JP2023136637A - Base material film and sheet for workpiece processing - Google Patents

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悠介 原
Yusuke Hara
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Abstract

To provide a base material film and a sheet for workpiece processing which can achieve both antistatic properties and mechanical strength.SOLUTION: A base material film has a resin layer containing a polyester resin, a polymer type antistatic agent and a carbon nanotube. The content of the polymer type antistatic agent in the resin layer is preferably 0.1 mass% or more and 50 mass% or less, and the content of the carbon nanotube in the resin layer is preferably 0.001 mass% or more and 1 mass% or less. The polyester resin preferably has an alicyclic structure, and has a heat quantity of melting measured at a rate of temperature rise of 20°C/min by differential scanning calorimetry of 2 J/g or more.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、半導体ウエハ等のワークの加工に使用されるワーク加工用シートのための基材フィルムとして好適に使用できる基材フィルム、および当該ワーク加工用シートに関するものである。 The present invention relates to a base film that can be suitably used as a base film for a workpiece processing sheet used for processing a workpiece such as a semiconductor wafer, and the workpiece processing sheet.

シリコン、ガリウムヒ素などの半導体ウエハや各種パッケージ類は、大径の状態で製造され、チップに切断(ダイシング)され、剥離(ピックアップ)された後に、次の工程であるマウント工程に移される。この際、半導体ウエハ等のワークは、基材フィルムおよび粘着剤層を備える粘着シート(以下、「ワーク加工用シート」という場合がある。)に貼付された状態で、バックグラインド、ダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンド、ピックアップ、マウンティング等の加工が行われる。 Semiconductor wafers and various packages made of silicon, gallium arsenide, etc. are manufactured in a large diameter state, diced into chips, peeled off (picked up), and then transferred to the next process, the mounting process. At this time, the workpiece such as a semiconductor wafer is attached to an adhesive sheet (hereinafter sometimes referred to as a "workpiece processing sheet") comprising a base film and an adhesive layer, and is subjected to back grinding, dicing, cleaning, etc. Processing such as drying, expanding, picking up, and mounting is performed.

ここで、ワーク加工用シートは、所定の処理工程が終了すると被着体から剥離されるが、このときに、ワーク加工用シートと被着体との間で剥離帯電と呼ばれる静電気が発生することがある。このような静電気は、ワークや装置に埃等が付着する原因となるとともに、ワーク等の破壊の原因となる。そのため、ワーク加工用シートには、帯電防止性が求められている。 Here, the workpiece processing sheet is peeled off from the adherend after a predetermined processing step is completed, but at this time, static electricity called peeling charge is generated between the workpiece processing sheet and the adherend. There is. Such static electricity causes dust and the like to adhere to the work and the device, and also causes damage to the work and the like. Therefore, sheets for workpiece processing are required to have antistatic properties.

特許文献1には、貼付した基板(ワーク)に静電気が生じることを的確に抑制または防止するために、樹脂材料と導電性材料とを含有し、表面抵抗率および体積抵抗率が規定された粘着テープ用基材が開示されている。上記導電性材料としては、導電性高分子、永久帯電防止高分子(IDP)等が開示されている。 Patent Document 1 describes an adhesive that contains a resin material and a conductive material and has a defined surface resistivity and volume resistivity in order to accurately suppress or prevent static electricity from being generated on the adhered substrate (workpiece). A substrate for a tape is disclosed. As the conductive material, conductive polymers, permanently antistatic polymers (IDP), and the like are disclosed.

特開2021-015953号公報JP 2021-015953 Publication

しかしながら、一般的に、樹脂材料に配合される導電性材料、特に永久帯電防止高分子の割合が多くなると、得られる樹脂フィルムの機械的強度が低下する傾向にある。したがって、特許文献1に開示された粘着テープ用基材において、十分な帯電防止性を得るために永久帯電防止高分子を多く配合すると、ワーク加工用の基材フィルムとしての機械的強度が低下して、前述したエキスパンド等の工程において破断してしまうおそれがある。 However, in general, as the proportion of a conductive material, particularly a permanently antistatic polymer, added to a resin material increases, the mechanical strength of the resulting resin film tends to decrease. Therefore, in the adhesive tape base material disclosed in Patent Document 1, if a large amount of permanently antistatic polymer is blended in order to obtain sufficient antistatic properties, the mechanical strength as a base film for processing workpieces will decrease. Therefore, there is a risk that it will break during the process such as the above-mentioned expansion.

本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、帯電防止性と機械的強度との両立を図ることのできる基材フィルムおよびワーク加工用シートを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a base film and a workpiece processing sheet that can achieve both antistatic properties and mechanical strength.

上記目的を達成するために、第1に本発明は、ポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを含有する樹脂層を備えた基材フィルムを提供する(発明1)。 In order to achieve the above object, the present invention first provides a base film including a resin layer containing a polyester resin, a polymeric antistatic agent, and carbon nanotubes (Invention 1).

上記発明(発明1)においては、マトリックスとしてのポリエステル樹脂に対し、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを併せて配合することにより、導電パスが効率的に形成され、表面抵抗率が効果的に低下する。そのため、所望の帯電防止性を得るにあたり、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブをそれぞれ少量配合すれば足りる。これにより、それらの成分に起因して基材フィルムの機械的強度、特に破断伸度が低下することを抑制することができ、エキスパンド等の工程で破断することを防止することができる。このように、上記発明に係る基材フィルムによれば、帯電防止性と機械的強度との両立を図ることができる。 In the above invention (invention 1), conductive paths are efficiently formed and the surface resistivity is effectively reduced by blending a polymeric antistatic agent and carbon nanotubes with the polyester resin as the matrix. descend. Therefore, in order to obtain the desired antistatic property, it is sufficient to mix a small amount of each of the polymer type antistatic agent and carbon nanotubes. Thereby, it is possible to suppress a decrease in the mechanical strength, particularly the elongation at break, of the base film due to these components, and it is possible to prevent the base film from being broken in a process such as expanding. Thus, according to the base film according to the above invention, it is possible to achieve both antistatic properties and mechanical strength.

上記発明(発明1)においては、前記樹脂層中における前記高分子型帯電防止剤の含有量が、0.1質量%以上、50質量%以下であり、前記樹脂層中における前記カーボンナノチューブの含有量が、0.001質量%以上、1質量%以下であることが好ましい(発明2)。 In the above invention (invention 1), the content of the polymer antistatic agent in the resin layer is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, and the content of the carbon nanotubes in the resin layer is The amount is preferably 0.001% by mass or more and 1% by mass or less (Invention 2).

上記発明(発明1,2)においては、前記ポリエステル樹脂が、脂環構造を有するとともに、示差走査熱量測定により昇温速度20℃/minで測定された融解熱量が2J/g以上のものであることが好ましい(発明3)。 In the above inventions (Inventions 1 and 2), the polyester resin has an alicyclic structure and has a heat of fusion of 2 J/g or more as measured by differential scanning calorimetry at a heating rate of 20°C/min. This is preferable (Invention 3).

上記発明(発明3)においては、前記ポリエステル樹脂が、当該ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位として、前記脂環構造を有するジカルボン酸を含むことが好ましい(発明4)。 In the invention (invention 3), the polyester resin preferably contains the dicarboxylic acid having the alicyclic structure as a monomer unit constituting the polyester resin (invention 4).

上記発明(発明3,4)においては、前記ポリエステル樹脂が、当該ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位として、前記脂環構造を有するジオールを含むことが好ましい(発明5)。 In the above inventions (Inventions 3 and 4), it is preferable that the polyester resin contains a diol having the alicyclic structure as a monomer unit constituting the polyester resin (Invention 5).

上記発明(発明3~5)においては、前記脂環構造の環を構成する炭素数が、6以上、14以下であることが好ましい(発明6)。 In the above inventions (Inventions 3 to 5), the number of carbon atoms constituting the ring of the alicyclic structure is preferably 6 or more and 14 or less (Invention 6).

上記発明(発明1~6)においては、前記ポリエステル樹脂が、当該ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位として、不飽和脂肪酸を二量化してなるダイマー酸を含み、前記不飽和脂肪酸の炭素数が、10以上、30以下であることが好ましい(発明7)。 In the above inventions (Inventions 1 to 6), the polyester resin contains a dimer acid obtained by dimerizing an unsaturated fatty acid as a monomer unit constituting the polyester resin, and the unsaturated fatty acid has a carbon number of 10 As mentioned above, it is preferable that it is 30 or less (Invention 7).

上記発明(発明7)においては、前記ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位としての全ジカルボン酸に対する、前記ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位としての前記ダイマー酸の割合が、2モル%以上、25モル%以下であることが好ましい(発明8)。 In the invention (invention 7), the proportion of the dimer acid as a monomer unit constituting the polyester resin is 2 mol% or more and 25 mol% or less with respect to all dicarboxylic acids as monomer units composing the polyester resin. It is preferable that (Invention 8).

上記発明(発明1~8)においては、前記高分子型帯電防止剤が、高分子化合物を含有し、前記高分子化合物が、ポリエーテルセグメントを含む重合体であることが好ましい(発明9)。 In the above inventions (Inventions 1 to 8), it is preferable that the polymer type antistatic agent contains a polymer compound, and the polymer compound is a polymer containing a polyether segment (Invention 9).

上記発明(発明1~9)においては、前基材フィルムの少なくとも片面における表面抵抗率が、1×10Ω/□以上、5×1011Ω/□以下であることが好ましい(発明10)。 In the above inventions (Inventions 1 to 9), the surface resistivity on at least one side of the front base film is preferably 1×10 6 Ω/□ or more and 5×10 11 Ω/□ or less (Invention 10) .

上記発明(発明1~10)においては、前記基材フィルムの厚さが、20μm以上、600μm以下であることが好ましい(発明11)。 In the above inventions (Inventions 1 to 10), the thickness of the base film is preferably 20 μm or more and 600 μm or less (Invention 11).

第2に本発明は、前記基材フィルム(発明1~11)と、前記基材フィルムの片面側に積層された粘着剤層とを備えたことを特徴とするワーク加工用シートを提供する(発明12)。 Second, the present invention provides a workpiece processing sheet comprising the base film (inventions 1 to 11) and an adhesive layer laminated on one side of the base film ( Invention 12).

上記発明(発明12)においては、前記ワーク加工用シートが、ダイシングシートであることが好ましい(発明13)。 In the invention (invention 12), it is preferable that the workpiece processing sheet is a dicing sheet (invention 13).

本発明に係る基材フィルムおよびワーク加工用シートによれば、帯電防止性と機械的強度との両立を図ることができる。 According to the base film and workpiece processing sheet according to the present invention, it is possible to achieve both antistatic properties and mechanical strength.

以下、本発明の実施形態について説明する。
〔基材フィルム〕
本実施形態に係る基材フィルムは、ポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを含有する樹脂層(以下「樹脂層R」という場合がある。)を備える。本実施形態に係る基材フィルムは、樹脂層Rのみからなってもよいし、樹脂層R以外に他の層を備えていてもよい。
Embodiments of the present invention will be described below.
[Base film]
The base film according to this embodiment includes a resin layer (hereinafter sometimes referred to as "resin layer R") containing a polyester resin, a polymer type antistatic agent, and carbon nanotubes. The base film according to this embodiment may consist of only the resin layer R, or may include other layers in addition to the resin layer R.

本実施形態に係る基材フィルムにおいては、マトリックスとしてのポリエステル樹脂に対し、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを併せて配合することにより、導電パスが効率的に形成され、表面抵抗率が効果的に低下する。そのため、所望の帯電防止性を得るにあたり、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブをそれぞれ少量配合すれば足りる。これにより、それらの成分に起因して基材フィルムの機械的強度、特に破断伸度が低下することを抑制することができ、エキスパンド等の工程で破断することを防止することができる。このように、本実施形態に係る基材フィルムによれば、帯電防止性と機械的強度との両立を図ることができる。 In the base film according to this embodiment, conductive paths are efficiently formed and the surface resistivity is effectively improved by combining a polymer antistatic agent and carbon nanotubes with the polyester resin as the matrix. decreases. Therefore, in order to obtain the desired antistatic property, it is sufficient to mix a small amount of each of the polymer type antistatic agent and carbon nanotubes. Thereby, it is possible to suppress a decrease in the mechanical strength, particularly the elongation at break, of the base film due to these components, and it is possible to prevent the base film from being broken in a process such as expanding. In this manner, the base film according to this embodiment can achieve both antistatic properties and mechanical strength.

樹脂層R中における高分子型帯電防止剤の含有量は、0.1質量%以上、50質量%以下であることが好ましく、樹脂層R中におけるカーボンナノチューブの含有量は、0.001質量%以上、1質量%以下であることが好ましい。高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブの含有量がそれぞれ上記の範囲にあることにより、優れた帯電防止性を得ることができるとともに、機械的強度、特に破断伸度が良好なものとなる。 The content of the polymer type antistatic agent in the resin layer R is preferably 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, and the content of carbon nanotubes in the resin layer R is 0.001% by mass. The above content is preferably 1% by mass or less. When the contents of the polymer type antistatic agent and the carbon nanotubes are within the above ranges, excellent antistatic properties can be obtained, and mechanical strength, especially elongation at break, can be improved.

