JP2023142485A - Display body and sheet for sealing optical semiconductor element - Google Patents

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俊平 田中
Shunpei Tanaka
尚輝 長束
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Abstract

To provide a display body which hardly causes brightness unevenness and has high brightness.SOLUTION: A display body 1 includes a substrate 2, a plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c arranged on the substrate 2, and a sealing resin layer 4 for sealing the plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c. The sealing resin layer 4 includes a diffusion function layer 41 and a non-diffusion function layer 42. When a distance between the surface of the substrate 2 and an end TA on a front side of a center GA of gravity of the optical semiconductor element 3a is represented by LA, a distance between the surface of the substrate 2 and an end TC on a front side of the diffusion function layer 41 in a vertical line PC relative to the surface of the substrate 2 passing through a middle point C of the center GA of gravity of the optical semiconductor element 3a, and a center GB of gravity of the adjacent optical semiconductor element 3b in the same pixel 3 as the optical semiconductor element 3a is represented by LC, a distance between a vertical line PA relative to the surface of the substrate 2 passing through the end TA and the vertical line PC relative to the surface of the substrate 2 passing through the end TC is represented by LA-C, and an angle of an elevation angle from the end TA to the vertical line PC is represented by θ°, the display body satisfies the following expression (1): LC≤LA+LA-Ctanθ.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は表示体および光半導体素子封止用シートに関する。より詳細には、本発明は、例えば自発光型表示装置の光半導体素子を封止した表示体、および光半導体素子の封止に用いるのに適するシートに関する。 The present invention relates to a display body and a sheet for sealing optical semiconductor elements. More specifically, the present invention relates to a display body in which an optical semiconductor element of, for example, a self-luminous display device is sealed, and a sheet suitable for use in sealing the optical semiconductor element.

近年、次世代型の表示装置として、ミニ/マイクロLED表示装置(Mini/Micro Light Emitting Diode Display)に代表される自発光型表示装置が考案されている。ミニ/マイクロLED表示装置は、基本構成として、多数の微小な光半導体素子(LEDチップ)が高密度に配列された基板が表示パネルとして使用され、当該光半導体素子は封止材で封止され、最表層に樹脂フィルムやガラス板などのカバー部材が積層されるものである。 In recent years, self-luminous display devices typified by mini/micro LED display devices (Mini/Micro Light Emitting Diode Displays) have been devised as next-generation display devices. The basic configuration of mini/micro LED display devices is to use a substrate on which many minute optical semiconductor elements (LED chips) are arranged at high density as a display panel, and the optical semiconductor elements are sealed with a sealing material. , a cover member such as a resin film or a glass plate is laminated on the outermost layer.

ミニ/マイクロLED表示装置等の自発光型表示装置を備える表示体では、表示パネルの基板上に金属やITOなどの金属酸化物の配線(金属配線)が配置されている。このような表示装置は、例えば消灯時において上記金属配線等により光が反射し画面の見栄えが悪く意匠性に劣るという問題があった。このため、光半導体素子を封止する封止材として、金属配線による反射を防止するための反射防止層を用いる技術が採用されている。 In a display body including a self-luminous display device such as a mini/micro LED display device, wiring (metal wiring) made of metal or a metal oxide such as ITO is arranged on a substrate of a display panel. Such display devices have a problem in that, for example, when the lights are turned off, light is reflected by the metal wiring and the like, resulting in poor screen appearance and poor design. For this reason, a technique has been adopted that uses an antireflection layer to prevent reflection from metal wiring as a sealing material for sealing an optical semiconductor element.

また、自発光型表示装置を用いたディスプレイでは、光半導体素子の光源に起因して明るさにムラ(輝度ムラ)が生じるという問題があった。輝度ムラが生じると、ディスプレイの正面から見た場合と斜め視野から見た場合とで色味が変化する「カラーシフト」という現象が生じる。 Furthermore, displays using self-luminous display devices have a problem in that uneven brightness (luminance unevenness) occurs due to the light source of the optical semiconductor element. When brightness unevenness occurs, a phenomenon called "color shift" occurs, in which the color tone changes when the display is viewed from the front and when viewed from an oblique viewing angle.

特許文献1には、輝度ムラを抑制することができる粘着シートとして、着色粘着剤層と無色粘着剤層との積層体であり、無色粘着剤層が光半導体素子と接触するように位置している粘着シートが開示されている。上記粘着シートによれば、基板と当該基板に設置された光半導体素子とで形成される凹凸形状に接触させて追従させた場合、無色粘着剤層が凹凸に接触することになり、無色粘着剤層によって凹凸がある程度吸収されるため、着色粘着剤層が圧縮されたり変形したりすることが抑制され、これにより粘着剤層における透過率のムラを抑制し、輝度ムラを抑制することができると記載されている。 Patent Document 1 describes a laminate of a colored adhesive layer and a colorless adhesive layer as an adhesive sheet capable of suppressing brightness unevenness, and the colorless adhesive layer is positioned so as to be in contact with an optical semiconductor element. A pressure-sensitive adhesive sheet is disclosed. According to the above-mentioned adhesive sheet, when the colorless adhesive layer contacts and follows the uneven shape formed by the substrate and the optical semiconductor element installed on the substrate, the colorless adhesive layer comes into contact with the unevenness, and the colorless adhesive layer Since the unevenness is absorbed to some extent by the layer, the colored adhesive layer is prevented from being compressed or deformed, thereby suppressing uneven transmittance in the adhesive layer and suppressing uneven brightness. Are listed.

特開2020-169262号公報JP2020-169262A

しかしながら、着色粘着剤層を備える粘着シートは、光半導体素子を封止した際に金属配線による反射を防止したり、輝度ムラを抑制する効果が期待されるものの、光半導体素子が発する光の正面斜め方向への透過を妨げることとなり、その結果、表示体の正面輝度が低下するという問題があった。正面輝度が低下すると、輝度を上げるために消費電力が増加する。このため、輝度ムラを起こりにくくしながら、輝度が高い表示体が求められている。 However, although adhesive sheets with colored adhesive layers are expected to have the effect of preventing reflections from metal wiring and suppressing uneven brightness when optical semiconductor elements are sealed, This impedes transmission in diagonal directions, resulting in a problem in that the front brightness of the display decreases. When front brightness decreases, power consumption increases to increase brightness. Therefore, there is a need for a display body that has high brightness while being less likely to cause uneven brightness.

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、その目的は、輝度ムラが起こりにくく、輝度が高い表示体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、光半導体素子を封止することにより、輝度ムラが起こりにくく、輝度が高い表示体を作製可能な半導体素子封止用シートを提供することにある。 The present invention was conceived under these circumstances, and its purpose is to provide a display body that is less likely to cause uneven brightness and has high brightness. Another object of the present invention is to provide a sheet for encapsulating a semiconductor element that is less likely to cause uneven brightness and can produce a display body with high brightness by encapsulating an optical semiconductor element.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、拡散機能層および非拡散機能層を含む封止樹脂層により基板上に配置された複数の光半導体素子を封止した状態において、最近接する2つの光半導体素子の間の中央部における拡散機能層の正面側の端部の高さが光半導体素子の正面側の端部の高さに対して一定の高さ以下である構造を有する表示体によれば、輝度ムラが起こりにくく、輝度が高いことを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors found that in a state in which a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate are sealed with a sealing resin layer including a diffusion functional layer and a non-diffusion functional layer, A structure in which the height of the front end of the diffusion functional layer in the center between two nearest optical semiconductor elements is less than a certain height with respect to the height of the front end of the optical semiconductor element. It has been found that the display body having the present invention is less likely to have uneven brightness and has high brightness. The present invention was completed based on these findings.

すなわち、本発明は、基板と、上記基板上に配置された複数の光半導体素子と、上記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを備える表示体であり、
上記封止樹脂層は、拡散機能層および非拡散機能層を含み、
上記基板表面から、第一の光半導体素子の重心の正面側の端部TAまでの距離をLA
上記基板表面から、上記第一の光半導体素子の重心と、上記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う第二の光半導体素子の重心との中点を通る上記基板表面に対する垂線における上記拡散機能層の正面側の端部TCまでの距離をLC
上記端部TAを通る上記基板に対する垂線から上記端部TCを通る上記基板に対する垂線までの距離をLA-C
上記端部TAから、上記端部TCを通る上記基板に対する垂線への仰角の角度をθ°としたとき、下記式(1)を満たす、表示体を提供する。
C≦LA+LA-Ctanθ (1)
That is, the present invention is a display body comprising a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements,
The sealing resin layer includes a diffusion functional layer and a non-diffusion functional layer,
The distance from the substrate surface to the front end T A of the center of gravity of the first optical semiconductor element is L A ,
A line perpendicular to the substrate surface passes from the substrate surface to the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel. The distance to the front end T C of the diffusion functional layer is L C ,
The distance from the perpendicular to the substrate passing through the end T A to the perpendicular to the substrate passing through the end T C is L AC ,
Provided is a display that satisfies the following formula (1), where the angle of elevation from the end T A to the perpendicular to the substrate passing through the end T C is θ°.
L C ≦L A +L AC tanθ (1)

上記表示体において、上記光半導体素子を封止する上記封止樹脂層が上記拡散機能層を含むことにより、光半導体素子が発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができ、また輝度ムラをより抑制することができる。そして、最近接する光半導体素子間の中央部における拡散機能層の正面側の端部の高さである距離LCは、光半導体素子の重心の正面側の端部の高さである距離LAよりもLA-Ctanθ高い位置以下であることにより、光半導体素子間の距離に応じて充分に低く、光半導体素子が発する光、例えば正面から発する光に加えて側面から発する光を上記拡散機能層が充分に拡散することができ、光を充分に広い視野に透過することができ、輝度ムラを抑制し、また表示体の正面輝度を高くすることができる。 In the display, the sealing resin layer that seals the optical semiconductor element includes the diffusion functional layer, so that the light emitted by the optical semiconductor element is diffused in the diffusion functional layer, thereby increasing front brightness. In addition, brightness unevenness can be further suppressed. The distance L C , which is the height of the front end of the diffusion functional layer at the center between the nearest optical semiconductor elements, is the distance L A , which is the height of the front end of the center of gravity of the optical semiconductor element. By being below a position higher than L AC tan θ, it is sufficiently low depending on the distance between the optical semiconductor elements, and the light emitted by the optical semiconductor elements, for example, the light emitted from the side in addition to the light emitted from the front, is absorbed by the diffusion functional layer. can be sufficiently diffused, light can be transmitted over a sufficiently wide field of view, uneven brightness can be suppressed, and the front brightness of the display can be increased.

上記基板上の上記光半導体素子の高さは500μm以下であることが好ましい。上記高さが500μm以下であると、光半導体素子および基板表面により形成される凹凸形状に対する封止樹脂層の追従性により優れる。 The height of the optical semiconductor element on the substrate is preferably 500 μm or less. When the height is 500 μm or less, the sealing resin layer has excellent followability to the uneven shape formed by the optical semiconductor element and the substrate surface.

上記拡散機能層は粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止樹脂層は光半導体素子を容易に封止することができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。 It is preferable that the above-mentioned diffusion functional layer has adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer can easily seal the optical semiconductor element, and also has excellent adhesion between each layer, resulting in more excellent sealing properties of the optical semiconductor element.

上記表示体は自発光型表示装置を備えることが好ましい。 Preferably, the display body includes a self-luminous display device.

上記表示体は画像表示装置であることが好ましい。 It is preferable that the display body is an image display device.

また、本発明は、基板上に配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートであって、
上記シートは、拡散機能層および非拡散機能層含む封止用樹脂層を備え、
上記封止用樹脂層により上記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際、
上記基板表面から、第一の光半導体素子の重心の正面側の端部TAまでの距離をLA
上記基板表面から、上記第一の光半導体素子の重心と、上記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う第二の光半導体素子の重心との中点を通る上記基板表面に対する垂線における上記拡散機能層の正面側の端部TCまでの距離をLC
上記端部TAを通る上記基板に対する垂線から上記端部TCを通る上記基板に対する垂線までの距離をLA-C
上記端部TAから、上記端部TCを通る上記基板に対する垂線への仰角の角度をθ°としたとき、下記式(1)を満たし得る、光半導体素子封止用シートを提供する。
C≦LA+LA-Ctanθ (1)
The present invention also provides a sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate, comprising:
The sheet includes a sealing resin layer including a diffusion functional layer and a non-diffusion functional layer,
When a sealing resin layer is formed by sealing the plurality of optical semiconductor elements with the sealing resin layer,
The distance from the substrate surface to the front end T A of the center of gravity of the first optical semiconductor element is L A ,
A line perpendicular to the substrate surface passes from the substrate surface to the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel. The distance to the front end T C of the diffusion functional layer is L C ,
The distance from the perpendicular to the substrate passing through the end T A to the perpendicular to the substrate passing through the end T C is L AC ,
Provided is a sheet for encapsulating an optical semiconductor element that can satisfy the following formula (1), where the angle of elevation from the end T A to the perpendicular to the substrate passing through the end T C is θ°.
L C ≦L A +L AC tanθ (1)

上記拡散機能層は粘着性を有することが好ましい。 It is preferable that the above-mentioned diffusion functional layer has adhesiveness.

本発明の表示体によれば、光半導体素子が発する光による輝度ムラが起こりにくく、輝度が高い。このため、上記表示体は、カラーシフトが起こりにくく広い視野から同じ色味で表示体を視認することができる。また、上記表示体は消費電力を高くしなくても明るく見栄えが良い。また、本発明の光半導体素子封止用シートによれば、光半導体素子を封止することにより、輝度ムラが起こりにくく、輝度が高い表示体を提供することができる。 According to the display of the present invention, brightness unevenness due to light emitted by the optical semiconductor element is less likely to occur, and the brightness is high. Therefore, in the display, color shift is unlikely to occur and the display can be viewed with the same color from a wide field of view. Further, the display body is bright and has a good appearance without increasing power consumption. Moreover, according to the sheet for encapsulating an optical semiconductor element of the present invention, by sealing the optical semiconductor element, it is possible to provide a display body with high brightness and less chance of uneven brightness.

