direction D2 in plan view, and the width of the organic light emitting layer 21 is substantially the same as the width of the cathode ray 12. In addition to the light emitting layer, the organic light emitting layer 21 may include other organic layers (for example, an electron injection layer, an electron transport layer, a hole transport layer, a hole injection layer, etc.). The light-emitting material contained in the light-emitting layer may be a low-molecular organic compound or a high-molecular organic compound. As the luminescent material, a fluorescent material or a phosphorescent material may be used. The electron injection layer, the electron transport layer, the hole transport layer, and the hole injection layer each contain an organic material. For example, the hole transport layer contains α-NPD, which is a low molecular organic compound that exhibits hole transport properties, and the electron transport layer contains Alq 3 , which is a low molecular organic compound that exhibits electron transport properties. The thickness of the organic light emitting layer 21 is, for example, 100 nm or more and 300 nm or less.

有機発光層21に含まれる上記層のうち少なくとも1層は、湿式法によって形成される。湿式法は、例えば、インクジェット法、スピンコート法、スプレーコート法、ドクターブレード法等である。本実施形態では、有機発光層21に含まれる他の有機層の少なくとも一部(例えば、正孔注入層など)は、湿式法によって形成される。 At least one of the layers included in the organic light emitting layer 21 is formed by a wet method. Examples of the wet method include an inkjet method, a spin coating method, a spray coating method, and a doctor blade method. In this embodiment, at least some of the other organic layers included in the organic light emitting layer 21 (for example, the hole injection layer) are formed by a wet method.

複数の陽極線11は、平面視にて直線状を呈する透明導電体であり、画素Pの第1電極として機能する。複数の陽極線11は、第2基板3上にてストライプ状に配列されている。陽極線11は、例えばITO(酸化インジウムスズ)、IZO(酸化インジウム亜鉛)等の透光性を示す導電材料によって形成される。各陽極線11の厚さは、例えば10nm以上200nm以下である。第2方向D2に沿った各陽極線11の幅は、例えば20μm以上500μm以下である。第2方向D2に沿った隣り合う陽極線11同士の間隔は、例えば10μm以上100μm以下である。 The plurality of anode wires 11 are transparent conductors having a linear shape in a plan view, and function as the first electrodes of the pixels P. The plurality of anode wires 11 are arranged in stripes on the second substrate 3. The anode wire 11 is formed of a conductive material exhibiting light-transmitting properties, such as ITO (indium tin oxide) and IZO (indium zinc oxide). The thickness of each anode wire 11 is, for example, 10 nm or more and 200 nm or less. The width of each anode wire 11 along the second direction D2 is, for example, 20 μm or more and 500 μm or less. The interval between adjacent anode wires 11 along the second direction D2 is, for example, 10 μm or more and 100 μm or less.

複数の陰極線12は、平面視にて直線状を呈する導電体であり、画素Pの第2電極として機能する。複数の陰極線12は、第2基板3上にてストライプ状に配列されている。陰極線12は、例えばアルミニウム、銀等の導電材料によって形成される。当該導電材料には、アルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)が含まれてもよいし、IZO、ITO等の透光性を示す導電材料が含まれてもよい。すなわち、陰極線12は、透光性を示してもよい。陰極線12は、例えばPVD法によって形成される。各陰極線12の厚さは、例えば50nm以上300nm以下である。第1方向D1に沿った各陰極線12の幅は、例えば20μm以上1000μm以下である。陰極線12の幅は、陽極線11の幅以上であってもよい。第1方向D1に沿った隣り合う陰極線12同士の間隔は、例えば5μm以上50μm以下である。 The plurality of cathode rays 12 are conductors having a linear shape in plan view, and function as the second electrodes of the pixels P. The plurality of cathode rays 12 are arranged in stripes on the second substrate 3. The cathode wire 12 is made of a conductive material such as aluminum or silver. The conductive material may include an alkaline earth metal (magnesium, calcium, etc.), or may include a conductive material exhibiting translucency, such as IZO or ITO. That is, the cathode ray 12 may exhibit translucency. The cathode ray 12 is formed by, for example, a PVD method. The thickness of each cathode ray 12 is, for example, 50 nm or more and 300 nm or less. The width of each cathode ray 12 along the first direction D1 is, for example, 20 μm or more and 1000 μm or less. The width of the cathode ray 12 may be greater than or equal to the width of the anode ray 11. The interval between adjacent cathode rays 12 along the first direction D1 is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less.

