JP2023142477A - Display body and sheet for sealing optical semiconductor element - Google Patents

Display body and sheet for sealing optical semiconductor element Download PDF

Info

Publication number
JP2023142477A
JP2023142477A JP2022049416A JP2022049416A JP2023142477A JP 2023142477 A JP2023142477 A JP 2023142477A JP 2022049416 A JP2022049416 A JP 2022049416A JP 2022049416 A JP2022049416 A JP 2022049416A JP 2023142477 A JP2023142477 A JP 2023142477A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical semiconductor
semiconductor element
layer
colored layer
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022049416A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
武史 仲野
Takeshi Nakano
量子 浅井
Kazuko Asai
俊平 田中
Shunpei Tanaka
大樹 植野
Taiki Ueno
尚輝 長束
Naoki Nagatsuka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2022049416A priority Critical patent/JP2023142477A/en
Priority to KR1020230036311A priority patent/KR20230140499A/en
Priority to CN202310288858.1A priority patent/CN116805644A/en
Priority to TW112111163A priority patent/TW202345382A/en
Publication of JP2023142477A publication Critical patent/JP2023142477A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/075Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
    • H01L25/0753Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023Optical properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29Laminated material
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336Illuminating devices
    • G02F1/133602Direct backlight
    • G02F1/133603Direct backlight with LEDs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/54Encapsulations having a particular shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/56Materials, e.g. epoxy or silicone resin
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements

Abstract

To provide a display body which hardly causes a color shaft and has high brightness.SOLUTION: A display body 1 includes a sealing resin layer 4 for sealing a plurality of optical semiconductor elements 3a to 3f arranged on a substrate 2. The sealing resin layer 4 has a colored layer 42 and a non-colored layer 43 in this order from the side of the optical semiconductor elements. In a cross section of a vertical surface relative to the surface of the substrate 2 passing through a center GC of gravity of the optical semiconductor element 3c at a terminal of a pixel 3 and a center GD of gravity of the optical semiconductor element 3d in a pixel 3', a straight line in a front face direction at an angle 15° from a line 1L1 passing through the center GC of gravity is represented by a line 2L2, a straight line in a front face direction at an angle 90° from the line 1L1 passing through the center GC of gravity is represented by a line 3L3, a superposing distance D1 of the line 2L2 and the colored layer 42 and a superposing distance D2 of the line 3L3 and the colored layer 42 satisfy D1>D2, and a distance D3 to an end TA of the optical semiconductor element 3c and thickness D4 of the colored layer 42 at a middle point C of the center GC of gravity and the center GD of gravity from the substrate satisfy D3>D4.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は表示体および光半導体素子封止用シートに関する。より詳細には、本発明は、例えば自発光型表示装置の光半導体素子を封止した表示体、および光半導体素子の封止に用いるのに適するシートに関する。 The present invention relates to a display body and a sheet for sealing optical semiconductor elements. More specifically, the present invention relates to a display body in which an optical semiconductor element of, for example, a self-luminous display device is sealed, and a sheet suitable for use in sealing the optical semiconductor element.

近年、次世代型の表示装置として、ミニ/マイクロLED表示装置(Mini/Micro Light Emitting Diode Display)に代表される自発光型表示装置が考案されている。ミニ/マイクロLED表示装置は、基本構成として、多数の微小な光半導体素子(LEDチップ)が高密度に配列された基板が表示パネルとして使用され、当該光半導体素子は封止材で封止され、最表層に樹脂フィルムやガラス板などのカバー部材が積層されるものである。 In recent years, self-luminous display devices typified by mini/micro LED display devices (Mini/Micro Light Emitting Diode Displays) have been devised as next-generation display devices. The basic configuration of mini/micro LED display devices is to use a substrate on which many minute optical semiconductor elements (LED chips) are arranged at high density as a display panel, and the optical semiconductor elements are sealed with a sealing material. , a cover member such as a resin film or a glass plate is laminated on the outermost layer.

ミニ/マイクロLED表示装置等の自発光型表示装置を備える表示体では、表示パネルの基板上に金属やITOなどの金属酸化物の配線(金属配線)が配置されている。このような表示装置は、例えば消灯時において上記金属配線等により光が反射し画面の見栄えが悪く意匠性に劣るという問題があった。このため、光半導体素子を封止する封止材として、金属配線による反射を防止するための反射防止層を用いる技術が採用されている。 In a display body including a self-luminous display device such as a mini/micro LED display device, wiring (metal wiring) made of metal or a metal oxide such as ITO is arranged on a substrate of a display panel. Such display devices have a problem in that, for example, when the lights are turned off, light is reflected by the metal wiring and the like, resulting in poor screen appearance and poor design. For this reason, a technique has been adopted that uses an antireflection layer to prevent reflection from metal wiring as a sealing material for sealing an optical semiconductor element.

また、自発光型表示装置を用いたディスプレイでは、光半導体素子の光源に起因して明るさにムラ(輝度ムラ)が生じるという問題があった。輝度ムラが生じると、ディスプレイの正面から見た場合と斜め視野から見た場合とで色味が変化する「カラーシフト」という現象が生じる。 Furthermore, displays using self-luminous display devices have a problem in that uneven brightness (luminance unevenness) occurs due to the light source of the optical semiconductor element. When brightness unevenness occurs, a phenomenon called "color shift" occurs, in which the color tone changes when the display is viewed from the front and when viewed from an oblique viewing angle.

特許文献1には、輝度ムラを抑制することができる粘着シートとして、着色粘着剤層と無色粘着剤層との積層体であり、無色粘着剤層が光半導体素子と接触するように位置している粘着シートが開示されている。上記粘着シートによれば、基板と当該基板に設置された光半導体素子とで形成される凹凸形状に接触させて追従させた場合、無色粘着剤層が凹凸に接触することになり、無色粘着剤層によって凹凸がある程度吸収されるため、着色粘着剤層が圧縮されたり変形したりすることが抑制され、これにより粘着剤層における透過率のムラを抑制し、輝度ムラを抑制することができると記載されている。 Patent Document 1 describes a laminate of a colored adhesive layer and a colorless adhesive layer as an adhesive sheet capable of suppressing brightness unevenness, and the colorless adhesive layer is positioned so as to be in contact with an optical semiconductor element. A pressure-sensitive adhesive sheet is disclosed. According to the above-mentioned adhesive sheet, when the colorless adhesive layer contacts and follows the uneven shape formed by the substrate and the optical semiconductor element installed on the substrate, the colorless adhesive layer comes into contact with the unevenness, and the colorless adhesive layer Since the unevenness is absorbed to some extent by the layer, the colored adhesive layer is prevented from being compressed or deformed, thereby suppressing uneven transmittance in the adhesive layer and suppressing uneven brightness. Are listed.

特開2020-169262号公報JP2020-169262A

しかしながら、着色粘着剤層を備える粘着シートは、光半導体素子を封止した際に金属配線による反射を防止したり、輝度ムラを抑制する効果が期待されるものの、光半導体素子が発する光の透過性が低下し、その結果、表示体の正面輝度が低下するという問題があった。正面輝度が低下すると、輝度を上げるために消費電力が増加する。また、特許文献1の粘着シートは、光半導体素子の側面から発せられる光を充分に着色粘着剤層が吸収することができず、隣り合う光半導体素子が発する光同士の干渉が強く、カラーシフトが発生しやすいという問題があった。このため、カラーシフトが起こりにくく、輝度が高い表示体が求められている。 However, although adhesive sheets equipped with a colored adhesive layer are expected to have the effect of preventing reflections from metal wiring and suppressing uneven brightness when encapsulating optical semiconductor elements, they do not allow the transmission of light emitted by optical semiconductor elements. There has been a problem in that the brightness of the display is reduced, and as a result, the front brightness of the display is reduced. When front brightness decreases, power consumption increases to increase brightness. In addition, in the adhesive sheet of Patent Document 1, the colored adhesive layer cannot sufficiently absorb the light emitted from the side surface of the optical semiconductor element, and there is strong interference between the lights emitted by adjacent optical semiconductor elements, resulting in color shift. There was a problem in that it was easy for this to occur. Therefore, there is a need for a display body that is less likely to cause color shift and has high brightness.

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、その目的は、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い表示体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い表示体を作製可能な光半導体素子封止用シートを提供することにある。 The present invention was devised under these circumstances, and its purpose is to provide a display body that is less likely to cause color shift and has high brightness. Another object of the present invention is to provide a sheet for encapsulating an optical semiconductor element, which makes it possible to produce a display body that is less likely to cause color shift and has high brightness by encapsulating the optical semiconductor element.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、光半導体素子側から着色層および非着色層を含む封止樹脂層により基板上に配置された複数の光半導体素子を封止した状態において、ピクセルの末端の光半導体素子の、隣り合う他のピクセル側の、特定の角度における着色層の距離と、光半導体素子正面側の着色層の距離とが特定の関係性を有し、且つ、光半導体素子の高さとピクセル間の着色層の厚さとが特定の関係性を有する表示体によれば、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高いことを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors sealed a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate with a sealing resin layer including a colored layer and a non-colored layer from the optical semiconductor element side. In the state, the distance of the colored layer at a specific angle on the side of another adjacent pixel of the optical semiconductor element at the end of the pixel and the distance of the colored layer on the front side of the optical semiconductor element have a specific relationship, In addition, it has been found that a display having a specific relationship between the height of the optical semiconductor element and the thickness of the colored layer between pixels is less likely to cause color shift and has high brightness. The present invention was completed based on these findings.

すなわち、本発明は、基板と、上記基板上に配置された複数の光半導体素子と、上記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを備える表示体であり、
上記複数の光半導体素子は複数の光半導体素子を含むピクセルごとに複数配置しており、
上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、着色層および非着色層をこの順に有し、
第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、上記第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、上記第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、
上記基板表面をベースライン、
上記ベースラインに平行であり、上記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1、
上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2、
上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3としたとき、
上記ライン2と上記着色層とが重なる距離D1、および、上記ライン3と上記着色層とが重なる距離D2は、下記式(1)を満たし、
上記基板表面からの上記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離D3、および、上記第一の光半導体素子の重心と上記第二の光半導体素子の重心との中点における上記着色層の厚さD4は、下記式(2)を満たす、表示体を提供する。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
That is, the present invention is a display body comprising a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements,
A plurality of the above-mentioned plurality of optical semiconductor elements are arranged for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements,
The sealing resin layer has a colored layer and a non-colored layer in this order from the optical semiconductor element side,
The center of gravity of the first optical semiconductor element located at the end of the first pixel, and the second light located at the end of the second pixel adjacent to the first pixel on the side of the first optical semiconductor element. In a cross section perpendicular to the substrate surface passing through the center of gravity of the semiconductor element,
Baseline the above board surface,
Line 1 is a straight line that is parallel to the base line and passes through the center of gravity of the first optical semiconductor element.
Line 2 is a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 15° from line 1 in the front direction.
When line 3 is a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 90° from line 1 in the front direction,
The distance D1 where the line 2 and the colored layer overlap, and the distance D2 where the line 3 and the colored layer overlap satisfy the following formula (1),
The distance D3 from the substrate surface to the front end of the first optical semiconductor element, and the coloring at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element. The layer thickness D4 provides a display that satisfies the following formula (2).
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)

上記表示体において、上記光半導体素子を封止する上記封止樹脂層が上記着色層を含むことにより、基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。距離D1は、光半導体素子の正面方向に対して75°斜め方向の着色層の厚さに相当し、距離D2は、光半導体素子の正面方向に位置する着色層の厚さに相当する。距離D1が距離D2より大きいということは、光半導体素子が発する、隣り合うピクセル側の75°斜め方向の光の透過率よりも、正面方向の光の透過率が高いことを意味する。また、距離D3は、基板に設置された光半導体素子の高さに相当し、距離D4はピクセル間における着色層の厚さに相当する。距離D3が厚さD4より大きいということは、ピクセル間の光半導体素子が発する光同士の干渉を抑制しつつも、光半導体素子が発する正面斜め方向の光を適度に透過させることができ、正面輝度が高くなる。このため、D1>D2およびD3>D4を満たす表示体は、光半導体素子が発する光が、正面方向(例えば150°視野)の透過性に優れつつ、側面方向の透過性が低く抑えられており、表示体はカラーシフトが起こりにくく、且つ正面輝度が高い。 In the display, the sealing resin layer that seals the optical semiconductor element includes the colored layer, thereby making it possible to prevent light from being reflected by metal wiring provided on the substrate. The distance D1 corresponds to the thickness of the colored layer diagonally at 75 degrees with respect to the front direction of the optical semiconductor element, and the distance D2 corresponds to the thickness of the colored layer located in the front direction of the optical semiconductor element. The fact that the distance D1 is larger than the distance D2 means that the transmittance of light emitted from the optical semiconductor element in the front direction is higher than the transmittance of light in the 75° diagonal direction on the side of the adjacent pixel. Moreover, the distance D3 corresponds to the height of the optical semiconductor element installed on the substrate, and the distance D4 corresponds to the thickness of the colored layer between pixels. The fact that the distance D3 is larger than the thickness D4 means that while suppressing the interference between the lights emitted by the optical semiconductor elements between pixels, it is possible to appropriately transmit the light emitted from the optical semiconductor elements in the oblique direction to the front. Brightness increases. Therefore, in a display that satisfies D1>D2 and D3>D4, the light emitted by the optical semiconductor element has excellent transmittance in the front direction (for example, 150° field of view), but has low transmittance in the side direction. The display body is less prone to color shift and has high front brightness.

上記封止樹脂層は、上記着色層の光半導体素子側に拡散機能層を備えることが好ましい。このような構成を有することで、光半導体素子が側面方向に発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができる。 The sealing resin layer preferably includes a diffusion functional layer on the optical semiconductor element side of the colored layer. With such a configuration, the light emitted by the optical semiconductor element in the side direction can be diffused in the diffusion function layer, and the front brightness can be further increased.

上記表示体は自発光型表示装置を備えることが好ましい。 Preferably, the display body includes a self-luminous display device.

上記表示体は画像表示装置であることが好ましい。 It is preferable that the display body is an image display device.