帯電防止性の観点から、樹脂層R中における高分子型帯電防止剤の含有量は、0.1質量%以上であることが好ましく、1質量%以上であることがより好ましく、特に3質量%以上であることが好ましく、さらには5質量%以上であることが好ましい。また、機械的強度の観点から、樹脂層R中における高分子型帯電防止剤の含有量は、50質量%以下であることが好ましく、40質量%以下であることがより好ましく、特に30質量%以下であることが好ましく、さらには25質量%以下であることが好ましい。 From the viewpoint of antistatic properties, the content of the polymer type antistatic agent in the resin layer R is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, particularly 3% by mass. It is preferably at least 5% by mass, and more preferably at least 5% by mass. In addition, from the viewpoint of mechanical strength, the content of the polymeric antistatic agent in the resin layer R is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, particularly 30% by mass. It is preferably at most 25% by mass, more preferably at most 25% by mass.

帯電防止性の観点から、樹脂層R中におけるカーボンナノチューブの含有量は、0.001質量%以上であることが好ましく、0.005質量%以上であることがより好ましく、特に0.01質量%以上であることが好ましく、さらには0.03質量%以上であることが好ましい。また、機械的強度の観点から、樹脂層R中におけるカーボンナノチューブの含有量は、1質量%以下であることが好ましく、0.7質量%以下であることがより好ましく、特に0.5質量%以下であることが好ましく、さらには0.3質量%以下であることが好ましい。 From the viewpoint of antistatic properties, the content of carbon nanotubes in the resin layer R is preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.005% by mass or more, particularly 0.01% by mass. It is preferably at least 0.03% by mass, and more preferably at least 0.03% by mass. Further, from the viewpoint of mechanical strength, the content of carbon nanotubes in the resin layer R is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.7% by mass or less, particularly 0.5% by mass. It is preferably at most 0.3% by mass, more preferably at most 0.3% by mass.

1.各成分
(1)ポリエステル樹脂
本実施形態におけるポリエステル樹脂は、上記高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブによる帯電防止効果が発揮され、かつ、所望の機械的強度を発揮し得るものであれば、特に限定されない。
1. Each component (1) Polyester resin The polyester resin in this embodiment is particularly suitable as long as it exhibits the antistatic effect of the above-mentioned polymer type antistatic agent and carbon nanotubes, and can also exhibit the desired mechanical strength. Not limited.

中でも、本実施形態におけるポリエステル樹脂は、脂環構造を有するとともに、示差走査熱量測定により昇温速度20℃/minで測定された融解熱量が2J/g以上のポリエステル樹脂(以下「ポリエステル樹脂P」という場合がある。)であることが好ましい。これにより、上記高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブによる帯電防止効果が良好に発揮されるとともに、破断伸度がより優れたものとなる。さらに、上記ポリエステル樹脂Pを使用した基材フィルムを備えてなるワーク加工用シートは、回転する丸刃を用いたワークのダイシングに使用した場合に、切削屑の発生を良好に抑制することができる。 Among these, the polyester resin in this embodiment is a polyester resin that has an alicyclic structure and has a heat of fusion of 2 J/g or more as measured by differential scanning calorimetry at a heating rate of 20° C./min (hereinafter referred to as "polyester resin P"). ) is preferable. As a result, the antistatic effect of the polymer type antistatic agent and carbon nanotubes is well exhibited, and the elongation at break becomes even more excellent. Furthermore, the workpiece processing sheet comprising a base film using the polyester resin P described above can effectively suppress the generation of cutting waste when used for dicing a workpiece using a rotating round blade. .

上記のように切削屑抑制効果が得られる理由としては、以下のことが予想される。但し、以下の理由とその他の理由とが相まって上記効果が得られる可能性も排除されず、また、以下の理由以外の理由によって上記効果が得られる可能性も排除されない。 The following is expected to be the reason why the cutting debris suppressing effect is obtained as described above. However, it is not excluded that the above effects may be obtained due to a combination of the following reasons and other reasons, nor is it excluded that the above effects may be obtained due to reasons other than the following reasons.

まず、ポリエステル樹脂は、当該ポリエステル樹脂を用いて作製された基材に対してダイシングの力が印加された場合において、エステル結合の位置で切断され易くなると予想される。上記ポリエステル樹脂Pは、上述の通り脂環構造を有し且つ上記融解熱量を示すことにより、そのポリマー鎖の一部が規則的に折りたたまれた構造(ラメラ構造)を適度に有するものとなる。そのため、ダイシングの力が印加された場合には、ポリエステル樹脂Pは、上記ラメラ構造の位置でも切断され易くなると予想される。このように、ポリエステル樹脂Pは、従来の基材フィルムにおいて使用された樹脂に比べて、ダイシングの力が印加された場合に、特定の位置での切断が生じ易いものとなっている。 First, polyester resin is expected to be easily cut at ester bond positions when dicing force is applied to a base material made using the polyester resin. As described above, the polyester resin P has an alicyclic structure and exhibits the above-mentioned heat of fusion, so that it has an appropriate structure (lamellar structure) in which a portion of its polymer chains are regularly folded. Therefore, when a dicing force is applied, it is expected that the polyester resin P will be easily cut even at the position of the lamella structure. As described above, the polyester resin P is more likely to be cut at specific positions when a dicing force is applied, compared to resins used in conventional base films.

ここで、一般的なダイシングシートの基材から切削屑が生じるメカニズムとしては、ダイシング時に生じる摩擦熱によって基材が軟化し、その上で、回転する丸刃が接触して基材の切断部分を引っ張る力が印加されることで、基材の切断部分が引き伸ばされながら削り取られるためだと考えられる。特に、このように生じた切断屑の多くは、糸状の形態を有するものとなる。 Here, the mechanism by which cutting chips are generated from the base material of a general dicing sheet is that the base material is softened by the frictional heat generated during dicing, and then the rotating round blade comes into contact with the base material and cuts the cut portion of the base material. It is thought that this is because the cut portion of the base material is stretched and scraped off by applying the pulling force. In particular, most of the cutting debris thus generated has a thread-like form.

一方、上記ポリエステル樹脂Pを使用した基材フィルムでは、上記のように引き伸ばされる前に、エステル結合およびラメラ構造近傍における切断が効果的に生じる結果、切削屑の発生が抑制されるものと考えられる。 On the other hand, in the base film using the above-mentioned polyester resin P, before being stretched as described above, cutting occurs effectively in the vicinity of the ester bond and the lamella structure, and as a result, it is thought that the generation of cutting debris is suppressed. .

上述した切削屑抑制効果をより達成し易いという観点から、上記ポリエステル樹脂Pにおける、示差走査熱量測定により昇温速度20℃/minで測定された融解熱量は、5J/g以上であることが好ましく、特に10J/g以上であることが好ましく、さらには15J/g以上であることが好ましい。一方、当該融解熱量の上限値は特に限定されず、例えば、150J/g以下であってよく、また100J/g以下であってよく、特に70J/g以下であってよく、さらには50J/g以下であってよく、とりわけ30J/g以下であってよい。なお、上述した融解熱量の測定方法の詳細は、後述する実施例の欄に記載の通りである。 From the viewpoint of more easily achieving the above-mentioned cutting debris suppression effect, the heat of fusion of the polyester resin P measured by differential scanning calorimetry at a heating rate of 20° C./min is preferably 5 J/g or more. , particularly preferably 10 J/g or more, and more preferably 15 J/g or more. On the other hand, the upper limit of the heat of fusion is not particularly limited, and may be, for example, 150 J/g or less, 100 J/g or less, particularly 70 J/g or less, and even 50 J/g. It may be less than or equal to 30 J/g, especially less than or equal to 30 J/g. The details of the method for measuring the heat of fusion described above are as described in the Examples section below.

上記ポリエステル樹脂Pの具体的な組成は、脂環構造を有し、且つ、ポリエステル樹脂が上述した融解熱量を示すという条件を満たす限り、特に限定されない。 The specific composition of the polyester resin P is not particularly limited as long as it has an alicyclic structure and satisfies the conditions that the polyester resin exhibits the heat of fusion described above.

切削屑抑制効果をより良好に得やすいという観点からは、ポリエステル樹脂Pが有する脂環構造は、環を構成する炭素数が6以上であることが好ましい。また、当該炭素数は、14以下であることが好ましく、特に10以下であることが好ましい。とりわけ、上記炭素数は、6であることが好ましい。また、当該脂環構造は、1つの環からなる単環式であってもよく、2つの環からなる二環式であってもよく、3つ以上の環からなるものであってもよい。 From the viewpoint of easily obtaining a better cutting waste suppression effect, it is preferable that the alicyclic structure of the polyester resin P has 6 or more carbon atoms constituting the ring. Further, the number of carbon atoms is preferably 14 or less, particularly preferably 10 or less. In particular, the number of carbon atoms is preferably 6. Further, the alicyclic structure may be monocyclic, consisting of one ring, bicyclic, consisting of two rings, or three or more rings.

また、上述した2つの条件を満たし易いという観点からは、ポリエステル樹脂Pは、当該ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位として、脂環構造を有するジカルボン酸を含むことが好ましい。また、同様の観点から、ポリエステル樹脂Pは、当該ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位として、脂環構造を有するジオールを含むことが好ましい。このようなジカルボン酸およびジオールは、いずれか一方のみがポリエステル樹脂Pに含まれてもよいものの、上記条件をより満たし易いという観点からは、ポリエステル樹脂Pがこのようなジカルボン酸およびジオールの両方を含むことが好ましい。 Moreover, from the viewpoint of easily satisfying the above two conditions, it is preferable that the polyester resin P contains a dicarboxylic acid having an alicyclic structure as a monomer unit constituting the polyester resin. Moreover, from the same viewpoint, it is preferable that the polyester resin P contains a diol having an alicyclic structure as a monomer unit constituting the polyester resin. Although only one of such dicarboxylic acids and diols may be contained in the polyester resin P, from the viewpoint of easier satisfying the above conditions, it is preferable that the polyester resin P contains both such dicarboxylic acids and diols. It is preferable to include.

上述したジカルボン酸の構造は、脂環構造を有するとともに、2つのカルボキシ基を有するものであれば、特に限定されない。例えば、ジカルボン酸は、脂環構造に2つのカルボキシ基が結合してなる構造であってもよく、そのような脂環構造とカルボキシ基との間に、さらにアルキル基等が挿入されてなる構造であってもよい。このようなジカルボン酸の好ましい例としては、1,2-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-デカヒドロナフタレンジカルボン酸、1,5-デカヒドロナフタレンジカルボン酸、2,6-デカヒドロナフタレンジカルボン酸、2,7-デカヒドロナフタレンジカルボン酸等が挙げられ、これらの中でも、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を使用することが好ましい。これらのジカルボン酸は、アルキルエステル等の誘導体であってもよい。このようなアルキエステル誘導体としては、例えば、炭素数が1以上、10以下のアルキルエステルであってよい。より具体的な例としては、ジメチルエステル、ジエチルエステル等が挙げられ、特にジメチルエステルが好ましい。 The structure of the dicarboxylic acid described above is not particularly limited as long as it has an alicyclic structure and two carboxy groups. For example, a dicarboxylic acid may have a structure in which two carboxy groups are bonded to an alicyclic structure, or a structure in which an alkyl group or the like is further inserted between such an alicyclic structure and a carboxy group. It may be. Preferred examples of such dicarboxylic acids include 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-decahydronaphthalene dicarboxylic acid, and 1,5-decahydronaphthalene dicarboxylic acid. Examples include hydronaphthalene dicarboxylic acid, 2,6-decahydronaphthalene dicarboxylic acid, 2,7-decahydronaphthalene dicarboxylic acid, and the like, and among these, it is preferable to use 1,4-cyclohexane dicarboxylic acid. These dicarboxylic acids may be derivatives such as alkyl esters. Such an alkyl ester derivative may be, for example, an alkyl ester having 1 or more and 10 or less carbon atoms. More specific examples include dimethyl ester, diethyl ester, etc., with dimethyl ester being particularly preferred.

上記ポリエステル樹脂Pが、それを構成するモノマー単位として、脂環構造を有するジカルボン酸を含む場合、当該ポリエステル樹脂Pを構成する全モノマー単位に対する、当該ジカルボン酸モノマーの割合は、20モル%以上であることが好ましく、25モル%以上であることがより好ましく、特に30モル%以上であることが好ましく、さらには35モル%以上であることが好ましい。また、当該割合は、60モル%以下であることが好ましく、55モル%以下であることがより好ましく、特に50モル%以下であることが好ましく、さらには45モル%以下であることが好ましい。これらの範囲であることで、ポリエステル樹脂Pが前述した融解熱量を示し易いものとなり、その結果、本実施形態に係る基材フィルムを用いて得られるワーク加工用シートがより優れた切削屑抑制効果を達成し易いものとなる。 When the polyester resin P contains a dicarboxylic acid having an alicyclic structure as a monomer unit constituting it, the proportion of the dicarboxylic acid monomer with respect to all the monomer units constituting the polyester resin P is 20 mol% or more. It is preferably at least 25 mol%, more preferably at least 30 mol%, and even more preferably at least 35 mol%. Further, the proportion is preferably 60 mol% or less, more preferably 55 mol% or less, particularly preferably 50 mol% or less, and even more preferably 45 mol% or less. Within these ranges, the polyester resin P tends to exhibit the above-mentioned heat of fusion, and as a result, the sheet for workpiece processing obtained using the base film according to the present embodiment has a superior cutting waste suppression effect. becomes easier to achieve.

