JP2023140530A - Treatment liquid supply device, substrate treatment device and substrate treatment method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、処理液を連続的に送出するエア駆動の処理液供給装置、および、処理液を基板に供給して処理する技術に関する。 The present invention relates to an air-driven processing liquid supply device that continuously delivers a processing liquid, and a technique for supplying a processing liquid to a substrate for processing.
従来、半導体基板（以下、単に「基板」という。）の製造工程では、基板に対して様々な処理が施される。例えば、基板処理装置において、基板の表面にエッチング液等の処理液が供給されて処理が行われる。当該基板処理装置では、処理液を供給するためのポンプとして、ベローズポンプが使用される場合がある（特許文献１ないし７参照）。
Conventionally, in the manufacturing process of semiconductor substrates (hereinafter simply referred to as "substrates"), various treatments are performed on the substrates. For example, in a substrate processing apparatus, a processing liquid such as an etching liquid is supplied to the surface of a substrate to perform processing. In the substrate processing apparatus, a bellows pump is sometimes used as a pump for supplying a processing liquid (see
特許文献１のベローズポンプでは、ポンプヘッドの左右両側にポンプケースが連結されて２つの空気室が形成されており、各空気室の内部に、左右方向に伸縮可能なベローズが設けられている。そして、左右の空気室に対して交互に圧縮エアが供給されることにより、連結シャフトにより連結された２つのベローズが交互に収縮と伸張とを繰り返し、処理液が連続的に供給される。
In the bellows pump of
具体的には、左側の空気室に空気供給装置から圧縮エアが供給されると、左側のベローズが圧縮され、当該ベローズ内に貯留されている処理液がポンプヘッドから送出される。また、連結シャフトにより左側のベローズに連結されている右側のベローズは、左側のベローズの圧縮と並行して伸張される。これにより、右側のベローズ内に処理液が吸引されて貯留される。左側のベローズからの処理液送出が終了すると、左側の空気室内の圧縮エアはベローズポンプの外部の大気中へと放出され、右側の空気室に空気供給装置から圧縮エアが供給される。これにより、右側のベローズが圧縮され、当該ベローズ内に貯留されている処理液がポンプヘッドから送出される。また、左側のベローズは、右側のベローズの圧縮と並行して伸張され、右側のベローズ内に処理液が吸引されて貯留される。右側のベローズからの処理液送出が終了すると、右側の空気室内の圧縮エアはベローズポンプの外部の大気中へと放出され、左側の空気室に空気供給装置から圧縮エアが供給される。ベローズポンプでは、当該動作が繰り返される。 Specifically, when compressed air is supplied from the air supply device to the left air chamber, the left bellows is compressed, and the processing liquid stored in the bellows is sent out from the pump head. Also, the right bellows, which is connected to the left bellows by a connecting shaft, is expanded in parallel with the compression of the left bellows. As a result, the processing liquid is sucked into the right bellows and stored therein. When the processing liquid is sent out from the left bellows, the compressed air in the left air chamber is released into the atmosphere outside the bellows pump, and compressed air is supplied to the right air chamber from the air supply device. As a result, the bellows on the right side is compressed, and the processing liquid stored in the bellows is sent out from the pump head. Further, the left bellows is expanded in parallel with the compression of the right bellows, and the processing liquid is sucked into and stored in the right bellows. When the delivery of the processing liquid from the right bellows is completed, the compressed air in the right air chamber is released into the atmosphere outside the bellows pump, and compressed air is supplied to the left air chamber from the air supply device. In the bellows pump, this operation is repeated.
ところで、上述のような基板処理装置では、装置の駆動に係るエネルギーとして電力、水、空気等が消費されている。当該消費エネルギーのうち、空気が占める割合は比較的大きく、特に、ベローズポンプ等の処理液供給装置による処理液の供給に多量の空気が使用されている。処理液供給装置では、消費エネルギー低減の観点から、空気の使用量を低減することが求められている。 By the way, in the above-described substrate processing apparatus, electric power, water, air, etc. are consumed as energy for driving the apparatus. Air occupies a relatively large proportion of the consumed energy, and in particular, a large amount of air is used for supplying the processing liquid by a processing liquid supply device such as a bellows pump. Processing liquid supply devices are required to reduce the amount of air used from the viewpoint of reducing energy consumption.
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、処理液供給装置の駆動に要するエネルギーを低減することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to reduce the energy required to drive a processing liquid supply device.
請求項１に記載の発明は、処理液を連続的に送出するエア駆動の処理液供給装置であって、処理液の吸引および送出を交互に行う第１ポンプ部と、前記第１ポンプ部に連動して前記第１ポンプ部による処理液の吸引時に処理液の送出を行うとともに前記第１ポンプ部による処理液の送出時に処理液の吸引を行う第２ポンプ部と、エア供給源の連通先を前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部との間で切り替えるエア供給切替部と、前記第１ポンプ部の接続状態を、前記第２ポンプ部と連通するポンプ連通状態と、排気部と連通する排気状態との間で切り替え、前記第２ポンプ部の接続状態を、前記第１ポンプ部と連通する前記ポンプ連通状態と、前記排気部と連通する排気状態との間で切り替えるポンプ接続切替部と、前記エア供給切替部および前記ポンプ接続切替部を制御する切替制御部とを備え、前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通を閉鎖し、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へのエアの供給を停止し、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とを連通させ、処理液の送出に利用された前記第１ポンプ部内のエアを、前記第１ポンプ部よりも内圧が低い前記第２ポンプ部に流入させることにより、前記第２ポンプ部からの処理液の送出を開始させ、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部とを連通させ、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へとエアを供給して前記第２ポンプ部からの処理液の送出を継続させ、前記第２ポンプ部からの処理液の送出継続中に前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部の接続状態を前記ポンプ連通状態から前記排気状態へと切り替え、前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通を閉鎖し、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へのエアの供給を停止し、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とを連通させ、処理液の送出に利用された前記第２ポンプ部内のエアを、前記第２ポンプ部よりも内圧が低い前記第１ポンプ部に流入させることにより、前記第１ポンプ部からの処理液の送出を開始させ、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部とを連通させ、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へとエアを供給して前記第１ポンプ部からの処理液の送出を継続させ、前記第１ポンプ部からの処理液の送出継続中に前記ポンプ接続切替部によって前記第２ポンプ部の接続状態を前記ポンプ連通状態から前記排気状態へと切り替える。
The invention according to
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の処理液供給装置であって、前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記ポンプ接続切替部による前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部との連通と並行して、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部とを連通させ、前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記ポンプ接続切替部による前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部との連通と並行して、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部とを連通させる。
The invention according to claim 2 is the processing liquid supply device according to
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の処理液供給装置であって、前記ポンプ接続切替部は、前記第１ポンプ部から延びる第１共通配管と、前記第１共通配管の前記第１ポンプ部とは反対側の端部から並列に延びる第１流出入配管および第１流入配管と、前記第１流出入配管および前記第１流入配管がそれぞれ接続される切替バルブと、前記第２ポンプ部から延びる第２共通配管と、前記第２共通配管の前記第２ポンプ部とは反対側の端部から並列に延びるとともに前記切替バルブにそれぞれ接続される第２流出入配管および第２流入配管と、前記第１流出入配管上に配置されて前記第１共通配管から前記切替バルブへと向かう流れのみを通過させる第１流出逆止バルブと、前記第１流入配管上に配置されて前記切替バルブから前記第１共通配管へと向かう流れのみを通過させる第１流入逆止バルブと、前記第２流出入配管上に配置されて前記第２共通配管から前記切替バルブへと向かう流れのみを通過させる第２流出逆止バルブと、前記第２流入配管上に配置されて前記切替バルブから前記第２共通配管へと向かう流れのみを通過させる第２流入逆止バルブと、前記切替バルブと前記排気部とを接続する排気配管とを備え、前記エア供給切替部は、前記切替バルブ、前記第１流出入配管、前記第１共通配管、前記第２流出入配管および前記第２共通配管を、前記ポンプ接続切替部と共有し、前記エア供給切替部は、前記切替バルブと前記エア供給源とを接続する供給源配管と、前記第１流出入配管上において前記第１流出逆止バルブと並列に配置される第１供給バルブと、前記第２流出入配管上において前記第２流出逆止バルブと並列に配置される第２供給バルブとをさらに備え、前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記供給源配管と前記第１共通配管との連通が閉鎖されることにより、前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通が閉鎖され、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へのエアの供給が停止され、前記切替バルブによって前記第１流出入配管と前記第２流入配管とが連通されることにより、前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とが前記第１共通配管、前記第１流出入配管、前記第１流出逆止バルブ、前記第２流入配管、前記第２流入逆止バルブおよび前記第２共通配管を介して連通し、前記第１ポンプ部内のエアが前記第１ポンプ部よりも内圧が低い前記第２ポンプ部に流入し、前記切替バルブによって前記供給源配管と前記第２流出入配管とが連通されることにより、前記エア供給源と前記第２ポンプ部とが前記供給源配管、前記第２流出入配管、前記第２供給バルブおよび前記第２共通配管を介して連通し、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へとエアが供給され、前記切替バルブによって前記第１流出入配管と前記排気配管とが連通されることにより、前記第１ポンプ部と前記排気部とが前記第１共通配管、前記第１流出入配管、前記第１流出逆止バルブおよび前記排気配管を介して連通し、前記第１ポンプ部内のエアが前記排気部から外部へと排出され、前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記供給源配管と前記第２共通配管との連通が閉鎖されることにより、前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通が閉鎖され、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へのエアの供給が停止され、前記切替バルブによって前記第２流出入配管と前記第１流入配管とが連通されることにより、前記第２ポンプ部と前記第１ポンプ部とが前記第２共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出逆止バルブ、前記第１流入配管、前記第１流入逆止バルブおよび前記第１共通配管を介して連通し、前記第２ポンプ部内のエアが前記第２ポンプ部よりも内圧が低い前記第１ポンプ部に流入し、前記切替バルブによって前記供給源配管と前記第１流出入配管とが連通されることにより、前記エア供給源と前記第１ポンプ部とが前記供給源配管、前記第１流出入配管、前記第１供給バルブおよび前記第１共通配管を介して連通し、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へとエアが供給され、前記切替バルブによって前記第２流出入配管と前記排気配管とが連通されることにより、前記第２ポンプ部と前記排気部とが前記第２共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出逆止バルブおよび前記排気配管を介して連通し、前記第２ポンプ部内のエアが前記排気部から外部へと排出される。
The invention according to claim 3 is the processing liquid supply device according to
請求項４に記載の発明は、請求項１または２に記載の処理液供給装置であって、前記ポンプ接続切替部は、前記第１ポンプ部から延びる第１共通配管と、前記第１共通配管の前記第１ポンプ部とは反対側の端部から並列に延びる第１流出入配管および第１流入配管と、前記第１流出入配管および前記第１流入配管がそれぞれ接続される切替バルブと、前記第２ポンプ部から延びる第２共通配管と、前記第２共通配管の前記第２ポンプ部とは反対側の端部から並列に延びるとともに前記切替バルブにそれぞれ接続される第２流出入配管および第２流入配管と、前記第１流出入配管上に配置される第１流出入バルブと、前記第１流入配管上に配置される第１流入バルブと、前記第２流出入配管上に配置される第２流出入バルブと、前記第２流入配管上に配置される第２流入バルブと、前記切替バルブと前記排気部とを接続する排気配管とを備え、前記エア供給切替部は、前記切替バルブ、前記第１流出入配管、前記第１流出入バルブ、前記第１共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出入バルブおよび前記第２共通配管を、前記ポンプ接続切替部と共有し、前記エア供給切替部は、前記切替バルブと前記エア供給源とを接続する供給源配管をさらに備え、前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記供給源配管と前記第１流出入配管との連通が閉鎖されることにより、前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通が閉鎖され、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へのエアの供給が停止され、前記切替バルブによって前記第１流出入配管と前記第２流入配管とが連通されることにより、前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とが前記第１共通配管、前記第１流出入配管、前記第１流出入バルブ、前記第２流入配管、前記第２流入バルブおよび前記第２共通配管を介して連通し、前記第１ポンプ部内のエアが前記第１ポンプ部よりも内圧が低い前記第２ポンプ部に流入し、前記切替バルブによって前記供給源配管と前記第２流出入配管とが連通されることにより、前記エア供給源と前記第２ポンプ部とが前記供給源配管、前記第２流出入配管、前記第２流出入バルブおよび前記第２共通配管を介して連通し、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へとエアが供給され、前記切替バルブによって前記第１流出入配管と前記排気配管とが連通されることにより、前記第１ポンプ部と前記排気部とが前記第１共通配管、前記第１流出入配管、前記第１流出入バルブおよび前記排気配管を介して連通し、前記第１ポンプ部内のエアが前記排気部を介して排出され、前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記供給源配管と前記第２流出入配管との連通が閉鎖されることにより、前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通が閉鎖され、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へのエアの供給が停止され、前記切替バルブによって前記第２流出入配管と前記第１流入配管とが連通されることにより、前記第２ポンプ部と前記第１ポンプ部とが前記第２共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出入バルブ、前記第１流入配管、前記第１流入バルブおよび前記第１共通配管を介して連通し、前記第２ポンプ部内のエアが前記第２ポンプ部よりも内圧が低い前記第１ポンプ部に流入し、前記切替バルブによって前記供給源配管と前記第１流出入配管とが連通されることにより、前記エア供給源と前記第１ポンプ部とが前記供給源配管、前記第１流出入配管、前記第１流出入バルブおよび前記第１共通配管を介して連通し、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へとエアが供給され、前記切替バルブによって前記第２流出入配管と前記排気配管とが連通されることにより、前記第２ポンプ部と前記排気部とが前記第２共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出入バルブおよび前記排気配管を介して連通し、前記第２ポンプ部内のエアが前記排気部を介して排出される。
The invention according to
請求項５に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板に処理液を供給する請求項１ないし４のいずれか１つに記載の処理液供給装置とを備える。
The invention according to claim 5 is a substrate processing apparatus for processing a substrate, comprising: a substrate holding section for holding a substrate; and a substrate processing apparatus according to any one of
請求項６に記載の発明は、基板を処理する基板処理方法であって、ａ）基板を保持する工程と、ｂ）処理液を連続的に送出するエア駆動の処理液供給装置から前記基板に処理液を供給する工程とを備え、前記処理液供給装置は、処理液の吸引および送出を交互に行う第１ポンプ部と、前記第１ポンプ部に連動して前記第１ポンプ部による処理液の吸引時に処理液の送出を行うとともに前記第１ポンプ部による処理液の送出時に処理液の吸引を行う第２ポンプ部と、エア供給源の連通先を前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部との間で切り替えるエア供給切替部と、前記第１ポンプ部の接続状態を、前記第２ポンプ部と連通するポンプ連通状態と、排気部と連通する排気状態との間で切り替え、前記第２ポンプ部の接続状態を、前記第１ポンプ部と連通する前記ポンプ連通状態と、前記排気部と連通する排気状態との間で切り替えるポンプ接続切替部とを備え、前記ｂ）工程は、ｃ）前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記第２ポンプ部から処理液を送出する工程と、ｄ）前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記第１ポンプ部から処理液を送出する工程と、ｅ）前記ｃ）工程および前記ｄ）工程を交互に繰り返す工程とを備え、前記ｃ）工程は、ｃ１）前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通を閉鎖し、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へのエアの供給を停止する工程と、ｃ２）前記ｃ１）工程よりも後に、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とを連通させ、処理液の送出に利用された前記第１ポンプ部内のエアを、前記第１ポンプ部よりも内圧が低い前記第２ポンプ部に流入させることにより、前記第２ポンプ部からの処理液の送出を開始させる工程と、ｃ３）前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部とを連通させ、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へとエアを供給して前記第２ポンプ部からの処理液の送出を継続させる工程と、ｃ４）前記ｃ２）工程よりも後に、前記ｃ３）工程と並行して、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部の接続状態を前記ポンプ連通状態から前記排気状態へと切り替える工程とを備え、前記ｄ）工程は、ｄ１）前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通を閉鎖し、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へのエアの供給を停止する工程と、ｄ２）前記ｄ１）工程よりも後に、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とを連通させ、処理液の送出に利用された前記第２ポンプ部内のエアを、前記第２ポンプ部よりも内圧が低い前記第１ポンプ部に流入させることにより、前記第１ポンプ部からの処理液の送出を開始させる工程と、ｄ３）前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部とを連通させ、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へとエアを供給して前記第１ポンプ部からの処理液の送出を継続させる工程と、ｄ４）前記ｄ２）工程よりも後に、前記ｄ３）工程と並行して、前記ポンプ接続切替部によって前記第２ポンプ部の接続状態を前記ポンプ連通状態から前記排気状態へと切り替える工程とを備える。
The invention according to
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の基板処理方法であって、前記ｃ３）工程における前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通は、前記ｃ２）工程と同時に開始され、前記ｄ３）工程における前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通は、前記ｄ２）工程と同時に開始される。
The invention according to claim 7 is the substrate processing method according to
本発明では、処理液供給装置の駆動に要するエネルギーを低減することができる。 According to the present invention, the energy required to drive the processing liquid supply device can be reduced.
