JP2023118059A - 液晶配向膜の製造方法、光配向剤、液晶素子、重合体及び化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶配向性、打鍵耐久性及び密着性に優れた液晶配向膜を得ることができ、かつ輝点不良の発生が抑制された液晶素子を製造できる液晶配向剤を提供すること。【解決手段】式（１）で表される部分構造（ａ）を有する重合体［Ａ］を含有する液晶配向剤により塗膜を形成する工程と、塗膜に光照射を行って液晶配向能を付与する工程と、を含む方法により液晶配向膜を製造する。式（１）中、Ａ１及びＡ２は２価の芳香環基である。ただし、Ａ１及びＡ２の一方又は両方は、－ＯＲ１、－ＮＲ２Ｒ３又は－ＳＲ４で表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｂ１及びＢ２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ５－、－ＣＯ－、＊１－ＣＯ－Ｏ－、＊１－Ｏ－ＣＯ－、＊１－ＣＳ－Ｏ－、＊１－Ｏ－ＣＳ－、＊１－ＣＯ－ＮＲ６－又は＊１－ＮＲ６－ＣＯ－ＮＲ７－である。Ｘは２価の炭化水素基である。TIFF2023118059000029.tif5170【選択図】なし

Description

本発明は、液晶配向膜の製造方法、光配向剤、液晶素子、重合体及び化合物に関する。

液晶素子は、液晶テレビやインフォメーションディスプレイ等といった比較的大型の表示装置から、スマートフォン等の小型の表示装置まで幅広い用途に適用されている。液晶素子の性能は、液晶の配向性やプレチルト角の大きさ、電圧保持率等の各種特性により決定される。液晶素子の性能を向上させるべく、従来、液晶材料の改良のほか、液晶を一定方向に配列させるための液晶配向膜の改良が行われている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。

特許文献１には、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応生成物であるポリアミック酸及びその誘導体を含有する液晶配向剤において、ジアミンとしてジ－ｔｅｒｔ－ブチル｛［アジポイルビス（アザンジイル）］ビス（５－アミノ－２，１－フェニレン）｝ジカルバマートを用いて得られたポリアミック酸を液晶配向剤に含有させることが開示されている。また、特許文献２には、ジアミンとして４，４’－［エタン－１，２－ジイルビス（オキシ）］ビス（３－メチルアニリン）を用いて得られたポリイミドを液晶配向剤に含有させることが開示されている。

国際公開第２０１４／１０４０１５号 国際公開第２０１７／０４７５９６号

膜に異方性を付与して液晶配向膜を形成する方法として光配向法がある。光配向法は、基板上に形成した感放射線性の有機薄膜に対し、偏光又は非偏光の放射線を照射することによって膜に異方性を与え、これにより液晶分子の配向を制御する手法である。この方法によれば、従来のラビング法に比べて、工程内でのほこりや静電気の発生を抑制することができるため、ほこり等に起因する表示不良の発生や歩留まりの低下を抑制することが可能である。また、基板上に形成された有機薄膜に対して、液晶配向能を均一に付与できるといったメリットもある。その一方で、光配向法を適用した場合、光照射よってポリマー等の分解生成物が生じやすく、この分解生成物に起因する表示不良（輝点）が発生しやすい。液晶素子の高品質化を図るためには、基本特性の１つである液晶配向性を優れたものとしながら、輝点の発生を抑制することが求められる。

スマートフォンやタブレットＰＣ等に代表されるモバイル用途では、タッチパネルの稼働面積をより広く、かつ表示装置の小型化を両立させるために狭額縁化を図ることが行われている。狭額縁化を図る方法の１つとしては、基板面全体に液晶配向膜を形成した後、シール剤を液晶配向膜上に塗布して基板同士を貼り合わせる方法が知られている。その一方で、液晶配向膜上にシール剤を配置した場合には、シール剤を配置した配向膜部分に力がかかりやすくなる。このため、液晶配向膜の力学特性や密着性が低いと、基板同士の剥がれが生じやすくなることが懸念される。

また近年では、スマートフォンや車載用途の液晶素子はタッチパネル方式が主流であり、使用者の打鍵操作による外力を受けやすい。液晶素子の信頼性を高める観点からすると、液晶素子を構成する液晶配向膜には、外力を受けたことに起因する表示品位の低下が生じにくく、打鍵耐久性（タッチパネル耐性ともいう）が良好であることも求められる。

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、液晶配向性、打鍵耐久性及び密着性に優れた液晶配向膜を得ることができ、かつ輝点不良の発生が抑制された液晶素子を製造できる液晶配向剤を提供することを主たる目的とする。

本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。

＜１＞ 下記式（１）で表される部分構造（ａ）を有する重合体［Ａ］を含有する液晶配向剤により塗膜を形成する工程と、前記塗膜に光照射を行って液晶配向能を付与する工程と、を含む、液晶配向膜の製造方法。

（式（１）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立して２価の芳香環基である。ただし、Ａ^１及びＡ^２の一方又は両方は、－ＯＲ^１、－ＮＲ^２Ｒ^３又は－ＳＲ^４で表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^４は、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。Ｒ^３は１価の有機基である。Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６－又は＊^１－ＮＲ^６－ＣＯ－ＮＲ^７－である。「＊^１」は、Ａ^１又はＡ^２との結合手を表す。Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。Ｘは２価の炭化水素基である。「＊」は結合手を表す。）

＜２＞ 上記式（１）で表される部分構造（ａ）を有する重合体［Ａ］を含有する、光配向剤。
＜３＞ 上記＜１＞の方法により製造された液晶配向膜を備える液晶素子。
＜４＞ 下記式（３）で表されるジアミンに由来する構造単位を含む重合体。

（式（３）中、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立して２価の芳香環基である。ただし、Ａ^３及びＡ^４の一方又は両方は、－ＯＲ^１ａ又は－ＮＲ^２ａＲ^３ａで表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｒ^１ａ及びＲ^２ａは、それぞれ独立して１価の炭化水素基である。Ｒ^３ａは、水素原子又は１価の有機基である。Ｂ^３及びＢ^４は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５ａ－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６ａ－又は＊^１－ＮＲ^６ａ－ＣＯ－ＮＲ^７ａ－である。Ｒ^５ａは１価の有機基である。Ｒ^６ａ及びＲ^７ａは、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。「＊^１」は、Ａ^３又はＡ^４との結合手を表す。Ｙは、Ｂ^３が－Ｏ－の場合に、炭素数１若しくは２のアルカンジイル基、２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であり、Ｂ^３が＊^１－Ｏ－ＣＯ－の場合に、アルカンジイル基、炭素数４以上の脂肪族炭化水素環を有する２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であり、Ｂ^３が－Ｏ－及び＊^１－Ｏ－ＣＯ－以外の場合に２価の炭化水素基である。）
＜５＞ 上記式（３）で表されるジアミン。

本発明によれば、液晶配向性、打鍵耐久性及び密着性に優れた液晶配向膜を得ることができ、かつ輝点不良の発生が抑制された液晶素子を得ることができる。

以下に、本開示の液晶配向剤及び液晶配向膜の製造方法について説明する。

なお、本明細書において、「炭化水素基」とは、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む意味である。「鎖状炭化水素基」とは、主鎖に環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基を意味する。ただし、鎖状炭化水素基は飽和でも不飽和でもよい。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環式炭化水素の構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基を意味する。ただし、脂環式炭化水素基は脂環式炭化水素の構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基を意味する。ただし、芳香族炭化水素基は芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環式炭化水素の構造を含んでいてもよい。「芳香環」は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を含む意味である。「有機基」とは、炭素を含む化合物（すなわち有機化合物）から任意の水素原子を取り除いてなる原子団をいう。

《液晶配向剤》
本開示の液晶配向剤は、下記式（１）で表される部分構造（ａ）を有する重合体［Ａ］を含有する。

（式（１）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立して２価の芳香環基である。ただし、Ａ^１及びＡ^２の一方又は両方は、－ＯＲ^１、－ＮＲ^２Ｒ^３又は－ＳＲ^４で表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^４は、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。Ｒ^３は１価の有機基である。Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６－又は＊^１－ＮＲ^６－ＣＯ－ＮＲ^７－である。「＊^１」は、Ａ^１又はＡ^２との結合手を表す。Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。Ｘは２価の炭化水素基である。「＊」は結合手を表す。）

