JP2023120818A - 溶液処理装置及び溶液処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液の一部を選択的に凝集させる。【解決手段】溶液処理装置１は、ガスを流すガス流路３０を有する本体部２０Ａと、ガス流路３０内でプラズマ放電を発生させる放電部４０と、放電部４０の第１電極４２と第２電極４４との間に電圧を印加する電源部９と、を有する。電源部９は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正又は負の一方に帯電したプラズマを他方に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって放電部４０に行わせ、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質において一方に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ他方に帯電したタンパク質を選択的に凝集させる。【選択図】図１

Description

本開示は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含有する溶液処理装置及びその溶液処理方法に関するものである。

特許文献１には、タンパク質水溶液の処理方法が開示されている。特許文献１で開示される処理方法では、水系溶媒にタンパク質が混合されてタンパク質水溶液が作成され、このタンパク質水溶液に対してプラズマ発生装置で発生したプラズマが照射されることでタンパク質膜が製造される。

特開２０１５－２１８２４５号公報

特許文献１で開示される処理方法では、商用交流電源からの交流電圧、即ち、正弦波のような一般的な交流電圧を昇圧して電極間に印加することで、プラズマを発生させる。しかし、このような方法によって発生したプラズマの特性は、一般的なタンパク質を含んだ溶液に照射したときに、タンパク質の性質に寄らず、全体的に凝集しやすい特性であった。ゆえに、選択的に凝集させることが必要な場合には、上記方法によって発生したプラズマの特性では効率的に凝集させることが難しかった。

本開示は、上述した課題の少なくとも一部を解決するために、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液の一部を選択的に凝集させ得る技術を提供することを目的とする。

本開示の一態様の溶液処理装置は、
ガスの放出口を備えるとともに前記放出口に向かって前記ガスを流すガス流路を有する本体部と、誘電体層と前記誘電体層を介して互いに対向して配置される第１電極及び第２電極とを備えるとともに前記ガス流路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧を印加する電源部と、を有し、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液に対してプラズマを照射する溶液処理装置であって、
前記溶液処理装置が、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正又は負の一方に帯電したプラズマを他方に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって前記放電部に行わせることで、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質のうち前記一方に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ前記他方に帯電したタンパク質を選択的に凝集させる。

上記の溶液処理装置では、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正又は負の一方に帯電したプラズマを他方に帯電したプラズマよりも多く照射するという特徴的な動作により、上記一方の電荷が優位な状態のプラズマを所定期間にわたって水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に供給することができる。このような動作により、上記一方に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ上記他方に帯電したタンパク質を選択的に凝集させることができる。

本開示の一態様の溶液処理装置において、上記所定期間に上記水に溶解しやすいために
血液中に多く存在するタンパク質に流れる電流の波形は、上記所定期間において正の電流値の波形と負の電流値の波形が交互に繰り返され、上記所定期間の漏れ電流の値の平均が正となる波形であり、且つ上記所定期間における正のピーク電流の絶対値が負のピーク電流の絶対値よりも大きい波形であることが、より望ましい。このような電流が流れるように処理を行うことで、正に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ負に帯電したタンパク質を選択的に凝集させやすい。

本開示の一態様の溶液処理装置において、放電部は、第１電極及び第２電極のうちの片方が直接又は他部材を介してガス流路内の空間に面し、第１電極と第２電極との間に電圧を印加することに応じてガス流路内で沿面放電を発生させる構成であってもよい。この溶液処理装置は、放電部が沿面放電を発生させる構成であるため、より低い印加電圧で、より効率的にプラズマを照射することができる。

本開示の一態様の溶液処理装置は、溶液を収容する容器をさらに備えていてもよい。この溶液処理装置は、容器に収容された溶液でタンパク質の凝集を生じさせうる。

本開示の一態様の溶液処理装置において、容器は導電性を有し、グラウンド部に電気的に接続されていてもよい。この溶液処理装置は、容器に収容された溶液に対してプラズマを照射したときに容器を介してグラウンド部側に電流が流れやすくなる。よって、この溶液処理装置は、より小さい電力で、より効率的に凝集を生じさせうる。

本開示の一態様の溶液処理装置において、容器は、容器の電位をグラウンド部の電位からオフセットさせる抵抗要素を介してグラウンド部に接続されていてもよい。この溶液処理装置は、抵抗要素の存在により、容器を介してグラウンド部側に流れる電流をコントロールすることができる。

本開示の一態様の溶液処理装置において、容器は、導電性ガラスによって構成されていてもよい。この溶液処理装置は、容器においてある程度の抵抗を確保することができ、容器を介してグラウンド部側に流れる電流をコントロールすることができる。

本開示の一つである溶液処理方法は、
ガスの放出口を備えるとともに前記放出口に向かって前記ガスを流すガス流路を有する本体部と、誘電体層と前記誘電体層を介して互いに対向して配置される第１電極及び第２電極とを備えるとともに前記ガス流路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧を印加する電源部と、を有する溶液処理装置を用い、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液を処理する溶液処理方法であって、
前記溶液を準備する準備工程と、
前記準備工程で準備された前記溶液に対して前記溶液処理装置によってプラズマを照射する照射工程と、
を含み、
前記照射工程では、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正又は負の一方に帯電したプラズマを他方に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって前記放電部に行わせることで、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質において前記一方に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ前記他方に帯電したタンパク質を選択的に凝集させる。

上記の溶液処理方法は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正又は負の一方に帯電したプラズマを他方に帯電したプラズマよりも多く照射するという特徴的な動作により、上記一方の電荷が優位な状態のプラズマを所定期間にわたって水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に供給することができる。このような動作により、上記一方に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ上記他方に帯電したタンパク質を選択的に凝集させることができる。