また、本発明は、基板上に、複数の光半導体素子を含むピクセルごとに配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートであって、
上記シートは、着色層および非着色層を含む封止用樹脂層を備え、
上記封止用樹脂層により上記着色層側が上記光半導体素子側となるように上記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際、
第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、上記第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、上記第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、
上記基板表面をベースライン、
上記ベースラインに平行であり、上記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1、
上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2、
上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3としたとき、
上記ライン2と上記着色層とが重なる距離D1、および、上記ライン3と上記着色層とが重なる距離D2は、下記式(1)を満たし得、
上記基板表面からの上記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離D3、および、上記第一の光半導体素子の重心と上記第二の光半導体素子の重心との中点における上記着色層の厚さD4は、下記式(2)を満たし得る、光半導体素子封止用シートを提供する。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
The present invention also provides a sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements,
The sheet includes a sealing resin layer including a colored layer and a non-colored layer,
When forming a sealing resin layer by sealing the plurality of optical semiconductor elements with the sealing resin layer so that the colored layer side faces the optical semiconductor element side,
The center of gravity of the first optical semiconductor element located at the end of the first pixel, and the second light located at the end of the second pixel adjacent to the first pixel on the side of the first optical semiconductor element. In a cross section perpendicular to the substrate surface passing through the center of gravity of the semiconductor element,
Baseline the above board surface,
Line 1 is a straight line that is parallel to the base line and passes through the center of gravity of the first optical semiconductor element.
Line 2 is a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 15° from line 1 in the front direction.
When line 3 is a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 90° from line 1 in the front direction,
The distance D1 where the line 2 and the colored layer overlap, and the distance D2 where the line 3 and the colored layer overlap may satisfy the following formula (1),
The distance D3 from the substrate surface to the front end of the first optical semiconductor element, and the coloring at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element. The layer thickness D4 provides an optical semiconductor element sealing sheet that can satisfy the following formula (2).
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)

上記封止用樹脂層は、上記着色層の上記非着色層とは反対側に拡散機能層を備えることが好ましい。 It is preferable that the sealing resin layer includes a diffusion functional layer on the opposite side of the colored layer to the non-colored layer.

本発明の表示体によれば、光半導体素子が発する光によるカラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い。このため、上記表示体は、広い視野から同じ色味で表示体を視認することができる。また、上記表示体は消費電力を高くしなくても明るく見栄えが良い。また、本発明の光半導体素子封止用シートによれば、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い表示体を提供することができる。 According to the display of the present invention, color shift due to light emitted by the optical semiconductor element is unlikely to occur, and the brightness is high. Therefore, the display body can be visually recognized with the same color tone from a wide field of view. Further, the display body is bright and has a good appearance without increasing power consumption. Moreover, according to the sheet for encapsulating an optical semiconductor element of the present invention, by sealing an optical semiconductor element, it is possible to provide a display body that is less likely to cause color shift and has high brightness.

基板上に複数の光半導体素子がピクセル単位で配置された光学部材の部分上面図である。FIG. 2 is a partial top view of an optical member in which a plurality of optical semiconductor elements are arranged in units of pixels on a substrate. 本発明の表示体の一実施形態を示す部分断面図である。1 is a partial sectional view showing an embodiment of a display body of the present invention. 図2に示す表示体の部分拡大図である。3 is a partially enlarged view of the display body shown in FIG. 2. FIG. 図2に示す表示体の光半導体素子が発光する様子を示す部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing how the optical semiconductor element of the display shown in FIG. 2 emits light. 従来の表示体の光半導体素子が発光する様子を示す部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing how an optical semiconductor element of a conventional display emits light. 本発明の表示体の他の一実施形態を示す部分断面図である。It is a partial sectional view showing another embodiment of the display of the present invention. 本発明の表示体のさらに他の一実施形態を示す部分断面図である。FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing still another embodiment of the display body of the present invention. 本発明の光半導体素子封止用シートの一実施形態を示す断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows one Embodiment of the sheet for optical semiconductor element sealing of this invention. 図8に示す光半導体素子封止用シートを用いて光半導体素子を封止する工程を示す部分断面図である。FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing a process of sealing an optical semiconductor element using the optical semiconductor element sealing sheet shown in FIG. 8;

[表示体]
本発明の表示体は、基板と、上記基板上に配置された複数の光半導体素子と、上記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを少なくとも備える。上記表示体は、光半導体素子が発する光により情報を表示するための装置である。
[Display]
The display of the present invention includes at least a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements. The display body is a device for displaying information using light emitted by an optical semiconductor element.

上記光半導体素子としては、例えば、青色発光ダイオード、緑色発光ダイオード、赤色発光ダイオード、紫外線発光ダイオード等の発光ダイオード(LED)が挙げられる。 Examples of the optical semiconductor device include light emitting diodes (LEDs) such as blue light emitting diodes, green light emitting diodes, red light emitting diodes, and ultraviolet light emitting diodes.

上記基板上に、上記複数の光半導体素子は1つのピクセル(画素)内に配置しており、上記ピクセルは複数配置している。すなわち、上記複数の光半導体素子は、複数の光半導体素子を含むピクセルごとに複数配置している。図1に、基板上に複数の光半導体素子がピクセルごとに配置された光学部材の部分上面図を示す。図1に示す光学部材11では、基板2上に、3つの光半導体素子3a~3cが近接するように配置されており、3つの光半導体素子3a~3cで1ピクセル(ピクセル3)を形成している。また、基板2上に、3つの光半導体素子3d~3fが近接するように配置されており、3つの光半導体素子3d~3fで1ピクセル(ピクセル3’)を形成している。そして基板2上には、ピクセル3、ピクセル3’などと複数のピクセルが配置している。 On the substrate, the plurality of optical semiconductor elements are arranged in one pixel, and a plurality of the pixels are arranged. That is, a plurality of the above-mentioned optical semiconductor elements are arranged for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements. FIG. 1 shows a partial top view of an optical member in which a plurality of optical semiconductor elements are arranged for each pixel on a substrate. In the optical member 11 shown in FIG. 1, three optical semiconductor elements 3a to 3c are arranged close to each other on a substrate 2, and one pixel (pixel 3) is formed by the three optical semiconductor elements 3a to 3c. ing. Furthermore, three optical semiconductor elements 3d to 3f are arranged close to each other on the substrate 2, and the three optical semiconductor elements 3d to 3f form one pixel (pixel 3'). A plurality of pixels, such as pixel 3 and pixel 3', are arranged on the substrate 2.

本発明の表示体は、2つの光半導体素子間の、光半導体素子を配置されていない領域の基板表面を凹部、光半導体素子を凸部とした、基板および光半導体素子により形成される凹凸形状を有する。 The display body of the present invention has an uneven shape formed by the substrate and the optical semiconductor element, with the substrate surface in the area where the optical semiconductor element is not arranged between two optical semiconductor elements as a concave part and the optical semiconductor element as a convex part. has.

上記基板上の上記光半導体素子の高さ(基板表面から光半導体素子正面側の端部までの高さ)は500μm以下であることが好ましい。上記高さが500μm以下であると、上記凹凸形状に対する封止樹脂層の追従性により優れる。 The height of the optical semiconductor element on the substrate (height from the substrate surface to the front end of the optical semiconductor element) is preferably 500 μm or less. When the height is 500 μm or less, the sealing resin layer has better followability with respect to the uneven shape.

上記封止樹脂層は、複数の光半導体素子に接触して上記凹凸形状に追従していることが好ましい。また、上記封止樹脂層は、上記複数の光半導体素子を一括して封止していることが好ましい。なお、本明細書において、「光半導体素子を封止する」とは、光半導体素子の少なくとも一部を封止樹脂層内に埋め込むこと、または、上記封止樹脂層により追従し被覆することをいう。 It is preferable that the sealing resin layer contacts the plurality of optical semiconductor elements and follows the uneven shape. Further, it is preferable that the sealing resin layer seals the plurality of optical semiconductor elements at once. In this specification, "sealing the optical semiconductor element" refers to embedding at least a portion of the optical semiconductor element in a sealing resin layer, or following and covering it with the sealing resin layer. say.

上記封止樹脂層は、着色層および非着色層を少なくとも含み、上記光半導体素子側から、上記着色層および上記非着色層をこの順に有する。上記封止樹脂層において、上記着色層および上記非着色層は直接積層していてもよく、他の層を介して積層していてもよい。 The sealing resin layer includes at least a colored layer and a non-colored layer, and has the colored layer and the non-colored layer in this order from the optical semiconductor element side. In the sealing resin layer, the colored layer and the non-colored layer may be directly laminated or may be laminated with another layer interposed therebetween.

上記基板上に設置された、第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、上記基板表面をベースラインとする。上記ベースラインに平行であり、上記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1とする。上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2とする。上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3とする。そして、上記ライン2と上記着色層とが重なる距離をD1、上記ライン3と上記着色層とが重なる距離をD2としたとき、本発明の表示体は、D1およびD2について下記式(1)を満たす。また、上記基板表面からの上記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離をD3、上記第一の光半導体素子の重心と上記第二の光半導体素子の重心との中点における上記着色層の厚さをD4としたとき、本発明の表示体は、D3およびD4について下記式(2)を満たす。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
The center of gravity of the first optical semiconductor element located at the end of the first pixel installed on the substrate, and the end of the first optical semiconductor element side of the second pixel adjacent to the first pixel. In a cross section perpendicular to the substrate surface that passes through the center of gravity of the second optical semiconductor element located therein, the substrate surface is taken as a baseline. Line 1 is a straight line that is parallel to the base line and passes through the center of gravity of the first optical semiconductor element. Line 2 is a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 15 degrees from line 1 in the front direction. Line 3 is a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 90° from line 1 in the front direction. Then, when the distance at which the line 2 and the colored layer overlap is D1, and the distance at which the line 3 and the colored layer overlap is D2, the display of the present invention calculates the following formula (1) for D1 and D2. Fulfill. Further, the distance from the substrate surface to the front end of the first optical semiconductor element is D3, and the distance at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element is When the thickness of the colored layer is D4, the display of the present invention satisfies the following formula (2) for D3 and D4.
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)

上記表示体において、上記光半導体素子を封止する上記封止樹脂層が上記着色層を含むことにより、基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。距離D1は、光半導体素子の正面方向に対して75°斜め方向の着色層の厚さに相当し、距離D2は、光半導体素子の正面方向に位置する着色層の厚さに相当する。距離D1が距離D2より大きいということは、光半導体素子が発する、隣り合うピクセル側の75°斜め方向の光の透過率よりも、正面方向の光の透過率が高いことを意味する。また、距離D3は、基板に設置された光半導体素子の高さに相当し、距離D4はピクセル間における着色層の厚さに相当する。距離D3が距離D4より大きいということは、ピクセル間の光半導体素子が発する光同士の干渉を抑制しつつも、光半導体素子が発する正面斜め方向の光を適度に透過させることができ、正面輝度が高くなる。このため、D1>D2およびD3>D4を満たす表示体は、光半導体素子が発する光が、正面方向(例えば150°視野)の透過性に優れつつ、側面方向の透過性が低く抑えられており、表示体はカラーシフトが起こりにくく、且つ正面輝度が高い。 In the display, the sealing resin layer that seals the optical semiconductor element includes the colored layer, thereby making it possible to prevent light from being reflected by metal wiring provided on the substrate. The distance D1 corresponds to the thickness of the colored layer diagonally at 75 degrees with respect to the front direction of the optical semiconductor element, and the distance D2 corresponds to the thickness of the colored layer located in the front direction of the optical semiconductor element. The fact that the distance D1 is larger than the distance D2 means that the transmittance of light emitted from the optical semiconductor element in the front direction is higher than the transmittance of light in the 75° diagonal direction on the side of the adjacent pixel. Moreover, the distance D3 corresponds to the height of the optical semiconductor element installed on the substrate, and the distance D4 corresponds to the thickness of the colored layer between pixels. The fact that the distance D3 is larger than the distance D4 means that while suppressing the interference between the lights emitted by the optical semiconductor elements between pixels, it is possible to appropriately transmit the light emitted from the optical semiconductor elements in the front oblique direction, and the front brightness becomes higher. Therefore, in a display that satisfies D1>D2 and D3>D4, the light emitted by the optical semiconductor element has excellent transmittance in the front direction (for example, 150° field of view), but has low transmittance in the side direction. The display body is less prone to color shift and has high front brightness.

なお、本明細書において「正面」とは、表示体を視認する側をいい、例えば後述の図2では上方向である。 Note that in this specification, the "front" refers to the side from which the display body is viewed, and for example, in FIG. 2, which will be described later, is the upward direction.

本発明の表示体について、その一実施形態である図2に示す表示体を用いて説明する。図2に示す表示体1は、基板2と、基板2上に配置された複数の光半導体素子3b,3c,3d,および3eと、これら光半導体素子3b~3eを一括して封止する封止樹脂層4と、封止樹脂層4の光半導体素子3b~3e側とは反対側の表面に貼り合わせられた基材部5とを備える。図2は、光半導体素子3b~3eの重心を通る、基板2に対する垂直面断面の拡大図である。 The display of the present invention will be explained using the display shown in FIG. 2, which is one embodiment thereof. The display body 1 shown in FIG. 2 includes a substrate 2, a plurality of optical semiconductor elements 3b, 3c, 3d, and 3e arranged on the substrate 2, and a seal that collectively seals these optical semiconductor elements 3b to 3e. It includes a sealing resin layer 4 and a base member 5 bonded to the surface of the sealing resin layer 4 on the side opposite to the optical semiconductor elements 3b to 3e side. FIG. 2 is an enlarged view of a cross section perpendicular to the substrate 2 passing through the centers of gravity of the optical semiconductor elements 3b to 3e.

光半導体素子3b~3eは、それぞれ、支持体31により一つの基板2上に固定されている。表示体1は、光半導体素子3b~3e間の、光半導体素子を配置されていない領域の基板2表面を凹部N、光半導体素子3b~3eを凸部Pとした、基板2および光半導体素子3b~3eにより形成される凹凸形状を有する。 The optical semiconductor elements 3b to 3e are each fixed on one substrate 2 by a support 31. The display body 1 includes a substrate 2 and an optical semiconductor element, with a concave portion N formed on the surface of the substrate 2 in an area where no optical semiconductor element is arranged between the optical semiconductor elements 3b to 3e, and a convex portion P formed on the optical semiconductor elements 3b to 3e. It has an uneven shape formed by 3b to 3e.

図2における光半導体素子3bおよび3cは図1に示す光半導体素子3bおよび3cであり、光半導体素子3a~3cは同一ピクセル3内に位置する。また、図2における光半導体素子3dおよび3eは図1に示す光半導体素子3dおよび3eであり、光半導体素子3d~3fは同一ピクセル3’内に位置する。ピクセル3およびピクセル3’は隣り合うピクセルであり、ピクセル3が第一のピクセルである場合、ピクセル3’は第二のピクセルである。そして、光半導体素子3cはピクセル3内の末端に位置する第一の光半導体素子であり、光半導体素子3dはピクセル3’内の末端に位置し、且つ光半導体素子3cに隣り合う第二の光半導体素子である。 The optical semiconductor elements 3b and 3c in FIG. 2 are the optical semiconductor elements 3b and 3c shown in FIG. 1, and the optical semiconductor elements 3a to 3c are located within the same pixel 3. Further, the optical semiconductor elements 3d and 3e in FIG. 2 are the optical semiconductor elements 3d and 3e shown in FIG. 1, and the optical semiconductor elements 3d to 3f are located within the same pixel 3'. Pixel 3 and pixel 3' are adjacent pixels; if pixel 3 is the first pixel, then pixel 3' is the second pixel. The optical semiconductor element 3c is a first optical semiconductor element located at the end of the pixel 3, and the optical semiconductor element 3d is a second optical semiconductor element located at the end of the pixel 3' and adjacent to the optical semiconductor element 3c. It is an optical semiconductor device.