本開示の液晶配向剤は、光配向処理により液晶配向膜を形成するための液晶配向剤（すなわち光配向剤）として特に適している。以下ではまず、本開示の液晶配向剤に含まれる各成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。

＜重合体［Ａ］＞
・部分構造（ａ）について
式（１）において、Ａ^１及びＡ^２で表される２価の芳香環基としては、２価の芳香族炭化水素基及び２価の芳香族複素環基が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環又はアントラセン環の環を構成する炭素原子に結合する任意の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。２価の窒素含有芳香族複素環基としては、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環又はピラジン環の環を構成する炭素原子に結合する任意の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。Ａ^１及びＡ^２で表される２価の芳香環基は、これらのうち、２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、ベンゼン環の環を構成する炭素原子に結合する任意の水素原子を取り除いてなる基がより好ましい。

Ａ^１及びＡ^２のうち一方又は両方は、－ＯＲ^１、－ＮＲ^２Ｒ^３又は－ＳＲ^４で表される電子供与性基（以下、「置換基Ｆ１」ともいう）が芳香環に結合した構造を有する。芳香環に置換基Ｆ１が直接結合した構造を重合体中に導入することによって熱再配列性が向上し、液晶配向性が向上したことや、置換基Ｆ１の導入によって結晶性が低下し、応力が緩和されやすい構造になったことによって強度が高まり、打鍵耐久性が向上したことが推測される。また、置換基Ｆ１の導入によって重合体の溶解性を高めることができるとともに、重合体の高感度化を図ることができる。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３又はＲ^４で表される１価の有機基は、液晶配向性の改善効果を十分に得る観点から、炭素数１～１０の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であることが好ましく、炭素数１～６の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であることがより好ましく、炭素数１～５の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であることが更に好ましい。なお、熱脱離性基とは、熱により脱離して水素原子に置き換わる基である。熱脱離性基は、熱による脱離性を良好にするとともに、脱離した部分の膜中の残存量を少なくする観点から、炭素数１５以下であることが好ましく、炭素数１０以下がより好ましい。

炭素数１～１０の１価の炭化水素基の具体例としては、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基、及び炭素数６～１０のアリール基等が挙げられる。これらのうち、炭素数１～６の１価の炭化水素基が好ましく、炭素数１～５のアルキル基又はフェニル基がより好ましく、炭素数１～３のアルキル基が更に好ましい。

Ｒ^１が熱脱離性基である場合の具体例としては、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ－メトキシフェニルベンジル基、メトキシメチル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリチル基等が挙げられる。Ｒ^１で表される熱脱離性基は、これらのうち、アセチル基、メトキシメチル基又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基が好ましく、アセチル基又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）がより好ましい。

Ｒ^２、Ｒ^３が熱脱離性基である場合の具体例としては、カルバメート系保護基、アシル系保護基、アミド系保護基、イミド系保護基、スルホンアミド系保護基等が挙げられる。これらのうち、熱による脱離性が高い点で、カルバメート系保護基が好ましい。その具体例としては、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、１，１－ジメチル－２－ハロエチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等が挙げられる。熱による脱離性に優れ、かつ脱離した部分の膜中の残存量を少なくできる点で、これらの中でも特に、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）が好ましい。

Ｒ^４が熱脱離性基である場合の具体例としては、ベンジルオキシメチル基、ｐ－メトキシベンジルオキシメチル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基等が挙げられる。これらのうち、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）が好ましい。

液晶配向性を良好にする観点から、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^４は、上記の中でも、水素原子、炭素数１～６の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であることが好ましく、水素原子、炭素数１～３のアルキル基、フェニル基又は熱脱離性基であることがより好ましい。Ｒ^３は、炭素数１～６の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であることが好ましく、炭素数１～３のアルキル基、フェニル基又は熱脱離性基であることがより好ましい。

置換基Ｆ１の具体例としては、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数２～５のアルキルカルボニルオキシ基（アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等）、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルオキシ基、炭素数１～５のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、炭素数２～５のアルキルアミド基、Ｎ－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）アミノ基、Ｎ－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）－Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）－Ｎ－エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジ（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）アミノ基、チオール基、炭素数１～５のアルキルチオ基等が挙げられる。

置換基Ｆ１は、液晶配向性の改善効果を高くできる点で、上記の中でも、－ＯＲ^１又は－ＮＲ^２Ｒ^３が好ましく、－ＯＲ^１がより好ましい。

良好な液晶配向性及び密着性の効果を得つつ、輝点の抑制及び打鍵耐久性の改善効果を高める観点から、Ａ^１及びＡ^２の両方が、芳香環に結合した置換基Ｆ１を有していることが好ましい。Ａ^１中の置換基Ｆ１の数及びＡ^２中の置換基Ｆ１の数はそれぞれ、１～３個が好ましく、１又は２個がより好ましく、１個が更に好ましい。

芳香環における置換基Ｆ１の結合位置は特に限定されない。置換基Ｆ１が結合する原子と、Ｂ^１又はＢ^２（Ｂ^１、Ｂ^２が単結合の場合にはＸ）が結合する原子とが隣接している場合、光に対する感度をより高くでき、良好な液晶配向性を示す液晶素子を得ることができる点で好適である。なお、Ａ^１及びＡ^２は、芳香環の環部分に、置換基Ｆ１とは別の置換基を更に有しないことが好ましい。

Ｂ^１及びＢ^２について、－ＮＲ^５－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６－、＊^１－ＮＲ^６－ＣＯ－ＮＲ^７－に含まれるＲ^５、Ｒ^６又はＲ^７が１価の有機基である場合、当該１価の有機基は、炭素数１～１０の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であることが好ましい。Ｒ^５、Ｒ^６又はＲ^７が炭素数１～１０の１価の炭化水素基又は熱脱離性基の具体例及び好ましい例としては、Ｒ^２、Ｒ^３の具体例及び好ましい例として説明した基が挙げられる。Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、水素原子、炭素数１～３のアルキル基又は熱脱離性基が好ましく、炭素数１～３のアルキル基又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基がより好ましい。

Ｂ^１及びＢ^２は、良好な液晶配向性を示す液晶素子を得る観点から、中でも、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６－又は＊^１－ＮＲ^６－ＣＯ－ＮＲ^７－であることが好ましく、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ^５－であることがより好ましい。

Ｘで表される２価の炭化水素基としては、炭素数１～１８の鎖状炭化水素基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、及び炭素数６～１８の芳香族炭化水素基が挙げられる。液晶配向性及び打鍵耐久性の改善効果が高い液晶配向膜を形成できる点で、Ｘは、炭素数１～１０の鎖状炭化水素基、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１２の芳香族炭化水素基が好ましく、液晶配向性をより優れたものとすることができる点や、膜密度を高くできる点で、炭素数１～５の直鎖状のアルカンジイル基がより好ましく、メチレン基又は１，２－エチレン基が更に好ましい。

液晶配向性及び打鍵耐久性の改善効果をより高くできる点で、重合体［Ａ］は、部分構造（ａ）を主鎖中に有する、すなわち部分構造（ａ）が重合体［Ａ］の主鎖の一部を構成していることが好ましい。重合体［Ａ］の主骨格は特に限定されない。部分構造（ａ）を重合体の主鎖中に導入しやすい点、液晶との親和性及び機械的強度が高い液晶配向膜を形成できる点、並びに単量体の選択の自由度が高い点で、重合体［Ａ］は、部分構造（ａ）を有するジアミン（以下、「特定ジアミン」ともいう）に由来する構造単位を有することが好ましく、具体的には、下記式（２）で表される化合物に由来する構造単位を有することが好ましい。

（式（２）中、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１、Ｂ^２及びＸは、上記式（１）と同義である。）

ここで、「主鎖」とは、重合体のうち最も長い原子の連鎖からなる「幹」の部分をいう。なお、この「幹」の部分が環構造を含むことは許容される。つまり、「部分構造（ａ）を主鎖中に有する」とは、部分構造（ａ）が主鎖の一部分を構成することをいう。「側鎖」とは、重合体の「幹」から分岐した部分をいう。