基板上に複数の光半導体素子がピクセル単位で配置された光学部材の部分上面図である。FIG. 2 is a partial top view of an optical member in which a plurality of optical semiconductor elements are arranged in units of pixels on a substrate. 本発明の表示体の一実施形態を示す部分断面図である。1 is a partial sectional view showing an embodiment of a display body of the present invention. 図2に示す表示体の部分拡大図である。3 is a partially enlarged view of the display body shown in FIG. 2. FIG. 図2に示す表示体の光半導体素子が発光する様子を示す部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing how the optical semiconductor element of the display shown in FIG. 2 emits light. 従来の表示体の光半導体素子が発光する様子を示す部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing how an optical semiconductor element of a conventional display emits light. 本発明の表示体の他の一実施形態を示す部分断面図である。It is a partial sectional view showing another embodiment of the display of the present invention. 本発明の表示体のさらに他の一実施形態を示す部分断面図である。FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing still another embodiment of the display body of the present invention. 本発明の光半導体素子封止用シートの一実施形態を示す断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows one Embodiment of the sheet for optical semiconductor element sealing of this invention. 図8に示す光半導体素子封止用シートを用いて光半導体素子を封止する工程を示す部分断面図である。FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing a process of sealing an optical semiconductor element using the optical semiconductor element sealing sheet shown in FIG. 8;

[表示体]
本発明の表示体は、基板と、上記基板上に配置された複数の光半導体素子と、上記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを少なくとも備える。上記表示体は、光半導体素子が発する光により情報を表示するための装置である。
[Display]
The display of the present invention includes at least a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements. The display body is a device for displaying information using light emitted by an optical semiconductor element.

上記光半導体素子としては、例えば、青色発光ダイオード、緑色発光ダイオード、赤色発光ダイオード、紫外線発光ダイオード等の発光ダイオード(LED)が挙げられる。 Examples of the optical semiconductor device include light emitting diodes (LEDs) such as blue light emitting diodes, green light emitting diodes, red light emitting diodes, and ultraviolet light emitting diodes.

上記基板上に、上記複数の光半導体素子は1つのピクセル(画素)内に配置しており、上記ピクセルは複数配置している。すなわち、上記複数の光半導体素子は、複数の光半導体素子を含むピクセルごとに複数配置している。図1に、基板上に複数の光半導体素子がピクセルごとに配置された光学部材の部分上面図を示す。図1に示す光学部材11では、基板2上に、3つの光半導体素子3a~3cが近接するように配置されており、3つの光半導体素子3a~3cで1ピクセル(ピクセル3)を形成している。また、基板2上に、3つの光半導体素子3d~3fが近接するように配置されており、3つの光半導体素子3d~3fで1ピクセル(ピクセル3’)を形成している。そして基板2上には、ピクセル3、ピクセル3’などと複数のピクセルが配置している。 On the substrate, the plurality of optical semiconductor elements are arranged in one pixel, and a plurality of the pixels are arranged. That is, a plurality of the above-mentioned optical semiconductor elements are arranged for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements. FIG. 1 shows a partial top view of an optical member in which a plurality of optical semiconductor elements are arranged for each pixel on a substrate. In the optical member 11 shown in FIG. 1, three optical semiconductor elements 3a to 3c are arranged close to each other on a substrate 2, and one pixel (pixel 3) is formed by the three optical semiconductor elements 3a to 3c. ing. Furthermore, three optical semiconductor elements 3d to 3f are arranged close to each other on the substrate 2, and the three optical semiconductor elements 3d to 3f form one pixel (pixel 3'). A plurality of pixels, such as pixel 3 and pixel 3', are arranged on the substrate 2.

本発明の表示体は、最近接する2つの光半導体素子間の、光半導体素子を配置されていない領域の基板表面を凹部、光半導体素子を凸部とした、基板および光半導体素子により形成される凹凸形状を有する。 The display body of the present invention is formed of a substrate and an optical semiconductor element, with a concave portion on the surface of the substrate and a convex portion on the optical semiconductor element in an area where the optical semiconductor element is not placed between two closest optical semiconductor elements. It has an uneven shape.

上記基板上の上記光半導体素子の高さ(基板表面から光半導体素子正面側の端部までの高さ。後述のLAに相当。)は500μm以下であることが好ましい。上記高さが500μm以下であると、上記凹凸形状に対する封止樹脂層の追従性により優れる。 The height of the optical semiconductor element on the substrate (the height from the substrate surface to the front end of the optical semiconductor element, which corresponds to LA described later) is preferably 500 μm or less. When the height is 500 μm or less, the sealing resin layer has better followability with respect to the uneven shape.

上記封止樹脂層は、複数の光半導体素子に接触して上記凹凸形状に追従していることが好ましい。また、上記封止樹脂層は、上記複数の光半導体素子を一括して封止していることが好ましい。なお、本明細書において、「光半導体素子を封止する」とは、光半導体素子の少なくとも一部を封止樹脂層内に埋め込むこと、または、上記封止樹脂層により追従し被覆することをいう。 It is preferable that the sealing resin layer contacts the plurality of optical semiconductor elements and follows the uneven shape. Further, it is preferable that the sealing resin layer seals the plurality of optical semiconductor elements at once. In this specification, "sealing the optical semiconductor element" refers to embedding at least a portion of the optical semiconductor element in a sealing resin layer, or following and covering it with the sealing resin layer. say.

上記封止樹脂層は、拡散機能層および非拡散機能層を少なくとも含む。上記封止樹脂層において、上記拡散機能層および上記非拡散機能層は直接積層していてもよく、他の層を介して積層していてもよい。上記封止樹脂層は、上記拡散機能層側が光半導体素子側となるように光半導体素子を封止していてもよいし、上記非拡散機能層側が光半導体素子側となるように光半導体素子を封止していてもよい。 The sealing resin layer includes at least a diffusion functional layer and a non-diffusion functional layer. In the sealing resin layer, the diffusion functional layer and the non-diffusion functional layer may be directly laminated, or may be laminated via another layer. The sealing resin layer may seal the optical semiconductor element so that the diffusion functional layer side faces the optical semiconductor element side, or the optical semiconductor element so that the non-diffusion functional layer side faces the optical semiconductor element side. may be sealed.

上記複数の光半導体素子のうちの任意の一つを第一の光半導体素子とする。上記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う光半導体素子を第二の光半導体素子とする。上記基板表面から、上記第一の光半導体素子の重心の正面側の端部TAまでの距離をLAとする。上記基板表面から、上記第一の光半導体素子の重心と上記第二の光半導体素子の重心との中点を通る上記基板表面に対する垂線における上記拡散機能層の正面側の端部TCまでの距離をLCとする。上記端部TAを通る上記基板表面に対する垂線から上記端部TCを通る上記基板表面に対する垂線までの距離をLA-Cとする。そして、上記端部TAから上記端部TCを通る上記基板表面に対する垂線への仰角の角度をθ°とする。このとき、本発明の表示体は、下記式(1)を満たす。
C≦LA+LA-Ctanθ (1)
Any one of the plurality of optical semiconductor elements is defined as a first optical semiconductor element. An optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel is referred to as a second optical semiconductor element. Let L A be the distance from the substrate surface to the front end T A of the center of gravity of the first optical semiconductor element. From the substrate surface to the front end T C of the diffusion functional layer in a line perpendicular to the substrate surface passing through the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element. Let the distance be L C. Let L AC be the distance from a line perpendicular to the substrate surface passing through the end T A to a line perpendicular to the substrate surface passing through the end T C . The angle of elevation from the end T A to the perpendicular to the substrate surface passing through the end T C is θ°. At this time, the display of the present invention satisfies the following formula (1).
L C ≦L A +L AC tanθ (1)

上記表示体において、上記光半導体素子を封止する上記封止樹脂層が上記拡散機能層を含むことにより、光半導体素子が発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができ、また輝度ムラをより抑制することができる。そして、最近接する光半導体素子間の中央部における拡散機能層の正面側の端部の高さである距離LCは、光半導体素子の重心の正面側の端部の高さである距離LAよりもLA-Ctanθ高い位置以下であることにより、光半導体素子間の距離に応じて充分に低く、光半導体素子が発する光、例えば正面から発する光に加えて側面から発する光を上記拡散機能層が充分に拡散することができ、光を充分に広い視野に透過することができ、輝度ムラを抑制し、また表示体の正面輝度を高くすることができる。 In the display, the sealing resin layer that seals the optical semiconductor element includes the diffusion functional layer, so that the light emitted by the optical semiconductor element is diffused in the diffusion functional layer, thereby increasing front brightness. In addition, brightness unevenness can be further suppressed. The distance L C , which is the height of the front end of the diffusion functional layer at the center between the nearest optical semiconductor elements, is the distance L A , which is the height of the front end of the center of gravity of the optical semiconductor element. By being below a position higher than L AC tan θ, it is sufficiently low depending on the distance between the optical semiconductor elements, and the light emitted by the optical semiconductor elements, for example, the light emitted from the side in addition to the light emitted from the front, is absorbed by the diffusion functional layer. can be sufficiently diffused, light can be transmitted over a sufficiently wide field of view, uneven brightness can be suppressed, and the front brightness of the display can be increased.

なお、本明細書において「正面」とは、表示体を視認する側をいい、例えば後述の図2では上方向である。 Note that in this specification, the "front" refers to the side from which the display body is viewed, and for example, in FIG. 2, which will be described later, is the upward direction.

(第一実施形態)
本発明の表示体について、その一実施形態である図2に示す表示体を用いて説明する。図2に示す表示体1は、基板2と、基板2上に配置された複数の光半導体素子3a~3cと、これら光半導体素子3a~3cを一括して封止する封止樹脂層4と、封止樹脂層4の光半導体素子3a~3c側とは反対側の表面に貼り合わせられた基材部5とを備える。図2は、光半導体素子3a~3cの重心を通る、基板2に対する垂直面断面の拡大図である。
(First embodiment)
The display of the present invention will be explained using the display shown in FIG. 2, which is one embodiment thereof. The display body 1 shown in FIG. 2 includes a substrate 2, a plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c arranged on the substrate 2, and a sealing resin layer 4 that collectively seals these optical semiconductor elements 3a to 3c. , and a base material portion 5 bonded to the surface of the sealing resin layer 4 on the side opposite to the optical semiconductor elements 3a to 3c side. FIG. 2 is an enlarged view of a cross section perpendicular to the substrate 2 passing through the centers of gravity of the optical semiconductor elements 3a to 3c.

光半導体素子3a~3cは、それぞれ、支持体31により一つの基板2上に固定されている。表示体1は、光半導体素子3a~3c間の、光半導体素子を配置されていない領域の基板2表面を凹部N、光半導体素子3a~3cを凸部Pとした、基板2および光半導体素子3a~3cにより形成される凹凸形状を有する。 The optical semiconductor elements 3a to 3c are each fixed on one substrate 2 by a support 31. The display body 1 includes a substrate 2 and an optical semiconductor element, with a concave portion N formed on the surface of the substrate 2 in an area where no optical semiconductor element is arranged between the optical semiconductor elements 3a to 3c, and a convex portion P formed on the optical semiconductor elements 3a to 3c. It has an uneven shape formed by 3a to 3c.

図2における光半導体素子3a~3cは図1に示す光半導体素子3a~3cであり、光半導体素子3a~3cは同一ピクセル3内に位置する。例えば、光半導体素子3aは第一の光半導体素子であり、光半導体素子3bは光半導体素子3aに隣り合う第二の光半導体素子である。 The optical semiconductor elements 3a to 3c in FIG. 2 are the optical semiconductor elements 3a to 3c shown in FIG. 1, and the optical semiconductor elements 3a to 3c are located within the same pixel 3. For example, the optical semiconductor element 3a is a first optical semiconductor element, and the optical semiconductor element 3b is a second optical semiconductor element adjacent to the optical semiconductor element 3a.

図2に示すように、封止樹脂層4は、複数の光半導体素子3a~3cに接触して上記凹凸形状に追従し、複数の光半導体素子3a~3cを一括して封止している。 As shown in FIG. 2, the sealing resin layer 4 contacts the plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c, follows the above-mentioned uneven shape, and seals the plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c all at once. .

封止樹脂層4は、拡散機能層41および非拡散機能層42が直接積層して構成されており、拡散機能層41側が光半導体素子3a~3c側となるように光半導体素子3a~3cを封止している。光半導体素子3a~3cに接触する拡散機能層41は上記凹凸形状に追従しており、表示体1において拡散機能層41も凹凸形状を有する。一方、非拡散機能層42は一方の面が拡散機能層41の凹凸形状に追従することで拡散機能層41の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。 The sealing resin layer 4 is constructed by directly laminating a diffusion functional layer 41 and a non-diffusion functional layer 42, and the optical semiconductor elements 3a to 3c are stacked so that the diffusion functional layer 41 side is the optical semiconductor elements 3a to 3c side. It's sealed. The diffusion function layer 41 in contact with the optical semiconductor elements 3a to 3c follows the above-mentioned uneven shape, and the diffusion function layer 41 in the display body 1 also has an uneven shape. On the other hand, one surface of the non-diffusion functional layer 42 has an uneven shape that is opposite to the uneven shape of the diffusion functional layer 41 by following the uneven shape of the diffusion functional layer 41, and the other surface is flat. It has become.

すなわち、封止樹脂層4は、光半導体素子側3a~3cから、拡散機能層41および非拡散機能層42をこの順に備える。また封止樹脂層4は、拡散機能層41が光半導体素子3a~3cと接触するように光半導体素子3a~3cを封止している。 That is, the sealing resin layer 4 includes a diffusion functional layer 41 and a non-diffusion functional layer 42 in this order from the optical semiconductor element side 3a to 3c. Further, the sealing resin layer 4 seals the optical semiconductor elements 3a to 3c such that the diffusion function layer 41 contacts the optical semiconductor elements 3a to 3c.