また、上記ポリエステル樹脂Pが、それを構成するモノマー単位として、脂環構造を有するジカルボン酸を含む場合、当該ポリエステル樹脂Pを構成する環構造を有するジカルボン酸全体に対する、脂環構造を有するジカルボン酸の割合は、60モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることがより好ましく、特に80モル%以上であることが好ましく、さらには90モル%以上であることが好ましい。上記割合が60%以上であることで、本実施形態に係る基材フィルムを用いて得られるワーク加工用シートがより優れた切削屑抑制効果を達成し易いものとなる。なお、当該割合の上限値については特に限定されず、例えば、100モル%以下であってもよい。なお、上記環構造を有するジカルボン酸には、脂環構造を有するジカルボン酸の他、芳香環構造を有するジカルボン酸などが含まれる。 In addition, when the polyester resin P contains a dicarboxylic acid having an alicyclic structure as a monomer unit constituting it, the dicarboxylic acid having an alicyclic structure relative to the entire dicarboxylic acid having a ring structure constituting the polyester resin P The proportion is preferably 60 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, particularly preferably 80 mol% or more, and even more preferably 90 mol% or more. When the ratio is 60% or more, the workpiece processing sheet obtained using the base film according to the present embodiment can easily achieve a better cutting waste suppression effect. Note that the upper limit of the ratio is not particularly limited, and may be, for example, 100 mol% or less. Note that the dicarboxylic acids having a ring structure include dicarboxylic acids having an aromatic ring structure in addition to dicarboxylic acids having an alicyclic structure.

上述したジオールの構造は、脂環構造を有するとともに、2つのヒドロキシ基を有するものであれば、特に限定されない。例えば、ジオールは、脂環構造に2つのヒドロキシ基が結合してなる構造であってもよく、そのような脂環構造とヒドロキシ基との間に、さらにアルキル基が挿入されてなる構造であってもよい。このようなジオールの好ましい例としては、1,2-シクロヘキサンジオール(特に1,2-シクロヘキサンジメタノール)、1,3-シクロヘキサンジオール(特に1,3-シクロヘキサンジメタノール)、1,4-シクロヘキサンジオール(特に1,4-シクロヘキサンジメタノール)、2,2-ビス-(4-ヒドロキシシクロヘキシル)-プロパン等が挙げられ、これらの中でも、1,4-シクロヘキサンジメタノールを使用することが好ましい。 The structure of the diol described above is not particularly limited as long as it has an alicyclic structure and two hydroxy groups. For example, a diol may have a structure in which two hydroxy groups are bonded to an alicyclic structure, or it may have a structure in which an alkyl group is further inserted between such an alicyclic structure and a hydroxy group. It's okay. Preferred examples of such diols include 1,2-cyclohexanediol (especially 1,2-cyclohexanedimethanol), 1,3-cyclohexanediol (especially 1,3-cyclohexanedimethanol), and 1,4-cyclohexanediol. (especially 1,4-cyclohexanedimethanol), 2,2-bis-(4-hydroxycyclohexyl)-propane, etc. Among these, it is preferable to use 1,4-cyclohexanedimethanol.

上記ポリエステル樹脂Pが、それを構成するモノマー単位として、脂環構造を有するジオールを含む場合、当該ポリエステル樹脂を構成する全モノマー単位に対する、当該ジオールモノマーの割合は、35モル%以上であることが好ましく、特に40モル%以上であることが好ましく、さらには45モル%以上であることが好ましい。また、当該割合は、65モル%以下であることが好ましく、特に60モル%以下であることが好ましく、さらには55モル%以下であることが好ましい。これらの範囲であることで、ポリエステル樹脂Pが前述した融解熱量を示し易いものとなり、その結果、本実施形態に係る基材フィルムを用いて得られるワーク加工用シートがより優れた切削屑抑制効果を達成し易いものとなる。 When the polyester resin P contains a diol having an alicyclic structure as a monomer unit constituting it, the proportion of the diol monomer to all monomer units constituting the polyester resin may be 35 mol% or more. It is preferably at least 40 mol%, particularly preferably at least 45 mol%. Further, the proportion is preferably 65 mol% or less, particularly preferably 60 mol% or less, and even more preferably 55 mol% or less. Within these ranges, the polyester resin P tends to exhibit the above-mentioned heat of fusion, and as a result, the sheet for workpiece processing obtained using the base film according to the present embodiment has a superior cutting waste suppression effect. becomes easier to achieve.

上記ポリエステル樹脂Pは、基材が所望の柔軟性を有し易くなるという観点から、当該ポリエステル樹脂Pを構成するモノマー単位として、不飽和脂肪酸を二量化してなるダイマー酸を含むことも好ましい。ここで、当該不飽和脂肪酸の炭素数は、10以上であることが好ましく、特に15以上であることが好ましい。また、上記炭素数は、30以下であることが好ましく、特に25以下であることが好ましい。このようなダイマー酸の例としては、オレイン酸、リノール酸等の炭素数18の不飽和脂肪酸を二量化して得られる炭素数36のジカルボン酸、エルカ酸等の炭素数22の不飽和脂肪酸を二量化して得られる炭素数44のジカルボン酸等が挙げられる。なお、上記ダイマー酸を得る際には、上述した不飽和脂肪酸を三量化してなるトリマー酸も少量生じる場合がある。ポリエステル樹脂Pは、上記ダイマー酸とともに、このようなトリマー酸を含んでいてもよい。 It is also preferable that the polyester resin P contains a dimer acid obtained by dimerizing an unsaturated fatty acid as a monomer unit constituting the polyester resin P, from the viewpoint that the base material can easily have desired flexibility. Here, the number of carbon atoms in the unsaturated fatty acid is preferably 10 or more, particularly preferably 15 or more. Moreover, it is preferable that the said carbon number is 30 or less, and it is especially preferable that it is 25 or less. Examples of such dimer acids include dicarboxylic acids with 36 carbon atoms obtained by dimerizing unsaturated fatty acids with 18 carbon atoms such as oleic acid and linoleic acid, and unsaturated fatty acids with 22 carbon atoms such as erucic acid. Examples include dicarboxylic acids having 44 carbon atoms obtained by dimerization. In addition, when obtaining the above-mentioned dimer acid, a small amount of trimer acid formed by trimerizing the above-mentioned unsaturated fatty acid may also be produced. The polyester resin P may contain such a trimer acid together with the above dimer acid.

上記ポリエステル樹脂Pが、それを構成するモノマー単位として、上記ダイマー酸を含む場合、当該ポリエステル樹脂Pを構成する全ジカルボン酸単位に対する、当該ダイマー酸の割合は、2モル%以上であることが好ましく、特に5モル%以上であることが好ましく、さらには10モル%以上であることが好ましい。また、当該割合は、25モル%以下であることが好ましく、特に23モル%以下であることが好ましく、さらには20モル%以下であることが好ましい。これらの範囲であることで、ポリエステル樹脂Pが所望の柔軟性を有し易くなり、その結果、本実施形態に係る基材フィルムを用いて得られるワーク加工用シートが、優れたエキスパンド性やピックアップ性を達成することも可能となる。 When the polyester resin P contains the dimer acid as a monomer unit constituting it, the proportion of the dimer acid with respect to all the dicarboxylic acid units constituting the polyester resin P is preferably 2 mol% or more. In particular, it is preferably 5 mol% or more, and more preferably 10 mol% or more. Further, the proportion is preferably 25 mol% or less, particularly preferably 23 mol% or less, and even more preferably 20 mol% or less. Within these ranges, the polyester resin P tends to have the desired flexibility, and as a result, the workpiece processing sheet obtained using the base film according to this embodiment has excellent expandability and pick-up properties. It is also possible to achieve sexuality.

上記ポリエステル樹脂Pは、それを構成するモノマー単位として、上述したジカルボン酸、ジオールおよびダイマー酸以外のモノマーを含有してもよい。そのようなモノマーの例としては、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸;フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸等が挙げられる。また、脂環構造を有するジオール以外のジオール成分を含有してもよい。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、デカンジオール;ビスフェノールA、ビスフェノールS等のエチレンオキサイド付加物;トリメチロールプロパン等を含有してもよい。 The polyester resin P may contain monomers other than the above-mentioned dicarboxylic acid, diol, and dimer acid as monomer units constituting it. Examples of such monomers include aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid; phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalene Examples include aromatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acid, 1,4-naphthalene dicarboxylic acid, and 4,4'-diphenyldicarboxylic acid. Further, it may contain a diol component other than the diol having an alicyclic structure. For example, it may contain ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, octanediol, decanediol; ethylene oxide adducts such as bisphenol A and bisphenol S; trimethylolpropane, and the like.

但し、上記ポリエステル樹脂Pにおいては、優れた切削屑抑制効果を実現し易いという観点から、脂環構造を有するモノマー(前述した、脂環構造を有するジカルボン酸や脂肪構造を有するジオール)が、芳香環構造を有するモノマーよりも多く含まれていることが好ましい。特に、ポリエステル樹脂Pを構成するモノマー単位のうち、脂環構造を有するモノマー単位に対する芳香環構造を有するモノマー単位のモル比は、1未満であることが好ましく、0.5以下であることがより好ましく、0.2以下であることがより好ましく、0.1以下であることがより好ましく、0.05以下であることがより好ましく、0.03以下であることがより好ましく、0.01以下であることがより好ましく、特に0.005以下であることが好ましく、さらには0.001以下であることが好ましく、0であることが最も好ましい。 However, in the above-mentioned polyester resin P, monomers having an alicyclic structure (the above-mentioned dicarboxylic acids having an alicyclic structure and diols having an aliphatic structure) are aromatic, from the viewpoint of easily achieving an excellent cutting debris suppressing effect. It is preferable that it is contained in a larger amount than the monomer having a ring structure. In particular, among the monomer units constituting the polyester resin P, the molar ratio of the monomer units having an aromatic ring structure to the monomer units having an alicyclic structure is preferably less than 1, and more preferably 0.5 or less. preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less, more preferably 0.05 or less, more preferably 0.03 or less, 0.01 or less More preferably, it is 0.005 or less, further preferably 0.001 or less, and most preferably 0.

上記ポリエステル樹脂Pの製造方法は、特に限定されず、公知の触媒を使用して、前述したモノマー成分を重合させることでポリエステル樹脂Pを得ることができる。 The method for producing the polyester resin P is not particularly limited, and the polyester resin P can be obtained by polymerizing the monomer components described above using a known catalyst.

本実施形態における樹脂層Rを構成する全成分に対する、ポリエステル樹脂の割合は、50質量%以上であることが好ましく、特に60質量%以上であることが好ましく、さらには70質量%以上であることが好ましい。上記割合が50質量%以上であることで、本実施形態に係る基材フィルムを用いて得られるワーク加工用シートがより優れた切削屑抑制効果を達成し易いものとなる。なお、上記割合の上限値については特に限定されず、例えば、100質量%以下であってもよい。 The proportion of the polyester resin to all components constituting the resin layer R in this embodiment is preferably 50% by mass or more, particularly preferably 60% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more. is preferred. When the above ratio is 50% by mass or more, the sheet for workpiece processing obtained using the base film according to the present embodiment can easily achieve a better cutting waste suppression effect. Note that the upper limit of the above ratio is not particularly limited, and may be, for example, 100% by mass or less.

(2)高分子型帯電防止剤
本実施形態における高分子型帯電防止剤は、少なくとも高分子化合物を含有する帯電防止剤である。本実施形態における高分子型帯電防止剤は、高分子化合物、および、有機カチオンと有機アニオンとから構成される有機塩または無機プロトン酸の塩(アルカリ金属塩、アルカリ土類金属、亜鉛塩またはアンモニウム塩等)を含有するイオン伝導型高分子型帯電防止剤(以下「高分子型帯電防止剤A」という場合がある。)であることが好ましい。
(2) Polymer type antistatic agent The polymer type antistatic agent in this embodiment is an antistatic agent containing at least a polymer compound. The polymer type antistatic agent in this embodiment is a polymer compound and an organic salt or inorganic protic acid salt (alkali metal salt, alkaline earth metal, zinc salt, or ammonium salt) composed of an organic cation and an organic anion. An ion-conducting polymer-type antistatic agent (hereinafter sometimes referred to as "polymer-type antistatic agent A") containing a salt, etc.) is preferable.

本実施形態に係る基材フィルムは、高分子型帯電防止剤、特に上記高分子型帯電防止剤Aを、カーボンナノチューブとともに使用することにより、優れた帯電防止性を発揮し、後述する表面抵抗率を達成することができる。 The base film according to this embodiment exhibits excellent antistatic properties by using a polymeric antistatic agent, particularly the polymeric antistatic agent A described above, together with carbon nanotubes, and has a surface resistivity as described below. can be achieved.

本実施形態における高分子型帯電防止剤が含有する高分子化合物は、少なくとも2以上の繰返し単位を有する化合物である。当該高分子化合物の重量平均分子量は、300以上であることが好ましく、特に1000以上であることが好ましい。また、当該重量平均分子量は100000以下であることが好ましく、特に75000以下であることが好ましく、さらには50000以下であることが好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。 The polymer compound contained in the polymer type antistatic agent in this embodiment is a compound having at least two or more repeating units. The weight average molecular weight of the polymer compound is preferably 300 or more, particularly preferably 1000 or more. Further, the weight average molecular weight is preferably 100,000 or less, particularly preferably 75,000 or less, and even more preferably 50,000 or less. Note that the weight average molecular weight in this specification is a value measured by gel permeation chromatography (GPC method) in terms of standard polystyrene.