図2に示すように、封止樹脂層4は、複数の光半導体素子3b~3eに接触して上記凹凸形状に追従し、複数の光半導体素子3b~3eを一括して封止している。 As shown in FIG. 2, the sealing resin layer 4 contacts the plurality of optical semiconductor elements 3b to 3e, follows the above-mentioned uneven shape, and seals the plurality of optical semiconductor elements 3b to 3e at once. .

封止樹脂層4は、非着色層41、着色層42、および非着色層43がこの順に、直接積層して構成されており、非着色層41側が光半導体素子3b~3e側となるように光半導体素子3b~3eを封止している。光半導体素子3b~3eに接触する非着色層41は上記凹凸形状に追従しており、表示体1において非着色層41および着色層42も凹凸形状を有する。一方、非着色層43は一方の面が着色層42の凹凸形状に追従することで着色層42の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。なお、非着色層41および非着色層43は、それぞれ独立して、後述の拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 The sealing resin layer 4 is constructed by directly laminating a non-colored layer 41, a colored layer 42, and a non-colored layer 43 in this order, with the non-colored layer 41 side facing the optical semiconductor elements 3b to 3e. Optical semiconductor elements 3b to 3e are sealed. The non-colored layer 41 in contact with the optical semiconductor elements 3b to 3e follows the above-described uneven shape, and the non-colored layer 41 and the colored layer 42 in the display body 1 also have an uneven shape. On the other hand, one surface of the non-colored layer 43 has an uneven shape that is opposite to the uneven shape of the colored layer 42 by following the uneven shape of the colored layer 42, and the other surface is flat. . Note that the non-colored layer 41 and the non-colored layer 43 may each independently be a diffusion functional layer, which will be described later, or a non-diffusion functional layer.

図3に、図2に示す表示体1の光半導体素子3cおよび3d間付近の拡大図を示す。図3に示す表示体1において、基板2表面をベースラインBとし、ベースラインBに平行であり、第一の光半導体素子3cの重心GCを通る直線はライン1L1である。第一の光半導体素子3cの重心GCを通り、ライン1L1から角度15°正面方向の直線はライン2L2である。第一の光半導体素子3cの重心GCを通り、ライン1L1から角度90°正面方向の直線はライン3L3である。ライン3L3は、重心GCを通る、ベースラインBに対する垂線である。すなわち、図3に示すθ1は15°であり、θ2は90°である。ライン2L2と着色層42とが重なる距離はD1であり、ライン3L3と着色層42とが重なる距離はD2である。また、光半導体素子3cの正面側端部はTAである。TAは光半導体素子3cの最も正面側に位置する部分である。光半導体素子3cの重心GCと光半導体素子3dの重心GDの中点はCである。基板2表面からTAまでの距離はD3であり、中点Cにおける着色層42の厚さはD4である。そして、表示体1において、D1およびD2はD1>D2を満たし、D3およびD4は、D3>D4を満たす。 FIG. 3 shows an enlarged view of the vicinity between the optical semiconductor elements 3c and 3d of the display body 1 shown in FIG. 2. In the display 1 shown in FIG. 3, the surface of the substrate 2 is a baseline B, and a straight line that is parallel to the baseline B and passes through the center of gravity G C of the first optical semiconductor element 3c is a line 1L1. A straight line passing through the center of gravity GC of the first optical semiconductor element 3c and extending at an angle of 15° from the line 1L1 in the front direction is a line 2L2. A straight line passing through the center of gravity GC of the first optical semiconductor element 3c and extending at an angle of 90° from the line 1L1 in the front direction is a line 3L3. The line 3L3 is a perpendicular line to the baseline B passing through the center of gravity GC . That is, θ 1 shown in FIG. 3 is 15°, and θ 2 is 90°. The distance at which the line 2L2 and the colored layer 42 overlap is D1, and the distance at which the line 3L3 and the colored layer 42 overlap is D2. Further, the front end of the optical semiconductor element 3c is T A . T A is the portion of the optical semiconductor element 3c that is located closest to the front side. The midpoint between the center of gravity G C of the optical semiconductor element 3c and the center of gravity G D of the optical semiconductor element 3d is C. The distance from the surface of the substrate 2 to T A is D3, and the thickness of the colored layer 42 at the midpoint C is D4. In the display body 1, D1 and D2 satisfy D1>D2, and D3 and D4 satisfy D3>D4.

表示体1において、封止樹脂層4が着色層42を含むことにより、基板2上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。そして、D1およびD2は、D1>D2を満たすことにより、光半導体素子3cが発する、隣り合うピクセル側の75°斜め方向の光の透過率よりも、正面方向の光の透過率が高い。また、D3およびD4は、D3>D4を満たすことにより、光半導体素子3cおよび3dが発する光同士の干渉を抑制しつつも、光半導体素子3cが発する正面斜め方向の光を適度に透過させることができ、正面輝度が高くなる。このため、光半導体素子が発する光は、正面方向の透過性に優れつつ、側面方向の透過性が低く抑えられており、表示体はカラーシフトが起こりにくく、且つ正面輝度が高い。 In the display body 1, since the sealing resin layer 4 includes the colored layer 42, reflection of light from metal wiring provided on the substrate 2 can be prevented. Since D1 and D2 satisfy D1>D2, the transmittance of light in the front direction is higher than the transmittance of light in the 75° diagonal direction on the adjacent pixel side, which is emitted by the optical semiconductor element 3c. Furthermore, by satisfying D3>D4, D3 and D4 suppress interference between the lights emitted by the optical semiconductor elements 3c and 3d, while appropriately transmitting the light emitted from the optical semiconductor element 3c in the front oblique direction. This increases front brightness. For this reason, the light emitted by the optical semiconductor element has excellent transmittance in the front direction and low transmittance in the side direction, and the display body is less likely to undergo color shift and has high front brightness.

なお、図3では、ピクセルの端部にある光半導体素子3cが上記式(1)および(2)を満たす場合について説明したが、光半導体素子3cとともにまたは代えて、隣り合うピクセルの端部に位置する光半導体素子3dが上記式(1)および(2)を満たしてもよい。 In addition, in FIG. 3, the case where the optical semiconductor element 3c at the edge of the pixel satisfies the above formulas (1) and (2) has been explained, but together with or instead of the optical semiconductor element 3c, the optical semiconductor element 3c at the edge of the adjacent pixel The located optical semiconductor element 3d may satisfy the above formulas (1) and (2).

具体的に説明すると、図4に示すように、光半導体素子3cが発する正面への光FAおよび光半導体素子3dが発する正面への光FBの透過性に優れ、正面輝度が高くなる。一方、光半導体素子3cが発する右方向への光RAおよび左方向への光LA、ならびに光半導体素子3dが発する右方向への光RBおよび左方向への光LBの透過は着色層42に妨げられることで、隣り合うピクセル内の光半導体素子3cおよび3dがそれぞれ発する光を互いに干渉しにくく、カラーシフトが抑制される。 Specifically, as shown in FIG. 4, the transmittance of the front light F A emitted by the optical semiconductor element 3c and the front light F B emitted by the optical semiconductor element 3d is excellent, and the front brightness is high. On the other hand, the transmission of rightward light R A and leftward light L A emitted by the optical semiconductor element 3c, as well as rightward light R B and leftward light L B emitted by the optical semiconductor element 3d, is colored. Being obstructed by the layer 42 makes it difficult for the light emitted by the optical semiconductor elements 3c and 3d in adjacent pixels to interfere with each other, and color shift is suppressed.

一方、図5に従来の表示体の一実施形態を示す。図5に示す表示体では、光半導体素子3cおよび3d間の着色層42の厚さは光半導体素子3cの高さに比べて高く、D3<D4となる。光半導体素子3cが発する右方向への光RAおよび左方向への光LA、ならびに光半導体素子3dが発する右方向への光RBおよび左方向への光LBの透過は着色層42に妨げられにくく、隣り合うピクセル内の光半導体素子3cおよび3dがそれぞれ発する光を互いに干渉するため、カラーシフトが発生しやすい。また、光半導体素子3cおよび3dが正面斜め方向に発する光は着色層42を透過しにくく、正面輝度が不充分となりやすい。なお、図5に示す態様において、着色層42の厚さを厚くすると光半導体素子3cおよび3dが発する光FAおよびFBの光量は低下する。また、着色層42の厚さを薄くすると正面斜め方向の光の透過率が高くなり、カラーシフトがより発生しやすくなる。これに対し、本発明の表示体であれば、正面輝度の高さ、カラーシフトの防止、および反射防止能の全てを優れたものとすることができる。 On the other hand, FIG. 5 shows an embodiment of a conventional display body. In the display shown in FIG. 5, the thickness of the colored layer 42 between the optical semiconductor elements 3c and 3d is higher than the height of the optical semiconductor element 3c, and D3<D4. The light R A to the right and the light LA to the left emitted by the optical semiconductor element 3c, and the light R B to the right and the light L B to the left emitted by the optical semiconductor element 3d are transmitted through the colored layer 42. Since the light emitted by the optical semiconductor elements 3c and 3d in adjacent pixels interfere with each other, a color shift is likely to occur. In addition, the light emitted by the optical semiconductor elements 3c and 3d in an oblique front direction is difficult to pass through the colored layer 42, and the front brightness is likely to be insufficient. Note that in the embodiment shown in FIG. 5, when the thickness of the colored layer 42 is increased, the amount of light F A and F B emitted by the optical semiconductor elements 3c and 3d decreases. Furthermore, when the thickness of the colored layer 42 is made thinner, the transmittance of light in the diagonal front direction increases, making color shift more likely to occur. In contrast, the display body of the present invention can provide excellent front brightness, prevention of color shift, and antireflection ability.

このように、本発明の表示体は、D1およびD2がD1>D2を満たし、D3およびD4がD3>D4を満たすことにより、光半導体素子が発する光は、正面方向の透過性に優れつつ、側面方向の透過性が低く抑えられており、カラーシフトが起こりにくく、且つ正面輝度が高い。 As described above, in the display body of the present invention, D1 and D2 satisfy D1>D2, and D3 and D4 satisfy D3>D4, so that the light emitted by the optical semiconductor element has excellent transparency in the front direction, and Transmittance in the side direction is kept low, color shift is less likely to occur, and front brightness is high.

光半導体素子の重心は光半導体素子の立体形状によって決定される。光半導体素子の立体形状は特に限定されず、立方体や直方体等の角柱、角錐台、円柱、円錐台、これらの上部をドーム型とした形状などが挙げられる。光半導体素子の立体形状が正角柱状である場合の重心は光半導体素子の中心である。 The center of gravity of the optical semiconductor element is determined by the three-dimensional shape of the optical semiconductor element. The three-dimensional shape of the optical semiconductor element is not particularly limited, and examples include prismatic shapes such as cubes and rectangular parallelepipeds, truncated pyramids, cylinders, truncated cones, and shapes with dome-shaped upper portions. When the three-dimensional shape of the optical semiconductor element is a regular prism, the center of gravity is the center of the optical semiconductor element.

なお、表示体1において、基材部5は備えていなくてもよい。また、1ピクセル内の光半導体素子の数は3個でなくてもよく特に限定されない。 Note that the display body 1 does not need to include the base material portion 5. Furthermore, the number of optical semiconductor elements within one pixel does not have to be three and is not particularly limited.

本発明の表示体の他の一実施形態を図6に示す。図6に示す表示体1は、非着色層41を備えないこと以外は図2に示す表示体1と同様である。具体的には、図6に示す表示体1において、封止樹脂層4は、光半導体素子3b~3e側から、着色層42および非着色層43がこの順に、直接積層して構成されており、着色層42側が光半導体素子3b~3e側となるように光半導体素子3b~3eを封止している。光半導体素子3b~3eに接触する着色層42は上記凹凸形状に追従しており、非着色層43は一方の面が着色層42の凹凸形状に追従することで着色層42の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。図6に示す表示体1は上記式(1)および(2)を満たす。なお、非着色層43は、後述の拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。このように、本発明の表示体は、着色層よりも光半導体素子側に非着色層を備えなくてもよい。 Another embodiment of the display of the present invention is shown in FIG. The display 1 shown in FIG. 6 is the same as the display 1 shown in FIG. 2 except that it does not include the non-colored layer 41. Specifically, in the display body 1 shown in FIG. 6, the sealing resin layer 4 is constructed by directly laminating a colored layer 42 and a non-colored layer 43 in this order from the optical semiconductor elements 3b to 3e side. The optical semiconductor elements 3b to 3e are sealed such that the colored layer 42 side faces the optical semiconductor elements 3b to 3e. The colored layer 42 in contact with the optical semiconductor elements 3b to 3e follows the uneven shape described above, and one surface of the non-colored layer 43 follows the uneven shape of the colored layer 42, so that the uneven shape of the colored layer 42 is different from that of the colored layer 42. It has an opposite uneven shape, and the other surface is flat. The display body 1 shown in FIG. 6 satisfies the above formulas (1) and (2). Note that the non-colored layer 43 may be a diffusion functional layer, which will be described later, or a non-diffusion functional layer. In this manner, the display of the present invention does not need to include a non-colored layer closer to the optical semiconductor element than the colored layer.

本発明の表示体のさらに他の一実施形態を図7に示す。図7に示す表示体1は、着色層42の正面側界面がフラットとなっていること以外は図2に示す表示体1と同様である。具体的には、図7に示す表示体1において、封止樹脂層4は、光半導体素子3b~3e側から、非着色層41、着色層42、および非着色層43がこの順に、直接積層して構成されており、非着色層41側が光半導体素子3b~3e側となるように光半導体素子3b~3eを封止している。光半導体素子3b~3eに接触する非着色層41は上記凹凸形状に追従しており、表示体1において着色層42も凹凸形状を有する。一方、着色層42は一方の面が非着色層41の凹凸形状に追従することで非着色層41の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。非着色層43は両面がフラットとなっている。図7に示す表示体1は上記式(1)および(2)を満たす。なお、非着色層41および非着色層43は、それぞれ独立して、後述の拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 Still another embodiment of the display body of the present invention is shown in FIG. The display 1 shown in FIG. 7 is similar to the display 1 shown in FIG. 2 except that the front side interface of the colored layer 42 is flat. Specifically, in the display body 1 shown in FIG. 7, the sealing resin layer 4 is formed by directly laminating a non-colored layer 41, a colored layer 42, and a non-colored layer 43 in this order from the optical semiconductor elements 3b to 3e side. The optical semiconductor elements 3b to 3e are sealed such that the non-colored layer 41 side faces the optical semiconductor elements 3b to 3e. The non-colored layer 41 in contact with the optical semiconductor elements 3b to 3e follows the above-mentioned uneven shape, and the colored layer 42 in the display body 1 also has an uneven shape. On the other hand, one surface of the colored layer 42 has an uneven shape that is opposite to the uneven shape of the non-colored layer 41 by following the uneven shape of the non-colored layer 41, and the other surface is flat. There is. Both sides of the non-colored layer 43 are flat. The display body 1 shown in FIG. 7 satisfies the above formulas (1) and (2). Note that the non-colored layer 41 and the non-colored layer 43 may each independently be a diffusion functional layer, which will be described later, or a non-diffusion functional layer.

