JP2023142481A - Display body and sheet for sealing optical semiconductor element - Google Patents

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尚輝 長束
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Abstract

To provide a display body which hardly causes a color shift and hardly causes irregular reflection of external light.SOLUTION: A display body 1 includes a substrate 2, optical semiconductor elements 3a to 3c, and a sealing resin layer 4 for sealing the plurality of optical semiconductor elements. The sealing resin layer 4 includes a non-colored layer 41, a colored layer 42 and a non-colored layer 43. In a cross section of a vertical surface passing through a center GA of gravity of the optical semiconductor element 3a and a center GB of gravity of the optical semiconductor element 3b, a straight line L1 passing through an intersection TA1 between a vertical line PA and an interface on a front side of the non-colored layer 41, and an intersection TC1 between a vertical line PC passing through a middle point C of the center GA of gravity and the center GB of gravity, and the interface on a front side of the colored layer 41 is not parallel with the surface of the substrate 2, a straight line L2 passing through an intersection TA2 between the vertical line PA and an interface on a front side of the colored layer 42, and an intersection TC2 between the vertical line PC and the interface on a front side of the colored layer 42 is not parallel with the surface of the substrate 2, and a straight line L3 passing through an intersection TA3 between the vertical line PA and an interface on a front side of the non-colored layer 43, and an intersection TC3 between the vertical line PC and the interface on a front side of the non-colored layer 43 is parallel with the surface of the substrate 2.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は表示体および光半導体素子封止用シートに関する。より詳細には、本発明は、例えば自発光型表示装置の光半導体素子を封止した表示体、および光半導体素子の封止に用いるのに適するシートに関する。 The present invention relates to a display body and a sheet for sealing optical semiconductor elements. More specifically, the present invention relates to a display body in which an optical semiconductor element of, for example, a self-luminous display device is sealed, and a sheet suitable for use in sealing the optical semiconductor element.

近年、次世代型の表示装置として、ミニ/マイクロLED表示装置(Mini/Micro Light Emitting Diode Display)に代表される自発光型表示装置が考案されている。ミニ/マイクロLED表示装置は、基本構成として、多数の微小な光半導体素子(LEDチップ)が高密度に配列された基板が表示パネルとして使用され、当該光半導体素子は封止材で封止され、最表層に樹脂フィルムやガラス板などのカバー部材が積層されるものである。 In recent years, self-luminous display devices typified by mini/micro LED display devices (Mini/Micro Light Emitting Diode Displays) have been devised as next-generation display devices. The basic configuration of mini/micro LED display devices is to use a substrate on which many minute optical semiconductor elements (LED chips) are arranged at high density as a display panel, and the optical semiconductor elements are sealed with a sealing material. , a cover member such as a resin film or a glass plate is laminated on the outermost layer.

ミニ/マイクロLED表示装置等の自発光型表示装置を備える表示体では、表示パネルの基板上に金属やITOなどの金属酸化物の配線(金属配線)が配置されている。このような表示装置は、例えば非点灯時において上記金属配線等により光が反射し画面の見栄えが悪く意匠性に劣るという問題があった。このため、光半導体素子を封止する封止材として、金属配線による反射を防止するための反射防止層を用いる技術が採用されている。 In a display body including a self-luminous display device such as a mini/micro LED display device, wiring (metal wiring) made of metal or a metal oxide such as ITO is arranged on a substrate of a display panel. Such a display device has a problem in that, for example, when the display is not lit, light is reflected by the metal wiring and the like, resulting in poor screen appearance and poor design. For this reason, a technique has been adopted that uses an antireflection layer to prevent reflection from metal wiring as a sealing material for sealing an optical semiconductor element.

また、自発光型表示装置を用いたディスプレイでは、光半導体素子の光源に起因して明るさにムラ(輝度ムラ)が生じるという問題があった。輝度ムラが生じると、ディスプレイの正面から見た場合と斜め視野から見た場合とで色味が変化する「カラーシフト」という現象が生じる。 Furthermore, displays using self-luminous display devices have a problem in that uneven brightness (luminance unevenness) occurs due to the light source of the optical semiconductor element. When brightness unevenness occurs, a phenomenon called "color shift" occurs, in which the color tone changes when the display is viewed from the front and when viewed from an oblique viewing angle.

特許文献1には、輝度ムラを抑制することができる粘着シートとして、着色粘着剤層と無色粘着剤層との積層体であり、無色粘着剤層が光半導体素子と接触するように位置している粘着シートが開示されている。上記粘着シートによれば、基板と当該基板に設置された光半導体素子とで形成される凹凸形状に接触させて追従させた場合、無色粘着剤層が凹凸に接触することになり、無色粘着剤層によって凹凸がある程度吸収されるため、着色粘着剤層が圧縮されたり変形したりすることが抑制され、これにより粘着剤層における透過率のムラを抑制し、輝度ムラを抑制することができると記載されている。 Patent Document 1 describes a laminate of a colored adhesive layer and a colorless adhesive layer as an adhesive sheet capable of suppressing brightness unevenness, and the colorless adhesive layer is positioned so as to be in contact with an optical semiconductor element. A pressure-sensitive adhesive sheet is disclosed. According to the above-mentioned adhesive sheet, when the colorless adhesive layer contacts and follows the uneven shape formed by the substrate and the optical semiconductor element installed on the substrate, the colorless adhesive layer comes into contact with the unevenness, and the colorless adhesive layer Since the unevenness is absorbed to some extent by the layer, the colored adhesive layer is prevented from being compressed or deformed, thereby suppressing uneven transmittance in the adhesive layer and suppressing uneven brightness. Are listed.

特開2020-169262号公報JP2020-169262A

しかしながら、着色粘着剤層を備える粘着シートは、光半導体素子の側面から発せられる光を充分に着色粘着剤層が吸収することができず、隣り合う光半導体素子が発する光同士の干渉が強く、カラーシフトが発生しやすいという問題があった。また、従来の表示体は、粘着シート表面で外光の乱反射が起こり、表示体の点灯時および非点灯時において見栄えが悪くなる場合や、光半導体素子の封止性が悪く、光半導体素子が設置された基板と粘着シートとの間に隙間が発生する場合があった。上記隙間が存在すると高温時に光半導体素子と粘着シートとが剥がれる恐れがある。このため、カラーシフトが起こりにくく、外光の乱反射が起こりにくく、光半導体素子の封止性に優れる表示体が求められている。 However, in adhesive sheets provided with a colored adhesive layer, the colored adhesive layer cannot sufficiently absorb light emitted from the side surface of an optical semiconductor element, and there is strong interference between light emitted from adjacent optical semiconductor elements. There was a problem that color shift was likely to occur. In addition, with conventional displays, external light is diffusely reflected on the surface of the adhesive sheet, resulting in poor visibility when the display is lit and off, and the sealing properties of the optical semiconductor elements are poor, resulting in the optical semiconductor elements being damaged. In some cases, a gap was created between the installed substrate and the adhesive sheet. If the above-mentioned gap exists, there is a risk that the optical semiconductor element and the adhesive sheet will peel off at high temperatures. Therefore, there is a need for a display body that is less likely to cause color shift, less likely to cause diffuse reflection of external light, and which has excellent sealing properties for optical semiconductor elements.

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、その目的は、カラーシフトが起こりにくく、外光の乱反射が起こりにくく、光半導体素子の封止性に優れる表示体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、外光の乱反射が起こりにくく、光半導体素子の封止性に優れる表示体を作製可能な光半導体素子封止用シートを提供することにある。 The present invention was conceived under these circumstances, and its purpose is to provide a display material that is less likely to cause color shift, less likely to cause diffuse reflection of external light, and which has excellent sealing properties for optical semiconductor elements. Our goal is to provide the following. Another object of the present invention is that by sealing an optical semiconductor element, it is possible to produce a display body that is less likely to cause color shift, less likely to cause diffuse reflection of external light, and has excellent sealing properties for the optical semiconductor element. An object of the present invention is to provide a sheet for encapsulating semiconductor elements.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、非着色層および着色層を含む封止樹脂層により基板上に配置された複数の光半導体素子を封止した状態において、光半導体素子に接触する第一封止層の正面側界面、およびその正面側に積層した第二封止層の正面側界面が曲面であり、第二封止層に積層した第三封止層の正面側界面が平面である表示体によれば、カラーシフトが起こりにくく、外光の乱反射が起こりにくく、光半導体素子の封止性に優れることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors discovered that optical semiconductor The front side interface of the first sealing layer that contacts the element and the front side interface of the second sealing layer laminated on the front side thereof are curved surfaces, and the front side interface of the third sealing layer laminated on the second sealing layer is a curved surface. It has been found that a display body with a flat side interface is less likely to cause color shift, less likely to cause diffuse reflection of external light, and has excellent sealing properties for optical semiconductor elements. The present invention was completed based on these findings.

すなわち、本発明は、基板と、上記基板上に配置された複数の光半導体素子と、上記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを備える表示体であり、
上記封止樹脂層は、上記光半導体素子に接触する第一封止層と、上記第一封止層に直接積層された第二封止層と、上記第二封止層に直接積層された第三封止層とを備え、
上記第一封止層および上記第二封止層の一方は着色層、他方は非着色層であり、
第一の光半導体素子の重心と、上記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、
上記第一の光半導体素子の重心を通る、上記基板表面に対する垂線を垂線PA
上記第一の光半導体素子の重心および上記第二の光半導体素子の重心の中点を通る、上記基板表面に対する垂線を垂線PCとしたとき、
上記垂線PAと上記第一封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第一封止層の正面側界面との交点を通る直線L1は、上記基板表面に対して非平行であり、
上記垂線PAと上記第二封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第二封止層の正面側界面との交点を通る直線L2は、上記基板表面に対して非平行であり、
上記垂線PAと上記第三封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第三封止層の正面側界面との交点を通る直線L3は、上記基板表面に対して平行である、表示体を提供する。
That is, the present invention is a display body comprising a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements,
The sealing resin layer includes a first sealing layer in contact with the optical semiconductor element, a second sealing layer directly laminated on the first sealing layer, and a second sealing layer laminated directly on the second sealing layer. and a third sealing layer,
One of the first sealing layer and the second sealing layer is a colored layer, and the other is a non-colored layer,
In a cross section perpendicular to the substrate surface passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of a second optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel,
A perpendicular line to the substrate surface passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is a perpendicular line P A ,
When a perpendicular line to the substrate surface passing through the midpoint of the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element is a perpendicular line P C ,
A straight line L1 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the first sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the first sealing layer is relative to the substrate surface. are non-parallel,
A straight line L2 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the second sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the second sealing layer is are non-parallel,
A straight line L3 passing through the intersection between the perpendicular line P A and the front side interface of the third sealing layer and the intersection between the perpendicular line P C and the front side interface of the third sealing layer is and parallel to each other.

上記表示体において、上記光半導体素子を封止する上記封止樹脂層が上記着色層を含むことにより、基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。そして、直線L1および直線L2が基板表面に対して非平行であることは、着色層および非着色層の正面側の界面が、共に、光半導体素子上で凸、最近接する光半導体素子間で凹となる凹凸形状を有することを意味する。この場合、着色層の基板側および正面側の両界面が共に上記凹凸形状を有し、上記凹部における着色層の基板側の界面が充分に基板に近い位置にあることにより、光半導体素子が発する側面方向の光は凹部における着色層により透過が妨げられ、各光半導体素子が発する光を互いに干渉しにくく、カラーシフトが抑制される。また、着色層および非着色層は、光半導体素子を凸部、隣り合う光半導体素子間の基板表面を凹部とする凹凸形状への追従性に優れ、光半導体素子の封止性に優れる。そして、直線L3が基板表面に対して平行であることは、着色層および非着色層の正面側に位置する第三封止層正面側の界面がフラットであることを意味する。第三封止層表面がフラットであることにより封止樹脂層表面がフラットとなりやすく、外光の乱反射を起こりにくくし、点灯時および非点灯時の両方において表示体の見栄えが向上する。 In the display, the sealing resin layer that seals the optical semiconductor element includes the colored layer, thereby making it possible to prevent light from being reflected by metal wiring provided on the substrate. The fact that the straight line L1 and the straight line L2 are non-parallel to the substrate surface means that the front-side interfaces of the colored layer and the non-colored layer are both convex on the optical semiconductor element, and concave between the nearest optical semiconductor elements. This means that it has an uneven shape. In this case, both the substrate-side and front-side interfaces of the colored layer have the above-described uneven shape, and the substrate-side interface of the colored layer in the recessed portion is located sufficiently close to the substrate, so that the optical semiconductor element emits light. Transmission of light in the side direction is prevented by the colored layer in the concave portion, making it difficult for the light emitted by each optical semiconductor element to interfere with each other, and color shift is suppressed. Furthermore, the colored layer and the non-colored layer have excellent conformability to an uneven shape in which the optical semiconductor element is a convex part and the substrate surface between adjacent optical semiconductor elements is a concave part, and are excellent in sealing properties of the optical semiconductor element. The straight line L3 being parallel to the substrate surface means that the interface on the front side of the third sealing layer located on the front side of the colored layer and the non-colored layer is flat. Since the surface of the third sealing layer is flat, the surface of the sealing resin layer tends to be flat, making it difficult for diffuse reflection of external light to occur, and improving the appearance of the display both when the display is lit and when it is not lit.

上記垂直面断面において上記第一封止層は上記第一および第二の光半導体素子間の上記基板表面と50%以上接触していることが好ましい。このような構成を有することで、第一封止層は光半導体素子および基板表面で形成される凹凸形状への追従性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。 It is preferable that the first sealing layer contacts the surface of the substrate between the first and second optical semiconductor elements by 50% or more in the vertical cross section. With such a configuration, the first sealing layer has excellent followability to the uneven shape formed on the surface of the optical semiconductor element and the substrate, and has excellent sealing performance of the optical semiconductor element.

上記第一封止層は上記非着色層であり、上記第二封止層は上記着色層であることが好ましい。このような構成を有することで、正面輝度を高くすることができる。 It is preferable that the first sealing layer is the non-colored layer, and the second sealing layer is the colored layer. With such a configuration, front brightness can be increased.

上記第一封止層は拡散機能層であることが好ましい。このような構成を有することで、光半導体素子が側面方向に発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度を高くすることができる。 It is preferable that the first sealing layer is a diffusion functional layer. With such a configuration, the light emitted by the optical semiconductor element in the side direction can be diffused in the diffusion function layer, and the front brightness can be increased.

上記表示体は自発光型表示装置を備えることが好ましい。 Preferably, the display body includes a self-luminous display device.

上記表示体は画像表示装置であることが好ましい。 It is preferable that the display body is an image display device.