第1隔壁13は、表示領域4に位置する複数の画素Pのそれぞれを区画する絶縁部材であり、複数の開口部13a及び複数の開口部13bを有する。開口部13aは、陽極線11の一部を露出する部分(第1開口部)であり、平面視にて略矩形状を有する。各開口部13aは、陽極線11と陰極線12とが交差する箇所に重なる。このため、第1隔壁13において複数の開口部13aが設けられる位置は、画素Pが設けられる位置に相当する。各開口部13bは、第2基板3の一部を露出する部分(第2開口部)であり、第2方向D2に沿って延在する溝である。各開口部13bは、第1方向D1において隣り合う2つの画素Pの間に位置する。第1方向D1に沿った開口部13bの幅は、例えば5μm以上50μm以下である。本実施形態では、表示領域4において、各開口部13bは、第2方向D2の一端から他端まで延在する。開口部13bにおいては、第2基板3もしくは陽極線11が露出する。なお、本実施形態では、第1隔壁13は、単一部材であるが、これに限られない。例えば、第1隔壁13は、各開口部13bによって分断される複数の部分を有してもよい。 The first partition wall 13 is an insulating member that partitions each of the plurality of pixels P located in the display area 4, and has a plurality of openings 13a and a plurality of openings 13b. The opening 13a is a portion (first opening) that exposes a part of the anode wire 11, and has a substantially rectangular shape in plan view. Each opening 13a overlaps a location where the anode ray 11 and the cathode ray 12 intersect. Therefore, the positions where the plurality of openings 13a are provided in the first partition 13 correspond to the positions where the pixels P are provided. Each opening 13b is a portion (second opening) that exposes a part of the second substrate 3, and is a groove extending along the second direction D2. Each opening 13b is located between two adjacent pixels P in the first direction D1. The width of the opening 13b along the first direction D1 is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less. In the present embodiment, in the display area 4, each opening 13b extends from one end to the other end in the second direction D2. In the opening 13b, the second substrate 3 or the anode wire 11 is exposed. Note that in this embodiment, the first partition wall 13 is a single member, but is not limited to this. For example, the first partition wall 13 may have a plurality of parts separated by each opening 13b.

第1隔壁13の底面13cは、第2基板3及び陽極線11の少なくとも一方に接触する。例えば、図2(b)に示されるように、第1隔壁13のうち第1方向D1において隣り合う第1画素P1と第2画素P2の間に位置する部分13d(第1部分)に含まれる底面13cは、陽極線11に接する。また、図3に示されるように、第1隔壁13のうち第2方向D2において隣り合う2つの画素Pの間に位置する部分に含まれる底面13cは、第2基板3に接する。第1隔壁13の厚さ(最大厚さ)は、例えば、0.5μm以上3.0μm以下である。第1隔壁13の厚さが0.5μm以上であることによって、画素Pが設けられる領域に微量の液体が滴下される場合であっても、当該液体が当該領域から漏れにくくなる。なお、微量の液体とは、例えば、上記領域において100nm以下の厚さを有する薄膜を形成可能な量の液体に相当する。 The bottom surface 13c of the first partition 13 contacts at least one of the second substrate 3 and the anode wire 11. For example, as shown in FIG. 2(b), a portion 13d (first portion) of the first partition 13 located between the first pixel P1 and the second pixel P2 adjacent in the first direction D1. The bottom surface 13c is in contact with the anode wire 11. Further, as shown in FIG. 3 , a bottom surface 13 c included in a portion of the first partition wall 13 located between two adjacent pixels P in the second direction D2 is in contact with the second substrate 3 . The thickness (maximum thickness) of the first partition 13 is, for example, 0.5 μm or more and 3.0 μm or less. When the thickness of the first partition wall 13 is 0.5 μm or more, even if a small amount of liquid is dropped in the area where the pixel P is provided, the liquid is less likely to leak from the area. Note that the small amount of liquid corresponds to, for example, an amount of liquid that can form a thin film having a thickness of 100 nm or less in the above region.

第1隔壁13は、撥液性を示す。これにより、例えば画素Pが設けられる領域に微量の液体が滴下される場合、当該液体が当該領域から漏れにくくなる。なお、本実施形態では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を第1隔壁13の表面に滴下したとき、当該表面とPGMEAとのなす角度(接触角)が、少なくとも30°以上である場合、第1隔壁13は撥液性を示すと言える。第1隔壁13による上記微量の液体の漏れ防止の観点から、上記接触角が35°以上または40°以上である場合、第1隔壁13が撥液性を示すとしてもよい。第1隔壁13は、例えばポジ型もしくはネガ型の感光性樹脂を含む。 The first partition wall 13 exhibits liquid repellency. With this, for example, when a small amount of liquid is dropped in a region where a pixel P is provided, the liquid is less likely to leak from the region. In this embodiment, when propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) is dropped onto the surface of the first partition wall 13, if the angle (contact angle) between the surface and the PGMEA is at least 30°, It can be said that the partition wall 13 exhibits liquid repellency. From the viewpoint of preventing leakage of a small amount of liquid by the first partition wall 13, the first partition wall 13 may exhibit liquid repellency when the contact angle is 35° or more or 40° or more. The first partition wall 13 includes, for example, a positive type or negative type photosensitive resin.

