JP2023128389A - ドープ、フィルム、及びフィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、波長４００ｎｍ付近の光透過抑制性に優れた紫外線吸収剤と、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体とを、光透過抑制性やフィルム外観に悪影響を与えることなく組み合わせる技術を提供することを目的とする。【解決手段】主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と硫黄原子を含む紫外線吸収剤とを含むドープであって、紫外線吸収剤の含有量が、（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、０．５質量部以上６質量部以下であるドープ。【選択図】なし

Description

本発明は、ドープ、フィルム、及びフィルムの製造方法に関するものである。特に、光学フィルム用のドープ、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、及び有機エレクトロルミネセンス表示装置に関する。

近年、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（ＯＬＥＤ）が、スマートフォン、ウェアラブル、ラップトップ、テレビ等の各種用途において広く用いられるようになってきている。有機ＥＬ表示装置においては、表示装置内の有機ＥＬ素子の劣化を抑制するために、有機ＥＬ素子の発光領域（４３０ｎｍよりも長波長側）より短波長側の波長（３８０ｎｍ～４３０ｎｍ）の光の透過を抑制する必要があることが知られている（特許文献１）。このため、有機ＥＬ表示装置に用いる光学フィルムとしても、波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍの光の透過を抑制することが求められている。

光学フィルムの形成には、光学特性、機械的強度、成型加工性、表面硬度等の諸特性のバランスに優れることから（メタ）アクリル系重合体が好適に用いられている。前記（メタ）アクリル系重合体としては、耐熱性が良好なフィルムを形成可能な、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体が知られている。そして、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体を含む組成物からのフィルムの形成は、通常、溶融製膜法にて行われる（特許文献２）。

特開２０２０－１３９１０８号公報 特開２０１５－１４７３５６号公報

しかし、特許文献１で使用されるトリアジン系紫外線吸収剤と、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体とを用いて、特許文献２に開示されるように溶融製膜によりフィルムを形成したところ、波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍ（特に、波長４００ｎｍ）の光の透過を十分に抑制することができなかった。そこで、トリアジン系紫外線吸収剤を、波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍの光透過抑制性に優れた紫外線吸収剤に変えて同様にフィルムを形成したところ、紫外線吸収剤の使用量に見合う所望の光透過抑制性は得られず、また紫外線吸収剤がフィルム表面にブリードアウトすることにより、フィルムの外観不良や成形装置（フィルムロール等）の汚染等の問題が生じた。

本発明は上記のような事情に着目してなされたものであって、その目的は、波長４００ｎｍ付近の光透過抑制性に優れた紫外線吸収剤と、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体とを、光透過抑制性やフィルム外観等に悪影響を与えることなく組み合わせる技術を提供することにある。

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、溶融製膜法ではなく、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と硫黄原子を含む紫外線吸収剤とを特定の割合で含むドープを用いる溶液製膜法によれば、優れた紫外線吸収特性を維持したフィルムを得られること、さらに好ましくは製膜時の紫外線吸収剤のブリードアウトや成形装置汚染等の問題も生じないこと、及びこうした技術は位相差の小さいフィルムにおいて特に有効であることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、以下の構成要件によって特定される。
[１] 主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と硫黄原子を含む紫外線吸収剤とを含むドープであって、
紫外線吸収剤の含有量が、（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、０．５質量部以上６質量部以下であるドープ。
[２] 前記紫外線吸収剤が、下記式（１）で表される化合物を含む[１]に記載のドープ。

［式（１）中、Ｌは２価以上の連結基を表し、ａは２以上の整数を表し、Ａはそれぞれ独立して下記式（２）で示される基を表す。］

［式（２）中、
Ｒ¹はシアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基を表し、
Ｒ²は水素原子、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、アミド基、炭化水素基、又はヘテロアリール基を表し、
Ｒ¹とＲ²がともにアシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基である場合、Ｒ¹とＲ²は互いに連結して環を形成していてもよく、
Ｒ³は水素原子又はアルキル基を表し、
Ｒ⁴は水素原子、有機基、又は極性官能基を表し、複数のＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、
＊は式（１）の連結基Ｌとの結合部位を表す。］
[３] 前記（メタ）アクリル系重合体が主鎖に有する環構造が、ラクトン環構造、グルタルイミド構造、無水グルタル酸構造、無水マレイン酸構造、及びＮ－置換マレイミド構造からなる群から選ばれる少なくとも１種である[１]又は[２]に記載のドープ。
[４] [１]～[３]のいずれかに記載のドープを調製する工程と、調整したドープを支持体上に流延又は塗布後、乾燥する工程とを含むフィルムの製造方法。
[５] 主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と紫外線吸収剤とを含むフィルムであって、
波長４００ｎｍの光透過率が１５％以下であり、
波長５８９ｎｍの光に対する面内位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下であり、且つ波長５８９ｎｍの光に対する厚さ方向位相差Ｒｔｈの絶対値が２０ｎｍ以下であるフィルム。
[６] 内部ヘイズが１．０％以下である[５]に記載のフィルム。
[７] 前記紫外線吸収剤が、下記式（１）で表される化合物を含む[５]又は[６]に記載のフィルム。

［式（１）中、Ｌは２価以上の連結基を表し、ａは２以上の整数を表し、Ａはそれぞれ独立して下記式（２）で示される基を表す。］

［式（２）中、
Ｒ¹はシアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基を表し、
Ｒ²は水素原子、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、アミド基、炭化水素基、又はヘテロアリール基を表し、
Ｒ¹とＲ²がともにアシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基である場合、Ｒ¹とＲ²は互いに連結して環を形成していてもよく、
Ｒ³は水素原子又はアルキル基を表し、
Ｒ⁴は水素原子、有機基、又は極性官能基を表し、複数のＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、
＊は式（１）の連結基Ｌとの結合部位を表す。］
[８] 前記（メタ）アクリル系重合体が主鎖に有する環構造が、ラクトン環構造、グルタルイミド構造、無水グルタル酸構造、無水マレイン酸構造、及びＮ－置換マレイミド構造からなる群から選ばれる少なくとも１種である[５]～[７]のいずれかに記載のフィルム。
[９] [５]～[８]のいずれかに記載のフィルムを含む有機エレクトロルミネセンス表示装置。

本発明によれば、優れた紫外線吸収特性を維持したフィルムを得ることができ、さらに好ましくは製膜時の紫外線吸収剤のブリードアウトや成形装置汚染等の問題も抑制できる。また紫外線吸収特性に優れた、位相差の小さいフィルムを提供することが可能である。

１． ドープ
ドープとは、溶液製膜法によりフィルムに成形される樹脂溶液のことである。
本発明のドープは、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と硫黄原子を含む紫外線吸収剤とを含み、紫外線吸収剤の含有量が（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して０．５質量部以上６質量部以下であることに特徴を有する。

１．１ （メタ）アクリル系重合体
本発明のドープが含有する（メタ）アクリル系重合体は、主鎖に環構造を有する。主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が高く、例えば１１０℃以上である。このため、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体を含有するドープによれば、耐熱性に優れたフィルムを形成することができる。

（メタ）アクリル系重合体は、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、又はこれらの誘導体（以下、これらを総称して（メタ）アクリル系モノマーと称する場合がある）を単量体単位として有する重合体を意味する。
なお、本発明において特に記載がない限り、「（メタ）アクリル酸」はアクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「Ｃ_3-12」は「炭素数３以上１２以下」を意味する。

（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ヘキシル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸アルキル；（メタ）アクリル酸ベンジル等の（メタ）アクリル酸アラルキル（好ましくはメタクリル酸Ｃ_2-20アラルキル）；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル等の（メタ）アクリル酸とヒドロキシ環状飽和炭化水素（好ましくは炭素数が５以上２０以下のヒドロキシ環状飽和炭化水素）とのエステル等が挙げられる。（メタ）アクリル酸エステルとしては、好ましくはメタクリル酸エステルであり、より好ましくはメタクリル酸アルキルであり、さらに好ましくはメタクリル酸Ｃ_1-10アルキルであり、よりさらに好ましくはメタクリル酸Ｃ_1-7アルキルであり、いっそう好ましくはメタクリル酸Ｃ_1-4アルキルであり、特に好ましくはメタクリル酸Ｃ_1-2アルキルである。

（メタ）アクリル酸エステル誘導体としては、ヒドロキシ基導入誘導体、例えば、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６－ペンタヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５－テトラヒドロキシペンチル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル；α－（１－ヒドロキシアルキル）アクリル酸アルキル等が挙げられる。
（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルとしては、（メタ）アクリル酸ヒドロキシＣ_1-20アルキルが好ましく、（メタ）アクリル酸ヒドロキシＣ_1-15アルキルがより好ましく、（メタ）アクリル酸ヒドロキシＣ_1-10アルキルがさらに好ましく、（メタ）アクリル酸ヒドロキシＣ_1-5アルキルがよりさらに好ましい。
α－（１－ヒドロキシアルキル）アクリル酸アルキルとしては、α－（１－ヒドロキシＣ_1-20アルキル）アクリル酸Ｃ_1-20アルキルが好ましく、α－（１－ヒドロキシＣ_1-20アルキル）アクリル酸Ｃ_1-20アルキルには、α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｎ－ブチル、α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｔ－ブチル等のα－（ヒドロキシメチル）アクリル酸Ｃ_1-20アルキル；α－（１－ヒドロキシエチル）アクリル酸メチル等のα－（１－ヒドロキシＣ_2-20アルキル）アクリル酸Ｃ_1-20アルキル等が含まれる。

また（メタ）アクリル酸エステル誘導体としては、クロトン酸メチル等のβ－Ｃ_1-10アルキルアクリル酸Ｃ_1-10アルキル；（メタ）アクリル酸クロロメチル、（メタ）アクリル酸２－クロロエチル等のハロゲン導入誘導体；（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル等のエーテル結合導入誘導体等も含まれる。

（メタ）アクリル酸エステル誘導体としては、好ましくはヒドロキシ基導入誘導体であり、より好ましくはα－（１－ヒドロキシアルキル）アクリル酸アルキルであり、さらに好ましくはα－（１－ヒドロキシＣ_1-20アルキル）アクリル酸Ｃ_1-20アルキルであり、よりさらに好ましくはα－（ヒドロキシメチル）アクリル酸Ｃ_1-20アルキルである。