また、本発明は、基板上に配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートであって、
上記シートは、第一封止層と、上記第一封止層に直接積層された第二封止層と、上記第二封止層に直接積層された第三封止層とを含む封止用樹脂層を備え、
上記第一封止層および上記第二封止層の一方は着色層、他方は非着色層であり、
上記第一封止層が上記複数の光半導体素子と接触するように、上記封止用樹脂層により上記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際、
第一の光半導体素子の重心と、上記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、
上記第一の光半導体素子の重心を通る、上記基板表面に対する垂線を垂線PA
上記第一の光半導体素子の重心および上記第二の光半導体素子の重心の中点を通る、上記基板表面に対する垂線を垂線PCとしたとき、
上記垂線PAと上記第一封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第一封止層の正面側界面との交点を通る直線L1は、上記基板表面に対して非平行であり、
上記垂線PAと上記第二封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第二封止層の正面側界面との交点を通る直線L2は、上記基板表面に対して非平行であり、
上記垂線PAと上記第三封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第三封止層の正面側界面との交点を通る直線L3は、上記基板表面に対して平行である構造を形成し得る、光半導体素子封止用シートを提供する。
The present invention also provides a sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate, comprising:
The sheet includes a first sealing layer, a second sealing layer directly laminated on the first sealing layer, and a third sealing layer directly laminated on the second sealing layer. Equipped with a resin layer for
One of the first sealing layer and the second sealing layer is a colored layer, and the other is a non-colored layer,
When forming a sealing resin layer by sealing the plurality of optical semiconductor elements with the sealing resin layer so that the first sealing layer contacts the plurality of optical semiconductor elements,
In a cross section perpendicular to the substrate surface passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of a second optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel,
A perpendicular line to the substrate surface passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is a perpendicular line P A ,
When a perpendicular line to the substrate surface passing through the midpoint of the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element is a perpendicular line P C ,
A straight line L1 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the first sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the first sealing layer is relative to the substrate surface. are non-parallel,
A straight line L2 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the second sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the second sealing layer is are non-parallel,
A straight line L3 passing through the intersection between the perpendicular line P A and the front side interface of the third sealing layer and the intersection between the perpendicular line P C and the front side interface of the third sealing layer is Provided is a sheet for encapsulating an optical semiconductor element that can form a parallel structure.

上記第一封止層は上記非着色層であり、上記第二封止層は上記着色層であることが好ましい。 It is preferable that the first sealing layer is the non-colored layer, and the second sealing layer is the colored layer.

上記第一封止層は拡散機能層であることが好ましい。 It is preferable that the first sealing layer is a diffusion functional layer.

本発明の表示体によれば、光半導体素子が発する光によるカラーシフトが起こりにくく、外光の乱反射が起こりにくく、光半導体素子の封止性に優れる。このため、上記表示体は、広い視野から同じ色味で表示体を視認することができる。また、点灯時および非点灯時において表示体の見栄えが良い。また、高熱時においても光半導体素子と封止樹脂層とが剥がれにくく、耐熱信頼性に優れる。また、本発明の光半導体素子封止用シートによれば、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、外光の乱反射が起こりにくく、光半導体素子の封止性に優れる表示体を提供することができる。 According to the display of the present invention, color shift due to light emitted by the optical semiconductor element is less likely to occur, diffuse reflection of external light is less likely to occur, and the sealing performance of the optical semiconductor element is excellent. Therefore, the display body can be visually recognized with the same color tone from a wide field of view. In addition, the display body looks good both when lit and when not lit. Furthermore, even at high temperatures, the optical semiconductor element and the sealing resin layer do not easily separate, resulting in excellent heat resistance and reliability. Furthermore, according to the optical semiconductor element sealing sheet of the present invention, by sealing the optical semiconductor element, color shift is less likely to occur, diffused reflection of external light is less likely to occur, and display with excellent sealing properties of the optical semiconductor element is achieved. You can donate your body.

基板上に複数の光半導体素子がピクセル単位で配置された光学部材の部分上面図である。FIG. 2 is a partial top view of an optical member in which a plurality of optical semiconductor elements are arranged in units of pixels on a substrate. 本発明の表示体の一実施形態を示す部分断面図である。1 is a partial sectional view showing an embodiment of a display body of the present invention. 図2に示す表示体の部分拡大図である。3 is a partially enlarged view of the display body shown in FIG. 2. FIG. 図2に示す表示体の光半導体素子が発光する様子を示す部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing how the optical semiconductor element of the display shown in FIG. 2 emits light. 従来の表示体の光半導体素子が発光する様子を示す部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing how an optical semiconductor element of a conventional display emits light. 本発明の表示体の他の一実施形態を示す部分断面図である。It is a partial sectional view showing another embodiment of the display of the present invention. 本発明の光半導体素子封止用シートの一実施形態を示す断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows one Embodiment of the sheet for optical semiconductor element sealing of this invention. 図7に示す光半導体素子封止用シートを用いて光半導体素子を封止する工程を示す部分断面図である。8 is a partial cross-sectional view showing a process of sealing an optical semiconductor element using the optical semiconductor element sealing sheet shown in FIG. 7. FIG.

[表示体]
本発明の表示体は、基板と、上記基板上に配置された複数の光半導体素子と、上記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを少なくとも備える。上記表示体は、光半導体素子が発する光により情報を表示するための装置である。
[Display]
The display of the present invention includes at least a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements. The display body is a device for displaying information using light emitted by an optical semiconductor element.

上記光半導体素子としては、例えば、青色発光ダイオード、緑色発光ダイオード、赤色発光ダイオード、紫外線発光ダイオード等の発光ダイオード(LED)が挙げられる。 Examples of the optical semiconductor device include light emitting diodes (LEDs) such as blue light emitting diodes, green light emitting diodes, red light emitting diodes, and ultraviolet light emitting diodes.

上記基板上に、上記複数の光半導体素子は1つのピクセル(画素)内に配置しており、上記ピクセルは複数配置している。すなわち、上記複数の光半導体素子は、複数の光半導体素子を含むピクセルごとに複数配置している。図1に、基板上に複数の光半導体素子がピクセルごとに配置された光学部材の部分上面図を示す。図1に示す光学部材11では、基板2上に、3つの光半導体素子3a~3cが近接するように配置されており、3つの光半導体素子3a~3cで1ピクセル(ピクセル3)を形成している。また、基板2上に、3つの光半導体素子3d~3fが近接するように配置されており、3つの光半導体素子3d~3fで1ピクセル(ピクセル3’)を形成している。そして基板2上には、ピクセル3、ピクセル3’などと複数のピクセルが配置している。 On the substrate, the plurality of optical semiconductor elements are arranged in one pixel, and a plurality of the pixels are arranged. That is, a plurality of the above-mentioned optical semiconductor elements are arranged for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements. FIG. 1 shows a partial top view of an optical member in which a plurality of optical semiconductor elements are arranged for each pixel on a substrate. In the optical member 11 shown in FIG. 1, three optical semiconductor elements 3a to 3c are arranged close to each other on a substrate 2, and one pixel (pixel 3) is formed by the three optical semiconductor elements 3a to 3c. ing. Furthermore, three optical semiconductor elements 3d to 3f are arranged close to each other on the substrate 2, and the three optical semiconductor elements 3d to 3f form one pixel (pixel 3'). A plurality of pixels, such as pixel 3 and pixel 3', are arranged on the substrate 2.

本発明の表示体は、2つの光半導体素子間の、光半導体素子を配置されていない領域の基板表面を凹部、光半導体素子を凸部とした、基板および光半導体素子により形成される凹凸形状を有する。 The display body of the present invention has an uneven shape formed by the substrate and the optical semiconductor element, with the substrate surface in the area where the optical semiconductor element is not arranged between two optical semiconductor elements as a concave part and the optical semiconductor element as a convex part. has.

上記基板上の上記光半導体素子の高さ(基板表面から光半導体素子正面側の端部までの高さ)は500μm以下であることが好ましい。上記高さが500μm以下であると、上記凹凸形状に対する封止樹脂層の追従性により優れる。 The height of the optical semiconductor element on the substrate (height from the substrate surface to the front end of the optical semiconductor element) is preferably 500 μm or less. When the height is 500 μm or less, the sealing resin layer has better followability with respect to the uneven shape.

上記封止樹脂層は、複数の光半導体素子に接触して上記凹凸形状に追従している。また、上記封止樹脂層は、上記複数の光半導体素子を一括して封止していることが好ましい。なお、本明細書において、「光半導体素子を封止する」とは、光半導体素子の少なくとも一部を封止樹脂層内に埋め込むこと、または、上記封止樹脂層により追従し被覆することをいう。 The sealing resin layer contacts the plurality of optical semiconductor elements and follows the uneven shape. Further, it is preferable that the sealing resin layer seals the plurality of optical semiconductor elements at once. In this specification, "sealing the optical semiconductor element" refers to embedding at least a portion of the optical semiconductor element in a sealing resin layer, or following and covering it with the sealing resin layer. say.

上記封止樹脂層は、上記光半導体素子に接触する第一封止層と、上記第一封止層に直接積層された第二封止層と、上記第二封止層に直接積層された第三封止層とを少なくとも備える。また、上記封止樹脂層は、上記第一封止層、上記第二封止層、および上記第三封止層以外のその他の層を備えていてもよい。また、上記封止樹脂層を構成する層の総数は、上記第一封止層、上記第二封止層、および上記第三封止層を含む3以上であり、4以上であってもよい。上記層の総数は、表示体の厚さを薄くする観点から、例えば10以下であり、5以下または4以下であってもよい。 The sealing resin layer includes a first sealing layer in contact with the optical semiconductor element, a second sealing layer directly laminated on the first sealing layer, and a second sealing layer laminated directly on the second sealing layer. and a third sealing layer. Further, the sealing resin layer may include layers other than the first sealing layer, the second sealing layer, and the third sealing layer. Further, the total number of layers constituting the sealing resin layer is 3 or more including the first sealing layer, the second sealing layer, and the third sealing layer, and may be 4 or more. . The total number of the layers is, for example, 10 or less, and may be 5 or less, or 4 or less, from the viewpoint of reducing the thickness of the display body.

上記封止樹脂層において、上記第一封止層および上記第二封止層は、一方が着色層であり、他方が非着色層である。上記第三封止層は、着色層であってもよく、非着色層であってもよい。また、上記第一封止層、上記第二封止層、および上記第三封止層は、それぞれ樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。 In the sealing resin layer, one of the first sealing layer and the second sealing layer is a colored layer, and the other is a non-colored layer. The third sealing layer may be a colored layer or a non-colored layer. Moreover, it is preferable that the first sealing layer, the second sealing layer, and the third sealing layer are each resin layers made of resin.

上記複数の光半導体素子のうちの任意の一つを第一の光半導体素子とする。上記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う光半導体素子を第二の光半導体素子とする。上記第一の光半導体素子の重心と上記第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、上記第一の光半導体素子の重心を通る、上記基板表面に対する垂線を垂線PAとする。上記第一の光半導体素子の重心および上記第二の光半導体素子の重心の中点を中点Cとする。中点Cを通る、上記基板表面に対する垂線を垂線PCとする。そして、上記垂線PAと上記第一封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第一封止層の正面側界面との交点を通る直線L1は、上記基板表面に対して非平行であり、上記垂線PAと上記第二封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第二封止層の正面側界面との交点を通る直線L2は、上記基板表面に対して非平行であり、上記垂線PAと上記第三封止層の正面側界面との交点、および、上記垂線PCと上記第三封止層の正面側界面との交点を通る直線L3は、上記基板表面に対して平行である。 Any one of the plurality of optical semiconductor elements is defined as a first optical semiconductor element. An optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel is referred to as a second optical semiconductor element. In a cross section perpendicular to the substrate surface that passes through the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element, a line perpendicular to the substrate surface that passes through the center of gravity of the first optical semiconductor element is defined as Let the perpendicular line be P A. The midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element is defined as a midpoint C. A perpendicular line to the substrate surface passing through the midpoint C is defined as a perpendicular line P C . A straight line L1 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the first sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the first sealing layer is the surface of the substrate. A straight line that is non- parallel to L2 is non-parallel to the substrate surface, and is the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the third sealing layer, and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the third sealing layer. A straight line L3 passing through the intersection with is parallel to the surface of the substrate.

なお、直線L1および直線L2は基板表面に対して非平行であるが、これは直線L1および直線L2は、それぞれ、基板表面となす角度が5°以上であることをいう。また、直線L3は基板表面に対して平行であるが、これは、直線L3は基板表面に対して完全に平行である場合に加え、直線L3が基板表面となす角度が5°未満である場合を含む。 Note that the straight line L1 and the straight line L2 are non-parallel to the substrate surface, which means that the straight line L1 and the straight line L2 each make an angle of 5° or more with the substrate surface. Also, the straight line L3 is parallel to the substrate surface, but this is true not only when the straight line L3 is completely parallel to the substrate surface, but also when the angle between the straight line L3 and the substrate surface is less than 5°. including.

上記表示体において、上記光半導体素子を封止する上記封止樹脂層が上記着色層を含むことにより、基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。そして、直線L1および直線L2が基板表面に対して非平行であることは、着色層および非着色層の正面側の界面が、共に、光半導体素子上で凸、最近接する光半導体素子間で凹となる凹凸形状を有することを意味する。この場合、着色層の基板側および正面側の両界面が共に上記凹凸形状を有し、上記凹部における着色層の基板側の界面が充分に基板に近い位置にあることにより、光半導体素子が発する側面方向の光は凹部における着色層により透過が妨げられ、各光半導体素子が発する光を互いに干渉しにくく、カラーシフトが抑制される。また、着色層および非着色層は、光半導体素子を凸部、隣り合う光半導体素子間の基板表面を凹部とする凹凸形状への追従性に優れ、光半導体素子の封止性に優れる。そして、直線L3が基板表面に対して平行であることは、着色層および非着色層の正面側に位置する第三封止層正面側の界面がフラットであることを意味する。第三封止層表面がフラットであることにより封止樹脂層表面がフラットとなりやすく、外光の乱反射を起こりにくくし、点灯時および非点灯時の両方において表示体の見栄えが向上する。 In the display, the sealing resin layer that seals the optical semiconductor element includes the colored layer, thereby making it possible to prevent light from being reflected by metal wiring provided on the substrate. The fact that the straight line L1 and the straight line L2 are non-parallel to the substrate surface means that the front-side interfaces of the colored layer and the non-colored layer are both convex on the optical semiconductor element, and concave between the nearest optical semiconductor elements. This means that it has an uneven shape. In this case, both the substrate-side and front-side interfaces of the colored layer have the above-described uneven shape, and the substrate-side interface of the colored layer in the recessed portion is located sufficiently close to the substrate, so that the optical semiconductor element emits light. Transmission of light in the side direction is prevented by the colored layer in the concave portion, making it difficult for the light emitted by each optical semiconductor element to interfere with each other, and color shift is suppressed. Furthermore, the colored layer and the non-colored layer have excellent conformability to an uneven shape in which the optical semiconductor element is a convex part and the substrate surface between adjacent optical semiconductor elements is a concave part, and are excellent in sealing properties of the optical semiconductor element. The straight line L3 being parallel to the substrate surface means that the interface on the front side of the third sealing layer located on the front side of the colored layer and the non-colored layer is flat. Since the surface of the third sealing layer is flat, the surface of the sealing resin layer tends to be flat, making it difficult for diffuse reflection of external light to occur, and improving the appearance of the display both when the display is lit and when it is not lit.

なお、本明細書において「正面」とは、表示体を視認する側をいい、例えば後述の図2では上方向である。 Note that in this specification, the "front" refers to the side from which the display body is viewed, and for example, in FIG. 2, which will be described later, is the upward direction.

直線L2は直線L3よりも上記基板表面に対して平行に近いことが好ましい。すなわち、直線L2と上記基板表面とがなす角度は、直線L3と上記基板表面とがなす角度よりも小さいことが好ましい。このような構成を有すると、第一および第二の光半導体素子間における着色層および非着色層の厚さが相対的に厚く、第一の光半導体素子正面側における着色層および非着色層の厚さが相対的に薄くなる傾向にある。このため、光半導体素子が正面側に発する光は着色層を透過しやすく輝度が高くなり、そして光半導体素子が側面方向に発する光は着色層に吸収されやすく、カラーシフトがより抑制される。 It is preferable that the straight line L2 is closer to parallel to the substrate surface than the straight line L3. That is, the angle between the straight line L2 and the substrate surface is preferably smaller than the angle between the straight line L3 and the substrate surface. With such a configuration, the thickness of the colored layer and the non-colored layer between the first and second optical semiconductor elements is relatively thick, and the thickness of the colored layer and the non-colored layer on the front side of the first optical semiconductor element is relatively thick. The thickness tends to be relatively thin. Therefore, the light emitted by the optical semiconductor element toward the front side easily passes through the colored layer, and the brightness becomes high, and the light emitted from the optical semiconductor element toward the side surface is easily absorbed by the colored layer, and color shift is further suppressed.