上記高分子化合物は、特に限定されないが、優れた帯電防止性を発揮し易いという観点から、ポリエーテルセグメントを含む重合体であることが好ましい。上記ポリエーテルセグメントを含む重合体は、例えば、ポリエーテルセグメントおよびポリオレフィンセグメントを含む重合体、ポリエーテルセグメントおよびアミドセグメントを含む重合体(以下、「ポリエーテルエステルアミド」ということがある)等が挙げられる。 The above-mentioned polymer compound is not particularly limited, but is preferably a polymer containing a polyether segment from the viewpoint of easily exhibiting excellent antistatic properties. Examples of the above-mentioned polymer containing a polyether segment include a polymer containing a polyether segment and a polyolefin segment, a polymer containing a polyether segment and an amide segment (hereinafter sometimes referred to as "polyether ester amide"), etc. It will be done.

上記ポリエーテルセグメントの例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール等のポリアルキレングリコール、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレングリコール等のポリオキシアルキレンポリオキシアルキレングリコール、ポリアルキレンエーテルジオール等が挙げられる。これらのセグメントは、重合体中にランダムに配列されていてもよく、ブロック状に配列されていてもよい。 Examples of the polyether segments include polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and polyhexamethylene glycol, polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyethylene glycol, etc. Examples include polyoxyalkylene glycols such as polyoxypropylene glycol, polyalkylene ether diols, and the like. These segments may be arranged randomly or in blocks in the polymer.

また、上記ポリオレフィンセグメントの例としては、炭素数2~10のアルファオレフィンのホモポリマーまたは少なくとも一つのアルファオレフィンと少なくとも一つの他の共重合可能なモノマーとのコポリマーが挙げられる。アルファオレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテン、2-メチルプロペン、1-ペンテン、3-メチルl-ブテン、1-ヘキセン、4-メチルl-ペンテン、3-メチルl-ペンテン、1-オクテン等が挙げられる。これらのセグメントは、重合体中にランダムに配列されていてもよく、ブロック状に配列されていてもよい。 Examples of the polyolefin segment include homopolymers of alpha olefins having 2 to 10 carbon atoms or copolymers of at least one alpha olefin and at least one other copolymerizable monomer. Examples of alpha olefins include ethylene, propylene, 1-butene, 2-methylpropene, 1-pentene, 3-methyl l-butene, 1-hexene, 4-methyl l-pentene, 3-methyl l-pentene, 1 - Examples include octene. These segments may be arranged randomly or in blocks in the polymer.

上記ポリエーテルエステルアミドは、アミド結合を有するアミドセグメントと、エーテル結合を有するエーテルセグメントとを備える重合体である限り特に限定されない。これらのセグメントは、重合体中にランダムに配列されていてもよく、ブロック状に配列されていてもよい。また、これらのセグメント同士は、エステル結合やアミド結合等により連結されたものであってよい。 The polyether ester amide is not particularly limited as long as it is a polymer comprising an amide segment having an amide bond and an ether segment having an ether bond. These segments may be arranged randomly or in blocks in the polymer. Further, these segments may be connected to each other by an ester bond, an amide bond, or the like.

上記アミドセグメントは、例えば、ジカルボン酸(例:蓚酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸等)と、ジアミン(例:エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジアミン、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジアミン、1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、メチレンビス(4-アミノシクロヘキサン)、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン等)との縮合および重縮合、ε-カプロラクタム、ω-ドデカラクタム等のラクタムの開環重合、6-アミノカプロン酸、9-アミノノナン酸、11-アミノウンデカン酸、12-アミノドデカン酸等のアミノカルボン酸の重縮合、あるいは上記ラクタムの開環物またはアミノカルボン酸とジカルボン酸との縮合、上記ラクタムの開環物またはアミノカルボン酸とジカルボン酸とジアミンとの重縮合などにより得られるものである。このようなアミドセグメントとしては、ナイロン4、ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン6T、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6/66、ナイロン6/12、ナイロン6/610、ナイロン66/12、ナイロン6/66/610等であり、特にナイロン11、ナイロン12等が好ましい。アミドセグメントの分子量は、例えば100~5000程度であることが好ましい。 The above amide segment is, for example, dicarboxylic acid (e.g. oxalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, etc.) and diamine (e.g. ethylenediamine, Tetramethylene diamine, pentamethylene diamine, hexamethylene diamine, decamethylene diamine, 2,2,4-trimethylhexamethylene diamine, 2,4,4-trimethylhexamethylene diamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1 , 4-bis(aminomethyl)cyclohexane, methylenebis(4-aminocyclohexane), m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, etc.), and polycondensation of lactams such as ε-caprolactam and ω-dodecalactam. Ring-opening polymerization, polycondensation of aminocarboxylic acids such as 6-aminocaproic acid, 9-aminononanoic acid, 11-aminoundecanoic acid, and 12-aminododecanoic acid, or ring-opening products of the above lactams or combinations of aminocarboxylic acids and dicarboxylic acids. It is obtained by condensation, a ring-opened product of the above-mentioned lactam, or polycondensation of an aminocarboxylic acid, a dicarboxylic acid, and a diamine. Such amide segments include nylon 4, nylon 6, nylon 46, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 6T, nylon 11, nylon 12, nylon 6/66, nylon 6/12, nylon 6/610, Nylon 66/12, nylon 6/66/610, etc., and nylon 11, nylon 12, etc. are particularly preferred. The molecular weight of the amide segment is preferably about 100 to 5,000, for example.

上記高分子型帯電防止剤Aが含有する有機塩を構成する有機カチオンおよび有機アニオンは、それぞれ、有機化合物がイオン化したものであれば、特に限定されない。当該有機カチオンの例としては、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオン等の少なくとも1種に由来したものが挙げられる。また、上記有機アニオンの例としては、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸、スルホネートアニオン(RSO3-)、カルボキシレートアニオン(RCOO)、アルコキシド又はフェノキシドアニオン(RO)、有機イミドアニオン(R)、メチド(R)アニオン、有機ボレート(R)アニオン等の少なくとも1種に由来したものが挙げられる。 The organic cation and organic anion constituting the organic salt contained in the polymeric antistatic agent A are not particularly limited as long as they are ionized organic compounds. Examples of the organic cation include those derived from at least one of imidazolium cations, pyridinium cations, pyrrolidinium cations, ammonium cations, sulfonium cations, and phosphonium cations. Examples of the organic anions include linear alkylbenzene sulfonic acid, sulfonate anion (RSO 3- ), carboxylate anion (RCOO - ), alkoxide or phenoxide anion (RO - ), and organic imide anion (R 2 N - ). , methide (R 3 C ) anion, organic borate (R 4 B ) anion, and the like.

上記無機プロトン酸の塩としては、特に限定されず、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属、亜鉛塩またはアンモニウム塩等が挙げられる。上記アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属をカチオン成分として有する塩等が挙げられる。また、上記アルカリ土類金属塩としては、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属をカチオン成分として有する塩等が挙げられる。 The salt of the inorganic protonic acid is not particularly limited, and examples thereof include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, zinc salts, and ammonium salts. Examples of the alkali metal salt include salts having an alkali metal such as lithium, sodium, and potassium as a cation component. Further, examples of the alkaline earth metal salts include salts having alkaline earth metals such as magnesium and calcium as a cation component.

本実施形態における高分子型帯電防止剤、特に高分子型帯電防止剤Aは、大気雰囲気下における5%重量減少温度が200℃以上であることが好ましく、特に250℃以上であることが好ましい。上記5%重量減少温度が200℃以上であることにより、基材フィルムの材料の混練や製膜の際に加熱されたとしても、高分子型帯電防止剤が分解し難くなり、十分な帯電防止性を発揮し易いものとなる。なお、上記5%重量減少温度の上限値については特に限定されず、例えば、1000℃以下であってよく、特に900℃以下であってよく、さらには700℃以下であってよい。 The polymeric antistatic agent in this embodiment, particularly the polymeric antistatic agent A, preferably has a 5% weight loss temperature of 200°C or higher, particularly preferably 250°C or higher, in the air. Since the above 5% weight loss temperature is 200°C or higher, the polymeric antistatic agent is difficult to decompose even when heated during kneading and film forming of the base film material, and sufficient antistatic properties are achieved. It becomes easier to express one's sexuality. The upper limit of the 5% weight loss temperature is not particularly limited, and may be, for example, 1000°C or lower, particularly 900°C or lower, and even 700°C or lower.

また、本実施形態における高分子型帯電防止剤、特に高分子型帯電防止剤Aは、窒素雰囲気下における5%重量減少温度が250℃以上であることが好ましく、特に270℃以上であることが好ましく、さらには300℃以上であることが好ましい。上記5%重量減少温度が250℃以上であることにより、基材フィルムの材料の混練や製膜の際に加熱されたとしても、高分子型帯電防止剤が分解し難くなり、十分な帯電防止性を発揮し易いものとなる。なお、上記5%重量減少温度の上限値については特に限定されず、例えば、1000℃以下であってよく、特に900℃以下であってよく、さらには700℃以下であってよい。 Further, the polymer type antistatic agent in this embodiment, particularly the polymer type antistatic agent A, preferably has a 5% weight loss temperature of 250°C or higher in a nitrogen atmosphere, particularly preferably 270°C or higher. Preferably, the temperature is more preferably 300°C or higher. Since the above 5% weight loss temperature is 250°C or higher, the polymer type antistatic agent is difficult to decompose even if heated during kneading or film forming of the base film material, and sufficient antistatic properties are achieved. It becomes easier to express one's sexuality. The upper limit of the 5% weight loss temperature is not particularly limited, and may be, for example, 1000°C or lower, particularly 900°C or lower, and even 700°C or lower.

上記大気雰囲気下および窒素雰囲気下における5%重量減少温度の測定方法の詳細は、後述する実施例に記載の通りである。 The details of the method for measuring the 5% weight loss temperature in the air atmosphere and nitrogen atmosphere are as described in Examples below.

本実施形態における高分子型帯電防止剤は、上述した高分子型帯電防止剤A以外にも、例えば、エーテル系帯電防止剤、エステル系帯電防止剤、ポリアミド系帯電防止剤、アクリル系帯電防止剤等であってもよいし、ポリエーテルエステルアミド系帯電防止剤であってもよい。なお、ポリエーテルエステルアミド系帯電防止剤は、エーテル系帯電防止剤、エステル系帯電防止剤およびポリアミド系帯電防止剤のいずれにも分類されるものである。 In addition to the above-mentioned polymeric antistatic agent A, the polymeric antistatic agent in this embodiment includes, for example, an ether antistatic agent, an ester antistatic agent, a polyamide antistatic agent, and an acrylic antistatic agent. etc., or a polyether ester amide type antistatic agent. The polyether ester amide antistatic agent is classified as an ether antistatic agent, an ester antistatic agent, and a polyamide antistatic agent.

(3)カーボンナノチューブ
本実施形態におけるカーボンナノチューブとしては、1層のグラファイトの層が円筒を形成した構造を持つ単層カーボンナノチューブであってもよいし、2層以上のグラファイトの層がそれぞれ円筒を形成し、これらの円筒が積層された構造を持つ多層カーボンナノチューブであってもよいが、高分子型帯電防止剤との併用による導電パスの効率的な形成の観点からは、単層カーボンナノチューブが好ましい。なお、グラファイトの層が略円錐状に丸められた構造を有するものをカーボンナノホーンというが、本実施形態におけるカーボンナノチューブは、カーボンナノホーンも包含するものである。
(3) Carbon nanotubes The carbon nanotubes in this embodiment may be single-walled carbon nanotubes having a structure in which one graphite layer forms a cylinder, or two or more graphite layers each forming a cylinder. However, from the viewpoint of efficient formation of conductive paths when used in combination with a polymeric antistatic agent, single-walled carbon nanotubes are preferable. preferable. Note that a carbon nanohorn has a structure in which a graphite layer is rounded into a substantially conical shape, but the carbon nanotubes in this embodiment also include carbon nanohorns.

本実施形態におけるカーボンナノチューブの平均長さは、1μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましく、特に8μm以上であることが好ましく、さらには10μm以上であることが好ましい。また、上記平均長さは、30μm以下であることが好ましく、25μm以下であることがより好ましく、特に20μm以下であることが好ましく、さらには15μm以下であることが好ましい。カーボンナノチューブの平均長さが上記の範囲にあることにより、高分子型帯電防止剤との併用による導電パスがより効率的に形成され、また、基材フィルムの機械的強度に悪影響を及ぼし難い。 The average length of the carbon nanotubes in this embodiment is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, particularly preferably 8 μm or more, and even more preferably 10 μm or more. Further, the average length is preferably 30 μm or less, more preferably 25 μm or less, particularly preferably 20 μm or less, and even more preferably 15 μm or less. When the average length of the carbon nanotubes is within the above range, a conductive path can be formed more efficiently when used in combination with a polymeric antistatic agent, and the mechanical strength of the base film is less likely to be adversely affected.