（メタ）アクリル酸誘導体としては、前記メタクリル酸エステル誘導体のエステル結合を加水分解した化合物、例えば、クロトン酸、α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸、２－（１－ヒドロキシエチル）アクリル酸等のα－ヒドロキシアルキルアクリル酸等が含まれる。

（メタ）アクリル系重合体が単量体単位として有する（メタ）アクリル系モノマーは、単独であってもよく、２種以上の組み合わせであってもよい。（メタ）アクリル系モノマーのうち（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸エステルを必須単位として含むのが好ましく、（メタ）アクリル酸エステル（特にメタクリル酸エステル）を必須単位として含むのがより好ましい。前記必須単位の含有割合は、（メタ）アクリル系重合体中、例えば、３０質量％以上、好ましくは４０質量％以上、より好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは５５質量％以上、よりさらに好ましくは６０質量％以上、特に好ましくは６５質量％以上であり、例えば、９７質量％以下、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下、さらに好ましくは８５質量％以下である。
なお、（メタ）アクリル系重合体における各構成単位の含有割合は、（メタ）アクリル系重合体を重溶媒に溶解させ、¹Ｈ－ＮＭＲを測定して各構成単位に対応するピーク面積比を算出することで求められる。

（メタ）アクリル重合体が主鎖に有する環構造としては、ラクトン環構造、グルタルイミド構造、無水グルタル酸構造、無水マレイン酸構造、及びＮ－置換マレイミド構造からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
なお、主鎖に環構造を有するとは、環構造を形成する炭素原子の少なくとも１つが、（メタ）アクリル系重合体の主鎖に含まれる態様を意味する。

前記ラクトン環構造は、例えば、４員環以上８員環以下であり、環構造の安定性に優れることから５員環又は６員環であることが好ましく、（メタ）アクリル系重合体の主鎖に環構造を形成する炭素原子が２つ以上含まれる場合は６員環であることがより好ましく、（メタ）アクリル系重合体の主鎖に環構造を形成する炭素原子が１つ含まれる場合には５員環であることが好ましい。ラクトン環構造を有する単位としては、例えば、下記式（１Ｘ）に示される構造単位や下記式（１１Ｘ）に示される構造単位が挙げられる。

上記式（１Ｘ）において、Ｒ^1a、Ｒ^2a及びＲ^3aは、互いに独立して、水素原子又は炭素数が１以上２０以下の有機残基であり、当該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。
式（１Ｘ）における有機残基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数が１以上２０以下の飽和脂肪族炭化水素基（アルキル基等）、エテニル基、プロペニル基等の炭素数が２以上２０以下の不飽和脂肪族炭化水素基（アルケニル基等）、フェニル基、ナフチル基等の炭素数が６以上２０以下の芳香族炭化水素基（アリール基等）、これら飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基における水素原子の一つ以上が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エーテル基及びエステル基から選ばれる少なくとも１種の基により置換された基等が挙げられ、アルキル基が好ましい。

上記式（１１Ｘ）におけるＲ^11a、Ｒ^12a、Ｒ^13a及びＲ^14aは、互いに独立して、水素原子又は炭素数が１以上１８以下の炭化水素基であり、Ｘ^aは－（ＣＲ^11aＲ^12a）－と－（ＣＲ^13aＲ^14a）－とを結ぶ単結合、又は－（ＣＲ^15aＲ^16a）－であり、Ｒ^15a、Ｒ^16aは、互いに独立して、水素原子又は炭素数が１以上１８以下の炭化水素基である。
式（１１Ｘ）において、Ｘ^aが単結合の場合、式（１１Ｘ）に示される構造単位は５員環のラクトン環構造を有する態様であり、Ｘ^aが－（ＣＲ^15aＲ^16a）－の場合、式（１１Ｘ）に示される構造単位は６員環のラクトン環構造を有する態様となる。
式（１１Ｘ）における炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数が１以上１８以下の飽和脂肪族炭化水素基（アルキル基等）、エテニル基、プロペニル基等の炭素数が２以上１８以下の不飽和脂肪族炭化水素基（アルケニル基等）、フェニル基、ナフチル基等の炭素数が６以上１８以下の芳香族炭化水素基（アリール基等）が挙げられ、アルキル基が好ましく、炭素数１以上１０以下のアルキル基がより好ましい。

前記無水グルタル酸構造又は前記グルタルイミド構造を有する単位としては、例えば、下記式（２Ｘ）に示される構造単位が挙げられる。下記式（２Ｘ）において、Ｘ¹が酸素原子である場合には無水グルタル酸構造を有する態様となり、Ｘ¹が窒素原子である場合にはグルタルイミド構造と有する態様となる。

上記式（２Ｘ）におけるＲ^4a、Ｒ^5aは、互いに独立して、水素原子又はメチル基であり、Ｘ¹は酸素原子又は窒素原子である。Ｘ¹が酸素原子であるとき、Ｒ^6aは存在せず、Ｘ¹が窒素原子のとき、Ｒ^6aは、水素原子、炭素数が１以上６以下の直鎖アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基）、シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基である。

前記無水マレイン酸構造又は前記Ｎ－置換マレイミド構造を有する単位としては、例えば、下記式（３Ｘ）に示される構造が挙げられる。下記式（３Ｘ）において、Ｘ²が酸素原子である場合には無水マレイン酸構造を有する態様となり、Ｘ²が窒素原子である場合にはＮ－置換マレイミド構造を有する態様となる。

上記式（３Ｘ）におけるＲ^7a、Ｒ^8aは、互いに独立して、水素原子又はメチル基であり、Ｘ²は酸素原子又は窒素原子である。Ｘ²が酸素原子であるとき、Ｒ^9aは存在せず、Ｘ²が窒素原子のとき、Ｒ^9aは、水素原子、炭素数が１以上６以下の直鎖アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基）、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基又はフェニル基である。

（メタ）アクリル系重合体が主鎖に有する環構造の含有割合は、（メタ）アクリル系重合体中、例えば、１質量％以上、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上であり、例えば、７０質量％以下、好ましくは５０質量％以下であり、より好ましくは４５質量％以下である。（メタ）アクリル系重合体が主鎖に有する環構造の含有割合が前記範囲内であれば、重合体の耐熱性を向上させながら、フィルムの位相差も良好とできるため好ましい。なお、環構造の質量は、環の構成元素と当該構成元素に結合する主鎖以外の基との合計質量を意味する。例えば、上記式（１Ｘ）に示される構造単位においては、環の構成元素としての５つの炭素元素と１つの酸素元素、及び環の構成元素に結合する主鎖以外の基としての－Ｒ^1a、－ＣＯＯＲ^2a、－Ｒ^3a、＝Ｏ、及び３つの－Ｈの合計質量が環構造の質量を意味する。

（メタ）アクリル系重合体が主鎖に有する環構造は、例えば、下記（ｉ）又は（ｉｉ）の方法で導入することが可能である。
（ｉ） （メタ）アクリル系モノマーと、共重合により主鎖に環構造を形成可能なモノマーとを共重合することにより導入
（ｉｉ） （メタ）アクリル酸系モノマーを含む単量体組成物を重合した後に、環化反応することにより導入

前記共重合により主鎖に環構造を形成可能なモノマーとしては、例えば、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル等のマレイン酸系モノマー；マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系モノマー；α－メチレン－γ－ブチロラクトン、α－メチレン－４－メチル－γ－ブチロラクトン、α－メチレン－３－メチル－γ－ブチロラクトン、α－メチレン－４，４－ジメチル－γ－ブチロラクトン、α－メチレン－δ－バレロラクトン等のラクトン環含有モノマー；等が挙げられる。
前記マレイン酸系モノマーを用いれば、（メタ）アクリル系樹脂の主鎖に無水マレインに由来する構造を導入することができ、前記マレイミド系モノマーを用いれば、（メタ）アクリル系樹脂の主鎖にＮ－置換マレイミドに由来する構造を導入することができ、前記ラクトン環含有モノマーを用いれば、主鎖に（メチレン）ラクトン環構造を導入することができる。
（ｉ）の方法で環構造を導入する場合、共重合により主鎖に環構造を形成可能なモノマーは、（メタ）アクリル系重合体中、好ましくは１質量％以上、より好ましくは５質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上であり、例えば、７０質量％以下、好ましくは６０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下である。

（ｉｉ）の方法で環構造を導入する方法としては、例えば、下記（ｉｉ－１）～（ｉｉ－３）の方法が挙げられる。
（ｉｉ－１） α－（１－ヒドロキシアルキル）アクリル酸アルキル等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリル系モノマーＡを単独重合して、又は前記ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル系モノマーＡと、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル系モノマーＢとを共重合して分子鎖にヒドロキシ基とエステル基又はカルボキシル基とを導入した後、これらヒドロキシ基とエステル基又はカルボキシル基との間で脱アルコール又は脱水環化縮合を生じさせることによりラクトン環構造を導入する
（ｉｉ－２） （メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸との共重合体において、分子内で脱アルコール環化縮合を生じさせることにより無水グルタル酸構造を導入する
（ｉｉ－３） （メタ）アクリル酸エステル重合体において、メチルアミン等のイミド化剤によりイミド化を生じさせることによりグルタルイミド構造を導入する

（ｉｉ－１）の方法で環構造を導入する場合、前記ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル系モノマーＡとしては、前述の（メタ）アクリル酸エステル誘導体としてのヒドロキシ基導入誘導体が挙げられ、その好ましい態様も同様である。また前記（メタ）アクリル系モノマーＢとしては、前述の（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルが挙げられ、その好ましい態様も同様である。ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル系モノマーＡと（メタ）アクリル系モノマーＢとを共重合する場合、ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル系モノマーＡの含有割合は、（メタ）アクリル系モノマーＢ１００質量部に対して、例えば、１質量部以上、好ましくは５質量部以上、より好ましくは８質量部以上、さらに好ましくは１０質量部以上であり、例えば、５０質量部以下、好ましくは４０質量以下、より好ましくは３０質量以下である。