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る基板処理装置を備える基板処理システム１０のレイアウトを示す図解的な平面図である。基板処理システム１０は、半導体基板９（以下、単に「基板９」という。）を処理するシステムである。基板処理システム１０は、インデクサブロック１０１と、インデクサブロック１０１に結合された処理ブロック１０２とを備える。
FIG. 1 is a schematic plan view showing the layout of a
インデクサブロック１０１は、キャリア保持部１０４と、インデクサロボット１０５（すなわち、基板搬送手段）と、ＩＲ移動機構１０６とを備える。キャリア保持部１０４は、複数枚の基板９をそれぞれ収容できる複数のキャリア１０７を保持する。複数のキャリア１０７（例えば、ＦＯＵＰ）は、水平なキャリア配列方向（すなわち、図１中の上下方向）に配列された状態でキャリア保持部１０４に保持される。ＩＲ移動機構１０６は、キャリア配列方向にインデクサロボット１０５を移動させる。インデクサロボット１０５は、基板９をキャリア１０７から搬出する搬出動作、および、キャリア保持部１０４に保持されたキャリア１０７に基板９を搬入する搬入動作を行う。基板９は、インデクサロボット１０５によって水平な姿勢で搬送される。
The
一方、処理ブロック１０２は、基板９を処理する複数（たとえば、４つ以上）の処理ユニット１０８と、センターロボット１０９（すなわち、基板搬送手段）とを備えている。複数の処理ユニット１０８は、平面視において、センターロボット１０９を取り囲むように配置されている。複数の処理ユニット１０８では、基板９に対する様々な処理が施される。後述する基板処理装置は、複数の処理ユニット１０８のうちの１つである。センターロボット１０９は、処理ユニット１０８に基板９を搬入する搬入動作、および、基板９を処理ユニット１０８から搬出する搬出動作を行う。さらに、センターロボット１０９は、複数の処理ユニット１０８間で基板９を搬送する。基板９は、センターロボット１０９によって水平な姿勢で搬送される。センターロボット１０９は、インデクサロボット１０５から基板９を受け取るとともに、インデクサロボット１０５に基板９を渡す。
On the other hand, the
図２は、基板処理装置１の構成を示す側面図である。基板処理装置１は、基板９を１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、基板９に処理液を供給して液処理を行う。図２では、基板処理装置１の構成の一部を断面にて示す。
FIG. 2 is a side view showing the configuration of the
基板処理装置１は、基板保持部３１と、基板回転機構３３と、カップ部４と、処理液供給部５と、制御部８と、チャンバ１１と、を備える。基板保持部３１、基板回転機構３３およびカップ部４等は、チャンバ１１の内部空間に収容される。チャンバ１１の天蓋部には、当該内部空間にガスを供給して下方に流れる気流（いわゆる、ダウンフロー）を形成する気流形成部１２が設けられる。気流形成部１２としては、例えば、ＦＦＵ（ファン・フィルタ・ユニット）が利用される。制御部８は、チャンバ１１の外部に配置され、基板保持部３１、基板回転機構３３および処理液供給部５等を制御する。
The
図３に示すように、制御部８は、例えば、プロセッサ８１と、メモリ８２と、入出力部８３と、バス８４とを備える通常のコンピュータシステムである。バス８４は、プロセッサ８１、メモリ８２および入出力部８３を接続する信号回路である。メモリ８２は、プログラムおよび各種情報を記憶する。プロセッサ８１は、メモリ８２に記憶されるプログラム等に従って、メモリ８２等を利用しつつ様々な処理（例えば、数値計算）を実行する。入出力部８３は、操作者からの入力を受け付けるキーボード８５およびマウス８６、プロセッサ８１からの出力等を表示するディスプレイ８７、並びに、プロセッサ８１からの出力等を送信する送信部等を備える。なお、制御部８は、プログラマブルロジックコントローラ（ＰＬＣ：Programmable Logic Controller）、または、回路基板等であってもよい。制御部８は、コンピュータシステム、ＰＬＣおよび回路基板等のうち、任意の複数の構成を含んでいてもよい。
As shown in FIG. 3, the
図４は、制御部８により実現される機能を示すブロック図である。制御部８は、記憶部８０１と、切替制御部８０２とを備える。記憶部８０１は、主にメモリ８２（図３参照）により実現され、基板処理装置１に係る様々な情報を記憶する。切替制御部８０２は、主にプロセッサ８１（図３参照）により実現され、処理液供給部５のバルブ等、様々な構成を制御する。
FIG. 4 is a block diagram showing the functions realized by the
図２に示す基板保持部３１および基板回転機構３３はそれぞれ、基板９を保持して回転させるスピンチャックの一部である。基板保持部３１は、水平状態の基板９を下側から保持する。基板保持部３１は、例えば、基板９を機械的に支持するメカニカルチャックである。基板保持部３１は、ベース部３１１と、複数のチャック３１２とを備える。ベース部３１１は、上下方向を向く中心軸Ｊ１を中心とする略円板状の部材である。基板９は、ベース部３１１の上方にベース部３１１から離間して配置される。
The
複数のチャック３１２は、ベース部３１１の上面の外周部において、中心軸Ｊ１を中心とする周方向（以下、単に「周方向」とも呼ぶ。）に配置される。複数のチャック３１２は、例えば、周方向において略等角度間隔に配置される。基板保持部３１では、複数のチャック３１２により、基板９の外縁部が保持される。なお、基板保持部３１は、バキュームチャック等、他の構造を有するチャックであってもよい。
The plurality of
基板回転機構３３は、基板保持部３１の下方に配置される。基板回転機構３３は、中心軸Ｊ１を中心として基板９を基板保持部３１と共に回転する。基板回転機構３３は、シャフト３３１と、モータ３３２とを備える。シャフト３３１は、中心軸Ｊ１を中心とする略円柱状または略円筒状の部材である。シャフト３３１は、上下方向に延び、基板保持部３１のベース部３１１の下面中央部に接続される。モータ３３２は、シャフト３３１を回転させる電動回転式モータである。なお、基板回転機構３３は、他の構造を有するモータ（例えば、中空モータ等）であってもよい。
The
処理液供給部５は、基板９に対して処理液を供給し、基板９に対する液処理を行う。処理液供給部５は、ノズル５１を備える。ノズル５１は、基板９の上方から基板９の上側の主面（以下、「上面９１」とも呼ぶ。）に向けて処理液を吐出する。当該処理液は、例えば、基板９のエッチング処理に利用されるエッチング液である。当該エッチング液は、例えば、所定の供給量にて基板９に供給されるように、ノズル５１への供給が高精度に制御される。なお、ノズル５１からは、エッチング液以外の薬液が吐出されてもよく、薬液以外の様々な種類の処理液（例えば、リンス液）が吐出されてもよい。
The processing liquid supply section 5 supplies a processing liquid to the
処理液供給部５は、ノズル５１を移動するノズル移動機構を備えていてもよい。当該ノズル移動機構は、例えば、基板９の上方の供給位置と、基板９の外縁よりも中心軸Ｊ１を中心とする径方向（以下、単に「径方向」とも呼ぶ。）の外側の退避位置との間で、ノズル５１を略水平に移動する。ノズル移動機構は、例えば、電動リニアモータ、エアシリンダ、または、ボールネジおよび電動回転式モータを備える。また、処理液供給部５は、ノズル５１に加えて、ノズル５１から吐出される処理液とは異なる種類の処理液を基板９に吐出する他のノズルを備えていてもよい。
The processing liquid supply section 5 may include a nozzle moving mechanism that moves the
図５は、基板処理装置１の処理液供給部５の構成を模式的に示すブロック図である。処理液供給部５は、上述のノズル５１に加えて、配管５２と、処理液供給装置６とを備える。配管５２は、ノズル５１、処理液供給装置６および処理液供給源７１を接続する。処理液供給装置６は、配管５２上において、ノズル５１と処理液供給源７１との間に配置される。処理液供給装置６は、処理液供給源７１に貯留されている処理液を吸引し、ノズル５１に対して連続的に送出するエア駆動のポンプ装置である。処理液供給装置６からノズル５１に送出された処理液は、上述のように、基板９の上面９１に供給される。
FIG. 5 is a block diagram schematically showing the configuration of the processing liquid supply section 5 of the
図６は、図２に示す基板処理装置１における基板９の処理の流れを示すフローチャートである。基板処理装置１では、まず、基板９が搬入され、基板保持部３１により略水平に保持される（ステップＳ１１）。続いて、処理液供給装置６から処理液が連続的に送出され、ノズル５１を介して基板９の上面９１に当該処理液が供給される（ステップＳ１２）。これにより、基板９の液処理が行われる。なお、ステップＳ１２では、基板回転機構３３によって回転中の基板９に対して処理液の供給が行われてもよく、回転せずに静止している基板９に対して処理液の供給が行われてもよい。
FIG. 6 is a flowchart showing the flow of processing the
図７は、処理液供給装置６の構成を示す断面図である。処理液供給装置６は、連動する一対のベローズを有するベローズポンプである。図７では、停止状態の処理液供給装置６を示す。以下の説明では、図７中の上下方向および左右方向を、単に「上下方向」および「左右方向」とも呼ぶ。図７中の上下方向は、実際の基板処理装置１における重力方向と一致していてもよく、一致していなくてもよい。また、図７中の左右方向は、実際の基板処理装置１における水平方向と一致していてもよく、一致していなくてもよい。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing the configuration of the processing
処理液供給装置６は、第１ベローズ６１と、第２ベローズ６２と、ポンプヘッド６３と、第１ポンプケース６４と、第２ポンプケース６５と、連結部材６６と、吸込バルブユニット６７と、送出バルブユニット６８とを備える。
The processing
ポンプヘッド６３は、上下方向に延びる略筒状の部材である。ポンプヘッド６３は、例えば、ＰＴＦＥ（polytetrafluoroethylene）またはＰＦＡ（Perfluoroalkoxyalcan）等のフッ素樹脂により形成される。ポンプヘッド６３の下部には吸込ポート６３１が設けられる。吸込ポート６３１は、配管５２（図５参照）を介して処理液供給源７１に接続される。ポンプヘッド６３の内部には、吸込ポート６３１から延びる吸込流路６３３が設けられる。吸込流路６３３は、ポンプヘッド６３の側面の左右両側にて、吸込バルブユニット６７を介して第１ベローズ６１および第２ベローズ６２に接続される。ポンプヘッド６３の上端部には送出ポート６３２が設けられる。送出ポート６３２は、配管５２（図５参照）を介してノズル５１に接続される。ポンプヘッド６３の内部には、送出ポート６３２から延びる送出流路６３４が設けられる。吸込流路６４３は、ポンプヘッド６３の側面の左右両側にて、送出バルブユニット６８を介して第１ベローズ６１および第２ベローズ６２に接続される。
The
第１ポンプケース６４および第２ポンプケース６５は、ポンプヘッド６３の左右方向の両側に取り付けられる。第１ポンプケース６４および第２ポンプケース６５はそれぞれ、内部に空間を有する。第１ポンプケース６４の内部空間には第１ベローズ６１が収容され、第２ポンプケース６５の内部空間には第２ベローズ６２が収容される。第１ポンプケース６４と第２ポンプケース６５とは、略同じ形状を有し、ポンプヘッド６３の上下方向に延びる中心線に対して平面視において略線対称に配置される。第１ベローズ６１と第２ベローズ６２とは、略同じ形状を有し、ポンプヘッド６３の上記中心線に対して平面視において略線対称に配置される。なお、第１ポンプケース６４および第２ポンプケース６５は、別々の部材であってもよく、一繋がりの部材であってもよい。
The
第１ポンプケース６４は、ケース本体６４１と、ケース蓋６４２と、作動板６４３とを備える。ケース本体６４１は、左右方向に延びる略筒状の部材であり、図７中におけるポンプヘッド６３の左側に固定される。ケース蓋６４２は、左右方向に対して略垂直に広がる略平板状の部材であり、ケース本体６４１の左端部（すなわち、ポンプヘッド６３とは反対側の端部））の開口を閉鎖する。ケース本体６４１とポンプヘッド６３との接合部、および、ケース本体６４１とケース蓋６４２との接合部は、気密に封止されている。これにより、ケース本体６４１、ケース蓋６４２およびポンプヘッド６３に囲まれた空間が、気密な第１空気室６４０となる。
The
作動板６４３は、左右方向に対して略垂直に広がる略平板状の部材であり、第１空気室６４０の内部において左右方向に移動可能に配置される。作動板６４３は、第１空気室６４０の内部空間を、左右２つの空間に分割する。以下の説明では、作動板６４３の左側の空間（すなわち、作動板６４３とケース蓋６４２との間の空間）を「作動ガス室６４４」と呼び、作動板６４３の右側の空間を「ポンプ室６４５」と呼ぶ。作動ガス室６４４とポンプ室６４５とは、作動板６４３により仕切られている。
The
ケース蓋６４２には給排気ポート６４６が設けられており、給排気ポート６４６を介して、第１空気室６４０の作動ガス室６４４内への給気、および、第１空気室６４０の作動ガス室６４４からの排気が行われる。また、ケース蓋６４２には近接センサ６４７も設けられており、近接センサ６４７によって作動板６４３が検出されることにより、第１ベローズ６１の伸縮状態が検出される。
The
第１ベローズ６１は、第１空気室６４０のポンプ室６４５内に収容される。第１ベローズ６１は、左右方向に延びるとともに左端部が閉鎖された有底略筒状の部材である。第１ベローズ６１は、例えば、ＰＴＦＥまたはＰＦＡ等のフッ素樹脂により形成される。第１ベローズ６１の右端部（すなわち、開口部）は、ポンプヘッド６３に接続されている。第１ベローズ６１の側壁は蛇腹構造を有しており、第１ベローズ６１は、ポンプヘッド６３に固定された右端部を基点として左右方向に伸縮する。第１ベローズ６１の左端部には、上述の作動板６４３が固定されている。
The first bellows 61 is housed within the
上述の給排気ポート６４６から作動ガス室６４４に圧縮エアが供給されることにより、作動板６４３が右方へと移動して第１ベローズ６１が左右方向にて圧縮される。これにより、第１ベローズ６１内の処理液がポンプヘッド６３へと送出される。処理液供給装置６では、第１ベローズ６１および第１ポンプケース６４により、処理液を送出する第１ポンプ部６０１が構成される。
By supplying compressed air to the working
第２ポンプケース６５は、ケース本体６５１と、ケース蓋６５２と、作動板６５３とを備える。ケース本体６５１は、左右方向に延びる略筒状の部材であり、図７中におけるポンプヘッド６３の右側に固定される。ケース蓋６５２は、左右方向に対して略垂直に広がる略平板状の部材であり、ケース本体６５１の右端部（すなわち、ポンプヘッド６３とは反対側の端部））の開口を閉鎖する。ケース本体６５１とポンプヘッド６３との接合部、および、ケース本体６５１とケース蓋６５２との接合部は、気密に封止されている。これにより、ケース本体６５１、ケース蓋６５２およびポンプヘッド６３に囲まれた空間が、気密な第２空気室６５０となる。
The
作動板６５３は、左右方向に対して略垂直に広がる略平板状の部材であり、第２空気室６５０の内部において左右方向に移動可能に配置される。作動板６５３は、第２空気室６５０の内部空間を、左右２つの空間に分割する。以下の説明では、作動板６５３の右側の空間（すなわち、作動板６５３とケース蓋６５２との間の空間）を「作動ガス室６５４」と呼び、作動板６５３の左側の空間を「ポンプ室６５５」と呼ぶ。作動ガス室６５４とポンプ室６５５とは、作動板６５３により仕切られている。
The
ケース蓋６５２には給排気ポート６５６が設けられており、給排気ポート６５６を介して、第２空気室６５０の作動ガス室６５４内への給気、および、第２空気室６５０の作動ガス室６５４からの排気が行われる。また、ケース蓋６５２には近接センサ６５７も設けられており、近接センサ６５７によって作動板６５３が検出されることにより、第２ベローズ６２の伸縮状態が検出される。
The
第２ベローズ６２は、第２空気室６５０のポンプ室６５５内に収容される。第２ベローズ６２は、左右方向に延びるとともに右端部が閉鎖された有底略筒状の部材である。第２ベローズ６２は、例えば、ＰＴＦＥまたはＰＦＡ等のフッ素樹脂により形成される。第２ベローズ６２の左端部（すなわち、開口部）は、ポンプヘッド６３に接続されている。第２ベローズ６２の側壁は蛇腹構造を有しており、第２ベローズ６２は、ポンプヘッド６３に固定された左端部を基点として左右方向に伸縮する。第２ベローズ６２の右端部には、上述の作動板６５３が固定されている。
The second bellows 62 is housed within the
上述の給排気ポート６５６から作動ガス室６５４に圧縮エアが供給されることにより、作動板６５３が左方へと移動して第２ベローズ６２が左右方向にて圧縮される。これにより、第２ベローズ６２内の処理液がポンプヘッド６３へと送出される。処理液供給装置６では、第２ベローズ６２および第２ポンプケース６５により、処理液を送出する第２ポンプ部６０２が構成される。
By supplying compressed air to the working
処理液供給装置６では、第１ポンプ部６０１の作動板６４３と、第２ポンプ部６０２の作動板６５３とが連結部材６６により連結されている。連結部材６６は、例えば、左右方向に略平行に延びる略棒状のタイロッドである。第１ベローズ６１と第２ベローズ６２とは、第１ベローズ６１および第２ベローズ６２のうち一方のベローズが伸張したときに他方のベローズが収縮し、一方のベローズが収縮したときに他方のベローズが伸張するように、連結部材６６によって連動される。
In the processing
吸込バルブユニット６７は、２つのチェックバルブ６７１，６７２を備える。チェックバルブ６７１は、ポンプヘッド６３の左側において、ポンプヘッド６３内部の吸込流路６３３と第１ベローズ６１の内部空間とを接続する。チェックバルブ６７２は、ポンプヘッド６３の右側において、ポンプヘッド６３内部の吸込流路６３３と第２ベローズ６２の内部空間とを接続する。第１ベローズ６１が伸張されると、チェックバルブ６７１が開放されて第１ベローズ６１の内部空間と吸込流路６３３とが連通し、第１ベローズ６１への処理液の吸引が可能となる。第１ベローズ６１が圧縮されると、チェックバルブ６７１が閉鎖されて第１ベローズ６１の内部空間と吸込流路６３３とが隔絶され、第１ベローズ６１から吸込流路６３３への処理液の逆流が防止される。また、第２ベローズ６２が伸張されると、チェックバルブ６７２が開放されて第２ベローズ６２の内部空間と吸込流路６３３とが連通し、第２ベローズ６２への処理液の吸引が可能となる。第２ベローズ６２が圧縮されると、チェックバルブ６７２が閉鎖されて第２ベローズ６２の内部空間と吸込流路６３３とが隔絶され、第２ベローズ６２から吸込流路６３３への処理液の逆流が防止される。
The
送出バルブユニット６８は、２つのチェックバルブ６８１，６８２を備える。チェックバルブ６８１は、ポンプヘッド６３の左側において、ポンプヘッド６３内部の送出流路６３４と第１ベローズ６１の内部空間とを接続する。チェックバルブ６８２は、ポンプヘッド６３の右側において、ポンプヘッド６３内部の送出流路６３４と第２ベローズ６２の内部空間とを接続する。第１ベローズ６１が圧縮されると、チェックバルブ６８１が開放されて第１ベローズ６１の内部空間と送出流路６３４とが連通し、第１ベローズ６１から送出流路６３４への処理液の送出が可能となる。第１ベローズ６１が伸張されると、チェックバルブ６８１が閉鎖されて第１ベローズ６１の内部空間と送出流路６３４とが隔絶され、送出流路６３４から第１ベローズ６１内への処理液の逆流が防止される。また、第２ベローズ６２が圧縮されると、チェックバルブ６８２が開放されて第２ベローズ６２の内部空間と送出流路６３４とが連通し、第２ベローズ６２から送出流路６３４への処理液の送出が可能となる。第２ベローズ６２が伸張されると、チェックバルブ６８２が閉鎖されて第２ベローズ６２の内部空間と送出流路６３４とが隔絶され、送出流路６３４から第２ベローズ６２内への処理液の逆流が防止される。
The
処理液供給装置６では、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４に圧縮エアが供給されると、作動板６４３が右方へと移動して第１ベローズ６１が圧縮されるとともに、第２ポンプ部６０２において作動板６５３も右方へと移動して第２ベローズ６２が伸張される。これにより、第１ベローズ６１内に予め貯留されている処理液が、送出バルブユニット６８のチェックバルブ６８１を介してポンプヘッド６３の送出流路６３４へと送出され、送出ポート６３２からノズル５１（図５参照）に向けて送出される。また、処理液供給源７１からポンプヘッド６３の吸込ポート６３１を介して吸込流路６３３に供給されている処理液は、吸込バルブユニット６７のチェックバルブ６７２を介して第２ベローズ６２内に吸引されて貯留される。第２ポンプ部６０２において、右側に移動した作動板６５３が近接センサ６５７により検出されると、第１ポンプ部６０１への圧縮エアの供給が停止され、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４に圧縮エアが供給される。