本開示の一つである溶液処理方法は、
ガスの放出口を備えるとともに前記放出口に向かって前記ガスを流すガス流路を有する本体部と、誘電体層と前記誘電体層を介して互いに対向して配置される第１電極及び第２電極とを備えるとともに前記ガス流路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧を印加する電源部と、を有する溶液処理装置を用い、ヒト血清およびヒト血漿から水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を除く溶液処理方法であって、
前記溶液を準備する準備工程と、
前記準備工程で準備された前記溶液に対して前記溶液処理装置によってプラズマを照射する照射工程と、
を含み、
前記照射工程では、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質のうちイムノグロブリンの凝集を抑制しつつ、ハプトグロビン、トランスフェリン、IgA、a1-アンチトリプシン、a2-マクログロブリン、a1-酸性糖タンパク質、アポリポプロテインAI、アポリポプロテインAII、補体タンパク質C3、IgM、トランスサイレチン、フィブリノゲンの少なくとも1つ以上とアルブミンとを併せて選択的に凝集させて膜構造を形成する。

本開示に係る技術は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液の一部を選択的に凝集させ得る。

図１は、第１実施形態の溶液処理装置が概略的に例示される概略図である。 図２は、第１実施形態の溶液処理装置における本体部が概念的に例示される斜視図である。 図３は、図２で例示された本体部が三分割して示される分解斜視図である。 図４は、図２で例示された本体部が第３方向（幅方向）中心位置にて第３方向と直交する方向に切断された切断面の断面概略図である。 図５は、図２で例示された本体部が第１方向中心位置にて第１方向と直交する方向に切断された切断面の断面概略図である。 図６は、図２で例示された本体部が第２方向（厚さ方向）中心位置にて第２方向と直交する方向に切断された切断面の断面概略図である。 図７は、第１実施形態に係る溶液処理装置において電源部が第１電極と第２電極との間に印加する電圧の波形を例示する波形図である。 図８は、第１実施形態に係る溶液処理装置において、図７のような波形の電圧を印加して発生したプラズマを容器内の水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に照射した場合に容器から漏れる漏れ電流の波形を例示する波形図である。 図９は、図１の溶液処理装置を用い、第１電極と第２電極との間に図７のような波形の電圧を印加して発生したプラズマを試料（溶液）に照射し、図８のような漏れ電流が流れるように処理した場合の処理後の試料（溶液）を示す、実験例の写真である。 図１０は、第２実施形態の溶液処理装置が概略的に例示される概略図である。

＜第１実施形態＞
１．溶液処理装置の構成
第１実施形態に係る溶液処理装置１は、図１のような構成をなす。溶液処理装置１は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液に対してプラズマを照射する装置であり、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含む溶液を処理する機能を有する装置である。溶液処理装置１は、主に、プラズマ照射装置２及び容器８０を備える。プラズマ照射装置２は、主に、照射ユニット３、ガス供給部７、制御部５、電源部９、などを備える。

容器８０は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含む溶液９０を収容する容器である。容器８０は、導電性を有し、グラウンド部９８に電気的に接続されている。グラウンド部９８は、自身の電位が所定のグラウンド電位（例えば０Ｖ）付近に安定的に保たれる導電部である。グラウンド部９８は、金属材料などの導電性を有する材料によって構成されている。容器８０は、溶液９０が接触する内面部８０Ａとグラウンド部９８とが電気的に接続されている。従って、内面部８０Ａの電位がグラウンド部９８の電位よりも高くなっているときに内面部８０Ａ側からグラウンド部９８側に電流が流れる。逆に、内面部８０Ａの電位がグラウンド部９８の電位よりも低くなっているときにはグラウンド部９８側から内面部８０Ａに電流が流れる。

図１で示される代表例では、容器８０は、全体が樹脂によって構成されている。但し、容器８０は、自身の一部が樹脂以外の材料（例えば公知の金属材料や公知の非金属材料）によって構成されていてもよい。容器８０は、溶液９０に接触する内面部８０Ａと外面部８０Ｂとが電気的に接続され、内面部８０Ａと外面部８０Ｂとの間で電流が流れ得る。更に、容器８０の外面部８０Ｂとグラウンド部９８とが短絡しており、外面部８０Ｂがグラウンド部９８の電位と同電位に保たれるようになっている。従って、内面部８０Ａの電位がグラウンド部９８の電位よりも高くなっているときには、内面部８０Ａ側から外面部８０Ｂを介してグラウンド部９８側に電流が流れる。

溶液９０は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含有する液である。溶液９０の状態は、液体状、ゼリー状、ゲル状、ゾル状のいずれであってもよく、これらの２種以上の状態のものが含まれていてもよい。つまり、本明細書において「溶液」は、液体、ゲル、ゾルのいずれも含む概念である。溶液９０は、タンパク質として血液の成分を含み、例えば、血漿、赤血球、白血球、血小板などを含む。但し、溶液９０には、白血球、血小板などの一部の成分が含まれていなくてもよい。具体的には、溶液９０は、タンパク質としてヘモグロビンやアルブミンなどの負に帯電したタンパク質を１種類以上含み、イムノグロブリンなどの正に帯電したタンパク質を１種類以上含む。

ガス供給部７は、ヘリウムガスやアルゴンガスなどの不活性ガス（以下、単にガスともいう）を供給する装置であり、例えば、照射ユニット３とガス供給部７との間に介在する可撓性の管路を介して後述するガス流路３０に不活性ガスを供給する。ガス供給部７は、例えばボンベ等から供給される高圧ガスを減圧するレギュレータと、流量制御を行う制御部とを含み、制御部は、ガス流路３０を流れるガスの流量を制御し得る。図１では、上記管路、上記レギュレータ、及び上記制御部などの図示が省略されている。