特定ジアミンは、下記式（２Ａ）で表される化合物であることが特に好ましい。

（式（２Ａ）中、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、－ＯＲ^１、－ＮＲ^２Ｒ^３又は－ＳＲ^４で表される基である。ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立して１又は２である。ｋ１が２の場合、複数のＺ^１は同一又は異なる。ｋ２が２の場合、複数のＺ^２は同一又は異なる。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｂ^１、Ｂ^２及びＸは、上記式（１）と同義である。）

式（２Ａ）において、Ｚ^１及びＺ^２は、－ＯＲ^１又は－ＮＲ^２Ｒ^３で表される基であることが好ましい。

Ｚ^１及びＺ^２が－ＯＲ^１で表される基の場合、Ｒ^１は水素原子、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基又は熱脱離性基であることが好ましく、炭素数１～５のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１～３のアルキル基であることが更に好ましい。また、Ｂ^１及びＢ^２は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６－又は＊^１－ＮＲ^６－ＣＯ－ＮＲ^７－であることが好ましく、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ^５－であることがより好ましい。Ｘは、炭素数１若しくは２のアルカンジイル基、２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、炭素数１又は２のアルカンジイル基がより好ましい。

Ｚ^１及びＺ^２が－ＮＲ^２Ｒ^３で表される基の場合、Ｒ^２は水素原子、炭素数１～３のアルキル基、フェニル基又は熱脱離性基であって、Ｒ^３は炭素数１～３のアルキル基、フェニル基又は熱脱離性基であることが好ましい。また、Ｂ^１及びＢ^２は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ^５－であることが好ましく、－Ｏ－であることがより好ましい。Ｘは、炭素数１～５のアルカンジイル基、２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、炭素数１～５のアルカンジイル基がより好ましく、炭素数１又は２のアルカンジイル基が更に好ましい。

特定ジアミンの具体例としては、下記式（４－１）～（４－２４）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。なお、式中、「Ｂｏｃ」は、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す（以下同じ）。

（式中、ｎは１～１８の整数である。）

上記式（４－１）～（４－２４）のそれぞれで表される化合物において、ベンゼン環における置換基Ｆ１の結合位置は特に限定されない。置換基Ｆ１の結合位置は、１級アミノ基以外の他の基（すなわち、上記式（１）中のＢ^１又はＢ^２（Ｂ^１、Ｂ^２が単結合の場合にはＸ））に対して、２－位又は３－位であることが好ましい。特に、置換基Ｆ１の結合位置が、１級アミノ基以外の他の基に対して２－位である場合、高感度化を図ることができ、液晶配向性を更に良化できる点で好ましい。

重合体［Ａ］において、部分構造（ａ）を有する構造単位（以下、「構造単位（Ｕａ）」ともいう）の含有割合は、液晶配向膜の液晶配向性、密着性及び打鍵耐久性の改善効果を十分に高くするとともに、輝点の発生が十分に抑制された液晶素子を得る観点から、重合体［Ａ］が有する単量体単位の全量１００モル部に対し、２モル部以上であることが好ましい。構造単位（Ｕａ）の含有割合は、重合体［Ａ］が有する単量体単位の全量１００モル部に対し、より好ましくは５モル部以上であり、更に好ましくは１０モル部以上である。また、構造単位（Ｕａ）の含有割合は、重合体［Ａ］の主鎖に応じて適宜設定され得るが、重合体［Ａ］が有する単量体単位の全量１００モル部に対し、例えば５０モル部以下である。なお、重合体［Ａ］が有する構造単位（Ｕａ）は１種のみでもよく、２種以上であってもよい。

特定ジアミンは、有機化学の定法を適宜組み合わせることによって合成することができる。その一例としては、部分構造（ａ）を有するジアミンの１級アミノ基に代えてニトロ基を有するジニトロ体を合成し、次いで、得られたジニトロ体のニトロ基を適当な還元系を用いてアミノ化する方法が挙げられる。

ジニトロ体を合成する方法は、目的とする化合物に応じて適宜選択することができる。例えば、置換基Ｆ１が結合した芳香環構造を有する水酸基含有化合物と、基Ｘを有するハロゲン化物とを好ましくは有機溶媒中、塩基及び必要に応じて触媒の存在下で反応させる方法；置換基Ｆ１が結合した芳香環構造を有する水酸基含有化合物と、基Ｘを有するトシル基含有化合物とを好ましくは有機溶媒中、塩基及び必要に応じて触媒の存在下で反応させる方法；置換基Ｆ１が結合した芳香環構造を有する酸ハロゲン化物と、基Ｘを有するアミノ基含有化合物とを好ましくは有機溶媒中、塩基及び必要に応じて触媒の存在下で縮合させる方法；置換基Ｆ１が結合した芳香環構造を有するカルボン酸と、基Ｘを有するアミノ基含有化合物とを好ましくは有機溶媒中、塩基及び必要に応じて触媒の存在下で縮合させる方法、等が挙げられる。

ジニトロ体の還元反応は、好ましくは有機溶媒中、例えばパラジウム炭素、酸化白金、亜鉛、鉄、スズ、ニッケル等の触媒を用いて実施することができる。ここで使用する有機溶媒としては、例えば酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、アルコール系等が挙げられる。ただし、特定ジアミンの合成手順は上記方法に限定されるものではない。

本開示によれば、下記式（３）で表されるジアミンが提供される。

（式（３）中、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立して２価の芳香環基である。ただし、Ａ^３及びＡ^４の一方又は両方は、－ＯＲ^１ａ又は－ＮＲ^２ａＲ^３ａで表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｒ^１ａ及びＲ^２ａは、それぞれ独立して１価の炭化水素基である。Ｒ^３ａは、水素原子又は１価の有機基である。Ｂ^３及びＢ^４は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５ａ－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６ａ－又は＊^１－ＮＲ^６ａ－ＣＯ－ＮＲ^７ａ－である。Ｒ^５ａは１価の有機基である。Ｒ^６ａ及びＲ^７ａは、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。「＊^１」は、Ａ^３又はＡ^４との結合手を表す。Ｙは、Ｂ^３が－Ｏ－の場合に、炭素数１若しくは２のアルカンジイル基、２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であり、Ｂ^３が＊^１－Ｏ－ＣＯ－の場合に、アルカンジイル基、炭素数４以上の脂肪族炭化水素環を有する２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であり、Ｂ^３が－Ｏ－及び＊^１－Ｏ－ＣＯ－以外の場合に２価の炭化水素基である。）

上記式（３）において、Ｒ^１ａ及びＲ^２ａで表される１価の炭化水素基、並びにＲ^３ａで表される１価の有機基の具体例及び好ましい例については、式（１）中のＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３として例示した１価の炭化水素基、１価の有機基の具体例及び好ましい例と同様の基が挙げられる。Ｒ^１ａ及びＲ^２ａは、好ましくは炭素数１～６の１価の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数１～５のアルキル基及びフェニル基であり、更に好ましくは炭素数１～３のアルキル基である。Ｒ^３ａは、好ましくは水素原子、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基又は熱脱離性基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１～３のアルキル基又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基である。

Ｂ^３及びＢ^４の具体例及び好ましい例については、式（１）中のＢ^１及びＢ^２の説明が適用される。Ｙで表される２価の炭化水素基の具体例としては、式（１）のＸで表される基としれ例示した基と同様の基が挙げられる。

Ｂ^３が－Ｏ－の場合、Ｙは、液晶配向性の改善効果を高くする観点から、炭素数１若しくは２のアルカンジイル基、炭素数４以上の脂肪族炭化水素環を有する２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。炭素数４以上の脂肪族炭化水素環を有する２価の脂環式炭化水素基としては、良好な液晶配向性及び高い膜密度を実現する観点から、シクロヘキサン環を有することが好ましい。Ｂ^３が－Ｏ－の場合、Ｙは、これらの中でも、メチレン基又はエチレン基であることがより好ましい。

Ｂ^３が＊^１－Ｏ－ＣＯ－の場合、Ｙは、炭素数１～５の直鎖状のアルカンジイル基が好ましく、メチレン基又はエチレン基がより好ましい。Ｂ^３が－Ｏ－及び＊^１－Ｏ－ＣＯ－以外の場合、Ｙは、炭素数１～１０の鎖状炭化水素基、炭素数３～１０の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１２の芳香族炭化水素基が好ましく、液晶配向性をより優れたものとすることができる点及び膜密度を高くできる点で、炭素数１～５の直鎖状のアルカンジイル基がより好ましく、メチレン基又はエチレン基が更に好ましい。