In the processing
そして、作動板６５３が左方へと移動して第２ベローズ６２が圧縮されるとともに、第１ポンプ部６０１において作動板６４３も左方へと移動して第１ベローズ６１が伸張される。これにより、第２ベローズ６２内に貯留されている処理液が、送出バルブユニット６８のチェックバルブ６８２を介してポンプヘッド６３の送出流路６３４へと送出され、送出ポート６３２からノズル５１に向けて送出される。また、処理液供給源７１からポンプヘッド６３の吸込ポート６３１を介して吸込流路６３３に供給されている処理液は、吸込バルブユニット６７のチェックバルブ６７１を介して第１ベローズ６１内に吸引されて貯留される。第１ポンプ部６０１において、左側に移動した作動板６４３が近接センサ６４７により検出されると、第２ポンプ部６０２への圧縮エアの供給が停止され、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４に圧縮エアが供給される。
Then, the
このように、処理液供給装置６では、第１ポンプ部６０１は、処理液の吸引および送出を交互に行う。また、第２ポンプ部６０２は、第１ポンプ部６０１に連動して、第１ポンプ部６０１による処理液の吸引時に処理液の送出を行い、また、第１ポンプ部６０１による処理液の送出時に処理液の吸引を行う。これにより、処理液供給装置６からノズル５１に対する処理液の連続的な供給が実現される。
In this way, in the processing
図８は、処理液供給装置６において第１空気室６４０および第２空気室６５０に圧縮エア（以下、単に「エア」とも呼ぶ。）を供給する構成を示す図である。図８では、処理液供給装置６の構造を模式的に示す（図１２～１７、図２０、図２４～２９においても同様）。処理液供給装置６は、第１共通配管６１１と、第１流出入配管６１２と、第１流出逆止バルブ６１３と、第１供給バルブ６１４と、第１流入配管６１５と、第１流入逆止バルブ６１６とをさらに備える。処理液供給装置６は、第２共通配管６２１と、第２流出入配管６２２と、第２流出逆止バルブ６２３と、第２供給バルブ６２４と、第２流入配管６２５と、第２流入逆止バルブ６２６とをさらに備える。処理液供給装置６は、切替バルブ６９１と、供給源配管６９２と、排気配管６９３と、排気バルブ６９４とをさらに備える。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration in which compressed air (hereinafter also simply referred to as "air") is supplied to the
第１流出逆止バルブ６１３、第１流入逆止バルブ６１６、第２流出逆止バルブ６２３および第２流入逆止バルブ６２６は、例えば、通常のチェックバルブである。第１供給バルブ６１４および第２供給バルブ６２４は、例えばニードルバルブである。切替バルブ６９１は、例えば電磁バルブであり、切替バルブ６９１において複数の配管（すなわり、流路）の連通および隔絶が行われる。排気バルブ６９４は、例えば電磁バルブである。切替バルブ６９１および排気バルブ６９４はそれぞれ、エア駆動のバルブであってもよい。
The first
処理液供給装置６では、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出逆止バルブ６１３、第１流入配管６１５、第１流入逆止バルブ６１６、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出逆止バルブ６２３、第２流入配管６２５、第２流入逆止バルブ６２６、切替バルブ６９１、排気配管６９３および排気バルブ６９４により、第１ポンプ部６０１および第２ポンプ部６０２の後述する接続状態を切り替えるポンプ接続切替部６０３が構成される。切替バルブ６９１および排気バルブ６９４は、制御部８の切替制御部８０２（図４参照）により制御される。
In the processing
また、処理液供給装置６では、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１供給バルブ６１４、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２供給バルブ６２４、切替バルブ６９１、および、供給源配管６９２により、エア供給源７２の連通先を第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２との間で切り替えるエア供給切替部６０４が構成される。換言すれば、エア供給切替部６０４は、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、および、切替バルブ６９１を、ポンプ接続切替部６０３と共有する。
Further, in the processing
第１共通配管６１１は、第１ポンプケース６４の給排気ポート６４６に接続され、第１ポンプ部６０１から切替バルブ６９１に向かって延びる。第１流出入配管６１２および第１流入配管６１５は、第１共通配管６１１の第１ポンプ部６０１とは反対側の端部から並列に延び、それぞれ切替バルブ６９１に接続される。第１流出逆止バルブ６１３は、第１流出入配管６１２上に配置される。第１流出逆止バルブ６１３は、第１流出入配管６１２上において、第１共通配管６１１から切替バルブ６９１に向かって流れる処理液のみを通過させ、切替バルブ６９１から第１共通配管６１１に向かって流れる処理液の通過を防止する。第１供給バルブ６１４は、第１流出入配管６１２上において第１流出逆止バルブ６１３と並列に配置される。第１流入逆止バルブ６１６は、第１流入配管６１５上に配置される。第１流入逆止バルブ６１６は、第１流入配管６１５上において、切替バルブ６９１から第１共通配管６１１に向かって流れる処理液のみを通過させ、第１共通配管６１１から切替バルブ６９１に向かって流れる処理液の通過を防止する。
The first
第２共通配管６２１は、第２ポンプケース６５の給排気ポート６５６に接続され、第２ポンプ部６０２から切替バルブ６９１に向かって延びる。第２流出入配管６２２および第２流入配管６２５は、第２共通配管６２１の第２ポンプ部６０２とは反対側の端部から並列に延び、それぞれ切替バルブ６９１に接続される。第２流出逆止バルブ６２３は、第２流出入配管６２２上に配置される。第２流出逆止バルブ６２３は、第２流出入配管６２２上において、第２共通配管６２１から切替バルブ６９１に向かって流れる処理液のみを通過させ、切替バルブ６９１から第２共通配管６２１に向かって流れる処理液の通過を防止する。第２供給バルブ６２４は、第２流出入配管６２２上において第２流出逆止バルブ６２３と並列に配置される。第２流入逆止バルブ６２６は、第２流入配管６２５上に配置される。第２流入逆止バルブ６２６は、第２流入配管６２５上において、切替バルブ６９１から第２共通配管６２１に向かって流れる処理液のみを通過させ、第２共通配管６２１から切替バルブ６９１に向かって流れる処理液の通過を防止する。
The second
供給源配管６９２は、切替バルブ６９１とエア供給源７２とを接続する。エア供給源７２は、処理液供給装置６の動力であるエアを第１空気室６４０および第２空気室６５０に選択的に供給する。エア供給源７２からのエアの供給先は、切替制御部８０２（図４参照）により切替バルブ６９１等が制御されることにより決定される。排気配管６９３は、切替バルブ６９１と排気部６９５とを排気バルブ６９４を介して接続する。排気部６９５は、例えば、排気バルブ６９４に対して排気配管６９３とは反対側から接続された配管である。排気バルブ６９４が開放されることにより、処理液供給装置６の駆動用のエアが、排気部６９５から処理液供給装置６の外部へと排出可能となる。処理液供給装置６の外部は、大気圧以上の圧力を有する空間であり、例えば大気雰囲気である。また、排気バルブ６９４が閉鎖されている状態では、当該エアは処理液供給装置６から外部に排出することはできない。なお、排気部６９５の構造は、上記例には限定されず、様々に変更されてよい。
Supply source piping 692 connects switching
次に、処理液供給装置６における処理液送出時の詳細な動作について説明する。図９は、処理液供給装置６の動作の流れを示すフローチャートである。図９は、上述のステップＳ１２（図６参照）における基板９の処理中の処理液供給装置６の動作を示す。処理液供給装置６では、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出終了後、第２ポンプ部６０２から処理液が送出される（ステップＳ２１）。続いて、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出終了後、第１ポンプ部６０１から処理液が送出される（ステップＳ２２）。そして、基板９の処理が終了するまで、ステップＳ２１およびステップＳ２２が交互に繰り返される（ステップＳ２３）。これにより、処理液供給装置６から基板９に対して連続的に処理液が供給される。すなわち、上述のステップＳ１２は、ステップＳ２１～Ｓ２３を備える。なお、基板処理装置１における基板９の処理では、ステップＳ２１とステップＳ２２との間において、基板９の処理が終了したか否かが判断され、終了していない場合はステップＳ２２が実行され、終了している場合は、基板処理装置１における処理動作を停止してもよい。
Next, a detailed operation of the processing
図１０は、上述のステップＳ２１における処理液供給装置６の詳細な動作の流れを示す図である。すなわち、図１０に示すステップＳ２１１～Ｓ２１４は、ステップＳ２１に含まれる。図１１は、上述のステップＳ２２における処理液供給装置６の詳細な動作の流れを示す図である。すなわち、図１１に示すステップＳ２２１～Ｓ２２４は、ステップＳ２２に含まれる。図１２ないし図１７は、処理液送出中の処理液供給装置６の様子を示す図である。図１２ないし図１７では、処理液の流れ、および、エアの流れを太い矢印にて示す。また、図１２ないし図１７では、排気バルブ６９４が開放されている場合、バルブの三角部分を黒塗りで示し、閉鎖されている場合、バルブの三角部分を白抜きで示す。
FIG. 10 is a diagram showing the detailed operation flow of the processing
図１２は、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出が終了した直後の状態を示す。第１ポンプ部６０１からの処理液の送出が終了すると、切替バルブ６９１が切替制御部８０２（図４参照）によって制御され、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２および第１流入配管６１５と供給源配管６９２との連通が閉鎖される。これにより、エア供給源７２と第１ポンプ部６０１との連通が閉鎖され、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給が停止される（ステップＳ２１１）。ステップＳ２１１では、切替バルブ６９１は、エア供給切替部６０４の一部として機能している。
FIG. 12 shows the state immediately after the
続いて、切替バルブ６９１が切替制御部８０２によって制御され、第１流出入配管６１２と第２流入配管６２５とが連通される。これにより、第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２とが連通される。図１２に示すように、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４内のエア（すなわち、第１ベローズ６１からの処理液の送出に利用されたエア）は、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出逆止バルブ６１３、切替バルブ６９１、第２流入配管６２５、第２流入逆止バルブ６２６、および、第２共通配管６２１を介して、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４よりも内圧が低い第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４内へと流入する。これにより、第２ベローズ６２が圧縮され、第２ベローズ６２内に貯留されている処理液の送出が開始される（ステップＳ２１２）。ステップＳ２１２では、切替バルブ６９１は、ポンプ接続切替部６０３の一部として機能している。
Subsequently, the switching
第２ベローズ６２から送出された処理液は、送出バルブユニット６８（図７参照）のチェックバルブ６８２を介してポンプヘッド６３へと送出され、送出ポート６３２からノズル５１（図１参照）へと送出される。一方、第１ポンプ部６０１では、上述の第２ベローズ６２の圧縮と連動して第１ベローズ６１が伸張され、吸込バルブユニット６７（図７参照）のチェックバルブ６７１を介して、処理液が第１ベローズ６１内に吸引されて貯留される。
The processing liquid sent out from the second bellows 62 is sent out to the
処理液供給装置６では、ステップＳ２１２以降であって、かつ、第２ベローズ６２から処理液が送出されている状態で（すなわち、第２ベローズ６２の圧縮途上において）、切替バルブ６９１が切替制御部８０２によって制御され、図１３に示すように、供給源配管６９２と第２流出入配管６２２とが連通される。これにより、エア供給源７２と第２ポンプ部６０２とが連通される。エア供給源７２から送出されたエアは、供給源配管６９２、第２流出入配管６２２、第２供給バルブ６２４および第２共通配管６２１を介して、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４へと供給される。作動ガス室６５４には、上述のように、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４内のエアも供給されている。これにより、第２ベローズ６２の圧縮が継続され、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出が継続される（ステップＳ２１３）。ステップＳ２１３では、切替バルブ６９１は、エア供給切替部６０４の一部として機能している。
In the processing
処理液供給装置６では、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧が、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧以下になると、第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの流入が停止する。第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの流入停止以降も、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給は継続されており、第２ベローズ６２の圧縮および第２ポンプ部６０２からの処理液の送出、並びに、第１ベローズ６１の伸張および第１ポンプ部６０１による処理液の吸引は継続される。なお、第２共通配管６２１から第２流入配管６２５へのエアの逆流は、第２流入逆止バルブ６２６により防止されている。
In the processing
第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの流入が停止すると、切替バルブ６９１が切替制御部８０２によって制御され、図１４に示すように、第１流出入配管６１２と排気配管６９３とが連通される。また、排気バルブ６９４が切替制御部８０２によって制御されて開放される。これにより、第１ポンプ部６０１と排気部６９５とが連通される。すなわち、第１ポンプ部６０１の接続状態が、第２ポンプ部６０２と連通するポンプ連通状態から、排気部６９５と連通する排気状態へと切り替えられる。
When the inflow of air from the
第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４内のエアは、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出逆止バルブ６１３、切替バルブ６９１、排気配管６９３、および、排気バルブ６９４を介して排気部６９５へと流れ、排気部６９５から外部（すなわち、処理液供給装置６の外部の大気中）へと排出される（ステップＳ２１４）。ステップＳ２１４では、切替バルブ６９１は、ポンプ接続切替部６０３の一部として機能している。
The air in the working
なお、処理液供給装置６では、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧が、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧以下になるよりも前に、第１ポンプ部６０１の接続状態が、第２ポンプ部６０２と連通するポンプ連通状態から、排気部６９５と連通する排気状態へと切り替えられ、第１ポンプ部６０１内のエアが外部へと排出されてもよい。
Note that in the processing
第２ポンプ部６０２からの処理液の送出が終了すると、切替バルブ６９１が切替制御部８０２（図４参照）によって制御され、図１５に示すように、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２および第２流入配管６２５と供給源配管６９２との連通が閉鎖される。これにより、エア供給源７２と第２ポンプ部６０２との連通が閉鎖され、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給が停止される（ステップＳ２２１）。ステップＳ２２１では、切替バルブ６９１は、エア供給切替部６０４の一部として機能している。
When the delivery of the processing liquid from the
続いて、切替バルブ６９１が切替制御部８０２によって制御され、第２流出入配管６２２と第１流入配管６１５とが連通される。これにより、第２ポンプ部６０２と第１ポンプ部６０１とが連通される。第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４内のエア（すなわち、第２ベローズ６２からの処理液の送出に利用されたエア）は、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出逆止バルブ６２３、切替バルブ６９１、第１流入配管６１５、第１流入逆止バルブ６１６、および、第１共通配管６１１を介して、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４よりも内圧が低い第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４内へと流入する。これにより、第１ベローズ６１が圧縮され、第１ベローズ６１内に貯留されている処理液の送出が開始される（ステップＳ２２２）。ステップＳ２２２では、切替バルブ６９１は、ポンプ接続切替部６０３の一部として機能している。
Subsequently, the switching
第１ベローズ６１から送出された処理液は、送出バルブユニット６８（図７参照）のチェックバルブ６８１を介してポンプヘッド６３へと送出され、送出ポート６３２からノズル５１（図１参照）へと送出される。一方、第２ポンプ部６０２では、上述の第１ベローズ６１の圧縮と連動して第２ベローズ６２が伸張され、吸込バルブユニット６７（図７参照）のチェックバルブ６７２を介して、処理液が第２ベローズ６２内に吸引されて貯留される。
The processing liquid sent out from the first bellows 61 is sent out to the
処理液供給装置６では、ステップＳ２２２以降であって、かつ、第１ベローズ６１から処理液が送出されている状態で（すなわち、第１ベローズ６１の圧縮途上において）、切替バルブ６９１が切替制御部８０２によって制御され、図１６に示すように、供給源配管６９２と第１流出入配管６１２とが連通される。これにより、エア供給源７２と第１ポンプ部６０１とが連通される。エア供給源７２から送出されたエアは、供給源配管６９２、第１流出入配管６１２、第１供給バルブ６１４および第１共通配管６１１を介して、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４へと供給される。作動ガス室６４４には、上述のように、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４内のエアも供給されている。これにより、第１ベローズ６１の圧縮が継続され、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出が継続される（ステップＳ２２３）。ステップＳ２２３では、切替バルブ６９１は、エア供給切替部６０４の一部として機能している。