電源部９は、周期的な電圧を発生させ、照射ユニット３に設けられた後述の２つの電極間に電圧を印加する装置である。電源部９は、主に制御部５と電源回路６とを備える。電源回路６は、高周波数の高電圧を発生させて導電部間に印加し得る回路であればよく、公知の様々な電源回路が採用され得る。制御部５は、電源回路６を制御し得る装置であればよく、例えば、マイクロコンピュータなどの情報処理装置を有する制御装置によって構成されている。図１の例では、電源部９の全体が、照射ユニット３の外部に設けられている。しかし、電源部９の一部又は全部が、照射ユニット３に設けられていてもよい。電源部９の詳細は、後述される。

照射ユニット３は、プラズマを発生させて照射し得るユニットである。照射ユニット３は、主に、プラズマ照射部２０と、このプラズマ照射部２０を保持する保持部３Ａとを備える。照射ユニット３は、使用者によって把持されつつ使用される構成であってもよく、使用者以外の手段（例えば、ロボット等）によって移動可能とされる構成であってもよく、位置が固定された移動不能な状態で使用される構成であってもよい。

保持部３Ａは、プラズマ照射部２０における本体部２０Ａが固定される部位であり、本体部２０Ａを保持する機能を有する。保持部３Ａは、本体部２０Ａを自身の内部に配置しつつ保持する構成であってもよく、本体部２０Ａを自身の外側に配置しつつ保持する構成であってもよい。図１の例では、保持部３Ａは、ケース体として構成され、本体部２０Ａは、保持部３Ａの内部に収容されつつ保持部３Ａに対して固定されている。

プラズマ照射部２０は、誘電体バリア放電を生じさせる装置として構成されている。プラズマ照射部２０は、図２のような外観であり、所定の立体形状として構成された本体部２０Ａを備える。図２の例では、本体部２０Ａは、板状且つ直方体状に構成されている。プラズマ照射部２０は、本体部２０Ａの長手方向の端部に形成された放出口３４からプラズマＰを照射するように動作する。プラズマＰは、いわゆる大気圧低温プラズマである。

図３には、本体部２０Ａが３分割された構成が分解斜視図として概念的に示されている。本体部２０Ａは、厚さ方向中央部に第３誘電体層５３が設けられ、第３誘電体層５３よりも厚さ方向一方側に第４誘電体層５４が設けられている。更に、本体部２０Ａは、第３誘電体層５３よりも厚さ方向他方側に第１誘電体層５１及び第２誘電体層５２が設けられている。第１誘電体層５１及び第２誘電体層５２によって構成された誘電体領域の内部には、第１電極４２及び第２電極４４が埋め込まれている。図３には、本体部２０Ａが３分割された構成が概念的に示されているが、実際の構成は、第１誘電体層５１、第２誘電体層５２、第３誘電体層５３、及び第４誘電体層５４の各々が、一体的な誘電体部５０（図５参照）の一部として構成されている。

図４で示されるように、本体部２０Ａには、放出口３４に向かってガスを流すように構成されたガス流路３０が設けられている。ガス流路３０は、ガスを導入する導入口３２と、ガスを放出する放出口３４と、導入口３２と放出口３４との間に設けられる中間流路３６と、を有する。導入口３２は、本体部２０Ａの後端側において本体部２０Ａの内部と外部とに通じる開口部である。放出口３４は、本体部２０Ａの先端側において本体部２０Ａの内部と外部とに通じる開口部である。中間流路３６は、導入口３２と放出口３４とに通じる通気路であり、導入口３２と放出口３４との間でガスを流す流路である。ガス流路３０は、照射ユニット３の外部に設けられたガス供給部７から供給される不活性ガスを導入口３２から導入し、導入口３２側から導入されたガスを中間流路３６内の空間を通して放出口３４に誘導する誘導路となっている。図４では、ガス供給部７から供給される不活性ガスを導入口３２に導くための管路７Ａが二点鎖線によって概念的に示されている。

図４で示されるように、プラズマ照射部２０には放電部４０が設けられている。放電部４０は、ガス流路３０内でプラズマ放電を発生させる部位である。放電部４０は、誘電体部５０と第１電極４２と第２電極４４とを備え、第１電極４２と第２電極４４とが誘電体部５０の一部である第１誘電体層５１を介して互いに対向して配置される。放電部４０は、沿面放電部として構成され、第１電極４２と第２電極４４との電位差に基づく電界をガス流路３０内で発生させてその内壁面に沿った沿面放電による大気圧低温プラズマを発生させる。

本明細書では、プラズマ照射部２０においてガス流路３０が延びる方向が第１方向であり、第１方向と直交する方向のうち誘電体部５０の厚さ方向が第２方向であり、第１方向及び第２方向と直交する方向が第３方向である。図４の例では、誘電体部５０と第１電極４２と第２電極４４とが一体的に設けられて本体部２０Ａが構成され、本体部２０Ａの長手方向が第１方向である。図５のように、第２方向は、本体部２０Ａを第１方向と直交する平面方向に切断した切断面での本体部２０Ａの短手方向であり、本体部２０Ａの高さ方向且つ厚さ方向である。第３方向は、本体部２０Ａを第１方向と直交する平面方向に切断した切断面での本体部２０Ａの長手方向であり、本体部２０Ａの幅方向である。本明細書では、第１方向において放出口３４側が本体部２０Ａの先端側であり、第１方向において導入口３２側が本体部２０Ａの後端側である。