図3に、図2に示す表示体1の光半導体素子3aおよび3b間付近の部分拡大図を示す。図3に示すように、表示体1において、基板2表面から光半導体素子3aの重心GAの正面側の端部TAまでの距離をLAとする。LAは光半導体素子3aの高さに相当する。光半導体素子3aの重心GAを通る基板2表面に対する垂線を垂線PAとする。端部TAは、重心GAを通る基板2表面に対する垂線PAと光半導体素子3aの正面側表面との交点である。光半導体素子3aの重心GAと光半導体素子3bの重心GBとの中点をCとする。中点Cを通る基板2表面に対する垂線を垂線PCとする。垂線PCにおける拡散機能層41の正面側の端部TCまでの距離をLCとする。端部TCは、垂線PCと拡散機能層21の正面側界面との交点であり、中点Cにおける基板2表面から拡散機能層21正面側界面までの高さに相当する。端部TCは、中点Cよりも基板2側(図面下側)にあってもよいし、正面側(図面上側)にあってもよい。垂線PAから垂線PCまでの距離をLA-Cとする。垂線PAおよび垂線PCは平行する。そして、端部TAから垂線PCへの仰角の角度をθ°としたとき、表示体1は上記式(1)を満たす。図3では、垂線PCにおいて基板2表面からの高さがLA+LA-Ctanθの位置にある点をTで示す。 FIG. 3 shows a partially enlarged view of the area between the optical semiconductor elements 3a and 3b of the display body 1 shown in FIG. 2. As shown in FIG. 3, in the display 1, the distance from the surface of the substrate 2 to the end T A on the front side of the center of gravity G A of the optical semiconductor element 3a is defined as L A . L A corresponds to the height of the optical semiconductor element 3a. A perpendicular line to the surface of the substrate 2 passing through the center of gravity G A of the optical semiconductor element 3a is defined as a perpendicular line P A . The end T A is the intersection of a perpendicular line P A passing through the center of gravity G A to the surface of the substrate 2 and the front surface of the optical semiconductor element 3 a. Let C be the midpoint between the center of gravity G A of the optical semiconductor element 3a and the center of gravity G B of the optical semiconductor element 3b. A perpendicular line passing through the midpoint C to the surface of the substrate 2 is defined as a perpendicular line P C . The distance from the perpendicular line P C to the front end T C of the diffusion functional layer 41 is defined as L C. The end portion T C is the intersection of the perpendicular line P C and the front-side interface of the diffusion functional layer 21, and corresponds to the height from the surface of the substrate 2 at the midpoint C to the front-side interface of the diffusion functional layer 21. The end portion T C may be located closer to the substrate 2 (lower side in the drawing) than the midpoint C, or may be located on the front side (upper side in the drawing). Let L AC be the distance from perpendicular line P A to perpendicular line P C. Perpendicular line P A and perpendicular line P C are parallel. When the angle of elevation from the end T A to the perpendicular P C is θ°, the display 1 satisfies the above formula (1). In FIG. 3, a point at a height of L A +L AC tanθ from the surface of the substrate 2 on the perpendicular line P C is indicated by T.

表示体1において、光半導体素子3a~3cを封止する封止樹脂層4が拡散機能層41を含むことにより、光半導体素子3a~3cが発する光を拡散機能層41中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができ、また輝度ムラをより抑制することができる。そして、最近接する光半導体素子3aおよび3b間の中央部における拡散機能層41の正面側の端部TCの高さである距離LCは、光半導体素子3aの重心GAの正面側の端部TAの高さである距離LAよりもLA-Ctanθ高い位置以下であることにより、光半導体素子3aおよび3b間の距離に応じて充分に低く、光半導体素子3aが発する光、例えば正面から発する光に加えて側面から発する光を拡散機能層41が充分に拡散することができ、光を充分に広い視野に透過することができ、輝度ムラを抑制し、また表示体1の正面輝度を高くすることができる。 In the display body 1, the sealing resin layer 4 that seals the optical semiconductor elements 3a to 3c includes the diffusion function layer 41, so that the light emitted by the optical semiconductor elements 3a to 3c is diffused in the diffusion function layer 41, and the front Brightness can be made higher, and brightness unevenness can be further suppressed. The distance L C , which is the height of the front end T C of the diffusion functional layer 41 at the center between the nearest optical semiconductor elements 3a and 3b, is the front end of the center of gravity G A of the optical semiconductor element 3a. By being below the position L AC tan θ higher than the distance L A which is the height of the portion T A , it is sufficiently low according to the distance between the optical semiconductor elements 3a and 3b, and the light emitted by the optical semiconductor element 3a, for example, from the front. The diffusion function layer 41 can sufficiently diffuse the light emitted from the side as well as the light emitted from the side, and the light can be transmitted over a sufficiently wide field of view, suppressing brightness unevenness, and reducing the front brightness of the display 1. can be made higher.

なお、図3では、ピクセル内の一端に位置する光半導体素子3aが上記式(1)を満たす場合について説明したが、この場合とともにまたは代えて、光半導体素子3b等のピクセル内部に位置する光半導体素子を第一の光半導体素子とし、光半導体素子3aおよび/または光半導体素子3c等のピクセル内部の光半導体素子に隣り合う光半導体素子を第二の光半導体素子とした場合に上記式(1)を満たしてもよく、光半導体素子3c等のピクセル内の他端に位置する光半導体素子を第一の光半導体素子とし、光半導体素子3b等のピクセル内の他端に位置する光半導体素子に隣り合う光半導体素子を第二の光半導体素子とした場合に上記式(1)を満たしてもよい。 In FIG. 3, a case has been described in which the optical semiconductor element 3a located at one end of the pixel satisfies the above formula (1), but in addition to or in place of this case, the optical semiconductor element 3a located at one end of the pixel When the semiconductor element is the first optical semiconductor element and the optical semiconductor element adjacent to the optical semiconductor element inside the pixel such as the optical semiconductor element 3a and/or the optical semiconductor element 3c is the second optical semiconductor element, the above formula ( 1) may be satisfied, and the optical semiconductor element located at the other end of the pixel, such as the optical semiconductor element 3c, is the first optical semiconductor element, and the optical semiconductor element located at the other end of the pixel, such as the optical semiconductor element 3b, The above formula (1) may be satisfied when an optical semiconductor element adjacent to the element is used as a second optical semiconductor element.

また、同一ピクセル内にある全ての光半導体素子それぞれについて、全ての隣り合う光半導体素子との関係において上記式(1)を満たすことが好ましい。この場合、例えば図2に示す同一ピクセル内の全ての光半導体素子3a~3cが発する光、例えば正面から発する光に加えて側面から発する光を拡散機能層41が充分に拡散することができ、光を充分に広い視野に透過することができ、輝度ムラを抑制し、また表示体1の正面輝度をよりいっそう高くすることができる。 Furthermore, it is preferable that the above formula (1) be satisfied for all optical semiconductor elements in the same pixel in relation to all adjacent optical semiconductor elements. In this case, for example, the diffusion functional layer 41 can sufficiently diffuse the light emitted by all the optical semiconductor elements 3a to 3c in the same pixel shown in FIG. 2, for example, the light emitted from the side in addition to the light emitted from the front. Light can be transmitted over a sufficiently wide field of view, uneven brightness can be suppressed, and the front brightness of the display 1 can be further increased.

具体的に説明すると、図4に示すように、光半導体素子3a~3cが発する正面への光FA、FB、およびFCに加え、光半導体素子3a~3cが発する側面への光LA,RA,LB,RB,LC,およびRCは、拡散機能層41内で拡散され、正面方向および正面斜め方向への光が多くなり、均一に効率よく正面側に発光される。これにより、光を充分に広い視野に透過することができ、輝度ムラを抑制し、また表示体の正面輝度を高くすることができる。 Specifically, as shown in FIG. 4, in addition to the frontal lights F A , F B , and F C emitted by the optical semiconductor elements 3a to 3c, the side light L emitted by the optical semiconductor elements 3a to 3c. A , R A , L B , R B , L C , and R C are diffused within the diffusion functional layer 41, and more light is emitted in the front direction and diagonal direction, and the light is uniformly and efficiently emitted toward the front side. Ru. This allows light to be transmitted over a sufficiently wide field of view, suppressing uneven brightness, and increasing the front brightness of the display.

一方、図5に従来の表示体の一実施形態を示す。図5に示す表示体では、光半導体素子側から順に、非拡散機能層42および拡散機能層41を備え、光半導体素子3aおよび3b間の拡散機能層41正面側界面は、光半導体素子3a~3cの正面側の端部よりもはるかに正面側にあり、上記式(1)を満たさない。図5に示す表示体では、光半導体素子3a~3cが発する側面への光LA,RA,LB,RB,LC,およびRCは、非拡散機能層42内に放射されるため拡散されず、正面方向および正面斜め方向への光は少ない。このため、表示体正面の輝度が低く、また光半導体素子が発光する光は表示体正面へ広い視野に充分に透過することができず、輝度ムラが発生するおそれがある。これに対し、上記式(1)を満たす本発明の表示体であれば、正面輝度の高さおよび輝度ムラの抑止性に優れたものとすることができる。 On the other hand, FIG. 5 shows an embodiment of a conventional display body. The display shown in FIG. 5 includes a non-diffusing functional layer 42 and a diffusing functional layer 41 in order from the optical semiconductor element side, and the front side interface of the diffusing functional layer 41 between the optical semiconductor elements 3a and 3b is arranged between the optical semiconductor elements 3a and 3b. 3c, and does not satisfy the above formula (1). In the display shown in FIG. 5, side lights L A , R A , L B , R B , L C , and RC emitted by the optical semiconductor elements 3 a to 3 c are emitted into the non-diffusion functional layer 42 . Therefore, the light is not diffused, and there is little light in the front direction and diagonal direction. Therefore, the brightness in front of the display is low, and the light emitted by the optical semiconductor element cannot be sufficiently transmitted to the front of the display over a wide field of view, which may cause uneven brightness. On the other hand, if the display body of the present invention satisfies the above formula (1), it can have high front brightness and excellent suppression of brightness unevenness.

このように、本発明の表示体は、上記式(1)を満たすことにより、光半導体素子間における拡散機能層の高さが光半導体素子間の距離に応じて充分に低く、光半導体素子が側面方向に発する光が正面方向および正面斜め方向に拡散しやすく、光を充分に広い視野に透過することができ、輝度ムラを抑制し且つ表示体の正面輝度を高くすることができる。 In this way, the display of the present invention satisfies the above formula (1), so that the height of the diffusion function layer between the optical semiconductor elements is sufficiently low according to the distance between the optical semiconductor elements, and the optical semiconductor elements are Light emitted in the side direction is easily diffused in the front direction and oblique front direction, and the light can be transmitted over a sufficiently wide field of view, suppressing brightness unevenness and increasing the front brightness of the display.

θの値は特に限定されず、表示体の輝度ムラが抑制されるべき視野に応じて適宜設定される。θは例えば0°以上90°未満であり、好ましくは45°以下、より好ましくは30°以下であり、25°以下または20°以下であってもよく、特に好ましくは15°以下である。θが上記範囲内であると、広い視野において輝度ムラが抑制される。よって、上記式(1)において、θは45°、30°、25°、20°、または15°であることが好ましく、0°(この場合、LC≦LA)であってもよい。 The value of θ is not particularly limited, and is appropriately set depending on the field of view in which uneven brightness of the display body is to be suppressed. θ is, for example, 0° or more and less than 90°, preferably 45° or less, more preferably 30° or less, and may be 25° or less or 20° or less, particularly preferably 15° or less. When θ is within the above range, brightness unevenness is suppressed over a wide field of view. Therefore, in the above formula (1), θ is preferably 45°, 30°, 25°, 20°, or 15°, and may be 0° (in this case, L C ≦L A ).

光半導体素子の重心(図3の光半導体素子3aの重心GA、光半導体素子3bの重心GBなど)は光半導体素子の立体形状によって決定される。光半導体素子の立体形状は特に限定されず、立方体や直方体等の角柱、角錐台、円柱、円錐台、これらの上部をドーム型とした形状などが挙げられる。光半導体素子の立体形状が正角柱状である場合の重心は光半導体素子の中心である。 The center of gravity of the optical semiconductor element (the center of gravity G A of the optical semiconductor element 3a in FIG. 3, the center of gravity G B of the optical semiconductor element 3b, etc.) is determined by the three-dimensional shape of the optical semiconductor element. The three-dimensional shape of the optical semiconductor element is not particularly limited, and examples include prismatic shapes such as cubes and rectangular parallelepipeds, truncated pyramids, cylinders, truncated cones, and shapes with dome-shaped upper portions. When the three-dimensional shape of the optical semiconductor element is a regular prism, the center of gravity is the center of the optical semiconductor element.

なお、表示体1において、基材部5は備えていなくてもよい。また、1ピクセル内の光半導体素子の数は3個でなくてもよく特に限定されない。 Note that the display body 1 does not need to include the base material portion 5. Furthermore, the number of optical semiconductor elements within one pixel does not have to be three and is not particularly limited.

(第二実施形態)
本発明の表示体の他の一実施形態(第二実施形態)を図6に示す。図6に示す表示体1は、図2と同様に、基板2と、基板2上に配置された複数の光半導体素子3a~3cと、これら光半導体素子3a~3cを一括して封止する封止樹脂層4と、封止樹脂層4の光半導体素子3a~3c側とは反対側の表面に貼り合わせられた基材部5とを備える。
(Second embodiment)
Another embodiment (second embodiment) of the display body of the present invention is shown in FIG. Similar to FIG. 2, the display body 1 shown in FIG. 6 includes a substrate 2, a plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c arranged on the substrate 2, and the optical semiconductor elements 3a to 3c are sealed together. It includes a sealing resin layer 4 and a base member 5 bonded to the surface of the sealing resin layer 4 on the side opposite to the optical semiconductor elements 3a to 3c side.

図6に示す表示体1では、封止樹脂層4は、光半導体素子3a~3c側から順に、非拡散機能層43、拡散機能層41、および非拡散機能層42が積層して構成されており、非拡散機能層43側が光半導体素子3a~3c側となるように、また非拡散機能層43が光半導体素子3a~3cと接触するように光半導体素子3a~3cを封止している。 In the display body 1 shown in FIG. 6, the sealing resin layer 4 is composed of a non-diffusion functional layer 43, a diffusion functional layer 41, and a non-diffusion functional layer 42 stacked in order from the optical semiconductor elements 3a to 3c side. The optical semiconductor elements 3a to 3c are sealed such that the non-diffusion functional layer 43 side is on the optical semiconductor elements 3a to 3c side, and the non-diffusion functional layer 43 is in contact with the optical semiconductor elements 3a to 3c. .