In the processing
処理液供給装置６では、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧が、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧以下になると、第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの流入が停止する。第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの流入停止以降も、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給は継続されており、第１ベローズ６１の圧縮および第１ポンプ部６０１からの処理液の送出、並びに、第２ベローズ６２の伸張および第２ポンプ部６０２による処理液の吸引は継続される。なお、第１共通配管６１１から第１流入配管６１５へのエアの逆流は、第１流入逆止バルブ６１６により防止されている。
In the processing
第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの流入が停止すると、切替バルブ６９１が切替制御部８０２によって制御され、図１７に示すように、第２流出入配管６２２と排気配管６９３とが連通される。また、排気バルブ６９４が切替制御部８０２によって制御されて開放される。これにより、第２ポンプ部６０２と排気部６９５とが連通される。すなわち、第２ポンプ部６０２の接続状態が、第１ポンプ部６０１と連通するポンプ連通状態から、排気部６９５と連通する排気状態へと切り替えられる。
When the inflow of air from the
第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４内のエアは、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出逆止バルブ６２３、切替バルブ６９１、排気配管６９３、および、排気バルブ６９４を介して排気部６９５へと流れ、排気部６９５から外部（すなわち、処理液供給装置６の外部の大気中）へと排出される（ステップＳ２２４）。ステップＳ２２４では、切替バルブ６９１は、ポンプ接続切替部６０３の一部として機能している。
The air in the working
なお、処理液供給装置６では、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧が、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧以下になるよりも前に、第２ポンプ部６０２の接続状態が、第１ポンプ部６０１と連通するポンプ連通状態から、排気部６９５と連通する排気状態へと切り替えられ、第２ポンプ部６０２内のエアが外部へと排出されてもよい。
Note that in the processing
図１８は、処理液供給装置６におけるエアの供給流量を模式的に示す図である。図１８中のグラフの横軸は、時間経過（すなわち、上述のステップＳ２１１～Ｓ２１４，Ｓ２２１～Ｓ２２４）を示し、グラフの縦軸は、単位時間当たりのエアの供給流量を示す。グラフ中の線９４は、第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２に供給されるエアの供給流量を示し、線９５は、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２に供給されるエアの供給流量を示す。また、グラフ中の線９６は、第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１に供給されるエアの供給流量を示し、線９７は、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１に供給されるエアの供給流量を示す。なお、図１８中のグラフにおける線９４～９７の傾きは、実際の供給流量の傾きとは必ずしも一致しない。また、線９４～９７は直線的に増減しているが、これには限定されない。
FIG. 18 is a diagram schematically showing the air supply flow rate in the processing
図１８に示すように、ステップＳ２１１～Ｓ２１３の間は、第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へとエアが供給され、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエア供給は行われていない。また、ステップＳ２１３～Ｓ２１４の間は、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエア供給は行われるが、第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエア供給も行われているため、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給流量は比較的少ない。そして、ステップＳ２１４～Ｓ２２１の間は、第２ポンプ部６０２へのエア供給は、エア供給源７２のみから行われる。
As shown in FIG. 18, between steps S211 to S213, air is supplied from the
ステップＳ２２１～Ｓ２２３の間は、第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へとエアが供給され、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエア供給は行われていない。また、ステップＳ２２３～Ｓ２２４の間は、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエア供給は行われるが、第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエア供給も行われているため、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給流量は比較的少ない。そして、ステップＳ２２４～Ｓ２１１の間は、第１ポンプ部６０１へのエア供給は、エア供給源７２のみから行われる。
During steps S221 to S223, air is supplied from the
図１９は、比較例の処理液供給装置におけるエアの供給流量を模式的に示す図である。図１９中のグラフの横軸および縦軸は、図１８中のグラフの横軸および縦軸と同じである。比較例の処理液供給装置では、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出が終了すると、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給が停止されるとともに、第１ポンプ部６０１内のエアが処理液供給装置の外部へと排出される。そして、線９８にて示すように、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へとエアが供給され、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出が行われる。また、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出が終了すると、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給が停止されるとともに、第２ポンプ部６０２内のエアが処理液供給装置の外部へと排出される。そして、線９９にて示すように、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へとエアが供給され、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出が行われる。なお、比較例の処理液供給装置では、第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエア供給、および、第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエア供給は行われない。
FIG. 19 is a diagram schematically showing the air supply flow rate in the processing liquid supply device of the comparative example. The horizontal and vertical axes of the graph in FIG. 19 are the same as the horizontal and vertical axes of the graph in FIG. In the processing liquid supply device of the comparative example, when the delivery of the processing liquid from the
図１８および図１９に示すように、本実施の形態に係る処理液供給装置６では、第１ポンプ部６０１において第１ベローズ６１の圧縮に利用したエアを、第２ポンプ部６０２における第２ベローズ６２の圧縮に再利用する。また、処理液供給装置６では、第２ポンプ部６０２において第２ベローズ６２の圧縮に利用したエアを、第１ポンプ部６０１における第１ベローズ６１の圧縮に再利用する。このため、処理液供給装置６では、上述の比較例の処理液供給装置に比べて、エア供給源７２からのエアの供給流量を低減することができる。
As shown in FIGS. 18 and 19, in the processing
なお、処理液供給装置６では、ステップＳ２１３におけるエア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給は、ステップＳ２１２における第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの供給開始と略同時に開始されてもよい。ここでいう「略同時」とは、０．５秒程度の遅延を許容するタイミングである（以下同様）。処理液供給装置６では、ステップＳ２１３は、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧が、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧と略同じになり、第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの供給が停止するのと略同時に開始されてもよい。
Note that in the processing
処理液供給装置６では、ステップＳ２２３におけるエア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給は、ステップＳ２２２における第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給開始と略同時に開始されてもよい。あるいは、ステップＳ２２３は、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧が、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧と略同じになり、第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給が停止するのと略同時に開始されてもよい。
In the processing
次に、本発明の第２の実施の形態にかかる処理液供給装置６ａについて説明する。図２０は、処理液供給装置６ａのエア供給に係る構成を示す図である。処理液供給装置６ａは、上述の処理液供給装置６と同様に、基板処理システム１０の基板処理装置１（図２参照）に設けられ、基板９に対して処理液を供給する。処理液供給装置６ａは、配管構造およびバルブの種類等が異なる点を除き、図８に示す処理液供給装置６と略同様の構造を有する。以下の説明では、処理液供給装置６ａの構成のうち、処理液供給装置６と同様の構成には同符号を付す。
Next, a processing liquid supply device 6a according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 20 is a diagram showing a configuration related to air supply of the processing liquid supply device 6a. The processing liquid supply device 6a is provided in the substrate processing apparatus 1 (see FIG. 2) of the
図２０に示すように、処理液供給装置６ａの第１流出入配管６１２上には、図８に示す第１流出逆止バルブ６１３および第１供給バルブ６１４（例えば、ニードルバルブ）に代えて、第１流出入バルブ６１７が設けられる。第１流入配管６１５上には、図８に示す第１流入逆止バルブ６１６に代えて、第１流入バルブ６１８が設けられる。また、第２流出入配管６２２上には、図８に示す第２流出逆止バルブ６２３および第２供給バルブ６２４（例えば、ニードルバルブ）に代えて、第２流出入バルブ６２７が設けられる。第２流入配管６２５上には、図８に示す第２流入逆止バルブ６２６に代えて、第２流入バルブ６２８が設けられる。
As shown in FIG. 20, on the first outflow/
第１流出入バルブ６１７、第１流入バルブ６１８、第２流出入バルブ６２７および第２流入バルブ６２８は、ポンプ接続切替部６０３に含まれ、切替制御部８０２（図４参照）により制御される。第１流出入バルブ６１７および第２流出入バルブ６２７は、エア供給切替部６０４にも含まれる。第１流出入バルブ６１７、第１流入バルブ６１８、第２流出入バルブ６２７および第２流入バルブ６２８は、例えば、切替制御部８０２による制御により開閉可能な電磁バルブである。
The first inflow/
次に、処理液供給装置６ａにおける処理液送出時の詳細な動作について説明する。図２１は、処理液供給装置６ａの動作の流れを示すフローチャートである。図２１は、上述のステップＳ１２（図６参照）における基板９の処理中の処理液供給装置６ａの動作を示す。処理液供給装置６ａでは、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出終了後、第２ポンプ部６０２から処理液が送出される（ステップＳ３１）。続いて、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出終了後、第１ポンプ部６０１から処理液が送出される（ステップＳ３２）。そして、基板９の処理が終了するまで、ステップＳ３１およびステップＳ２２が交互に繰り返される（ステップＳ３３）。これにより、処理液供給装置６ａから基板９に連続的に処理液が供給される。すなわち、上述のステップＳ１２は、ステップＳ３１～Ｓ３３を備える。なお、基板処理装置１における基板９の処理では、ステップＳ３１とステップＳ３２との間において、基板９の処理が終了したか否かが判断され、終了していない場合はステップＳ３２が実行され、終了している場合は、基板処理装置１における処理動作を停止してもよい。
Next, the detailed operation of the processing liquid supply device 6a when the processing liquid is delivered will be described. FIG. 21 is a flowchart showing the flow of operation of the processing liquid supply device 6a. FIG. 21 shows the operation of the processing liquid supply device 6a during processing of the
図２２は、上述のステップＳ３１における処理液供給装置６ａの詳細な動作の流れを示す図である。すなわち、図２２に示すステップＳ３１１～Ｓ３１４は、ステップＳ３１に含まれる。図２３は、上述のステップＳ３２における処理液供給装置６ａの詳細な動作の流れを示す図である。すなわち、図２３に示すステップＳ３２１～Ｓ３２４は、ステップＳ３２に含まれる。図２４ないし図２９は、処理液送出中の処理液供給装置６ａの様子を示す図である。図２４ないし図２９では、処理液の流れ、および、エアの流れを太い矢印にて示す。また、図２４ないし図２９では、第１流出入バルブ６１７、第１流入バルブ６１８、第２流出入バルブ６２７、第２流入バルブ６２８および排気バルブ６９４のうち、開放されているバルブの三角部分を黒塗りで示し、閉鎖されているバルブの三角部分を白抜きで示す。
FIG. 22 is a diagram showing the detailed operation flow of the processing liquid supply device 6a in step S31 described above. That is, steps S311 to S314 shown in FIG. 22 are included in step S31. FIG. 23 is a diagram showing the detailed operation flow of the processing liquid supply device 6a in step S32 described above. That is, steps S321 to S324 shown in FIG. 23 are included in step S32. 24 to 29 are diagrams showing the state of the processing liquid supply device 6a while the processing liquid is being delivered. In FIGS. 24 to 29, the flow of the processing liquid and the flow of air are indicated by thick arrows. Furthermore, in FIGS. 24 to 29, the triangular portions of the first inflow and
図２４は、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出が終了した直後の状態を示す。第１ポンプ部６０１からの処理液の送出が終了すると、切替バルブ６９１が切替制御部８０２（図４参照）によって制御され、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２および第１流入配管６１５と供給源配管６９２との連通が閉鎖される。これにより、エア供給源７２と第１ポンプ部６０１との連通が閉鎖され、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給が停止される（ステップＳ３１１）。ステップＳ３１１では、切替バルブ６９１は、エア供給切替部６０４の一部として機能している。なお、上記連通の閉鎖は、第１流出入バルブ６１７が切替制御部８０２により閉鎖されることによって行われてもよい。
FIG. 24 shows the state immediately after the
続いて、切替バルブ６９１、第１流出入バルブ６１７および第２流入バルブ６２８が切替制御部８０２によって制御され、第１流出入配管６１２と第２流入配管６２５とが連通される。第１流出入バルブ６１７および第２流入バルブ６２８は、切替制御部８０２によって開放される。また、第１流入バルブ６１８および第２流出入バルブ６２７は閉鎖されている。これにより、第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２とが連通される。第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４内のエア（すなわち、第１ベローズ６１からの処理液の送出に利用されたエア）は、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出入バルブ６１７、切替バルブ６９１、第２流入配管６２５、第２流入バルブ６２８、および、第２共通配管６２１を介して、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４よりも内圧が低い第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４内へと流入する。これにより、第２ベローズ６２が圧縮され、第２ベローズ６２内に貯留されている処理液の送出が開始される（ステップＳ３１２）。ステップＳ３１２では、切替バルブ６９１は、ポンプ接続切替部６０３の一部として機能している。
Subsequently, the switching
第２ベローズ６２から送出された処理液は、送出バルブユニット６８（図７参照）のチェックバルブ６８２を介してポンプヘッド６３へと送出され、送出ポート６３２からノズル５１（図１参照）へと送出される。一方、第１ポンプ部６０１では、上述の第２ベローズ６２の圧縮と連動して第１ベローズ６１が伸張され、吸込バルブユニット６７（図７参照）のチェックバルブ６７１を介して、処理液が第１ベローズ６１内に吸引されて貯留される。