図５で示されるように、誘電体部５０は、第１誘電体層５１、第２誘電体層５２、第３誘電体層５３、及び第４誘電体層５４を備え、本体部２０Ａは全体として中空状に構成されている。第１誘電体層５１は、中間流路３６内の空間よりも第２方向（厚さ方向）他方側に配置されるとともに自身の内部に第２電極４４が埋め込まれるように構成される。つまり、第１誘電体層５１を介して第１電極４２及び第２電極４４が対向している。第２誘電体層５２は、セラミック材料によって第１電極４２を覆うように構成されたセラミック保護層であり、第１誘電体層５１よりも中間流路３６の空間側において第１電極４２を覆うように配置される。第１誘電体層５１及び第２誘電体層５２は、中間流路３６における第２方向他方側の内壁部を構成する。第４誘電体層５４は、中間流路３６の空間よりも第２方向（厚さ方向）一方側に配置され、中間流路３６における第２方向一方側の内壁部を構成する。第３誘電体層５３は、第２方向において第１誘電体層５１と第４誘電体層５４との間に配置され、中間流路３６における第３方向一方側の側壁部及び第３方向他方側の側壁部を構成する。つまり、中間流路３６は、第１誘電体層５１、第２誘電体層５２、第３誘電体層５３、及び第４誘電体層５４により画成されている。第１誘電体層５１、第２誘電体層５２、第３誘電体層５３、及び第４誘電体層５４の材料は、例えばアルミナなどのセラミック、ガラス材料や樹脂材料を好適に用いることができる。誘電体部５０において機械的強度が高いアルミナが誘電体として用いられれば、放電部４０の小型化が図られやすくなる。

図５で示されるように、第１電極４２は、誘電体部５０の一部である第２誘電体層５２を介して中間流路３６内の空間に面する。第２電極４４は、第１電極４２に対して中間流路３６とは反対側に設けられる。第２電極４４は、第１電極４２と平行に配されており、第２方向において第１電極４２よりも中間流路３６から離れている。図６で示されるように、第１電極４２は、中間流路３６に沿うように第１方向に直線状に延び、第１の幅且つ第１の厚さで第１方向の第１領域に配置されている。第２電極４４は、中間流路３６に沿うように第１方向に直線状に延び、第２の幅且つ第２の厚さで第１方向の第２領域に配置されている。第１電極４２及び第２電極４４の厚さ、幅、配置は、特に限定されない。第１電極４２と第２電極４４の幅や厚さの一方又は両方は、同一であってもよく、異なっていてもよい。

このように構成された放電部４０は、周期的に変化する電圧が第１電極４２と第２電極４４との間に印加されたときに中間流路３６内で沿面放電を発生させる。沿面放電によって生じたプラズマは、ガス供給部７から中間流路３６内に供給されたガスによって放出口３４を介して外部に放出される。なお、図６の例では、第１方向の領域ＡＲ１において中間流路３６が一定幅で構成され、領域ＡＲ２では、先端側に向かうにつれて中間流路３６の幅が小さくなっており、放出口３４付近においてガスの流速を高め得る構成となっている。従って、中間流路３６で生じたプラズマが、より遠方まで届きやすくなっている。

２．電源部の詳細
電源部９は、第１電極４２と第２電極４４との間に、周期的に変化する電圧を、高い周波数で印加する。第１実施形態や後述される第１実施形態以外のいずれの実施形態においても、電源部９が第１電極４２と第２電極４４との間に印加する電圧の周波数は、２０ｋＨｚ～３００ｋＨｚの範囲内であることが望ましい。また、第１実施形態や後述される第１実施形態以外のいずれの実施形態においても、電源部９が第１電極４２と第２電極４４との間に印加する電圧は、第１電極４２と第２電極４４との間の電位差の最大値が０．５ｋＶ～１０ｋＶの範囲内となるように調整されることが望ましい。電源部９は、このような高周波の高電圧を生成し得る回路であれば、公知の様々な交流回路又は直流回路を採用し得る。なお、本明細書では、第１電極４２と第２電極４４との間に印加される印加電圧は、第２電極４４の電位を基準とする第１電極４２の電位の相対的な大きさであり、第１電極４２の電位をＶ１とし、第２電極４４の電位をＶ２とする場合、上記印加電圧は、Ｖ１－Ｖ２である。

第１実施形態や後述される第１実施形態以外のいずれの実施形態においても、電源部９が第１電極４２と第２電極４４との間に印加する電圧の波形は、例えば、凸波形と凹波形とが交互に繰り返されるように周期的に変化する波形である。この電圧波形は、正弦波のような曲線波形であってもよく、矩形波形、三角波形などであってもよい。

図７には、第１態様の溶液処理装置１において電源部９が採用する電圧波形が例示されている。図７のグラフにおいて、縦軸は第１電極４２と第２電極４４との間に印加される印加電圧に対応し、横軸は時間（経過時間）に対応する。図７は、電源部９が印加する上記印加電圧（Ｖ１－Ｖ２）の経時的な変化を表している。図７において、凸波形は、縦軸の一方側（具体的には、電圧が大きい側）に対して凸となる波形である。凹波形は、縦軸の上記一方側に対して凹となる波形であり、縦軸の他方側（具体的には、電圧が小さい側）に対して凸となる波形である。図７に示される印加電圧の波形では、時間ｔ１から時間ｔ２までの１つの周期Ｔに上記凸波形及び上記凹波形が含まれ、このような１周期Ｔの電圧波形が複数周期にわたって周期的に繰り返される。なお、図７に示される印加電圧の具体的な値や時間（経過時間）の具体的な値は公的な一例を示すものであり、この内容に限定されるわけではない。