第2隔壁14は、所望の形状を呈する陰極線12及び有機発光層21を形成するための素子分離体である。第2隔壁14は、第1隔壁13の開口部13b内に形成される絶縁部材であり、第2方向D2に沿って延在している。第2隔壁14は、平面視にて略直線形状を呈しており、第2方向D2から見てオーバーハング形状(例えば、逆テーパー形状)を有する。第2隔壁14は、第1隔壁13よりも高く、例えば1.0μm以上の高さを有する。第2隔壁14は、表示領域4において、第2方向D2の一端から他端まで延在する。第2隔壁14の底面14aは、第2基板3と陽極線11との少なくとも一方に接する。例えば、図2(b)に示されるように、第2隔壁14のうち第1方向D1において隣り合う第1画素P1と第2画素P2の間に位置する部分14b(第2部分)に含まれる底面14aは、陽極線11に接する。また、図3に示されるように、第2隔壁14のうち第2方向D2において隣り合う2つの画素Pの間に位置する部分に含まれる底面14aは、第2基板3に接する。第2隔壁14は、例えば有機材料であるネガ型の感光性樹脂を含む。 The second partition wall 14 is an element separator for forming the cathode rays 12 and the organic light emitting layer 21 having a desired shape. The second partition wall 14 is an insulating member formed within the opening 13b of the first partition wall 13, and extends along the second direction D2. The second partition wall 14 has a substantially linear shape in plan view, and has an overhang shape (for example, an inverted tapered shape) when viewed from the second direction D2. The second partition wall 14 is higher than the first partition wall 13, and has a height of, for example, 1.0 μm or more. The second partition wall 14 extends in the display area 4 from one end to the other end in the second direction D2. The bottom surface 14a of the second partition 14 is in contact with at least one of the second substrate 3 and the anode wire 11. For example, as shown in FIG. 2(b), a portion 14b (second portion) of the second partition wall 14 located between the first pixel P1 and the second pixel P2 adjacent in the first direction D1. The bottom surface 14a is in contact with the anode wire 11. Further, as shown in FIG. 3 , a bottom surface 14 a included in a portion of the second partition wall 14 located between two adjacent pixels P in the second direction D2 is in contact with the second substrate 3 . The second partition 14 includes, for example, a negative photosensitive resin that is an organic material.

次に、図4~図7を参照しながら、本実施形態に係る有機EL表示装置の表示領域の製造方法の一例を説明する。図4(a),(b)は、表示領域の製造方法を説明するための概略断面図である。図5(a)は、表示領域の製造方法を説明するための概略平面図であり、図5(b)は、図5(a)のC-C線に沿った概略端面図であり、図5(c)は、図5(a)のD-D線に沿った概略端面図である。図6(a)~(c)は、表示領域の製造方法を説明するための概略断面図である。図7(a),(b)は、表示領域の製造方法を説明するための概略断面図である。以下では、配線部5、集積回路6、FPC7及び保護樹脂8の製造については割愛する。 Next, an example of a method for manufacturing the display area of the organic EL display device according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 4 to 7. FIGS. 4A and 4B are schematic cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the display area. FIG. 5(a) is a schematic plan view for explaining the manufacturing method of the display area, and FIG. 5(b) is a schematic end view taken along line CC in FIG. 5(a). 5(c) is a schematic end view taken along line DD in FIG. 5(a). FIGS. 6(a) to 6(c) are schematic cross-sectional views for explaining the method of manufacturing the display area. FIGS. 7A and 7B are schematic cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the display area. In the following, manufacturing of the wiring section 5, integrated circuit 6, FPC 7, and protective resin 8 will be omitted.

まず、図4(a)に示されるように、第2基板3を準備する(第1工程)。次に、図4(a)に示されるように、第2基板3上に陽極線11を形成する(第2工程)。陽極線11は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法等のPVD法(物理気相成長法)により第2基板3上に成膜した透明導電膜を、パターニングすることによって形成される。このため、図示しないが、第2基板3の一部は陽極線11から露出する(図2(a)を参照)。 First, as shown in FIG. 4(a), the second substrate 3 is prepared (first step). Next, as shown in FIG. 4(a), an anode wire 11 is formed on the second substrate 3 (second step). The anode wire 11 is formed by patterning a transparent conductive film formed on the second substrate 3 by, for example, a PVD method (physical vapor deposition method) such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. Therefore, although not shown, a part of the second substrate 3 is exposed from the anode wire 11 (see FIG. 2(a)).

次に、図5(a)~(c)に示されるように、開口部13a,13bを有する第1隔壁13を第2基板3上に形成する(第3工程)。第1隔壁13は、例えばフォトリソグラフィなどによって形成され、撥液性を示す。図5(b),(c)に示されるように、第1隔壁13の一部の底面13cは陽極線11に接し、第1隔壁13の別の一部の底面13cは第2基板3に接する。 Next, as shown in FIGS. 5A to 5C, a first partition wall 13 having openings 13a and 13b is formed on the second substrate 3 (third step). The first partition wall 13 is formed by, for example, photolithography, and exhibits liquid repellency. As shown in FIGS. 5(b) and 5(c), a part of the bottom surface 13c of the first partition 13 is in contact with the anode wire 11, and another part of the bottom surface 13c of the first partition 13 is in contact with the second substrate 3. come into contact with

次に、図6(a)に示されるように、少なくとも陽極線11及び第1隔壁13を覆う樹脂層31を形成する(第4工程)。図示しないが、樹脂層31は、第2基板3において陽極線11及び第1隔壁13から露出する部分も覆う。樹脂層31は、例えばネガ型の感光性樹脂から形成され、種々の湿式法によって形成される。 Next, as shown in FIG. 6A, a resin layer 31 is formed to cover at least the anode wire 11 and the first partition wall 13 (fourth step). Although not shown, the resin layer 31 also covers the portions of the second substrate 3 that are exposed from the anode wires 11 and the first partition walls 13 . The resin layer 31 is made of, for example, a negative photosensitive resin, and is formed by various wet methods.