光半導体素子3a~3cに接触する非拡散機能層43は上記凹凸形状に追従しており、拡散機能層41は一方の面が非拡散機能層43の凹凸形状に追従することで非拡散機能層43の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。拡散機能層41に接する非拡散機能層42は、両面が平面となっている。図6に示す表示体1も上記式(1)を満たす。その他は図2に示す表示体1と同様である。 The non-diffusion functional layer 43 in contact with the optical semiconductor elements 3a to 3c follows the above-mentioned uneven shape, and one surface of the diffusion functional layer 41 follows the uneven shape of the non-diffusion functional layer 43, so that the non-diffusion functional layer 43 becomes a non-diffusion functional layer. It has a concavo-convex shape opposite to that of 43, and the other surface is flat. Both surfaces of the non-diffusion functional layer 42 in contact with the diffusion functional layer 41 are flat. The display body 1 shown in FIG. 6 also satisfies the above formula (1). Others are the same as the display body 1 shown in FIG.

(第三実施形態)
本発明の表示体の他の一実施形態(第三実施形態)を図7に示す。図7に示す表示体1は、図2と同様に、基板2と、基板2上に配置された複数の光半導体素子3a~3cと、これら光半導体素子3a~3cを一括して封止する封止樹脂層4と、封止樹脂層4の光半導体素子3a~3c側とは反対側の表面に貼り合わせられた基材部5とを備える。
(Third embodiment)
Another embodiment (third embodiment) of the display body of the present invention is shown in FIG. Similar to FIG. 2, the display body 1 shown in FIG. 7 includes a substrate 2, a plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c arranged on the substrate 2, and a plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c that are sealed together. It includes a sealing resin layer 4 and a base member 5 bonded to the surface of the sealing resin layer 4 on the side opposite to the optical semiconductor elements 3a to 3c side.

図7に示す表示体1では、封止樹脂層4として、光半導体素子3a~3c側から順に、拡散機能層41、着色層44、および非拡散機能層42が積層して構成されており、拡散機能層41側が光半導体素子3a~3c側となるように、また拡散機能層41が光半導体素子3a~3cと接触するように光半導体素子3a~3cを封止している。 In the display body 1 shown in FIG. 7, the sealing resin layer 4 is composed of a diffusion functional layer 41, a colored layer 44, and a non-diffusion functional layer 42 stacked in order from the optical semiconductor elements 3a to 3c side. The optical semiconductor elements 3a to 3c are sealed such that the diffusion functional layer 41 side is on the optical semiconductor elements 3a to 3c side, and the diffusion functional layer 41 is in contact with the optical semiconductor elements 3a to 3c.

光半導体素子3a~3cに接触する拡散機能層41は凹凸形状に追従しており、表示体1において拡散機能層41も凹凸形状を有する。着色層44は一方の面が拡散機能層41の凹凸形状に追従することで拡散機能層41の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面となっている。着色層44に接する拡散機能層42は、両面が平面となっている。図7に示す表示体1も上記式(1)を満たす。その他は図2に示す表示体1と同様である。 The diffusion function layer 41 in contact with the optical semiconductor elements 3a to 3c follows the uneven shape, and the diffusion function layer 41 in the display body 1 also has an uneven shape. The colored layer 44 has one surface that follows the uneven shape of the diffusion functional layer 41 and has an uneven shape that is opposite to the uneven shape of the diffusion functional layer 41, and the other surface is a flat surface. Both surfaces of the diffusion functional layer 42 in contact with the colored layer 44 are flat. The display body 1 shown in FIG. 7 also satisfies the above formula (1). Others are the same as the display body 1 shown in FIG.

図2~7に示す表示体の断面図は、例えば、表示体を冷却した状態で、複数の光半導体素子の重心を通るように、基板面に対して垂直に切断することで断面を露出させて得ることができる。表示体を冷却することで、切断時に発生する熱により封止樹脂層に融解や変形が起こるのを抑制できる。切断は、レーザービーム照射やイオンビーム照射などの公知乃至慣用の切断装置を用いて行うことができる。また、切断後、露出した断面をミリングして、より変形度が低い断面を露出させてもよい。冷却時の温度は封止樹脂層の変形度合いや表示体の割れを抑制する範囲内で適宜設定される。 The cross-sectional views of the display body shown in FIGS. 2 to 7 are obtained by, for example, cutting the display body in a cooled state perpendicularly to the substrate surface so as to pass through the center of gravity of a plurality of optical semiconductor elements to expose the cross section. You can get it. By cooling the display, it is possible to prevent the sealing resin layer from melting or deforming due to the heat generated during cutting. The cutting can be performed using a known or commonly used cutting device such as laser beam irradiation or ion beam irradiation. Further, after cutting, the exposed cross section may be milled to expose a cross section with a lower degree of deformation. The temperature during cooling is appropriately set within a range that suppresses the degree of deformation of the sealing resin layer and cracking of the display body.

<封止樹脂層>
上記封止樹脂層は上記拡散機能層および上記非拡散機能層を少なくとも備える。上記封止樹脂層を構成する各層(上記拡散機能層、上記非拡散機能層など)は、それぞれ、上記封止樹脂層内において単層であってもよいし、同一または異なる組成を有する複層であってもよい。拡散機能層や非拡散機能層が複層含まれる場合、上記複層は接触して積層していてもよいし、隔離して積層していてもよい。また、上記封止樹脂層を構成する層の総数は、上記拡散機能層および上記非拡散機能層を含む2以上であり、3以上であってもよい。上記層の総数は、表示体の厚さを薄くする観点から、例えば10以下であり、5以下または4以下であってもよい。
<Sealing resin layer>
The sealing resin layer includes at least the diffusion functional layer and the non-diffusion functional layer. Each of the layers constituting the sealing resin layer (the diffusion functional layer, the non-diffusion functional layer, etc.) may be a single layer within the sealing resin layer, or may be a multilayer layer having the same or different compositions. It may be. When multiple diffusion functional layers and non-diffusion functional layers are included, the multiple layers may be laminated in contact with each other, or may be laminated in isolation. Further, the total number of layers constituting the sealing resin layer is two or more including the diffusion functional layer and the non-diffusion functional layer, and may be three or more. The total number of the layers is, for example, 10 or less, and may be 5 or less, or 4 or less, from the viewpoint of reducing the thickness of the display body.

本発明の表示体において、上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、上記拡散機能層および上記非拡散機能層をこの順に備えることが好ましい。このような構成を有することで、凹凸形状を有する拡散機能層表面が正面側(光半導体素子側とは反対側)の封止樹脂層表面に露出するのを防止し、また正面側の封止樹脂層表面がフラットとなりやすく、外光の乱反射を起こりにくくし、非点灯時および点灯時の両方において表示体の見栄えが向上する。図2,6,7に示す表示体1において、封止樹脂層4は、光半導体素子3a~3c側から、拡散機能層41および非拡散機能層42をこの順に備える。 In the display of the present invention, the sealing resin layer preferably includes the diffusion functional layer and the non-diffusion functional layer in this order from the optical semiconductor element side. By having such a configuration, the surface of the diffusion functional layer having an uneven shape is prevented from being exposed to the surface of the sealing resin layer on the front side (the side opposite to the optical semiconductor element side), and the sealing on the front side is prevented. The surface of the resin layer tends to be flat, making it difficult for diffuse reflection of external light to occur, and improving the appearance of the display both when the lights are off and when the lights are on. In the display body 1 shown in FIGS. 2, 6, and 7, the sealing resin layer 4 includes a diffusion functional layer 41 and a non-diffusion functional layer 42 in this order from the optical semiconductor elements 3a to 3c side.

上記封止樹脂層は着色層を含んでいてもよい。着色層を含む場合、基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。図7に示す表示体1おいて、封止樹脂層4は着色層44を含む。 The sealing resin layer may include a colored layer. When a colored layer is included, reflection of light from metal wiring provided on the substrate can be prevented. In the display body 1 shown in FIG. 7, the sealing resin layer 4 includes a colored layer 44.

上記封止樹脂層が上記着色層を備える場合、上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、上記拡散機能層、上記着色層、および上記非非拡散機能層をこの順に備えることが好ましい。このような構成を有することで、正面輝度をより高くし、輝度ムラをより抑制しつつ、非点灯時および点灯時の両方において表示体の見栄えをより向上させることができる。 When the sealing resin layer includes the colored layer, the sealing resin layer preferably includes the diffusion functional layer, the colored layer, and the non-diffusion functional layer in this order from the optical semiconductor element side. . By having such a configuration, it is possible to further improve the appearance of the display body both when the display is not lit and when it is lit, while increasing the front luminance and further suppressing unevenness in luminance.

本発明の表示体において、上記拡散機能層は、少なくとも一方の面(特に、光半導体素子側の面)が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有することが好ましい。この場合、本発明の表示体は上記式(1)を満たしやすくなる。また、上記拡散機能層は、正面側の面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有していてもよい。図2および図7に示す表示体1において拡散機能層41は正面側および光半導体素子側の両面が凹凸形状を有する。図6に示す表示体1において、拡散機能層41は光半導体素子側の面のみが凹凸形状を有し、正面側の面はフラットとなっている。 In the display of the present invention, it is preferable that at least one surface (particularly the surface facing the optical semiconductor element) of the diffusion functional layer has an uneven shape that follows the above-mentioned uneven shape. In this case, the display of the present invention easily satisfies the above formula (1). Further, the front side surface of the diffusion function layer may have an uneven shape that follows the above-mentioned uneven shape. In the display body 1 shown in FIGS. 2 and 7, the diffusion functional layer 41 has an uneven shape on both the front side and the optical semiconductor element side. In the display 1 shown in FIG. 6, the diffusion functional layer 41 has an uneven shape only on the surface facing the optical semiconductor element, and the surface on the front side is flat.

本発明の表示体において、上記拡散機能層よりも正面側にある上記非拡散機能層は、正面側が平面(フラット)となっていることが好ましい。この場合、上記封止樹脂層表面で外光の乱反射を起こりにくくし、非点灯時および点灯時の両方において表示体の見栄えが向上する。図2,6,7に示す表示体1において、非拡散機能層42の正面側がフラットとなっている。 In the display of the present invention, it is preferable that the non-diffusion functional layer located on the front side of the diffusion functional layer has a flat surface. In this case, diffuse reflection of external light is less likely to occur on the surface of the sealing resin layer, and the appearance of the display body is improved both when not lit and when lit. In the display body 1 shown in FIGS. 2, 6, and 7, the front side of the non-diffusion functional layer 42 is flat.

本発明の表示体において、上記着色層を有する場合、上記着色層は、少なくとも一方の面(特に、光半導体素子側の面)が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有することが好ましい。この場合、正面輝度がより高くなる。図7に示す表示体1において、着色層44は光半導体素子側の面のみが凹凸形状を有し、正面側の面はフラットとなっている。 When the display of the present invention includes the colored layer, it is preferable that at least one surface (particularly the surface facing the optical semiconductor element) of the colored layer has an uneven shape that follows the uneven shape. In this case, the front brightness becomes higher. In the display body 1 shown in FIG. 7, the colored layer 44 has an uneven shape only on the surface on the optical semiconductor element side, and the surface on the front side is flat.

本発明の表示体において、上記拡散機能層よりも上記光半導体素子側に上記非拡散機能層を備えていてもよい。すなわち、上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、上記非拡散機能層および上記拡散機能層をこの順に備えていてもよい。また、上記拡散機能層よりも上記光半導体素子側に上記非拡散機能層を備える場合、上記非拡散機能層は、両面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有することが好ましい。このような構成を有すると上記拡散機能層が凹凸形状を有することとなりやすい。図6に示す表示体1において、封止樹脂層4は、光半導体素子3a~3c側から順に、非拡散機能層43および拡散機能層41を備え、非拡散機能層43は両面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有する。 In the display of the present invention, the non-diffusion functional layer may be provided closer to the optical semiconductor element than the diffusion functional layer. That is, the sealing resin layer may include the non-diffusion functional layer and the diffusion functional layer in this order from the optical semiconductor element side. Further, when the non-diffusion functional layer is provided closer to the optical semiconductor element than the diffusion functional layer, it is preferable that both surfaces of the non-diffusion functional layer have an uneven shape that follows the uneven shape. With such a configuration, the diffusion functional layer tends to have an uneven shape. In the display body 1 shown in FIG. 6, the sealing resin layer 4 includes a non-diffusion functional layer 43 and a diffusion functional layer 41 in this order from the optical semiconductor elements 3a to 3c side, and both surfaces of the non-diffusion functional layer 43 have the above-mentioned uneven shape. It has an uneven shape that follows.

上記封止樹脂層を構成する各層は、それぞれ独立して、粘着性を有していてもよく、有していなくてもよい。中でも、粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止樹脂層は光半導体素子を容易に封止することができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。特に、少なくとも光半導体素子に接触する層は粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、封止樹脂層による光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れる。その結果、光半導体素子による段差が高い場合であっても意匠性に優れる。なお、光半導体素子に接触する層以外の層は粘着性を有しなくてもよい。この場合、タイリング状態において隣接する封止樹脂層同士の密着性が低く、隣接した小サイズの積層体(基板上に配置された光半導体素子を封止樹脂層が封止した積層体)同士を引き離す際、封止樹脂層の欠損や隣接する封止樹脂層の付着が起こりにくい。 Each layer constituting the sealing resin layer may or may not have adhesiveness independently. Among these, it is preferable to have adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer can easily seal the optical semiconductor element, and also has excellent adhesion between each layer, resulting in more excellent sealing properties of the optical semiconductor element. In particular, it is preferable that at least the layer that contacts the optical semiconductor element has adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer has excellent followability and embeddability of the optical semiconductor element. As a result, the design is excellent even when the height difference due to the optical semiconductor element is high. Note that the layers other than the layer that contacts the optical semiconductor element do not need to have adhesiveness. In this case, adhesion between adjacent encapsulating resin layers is low in the tiling state, and adjacent small-sized laminates (laminates in which optical semiconductor elements placed on a substrate are encapsulated by encapsulating resin layers) When separating them, damage to the sealing resin layer and adhesion of adjacent sealing resin layers is less likely to occur.

(拡散機能層)
上記拡散機能層は、光を拡散することを目的とする層である。上記拡散機能層は樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。
(diffusion functional layer)
The above-mentioned diffusion functional layer is a layer whose purpose is to diffuse light. The diffusion functional layer is preferably a resin layer made of resin.

上記拡散機能層は、上記着色層とは異なる非着色層であることが好ましい。上記非着色層は、表示体において基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することを目的としない層である。上記非着色層は、無色層であってもよく、わずかに着色していてもよい。 The diffusion functional layer is preferably a non-colored layer different from the colored layer. The above-mentioned non-colored layer is a layer that is not intended to prevent light reflection from metal wiring provided on a substrate in a display body. The non-colored layer may be a colorless layer or may be slightly colored.