図７に示される上記印加電圧の波形において、各周期の凸波形は、各周期の最大電圧値を含んだ電圧波形であり、各周期において最大電圧値となる時間までは電圧が上昇する上昇波形となり、最大電圧値となった時間を過ぎると電圧が下降する下降波形となる。凸波形の上昇波形には、電圧が一時的に下降する波形が含まれていてもよく、凸波形の下降波形には電圧が一時的に上昇する波形が含まれていてもよい。各凸波形のピーク電圧は、各周期における最大電圧値と０Ｖとの差（具体的には、最大電圧値から０Ｖを減じた値）である。図７では、周期Ｔの凸波形のピーク電圧として電圧値Ｖａ１が例示され、周期Ｔの次の周期の凸波形のピーク電圧として電圧値Ｖａ２が例示される。電圧値Ｖａ１、Ｖａ２のいずれも正の値である。各周期の凹波形は、各周期における最小電圧値を含んだ電圧波形であり、各周期において最小電圧値となる時間までは電圧が下降する下降波形となり、最小電圧値となった時間を過ぎると電圧が上昇する上昇波形となる。凹波形の下降波形には、電圧が一時的に上昇する波形が含まれていてもよく、凹波形の上昇波形には、電圧が一時的に下降する波形が含まれていてもよい。各凹波形のピーク電圧は、各周期における最小電圧値と０Ｖの差（具体的には、最小電圧値から０Ｖを減じた値）である。図７では、周期Ｔの凹波形のピーク電圧として電圧値Ｖｂ１が例示され、周期Ｔの前の周期の凹波形のピーク電圧として電圧値Ｖｂ０が例示される。電圧値Ｖｂ１、Ｖａ０のいずれも負の値である。

図７に示されるように、電源部９が第１電極４２と第２電極４４との間に印加する印加電圧の波形は、凸波形のピーク電圧の平均値と凹波形のピーク電圧の平均値との合計値がプラスとなるプラス偏向波形である。凸波形のピーク電圧の平均値は、所定期間（例えば、予め定められた所定数の周期）における凸波形のピーク電圧の平均値Ａｖ１である。以下の説明では、平均値Ａｖ１は第１平均値Ａｖ１とも称される。凹波形のピーク電圧の平均値は、所定期間（例えば、予め定められた所定数の周期）における凹波形のピーク電圧の平均値Ａｖ２である。以下の説明では、平均値Ａｖ２は第２平均値Ａｖ２とも称される。例えば、任意の時間Ｔｅの時点における上記第１平均値Ａｖ１は、時間Ｔｅまでの上記所定数の周期（例えば、１０周期）の期間における凸波形のピーク電圧の平均値である。同様に、時間Ｔｅの時点における上記第２平均値Ａｖ２は、時間Ｔｅまでの上記所定数の周期（例えば、１０周期）の期間における凹波形のピーク電圧の平均値である。時間Ｔｅまでの上記所定数の周期の期間は、時間Ｔｅを終了時点とし、時間Ｔｅから上記所定数の周期（例えば、１０周期）だけ遡った時間Ｔｓを開始時点とする、時間Ｔｓから時間Ｔｅまでの期間である。このように第１平均値Ａｖ１及び第２平均値Ａｖ２が定められれば、任意の時間Ｔｅにおいて時間Ｔｅに対応した第１平均値Ａｖ１及び第２平均値Ａｖ２が定まることになる。

溶液処理装置１では、電源部９が第１電極４２及び第２電極４４に対して図７のようなプラス偏向波形となる印加電圧を加えることにより、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正に帯電したプラズマを負に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって放電部４０に行わせ、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対して図８のような所定の電流波形の電流を流す。

図８のグラフは、図７のような波形の電圧を放電部４０に印加して発生したプラズマを容器８０内の溶液９０（具体的には溶液９０内の水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質）に照射した場合に容器８０から漏れる漏れ電流の経時的な変化を示すものである。図８において、縦軸は上記漏れ電流の値に対応し、横軸は時間（経過時間）に対応する。容器８０から漏れる漏れ電流の方向は、容器８０からグラウンド９８に向かう方向が正の方向である。図８の時間ｔ１は、図７の時間ｔ１に対応し、図８の時間ｔ２は、図７の時間ｔ２に対応する。時間ｔ１から時間ｔ２までの周期Ｔにおいて図７のように印加電圧が加えられた場合の当該周期Ｔの漏れ電流の波形は、図８における時間ｔ１から時間ｔ２までの波形である。なお、図８に示される漏れ電流の具体的な値や時間（経過時間）の具体的な値は公的な一例を示すものであり、この内容に限定されるわけではない。

図８に示されるように、上記所定期間（例えば、周期Ｔの所定数分の時間）に水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に流れる電流（具体的には、溶液９０に含まれる水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質からグラウンド９８に流れる漏れ電流）の波形は、正の電流値の波形と負の電流値の波形が交互に繰り返される波形である。更に、上記所定期間に水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に流れる電流の波形は、上記所定期間の電流値の平均が正となる波形であり、上記所定期間における正のピーク（上記所定期間において最も大きい電流値）の絶対値が負のピーク（上記所定期間において最も小さい電流値）の絶対値よりも大きい波形である。更に、上記所定期間の上記電流波形において、各周期の正のピーク電流（各周期における最も大きい電流値）を平均した平均値の絶対値は、上記所定期間における各周期の負のピーク電流（各周期における最も小さい電流値）を平均した平均値の絶対値よりも大きい。

３．溶液処理装置の動作
図１に示される上述の溶液処理装置１は、以下で説明される溶液処理方法に用いることができる。この溶液処理方法は、溶液処理装置１を用い、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液９０を処理する方法であり、主に、準備工程と、照射工程と、を含む。

準備工程は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液９０を準備する工程である。具体的には、準備工程は、上述したプラズマ照射装置２と、容器８０と、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液９０とを用意し、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液９０を容器８０内に収容するように準備する工程である。プラズマ照射装置２と容器８０と溶液９０とを用意する作業は、例えば、作業者が行うことができる。溶液９０を容器８０内に収容するように準備する作業も、作業者が行うことができる。なお、準備工程の一部又は全部の作業は、装置によって機械的に行われてもよい。また、溶液９０は、どのような方法で用意されてもよい。