（メタ）アクリル系重合体は、前記（メタ）アクリル系モノマー及び共重合により主鎖に環構造を形成可能なモノマー以外の他のモノマーを共重合することによって導入される構成単位を有していてもよい。このような他のモノマーとしては、重合性二重結合を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α－メチルスチレン、α－ヒドロキシメチルスチレン、α－ヒドロキシエチルスチレン等のスチレン系モノマー；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等のビニルエステル系モノマー；フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステル及びジアルキルエステル等のフマル酸系モノマー；Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカルバゾール等の含窒素複素環系ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニルニトリル類；メタリルアルコール、アリルアルコール等のビニルアルコール類；エチレン、プロピレン、４－メチル－１－ペンテン等のオレフィン類；２－ヒドロキシメチル－１－ブテン；メチルビニルケトン；等が挙げられる。他のモノマーとしては、スチレン系モノマー、含窒素複素環系ビニル化合物が好ましく、スチレン系モノマーがより好ましい。他のモノマーとしては、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。他のモノマーとしてスチレン系モノマー等の側鎖に環構造を有するモノマーを用いることにより、フィルムの位相差を良好とすることも可能である。また環構造を有さないモノマーも、位相差の調節に適宜使用できる。

他のモノマーは、（メタ）アクリル系重合体中、例えば、０質量％以上、好ましくは１質量％以上であり、例えば、５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下、よりさらに好ましくは５質量％以下である。

（メタ）アクリル系重合体の全構成単位における、（メタ）アクリル系モノマーに由来する構成単位（すなわち、（メタ）アクリル酸単位、（メタ）アクリル酸エステル単位、及びこれらの誘導体単位に由来する構成単位）の合計含有割合は、フィルムの透明性の点から、４０質量％以上が好ましく、より好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは５５質量％以上、よりさらに好ましくは６０質量％以上である。上限としては、例えば、１００質量％以下である。

（メタ）アクリル系重合体の製造方法としては、塊状重合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合のいずれでもよいが、安全性が高く、異物混入の恐れが低い点で、溶液重合が好ましい。また、重合制御の容易性の点で、モノマーを分散安定剤の存在下で懸濁重合することも好ましい。

重合反応後に環化反応を行う場合、環化反応は、環化触媒の存在下で行うことが好ましい。環化触媒としては、酸、塩基及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。酸、塩基及びそれらの塩は有機物であっても無機物であってもよく、特に限定されない。なかでも、環化反応の触媒としては、有機リン化合物、又はアルカリ金属を有する化合物を用いることが好ましい。有機リン化合物、アルカリ金属を有する化合物を環化触媒として用いることにより、環化縮合反応を効率的に行うことができるとともに、得られるドープの着色を低減することができる。

溶液重合反応後（必要により環化反応後）は、脱揮工程を含む後処理を行うことが好ましい。
脱揮工程とは、溶媒、残存モノマー等の揮発分を除去する処理工程をいう。脱揮が不十分であると、（メタ）アクリル系重合体中の残存揮発分が多く、成形時に発泡が生じて成形不良となる恐れがある。

脱揮に使用する装置は特に限定されないが、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる装置、ベント付押出機等が使用でき、乾燥機を使用してもよい。

脱揮にベント付押出機を用いる場合、押出機は、シリンダと、シリンダ内に設けられたスクリューとを有し、加熱手段を備えていることが好ましい。シリンダには、ベントが１つ又は複数設けられていることが好ましく、ベントは、押出機内の移送方向に対して、少なくとも原料投入部の下流側に設けられることがより好ましく、原料投入部の上流側にも設けられてもよい。押出機内に供給された重合体を、スクリューで混練しながら押出機の上流側から下流側へ移送される過程で脱揮が進む。押出機の下流側にはダイスが設けられていることが好ましく、ダイスから重合体を吐出することにより、所定の形状に成形することができる。例えば、棒状に成形された重合体を細かく切断すれば、ペレットを製造することができる。また押出機のダイス部には、ポリマーフィルターが設けられることが好ましい。

脱揮処理温度は、１５０℃～３５０℃の範囲が好ましく、２００℃～３００℃の範囲がより好ましい。脱揮処理温度が１５０℃より低いと、脱揮が不充分となり残存揮発分が多くなるという問題があり、３５０℃より高いと、着色や分解が起こるという問題があるために好ましくない。脱揮処理時の減圧度は、１３．３ｈＰａ以上（例えば、１３．３ｈＰａ～８００ｈＰａ程度）が好ましい。

懸濁重合反応後は、（メタ）アクリル系重合体を含有する懸濁液を固液分離することにより、（メタ）アクリル系重合体を粒子（粉体）として回収することが好ましい。固液分離の方法としては、濾過、遠心分離、噴霧乾燥等による液体の乾燥、及びそれらの組み合わせから最適な方法を選択でき、必要に応じて凝集剤を用いてもよい。また、固液分離した（メタ）アクリル系重合体の粒子は、熱風乾燥機等の乾燥機を用いて乾燥することが好ましい。

本発明のドープは、本発明による効果を損なわない範囲で、上記の主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体以外のその他の重合体を含んでいてもよい。

その他の重合体としては、例えば、主鎖に環構造を有さない（メタ）アクリル系重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン－プロピレン重合体、ポリ（４－メチル－１－ペンテン）等のオレフィン系重合体；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系重合体；ポリスチレン、スチレン－メタクリル酸メチル共重合体、スチレン－アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシペンジレン；ポリアミドイミド；シクロオレフィンポリマー；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースプピオネート等のセルロース誘導体；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴム等の弾性有機微粒子；（メタ）アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；等が挙げられる。特に環構造を有さない重合体や側鎖に環構造を有する重合体は、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体を含むフィルムにおいて位相差を調整可能であるため、これら他の重合体の含有割合を適宜制御することによって、得られるフィルムの位相差を小さくすることが可能である。
ドープ中において、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体以外の重合体の合計含有量は、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、１００質量部以下が好ましく、４０質量部以下がより好ましく、１０質量部以下がさらに好ましく、５質量部以下がよりさらに好ましく、０質量部であってもよい。

主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、例えば、８．０万以上、好ましくは１０．０万以上、より好ましくは１０．５万以上、さらに好ましくは１１．０万以上であり、例えば、５０万以下、好ましくは４０．０万以下、より好ましくは３５．０万以下である。主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体の重量平均分子量が前記範囲内にあることにより、フィルムとして必要な強度を維持しながら、成形時の流動性も良好なドープを得ることができる。

主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、３．０万以上、好ましくは３．５万以上、より好ましくは４．０万以上であり、例えば、２５．０万以下、好ましくは２２．５万以下、より好ましくは２０．０万以下である。主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体の数平均分子量が前記範囲内にあることにより、フィルムとして必要な強度を維持しながら、成形時の流動性も良好なドープを得ることができる。

主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体は、１１０℃以上にガラス転移温度を有することが好ましい。１１０℃以上にガラス転移温度を有することにより、耐熱性に優れるものである。主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体は、１１０℃以上にガラス転移温度を複数有していてもよい。主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体が有するガラス転移温度は、より好ましくは１１５℃以上であり、さらに好ましくは１２０℃以上である。成形時の加工性を高める観点からは、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体が有するガラス転移温度は、３００℃未満が好ましく、２００℃以下がより好ましく、１８０℃以下がさらに好ましい。
主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体が有するガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＪＩＳ Ｋ７１２１の規定に準拠して、始点法により求めることができる。

１．２ 紫外線吸収剤
本発明のドープが含有する紫外線吸収剤は、硫黄原子を含む。硫黄原子を含む紫外線吸収剤としては、硫黄原子を含むことにより、紫外～紫色領域にシャープな吸収ピークを示し、また波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍの光の透過抑制性にも優れ、特に波長４００ｎｍ付近の光の透過抑制性に優れる紫外線吸収剤が好ましい。

本発明の硫黄原子を含む紫外線吸収剤としては、例えば、下記式（１）で表される化合物が挙げられる。

［式（１）中、Ｌは２価以上の連結基を表し、ａは２以上の整数を表し、Ａはそれぞれ独立して下記式（２）で示される基を表す。］

［式（２）中、
Ｒ¹はシアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基を表し、
Ｒ²は水素原子、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、アミド基、炭化水素基、又はヘテロアリール基を表し、
Ｒ¹とＲ²がともにアシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基である場合、Ｒ¹とＲ²は互いに連結して環を形成していてもよく、
Ｒ³は水素原子又はアルキル基を表し、
Ｒ⁴は水素原子、有機基、又は極性官能基を表し、複数のＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、
＊は式（１）の連結基Ｌとの結合部位を表す。］

式（２）で表される基Ａにおいて、Ｒ¹（又はＲ²）はＲ³に対して、シス位にあってもよく、トランス位にあってもよい。

Ｒ¹及びＲ²のアシル基（アルカノイル基）としては、メタノイル基、エタノイル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、ノナデカノイル基、エイコサノイル基等が挙げられる。アシル基は、水素原子の一部が、アリール基、アルコキシ基、ハロゲノ基、水酸基等で置換されていてもよい。前記アシル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。アシル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、２～２１が好ましく、より好ましくは２～１１であり、さらに好ましくは２～６である。

Ｒ¹及びＲ²のカルボン酸エステル基は、式：＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ¹¹で表され、＊は式（２）のエチレン二重結合の炭素原子への結合部位を表す。当該式中、Ｒ¹¹は炭化水素基を表し、好ましくはアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。

Ｒ¹¹のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の直鎖状又は分岐状のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の環状（脂環式）アルキル基等が挙げられる。アルキル基は、水素原子の一部が、アルコキシ基、アリール基、シアノ基、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基等で置換されていてもよい。アルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は１～２０が好ましく、具体的には、直鎖状又は分岐状のアルキル基であれば炭素数１～２０が好ましく、より好ましくは１～１０であり、さらに好ましくは１～５であり、環状のアルキル基であれば炭素数４～１０が好ましく、５～８がより好ましい。

Ｒ¹¹のアリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、インデニル基等が挙げられる。アリール基は、水素原子の一部が、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基等で置換されていてもよい。アリール基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、６～２０が好ましく、より好ましくは６～１２である。

Ｒ¹¹のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。アラルキル基に含まれるアリール基は、水素原子の一部が、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基等で置換されていてもよい。アラルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、７～２５が好ましく、より好ましくは７～１５である。