上記拡散機能層における着色剤の含有割合は、拡散機能層の総量100質量%に対して、0.2質量%未満が好ましく、より好ましくは0.1質量%未満、さらに好ましくは0.05質量%未満であり、0.01質量%未満または0.005質量%未満であってもよい。 The content of the colorant in the diffusion functional layer is preferably less than 0.2% by mass, more preferably less than 0.1% by mass, and even more preferably 0.05% by mass, based on the total amount of the diffusion functional layer 100% by mass. %, and may be less than 0.01% by weight or less than 0.005% by weight.

上記拡散機能層は、限定されないが、光拡散性微粒子を含むことが好ましい。すなわち、上記拡散機能層は、樹脂層中に分散した光拡散性微粒子を含むことが好ましい。上記光拡散性微粒子は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 The above-mentioned diffusion functional layer preferably includes, but is not limited to, light-diffusing fine particles. That is, the above-mentioned diffusion functional layer preferably contains light-diffusing fine particles dispersed in the resin layer. The above-mentioned light-diffusing fine particles may be used alone or in combination of two or more.

上記光拡散性微粒子は、拡散機能層を構成する樹脂との適切な屈折率差を有し、拡散機能層に拡散性能を付与するものである。光拡散性微粒子としては、無機微粒子、高分子微粒子などが挙げられる。無機微粒子の材質としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレー、タルク、金属酸化物などが挙げられる。高分子微粒子の材質としては、例えば、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂(例えば、ポリメタクリル酸メチル等のポリメタクリレート樹脂を含む)、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。 The light-diffusing fine particles have an appropriate refractive index difference with the resin constituting the diffusion functional layer, and impart diffusion performance to the diffusion functional layer. Examples of the light-diffusing fine particles include inorganic fine particles and polymer fine particles. Examples of the material for the inorganic fine particles include silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, clay, talc, and metal oxides. Examples of the material of the polymer fine particles include silicone resin, acrylic resin (including polymethacrylate resin such as polymethyl methacrylate), polystyrene resin, polyurethane resin, melamine resin, polyethylene resin, and epoxy resin. .

上記高分子微粒子としては、シリコーン樹脂で構成される微粒子が好ましい。また、上記無機微粒子としては、金属酸化物で構成される微粒子が好ましい。上記金属酸化物としては、酸化チタン、チタン酸バリウムが好ましく、より好ましくは酸化チタンである。このような構成を有することにより、上記拡散機能層の光拡散性により優れ、輝度ムラがより抑制される。 As the polymer fine particles, fine particles made of silicone resin are preferable. Further, as the inorganic fine particles, fine particles made of metal oxide are preferable. As the metal oxide, titanium oxide and barium titanate are preferable, and titanium oxide is more preferable. By having such a configuration, the light diffusing property of the above-mentioned diffusion functional layer is more excellent, and brightness unevenness is further suppressed.

上記光拡散性微粒子の形状は、特に限定されず、例えば、真球状、扁平状、不定形状であってもよい。 The shape of the light-diffusing fine particles is not particularly limited, and may be, for example, perfectly spherical, flat, or irregularly shaped.

上記光拡散性微粒子の平均粒子径は、適切な光拡散性能を付与する観点からは、0.1μm以上が好ましく、より好ましくは0.15μm以上、さらに好ましくは0.2μm以上、特に好ましくは0.25μm以上である。また、上記光拡散性微粒子の平均粒子径は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、12μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以下、さらに好ましくは8μm以下である。平均粒子径は、例えば、コールターカウンターを用いて測定することができる。 The average particle diameter of the light-diffusing fine particles is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.15 μm or more, even more preferably 0.2 μm or more, particularly preferably 0. .25 μm or more. Furthermore, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image, the average particle diameter of the light-diffusing fine particles is preferably 12 μm or less, more preferably 10 μm or less, and still more preferably 8 μm or less. It is. The average particle diameter can be measured using, for example, a Coulter counter.

上記光拡散性微粒子の屈折率は、1.2~5が好ましく、より好ましくは1.25~4.5、さらに好ましくは1.3~4、特に好ましくは1.35~3である。 The refractive index of the light-diffusing fine particles is preferably 1.2 to 5, more preferably 1.25 to 4.5, even more preferably 1.3 to 4, particularly preferably 1.35 to 3.

上記光拡散性微粒子と拡散機能層を構成する樹脂(拡散機能層において光拡散性微粒子を除いた樹脂層)との屈折率差の絶対値は、表示体の輝度ムラをより効率的に低減する観点から、0.001以上が好ましく、より好ましくは0.01以上、さらに好ましくは0.02以上、特に好ましくは0.03以上であり、0.04以上、または0.05以上であってもよい。また、光拡散性微粒子と樹脂との屈折率差の絶対値は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、5以下が好ましく、より好ましくは4以下、さらに好ましくは3以下である。 The absolute value of the difference in refractive index between the light-diffusing fine particles and the resin constituting the diffusion functional layer (the resin layer excluding the light-diffusing fine particles in the diffusion functional layer) more efficiently reduces uneven brightness of the display. From the viewpoint, it is preferably 0.001 or more, more preferably 0.01 or more, even more preferably 0.02 or more, particularly preferably 0.03 or more, even if it is 0.04 or more, or 0.05 or more. good. Further, the absolute value of the refractive index difference between the light-diffusing fine particles and the resin is preferably 5 or less, more preferably 4 or less, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image. More preferably, it is 3 or less.

上記拡散機能層中の上記光拡散性微粒子の含有量は、適切な光拡散性能を封止樹脂層に付与する観点からは、拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、0.01質量部以上が好ましく、より好ましくは0.05質量部以上、さらに好ましくは0.1質量部以上、特に好ましくは0.15質量部以上である。また、光拡散性微粒子の含有量は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、80質量部以下が好ましく、より好ましくは70質量部以下である。 From the viewpoint of imparting appropriate light diffusion performance to the sealing resin layer, the content of the light diffusing fine particles in the diffusion functional layer is 0.01 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin constituting the diffusion functional layer. The amount is preferably at least 0.05 parts by mass, more preferably at least 0.1 parts by mass, particularly preferably at least 0.15 parts by mass. In addition, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image, the content of the light-diffusing fine particles is 80 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the resin constituting the diffusion functional layer. is preferable, and more preferably 70 parts by mass or less.

上記拡散機能層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、輝度ムラを効率的に低減する観点から、30%以上が好ましく、より好ましくは40%以上、さらに好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上であり、70%以上、80%以上、90%以上、95%以上、97%以上であってもよく、さらに99.9%付近のものが輝度ムラ改善効果により優れて好ましい。なお、上記拡散機能層のヘイズ値の上限は、特に限定されず、すなわち、100%であってもよい。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of efficiently reducing uneven brightness, it is preferably 30% or more, more preferably 40% or more, even more preferably 50% or more, Particularly preferably, it is 60% or more, and may be 70% or more, 80% or more, 90% or more, 95% or more, 97% or more, and moreover, a value around 99.9% is more excellent in the brightness unevenness improving effect. preferable. Note that the upper limit of the haze value of the diffusion functional layer is not particularly limited, and may be 100%. The haze value is the value at the thickest portion of the diffusion functional layer in the display.

上記拡散機能層の全光線透過率は、特に限定されないが、輝度を確保するという観点から、40%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。また、上記拡散機能層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring brightness, it is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, even more preferably 70% or more, particularly preferably 80% or more. It is. Further, the upper limit of the total light transmittance of the diffusion functional layer is not particularly limited, but may be less than 100%, 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the diffusion functional layer in the display.

上記拡散機能層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、拡散機能層の種類や厚さ、光拡散性微粒子の種類や配合量などにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned diffusion functional layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. It can be controlled by the type and amount of diffusible particles.

(非拡散機能層)
上記非拡散機能層は、光を拡散することを目的としない層である。上記非拡散機能層は樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。上記非拡散機能層は上記非着色層であることが好ましい。
(Non-diffusion functional layer)
The non-diffusion functional layer is a layer that is not intended to diffuse light. The non-diffusion functional layer is preferably a resin layer made of resin. The non-diffusion functional layer is preferably the non-colored layer.

上記非拡散機能層における着色剤の含有割合は、非拡散機能層の総量100質量%に対して、0.2質量%未満が好ましく、より好ましくは0.1質量%未満、さらに好ましくは0.05質量%未満であり、0.01質量%未満または0.005質量%未満であってもよい。 The content ratio of the colorant in the non-diffusion functional layer is preferably less than 0.2% by mass, more preferably less than 0.1% by mass, still more preferably 0.2% by mass, based on the total amount of the non-diffusion functional layer 100% by mass. 05% by weight, and may be less than 0.01% by weight or less than 0.005% by weight.

上記非拡散機能層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、表示体の輝度を優れたものとする観点から、30%未満が好ましく、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下、特に好ましくは1%以下であり、0.5%以下であってもよい。なお、上記非拡散機能層のヘイズ値の下限は特に限定されない。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記非拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the non-diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the brightness of the display, it is preferably less than 30%, more preferably 10% or less, and even more preferably 5%. % or less, particularly preferably 1% or less, and may be 0.5% or less. Note that the lower limit of the haze value of the non-diffusion functional layer is not particularly limited. The haze value is the value at the thickest portion of the non-diffusion functional layer in the display body.

上記非拡散機能層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体の輝度を確保するという観点から、60%以上が好ましく、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。また、上記非拡散機能層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記非拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the non-diffusing functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring the brightness of the display, it is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably is 90% or more. Further, the upper limit of the total light transmittance of the non-diffusing functional layer is not particularly limited, but may be less than 100%, 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the non-diffusion functional layer in the display.

上記非拡散機能層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、非拡散機能層の種類や厚さなどにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned non-diffusing functional layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, and may vary depending on the type and thickness of the non-diffusing functional layer. It can be controlled by etc.

上記非拡散機能層中の着色剤および/または光拡散性微粒子の含有量は、表示体の輝度を優れたものとする観点から、非拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、0.01質量部未満が好ましく、より好ましくは0.005質量部未満である。 The content of the colorant and/or light-diffusing fine particles in the non-diffusing functional layer is set to 0 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin constituting the non-diffusing functional layer, from the viewpoint of improving the brightness of the display. It is preferably less than .01 parts by weight, more preferably less than 0.005 parts by weight.

(着色層)
上記着色層は、表示体において基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することを目的とする層である。上記着色層は着色剤を少なくとも含む。上記着色層は、樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。上記着色剤は、上記着色層に溶解または分散可能なものであれば、染料でも顔料でもよい。少量の添加でも低いヘイズが達成でき、顔料のように沈降性がなく均一に分布させやすいことから、染料が好ましい。また、少量の添加でも色発現性が高いことから、顔料も好ましい。着色剤として顔料を使用する場合は、導電性が低いか、ないものが好ましい。上記着色剤は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
(colored layer)
The colored layer is a layer whose purpose is to prevent light from being reflected by metal wiring provided on a substrate in a display body. The colored layer contains at least a colorant. The colored layer is preferably a resin layer made of resin. The coloring agent may be a dye or a pigment as long as it can be dissolved or dispersed in the colored layer. Dyes are preferred because they can achieve low haze even when added in small amounts, and are easy to distribute uniformly without settling unlike pigments. Pigments are also preferred because they provide high color development even when added in small amounts. If a pigment is used as a coloring agent, it is preferably one with low or no electrical conductivity. The above coloring agents may be used alone or in combination of two or more.

上記着色剤としては、黒系着色剤が好ましい。上記黒系着色剤としては、公知乃至慣用の黒色を呈するための着色剤(顔料、染料等)を用いることができ、例えば、カーボンブラック(ファーネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、ランプブラック、松煙等)、グラファイト、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラック、ペリレンブラック、チタンブラック、シアニンブラック、活性炭、フェライト(非磁性フェライト、磁性フェライト等)、マグネタイト、酸化クロム、酸化鉄、二硫化モリブデン、クロム錯体、アントラキノン系着色剤、窒化ジルコニウムなどが挙げられる。また、黒色以外の色を呈する着色剤を組み合わせて配合して黒系着色剤として機能する着色剤を用いてもよい。 As the colorant, a black colorant is preferable. As the black colorant, known or commonly used colorants (pigments, dyes, etc.) for producing a black color can be used. For example, carbon black (furnace black, channel black, acetylene black, thermal black, lamp black, etc.) can be used. , pine smoke, etc.), graphite, copper oxide, manganese dioxide, aniline black, perylene black, titanium black, cyanine black, activated carbon, ferrite (non-magnetic ferrite, magnetic ferrite, etc.), magnetite, chromium oxide, iron oxide, molybdenum disulfide , chromium complexes, anthraquinone colorants, zirconium nitride, etc. Further, a colorant that functions as a black colorant by combining a colorant exhibiting a color other than black may be used.

上記着色層における着色剤の含有割合は、適切な反射防止能を表示体に付与する観点からは、着色層の総量100質量%に対して、0.2質量%以上が好ましく、より好ましくは0.4質量%以上である。また、上記着色剤の含有割合は、例えば10質量%以下であり、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下である。上記含有割合は、着色剤の種類や、表示体の色調および光透過率等に応じて適宜設定すればよい。着色剤は、適宜の溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液として、組成物に添加してもよい。 The content ratio of the colorant in the colored layer is preferably 0.2% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, based on 100% by mass of the total amount of the colored layer, from the viewpoint of imparting appropriate antireflection ability to the display. .4% by mass or more. Further, the content of the colorant is, for example, 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less. The content ratio may be appropriately set depending on the type of colorant, the color tone and light transmittance of the display body, and the like. The colorant may be added to the composition as a solution or dispersion dissolved or dispersed in a suitable solvent.

上記着色層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、正面輝度および表示体の視認性を確保する観点から、50%以下が好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは30%以下、特に好ましくは20%以下である。また、上記着色層のヘイズ値は、表示体の輝度ムラを効率的に低減する観点から、1%以上が好ましく、より好ましくは3%以上、さらに好ましくは5%以上、特に好ましくは8%以上であり、10%以上であってもよい。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記着色層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring front brightness and visibility of the display, it is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, still more preferably 30%. It is particularly preferably 20% or less. Further, the haze value of the colored layer is preferably 1% or more, more preferably 3% or more, still more preferably 5% or more, particularly preferably 8% or more, from the viewpoint of efficiently reducing brightness unevenness of the display body. and may be 10% or more. The haze value is the value at the thickest portion of the colored layer in the display.