本実施形態におけるカーボンナノチューブの平均外径は、0.0001μm以上であることが好ましく、0.0003μm以上であることがより好ましく、特に0.0006μm以上であることが好ましく、さらには0.001μm以上であることが好ましい。また、上記平均外径は、0.05μm以下であることが好ましく、0.03μm以下であることがより好ましく、特に0.01μm以下であることが好ましく、さらには0.005μm以下であることが好ましい。カーボンナノチューブの平均外径が上記の範囲にあることにより、高分子型帯電防止剤との併用による導電パスがより効率的に形成され、また、基材フィルムの機械的強度に悪影響を及ぼし難い。 The average outer diameter of the carbon nanotubes in this embodiment is preferably 0.0001 μm or more, more preferably 0.0003 μm or more, particularly preferably 0.0006 μm or more, and even more preferably 0.001 μm or more. It is preferable that Further, the average outer diameter is preferably 0.05 μm or less, more preferably 0.03 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less, and even more preferably 0.005 μm or less. preferable. When the average outer diameter of the carbon nanotubes is within the above range, a conductive path can be formed more efficiently when used in combination with a polymeric antistatic agent, and the mechanical strength of the base film is less likely to be adversely affected.

本実施形態におけるカーボンナノチューブのアスペクト比は、100以上であることが好ましく、250以上であることがより好ましく、特に500以上であることが好ましく、さらには1000以上であることが好ましい。また、上記アスペクト比は、25000以下であることが好ましく、20000以下であることがより好ましく、特に15000以下であることが好ましく、さらには10000以下であることが好ましい。カーボンナノチューブのアスペクト比が上記の範囲にあることにより、高分子型帯電防止剤との併用による導電パスがより効率的に形成され、また、基材フィルムの機械的強度に悪影響を及ぼし難い。 The aspect ratio of the carbon nanotubes in this embodiment is preferably 100 or more, more preferably 250 or more, particularly preferably 500 or more, and even more preferably 1000 or more. Further, the aspect ratio is preferably 25,000 or less, more preferably 20,000 or less, particularly preferably 15,000 or less, and even more preferably 10,000 or less. When the aspect ratio of the carbon nanotubes is within the above range, a conductive path can be formed more efficiently when used in combination with a polymeric antistatic agent, and the mechanical strength of the base film is less likely to be adversely affected.

本実施形態におけるカーボンナノチューブは、常法によって製造することができる。例えば、斉藤・板東「カーボンナノチューブの基礎」(P23~P57,コロナ社出版,1998年発行)に記載のアーク放電法、レーザ蒸発法、熱分解法等により製造し、更に必要に応じて、純度を高めるために水熱法、遠心分離法、限外ろ過法、酸化法等により精製することもできる。 The carbon nanotubes in this embodiment can be manufactured by a conventional method. For example, it can be manufactured by the arc discharge method, laser evaporation method, pyrolysis method, etc. described in Saito and Bando "Basics of Carbon Nanotubes" (P23-P57, published by Coronasha Publishing, 1998), and if necessary, the purity It can also be purified by hydrothermal methods, centrifugal separation methods, ultrafiltration methods, oxidation methods, etc. in order to increase the

(4)その他の成分
本実施形態における樹脂層Rは、上述したポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブ以外のその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、一般的なワーク加工用シートの基材フィルムに用いられる成分が挙げられ、具体的には、難燃剤、可塑剤、滑剤、酸化防止剤、着色剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、イオン捕捉剤等の各種添加剤が挙げられる。これらの添加剤の含有量としては、特に限定されないものの、基材フィルムが所望の機能を発揮する範囲とすることが好ましい。
(4) Other components The resin layer R in this embodiment may contain components other than the above-mentioned polyester resin, polymeric antistatic agent, and carbon nanotubes. Other components include, for example, components used in the base film of general workpiece processing sheets, specifically flame retardants, plasticizers, lubricants, antioxidants, colorants, and infrared absorbers. , ultraviolet absorbers, ion scavengers, and other additives. Although the content of these additives is not particularly limited, it is preferably within a range that allows the base film to exhibit desired functions.

2.基材フィルムの構成
本実施形態における基材フィルムの層構成としては、前述したポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを含有する樹脂層Rを備える限り、単層であってもよいし、複数層であってもよいが、樹脂層Rの単層であることが好ましい。
2. Structure of Base Film The layer structure of the base film in this embodiment may be a single layer as long as it includes the resin layer R containing the above-mentioned polyester resin, polymeric antistatic agent, and carbon nanotubes. Although the resin layer R may have multiple layers, it is preferable that the resin layer R is a single layer.

一方、複数層とする場合、樹脂層Rを複数積層してもよいし、樹脂層Rと、それ以外の層とを積層してもよい。それ以外の層が樹脂層Rとともにエキスパンドされる場合には、当該層は、樹脂層Rと同等以上の破断伸度を有するものであることが好ましい。 On the other hand, in the case of multiple layers, a plurality of resin layers R may be laminated, or the resin layer R and other layers may be laminated. When other layers are expanded together with the resin layer R, it is preferable that the layer has a breaking elongation equal to or higher than that of the resin layer R.

本実施形態における基材フィルムの粘着剤層が積層される面には、当該粘着剤層との密着性を高めるために、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理が施されてもよい。 The surface of the base film in this embodiment on which the adhesive layer is laminated may be subjected to surface treatment such as primer treatment, corona treatment, plasma treatment, etc., in order to increase the adhesion with the adhesive layer. .

3.基材フィルムの物性
(1)厚さ
本実施形態における基材フィルムの厚さは、20μm以上であることが好ましく、特に40μm以上であることが好ましく、さらには60μm以上であることが好ましい。また、本実施形態における基材フィルムの厚さは、600μm以下であることが好ましく、特に300μm以下であることが好ましく、さらには200μm以下であることが好ましい。基材フィルムの厚さが上記範囲にあることにより、ワーク加工用シートが適度な強度を有するものとなり、ワーク加工用シート上に固定されるワークを良好に支持し易くなる。また、所望の破断伸度を有し易く、エキスパンド性に優れたものとなり易い。
3. Physical Properties of Base Film (1) Thickness The thickness of the base film in this embodiment is preferably 20 μm or more, particularly preferably 40 μm or more, and even more preferably 60 μm or more. Further, the thickness of the base film in this embodiment is preferably 600 μm or less, particularly preferably 300 μm or less, and even more preferably 200 μm or less. When the thickness of the base film is within the above range, the workpiece processing sheet has appropriate strength, and the workpiece fixed on the workpiece processing sheet can be easily supported well. Moreover, it tends to have a desired elongation at break and has excellent expandability.

(2)表面抵抗率
本実施形態に係る基材フィルムは、その少なくとも片面における表面抵抗率が、5×1011Ω/□以下であることが好ましく、4×1011Ω/□以下であることがより好ましく、特に3×1011Ω/□以下であることが好ましく、さらには2×1011Ω/□以下であることが好ましい。本実施形態に係る基材フィルムがこのような表面抵抗率を有することにより、当該基材フィルムを用いて構成されるワーク加工用シートは、保管時や使用時において帯電し難いものとなり、帯電することに起因したワーク加工用シートへのごみの付着等を良好に抑制することができる。本実施形態に係る基材フィルムは、前述したように高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを併用することにより、機械的強度を低下させることなく、上記のように低い表面抵抗率を達成することができる。
(2) Surface resistivity The surface resistivity of the base film according to this embodiment on at least one side thereof is preferably 5×10 11 Ω/□ or less, and preferably 4×10 11 Ω/□ or less. is more preferable, particularly preferably 3×10 11 Ω/□ or less, and even more preferably 2×10 11 Ω/□ or less. Since the base film according to the present embodiment has such a surface resistivity, the workpiece processing sheet formed using the base film is difficult to be charged during storage or use, and is not easily charged. It is possible to satisfactorily suppress the adhesion of dust to the workpiece processing sheet caused by this. As described above, the base film according to this embodiment can achieve the low surface resistivity as described above without reducing mechanical strength by using a polymer antistatic agent and carbon nanotubes together. I can do it.

上記表面抵抗率の下限値については特に限定されず、例えば、1×10Ω/□以上であってもよいし、1×10Ω/□Ω/□以上であってもよく、特に1×10Ω/□Ω/□以上であってもよい。なお、本明細書における表面抵抗率の測定方法は、後述する試験例に示す通りである。 The lower limit value of the surface resistivity is not particularly limited, and may be, for example, 1×10 6 Ω/□ or more, or 1×10 7 Ω/□Ω/□, particularly 1 It may be ×10 8 Ω/□Ω/□ or more. Note that the method for measuring surface resistivity in this specification is as shown in the test example described below.

(3)破断伸度
本実施形態に係る基材フィルムのMD方向の破断伸度は、200%以上であることが好ましく、220%以上であることがより好ましく、特に240%以上であることが好ましく、さらには260%以上であることが好ましい。また、本実施形態に係る基材フィルムのTD方向の破断伸度は、200%以上であることが好ましく、220%以上であることがより好ましく、特に250%以上であることが好ましく、さらには300%以上であることが好ましい。基材フィルムの破断伸度が上記であることにより、エキスパンド等の工程で破断することを効果的に防止することができる。本実施形態に係る基材フィルムは、前述したように高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを併用することにより、表面抵抗率を低く抑えつつ、上記のように大きい破断伸度を達成することが可能である。ここで、MD方向とは、基材フィルム(樹脂層R)の製膜時における流れ方向をいい、TD方向とは、MD方向に対して垂直な方向をいう。
(3) Elongation at break The elongation at break in the MD direction of the base film according to this embodiment is preferably 200% or more, more preferably 220% or more, and particularly preferably 240% or more. Preferably, it is more preferably 260% or more. Further, the elongation at break in the TD direction of the base film according to the present embodiment is preferably 200% or more, more preferably 220% or more, particularly preferably 250% or more, and It is preferable that it is 300% or more. When the elongation at break of the base film is within the above range, it is possible to effectively prevent breakage during steps such as expanding. As described above, the base film according to the present embodiment can achieve a high elongation at break while keeping the surface resistivity low by using a polymer antistatic agent and carbon nanotubes together. It is possible. Here, the MD direction refers to the flow direction during film formation of the base film (resin layer R), and the TD direction refers to the direction perpendicular to the MD direction.

本実施形態に係る基材フィルムのMD方向の破断伸度の上限値は、特に限定されず、600%以下であってもよいし、550%以下であってもよく、特に500%以下であってもよい。また、本実施形態に係る基材フィルムのTD方向の破断伸度の上限値は、特に限定されず、600%以下であってもよいし、550%以下であってもよく、特に500%以下であってもよい。なお、本明細書における破断伸度の測定方法は、JIS K7127:1999に準拠するものであり、具体的には、後述する試験例に示す通りである。 The upper limit of the elongation at break in the MD direction of the base film according to the present embodiment is not particularly limited, and may be 600% or less, 550% or less, and particularly 500% or less. It's okay. Further, the upper limit of the elongation at break in the TD direction of the base film according to the present embodiment is not particularly limited, and may be 600% or less, or 550% or less, particularly 500% or less. It may be. Note that the method for measuring the elongation at break in this specification is based on JIS K7127:1999, and specifically as shown in the test example described below.

4.基材フィルムの製造方法
本実施形態における基材フィルムの製造方法は、前述したポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを含有する材料を用いる限り、特に限定されず、例えば、Tダイ法、丸ダイ法等の溶融押出法;カレンダー法;乾式法、湿式法等の溶液法などを使用することができる。これらの中でも、効率良く基材フィルムを製造する観点から、溶融押出法またはカレンダー法を採用することが好ましい。
4. Method for manufacturing the base film The method for manufacturing the base film in this embodiment is not particularly limited as long as the above-mentioned polyester resin, polymer antistatic agent, and carbon nanotube-containing material is used. For example, the T-die method , a melt extrusion method such as a round die method; a calendar method; a solution method such as a dry method or a wet method. Among these, from the viewpoint of efficiently manufacturing the base film, it is preferable to employ the melt extrusion method or the calender method.

樹脂層Rの単層からなる基材フィルムを溶融押出法により製造する場合、樹脂層Rの原料(前述したポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを含む)を混練し、得られた混練物から直接、または一旦ペレットを製造したのち、公知の押出機を用いて製膜すればよい。上記混練時には、ポリエステル樹脂およびカーボンナノチューブ(マスターバッチ)を予め混練してカーボンナノチューブ混練物を得た後、当該カーボンナノチューブ混練物と、ポリエステル樹脂と、高分子型帯電防止剤とを混練することが好ましい。これにより、カーボンナノチューブの分散性が良好なものとなる。 When producing a base film consisting of a single layer of the resin layer R by a melt extrusion method, the raw materials for the resin layer R (including the aforementioned polyester resin, polymeric antistatic agent, and carbon nanotubes) are kneaded, and the obtained The film may be formed directly from the kneaded material or after once producing pellets using a known extruder. At the time of the above kneading, the polyester resin and carbon nanotubes (masterbatch) may be kneaded in advance to obtain a carbon nanotube kneaded product, and then the carbon nanotube kneaded product, the polyester resin, and the polymer type antistatic agent are kneaded. preferable. This improves the dispersibility of carbon nanotubes.

また、複数層からなる基材フィルムを溶融押出法により製造する場合、各層を構成する成分をそれぞれ混練し、得られた混練物から直接、または一旦ペレットを製造したのち、公知の押出機を用いて、複数層を同時に押出して製膜すればよい。 In addition, when producing a base film consisting of multiple layers by melt extrusion, the components constituting each layer may be kneaded, and the resulting kneaded product may be used directly, or once pellets are produced, using a known extruder. Then, a plurality of layers may be simultaneously extruded to form a film.