照射工程は、準備工程で準備された溶液９０に対して溶液処理装置１によってプラズマを照射する工程である。照射工程では、放出口３４を容器８０内の溶液９０に向けるようにプラズマ照射部２０が配置され、この状態で、プラズマ照射部２０が溶液９０に対して特徴的なプラズマを照射する。

照射工程では、ガス流路３０内の空間を不活性ガス（例えば、ヘリウムガスなどの希ガス）が流れるようにガス供給部７から不活性ガスが供給される。そして、照射工程では、このようにガス流路３０内を不活性ガスが流れている状態で、電源部９が、上述の電圧波形となるように且つ上述の電流波形で漏れ電流が流れるように第１電極４２と第２電極４４との間に電圧を周期的に印加する。上述の電圧波形とは、図７で例示されるような「凸波形と凹波形とが交互に繰り返され、凸波形のピーク電圧の平均値と凹波形のピーク電圧の平均値との合計値がプラスとなるプラス偏向波形」である。上述の電流波形とは、図８で例示されるような「正の電流値の波形と負の電流値の波形が交互に繰り返され、電流値の平均が正となる波形であり、且つ正のピークの絶対値が負のピークの絶対値よりも大きい波形」である。このように、ガス流路３０内において不活性ガスが流れている状態で上述の電圧波形の周期的な電圧が第１電極４２と第２電極４４との間に印加されると、ガス流路３０内の空間では沿面放電が生じる。この沿面放電によって生じるプラズマは、正に帯電したプラズマのほうが負に帯電したプラズマよりも多い「正の荷電量が優位なプラズマ」であり、このようなプラズマが放出口３４から溶液９０に向けて放出される。

このように、照射工程では、プラズマ照射部２０が特徴的な電圧波形の電圧を電極間に印加してプラズマを生じさせ、電圧波形に応じた特徴的な特性のプラズマを溶液９０に照射する。このようなプラズマが溶液９０に照射されると、溶液９０では、負に帯電したタンパク質の凝集が、正に帯電したタンパク質の凝集よりも促進される。よって、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質において正に帯電したタンパク質の凝集を負に帯電したタンパク質の凝集よりも抑制しながら負に帯電したタンパク質を選択的に凝集させることができる。例えば、溶液９０において負に帯電したタンパク質であるヘモグロビンやアルブミンと正に帯電したタンパク質であるイムノグロブリンが含まれる場合、上述の照射工程では、この溶液９０に対して上述のプラズマを照射することで、溶液９０に含まれる水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質においてイムノグロブリンの凝集膜を形成することなく、ヘモグロビンやアルブミンの凝集膜を選択的に形成するように処理を行うことができる。

４．評価試験
以下の説明は、本開示の効果を確認するための実験例に関する。
実験例に用いる溶液は、以下のように作製された。まず、人より採取した血液からHistopaque-1077（米国Sigma-Aldrich 社製）により、赤血球が遠心分離によって分取された。赤血球は十分に洗浄され、リン酸緩衝生理食塩水（Phosphate-Buffered Saline: PBS）中に希釈された。このように赤血球が希釈された溶液が、実験例の試料１である。

実験例では、図１で示される第１実施形態の溶液処理装置１と同様の構成を有する溶液処理装置が用いられた。容器８０は、樹脂製の容器が採用された。上述の方法で作製された試料１（溶液）が容器８０内に収容され、その状態で上述の溶液処理装置のプラズマ照射部によって試料１（溶液）に対してプラズマが照射された。プラズマ照射部から試料１（溶液）までの照射距離は、試料１（溶液）の液面がプラズマの放出口付近に位置する距離であり、おおよそ３ｍｍ～５ｍｍとされた。このようなプラズマの照射は、試料１の表層部において凝固が確認されるまで行われた。

実験例は、第１実施形態の溶液処理方法で処理を行った例である。実験例では、第１電極４２と第２電極４４との間に印加する電圧の波形として、図７のような波形が用いられ、図８のような電流波形で漏れ電流が流れるように処理が行われた。

実験例では、試料１（溶液）の一部にタンパク質が凝固した層（以下、凝固層という）が生じるまでプラズマが照射された後の試料１が走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて観察された。具体的には、処理後の試料１が、図１において切断位置Ｃａ，Ｃｂとして例示されるように深さ方向に沿った２位置の切断面で切断され、薄くスライスされた。そして、このようにスライスされた試料１が走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって観察された。

図９には、実験例の処理方法で得られた試料の写真が示される。図９のように実験例の処理方法で処理を行った試料１は、プラズマが照射された最表層にあたる領域Ｆａにおいて赤血球が溶血して漏出した負に帯電したタンパク質（ヘモグロビン）が凝集して生じた凝固層が確認され、凝固層から外れた内部の領域Ｆｂでは凝固層が確認されなかった。

次に、試料１において、ヘモグロビンに代わってイムノグロブリンが希釈された溶液を試料２とし、試料２に試料１と同様の手順でプラズマ照射を行った。しかし、凝固層は形成されず、タンパク質の凝固は見られなかった。

このように、第１実施形態に係る溶液処理方法を用いることで、タンパク質の凝集を選択的に行うことができることが確認された。

５．第１態様の効果の例
上述した溶液処理装置１及び溶液処理方法は、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正に帯電したプラズマを負に帯電したプラズマよりも多く照射するという特徴的な動作により、正の電荷が優位な状態のプラズマを所定期間にわたって水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に供給することができる。このような動作により、正に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ負に帯電したタンパク質を選択的に凝集させることができる。

溶液処理装置１は、第１電極４２及び第２電極４４のうちの片方（図５の例では第１電極４２）が他部材（第２誘電体層５２）を介してガス流路３０内の空間に面し、第１電極４２と第２電極４４との間に電圧を印加することに応じてガス流路３０内で沿面放電を発生させる構成である。このように、放電部４０が沿面放電を発生させる構成であるため、より低い印加電圧で、より効率的にプラズマを照射することができる。