Ｒ¹及びＲ²のアミド基は、式：＊－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ¹²Ｒ¹³で表され、＊は式（２）のエチレン二重結合の炭素原子への結合部位を表す。当該式中、Ｒ¹²は水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ¹³は炭化水素基を表し、好ましくはアルキル基、アシル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｒ¹²とＲ¹³のアルキル基、Ｒ¹³のアシル基とアリール基とアラルキル基の具体例は、上記のＲ¹¹のアルキル基、アリール基、アラルキル基、及びＲ¹とＲ²のアシル基の説明が参照される。

Ｒ¹とＲ²がともにアシル基である場合、Ｒ¹とＲ²は互いに連結して環を形成していてもよく、この場合のＲ¹とＲ²から形成される基としては、式：＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ¹⁴－Ｃ（＝Ｏ）－＊で表される基が示される。当該式中、Ｒ¹⁴は直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表し、＊は式（２）のエチレン二重結合の炭素原子への結合部位を表す。アルキレン基は、水素原子の一部が、アリール基、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基等で置換されていてもよい。Ｒ¹⁴のアルキレン基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、２～１０が好ましく、３～８がより好ましい。Ｒ¹とＲ²のアシル基が互いに連結することにより形成される基（環状基）としては、例えば、下記式（３－１）に示される基が挙げられる。

Ｒ¹とＲ²がともにカルボン酸エステル基である場合、Ｒ¹とＲ²は互いに連結して環を形成していてもよく、この場合のＲ¹とＲ²から形成される基としては、式：＊－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ¹⁵－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－＊で表される基が示される。当該式中、Ｒ¹⁵は直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表し、＊は式（２）のエチレン二重結合の炭素原子への結合部位を表す。アルキレン基は、水素原子の一部が、アリール基、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基等で置換されていてもよい。Ｒ¹⁵のアルキレン基の炭素数（置換基を除く炭素数）は１～８が好ましく、１～６がより好ましい。Ｒ¹とＲ²のカルボン酸エステル基が互いに連結することにより形成される基（環状基）としては、例えば下記式（３－２）に示される基が挙げられる。

Ｒ¹とＲ²がともにアミド基である場合、Ｒ¹とＲ²は互いに連結して環を形成していてもよく、この場合のＲ¹とＲ²から形成される基としては、式：＊－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ¹⁶－Ｒ¹⁷－ＮＲ¹⁸－Ｃ（＝Ｏ）－＊で表される基が示される。当該式中、Ｒ¹⁶とＲ¹⁸は、水素原子又は炭化水素基を表し、Ｒ¹⁷は直鎖状または分岐状のアルキレン基、又はカルボニル基を表し、＊は式（２）のエチレン二重結合の炭素原子への結合部位を表す。Ｒ¹⁶とＲ¹⁸の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基が好ましく挙げられる。Ｒ¹⁶とＲ¹⁸のアルキル基とアリール基とアラルキル基の具体例は、上記のＲ¹¹のアルキル基、アリール基およびアラルキル基の説明が参照される。Ｒ¹⁷のアルキレン基は、水素原子の一部が、アリール基、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基等で置換されていてもよい。Ｒ¹⁷のアルキレン基の炭素数（置換基を除く炭素数）は１～８が好ましく、１～６がより好ましい。Ｒ¹とＲ²のアミド基が互いに連結することにより形成される基（環状基）としては、例えば、下記式（３－３）と式（３－４）に示される基が挙げられる。

Ｒ¹のハロゲノアルキル基としては、上記に説明したＲ¹¹のアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置き換わったものが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

Ｒ²の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基（アリール基）が挙げられる。脂肪族炭化水素基は、飽和と不飽和のいずれであってもよく、また直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。脂肪族飽和炭化水素基の具体例は、上記のＲ¹¹のアルキル基に関する説明が参照され、脂肪族不飽和炭化水素基の具体例は、上記に説明したＲ¹¹のアルキル基の炭素－炭素単結合の一部が二重結合または三重結合に置き換わったものが挙げられる。芳香族炭化水素基（アリール基）の具体例は、上記のＲ¹¹のアリール基に関する説明が参照される。Ｒ²の炭化水素基としては、アリール基が好ましい。

Ｒ²のヘテロアリール基としては、チエニル基、チオピラニル基、イソチオクロメニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、ピラニル基等が挙げられる。なおヘテロアリール基は、炭素原子が式（２）のエチレン二重結合の炭素原子に結合していることが好ましく、ヘテロ原子に隣接する炭素原子が式（２）のエチレン二重結合の炭素原子に結合していることがより好ましく、これにより化合物の合成が容易になる。ヘテロアリール基の炭素数は、３～１８が好ましく、より好ましくは４～１２である。

式（２）において、Ｒ²は水素原子、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基であることが好ましく、これにより、紫外～紫色領域の光を効果的に吸収しやすくなる。また波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍの光を効果的に吸収しやすくする点から、Ｒ²は水素原子ではない、つまりシアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基であることが好ましい。

式（２）において、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に、アシル基、カルボキシル基、又はカルボン酸エステル基であることが好ましい。

式（２）のＲ³は水素原子又はアルキル基を表し、アルキル基の具体例は、上記のＲ¹¹のアルキル基に関する説明が参照される。Ｒ³のアルキル基は、好ましくは炭素数１～３であり、より好ましくは炭素数１～２である。Ｒ³としては水素原子が特に好ましい。

式（２）で表される基Ａにおいて、エチレン構造部に結合したベンゼン環は、当該ベンゼン環に結合した硫黄原子とともにエチレン構造部に電子を供与するように機能する。当該ベンゼン環に結合するＲ⁴は水素原子、有機基、又は極性官能基を表し、複数のＲ⁴は互いに同一または異なっていてもよい。

式（２）のＲ⁴の有機基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリール基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、カルボキシ基（カルボン酸基）、シアノ基等が挙げられる。Ｒ⁴の極性官能基としては、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基、スルホ基（スルホン酸基）等が挙げられる。

Ｒ⁴のアルキル基の具体例は、上記のＲ¹¹のアルキル基に関する説明が参照される。Ｒ⁴のアルキル基は置換基を有していてもよく、当該アルキル基が有する置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲノ基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基等が挙げられる。

Ｒ⁴のアルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基に含まれるアルキル基の具体例は、Ｒ⁴のアルキル基に関する説明が参照される。

Ｒ⁴のアリール基とアラルキル基の具体例は、上記のＲ¹¹のアリール基とアラルキル基に関する説明が参照される。Ｒ⁴のアリール基或いはアラルキル基に含まれるアリール基は置換基を有していてもよく、当該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヘテロアリール基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。

Ｒ⁴のアリールオキシ基、アリールチオ基、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基に含まれるアリール基の具体例は、Ｒ⁴のアリール基に関する説明が参照される。

Ｒ⁴のヘテロアリール基の具体例は、上記のＲ²のヘテロアリール基に関する説明が参照される。ヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、ヘテロアリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。

Ｒ⁴のアミノ基としては、式：－ＮＲ²¹Ｒ²²で表され、Ｒ²¹およびＲ²²がそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基の具体例は上記の説明が参照され、アルケニル基とアルキニル基としては、上記に説明したアルキル基の炭素－炭素単結合の一部が二重結合または三重結合に置き換わった置換基が挙げられ、これらの置換基は水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。また、Ｒ²¹とＲ²²は互いに連結して環を形成していてもよい。

Ｒ⁴のアミド基としては、式：－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ²³で表され、Ｒ²³がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基の具体例は上記の説明が参照され、水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。

Ｒ⁴のスルホンアミド基としては、式：－ＮＨ－ＳＯ₂－Ｒ²⁴で表され、Ｒ²⁴がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるもの等が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基の具体例は上記の説明が参照され、水素原子の一部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。

Ｒ⁴のハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。

Ｒ⁴としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリールオキシ基、及びアリールチオ基から選ばれる１種以上であることが好ましい。式（１）で表される化合物が安定して紫外～紫色領域の光を吸収し、また波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍの光を効果的に吸収できるようにする観点からは、Ｒ⁴は水素原子又はアルキル基であることが好ましく、当該アルキル基は炭素数１～４が好ましく、１～３がより好ましい。なかでも、式（２）の基Ａのベンゼン環に結合する４つのＲ⁴のうち、２つ以上が水素原子であることが好ましく、３つ以上が水素原子であることがより好ましく、４つ全部が水素原子であることが特に好ましい。

式（２）で表される基Ａにおいて、硫黄原子は、エチレン構造部に対してオルト位に結合していてもよく、メタ位に結合していてもよく、パラ位に結合していてもよい。なお式（１）で表される化合物の製造容易性の観点からは、硫黄原子はエチレン構造部に対してパラ位に結合していることが好ましい。

式（１）において、連結基Ｌには２以上の基Ａが結合している。連結基Ｌに２以上の基Ａが結合することにより、式（１）で表される化合物の耐熱性を高めることができる。連結基Ｌに結合する２以上の基Ａは、互いに同一であっても異なっていてもよい。式（１）の連結基Ｌに結合する基Ａの数ａは、８以下が好ましく、６以下がより好ましく、４以下がさらに好ましい。安定性の高い式（１）で表される化合物を容易に製造できる点からは、ａは３以下がより好ましく、２であることが特に好ましい。

連結基Ｌとしては、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ₂－、－ＮＨ－等の２価の連結基；アルキル基を有していてもよいメチン基（－Ｃ＜）、－Ｎ＜等の３価の連結基；＞Ｃ＜等の４価の連結基；およびこれらを組み合わせた連結基が挙げられる。アルキレン基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。また、アルキレン基とアリーレン基は、水酸基及び／又はチオール基を有していてもよい。

連結基Ｌとしては、例えば下記式（４－１）～式（４－１７）に示される基が挙げられる。式（４－１）～式（４－１７）において、＊は基Ａの結合部位を表す。式（４－１）～式（４－９）の連結基Ｌには２つの基Ａが結合し、式（４－１０）～式（４－１３）の連結基Ｌには３つの基Ａが結合し、式（４－１４）～式（４－１５）の連結基Ｌには４つの基Ａが結合し、式（４－１６）には５つの基Ａが結合し、式（４－１７）には６つの基Ａが結合する。