次に、図6(b)に示されるように、樹脂層31をパターニングすることによって、開口部13bに第2隔壁14を形成する(第5工程)。上述したように、開口部13b内において、第2隔壁14の底面14aは、第2基板3と陽極線11との少なくとも一方に接する。また、第1隔壁13と、陽極線11において開口部13aに重なる部分とが露出する。 Next, as shown in FIG. 6(b), the resin layer 31 is patterned to form the second partition 14 in the opening 13b (fifth step). As described above, within the opening 13b, the bottom surface 14a of the second partition 14 contacts at least one of the second substrate 3 and the anode wire 11. Further, the first partition wall 13 and the portion of the anode wire 11 that overlaps with the opening 13a are exposed.

次に、図6(c)に示されるように、開口部13a内に液体Lを滴下する(第6工程)。本実施形態では、インクジェット法によって開口部13a内に、正孔注入材料を含む液体L(有機溶媒)を選択的に滴下する。続いて、液体Lを乾燥させることによって、図7(a)に示されるように、有機層32を湿式法にて形成する。次に、図7(b)に示されるように、有機発光層21を形成する(第7工程)。第7工程では、図7(a)に示される有機層32上に、少なくとも発光層(不図示)を形成することによって、有機発光層21を形成する。有機層32上には、発光層に加えて、別の有機層が形成されてもよい。発光層と、別の有機層との少なくとも一方は、湿式法にて形成されてもよいし、乾式法にて形成されてもよい。乾式法としては、例えば、真空蒸着法などが挙げられる。 Next, as shown in FIG. 6(c), the liquid L is dropped into the opening 13a (sixth step). In this embodiment, a liquid L (organic solvent) containing a hole injection material is selectively dropped into the opening 13a by an inkjet method. Subsequently, by drying the liquid L, an organic layer 32 is formed by a wet method, as shown in FIG. 7(a). Next, as shown in FIG. 7(b), an organic light emitting layer 21 is formed (seventh step). In the seventh step, the organic light emitting layer 21 is formed by forming at least a light emitting layer (not shown) on the organic layer 32 shown in FIG. 7(a). In addition to the light emitting layer, another organic layer may be formed on the organic layer 32. At least one of the light-emitting layer and another organic layer may be formed by a wet method or a dry method. Examples of the dry method include a vacuum evaporation method.

次に、図7(c)に示されるように、発光層を有する有機発光層21上に陰極線12を形成する(第8工程)。第2隔壁14を利用することによって、ストライプ状であって有機発光層21上に位置する陰極線12が形成される。以上により、各開口部13a内においては、陽極線11と、有機発光層21と、陰極線12とが互いに重なる。これにより、表示領域4に複数の画素Pが形成される。 Next, as shown in FIG. 7(c), cathode rays 12 are formed on the organic light emitting layer 21 having the light emitting layer (eighth step). By using the second partition 14, the cathode rays 12 are formed in stripes and located on the organic light emitting layer 21. As described above, within each opening 13a, the anode ray 11, the organic light emitting layer 21, and the cathode ray 12 overlap with each other. As a result, a plurality of pixels P are formed in the display area 4.

以上に説明した本実施形態に係る有機EL表示装置1によれば、複数の画素Pのそれぞれが第1隔壁13によって区画される。これにより、各画素Pが配置される領域(すなわち、開口部13a)が第1隔壁13によって定められる。ここで、第1隔壁13は撥液性を示す。このため、有機発光層21に含まれる材料の少なくとも一部を湿式法にて上記領域内に形成することによって、第1隔壁13を高く設けなくとも、当該材料を上記領域内に留めることができる。加えて、第2隔壁14の底面14aは、第2基板3と陽極線11との少なくとも一方に接する。この場合、底面14aが第1隔壁13のみに接する場合と比較して、第2隔壁14が第2基板3上から剥離しにくい。したがって、撥液性を示す第1隔壁13を形成した場合であっても、第2隔壁14を高い信頼性にて形成できる。 According to the organic EL display device 1 according to the present embodiment described above, each of the plurality of pixels P is partitioned by the first partition wall 13. As a result, the region where each pixel P is arranged (that is, the opening 13a) is defined by the first partition 13. Here, the first partition wall 13 exhibits liquid repellency. Therefore, by forming at least a part of the material included in the organic light-emitting layer 21 in the above region using a wet method, the material can be kept within the above region without the need to provide the first partition wall 13 at a high height. . In addition, the bottom surface 14a of the second partition 14 is in contact with at least one of the second substrate 3 and the anode wire 11. In this case, the second partition 14 is less likely to peel off from the second substrate 3, compared to the case where the bottom surface 14a contacts only the first partition 13. Therefore, even when the first partition wall 13 exhibiting liquid repellency is formed, the second partition wall 14 can be formed with high reliability.