上記垂直面断面において、D3は、上記第一の光半導体素子および上記第二の光半導体素子の中点を通る基板表面に対する垂線において、基板表面から上記着色層の基板側界面までの距離よりも長いことが好ましい。この場合、上記着色層の基板側界面が光半導体素子の側面の基板に近い位置となりやすく、光半導体素子が発する側面方向の光は上記着色層により吸収され、透過性が低く抑えられ、カラーシフトがより起こりにくい。図2,6,および7に示す表示体1では、上記第一の光半導体素子および上記第二の光半導体素子の中点を通る基板表面に対する垂線において、基板表面から上記着色層の基板側界面までの距離よりも長い。 In the vertical cross section, D3 is longer than the distance from the substrate surface to the substrate-side interface of the colored layer in a perpendicular line to the substrate surface passing through the midpoints of the first optical semiconductor element and the second optical semiconductor element. Preferably long. In this case, the substrate-side interface of the colored layer is likely to be located close to the substrate on the side of the optical semiconductor element, and the light emitted from the optical semiconductor element in the side direction is absorbed by the colored layer, suppressing the transmittance and causing color shift. is less likely to occur. In the display body 1 shown in FIGS. 2, 6, and 7, a line perpendicular to the substrate surface passing through the midpoints of the first optical semiconductor element and the second optical semiconductor element extends from the substrate surface to the substrate side interface of the colored layer. longer than the distance.

上記垂直面断面において、D3は、上記第一の光半導体素子および上記第二の光半導体素子の中点を通る基板表面に対する垂線において、基板表面から上記着色層の正面側界面までの距離よりも長いことが好ましい。この場合、光半導体素子が発する側面方向の光は上記着色層により吸収され、透過性が低く抑えられ、カラーシフトがより起こりにくい。図2および6に示す表示体1では、上記第一の光半導体素子および上記第二の光半導体素子の中点を通る基板表面に対する垂線において、基板表面から上記着色層の正面側界面までの距離よりも長い。 In the vertical cross section, D3 is longer than the distance from the substrate surface to the front interface of the colored layer in a perpendicular to the substrate surface passing through the midpoints of the first optical semiconductor element and the second optical semiconductor element. Preferably long. In this case, the light emitted from the optical semiconductor element in the side direction is absorbed by the colored layer, the transmittance is kept low, and color shift is less likely to occur. In the display body 1 shown in FIGS. 2 and 6, the distance from the substrate surface to the front interface of the colored layer in a perpendicular line to the substrate surface passing through the midpoint of the first optical semiconductor element and the second optical semiconductor element. longer than

図2~7に示す表示体の断面図は、例えば、表示体を冷却した状態で、複数の光半導体素子の重心を通るように、基板面に対して垂直に切断することで断面を露出させて得ることができる。表示体を冷却することで、切断時に発生する熱により封止樹脂層に融解や変形が起こるのを抑制できる。切断は、レーザービーム照射やイオンビーム照射などの公知乃至慣用の切断装置を用いて行うことができる。また、切断後、露出した断面をミリングして、より変形度が低い断面を露出させてもよい。冷却時の温度は封止樹脂層の変形度合いや表示体の割れを抑制する範囲内で適宜設定される。 The cross-sectional views of the display body shown in FIGS. 2 to 7 are obtained by, for example, cutting the display body in a cooled state perpendicularly to the substrate surface so as to pass through the center of gravity of a plurality of optical semiconductor elements to expose the cross section. You can get it. By cooling the display, it is possible to prevent the sealing resin layer from melting or deforming due to the heat generated during cutting. The cutting can be performed using a known or commonly used cutting device such as laser beam irradiation or ion beam irradiation. Further, after cutting, the exposed cross section may be milled to expose a cross section with a lower degree of deformation. The temperature during cooling is appropriately set within a range that suppresses the degree of deformation of the sealing resin layer and cracking of the display body.

<封止樹脂層>
上記封止樹脂層は上記着色層および上記非着色層を少なくとも備える。上記封止樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ、上記封止樹脂層内において単層であってもよいし、同一または異なる組成を有する複層であってもよい。着色層や非着色層が複層含まれる場合、上記複層は接触して積層していてもよいし、隔離して積層(例えば2つの着色層が1つの非着色層を介して積層)していてもよい。上記封止樹脂層が着色層および非着色層の1以上を複層備える場合、少なくとも1つの着色層および非着色層の組み合わせについて、光半導体素子側から着色層および非着色層をこの順に有し、且つこれらの着色層および非着色層について、D1>D2およびD3>D4を満たせばよい。また、上記封止樹脂層を構成する層の総数は、上記着色層および上記非着色層を含む2以上であり、3以上であってもよい。上記層の総数は、表示体の厚さを薄くする観点から、例えば10以下であり、5以下または4以下であってもよい。
<Sealing resin layer>
The sealing resin layer includes at least the colored layer and the non-colored layer. Each layer (the colored layer and the non-colored layer) constituting the sealing resin layer may be a single layer in the sealing resin layer, or may be a multilayer having the same or different compositions. Good too. When multiple colored layers and non-colored layers are included, the multiple layers may be laminated in contact with each other, or they may be laminated separately (for example, two colored layers are laminated with one non-colored layer interposed therebetween). You can leave it there. When the sealing resin layer includes one or more colored layers and non-colored layers, the combination of at least one colored layer and non-colored layer includes the colored layer and the non-colored layer in this order from the optical semiconductor element side. , and for these colored layers and non-colored layers, D1>D2 and D3>D4 may be satisfied. Further, the total number of layers constituting the sealing resin layer is two or more including the colored layer and the non-colored layer, and may be three or more. The total number of the layers is, for example, 10 or less, and may be 5 or less, or 4 or less, from the viewpoint of reducing the thickness of the display body.

上記封止樹脂層は拡散機能層を含むことが好ましい。このような構成を有することで、光半導体素子が発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができる。上記拡散機能層は本明細書における非着色層に該当する層であることが好ましい。図2において、非着色層41は拡散機能層であることが好ましい。図2,6,および7において非着色層43は、拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 Preferably, the sealing resin layer includes a diffusion functional layer. With such a configuration, the light emitted by the optical semiconductor element can be diffused in the diffusion function layer, and the front brightness can be further increased. It is preferable that the above-mentioned diffusion functional layer corresponds to a non-colored layer in this specification. In FIG. 2, the non-colored layer 41 is preferably a diffusion functional layer. In FIGS. 2, 6, and 7, the non-colored layer 43 may be a diffusion functional layer or a non-diffusion functional layer.

上記封止樹脂層が上記拡散機能層を備える場合、上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、上記拡散機能層、上記着色層、および上記非着色層をこの順に備えることが好ましい。上記非着色層は、拡散機能層および非拡散機能層のいずれであってもよい。このような構成を有することで、正面輝度をより高くしつつ、消灯時および発光時の両方において表示体の見栄えをより向上させることができる。図2および7において、封止樹脂層4は、光半導体素子側から、拡散機能層である非着色層41、着色層42、および非着色層43をこの順に備える。非着色層43は、拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 When the sealing resin layer includes the diffusion functional layer, the sealing resin layer preferably includes the diffusion functional layer, the colored layer, and the non-colored layer in this order from the optical semiconductor element side. The non-colored layer may be either a diffusion functional layer or a non-diffusion functional layer. By having such a configuration, it is possible to further improve the appearance of the display body both when the lights are off and when the lights are on, while increasing the front brightness. 2 and 7, the sealing resin layer 4 includes a non-colored layer 41, a colored layer 42, and a non-colored layer 43, which are diffusion functional layers, in this order from the optical semiconductor element side. The non-colored layer 43 may be a diffusion functional layer or a non-diffusion functional layer.

本発明の表示体において、上記着色層は、少なくとも一方の面(特に、光半導体素子側の面)が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有することが好ましい。この場合、本発明の表示体は上記式(1)および(2)を満たしやすくなる。また、上記着色層は、正面側の面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有していてもよい。図2および図6に示す表示体1において、着色層42は正面側および光半導体素子側の両面が凹凸形状を有する。図7に示す表示体1において、着色層42は正面側の面が凹凸形状を有する。 In the display of the present invention, it is preferable that at least one surface (particularly the surface facing the optical semiconductor element) of the colored layer has an uneven shape that follows the above-mentioned uneven shape. In this case, the display of the present invention easily satisfies the above formulas (1) and (2). Further, the colored layer may have a front surface having an uneven shape that follows the above uneven shape. In the display body 1 shown in FIGS. 2 and 6, the colored layer 42 has an uneven shape on both sides of the front side and the optical semiconductor element side. In the display 1 shown in FIG. 7, the colored layer 42 has an uneven shape on the front side.

本発明の表示体において、上記着色層よりも正面側にある上記非着色層は、正面側が平面(フラット)となっていることが好ましい。この場合、上記封止樹脂層表面で外光の乱反射を起こりにくくし、消灯時および発光時の両方において表示体の見栄えが向上する。図2,6,および7に示す表示体1において、非着色層43の正面側がフラットとなっている。 In the display of the present invention, it is preferable that the non-colored layer located on the front side of the colored layer has a flat surface on the front side. In this case, diffuse reflection of external light is less likely to occur on the surface of the sealing resin layer, and the appearance of the display body is improved both when the lights are off and when the lights are on. In the display body 1 shown in FIGS. 2, 6, and 7, the front side of the non-colored layer 43 is flat.

本発明の表示体において、上記着色層よりも上記光半導体素子側に上記非着色層を備えていてもよい。すなわち、上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、上記非着色層および上記着色層をこの順に備えていてもよい。また、上記着色層よりも上記光半導体素子側に上記非着色層を備える場合、上記非着色層は、両面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有することが好ましい。このような構成を有すると上記着色層が凹凸形状を有することとなりやすい。図2および図7に示す表示体1において、封止樹脂層4は、光半導体素子3b~3e側から、非着色層41および着色層42をこの順に備え、非着色層41は両面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有する。 In the display of the present invention, the non-colored layer may be provided closer to the optical semiconductor element than the colored layer. That is, the sealing resin layer may include the non-colored layer and the colored layer in this order from the optical semiconductor element side. Further, when the non-colored layer is provided closer to the optical semiconductor element than the colored layer, it is preferable that both surfaces of the non-colored layer have an uneven shape that follows the uneven shape. With such a configuration, the colored layer tends to have an uneven shape. In the display body 1 shown in FIGS. 2 and 7, the sealing resin layer 4 includes a non-colored layer 41 and a colored layer 42 in this order from the optical semiconductor elements 3b to 3e side, and the non-colored layer 41 has the above-mentioned irregularities on both sides. It has an uneven shape that follows the shape.

上記着色層よりも上記光半導体素子側に備える上記非着色層は、拡散機能層であることが好ましい。このような構成を有することで、光半導体素子が側面方向に発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができる。 The non-colored layer provided closer to the optical semiconductor element than the colored layer is preferably a diffusion functional layer. With such a configuration, the light emitted by the optical semiconductor element in the side direction can be diffused in the diffusion function layer, and the front brightness can be further increased.

上記封止樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ独立して、粘着性を有していてもよく、有していなくてもよい。中でも、粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止樹脂層は光半導体素子を容易に封止することができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。特に、少なくとも光半導体素子に接触する層は粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、封止樹脂層による光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れる。その結果、光半導体素子による段差が高い場合であっても意匠性に優れる。なお、光半導体素子に接触する層以外の層は粘着性を有しなくてもよい。この場合、タイリング状態において隣接する封止樹脂層同士の密着性が低く、隣接した小サイズの積層体(基板上に配置された光半導体素子を封止樹脂層が封止した積層体)同士を引き離す際、封止樹脂層の欠損や隣接する封止樹脂層の付着が起こりにくい。 Each layer (the colored layer and the non-colored layer) constituting the sealing resin layer may or may not have adhesiveness independently. Among these, it is preferable to have adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer can easily seal the optical semiconductor element, and also has excellent adhesion between each layer, resulting in more excellent sealing properties of the optical semiconductor element. In particular, it is preferable that at least the layer that contacts the optical semiconductor element has adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer has excellent followability and embeddability of the optical semiconductor element. As a result, the design is excellent even when the height difference due to the optical semiconductor element is high. Note that the layers other than the layer that contacts the optical semiconductor element do not need to have adhesiveness. In this case, adhesion between adjacent encapsulating resin layers is low in the tiling state, and adjacent small-sized laminates (laminates in which optical semiconductor elements placed on a substrate are encapsulated by encapsulating resin layers) When separating them, damage to the sealing resin layer and adhesion of adjacent sealing resin layers is less likely to occur.

(着色層)
本発明の表示体における着色層は、表示体において基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することを目的とする層である。上記着色層は着色剤を少なくとも含む。上記着色層は、樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。上記着色剤は、上記着色層に溶解または分散可能なものであれば、染料でも顔料でもよい。少量の添加でも低いヘイズが達成でき、顔料のように沈降性がなく均一に分布させやすいことから、染料が好ましい。また、少量の添加でも色発現性が高いことから、顔料も好ましい。着色剤として顔料を使用する場合は、導電性が低いか、ないものが好ましい。上記着色剤は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
(colored layer)
The colored layer in the display of the present invention is a layer whose purpose is to prevent reflection of light from metal wiring provided on a substrate in the display. The colored layer contains at least a colorant. The colored layer is preferably a resin layer made of resin. The coloring agent may be a dye or a pigment as long as it can be dissolved or dispersed in the colored layer. Dyes are preferred because they can achieve low haze even when added in small amounts, and are easy to distribute uniformly without settling unlike pigments. Pigments are also preferred because they provide high color development even when added in small amounts. If a pigment is used as a coloring agent, it is preferably one with low or no electrical conductivity. The above coloring agents may be used alone or in combination of two or more.

上記着色剤としては、黒系着色剤が好ましい。上記黒系着色剤としては、公知乃至慣用の黒色を呈するための着色剤(顔料、染料等)を用いることができ、例えば、カーボンブラック(ファーネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、ランプブラック、松煙等)、グラファイト、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラック、ペリレンブラック、チタンブラック、シアニンブラック、活性炭、フェライト(非磁性フェライト、磁性フェライト等)、マグネタイト、酸化クロム、酸化鉄、二硫化モリブデン、クロム錯体、アントラキノン系着色剤、窒化ジルコニウムなどが挙げられる。また、黒色以外の色を呈する着色剤を組み合わせて配合して黒系着色剤として機能する着色剤を用いてもよい。 As the colorant, a black colorant is preferable. As the black colorant, known or commonly used colorants (pigments, dyes, etc.) for producing a black color can be used. For example, carbon black (furnace black, channel black, acetylene black, thermal black, lamp black, etc.) can be used. , pine smoke, etc.), graphite, copper oxide, manganese dioxide, aniline black, perylene black, titanium black, cyanine black, activated carbon, ferrite (non-magnetic ferrite, magnetic ferrite, etc.), magnetite, chromium oxide, iron oxide, molybdenum disulfide , chromium complexes, anthraquinone colorants, zirconium nitride, etc. Further, a colorant that functions as a black colorant by combining a colorant exhibiting a color other than black may be used.