式（１）で表される化合物の安定性を高める観点からは、連結基Ｌは、水素原子の一部が水酸基及び／又はチオール基で置き換えられていてもよいアルキレン基、水素原子の一部が水酸基及び／又はチオール基で置き換えられていてもよいアリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、及びこれらの基を組み合わせた連結基が好ましい（ただし、エーテル結合およびチオエーテル結合は連続しない）。また、直鎖状又は分岐状のアルキレン基の炭素数（連続する炭素数）は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下がさらに好ましい。環状のアルキレン基であれば、炭素数は４以上が好ましく、５以上がより好ましく、また１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。アリーレン基の炭素数は、５以上が好ましく、６以上がより好ましく、また１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。連結基Ｌとしては、特に好ましくは式（４－６）に示される基である。

式（１）で表される化合物としては、下記式（５）で表される化合物が特に好ましく示される。このような化合物は、例えば、波長３００ｎｍ～４２０ｎｍの範囲に吸収極大を有するピークを有し、また波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍの光を効果的に吸収できるとともに、安定性に優れるものとなり、製造が容易になる。下記式（５）において、Ｒ^1xとＲ^1yの説明は上記のＲ¹の説明が参照され、Ｒ^2xとＲ^2yの説明は上記のＲ²の説明が参照され、Ｒ^3xとＲ^3yの説明は上記のＲ³の説明が参照される。

また、本発明の硫黄原子を含む紫外線吸収剤としては、例えば、下記式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。

［式（Ｉ）中、
Ｒ^A1及びＲ^A3はそれぞれ独立に有機基を表し、
Ｒ^A2は水素原子、有機基、又は極性官能基を表し、複数のＲ^A2は互いに同一又は異なっていてもよい。］

式（Ｉ）のＲ^A1、Ｒ^A2、及びＲ^A3の有機基の具体例は、上記式（２）のＲ⁴の有機基に関する説明が参照される。

Ｒ^A1としては、アリール基が好ましく、置換基を有するアリール基がより好ましい。Ｒ^A1のアリール基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、６～１２が好ましく、６～１０がさらに好ましい。Ｒ^A1のアリール基が置換基を有する場合、当該置換基としては、アルキル基又は水酸基が好ましく、置換基としての当該アルキル基は、水素原子の一部が、アルコキシ基、アリール基、水酸基、カルボン酸エステル基で置換されていてもよい。当該アルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～８がよりさらに好ましい。Ｒ^A1のアリール基が置換基を有する場合、水酸基を１つ以上置換基として有することが好ましく、下記式（ＩＡ１）で示される基がより好ましい。

［式（ＩＡ１）中、
Ｒ^A11及びＲ^A12は水素原子又はアルキル基を表し、
＊は式（Ｉ）の窒素原子への結合部位を表す。］

Ｒ^A11及びＲ^A12のアルキル基の具体例は、上記のＲ¹¹のアルキル基に関する説明が参照される。Ｒ^A11及びＲ^A12のアルキル基としては、炭素数１以上８以下の直鎖状アルキル基又は炭素数３以上１０以下の分岐状アルキル基が好ましい。

Ｒ^A3としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又はヘテロアリール基が好ましく、アルキル基又はアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。Ｒ^A3のアルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、１～１８が好ましく、３～１２がさらに好ましい。Ｒ^A3のアルキル基は直鎖状であることが好ましい。

Ｒ^A2の極性官能基の具体例は、上記式（２）のＲ⁴の極性官能基に関する説明が参照される。

Ｒ^A2としては、水素原子であることが好ましく、なかでも、式（ＩＡ１）中の３つのＲ^A2のうち、２つ以上が水素原子であることが好ましく、３つ全部が水素原子であることがより好ましい。

硫黄原子を含む紫外線吸収剤としては、上記式（１）で表される化合物又は上記式（Ｉ）で表される化合物が好ましく、式（１）で表される化合物がより好ましい。

硫黄原子を含む紫外線吸収剤は、トルエン中で測定した波長３００ｎｍ～６００ｎｍの範囲（好ましくは３００ｎｍ～７００ｎｍの範囲であり、より好ましくは３００ｎｍ～８００ｎｍの範囲）の吸収スペクトルにおいて、波長４２０ｎｍ以下に最大吸収ピークを有することが好ましい。すなわち硫黄原子を含む紫外線吸収剤は、トルエン中で吸収スペクトルを測定したとき、波長３００ｎｍ～４２０ｎｍの範囲に吸収極大を有するピークを有し、且つ当該吸収ピークの吸収極大が波長３００ｎｍ～６００ｎｍの範囲で最大値をとることが好ましい。このような吸収スペクトルを示す化合物であれば、紫外～紫色領域の光を効果的に吸収できる。前記吸収ピークの極大波長は、３１０ｎｍ以上がより好ましく、３１５ｎｍ以上がさらに好ましく、また４１０ｎｍ以下がより好ましく、４０５ｎｍ以下がさらに好ましい。

硫黄原子を含む紫外線吸収剤は、前記最大吸収ピークの極大波長における吸光度を１としたときに、当該吸収ピークの吸光度０．５におけるピーク幅が１００ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下がさらに好ましい。化合物がこのような吸収スペクトルを示せば、紫外～紫色領域の光を選択的に吸収できるものとなる。当該ピーク幅の下限値は特に限定されないが、例えば、２０ｎｍ以上であってもよく、３０ｎｍ以上であってもよい。

硫黄原子を含む紫外線吸収剤は、前記最大吸収ピークの極大波長における吸光度を１としたときに、波長４００ｎｍにおける吸光度が、０．１以上であることが好ましく、０．１５以上であることがより好ましい。硫黄原子を含む紫外線吸収剤がこのような吸収スペクトルを示せば、波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍの光を効果的に吸収できる。

硫黄原子を含む紫外線吸収剤は、前記最大吸収ピークの極大波長における吸光度を１としたときに、波長４７０ｎｍ～６００ｎｍの範囲（好ましくは波長４５０ｎｍ～７００ｎｍの範囲）の平均吸光度が０．０３以下であることが好ましく、０．０２以下がより好ましく、０．０１以下がさらに好ましい。このような吸収スペクトルを示せば、可視光領域の広い範囲において、光透過率を高めることができる。

吸収スペクトルは、所定の波長範囲で測定ピッチ１ｎｍ毎に吸光度を測定することにより求める。測定ピッチ（１ｎｍ）未満における波長の吸光度の値は、１ｎｍピッチの吸光度の測定値から線形補間することにより算出する。トルエン中の紫外線吸収剤の濃度は、最大吸収ピークの吸収極大における吸光度が１±０．００３となるように調整する。波長４７０ｎｍ～６００ｎｍの範囲の平均吸光度は、波長４７０ｎｍ～６００ｎｍの範囲において１ｎｍピッチで測定した１３１点の吸光度の値を平均することにより求める。

硫黄原子を含む紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾオキサジノン誘導体、トリアジン誘導体等でもよい。

ドープに含まれる硫黄原子を含む紫外線吸収剤は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

本発明の硫黄原子を含む紫外線吸収剤であれば、ドープ中の紫外線吸収剤の含有量が、（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して６質量部以下であっても、溶液製膜法にて波長３８０ｎｍ～４３０ｎｍ（特に、波長４００ｎｍ）の光透過抑制性に優れたフィルムを形成可能である。また、ドープ中の紫外線吸収剤の含有量が６質量部以下と少ないため、フィルム形成時に紫外線吸収剤がブリードアウトすることもなく、内部ヘイズも低減できるため、フィルムの外観不良や成形装置（フィルムロール等）の汚染も生じないものである。

１．３ 溶媒
本発明のドープは、溶媒を含んでいることが好ましい。本発明のドープにおいて、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と硫黄原子を含む紫外線吸収剤は、溶媒に溶解又は分散していることが好ましい。

ドープに含まれる溶媒としては、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と硫黄原子を含む紫外線吸収剤とを溶解又は分散することができる溶媒である限り特に限定されず、塩素系有機溶媒、非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができるが、（メタ）アクリル系重合体の溶解性に優れる点から塩素系有機溶媒を用いることが好ましい。溶媒は、１種のみを有していてもよいし、２種以上を有していてもよい。塩素系有機溶媒と非塩素系溶媒とを用いる場合、溶媒全量中、塩素系有機溶媒の含有量が５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、上限は特にないが、９９質量％以下であってもよい。

塩素系有機溶媒としては、例えば、ジクロロエタン、塩化メチレン、クロロホルム等が挙げられ、塩化メチレンが特に好ましい。非塩素系有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓ－ブタノール、ｔ－ブタノール、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキソラン、１，４－ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３－ヘキサフルオロ－１－プロパノール、１，３－ジフルオロ－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－メチル－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、γ－ブチロラクトン、ニトロエタン等が挙げられる。

主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体のドープ中の含有量は、特に限定されず、使用する溶媒に対する（メタ）アクリル系重合体の溶解性、分散性、及び製膜実施条件等を考慮して決定することができるが、好ましくは３質量％以上４０質量％以下、より好ましくは５質量％以上３８質量％以下、さらに好ましくは８質量％以上３５質量％以下である。

硫黄原子を含む紫外線吸収剤のドープ中含の有量は、所望の性能を発現させる点から、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、好ましくは０．５質量部以上６質量部以下、より好ましくは０．８質量部以上５．０質量部以下、さらに好ましくは１．０質量部以上４．５質量部以下の範囲内である。

１．４ その他の添加剤
本発明のドープは、本発明の効果を損なわない範囲であれば、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、上記硫黄原子を含む紫外線吸収剤以外の公知の紫外線吸収剤；フェノール系酸化防止剤（例えば、ヒドロキノン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、トコフェロール、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン等）、リン系酸化防止剤（例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト等）、イオウ系酸化防止剤（例えば、２－メルカプトベンズイミダゾール、ジラウリル３，３’－チオジプロピオネート等）等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；位相差上昇剤、位相差低減剤、位相差安定剤等の位相差調整剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤を含む帯電防止剤；相溶化剤；安定化剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー（例えば、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機粒子）；樹脂改質剤；等が挙げられる。ドープ中の各添加剤の含有量は、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、好ましくは０質量部以上５質量部以下、より好ましくは０質量部以上２質量部以下、さらに好ましくは０質量部以上１質量部以下の範囲内である。