式（３）で表されるジアミンは、下記式（３Ａ）で表される化合物が特に好ましい。

（式（３Ａ）中、Ｚ^３及びＺ^４は、それぞれ独立して、－ＯＲ^１ａ又は－ＮＲ^２ａＲ^３ａで表される基である。ｋ３及びｋ４は、それぞれ独立して１又は２である。ｋ３が２の場合、複数のＺ^３は同一又は異なる。ｋ４が２の場合、複数のＺ^４は同一又は異なる。Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｒ^３ａ、Ｂ^３、Ｂ^４及びＹは上記式（３）と同義である。）

式（３）で表されるジアミンの具体例としては、上記式（４－１）～式（４－３）、式（４－６）、式（４－１０）及び式（４－２３）においてｎが１又は２である化合物；上記式（４－１３）、（４－１８）及び（４－２２）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。

重合体［Ａ］は、液晶との親和性及び機械的強度が高く、かつ信頼性の高い液晶配向膜を形成できる点で、中でも、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。

・ポリアミック酸
重合体［Ａ］がポリアミック酸である場合、当該ポリアミック酸（以下、「ポリアミック酸［Ａ］」ともいう）は、テトラカルボン酸二無水物と、特定ジアミンを含むジアミン化合物とを反応させることにより得ることができる。

（テトラカルボン酸二無水物）
ポリアミック酸［Ａ］の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、鎖状テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。

これらの具体例としては、鎖状テトラカルボン酸二無水物として、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物等が挙げられる。脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、置換シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５－トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラン－３－イル）－３ａ，４，５，９ｂ－テトラヒドロナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラン－３－イル）－８－メチル－３ａ，４，５，９ｂ－テトラヒドロナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン、２，４，６，８－テトラカルボキシビシクロ［３．３．０］オクタン－２：４，６：８－二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等、３，５，６－トリカルボキシ－２－カルボキシメチルノルボルナン－２：３，５：６－二無水物等が挙げられる。

芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメート、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、４，４’－カルボニルジフタル酸無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。また、ポリアミック酸［Ａ］の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、特開２０１０－９７１８８号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。テトラカルボン酸二無水物としては、１種を単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。

ポリアミック酸［Ａ］（ひいては重合体［Ａ］）の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物は、溶解性が高く、かつ良好な液晶配向性及び電気特性を示す液晶配向膜を得ることができる点で、脂肪族テトラカルボン酸二無水物を含むことが好ましく、脂環式テトラカルボン酸二無水物を含むことがより好ましい。重合体［Ａ］における脂肪族テトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位の割合は、重合体［Ａ］が有するテトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位の全量に対して、２０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましく、５０モル％以上であることが更に好ましい。

光配向性に優れた重合体としつつ、特定ジアミンとの併用により光配向処理後にも輝点の発生を少なくできる点で、重合体［Ａ］は中でも、置換シクロブタンテトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位を含むことが好ましい。具体的には、重合体［Ａ］は、下記式（４）で表される部分構造を有する構造単位を含むことが好ましい。

（式（４）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基である。ただし、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４のうち１つ以上は置換基である。「＊」は結合手を表す。）

式（４）において、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４で表される置換基（すなわち、置換シクロブタンテトラカルボン酸二無水物が有する置換基）としては、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のハロゲン化アルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～６のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。これらのうち、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４で表される置換基は、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のハロゲン化アルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、炭素数１～３のハロゲン化アルコキシ基、又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のフルオロアルキル基又はフッ素原子であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。

式（４）で表される部分構造を有するテトラカルボン酸二無水物の具体例としては、１－メチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３－トリメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－テトラメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１－エチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジエチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１－エチル－３－メチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジメトキシ－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジエトキシ－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１－トリフルオロメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジ（トリフルオロメチル）－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジ（トリフルオロメトキシ）－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３－トリ（トリフルオロメチル）－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－テトラ（トリフルオロメチル）－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

重合体［Ａ］が置換シクロテトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位を含む場合、置換シクロテトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位の割合は、重合体［Ａ］が有するテトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位の全量に対して、２０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましく、６０モル％以上であることが更に好ましい。

（ジアミン化合物）
ポリアミック酸［Ａ］の合成に使用されるジアミン化合物は、特定ジアミンのみであってもよいが、特定ジアミンとともに、部分構造（ａ）を有しないジアミン（以下、「その他のジアミン」ともいう）を使用してもよい。その他のジアミンとしては、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。脂肪族ジアミンとしては、鎖状ジアミン及び脂環式ジアミンが挙げられる。

その他のジアミンの具体例としては、鎖状ジアミンとして、メタキシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等を；脂環式ジアミンとして、１，４－ジアミノシクロヘキサン、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）等を；芳香族ジアミンとして、ｐ－フェニレンジアミン、１，４－ジアミノ－２，５－ジメチルベンゼン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルエタン、４－アミノフェニル－４－アミノベンゾエート、４，４’－ジアミノアゾベンゼン、３，５－ジアミノ安息香酸、１，５－ビス（４－アミノフェノキシ）ペンタン、１，２－ビス（４－アミノフェノキシ）エタン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）プロパン、１，６－ビス（４－アミノフェノキシ）ヘキサン、６，６’－（ペンタメチレンジオキシ）ビス（３－アミノピリジン）、Ｎ，Ｎ’－ジ（５－アミノ－２－ピリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジ（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）エチレンジアミン、ビス［２－（４－アミノフェニル）エチル］ヘキサン二酸、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルアミン、４，４’－ジアミノジフェネチルウレア、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、４，４’－（フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、２，６－ジアミノピリジン、２，４－ジアミノピリミジン、３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－メチル－３，６－ジアミノカルバゾール、３，６－ジアミノアクリジン、ジフェニルアミン構造含有モノマー、下記式（Ｄ－１）

（式（Ｄ－１）中、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、アルカンジイル基である。Ｒ^２３は、水素原子、炭素数１～３のアルキル基又は熱脱離性基である。ｎ１は１～３の整数である。ｎ１が２又は３の場合、複数のＲ^２２は互いに同一又は異なり、複数のＲ^２３は互いに同一又は異なる。）
で表される化合物等の主鎖型ジアミン；
ヘキサデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ－２，５－ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ－３，５－ジアミノベンゼン、コレステリルオキシ－３，５－ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ－２，４－ジアミノベンゼン、コレステリルオキシ－２，４－ジアミノベンゼン、３，５－ジアミノ安息香酸コレスタニル、３，５－ジアミノ安息香酸コレステリル、３，５－ジアミノ安息香酸ラノスタニル、３，６－ビス（４－アミノベンゾイルオキシ）コレスタン、３，６－ビス（４－アミノフェノキシ）コレスタン、４－（４’－トリフルオロメトキシベンゾイロキシ）シクロヘキシル－３，５－ジアミノベンゾエート、１，１－ビス（４－（（アミノフェニル）メチル）フェニル）－４－ブチルシクロヘキサン、３，５－ジアミノ安息香酸＝５ξ－コレスタン－３－イル、下記式（Ｅ－１）

（式（Ｅ－１）中、Ｘ^I及びＸ^IIは、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、＊－ＣＯＯ－又は＊－ＯＣＯ－（ただし、「＊」はジアミノフェニル基側との結合手を示す。）である。Ｒ^Ｉは、炭素数１～３のアルカンジイル基である。Ｒ^ＩＩは、単結合又は炭素数１～３のアルカンジイル基である。Ｒ^ＩＩＩは、炭素数１～２０のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、又はフルオロアルコキシ基である。ａは０又は１である。ｂは０～３の整数である。ｃは０～２の整数である。ｄは０又は１である。ただし、１≦ａ＋ｂ＋ｃ≦３である。）
で表される化合物等の側鎖型ジアミン等を、
ジアミノオルガノシロキサンとして、１，３－ビス（３－アミノプロピル）－テトラメチルジシロキサン等を、それぞれ挙げることができる。

上記式（Ｄ－１）で表される化合物としては、例えば下記式（Ｄ－１－１）～式（Ｄ－１－３）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。上記式（Ｅ－１）で表される化合物としては、例えば下記式（Ｅ－１－１）～式（Ｅ－１－４）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。その他のジアミンとしては、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