上記着色層における着色剤の含有割合は、適切な反射防止能を表示体に付与する観点からは、着色層の総量100質量%に対して、0.2質量%以上が好ましく、より好ましくは0.4質量%以上である。また、上記着色剤の含有割合は、例えば10質量%以下であり、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下である。上記含有割合は、着色剤の種類や、表示体の色調および光透過率等に応じて適宜設定すればよい。着色剤は、適宜の溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液として、組成物に添加してもよい。 The content ratio of the colorant in the colored layer is preferably 0.2% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, based on 100% by mass of the total amount of the colored layer, from the viewpoint of imparting appropriate antireflection ability to the display. .4% by mass or more. Further, the content of the colorant is, for example, 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less. The content ratio may be appropriately set depending on the type of colorant, the color tone and light transmittance of the display body, and the like. The colorant may be added to the composition as a solution or dispersion dissolved or dispersed in a suitable solvent.

上記着色層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、正面輝度および表示体の視認性を確保する観点から、50%以下が好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは30%以下、特に好ましくは20%以下である。また、上記着色層のヘイズ値は、表示体の輝度ムラを効率的に低減する観点から、1%以上が好ましく、より好ましくは3%以上、さらに好ましくは5%以上、特に好ましくは8%以上であり、10%以上であってもよい。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記着色層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring front brightness and visibility of the display, it is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, still more preferably 30%. It is particularly preferably 20% or less. Further, the haze value of the colored layer is preferably 1% or more, more preferably 3% or more, still more preferably 5% or more, particularly preferably 8% or more, from the viewpoint of efficiently reducing brightness unevenness of the display body. and may be 10% or more. The haze value is the value at the thickest portion of the colored layer in the display.

上記着色層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体における金属配線などの反射防止機能、コントラストをより向上させるという観点から、40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは25%以下、特に好ましくは20%以下である。また、上記着色層の全光線透過率は、表示体の輝度を確保するという観点から、0.5%以上であることが好ましく、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上であり、2.5%以上、または3%以上であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記着色層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of further improving the antireflection function and contrast of metal wiring in the display, it is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably is 25% or less, particularly preferably 20% or less. Further, the total light transmittance of the colored layer is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 1.5% or more, from the viewpoint of ensuring the brightness of the display body. Particularly preferably, it is 2% or more, and may be 2.5% or more, or 3% or more. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the colored layer in the display.

上記着色層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、種類や厚さ、着色剤の種類や配合量などにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned colored layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. It can be controlled by the amount etc.

(非着色層)
上記非着色層は、上記着色層とは異なる層であり、表示体において基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することを目的としない層である。上記非着色層は、無色層であってもよく、わずかに着色していてもよい。また、上記非着色層は、例えば光を拡散する機能を発揮することを目的とする拡散機能層であってもよく、光を拡散する機能を発揮することを目的としない非拡散機能層であってもよい。上記非着色層は、透明であってもよく、非透明であってもよい。上記非着色層は樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。
(Non-colored layer)
The above-mentioned non-colored layer is a layer different from the above-mentioned colored layer, and is a layer that is not intended to prevent reflection of light from metal wiring or the like provided on a substrate in a display body. The non-colored layer may be a colorless layer or may be slightly colored. Further, the above-mentioned non-colored layer may be, for example, a diffusion functional layer whose purpose is to exhibit a function of diffusing light, or a non-diffusion functional layer whose purpose is not to exhibit a function of diffusing light. It's okay. The non-colored layer may be transparent or non-transparent. The non-colored layer is preferably a resin layer made of resin.

上記非着色層における着色剤の含有割合は、非着色層の総量100質量%に対して、0.2質量%未満が好ましく、より好ましくは0.1質量%未満、さらに好ましくは0.05質量%未満であり、0.01質量%未満または0.005質量%未満であってもよい。 The content of the colorant in the non-colored layer is preferably less than 0.2% by weight, more preferably less than 0.1% by weight, and even more preferably 0.05% by weight, based on 100% by weight of the total amount of the non-colored layer. %, and may be less than 0.01% by weight or less than 0.005% by weight.

上記非着色層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体の輝度を確保するという観点から、40%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。また、上記非着色層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記非着色層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the non-colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring the brightness of the display, it is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, still more preferably 70% or more, particularly preferably It is 80% or more. Further, the upper limit of the total light transmittance of the non-colored layer is not particularly limited, but may be less than 100%, 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the non-colored layer in the display.

上記非着色層の全光線透過率は、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、非着色層の種類や厚さなどにより制御することができる。 The total light transmittance of the above-mentioned non-colored layer is the value of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, and can be controlled by the type and thickness of the non-colored layer. .

上記拡散機能層は、光を拡散することを目的とする層である。上記封止樹脂層が上記拡散機能層を有すると、光半導体素子から発せられる光が拡散機能層中で拡散し、例えば光半導体素子の側面から発せられる光が表示体の正面方向に放出され、表示体の正面輝度が向上する。上記拡散機能層は樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。上記拡散機能層は、限定されないが、光拡散性微粒子を含むことが好ましい。すなわち、上記拡散機能層は、樹脂層中に分散した光拡散性微粒子を含むことが好ましい。上記光拡散性微粒子は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 The above-mentioned diffusion functional layer is a layer whose purpose is to diffuse light. When the sealing resin layer has the diffusion functional layer, light emitted from the optical semiconductor element is diffused in the diffusion functional layer, and for example, light emitted from the side surface of the optical semiconductor element is emitted toward the front of the display, The front brightness of the display body is improved. The diffusion functional layer is preferably a resin layer made of resin. The above-mentioned diffusion functional layer preferably includes, but is not limited to, light-diffusing fine particles. That is, the above-mentioned diffusion functional layer preferably contains light-diffusing fine particles dispersed in the resin layer. The above-mentioned light-diffusing fine particles may be used alone or in combination of two or more.

上記光拡散性微粒子は、拡散機能層を構成する樹脂との適切な屈折率差を有し、拡散機能層に拡散性能を付与するものである。光拡散性微粒子としては、無機微粒子、高分子微粒子などが挙げられる。無機微粒子の材質としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレー、タルク、金属酸化物などが挙げられる。高分子微粒子の材質としては、例えば、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂(例えば、ポリメタクリル酸メチル等のポリメタクリレート樹脂を含む)、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。 The light-diffusing fine particles have an appropriate refractive index difference with the resin constituting the diffusion functional layer, and impart diffusion performance to the diffusion functional layer. Examples of the light-diffusing fine particles include inorganic fine particles and polymer fine particles. Examples of the material for the inorganic fine particles include silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, clay, talc, and metal oxides. Examples of the material of the polymer fine particles include silicone resin, acrylic resin (including polymethacrylate resin such as polymethyl methacrylate), polystyrene resin, polyurethane resin, melamine resin, polyethylene resin, and epoxy resin. .

上記高分子微粒子としては、シリコーン樹脂で構成される微粒子が好ましい。また、上記無機微粒子としては、金属酸化物で構成される微粒子が好ましい。上記金属酸化物としては、酸化チタン、チタン酸バリウムが好ましく、より好ましくは酸化チタンである。このような構成を有することにより、上記拡散機能層の光拡散性により優れ、輝度ムラがより抑制される。 As the polymer fine particles, fine particles made of silicone resin are preferable. Further, as the inorganic fine particles, fine particles made of metal oxide are preferable. As the metal oxide, titanium oxide and barium titanate are preferable, and titanium oxide is more preferable. By having such a configuration, the light diffusing property of the above-mentioned diffusion functional layer is more excellent, and brightness unevenness is further suppressed.

上記光拡散性微粒子の形状は、特に限定されず、例えば、真球状、扁平状、不定形状であってもよい。 The shape of the light-diffusing fine particles is not particularly limited, and may be, for example, perfectly spherical, flat, or irregularly shaped.

上記光拡散性微粒子の平均粒子径は、適切な光拡散性能を付与する観点からは、0.1μm以上が好ましく、より好ましくは0.15μm以上、さらに好ましくは0.2μm以上、特に好ましくは0.25μm以上である。また、上記光拡散性微粒子の平均粒子径は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、12μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以下、さらに好ましくは8μm以下である。平均粒子径は、例えば、コールターカウンターを用いて測定することができる。 The average particle diameter of the light-diffusing fine particles is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.15 μm or more, even more preferably 0.2 μm or more, particularly preferably 0. .25 μm or more. Furthermore, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image, the average particle diameter of the light-diffusing fine particles is preferably 12 μm or less, more preferably 10 μm or less, and still more preferably 8 μm or less. It is. The average particle diameter can be measured using, for example, a Coulter counter.

上記光拡散性微粒子の屈折率は、1.2~5が好ましく、より好ましくは1.25~4.5、さらに好ましくは1.3~4、特に好ましくは1.35~3である。 The refractive index of the light-diffusing fine particles is preferably 1.2 to 5, more preferably 1.25 to 4.5, even more preferably 1.3 to 4, particularly preferably 1.35 to 3.

上記光拡散性微粒子と拡散機能層を構成する樹脂(拡散機能層において光拡散性微粒子を除いた樹脂層)との屈折率差の絶対値は、表示体の輝度ムラをより効率的に低減する観点から、0.001以上が好ましく、より好ましくは0.01以上、さらに好ましくは0.02以上、特に好ましくは0.03以上であり、0.04以上、または0.05以上であってもよい。また、光拡散性微粒子と樹脂との屈折率差の絶対値は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、5以下が好ましく、より好ましくは4以下、さらに好ましくは3以下である。 The absolute value of the difference in refractive index between the light-diffusing fine particles and the resin constituting the diffusion functional layer (the resin layer excluding the light-diffusing fine particles in the diffusion functional layer) more efficiently reduces uneven brightness of the display. From the viewpoint, it is preferably 0.001 or more, more preferably 0.01 or more, even more preferably 0.02 or more, particularly preferably 0.03 or more, even if it is 0.04 or more, or 0.05 or more. good. Further, the absolute value of the refractive index difference between the light-diffusing fine particles and the resin is preferably 5 or less, more preferably 4 or less, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image. More preferably, it is 3 or less.

上記拡散機能層中の上記光拡散性微粒子の含有量は、適切な光拡散性能を封止樹脂層に付与する観点からは、拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、0.01質量部以上が好ましく、より好ましくは0.05質量部以上、さらに好ましくは0.1質量部以上、特に好ましくは0.15質量部以上である。また、光拡散性微粒子の含有量は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、80質量部以下が好ましく、より好ましくは70質量部以下である。 From the viewpoint of imparting appropriate light diffusion performance to the sealing resin layer, the content of the light diffusing fine particles in the diffusion functional layer is 0.01 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin constituting the diffusion functional layer. The amount is preferably at least 0.05 parts by mass, more preferably at least 0.1 parts by mass, particularly preferably at least 0.15 parts by mass. In addition, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image, the content of the light-diffusing fine particles is 80 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the resin constituting the diffusion functional layer. is preferable, and more preferably 70 parts by mass or less.

上記拡散機能層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、輝度ムラを効率的に低減する観点から、30%以上が好ましく、より好ましくは40%以上、さらに好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上であり、70%以上、80%以上、90%以上、95%以上、97%以上であってもよく、さらに99.9%付近のものが輝度ムラ改善効果により優れて好ましい。なお、上記拡散機能層のヘイズ値の上限は、特に限定されず、すなわち、100%であってもよい。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of efficiently reducing uneven brightness, it is preferably 30% or more, more preferably 40% or more, even more preferably 50% or more, Particularly preferably, it is 60% or more, and may be 70% or more, 80% or more, 90% or more, 95% or more, 97% or more, and moreover, a value around 99.9% is more excellent in the brightness unevenness improving effect. preferable. Note that the upper limit of the haze value of the diffusion functional layer is not particularly limited, and may be 100%. The haze value is the value at the thickest portion of the diffusion functional layer in the display.

上記拡散機能層の全光線透過率は、特に限定されないが、輝度を確保するという観点から、40%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。また、上記拡散機能層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring brightness, it is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, even more preferably 70% or more, particularly preferably 80% or more. It is. Further, the upper limit of the total light transmittance of the diffusion functional layer is not particularly limited, but may be less than 100%, 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the diffusion functional layer in the display.

上記拡散機能層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、拡散機能層の種類や厚さ、光拡散性微粒子の種類や配合量などにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned diffusion functional layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. It can be controlled by the type and amount of diffusible particles.

上記非拡散機能層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、表示体の輝度を優れたものとする観点から、30%未満が好ましく、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下、特に好ましくは1%以下であり、0.5%以下であってもよい。なお、上記非拡散機能層のヘイズ値の下限は特に限定されない。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記非拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the non-diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the brightness of the display, it is preferably less than 30%, more preferably 10% or less, and even more preferably 5%. % or less, particularly preferably 1% or less, and may be 0.5% or less. Note that the lower limit of the haze value of the non-diffusion functional layer is not particularly limited. The haze value is the value at the thickest portion of the non-diffusion functional layer in the display body.

上記非拡散機能層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体の輝度を確保するという観点から、60%以上が好ましく、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。また、上記非拡散機能層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記非拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the non-diffusing functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring the brightness of the display, it is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably is 90% or more. Further, the upper limit of the total light transmittance of the non-diffusing functional layer is not particularly limited, but may be less than 100%, 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the non-diffusion functional layer in the display.

上記非拡散機能層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、非拡散機能層の種類や厚さなどにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned non-diffusing functional layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, and may vary depending on the type and thickness of the non-diffusing functional layer. It can be controlled by etc.

上記非拡散機能層中の着色剤および/または光拡散性微粒子の含有量は、表示体の輝度を優れたものとする観点から、非拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、0.01質量部未満が好ましく、より好ましくは0.005質量部未満である。 The content of the colorant and/or light-diffusing fine particles in the non-diffusing functional layer is set to 0 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin constituting the non-diffusing functional layer, from the viewpoint of improving the brightness of the display. It is preferably less than .01 parts by weight, more preferably less than 0.005 parts by weight.