硫黄原子を含む紫外線吸収剤以外の紫外線吸収剤（以下、その他の紫外線吸収剤とも称する）としては、硫黄原子を含まない公知の紫外線吸収剤であればよいが、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物等が挙げられる。
ベンゾフェノン系化合物としては、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、４－ｎ－オクチルオキシ－２－ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
サリシレート系化合物としては、ｐ－ｔ－ブチルフェニルサリシレート等が挙げられる。
ベンゾエート系化合物としては、２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
トリアゾール系化合物としては、２，２’－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－ｐ－クレゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、２－ベンゾトリアゾール－２－イル－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、２－［５－クロロ（２Ｈ）－ベンゾトリアゾール－２－イル］－４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ジ－ｔ－ブチルフェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール等が挙げられる。
トリアジン系化合物としては、２－［４，６－ビス（ビフェニル－４－イル）－１，３，６－トリアジ－２－イル］－５－［（２－エチルヘキシル）オキシ］フェノール、２－モノ（ヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリアジン化合物、２，４－ビス（ヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリアジン化合物、２，４，６－トリス（ヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリアジン化合物等が挙げられる。
市販のその他の紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤であるチヌビン（登録商標）１５７７、チヌビン（登録商標）４６０、チヌビン（登録商標）４７７（ＢＡＳＦジャパン社製）、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ－Ｆ７０（ＡＤＥＫＡ社製）、トリアゾール系紫外線吸収剤であるアデカスタブ（登録商標）ＬＡ－３１（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
その他の紫外線吸収剤は、１種のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。

その他の紫外線吸収剤を含有する場合、硫黄原子を含む紫外線吸収剤とその他の紫外線吸収剤との含有量比（硫黄原子を含む紫外線吸収剤：その他の紫外線吸収剤）は、１：０．０１～１：１が好ましく、１：０．０５～１：０．８がより好ましい。

１．５ ドープの調製
本発明のドープは、溶媒中に、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体及び硫黄原子を含む紫外線吸収剤、並びに必要に応じてその他の重合体や添加剤を溶解又は分散することにより調製できる。溶媒への溶解又は分散方法としては、従来公知の方法を広く適用できる。例えば、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体及び硫黄原子を含む紫外線吸収剤、並びに必要に応じてその他の重合体や添加剤を溶媒に投入し、適宜剪断及び／又は攪拌により混合してもよい。溶媒への投入順は特に限定されず、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体及び硫黄原子を含む紫外線吸収剤、並びに必要に応じてその他の重合体や添加剤を全て同時に投入してもよく、順次投入してもよい。また、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体及び硫黄原子を含む紫外線吸収剤、並びに必要に応じてその他の重合体や添加剤を予め混合、好ましくは加熱溶融させた上で適宜剪断力を加えて溶融混練し、樹脂組成物（例えば、ペレット状又は粉体状の樹脂組成物）を作製した後に、当該樹脂組成物を用いて溶媒と混合して、ドープを調製してもよい。これらの混合工程は、温度及び圧力を適宜調節して実施することができる。また以上の混合工程の後、得られたドープをろ過したり、脱泡したりしてもよい。

１．５ ドープの特性
本発明のドープは、粘度が２５℃において、０．１Ｐa・Ｓ以上５０Ｐａ・Ｓ以下であることが好ましく、より好ましくは０．３Ｐa・Ｓ以上４０Ｐa・Ｓ以下であり、さらに好ましくは０．４Ｐa・Ｓ以上３０Ｐa・Ｓ以下である。前記粘度範囲内であれば、溶液製膜法において均一なフィルムを形成し易い。

本発明のドープは、ヘイズが、２０％以下であることが好ましく、より好ましくは１５％以下であり、さらに好ましくは１０％以下であり、下限は特にないが、０％であってもよい。前記ヘイズ範囲内であれば、透明性が高いフィルムを形成することが可能であるため、光透過性が要求される光学部材等に好適に用いられる。なお、ドープのヘイズは、後述の実施例に記載の方法によって算出した値である。

本発明のドープは、固形分濃度が、３質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは５質量％以上３８質量％以下であり、さらに好ましくは８質量％以上３５質量％以下である。前記固形分濃度範囲内であれば、溶液製膜法において均一なフィルムを形成できる。

本発明のドープは、溶液製膜法によってフィルム（例えば、厚さが２０μｍのフィルム）形成したときに、当該フィルムが、波長４００ｎｍの光透過率が１５％以下、波長５８９ｎｍの光に対する面内位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下、且つ波長５８９ｎｍの光に対する厚さ方向位相差Ｒｔｈの絶対値が２０ｎｍ以下という特性を示すものであることが好ましい。

２． フィルム
本発明のフィルムは、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と紫外線吸収剤とを含み、波長４００ｎｍの光透過率が１５％以下であり、波長５８９ｎｍの光に対する面内位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下であり、且つ波長５８９ｎｍの光に対する厚さ方向位相差Ｒｔｈの絶対値が２０ｎｍ以下であることに特徴を有する。本発明のフィルムは、上記ドープを用いて溶液製膜法にて形成されることが好ましい。
本発明のフィルムが含有する主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体の具体例及び好ましい態様は、上記ドープが含有する（メタ）アクリル系重合体の具体例及び好ましい態様と同様である。
本発明のフィルムが含有する紫外線吸収剤としては、硫黄原子を含有する紫外線吸収剤を含むことが好ましい。当該硫黄原子を含む紫外線吸収剤の具体例及び好ましい態様としては、上記ドープが含有する硫黄原子を含む紫外線吸収剤の具体例及び好ましい態様と同様である。
また、本発明のフィルムは、上記ドープが含有してもよい、その他の重合体や添加剤を含んでいてもよく、その具体例及び好ましい態様は、上記ドープが含有してもよいその他の重合体及びその他添加剤の具体例及び好ましい態様と同様である。

本発明のフィルムにおける紫外線吸収剤の含有量は、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、０．５質量部以上６質量部以下が好ましく、より好ましくは０．８質量部以上５．０質量部以下、さらに好ましくは１．０質量部以上４．５質量部以下である。また紫外線吸収剤として、硫黄原子を含有する紫外線吸収剤とその他の紫外線吸収剤を含有する場合、硫黄原子を含む紫外線吸収剤とその他の紫外線吸収剤との含有量比（硫黄原子を含む紫外線吸収剤：その他の紫外線吸収剤）は、１：０．０１～１：１が好ましく、１：０．０５～１：０．８がより好ましい。
本発明のフィルムにおけるその他の重合体の含有量は、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、１００質量部以下が好ましく、４０質量部以下がより好ましく、１０質量部以下がさらに好ましく、５質量部以下がよりさらに好ましく、０質量部であってもよい。
本発明のフィルムにおけるその他の添加剤の含有量は、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、０質量部以上５質量部以下が好ましく、より好ましくは０質量部以上２質量部以下、さらに好ましくは０質量部以上１質量部以下である。

２．１ フィルムの製造方法
本発明のフィルムは、例えば、上記のドープを用いて溶液製膜法にて形成される。具体的には、ドープを支持体上に流延又は塗布した後、乾燥させて溶媒を蒸発することにより製造できる。なお、光学特性の高度な管理が必要な場合、クリーンブース内等で操作を行うことが好ましい。

溶液製膜法の実施態様を以下に説明するが、以下に限定されるものではない。

まず、ドープ（例えば、液温度は－２０℃以上５０℃以下）を送液ポンプ等により送液し、バーコーター、Ｔ－ダイ、バー付きＴ－ダイ、ダイ・コート等を用いて、金属や合成樹脂製の板状、シート状、ベルト状、又はドラム状等の支持体の表面上に流延又は塗布して、ドープ膜を形成する。

次に、形成されたドープ膜を前記支持体上で加熱し、溶媒を蒸発除去してフィルムを形成する。溶媒を蒸発させる際の条件としては、（メタ）アクリル系重合体のガラス転移温度及び使用する溶媒の種類に応じて適宜決定することができるが、発泡を抑制する観点から、流延又は塗工直後の乾燥温度は好ましくは３０℃以上１１０℃以下であり、残像溶媒量に応じて徐々に温度を上げていくことが好ましい。また、乾燥時間は好ましくは１分間以上６０分間以下である。乾燥方法は、前記温度で溶媒の蒸発除去が可能であれば特に制限はなく、例えば、オーブン、乾燥炉、ホットプレート、赤外線加熱等を用いることができる。さらに、フィルム面上での結露を抑制する観点から、除湿エアー中で乾燥することが好ましいが、塗液表面が固まるまでに温風等を塗液に直接吹き付けることは表面形状が悪化するため好ましくない。

そして、形成されたフィルムを支持体表面から剥離する。得られたフィルムは、適宜、乾燥工程や加熱工程、延伸工程等に付してもよい。
乾燥工程及び／又は加熱工程を行う場合には、フィルムにおいて乾燥及び／又は加熱が不均一に起こり、フィルムに歪みが生じることを防止する目的で、フィルムを枠体に固定する等してフィルムに適宜張力をかけながら乾燥及び／又は加熱を行うことが好ましい。フィルムをさらに乾燥工程及び／又は加熱工程に付すことにより、残留溶媒を低減することができる。工業的に連続生産する際には、テンターにて幅方向両端部を把持しながら、場合によってはフィルムのたるみや乾燥による収縮に応じた拡縮調整を行いながら乾燥する、またはオーブン内の上下に配置した多数のロールにフィルムを交互に通し乾燥させる方式（垂直パス方式）にて乾燥することが好ましい。テンター方式及び／又は垂直パス方式での乾燥は、支持体表面から剥離したフィルムの残存溶媒量に応じて適宜選定すればよく、両方ともを実施してもよいし、それぞれ複数回実施してもよい。
また、フィルムの機械的強度の向上、フィルム厚さの精度の向上の点から延伸工程を行うことが好ましい。

フィルムの延伸は、未延伸状態のフィルムを成形した後、一旦フィルムを保管してから行ってもよく、未延伸状態のフィルムを成形した後すぐに連続的に行ってもよい。延伸フィルムは、一軸延伸フィルムと二軸延伸フィルムのいずれであってもよいが、二軸延伸フィルムがより好ましい。二軸延伸した場合は、直交する２つの方向に延伸するため、フィルム面内の任意の方向についての機械的強度を向上させることができる。またフィルムの面内位相差を小さくし、光学等方性の高いフィルムを得やすくなる。
フィルムの延伸は、従来公知の任意の延伸方法で行えばよく、具体的には、例えば、ロールや熱風炉を用いた縦延伸、テンターを用いた横延伸、及びこれらを逐次組み合わせた延伸等が挙げられる。また、縦と横とを同時に延伸する同時二軸延伸方法でもよく、ロール縦延伸を行った後、テンターによる横延伸を行う逐次二軸延伸方法でもよい。