上記垂直面断面において、垂線PA上の基板表面から第一封止層正面側の界面までの距離は、垂線PC上の基板表面から第一封止層正面側の界面までの距離よりも長いことが好ましい。また、垂線PA上の基板表面から第二封止層正面側の界面までの距離は、垂線PC上の基板表面から第二封止層正面側の界面までの距離よりも長いことが好ましい。この場合、光半導体素子が発する側面方向の光は凹部における着色層により透過が妨げられ、各光半導体素子が発する光を互いに干渉しにくく、カラーシフトがより抑制される。 In the above vertical cross section, the distance from the substrate surface on the perpendicular line P A to the interface on the front side of the first sealing layer is longer than the distance from the substrate surface on the perpendicular line P C to the interface on the front side of the first sealing layer. Preferably long. Further, the distance from the substrate surface on the perpendicular line P A to the interface on the front side of the second sealing layer is preferably longer than the distance from the substrate surface on the perpendicular line P C to the interface on the front side of the second sealing layer. . In this case, the light emitted from the optical semiconductor element in the side direction is prevented from being transmitted by the colored layer in the recess, and the light emitted from each optical semiconductor element is less likely to interfere with each other, and color shift is further suppressed.

上記垂直面断面において、垂線PA上の着色層(第一封止層または第二封止層である着色層)の厚さは、垂線PC上の着色層(第一封止層または第二封止層である着色層)の厚さよりも薄いことが好ましい。このような構成を有すると、第一および第二の光半導体素子間における着色層および非着色層の厚さが相対的に厚く、第一の光半導体素子正面側における着色層および非着色層の厚さが相対的に薄くなる傾向にある。このため、光半導体素子が正面側に発する光は着色層を透過しやすく輝度が高くなり、そして光半導体素子が側面方向に発する光は着色層に吸収されやすく、カラーシフトがより抑制される。また、直線1および直線2が上記基板表面に対して非平行であり、且つこのような構成を有する表示体は、均一な厚さを有する着色層を備える光半導体素子封止用シートを用いて容易に作製することができる。 In the above vertical cross section, the thickness of the colored layer (first sealing layer or second sealing layer) on perpendicular P A is the same as the thickness of the colored layer (first sealing layer or second sealing layer) on perpendicular P C. It is preferably thinner than the thickness of the second sealing layer (colored layer). With such a configuration, the thickness of the colored layer and the non-colored layer between the first and second optical semiconductor elements is relatively thick, and the thickness of the colored layer and the non-colored layer on the front side of the first optical semiconductor element is relatively thick. The thickness tends to be relatively thin. Therefore, the light emitted by the optical semiconductor element toward the front side easily passes through the colored layer, and the brightness becomes high, and the light emitted from the optical semiconductor element toward the side surface is easily absorbed by the colored layer, and color shift is further suppressed. In addition, a display body having such a configuration in which the straight line 1 and the straight line 2 are non-parallel to the surface of the substrate is manufactured by using a sheet for encapsulating an optical semiconductor element having a colored layer having a uniform thickness. It can be easily produced.

上記垂直面断面において、垂線PA上の基板表面から第一の光半導体素子の正面側の端部までの距離は、垂線PC上の基板表面から第一封止層正面側の界面までの距離よりも長いことが好ましい。また、垂線PA上の基板表面から第一の光半導体素子の正面側の端部までの距離は、垂線PC上の基板表面から第二封止層正面側の界面までの距離よりも長いことが好ましい。この場合、光半導体素子が発する側面方向の光は凹部における着色層により透過が妨げられ、各光半導体素子が発する光を互いに干渉しにくく、カラーシフトがより抑制される。 In the above vertical cross section, the distance from the substrate surface on the perpendicular line P A to the front end of the first optical semiconductor element is the distance from the substrate surface on the perpendicular line P C to the interface on the front side of the first sealing layer. It is preferable that it is longer than the distance. Further, the distance from the substrate surface on the perpendicular line P A to the front end of the first optical semiconductor element is longer than the distance from the substrate surface on the perpendicular line P C to the interface on the front side of the second sealing layer. It is preferable. In this case, the light emitted from the optical semiconductor element in the side direction is prevented from being transmitted by the colored layer in the recess, and the light emitted from each optical semiconductor element is less likely to interfere with each other, and color shift is further suppressed.

本発明の表示体について、その一実施形態である図2に示す表示体を用いて説明する。図2に示す表示体1は、基板2と、基板2上に配置された複数の光半導体素子3a~3cと、これら光半導体素子3a~3cを一括して封止する封止樹脂層4と、封止樹脂層4の光半導体素子3a~3c側とは反対側の表面に貼り合わせられた基材部5とを備える。図2は、光半導体素子3a~3cの重心を通る、基板2に対する垂直面断面の拡大図である。 The display of the present invention will be explained using the display shown in FIG. 2, which is one embodiment thereof. The display body 1 shown in FIG. 2 includes a substrate 2, a plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c arranged on the substrate 2, and a sealing resin layer 4 that collectively seals these optical semiconductor elements 3a to 3c. , and a base material portion 5 bonded to the surface of the sealing resin layer 4 on the side opposite to the optical semiconductor elements 3a to 3c side. FIG. 2 is an enlarged view of a cross section perpendicular to the substrate 2 passing through the centers of gravity of the optical semiconductor elements 3a to 3c.

光半導体素子3a~3cは、それぞれ、支持体31により一つの基板2上に固定されている。表示体1は、光半導体素子3a~3c間の、光半導体素子を配置されていない領域の基板2表面を凹部N、光半導体素子3a~3cを凸部Pとした、基板2および光半導体素子3a~3cにより形成される凹凸形状を有する。 The optical semiconductor elements 3a to 3c are each fixed on one substrate 2 by a support 31. The display body 1 includes a substrate 2 and an optical semiconductor element, with a concave portion N formed on the surface of the substrate 2 in an area where no optical semiconductor element is arranged between the optical semiconductor elements 3a to 3c, and a convex portion P formed on the optical semiconductor elements 3a to 3c. It has an uneven shape formed by 3a to 3c.

図2における光半導体素子3a~3cは図1に示す光半導体素子3a~3cであり、光半導体素子3a~3cは同一ピクセル3内に位置する。例えば、光半導体素子3aは第一の光半導体素子であり、光半導体素子3bは光半導体素子3aに隣り合う第二の光半導体素子である。 The optical semiconductor elements 3a to 3c in FIG. 2 are the optical semiconductor elements 3a to 3c shown in FIG. 1, and the optical semiconductor elements 3a to 3c are located within the same pixel 3. For example, the optical semiconductor element 3a is a first optical semiconductor element, and the optical semiconductor element 3b is a second optical semiconductor element adjacent to the optical semiconductor element 3a.

図2に示すように、封止樹脂層4は、複数の光半導体素子3a~3cに接触して上記凹凸形状に追従し、複数の光半導体素子3a~3cを一括して封止している。 As shown in FIG. 2, the sealing resin layer 4 contacts the plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c, follows the above-mentioned uneven shape, and seals the plurality of optical semiconductor elements 3a to 3c all at once. .

封止樹脂層4は、非着色層41、着色層42、および非着色層43がこの順に、直接積層して構成されており、非着色層41側が光半導体素子3a~3c側となるように光半導体素子3a~3cを封止している。非着色層41は第一封止層であり、着色層42は第二封止層であり、非着色層43は第三封止層である。 The sealing resin layer 4 is constructed by directly laminating a non-colored layer 41, a colored layer 42, and a non-colored layer 43 in this order, with the non-colored layer 41 side facing the optical semiconductor elements 3a to 3c. The optical semiconductor elements 3a to 3c are sealed. The non-colored layer 41 is a first sealing layer, the colored layer 42 is a second sealing layer, and the non-colored layer 43 is a third sealing layer.

光半導体素子3a~3cに接触する非着色層41は上記凹凸形状に追従しており、表示体1において非着色層41および着色層42も凹凸形状を有する。一方、非着色層43は一方の面が着色層42の凹凸形状に追従することで着色層42の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。なお、非着色層41および非着色層43は、それぞれ独立して、後述の拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 The non-colored layer 41 in contact with the optical semiconductor elements 3a to 3c follows the above-described uneven shape, and the non-colored layer 41 and the colored layer 42 in the display body 1 also have an uneven shape. On the other hand, one surface of the non-colored layer 43 has an uneven shape that is opposite to the uneven shape of the colored layer 42 by following the uneven shape of the colored layer 42, and the other surface is flat. . Note that the non-colored layer 41 and the non-colored layer 43 may each independently be a diffusion functional layer, which will be described later, or a non-diffusion functional layer.

非着色層41が拡散機能層である場合、封止樹脂層4は、光半導体素子側から、拡散機能層、着色層、および非着色層(特に非拡散機能層)をこの順に備えることとなる。この場合、光半導体素子が側面方向に発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度を高くすることができる。 When the non-colored layer 41 is a diffusion functional layer, the sealing resin layer 4 includes a diffusion functional layer, a colored layer, and a non-colored layer (particularly a non-diffusion functional layer) in this order from the optical semiconductor element side. . In this case, the light emitted by the optical semiconductor element in the side direction can be diffused in the diffusion function layer, and the front brightness can be increased.

図3に、図2に示す表示体1の光半導体素子3aおよび3b間付近の部分拡大図を示す。図3に示すように、表示体1において、光半導体素子3aの重心GAを通る、基板2表面に対する垂線は垂線PAである。光半導体素子3aの重心GAおよび光半導体素子3bの重心GBの中点は中点Cである。中点Cを通る、基板2表面に対する垂線は垂線PCである。垂線PAと第一封止層である非着色層41の正面側界面との交点はTA1である。垂線PAと第二封止層である着色層42の正面側界面との交点はTA2である。垂線PAと第三封止層である非着色層43の正面側界面との交点はTA3である。垂線PCと第一封止層である非着色層41の正面側界面との交点はTC1である。垂線PCと第二封止層である着色層42の正面側界面との交点はTC2である。垂線PCと第三封止層である非着色層43の正面側界面との交点はTC3である。TA1およびTC1を通る直線は直線L1であり、TA2およびTC2を通る直線は直線L2であり、TA3およびTC3を通る直線は直線L3である。そして、基板2表面をベースラインBとしたとき、表示体1において、ベースラインBに対して、直線L1は非平行、直線L2は非平行、直線L3は平行である。垂線PA上の基板2表面からTA1までの距離は垂線PC上の基板2表面からTC1までの距離よりも長く、垂線PA上の基板2表面からTA2までの距離は垂線PC上の基板2表面からTC2までの距離よりも長い。また、直線L2とベースラインBとがなす角度は、直線L3とベースラインBとがなす角度よりも小さい。 FIG. 3 shows a partially enlarged view of the area between the optical semiconductor elements 3a and 3b of the display body 1 shown in FIG. 2. As shown in FIG. 3, in the display body 1, a perpendicular line PA to the surface of the substrate 2 passes through the center of gravity G A of the optical semiconductor element 3a. The midpoint between the center of gravity G A of the optical semiconductor element 3a and the center of gravity G B of the optical semiconductor element 3b is the midpoint C. A line perpendicular to the surface of the substrate 2 passing through the midpoint C is a perpendicular line P C . The intersection of the perpendicular P A and the front side interface of the non-colored layer 41, which is the first sealing layer, is T A1 . The intersection of the perpendicular P A and the front side interface of the colored layer 42, which is the second sealing layer, is T A2 . The intersection of the perpendicular P A and the front side interface of the non-colored layer 43, which is the third sealing layer, is T A3 . The intersection of the perpendicular P C and the front side interface of the non-colored layer 41, which is the first sealing layer, is T C1 . The intersection of the perpendicular P C and the front side interface of the colored layer 42, which is the second sealing layer, is T C2 . The intersection of the perpendicular P C and the front side interface of the non-colored layer 43, which is the third sealing layer, is T C3 . The straight line passing through T A1 and T C1 is the straight line L1, the straight line passing through T A2 and T C2 is the straight line L2, and the straight line passing through T A3 and T C3 is the straight line L3. When the surface of the substrate 2 is the baseline B, in the display 1, the straight line L1 is non-parallel to the baseline B, the straight line L2 is non-parallel, and the straight line L3 is parallel. The distance from the surface of the substrate 2 on the perpendicular line P A to T A1 is longer than the distance from the surface of the substrate 2 on the perpendicular line P C to T C1, and the distance from the surface of the substrate 2 on the perpendicular line P A to T A2 is longer than the distance from the surface of the substrate 2 on the perpendicular line P A to T A2 It is longer than the distance from the surface of the substrate 2 on C to T C2 . Further, the angle between the straight line L2 and the baseline B is smaller than the angle between the straight line L3 and the baseline B.

表示体1において、光半導体素子3a~3cを封止する封止樹脂層4が着色層42を含むことにより、基板2上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。そして、直線L1および直線L2が基板2表面に対して非平行であることは、着色層42および非着色層41の正面側の界面が、共に、光半導体素子3a上で凸、最近接する光半導体素子3aおよび3b間で凹となる凹凸形状を有することを意味する。この場合、着色層42の基板側および正面側の両界面が共に上記凹凸形状を有し、上記凹部における着色層42の基板側の界面が充分に基板2に近い位置にあることにより、光半導体素子3aが発する側面方向の光は凹部における着色層42により透過が妨げられ、各光半導体素子3aおよび3bが発する光を互いに干渉しにくく、カラーシフトが抑制される。また、着色層42および非着色層41は、光半導体素子3aを凸部、隣り合う光半導体素子3aおよび3b間の基板2表面を凹部とする凹凸形状への追従性に優れ、光半導体素子3aの封止性に優れる。そして、直線L3が基板2表面に対して平行であることは、着色層42および非着色層41の正面側に位置する第三封止層である非着色層43正面側の界面がフラットであることを意味する。非着色層43表面がフラットであることにより封止樹脂層4表面がフラットとなりやすく、外光の乱反射を起こりにくくし、点灯時および非点灯時の両方において表示体1の見栄えが向上する。 In the display body 1, since the sealing resin layer 4 that seals the optical semiconductor elements 3a to 3c includes the colored layer 42, it is possible to prevent light from being reflected by metal wiring provided on the substrate 2. The fact that the straight line L1 and the straight line L2 are non-parallel to the surface of the substrate 2 means that the front-side interfaces of the colored layer 42 and the non-colored layer 41 are both convex on the optical semiconductor element 3a, and the nearest optical semiconductor This means that it has an uneven shape that is concave between the elements 3a and 3b. In this case, both the substrate-side and front-side interfaces of the colored layer 42 have the above-mentioned uneven shape, and the substrate-side interface of the colored layer 42 in the recessed portion is located sufficiently close to the substrate 2, so that the optical semiconductor Transmission of the light in the side direction emitted by the element 3a is prevented by the colored layer 42 in the concave portion, making it difficult for the light emitted by the optical semiconductor elements 3a and 3b to interfere with each other, and color shift is suppressed. Moreover, the colored layer 42 and the non-colored layer 41 have excellent followability to an uneven shape in which the optical semiconductor element 3a is a convex part and the surface of the substrate 2 between adjacent optical semiconductor elements 3a and 3b is a concave part. Excellent sealing properties. The fact that the straight line L3 is parallel to the surface of the substrate 2 means that the interface on the front side of the non-colored layer 43, which is the third sealing layer located on the front side of the colored layer 42 and the non-colored layer 41, is flat. It means that. Since the surface of the non-colored layer 43 is flat, the surface of the sealing resin layer 4 tends to be flat, making it difficult for diffuse reflection of external light to occur, and improving the appearance of the display 1 both when lit and when not lit.