溶液処理装置１は、容器８０に収容された溶液９０で水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質の凝集を生じさせうる。更に、溶液処理装置１は、容器８０が導電性を有し且つグラウンド部９８に対して電気的に接続されているため、容器８０に収容された溶液９０に対してプラズマを照射したときに容器８０を介してグラウンド部９８側に電流が流れやすくなる。よって、溶液処理装置１は、より小さい電力で、より効率的に水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質の凝集を生じさせうる。

＜第２実施形態＞
以下の説明は、図１０において例示される第２実施形態の溶液処理装置２０１に関する。図１０の溶液処理装置２０１は、抵抗要素２０２を備えた点及び容器８０の材料が異なる点が第１実施形態の溶液処理装置１と異なり、その他の点は第１実施形態の溶液処理装置１と同一である。よって、以下では、主に抵抗要素２０２に関する内容が重点的に説明される。

溶液処理装置２０１に用いられるプラズマ照射装置２は、第１実施形態の溶液処理装置１におけるプラズマ照射装置２と同一の構成をなし、第１実施形態と同一の動作を行う。

溶液処理装置２０１に用いられる容器８０は、第１実施形態の溶液処理装置１における容器８０と同一の構成をなす。但し、第２実施形態の容器８０は、導電性ガラスによって構成されている。従って、溶液処理装置２０１は、容器８０においてある程度の抵抗を確保することができ、容器８０を介してグラウンド部９８側に流れる電流をコントロールすることができる。容器８０に収容される溶液９０は、第１実施形態で例示された溶液９０の具体例のうち、いずれの例が用いられてもよい。

溶液処理装置２０１では、容器８０は、抵抗要素２０２を介してグラウンド部９８に接続されている。抵抗要素２０２は、容器８０の電位をグラウンド部９８の電位からオフセットさせる機能を有する。具体的には、抵抗要素２０２は可変抵抗２０２Ａを備える。そして、導電性を有する容器８０の外面部８０Ｂとグラウンド部９８との間に可変抵抗２０２Ａが介在する。そして、外面部８０Ｂの電位がグラウンド部９８の電位よりも高いときに外面部８０Ｂから可変抵抗２０２Ａを介して電流が流れるようになっている。この例では、容器８０から可変抵抗２０２Ａを介してグラウンド部９８に電流が流れるときに、可変抵抗２０２Ａで生じる電圧降下に基づいて容器８０の電位がグラウンド部９８よりも高く設定される。

溶液処理装置２０１は、第１実施形態の溶液処理装置１と同様の効果を生じさせることができる。更に、溶液処理装置２０１は、抵抗要素２０２の存在により、グラウンド部９８側に流れる電流をコントロールすることができる。

＜他の実施形態＞
本開示は、上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではない。上述又は後述の実施形態の特徴は、矛盾しない範囲であらゆる組み合わせが可能である。また、上述又は後述の実施形態のいずれの特徴も、必須のものとして明示されていなければ省略することもできる。更に、上述した実施形態の特徴は、次のように変更されてもよい。

上述の実施形態では、電源部９が、溶液９０に含まれる水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正に帯電したプラズマを負に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって放電部４０に行わせることで、上記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質において正に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ負に帯電したタンパク質を選択的に凝集させる。しかし、本開示に係る技術は、この例に限定されない。電源部９は、溶液９０に含まれる水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し負に帯電したプラズマを正に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって放電部４０に行わせることで、当該水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質において負に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ正に帯電したタンパク質を選択的に凝集させてもよい。この場合、電源部９は、上記所定期間に水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に流れる電流の波形が「正の電流値の波形と負の電流値の波形が交互に繰り返され、上記所定期間の電流値の平均が負となる波形であり、且つ負のピークの絶対値が正のピークの絶対値よりも大きい波形」となるように、放電部４０を動作させればよい。

上述の実施形態では、負に帯電した水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質として、ヘモグロビンが例示されたが、例えば、赤血球、アルブミンなどであってもよい。また、上述の実施形態では、正に帯電したタンパク質としてイムノグロブリンが例示されたが、例えば、フェブリノーゲンなどであってもよい。

上記実施形態の溶液処理装置は、図５のように、第１電極４２が他部材である第２誘電体層５２を介してガス流路３０内の空間に面していたが、第１電極４２が他部材を介さずにガス流路３０内の空間に面していてもよい。つまり、第１電極４２がガス流路３０内の空間に露出し、第１電極４２がガス流路３０の内壁の一部をなすような構成であってもよい。

上述した例では、第１電極が直接又は他部材を介してガス流路内の空間に面するが、第２電極が直接又は他部材を介してガス流路内の空間に面してもよい。例えば、第２電極が「他部材」である誘電体層に覆われる構成で誘電体層を介してガス流路内の空間に面していてもよい。或いは、第２電極がガス流路内の空間に露出し、第２電極がガス流路の内壁の一部をなすような構成であってもよい。いずれの場合でも、第１電極は、第２電極よりもガス流路から離れた位置に配置されていればよい。

上述の実施形態では、容器８０が樹脂や導電性ガラスによって構成されているが、容器８０は、導電性を有する他の材料（例えば、金属材料）によって構成されていてもよい。或いは、容器８０は、導電性を有さない材料によって構成されていてもよい。