また、基材フィルムが複数層である場合、予めフィルム状に形成された所定の層の片面に対し、樹脂層Rの原料(前述したポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを含む)を含有する塗布液を塗布し、乾燥または硬化させることで、所定の層上に樹脂層Rを形成してもよい。これにより、所定の層と樹脂層Rとを備える基材フィルムを得ることができる。 In addition, when the base film has multiple layers, the raw materials for the resin layer R (including the aforementioned polyester resin, polymer type antistatic agent, and carbon nanotubes) are added to one side of a predetermined layer formed in advance into a film shape. The resin layer R may be formed on a predetermined layer by applying a coating liquid containing the following and drying or curing the coating liquid. Thereby, a base film including the predetermined layer and the resin layer R can be obtained.

〔ワーク加工用シート〕
本実施形態に係るワーク加工用シートは、前述した基材フィルムと、当該基材フィルムの片面側に積層された粘着剤層とを備える。
[Work processing sheet]
The workpiece processing sheet according to the present embodiment includes the base film described above and an adhesive layer laminated on one side of the base film.

1.ワーク加工用シートの構成
以下、本実施形態に係るワーク加工用シートを構成する部材のうち、前述した基材フィルム以外の構成について説明する。
1. Structure of Workpiece Processing Sheet Among the members constituting the workpiece processing sheet according to the present embodiment, the structure other than the above-mentioned base film will be described below.

(1)粘着剤層
上記粘着剤層を構成する粘着剤としては、被着体に対する十分な粘着力(特に、ワークの加工を行うために十分となるような対ワーク粘着力)を発揮することができる限り、特に限定されない。粘着剤層を構成する粘着剤の例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、所望の粘着力を発揮し易いという観点から、アクリル系粘着剤を使用することが好ましい。
(1) Adhesive layer The adhesive constituting the above-mentioned adhesive layer must exhibit sufficient adhesion to the adherend (especially adhesion to the workpiece that is sufficient for processing the workpiece). There is no particular limitation as long as it is possible. Examples of the adhesive constituting the adhesive layer include acrylic adhesive, rubber adhesive, silicone adhesive, urethane adhesive, polyester adhesive, polyvinyl ether adhesive, and the like. Among these, it is preferable to use acrylic pressure-sensitive adhesives from the viewpoint of easily exhibiting desired adhesive strength.

本実施形態における粘着剤層を構成する粘着剤は、活性エネルギー線硬化性を有しない粘着剤であってもよいものの、活性エネルギー線硬化性を有する粘着剤(以下、「活性エネルギー線硬化性粘着剤」という場合がある。)であることが好ましい。粘着剤層が活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成されていることで、活性エネルギー線の照射により粘着剤層を硬化させて、ワーク加工用シートの被着体に対する粘着力を容易に低下させることができる。特に、活性エネルギー線の照射によって、加工後のワークを当該ワーク加工用シートから容易に分離することが可能となる。 The adhesive constituting the adhesive layer in this embodiment may be an adhesive that does not have active energy ray curability, but may be an adhesive that has active energy ray curability (hereinafter referred to as "active energy ray curable adhesive"). ) is preferable. Since the adhesive layer is composed of an active energy ray-curable adhesive, the adhesive layer can be cured by irradiation with active energy rays, and the adhesive strength of the workpiece processing sheet to the adherend can be easily reduced. I can do it. In particular, by irradiating with active energy rays, it becomes possible to easily separate the processed workpiece from the workpiece processing sheet.

粘着剤層を構成する活性エネルギー線硬化性粘着剤としては、活性エネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とするものであってもよいし、活性エネルギー線非硬化性ポリマー(活性エネルギー線硬化性を有しないポリマー)と少なくとも1つ以上の活性エネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物を主成分とするものであってもよい。 The active energy ray-curable adhesive constituting the adhesive layer may be one containing an active energy ray-curable polymer as a main component, or a non-active energy ray-curable polymer (active energy ray-curable). The main component may be a mixture of a monomer and/or oligomer having at least one active energy ray-curable group.

活性エネルギー線硬化性を有するポリマーは、側鎖に活性エネルギー線硬化性を有する官能基(活性エネルギー線硬化性基)が導入された(メタ)アクリル酸エステル重合体(以下「活性エネルギー線硬化性重合体」という場合がある。)であることが好ましい。この活性エネルギー線硬化性重合体は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体と、その官能基に結合する官能基を有する不飽和基含有化合物とを反応させて得られるものであることが好ましい。なお、本明細書において、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語も同様である。さらに、「重合体」には「共重合体」の概念も含まれるものとする。 Polymers that are curable with active energy rays are (meth)acrylic acid ester polymers (hereinafter referred to as ``active energy ray-curable'') in which functional groups that are curable with active energy rays (active energy ray-curable groups) are introduced into the side chains. (sometimes referred to as "polymer") is preferable. This active energy ray-curable polymer is obtained by reacting an acrylic copolymer having a functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound having a functional group that binds to the functional group. is preferred. In addition, in this specification, (meth)acrylic acid means both acrylic acid and methacrylic acid. The same applies to other similar terms. Furthermore, the concept of "copolymer" is also included in "polymer".

上記活性エネルギー線硬化性重合体の重量平均分子量は、1万以上であることが好ましく、特に15万以上であることが好ましく、さらには20万以上であることが好ましい。また、当該重量平均分子量は、250万以下であることが好ましく、特に200万以上であることが好ましく、さらには150万以下であることが好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。 The weight average molecular weight of the active energy ray-curable polymer is preferably 10,000 or more, particularly preferably 150,000 or more, and even more preferably 200,000 or more. Further, the weight average molecular weight is preferably 2.5 million or less, particularly preferably 2 million or more, and even more preferably 1.5 million or less. Note that the weight average molecular weight (Mw) in this specification is a value measured by gel permeation chromatography (GPC method) in terms of standard polystyrene.

一方、活性エネルギー線硬化性粘着剤が、活性エネルギー線非硬化性ポリマー成分と少なくとも1つ以上の活性エネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物を主成分とする場合、当該活性エネルギー線非硬化性ポリマー成分としては、例えば、不飽和基含有化合物を反応させる前の上記アクリル系共重合体を使用することができる。また、活性エネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマーとしては、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル等を使用することができる。 On the other hand, when the active energy ray curable adhesive is mainly composed of a mixture of an active energy ray non-curable polymer component and a monomer and/or oligomer having at least one active energy ray curable group, As the energy ray non-curable polymer component, for example, the above-mentioned acrylic copolymer before being reacted with the unsaturated group-containing compound can be used. Further, as the active energy ray-curable monomer and/or oligomer, for example, an ester of polyhydric alcohol and (meth)acrylic acid can be used.

上記活性エネルギー線非硬化性ポリマー成分としてのアクリル系重合体の重量平均分子量は、1万以上であることが好ましく、特に15万以上であることが好ましく、さらには20万以上であることが好ましい。また、当該重量平均分子量は、250万以下であることが好ましく、特に200万以上であることが好ましく、さらには150万以下であることが好ましい。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer as the active energy ray non-curable polymer component is preferably 10,000 or more, particularly preferably 150,000 or more, and even more preferably 200,000 or more. . Further, the weight average molecular weight is preferably 2.5 million or less, particularly preferably 2 million or more, and even more preferably 1.5 million or less.

なお、活性エネルギー線硬化性粘着剤を硬化させるための活性エネルギー線として紫外線を用いる場合には、当該粘着剤に対して、光重合開始剤を添加することが好ましい。また、当該粘着剤には、活性エネルギー線非硬化性ポリマー成分またはオリゴマー成分や、架橋剤等を添加してもよい。 In addition, when ultraviolet rays are used as active energy rays for curing an active energy ray-curable adhesive, it is preferable to add a photopolymerization initiator to the adhesive. Further, an active energy ray non-curable polymer component or oligomer component, a crosslinking agent, etc. may be added to the adhesive.

本実施形態における粘着剤層の厚さは、1μm以上であることが好ましく、特に2μm以上であることが好ましく、さらには3μm以上であることが好ましい。また、粘着剤層の厚さは、50μm以下であることが好ましく、特に40μm以下であることが好ましく、さらには30μm以下であることが好ましい。粘着剤層の厚さが1μm以上であることで、本実施形態に係るワーク加工用シートが所望の粘着性を発揮し易いものとなる。また、粘着剤層の厚さが50μm以下であることで、硬化後の粘着剤層から被着体を分離する際に、分離し易いものとなる。 The thickness of the adhesive layer in this embodiment is preferably 1 μm or more, particularly preferably 2 μm or more, and even more preferably 3 μm or more. Further, the thickness of the adhesive layer is preferably 50 μm or less, particularly preferably 40 μm or less, and even more preferably 30 μm or less. When the thickness of the adhesive layer is 1 μm or more, the workpiece processing sheet according to this embodiment easily exhibits desired adhesiveness. Moreover, since the thickness of the adhesive layer is 50 μm or less, the adherend can be easily separated from the adhesive layer after being cured.

(2)剥離シート
本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における基材フィルムとは反対側の面(以下、「粘着面」という場合がある。)を被着体に貼付するまでの間、当該面を保護する目的で、当該面に剥離シートが積層されていてもよい。
(2) Release sheet In the workpiece processing sheet according to this embodiment, until the surface of the adhesive layer opposite to the base film (hereinafter referred to as "adhesive surface") is attached to the adherend. During this period, a release sheet may be laminated on the surface for the purpose of protecting the surface.

上記剥離シートの構成は任意であり、プラスチックフィルムを剥離剤等により剥離処理したものが例示される。当該プラスチックフィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム;およびポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。上記剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系等を用いることができ、これらの中でも、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。 The structure of the above-mentioned release sheet is arbitrary, and a plastic film subjected to release treatment using a release agent or the like is exemplified. Specific examples of the plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. As the above-mentioned release agent, silicone type, fluorine type, long chain alkyl type, etc. can be used, and among these, silicone type is preferable because it is inexpensive and provides stable performance.

上記剥離シートの厚さについては特に制限はなく、例えば、20μm以上、250μm以下であってよい。 The thickness of the release sheet is not particularly limited, and may be, for example, 20 μm or more and 250 μm or less.

(3)その他
本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における基材フィルムとは反対側の面に接着剤層が積層されていてもよい。この場合、本実施形態に係るワーク加工用シートは、ダイシング・ダイボンディングシートとして使用することができる。当該シートでは、接着剤層における粘着剤層とは反対側の面にワークを貼付し、当該ワークとともに接着剤層をダイシングすることで、個片化された接着剤層が積層されたチップを得ることができる。当該チップは、この個片化された接着剤層によって、当該チップが搭載される対象に対して容易に固定することが可能となる。上述した接着剤層を構成する材料としては、熱可塑性樹脂と低分子量の熱硬化性接着成分とを含有するものや、Bステージ(半硬化状)の熱硬化型接着成分を含有するもの等を用いることが好ましい。
(3) Others In the workpiece processing sheet according to the present embodiment, an adhesive layer may be laminated on the opposite side of the adhesive layer to the base film. In this case, the workpiece processing sheet according to this embodiment can be used as a dicing/die bonding sheet. In this sheet, a workpiece is attached to the opposite side of the adhesive layer from the adhesive layer, and the adhesive layer is diced together with the workpiece to obtain chips in which individualized adhesive layers are laminated. be able to. The chip can be easily fixed to the object on which the chip is to be mounted, by means of the individualized adhesive layer. Examples of the material constituting the adhesive layer described above include those containing a thermoplastic resin and a low molecular weight thermosetting adhesive component, and those containing a B-stage (semi-cured) thermosetting adhesive component. It is preferable to use

また、本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における粘着面に保護膜形成層が積層されていてもよい。この場合、本実施形態に係るワーク加工用シートは、保護膜形成兼ダイシング用シートとして使用することができる。このようなシートでは、保護膜形成層における粘着剤層とは反対側の面にワークを貼付し、当該ワークとともに保護膜形成層をダイシングすることで、個片化された保護膜形成層が積層されたチップを得ることができる。当該ワークとしては、片面に回路が形成されたものが使用されることが好ましく、この場合、通常、当該回路が形成された面とは反対側の面に保護膜形成層が積層される。個片化された保護膜形成層は、所定のタイミングで硬化させることで、十分な耐久性を有する保護膜をチップに形成することができる。保護膜形成層は、未硬化の硬化性接着剤からなることが好ましい。 Further, in the workpiece processing sheet according to the present embodiment, a protective film forming layer may be laminated on the adhesive surface of the adhesive layer. In this case, the workpiece processing sheet according to this embodiment can be used as a protective film forming and dicing sheet. In such a sheet, a workpiece is pasted on the side of the protective film forming layer opposite to the adhesive layer, and the protective film forming layer is diced together with the work, so that the individualized protective film forming layer is laminated. You can get the chips. The work preferably has a circuit formed on one side, and in this case, a protective film forming layer is usually laminated on the opposite side to the side on which the circuit is formed. By curing the separated protective film forming layer at a predetermined timing, a protective film having sufficient durability can be formed on the chip. The protective film forming layer is preferably made of an uncured curable adhesive.

2.ワーク加工用シートの製造方法
本実施形態に係るワーク加工用シートの製造方法は特に限定されない。例えば、剥離シート上に粘着剤層を形成した後、当該粘着剤層における剥離シートとは反対側の面に基材フィルムの片面を積層することで、ワーク加工用シートを得ることが好ましい。
2. Method for manufacturing a workpiece processing sheet The method for manufacturing a workpiece processing sheet according to the present embodiment is not particularly limited. For example, after forming an adhesive layer on a release sheet, it is preferable to obtain a workpiece processing sheet by laminating one side of a base film on the opposite side of the adhesive layer to the release sheet.