また、同一ピクセル内にある全ての光半導体素子それぞれについて、全ての隣り合う光半導体素子との関係において、直線L1および直線L2は基板表面に対して非平行であり、直線L3は基板表面に対して平行であることが好ましい。この場合、例えば図2に示す同一ピクセル内の全ての光半導体素子3a~3cが側面方向に発する光は、着色層42により吸収され、透過しにくく、カラーシフトをより起こりにくくすることができる。 Furthermore, regarding all the optical semiconductor elements in the same pixel, in relation to all adjacent optical semiconductor elements, the straight line L1 and the straight line L2 are non-parallel to the substrate surface, and the straight line L3 is parallel to the substrate surface. It is preferable that they be parallel to each other. In this case, for example, the light emitted by all the optical semiconductor elements 3a to 3c in the same pixel shown in FIG. 2 in the lateral direction is absorbed by the colored layer 42 and is less likely to be transmitted, making it more difficult for color shifts to occur.

具体的に説明すると、図4に示すように、光半導体素子3a~3cが発する正面方向の光FA,FB,およびFCにより、主に表示体1の正面輝度が発揮される。光半導体素子3a~3cが発する側面への光LA,RA,LB,RB,LC,およびRCの透過は着色層42に妨げられることで、光半導体素子3a~3cがそれぞれ発する光を互いに干渉しにくく、カラーシフトが抑制される。表示体1に封止樹脂層4側から入射される外光は、フラットな非着色層43により反射するため、乱反射が起こりにくく、点灯時および非点灯時の両方において表示体1の見栄えが向上する。また、非着色層41は基板2および光半導体素子3a~3cの側面に密着しやすく、非着色層41と基板2および光半導体素子3a~3cとの間に隙間が生じにくい。 Specifically, as shown in FIG. 4, the front brightness of the display body 1 is mainly exhibited by the front-direction lights F A , F B , and F C emitted by the optical semiconductor elements 3a to 3c. Transmission of the lights L A , R A , L B , R B , L C , and R C emitted from the optical semiconductor elements 3 a to 3 c to the side surfaces is blocked by the colored layer 42, so that the optical semiconductor elements 3 a to 3 c are Emitted light is less likely to interfere with each other, and color shifts are suppressed. Since external light that enters the display body 1 from the sealing resin layer 4 side is reflected by the flat non-colored layer 43, diffused reflection is less likely to occur, and the appearance of the display body 1 is improved both when lit and when not lit. do. Further, the non-colored layer 41 easily adheres to the side surfaces of the substrate 2 and the optical semiconductor elements 3a to 3c, and gaps are unlikely to be formed between the non-colored layer 41 and the substrate 2 and the optical semiconductor elements 3a to 3c.

一方、図5に従来の表示体の一実施形態を示す。図5に示す表示体では、非着色層41の正面側界面および着色層42の正面側界面はフラットであるため、直線L1および直線L2は基板2表面に対して平行である。光半導体素子3a~3cが発する側面への光LA,RA,LB,RB,LC,およびRCの透過は着色層42に妨げられにくく、光半導体素子3a~3cがそれぞれ発する光を互いに干渉するため、カラーシフトが発生しやすい。また、第一封止層である非着色層41および第二封止層である着色層42の正面側界面が基板表面に対して平行であるため、光半導体素子3a~3cを封止した状態において非着色層41および着色層42の圧縮が不充分であり、光半導体素子3a~3c側面および基板2表面と封止樹脂層4との間に隙間Hが生じやすくなっている。なお、図5に示す態様において、着色層42の厚さを厚くすると光半導体素子3a~3cが発する光FA~FCの光量は低下する。また、着色層42の厚さを薄くすると正面斜め方向の光の透過率が高くなり、カラーシフトがより発生しやすくなる。これに対し、本発明の表示体であれば、正面輝度の高さ、カラーシフトの防止、外光の乱反射の起こりにくさ、および光半導体素子の封止性の全てを優れたものとすることができる。 On the other hand, FIG. 5 shows an embodiment of a conventional display body. In the display shown in FIG. 5, the front interface of the non-colored layer 41 and the front interface of the colored layer 42 are flat, so the straight line L1 and the straight line L2 are parallel to the surface of the substrate 2. Transmission of the lights L A , R A , L B , R B , L C , and R C to the side surfaces emitted by the optical semiconductor elements 3 a to 3 c is hardly hindered by the colored layer 42, and the light emitted by the optical semiconductor elements 3 a to 3 c, respectively. Color shifts tend to occur because the lights interfere with each other. Furthermore, since the front interface between the non-colored layer 41 as the first sealing layer and the colored layer 42 as the second sealing layer is parallel to the substrate surface, the optical semiconductor elements 3a to 3c are sealed. In this case, compression of the non-colored layer 41 and the colored layer 42 is insufficient, and gaps H tend to occur between the side surfaces of the optical semiconductor elements 3a to 3c and the surface of the substrate 2 and the sealing resin layer 4. Note that in the embodiment shown in FIG. 5, when the thickness of the colored layer 42 is increased, the amount of light F A to F C emitted by the optical semiconductor elements 3a to 3c decreases. Furthermore, when the thickness of the colored layer 42 is made thinner, the transmittance of light in the diagonal front direction increases, making color shift more likely to occur. In contrast, the display body of the present invention has excellent front brightness, prevention of color shift, difficulty in causing diffuse reflection of external light, and sealing properties of optical semiconductor elements. I can do it.

また、直線L1および直線L2が基板表面に対して非平行であることにより、例えば光半導体素子間の基板表面の凹部における着色層の厚さを厚くし、同時に光半導体素子正面の着色層の厚さを薄くするように封止樹脂層を構成できるなど、設計の自由度を高くすることができる。この場合、光半導体素子が発する正面方向の光の透過は着色層に妨げられにくいことで正面輝度に優れ、同時に光半導体素子が発する側面方向の光の透過は着色層に妨げられることでカラーシフトの発生を防止することができる。 Furthermore, since the straight line L1 and the straight line L2 are non-parallel to the substrate surface, for example, the thickness of the colored layer in the recessed part of the substrate surface between the optical semiconductor elements can be increased, and at the same time, the thickness of the colored layer in front of the optical semiconductor element can be increased. The degree of freedom in design can be increased, such as by being able to configure the sealing resin layer so as to reduce the thickness. In this case, the transmission of light in the front direction emitted by the optical semiconductor element is not easily obstructed by the colored layer, resulting in excellent front brightness, and at the same time, the transmission of light in the side direction, emitted by the optical semiconductor element, is blocked by the colored layer, resulting in a color shift. can be prevented from occurring.

光半導体素子の重心は光半導体素子の立体形状によって決定される。光半導体素子の立体形状は特に限定されず、立方体や直方体等の角柱、角錐台、円柱、円錐台、これらの上部をドーム型とした形状などが挙げられる。光半導体素子の立体形状が正角柱状である場合の重心は光半導体素子の中心である。 The center of gravity of the optical semiconductor element is determined by the three-dimensional shape of the optical semiconductor element. The three-dimensional shape of the optical semiconductor element is not particularly limited, and examples include prismatic shapes such as cubes and rectangular parallelepipeds, truncated pyramids, cylinders, truncated cones, and shapes with dome-shaped upper portions. When the three-dimensional shape of the optical semiconductor element is a regular prism, the center of gravity is the center of the optical semiconductor element.

なお、表示体1において、基材部5は備えていなくてもよい。また、1ピクセル内の光半導体素子の数は3個でなくてもよく特に限定されない。 Note that the display body 1 does not need to include the base material portion 5. Furthermore, the number of optical semiconductor elements within one pixel does not have to be three and is not particularly limited.

本発明の表示体の他の一実施形態を図6に示す。図6に示す表示体1において、第一封止層は着色層42であり、第二封止層は非着色層41である。すなわち、図6に示す表示体1は、図2に示す表示体1において、非着色層41および着色層42の位置関係が逆である。その他は図2に示す表示体1と同様である。 Another embodiment of the display of the present invention is shown in FIG. In the display 1 shown in FIG. 6, the first sealing layer is the colored layer 42, and the second sealing layer is the non-colored layer 41. That is, in the display 1 shown in FIG. 6, the positional relationship of the non-colored layer 41 and the colored layer 42 is reversed in the display 1 shown in FIG. Others are the same as the display body 1 shown in FIG.

図2~6に示す表示体の断面図は、例えば、表示体を冷却した状態で、複数の光半導体素子の重心を通るように、基板面に対して垂直に切断することで断面を露出させて得ることができる。表示体を冷却することで、切断時に発生する熱により封止樹脂層に融解や変形が起こるのを抑制できる。切断は、レーザービーム照射やイオンビーム照射などの公知乃至慣用の切断装置を用いて行うことができる。また、切断後、露出した断面をミリングして、より変形度が低い断面を露出させてもよい。冷却時の温度は封止樹脂層の変形度合いや表示体の割れを抑制する範囲内で適宜設定される。 The cross-sectional views of the display body shown in FIGS. 2 to 6 are, for example, obtained by cutting the display body in a cooled state perpendicularly to the substrate surface so as to pass through the center of gravity of a plurality of optical semiconductor elements to expose the cross section. You can get it. By cooling the display, it is possible to prevent the sealing resin layer from melting or deforming due to the heat generated during cutting. The cutting can be performed using a known or commonly used cutting device such as laser beam irradiation or ion beam irradiation. Further, after cutting, the exposed cross section may be milled to expose a cross section with a lower degree of deformation. The temperature during cooling is appropriately set within a range that suppresses the degree of deformation of the sealing resin layer and cracking of the display body.

<封止樹脂層>
上記封止樹脂層は上記着色層および上記非着色層を少なくとも備える。上記封止樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ、上記封止樹脂層内において単層であってもよいし、同一または異なる組成を有する複層であってもよい。着色層や非着色層が複層含まれる場合、上記複層は接触して積層していてもよいし、隔離して積層(例えば2つの着色層が1つの非着色層を介して積層)していてもよい。上記封止樹脂層が着色層および非着色層の1以上を複層備える場合、少なくとも1つの着色層および非着色層の組み合わせが、第一封止層および第二封止層の組み合わせであればよい。
<Sealing resin layer>
The sealing resin layer includes at least the colored layer and the non-colored layer. Each layer (the colored layer and the non-colored layer) constituting the sealing resin layer may be a single layer in the sealing resin layer, or may be a multilayer having the same or different compositions. Good too. When multiple colored layers and non-colored layers are included, the multiple layers may be laminated in contact with each other, or they may be laminated separately (for example, two colored layers are laminated with one non-colored layer interposed therebetween). You can leave it there. When the sealing resin layer includes one or more colored layers and non-colored layers, if the combination of at least one colored layer and non-colored layer is a combination of a first sealing layer and a second sealing layer. good.

本発明の表示体において、第一封止層が非着色層であり、第二封止層が着色層であることが好ましい。このような構成を有することで、正面輝度を高くすることができる。図2に示す表示体1において、第一封止層は非着色層41であり、第二封止層は着色層42である。 In the display of the present invention, it is preferable that the first sealing layer is a non-colored layer and the second sealing layer is a colored layer. With such a configuration, front brightness can be increased. In the display 1 shown in FIG. 2, the first sealing layer is a non-colored layer 41, and the second sealing layer is a colored layer 42.

第三封止層は、着色層および非着色層のいずれであってもよいが、非着色層であることが好ましい。また、この場合、第三封止層は、拡散機能層および非拡散機能層のいずれであってもよいが、直線L3が基板表面に対して平行となりやすい観点から、非拡散機能層であることが好ましい。 The third sealing layer may be either a colored layer or a non-colored layer, but is preferably a non-colored layer. In this case, the third sealing layer may be either a diffusion functional layer or a non-diffusion functional layer, but from the viewpoint that the straight line L3 is likely to be parallel to the substrate surface, it must be a non-diffusion functional layer. is preferred.

上記封止樹脂層は拡散機能層を含むことが好ましい。このような構成を有することで、光半導体素子が発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができる。上記拡散機能層は本明細書における非着色層に該当する層であることが好ましい。 Preferably, the sealing resin layer includes a diffusion functional layer. With such a configuration, the light emitted by the optical semiconductor element can be diffused in the diffusion function layer, and the front brightness can be further increased. It is preferable that the above-mentioned diffusion functional layer corresponds to a non-colored layer in this specification.

上記封止樹脂層が上記拡散機能層を備える場合、上記封止樹脂層は、中でも、第一封止層または第二封止層である非着色層は拡散機能層であることが好ましい。このような構成を有することで、正面輝度をより高くしつつ、点灯時および非点灯時の両方において表示体の見栄えをより向上させることができる。 When the sealing resin layer includes the diffusion functional layer, the non-colored layer of the sealing resin layer, which is the first sealing layer or the second sealing layer, is preferably a diffusion functional layer. By having such a configuration, it is possible to further improve the appearance of the display body both when the display is lit and when it is not lit, while increasing the front luminance.

上記垂直面断面において上記第一封止層は、上記第一および第二の光半導体素子間(両光半導体素子が設置されていない領域)における上記基板表面の総長さ100%に対して、上記第一および第二の光半導体素子間の上記基板表面と、50%以上(好ましくは60%以上、より好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上)接触していることが好ましい。このような構成を有することで、第一封止層は光半導体素子および基板表面で形成される凹凸形状への追従性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。また、同一ピクセル内にある全ての光半導体素子間において、上記第一封止層は上記第一および第二の光半導体素子間の上記基板表面と50%以上接触していることが好ましい。 In the vertical cross section, the first sealing layer has the above-mentioned sealing layer with respect to 100% of the total length of the substrate surface between the first and second optical semiconductor elements (the area where both optical semiconductor elements are not installed). It is preferable that 50% or more (preferably 60% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more) contact with the substrate surface between the first and second optical semiconductor elements. With such a configuration, the first sealing layer has excellent followability to the uneven shape formed on the surface of the optical semiconductor element and the substrate, and has excellent sealing performance of the optical semiconductor element. Moreover, it is preferable that the first sealing layer contacts 50% or more of the substrate surface between the first and second optical semiconductor elements among all the optical semiconductor elements in the same pixel.

上記封止樹脂層を構成する各層は、それぞれ独立して、粘着性を有していてもよく、有していなくてもよい。中でも、粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止樹脂層は光半導体素子を容易に封止することができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。特に、少なくとも光半導体素子に接触する第一封止層は粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、封止樹脂層による光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れる。その結果、光半導体素子による段差が高い場合であっても意匠性に優れる。なお、光半導体素子に接触する層以外の層は粘着性を有しなくてもよい。この場合、タイリング状態において隣接する封止樹脂層同士の密着性が低く、隣接した小サイズの積層体(基板上に配置された光半導体素子を封止樹脂層が封止した積層体)同士を引き離す際、封止樹脂層の欠損や隣接する封止樹脂層の付着が起こりにくい。 Each layer constituting the sealing resin layer may or may not have adhesiveness independently. Among these, it is preferable to have adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer can easily seal the optical semiconductor element, and also has excellent adhesion between each layer, resulting in more excellent sealing properties of the optical semiconductor element. In particular, it is preferable that at least the first sealing layer that contacts the optical semiconductor element has adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer has excellent followability and embeddability of the optical semiconductor element. As a result, the design is excellent even when the height difference due to the optical semiconductor element is high. Note that the layers other than the layer that contacts the optical semiconductor element do not need to have adhesiveness. In this case, adhesion between adjacent encapsulating resin layers is low in the tiling state, and adjacent small-sized laminates (laminates in which optical semiconductor elements placed on a substrate are encapsulated by encapsulating resin layers) When separating them, damage to the sealing resin layer and adhesion of adjacent sealing resin layers is less likely to occur.