The processing liquid sent out from the second bellows 62 is sent out to the
処理液供給装置６ａでは、ステップＳ３１２以降であって、かつ、第２ベローズ６２から処理液が送出されている状態で（すなわち、第２ベローズ６２の圧縮途上において）、切替バルブ６９１および第２流出入バルブ６２７が切替制御部８０２によって制御され、図２５に示すように、供給源配管６９２と第２流出入配管６２２とが連通される。第２流出入バルブ６２７は、切替制御部８０２によって開放される。これにより、エア供給源７２と第２ポンプ部６０２とが連通される。エア供給源７２から送出されたエアは、供給源配管６９２、第２流出入配管６２２、第２流出入バルブ６２７および第２共通配管６２１を介して、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４へと供給される。作動ガス室６５４には、上述のように、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４内のエアも供給されている。これにより、第２ベローズ６２の圧縮が継続され、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出が継続される（ステップＳ３１３）。ステップＳ３１３では、切替バルブ６９１は、エア供給切替部６０４の一部として機能している。
In the processing liquid supply device 6a, after step S312, and while the processing liquid is being sent out from the second bellows 62 (that is, in the middle of compression of the second bellows 62), the switching
処理液供給装置６ａでは、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧が、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧以下になると、第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの流入が停止する。第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの流入停止以降も、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給は継続されており、第２ベローズ６２の圧縮および第２ポンプ部６０２からの処理液の送出、並びに、第１ベローズ６１の伸張および第１ポンプ部６０１による処理液の吸引は継続される。
In the processing liquid supply device 6a, when the internal pressure of the working
第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの流入が停止すると、切替バルブ６９１および第２流入バルブ６２８が切替制御部８０２によって制御され、図２６に示すように、第１流出入配管６１２と排気配管６９３とが連通される。第２流入バルブ６２８は、切替制御部８０２によって閉鎖される。また、排気バルブ６９４が切替制御部８０２によって制御されて開放される。これにより、第１ポンプ部６０１と排気部６９５とが連通される。すなわち、第１ポンプ部６０１の接続状態が、第２ポンプ部６０２と連通するポンプ連通状態から、排気部６９５と連通する排気状態へと切り替えられる。このとき、第２共通配管６２１から第２流入配管６２５へのエアの逆流は、閉鎖された第２流入バルブ６２８により防止されている。
When the inflow of air from the
第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４内のエアは、第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出入バルブ６１７、切替バルブ６９１、排気配管６９３、および、排気バルブ６９４を介して排気部６９５へと流れ、排気部６９５から外部（すなわち、処理液供給装置６の外部の大気中）へと排出される（ステップＳ３１４）。ステップＳ３１４では、切替バルブ６９１は、ポンプ接続切替部６０３の一部として機能している。
Air in the working
なお、処理液供給装置６ａでは、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧が、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧以下になるよりも前に、第１ポンプ部６０１の接続状態が、第２ポンプ部６０２と連通するポンプ連通状態から、排気部６９５と連通する排気状態へと切り替えられ、第１ポンプ部６０１内のエアが外部へと排出されてもよい。
Note that in the processing liquid supply device 6a, the connection of the
第２ポンプ部６０２からの処理液の送出が終了すると、切替バルブ６９１が切替制御部８０２（図４参照）によって制御され、図２７に示すように、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２および第２流入配管６２５と供給源配管６９２との連通が閉鎖される。これにより、エア供給源７２と第２ポンプ部６０２との連通が閉鎖され、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給が停止される（ステップＳ３２１）。ステップＳ３２１では、切替バルブ６９１は、エア供給切替部６０４の一部として機能している。なお、上記連通の閉鎖は、第２流出入バルブ６２７が切替制御部８０２により閉鎖されることによって行われてもよい。
When the delivery of the processing liquid from the
続いて、切替バルブ６９１、第２流出入バルブ６２７および第１流入バルブ６１８が切替制御部８０２によって制御され、第２流出入配管６２２と第１流入配管６１５とが連通される。第２流出入バルブ６２７および第１流入バルブ６１８は、切替制御部８０２によって開放される。また、第２流入バルブ６２８および第１流出入バルブ６１７は閉鎖されている。これにより、第２ポンプ部６０２と第１ポンプ部６０１とが連通される。第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４内のエア（すなわち、第２ベローズ６２からの処理液の送出に利用されたエア）は、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出入バルブ６２７、切替バルブ６９１、第１流入配管６１５、第１流入バルブ６１８、および、第１共通配管６１１を介して、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４よりも内圧が低い第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４内へと流入する。これにより、第１ベローズ６１が圧縮され、第１ベローズ６１内に貯留されている処理液の送出が開始される（ステップＳ３２２）。ステップＳ３２２では、切替バルブ６９１は、ポンプ接続切替部６０３の一部として機能している。
Subsequently, the switching
第１ベローズ６１から送出された処理液は、送出バルブユニット６８（図７参照）のチェックバルブ６８１を介してポンプヘッド６３へと送出され、送出ポート６３２からノズル５１（図１参照）へと送出される。一方、第２ポンプ部６０２では、上述の第１ベローズ６１の圧縮と連動して第２ベローズ６２が伸張され、吸込バルブユニット６７（図７参照）のチェックバルブ６７２を介して、処理液が第２ベローズ６２内に吸引されて貯留される。
The processing liquid sent out from the first bellows 61 is sent out to the
処理液供給装置６ａでは、ステップＳ３２２以降であって、かつ、第１ベローズ６１から処理液が送出されている状態で（すなわち、第１ベローズ６１の圧縮途上において）、切替バルブ６９１および第１流出入バルブ６１７が切替制御部８０２によって制御され、図２８に示すように、供給源配管６９２と第１流出入配管６１２とが連通される。第１流出入バルブ６１７は、切替制御部８０２によって開放される。これにより、エア供給源７２と第１ポンプ部６０１とが連通される。エア供給源７２から送出されたエアは、供給源配管６９２、第１流出入配管６１２、第１流出入バルブ６１７および第１共通配管６１１を介して、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４へと供給される。作動ガス室６４４には、上述のように、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４内のエアも供給されている。これにより、第１ベローズ６１の圧縮が継続され、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出が継続される（ステップＳ３２３）。ステップＳ３２３では、切替バルブ６９１は、エア供給切替部６０４の一部として機能している。
In the processing liquid supply device 6a, after step S322, and while the processing liquid is being sent out from the first bellows 61 (that is, in the middle of compression of the first bellows 61), the switching
処理液供給装置６ａでは、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧が、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧以下になると、第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの流入が停止する。第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの流入停止以降も、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給は継続されており、第１ベローズ６１の圧縮および第１ポンプ部６０１からの処理液の送出、並びに、第２ベローズ６２の伸張および第２ポンプ部６０２による処理液の吸引は継続される。
In the processing liquid supply device 6a, when the internal pressure of the working
第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの流入が停止すると、切替バルブ６９１および第１流入バルブ６１８が切替制御部８０２によって制御され、図２９に示すように、第２流出入配管６２２と排気配管６９３とが連通される。第１流入バルブ６１８は、切替制御部８０２によって閉鎖される。また、排気バルブ６９４が切替制御部８０２によって制御されて開放される。これにより、第２ポンプ部６０２と排気部６９５とが連通される。すなわち、第２ポンプ部６０２の接続状態が、第１ポンプ部６０１と連通するポンプ連通状態から、排気部６９５と連通する排気状態へと切り替えられる。このとき、第１共通配管６１１から第１流入配管６１５へのエアの逆流は、閉鎖された第１流入バルブ６１８により防止されている。
When the inflow of air from the
第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４内のエアは、第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出入バルブ６２７、切替バルブ６９１、排気配管６９３、および、排気バルブ６９４を介して排気部６９５へと流れ、排気部６９５から外部（すなわち、処理液供給装置６の外部の大気中）へと排出される（ステップＳ３２４）。ステップＳ３２４では、切替バルブ６９１は、ポンプ接続切替部６０３の一部として機能している。
Air in the working
なお、処理液供給装置６ａでは、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧が、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧以下になるよりも前に、第２ポンプ部６０２の接続状態が、第１ポンプ部６０１と連通するポンプ連通状態から、排気部６９５と連通する排気状態へと切り替えられ、第２ポンプ部６０２内のエアが外部へと排出されてもよい。
In the processing liquid supply device 6a, the connection of the
処理液供給装置６ａでは、処理液供給装置６と同様に、第１ポンプ部６０１において第１ベローズ６１の圧縮に利用したエアを、第２ポンプ部６０２における第２ベローズ６２の圧縮に再利用する。また、処理液供給装置６ａでは、第２ポンプ部６０２において第２ベローズ６２の圧縮に利用したエアを、第１ポンプ部６０１における第１ベローズ６１の圧縮に再利用する。このため、処理液供給装置６ａでは、上述の比較例の処理液供給装置に比べて、エア供給源７２からのエアの供給流量を低減することができる。
In the processing liquid supply device 6a, similarly to the processing
なお、処理液供給装置６ａでは、ステップＳ３１３におけるエア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給は、ステップＳ３１２における第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの供給開始と略同時に開始されてもよい。あるいは、ステップＳ３１３は、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧が、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧と略同じになり、第１ポンプ部６０１から第２ポンプ部６０２へのエアの供給が停止するのと略同時に開始されてもよい。
In the processing liquid supply device 6a, the supply of air from the
処理液供給装置６ａでは、ステップＳ３２３におけるエア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給は、ステップＳ３２２における第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給開始と略同時に開始されてもよい。あるいは、ステップＳ３２３は、第２ポンプ部６０２の作動ガス室６５４の内圧が、第１ポンプ部６０１の作動ガス室６４４の内圧と略同じになり、第２ポンプ部６０２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給が停止するのと略同時に開始されてもよい。
In the processing liquid supply device 6a, the supply of air from the
以上に説明したように、処理液を連続的に送出するエア駆動の処理液供給装置６，６ａは、第１ポンプ部６０１と、第２ポンプ部６０２と、エア供給切替部６０４と、ポンプ接続切替部６０３と、切替制御部８０２とを備える。第１ポンプ部６０１は、処理液の吸引および送出を交互に行う。第２ポンプ部６０２は、第１ポンプ部６０１に連動して、第１ポンプ部６０１による処理液の吸引時に処理液の送出を行うとともに、第１ポンプ部６０１による処理液の送出時に処理液の吸引を行う。エア供給切替部６０４は、エア供給源７２の連通先を第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２との間で切り替える。ポンプ接続切替部６０３は、第１ポンプ部６０１の接続状態を、第２ポンプ部６０２と連通するポンプ連通状態と、排気部６９５と連通する排気状態との間で切り替える。また、ポンプ接続切替部６０３は、第２ポンプ部６０２の接続状態を、第１ポンプ部６０１と連通する上記ポンプ連通状態と、排気部６９５と連通する排気状態との間で切り替える。切替制御部８０２は、エア供給切替部６０４およびポンプ接続切替部６０３を制御する。
As explained above, the air-driven processing
処理液供給装置６，６ａでは、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出終了後、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第１ポンプ部６０１との連通を閉鎖し、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給を停止させる。そして、ポンプ接続切替部６０３によって第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２とを連通させ、処理液の送出に利用された第１ポンプ部６０１内のエアを、第１ポンプ部６０１よりも内圧が低い第２ポンプ部６０２に流入させることにより、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出を開始させる。また、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第２ポンプ部６０２とを連通させ、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へとエアを供給して第２ポンプ部６０２からの処理液の送出を継続させる。さらに、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出継続中にポンプ接続切替部６０３によって第１ポンプ部６０１の接続状態を上記ポンプ連通状態から上記排気状態へと切り替える。
In the processing
処理液供給装置６，６ａでは、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出終了後、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第２ポンプ部６０２との連通を閉鎖し、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給を停止させる。そして、ポンプ接続切替部６０３によって第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２とを連通させ、処理液の送出に利用された第２ポンプ部６０２内のエアを、第２ポンプ部６０２よりも内圧が低い第１ポンプ部６０１に流入させることにより、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出を開始させる。また、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第１ポンプ部６０１とを連通させ、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へとエアを供給して第１ポンプ部６０１からの処理液の送出を継続させる。さらに、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出継続中にポンプ接続切替部６０３によって第２ポンプ部６０２の接続状態を上記ポンプ連通状態から上記排気状態へと切り替える。
In the processing
このように、処理液供給装置６，６ａでは、第１ポンプ部６０１および第２ポンプ部６０２のうち、一方のポンプ部からの処理液送出に利用した圧縮されたエアを、他方のポンプ部からの処理液送出に再利用することができる。これにより、処理液供給装置６，６ａの駆動に要するエネルギーを低減することができる。その結果、基板処理装置１および基板処理システム１０のランニングコストを低減することができる。
In this way, in the processing
上述のように、処理液供給装置６，６ａでは、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出終了後、ポンプ接続切替部６０３による第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２との連通と並行して、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第２ポンプ部６０２とを連通させることも好ましい。これにより、第２ポンプ部６０２からの処理液送出を迅速に開始することができるとともに、第２ポンプ部６０２からの処理液送出の安定性を向上することができる。また、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出終了後、ポンプ接続切替部６０３による第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２との連通と並行して、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第１ポンプ部６０１とを連通させることも好ましい。これにより、第１ポンプ部６０１からの処理液送出を迅速に開始することができるとともに、第１ポンプ部６０１からの処理液送出の安定性を向上することができる。