上記着色層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体における金属配線などの反射防止機能、コントラストをより向上させるという観点から、40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは25%以下、特に好ましくは20%以下である。また、上記着色層の全光線透過率は、表示体の輝度を確保するという観点から、0.5%以上であることが好ましく、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上であり、2.5%以上、または3%以上であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記着色層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of further improving the antireflection function and contrast of metal wiring in the display, it is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably is 25% or less, particularly preferably 20% or less. Further, the total light transmittance of the colored layer is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 1.5% or more, from the viewpoint of ensuring the brightness of the display body. Particularly preferably, it is 2% or more, and may be 2.5% or more, or 3% or more. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the colored layer in the display.

上記着色層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、種類や厚さ、着色剤の種類や配合量などにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned colored layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. It can be controlled by the amount etc.

(樹脂層)
上記各層が上記樹脂層である場合、上記樹脂層を構成する樹脂としては、公知乃至慣用の樹脂が挙げられ、例えば、アクリル系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、オキセタン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂(ポリビニルエーテル等)、ポリアミド系樹脂、フッ素系樹脂、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィンなどが挙げられる。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。上記封止樹脂層の各層を構成する樹脂は、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
(resin layer)
When each layer is the resin layer, examples of the resin constituting the resin layer include known or commonly used resins, such as acrylic resins, urethane acrylate resins, urethane resins, rubber resins, and epoxy resins. Resin, epoxy acrylate resin, oxetane resin, silicone resin, silicone acrylic resin, polyester resin, polyether resin (polyvinyl ether, etc.), polyamide resin, fluorine resin, vinyl acetate/vinyl chloride copolymer, modified polyolefin Examples include. The above resins may be used alone or in combination of two or more. The resins constituting each layer of the sealing resin layer may be the same or different.

上記樹脂層が粘着性を有する層(粘着層)である場合、上記樹脂として、公知乃至慣用の感圧型の粘着剤を用いることができる。上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤(天然ゴム系、合成ゴム系、これらの混合系等)、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、フッ素系粘着剤などが挙げられる。上記粘着剤は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 When the resin layer is an adhesive layer (adhesive layer), a known or commonly used pressure-sensitive adhesive can be used as the resin. Examples of the above-mentioned adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives (natural rubber-based, synthetic rubber-based, mixtures thereof, etc.), silicone-based adhesives, polyester-based adhesives, urethane-based adhesives, and polyether. Examples include adhesives such as adhesives based on polyamide, polyamide adhesives, and fluorine adhesives. The above adhesives may be used alone or in combination of two or more.

上記樹脂層は、上記各層において本発明の効果を損なわない範囲で、上述の各成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、硬化剤、架橋促進剤、粘着付与樹脂(ロジン誘導体、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール等)、オリゴマー、老化防止剤、充填剤(金属粉、有機充填剤、無機充填剤等)、酸化防止剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、レベリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、粒状物、箔状物などが挙げられる。上記その他の成分は、それぞれ、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 The resin layer may contain other components other than the above-mentioned components as long as the effects of the present invention are not impaired in each layer. Other ingredients listed above include curing agents, crosslinking accelerators, tackifying resins (rosin derivatives, polyterpene resins, petroleum resins, oil-soluble phenols, etc.), oligomers, anti-aging agents, fillers (metal powders, organic fillers, inorganic fillers, etc.), antioxidants, plasticizers, softeners, surfactants, antistatic agents, surface lubricants, leveling agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, granular materials, foil-like materials, etc. Can be mentioned. The above-mentioned other components may be used alone or in combination of two or more.

上記封止樹脂層の積層構造としては、[拡散機能層/非拡散機能層]、[非拡散機能層/拡散機能層]、[非拡散機能層/拡散機能層/非拡散機能層](以上、光半導体素子側から順)などが挙げられる。上記封止樹脂層が上記着色層を含む場合、上記積層構造における任意の箇所に上記着色層を積層することができる。上記封止樹脂層が上記着色層を含む場合の積層構造としては、[着色層/拡散機能層/非拡散機能層]、[拡散機能層/着色層/非拡散機能層]、[非拡散機能層/着色層/拡散機能層]、[非拡散機能層/拡散機能層/着色層]、[拡散機能層/非拡散機能層/着色層]、[着色層/拡散機能層/着色層/非拡散機能層](以上、光半導体素子側から順)などが挙げられる。 The laminated structure of the above sealing resin layer includes [diffusion functional layer/non-diffusion functional layer], [non-diffusion functional layer/diffusion functional layer], [non-diffusion functional layer/diffusion functional layer/non-diffusion functional layer] ( , in order from the optical semiconductor element side). When the sealing resin layer includes the colored layer, the colored layer can be laminated at any location in the laminated structure. When the sealing resin layer includes the colored layer, the laminated structure includes [colored layer/diffusion functional layer/non-diffusion functional layer], [diffusion functional layer/colored layer/non-diffusion functional layer], and [non-diffusion functional layer]. layer / colored layer / diffusion functional layer], [non-diffusion functional layer / diffusion functional layer / colored layer], [diffusion functional layer / non-diffusion functional layer / colored layer], [colored layer / diffusion functional layer / colored layer / non-diffusion functional layer] diffusion functional layer] (in order from the optical semiconductor element side).

<基材部>
本発明の表示体は、基材部を備えていてもよく、備えていなくてもよい。上記基材部は、上記表示体において封止樹脂層の正面側に備えると、封止樹脂層表面をフラットにすることができ、これより光の乱反射を起こりにくくし、非点灯時および点灯時の両方において表示体の見栄えが向上する。また、上記基材部に後述のアンチグレア層や反射防止層を形成することで表示体にアンチグレア性や反射防止性を付与することができる。また、後述の光半導体素子封止用シートにおいて封止用樹脂層の支持体となり、上記基材部を備えることにより光半導体素子封止用シートの取り扱い性に優れる。
<Base material part>
The display body of the present invention may or may not include a base material portion. When the base material part is provided on the front side of the sealing resin layer in the display body, the surface of the sealing resin layer can be made flat, which makes it difficult to cause diffused reflection of light, and when the display is not lit and lit. The appearance of the display body is improved in both cases. Further, by forming an anti-glare layer or an anti-reflection layer, which will be described later, on the base material portion, anti-glare properties and anti-reflection properties can be imparted to the display body. In addition, it serves as a support for a sealing resin layer in a sheet for encapsulating an optical semiconductor element, which will be described later, and by providing the above-mentioned base material portion, the sheet for encapsulating an optical semiconductor element has excellent handling properties.

上記基材部は、単層であってもよいし、同一または組成や厚さ等が異なる複層であってもよい。上記基材部が複層である場合、各層は粘着剤層などの他の層により貼り合わせられていてもよい。なお、基材部に使用される基材層は、封止樹脂層とともに光半導体素子を備える基板に貼付される部分であり、光半導体素子封止用シートの使用時(貼付時)に剥離されるはく離ライナーや、基材部表面を保護するに過ぎない表面保護フィルムは「基材部」には含まない。 The base material portion may be a single layer, or may be a multilayer having the same or different compositions, thicknesses, etc. When the base material part is multi-layered, each layer may be bonded together by another layer such as an adhesive layer. Note that the base material layer used for the base material part is a part that is attached to the substrate containing the optical semiconductor element together with the sealing resin layer, and is peeled off when the optical semiconductor element sealing sheet is used (at the time of attachment). A "base material" does not include a release liner or a surface protection film that merely protects the surface of the base material.

上記基材部を構成する基材層としては、例えば、ガラスやプラスチック基材(特に、プラスチックフィルム)などが挙げられる。上記プラスチック基材を構成する樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン、アイオノマー、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン-プロピレン共重合体、環状オレフィン系ポリマー、エチレン-ブテン共重合体、エチレン-ヘキセン共重合体等のポリオレフィン樹脂;ポリウレタン;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルイミド;アラミド、全芳香族ポリアミド等のポリアミド;ポリフェニルスルフィド;フッ素樹脂;ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース樹脂;シリコーン樹脂;ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂;ポリサルフォン;ポリアリレート;ポリ酢酸ビニルなどが挙げられる。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。上記基材層は、反射防止(AR)フィルム、偏光板、位相差板等の各種光学フィルムであってもよい。 Examples of the base layer constituting the base portion include glass and plastic base materials (especially plastic films). Examples of the resin constituting the plastic base material include low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, random copolymerized polypropylene, block copolymerized polypropylene, and homopolyprolene. , polybutene, polymethylpentene, ionomer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester (random, alternating) copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene- Polyolefin resins such as propylene copolymers, cyclic olefin polymers, ethylene-butene copolymers, and ethylene-hexene copolymers; polyurethanes; polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate (PBT); Polycarbonate; Polyimide resin; Polyetheretherketone; Polyetherimide; Polyamide such as aramid and wholly aromatic polyamide; Polyphenylsulfide; Fluororesin; Polyvinyl chloride; Polyvinylidene chloride; Cellulose resin such as triacetylcellulose (TAC) ; silicone resin; acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA); polysulfone; polyarylate; polyvinyl acetate. The above resins may be used alone or in combination of two or more. The base material layer may be various optical films such as an antireflection (AR) film, a polarizing plate, and a retardation plate.

上記プラスチックフィルムの厚さは、20~300μmであることが好ましく、より好ましくは40~250μmである。上記厚さが20μm以上であると、光半導体素子封止用シートの支持性および取り扱い性がより向上する。上記厚さが250μm以下であると、表示体をより薄くすることができる。 The thickness of the plastic film is preferably 20 to 300 μm, more preferably 40 to 250 μm. When the thickness is 20 μm or more, the supportability and handleability of the sheet for encapsulating an optical semiconductor device are further improved. When the thickness is 250 μm or less, the display body can be made thinner.

上記基材部の上記封止樹脂層を備える側の表面は、封止樹脂層との密着性、保持性等を高める目的で、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、サンドマット加工処理、オゾン暴露処理、火炎暴露処理、高圧電撃暴露処理、イオン化放射線処理等の物理的処理;クロム酸処理等の化学的処理;コーティング剤(下塗り剤)による易接着処理等の表面処理が施されていてもよい。密着性を高めるための表面処理は、基材部における封止樹脂層側の表面全体に施されていることが好ましい。 The surface of the base material on the side where the sealing resin layer is provided may be subjected to, for example, corona discharge treatment, plasma treatment, sand mat treatment, ozone exposure, etc., for the purpose of improving adhesion and retention with the sealing resin layer. Physical treatments such as treatment, flame exposure treatment, high-voltage electric shock treatment, and ionizing radiation treatment; chemical treatments such as chromic acid treatment; surface treatments such as easy-adhesion treatment using a coating agent (undercoat). . The surface treatment for improving adhesion is preferably applied to the entire surface of the base portion on the side of the sealing resin layer.

上記基材部の厚さは、支持体としての機能および表面の耐擦傷性に優れる観点から、5μm以上が好ましく、より好ましくは10μm以上である。上記基材部の厚さは、透明性により優れる観点から、300μm以下が好ましく、より好ましくは250μm以下である。 The thickness of the base material portion is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, from the viewpoint of excellent support function and surface scratch resistance. The thickness of the base material portion is preferably 300 μm or less, more preferably 250 μm or less, from the viewpoint of better transparency.

<表示体>
上記表示体は、アンチグレア性および/または反射防止性を有する層を備えていてもよい。このような構成を有することにより、上記表示体の光沢や光の反射を抑制し、見栄えをより良くすることができる。上記アンチグレア性を有する層としてはアンチグレア処理層が挙げられる。上記反射防止性を有する層としては反射防止処理層が挙げられる。アンチグレア処理および反射防止処理は、それぞれ、公知乃至慣用の方法で実施することができる。上記アンチグレア性を有する層および上記反射防止性を有する層は、同一層であってもよいし、互いに異なる層であってもよい。上記アンチグレア性および/または反射防止性を有する層は、一層のみ有していてもよいし、二層以上を有していてもよい。
<Display body>
The display body may include a layer having anti-glare and/or anti-reflection properties. By having such a configuration, it is possible to suppress the gloss and light reflection of the display body and improve the appearance. Examples of the layer having anti-glare properties include an anti-glare treated layer. Examples of the layer having antireflection properties include an antireflection treated layer. The anti-glare treatment and the anti-reflection treatment can be carried out using known or commonly used methods. The layer having anti-glare properties and the layer having anti-reflection properties may be the same layer or may be different layers. The layer having anti-glare properties and/or anti-reflection properties may have only one layer, or may have two or more layers.

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、輝度ムラの抑制効果と意匠性とがより優れたものとする観点から、80%以上が好ましく、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上である。なお、上記ヘイズ値の上限は特に限定されない。 The haze value (initial haze value) of the sealing resin layer or the laminate having both end faces of the sealing resin layer and the base material part is not particularly limited, but it is effective for suppressing brightness unevenness and for design. From the viewpoint of making it more excellent, it is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more. Note that the upper limit of the haze value is not particularly limited.

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体の全光線透過率は、特に限定されないが、金属配線などの反射防止機能、コントラストをより向上させるという観点から、40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下である。また、上記全光線透過率は、輝度を確保するという観点から、0.5%以上であることが好ましい。 The total light transmittance of the sealing resin layer or the laminate having both end faces of the sealing resin layer and the base material part is not particularly limited, but it can further improve the anti-reflection function and contrast of metal wiring etc. From this viewpoint, it is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. Further, the total light transmittance is preferably 0.5% or more from the viewpoint of ensuring brightness.

上記ヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、上記封止樹脂層および上記基材部を構成する各層の積層順や種類、厚さなどにより制御することができる。 The above haze value and total light transmittance can be measured by the methods specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, respectively, and depend on the stacking order, type, and thickness of each layer constituting the sealing resin layer and the base material part. It can be controlled by

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体の厚さは、金属配線などの反射防止機能、コントラストを向上させつつ、カラーシフトをより効率的に低減する観点から、10~600μmであることが好ましく、より好ましくは20~550μm、さらに好ましくは30~500μm、さらに好ましくは40~450μm、特に好ましくは50~400μmである。なお、はく離ライナーは上記厚さには含まれないものとする。 The thickness of the encapsulation resin layer or the laminate having both end faces of the encapsulation resin layer and the base material part is determined to improve the anti-reflection function and contrast of metal wiring, while also making color shift more efficient. From the viewpoint of reducing the thickness, it is preferably 10 to 600 μm, more preferably 20 to 550 μm, even more preferably 30 to 500 μm, still more preferably 40 to 450 μm, and particularly preferably 50 to 400 μm. Note that the release liner is not included in the above thickness.