(着色層)
本発明の表示体における着色層は、表示体において基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することを目的とする層である。上記着色層は着色剤を少なくとも含む。上記着色層は、樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。上記着色剤は、上記着色層に溶解または分散可能なものであれば、染料でも顔料でもよい。少量の添加でも低いヘイズが達成でき、顔料のように沈降性がなく均一に分布させやすいことから、染料が好ましい。また、少量の添加でも色発現性が高いことから、顔料も好ましい。着色剤として顔料を使用する場合は、導電性が低いか、ないものが好ましい。上記着色剤は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
(colored layer)
The colored layer in the display of the present invention is a layer whose purpose is to prevent reflection of light from metal wiring provided on a substrate in the display. The colored layer contains at least a colorant. The colored layer is preferably a resin layer made of resin. The coloring agent may be a dye or a pigment as long as it can be dissolved or dispersed in the colored layer. Dyes are preferred because they can achieve low haze even when added in small amounts, and are easy to distribute uniformly without settling unlike pigments. Pigments are also preferred because they provide high color development even when added in small amounts. If a pigment is used as a coloring agent, it is preferably one with low or no electrical conductivity. The above coloring agents may be used alone or in combination of two or more.

上記着色剤としては、黒系着色剤が好ましい。上記黒系着色剤としては、公知乃至慣用の黒色を呈するための着色剤(顔料、染料等)を用いることができ、例えば、カーボンブラック(ファーネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、ランプブラック、松煙等)、グラファイト、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラック、ペリレンブラック、チタンブラック、シアニンブラック、活性炭、フェライト(非磁性フェライト、磁性フェライト等)、マグネタイト、酸化クロム、酸化鉄、二硫化モリブデン、クロム錯体、アントラキノン系着色剤、窒化ジルコニウムなどが挙げられる。また、黒色以外の色を呈する着色剤を組み合わせて配合して黒系着色剤として機能する着色剤を用いてもよい。 As the colorant, a black colorant is preferable. As the black colorant, known or commonly used colorants (pigments, dyes, etc.) for producing a black color can be used. For example, carbon black (furnace black, channel black, acetylene black, thermal black, lamp black, etc.) can be used. , pine smoke, etc.), graphite, copper oxide, manganese dioxide, aniline black, perylene black, titanium black, cyanine black, activated carbon, ferrite (non-magnetic ferrite, magnetic ferrite, etc.), magnetite, chromium oxide, iron oxide, molybdenum disulfide , chromium complexes, anthraquinone colorants, zirconium nitride, etc. Further, a colorant that functions as a black colorant by combining a colorant exhibiting a color other than black may be used.

上記着色層における着色剤の含有割合は、適切な反射防止能を表示体に付与する観点からは、着色層の総量100質量%に対して、0.2質量%以上が好ましく、より好ましくは0.4質量%以上である。また、上記着色剤の含有割合は、例えば10質量%以下であり、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下である。上記含有割合は、着色剤の種類や、表示体の色調および光透過率等に応じて適宜設定すればよい。着色剤は、適宜の溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液として、組成物に添加してもよい。 The content ratio of the colorant in the colored layer is preferably 0.2% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, based on 100% by mass of the total amount of the colored layer, from the viewpoint of imparting appropriate antireflection ability to the display. .4% by mass or more. Further, the content of the colorant is, for example, 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less. The content ratio may be appropriately set depending on the type of colorant, the color tone and light transmittance of the display body, and the like. The colorant may be added to the composition as a solution or dispersion dissolved or dispersed in a suitable solvent.

上記着色層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、正面輝度および表示体の視認性を確保する観点から、50%以下が好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは30%以下、特に好ましくは20%以下である。また、上記着色層のヘイズ値は、表示体の輝度ムラを効率的に低減する観点から、1%以上が好ましく、より好ましくは3%以上、さらに好ましくは5%以上、特に好ましくは8%以上であり、10%以上であってもよい。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記着色層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring front brightness and visibility of the display, it is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, still more preferably 30%. It is particularly preferably 20% or less. Further, the haze value of the colored layer is preferably 1% or more, more preferably 3% or more, still more preferably 5% or more, particularly preferably 8% or more, from the viewpoint of efficiently reducing brightness unevenness of the display body. and may be 10% or more. The haze value is the value at the thickest portion of the colored layer in the display.

上記着色層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体における金属配線などの反射防止機能、コントラストをより向上させるという観点から、40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは25%以下、特に好ましくは20%以下である。また、上記着色層の全光線透過率は、表示体の輝度を確保するという観点から、0.5%以上であることが好ましく、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上であり、2.5%以上、または3%以上であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記着色層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of further improving the antireflection function and contrast of metal wiring in the display, it is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably is 25% or less, particularly preferably 20% or less. Further, the total light transmittance of the colored layer is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 1.5% or more, from the viewpoint of ensuring the brightness of the display body. Particularly preferably, it is 2% or more, and may be 2.5% or more, or 3% or more. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the colored layer in the display.

上記着色層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、種類や厚さ、着色剤の種類や配合量などにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned colored layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. It can be controlled by the amount etc.

(非着色層)
上記非着色層は、上記着色層とは異なる層であり、表示体において基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することを目的としない層である。上記非着色層は、無色層であってもよく、わずかに着色していてもよい。また、上記非着色層は、例えば光を拡散する機能を発揮することを目的とする拡散機能層であってもよく、光を拡散する機能を発揮することを目的としない非拡散機能層であってもよい。上記非着色層は、透明であってもよく、非透明であってもよい。上記非着色層は樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。
(Non-colored layer)
The above-mentioned non-colored layer is a layer different from the above-mentioned colored layer, and is a layer that is not intended to prevent reflection of light from metal wiring or the like provided on a substrate in a display body. The non-colored layer may be a colorless layer or may be slightly colored. Further, the above-mentioned non-colored layer may be, for example, a diffusion functional layer whose purpose is to exhibit a function of diffusing light, or a non-diffusion functional layer whose purpose is not to exhibit a function of diffusing light. It's okay. The non-colored layer may be transparent or non-transparent. The non-colored layer is preferably a resin layer made of resin.

上記非着色層における着色剤の含有割合は、非着色層の総量100質量%に対して、0.2質量%未満が好ましく、より好ましくは0.1質量%未満、さらに好ましくは0.05質量%未満であり、0.01質量%未満または0.005質量%未満であってもよい。 The content of the colorant in the non-colored layer is preferably less than 0.2% by weight, more preferably less than 0.1% by weight, and even more preferably 0.05% by weight, based on 100% by weight of the total amount of the non-colored layer. %, and may be less than 0.01% by weight or less than 0.005% by weight.

上記非着色層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体の輝度を確保するという観点から、40%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。また、上記非着色層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記非着色層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the non-colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring the brightness of the display, it is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, still more preferably 70% or more, particularly preferably It is 80% or more. Further, the upper limit of the total light transmittance of the non-colored layer is not particularly limited, but may be less than 100%, 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the non-colored layer in the display.

上記非着色層の全光線透過率は、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、非着色層の種類や厚さなどにより制御することができる。 The total light transmittance of the above-mentioned non-colored layer is the value of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, and can be controlled by the type and thickness of the non-colored layer. .

上記拡散機能層は、光を拡散することを目的とする層である。上記封止樹脂層が上記拡散機能層を有すると、光半導体素子から発せられる光が拡散機能層中で拡散し、例えば光半導体素子の側面から発せられる光が表示体の正面方向に放出され、表示体の正面輝度が向上する。上記拡散機能層は樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。上記拡散機能層は、限定されないが、光拡散性微粒子を含むことが好ましい。すなわち、上記拡散機能層は、樹脂層中に分散した光拡散性微粒子を含むことが好ましい。上記光拡散性微粒子は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 The above-mentioned diffusion functional layer is a layer whose purpose is to diffuse light. When the sealing resin layer has the diffusion functional layer, light emitted from the optical semiconductor element is diffused in the diffusion functional layer, and for example, light emitted from the side surface of the optical semiconductor element is emitted toward the front of the display, The front brightness of the display body is improved. The diffusion functional layer is preferably a resin layer made of resin. The above-mentioned diffusion functional layer preferably includes, but is not limited to, light-diffusing fine particles. That is, the above-mentioned diffusion functional layer preferably contains light-diffusing fine particles dispersed in the resin layer. The above-mentioned light-diffusing fine particles may be used alone or in combination of two or more.

上記光拡散性微粒子は、拡散機能層を構成する樹脂との適切な屈折率差を有し、拡散機能層に拡散性能を付与するものである。光拡散性微粒子としては、無機微粒子、高分子微粒子などが挙げられる。無機微粒子の材質としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレー、タルク、金属酸化物などが挙げられる。高分子微粒子の材質としては、例えば、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂(例えば、ポリメタクリル酸メチル等のポリメタクリレート樹脂を含む)、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。 The light-diffusing fine particles have an appropriate refractive index difference with the resin constituting the diffusion functional layer, and impart diffusion performance to the diffusion functional layer. Examples of the light-diffusing fine particles include inorganic fine particles and polymer fine particles. Examples of the material for the inorganic fine particles include silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, clay, talc, and metal oxides. Examples of the material of the polymer fine particles include silicone resin, acrylic resin (including polymethacrylate resin such as polymethyl methacrylate), polystyrene resin, polyurethane resin, melamine resin, polyethylene resin, and epoxy resin. .

上記高分子微粒子としては、シリコーン樹脂で構成される微粒子が好ましい。また、上記無機微粒子としては、金属酸化物で構成される微粒子が好ましい。上記金属酸化物としては、酸化チタン、チタン酸バリウムが好ましく、より好ましくは酸化チタンである。このような構成を有することにより、上記拡散機能層の光拡散性により優れ、輝度ムラがより抑制される。 As the polymer fine particles, fine particles made of silicone resin are preferable. Further, as the inorganic fine particles, fine particles made of metal oxide are preferable. As the metal oxide, titanium oxide and barium titanate are preferable, and titanium oxide is more preferable. By having such a configuration, the light diffusing property of the above-mentioned diffusion functional layer is more excellent, and brightness unevenness is further suppressed.

上記光拡散性微粒子の形状は、特に限定されず、例えば、真球状、扁平状、不定形状であってもよい。 The shape of the light-diffusing fine particles is not particularly limited, and may be, for example, perfectly spherical, flat, or irregularly shaped.

上記光拡散性微粒子の平均粒子径は、適切な光拡散性能を付与する観点からは、0.1μm以上が好ましく、より好ましくは0.15μm以上、さらに好ましくは0.2μm以上、特に好ましくは0.25μm以上である。また、上記光拡散性微粒子の平均粒子径は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、12μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以下、さらに好ましくは8μm以下である。平均粒子径は、例えば、コールターカウンターを用いて測定することができる。 The average particle diameter of the light-diffusing fine particles is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.15 μm or more, even more preferably 0.2 μm or more, particularly preferably 0. .25 μm or more. Furthermore, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image, the average particle diameter of the light-diffusing fine particles is preferably 12 μm or less, more preferably 10 μm or less, and still more preferably 8 μm or less. It is. The average particle diameter can be measured using, for example, a Coulter counter.

上記光拡散性微粒子の屈折率は、1.2~5が好ましく、より好ましくは1.25~4.5、さらに好ましくは1.3~4、特に好ましくは1.35~3である。 The refractive index of the light-diffusing fine particles is preferably 1.2 to 5, more preferably 1.25 to 4.5, even more preferably 1.3 to 4, particularly preferably 1.35 to 3.

上記光拡散性微粒子と拡散機能層を構成する樹脂(拡散機能層において光拡散性微粒子を除いた樹脂層)との屈折率差の絶対値は、表示体の輝度ムラをより効率的に低減する観点から、0.001以上が好ましく、より好ましくは0.01以上、さらに好ましくは0.02以上、特に好ましくは0.03以上であり、0.04以上、または0.05以上であってもよい。また、光拡散性微粒子と樹脂との屈折率差の絶対値は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、5以下が好ましく、より好ましくは4以下、さらに好ましくは3以下である。 The absolute value of the difference in refractive index between the light-diffusing fine particles and the resin constituting the diffusion functional layer (the resin layer excluding the light-diffusing fine particles in the diffusion functional layer) more efficiently reduces uneven brightness of the display. From the viewpoint, it is preferably 0.001 or more, more preferably 0.01 or more, even more preferably 0.02 or more, particularly preferably 0.03 or more, even if it is 0.04 or more, or 0.05 or more. good. Further, the absolute value of the refractive index difference between the light-diffusing fine particles and the resin is preferably 5 or less, more preferably 4 or less, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image. More preferably, it is 3 or less.

上記拡散機能層中の上記光拡散性微粒子の含有量は、適切な光拡散性能を封止樹脂層に付与する観点からは、拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、0.01質量部以上が好ましく、より好ましくは0.05質量部以上、さらに好ましくは0.1質量部以上、特に好ましくは0.15質量部以上である。また、光拡散性微粒子の含有量は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、80質量部以下が好ましく、より好ましくは70質量部以下である。 From the viewpoint of imparting appropriate light diffusion performance to the sealing resin layer, the content of the light diffusing fine particles in the diffusion functional layer is 0.01 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin constituting the diffusion functional layer. The amount is preferably at least 0.05 parts by mass, more preferably at least 0.1 parts by mass, particularly preferably at least 0.15 parts by mass. In addition, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying a high-definition image, the content of the light-diffusing fine particles is 80 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the resin constituting the diffusion functional layer. is preferable, and more preferably 70 parts by mass or less.

上記拡散機能層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、輝度ムラを効率的に低減する観点から、30%以上が好ましく、より好ましくは40%以上、さらに好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上であり、70%以上、80%以上、90%以上、95%以上、97%以上であってもよく、さらに99.9%付近のものが輝度ムラ改善効果により優れて好ましい。なお、上記拡散機能層のヘイズ値の上限は、特に限定されず、すなわち、100%であってもよい。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of efficiently reducing uneven brightness, it is preferably 30% or more, more preferably 40% or more, even more preferably 50% or more, Particularly preferably, it is 60% or more, and may be 70% or more, 80% or more, 90% or more, 95% or more, 97% or more, and moreover, a value around 99.9% is more excellent in the brightness unevenness improving effect. preferable. Note that the upper limit of the haze value of the diffusion functional layer is not particularly limited, and may be 100%. The haze value is the value at the thickest portion of the diffusion functional layer in the display.

上記拡散機能層の全光線透過率は、特に限定されないが、輝度を確保するという観点から、40%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。また、上記拡散機能層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring brightness, it is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, even more preferably 70% or more, particularly preferably 80% or more. It is. Further, the upper limit of the total light transmittance of the diffusion functional layer is not particularly limited, but may be less than 100%, 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the diffusion functional layer in the display.

上記拡散機能層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、拡散機能層の種類や厚さ、光拡散性微粒子の種類や配合量などにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned diffusion functional layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. It can be controlled by the type and amount of diffusible particles.