As described above, in the processing
上述のように、処理液供給装置６では、ポンプ接続切替部６０３は、第１共通配管６１１と、第１流出入配管６１２と、第１流入配管６１５と、切替バルブ６９１と、第２共通配管６２１と、第２流出入配管６２２と、第２流入配管６２５と、第１流出逆止バルブ６１３と、第１流入逆止バルブ６１６と、第２流出逆止バルブ６２３と、第２流入逆止バルブ６２６と、排気配管６９３と、を備えることが好ましい。これにより、処理液供給装置６の構造を簡素化することができる。
As described above, in the processing
上述の第１共通配管６１１は、第１ポンプ部６０１から延びる。第１流出入配管６１２および第１流入配管６１５は、第１共通配管６１１の第１ポンプ部６０１とは反対側の端部から並列に延びる。切替バルブ６９１には、第１流出入配管６１２および第１流入配管６１５がそれぞれ接続される。第２共通配管６２１は、第２ポンプ部６０２から延びる。第２流出入配管６２２および第２流入配管６２５は、第２共通配管６２１の第２ポンプ部６０２とは反対側の端部から並列に延びるとともに、切替バルブ６９１にそれぞれ接続される。第１流出逆止バルブ６１３は、第１流出入配管６１２上に配置されて第１共通配管６１１から切替バルブ６９１へと向かう流れのみを通過させる。第１流入逆止バルブ６１６は、第１流入配管６１５上に配置されて切替バルブ６９１から第１共通配管６１１へと向かう流れのみを通過させる。第２流出逆止バルブ６２３は、第２流出入配管６２２上に配置されて第２共通配管６２１から切替バルブ６９１へと向かう流れのみを通過させる。第２流入逆止バルブ６２６は、第２流入配管６２５上に配置されて切替バルブ６９１から第２共通配管６２１へと向かう流れのみを通過させる。排気配管６９３は、切替バルブ６９１と排気部６９５とを接続する。
The first
また、エア供給切替部６０４は、切替バルブ６９１、第１流出入配管６１２、第１共通配管６１１、第２流出入配管６２２および第２共通配管６２１を、ポンプ接続切替部６０３と共有することが好ましい。さらに、エア供給切替部６０４は、供給源配管６９２と、第１供給バルブ６１４と、第２供給バルブ６２４とをさらに備えることが好ましい。供給源配管６９２は、切替バルブ６９１とエア供給源７２とを接続する。第１供給バルブ６１４は、第１流出入配管６１２上において第１流出逆止バルブ６１３と並列に配置される。第２供給バルブ６２４は、第２流出入配管６２２上において第２流出逆止バルブ６２３と並列に配置される。
Furthermore, the air
好ましくは、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出終了後、供給源配管６９２と第１共通配管６１１との連通が閉鎖されることにより、エア供給源７２と第１ポンプ部６０１との連通が閉鎖され、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給が停止される。また、切替バルブ６９１によって第１流出入配管６１２と第２流入配管６２５とが連通されることにより、第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２とが第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出逆止バルブ６１３、第２流入配管６２５、第２流入逆止バルブ６２６および第２共通配管６２１を介して連通し、第１ポンプ部６０１内のエアが第１ポンプ部６０１よりも内圧が低い第２ポンプ部６０２に流入する。そして、切替バルブ６９１によって供給源配管６９２と第２流出入配管６２２とが連通されることにより、エア供給源７２と第２ポンプ部６０２とが供給源配管６９２、第２流出入配管６２２、第２供給バルブ６２４および第２共通配管６２１を介して連通し、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へとエアが供給される。さらに、切替バルブ６９１によって第１流出入配管６１２と排気配管６９３とが連通されることにより、第１ポンプ部６０１と排気部６９５とが第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出逆止バルブ６１３および排気配管６９３を介して連通し、第１ポンプ部６０１内のエアが排気部６９５から外部へと排出される。
Preferably, after the
好ましくは、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出終了後、供給源配管６９２と第２共通配管６２１との連通が閉鎖されることにより、エア供給源７２と第２ポンプ部６０２との連通が閉鎖され、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給が停止される。また、切替バルブ６９１によって第２流出入配管６２２と第１流入配管６１５とが連通されることにより、第２ポンプ部６０２と第１ポンプ部６０１とが第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出逆止バルブ６２３、第１流入配管６１５、第１流入逆止バルブ６１６および第１共通配管６１１を介して連通し、第２ポンプ部６０２内のエアが第２ポンプ部６０２よりも内圧が低い第１ポンプ部６０１に流入する。そして、切替バルブ６９１によって供給源配管６９２と第１流出入配管６１２とが連通されることにより、エア供給源７２と第１ポンプ部６０１とが供給源配管６９２、第１流出入配管６１２、第１供給バルブ６１４および第１共通配管６１１を介して連通し、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へとエアが供給される。さらに、切替バルブ６９１によって第２流出入配管６２２と排気配管６９３とが連通されることにより、第２ポンプ部６０２と排気部６９５とが第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出逆止バルブ６２３および排気配管６９３を介して連通し、第２ポンプ部６０２内のエアが排気部６９５から外部へと排出される。
Preferably, after the
上述のように、処理液供給装置６ａでは、ポンプ接続切替部６０３は、第１共通配管６１１と、第１流出入配管６１２と、第１流入配管６１５と、切替バルブ６９１と、第２共通配管６２１と、第２流出入配管６２２と、第２流入配管６２５と、第１流出入バルブ６１７と、第１流入バルブ６１８と、第２流出入バルブ６２７と、第２流入バルブ６２８と、排気配管６９３とを備えることが好ましい。これにより、処理液供給装置６ａの構造を簡素化することができる。
As described above, in the processing liquid supply device 6a, the pump
上述の第１共通配管６１１は、第１ポンプ部６０１から延びる。第１流出入配管６１２および第１流入配管６１５は、第１共通配管６１１の第１ポンプ部６０１とは反対側の端部から並列に延びる。切替バルブ６９１には、第１流出入配管６１２および第１流入配管６１５がそれぞれ接続される。第２共通配管６２１は、第２ポンプ部６０２から延びる。第２流出入配管６２２および第２流入配管６２５は、第２共通配管６２１の第２ポンプ部６０２とは反対側の端部から並列に延びるとともに、切替バルブ６９１にそれぞれ接続される。第１流出入バルブ６１７は、第１流出入配管６１２上に配置される。第１流入バルブ６１８は、第１流入配管６１５上に配置される。第２流出入バルブ６２７は、第２流出入配管６２２上に配置される。第２流入バルブ６２８は、第２流入配管６２５上に配置される。排気配管６９３は、切替バルブ６９１と排気部６９５とを接続する。
The first
また、エア供給切替部６０４は、切替バルブ６９１、第１流出入配管６１２、第１流出入バルブ６１７、第１共通配管６１１、第２流出入配管６２２、第２流出入バルブ６２７および第２共通配管６２１を、ポンプ接続切替部６０３と共有することが好ましい。さらに、エア供給切替部６０４は、切替バルブ６９１とエア供給源７２とを接続する供給源配管６９２をさらに備えることが好ましい。
The air
好ましくは、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出終了後、供給源配管６９２と第１流出入配管６１２との連通が閉鎖されることにより、エア供給源７２と第１ポンプ部６０１との連通が閉鎖され、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給が停止される。そして、切替バルブ６９１によって第１流出入配管６１２と第２流入配管６２５とが連通されることにより、第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２とが第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出入バルブ６１７、第２流入配管６２５、第２流入バルブ６２８および第２共通配管６２１を介して連通し、第１ポンプ部６０１内のエアが第１ポンプ部６０１よりも内圧が低い第２ポンプ部６０２に流入する。また、切替バルブ６９１によって供給源配管６９２と第２流出入配管６２２とが連通されることにより、エア供給源７２と第２ポンプ部６０２とが供給源配管６９２、第２流出入配管６２２、第２流出入バルブ６２７および第２共通配管６２１を介して連通し、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へとエアが供給される。さらに、切替バルブ６９１によって第１流出入配管６１２と排気配管６９３とが連通されることにより、第１ポンプ部６０１と排気部６９５とが第１共通配管６１１、第１流出入配管６１２、第１流出入バルブ６１７および排気配管６９３を介して連通し、第１ポンプ部６０１内のエアが排気部６９５を介して排出される。
Preferably, after the processing liquid is sent out from the
好ましくは、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出終了後、供給源配管６９２と第２流出入配管６２２との連通が閉鎖されることにより、エア供給源７２と第２ポンプ部６０２との連通が閉鎖され、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給が停止される。そして、切替バルブ６９１によって第２流出入配管６２２と第１流入配管６１５とが連通されることにより、第２ポンプ部６０２と第１ポンプ部６０１とが第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出入バルブ６２７、第１流入配管６１５、第１流入バルブ６１８および第１共通配管６１１を介して連通し、第２ポンプ部６０２部内のエアが第２ポンプ部６０２よりも内圧が低い第１ポンプ部６０１に流入する。また、切替バルブ６９１によって供給源配管６９２と第１流出入配管６１２とが連通されることにより、エア供給源７２と第１ポンプ部６０１とが供給源配管６９２、第１流出入配管６１２、第１流出入バルブ６１７および第１共通配管６１１を介して連通し、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へとエアが供給される。さらに、切替バルブ６９１によって第２流出入配管６２２と排気配管６９３とが連通されることにより、第２ポンプ部６０２と排気部６９５とが第２共通配管６２１、第２流出入配管６２２、第２流出入バルブ６２７および排気配管６９３を介して連通し、第２ポンプ部６０２内のエアが排気部６９５を介して排出される。
Preferably, after the
上述のように、基板処理装置１は、基板９を保持する基板保持部３１と、基板９に処理液を供給する上述の処理液供給装置６または処理液供給装置６ａと、を備えることが好ましい。これにより、基板処理装置１において、基板９への処理液供給に要するエネルギーを低減することができる。
As described above, the
上述の基板処理方法は、基板９を保持する工程（ステップＳ１１）と、処理液を連続的に送出するエア駆動の処理液供給装置６，６ａから基板９に処理液を供給する工程（ステップＳ１２）と、を備える。処理液供給装置６，６ａは、第１ポンプ部６０１と、第２ポンプ部６０２と、エア供給切替部６０４と、ポンプ接続切替部６０３とを備える。第１ポンプ部６０１は、処理液の吸引および送出を交互に行う。第２ポンプ部６０２は、第１ポンプ部６０１に連動して、第１ポンプ部６０１による処理液の吸引時に処理液の送出を行うとともに、第１ポンプ部６０１による処理液の送出時に処理液の吸引を行う。エア供給切替部６０４は、エア供給源７２の連通先を第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２との間で切り替える。ポンプ接続切替部６０３は、第１ポンプ部６０１の接続状態を、第２ポンプ部６０２と連通するポンプ連通状態と、排気部６９５と連通する排気状態との間で切り替える。また、ポンプ接続切替部６０３は、第２ポンプ部６０２の接続状態を、第１ポンプ部６０１と連通する上記ポンプ連通状態と、排気部６９５と連通する排気状態との間で切り替える。
The above-described substrate processing method includes a step of holding the substrate 9 (step S11) and a step of supplying the processing liquid to the
上記ステップＳ１２は、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出終了後、第２ポンプ部６０２から処理液を送出する工程（ステップＳ２１，Ｓ３１）と、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出終了後、第１ポンプ部６０１から処理液を送出する工程（ステップＳ２２，Ｓ３２）と、ステップＳ２１，Ｓ３１およびステップＳ２２，Ｓ３２を交互に繰り返す工程（ステップＳ２３，Ｓ３３）と、を備える。
The above step S12 includes a step of sending out the processing liquid from the
上記ステップＳ２１，Ｓ３１は、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第１ポンプ部６０１との連通を閉鎖し、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へのエアの供給を停止する工程（ステップＳ２１１，Ｓ３１１）と、ステップＳ２１１，Ｓ３１１よりも後に、ポンプ接続切替部６０３によって第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２とを連通させ、処理液の送出に利用された第１ポンプ部６０１内のエアを、第１ポンプ部６０１よりも内圧が低い第２ポンプ部６０２に流入させることにより、第２ポンプ部６０２からの処理液の送出を開始させる工程（ステップＳ２１２，Ｓ３１２）と、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第２ポンプ部６０２とを連通させ、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へとエアを供給して第２ポンプ部６０２からの処理液の送出を継続させる工程（ステップＳ２１３，Ｓ３１３）と、ステップＳ２１２，Ｓ３１２よりも後に、ステップＳ２１３，Ｓ３１３と並行して、ポンプ接続切替部６０３によって第１ポンプ部６０１の接続状態をポンプ連通状態から排気状態へと切り替える工程（ステップＳ２１４，Ｓ３１４）と、を備える。
Steps S21 and S31 are steps in which the air
上記ステップＳ２２，Ｓ３２は、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第２ポンプ部６０２との連通を閉鎖し、エア供給源７２から第２ポンプ部６０２へのエアの供給を停止する工程（ステップＳ２２１，Ｓ３２１）と、ステップＳ２２１，Ｓ３２１よりも後に、ポンプ接続切替部６０３によって第１ポンプ部６０１と第２ポンプ部６０２とを連通させ、処理液の送出に利用された第２ポンプ部６０２内のエアを、第２ポンプ部６０２よりも内圧が低い第１ポンプ部６０１に流入させることにより、第１ポンプ部６０１からの処理液の送出を開始させる工程（ステップＳ２２２，Ｓ３２２）と、エア供給切替部６０４によってエア供給源７２と第１ポンプ部６０１とを連通させ、エア供給源７２から第１ポンプ部６０１へとエアを供給して第１ポンプ部６０１からの処理液の送出を継続させる工程（ステップＳ２２３，Ｓ３２３）と、ステップＳ２２２，Ｓ３２２よりも後に、ステップＳ２２３，Ｓ３２３と並行して、ポンプ接続切替部６０３によって第２ポンプ部６０２の接続状態をポンプ連通状態から排気状態へと切り替える工程（ステップＳ２２４，Ｓ３２４）と、を備える。
Steps S22 and S32 are steps in which the air
当該基板処理方法では、第１ポンプ部６０１および第２ポンプ部６０２のうち、一方のポンプ部からの処理液送出に利用した圧縮されたエアを、他方のポンプ部からの処理液送出に再利用することができる。これにより、基板９への処理液供給に要するエネルギーを低減することができる。その結果、基板処理に係るランニングコストを低減することができる。
In this substrate processing method, compressed air used for sending out the processing liquid from one of the
上述のように、ステップＳ２１３，Ｓ３１３におけるエア供給源７２と第２ポンプ部６０２との連通は、ステップＳ２１２，Ｓ３１２と同時に開始されることも好ましい。これにより、第２ポンプ部６０２からの処理液送出を迅速に開始することができるとともに、第２ポンプ部６０２からの処理液送出の安定性を向上することができる。また、ステップＳ２２３，Ｓ３２３におけるエア供給源７２と第１ポンプ部６０１との連通は、ステップＳ２２２，Ｓ３２２と同時に開始されることも好ましい。これにより、第１ポンプ部６０１からの処理液送出を迅速に開始することができるとともに、第１ポンプ部６０１からの処理液送出の安定性を向上することができる。
As described above, it is also preferable that the communication between the
上述の処理液供給装置６，６ａ、基板処理装置１および基板処理方法では、様々な変更が可能である。
Various modifications can be made to the processing
例えば、処理液供給装置６，６ａでは、配管構造およびバルブの種類等は上記例には限定されず、様々に変更されてよい。例えば、処理液供給装置６の第１供給バルブ６１４および第２供給バルブ６２４は、設定流量の遠隔操作が可能なモーターニードルバルブであってもよい。
For example, in the processing
処理液供給装置６，６ａは、必ずしもベローズポンプである必要はなく、他の種類のポンプ（例えば、ダイヤフラムポンプ）であってもよい。
The processing
基板処理装置１では、処理液供給装置６，６ａから送出された処理液は、必ずしも基板９の上面９１に供給される必要はなく、例えば、基板９の下面、または、基板９の上下両面に供給されてもよい。
In the
処理液供給装置６，６ａは、必ずしも枚葉式の基板処理装置１に設けられる必要はなく、複数の基板９に対してバッチ処理を行う基板処理装置に設けられてもよい。
The processing
処理液供給装置６，６ａは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等の平面表示装置（Flat Panel Display）に使用されるガラス基板、あるいは、他の表示装置に使用されるガラス基板の処理を行う基板処理装置にて利用されてもよい。また、処理液供給装置６，６ａは、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板および太陽電池用基板等の処理を行う基板処理装置にて利用されてもよい。あるいは、処理液供給装置６，６ａは、基板処理装置以外の装置にて利用されてもよい。
The processing
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。 The configurations of the above embodiment and each modification may be combined as appropriate unless mutually contradictory.