上述した粘着剤層の形成は、公知の方法により行うことができる。例えば、粘着剤層を形成するための粘着性組成物、および所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗布液を調製する。そして、剥離シートの剥離性を有する面(以下、「剥離面」という場合がある。)に上記塗布液を塗布する。続いて、得られた塗膜を乾燥させることで、粘着剤層を形成することができる。 The above-described adhesive layer can be formed by a known method. For example, a coating liquid containing an adhesive composition for forming an adhesive layer and, if desired, a solvent or a dispersion medium is prepared. Then, the coating liquid is applied to the releasable surface of the release sheet (hereinafter sometimes referred to as "release surface"). Subsequently, an adhesive layer can be formed by drying the obtained coating film.

上述した塗布液の塗布は公知の方法により行うことができ、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等により行うことができる。なお、塗布液は、塗布を行うことが可能であればその性状は特に限定されず、粘着剤層を形成するための成分を溶質として含有する場合もあれば、分散質として含有する場合もある。また、剥離シートは工程材料として剥離してもよいし、被着体に貼付するまでの間、粘着剤層を保護していてもよい。 The coating liquid described above can be applied by a known method, such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method, or the like. The coating liquid is not particularly limited in its properties as long as it can be applied, and may contain components for forming the adhesive layer as a solute or as a dispersoid. . Further, the release sheet may be peeled off as a process material, or may protect the adhesive layer until it is attached to an adherend.

粘着剤層を形成するための粘着性組成物が前述した架橋剤を含有する場合には、上記の乾燥の条件(温度、時間など)を変えることにより、または加熱処理を別途設けることにより、塗膜内のポリマー成分と架橋剤との架橋反応を進行させ、粘着剤層内に所望の存在密度で架橋構造を形成することが好ましい。さらに、上述した架橋反応を十分に進行させるために、粘着剤層と基材フィルムとを貼り合わせた後、例えば23℃、相対湿度50%の環境に数日間静置するといった養生を行ってもよい。 When the adhesive composition for forming the adhesive layer contains the above-mentioned crosslinking agent, the coating can be improved by changing the drying conditions (temperature, time, etc.) or by separately providing heat treatment. It is preferable to allow a crosslinking reaction between the polymer component within the film and the crosslinking agent to proceed, and to form a crosslinked structure at a desired density within the adhesive layer. Furthermore, in order to allow the above-mentioned crosslinking reaction to proceed sufficiently, after bonding the adhesive layer and the base film, curing may be performed, for example, by leaving it in an environment of 23° C. and 50% relative humidity for several days. good.

3.ワーク加工用シートの使用方法
本実施形態に係るワーク加工用シートは、半導体ウエハ等のワークの加工のために使用することができる。この場合、本実施形態に係るワーク加工用シートの粘着面をワークに貼付した後、ワーク加工用シート上にてワークの加工を行うことができる。当該加工に応じて、本実施形態に係るワーク加工用シートは、バックグラインドシート、ダイシングシート、エキスパンドシート、ピックアップシート等のワーク加工用シートとして使用することができる。ここで、ワークの例としては、半導体ウエハ、半導体パッケージ等の半導体部材、ガラス板等のガラス部材が挙げられる。
3. How to use the workpiece processing sheet The workpiece processing sheet according to the present embodiment can be used for processing a workpiece such as a semiconductor wafer. In this case, after the adhesive surface of the workpiece processing sheet according to this embodiment is attached to the workpiece, the workpiece can be processed on the workpiece processing sheet. Depending on the processing, the workpiece processing sheet according to the present embodiment can be used as a workpiece processing sheet such as a back grinding sheet, a dicing sheet, an expanded sheet, and a pickup sheet. Here, examples of the work include semiconductor members such as semiconductor wafers and semiconductor packages, and glass members such as glass plates.

本実施形態に係るワーク加工用シートは、前述した実施形態に係る基材フィルムを用いて構成されていることにより、優れた帯電防止性と、良好な機械的強度、特に破断伸度を発揮することができる。したがって、本実施形態に係るワーク加工用シートは、エキスパンドシート、またはダイシングからエキスパンドの工程で使用されるダイシングシートとして特に好適である。 Since the workpiece processing sheet according to the present embodiment is constructed using the base film according to the embodiment described above, it exhibits excellent antistatic properties and good mechanical strength, especially elongation at break. be able to. Therefore, the workpiece processing sheet according to the present embodiment is particularly suitable as an expandable sheet or a dicing sheet used in the process from dicing to expansion.

なお、本実施形態に係るワーク加工用シートが前述した接着剤層を備える場合には、当該ワーク加工用シートは、ダイシング・ダイボンディングシートとして使用することができる。さらに、本実施形態に係るワーク加工用シートが前述した保護膜形成層を備える場合には、当該ワーク加工用シートは、保護膜形成兼ダイシング用シートとして使用することができる。 In addition, when the workpiece processing sheet according to the present embodiment includes the above-described adhesive layer, the workpiece processing sheet can be used as a dicing/die bonding sheet. Furthermore, when the workpiece processing sheet according to the present embodiment includes the above-mentioned protective film forming layer, the workpiece processing sheet can be used as a protective film forming and dicing sheet.

また、本実施形態に係るワーク加工用シートにおける粘着剤層が、前述した活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成される場合には、使用の際に、次のような活性エネルギー線を照射することも好ましい。すなわち、ワーク加工用シート上にてワークの加工が完了し、加工後のワークをワーク加工用シートから分離する場合に、当該分離の前に粘着剤層に対して活性エネルギー線を照射することが好ましい。これにより、粘着剤層が硬化して、加工後のワークに対するワーク加工用シートの粘着力が良好に低下し、加工後のワークの分離が容易となる。 Further, when the adhesive layer in the workpiece processing sheet according to the present embodiment is composed of the above-mentioned active energy ray-curable adhesive, the following active energy rays may be irradiated during use. is also preferable. That is, when processing of a workpiece is completed on the workpiece processing sheet and the processed workpiece is separated from the workpiece processing sheet, the adhesive layer may be irradiated with active energy rays before the separation. preferable. As a result, the adhesive layer is cured, the adhesive strength of the workpiece processing sheet to the processed workpiece is favorably reduced, and separation of the processed workpiece is facilitated.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiments described above are described to facilitate understanding of the present invention, and are not described to limit the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiments is intended to include all design changes and equivalents that fall within the technical scope of the present invention.

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

〔実施例1〕
(1)基材フィルムの作製
撹拌機、留出管および減圧装置を装備した反応器内に、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル(trans体比率98%)12.90kg、1,4-シクロヘキサンジメタノール11.47kg、エチレングリコール0.3kg、および10%酢酸Mn四水和物を含むエチレングリコール溶液0.11kgを仕込み、窒素フロー下で200℃まで加熱した後、230℃まで1時間かけて昇温した。そのまま2時間保持してエステル交換反応を行った後、エルカ酸由来ダイマー酸(炭素数44,クローダ社製,製品名「PRIPOL1004」)10.30kg、10%トリメチルホスフェートを含むエチレングリコール溶液0.11kgを系内に投入し、引き続き230℃で1時間エステル化反応を行った。続いて、重縮合触媒として二酸化ゲルマニウム300ppmを添加撹拌後、1時間で133Pa以下まで減圧し、この間に内温を230℃から270℃へと引き上げ、133Pa以下の高真空下で所定の粘度となるまで撹拌して重縮合反応を行った。得られたポリマーをストランド状に水中に押出してカットし、ペレット状にした。
[Example 1]
(1) Preparation of base film In a reactor equipped with a stirrer, a distillation tube, and a pressure reducing device, 12.90 kg of dimethyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate (trans isomer ratio 98%), 1,4-cyclohexanedicarboxylate, 11.47 kg of methanol, 0.3 kg of ethylene glycol, and 0.11 kg of an ethylene glycol solution containing 10% Mn acetate tetrahydrate were charged, heated to 200°C under nitrogen flow, and then raised to 230°C over 1 hour. It was warm. After holding as it was for 2 hours to perform a transesterification reaction, 10.30 kg of erucic acid-derived dimer acid (carbon number 44, manufactured by Croda, product name "PRIPOL1004") and 0.11 kg of an ethylene glycol solution containing 10% trimethyl phosphate were added. was introduced into the system, followed by an esterification reaction at 230°C for 1 hour. Subsequently, after adding and stirring 300 ppm of germanium dioxide as a polycondensation catalyst, the pressure was reduced to 133 Pa or less in 1 hour, and during this time the internal temperature was raised from 230°C to 270°C, and the predetermined viscosity was achieved under high vacuum of 133 Pa or less. The polycondensation reaction was carried out by stirring until the temperature reached 100 mL. The obtained polymer was extruded into strands into water and cut into pellets.

このように得られたポリエステル樹脂のペレットを、85℃で4時間以上乾燥させた。その後、乾燥後の当該ペレット90質量部と、カーボンナノチューブマスターバッチ(OCSiAl社製,製品名「TUBALL 0540」)5質量部とを二軸混練機にて混練し、カーボンナノチューブ混練物(A)を得た。 The polyester resin pellets thus obtained were dried at 85° C. for 4 hours or more. Thereafter, 90 parts by mass of the dried pellets and 5 parts by mass of a carbon nanotube masterbatch (manufactured by OCSiAl, product name "TUBALL 0540") were kneaded in a twin-screw kneader to obtain a carbon nanotube kneaded material (A). Obtained.

次いで、上記ポリエステル樹脂のペレット85質量部と、ポリエーテルエステルアミド系高分子型帯電防止剤(三洋化成工業社製,製品名「ペレクトロンAS」)10質量部と、上記カーボンナノチューブ混練物(A)5質量部とを、二軸混練機にて混練し(240℃,12分)、ペレットを得た。なお、当該ペレット中におけるカーボンナノチューブの含有量は、0.05質量%であった。 Next, 85 parts by mass of the above polyester resin pellets, 10 parts by mass of a polyether ester amide polymer type antistatic agent (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., product name "Pellectron AS"), and the above carbon nanotube kneaded product (A). 5 parts by mass were kneaded using a twin-screw kneader (240°C, 12 minutes) to obtain pellets. Note that the content of carbon nanotubes in the pellet was 0.05% by mass.

上記で得られたペレットを、Tダイを設置した単軸押出機のホッパーに投入した。そして、シリンダー温度220℃、ダイス温度220℃の条件下、上記ペレットを溶融混練させた状態でTダイから押出し、冷却ロールにて冷却させることにより、厚さ80μmのシート状の基材フィルムを得た。 The pellets obtained above were charged into a hopper of a single screw extruder equipped with a T-die. Then, under conditions of a cylinder temperature of 220°C and a die temperature of 220°C, the above pellets were melt-kneaded and extruded from a T-die and cooled with a cooling roll to obtain a sheet-like base film with a thickness of 80 μm. Ta.

なお、上記ポリエステル樹脂は、当該樹脂を構成するモノマーとして、1,4-シクロヘキサンジメタノールを約50モル%、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルを約40.5モル%、およびエルカ酸由来のダイマー酸9.5モル%含むものであった。また、上記ポリエステル樹脂を構成する全ジカルボン酸単位に対する上記ダイマー酸の割合は、19.1モル%であった。さらに、上記ポリエステル樹脂の融解熱量を後述する方法によって測定したところ、20J/gであった。 The above polyester resin contains about 50 mol% of 1,4-cyclohexanedimethanol, about 40.5 mol% of dimethyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate, and a dimer derived from erucic acid as monomers constituting the resin. It contained 9.5 mol% of acid. Further, the proportion of the dimer acid to all dicarboxylic acid units constituting the polyester resin was 19.1 mol%. Furthermore, when the heat of fusion of the polyester resin was measured by the method described later, it was 20 J/g.

また、上記高分子型帯電防止剤の5%重量減少温度を後述する方法によって測定したところ、大気雰囲気下で260℃であり、窒素雰囲気下で333℃であった。 Further, the 5% weight loss temperature of the polymer type antistatic agent was measured by the method described below, and was found to be 260° C. under an air atmosphere and 333° C. under a nitrogen atmosphere.

(2)粘着性組成物の調製
アクリル酸n-ブチル95質量部と、アクリル酸5質量部とを、溶液重合法により重合させて、(メタ)アクリル酸エステル重合体を得た。このアクリル系重合体の重量平均分子量(Mw)を後述する方法により測定したところ、50万であった。
(2) Preparation of adhesive composition 95 parts by mass of n-butyl acrylate and 5 parts by mass of acrylic acid were polymerized by a solution polymerization method to obtain a (meth)acrylic acid ester polymer. The weight average molecular weight (Mw) of this acrylic polymer was measured by the method described below and was found to be 500,000.

上記の通り得られた(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部(固形分換算,以下同じ)と、ウレタンアクリレートオリゴマー(Mw:8,000)120質量部と、イソシアネート系架橋剤(東ソー社製,製品名「コロネートL」)5質量部と、光重合開始剤(IGM Resins B.V.社製,製品名「Omnirad184」)4質量部とを混合し、エネルギー線硬化型の粘着性組成物を得た。 100 parts by mass of the (meth)acrylic acid ester polymer obtained as described above (in terms of solid content, the same applies hereinafter), 120 parts by mass of urethane acrylate oligomer (Mw: 8,000), and an isocyanate-based crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation). , product name "Coronate L") and 4 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by IGM Resins B.V., product name "Omnirad 184") to prepare an energy ray-curable adhesive composition. I got it.