ここで、本実施形態では、第2隔壁14が第2基板3上から剥離しにくくなる理由について、図8を参照しつつ説明する。図8は、比較例に係る第1隔壁及び第2隔壁を示す概略端面図である。図8に示されるように、第1隔壁113には開口部113aのみが形成され、第2隔壁114は、第1隔壁113上に形成される。ここで、有機発光層の形成に湿式法を利用するために第1隔壁113が撥液性を示すとき、第1隔壁113は、第2隔壁114の材料である有機材料に対して撥液性を示す。この場合、第1隔壁113と第2隔壁114とが互いに密着しにくくなり、第2隔壁114が第2基板3上から剥離しやすい。この場合、後に形成される有機発光層及び陰極線が第2隔壁114によって分離されないおそれがある。これに対して本実施形態では、上述したように、第2隔壁14の底面14aは、第2基板3と陽極線11との少なくとも一方に接する。このため、上記比較例と比較して、第2隔壁14が第2基板3上から剥離しにくくなることがわかる。 Here, in this embodiment, the reason why the second partition 14 is difficult to peel off from the second substrate 3 will be explained with reference to FIG. 8. FIG. 8 is a schematic end view showing a first partition wall and a second partition wall according to a comparative example. As shown in FIG. 8, only the opening 113a is formed in the first partition 113, and the second partition 114 is formed on the first partition 113. Here, when the first partition 113 exhibits liquid repellency because a wet method is used to form the organic light emitting layer, the first partition 113 is liquid repellent to the organic material that is the material of the second partition 114. shows. In this case, the first partition wall 113 and the second partition wall 114 are difficult to adhere to each other, and the second partition wall 114 is easily peeled off from the second substrate 3. In this case, there is a possibility that the organic light-emitting layer and cathode rays that will be formed later will not be separated by the second partition wall 114. On the other hand, in this embodiment, as described above, the bottom surface 14a of the second partition 14 is in contact with at least one of the second substrate 3 and the anode wire 11. Therefore, it can be seen that the second partition wall 14 is less likely to be peeled off from the second substrate 3 compared to the above comparative example.

本実施形態では、複数の画素Pに含まれる第2画素P2は、第1方向D1において第1画素P1に対して隣り合い、第2画素P2は、第1画素P1と共通の陽極線11を有する。また、第2画素P2は、第1画素P1に含まれる有機発光層21とは異なる有機発光層21と、当該有機発光層21上に位置すると共に第1画素P1に含まれる陰極線12とは異なる陰極線12とを有する。加えて、第1隔壁13のうち第1方向D1において第1画素P1と第2画素P2との間に位置する部分13dの底面13cと、第2隔壁14のうち第1方向D1において第1画素P1と第2画素P2との間に位置する部分14bの底面14aとのそれぞれは、上記共通の陽極線11に接する。このため、第2隔壁14をより高い信頼性にて形成できる。 In the present embodiment, the second pixel P2 included in the plurality of pixels P is adjacent to the first pixel P1 in the first direction D1, and the second pixel P2 has a common anode line 11 with the first pixel P1. have Further, the second pixel P2 has an organic light emitting layer 21 different from the organic light emitting layer 21 included in the first pixel P1, and a cathode ray 12 located on the organic light emitting layer 21 and different from the organic light emitting layer 21 included in the first pixel P1. and cathode rays 12. In addition, the bottom surface 13c of the portion 13d of the first partition 13 located between the first pixel P1 and the second pixel P2 in the first direction D1, and the bottom surface 13c of the portion 13d of the second partition 14 located between the first pixel P1 and the second pixel P2 in the first direction D1 The bottom surface 14a of the portion 14b located between P1 and the second pixel P2 is in contact with the common anode line 11, respectively. Therefore, the second partition wall 14 can be formed with higher reliability.

本実施形態では、表示領域4において、第2隔壁14は、第2方向D2の一端から他端まで延在してもよい。この場合、表示領域4における各陰極線12は、第2隔壁14によって好適に分断可能になる。また、第2方向D2から見た第2隔壁14は、オーバーハング形状を有してもよい。この場合、表示領域4における各陰極線12は、第2隔壁14によってより好適に分断可能になる。 In this embodiment, in the display area 4, the second partition 14 may extend from one end to the other end in the second direction D2. In this case, each cathode ray 12 in the display area 4 can be suitably divided by the second partition wall 14. Further, the second partition wall 14 when viewed from the second direction D2 may have an overhang shape. In this case, each cathode ray 12 in the display area 4 can be divided more suitably by the second partition wall 14.