１ 基板処理装置
６，６ａ 処理液供給装置
９ 基板
３１ 基板保持部
７２ エア供給源
６０１ 第１ポンプ部
６０２ 第２ポンプ部
６０３ ポンプ接続切替部
６０４ エア供給切替部
６１１ 第１共通配管
６１２ 第１流出入配管
６１３ 第１流出逆止バルブ
６１４ 第１供給バルブ
６１５ 第１流入配管
６１６ 第１流入逆止バルブ
６１７ 第１流出入バルブ
６１８ 第１流入バルブ
６２１ 第２共通配管
６２２ 第２流出入配管
６２３ 第２流出逆止バルブ
６２４ 第２供給バルブ
６２５ 第２流入配管
６２６ 第２流入逆止バルブ
６２７ 第２流出入バルブ
６２８ 第２流入バルブ
６９１ 切替バルブ
６９２ 供給源配管
６９３ 排気配管
６９５ 排気部
８０２ 切替制御部
Ｓ１１～Ｓ１２，Ｓ２１～Ｓ２３，Ｓ３１～Ｓ３３，Ｓ２１１～Ｓ２１４，Ｓ２２１～Ｓ２２４，Ｓ３１１～Ｓ３１４，Ｓ３２１～Ｓ３２４ ステップ
1
Claims (7)
処理液の吸引および送出を交互に行う第１ポンプ部と、
前記第１ポンプ部に連動して前記第１ポンプ部による処理液の吸引時に処理液の送出を行うとともに前記第１ポンプ部による処理液の送出時に処理液の吸引を行う第２ポンプ部と、
エア供給源の連通先を前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部との間で切り替えるエア供給切替部と、
前記第１ポンプ部の接続状態を、前記第２ポンプ部と連通するポンプ連通状態と、排気部と連通する排気状態との間で切り替え、前記第２ポンプ部の接続状態を、前記第１ポンプ部と連通する前記ポンプ連通状態と、前記排気部と連通する排気状態との間で切り替えるポンプ接続切替部と、
前記エア供給切替部および前記ポンプ接続切替部を制御する切替制御部と、
を備え、
前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通を閉鎖し、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へのエアの供給を停止し、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とを連通させ、処理液の送出に利用された前記第１ポンプ部内のエアを、前記第１ポンプ部よりも内圧が低い前記第２ポンプ部に流入させることにより、前記第２ポンプ部からの処理液の送出を開始させ、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部とを連通させ、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へとエアを供給して前記第２ポンプ部からの処理液の送出を継続させ、前記第２ポンプ部からの処理液の送出継続中に前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部の接続状態を前記ポンプ連通状態から前記排気状態へと切り替え、
前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通を閉鎖し、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へのエアの供給を停止し、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とを連通させ、処理液の送出に利用された前記第２ポンプ部内のエアを、前記第２ポンプ部よりも内圧が低い前記第１ポンプ部に流入させることにより、前記第１ポンプ部からの処理液の送出を開始させ、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部とを連通させ、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へとエアを供給して前記第１ポンプ部からの処理液の送出を継続させ、前記第１ポンプ部からの処理液の送出継続中に前記ポンプ接続切替部によって前記第２ポンプ部の接続状態を前記ポンプ連通状態から前記排気状態へと切り替えることを特徴とする処理液供給装置。 An air-driven processing liquid supply device that continuously delivers processing liquid,
a first pump section that alternately sucks and delivers the processing liquid;
a second pump section that operates in conjunction with the first pump section to deliver the processing liquid when the first pump section suctions the processing liquid, and also sucks the processing liquid when the first pump section sends out the processing liquid;
an air supply switching unit that switches the communication destination of the air supply source between the first pump unit and the second pump unit;
The connection state of the first pump part is switched between a pump communication state in which it communicates with the second pump part and an exhaust state in which it communicates with an exhaust part, and the connection state of the second pump part is changed between the connection state of the second pump part and the first pump part. a pump connection switching section that switches between the pump communication state communicating with the pump section and the exhaust state communicating with the exhaust section;
a switching control section that controls the air supply switching section and the pump connection switching section;
Equipped with
After the processing liquid is sent out from the first pump section, the air supply switching section closes the communication between the air supply source and the first pump section, and the air supply from the air supply source to the first pump section is stopped. , the first pump section and the second pump section are communicated with each other by the pump connection switching section, and the air in the first pump section used for sending out the processing liquid is transferred to the first pump section. By causing the processing liquid to flow into the second pump section, which has an internal pressure lower than and supplying air from the air supply source to the second pump section to continue sending out the processing liquid from the second pump section, and while continuing to send out the processing liquid from the second pump section, the pump switching the connection state of the first pump unit from the pump communication state to the exhaust state by a connection switching unit;
After the processing liquid is sent out from the second pump section, the air supply switching section closes the communication between the air supply source and the second pump section, and the air supply switching section closes the communication between the air supply source and the second pump section, and the air supply switching section closes the communication between the air supply source and the second pump section. The first pump section and the second pump section are brought into communication by the pump connection switching section, and the air in the second pump section used for sending out the processing liquid is transferred to the second pump section. By causing the processing liquid to flow into the first pump section whose internal pressure is lower than and supplying air from the air supply source to the first pump section to continue sending out the processing liquid from the first pump section, and while continuing to send out the processing liquid from the first pump section, the pump A processing liquid supply device characterized in that the connection state of the second pump section is switched from the pump communication state to the exhaust state by a connection switching section.
前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記ポンプ接続切替部による前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部との連通と並行して、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部とを連通させ、
前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記ポンプ接続切替部による前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部との連通と並行して、前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部とを連通させることを特徴とする処理液供給装置。 The processing liquid supply device according to claim 1,
After the first pump section finishes sending out the processing liquid, in parallel with the communication between the first pump section and the second pump section by the pump connection switching section, the air supply switching section connects the air supply source with the air supply switching section. communicating with the second pump section;
After the second pump section finishes sending out the processing liquid, in parallel with the communication between the first pump section and the second pump section by the pump connection switching section, the air supply switching section connects the air supply source with the air supply switching section. A processing liquid supply device, characterized in that it communicates with the first pump section.
前記ポンプ接続切替部は、
前記第１ポンプ部から延びる第１共通配管と、
前記第１共通配管の前記第１ポンプ部とは反対側の端部から並列に延びる第１流出入配管および第１流入配管と、
前記第１流出入配管および前記第１流入配管がそれぞれ接続される切替バルブと、
前記第２ポンプ部から延びる第２共通配管と、
前記第２共通配管の前記第２ポンプ部とは反対側の端部から並列に延びるとともに前記切替バルブにそれぞれ接続される第２流出入配管および第２流入配管と、
前記第１流出入配管上に配置されて前記第１共通配管から前記切替バルブへと向かう流れのみを通過させる第１流出逆止バルブと、
前記第１流入配管上に配置されて前記切替バルブから前記第１共通配管へと向かう流れのみを通過させる第１流入逆止バルブと、
前記第２流出入配管上に配置されて前記第２共通配管から前記切替バルブへと向かう流れのみを通過させる第２流出逆止バルブと、
前記第２流入配管上に配置されて前記切替バルブから前記第２共通配管へと向かう流れのみを通過させる第２流入逆止バルブと、
前記切替バルブと前記排気部とを接続する排気配管と、
を備え、
前記エア供給切替部は、前記切替バルブ、前記第１流出入配管、前記第１共通配管、前記第２流出入配管および前記第２共通配管を、前記ポンプ接続切替部と共有し、
前記エア供給切替部は、
前記切替バルブと前記エア供給源とを接続する供給源配管と、
前記第１流出入配管上において前記第１流出逆止バルブと並列に配置される第１供給バルブと、
前記第２流出入配管上において前記第２流出逆止バルブと並列に配置される第２供給バルブと、
をさらに備え、
前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、
前記供給源配管と前記第１共通配管との連通が閉鎖されることにより、前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通が閉鎖され、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へのエアの供給が停止され、
前記切替バルブによって前記第１流出入配管と前記第２流入配管とが連通されることにより、前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とが前記第１共通配管、前記第１流出入配管、前記第１流出逆止バルブ、前記第２流入配管、前記第２流入逆止バルブおよび前記第２共通配管を介して連通し、前記第１ポンプ部内のエアが前記第１ポンプ部よりも内圧が低い前記第２ポンプ部に流入し、
前記切替バルブによって前記供給源配管と前記第２流出入配管とが連通されることにより、前記エア供給源と前記第２ポンプ部とが前記供給源配管、前記第２流出入配管、前記第２供給バルブおよび前記第２共通配管を介して連通し、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へとエアが供給され、
前記切替バルブによって前記第１流出入配管と前記排気配管とが連通されることにより、前記第１ポンプ部と前記排気部とが前記第１共通配管、前記第１流出入配管、前記第１流出逆止バルブおよび前記排気配管を介して連通し、前記第１ポンプ部内のエアが前記排気部から外部へと排出され、
前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、
前記供給源配管と前記第２共通配管との連通が閉鎖されることにより、前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通が閉鎖され、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へのエアの供給が停止され、
前記切替バルブによって前記第２流出入配管と前記第１流入配管とが連通されることにより、前記第２ポンプ部と前記第１ポンプ部とが前記第２共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出逆止バルブ、前記第１流入配管、前記第１流入逆止バルブおよび前記第１共通配管を介して連通し、前記第２ポンプ部内のエアが前記第２ポンプ部よりも内圧が低い前記第１ポンプ部に流入し、
前記切替バルブによって前記供給源配管と前記第１流出入配管とが連通されることにより、前記エア供給源と前記第１ポンプ部とが前記供給源配管、前記第１流出入配管、前記第１供給バルブおよび前記第１共通配管を介して連通し、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へとエアが供給され、
前記切替バルブによって前記第２流出入配管と前記排気配管とが連通されることにより、前記第２ポンプ部と前記排気部とが前記第２共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出逆止バルブおよび前記排気配管を介して連通し、前記第２ポンプ部内のエアが前記排気部から外部へと排出されることを特徴とする処理液供給装置。 The processing liquid supply device according to claim 1 or 2,
The pump connection switching section is
a first common pipe extending from the first pump section;
a first outflow/inflow pipe and a first inflow pipe extending in parallel from an end of the first common pipe opposite to the first pump section;
a switching valve to which the first inflow/outflow pipe and the first inflow pipe are respectively connected;
a second common pipe extending from the second pump section;
a second inflow/outflow pipe and a second inflow pipe that extend in parallel from an end of the second common pipe opposite to the second pump section and are respectively connected to the switching valve;
a first outflow check valve that is disposed on the first outflow/inflow pipe and allows only flow from the first common pipe to the switching valve to pass;
a first inflow check valve that is disposed on the first inflow pipe and allows only flow from the switching valve to the first common pipe to pass;
a second outflow check valve that is disposed on the second outflow/inflow pipe and allows only flow from the second common pipe to the switching valve to pass;
a second inflow check valve that is disposed on the second inflow pipe and allows only flow from the switching valve to the second common pipe to pass;
an exhaust pipe connecting the switching valve and the exhaust section;
Equipped with
The air supply switching unit shares the switching valve, the first inflow/outflow pipe, the first common pipe, the second outflow/inflow pipe, and the second common pipe with the pump connection switching unit,
The air supply switching section is
supply source piping connecting the switching valve and the air supply source;
a first supply valve arranged in parallel with the first outflow check valve on the first outflow/inflow pipe;
a second supply valve arranged in parallel with the second outflow check valve on the second outflow/inflow pipe;
Furthermore,
After finishing sending out the processing liquid from the first pump section,
By closing communication between the supply source piping and the first common piping, communication between the air supply source and the first pump section is closed, and air flow from the air supply source to the first pump section is closed. supply is stopped,
By communicating the first inflow/outflow pipe and the second inflow pipe by the switching valve, the first pump section and the second pump section are connected to the first common pipe, the first outflow/inflow pipe, The first outflow check valve, the second inflow pipe, the second inflow check valve, and the second common pipe communicate with each other, and the air in the first pump part has an internal pressure lower than that in the first pump part. flows into the lower second pump section;
By communicating the supply source piping and the second inflow/outflow piping with the switching valve, the air supply source and the second pump section are connected to the supply source piping, the second inflow/outflow piping, and the second inflow/outflow piping. communicated via a supply valve and the second common pipe, and air is supplied from the air supply source to the second pump section;
By communicating the first inflow/outflow pipe and the exhaust pipe by the switching valve, the first pump section and the exhaust section are connected to the first common pipe, the first outflow/inflow pipe, and the first outflow pipe. communicated via a check valve and the exhaust pipe, and the air in the first pump section is exhausted from the exhaust section to the outside;
After finishing sending out the processing liquid from the second pump section,
By closing communication between the supply source piping and the second common piping, communication between the air supply source and the second pump section is closed, and air flow from the air supply source to the second pump section is closed. supply is stopped,
By communicating the second inflow/outflow pipe and the first inflow pipe by the switching valve, the second pump section and the first pump section are connected to the second common pipe, the second outflow/inflow pipe, The second outflow check valve, the first inflow pipe, the first inflow check valve, and the first common pipe communicate with each other, and the air in the second pump part has an internal pressure lower than that in the second pump part. into the lower first pump section;
By communicating the supply source piping and the first inflow/outflow piping with the switching valve, the air supply source and the first pump section are connected to the supply source piping, the first inflow/outflow piping, and the first inflow/outflow piping. communicated via a supply valve and the first common pipe, and air is supplied from the air supply source to the first pump section;
The second inflow/outflow pipe and the exhaust pipe are communicated with each other by the switching valve, so that the second pump part and the exhaust part are connected to the second common pipe, the second outflow/inflow pipe, and the second outflow pipe. A processing liquid supply device, characterized in that the device communicates through a check valve and the exhaust pipe, and the air in the second pump section is discharged to the outside from the exhaust section.