(樹脂層)
上記着色層および上記非着色層が上記樹脂層である場合、上記樹脂層を構成する樹脂としては、公知乃至慣用の樹脂が挙げられ、例えば、アクリル系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、オキセタン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂(ポリビニルエーテル等)、ポリアミド系樹脂、フッ素系樹脂、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィンなどが挙げられる。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。上記封止樹脂層の各層を構成する樹脂は、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
(resin layer)
When the colored layer and the non-colored layer are the resin layers, examples of the resin constituting the resin layer include known or commonly used resins, such as acrylic resins, urethane acrylate resins, urethane resins, Rubber resin, epoxy resin, epoxy acrylate resin, oxetane resin, silicone resin, silicone acrylic resin, polyester resin, polyether resin (polyvinyl ether, etc.), polyamide resin, fluorine resin, vinyl acetate/ Examples include vinyl chloride copolymers and modified polyolefins. The above resins may be used alone or in combination of two or more. The resins constituting each layer of the sealing resin layer may be the same or different.

上記樹脂層が粘着性を有する層(粘着層)である場合、上記樹脂として、公知乃至慣用の感圧型の粘着剤を用いることができる。上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤(天然ゴム系、合成ゴム系、これらの混合系等)、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、フッ素系粘着剤などが挙げられる。上記粘着剤は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 When the resin layer is an adhesive layer (adhesive layer), a known or commonly used pressure-sensitive adhesive can be used as the resin. Examples of the above-mentioned adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives (natural rubber-based, synthetic rubber-based, mixtures thereof, etc.), silicone-based adhesives, polyester-based adhesives, urethane-based adhesives, and polyether. Examples include adhesives such as adhesives based on polyamide, polyamide adhesives, and fluorine adhesives. The above adhesives may be used alone or in combination of two or more.

上記樹脂層は、上記各層において本発明の効果を損なわない範囲で、上述の各成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、硬化剤、架橋促進剤、粘着付与樹脂(ロジン誘導体、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール等)、オリゴマー、老化防止剤、充填剤(金属粉、有機充填剤、無機充填剤等)、酸化防止剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、レベリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、粒状物、箔状物などが挙げられる。上記その他の成分は、それぞれ、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 The resin layer may contain other components other than the above-mentioned components as long as the effects of the present invention are not impaired in each layer. Other ingredients listed above include curing agents, crosslinking accelerators, tackifying resins (rosin derivatives, polyterpene resins, petroleum resins, oil-soluble phenols, etc.), oligomers, anti-aging agents, fillers (metal powders, organic fillers, inorganic fillers, etc.), antioxidants, plasticizers, softeners, surfactants, antistatic agents, surface lubricants, leveling agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, granular materials, foil-like materials, etc. Can be mentioned. The above-mentioned other components may be used alone or in combination of two or more.

上記封止樹脂層の積層構造としては、[着色層/拡散機能層]、[着色層/非拡散機能層]、[着色層/拡散機能層/非拡散機能層]、[着色層/非拡散機能層/拡散機能層]、[拡散機能層/着色層/非拡散機能層]、[非拡散機能層/着色層/拡散機能層]、[拡散機能層/着色層/拡散機能層]、[非拡散機能層/着色層/非拡散機能層](以上、光半導体素子側から順)などが挙げられる。 The laminated structure of the above sealing resin layer includes [colored layer/diffusion functional layer], [colored layer/non-diffusion functional layer], [colored layer/diffusion functional layer/non-diffusion functional layer], and [colored layer/non-diffusion functional layer]. Functional layer/Diffusion function layer], [Diffusion function layer/Colored layer/Non-diffusion function layer], [Non-diffusion function layer/Colored layer/Diffusion function layer], [Diffusion function layer/Colored layer/Diffusion function layer], [Diffusion function layer/Colored layer/Diffusion function layer] Non-diffusion functional layer/colored layer/non-diffusion functional layer] (in order from the optical semiconductor element side).

<基材部>
本発明の表示体は、基材部を備えていてもよく、備えていなくてもよい。上記基材部は、上記表示体において封止樹脂層の正面側に備えると、封止樹脂層表面をフラットにすることができ、これより光の乱反射を起こりにくくし、消灯時および発光時の両方において表示体の見栄えが向上する。また、上記基材部に後述のアンチグレア層や反射防止層を形成することで表示体にアンチグレア性や反射防止性を付与することができる。また、後述の光半導体素子封止用シートにおいて封止用樹脂層の支持体となり、上記基材部を備えることにより光半導体素子封止用シートの取り扱い性に優れる。
<Base material part>
The display body of the present invention may or may not include a base material portion. When the base material part is provided on the front side of the sealing resin layer in the display body, the surface of the sealing resin layer can be made flat, which makes it difficult to cause diffused reflection of light, and when the light is turned off and when the light is emitted. In both cases, the appearance of the display body is improved. Further, by forming an anti-glare layer or an anti-reflection layer, which will be described later, on the base material portion, anti-glare properties and anti-reflection properties can be imparted to the display body. In addition, it serves as a support for a sealing resin layer in a sheet for encapsulating an optical semiconductor element, which will be described later, and by providing the above-mentioned base material portion, the sheet for encapsulating an optical semiconductor element has excellent handling properties.

上記基材部は、単層であってもよいし、同一または組成や厚さ等が異なる複層であってもよい。上記基材部が複層である場合、各層は粘着剤層などの他の層により貼り合わせられていてもよい。なお、基材部に使用される基材層は、封止樹脂層とともに光半導体素子を備える基板に貼付される部分であり、光半導体素子封止用シートの使用時(貼付時)に剥離されるはく離ライナーや、基材部表面を保護するに過ぎない表面保護フィルムは「基材部」には含まない。 The base material portion may be a single layer, or may be a multilayer having the same or different compositions, thicknesses, etc. When the base material part is multi-layered, each layer may be bonded together by another layer such as an adhesive layer. Note that the base material layer used for the base material part is a part that is attached to the substrate containing the optical semiconductor element together with the sealing resin layer, and is peeled off when the optical semiconductor element sealing sheet is used (at the time of attachment). A "base material" does not include a release liner or a surface protection film that merely protects the surface of the base material.

上記基材部を構成する基材層としては、例えば、ガラスやプラスチック基材(特に、プラスチックフィルム)などが挙げられる。上記プラスチック基材を構成する樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン、アイオノマー、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン-プロピレン共重合体、環状オレフィン系ポリマー、エチレン-ブテン共重合体、エチレン-ヘキセン共重合体等のポリオレフィン樹脂;ポリウレタン;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルイミド;アラミド、全芳香族ポリアミド等のポリアミド;ポリフェニルスルフィド;フッ素樹脂;ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース樹脂;シリコーン樹脂;ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂;ポリサルフォン;ポリアリレート;ポリ酢酸ビニルなどが挙げられる。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。上記基材層は、反射防止(AR)フィルム、偏光板、位相差板等の各種光学フィルムであってもよい。 Examples of the base layer constituting the base portion include glass and plastic base materials (especially plastic films). Examples of the resin constituting the plastic base material include low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, random copolymerized polypropylene, block copolymerized polypropylene, and homopolyprolene. , polybutene, polymethylpentene, ionomer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester (random, alternating) copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene- Polyolefin resins such as propylene copolymers, cyclic olefin polymers, ethylene-butene copolymers, and ethylene-hexene copolymers; polyurethanes; polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate (PBT); Polycarbonate; Polyimide resin; Polyetheretherketone; Polyetherimide; Polyamide such as aramid and wholly aromatic polyamide; Polyphenylsulfide; Fluororesin; Polyvinyl chloride; Polyvinylidene chloride; Cellulose resin such as triacetylcellulose (TAC) ; silicone resin; acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA); polysulfone; polyarylate; polyvinyl acetate. The above resins may be used alone or in combination of two or more. The base material layer may be various optical films such as an antireflection (AR) film, a polarizing plate, and a retardation plate.

上記プラスチックフィルムの厚さは、20~300μmであることが好ましく、より好ましくは40~250μmである。上記厚さが20μm以上であると、光半導体素子封止用シートの支持性および取り扱い性がより向上する。上記厚さが300μm以下であると、表示体をより薄くすることができる。 The thickness of the plastic film is preferably 20 to 300 μm, more preferably 40 to 250 μm. When the thickness is 20 μm or more, the supportability and handleability of the sheet for encapsulating an optical semiconductor device are further improved. When the thickness is 300 μm or less, the display body can be made thinner.

上記基材部の上記封止樹脂層を備える側の表面は、封止樹脂層との密着性、保持性等を高める目的で、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、サンドマット加工処理、オゾン暴露処理、火炎暴露処理、高圧電撃暴露処理、イオン化放射線処理等の物理的処理;クロム酸処理等の化学的処理;コーティング剤(下塗り剤)による易接着処理等の表面処理が施されていてもよい。密着性を高めるための表面処理は、基材部における封止樹脂層側の表面全体に施されていることが好ましい。 The surface of the base material on the side where the sealing resin layer is provided may be subjected to, for example, corona discharge treatment, plasma treatment, sand mat treatment, ozone exposure, etc., for the purpose of improving adhesion and retention with the sealing resin layer. Physical treatments such as treatment, flame exposure treatment, high-voltage electric shock treatment, and ionizing radiation treatment; chemical treatments such as chromic acid treatment; surface treatments such as easy-adhesion treatment using a coating agent (undercoat). . The surface treatment for improving adhesion is preferably applied to the entire surface of the base portion on the side of the sealing resin layer.

上記基材部の厚さは、支持体としての機能および表面の耐擦傷性に優れる観点から、5μm以上が好ましく、より好ましくは10μm以上である。上記基材部の厚さは、透明性により優れる観点から、300μm以下が好ましく、より好ましくは250μm以下である。 The thickness of the base material portion is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, from the viewpoint of excellent support function and surface scratch resistance. The thickness of the base material portion is preferably 300 μm or less, more preferably 250 μm or less, from the viewpoint of better transparency.

<表示体>
上記表示体は、アンチグレア性および/または反射防止性を有する層を備えていてもよい。このような構成を有することにより、上記表示体の光沢や光の反射を抑制し、見栄えをより良くすることができる。上記アンチグレア性を有する層としてはアンチグレア処理層が挙げられる。上記反射防止性を有する層としては反射防止処理層が挙げられる。アンチグレア処理および反射防止処理は、それぞれ、公知乃至慣用の方法で実施することができる。上記アンチグレア性を有する層および上記反射防止性を有する層は、同一層であってもよいし、互いに異なる層であってもよい。上記アンチグレア性および/または反射防止性を有する層は、一層のみ有していてもよいし、二層以上を有していてもよい。
<Display body>
The display body may include a layer having anti-glare and/or anti-reflection properties. By having such a configuration, it is possible to suppress the gloss and light reflection of the display body and improve the appearance. Examples of the layer having anti-glare properties include an anti-glare treated layer. Examples of the layer having antireflection properties include an antireflection treated layer. The anti-glare treatment and the anti-reflection treatment can be carried out using known or commonly used methods. The layer having anti-glare properties and the layer having anti-reflection properties may be the same layer or may be different layers. The layer having anti-glare properties and/or anti-reflection properties may have only one layer, or may have two or more layers.

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、輝度ムラの抑制効果と意匠性とがより優れたものとする観点から、80%以上が好ましく、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上である。なお、上記ヘイズ値の上限は特に限定されない。 The haze value (initial haze value) of the sealing resin layer or the laminate having both end faces of the sealing resin layer and the base material part is not particularly limited, but it is effective for suppressing brightness unevenness and for design. From the viewpoint of making it more excellent, it is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more. Note that the upper limit of the haze value is not particularly limited.

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体の全光線透過率は、特に限定されないが、金属配線などの反射防止機能、コントラストをより向上させるという観点から、40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下である。また、上記全光線透過率は、輝度を確保するという観点から、0.5%以上であることが好ましい。 The total light transmittance of the sealing resin layer or the laminate having both end faces of the sealing resin layer and the base material part is not particularly limited, but it can further improve the anti-reflection function and contrast of metal wiring etc. From this viewpoint, it is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. Further, the total light transmittance is preferably 0.5% or more from the viewpoint of ensuring brightness.

上記ヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、上記封止樹脂層および上記基材部を構成する各層の積層順や種類、厚さなどにより制御することができる。 The above haze value and total light transmittance can be measured by the methods specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, respectively, and depend on the stacking order, type, and thickness of each layer constituting the sealing resin layer and the base material part. It can be controlled by

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体の厚さは、金属配線などの反射防止機能、コントラストを向上させつつ、カラーシフトをより効率的に低減する観点から、10~600μmであることが好ましく、より好ましくは20~550μm、さらに好ましくは30~500μm、さらに好ましくは40~450μm、特に好ましくは50~400μmである。なお、はく離ライナーは上記厚さには含まれないものとする。 The thickness of the encapsulation resin layer or the laminate having both end faces of the encapsulation resin layer and the base material part is determined to improve the anti-reflection function and contrast of metal wiring, while also making color shift more efficient. From the viewpoint of reducing the thickness, it is preferably 10 to 600 μm, more preferably 20 to 550 μm, even more preferably 30 to 500 μm, still more preferably 40 to 450 μm, and particularly preferably 50 to 400 μm. Note that the release liner is not included in the above thickness.

また、本発明の表示体は、自発光型表示装置を備えることが好ましい。また、上記自発光型表示装置と、必要に応じて表示パネルとを組み合わせることで画像表示装置である表示体とすることができる。この場合の光半導体素子はLED素子である。上記自発光型表示装置としては、LEDディスプレイやバックライト、あるいは有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。上記バックライトは特に全面直下型のバックライトであることが好ましい。上記バックライトは例えば上記基板と当該基板上に配置された複数の光半導体素子とを備える積層体を構成部材の少なくとも一部として含む。例えば、上記自発光型表示装置において、上記基板上には、各LED素子に発光制御信号を送るための金属配線層が積層されている。赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色の光を発する各LED素子は、基板上に金属配線層を介して交互に配列されている。金属配線層は、銅などの金属によって形成されており、各LED素子の発光度合いを調整して各色を表示させる。 Moreover, it is preferable that the display body of the present invention includes a self-luminous display device. Further, by combining the above self-luminous display device and a display panel as necessary, a display body that is an image display device can be obtained. The optical semiconductor element in this case is an LED element. Examples of the self-luminous display device include an LED display, a backlight, an organic electroluminescence (organic EL) display device, and the like. It is particularly preferable that the backlight is a full-surface direct type backlight. The backlight includes, for example, a laminate including the substrate and a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate as at least a part of its constituent members. For example, in the self-luminous display device, a metal wiring layer for sending a light emission control signal to each LED element is laminated on the substrate. LED elements that emit light of red (R), green (G), and blue (B) colors are alternately arranged on a substrate with metal wiring layers interposed therebetween. The metal wiring layer is made of metal such as copper, and displays each color by adjusting the degree of light emission of each LED element.

本発明の表示体は、折り曲げて使用される表示体、例えば、折り曲げ可能な画像表示装置(フレキシブルディスプレイ)(特に、折り畳み可能な画像表示装置(フォルダブルディスプレイ))であってもよい。具体的には、折り畳み可能なバックライトを備える表示体、折り畳み可能な自発光型表示装置を備える表示体などが挙げられる。 The display of the present invention may be a display that is used by being folded, for example, a foldable image display device (flexible display) (particularly a foldable image display device (foldable display)). Specifically, examples include a display body equipped with a foldable backlight, a display body equipped with a foldable self-luminous display device, and the like.