上記非拡散機能層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、表示体の輝度を優れたものとする観点から、30%未満が好ましく、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下、特に好ましくは1%以下であり、0.5%以下であってもよい。なお、上記非拡散機能層のヘイズ値の下限は特に限定されない。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記非拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the non-diffusion functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the brightness of the display, it is preferably less than 30%, more preferably 10% or less, and even more preferably 5%. % or less, particularly preferably 1% or less, and may be 0.5% or less. Note that the lower limit of the haze value of the non-diffusion functional layer is not particularly limited. The haze value is the value at the thickest portion of the non-diffusion functional layer in the display body.

上記非拡散機能層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体の輝度を確保するという観点から、60%以上が好ましく、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。また、上記非拡散機能層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記非拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the non-diffusing functional layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring the brightness of the display, it is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably is 90% or more. Further, the upper limit of the total light transmittance of the non-diffusing functional layer is not particularly limited, but may be less than 100%, 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest portion of the non-diffusion functional layer in the display.

上記非拡散機能層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、非拡散機能層の種類や厚さなどにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned non-diffusing functional layer are the values of a single layer, and can be measured by the method specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, and may vary depending on the type and thickness of the non-diffusing functional layer. It can be controlled by etc.

上記非拡散機能層中の着色剤および/または光拡散性微粒子の含有量は、表示体の輝度を優れたものとする観点から、非拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、0.01質量部未満が好ましく、より好ましくは0.005質量部未満である。 The content of the colorant and/or light-diffusing fine particles in the non-diffusing functional layer is set to 0 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin constituting the non-diffusing functional layer, from the viewpoint of improving the brightness of the display. It is preferably less than .01 parts by weight, more preferably less than 0.005 parts by weight.

(樹脂層)
上記樹脂層を構成する樹脂としては、公知乃至慣用の樹脂が挙げられ、例えば、アクリル系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、オキセタン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂(ポリビニルエーテル等)、ポリアミド系樹脂、フッ素系樹脂、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィンなどが挙げられる。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。上記封止樹脂層の各層を構成する樹脂は、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
(resin layer)
Examples of the resin constituting the resin layer include known or commonly used resins, such as acrylic resins, urethane acrylate resins, urethane resins, rubber resins, epoxy resins, epoxy acrylate resins, and oxetane resins. , silicone resins, silicone acrylic resins, polyester resins, polyether resins (such as polyvinyl ether), polyamide resins, fluororesins, vinyl acetate/vinyl chloride copolymers, and modified polyolefins. The above resins may be used alone or in combination of two or more. The resins constituting each layer of the sealing resin layer may be the same or different.

上記樹脂層が粘着性を有する層(粘着層)である場合、上記樹脂として、公知乃至慣用の感圧型の粘着剤を用いることができる。上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤(天然ゴム系、合成ゴム系、これらの混合系等)、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、フッ素系粘着剤などが挙げられる。上記粘着剤は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 When the resin layer is an adhesive layer (adhesive layer), a known or commonly used pressure-sensitive adhesive can be used as the resin. Examples of the above-mentioned adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives (natural rubber-based, synthetic rubber-based, mixtures thereof, etc.), silicone-based adhesives, polyester-based adhesives, urethane-based adhesives, and polyether. Examples include adhesives such as adhesives based on polyamide, polyamide adhesives, and fluorine adhesives. The above adhesives may be used alone or in combination of two or more.

上記樹脂層は、上記各層において本発明の効果を損なわない範囲で、上述の各成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、硬化剤、架橋促進剤、粘着付与樹脂(ロジン誘導体、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール等)、オリゴマー、老化防止剤、充填剤(金属粉、有機充填剤、無機充填剤等)、酸化防止剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、レベリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、粒状物、箔状物などが挙げられる。上記その他の成分は、それぞれ、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 The resin layer may contain other components other than the above-mentioned components as long as the effects of the present invention are not impaired in each layer. Other ingredients listed above include curing agents, crosslinking accelerators, tackifying resins (rosin derivatives, polyterpene resins, petroleum resins, oil-soluble phenols, etc.), oligomers, anti-aging agents, fillers (metal powders, organic fillers, inorganic fillers, etc.), antioxidants, plasticizers, softeners, surfactants, antistatic agents, surface lubricants, leveling agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, granular materials, foil-like materials, etc. Can be mentioned. The above-mentioned other components may be used alone or in combination of two or more.

上記封止樹脂層の積層構造としては、[拡散機能層/着色層/非拡散機能層]、[非拡散機能層/着色層/拡散機能層]、[拡散機能層/着色層/拡散機能層]、[非拡散機能層/着色層/非拡散機能層]、[着色層/拡散機能層/非拡散機能層]、[着色層/非拡散機能層/拡散機能層]、[着色層/拡散機能層/拡散機能層]、[着色層/非拡散機能層/非拡散機能層]、[拡散機能層/着色層/着色層]、[非拡散機能層/着色層/着色層]、[着色層/拡散機能層/着色層]、[着色層/非拡散機能層/着色層](以上、光半導体素子側から順)などが挙げられる。 The laminated structure of the above sealing resin layer includes [diffusion functional layer/colored layer/non-diffusion functional layer], [non-diffusion functional layer/colored layer/diffusion functional layer], and [diffusion functional layer/colored layer/diffusion functional layer]. ], [Non-diffusion functional layer/Colored layer/Non-diffusion functional layer], [Colored layer/Diffusion functional layer/Non-diffusion functional layer], [Colored layer/Non-diffusion functional layer/Diffusion functional layer], [Colored layer/Diffusion Functional layer/Diffusion functional layer], [Colored layer/Non-diffusion functional layer/Non-diffusion functional layer], [Diffusion functional layer/Colored layer/Colored layer], [Non-diffusion functional layer/Colored layer/Colored layer], [Colored layer] layer/diffusion functional layer/colored layer], [colored layer/non-diffusion functional layer/colored layer] (in order from the optical semiconductor element side), and the like.

<基材部>
本発明の表示体は、基材部を備えていてもよく、備えていなくてもよい。上記基材部は、上記表示体において封止樹脂層の正面側に備えると、封止樹脂層表面をよりフラットにすることができ、これより光の乱反射を起こりにくくし、点灯時および非点灯時の両方において表示体の見栄えが向上する。また、上記基材部に後述のアンチグレア層や反射防止層を形成することで表示体にアンチグレア性や反射防止性を付与することができる。また、後述の光半導体素子封止用シートにおいて封止用樹脂層の支持体となり、上記基材部を備えることにより光半導体素子封止用シートの取り扱い性に優れる。
<Base material part>
The display body of the present invention may or may not include a base material portion. When the base material part is provided on the front side of the sealing resin layer in the display body, the surface of the sealing resin layer can be made flatter, which makes it less likely to cause diffused reflection of light, and can be used both when lit and when not lit. The appearance of the display body is improved at both times. Further, by forming an anti-glare layer or an anti-reflection layer, which will be described later, on the base material portion, anti-glare properties and anti-reflection properties can be imparted to the display body. In addition, it serves as a support for a sealing resin layer in a sheet for encapsulating an optical semiconductor element, which will be described later, and by providing the above-mentioned base material portion, the sheet for encapsulating an optical semiconductor element has excellent handling properties.

上記基材部は、単層であってもよいし、同一または組成や厚さ等が異なる複層であってもよい。上記基材部が複層である場合、各層は粘着剤層などの他の層により貼り合わせられていてもよい。なお、基材部に使用される基材層は、封止樹脂層とともに光半導体素子を備える基板に貼付される部分であり、光半導体素子封止用シートの使用時(貼付時)に剥離されるはく離ライナーや、基材部表面を保護するに過ぎない表面保護フィルムは「基材部」には含まない。 The base material portion may be a single layer, or may be a multilayer having the same or different compositions, thicknesses, etc. When the base material part is multi-layered, each layer may be bonded together by another layer such as an adhesive layer. Note that the base material layer used for the base material part is a part that is attached to the substrate containing the optical semiconductor element together with the sealing resin layer, and is peeled off when the optical semiconductor element sealing sheet is used (at the time of attachment). A "base material" does not include a release liner or a surface protection film that merely protects the surface of the base material.

上記基材部を構成する基材層としては、例えば、ガラスやプラスチック基材(特に、プラスチックフィルム)などが挙げられる。上記プラスチック基材を構成する樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン、アイオノマー、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン-プロピレン共重合体、環状オレフィン系ポリマー、エチレン-ブテン共重合体、エチレン-ヘキセン共重合体等のポリオレフィン樹脂;ポリウレタン;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルイミド;アラミド、全芳香族ポリアミド等のポリアミド;ポリフェニルスルフィド;フッ素樹脂;ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース樹脂;シリコーン樹脂;ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂;ポリサルフォン;ポリアリレート;ポリ酢酸ビニルなどが挙げられる。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。上記基材層は、反射防止(AR)フィルム、偏光板、位相差板等の各種光学フィルムであってもよい。 Examples of the base layer constituting the base portion include glass and plastic base materials (especially plastic films). Examples of the resin constituting the plastic base material include low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, random copolymerized polypropylene, block copolymerized polypropylene, and homopolyprolene. , polybutene, polymethylpentene, ionomer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester (random, alternating) copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene- Polyolefin resins such as propylene copolymers, cyclic olefin polymers, ethylene-butene copolymers, and ethylene-hexene copolymers; polyurethanes; polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate (PBT); Polycarbonate; Polyimide resin; Polyetheretherketone; Polyetherimide; Polyamide such as aramid and wholly aromatic polyamide; Polyphenylsulfide; Fluororesin; Polyvinyl chloride; Polyvinylidene chloride; Cellulose resin such as triacetylcellulose (TAC) ; silicone resin; acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA); polysulfone; polyarylate; polyvinyl acetate. The above resins may be used alone or in combination of two or more. The base material layer may be various optical films such as an antireflection (AR) film, a polarizing plate, and a retardation plate.

上記プラスチックフィルムの厚さは、20~300μmであることが好ましく、より好ましくは40~250μmである。上記厚さが20μm以上であると、光半導体素子封止用シートの支持性および取り扱い性がより向上する。上記厚さが300μm以下であると、表示体をより薄くすることができる。 The thickness of the plastic film is preferably 20 to 300 μm, more preferably 40 to 250 μm. When the thickness is 20 μm or more, the supportability and handleability of the sheet for encapsulating an optical semiconductor device are further improved. When the thickness is 300 μm or less, the display body can be made thinner.

上記基材部の上記封止樹脂層を備える側の表面は、封止樹脂層との密着性、保持性等を高める目的で、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、サンドマット加工処理、オゾン暴露処理、火炎暴露処理、高圧電撃暴露処理、イオン化放射線処理等の物理的処理;クロム酸処理等の化学的処理;コーティング剤(下塗り剤)による易接着処理等の表面処理が施されていてもよい。密着性を高めるための表面処理は、基材部における封止樹脂層側の表面全体に施されていることが好ましい。 The surface of the base material on the side where the sealing resin layer is provided may be subjected to, for example, corona discharge treatment, plasma treatment, sand mat treatment, ozone exposure, etc., for the purpose of improving adhesion and retention with the sealing resin layer. Physical treatments such as treatment, flame exposure treatment, high-voltage electric shock treatment, and ionizing radiation treatment; chemical treatments such as chromic acid treatment; surface treatments such as easy-adhesion treatment using a coating agent (undercoat). . The surface treatment for improving adhesion is preferably applied to the entire surface of the base portion on the side of the sealing resin layer.

上記基材部の厚さは、支持体としての機能および表面の耐擦傷性に優れる観点から、5μm以上が好ましく、より好ましくは10μm以上である。上記基材部の厚さは、透明性により優れる観点から、300μm以下が好ましく、より好ましくは250μm以下である。 The thickness of the base material portion is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, from the viewpoint of excellent support function and surface scratch resistance. The thickness of the base material portion is preferably 300 μm or less, more preferably 250 μm or less, from the viewpoint of better transparency.

<表示体>
上記表示体は、アンチグレア性および/または反射防止性を有する層を備えていてもよい。このような構成を有することにより、上記表示体の光沢や光の反射を抑制し、見栄えをより良くすることができる。上記アンチグレア性を有する層としてはアンチグレア処理層が挙げられる。上記反射防止性を有する層としては反射防止処理層が挙げられる。アンチグレア処理および反射防止処理は、それぞれ、公知乃至慣用の方法で実施することができる。上記アンチグレア性を有する層および上記反射防止性を有する層は、同一層であってもよいし、互いに異なる層であってもよい。上記アンチグレア性および/または反射防止性を有する層は、一層のみ有していてもよいし、二層以上を有していてもよい。
<Display body>
The display body may include a layer having anti-glare and/or anti-reflection properties. By having such a configuration, it is possible to suppress the gloss and light reflection of the display body and improve the appearance. Examples of the layer having anti-glare properties include an anti-glare treated layer. Examples of the layer having antireflection properties include an antireflection treated layer. The anti-glare treatment and the anti-reflection treatment can be carried out using known or commonly used methods. The layer having anti-glare properties and the layer having anti-reflection properties may be the same layer or may be different layers. The layer having anti-glare properties and/or anti-reflection properties may have only one layer, or may have two or more layers.

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、輝度ムラの抑制効果と意匠性とがより優れたものとする観点から、80%以上が好ましく、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上である。なお、上記ヘイズ値の上限は特に限定されない。 The haze value (initial haze value) of the sealing resin layer or the laminate having both end faces of the sealing resin layer and the base material part is not particularly limited, but it is effective for suppressing brightness unevenness and for design. From the viewpoint of making it more excellent, it is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more. Note that the upper limit of the haze value is not particularly limited.

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体の全光線透過率は、特に限定されないが、金属配線などの反射防止機能、コントラストをより向上させるという観点から、40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下である。また、上記全光線透過率は、輝度を確保するという観点から、0.5%以上であることが好ましい。 The total light transmittance of the sealing resin layer or the laminate having both end faces of the sealing resin layer and the base material part is not particularly limited, but it can further improve the anti-reflection function and contrast of metal wiring etc. From this viewpoint, it is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. Further, the total light transmittance is preferably 0.5% or more from the viewpoint of ensuring brightness.

上記ヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、上記封止樹脂層および上記基材部を構成する各層の積層順や種類、厚さなどにより制御することができる。 The above haze value and total light transmittance can be measured by the methods specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, respectively, and depend on the stacking order, type, and thickness of each layer constituting the sealing resin layer and the base material part. It can be controlled by

上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体の厚さは、金属配線などの反射防止機能、コントラストを向上させつつ、カラーシフトをより効率的に低減する観点から、10~600μmであることが好ましく、より好ましくは20~550μm、さらに好ましくは30~500μm、さらに好ましくは40~450μm、特に好ましくは50~400μmである。なお、はく離ライナーは上記厚さには含まれないものとする。 The thickness of the encapsulation resin layer or the laminate having both end faces of the encapsulation resin layer and the base material part is determined to improve the anti-reflection function and contrast of metal wiring, while also making color shift more efficient. From the viewpoint of reducing the thickness, it is preferably 10 to 600 μm, more preferably 20 to 550 μm, even more preferably 30 to 500 μm, still more preferably 40 to 450 μm, and particularly preferably 50 to 400 μm. Note that the release liner is not included in the above thickness.