前記ポンプ接続切替部は、
前記第１ポンプ部から延びる第１共通配管と、
前記第１共通配管の前記第１ポンプ部とは反対側の端部から並列に延びる第１流出入配管および第１流入配管と、
前記第１流出入配管および前記第１流入配管がそれぞれ接続される切替バルブと、
前記第２ポンプ部から延びる第２共通配管と、
前記第２共通配管の前記第２ポンプ部とは反対側の端部から並列に延びるとともに前記切替バルブにそれぞれ接続される第２流出入配管および第２流入配管と、
前記第１流出入配管上に配置される第１流出入バルブと、
前記第１流入配管上に配置される第１流入バルブと、
前記第２流出入配管上に配置される第２流出入バルブと、
前記第２流入配管上に配置される第２流入バルブと、
前記切替バルブと前記排気部とを接続する排気配管と、
を備え、
前記エア供給切替部は、前記切替バルブ、前記第１流出入配管、前記第１流出入バルブ、前記第１共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出入バルブおよび前記第２共通配管を、前記ポンプ接続切替部と共有し、
前記エア供給切替部は、前記切替バルブと前記エア供給源とを接続する供給源配管をさらに備え、
前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、
前記供給源配管と前記第１流出入配管との連通が閉鎖されることにより、前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通が閉鎖され、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へのエアの供給が停止され、
前記切替バルブによって前記第１流出入配管と前記第２流入配管とが連通されることにより、前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とが前記第１共通配管、前記第１流出入配管、前記第１流出入バルブ、前記第２流入配管、前記第２流入バルブおよび前記第２共通配管を介して連通し、前記第１ポンプ部内のエアが前記第１ポンプ部よりも内圧が低い前記第２ポンプ部に流入し、
前記切替バルブによって前記供給源配管と前記第２流出入配管とが連通されることにより、前記エア供給源と前記第２ポンプ部とが前記供給源配管、前記第２流出入配管、前記第２流出入バルブおよび前記第２共通配管を介して連通し、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へとエアが供給され、
前記切替バルブによって前記第１流出入配管と前記排気配管とが連通されることにより、前記第１ポンプ部と前記排気部とが前記第１共通配管、前記第１流出入配管、前記第１流出入バルブおよび前記排気配管を介して連通し、前記第１ポンプ部内のエアが前記排気部を介して排出され、
前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、
前記供給源配管と前記第２流出入配管との連通が閉鎖されることにより、前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通が閉鎖され、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へのエアの供給が停止され、
前記切替バルブによって前記第２流出入配管と前記第１流入配管とが連通されることにより、前記第２ポンプ部と前記第１ポンプ部とが前記第２共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出入バルブ、前記第１流入配管、前記第１流入バルブおよび前記第１共通配管を介して連通し、前記第２ポンプ部内のエアが前記第２ポンプ部よりも内圧が低い前記第１ポンプ部に流入し、
前記切替バルブによって前記供給源配管と前記第１流出入配管とが連通されることにより、前記エア供給源と前記第１ポンプ部とが前記供給源配管、前記第１流出入配管、前記第１流出入バルブおよび前記第１共通配管を介して連通し、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へとエアが供給され、
前記切替バルブによって前記第２流出入配管と前記排気配管とが連通されることにより、前記第２ポンプ部と前記排気部とが前記第２共通配管、前記第２流出入配管、前記第２流出入バルブおよび前記排気配管を介して連通し、前記第２ポンプ部内のエアが前記排気部を介して排出されることを特徴とする処理液供給装置。 The processing liquid supply device according to claim 1 or 2,
The pump connection switching section is
a first common pipe extending from the first pump section;
a first outflow/inflow pipe and a first inflow pipe extending in parallel from an end of the first common pipe opposite to the first pump section;
a switching valve to which the first inflow/outflow pipe and the first inflow pipe are respectively connected;
a second common pipe extending from the second pump section;
a second inflow/outflow pipe and a second inflow pipe that extend in parallel from an end of the second common pipe opposite to the second pump section and are respectively connected to the switching valve;
a first inflow and outflow valve disposed on the first inflow and outflow pipe;
a first inflow valve disposed on the first inflow pipe;
a second inflow and outflow valve disposed on the second inflow and outflow pipe;
a second inflow valve disposed on the second inflow pipe;
an exhaust pipe connecting the switching valve and the exhaust section;
Equipped with
The air supply switching section includes the switching valve, the first inflow/outflow pipe, the first outflow/inflow valve, the first common pipe, the second inflow/outflow pipe, the second outflow/inflow valve, and the second common pipe. is shared with the pump connection switching section,
The air supply switching section further includes a supply source pipe connecting the switching valve and the air supply source,
After finishing sending out the processing liquid from the first pump section,
By closing the communication between the supply source pipe and the first inflow/outflow pipe, the communication between the air supply source and the first pump section is closed, and the communication from the air supply source to the first pump section is closed. Air supply is stopped,
By communicating the first inflow/outflow pipe and the second inflow pipe by the switching valve, the first pump section and the second pump section are connected to the first common pipe, the first outflow/inflow pipe, The first inflow/outflow valve, the second inflow pipe, the second inflow valve, and the second common pipe communicate with each other, and the air in the first pump part has a lower internal pressure than the first pump part. 2 flows into the pump section,
By communicating the supply source piping and the second inflow/outflow piping with the switching valve, the air supply source and the second pump section are connected to the supply source piping, the second inflow/outflow piping, and the second inflow/outflow piping. communicating via an inflow/outflow valve and the second common pipe, and air is supplied from the air supply source to the second pump section;
By communicating the first inflow/outflow pipe and the exhaust pipe by the switching valve, the first pump section and the exhaust section are connected to the first common pipe, the first outflow/inflow pipe, and the first outflow pipe. communicated through the inlet valve and the exhaust pipe, and the air in the first pump section is exhausted through the exhaust section;
After finishing sending out the processing liquid from the second pump section,
By closing the communication between the supply source pipe and the second inflow/outflow pipe, the communication between the air supply source and the second pump section is closed, and the communication from the air supply source to the second pump section is closed. Air supply is stopped,
By communicating the second inflow/outflow pipe and the first inflow pipe by the switching valve, the second pump section and the first pump section are connected to the second common pipe, the second outflow/inflow pipe, The second inflow/outflow valve, the first inflow pipe, the first inflow valve, and the first common pipe communicate with each other, and the air in the second pump part has a lower internal pressure than the second pump part. 1 flows into the pump section,
By communicating the supply source piping and the first inflow/outflow piping with the switching valve, the air supply source and the first pump section are connected to the supply source piping, the first inflow/outflow piping, and the first inflow/outflow piping. communicated via an inflow/outflow valve and the first common pipe, and air is supplied from the air supply source to the first pump section;
The second inflow/outflow pipe and the exhaust pipe are communicated with each other by the switching valve, so that the second pump part and the exhaust part are connected to the second common pipe, the second outflow/inflow pipe, and the second outflow pipe. A processing liquid supply device, characterized in that the second pump section is in communication with the inlet valve and the exhaust pipe, and air in the second pump section is discharged through the exhaust section.
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に処理液を供給する請求項１ないし４のいずれか１つに記載の処理液供給装置と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 A substrate processing apparatus that processes a substrate,
a substrate holding part that holds the substrate;
The processing liquid supply device according to any one of claims 1 to 4, which supplies the processing liquid to the substrate;
A substrate processing apparatus comprising:
ａ）基板を保持する工程と、
ｂ）処理液を連続的に送出するエア駆動の処理液供給装置から前記基板に処理液を供給する工程と、
を備え、
前記処理液供給装置は、
処理液の吸引および送出を交互に行う第１ポンプ部と、
前記第１ポンプ部に連動して前記第１ポンプ部による処理液の吸引時に処理液の送出を行うとともに前記第１ポンプ部による処理液の送出時に処理液の吸引を行う第２ポンプ部と、
エア供給源の連通先を前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部との間で切り替えるエア供給切替部と、
前記第１ポンプ部の接続状態を、前記第２ポンプ部と連通するポンプ連通状態と、排気部と連通する排気状態との間で切り替え、前記第２ポンプ部の接続状態を、前記第１ポンプ部と連通する前記ポンプ連通状態と、前記排気部と連通する排気状態との間で切り替えるポンプ接続切替部と、
を備え、
前記ｂ）工程は、
ｃ）前記第１ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記第２ポンプ部から処理液を送出する工程と、
ｄ）前記第２ポンプ部からの処理液の送出終了後、前記第１ポンプ部から処理液を送出する工程と、
ｅ）前記ｃ）工程および前記ｄ）工程を交互に繰り返す工程と、
を備え、
前記ｃ）工程は、
ｃ１）前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通を閉鎖し、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へのエアの供給を停止する工程と、
ｃ２）前記ｃ１）工程よりも後に、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とを連通させ、処理液の送出に利用された前記第１ポンプ部内のエアを、前記第１ポンプ部よりも内圧が低い前記第２ポンプ部に流入させることにより、前記第２ポンプ部からの処理液の送出を開始させる工程と、
ｃ３）前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部とを連通させ、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へとエアを供給して前記第２ポンプ部からの処理液の送出を継続させる工程と、
ｃ４）前記ｃ２）工程よりも後に、前記ｃ３）工程と並行して、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部の接続状態を前記ポンプ連通状態から前記排気状態へと切り替える工程と、
を備え、
前記ｄ）工程は、
ｄ１）前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通を閉鎖し、前記エア供給源から前記第２ポンプ部へのエアの供給を停止する工程と、
ｄ２）前記ｄ１）工程よりも後に、前記ポンプ接続切替部によって前記第１ポンプ部と前記第２ポンプ部とを連通させ、処理液の送出に利用された前記第２ポンプ部内のエアを、前記第２ポンプ部よりも内圧が低い前記第１ポンプ部に流入させることにより、前記第１ポンプ部からの処理液の送出を開始させる工程と、
ｄ３）前記エア供給切替部によって前記エア供給源と前記第１ポンプ部とを連通させ、前記エア供給源から前記第１ポンプ部へとエアを供給して前記第１ポンプ部からの処理液の送出を継続させる工程と、
ｄ４）前記ｄ２）工程よりも後に、前記ｄ３）工程と並行して、前記ポンプ接続切替部によって前記第２ポンプ部の接続状態を前記ポンプ連通状態から前記排気状態へと切り替える工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 A substrate processing method for processing a substrate, the method comprising:
a) holding the substrate;
b) supplying the processing liquid to the substrate from an air-driven processing liquid supply device that continuously delivers the processing liquid;
Equipped with
The processing liquid supply device includes:
a first pump section that alternately sucks and delivers the processing liquid;
a second pump section that operates in conjunction with the first pump section to deliver the processing liquid when the first pump section suctions the processing liquid, and also sucks the processing liquid when the first pump section sends out the processing liquid;
an air supply switching unit that switches the communication destination of the air supply source between the first pump unit and the second pump unit;
The connection state of the first pump part is switched between a pump communication state in which it communicates with the second pump part and an exhaust state in which it communicates with an exhaust part, and the connection state of the second pump part is changed between the connection state of the second pump part and the first pump part. a pump connection switching section that switches between the pump communication state communicating with the pump section and the exhaust state communicating with the exhaust section;
Equipped with
The step b) is
c) after the completion of sending out the processing liquid from the first pump section, sending out the processing liquid from the second pump section;
d) after the completion of sending out the processing liquid from the second pump section, sending out the processing liquid from the first pump section;
e) a step of alternately repeating the step c) and the step d);
Equipped with
The step c) is:
c1) closing the communication between the air supply source and the first pump section by the air supply switching section, and stopping the supply of air from the air supply source to the first pump section;
c2) After the step c1), the first pump section and the second pump section are brought into communication by the pump connection switching section, and the air in the first pump section used for sending out the processing liquid is transferred to the second pump section. a step of starting delivery of the processing liquid from the second pump section by causing it to flow into the second pump section whose internal pressure is lower than that of the first pump section;
c3) The air supply switching unit communicates the air supply source with the second pump unit, and air is supplied from the air supply source to the second pump unit to control the processing liquid from the second pump unit. A process of continuing the sending out,
c4) After the step c2) and in parallel with the step c3), the pump connection switching section switches the connection state of the first pump section from the pump communication state to the exhaust state;
Equipped with
The step d) is:
d1) closing communication between the air supply source and the second pump section by the air supply switching section, and stopping the supply of air from the air supply source to the second pump section;
d2) After the step d1), the first pump section and the second pump section are brought into communication by the pump connection switching section, and the air in the second pump section used for sending out the processing liquid is transferred to the second pump section. a step of starting delivery of the processing liquid from the first pump section by causing it to flow into the first pump section whose internal pressure is lower than that of the second pump section;
d3) The air supply switching unit communicates the air supply source with the first pump unit, and supplies air from the air supply source to the first pump unit to control the processing liquid from the first pump unit. A process of continuing the sending out,
d4) after the step d2) and in parallel with the step d3), the pump connection switching section switches the connection state of the second pump section from the pump communication state to the exhaust state;
A substrate processing method comprising:
前記ｃ３）工程における前記エア供給源と前記第２ポンプ部との連通は、前記ｃ２）工程と同時に開始され、
前記ｄ３）工程における前記エア供給源と前記第１ポンプ部との連通は、前記ｄ２）工程と同時に開始されることを特徴とする基板処理方法。 7. The substrate processing method according to claim 6,
Communication between the air supply source and the second pump section in the step c3) is started simultaneously with the step c2),
A substrate processing method, wherein communication between the air supply source and the first pump section in the step d3) is started simultaneously with the step d2).
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| JP2022046415A JP2023140530A (en) | 2022-03-23 | 2022-03-23 | Treatment liquid supply device, substrate treatment device and substrate treatment method |
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