フィルムの延伸温度は、本発明の効果を損なわない範囲で適宜決定でき、延伸温度は、例えば、ＤＳＣ法によって求めたフィルムのガラス転移温度をＴｇとしたときに、好ましくは、Ｔｇ以上Ｔｇ＋３０℃以下の範囲である。

フィルムの縦延伸と横延伸の延伸倍率は、本発明の効果を損なわない範囲で適宜決定でき、延伸倍率としては、例えば、縦方向及び当該縦方向に直交する横方向において、それぞれ、１．１倍～８．０倍程度であることが好ましく、１．２倍～６．０倍程度であることがより好ましい。

２．２ フィルムの特性
本発明のフィルムの厚さは、機械的強度の点から、好ましくは５μｍ以上であり、１０μｍ以上がより好ましく、１５μｍ以上がさらに好ましい。一方フィルムの薄型化の点から、フィルムの厚さは、２００μｍ以下が好ましく、１５０μｍ以下がより好ましく、１００μｍ以下がさらに好ましい。フィルムの厚さは、例えば、ミツトヨ社製のデジマチックマイクロメーターを用いて測定することができる。

本発明のフィルムは、波長４００ｎｍにおける光透過率が１５％以下であることが好ましい。また、波長４００ｎｍにおける光透過率が１４％以下であることがより好ましく、１３％以下であることがさらに好ましい。波長４００ｎｍにおける光透過率が前記範囲内であることにより、特に有機ＥＬ表示装置に好適に使用することができる。

本発明のフィルムは、波長５８９ｎｍの光に対する面内位相差（Ｒｅ）が１０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは７ｎｍ以下、さらに好ましくは５ｎｍ以下、よりさらに好ましくは３ｎｍ以下である。また、波長５８９ｎｍの光に対する厚さ方向位相差（Ｒｔｈ）の絶対値が２０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１５ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以下である。このような位相差を有するフィルムは、表示装置の偏光板が備える偏光子保護フィルムとして好適に使用することができる。一方、フィルムの面内位相差の絶対値が１０ｎｍを超えたり、厚み方向位相差の絶対値が２０ｎｍを超えたりすると、表示装置の偏光板が備える偏光子保護フィルムとして用いる場合、表示装置においてコントラストが低下するなどの問題が発生する場合がある。

位相差は複屈折をベースに算出される指標値であり、面内位相差（Ｒｅ）及び厚さ方向位相差（Ｒｔｈ）は、それぞれ、以下の式により算出することができる。３次元方向について完全光学等方である理想的なフィルムでは、面内位相差Ｒｅ、厚さ方向位相差Ｒｔｈがともに０となる。
Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
上記式中において、ｎｘはフィルムの面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルムの面内における進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚さ方向の屈折率、ｄはフィルム厚さを表す。

本発明のフィルムは、全光線透過率が８５％以上であることが好ましく、８８％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９２％以上がよりさらに好ましい。全光線透過率が前記範囲内であれば、透明性が高いため、光透過性が要求される光学部材等に好適に使用できる。

本発明のフィルムは、ガラス転移温度が１１０℃以上であることが好ましく、１１５℃以上であることがより好ましく、１２０℃以上がさらに好ましい。ガラス転移温度が前記範囲内であれば、耐熱性に優れたフィルムを得ることができる。

本発明のフィルムは、厚さ１００μｍ換算（厚み１００μｍあたり）での内部ヘイズが２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下がより好ましく、０．５％以下がさらに好ましく、０．３％以下がよりさらに好ましい。内部ヘイズが前記範囲内であれば、透明性が高いため、光透過性が要求される光学部材等に好適に使用できる。なお、内部ヘイズは、後述の実施例に記載の方法によって測定又は算出してもよい。

２．３ フィルムの用途
本発明のフィルムの用途は特に限定されるものではなく、各種用途（例えば、光学フィルムとして保護フィルム、位相差フィルム、視野角補償フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、タッチパネル用導電フィルムや、自動車や各種機器の内外装、或るいは加飾フィルム等）に使用することができるが、耐熱性及び透明性を有しつつ、特定波長（好ましくは３８０ｎｍ～４３０ｎｍ、特に４００ｎｍ）の光透過抑制性に優れ、または低い位相差を有することから、有機ＥＬ表示装置の光学フィルムとして好適に使用することができる。特定波長の光透過抑制性に優れることにより、表示装置内の有機ＥＬ素子の劣化を抑制することが可能である。

本発明の有機ＥＬ表示装置は、上記のフィルムを含むものであり、当該フィルムを含むことにより、光学特性に優れながら、有機ＥＬ素子の劣化が抑制されている。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味する。

始めに、以下の製造例、実施例及び比較例で採用した測定方法について説明する。
（１）重量平均分子量、数平均分子量
重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン換算により求めた。測定に用いた装置及び測定条件は、以下のとおりである。
システム：東ソー製ＧＰＣシステムＨＬＣ－８２２０
測定側カラム構成：
・ガードカラム（東ソー製、ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺ－Ｌ）
・分離カラム（東ソー製、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｍ） ２本直列接続
リファレンス側カラム構成：
・リファレンスカラム（東ソー製、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ－ＲＣ）
展開溶媒：クロロホルム（和光純薬工業製、特級）
展開溶媒の流量：０．６ｍＬ／分
標準試料：ＴＳＫ標準ポリスチレン（東ソー製、ＰＳ－オリゴマーキット）
カラム温度：４０℃

（２）重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）
重合体のガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１の規定に準拠して求めた。具体的には、示差走査熱量計（リガク製、Ｔｈｅｒｍｏ ｐｌｕｓ ＥＶＯ ＤＳＣ－８２３０）を用い、窒素ガス雰囲気下、約１０ｍｇのサンプルを常温から２００℃まで昇温（昇温速度２０℃／分）して得られたＤＳＣ曲線から、始点法により評価した。リファレンスには、α－アルミナを用いた。

（３）ドープのヘイズ
ドープのヘイズはヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ－１００１ＤＰ）を用いて、光路長１０ｍｍの石英セルを用いて測定した。具体的には、空の石英セルで標準校正を行った後、ドープのヘイズを測定した。

（４）ドープの粘度
ドープの粘度は、ＢＨＩＩ型粘度計（東機産業株式会社製）を用いて２５℃にて測定した。

（５）フィルムの内部ヘイズ
フィルムの内部ヘイズはＪＩＳ Ｋ７１３６の規定に準拠して求めた。具体的には、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ－１００１ＤＰ）を用いて、光路長１０ｍｍの石英セルに１，２，３，４－テトラヒドロナフタリン（テトラリン）を満たし、その中に作製したフィルムを浸漬して測定し、厚さ１００μｍあたりの内部ヘイズ値として算出した。

（６）フィルムの厚さ
フィルムの厚さは、デジマチックマイクロメーター（ミツトヨ社製）により求めた。

（７）フィルムの光線透過率
フィルムの光線透過率は、分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ－３６００）を用いて、各波長の光に対する透過率を測定することにより評価した。

（８）フィルムの位相差
フィルムの波長５８９ｎｍの光に対する面内位相差Ｒｅ、及び厚さ方向位相差Ｒｔｈを、全自動複屈折計（王子計測機器社製、ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）を用いて入射角４０°の条件で測定した。具体的には、フィルムの面内における遅相軸方向の屈折率をｎｘ、フィルムの面内における進相軸方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚さ方向の屈折率をｎｚ、フィルムの厚さをｄとして、下記式から面内位相差Ｒｅと厚さ方向位相差Ｒｔｈをそれぞれ求めた。
面内位相差Ｒｅ＝｜ｎｘ－ｎｙ｜×ｄ
厚さ方向位相差Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ

なお、下記製造例におけるメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、α－メチレン－γ－ブチロラクトン（ＭＬ）、及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）は、東京化成工業から入手した。パーロイルＬ（ジラウロイルパーオキサイド、ＬＰＯ）は、日油から入手した。ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム（ハイテノール（登録商標）ＮＦ－０８）は、第一工業製薬から入手した。

製造例１
攪拌装置、温度センサー、冷却管、及び窒素導入管を備えた反応容器に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）２２９．６部、２－（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）３３部、酸化防止剤（ＡＤＥＫＡ社製「アデカスタブ（登録商標）２１１２」）０．１３８部、溶媒としてトルエン２４８．６部、およびｎ－ドデシルメルカプタン（ｎＤＭ）０．１９２５部を仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まったところで、重合開始剤としてｔ－アミルパーオキシイソノナノエート（アルケマ吉富社製「ルペロックス（登録商標）５７０」）０．２８３８部を添加するとともに、上記ｔ－アミルパーオキシイソノナノエート０．５６４６部とスチレン（Ｓｔ）１２．３７５部とを２時間かけて滴下しながら約１０５～１１０℃の還流下で溶液重合を進行させ、滴下終了後、同温度でさらに４時間の熟成を行った。

次に、得られた重合溶液に、環化縮合反応の触媒（環化触媒）として、リン酸ステアリル（堺化学工業社製「Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ－１８」）０．２０６部を加え、約９０～１１０℃の還流下において２時間、ラクトン環構造を形成するための環化縮合反応を進行させた。次に、得られた重合溶液を、２４０℃に加熱した多管式熱交換器に通して環化縮合反応を完結させた後、バレル温度が２５０℃であり、１個のリアベント、４個のフォアベント（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）、及び第３ベントと第４ベントとの間にサイドフィーダーを備え、先端部にリーフディスク型のポリマーフィルタ（濾過精度５μｍ）が配置されたベントタイプスクリュー二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝５２）で脱揮を実施した。

脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂組成物を当該押出機の先端から上記ポリマーフィルタで濾過しながら排出し、備えたダイスを通過させた後、孔径１μｍのフィルタ（オルガノ社製「製品名：ミクロポアフィルタ１ＥＵ」）で濾過し、３０±１０℃の範囲内の温度に保持した冷却水を満たした水槽中でストランドを冷却し、次いで切断機（ペレタイザ）に導入することで、（メタ）アクリル系重合体１を含む樹脂組成物のペレットを得た。得られた（メタ）アクリル系重合体１のＭｗは１３．２万、Ｍｎは５．９万、ガラス転移温度は１２１℃であった。