また、本発明の表示体は、自発光型表示装置を備えることが好ましい。また、上記自発光型表示装置と、必要に応じて表示パネルとを組み合わせることで画像表示装置である表示体とすることができる。この場合の光半導体素子はLED素子である。上記自発光型表示装置としては、LEDディスプレイやバックライト、あるいは有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。上記バックライトは特に全面直下型のバックライトであることが好ましい。上記バックライトは例えば上記基板と当該基板上に配置された複数の光半導体素子とを備える積層体を構成部材の少なくとも一部として含む。例えば、上記自発光型表示装置において、上記基板上には、各LED素子に発光制御信号を送るための金属配線層が積層されている。赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色の光を発する各LED素子は、基板上に金属配線層を介して交互に配列されている。金属配線層は、銅などの金属によって形成されており、各LED素子の発光度合いを調整して各色を表示させる。 Moreover, it is preferable that the display body of the present invention includes a self-luminous display device. Further, by combining the above self-luminous display device and a display panel as necessary, a display body that is an image display device can be obtained. The optical semiconductor element in this case is an LED element. Examples of the self-luminous display device include an LED display, a backlight, an organic electroluminescence (organic EL) display device, and the like. It is particularly preferable that the backlight is a full-surface direct type backlight. The backlight includes, for example, a laminate including the substrate and a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate as at least a part of its constituent members. For example, in the self-luminous display device, a metal wiring layer for sending a light emission control signal to each LED element is laminated on the substrate. LED elements that emit light of red (R), green (G), and blue (B) colors are alternately arranged on a substrate with metal wiring layers interposed therebetween. The metal wiring layer is made of metal such as copper, and displays each color by adjusting the degree of light emission of each LED element.

本発明の表示体は、折り曲げて使用される表示体、例えば、折り曲げ可能な画像表示装置(フレキシブルディスプレイ)(特に、折り畳み可能な画像表示装置(フォルダブルディスプレイ))であってもよい。具体的には、折り畳み可能なバックライトを備える表示体、折り畳み可能な自発光型表示装置を備える表示体などが挙げられる。 The display of the present invention may be a display that is used by being folded, for example, a foldable image display device (flexible display) (particularly a foldable image display device (foldable display)). Specifically, examples include a display body equipped with a foldable backlight, a display body equipped with a foldable self-luminous display device, and the like.

本発明の表示体において、上記封止樹脂層は光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れるため、上記光半導体素子はミニLED素子やマイクロLED素子であってもよい。 In the display of the present invention, since the sealing resin layer has excellent followability and embeddability of the optical semiconductor element, the optical semiconductor element may be a mini LED element or a micro LED element.

本発明の表示体によれば、光半導体素子が発する光によるカラーシフトが起こりにくく、外光の乱反射が起こりにくく、光半導体素子の封止性に優れる。このため、上記表示体は、広い視野から同じ色味で表示体を視認することができる。また、点灯時および非点灯時において表示体の見栄えが良い。また、高熱時においても光半導体素子と封止樹脂層とが剥がれにくく、耐熱信頼性に優れる。 According to the display of the present invention, color shift due to light emitted by the optical semiconductor element is less likely to occur, diffuse reflection of external light is less likely to occur, and the sealing performance of the optical semiconductor element is excellent. Therefore, the display body can be visually recognized with the same color tone from a wide field of view. In addition, the display body looks good both when lit and when not lit. Furthermore, even at high temperatures, the optical semiconductor element and the sealing resin layer do not easily separate, resulting in excellent heat resistance and reliability.

[表示体の製造方法]
本発明の表示体は、封止用樹脂層を備える光半導体素子封止用シートを、光半導体素子が配置された基板に貼り合わせ、封止用樹脂層により光半導体素子を封止することで製造することができる。
[Method for manufacturing display body]
The display body of the present invention can be obtained by bonding a sheet for encapsulating an optical semiconductor element having a resin layer for sealing to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, and sealing the optical semiconductor element with the resin layer for sealing. can be manufactured.

(光半導体素子封止用シート)
上記光半導体素子封止用シートは、基板上に配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートである。上記光半導体素子封止用シートは、第一封止層と、上記第一封止層に直接積層された第二封止層と、上記第二封止層に直接積層された第三封止層とを含む封止用樹脂層を備える。上記第一封止層および上記第二封止層の一方は着色層であり、他方は非着色層である。上記光半導体素子封止用シートは、上記第一封止層が上記複数の光半導体素子と接触するように、上記封止用樹脂層により上記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際において、上記直線L1は上記基板表面に対して非平行であり、上記直線L2は上記基板表面に対して非平行であり、上記直線L3は上記基板表面に対して平行である構造を形成し得るシートである。本発明の光半導体素子封止用シートによれば、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、外光の乱反射が起こりにくく、光半導体素子の封止性に優れる表示体を提供することができる。
(Sheet for encapsulating optical semiconductor elements)
The optical semiconductor element sealing sheet is a sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate. The optical semiconductor element sealing sheet includes a first sealing layer, a second sealing layer directly laminated on the first sealing layer, and a third sealing layer directly laminated on the second sealing layer. The sealing resin layer includes a sealing resin layer. One of the first sealing layer and the second sealing layer is a colored layer, and the other is a non-colored layer. The optical semiconductor element sealing sheet seals the plurality of optical semiconductor elements with the sealing resin layer so that the first sealing layer contacts the plurality of optical semiconductor elements. When forming the layer, the straight line L1 is non-parallel to the substrate surface, the straight line L2 is non-parallel to the substrate surface, and the straight line L3 is parallel to the substrate surface. It is a sheet that can form a structure. According to the sheet for encapsulating optical semiconductor elements of the present invention, by sealing optical semiconductor elements, a display body that is less likely to cause color shift, less likely to cause diffuse reflection of external light, and has excellent sealing properties for optical semiconductor elements. can be provided.

上記封止用樹脂層は本発明の表示体における上記封止樹脂層を形成し得る層である。具体的には、上記封止用樹脂層中の上記第一封止層、上記第二封止層、および上記第三封止層は、それぞれ、本発明の表示体における上記第一封止層、上記第二封止層、および上記第三封止層を形成し得る層である。具体的には、上記封止用樹脂層中の上記第一封止層は、本発明の表示体における上記第一封止層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記第一封止層となる層であってもよい。また、上記封止用樹脂層中の上記第二封止層は、本発明の表示体における上記第二封止層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記第二封止層となる層であってもよい。また、上記封止用樹脂層中の上記第三封止層は、本発明の表示体における上記第三封止層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記第三封止層となる層であってもよい。 The sealing resin layer is a layer that can form the sealing resin layer in the display of the present invention. Specifically, the first sealing layer, the second sealing layer, and the third sealing layer in the sealing resin layer are each the first sealing layer in the display of the present invention. , the second sealing layer, and the third sealing layer. Specifically, the first sealing layer in the sealing resin layer has a composition (components and their blending ratios) and physical properties (haze, overall The layers may have the same light transmittance (light transmittance, etc.), or may be a layer that becomes the first sealing layer in the display of the present invention upon curing. In addition, the second sealing layer in the sealing resin layer has a composition (constituent components and their blending ratio) and physical properties (haze, total light transmittance) and the second sealing layer in the display body of the present invention. etc.) may be the same layer, or may be a layer that becomes the second sealing layer in the display of the present invention upon curing. In addition, the third sealing layer in the sealing resin layer has a composition (constituent components and their blending ratio) and physical properties (haze, total light transmittance) and the third sealing layer in the display body of the present invention. etc.) may be the same layer, or may be a layer that becomes the third sealing layer in the display of the present invention upon curing.

上記封止用樹脂層を構成する各層は、それぞれ独立して、粘着性および/または接着性を有していてもよく、有していなくてもよい。中でも、粘着性および/または接着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止用樹脂層は基板および光半導体素子に容易に貼り合わせることができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。特に、少なくとも光半導体素子に接触する層は粘着性および/または接着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、封止用樹脂層による光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れる。その結果、光半導体素子による段差が高い場合であっても意匠性に優れる。 Each layer constituting the sealing resin layer may or may not have adhesiveness and/or adhesiveness independently. Among these, it is preferable to have adhesiveness and/or adhesiveness. With such a configuration, the sealing resin layer can be easily bonded to the substrate and the optical semiconductor element, and has excellent adhesion between each layer, resulting in better sealing performance of the optical semiconductor element. In particular, it is preferable that at least the layer that contacts the optical semiconductor element has adhesiveness and/or adhesiveness. By having such a configuration, the followability and embedding of the optical semiconductor element by the sealing resin layer are excellent. As a result, the design is excellent even when the height difference due to the optical semiconductor element is high.

上記封止用樹脂層を構成する各層(上記第一封止層、上記第二封止層、および上記第三封止層など)は、それぞれ独立して、放射線照射により硬化する性質を有する樹脂層(放射線硬化性樹脂層)であってもよく、放射線照射により硬化する性質を有しない樹脂層(放射線非硬化性樹脂層)であってもよい。上記放射線としては、例えば、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、またはX線などが挙げられる。上記着色層が放射線硬化性樹脂層である場合、上記着色層に含まれ得る上記着色剤は、特に限定されないが、可視光を吸収し、かつ上記放射線硬化性樹脂層が硬化し得る波長の光の透過性を有するものが好ましい。 Each layer constituting the sealing resin layer (the first sealing layer, the second sealing layer, the third sealing layer, etc.) is each independently made of a resin that has the property of being cured by radiation irradiation. It may be a layer (radiation curable resin layer) or a resin layer that does not have the property of being cured by radiation irradiation (radiation non-curable resin layer). Examples of the radiation include electron beams, ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, and X rays. When the colored layer is a radiation-curable resin layer, the colorant that may be included in the colored layer is not particularly limited, but the colorant absorbs visible light and has a wavelength at which the radiation-curable resin layer can be cured. It is preferable to use a material having a permeability of .

上記光半導体素子封止用シートは上記基材部を備えていてもよい。上記基材部を備える場合、上記封止用樹脂層は、基材部の少なくとも一方の面に備えられていてもよい。上記封止用樹脂層の上記基材部と接触する面は、上記封止用樹脂層が光半導体素子と接する側とは反対側の面である。上記光半導体素子封止用シートが上記基材部を備える場合、上記光半導体素子封止用シートは上記基材部と共に光半導体素子および基板に貼り合わせられ、上記光半導体素子封止用シートにおける基材部は本発明の表示体における基材部となる。 The optical semiconductor element sealing sheet may include the base material portion. When the base material section is provided, the sealing resin layer may be provided on at least one surface of the base material section. The surface of the sealing resin layer that comes into contact with the base material part is the surface opposite to the side where the sealing resin layer contacts the optical semiconductor element. When the optical semiconductor element sealing sheet includes the base material part, the optical semiconductor element sealing sheet is bonded to the optical semiconductor element and the substrate together with the base material part, and the optical semiconductor element sealing sheet is bonded to the optical semiconductor element and the substrate together with the optical semiconductor element sealing sheet, and The base material part becomes a base material part in the display body of the present invention.

また、上記封止用樹脂層は、はく離ライナー上のはく離処理面に形成されていてもよい。上記光半導体素子封止用シートが上記はく離ライナーに形成されている場合、上記はく離ライナーは上記封止用樹脂層の光半導体素子と接する側がはく離ライナーと接触する側となる。上記基材部を有しない場合は上記封止用樹脂層の両面がはく離ライナーと接触する側であってもよい。はく離ライナーは上記光半導体素子封止用シートの保護材として用いられ、光半導体素子を封止する際に剥がされる。なお、基材部およびはく離ライナーは必ずしも設けられなくてもよい。 Further, the sealing resin layer may be formed on the release-treated surface of the release liner. When the optical semiconductor element sealing sheet is formed on the release liner, the side of the sealing resin layer that contacts the optical semiconductor element is the side that contacts the release liner. When the base material portion is not provided, both surfaces of the sealing resin layer may be the side that contacts the release liner. The release liner is used as a protective material for the optical semiconductor element sealing sheet, and is peeled off when sealing the optical semiconductor element. Note that the base material portion and the release liner do not necessarily need to be provided.

上記はく離ライナーは、上記光半導体素子封止用シート表面を被覆して保護するための要素であり、光半導体素子が配置された基板に光半導体素子封止用シートを貼り合わせる際には当該シートから剥がされる。 The release liner is an element for covering and protecting the surface of the sheet for encapsulating an optical semiconductor element, and when the sheet for encapsulating an optical semiconductor element is attached to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, the sheet is be stripped from.

上記はく離ライナーとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、フッ素系剥離剤や長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチックフィルムや紙類などが挙げられる。 Examples of the above-mentioned release liner include polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene film, polypropylene film, plastic films and papers whose surface is coated with a release agent such as a fluorine-based release agent or a long-chain alkyl acrylate release agent. It will be done.

上記はく離ライナーの厚さは、例えば10~200μm、好ましくは15~150μm、より好ましくは20~100μmである。上記厚さが10μm以上であると、はく離ライナーの加工時に切り込みにより破断しにくい。上記厚さが200μm以下であると、使用時に上記光半導体素子封止用シートからはく離ライナーをより剥離しやすい。 The thickness of the release liner is, for example, 10 to 200 μm, preferably 15 to 150 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When the thickness is 10 μm or more, the release liner is less likely to break due to cuts during processing. When the thickness is 200 μm or less, the release liner can be more easily peeled off from the optical semiconductor device sealing sheet during use.

図7を用いて、上記光半導体素子封止用シートの一実施形態について説明する。図7は、図2に示す表示体を形成可能な上記光半導体素子封止用シートの断面図である。図7に示すように、光半導体素子封止用シート10は、基板上に配置された1以上の光半導体素子を封止するために使用することのできるものであり、基材部5と基材部5上に形成された封止用樹脂層7とを備える。封止用樹脂層7は、第一封止層である非着色層71、第二封止層である着色層72、および第三封止層である非着色層73の積層体から形成されている。非着色層71、着色層72、および非着色層73は粘着性を有し、互いに直接積層している。封止用樹脂層7の非着色層71表面にははく離ライナー6が貼付されており、非着色層73表面には基材部5が貼付されている。 An embodiment of the optical semiconductor element sealing sheet will be described using FIG. 7. FIG. 7 is a cross-sectional view of the optical semiconductor element sealing sheet capable of forming the display body shown in FIG. 2. As shown in FIG. 7, the optical semiconductor element sealing sheet 10 can be used to seal one or more optical semiconductor elements arranged on a substrate, and is a sheet that can be used to seal one or more optical semiconductor elements disposed on a substrate. A sealing resin layer 7 formed on the material portion 5 is provided. The sealing resin layer 7 is formed from a laminate of a non-colored layer 71 as a first sealing layer, a colored layer 72 as a second sealing layer, and a non-colored layer 73 as a third sealing layer. There is. The non-colored layer 71, the colored layer 72, and the non-colored layer 73 have adhesive properties and are directly stacked on each other. A release liner 6 is attached to the surface of the non-colored layer 71 of the sealing resin layer 7, and a base member 5 is attached to the surface of the non-colored layer 73.