(3)粘着剤層の形成
上記工程(2)で得られた粘着性組成物を、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面がシリコーン系剥離剤により剥離処理された剥離シート(リンテック社製,製品名「SP-PET381031」)の剥離処理面に塗布し、得られた塗膜を100℃で1分間乾燥させた。これにより、剥離シートにおける剥離面上に、厚さ10μmの粘着剤層が形成されてなる積層体を得た。
(3) Formation of adhesive layer The adhesive composition obtained in step (2) above is applied to a release sheet (manufactured by Lintec, product: The resulting coating film was dried at 100° C. for 1 minute. Thereby, a laminate was obtained in which a 10 μm thick adhesive layer was formed on the release surface of the release sheet.

(4)ワーク加工用シートの作製
上記工程(1)で得られた基材フィルムの片面と、上記工程(3)で得られた積層体における粘着剤層側の面とを貼り合わせることで、ワーク加工用シートを得た。
(4) Preparation of sheet for workpiece processing By bonding one side of the base film obtained in the above step (1) and the surface on the adhesive layer side of the laminate obtained in the above step (3), A workpiece processing sheet was obtained.

(5)各種測定方法
前述したポリエステル樹脂の融解熱量は、JIS K 7121:2012に準じて、示差走査熱量計(DSC,ティー・エイ・インスツルメンツ社製,製品名「DSC Q2000」)を用いて測定した。具体的には、まず、昇温速度20℃/minで常温から250℃まで加熱し、250℃で10分間保持し、降温速度20℃/minで-60℃まで低下させ、-60℃で10分間保持した。その後、再び昇温速度20℃/minで250℃まで加熱してDSC曲線を得て、融点を測定した。
(5) Various measurement methods The heat of fusion of the polyester resin described above was measured using a differential scanning calorimeter (DSC, manufactured by TA Instruments, product name "DSC Q2000") in accordance with JIS K 7121:2012. did. Specifically, first, heat from room temperature to 250 °C at a temperature increase rate of 20 °C/min, hold at 250 °C for 10 minutes, lower the temperature to -60 °C at a temperature decrease rate of 20 °C/min, and heat at -60 °C for 10 minutes. Hold for minutes. Thereafter, it was heated again to 250° C. at a heating rate of 20° C./min to obtain a DSC curve, and the melting point was measured.

前述した高分子型帯電防止剤の5%重量減少温度は、示差熱・熱重量同時測定装置(島津製作所社製,製品名「DTG-60」)を用い、JIS K7120:1987に準拠して行った。具体的には、流入ガスとして大気または窒素を用いて、ガス流入速度100ml/min、昇温速度20℃/minで、40℃から550℃まで昇温させて熱重量測定を行った。得られた熱重量曲線から、温度100℃での質量に対して質量が5%減少する温度(5%重量減少温度)を求めた。 The 5% weight loss temperature of the polymeric antistatic agent mentioned above was determined in accordance with JIS K7120:1987 using a simultaneous differential thermal and thermogravimetric measuring device (manufactured by Shimadzu Corporation, product name "DTG-60"). Ta. Specifically, thermogravimetry was performed by raising the temperature from 40°C to 550°C at a gas inflow rate of 100 ml/min and a temperature increase rate of 20°C/min using air or nitrogen as the inflowing gas. From the obtained thermogravimetric curve, the temperature at which the mass decreases by 5% with respect to the mass at a temperature of 100° C. (5% weight loss temperature) was determined.

また、前述した重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて以下の条件で測定(GPC測定)した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量である。
<測定条件>
・測定装置:東ソー社製,HLC-8320
・GPCカラム(以下の順に通過):東ソー社製
TSK gel superH-H
TSK gel superHM-H
TSK gel superH2000
・測定溶媒:テトラヒドロフラン
・測定温度:40℃
Moreover, the weight average molecular weight (Mw) mentioned above is the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene measured using gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions (GPC measurement).
<Measurement conditions>
・Measuring device: Tosoh Corporation, HLC-8320
・GPC column (passed in the following order): TSK gel superH-H manufactured by Tosoh Corporation
TSK gel superHM-H
TSK gel superH2000
・Measurement solvent: Tetrahydrofuran ・Measurement temperature: 40℃

〔実施例2,比較例1~6〕
ポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブマスターバッチ(カーボンナノチューブ)の配合量を表1に示す通りに変更した以外、実施例1と同様にしてワーク加工用シートを得た。
[Example 2, Comparative Examples 1 to 6]
A workpiece processing sheet was obtained in the same manner as in Example 1, except that the blending amounts of the polyester resin, polymeric antistatic agent, and carbon nanotube masterbatch (carbon nanotubes) were changed as shown in Table 1.

〔試験例1〕(表面抵抗率の測定)
実施例および比較例で作製した基材フィルムについて、その片面の表面抵抗率を測定した。具体的には、基材フィルムを100mm×100mmのサイズに切り出してなるサンプルについて、超高抵抗/微小電流計(エーディーシー社製,製品名「デジタル超高抵抗/微小電流計5450」)を用いて、印加電圧100V、印加時間60secの条件で表面抵抗率(Ω/□)を測定した。結果を表1に示す。
[Test Example 1] (Measurement of surface resistivity)
The surface resistivity of one side of the base films produced in Examples and Comparative Examples was measured. Specifically, a sample obtained by cutting a base film into a size of 100 mm x 100 mm was measured using an ultra-high resistance/micro ammeter (manufactured by ADC Corporation, product name: "Digital ultra-high resistance/micro ammeter 5450"). The surface resistivity (Ω/□) was measured under the conditions of an applied voltage of 100 V and an applied time of 60 seconds. The results are shown in Table 1.

上記の測定結果から、以下の基準に基づいて、表面抵抗率(帯電防止性)の評価を行った。結果を表1に示す。
〇…表面抵抗率が5×1011Ω/□以下
×…表面抵抗率が5×1011Ω/□超
From the above measurement results, surface resistivity (antistatic property) was evaluated based on the following criteria. The results are shown in Table 1.
〇…Surface resistivity is 5×10 11 Ω/□ or less ×…Surface resistivity is over 5×10 11 Ω/□

〔試験例2〕(破断伸度の測定)
実施例および比較例で作製した基材フィルムを15mm×140mmのサイズに裁断して試験片を得た。このとき、試験片の長辺(140mmの辺)が、基材フィルムのMD方向と平行となるMD方向用試験片、およびTD方向と平行となるTD方向用試験片の2種類を得た。
[Test Example 2] (Measurement of elongation at break)
The base films produced in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 15 mm x 140 mm to obtain test pieces. At this time, two types of test pieces were obtained: a test piece for the MD direction in which the long side (140 mm side) of the test piece was parallel to the MD direction of the base film, and a test piece for the TD direction in which the long side (140 mm side) of the test piece was parallel to the TD direction.

上記2種類の試験片について、JIS K7127:1999に準拠して、23℃における破断伸度を測定した。具体的には、上記試験片を、引張試験機(島津製作所製,製品名「オートグラフAG-XPlus)にて、チャック間距離100mmに設定した後、200mm/minの速度で引張試験を行い、試験片が切断したときの破断伸度(%)を測定した。このとき、MD方向用試験片を用いてMD方向の破断伸度(%)を測定し、TD方向用試験片を用いてTD方向の破断伸度(%)を測定した。結果を表1に示す。 The elongation at break at 23°C was measured for the above two types of test pieces in accordance with JIS K7127:1999. Specifically, the above test piece was subjected to a tensile test at a speed of 200 mm/min after setting the distance between the chucks to 100 mm in a tensile testing machine (manufactured by Shimadzu Corporation, product name "Autograph AG-XPlus"), The elongation at break (%) when the test piece was cut was measured. At this time, the elongation at break (%) in the MD direction was measured using a test piece for the MD direction, and the elongation at break (%) in the MD direction was measured using a test piece for the TD direction. The elongation at break (%) in the direction was measured.The results are shown in Table 1.

上記の測定結果から、以下の基準に基づいて、破断伸度(機械的強度)の評価を行った。結果を表1に示す。
〇…破断伸度が200%以上
×…破断伸度が200%未満
From the above measurement results, the elongation at break (mechanical strength) was evaluated based on the following criteria. The results are shown in Table 1.
〇…Elongation at break is 200% or more ×…Elongation at break is less than 200%

Figure 2023136637000001
Figure 2023136637000001

表1から分かるように、実施例で製造したワーク加工用シートの基材フィルムは、表面抵抗率が低く、優れた帯電防止性を示すとともに、破断伸度が大きく、良好な機械的強度を示すものであった。 As can be seen from Table 1, the base film of the workpiece processing sheet manufactured in the example has a low surface resistivity and exhibits excellent antistatic properties, as well as a high elongation at break and good mechanical strength. It was something.

本発明の基材フィルムは、半導体ウエハ等のワークの加工に使用されるワーク加工用シート、特にダイシングシートを構成する基材フィルムとして好適に使用することができる。 The base film of the present invention can be suitably used as a workpiece processing sheet used for processing workpieces such as semiconductor wafers, particularly as a base film constituting a dicing sheet.

Claims (13)

ポリエステル樹脂、高分子型帯電防止剤およびカーボンナノチューブを含有する樹脂層を備えた基材フィルム。 A base film comprising a resin layer containing polyester resin, a polymeric antistatic agent, and carbon nanotubes. 前記樹脂層中における前記高分子型帯電防止剤の含有量が、0.1質量%以上、50質量%以下であり、
前記樹脂層中における前記カーボンナノチューブの含有量が、0.001質量%以上、1質量%以下である
ことを特徴とする請求項1に記載の基材フィルム。
The content of the polymer type antistatic agent in the resin layer is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less,
The base film according to claim 1, wherein the content of the carbon nanotubes in the resin layer is 0.001% by mass or more and 1% by mass or less.
前記ポリエステル樹脂が、脂環構造を有するとともに、示差走査熱量測定により昇温速度20℃/minで測定された融解熱量が2J/g以上のものであることを特徴とする請求項1または2に記載の基材フィルム。 3. The polyester resin has an alicyclic structure and has a heat of fusion of 2 J/g or more as measured by differential scanning calorimetry at a heating rate of 20° C./min. The base film described. 前記ポリエステル樹脂が、当該ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位として、前記脂環構造を有するジカルボン酸を含むことを特徴とする請求項3に記載の基材フィルム。 The base film according to claim 3, wherein the polyester resin contains the dicarboxylic acid having the alicyclic structure as a monomer unit constituting the polyester resin. 前記ポリエステル樹脂が、当該ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位として、前記脂環構造を有するジオールを含むことを特徴とする請求項3または4に記載の基材フィルム。 The base film according to claim 3 or 4, wherein the polyester resin contains a diol having the alicyclic structure as a monomer unit constituting the polyester resin. 前記脂環構造の環を構成する炭素数が、6以上、14以下であることを特徴とする請求項3~5のいずれか一項に記載の基材フィルム。 The base film according to any one of claims 3 to 5, wherein the number of carbon atoms constituting the ring of the alicyclic structure is 6 or more and 14 or less. 前記ポリエステル樹脂が、当該ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位として、不飽和脂肪酸を二量化してなるダイマー酸を含み、
前記不飽和脂肪酸の炭素数が、10以上、30以下である
ことを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の基材フィルム。
The polyester resin contains a dimer acid obtained by dimerizing an unsaturated fatty acid as a monomer unit constituting the polyester resin,
The base film according to any one of claims 1 to 6, wherein the unsaturated fatty acid has a carbon number of 10 or more and 30 or less.
前記ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位としての全ジカルボン酸に対する、前記ポリエステル樹脂を構成するモノマー単位としての前記ダイマー酸の割合が、2モル%以上、25モル%以下であることを特徴とする請求項7に記載の基材フィルム。 Claim characterized in that the proportion of the dimer acid as a monomer unit constituting the polyester resin with respect to all the dicarboxylic acids as monomer units constituting the polyester resin is 2 mol% or more and 25 mol% or less. 7. The base film according to 7. 前記高分子型帯電防止剤が、高分子化合物を含有し、
前記高分子化合物が、ポリエーテルセグメントを含む重合体である
ことを特徴とする請求項1~8のいずれか一項に記載の基材フィルム。
The polymer type antistatic agent contains a polymer compound,
The base film according to any one of claims 1 to 8, wherein the polymer compound is a polymer containing a polyether segment.
前基材フィルムの少なくとも片面における表面抵抗率が、1×10Ω/□以上、5×1011Ω/□以下であることを特徴とする請求項1~9のいずれか一項に記載の基材フィルム。 The surface resistivity of at least one side of the front base film is 1×10 6 Ω/□ or more and 5×10 11 Ω/□ or less, according to any one of claims 1 to 9. Base film. 前記基材フィルムの厚さが、20μm以上、600μm以下であることを特徴とする請求項1~10のいずれか一項に記載の基材フィルム。 The base film according to any one of claims 1 to 10, wherein the base film has a thickness of 20 μm or more and 600 μm or less. 請求項1~11のいずれか一項に記載の基材フィルムと、
前記基材フィルムの片面側に積層された粘着剤層と
を備えたことを特徴とするワーク加工用シート。
The base film according to any one of claims 1 to 11,
A workpiece processing sheet comprising: an adhesive layer laminated on one side of the base film.
前記ワーク加工用シートが、ダイシングシートであることを特徴とする請求項12に記載のワーク加工用シート。 The workpiece processing sheet according to claim 12, wherein the workpiece processing sheet is a dicing sheet.
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