本発明の表示体において、上記封止樹脂層は光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れるため、上記光半導体素子はミニLED素子やマイクロLED素子であってもよい。 In the display of the present invention, since the sealing resin layer has excellent followability and embeddability of the optical semiconductor element, the optical semiconductor element may be a mini LED element or a micro LED element.

本発明の表示体によれば、光半導体素子が発する光によるカラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い。このため、上記表示体は、広い視野から同じ色味で表示体を視認することができる。また、上記表示体は消費電力を高くしなくても明るく見栄えが良い。さらに、本発明の表示体によれば、基板上の金属配線などによる光の反射が抑制され、光半導体素子の非点灯時において見栄えが良い。 According to the display of the present invention, color shift due to light emitted by the optical semiconductor element is unlikely to occur, and the brightness is high. Therefore, the display body can be visually recognized with the same color tone from a wide field of view. Further, the display body is bright and has a good appearance without increasing power consumption. Further, according to the display of the present invention, reflection of light by metal wiring on the substrate is suppressed, and the display looks good when the optical semiconductor element is not lit.

[表示体の製造方法]
本発明の表示体は、封止用樹脂層を備える光半導体素子封止用シートを、光半導体素子が配置された基板に貼り合わせ、封止用樹脂層により光半導体素子を封止することで製造することができる。
[Method for manufacturing display body]
The display body of the present invention can be obtained by bonding a sheet for encapsulating an optical semiconductor element having a resin layer for sealing to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, and sealing the optical semiconductor element with the resin layer for sealing. can be manufactured.

(光半導体素子封止用シート)
上記光半導体素子封止用シートは、基板上に配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートである。上記光半導体素子封止用シートは、着色層および非着色層を含む封止用樹脂層を少なくとも備える。上記光半導体素子封止用シートは、上記封止用樹脂層により上記着色層側が上記光半導体素子側となるように上記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際において、上記式(1)および(2)を満たし得るシートである。本発明の光半導体素子封止用シートによれば、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い表示体を提供することができる。
(Sheet for encapsulating optical semiconductor elements)
The optical semiconductor element sealing sheet is a sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate. The optical semiconductor element sealing sheet includes at least a sealing resin layer including a colored layer and a non-colored layer. The above-mentioned sheet for encapsulating optical semiconductor elements is provided when a plurality of optical semiconductor elements are sealed with the above-mentioned encapsulating resin layer so that the colored layer side faces the above-mentioned optical semiconductor element side to form a encapsulating resin layer. , is a sheet that can satisfy the above formulas (1) and (2). According to the sheet for encapsulating an optical semiconductor element of the present invention, by sealing an optical semiconductor element, it is possible to provide a display body that is less likely to cause color shift and has high brightness.

上記光半導体素子封止用シートは、着色層および非着色層を含む封止用樹脂層を少なくとも備える。上記封止用樹脂層は本発明の表示体における上記封止樹脂層を形成し得る層である。具体的には、上記封止用樹脂層中の上記着色層は本発明の表示体における上記着色層を形成し得る層であり、上記封止用樹脂層中の上記非着色層は本発明の表示体における上記非着色層を形成し得る層である。具体的には、上記封止用樹脂層中の上記着色層は、本発明の表示体における上記着色層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記着色層となる層であってもよい。また、上記封止用樹脂層中の上記非着色層は、本発明の表示体における上記非着色層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記非着色層となる層であってもよい。 The optical semiconductor element sealing sheet includes at least a sealing resin layer including a colored layer and a non-colored layer. The sealing resin layer is a layer that can form the sealing resin layer in the display of the present invention. Specifically, the colored layer in the sealing resin layer is a layer that can form the colored layer in the display of the present invention, and the non-colored layer in the sealing resin layer is a layer that can form the colored layer in the display of the present invention. This is a layer that can form the above-mentioned non-colored layer in a display body. Specifically, the colored layer in the sealing resin layer has a composition (constituent components and their proportions) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) of the colored layer in the display of the present invention. It may be the same layer, or it may be a layer that becomes the colored layer in the display of the present invention upon curing. Furthermore, the non-colored layer in the sealing resin layer has the same composition (constituent components and their blending ratio) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) as the non-colored layer in the display of the present invention. It may be a layer that becomes the above-mentioned non-colored layer in the display of the present invention upon curing.

上記封止用樹脂層は、本発明の表示体における封止樹脂層の構造に応じて適宜設計される。例えば、本発明の表示体が上記拡散機能層を含む場合、上記光半導体素子封止用シートにおける上記封止用樹脂層は拡散機能層を含む。上記封止用樹脂層中の上記拡散機能層は、本発明の表示体における上記拡散機能層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記拡散機能層となる層であってもよい。また、上記封止用樹脂層は、上記拡散機能層、上記着色層、および上記非着色層をこの順に備えることが好ましい。なお、拡散機能層は、上記着色層および上記非着色層の一方に該当する層である。 The sealing resin layer is appropriately designed depending on the structure of the sealing resin layer in the display of the present invention. For example, when the display of the present invention includes the diffusion function layer, the sealing resin layer in the optical semiconductor element sealing sheet includes the diffusion function layer. The diffusion functional layer in the sealing resin layer is a layer having the same composition (constituent components and their blending ratio) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) as the diffusion functional layer in the display of the present invention. Alternatively, it may be a layer that becomes the above-mentioned diffusion functional layer in the display of the present invention upon curing. Further, it is preferable that the sealing resin layer includes the diffusion function layer, the colored layer, and the non-colored layer in this order. Note that the diffusion functional layer is a layer corresponding to one of the colored layer and the non-colored layer.

上記封止用樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ独立して、粘着性および/または接着性を有していてもよく、有していなくてもよい。中でも、粘着性および/または接着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止用樹脂層は基板および光半導体素子に容易に貼り合わせることができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。特に、少なくとも光半導体素子に接触する層は粘着性および/または接着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、封止用樹脂層による光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れる。その結果、光半導体素子による段差が高い場合であっても意匠性に優れる。 Each layer (the colored layer and the non-colored layer) constituting the sealing resin layer may or may not have adhesiveness and/or adhesiveness, each independently. Among these, it is preferable to have adhesiveness and/or adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer can be easily bonded to the substrate and the optical semiconductor element, and has excellent adhesion between each layer, resulting in better sealing performance of the optical semiconductor element. In particular, it is preferable that at least the layer that contacts the optical semiconductor element has adhesiveness and/or adhesiveness. By having such a configuration, the followability and embedding of the optical semiconductor element by the sealing resin layer are excellent. As a result, the design is excellent even when the height difference due to the optical semiconductor element is high.

上記封止用樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ独立して、放射線照射により硬化する性質を有する樹脂層(放射線硬化性樹脂層)であってもよく、放射線照射により硬化する性質を有しない樹脂層(放射線非硬化性樹脂層)であってもよい。上記放射線としては、例えば、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、またはX線などが挙げられる。上記着色層が放射線硬化性樹脂層である場合、上記着色層に含まれ得る上記着色剤は、可視光を吸収し、かつ上記放射線硬化性樹脂層が硬化し得る波長の光の透過性を有するものが好ましい。 Each layer constituting the sealing resin layer (the colored layer and the non-colored layer) may be independently a resin layer (radiation curable resin layer) that has the property of being cured by radiation irradiation, It may be a resin layer that does not have the property of being cured by radiation irradiation (radiation non-curable resin layer). Examples of the radiation include electron beams, ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, and X rays. When the colored layer is a radiation-curable resin layer, the colorant that may be included in the colored layer absorbs visible light and has transparency to light at a wavelength at which the radiation-curable resin layer can be cured. Preferably.

上記光半導体素子封止用シートは上記基材部を備えていてもよい。上記基材部を備える場合、上記封止用樹脂層は、基材部の少なくとも一方の面に備えられていてもよい。上記封止用樹脂層の上記基材部と接触する面は、上記封止用樹脂層が光半導体素子と接する側とは反対側の面である。上記光半導体素子封止用シートが上記基材部を備える場合、上記光半導体素子封止用シートは上記基材部と共に光半導体素子および基板に貼り合わせられ、上記光半導体素子封止用シートにおける基材部は本発明の表示体における基材部となる。 The optical semiconductor element sealing sheet may include the base material portion. When the base material section is provided, the sealing resin layer may be provided on at least one surface of the base material section. The surface of the sealing resin layer that comes into contact with the base material part is the surface opposite to the side where the sealing resin layer contacts the optical semiconductor element. When the optical semiconductor element sealing sheet includes the base material part, the optical semiconductor element sealing sheet is bonded to the optical semiconductor element and the substrate together with the base material part, and the optical semiconductor element sealing sheet is bonded to the optical semiconductor element and the substrate together with the optical semiconductor element sealing sheet, and The base material part becomes a base material part in the display body of the present invention.

また、上記封止用樹脂層は、はく離ライナー上のはく離処理面に形成されていてもよい。上記光半導体素子封止用シートが上記はく離ライナーに形成されている場合、上記はく離ライナーは上記封止用樹脂層の光半導体素子と接する側がはく離ライナーと接触する側となる。上記基材部を有しない場合は上記封止用樹脂層の両面がはく離ライナーと接触する側であってもよい。はく離ライナーは上記光半導体素子封止用シートの保護材として用いられ、光半導体素子を封止する際に剥がされる。なお、基材部およびはく離ライナーは必ずしも設けられなくてもよい。 Further, the sealing resin layer may be formed on the release-treated surface of the release liner. When the optical semiconductor element sealing sheet is formed on the release liner, the side of the sealing resin layer that contacts the optical semiconductor element is the side that contacts the release liner. When the base material portion is not provided, both surfaces of the sealing resin layer may be the side that contacts the release liner. The release liner is used as a protective material for the optical semiconductor element sealing sheet, and is peeled off when sealing the optical semiconductor element. Note that the base material portion and the release liner do not necessarily need to be provided.

上記はく離ライナーは、上記光半導体素子封止用シート表面を被覆して保護するための要素であり、光半導体素子が配置された基板に光半導体素子封止用シートを貼り合わせる際には当該シートから剥がされる。 The release liner is an element for covering and protecting the surface of the sheet for encapsulating an optical semiconductor element, and when the sheet for encapsulating an optical semiconductor element is attached to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, the sheet is be stripped from.

上記はく離ライナーとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、フッ素系剥離剤や長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチックフィルムや紙類などが挙げられる。 Examples of the above-mentioned release liner include polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene film, polypropylene film, plastic films and papers whose surface is coated with a release agent such as a fluorine-based release agent or a long-chain alkyl acrylate release agent. It will be done.

上記はく離ライナーの厚さは、例えば10~200μm、好ましくは15~150μm、より好ましくは20~100μmである。上記厚さが10μm以上であると、はく離ライナーの加工時に切り込みにより破断しにくい。上記厚さが200μm以下であると、使用時に上記光半導体素子封止用シートからはく離ライナーをより剥離しやすい。 The thickness of the release liner is, for example, 10 to 200 μm, preferably 15 to 150 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When the thickness is 10 μm or more, the release liner is less likely to break due to cuts during processing. When the thickness is 200 μm or less, the release liner can be more easily peeled off from the optical semiconductor device sealing sheet during use.

図8を用いて、上記光半導体素子封止用シートの一実施形態について説明する。図8は、図2に示す表示体を形成可能な上記光半導体素子封止用シートの断面図である。図8に示すように、光半導体素子封止用シート10は、基板上に配置された1以上の光半導体素子を封止するために使用することのできるものであり、基材部5と基材部5上に形成された封止用樹脂層7とを備える。封止用樹脂層7は、非着色層71、着色層72、および非着色層73の積層体から形成されている。非着色層71、着色層72、および非着色層73は粘着性を有し、互いに直接積層している。封止用樹脂層7の非着色層71表面にははく離ライナー6が貼付されており、非着色層73表面には基材部5が貼付されている。 One embodiment of the optical semiconductor element sealing sheet will be described using FIG. 8. FIG. 8 is a cross-sectional view of the optical semiconductor element sealing sheet capable of forming the display shown in FIG. 2. As shown in FIG. 8, the optical semiconductor element sealing sheet 10 can be used for sealing one or more optical semiconductor elements arranged on a substrate, and is a sheet that can be used to seal one or more optical semiconductor elements arranged on a substrate. A sealing resin layer 7 formed on the material portion 5 is provided. The sealing resin layer 7 is formed from a laminate of a non-colored layer 71, a colored layer 72, and a non-colored layer 73. The non-colored layer 71, the colored layer 72, and the non-colored layer 73 have adhesive properties and are directly stacked on each other. A release liner 6 is attached to the surface of the non-colored layer 71 of the sealing resin layer 7, and a base member 5 is attached to the surface of the non-colored layer 73.

(封止工程)
上記光半導体素子封止用シートを用いて本発明の表示体を製造する方法において、上記光半導体素子封止用シートを、光半導体素子が配置された基板に貼り合わせ、封止用樹脂層により光半導体素子を封止する封止工程を有する。上記封止工程では、具体的には、まず、上記光半導体素子封止用シートからはく離ライナーを剥離して封止用樹脂層を露出させる。そして、基板と、上記基板上に配置された光半導体素子(好ましくは複数の光半導体素子)とを備える積層体(光学部材など)の、光半導体素子が配置された基板面に、上記光半導体素子封止用シートの露出面である封止用樹脂層面を貼り合わせ、上記積層体が複数の光半導体素子を備える場合はさらに複数の光半導体素子間の隙間を上記封止用樹脂層が充填するように配置し、複数の光半導体素子を一括して封止する。具体的には、図9に示すように、はく離ライナー6を剥離した光半導体素子封止用シート10の非着色層71を、基板2の光半導体素子3a~3fが配置された面に対向するように配置し、光半導体素子封止用シート10を基板2の光半導体素子3a~3fが配置された面に貼り合わせ、光半導体素子3a~3fを封止用樹脂層7に埋め込む。
(Sealing process)
In the method of manufacturing a display body of the present invention using the above-mentioned sheet for encapsulating an optical semiconductor element, the above-mentioned sheet for encapsulating an optical semiconductor element is laminated to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, and a resin layer for sealing It has a sealing process of sealing the optical semiconductor element. Specifically, in the sealing step, first, the release liner is peeled off from the optical semiconductor element sealing sheet to expose the sealing resin layer. Then, in a laminate (such as an optical member) comprising a substrate and an optical semiconductor element (preferably a plurality of optical semiconductor elements) arranged on the substrate, the optical semiconductor is placed on the substrate surface on which the optical semiconductor element is arranged. The exposed surfaces of the encapsulation resin layers of the element encapsulation sheets are bonded together, and when the laminate includes a plurality of optical semiconductor elements, the encapsulation resin layer further fills the gaps between the plurality of optical semiconductor elements. The plurality of optical semiconductor elements are sealed together. Specifically, as shown in FIG. 9, the non-colored layer 71 of the optical semiconductor element sealing sheet 10 from which the release liner 6 has been peeled off is placed opposite the surface of the substrate 2 on which the optical semiconductor elements 3a to 3f are arranged. The optical semiconductor element sealing sheet 10 is attached to the surface of the substrate 2 on which the optical semiconductor elements 3a to 3f are arranged, and the optical semiconductor elements 3a to 3f are embedded in the sealing resin layer 7.