(封止工程)
上記光半導体素子封止用シートを用いて本発明の表示体を製造する方法において、上記光半導体素子封止用シートを、光半導体素子が配置された基板に貼り合わせ、封止用樹脂層により光半導体素子を封止する封止工程を有する。上記封止工程では、具体的には、まず、上記光半導体素子封止用シートからはく離ライナーを剥離して封止用樹脂層を露出させる。そして、基板と、上記基板上に配置された光半導体素子(好ましくは複数の光半導体素子)とを備える積層体(光学部材など)の、光半導体素子が配置された基板面に、上記光半導体素子封止用シートの露出面である封止用樹脂層面を貼り合わせ、上記積層体が複数の光半導体素子を備える場合はさらに複数の光半導体素子間の隙間を上記封止用樹脂層が充填するように配置し、複数の光半導体素子を一括して封止する。具体的には、図8に示すように、はく離ライナー6を剥離した光半導体素子封止用シート10の非着色層71を、基板2の光半導体素子3a~3cが配置された面に対向するように配置し、光半導体素子封止用シート10を基板2の光半導体素子3a~3cが配置された面に貼り合わせ、光半導体素子3a~3cを封止用樹脂層7に埋め込む。
(Sealing process)
In the method of manufacturing a display body of the present invention using the above-mentioned sheet for encapsulating an optical semiconductor element, the above-mentioned sheet for encapsulating an optical semiconductor element is laminated to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, and a resin layer for sealing It has a sealing process of sealing the optical semiconductor element. Specifically, in the sealing step, first, the release liner is peeled off from the optical semiconductor element sealing sheet to expose the sealing resin layer. Then, in a laminate (such as an optical member) comprising a substrate and an optical semiconductor element (preferably a plurality of optical semiconductor elements) arranged on the substrate, the optical semiconductor is placed on the substrate surface on which the optical semiconductor element is arranged. The exposed surfaces of the encapsulation resin layers of the element encapsulation sheets are bonded together, and when the laminate includes a plurality of optical semiconductor elements, the encapsulation resin layer further fills the gaps between the plurality of optical semiconductor elements. The plurality of optical semiconductor elements are sealed together. Specifically, as shown in FIG. 8, the non-colored layer 71 of the optical semiconductor element sealing sheet 10 from which the release liner 6 has been peeled off is placed opposite the surface of the substrate 2 on which the optical semiconductor elements 3a to 3c are arranged. The optical semiconductor element sealing sheet 10 is attached to the surface of the substrate 2 on which the optical semiconductor elements 3a to 3c are arranged, and the optical semiconductor elements 3a to 3c are embedded in the sealing resin layer 7.

上記貼り合わせの際の温度は、例えば室温から110℃の範囲内である。また、上記貼り合わせの際、減圧または加圧してもよい。減圧や加圧により封止用樹脂層と基板または光半導体素子との間に空隙が形成されるのを抑制することができる。また、上記封止工程では、減圧下で光半導体素子封止用シートを貼り合わせ、その後加圧することが好ましい。減圧する場合の圧力は例えば1~100Paであり、減圧時間は例えば5~600秒である。また、加圧する場合の圧力は例えば0.05~0.5MPaであり、加圧時間は例えば5~600秒である。 The temperature during the above bonding is, for example, within the range of room temperature to 110°C. Further, during the above bonding, pressure may be reduced or increased. It is possible to suppress the formation of voids between the sealing resin layer and the substrate or the optical semiconductor element due to reduced pressure or increased pressure. Moreover, in the said sealing process, it is preferable to bond the optical semiconductor element sealing sheet together under reduced pressure, and to apply pressure after that. The pressure for reducing the pressure is, for example, 1 to 100 Pa, and the time for reducing the pressure is, for example, 5 to 600 seconds. Further, the pressure when pressurizing is, for example, 0.05 to 0.5 MPa, and the pressurizing time is, for example, 5 to 600 seconds.

上記封止用樹脂層における第一封止層、第二封止層、および第三封止層の厚さや、貼り合わせの際の温度や圧力などを適宜設定することにより、得られる表示体における第一封止層および第二封止層の光半導体素子への追従性や上記凹凸形状における凹部および凸部の各領域の第一封止層、第二封止層、および第三封止層の厚さを調整することができる。これにより、得られる表示体において、直線L1、直線L2,および直線L3の基板表面に対する平行性を制御することができる。 By appropriately setting the thicknesses of the first sealing layer, second sealing layer, and third sealing layer in the sealing resin layer, and the temperature and pressure during bonding, the resulting display body can be The conformability of the first sealing layer and the second sealing layer to the optical semiconductor element, and the first sealing layer, the second sealing layer, and the third sealing layer in each region of the concave and convex portions in the above-mentioned uneven shape. The thickness can be adjusted. Thereby, in the resulting display, the parallelism of the straight lines L1, L2, and L3 to the substrate surface can be controlled.

(放射線照射工程)
上記封止用樹脂層が放射線硬化性樹脂層を備える場合、上記製造方法は、さらに、上記基板と、上記基板上に配置された光半導体素子と、上記光半導体素子を封止する上記光半導体素子封止用シートと、を備える積層体に放射線を照射して上記放射線硬化性樹脂層を硬化させて硬化物層を形成する放射線照射工程を備えていてもよい。上記放射線としては上述のように、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、X線などが挙げられる。中でも、紫外線が好ましい。放射線照射時の温度は、例えば室温から100℃の範囲内であり、照射時間は例えば1分~1時間である。
(Radiation irradiation process)
When the sealing resin layer includes a radiation-curable resin layer, the manufacturing method further includes the substrate, an optical semiconductor element disposed on the substrate, and the optical semiconductor element for sealing the optical semiconductor element. The method may include a radiation irradiation step of irradiating a laminate including an element sealing sheet with radiation to cure the radiation-curable resin layer to form a cured material layer. As mentioned above, examples of the radiation include electron beams, ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, and X rays. Among these, ultraviolet light is preferred. The temperature during radiation irradiation is, for example, in the range from room temperature to 100° C., and the irradiation time is, for example, 1 minute to 1 hour.

(ダイシング工程)
上記製造方法は、さらに、上記基板と、上記基板上に配置された光半導体素子と、上記光半導体素子を封止する上記光半導体素子封止用シートと、を備える積層体をダイシングするダイシング工程を備えていてもよい。上記積層体は、上記放射線照射工程を経た積層体について行ってもよい。上記積層体が、上記放射線照射により放射線硬化性樹脂層が硬化した硬化物層を備える場合、上記ダイシング工程では、光半導体素子封止用シートの硬化物層および基板の側端部をダイシングして除去する。これにより、充分に硬化し粘着性が低く低減された硬化物層の面を側面に露出させることができる。上記ダイシングは、公知乃至慣用の方法により行うことができ、例えば、ダイシングブレードを用いた方法や、レーザー照射により行うことができる。
(dicing process)
The manufacturing method further includes a dicing step of dicing a laminate including the substrate, an optical semiconductor element disposed on the substrate, and the optical semiconductor element sealing sheet for sealing the optical semiconductor element. may be provided. The above-mentioned laminate may be formed on a laminate that has undergone the above-mentioned radiation irradiation step. When the laminate includes a cured material layer in which the radiation-curable resin layer is cured by the radiation irradiation, in the dicing step, the cured material layer of the optical semiconductor element sealing sheet and the side edges of the substrate are diced. Remove. Thereby, the surface of the cured material layer, which has been sufficiently cured and whose tackiness has been reduced, can be exposed on the side surface. The above-mentioned dicing can be performed by a known or commonly used method, for example, by using a dicing blade or by laser irradiation.

(タイリング工程)
上記製造方法は、さらに、上記ダイシング工程で得られた複数の表示体を平面方向に接触するように並べるタイリング工程を備えていてもよい。上記タイリング工程では、上記ダイシング工程で得られた複数の積層体を平面方向に接触するように並べてタイリングする。このようにして、1つの大きな表示体を製造することができる。
(Tiling process)
The manufacturing method may further include a tiling step of arranging the plurality of display bodies obtained in the dicing step so as to be in contact with each other in a plane direction. In the tiling step, the plurality of laminates obtained in the dicing step are arranged and tiled so as to be in contact with each other in a planar direction. In this way, one large display can be produced.

以上のようにして、本発明の表示体を製造することができる。光半導体素子封止用シート10において封止用樹脂層7が放射線硬化性樹脂層を有しない場合、封止用樹脂層7は表示体1における封止樹脂層4となる。一方、光半導体素子封止用シート10において封止用樹脂層7が放射線硬化性樹脂層を有する場合、例えば着色層72および非着色層73が放射線硬化性樹脂層である場合、着色層72および非着色層73を硬化させることで着色層42および非着色層43を形成し、封止樹脂層4となる。 The display body of the present invention can be manufactured in the manner described above. When the sealing resin layer 7 in the optical semiconductor element sealing sheet 10 does not have a radiation-curable resin layer, the sealing resin layer 7 becomes the sealing resin layer 4 in the display body 1 . On the other hand, in the optical semiconductor element sealing sheet 10, when the sealing resin layer 7 has a radiation-curable resin layer, for example, when the colored layer 72 and the non-colored layer 73 are radiation-curable resin layers, the colored layer 72 and the non-colored layer 73 are radiation-curable resin layers. By curing the non-colored layer 73, the colored layer 42 and the non-colored layer 43 are formed and become the sealing resin layer 4.

1 表示体
2 基板
3a~3f 光半導体素子
31 支持体
3,3’ピクセル
4 封止樹脂層
41 非着色層
42 着色層
43 非着色層
5 基材部
6 はく離ライナー
7 封止用樹脂層
71 非着色層
72 着色層
73 非着色層
10 光半導体素子封止用シート
11 光学部材
1 Display body 2 Substrate 3a to 3f Optical semiconductor element 31 Support body 3, 3' pixels 4 Sealing resin layer 41 Non-colored layer 42 Colored layer 43 Non-colored layer 5 Base material portion 6 Release liner 7 Sealing resin layer 71 Non-colored Colored layer 72 Colored layer 73 Non-colored layer 10 Optical semiconductor element sealing sheet 11 Optical member

Claims (9)

基板と、前記基板上に配置された複数の光半導体素子と、前記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを備える表示体であり、
前記封止樹脂層は、前記光半導体素子に接触する第一封止層と、前記第一封止層に直接積層された第二封止層と、前記第二封止層に直接積層された第三封止層とを備え、
前記第一封止層および前記第二封止層の一方は着色層、他方は非着色層であり、
第一の光半導体素子の重心と、前記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う第二の光半導体素子の重心とを通る、前記基板表面に対する垂直面断面において、
前記第一の光半導体素子の重心を通る、前記基板表面に対する垂線を垂線PA
前記第一の光半導体素子の重心および前記第二の光半導体素子の重心の中点を通る、前記基板表面に対する垂線を垂線PCとしたとき、
前記垂線PAと前記第一封止層の正面側界面との交点、および、前記垂線PCと前記第一封止層の正面側界面との交点を通る直線L1は、前記基板表面に対して非平行であり、
前記垂線PAと前記第二封止層の正面側界面との交点、および、前記垂線PCと前記第二封止層の正面側界面との交点を通る直線L2は、前記基板表面に対して非平行であり、
前記垂線PAと前記第三封止層の正面側界面との交点、および、前記垂線PCと前記第三封止層の正面側界面との交点を通る直線L3は、前記基板表面に対して平行である、表示体。
A display body comprising a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements,
The sealing resin layer includes a first sealing layer in contact with the optical semiconductor element, a second sealing layer directly laminated on the first sealing layer, and a second sealing layer laminated directly on the second sealing layer. and a third sealing layer,
One of the first sealing layer and the second sealing layer is a colored layer, and the other is a non-colored layer,
In a cross section perpendicular to the substrate surface passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of a second optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel,
A perpendicular line to the substrate surface passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is a perpendicular line P A ,
When a perpendicular line to the substrate surface passing through the midpoint of the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element is a perpendicular line P C ,
A straight line L1 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the first sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the first sealing layer is relative to the substrate surface. are non-parallel,
A straight line L2 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the second sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the second sealing layer is relative to the substrate surface. are non-parallel,
A straight line L3 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front-side interface of the third sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front-side interface of the third sealing layer is relative to the substrate surface. A display body that is parallel to each other.
前記垂直面断面において前記第一封止層は前記第一および第二の光半導体素子間の前記基板表面と50%以上接触している請求項1に記載の表示体。 2. The display according to claim 1, wherein the first sealing layer is in contact with the substrate surface between the first and second optical semiconductor elements by 50% or more in the vertical cross section. 前記第一封止層は前記非着色層であり、前記第二封止層は前記着色層である、請求項1または2に記載の表示体。 The display according to claim 1 or 2, wherein the first sealing layer is the non-colored layer, and the second sealing layer is the colored layer. 前記第一封止層は拡散機能層である請求項1~3のいずれか1項に記載の表示体。 The display according to any one of claims 1 to 3, wherein the first sealing layer is a diffusion functional layer. 自発光型表示装置を備える請求項1~4のいずれか1項に記載の表示体。 The display body according to any one of claims 1 to 4, comprising a self-luminous display device. 画像表示装置である請求項1~5のいずれか1項に記載の表示体。 The display body according to any one of claims 1 to 5, which is an image display device. 基板上に配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートであって、
前記シートは、第一封止層と、前記第一封止層に直接積層された第二封止層と、前記第二封止層に直接積層された第三封止層とを含む封止用樹脂層を備え、
前記第一封止層および前記第二封止層の一方は着色層、他方は非着色層であり、
前記第一封止層が前記複数の光半導体素子と接触するように、前記封止用樹脂層により前記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際、
第一の光半導体素子の重心と、前記第一の光半導体素子と同一ピクセル内において隣り合う第二の光半導体素子の重心とを通る、前記基板表面に対する垂直面断面において、
前記第一の光半導体素子の重心を通る、前記基板表面に対する垂線を垂線PA
前記第一の光半導体素子の重心および前記第二の光半導体素子の重心の中点を通る、前記基板表面に対する垂線を垂線PCとしたとき、
前記垂線PAと前記第一封止層の正面側界面との交点、および、前記垂線PCと前記第一封止層の正面側界面との交点を通る直線L1は、前記基板表面に対して非平行であり、
前記垂線PAと前記第二封止層の正面側界面との交点、および、前記垂線PCと前記第二封止層の正面側界面との交点を通る直線L2は、前記基板表面に対して非平行であり、
前記垂線PAと前記第三封止層の正面側界面との交点、および、前記垂線PCと前記第三封止層の正面側界面との交点を通る直線L3は、前記基板表面に対して平行である構造を形成し得る、光半導体素子封止用シート。
A sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate, the sheet comprising:
The sheet includes a first sealing layer, a second sealing layer directly laminated on the first sealing layer, and a third sealing layer directly laminated on the second sealing layer. Equipped with a resin layer for
One of the first sealing layer and the second sealing layer is a colored layer, and the other is a non-colored layer,
When forming a sealing resin layer by sealing the plurality of optical semiconductor elements with the sealing resin layer so that the first sealing layer is in contact with the plurality of optical semiconductor elements,
In a cross section perpendicular to the substrate surface passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of a second optical semiconductor element adjacent to the first optical semiconductor element in the same pixel,
A perpendicular line to the substrate surface passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is a perpendicular line P A ,
When a perpendicular line to the substrate surface passing through the midpoint of the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element is a perpendicular line P C ,
A straight line L1 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the first sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the first sealing layer is relative to the substrate surface. are non-parallel,
A straight line L2 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front side interface of the second sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front side interface of the second sealing layer is relative to the substrate surface. are non-parallel,
A straight line L3 passing through the intersection of the perpendicular line P A and the front-side interface of the third sealing layer and the intersection of the perpendicular line P C and the front-side interface of the third sealing layer is relative to the substrate surface. A sheet for encapsulating optical semiconductor devices that can form a parallel structure.
前記第一封止層は前記非着色層であり、前記第二封止層は前記着色層である、請求項7に記載の光半導体素子封止用シート。 The sheet for encapsulating an optical semiconductor element according to claim 7, wherein the first sealing layer is the non-colored layer, and the second sealing layer is the colored layer. 前記第一封止層は拡散機能層である請求項7または8に記載の光半導体素子封止用シート。 The sheet for encapsulating an optical semiconductor device according to claim 7 or 8, wherein the first encapsulating layer is a diffusion functional layer.
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