以下では、図9を参照しながら上記実施形態の変形例について説明する。以下の変形例の説明において、上記実施形態と重複する部分の説明は省略する。 Hereinafter, a modification of the above embodiment will be described with reference to FIG. 9. In the following description of the modification, description of parts that overlap with the above embodiment will be omitted.

図9(a)は、第1変形例に係る有機EL表示装置の概略要部端面図である。図9(a)に示されるように、第1隔壁13のうち第1方向D1において第1画素P1と第2画素P2との間に位置する部分13dの底面13cと、第2隔壁14のうち第1方向D1において第1画素P1と第2画素P2との間に位置する部分14bの底面14aとのそれぞれは、陽極線11上に位置する下地膜41に接する。換言すると、第1変形例では、第1隔壁13と第2隔壁14との下方であって、陽極線11の上方には、下地膜41が位置する。下地膜41は、陽極線11の形成後であって第1隔壁13の形成前に形成される絶縁膜である。下地膜41は、例えば、ポジ型もしくはネガ型の感光性樹脂材料等の有機絶縁膜でもよいし、酸化ケイ素膜、窒化ケイ素膜等の無機絶縁膜でもよい。下地膜41の厚さは、例えば、50nm以上3000nm以下である。下地膜41の一部は、第1隔壁13の開口部13a内にも設けられる。当該一部は、開口部13aの縁及びその近傍に設けられる。一方、下地膜41は、第1隔壁13の開口部13bを完全に覆う。 FIG. 9A is a schematic end view of essential parts of an organic EL display device according to a first modification. As shown in FIG. 9A, the bottom surface 13c of the portion 13d of the first partition 13 located between the first pixel P1 and the second pixel P2 in the first direction D1 and the bottom surface 13c of the portion 13d of the second partition 14 The bottom surface 14a of the portion 14b located between the first pixel P1 and the second pixel P2 in the first direction D1 is in contact with the base film 41 located on the anode line 11, respectively. In other words, in the first modification, the base film 41 is located below the first partition wall 13 and the second partition wall 14 and above the anode wire 11. The base film 41 is an insulating film that is formed after the anode line 11 is formed and before the first partition 13 is formed. The base film 41 may be, for example, an organic insulating film such as a positive-type or negative-type photosensitive resin material, or an inorganic insulating film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film. The thickness of the base film 41 is, for example, 50 nm or more and 3000 nm or less. A portion of the base film 41 is also provided within the opening 13a of the first partition 13. The part is provided at and near the edge of the opening 13a. On the other hand, the base film 41 completely covers the opening 13b of the first partition 13.

以上に説明した第1変形例においても、上記実施形態と同様の作用効果が奏される。加えて、下地膜41が開口部13bを完全に覆うように形成されることによって、開口部13b内における陽極線11と陰極線12との短絡を良好に防止できる。 Also in the first modified example described above, the same effects as in the above embodiment are achieved. In addition, by forming the base film 41 to completely cover the opening 13b, short circuit between the anode wire 11 and the cathode wire 12 within the opening 13b can be effectively prevented.

有機発光層21に含まれる層の少なくとも一部を湿式法にて形成する場合、当該層の厚さは、不均一になる傾向がある。特に、上記層において開口部13aの縁及びその近傍に位置する部分は、他の部分よりも厚くなりやすい。これに対して第1変形例では、下地膜41の一部が、開口部13aの縁及びその近傍に設けられることによって、各画素Pにおける有機発光層21の厚膜部分を除外できる。したがって、第1変形例によれば、各画素Pの発光ムラを低減できる。 When at least a portion of the layers included in the organic light emitting layer 21 is formed by a wet method, the thickness of the layer tends to be non-uniform. Particularly, in the above layer, the edge of the opening 13a and the portion located in the vicinity thereof tend to be thicker than other portions. On the other hand, in the first modification, a portion of the base film 41 is provided at and near the edge of the opening 13a, so that the thick film portion of the organic light emitting layer 21 in each pixel P can be excluded. Therefore, according to the first modification, the uneven light emission of each pixel P can be reduced.

図9(b)は、第2変形例に係る有機EL表示装置の概略要部端面図である。図9(b)に示されるように、第1隔壁13Aの一部が、第2隔壁14に重なっており、第1隔壁13Aと第2隔壁14とが互いに接する。加えて、上記第1変形例と同様に、下地膜41が形成されている。この第2変形例においても、上記第1変形例と同様の作用効果が奏される。さらには、表示領域4(図1を参照)において画素Pが占める領域を増加できる。 FIG. 9B is a schematic end view of essential parts of an organic EL display device according to a second modification. As shown in FIG. 9(b), a portion of the first partition wall 13A overlaps the second partition wall 14, and the first partition wall 13A and the second partition wall 14 are in contact with each other. In addition, a base film 41 is formed as in the first modification. This second modification also provides the same effects as the first modification. Furthermore, the area occupied by the pixels P in the display area 4 (see FIG. 1) can be increased.