ポリアミック酸［Ａ］において、特定ジアミンに由来する構造単位の割合は、液晶配向膜の液晶配向性、密着性及び打鍵耐久性の改善効果を十分に高め、かつ液晶素子の輝点発生を十分に抑制する観点から、ポリアミック酸［Ａ］が有するジアミン化合物に由来する構造単位の全量に対して、５モル％以上であることが好ましく、１０モル％以上であることがより好ましく、１５モル％以上であることが更に好ましい。特定ジアミンとしては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

・ポリアミック酸の合成
ポリアミック酸［Ａ］は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを、必要に応じて分子量調整剤とともに反応させることにより得ることができる。ポリアミック酸［Ａ］の合成反応において、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との使用割合は、ジアミン化合物のアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２～２当量となる割合が好ましい。分子量調整剤としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸等の酸一無水物、アニリン、シクロヘキシルアミン、ｎ－ブチルアミン等のモノアミン化合物、フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等のモノイソシアネート化合物等を挙げることができる。分子量調整剤の使用割合は、使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の合計１００質量部に対して、２０質量部以下とすることが好ましい。

ポリアミック酸［Ａ］の合成反応は、好ましくは有機溶媒中で行われる。このときの反応温度は－２０℃～１５０℃が好ましく、反応時間は０．１～２４時間が好ましい。反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、ハロゲン化炭化水素、炭化水素等を挙げることができる。これらの具体例としては、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ｍ－クレゾール、キシレノール及びハロゲン化フェノールよりなる群から選択される１種以上を反応溶媒として使用するか、あるいはこれらの１種以上と、他の有機溶媒（例えばブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジエチルエーテル等）との混合物を使用することが好ましい。有機溶媒の使用量は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量が、反応溶液の全量に対して０．１～５０質量％になる量とすることが好ましい。

以上の反応により、ポリアミック酸［Ａ］を溶解してなる重合体溶液が得られる。この重合体溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、重合体溶液中に含まれるポリアミック酸［Ａ］を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。

・ポリアミック酸エステル
重合体［Ａ］がポリアミック酸エステルである場合、当該ポリアミック酸エステル（以下、「ポリアミック酸エステル［Ａ］」ともいう）は、例えば、［I］ポリアミック酸［Ａ］とエステル化剤とを反応させる方法、［II］テトラカルボン酸ジエステルと、特定ジアミンを含むジアミン化合物とを反応させる方法、［III］テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物と、特定ジアミンを含むジアミン化合物とを反応させる方法、等によって得ることができる。ポリアミック酸エステル［Ａ］は、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。ポリアミック酸エステル［Ａ］を溶解してなる反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸エステル［Ａ］を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。

・ポリイミド
重合体［Ａ］がポリイミドである場合、当該ポリイミド（以下、「ポリイミド［Ａ］」ともいう）は、例えば上記の如くして合成されたポリアミック酸［Ａ］を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。ポリイミド［Ａ］は、その前駆体であるポリアミック酸［Ａ］が有していたアミック酸構造の全てを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。ポリイミド［Ａ］は、イミド化率が２０～９９％であることが好ましく、３０～９０％であることがより好ましい。なお、イミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。

ポリアミック酸［Ａ］の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸［Ａ］を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し、必要に応じて加熱する方法により行われる。この方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸［Ａ］のアミック酸構造の１モルに対して０．０１～２０モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の３級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して０．０１～１０モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸［Ａ］の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは０～１８０℃である。反応時間は、好ましくは１．０～１２０時間である。なお、ポリイミド［Ａ］を含有する反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミド［Ａ］を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。

液晶配向膜の力学的強度をより高くできる点で、重合体［Ａ］としては中でもポリイミド［Ａ］を好ましく使用できる。本発明者の検討によると、ポリアミック酸をイミド化した場合、液晶配向膜の力学的強度が低下したり密着性が低下したりする傾向がある。その一方で、ポリイミドはポリアミック酸よりも溶解性が低く、塗布性不良や膜の不均一性等を引き起こしやすいことが懸念される。この点、部分構造（ａ）を有するポリイミド［Ａ］は良好な溶解性を示すため、塗布性の低下や膜均一性の低下を抑制しながら力学的強度が高い液晶配向膜を形成することができる。

液晶配向剤の調製に使用する重合体［Ａ］の溶液粘度は、濃度１０質量％の溶液としたときに１０～８００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることが好ましく、１５～５００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、重合体［Ａ］の良溶媒（例えばγ－ブチロラクトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等）を用いて調製した濃度１０質量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。

重合体［Ａ］のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００～５００，０００であり、より好ましくは２，０００～３００，０００である。また、Ｍｗと、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）との比で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは７以下であり、より好ましくは５以下である。なお、液晶配向剤の調製に際し、重合体［Ａ］としては１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

＜その他の成分＞
液晶配向剤は、重合体［Ａ］のほか、必要に応じて、重合体［Ａ］とは異なる成分（以下「その他の成分」ともいう）を含有していてもよい。

・重合体［Ｂ］
本開示の液晶配向剤は、重合体成分として、部分構造（ａ）を有しない重合体（以下「重合体［Ｂ］」ともいう）を更に含有してもよい。重合体［Ｂ］の主骨格は特に限定されない。その他の重合体としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリエナミン、ポリウレア、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾオキサゾール、セルロース誘導体、ポリアセタール、（メタ）アクリル系重合体、スチレン系重合体、マレイミド系重合体、スチレン－マレイミド系共重合体等が挙げられる。信頼性の高い液晶素子を得る観点から、重合体［Ｂ］は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、及び重合性不飽和炭素－炭素結合を有する単量体に由来する構造単位を含む重合体よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。重合性不飽和炭素－炭素結合を有する単量体に由来する構造単位を含む重合体としては、（メタ）アクリル系重合体、スチレン系重合体、マレイミド系重合体、及びスチレン－マレイミド系共重合体等が挙げられる。

重合体［Ｂ］を液晶配向剤に含有させる場合、重合体［Ｂ］の含有割合は、重合体［Ａ］と重合体［Ｂ］との合計量に対して、１質量％以上が好ましく、２質量％以上がより好ましい。また、重合体［Ｂ］の含有割合は、重合体［Ａ］と重合体［Ｂ］との合計量に対して、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。重合体［Ｂ］としては、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。

・溶剤
本開示の液晶配向剤は、重合体［Ａ］及び必要に応じて使用されるその他の成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。

溶剤としては有機溶媒が好ましく使用される。その具体例としては、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、１，２－ジメチル－２－イミダゾリジノン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、フェノール、γ－ブチロラクトン、γ－ブチロラクタム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、ジアセトンアルコール、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、プロパン－１，２－ジオール、３－メトキシ－１－ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸エチル、メチルメトキシプロピオネ－ト、エチルエトキシプロピオネ－ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコール－ｉ－プロピルエーテル、エチレングリコール－ｎ－ブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、ジエチレングリコールジエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールジアセテート、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。溶剤としては、１種を単独で又は２種以上を混合して使用することができる。

液晶配向剤に含有されるその他の成分としては、上記のほか、例えば、架橋剤、酸化防止剤、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤、充填剤、分散剤、光増感剤等が挙げられる。その他の成分の配合割合は、本開示の効果を損なわない範囲で各化合物に応じて適宜選択することができる。

液晶配向剤における固形分濃度（液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合）は、粘性、揮発性等を考慮して適宜に選択される。液晶配向剤の固形分濃度は、好ましくは１～１０質量％の範囲である。固形分濃度が１質量％以上であると、塗膜の膜厚を十分に確保でき、より良好な液晶配向性を示す液晶配向膜を得ることができる点で好適である。一方、固形分濃度が１０質量％以下であると、塗膜を適度な厚みとすることができ、良好な液晶配向性を示す液晶配向膜が得られやすく、また、液晶配向剤の粘性が適度となり塗布性を良好にできる傾向がある。

≪液晶配向膜及びその製造方法≫
本開示の液晶配向膜は、上記のように調製された液晶配向剤により製造される。本開示の液晶配向膜は、重合体［Ａ］を含有する液晶配向剤により塗膜を形成する工程（塗膜形成工程）と、その塗膜に光照射を行って液晶配向能を付与する工程（光配向処理工程）と、を含む方法により製造されることが好ましい。