また、本発明の表示体は、自発光型表示装置を備えることが好ましい。また、上記自発光型表示装置と、必要に応じて表示パネルとを組み合わせることで画像表示装置である表示体とすることができる。この場合の光半導体素子はLED素子である。上記自発光型表示装置としては、LEDディスプレイやバックライト、あるいは有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。上記バックライトは特に全面直下型のバックライトであることが好ましい。上記バックライトは例えば上記基板と当該基板上に配置された複数の光半導体素子とを備える積層体を構成部材の少なくとも一部として含む。例えば、上記自発光型表示装置において、上記基板上には、各LED素子に発光制御信号を送るための金属配線層が積層されている。赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色の光を発する各LED素子は、基板上に金属配線層を介して交互に配列されている。金属配線層は、銅などの金属によって形成されており、各LED素子の発光度合いを調整して各色を表示させる。 Moreover, it is preferable that the display body of the present invention includes a self-luminous display device. Further, by combining the above self-luminous display device and a display panel as necessary, a display body that is an image display device can be obtained. The optical semiconductor element in this case is an LED element. Examples of the self-luminous display device include an LED display, a backlight, an organic electroluminescence (organic EL) display device, and the like. It is particularly preferable that the backlight is a full-surface direct type backlight. The backlight includes, for example, a laminate including the substrate and a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate as at least a part of its constituent members. For example, in the self-luminous display device, a metal wiring layer for sending a light emission control signal to each LED element is laminated on the substrate. LED elements that emit light of red (R), green (G), and blue (B) colors are alternately arranged on a substrate with metal wiring layers interposed therebetween. The metal wiring layer is made of metal such as copper, and displays each color by adjusting the degree of light emission of each LED element.

本発明の表示体は、折り曲げて使用される表示体、例えば、折り曲げ可能な画像表示装置(フレキシブルディスプレイ)(特に、折り畳み可能な画像表示装置(フォルダブルディスプレイ))であってもよい。具体的には、折り畳み可能なバックライトを備える表示体、折り畳み可能な自発光型表示装置を備える表示体などが挙げられる。 The display of the present invention may be a display that is used by being folded, for example, a foldable image display device (flexible display) (particularly a foldable image display device (foldable display)). Specifically, examples include a display body equipped with a foldable backlight, a display body equipped with a foldable self-luminous display device, and the like.

本発明の表示体において、上記封止樹脂層は光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れるため、上記光半導体素子はミニLED素子やマイクロLED素子であってもよい。 In the display of the present invention, since the sealing resin layer has excellent followability and embeddability of the optical semiconductor element, the optical semiconductor element may be a mini LED element or a micro LED element.

本発明の表示体によれば、光半導体素子が発する光による輝度ムラが起こりにくく、輝度が高い。このため、上記表示体は、カラーシフトが起こりにくく広い視野から同じ色味で表示体を視認することができる。また、上記表示体は消費電力を高くしなくても明るく見栄えが良い。 According to the display of the present invention, brightness unevenness due to light emitted by the optical semiconductor element is less likely to occur, and the brightness is high. Therefore, in the display, color shift is unlikely to occur and the display can be viewed with the same color from a wide field of view. Further, the display body is bright and has a good appearance without increasing power consumption.

[表示体の製造方法]
本発明の表示体は、封止用樹脂層を備える光半導体素子封止用シートを、光半導体素子が配置された基板に貼り合わせ、封止用樹脂層により光半導体素子を封止することで製造することができる。
[Method for manufacturing display body]
The display body of the present invention can be obtained by bonding a sheet for encapsulating an optical semiconductor element having a resin layer for sealing to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, and sealing the optical semiconductor element with the resin layer for sealing. can be manufactured.

(光半導体素子封止用シート)
上記光半導体素子封止用シートは、基板上に配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートである。上記光半導体素子封止用シートは、拡散機能層および非拡散機能層を含む封止用樹脂層を少なくとも備える。上記光半導体素子封止用シートは、上記封止用樹脂層により上記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際において、上記式(1)を満たし得るシートである。本発明の光半導体素子封止用シートによれば、光半導体素子を封止することにより、輝度ムラが起こりにくく、輝度が高い表示体を提供することができる。
(Sheet for encapsulating optical semiconductor elements)
The optical semiconductor element sealing sheet is a sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate. The optical semiconductor element sealing sheet includes at least a sealing resin layer including a diffusion functional layer and a non-diffusion functional layer. The optical semiconductor element sealing sheet is a sheet that can satisfy the above formula (1) when a sealing resin layer is formed by sealing the plurality of optical semiconductor elements with the sealing resin layer. According to the sheet for encapsulating an optical semiconductor element of the present invention, by encapsulating an optical semiconductor element, it is possible to provide a display body that is less likely to have uneven brightness and has high brightness.

上記光半導体素子封止用シートは、拡散機能層および非拡散機能層を含む封止用樹脂層を少なくとも備える。上記封止用樹脂層は本発明の表示体における上記封止樹脂層を形成し得る層である。具体的には、上記封止用樹脂層中の上記拡散機能層は本発明の表示体における上記拡散機能層を形成し得る層であり、上記封止用樹脂層中の上記非拡散機能層は本発明の表示体における上記非拡散機能層を形成し得る層である。具体的には、上記封止用樹脂層中の上記拡散機能層は、本発明の表示体における上記拡散機能層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記拡散機能層となる層であってもよい。また、上記封止用樹脂層中の上記非拡散機能層は、本発明の表示体における上記非拡散機能層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記非拡散機能層となる層であってもよい。 The optical semiconductor element sealing sheet includes at least a sealing resin layer including a diffusion functional layer and a non-diffusion functional layer. The sealing resin layer is a layer that can form the sealing resin layer in the display of the present invention. Specifically, the diffusion functional layer in the sealing resin layer is a layer that can form the diffusion functional layer in the display of the present invention, and the non-diffusion functional layer in the sealing resin layer is a layer that can form the diffusion functional layer in the display of the present invention. This layer can form the non-diffusion functional layer in the display of the present invention. Specifically, the diffusion functional layer in the sealing resin layer has a composition (constituent components and their blending ratios) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) of the diffusion functional layer in the display of the present invention. ) may be the same layer, or may be a layer that becomes the above-mentioned diffusion functional layer in the display of the present invention upon curing. In addition, the non-diffusion functional layer in the sealing resin layer has a composition (constituent components and their blending ratio) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) of the non-diffusion functional layer in the display body of the present invention. may be the same layer, or may be a layer that becomes the non-diffusion functional layer in the display of the present invention upon curing.

上記封止用樹脂層は、本発明の表示体における封止樹脂層の構造に応じて適宜設計される。例えば、本発明の表示体が上記着色層を含む場合、上記光半導体素子封止用シートにおける上記封止用樹脂層は着色層を含む。上記封止用樹脂層中の上記着色層は、本発明の表示体における上記着色層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記着色層となる層であってもよい。また、上記封止用樹脂層は、上記拡散機能層、上記着色層、および上記非拡散機能層をこの順に備えることが好ましい。 The sealing resin layer is appropriately designed depending on the structure of the sealing resin layer in the display of the present invention. For example, when the display of the present invention includes the colored layer, the sealing resin layer in the optical semiconductor element sealing sheet includes the colored layer. The colored layer in the sealing resin layer is a layer having the same composition (constituent components and their proportions) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) as the colored layer in the display of the present invention. Alternatively, it may be a layer that becomes the colored layer in the display of the present invention upon curing. Further, it is preferable that the sealing resin layer includes the diffusion functional layer, the colored layer, and the non-diffusion functional layer in this order.

上記封止用樹脂層を構成する各層は、それぞれ独立して、粘着性および/または接着性を有していてもよく、有していなくてもよい。中でも、粘着性および/または接着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止用樹脂層は基板および光半導体素子に容易に貼り合わせることができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。特に、少なくとも光半導体素子に接触する層は粘着性および/または接着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、封止用樹脂層による光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れる。その結果、光半導体素子による段差が高い場合であっても意匠性に優れる。 Each layer constituting the sealing resin layer may or may not have adhesiveness and/or adhesiveness independently. Among these, it is preferable to have adhesiveness and/or adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer can be easily bonded to the substrate and the optical semiconductor element, and has excellent adhesion between each layer, resulting in better sealing performance of the optical semiconductor element. In particular, it is preferable that at least the layer that contacts the optical semiconductor element has adhesiveness and/or adhesiveness. By having such a configuration, the followability and embedding of the optical semiconductor element by the sealing resin layer are excellent. As a result, the design is excellent even when the height difference due to the optical semiconductor element is high.

上記封止用樹脂層を構成する各層は、それぞれ独立して、放射線照射により硬化する性質を有する樹脂層(放射線硬化性樹脂層)であってもよく、放射線照射により硬化する性質を有しない樹脂層(放射線非硬化性樹脂層)であってもよい。上記放射線としては、例えば、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、またはX線などが挙げられる。上記着色層が放射線硬化性樹脂層である場合、上記着色層に含まれ得る上記着色剤は、可視光を吸収し、かつ上記放射線硬化性樹脂層が硬化し得る波長の光の透過性を有するものが好ましい。 Each of the layers constituting the sealing resin layer may be independently a resin layer that has the property of being cured by radiation irradiation (radiation curable resin layer), or a resin that does not have the property of curing by radiation irradiation. It may be a layer (radiation non-curable resin layer). Examples of the radiation include electron beams, ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, and X rays. When the colored layer is a radiation-curable resin layer, the colorant that may be included in the colored layer absorbs visible light and has transparency to light at a wavelength at which the radiation-curable resin layer can be cured. Preferably.

上記光半導体素子封止用シートは上記基材部を備えていてもよい。上記基材部を備える場合、上記封止用樹脂層は、基材部の少なくとも一方の面に備えられていてもよい。上記封止用樹脂層の上記基材部と接触する面は、上記封止用樹脂層が光半導体素子と接する側とは反対側の面である。上記光半導体素子封止用シートが上記基材部を備える場合、上記光半導体素子封止用シートは上記基材部と共に光半導体素子および基板に貼り合わせられ、上記光半導体素子封止用シートにおける基材部は本発明の表示体における基材部となる。 The optical semiconductor element sealing sheet may include the base material portion. When the base material section is provided, the sealing resin layer may be provided on at least one surface of the base material section. The surface of the sealing resin layer that comes into contact with the base material part is the surface opposite to the side where the sealing resin layer contacts the optical semiconductor element. When the optical semiconductor element sealing sheet includes the base material part, the optical semiconductor element sealing sheet is bonded to the optical semiconductor element and the substrate together with the base material part, and the optical semiconductor element sealing sheet is bonded to the optical semiconductor element and the substrate together with the optical semiconductor element sealing sheet, and The base material part becomes a base material part in the display body of the present invention.

また、上記封止用樹脂層は、はく離ライナー上のはく離処理面に形成されていてもよい。上記光半導体素子封止用シートが上記はく離ライナーに形成されている場合、上記はく離ライナーは上記封止用樹脂層の光半導体素子と接する側がはく離ライナーと接触する側となる。上記基材部を有しない場合は上記封止用樹脂層の両面がはく離ライナーと接触する側であってもよい。はく離ライナーは上記光半導体素子封止用シートの保護材として用いられ、光半導体素子を封止する際に剥がされる。なお、基材部およびはく離ライナーは必ずしも設けられなくてもよい。 Further, the sealing resin layer may be formed on the release-treated surface of the release liner. When the optical semiconductor element sealing sheet is formed on the release liner, the side of the sealing resin layer that contacts the optical semiconductor element is the side that contacts the release liner. When the base material portion is not provided, both surfaces of the sealing resin layer may be the side that contacts the release liner. The release liner is used as a protective material for the optical semiconductor element sealing sheet, and is peeled off when sealing the optical semiconductor element. Note that the base material portion and the release liner do not necessarily need to be provided.

上記はく離ライナーは、上記光半導体素子封止用シート表面を被覆して保護するための要素であり、光半導体素子が配置された基板に光半導体素子封止用シートを貼り合わせる際には当該シートから剥がされる。 The release liner is an element for covering and protecting the surface of the sheet for encapsulating an optical semiconductor element, and when the sheet for encapsulating an optical semiconductor element is attached to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, the sheet is be stripped from.

上記はく離ライナーとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、フッ素系剥離剤や長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチックフィルムや紙類などが挙げられる。 Examples of the above-mentioned release liner include polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene film, polypropylene film, plastic films and papers whose surface is coated with a release agent such as a fluorine-based release agent or a long-chain alkyl acrylate release agent. It will be done.

上記はく離ライナーの厚さは、例えば10~200μm、好ましくは15~150μm、より好ましくは20~100μmである。上記厚さが10μm以上であると、はく離ライナーの加工時に切り込みにより破断しにくい。上記厚さが200μm以下であると、使用時に上記光半導体素子封止用シートからはく離ライナーをより剥離しやすい。 The thickness of the release liner is, for example, 10 to 200 μm, preferably 15 to 150 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When the thickness is 10 μm or more, the release liner is less likely to break due to cuts during processing. When the thickness is 200 μm or less, the release liner can be more easily peeled off from the optical semiconductor device sealing sheet during use.

図8を用いて、上記光半導体素子封止用シートの一実施形態について説明する。図8は、図2に示す表示体を形成可能な上記光半導体素子封止用シートの断面図である。図8に示すように、光半導体素子封止用シート10は、基板上に配置された1以上の光半導体素子を封止するために使用することのできるものであり、基材部5と基材部5上に形成された封止用樹脂層7とを備える。封止用樹脂層7は、拡散機能層71および非拡散機能72の積層体から形成されている。拡散機能層71および非拡散機能層72は粘着性を有し、互いに直接積層している。封止用樹脂層7の拡散機能層71表面にははく離ライナー6が貼付されており、非拡散機能層72表面には基材部5が貼付されている。 One embodiment of the optical semiconductor element sealing sheet will be described using FIG. 8. FIG. 8 is a cross-sectional view of the optical semiconductor element sealing sheet capable of forming the display shown in FIG. 2. As shown in FIG. 8, the optical semiconductor element sealing sheet 10 can be used for sealing one or more optical semiconductor elements arranged on a substrate, and is a sheet that can be used to seal one or more optical semiconductor elements arranged on a substrate. A sealing resin layer 7 formed on the material portion 5 is provided. The sealing resin layer 7 is formed from a laminate of a diffusion function layer 71 and a non-diffusion function layer 72. The diffusion functional layer 71 and the non-diffusion functional layer 72 have adhesive properties and are directly stacked on each other. A release liner 6 is attached to the surface of the diffusion function layer 71 of the sealing resin layer 7, and a base member 5 is attached to the surface of the non-diffusion function layer 72.