本発明に係る有機EL表示装置及びその製造方法は、上述した実施形態及び各変形例に限られるものではなく、他に様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態と上記変形例とは、互いに組み合わされてもよい。例えば、上記実施形態と上記第2変形例とが組み合わされることによって、下地膜が形成されず、かつ、第1隔壁の一部が第2隔壁に重なってもよいし、第1隔壁と第2隔壁とが互いに接してもよい。 The organic EL display device and the manufacturing method thereof according to the present invention are not limited to the embodiment and each modification example described above, and various other modifications are possible. For example, the above embodiment and the above modification may be combined with each other. For example, by combining the above embodiment and the second modification, the base film may not be formed and a part of the first partition wall may overlap with the second partition wall, or the first partition wall and the second partition wall may overlap. The partition walls may be in contact with each other.

上記実施形態及び上記変形例において、有機EL表示装置は、パッシブマトリックス型の表示装置であるが、これに限られない。有機EL表示装置は、アクティブマトリックス型の表示装置、セグメント型の表示装置などでもよい。 In the above embodiment and the above modification, the organic EL display device is a passive matrix type display device, but is not limited to this. The organic EL display device may be an active matrix type display device, a segment type display device, or the like.

上記実施形態及び上記変形例において、各基板は平面視にて略長方形状を呈しているが、これに限られない。各基板は、平面視にて多角形状もしくは略円形状等を呈してもよい。 In the embodiment and the modification described above, each substrate has a substantially rectangular shape in plan view, but the shape is not limited to this. Each substrate may have a polygonal shape, a substantially circular shape, or the like in plan view.

1…有機EL表示装置、2…第1基板、3…第2基板(基板)、4…表示領域、5…配線部、6…集積回路、7…FPC、8…保護樹脂、11…陽極線、12…陰極線、13,13A,113…第1隔壁、13a…開口部(第1開口部)、13b…開口部(第2開口部)、13c…底面、13d…部分(第1部分)、14,114…第2隔壁、14a…底面、14b…部分(第2部分)、21…有機発光層、31…樹脂層、32…有機層、41…下地膜、P…画素、P1…第1画素、P2…第2画素。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Organic EL display device, 2... First substrate, 3... Second substrate (substrate), 4... Display area, 5... Wiring part, 6... Integrated circuit, 7... FPC, 8... Protective resin, 11... Anode line , 12... Cathode ray, 13, 13A, 113... First partition, 13a... Opening (first opening), 13b... Opening (second opening), 13c... Bottom surface, 13d... Portion (first portion), DESCRIPTION OF SYMBOLS 14, 114...Second partition, 14a...Bottom surface, 14b...Part (second part), 21...Organic light emitting layer, 31...Resin layer, 32...Organic layer, 41...Underlayer film, P...Pixel, P1...First Pixel, P2...second pixel.

Claims (8)