・塗膜形成工程
液晶配向膜の製造に際しては、まず、基板上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）等のプラスチックからなる透明基板を用いることができる。

基板への液晶配向剤の塗布方法は特に限定されない。基板への液晶配向剤の塗布は、例えば、スピンコート方式、印刷方式（例えば、オフセット印刷方式、フレキソ印刷方式等）、インクジェット方式、スリットコート方式、バーコーター方式、エクストリューションダイ方式、ダイレクトグラビアコーター方式、チャンバードクターコーター方式、オフセットグラビアコーター方式、含浸コーター方式、ＭＢコーター方式法等により行うことができる。

液晶配向剤を塗布した後、塗布した液晶配向剤の液垂れ防止等の目的で、好ましくは予備加熱（プレベーク）が実施される。プレベーク温度は、好ましくは３０～２００℃であり、プレベーク時間は、好ましくは０．２５～１０分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて、重合体に存在するアミック酸構造を熱イミド化することを目的として焼成（ポストベーク）工程が実施される。このときの焼成温度（ポストベーク温度）は、好ましくは８０～２８０℃であり、より好ましくは８０～２５０℃である。ポストベーク時間は、好ましくは５～２００分である。形成される膜の膜厚は、好ましくは０．００１～１μｍである。

・光配向処理工程
続いて、上記工程により形成された塗膜に対し、塗膜に光照射（放射線照射）を行って液晶配向能を付与する光配向処理を実施する。これにより光配向膜が得られる。光配向のための光照射は、ポストベーク工程後の塗膜に対して照射する方法、プレベーク工程後であってポストベーク工程前の塗膜に対して照射する方法、プレベーク工程及びポストベーク工程のいずれか一方又は両方における塗膜の加熱中に塗膜に対して照射する方法、等により行うことができる。

塗膜に照射する放射線としては、例えば１５０～８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができる。好ましくは、２００～４００ｎｍの波長の光を含む紫外線である。放射線が偏光である場合、直線偏光であっても部分偏光であってもよい。用いる放射線が直線偏光又は部分偏光である場合には、照射は基板面に垂直の方向から行ってもよく、斜め方向から行ってもよく、又はこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線の場合の照射方向は斜め方向とする。

使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等が挙げられる。放射線の照射量は、好ましくは２００～３０，０００Ｊ／ｍ^２であり、より好ましくは５００～１０，０００Ｊ／ｍ^２である。配向能付与のための光照射後において、基板表面を、例えば水、有機溶媒（例えば、メタノール、イソプロピルアルコール、１－メトキシ－２－プロパノールアセテート、ブチルセロソルブ、乳酸エチル等）又はこれらの混合物を用いて洗浄する処理や、基板を加熱する処理を行ってもよい。

≪液晶素子≫
本開示の液晶素子は、上記で説明した液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜を備える。液晶素子における液晶の駆動方式は特に限定されず、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、ＶＡ型（ＶＡ－ＭＶＡ型、ＶＡ－ＰＶＡ型等を含む）、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）型、ＰＳＡ型（Polymer Sustained Alignment）等の種々のモードに適用することができる。液晶素子は、例えば、上述した塗膜形成工程及び光配向処理工程、並びに以下のセル構築工程を含む方法により製造することができる。

塗膜形成工程において使用する基板は、所望の動作モードによって異なる。例えば、ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＶＡ型の液晶素子を製造する場合には、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板２枚を用いる。ＩＰＳ型又はＦＦＳ型の液晶素子を製造する場合には、櫛歯型にパターニングされた電極が設けられている基板と、電極が設けられていない対向基板とを用いる。透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ_２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム－酸化スズ（Ｉｎ_２Ｏ_３－ＳｎＯ_２）からなるＩＴＯ膜等を用いることができる。

・セル構築工程
セル構築工程では、上述した光配向処理工程により液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、対向配置した２枚の基板間に液晶を配置することにより液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば、液晶配向膜が対向するように間隙を介して２枚の基板を対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤により貼り合わせ、基板表面とシール剤で囲まれたセルギャップ内に液晶を注入充填し注入孔を封止する方法、ＯＤＦ方式による方法等が挙げられる。シール剤としては、例えば硬化剤及びスペーサとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。

液晶としては、ポジ型及びネガ型のいずれを用いてもよい。ＩＰＳ型及びＦＦＳ型の液晶素子においてネガ型液晶を用いた場合、電極上部での透過損失を小さくでき、コントラスト向上を図ることができる点で好ましい。また、光照射よるポリマーの分解によって異方性を発現させ、これにより液晶配向能が膜に付与された光分解型の液晶配向膜では、ネガ液晶を用いて液晶素子を作製した場合に、放射線照射によって生じるポリマーの分解生成物に起因する表示不良（輝点）の発生率が高い傾向にある。これに対し、本開示の液晶配向剤によれば、輝点の発生が抑制された高品質な液晶素子を得ることができる。液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶を挙げることができ、中でもネマチック液晶が好ましい。

液晶表示装置を製造する場合、続いて、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせる。偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はＨ膜そのものからなる偏光板が挙げられる。

本開示の液晶素子は、種々の用途に有効に適用することができる。具体的には、例えば、時計、携帯型ゲーム機、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、ＰＤＡ、デジタルカメラ、携帯電話機、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイ等の各種表示装置や、調光装置、位相差フィルム等として用いることができる。

以上説明した本開示によれば、以下の手段が提供される。

〔手段１〕 上記式（１）で表される部分構造（ａ）を有する重合体［Ａ］を含有する液晶配向剤により塗膜を形成する工程と、前記塗膜に光照射を行って液晶配向能を付与する工程と、を含む、液晶配向膜の製造方法。
〔手段２〕 前記重合体［Ａ］は、上記式（２）で表される化合物に由来する構造単位を有する、〔手段１〕に記載の液晶配向膜の製造方法。
〔手段３〕 前記重合体［Ａ］は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種である、〔手段１〕又は〔手段２〕に記載の液晶配向膜の製造方法。
〔手段４〕 前記重合体［Ａ］は、脂肪族テトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位を有する、〔手段１〕～〔手段３〕のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。
〔手段５〕 前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物は、上記式（４）で表される部分構造を有する、〔手段４〕に記載の液晶配向膜の製造方法。
〔手段６〕 前記部分構造（ａ）を有しない重合体［Ｂ］を更に含有する、〔手段１〕～〔手段５〕のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。
〔手段７〕 前記重合体［Ｂ］は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種である、〔手段６〕に記載の液晶配向膜の製造方法。
〔手段８〕 上記式（１）で表される部分構造（ａ）を有する重合体［Ａ］を含有する、光配向剤。
〔手段９〕 〔手段１〕～〔手段７〕のいずれかに記載の方法により製造された液晶配向膜を備える液晶素子。
〔手段１０〕 上記式（３）で表されるジアミンに由来する構造単位を含む重合体。
〔手段１１〕 上記式（３）で表されるジアミン。

以下、実施例に基づき実施形態をより詳しく説明するが、以下の実施例によって本発明が限定的に解釈されるものではない。

以下の例において、重合体溶液中のポリイミドのイミド化率は以下の方法により測定した。
［ポリイミドのイミド化率］
ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で^１Ｈ－ＮＭＲ測定を行った。得られた^１Ｈ－ＮＭＲスペクトルから、下記数式（Ｉ）によりイミド化率[％]を求めた。
イミド化率[％]＝（１－（Ａ^１／（Ａ^２×α）））×１００ …（Ｉ）
（数式（Ｉ）中、Ａ^１は化学シフト１０ｐｐｍ付近に現れるＮＨ基のプロトン由来のピーク面積であり、Ａ^２はその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体（ポリアミック酸）におけるＮＨ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割合である。）