(封止工程)
上記光半導体素子封止用シートを用いて本発明の表示体を製造する方法において、上記光半導体素子封止用シートを、光半導体素子が配置された基板に貼り合わせ、封止用樹脂層により光半導体素子を封止する封止工程を有する。上記封止工程では、具体的には、まず、上記光半導体素子封止用シートからはく離ライナーを剥離して封止用樹脂層を露出させる。そして、基板と、上記基板上に配置された光半導体素子(好ましくは複数の光半導体素子)とを備える積層体(光学部材など)の、光半導体素子が配置された基板面に、上記光半導体素子封止用シートの露出面である封止用樹脂層面を貼り合わせ、上記積層体が複数の光半導体素子を備える場合はさらに複数の光半導体素子間の隙間を上記封止用樹脂層が充填するように配置し、複数の光半導体素子を一括して封止する。具体的には、図9に示すように、はく離ライナー6を剥離した光半導体素子封止用シート10の拡散機能層71を、基板2の光半導体素子3a~3cが配置された面に対向するように配置し、光半導体素子封止用シート10を基板2の光半導体素子3a~3cが配置された面に貼り合わせ、光半導体素子3a~3cを封止用樹脂層7に埋め込む。
(Sealing process)
In the method of manufacturing a display body of the present invention using the above-mentioned sheet for encapsulating an optical semiconductor element, the above-mentioned sheet for encapsulating an optical semiconductor element is laminated to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, and a resin layer for sealing It has a sealing process of sealing the optical semiconductor element. Specifically, in the sealing step, first, the release liner is peeled off from the optical semiconductor element sealing sheet to expose the sealing resin layer. Then, in a laminate (such as an optical member) comprising a substrate and an optical semiconductor element (preferably a plurality of optical semiconductor elements) arranged on the substrate, the optical semiconductor is placed on the substrate surface on which the optical semiconductor element is arranged. The exposed surfaces of the encapsulation resin layers of the element encapsulation sheets are bonded together, and when the laminate includes a plurality of optical semiconductor elements, the encapsulation resin layer further fills the gaps between the plurality of optical semiconductor elements. The plurality of optical semiconductor elements are sealed together. Specifically, as shown in FIG. 9, the diffusion functional layer 71 of the optical semiconductor element sealing sheet 10 from which the release liner 6 has been peeled off is placed opposite to the surface of the substrate 2 on which the optical semiconductor elements 3a to 3c are arranged. The optical semiconductor element sealing sheet 10 is attached to the surface of the substrate 2 on which the optical semiconductor elements 3a to 3c are arranged, and the optical semiconductor elements 3a to 3c are embedded in the sealing resin layer 7.

上記貼り合わせの際の温度は、例えば室温から110℃の範囲内である。また、上記貼り合わせの際、減圧または加圧してもよい。減圧や加圧により封止用樹脂層と基板または光半導体素子との間に空隙が形成されるのを抑制することができる。また、上記封止工程では、減圧下で光半導体素子封止用シートを貼り合わせ、その後加圧することが好ましい。減圧する場合の圧力は例えば1~100Paであり、減圧時間は例えば5~600秒である。また、加圧する場合の圧力は例えば0.05~0.5MPaであり、加圧時間は例えば5~600秒である。 The temperature during the above bonding is, for example, within the range of room temperature to 110°C. Further, during the above bonding, pressure may be reduced or increased. It is possible to suppress the formation of voids between the sealing resin layer and the substrate or the optical semiconductor element due to reduced pressure or increased pressure. Moreover, in the said sealing process, it is preferable to bond the optical semiconductor element sealing sheet together under reduced pressure, and to apply pressure after that. The pressure for reducing the pressure is, for example, 1 to 100 Pa, and the time for reducing the pressure is, for example, 5 to 600 seconds. Further, the pressure when pressurizing is, for example, 0.05 to 0.5 MPa, and the pressurizing time is, for example, 5 to 600 seconds.

上記封止用樹脂層における拡散機能層の厚さや、貼り合わせの際の温度や圧力などを適宜設定することにより、得られる表示体における拡散機能層の光半導体素子への追従性や上記凹凸形状における凹部および凸部の各領域の拡散機能層厚さを調整することができる。これにより、得られる表示体が上記式(1)を満たす形態とすることができる。 By appropriately setting the thickness of the diffusion function layer in the sealing resin layer, the temperature and pressure during bonding, etc., the followability of the diffusion function layer to the optical semiconductor element in the resulting display body and the above-mentioned uneven shape can be adjusted. It is possible to adjust the thickness of the diffusion functional layer in each region of the concave portions and convex portions. Thereby, the display body obtained can have a form that satisfies the above formula (1).

(放射線照射工程)
上記封止用樹脂層が放射線硬化性樹脂層を備える場合、上記製造方法は、さらに、上記基板と、上記基板上に配置された光半導体素子と、上記光半導体素子を封止する上記光半導体素子封止用シートと、を備える積層体に放射線を照射して上記放射線硬化性樹脂層を硬化させて硬化物層を形成する放射線照射工程を備えていてもよい。上記放射線としては上述のように、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、X線などが挙げられる。中でも、紫外線が好ましい。放射線照射時の温度は、例えば室温から100℃の範囲内であり、照射時間は例えば1分~1時間である。
(Radiation irradiation process)
When the sealing resin layer includes a radiation-curable resin layer, the manufacturing method further includes the substrate, an optical semiconductor element disposed on the substrate, and the optical semiconductor element for sealing the optical semiconductor element. The method may include a radiation irradiation step of irradiating a laminate including an element sealing sheet with radiation to cure the radiation-curable resin layer to form a cured material layer. As mentioned above, examples of the radiation include electron beams, ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, and X rays. Among these, ultraviolet light is preferred. The temperature during radiation irradiation is, for example, in the range from room temperature to 100° C., and the irradiation time is, for example, 1 minute to 1 hour.

(ダイシング工程)
上記製造方法は、さらに、上記基板と、上記基板上に配置された光半導体素子と、上記光半導体素子を封止する上記光半導体素子封止用シートと、を備える積層体をダイシングするダイシング工程を備えていてもよい。上記積層体は、上記放射線照射工程を経た積層体について行ってもよい。上記積層体が、上記放射線照射により放射線硬化性樹脂層が硬化した硬化物層を備える場合、上記ダイシング工程では、光半導体素子封止用シートの硬化物層および基板の側端部をダイシングして除去する。これにより、充分に硬化し粘着性が低く低減された硬化物層の面を側面に露出させることができる。上記ダイシングは、公知乃至慣用の方法により行うことができ、例えば、ダイシングブレードを用いた方法や、レーザー照射により行うことができる。
(dicing process)
The manufacturing method further includes a dicing step of dicing a laminate including the substrate, an optical semiconductor element disposed on the substrate, and the optical semiconductor element sealing sheet for sealing the optical semiconductor element. may be provided. The above-mentioned laminate may be formed on a laminate that has undergone the above-mentioned radiation irradiation step. When the laminate includes a cured material layer in which the radiation-curable resin layer is cured by the radiation irradiation, in the dicing step, the cured material layer of the optical semiconductor element sealing sheet and the side edges of the substrate are diced. Remove. Thereby, the surface of the cured material layer, which has been sufficiently cured and whose tackiness has been reduced, can be exposed on the side surface. The above-mentioned dicing can be performed by a known or commonly used method, for example, by using a dicing blade or by laser irradiation.

(タイリング工程)
上記製造方法は、さらに、上記ダイシング工程で得られた複数の表示体を平面方向に接触するように並べるタイリング工程を備えていてもよい。上記タイリング工程では、上記ダイシング工程で得られた複数の積層体を平面方向に接触するように並べてタイリングする。このようにして、1つの大きな表示体を製造することができる。
(Tiling process)
The manufacturing method may further include a tiling step of arranging the plurality of display bodies obtained in the dicing step so as to be in contact with each other in a plane direction. In the tiling step, the plurality of laminates obtained in the dicing step are arranged and tiled so as to be in contact with each other in a planar direction. In this way, one large display can be produced.

以上のようにして、本発明の表示体を製造することができる。光半導体素子封止用シート10において封止用樹脂層7が放射線硬化性樹脂層を有しない場合、封止用樹脂層7は表示体1における封止樹脂層4となる。一方、光半導体素子封止用シート10において封止用樹脂層7が放射線硬化性樹脂層を有する場合、例えば非拡散機能層72が放射線硬化性樹脂層である場合、非拡散機能層72を硬化させることで非拡散機能層42を形成し、封止樹脂層4となる。 The display body of the present invention can be manufactured in the manner described above. When the sealing resin layer 7 in the optical semiconductor element sealing sheet 10 does not have a radiation-curable resin layer, the sealing resin layer 7 becomes the sealing resin layer 4 in the display body 1 . On the other hand, when the sealing resin layer 7 in the optical semiconductor element sealing sheet 10 has a radiation-curable resin layer, for example, when the non-diffusion functional layer 72 is a radiation-curable resin layer, the non-diffusion functional layer 72 is cured. By doing so, a non-diffusion functional layer 42 is formed, which becomes the sealing resin layer 4.

1 表示体
2 基板
3a~3f 光半導体素子
31 支持体
3,3’ピクセル
4 封止樹脂層
41 拡散機能層
42,43 非拡散機能層
44 着色層
5 基材部
6 はく離ライナー
7 封止用樹脂層
71 拡散機能層
72 非拡散機能層
10 光半導体素子封止用シート
11 光学部材
1 Display body 2 Substrate 3a to 3f Optical semiconductor element 31 Support body 3, 3' pixels 4 Sealing resin layer 41 Diffusion functional layer 42, 43 Non-diffusion functional layer 44 Colored layer 5 Base material part 6 Release liner 7 Sealing resin Layer 71 Diffusion functional layer 72 Non-diffusion functional layer 10 Optical semiconductor element sealing sheet 11 Optical member

Claims (7)

基板と、前記基板上に配置された複数の光半導体素子と、前記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを備える表示体であり、
前記封止樹脂層は、拡散機能層および非拡散機能層を含み、
前記基板表面から、第一の光半導体素子の重心の正面側の端部TAまでの距離をLA
前記基板表面から、前記第一の光半導体素子の重心と、前記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う第二の光半導体素子の重心との中点を通る前記基板表面に対する垂線における前記拡散機能層の正面側の端部TCまでの距離をLC
前記端部TAを通る前記基板表面に対する垂線から前記端部TCを通る前記基板表面に対する垂線までの距離をLA-C
前記端部TAから、前記端部TCを通る前記基板表面に対する垂線への仰角の角度をθ°としたとき、下記式(1)を満たす、表示体。
C≦LA+LA-Ctanθ (1)
A display body comprising a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements,
The sealing resin layer includes a diffusion functional layer and a non-diffusion functional layer,
The distance from the substrate surface to the front end T A of the center of gravity of the first optical semiconductor element is L A ,
A line perpendicular to the substrate surface passes from the substrate surface to the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of a second optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel. The distance to the front end T C of the diffusion functional layer is L C ,
The distance from the perpendicular to the substrate surface passing through the end T A to the perpendicular to the substrate surface passing through the end T C is L AC ,
A display body that satisfies the following formula (1), where the angle of elevation from the end T A to the perpendicular to the substrate surface passing through the end T C is θ°.
L C ≦L A +L AC tanθ (1)
前記基板上の前記光半導体素子の高さは500μm以下である請求項1に記載の表示体。 The display according to claim 1, wherein the height of the optical semiconductor element on the substrate is 500 μm or less. 前記拡散機能層は粘着性を有する請求項1または2に記載の表示体。 The display body according to claim 1 or 2, wherein the diffusion functional layer has adhesiveness. 自発光型表示装置を備える請求項1~3のいずれか1項に記載の表示体。 The display body according to any one of claims 1 to 3, comprising a self-luminous display device. 画像表示装置である請求項1~4のいずれか1項に記載の表示体。 The display body according to any one of claims 1 to 4, which is an image display device. 基板上に配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートであって、
前記シートは、拡散機能層および非拡散機能層を含む封止用樹脂層を備え、
前記封止用樹脂層により前記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際、
前記基板表面から、第一の光半導体素子の重心の正面側の端部TAまでの距離をLA
前記基板表面から、前記第一の光半導体素子の重心と、前記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う第二の光半導体素子の重心との中点を通る前記基板表面に対する垂線における前記拡散機能層の正面側の端部TCまでの距離をLC
前記端部TAを通る前記基板表面に対する垂線から前記端部TCを通る前記基板表面に対する垂線までの距離をLA-C
前記端部TAから、前記端部TCを通る前記基板表面に対する垂線への仰角の角度をθ°としたとき、下記式(1)を満たし得る、光半導体素子封止用シート。
C≦LA+LA-Ctanθ (1)
A sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate, the sheet comprising:
The sheet includes a sealing resin layer including a diffusion functional layer and a non-diffusion functional layer,
When forming a sealing resin layer by sealing the plurality of optical semiconductor elements with the sealing resin layer,
The distance from the substrate surface to the front end T A of the center of gravity of the first optical semiconductor element is L A ,
A line perpendicular to the substrate surface passes from the substrate surface to the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of a second optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel. The distance to the front end T C of the diffusion functional layer is L C ,
The distance from the perpendicular to the substrate surface passing through the end T A to the perpendicular to the substrate surface passing through the end T C is L AC ,
An optical semiconductor element sealing sheet that can satisfy the following formula (1), where the angle of elevation from the end T A to the perpendicular to the substrate surface passing through the end T C is θ°.
L C ≦L A +L AC tanθ (1)
前記拡散機能層は粘着性を有する請求項6に記載の光半導体素子封止用シート。 The sheet for encapsulating an optical semiconductor element according to claim 6, wherein the diffusion functional layer has adhesiveness.
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