基板と、
前記基板上に位置する複数の画素と、
前記複数の画素のそれぞれを区画する第1隔壁と、
前記複数の画素が位置する表示領域に位置し、前記第1隔壁よりも高い第2隔壁と、
を備え、
前記複数の画素に含まれる第1画素は、第1電極と、前記第1電極上に位置する有機発光層と、前記有機発光層上に位置する第2電極とを有し、
前記第1隔壁は、撥液性を示し、
前記第2隔壁の底面は、前記基板と前記第1電極との少なくとも一方に接する、
有機EL表示装置。
A substrate and
a plurality of pixels located on the substrate;
a first partition wall that partitions each of the plurality of pixels;
a second partition wall located in a display area where the plurality of pixels are located and higher than the first partition wall;
Equipped with
A first pixel included in the plurality of pixels has a first electrode, an organic light emitting layer located on the first electrode, and a second electrode located on the organic light emitting layer,
The first partition wall exhibits liquid repellency,
a bottom surface of the second partition is in contact with at least one of the substrate and the first electrode;
Organic EL display device.
前記複数の画素に含まれる第2画素は、第1方向において前記第1画素に対して隣り合い、
前記第2画素は、前記第1電極と、前記第1電極上に位置する別の有機発光層と、前記別の有機発光層上に位置する別の第2電極とを有し、
前記第1隔壁のうち前記第1方向において前記第1画素と前記第2画素との間に位置する第1部分の底面と、前記第2隔壁のうち前記第1方向において前記第1画素と前記第2画素との間に位置する第2部分の底面とのそれぞれは、前記第1電極に接する、請求項1に記載の有機EL表示装置。
A second pixel included in the plurality of pixels is adjacent to the first pixel in the first direction,
The second pixel includes the first electrode, another organic light emitting layer located on the first electrode, and another second electrode located on the another organic light emitting layer,
A bottom surface of a first portion of the first partition wall located between the first pixel and the second pixel in the first direction, and a bottom surface of a first portion of the second partition wall located between the first pixel and the second pixel in the first direction. 2. The organic EL display device according to claim 1, wherein a bottom surface of the second portion located between the second pixel and the first electrode is in contact with the first electrode.
前記複数の画素に含まれる第2画素は、第1方向において前記第1画素に対して隣り合い、
前記第2画素は、前記第1電極と、前記第1電極上に位置する別の有機発光層と、前記別の有機発光層上に位置する別の第2電極とを有し、
前記第1隔壁のうち前記第1方向において前記第1画素と前記第2画素との間に位置する第1部分の底面と、前記第2隔壁のうち前記第1方向において前記第1画素と前記第2画素との間に位置する第2部分の底面とのそれぞれは、前記第1電極上に位置する下地膜に接する、請求項1に記載の有機EL表示装置。
A second pixel included in the plurality of pixels is adjacent to the first pixel in the first direction,
The second pixel includes the first electrode, another organic light emitting layer located on the first electrode, and another second electrode located on the another organic light emitting layer,
A bottom surface of a first portion of the first partition wall located between the first pixel and the second pixel in the first direction, and a bottom surface of a first portion of the second partition wall located between the first pixel and the second pixel in the first direction. 2. The organic EL display device according to claim 1, wherein a bottom surface of the second portion located between the second pixel and the second pixel is in contact with a base film located on the first electrode.
前記表示領域において、前記第2隔壁は、前記第1方向に交差する第2方向の一端から他端まで延在する、請求項2または3に記載の有機EL表示装置。 4. The organic EL display device according to claim 2, wherein in the display area, the second partition wall extends from one end to the other end in a second direction intersecting the first direction. 前記第2方向から見た前記第2隔壁は、オーバーハング形状を有する、請求項4に記載の有機EL表示装置。 The organic EL display device according to claim 4, wherein the second partition wall has an overhang shape when viewed from the second direction. 前記第1隔壁の一部は、前記第2隔壁に重なる、請求項1~5のいずれか一項に記載の有機EL表示装置。 The organic EL display device according to claim 1, wherein a portion of the first partition wall overlaps the second partition wall. 前記第1隔壁と前記第2隔壁とは、互いに接している、請求項1~6のいずれか一項に記載の有機EL表示装置。 The organic EL display device according to claim 1, wherein the first partition wall and the second partition wall are in contact with each other. 基板上に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極の一部を露出する第1開口部、及び前記第1開口部とは異なる第2開口部を有する第1隔壁を形成する工程と、
前記第2開口部に第2隔壁を形成する工程と、
前記第1開口部内に有機層を湿式法にて形成する工程と、
前記有機層上に発光層を形成する工程と、
前記発光層上に第2電極を形成する工程と、
を備え、
前記第1隔壁は、撥液性を示し、
前記第2隔壁の底面は、前記基板と前記第1電極との少なくとも一方に接する、
有機EL表示装置の製造方法。
forming a first electrode on the substrate;
forming a first partition having a first opening that exposes a part of the first electrode and a second opening that is different from the first opening;
forming a second partition in the second opening;
forming an organic layer within the first opening by a wet method;
forming a light emitting layer on the organic layer;
forming a second electrode on the light emitting layer;
Equipped with
The first partition wall exhibits liquid repellency,
a bottom surface of the second partition is in contact with at least one of the substrate and the first electrode;
A method for manufacturing an organic EL display device.
JP2022059038A 2022-03-31 2022-03-31 Organic el display device and manufacturing method thereof Pending JP2023150112A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022059038A JP2023150112A (en) 2022-03-31 2022-03-31 Organic el display device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022059038A JP2023150112A (en) 2022-03-31 2022-03-31 Organic el display device and manufacturing method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023150112A true JP2023150112A (en) 2023-10-16

Family

ID=88326683

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022059038A Pending JP2023150112A (en) 2022-03-31 2022-03-31 Organic el display device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023150112A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10566394B2 (en) Organic light-emitting display panel, device and method for manufacturing the same
KR102279921B1 (en) Organic light emitting display device and method of manufacturing the same
JP2005317476A (en) Display device
JP2008039843A (en) Display panel using light emitting device, and method of manufacturing the same
JP4872510B2 (en) Display panel using light emitting element and method for manufacturing the same
JP2023139318A (en) Light-emission device
JP2023150112A (en) Organic el display device and manufacturing method thereof
JP6661373B2 (en) Light emitting device
US20240163984A1 (en) Light emitting device
JP2016119201A (en) Light-emitting device
WO2017163331A1 (en) Light emitting device, electronic device, and manufacturing method for light emitting device
JP2022082797A (en) Light emission device
JP2020053153A (en) Organic el display device
JP6700309B2 (en) Light emitting device
KR102109661B1 (en) Fabricating Method Of Organic Light Emitting Diode Display
JP6700013B2 (en) Light emitting device
CN117222258A (en) Display apparatus
JP2022103406A (en) Light-emitting device
CN116940154A (en) Display substrate, preparation method thereof and display device
JP2016095990A (en) Light emission device
JP2019201004A (en) Light-emitting device
JP2005093280A (en) Organic el display
JP2021120926A (en) Light-emitting device, and method for manufacturing the same
WO2016129114A1 (en) Light-emitting device and method for producing light-emitting device
WO2017094087A1 (en) Light emitting device