化合物の略号は以下の通りである。なお、以下では、式（Ｘ）で表される化合物（Ｘは記号）を単に「化合物（Ｘ）」と示すことがある。

（テトラカルボン酸二無水物）

（ジアミン化合物）

＜モノマーの合成＞
［合成例１Ａ］
下記スキームに従い、化合物（ＤＡ－１）を合成した。

還流管及び窒素導入管を備えた３つ口フラスコに、４－ニトログアヤコール（２３．７２ｇ）、１，２－ビス(トシルオキシ)エタン（２５．３４ｇ）、炭酸カリウム（２３．６３ｇ）を入れて窒素置換した。そこに、ジメチルホルムアミド１３０ｍＬを加え、８０℃まで徐々に昇温し、６時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に純水６５０ｍＬを加え、1時間撹拌した。析出した結晶を減圧濾過し、粗生成物を水及び２－プロパノールで洗浄し、真空乾燥することで、粉末のジニトロ体中間生成物（２３．２５ｇ，収率９３％）を得た。
続いて、還流管及び窒素導入管を備えた３つ口フラスコに、ジニトロ体中間生成物(２３．２５ｇ)、パラジウムカーボンを４０８ｍｇ入れ、窒素置換した。そこへ窒素バブリングにより脱気したテトラヒドロフラン６５ｍＬ、エタノール６５ｍＬを加え、５℃に冷却しながら撹拌して懸濁溶液とした。懸濁溶液へヒドラジン一水和物１８．５ｍＬをゆっくりと滴下した。滴下後、６０℃ まで徐々に昇温し、４時間撹拌した。反応溶液にテトラヒドロフランを加えて希釈し、セライト濾過した後に濃縮することで生成物を析出させた。得られた析出物をＴＨＦで洗浄し、結晶を減圧濾過した。得られた結晶を水及び２－プロパノールで洗浄し、真空乾燥することにより、黄土色固体の化合物（ＤＡ－１）（１６．０４ｇ，収率７９％）を得た。その構造は、分子内水素原子の核磁気共鳴スペクトルである^１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて確認した。測定データを以下に示す。
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，［Ｄ_６］－ＤＭＳＯ）δ：６．６７（ｄ－ｄ、２Ｈ）、６．２６（ｄ、２Ｈ）、６．０４（ｄ－ｄ、２Ｈ）、４．７０（ｓ、４Ｈ）、４．０１（ｓ、４Ｈ）、３．６６（ｓ、６Ｈ）．

＜重合体の合成＞
１．ポリアミック酸の合成
［合成例１］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（ＤＡ－１）４０モル部、化合物（ＤＢ－５）４０モル部及び化合物（ＤＢ－８）２０モル部をＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解し、室温で６時間反応を行い、ポリアミック酸（これを重合体（ＰＡ－１）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。

［合成例２～９］
使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を表１及び表２に記載のとおり変更した以外は合成例１と同様の操作を行い、ポリアミック酸（重合体（ＰＡ－２）～（ＰＡ－９））を１５質量％含有する溶液を得た。

２．ポリイミドの合成
［合成例１０］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）９０モル部及び化合物（ＴＡ－２）１０モル部、ジアミン化合物として化合物（ＤＡ－１）１００モル部をＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解し、室温で６時間反応を行い、ポリアミック酸を１５質量％含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰを追加してポリアミック酸濃度１０質量％の溶液とし、ピリジン及び無水酢酸を添加して６０℃で４時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換することにより、イミド化率約９０％のポリイミド（これを重合体（ＰＩ－１）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。

［合成例１１～２０］
使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を表３に記載のとおり変更し、ピリジン及び無水酢酸の量を調整することでイミド化率を表３に記載の通りに合成することで、ポリイミド（重合体（ＰＩ－２）～（ＰＩ－１１））を１５質量％含有する溶液を得た。

＜液晶配向剤の調製及び評価＞
［実施例１］
１．液晶配向剤の調製
合成例１で得た重合体（ＰＡ－１）の溶液と、合成例３で得た重合体（ＰＡ－３）の溶液とを、重合体（ＰＡ－１）と重合体（ＰＡ－３）とが固形分で（ＰＡ－１）／（ＰＡ－３）＝３０／７０（質量比）となるように混合し、ＮＭＰ及びブチルセロソルブ（ＢＣ）により希釈して、溶媒組成がＮＭＰ／ＢＣ＝８０／２０（質量比）、固形分濃度が３．５質量％の溶液とした。この溶液を孔径０．２μｍのフィルターで濾過することにより液晶配向剤（ＡＬ－１）を調製した。

２．光配向法を用いたＦＦＳ型液晶表示素子の製造
平板電極（ボトム電極）、絶縁層及び櫛歯状電極（トップ電極）がこの順で片面に積層されたガラス基板（第１基板とする）、並びに電極が設けられていないガラス基板（第２基板とする）を準備した。次いで、第１基板の電極形成面及び第２基板の片面のそれぞれに、液晶配向剤（ＡＬ－１）をスピンナーにより塗布し、８０℃のホットプレートで１分間加熱（プレベーク）した。その後、庫内を窒素置換した１５０℃のオーブンで３０分間乾燥（ポストベーク）を行い、平均膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に対し、Ｈｇ－Ｘｅランプを用いて、直線偏光された２５４ｎｍの輝線を含む紫外線１,０００Ｊ／ｍ^２を基板法線方向から照射して光配向処理を施した。なお、この照射量は、波長２５４ｎｍ基準で計測される光量計を用いて計測した値である。次いで、光配向処理が施された塗膜を、１５０℃のクリーンオーブンで３０分加熱して熱処理を行い、液晶配向膜を形成した。
次に、液晶配向膜を形成した一対の基板のうちの一方の基板につき、液晶配向膜を有する面の外縁に、直径３．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した。その後、光照射時の偏光軸の基板面への投影方向が逆平行となるように基板を重ね合わせて圧着し、１５０℃で１時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より一対の基板間にネガ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ－６６０８）を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止し、液晶セルを得た。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを１２０℃で加熱してから室温まで徐冷した。その後、液晶セルにおける基板の外側両面に偏光板を貼り合わせ、液晶表示素子を得た。また、上記の一連の操作を、ポストベーク後の紫外線照射量を１００～１０，０００Ｊ／ｍ^２の範囲でそれぞれ変更して実施することにより、紫外線照射量が異なる３個以上の液晶表示素子を製造し、最も良好な配向特性を示した露光量（最適露光量）の液晶表示素子を、以下の評価に用いた。

３．液晶配向性の評価
上記２．で製造した液晶表示素子を、２７，０００ｃｄ／ｍ^２の高輝度バックライト上で５００時間静置し、バックライトの照射前後におけるリタデーションの変化率αにより液晶配向性を評価した。リタデーションの測定は、オプトサイエンス社製Ａｘｏｓｃａｎにより行い、下記数式（ＩＩ）によりバックライト照射前後のリタデーションの変化率αを算出した。変化率αが小さいほど、液晶配向性が良好であるといえる。変化率αが０．５％以下であった場合を「優良（◎）」、０．５％よりも大きく１％以下であった場合を「良好（○）」、１％よりも大きく２％以下であった場合を「可（△）」、２％よりも大きかった場合を「不良（×）」とした。
α＝Δθ／θ１ …（ＩＩ）
（式（ＩＩ）中、Δθは照射前後のリタデーション差を表し、θ１は照射前のリタデーション値を表す。）
その結果、この実施例の液晶配向性は「良好（○）」の評価であった。

４．液晶セルの輝点（輝点抑制性）の評価
上記２．で製造した液晶セルを偏光顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ＷＰＯＬ）（ニコン社製）で観察し、輝点抑制性の評価を実施した。具体的には、液晶セルを偏光軸が直交するように配置された２枚の偏光板の間に設置し、倍率を５倍にした偏光顕微鏡で液晶セルを観察した（観察領域：約２５００μｍ×２５００μｍ）。輝点の数が少ないほど、光配向処理による分解生成物が少なく良好であるといえる。輝点の数が１００個以上の場合は「不良（×）」、１０個以上１００個未満の場合は「可（△）」、１０個未満の場合は「良好（○）」とした。その結果、この実施例では「良好（○）」であった。

５．打鍵試験による打鍵耐久性の評価
上記２．で製造した液晶表示素子につき、打鍵試験を実施した後の液晶配向性を評価した。評価は以下のようにして行った。打鍵試験機（（株）タッチパネル研究所社製）の打鍵部（ソレノイド方式）に、ペン先の形状が半径３ｍｍであるシリコーンゴムペン３Ｒ（（株）タッチパネル研究所社製）をセットし、ペン先が液晶表示素子の中心位置となるように設置した。シリコーンゴムペンで荷重５００ｇ、１０Ｈｚにて１万回打鍵後、液晶表示素子を顕微鏡で観察（１００倍）し、輝点数を計測した。輝点数が少ないほど、その液晶表示素子は打鍵耐久性に優れているといえる。輝点数が３０個未満であった場合を「優良（◎）」、３０個以上５０個未満であった場合を「良好（○）」、５０個以上１００個未満であった場合を「可（△）」、１００個以上であった場合を「不良（×）」と判定した。その結果、この実施例では「良好（○）」の評価であった。