上記貼り合わせの際の温度は、例えば室温から110℃の範囲内である。また、上記貼り合わせの際、減圧または加圧してもよい。減圧や加圧により封止用樹脂層と基板または光半導体素子との間に空隙が形成されるのを抑制することができる。また、上記封止工程では、減圧下で光半導体素子封止用シートを貼り合わせ、その後加圧することが好ましい。減圧する場合の圧力は例えば1~100Paであり、減圧時間は例えば5~600秒である。また、加圧する場合の圧力は例えば0.05~0.5MPaであり、加圧時間は例えば5~600秒である。 The temperature during the above bonding is, for example, within the range of room temperature to 110°C. Further, during the above bonding, pressure may be reduced or increased. It is possible to suppress the formation of voids between the sealing resin layer and the substrate or the optical semiconductor element due to reduced pressure or increased pressure. Moreover, in the said sealing process, it is preferable to bond the optical semiconductor element sealing sheet together under reduced pressure, and to apply pressure after that. The pressure for reducing the pressure is, for example, 1 to 100 Pa, and the time for reducing the pressure is, for example, 5 to 600 seconds. Further, the pressure when pressurizing is, for example, 0.05 to 0.5 MPa, and the pressurizing time is, for example, 5 to 600 seconds.

上記封止用樹脂層における着色層および非着色層の厚さや、貼り合わせの際の温度や圧力などを適宜設定することにより、得られる表示体における着色層および非着色層の光半導体素子への追従性や上記凹凸形状における凹部および凸部の各領域の着色層厚さおよび非着色層厚さを調整することができる。これにより、得られる表示体が上記式(1)および(2)を満たす形態とすることができる。 By appropriately setting the thickness of the colored layer and non-colored layer in the above sealing resin layer, the temperature and pressure during bonding, etc., the thickness of the colored layer and non-colored layer in the resulting display body can be adjusted to the optical semiconductor element. It is possible to adjust the followability and the thickness of the colored layer and the thickness of the non-colored layer in each region of the concave and convex portions in the above-mentioned uneven shape. Thereby, the display body obtained can have a form that satisfies the above formulas (1) and (2).

(放射線照射工程)
上記封止用樹脂層が放射線硬化性樹脂層を備える場合、上記製造方法は、さらに、上記基板と、上記基板上に配置された光半導体素子と、上記光半導体素子を封止する上記光半導体素子封止用シートと、を備える積層体に放射線を照射して上記放射線硬化性樹脂層を硬化させて硬化物層を形成する放射線照射工程を備えていてもよい。上記放射線としては上述のように、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、X線などが挙げられる。中でも、紫外線が好ましい。放射線照射時の温度は、例えば室温から100℃の範囲内であり、照射時間は例えば1分~1時間である。
(Radiation irradiation process)
When the sealing resin layer includes a radiation-curable resin layer, the manufacturing method further includes the substrate, an optical semiconductor element disposed on the substrate, and the optical semiconductor element for sealing the optical semiconductor element. The method may include a radiation irradiation step of irradiating a laminate including an element sealing sheet with radiation to cure the radiation-curable resin layer to form a cured material layer. As mentioned above, examples of the radiation include electron beams, ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, and X rays. Among these, ultraviolet light is preferred. The temperature during radiation irradiation is, for example, in the range from room temperature to 100° C., and the irradiation time is, for example, 1 minute to 1 hour.

(ダイシング工程)
上記製造方法は、さらに、上記基板と、上記基板上に配置された光半導体素子と、上記光半導体素子を封止する上記光半導体素子封止用シートと、を備える積層体をダイシングするダイシング工程を備えていてもよい。上記積層体は、上記放射線照射工程を経た積層体について行ってもよい。上記積層体が、上記放射線照射により放射線硬化性樹脂層が硬化した硬化物層を備える場合、上記ダイシング工程では、光半導体素子封止用シートの硬化物層および基板の側端部をダイシングして除去する。これにより、充分に硬化し粘着性が低く低減された硬化物層の面を側面に露出させることができる。上記ダイシングは、公知乃至慣用の方法により行うことができ、例えば、ダイシングブレードを用いた方法や、レーザー照射により行うことができる。
(dicing process)
The manufacturing method further includes a dicing step of dicing a laminate including the substrate, an optical semiconductor element disposed on the substrate, and the optical semiconductor element sealing sheet for sealing the optical semiconductor element. may be provided. The above-mentioned laminate may be formed on a laminate that has undergone the above-mentioned radiation irradiation step. When the laminate includes a cured material layer in which the radiation-curable resin layer is cured by the radiation irradiation, in the dicing step, the cured material layer of the optical semiconductor element sealing sheet and the side edges of the substrate are diced. Remove. Thereby, the surface of the cured material layer, which has been sufficiently cured and whose tackiness has been reduced, can be exposed on the side surface. The above-mentioned dicing can be performed by a known or commonly used method, for example, by using a dicing blade or by laser irradiation.

(タイリング工程)
上記製造方法は、さらに、上記ダイシング工程で得られた複数の表示体を平面方向に接触するように並べるタイリング工程を備えていてもよい。上記タイリング工程では、上記ダイシング工程で得られた複数の積層体を平面方向に接触するように並べてタイリングする。このようにして、1つの大きな表示体を製造することができる。
(Tiling process)
The manufacturing method may further include a tiling step of arranging the plurality of display bodies obtained in the dicing step so as to be in contact with each other in a plane direction. In the tiling step, the plurality of laminates obtained in the dicing step are arranged and tiled so as to be in contact with each other in a planar direction. In this way, one large display can be produced.

以上のようにして、本発明の表示体を製造することができる。光半導体素子封止用シート10において封止用樹脂層7が放射線硬化性樹脂層を有しない場合、封止用樹脂層7は表示体1における封止樹脂層4となる。一方、光半導体素子封止用シート10において封止用樹脂層7が放射線硬化性樹脂層を有する場合、例えば着色層72および非着色層73が放射線硬化性樹脂層である場合、着色層72および非着色層73を硬化させることで着色層42および非着色層43を形成し、封止樹脂層4となる。 The display body of the present invention can be manufactured in the manner described above. When the sealing resin layer 7 in the optical semiconductor element sealing sheet 10 does not have a radiation-curable resin layer, the sealing resin layer 7 becomes the sealing resin layer 4 in the display body 1 . On the other hand, in the optical semiconductor element sealing sheet 10, when the sealing resin layer 7 has a radiation-curable resin layer, for example, when the colored layer 72 and the non-colored layer 73 are radiation-curable resin layers, the colored layer 72 and the non-colored layer 73 are radiation-curable resin layers. By curing the non-colored layer 73, the colored layer 42 and the non-colored layer 43 are formed and become the sealing resin layer 4.

1 表示体
2 基板
3a~3f 光半導体素子
31 支持体
3,3’ピクセル
4 封止樹脂層
41 非着色層
42 着色層
43 非着色層
5 基材部
6 はく離ライナー
7 封止用樹脂層
71 非着色層
72 着色層
73 非着色層
10 光半導体素子封止用シート
11 光学部材
1 Display body 2 Substrate 3a to 3f Optical semiconductor element 31 Support body 3, 3' pixels 4 Sealing resin layer 41 Non-colored layer 42 Colored layer 43 Non-colored layer 5 Base material portion 6 Release liner 7 Sealing resin layer 71 Non-colored Colored layer 72 Colored layer 73 Non-colored layer 10 Optical semiconductor element sealing sheet 11 Optical member

Claims (6)

基板と、前記基板上に配置された複数の光半導体素子と、前記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを備える表示体であり、
前記複数の光半導体素子は複数の光半導体素子を含むピクセルごとに複数配置しており、
前記封止樹脂層は、前記光半導体素子側から、着色層および非着色層をこの順に有し、
第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、前記第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、前記第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、前記基板表面に対する垂直面断面において、
前記基板表面をベースライン、
前記ベースラインに平行であり、前記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1、
前記第一の光半導体素子の重心を通り、前記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2、
前記第一の光半導体素子の重心を通り、前記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3としたとき、
前記ライン2と前記着色層とが重なる距離D1、および、前記ライン3と前記着色層とが重なる距離D2は、下記式(1)を満たし、
前記基板表面からの前記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離D3、および、前記第一の光半導体素子の重心と前記第二の光半導体素子の重心との中点における前記着色層の厚さD4は、下記式(2)を満たす、表示体。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
A display body comprising a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements,
A plurality of the plurality of optical semiconductor elements are arranged for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements,
The sealing resin layer has a colored layer and a non-colored layer in this order from the optical semiconductor element side,
The center of gravity of the first optical semiconductor element located at the end of the first pixel, and the second light located at the end of the second pixel adjacent to the first pixel on the side of the first optical semiconductor element. In a cross section perpendicular to the substrate surface passing through the center of gravity of the semiconductor element,
the substrate surface as a baseline,
Line 1 is a straight line that is parallel to the base line and passes through the center of gravity of the first optical semiconductor element.
A straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 15° from the line 1 in the front direction is a line 2;
When line 3 is a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 90° from line 1 in the front direction,
The distance D1 where the line 2 and the colored layer overlap, and the distance D2 where the line 3 and the colored layer overlap satisfy the following formula (1),
The distance D3 from the substrate surface to the front end of the first optical semiconductor element, and the coloring at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element. In the display body, the layer thickness D4 satisfies the following formula (2).
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
前記封止樹脂層は、前記着色層の光半導体素子側に拡散機能層を備える、請求項1に記載の表示体。 The display body according to claim 1, wherein the sealing resin layer includes a diffusion functional layer on the optical semiconductor element side of the colored layer. 自発光型表示装置を備える請求項1または2のいずれか1項に記載の表示体。 The display body according to any one of claims 1 or 2, comprising a self-luminous display device. 画像表示装置である請求項1~3のいずれか1項に記載の表示体。 The display body according to any one of claims 1 to 3, which is an image display device. 基板上に、複数の光半導体素子を含むピクセルごとに配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートであって、
前記シートは、着色層および非着色層を含む封止用樹脂層を備え、
前記封止用樹脂層により前記着色層側が前記光半導体素子側となるように前記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際、
第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、前記第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、前記第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、前記基板表面に対する垂直面断面において、
前記基板表面をベースライン、
前記ベースラインに平行であり、前記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1、
前記第一の光半導体素子の重心を通り、前記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2、
前記第一の光半導体素子の重心を通り、前記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3としたとき、
前記ライン2と前記着色層とが重なる距離D1、および、前記ライン3と前記着色層とが重なる距離D2は、下記式(1)を満たし得、
前記基板表面からの前記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離D3、および、前記第一の光半導体素子の重心と前記第二の光半導体素子の重心との中点における前記着色層の厚さD4は、下記式(2)を満たし得る、光半導体素子封止用シート。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
A sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements on a substrate,
The sheet includes a sealing resin layer including a colored layer and a non-colored layer,
When forming a sealing resin layer by sealing the plurality of optical semiconductor elements with the sealing resin layer so that the colored layer side becomes the optical semiconductor element side,
The center of gravity of the first optical semiconductor element located at the end of the first pixel, and the second light located at the end of the second pixel adjacent to the first pixel on the side of the first optical semiconductor element. In a cross section perpendicular to the substrate surface passing through the center of gravity of the semiconductor element,
the substrate surface as a baseline,
Line 1 is a straight line that is parallel to the base line and passes through the center of gravity of the first optical semiconductor element.
A straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 15° from the line 1 in the front direction is a line 2;
When line 3 is a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending at an angle of 90° from line 1 in the front direction,
The distance D1 where the line 2 and the colored layer overlap, and the distance D2 where the line 3 and the colored layer overlap may satisfy the following formula (1),
The distance D3 from the substrate surface to the front end of the first optical semiconductor element, and the coloring at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element. The thickness D4 of the layer is a sheet for encapsulating an optical semiconductor element that can satisfy the following formula (2).
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
前記封止用樹脂層は、前記着色層の前記非着色層とは反対側に拡散機能層を備える、請求項5に記載の光半導体素子封止用シート。 The sheet for encapsulating an optical semiconductor element according to claim 5, wherein the encapsulating resin layer includes a diffusion functional layer on the opposite side of the colored layer to the non-colored layer.
JP2022049416A 2022-03-25 2022-03-25 Display body and sheet for sealing optical semiconductor element Pending JP2023142477A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022049416A JP2023142477A (en) 2022-03-25 2022-03-25 Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
KR1020230036311A KR20230140499A (en) 2022-03-25 2023-03-21 Display body and sheet for optical semiconductor device encapsulation
CN202310288858.1A CN116805644A (en) 2022-03-25 2023-03-23 Display and optical semiconductor element sealing sheet
TW112111163A TW202345382A (en) 2022-03-25 2023-03-24 Display and sheet for sealing optical semiconductor elements that is less prone to color shifting and has higher brightness

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022049416A JP2023142477A (en) 2022-03-25 2022-03-25 Display body and sheet for sealing optical semiconductor element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023142477A true JP2023142477A (en) 2023-10-05

Family

ID=88078955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022049416A Pending JP2023142477A (en) 2022-03-25 2022-03-25 Display body and sheet for sealing optical semiconductor element

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2023142477A (en)
KR (1) KR20230140499A (en)
CN (1) CN116805644A (en)
TW (1) TW202345382A (en)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6906560B2 (en) 2019-04-03 2021-07-21 リンテック株式会社 Adhesive sheet and display

Also Published As

Publication number Publication date
CN116805644A (en) 2023-09-26
KR20230140499A (en) 2023-10-06
TW202345382A (en) 2023-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7943940B2 (en) LED-array system
US8866130B2 (en) Light-emitting device and lighting apparatus
KR101087026B1 (en) Multi-functional optic film
JP2024036355A (en) Diffusion member, laminate, set of diffusion member, LED backlight and display device
JP2023142477A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
JP2023142478A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
JP2023142480A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
JP2023142479A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
JP2023142484A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
JP2023142485A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
JP2023142482A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
JP2023142481A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
JP2023142483A (en) Display body and sheet for sealing optical semiconductor element
TW202410496A (en) Sheet for sealing displays and optical semiconductor elements
TW202407400A (en) Sheet for sealing displays and optical semiconductor elements
WO2012086623A1 (en) Light emitting element
TW202405774A (en) Sheet for sealing displays and optical semiconductor elements
TW202410494A (en) Sheet for sealing displays and optical semiconductor elements
KR20230020354A (en) Optical laminate
JP2024020361A (en) Backlight module and display device
KR20130046618A (en) Diffusing sheet for a back light unit and the manufacturing method thereof