上述の実施形態は、容器８０に収容された溶液９０に対してプラズマを照射する構成であるが、この例に限定されない。例えば、「容器に収容されない水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液」に対して上述のプラズマ照射装置２によってプラズマが照射され、この溶液において凝集作用が生じるように溶液処理方法が行われてもよい。この方法では、プラズマ照射装置２を溶液処理装置として機能させることができる。そして、準備工程では、上述のプラズマ照射装置２が準備され、このプラズマ照射装置２からプラズマが照射され得る位置に水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液が配置される。そして、照射工程では、プラズマ照射装置２からプラズマが照射され得る位置に配置された溶液に対してプラズマ照射装置２によってプラズマが照射される。この例において、「容器に収容されない水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液」は、動物や人体などの表面や内部に存在する溶液などであってもよく、容器に収容されないその他の溶液であってもよい。

第２実施形態の溶液処理装置２０１では、抵抗要素２０２として可変抵抗２０２Ａが設けられていたが、可変抵抗２０２Ａに代えて又は可変抵抗２０２Ａに加えて、固定抵抗、インダクタ、コンデンサ、などの電気部品を抵抗要素として設けてもよい。抵抗要素２０２は、当該抵抗要素２０２を介して容器８０からグラウンド部９８へと電流が流れ得る構成であって且つ当該抵抗要素２０２の存在により容器８０の電位をグラウンド部９８の電位よりも高く設定し得る構成であればよい。例えば、抵抗要素２０２は、容器８０の電位をグラウンド部９８の電位から一定値オフセットさせた所定電位に維持するような電圧生成回路であってもよい。

上述の実施形態では、周期的な電圧波形として、図７のような例が示されたが、周期的な電圧波形はこれらの例に限定されない。電源部９が両電極に印加する周期的な電圧の波形は、正弦波のような曲線波形であってもよく、矩形波形、三角波形などであってもよい。いずれの場合でも、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正又は負の一方に帯電したプラズマを他方に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって放電部に行わせることができる波形であればよい。

なお、今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、今回開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示された範囲内又は特許請求の範囲と均等の範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。

１，２０１ ：溶液処理装置
５ ：制御部
９ ：電源部
２０Ａ ：本体部
３０ ：ガス流路
３４ ：放出口
４０ ：放電部
４２ ：第１電極
４４ ：第２電極
５０ ：誘電体層
８０ ：容器
９０ ：溶液
９８ ：グラウンド部
２０２ ：抵抗要素
Ｐ ：プラズマ

Claims (10)

1. ガスの放出口を備えるとともに前記放出口に向かって前記ガスを流すガス流路を有する本体部と、誘電体層と前記誘電体層を介して互いに対向して配置される第１電極及び第２電極とを備えるとともに前記ガス流路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧を印加する電源部と、を有し、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液に対してプラズマを照射する溶液処理装置であって、
   前記電源部が、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正又は負の一方に帯電したプラズマを他方に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって前記放電部に行わせることで、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質のうち前記一方に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ前記他方に帯電したタンパク質を選択的に凝集させる
   溶液処理装置。
2. 前記所定期間に前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に流れる電流の波形は、前記所定期間において正の電流値の波形と負の電流値の波形が交互に繰り返され、前記所定期間の電流値の平均が正となる波形であり、且つ前記所定期間における正のピーク電流の絶対値が負のピーク電流の絶対値よりも大きい波形である
   請求項１に記載の溶液処理装置。
3. 前記放電部は、前記第１電極及び前記第２電極のうちの片方が直接又は他部材を介して前記ガス流路内の空間に面し、前記第１電極と前記第２電極との間に前記電圧を印加することに応じて前記ガス流路内で沿面放電を発生させる
   請求項１又は請求項２に記載の溶液処理装置。
4. 前記ガスは、希ガスである
   請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の溶液処理装置。
5. 前記ガスは、ヘリウムガスである
   請求項４に記載の溶液処理装置。
6. 前記溶液を収容する容器をさらに備える
   請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の溶液処理装置。
7. 前記容器は導電性を有し、グラウンド部に電気的に接続されている
   請求項６に記載の溶液処理装置。
8. 前記容器は、導電性ガラスによって構成されている
   請求項６又は請求項７に記載の溶液処理装置。
9. ガスの放出口を備えるとともに前記放出口に向かって前記ガスを流すガス流路を有する本体部と、誘電体層と前記誘電体層を介して互いに対向して配置される第１電極及び第２電極とを備えるとともに前記ガス流路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧を印加する電源部と、を有する溶液処理装置を用い、水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を含んだ溶液を処理する溶液処理方法であって、
   前記溶液を準備する準備工程と、
   前記準備工程で準備された前記溶液に対して前記溶液処理装置によってプラズマを照射する照射工程と、
   を含み、
   前記照射工程では、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質に対し正又は負の一方に帯電したプラズマを他方に帯電したプラズマよりも多く照射する動作を所定期間にわたって前記放電部に行わせることで、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質において前記一方に帯電したタンパク質の凝集を抑制しつつ前記他方に帯電したタンパク質を選択的に凝集させる
   溶液処理方法。
10. ガスの放出口を備えるとともに前記放出口に向かって前記ガスを流すガス流路を有する本体部と、誘電体層と前記誘電体層を介して互いに対向して配置される第１電極及び第２電極とを備えるとともに前記ガス流路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧を印加する電源部と、を有する溶液処理装置を用い、ヒト血清およびヒト血漿から水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質を除く溶液処理方法であって、
    前記溶液を準備する準備工程と、
    前記準備工程で準備された前記溶液に対して前記溶液処理装置によってプラズマを照射する照射工程と、
    を含み、
    前記照射工程では、前記水に溶解しやすいために血液中に多く存在するタンパク質のうちイムノグロブリンの凝集を抑制しつつ、ハプトグロビン、トランスフェリン、IgA、a1-アンチトリプシン、a2-マクログロブリン、a1-酸性糖タンパク質、アポリポプロテインAI、アポリポプロテインAII、補体タンパク質C3、IgM、トランスサイレチン、フィブリノゲンの少なくとも1つ以上とアルブミンとを併せて選択的に凝集させて膜構造を形成する溶液処理方法。

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