製造例２
撹拌装置、温度センサー、冷却管、及び窒素導入管を備えた反応器を用意した。容器にハイテノール（登録商標）ＮＦ－０８を１部溶解した脱イオン水７５部を仕込んだ。次いで、当該容器に、あらかじめ単量体としてのα－メチレン－γ－ブチロラクトン（ＭＬ）を１３部、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を３７部、重合開始剤としてのパーロイルＬ（ジラウロイルパーオキサイド、ＬＰＯ）を０．２５部混合した混合液を仕込み、Ｔ．Ｋ．ホモミクサーＭＡＲＫ ＩＩ ｍｏｄｅｌ２．５（プライミクス製）を用いて、３０００ｒｐｍで１５分間撹拌して均一な懸濁液とした。

懸濁液に脱イオン水を１２５部追加してから反応器に移送し、撹拌しながら窒素ガスを吹き込みながら反応液（懸濁液）が６５℃になるまで加熱した。内温６５℃になった時点を反応開始とし、そのまま６５℃で反応器を保温して自己発熱により液温がピーク温度に到達した後に７５℃で保ち、さらに反応開始２時間後に反応液（懸濁液）を９０℃まで昇温して４時間撹拌して重合反応を完了させた。その後、反応液を冷却し、濾過して共重合体を濾取し、さらに熱風乾燥機を用いて乾燥することによって（メタ）アクリル系重合体２（粉体）を得た。得られた（メタ）アクリル系重合体２のＭｗは２５．２万、Ｍｎは１１．９万、ガラス転移温度は１２７℃あった。

製造例３
撹拌装置、温度センサー、冷却管、及び窒素導入管を備えた反応器に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）６７．５部、フェニルマレイミド（ＰＭＩ）１５．７部、ｎ－ドデシルメルカプタン（ｎＤＭ）０．０３部、重合溶媒としてトルエン１００部を仕込み、これに窒素を通じつつ１０５℃まで昇温させた。その後、重合開始剤としてｔ－ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（化薬アクゾ社製、カヤカルボン（登録商標）Ｂｉｃ７５）を０．０４部加えるとともに、スチレン（Ｓｔ）１．８部と、１部のトルエンに希釈した０．１５部のｔ－ブチルパーオキシイソプロピルカーボネートを３時間かけて一定速度で滴下しながら１０５～１１０℃で溶液重合を行い、さらに４時間熟成を行った。

次に得られた重合反応液を、リアベント数が１個、フォアベント数が２個のベントタイプスクリュー二軸押出機で脱揮を行い、次いで切断機（ペレタイザ）に導入することで（メタ）アクリル系重合体３を含む透明な樹脂組成物のペレットを得た。得られた（メタ）アクリル系重合体３のＭｗは１４．８万、Ｍｎは５．６万、ガラス転移温度は１３７℃であった。

実施例１
製造例１で得た（メタ）アクリル系重合体１を含む樹脂組成物のペレットを、８０℃で８時間乾燥した後、塩化メチレンに固形分濃度が２０％となるように溶解し、下記式（１－１）で表される化合物（紫外線吸収剤Ａ）を（メタ）アクリル系重合体１００部に対して２．４部となるように添加、混合後、２４時間静置して溶液中の泡を除去し、ドープ１を得た。

乾燥エアを満たしたクリーンブース内でドープ１を、ドライ膜厚で１００μｍとなるようにバーコーターを用いて支持体（ＰＥＴフィルム：表面粗さＲａは０．０２～０．０４μｍ）上に流延し、４０～６０℃で加熱して溶媒を蒸発させ、得られたフィルム（ドープ膜）を支持体から剥離した。フィルムに幅１００ｃｍあたり３ｋｇの張力をかけながら８０～１２０℃で乾燥をさせることで未延伸フィルムを得た。得られた未延伸フィルムを９６ｍｍ×９６ｍｍの大きさに切り出し、逐次二軸延伸機（東洋精機製作所社製、Ｘ６－Ｓ）を用いて、Ｔｇ＋１８℃の温度にて３００％／分の延伸速度で縦方向（ＭＤ方向）および横方向（ＴＤ方向）の順に面倍率が５．０倍となるように逐次二軸延伸を行い、冷却することにより延伸フィルムを得た。得られたフィルム物性を表１に示す。

実施例２～５、比較例１、２
使用する（メタ）アクリル系重合体の種類、並びに紫外線吸収剤の種類及び／又は使用量を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にドープを調製し、得られたドープを用いて、実施例１と同様にフィルムを形成した。各フィルムの物性を表１に示す。

表１において、各成分は以下のとおりである
（メタ）アクリル系重合体１；上記製造例１で得られた主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系重合体１
（メタ）アクリル系重合体２；上記製造例２で得られた主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系重合体２
（メタ）アクリル系重合体３；上記製造例３で得られた主鎖にＮ－置換マレイミド構造を有する（メタ）アクリル系重合体３
（メタ）アクリル系重合体４；主鎖に位置するグルタルイミド構造（上記式（２Ｘ）におけるＲ^4a及びＲ^5aがメチル基）を含む単位と、メタクリル酸メチル単位とを構成単位として有する（メタ）アクリル系重合体（ダイセル・エボニック製、プレキシイミド８８１３、グルタルイミド単位の含有率４２重量％、Ｔｇ：１３２℃、Ｍｗ：１１．５万、Ｍｎ：５．５万）
紫外線吸収剤Ａ；上記式（１－１）で表される化合物
紫外線吸収剤Ｂ；アデカスタブ ＬＡＦ７０（ＡＤＥＫＡ社製）

比較例３
製造例１で得られた（メタ）アクリル系重合体１と、（メタ）アクリル系重合体１の１００部に対して２．４部の紫外線吸収剤Ａ（上記式（１－１）で表される化合物）とを、２軸混錬機を用いて混錬し、次いで切断機（ペレタイザ）に導入することで（メタ）アクリル系重合体１と紫外線吸収剤Ａとを含有する樹脂組成物のペレットを得た。得られたペレットをΦ６５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３２、ユニメルトスクリューを有するベント付き単軸押出機に仕込んだ。押出機のシリンダ、ギアポンプ、ポリマーフィルターおよびＴダイの温度は２６５℃に設定した。ペレットは、ホッパーに加温した除湿空気を送風することにより６０℃に加温した。また、ホッパー下部に窒素導入管を設けて、押出機内に窒素ガスを導入した。

ベント口から４０Ｔｏｒｒにて吸引を行いながら、ペレットを単軸スクリューにて溶融させ、ギアポンプを用いて、ろ過面積０．７５ｍ²、ろ過精度１０μｍのリーフディスクフィルターを有するポリマーフィルターに通した。次いで、幅６００ｍｍのＴダイより溶融樹脂を押出し、１２０℃の冷却ロール上にフィルムを製膜した。得られたフィルムの膜厚は１００μｍであった。また得られたフィルムの表面には用いた紫外線吸収剤が一部ブリードアウトしており、外観不良が発生した。

Claims (9)

1. 主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と硫黄原子を含む紫外線吸収剤とを含むドープであって、
   紫外線吸収剤の含有量が、（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して、０．５質量部以上６質量部以下であるドープ。
2. 前記紫外線吸収剤が、下記式（１）で表される化合物を含む請求項１に記載のドープ。
   

   

   ［式（１）中、Ｌは２価以上の連結基を表し、ａは２以上の整数を表し、Ａはそれぞれ独立して下記式（２）で示される基を表す。］
   

   

   ［式（２）中、
   Ｒ¹はシアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基を表し、
   Ｒ²は水素原子、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、アミド基、炭化水素基、又はヘテロアリール基を表し、
   Ｒ¹とＲ²がともにアシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基である場合、Ｒ¹とＲ²は互いに連結して環を形成していてもよく、
   Ｒ³は水素原子又はアルキル基を表し、
   Ｒ⁴は水素原子、有機基、又は極性官能基を表し、複数のＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、
   ＊は式（１）の連結基Ｌとの結合部位を表す。］
3. 前記（メタ）アクリル系重合体が主鎖に有する環構造が、ラクトン環構造、グルタルイミド構造、無水グルタル酸構造、無水マレイン酸構造、及びＮ－置換マレイミド構造からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１又は２に記載のドープ。
4. 請求項１～３のいずれかに記載のドープを調製する工程と、調整したドープを支持体上に流延又は塗布後、乾燥する工程とを含むフィルムの製造方法。
5. 主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体と紫外線吸収剤とを含むフィルムであって、
   波長４００ｎｍの光透過率が１５％以下であり、
   波長５８９ｎｍの光に対する面内位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下であり、且つ波長５８９ｎｍの光に対する厚さ方向位相差Ｒｔｈの絶対値が２０ｎｍ以下であるフィルム。
6. 内部ヘイズが１．０％以下である請求項５に記載のフィルム。
7. 前記紫外線吸収剤が、下記式（１）で表される化合物を含む請求項５又は６に記載のフィルム。
   

   

   ［式（１）中、Ｌは２価以上の連結基を表し、ａは２以上の整数を表し、Ａはそれぞれ独立して下記式（２）で示される基を表す。］
   

   

   ［式（２）中、
   Ｒ¹はシアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基を表し、
   Ｒ²は水素原子、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、アミド基、炭化水素基、又はヘテロアリール基を表し、
   Ｒ¹とＲ²がともにアシル基、カルボン酸エステル基、又はアミド基である場合、Ｒ¹とＲ²は互いに連結して環を形成していてもよく、
   Ｒ³は水素原子又はアルキル基を表し、
   Ｒ⁴は水素原子、有機基、又は極性官能基を表し、複数のＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、
   ＊は式（１）の連結基Ｌとの結合部位を表す。］
8. 前記（メタ）アクリル系重合体が主鎖に有する環構造が、ラクトン環構造、グルタルイミド構造、無水グルタル酸構造、無水マレイン酸構造、及びＮ－置換マレイミド構造からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項５～７のいずれかに記載のフィルム。
9. 請求項５～８のいずれかに記載のフィルムを含む有機エレクトロルミネセンス表示装置。