５．密着性の評価
上記１．で調製した液晶配向剤（ＡＬ－１）を、ガラス基板上にスピンナーを用いて塗布し、８０℃のホットプレートで２分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換した２３０℃のオーブンで３０分加熱（ポストベーク）することにより、平均膜厚０．１０μｍの塗膜を形成した。これと同様の操作を繰り返すことにより、塗膜が形成されたガラス基板を２枚作製した。塗膜を形成した１枚のガラス基板の塗膜上に、ＯＤＦシール剤（積水化学社製、Ｓ－ＷＢ４２）を幅が１ｍｍになるように塗布し、もう一枚のガラス基板の塗膜とＯＤＦシール剤とが接触するように貼り合わせた。その後、メタルハライドランプを用いて３０，０００Ｊ／ｍ^２（３６５ｎｍ換算）の光を照射した後、１２０℃のオーブンで１時間加熱した。その後、引張圧縮試験機（今田製作所社製、型番：ＳＤＷＳ－０２０１－１００ＳＬ）を用いて密着力を測定することにより膜の密着性を評価した。評価は、密着力が１７５Ｎ／ｃｍ^２以上であった場合を「良好（○）」、１２５Ｎ／ｃｍ^２以上１７５Ｎ／ｃｍ^２未満であった場合を「可（△）」、１２５Ｎ／ｃｍ^２未満であった場合を「不良（×）」とした。その結果、この実施例では密着力１７５Ｎ／ｃｍ^２であり、密着性「良好（○）」の評価であった。

［実施例２～１２及び比較例１～３］
液晶配向剤の組成を表４のとおりに変更した以外は実施例１と同様にして液晶配向剤を調製した。また、得られた液晶配向剤を用いて、実施例１と同様にして光配向法によりＦＦＳ型液晶表示素子を製造し、液晶配向性、輝点抑制性、打鍵耐久性及び密着性の評価を行った。それらの結果を表４に示した。なお、実施例２、４、６、８～１０、１２及び比較例２、３では重合体成分として２種類の重合体を、実施例５、７及び１１では重合体成分として３種類の重合体を使用した。表４中、重合体欄の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の全量１００質量部に対する、各重合体の固形分での配合割合（質量部）を表す。

表４に示すように、重合体［Ａ］を含む液晶配向剤を用いた実施例１～１２は、重合体［Ａ］を含まない液晶配向剤を用いた比較例１～３に比べて、液晶配向性、液晶セルの輝点抑制性、打鍵耐久性及び膜の密着性のバランスが取れており、良好な結果であった。

以上の結果から、重合体［Ａ］を含む液晶配向剤によれば、液晶配向性、打鍵耐久性及び密着性に優れ、しかも液晶セルの輝点の発生が少ない液晶素子を得ることができることが明らかになった。

Claims (11)

1. 下記式（１）で表される部分構造（ａ）を有する重合体［Ａ］を含有する液晶配向剤により塗膜を形成する工程と、
   前記塗膜に光照射を行って液晶配向能を付与する工程と、
   を含む、液晶配向膜の製造方法。
   

   

   （式（１）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立して２価の芳香環基である。ただし、Ａ^１及びＡ^２の一方又は両方は、－ＯＲ^１、－ＮＲ^２Ｒ^３又は－ＳＲ^４で表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^４は、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。Ｒ^３は１価の有機基である。Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６－又は＊^１－ＮＲ^６－ＣＯ－ＮＲ^７－である。「＊^１」は、Ａ^１又はＡ^２との結合手を表す。Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。Ｘは２価の炭化水素基である。「＊」は結合手を表す。）
2. 前記重合体［Ａ］は、下記式（２）で表される化合物に由来する構造単位を有する、請求項１に記載の液晶配向膜の製造方法。
   

   

   （式（２）中、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１、Ｂ^２及びＸは、上記式（１）と同義である。）
3. 前記重合体［Ａ］は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の液晶配向膜の製造方法。
4. 前記重合体［Ａ］は、脂肪族テトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位を有する、請求項３に記載の液晶配向膜の製造方法。
5. 前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物は、下記式（４）で表される部分構造を有する、請求項４に記載の液晶配向膜の製造方法。
   

   

   （式（４）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基である。ただし、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４のうち１つ以上は置換基である。「＊」は結合手を表す。）
6. 前記部分構造（ａ）を有しない重合体［Ｂ］を更に含有する、請求項１に記載の液晶配向膜の製造方法。
7. 前記重合体［Ｂ］は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種である、請求項６に記載の液晶配向膜の製造方法。
8. 下記式（１）で表される部分構造（ａ）を有する重合体［Ａ］を含有する、光配向剤。
   

   

   （式（１）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立して２価の芳香環基である。ただし、Ａ^１及びＡ^２の一方又は両方は、－ＯＲ^１、－ＮＲ^２Ｒ^３又は－ＳＲ^４で表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^４は、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。Ｒ^３は１価の有機基である。Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６－又は＊^１－ＮＲ^６－ＣＯ－ＮＲ^７－である。「＊^１」は、Ａ^１又はＡ^２との結合手を表す。Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。Ｘは２価の炭化水素基である。「＊」は結合手を表す。）
9. 請求項１～７のいずれか一項に記載の方法により製造された液晶配向膜を備える液晶素子。
10. 下記式（３）で表されるジアミンに由来する構造単位を含む重合体。
    

    

    （式（３）中、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立して２価の芳香環基である。ただし、Ａ^３及びＡ^４の一方又は両方は、－ＯＲ^１ａ又は－ＮＲ^２ａＲ^３ａで表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｒ^１ａ及びＲ^２ａは、それぞれ独立して１価の炭化水素基である。Ｒ^３ａは、水素原子又は１価の有機基である。Ｂ^３及びＢ^４は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５ａ－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６ａ－又は＊^１－ＮＲ^６ａ－ＣＯ－ＮＲ^７ａ－である。Ｒ^５ａは１価の有機基である。Ｒ^６ａ及びＲ^７ａは、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。「＊^１」は、Ａ^３又はＡ^４との結合手を表す。Ｙは、Ｂ^３が－Ｏ－の場合に、炭素数１若しくは２のアルカンジイル基、２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であり、Ｂ^３が＊^１－Ｏ－ＣＯ－の場合に、アルカンジイル基、炭素数４以上の脂肪族炭化水素環を有する２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であり、Ｂ^３が－Ｏ－及び＊^１－Ｏ－ＣＯ－以外の場合に２価の炭化水素基である。）
11. 下記式（３）で表されるジアミン。
    

    

    （式（３）中、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立して２価の芳香環基である。ただし、Ａ^３及びＡ^４の一方又は両方は、－ＯＲ^１ａ又は－ＮＲ^２ａＲ^３ａで表される基が芳香環に結合した構造を有する。Ｒ^１ａ及びＲ^２ａは、それぞれ独立して１価の炭化水素基である。Ｒ^３ａは、水素原子又は１価の有機基である。Ｂ^３及びＢ^４は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^５ａ－、－ＣＯ－、＊^１－ＣＯ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＯ－、＊^１－ＣＳ－Ｏ－、＊^１－Ｏ－ＣＳ－、＊^１－ＣＯ－ＮＲ^６ａ－又は＊^１－ＮＲ^６ａ－ＣＯ－ＮＲ^７ａ－である。Ｒ^５ａは１価の有機基である。Ｒ^６ａ及びＲ^７ａは、それぞれ独立して水素原子又は１価の有機基である。「＊^１」は、Ａ^３又はＡ^４との結合手を表す。Ｙは、Ｂ^３が－Ｏ－の場合に、炭素数１若しくは２のアルカンジイル基、２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であり、Ｂ^３が＊^１－Ｏ－ＣＯ－の場合に、アルカンジイル基、炭素数４以上の脂肪族炭化水素環を有する２価の脂環式炭化水素基、又は２価の芳香族炭化水素基であり、Ｂ^３が－Ｏ－及び＊^１－Ｏ－ＣＯ－以外の場合に２価の炭化水素基である。）